[go: up one dir, main page]

RU99108717A - Термоактивные композиции смол в качестве пропиточных герметиков - Google Patents

Термоактивные композиции смол в качестве пропиточных герметиков

Info

Publication number
RU99108717A
RU99108717A RU99108717/04A RU99108717A RU99108717A RU 99108717 A RU99108717 A RU 99108717A RU 99108717/04 A RU99108717/04 A RU 99108717/04A RU 99108717 A RU99108717 A RU 99108717A RU 99108717 A RU99108717 A RU 99108717A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
component
cyanatophenyl
bis
composition according
semiconductor device
Prior art date
Application number
RU99108717/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2195474C2 (ru
Inventor
Марк КОНАРСКИЙ
Збигнев А. ЩЕПАНЯК
Original Assignee
Локтайт Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Локтайт Корпорейшн filed Critical Локтайт Корпорейшн
Publication of RU99108717A publication Critical patent/RU99108717A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2195474C2 publication Critical patent/RU2195474C2/ru

Links

Claims (21)

1. Композиция термореактивной смолы, позволяющая герметизировать пространство между полупроводниковым устройством и монтажной платой, с которой полупроводниковое устройство электрически связано, указанная композиция содержит:
(a) компонент эпоксидной смолы; и
(b) латентный отвердитель, содержащий цианатный сложноэфирный компонент; и имидизольный компонент.
2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что указанная эпоксидная смола содержит, по крайней мере, одну полифункциональную эпоксидную смолу.
3. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что эпоксидный компонент выбирают из группы, содержащей C6-C28 алкил глицидиловые простые эфиры; C6-C28 глицидиловые сложные эфиры жирных кислот; C6-C28 алкилфенол глицидиловые эфиры; полиглицидиловые простые эфиры пирокатехола, резорцин, гидрохинон, 4,4'-дигидроксидифенилметан; 4,4'-дигидрокси-3,3'-диметилдифенилметан; 4,4'-дигидроксидифенилдиметилметан; 4,4'-дигидроксидифенилметилметан; 4,4'-дигидроксидифенилциклогексан; 4,4'-дигидрокси-3,3'-диметилдифенилпропан; 4,4'-дигидроксидифенилсульфон; трис(4-гидроксифиенил)метан; полиглицидиловые простые эфиры продуктов хлорирования и бромирования упомянутых выше дифенолов; полиглицидиловые простые эфиры новолаков; полиглицидиловые простые эфиры дифенолов, полученных этерификацией простых эфиров дифенолов, полученных этерификацией натриевой соли ароматической углеводородной кислоты с дигалоидалканом или дигалоиддиалкиловым простым эфиром; полиглицидиловые простые эфиры полифенолов, полученных конденсацией фенолов и длинноцепочечных галоидированных парафинов, содержащих, по крайней мере, два атома галоида; N, N'-диглицидиланилин; N,N'-диметил-N,N'-диглицидил-4,4'-диаминодифенилметан; N, N, N', N'-тетраглицидил-4,4'-диаминодифенилметан; N-диглицидил-4-аминофенил глицидиловый простой эфир; N,N,N',N'-тетраглицидил-1,3-пропилен-бис-4-аминобензоат; бисфенол А эпоксидную смолу, бисфенол F эпоксидную смолу, фенол-новолак эпоксидную смолу и крезол-новолак эпоксидную смолу.
4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что эпоксидный компонент включает бисфенол F эпоксидную смолу и эпоксидную крезол-новолак смолу.
5. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что эпоксидный компонент включает примерно 80% бисфенол F эпоксидной смолы и примерно 20% крезол-новолак эпоксидной смолы.
6. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что латентный отвердитель применяют в количестве в пределах от 0 до примерно 30 частей.
7. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что сложноэфирный цианатный компонент выбирают из арил соединений, содержащих, по крайней мере, одну сложноэфирную цианатную группу в каждой молекуле.
8. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что сложноэфирный цианатный компонент имеет формулу Ar(OCN)m, где Ar означает ароматический радикал и m представляет целое число от 2 до 5.
9. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что сложноэфирный цианатный компонент выбирают из группы, содержащей 1,3-дицианатобензол; 1,4-дицианатобензол; 1,3,5-трицианатобензол; 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2,6- или 2,7-дицианатонафталин; 1,3,6-трицианатонафталин; 4,4'-дицианатобифенил; бис(4-цианатофенил)метан и 3,3', 5,5'-тетраметил-бис(4-цианатофенил)метан; 2,2-бис(3,5-дихлор-4-цианатофенил)пропан; 2,2-бис(3,5-дибром-4-дицианатофенил)пропан; бис(4-цианатофенил) простой эфир; бис(4-цианатофенил)сульфид; 2,2-бис(4-цианатофенил) пропан; трис(4-цианатофенил)фосфит; трис(4-цианатофенил)фосфат; бис(3-хлор-4-цианатофенил)метан; цианатированный новолак; 1,3-бис[4-цианатофенил-1-(метилэтилиден)]бензол, цианатированный поликарбонат с обрывом цепи бисфенолом или другие термопластичные олигомеры.
10. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что сложноэфирный цианатный компонент представляет собой 1,3-бис[4-цианатофенил-1-(метилэтилиден)]бензол.
11. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что сложноэфирный цианатный компонент применяют в количестве в пределах от 0 до примерно 15 частей.
12. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что имидизольный компонент выбирают из группы, содержащей имидизол, изоимидизол, 2-метилимидизол, 2-этил-4-метилимидизол, 2,4-диметилимидизол, бутилимидизол, 2-гептадеценил-4-метилимидизол, 2-метилимидизол, 2-ундеценилимидизол, 1-винил-2-метилимидизол, 2-н-гептадецилимидизол, 2-ундецилимидизол, 2-гептадецилимидизол, 2-фенилимидизол, 1-бензил-2-метилимидизол, 1-пропил-2-метилимидизол, 1-цианоэтил-2-метилимидизол, 1-циано-2-этил-4-метилимидизол, 1-цианоэтил-2-ундецилимидизол, 1-цианоэтил-2-фенилимидизол, 1-гуанаминоэтил-2-метилимидизол и продукты присоединения имидизол метилимидизола и продукты присоединения имидизола и триметиллитовой кислоты, 2-н-гептадецил-4-метилимидизол, фенилимидазол, бензилимидизол, 2-метил-4,5-дифенилимидизол, 2,3,5-трифенилимидизол, 2-стирилимидизол, 1-(додецилбензил)-2-метилимидизол, 2-(2-гидрокси-4-трет-бутилфенил)-4,5-дифенилимидизол, 2-(2-метоксифенил)-4,5-дифенилимидизол, 2-(3-гидроксифенил)-4,5-дифенилимидизол, 2-(пара-диметиламинофенил)-4,5-дифенилимидизол, 2-(2-гидроксифенил)-4,5-дифенилимидизол, ди(4,5-дифенил-2-имидизол)бензол-1,4, 2-нафтил-4,5-дифенилимидизол, 1-бензил-2-метилимидизол, 2-пара-метоксистирилимидизол и их смеси.
13. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что имидизольным компонентом является 2-этил-4-метилимидизол.
14. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что имидизольный компонент используют в количестве от 0 до 15 частей.
15. Композиция термореактивной смолы, обеспечивающая герметизацию пространства между полупроводниковым устройством и монтажной платой, с которой полупроводниковое устройство электрически связано, причем указанная композиция содержит:
(a) примерно 92 вес.части эпоксидного компонента, содержащего бисфенол F эпоксидную смолу, и.
(b) примерно 8 вес. частей латентного отвердителя, из которых 4 части составляют (i) сложноэфирный цианатный компонент, содержащий 1,3-бис[4-цианатофенил-1-(метилэтилиден)] -бензол, и 4 части составляют (ii) имидизольный компонент, содержащий 2-этил-4-метилимидизол.
16. Композиция термореактивной смолы, обеспечивающая герметизацию пространства между полупроводниковым устройством и монтажной платой, с которой полупроводниковое устройство электрически связано, и указанная композиция содержит;
(a) примерно 88 вес.частей эпоксидного компонента, содержащего бисфенол F эпоксидную смолу, и
(b) примерно 12 вес.частей латентного отвердителя, из которых 4 части составляют сложноэфирный цианатный компонент, содержащий 1,3-бис[4-цианатофенил-1-(метилэтилиден)]-бензол, и 8 частей составляют имидизольный компонент, содержащий 2-этил-4-метилимидизол.
17. Композиция по п.1, имеющая вязкость менее примерно 50000 мПа • с при температуре 25oC.
18. Продукты реакции по любому одному из пп.1 - 16.
19. Конструкция крепления полупроводниковых устройств, содержащая полупроводниковое устройство, содержащее полупроводниковый чип, укрепленный на подложке носителя, и монтажную плату, с которой указанное полупроводниковое устройство электрически связано, в которой пространство между подложкой носителя указанного полупроводникового устройства и указанной монтажной платой заливают продуктом реакции термореактивной композиции смолы, включающей эпоксидный компонент, и латентный отверждающий компонент, содержащий сложноэфирный цианатный компонент, и имидизольный компонент.
20. Конструкция крепления по п. 19, отличающаяся тем, что композиция термореактивной смолы соответствует пунктам 14 или 15.
21. Способ приготовления полупроводникового устройства, включающий стадии: электрического соединения полупроводникового устройства, содержащего полупроводниковый чип, установленный на подложке носителя, с монтажной платой; инфильтрации состава термореактивной смолы в пространство между подложкой носителя указанного полупроводникового устройства и указанной монтажной платой, отличающийся тем, что композиция содержит компонент эпоксидной смолы; и латентный отвердитель, содержащий сложноэфирный цианатный компонент, и имидизольный компонент; и отверждения композиции путем нагрева.
RU99108717/04A 1997-07-24 1998-07-22 Композиция термореактивной смолы (ее варианты), конструкция крепления полупроводникового устройства и способ изготовления полупроводникового устройства с использованием композиции термореактивной смолы RU2195474C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US5359297P 1997-07-24 1997-07-24
US60/053,592 1997-07-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU99108717A true RU99108717A (ru) 2001-01-27
RU2195474C2 RU2195474C2 (ru) 2002-12-27

