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WO2008007566A1 - Procédé de production de film protecteur pour polariseur, film protecteur pour polariseur, polariseur, et écran à cristaux liquides - Google Patents

Procédé de production de film protecteur pour polariseur, film protecteur pour polariseur, polariseur, et écran à cristaux liquides Download PDF

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Publication number
WO2008007566A1
WO2008007566A1 PCT/JP2007/063111 JP2007063111W WO2008007566A1 WO 2008007566 A1 WO2008007566 A1 WO 2008007566A1 JP 2007063111 W JP2007063111 W JP 2007063111W WO 2008007566 A1 WO2008007566 A1 WO 2008007566A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
carbon atoms
polarizing plate
protective film
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2007/063111
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Rumiko Yamada
Kenzo Kasahara
Koichi Saito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Opto Inc
Original Assignee
Konica Minolta Opto Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Opto Inc filed Critical Konica Minolta Opto Inc
Priority to JP2008524757A priority Critical patent/JP5035242B2/ja
Publication of WO2008007566A1 publication Critical patent/WO2008007566A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B1/105—
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a polarizing plate protective film, a polarizing plate protective film, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.
  • Cellulose ester films are widely used because they are optically and physically useful as protective films for polarizing plates.
  • the film production method is a casting film production method using a halogen-based solvent, the cost required for solvent recovery has been a very heavy burden. Therefore, a technique for producing an optical cellulose ester film by melt casting without using a solvent has been disclosed (for example, see Patent Document 1).
  • cellulose ester is a polymer having a very high viscosity when melted, and also has a high glass transition temperature. Therefore, cellulose ester is melted and extruded from Daisuka and cast onto a cooling drum or cooling belt. However, since it leveled 1 and solidified in a short time after extrusion, streaks were generated during film formation, and there was a problem of display spots when incorporated in a liquid crystal display device.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-352620
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2006-2026
  • an object of the present invention is to provide a method for producing a polarizing plate protective film in which streak unevenness that occurs during film formation by the melt casting method is eliminated, and further, coloring of the polarizer under high temperature and high humidity conditions is improved. It is providing a polarizing plate protective film, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.
  • a mixture containing a cellulose ester, at least one triazine ring compound, a phenolic compound, and a compound represented by the general formula (L) is heated and melted by a melt casting method.
  • R to R each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R represents hydrogen
  • n 1 or 2.
  • R represents a substituent
  • N is 2, R represents a divalent linking group.
  • R 3 each independently represents an aromatic ring or a heterocyclic ring;
  • X 1 represents a single bond, 1 NR 4 —, 1 O or S;
  • X 2 represents a single bond, NR 5 , 1 O or S.
  • X 3 represents a single bond, NR 6 —, —O or —S.
  • R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkenyl group, an aromatic ring group, or a heterocyclic group.
  • Equation (i) 2. 6 ⁇ X + Y ⁇ 3.0
  • a polarizing plate characterized by using the polarizing plate protective film described in 6 above on at least one surface.
  • the polarizing plate described in 7 above is used on at least one surface of a liquid crystal cell. LCD device.
  • a method for producing a polarizing plate protective film in which coloring of a polarizer is further improved under conditions of high temperature and high humidity without streaking unevenness generated during film formation by the melt casting method, and polarizing plate protective film A polarizing plate and a liquid crystal display device can be provided.
  • FIG. 1 is an explanatory view of an apparatus for producing a polarizing plate protective film of the present invention.
  • the compound represented by the general formula (L) has a function of capturing an alkyl radical generated by thermal decomposition, and when the compound is used for cellulose ester resin, the terminal of the polymer chain or It is presumed that the aromatic ring system structure derived from general formula (L) is bonded to the side chain to generate a new compound. It can be presumed that the structure of this compound exerts some interaction between cellulose ester resin and a commonly used aromatic ring type plasticizer or a retardation modifier such as a triazine ring compound.
  • the polarizing plate protective film useful for the present invention is simply a cellulose ester film.
  • the present invention is characterized in that in the polarizing plate protective film made of a cellulose ester film, the polarizing plate protective film contains a compound represented by the following general formula (L).
  • R independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents 1 or 2.
  • n represents 1, R
  • the amount of addition of the compound of the general formula (L) according to the present invention is not particularly limited as long as it is appropriately adjusted depending on the type of cellulose ester and the type and amount of other additives. It is preferable to add about 0.01 to 10% by mass with respect to the cellulose ester in the polarizing plate protective film, and it is particularly preferably 0.1 to 1.0% by mass.
  • n 1 or 2; when n is 1, R is each unsubstituted
  • an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxy group, a halogen atom, an amino group, or 1 carbon atom.
  • R is an unsubstituted or a C 1-4 alkyl.
  • R, R, R and R are each independently a hydrogen atom, salt
  • R or R described later in formula (II) is a hydroxy group or 1 to 25 carbon atoms.
  • R is further one (CH) — COR or one (CH) OH (where p is 0, 1 or
  • R is further represented by the following formula (III)
  • R is a hydrogen atom or the following formula (IV)
  • R, R, R and R are each independently a hydrogen atom
  • an alkyl group having 2 to 25 carbon atoms interrupted by: an alkoxy group having 1 to 25 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or
  • an alkoxy group having 2 to 25 carbon atoms interrupted by: an alkylthio group having 1 to 25 carbon atoms, an alkyl group having 3 to 25 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 25 carbon atoms , An alkyl group having 3 to 25 carbon atoms, an alkyl group having 3 to 25 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, and a phenylalkoxy group having 7 or 9 carbon atoms.
  • an alkanol group having 3 to 25 carbon atoms interrupted by: an alkanoloxy group having 1 to 25 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or
  • an alkanoyloxy group having 3 to 25 carbon atoms interrupted by: an alkanoylamino group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or [0048] [Chemical 12]
  • an alkenol group having 3 and 25 carbon atoms interrupted by: an alkenyloxy group having 3 and 25 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or
  • each pair of substituents R and R or R and R is a bond
  • R is a hydrogen atom, carbon atom
  • Alkenol group having 3 or 25 carbon atoms interrupted by 6; 9 or 9 alkyl carbonyl group, benzoyl group or 1 or 12 alkyl atom substitution Represents a benzoyl group; provided that at least one of R, R, R, R or R is a hydrogen atom
  • R 1 and R 2 are each independently of each other unsubstituted or have 1 carbon atom
  • R 4 represents an alkyl-substituted phenylene group or naphthylene group; R represents a hydrogen atom or
  • M represents an r-valent metal cation, and r represents 1, 2 or 3), an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, or
  • R 1 and R 2 are each independently of each other a hydrogen atom, CF, or carbon atom number 1 to
  • R are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • R is a hydrogen atom, unsubstituted or alkyl substituted with 1 to 4 carbon atoms
  • R is a hydrogen atom or 1 to 4 carbon atoms Represents an alkyl group
  • R represents a hydrogen atom, an alkanol group having 1 to 25 carbon atoms, carbon
  • alkenol group of 3 to 25 atoms; oxygen, sulfur or
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom
  • R is a hydrogen atom or carbon atom
  • R is a direct bond, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; Ren group; oxygen atom, sulfur atom or
  • an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms interrupted by: an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 20 carbon atoms, or a phenylalkylidene group having 7 to 20 carbon atoms
  • R represents a hydroxy group
  • R is an oxygen atom, —NH— or
  • R represents an alkyl group or a phenyl group having 1 to 18 carbon atoms; R represents water.
  • 30 31 relates to a compound represented by the formula: 1 represents an elemental atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
  • n 1
  • R force each unsubstituted or alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • the halogen substituent is preferably a chlorine substituent, a bromine substituent or an iodine substituent, more preferably a chlorine substituent.
  • Alkanoyl groups having up to 25 carbon atoms are branched or branched Groups such as formyl, acetyl, propionyl, butanol, pentanoyl, hexanol, heptanol, hetatanyl, nonanoyl, decanol, undecanol, dodecanol, tetradecanol, tetradecanol, Group, pentadecanol group, hexadecanol group, heptadecanol group, octadecanol group, eicosanol group or docosanol group. Preference is given to alkanoyl groups of 2 to 18, more preferably 2 to 12, in particular 2 to 6 carbon atoms. The acetyl group is particularly preferred.