Family

ID=21985312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU99108717/04A RU2195474C2 (ru) 1997-07-24 1998-07-22 Композиция термореактивной смолы (ее варианты), конструкция крепления полупроводникового устройства и способ изготовления полупроводникового устройства с использованием композиции термореактивной смолы

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6342577B1 (ru)
EP (1) EP0929592B1 (ru)
JP (1) JP2001506313A (ru)
KR (1) KR100571334B1 (ru)
CN (1) CN1197893C (ru)
AT (1) ATE320460T1 (ru)
AU (1) AU728193B2 (ru)
BR (1) BR9806065A (ru)
CA (1) CA2266314A1 (ru)
DE (1) DE69833865T2 (ru)
ID (1) ID21928A (ru)
RU (1) RU2195474C2 (ru)
WO (1) WO1999005196A1 (ru)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG88747A1 (en) * 1999-03-01 2002-05-21 Motorola Inc A method and machine for underfilling an assembly to form a semiconductor package
US6617399B2 (en) * 1999-12-17 2003-09-09 Henkel Loctite Corporation Thermosetting resin compositions comprising epoxy resins, adhesion promoters, curatives based on the combination of nitrogen compounds and transition metal complexes, and polysulfide tougheners
US6670430B1 (en) * 1999-12-17 2003-12-30 Henkel Loctite Corporation Thermosetting resin compositions comprising epoxy resins, adhesion promoters, and curatives based on the combination of nitrogen compounds and transition metal complexes
US7012120B2 (en) 2000-03-31 2006-03-14 Henkel Corporation Reworkable compositions of oxirane(s) or thirane(s)-containing resin and curing agent
US20050288458A1 (en) 2002-07-29 2005-12-29 Klemarczyk Philip T Reworkable thermosetting resin composition
JP3711842B2 (ja) * 2000-06-01 2005-11-02 ソニーケミカル株式会社 異方性導電接続材料及び接続構造体
US6548575B2 (en) 2000-12-13 2003-04-15 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation High temperature underfilling material with low exotherm during use
JP3566680B2 (ja) * 2001-09-11 2004-09-15 富士通株式会社 半導体装置の製造方法
JP3866591B2 (ja) * 2001-10-29 2007-01-10 富士通株式会社 電極間接続構造体の形成方法および電極間接続構造体
US6893736B2 (en) * 2001-11-19 2005-05-17 Henkel Corporation Thermosetting resin compositions useful as underfill sealants
US6951907B1 (en) 2001-11-19 2005-10-04 Henkel Corporation Composition of epoxy resin, secondary amine-functional adhesion promotor and curative of nitrogen-compound and transition metal complex
US6833629B2 (en) 2001-12-14 2004-12-21 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Dual cure B-stageable underfill for wafer level
US20040094751A1 (en) * 2002-03-25 2004-05-20 Toshiaki Ogiwara Composition for filling through-holes in printed wiring boards
JP2006216720A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Sharp Corp 半導体装置及びその製造方法
KR101148051B1 (ko) * 2005-12-26 2012-05-25 에스케이케미칼주식회사 에폭시 수지 조성물
RU2320040C1 (ru) * 2006-10-13 2008-03-20 ЗАО "Электроизолит" Электроизоляционный пропиточный лак
CA2690295C (en) * 2007-06-11 2014-12-30 Georg Degen Catalyst for curing epoxides
JP5475223B2 (ja) * 2007-10-09 2014-04-16 株式会社Adeka 一液型シアネート−エポキシ複合樹脂組成物、その硬化物及びその製造方法、並びにそれを用いた封止用材料及び接着剤
US20110237633A1 (en) * 2008-12-11 2011-09-29 Bijoy Panicker Small molecule modulators of hepatocyte growth factor (scatter factor) activity
DE102009012195A1 (de) * 2009-03-06 2010-09-09 Siemens Aktiengesellschaft Gießharzsystem für Isolatoren mit erhöhter Wärmeformbeständigkeit
DE102009003132A1 (de) * 2009-05-15 2010-11-18 Robert Bosch Gmbh Kunststoffformmasse sowie Verfahren zu deren Herstellung
US8698320B2 (en) * 2009-12-07 2014-04-15 Henkel IP & Holding GmbH Curable resin compositions useful as underfill sealants for use with low-k dielectric-containing semiconductor devices
SG10201503091TA (en) * 2010-04-21 2015-06-29 Mitsubishi Gas Chemical Co Heat curable composition
RU2447093C1 (ru) * 2011-01-19 2012-04-10 Открытое акционерное общество "Институт пластмасс имени Г.С. Петрова" Способ получения орто-крезолноволачной эпоксидной смолы и полимерная композиция на ее основе
CN102559119A (zh) * 2011-12-13 2012-07-11 北京海斯迪克新材料有限公司 一种具有良好流变稳定性的单组份环氧包封胶及制备方法