  • the alkanoyl group having 2 to 25 carbon atoms, which is substituted by a di (1 or 6 alkyl) phosphonate group, is typically (CH 2 CH 3 O) POCH CO—, ( CH
  • An alkanoyloxy group having up to 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, for example, formyloxy group, acetoxy group, propionyloxy group, butanoyloxy group, pentanoyl group.
  • Nyloxy group hexanoyloxy group, heptanoyloxy group, otatanyloxy group, nonanoyloxy group, decanoyloxy group, undecanooxy group, dodecanoyloxy group, tridecanoyloxy group, tetradecanooxy group, A pentadecanoxy group, a hexadecanoxy group, a heptadecanoxy group, an octadecanoxy group, an eccosanoxy group, or a docosanooxy group.
  • Preferred is an alkanoyloxy group of 2 to 18, more preferably 2 to 12, for example 2 to 6 carbon atoms. Acetoxy group is especially preferred!
  • Alkenol groups having 3 or 25 carbon atoms are branched or unbranched groups, such as propenoyl groups, 2 butenoyl groups, 3 butenoyl groups, isobutenoyl groups, n-2 , 4 Pentadienoyl group, 3-methyl-2-butenoyl group, n2-octenoyl group, n-2-dodecenoyl group, isodedecenoyl group, oleoyl group, n-2 otadadecanol group or n-4 octadecanol group. 3 !, then 18, more preferably 3-12, for example 3-6, most preferably 3-4 Alkenol group of carbon atom is preferred.
  • Alkenol groups of 3 to 25 carbon atoms interrupted by are typically CH OCH CH
  • An alkenoloxy group having 25 or 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a propenoyloxy group, a 2 butenoyloxy group, a 3-butenoyloxy group, Isobutenoyloxy group, n—2, 4 Pentadienoyloxy group, 3-Methyl-2-butenoyloxy group, n—2-Octenoyloxy group, n—2 Dodecenoyloxy group, Isode decenoruo A xyl group, an oleoyloxy group, an n-2-octadecoxyloxy group, or an n-4-octadecenoxy group.
  • Preferred is an alkenyloxy group of 3 to 18, more preferably 3 to 12, typically 3 to 6, most preferably 3 to 4 carbon atoms.
  • the alkanoyl group having 3 to 25 carbon atoms interrupted by is typically CH—O—CH.
  • An alkanoyloxy group of 3 and 25 carbon atoms interrupted by is typically CH-O
  • Examples of the cycloalkyl carbon group having 6 or 9 carbon atoms are a cyclopentyl carbonyl group, a cyclohexyl carbo yl group, a cycloheptyl carbo yl group and a cyclo octyl carbo yl group. Preference is given to the cyclohexyl carbo group.
  • cycloalkylcarboxoxy groups having 6 or 9 carbon atoms are cyclopentylcarboxoxy, cyclohexylcarbonyloxy, cycloheptylcarboxyl and cyclooctylcarboxoxy. It is a group. A cyclohexylcarboxyl group is preferred.
  • An alkyl-substituted benzoyl group having 1 to 3 carbon atoms, most preferably 1 to 2 alkyl groups, and preferably 1 to 2 carbon atoms, is o-, m- or p-methylbenzo Group, 2, 3 dimethyl benzoyl group, 2, 4 dimethyl benzoyl group, 2, 5 dimethyl benzoyl group, 2, 6 dimethyl benzoyl group, 3, 4 dimethyl benzoyl group, 3, 5 -Dimethylbenzoyl group, 2-methyl-6-ethylbenzoyl group, 4 Tertiary butyl-benzoyl group, 2 Ethylbenzoyl group, 2, 4, 6 Trimethylbenzoyl group, 2, 6 Dimethyl 4 Tertiary butylbenzoyl group, 3, 5 —Di-tert-butylbutylbenzoyl group.
  • Preferred substituents are alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, and most preferred are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms
  • Alkyl groups having up to 25 carbon atoms are branched or branched, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, isobutyl.
  • An alkenyl group having 3 or 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a propenyl group, a 2-butenyl group, a 3-butenyl group, an isobutyl group.
  • Preference is given to alkenyl groups of 3 to 18, more preferably 3 to 12, typically 3 to 6, most preferably 3 to 4 carbon atoms.
  • An alkoxy group having 3 or 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a probeloxy group, a 2-butyroxy group, or a 3-butyroxy group. , Isobutyroxy group, n-2, 4-penta-geroxy group, 3-methyl-2-buturoxy group, n-2-octaturoxy group, n-2-dodecoxy group, isododecyloxy group, oleyloxy Group, n-2-octadade force-loxy group or n-4-octadecanyloxy group.
  • Preferred are alkenyloxy groups of 3 to 18, more preferably 3 to 12, typically 3 to 6, most preferably 3 to 4 carbon atoms.
  • An alkynyl group having 3 or 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a propylene group (—CH—C ⁇ CH), a 2-butyl group. , 3—
  • a butul group, an n-2-octyl group, and an n-2-dodecyl group are preferred.
  • An alkynyloxy group having 3 or 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a propoxy group (one OCH—C ⁇ CH), 2—
  • tuluoxy group a 3-buturoxy group, an n-2-octyloxy group, and an n-2-dodecyloxy group.
  • alkyloxy groups of 3 to 18, more preferably 3 to 12, typically 3 to 6, most preferably 3 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group having 2 to 25 carbon atoms interrupted by is typically CH 2 -O-CH
  • the C7 to C9 fullalkyl group is typically a benzyl group, an ⁇ -methylbenzyl group, an ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl group or a 2-phenylethyl group. Benzyl group and ⁇ , ⁇ dimethylbenzyl group are preferred! /.
  • a 7- to 9-carbon alkyl group that is unsubstituted or substituted with a 1- to 4-carbon alkyl group in the phenyl moiety is typically benzyl.
  • a benzyl group is preferred.
  • the phenylalkoxy group having 7 to 9 carbon atoms is typically a benzyloxy group, an ⁇ -methylbenzyloxy group, an ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyloxy group, and a 2-phenylethoxy group. .
  • a benzyloxy group is preferred.
  • Examples of a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably containing 1 to 3, especially 1 or 2 alkyl groups are ⁇ -, m- or ⁇ methylphenol -Group, 2,3 dimethylphenol group, 2,4 dimethylphenol group, 2,5 dimethylphenol group, 2,6 dimethylphenol group, 3,4 dimethylphenol group, 3,5 dimethylphenol group A 2-methyl-6-ethylphenyl group, a 4-tert-butylphenol group, a 2-ethylphenyl group, and a 2,6-jetylphenol group.
  • Examples of phenoxy groups substituted with alkyl groups of 1 to 4 carbon atoms, preferably containing 1 to 3, in particular 1 or 2 alkyl groups are o-, m- or p-methylphenoxy 2,3 dimethylphenoxy group, 2,4 dimethylphenoxy group, 2,5 dimethylphenoxy group, 2,6 dimethylphenoxy group, 3,4 dimethylphenoxy group, 3,5 dimethylphenoxy group A 2-methyl-6-ethylphenoxy group, a 4-tert-butylphenoxy group, a 2-ethylphenoxy group, and a 2,6-jetylphenoxy group.
  • Examples of cycloalkyl groups having 5 or 8 carbon atoms that are unsubstituted or substituted with 1 or 4 alkyl groups include cyclopentyl, methylcyclopentyl, dimethylcyclopentyl, A cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a trimethylcyclohexyl group, a tert-butylcyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group.
  • a cyclohexyl group and a tert-butylcyclohexyl group are preferred.