RU2492549C1 (ru) * 2012-03-20 2013-09-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана) Способ сборки трехмерного электронного модуля
KR102008550B1 (ko) * 2012-06-08 2019-08-07 가부시키가이샤 아데카 경화성 수지 조성물, 수지 조성물, 이들을 사용하여 이루어지는 수지 시트, 및 이들의 경화물
JP6202857B2 (ja) * 2013-04-02 2017-09-27 株式会社東芝 電気機器用コーティング材
RU2597916C2 (ru) * 2014-11-18 2016-09-20 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") Полимерный матричный материал для кондиционирования низко- и среднеактивных отработанных ионообменных смол
WO2016158066A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 三菱瓦斯化学株式会社 シアン酸エステル化合物、該化合物を含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物
CN105356479B (zh) * 2015-11-13 2017-12-08 湖南大学 一种c型串联滤波式级联svg及其负序补偿控制方法
KR102246076B1 (ko) * 2015-11-17 2021-05-03 한국전자통신연구원 반도체 패키지의 제조 방법
US9988308B1 (en) * 2016-05-05 2018-06-05 Five Star Products, Inc. Epoxy based material and applications therefore
WO2021049390A1 (ja) 2019-09-09 2021-03-18 株式会社Adeka 硬化性樹脂組成物
EP4130090A4 (en) 2020-03-25 2024-03-20 Adeka Corporation CURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR SUPPRESSING SHRINKAGE WHEN CURING A CURABLE RESIN COMPOSITION
US20240141094A1 (en) 2021-03-08 2024-05-02 Adeka Corporation Curable resin composition, cured product, and adhesive
CN114214019A (zh) * 2021-12-02 2022-03-22 深圳斯多福新材料科技有限公司 一种可耐高低温的单组分胶黏剂的制备方法
CN119894957A (zh) * 2023-07-03 2025-04-25 旭化成株式会社 环氧树脂组合物、树脂糊剂、薄膜型粘接剂、印刷电路板、半导体芯片封装体和电子装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH448513A (de) 1963-11-14 1967-12-15 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von geformten Gebilden auf Basis von Epoxydharzen
GB1305702A (ru) 1969-02-20 1973-02-07
US3862260A (en) 1973-05-07 1975-01-21 Union Carbide Corp Epoxy curing system
US4159976A (en) * 1977-03-10 1979-07-03 Loctite Corporation Curable systems containing epoxy resin and methanol or ethanol solvent to suppress the catalytic reaction between epoxy resin and an imidazole catalytic curing agent
JPS55112256A (en) * 1979-02-21 1980-08-29 Mitsubishi Electric Corp Thermosetting resin composition
JPS56125449A (en) 1980-01-29 1981-10-01 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curable resin composition
US4528366A (en) 1982-09-28 1985-07-09 The Dow Chemical Company Production of polytriazines from aromatic polycyanates with cobalt salt of a carboxylic acid as catalyst
US4477629A (en) 1983-07-27 1984-10-16 The Dow Chemical Company Cyanate-containing polymers
US4751323A (en) 1983-11-16 1988-06-14 The Dow Chemical Company Novel polyaromatic cyanates
US4645803A (en) 1984-02-29 1987-02-24 American Cyanamid Company Curable epoxy resin compositions
JPS62275123A (ja) 1986-05-23 1987-11-30 Toray Ind Inc プリプレグ用樹脂組成物
US4732962A (en) * 1987-02-18 1988-03-22 General Motors Corporation High temperature epoxy tooling composition of bisphenol-A epoxy, trifunctional epoxy, anhydride curing agent and an imidazole catalyst
US4742148A (en) * 1987-04-17 1988-05-03 Hexcel Corporation Modified imidazole latent epoxy resin catalysts and systems comprising them
US4859528A (en) * 1987-04-17 1989-08-22 Hexcel Corporation Composite tooling
US4918157A (en) 1987-07-08 1990-04-17 Amoco Corporation Thermosetting composition comprising cyanate ester, urea compound and epoxy resin
JP3231814B2 (ja) * 1991-07-12 2001-11-26 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 異方性導電膜
RU2084467C1 (ru) * 1992-10-20 1997-07-20 Виктор Геннадьевич Филиппов Уретансодержащие простые полиэфиры с концевыми первичными аминогруппами в качестве отвердителей эпоксидиановых смол и эпоксидная композиция на их основе (варианты)
WO1996020242A1 (en) * 1994-12-26 1996-07-04 Ciba Specialty Chemicals Inc. Curable resin compositions
US5534356A (en) * 1995-04-26 1996-07-09 Olin Corporation Anodized aluminum substrate having increased breakdown voltage
JP3777732B2 (ja) * 1996-10-15 2006-05-24 東レ株式会社 半導体装置用接着剤組成物およびそれを用いた半導体装置用接着剤シート
US5969036A (en) * 1997-06-20 1999-10-19 The Dexter Corporation Epoxy-containing die-attach compositions
JP3591758B2 (ja) * 1997-10-09 2004-11-24 住友ベークライト株式会社 液状注入封止アンダーフィル材