  • cycloalkoxy groups of No. 8 are cyclopentoxy group, methylcyclopentoxy group, dimethylcyclopentoxy group, cyclohexoxy group, methylcyclohexoxy group, dimethylcyclohexoxy group, trimethylcyclohexoxy group, A tertiary butylcyclohexoxy group, a cycloheptoxy group and a cyclootatoxy group.
  • a cyclohexoxy group and a tertiary butylcyclohexoxy group are preferred.
  • Alkoxy groups having up to 25 carbon atoms are branched or unbranched groups, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy
  • An alkoxy group of 1 to 12, preferably 1 to 8, for example 1! And 6 carbon atoms is preferred.
  • An alkylthio group having up to 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, an n-butylthio group, an isobutylthio group, A pentylthio group, an isopentylthio group, a hexylthio group, a heptylthio group, an octylthio group, a decylthio group, a tetradecylthio group, a hexadecylthio group or an octadecylthio group.
  • Preferred is an alkylthio group of 1 to 12, preferably 1 !, and 8, for example, 1 to 6 carbon atoms.
  • Alkylamino groups with up to 4 carbon atoms are branched or branched Such as a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, an isopropylamino group, an n-butylamino group, an isoptylamino group, or a tertiary ptylamino group.
  • a di (C1 or C4 alkylamino) group also means that two parts independent of each other are branched or unbranched, typically a dimethylamino group.
  • An alkanoylamino group having up to 25 carbon atoms is a branched or unbranched group, for example, a formylamino group, an acetylamino group, a propio-lamino group, a butanoylamino group, a pentanoylamino group.
  • An alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is a branched or unbranched group, such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, or a pentamethylene group. Hexamethylene group, heptamethylene group, octamethylene group, decamethylene group, dodecamethylene group or octadecamethylene group. An alkylene group having 1 to 12 carbon atoms is preferred, and an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms is particularly preferred.
  • Examples of an alkyl-substituted carbon atom having 5 to 12 carbon atoms having 1 to 4 carbon atoms containing 1 to 3, preferably 1 to 2 branched or unbranched groups include Cyclopentylene, methylcyclopentylene, dimethylcyclopentylene , Cyclohexylene, methylcyclohexylene, dimethylcyclohexylene, trimethylcyclohexylene, tert-butylcyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene, or cyclodecylene ring. Cyclohexylene and tert-butylcyclohexylene rings are preferred.
  • alkylene group having 2 to 18 carbon atoms interrupted by [0134] is —CH—O CH
  • the alkylene group having 1 to 18 carbon atoms is typically a berylene group, a methylbeylene group, an otaturethylene group or a dodecenylethylene group.
  • An anolekenylene group having 2 to 8 carbon atoms is preferred.
  • An alkylidene group having 2 to 20 carbon atoms is typically an ethylidene group, a propylidene group, a butylidene group, a pentylidene group, a 4-methylpentylidene group, a heptylidene group, a nonylidene group, a tridecylidene group, or a nonadecylidene group.
  • Alkylidene groups with 2 or 8 carbon atoms are preferred.
  • phenylalkylidene groups having 7 to 20 carbon atoms are benzylidene, 2-phenylethylidene and 1-phenyl-2-hexylidene. 7 and 7 carbon alkylidene groups are preferred!
  • a cycloalkylene group having 5 to 8 carbon atoms is a saturated hydrocarbon group having two free electron valences and at least one ring unit, such as a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, and a cyclohexane group. It is a putylene group or a cyclooctylene group. Cyclohexylene group is preferred Good.
  • the bicycloalkylene group having 7 or 8 carbon atoms is a bicycloheptylene group or a bicyclooctylene group.
  • Examples of unsubstituted or alkyl-substituted phenylene or naphthylene groups having 1 to 4 carbon atoms are 1, 2—, 1, 3— and 1, 4 phenylene groups; 1, 2—, 1, 3—, 1, 4—, 1, 6-, 1, 7-, 2, 6 or 2, 7 naphthylene groups. 1, 4 phenylene groups are preferred.
  • cycloalkylidene rings are cyclopentylidene, methylcyclopentylidene, dimethylcyclopentylidene, cyclohexylidene, methylcyclohexylidene, dimethylcyclohexylidene, trimethylcyclohexylidene, tert-butylcyclohexylidene.
  • the monovalent, divalent or trivalent metal cation is preferably an alkali metal cation, alkaline earth metal cation or aluminum cation, such as Na +, K +, Mg, Ca or Al + .
  • the compound represented by the general formula (L) preferably has an unreacted R force when n is 1.
  • a phenyl group substituted by an alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms or di (alkyl having 1 to 4 carbon atoms) -amino group simultaneously in 1 to 5 alkyl substituents Mono- to penta-substituted alkylphenols containing up to 18 carbon atoms; each unsubstituted or alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, carbon atom
  • R is -R —X—R — R and R represent a force-phenylene group;
  • X represents an oxygen atom or —NR—;
  • R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • [0147] represents a group represented by: R, R, R and R are each independently a hydrogen atom, chlorine
  • each pair of substituents R and R or R and R is a bond.
  • R is a hydrogen atom, carbon atom
  • An alkanoyl group having 3 to 12 carbon atoms interrupted by an oxygen atom or a sulfur atom; an alkanoylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclohexyl carbo Represents an alkyl group, a benzoyl group or an alkyl-substituted benzoyl group having 1 to 4 carbon atoms; provided that at least one of R, R, R, R or R
  • R is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or
  • R 1 and R 2 are each independently of each other a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 to
  • R 4 represents an alkyl group
  • R represents a hydrogen atom
  • R represents a hydrogen atom
  • R represents a hydrogen atom, a phenyl group, a carbon atom 1 to 18 alkyl groups, 2 carbon atoms interrupted by oxygen or sulfur atoms, 18 alkyl groups, 7 carbon atoms, 9 full alkyl groups
  • oxygen atoms or Re represents a phenylalkyl group having 7 to 18 carbon atoms interrupted by a sulfur atom and substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having 1 to 3 carbon atoms in an unsubstituted or phenyl moiety
  • R And R together with the carbon atom to which they are attached.
  • R represents a hydrogen atom, an alkanoyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a carbon atom number
  • alkenoyl groups 3 carbon atoms interrupted by oxygen or sulfur atoms! Alkanoyl group having 12 carbon atoms; alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms substituted by di (alkyl having 1 or 6 carbon atoms) -phosphonate group; cycloalkyl group having 6 to 9 carbon atoms Group, benzoyl group;
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom
  • R represents a hydrogen atom or carbon atom Represents an alkyl group having 1 to 4 atoms; R represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, carbon
  • Alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, cycloalkylene group having 7 to 12 carbon atoms, cycloalkylene group having 5 to 8 carbon atoms, and phenylene group R represents a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms
  • R represents an oxygen atom or —NH—
  • R represents an alkyl having 1 to 18 carbon atoms.
  • a compound representing a group or a phenyl group A compound representing a group or a phenyl group.
  • n 1
  • [0158] represents a group represented by: R, R, R and R are each independently a hydrogen atom, chlorine
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atom.
  • R 8 represents an alkylthio group, a phenyl group or a cyclohexyl group; provided that R, R, R,
  • At least one of R or R is not a hydrogen atom; R represents a hydrogen atom; R is a hydrogen atom
  • 10 11 20 21 represents a child, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; or R and R are
  • R is a hydrogen atom Or carbon
  • R, R, R and R are each independently a hydrogen atom or a carbon atom number of 1 to
  • R 4 represents an alkyl group, and R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
  • a more preferred compound represented by the general formula (L) is that R, R, R, and R are
  • R and R or R and R together with the carbon atoms to which they are attached, form a benzene ring.
  • R is further — (CH) — COR or — (CH) OH (wherein p represents 1 or 2)
  • R, R and R represent a hydrogen atom
  • R further represents a group represented by the formula (III);
  • R represents a hydroxy group, having 1 to
  • a particularly preferred compound represented by the general formula (L) is also at least 2 of R, R, R and R
  • a compound in which one is a hydrogen atom is a compound in which one is a hydrogen atom.
  • the compound represented by the general formula (L) is a compound in which R and R are hydrogen atoms.