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU99108717A (ru) Термоактивные композиции смол в качестве пропиточных герметиков
RU2195474C2 (ru) Композиция термореактивной смолы (ее варианты), конструкция крепления полупроводникового устройства и способ изготовления полупроводникового устройства с использованием композиции термореактивной смолы
US4694096A (en) (Acylthiopropyl)phenols
KR102686755B1 (ko) 에폭시 수지, 에폭시 수지 조성물, 에폭시 수지 경화물 및 복합 재료
KR101131408B1 (ko) 에폭시 화합물 및 상기 화합물을 경화하여 수득되는 경화된에폭시 수지
EP0449593B1 (en) Low temperature curable dicyanate esters of dihydric phenols
KR100567618B1 (ko) 잠복성촉매, 이 촉매를 함유한 열경화성수지조성물, 이 촉매를 함유한 에폭시수지 성형재료 및 반도체장치
US5149863A (en) Low temperature curable dicyanate esters of dihydric phenols
US4980427A (en) Toughened bismaleimide resin systems
US7087707B2 (en) Synthesis of oligomeric cyanate esters
KR0139001B1 (ko) 방향족 디아민 경화제를 포함하는 에폭시 수지 조성물
KR20030077576A (ko) 반도체 봉합용 에폭시 수지 조성물
WO2022163553A1 (ja) 新規なベンゾオキサジン化合物、それを含有する樹脂原料組成物、硬化性樹脂組成物及びその硬化物
US4826929A (en) Toughened bismaleimide resin systems
JP2001181276A (ja) 新規な芳香族エピスルフィド化合物、これを含有する組成物及び硬化物
JP2798253B2 (ja) 強化ビスマレイミド樹脂組成物
JP4539835B2 (ja) 樹脂組成物及び硬化物
JPH06116191A (ja) 1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル) エチル〕ベンゼンの製造方法
JP4752308B2 (ja) 樹脂組成物及びそれを用いた硬化物
SU1719413A1 (ru) Эпоксидное св зующее дл стеклопластиков
JP5129624B2 (ja) エポキシ化合物
EP0402975A2 (en) Benzocyclobutene carboxylate esters
US5340912A (en) Cyanate resins
US5102972A (en) Polyhydric phenol chain extenders for certain bismaleimide resin
WO2023037818A1 (ja) 硬化性樹脂組成物、ワニス、硬化物、硬化物の製造方法