  • a very particularly preferred compound represented by the general formula (L) is such that R is 1 to 4 carbon atoms.
  • R represents a hydrogen atom; R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • R represents a hydrogen atom
  • R further represents a group represented by formula (III);
  • R 5 represents a hydrogen atom
  • 17 is a compound that forms a cyclohexylidene ring together with the carbon atoms to which it is attached.
  • the compound represented by the general formula (L) can be produced by a method known per se.
  • the compound represented by the general formula (L) is a compound represented by the following structural formula:
  • At least one kind of triazine ring compound is used, and it is particularly preferable to add the triazine ring compound represented by the general formula (1) to the cellulose ester!
  • the triazine ring compounds may be used alone or in admixture.
  • a preferable content is 0.1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or more and 12% by mass or less, and further preferably, with respect to the cellulose ester in the formed polarizing plate protective film. Or 0.8 mass% or more and 8 mass% or less. Used by mixing two or more triazine ring compounds In the case of V, these contents refer to the sum of the added triazine ring compounds.
  • R 3 each independently represents an aromatic ring or a heterocyclic ring;
  • X 1 represents a single bond, NR 4 —, — O or — S;
  • X 2 represents a single bond, NR 5 —, —O Or — represents S;
  • X 3 represents a single bond, NR 6 —, —O — or — S.
  • R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkenyl group, an aromatic ring group, or a heterocyclic group.
  • R 2 and R 3 each independently represents an aromatic ring or a heterocyclic ring. It is particularly preferable that the aromatic ring represented by R 3 is a phenol or naphthyl. The aromatic ring represented by R 3 may have a substituent.
  • Examples of the substituent may be a halogen atom, a hydroxyl group, a cyan group, a nitro group, a carboxy group, an alkyl group, an alkenyl group, Aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkaryl Substituted sulfamoyl group, aryl substituted sulfamoyl group, sulfonamide group, strong rubamoyl, alkyl substituted rubamoyl group, alkaryl substituted force rubamoyl group, allyl substituted rubamoyl group, amide group, alkylthio group, alkaryl thio group, allylthio group And an acyl group.
  • the heterocyclic group represented by R 2 and R 3 preferably has aromaticity.
  • the heterocycle having aromaticity is generally an unsaturated heterocycle, preferably a heterocycle having the largest number of double bonds.
  • the heterocycle is preferably a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring, more preferably a 5-membered or 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring.
  • the heterocyclic hetero atom is particularly preferably a nitrogen atom, preferably a nitrogen atom, a sulfur atom or an oxygen atom.
  • a pyridine ring (2-pyridyl or 4-pyridyl as the heterocyclic group) is particularly preferable.
  • the heterocyclic group may have a substituent.
  • the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent that the aromatic ring may have.
  • the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group having a free atomic value at the nitrogen atom.
  • the heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring. Most preferred is a 5-membered ring.
  • the heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms. Further, the heterocyclic group may have a hetero atom (for example, o, S) other than the nitrogen atom. Examples of heterocyclic groups having free valences on nitrogen atoms are shown below.
  • X 1 represents a single bond, —NR 4 —O— or —S—, X 2 represents a single bond,
  • R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aromatic ring group or heterocyclic group.
  • the alkyl group represented by each of R 4 , R 5 and R 6 may be a cyclic alkyl group or a chain alkyl group, but preferably represents a chain alkyl group. It is more preferable to represent a linear alkyl group than a chain alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, still more preferably 1 to 8 and still more preferably 1 to 1. 6 is most preferred.
  • the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy) and an acyloxy group (for example, allyloyloxy, metataryloxy).
  • the alkenyl group represented by each of R 5 and R 6 may be a cyclic alkenyl group or a chain alkenyl group, but is preferably a chain alkenyl group. Have a branch It is more preferable to represent a linear alkenyl group rather than a linear alkenyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 2-30, more preferably 2-20, even more preferably 2-10, and even more preferably 2-8. 2 to 6 is most preferable.
  • the alkenyl group may have a substituent. Examples of the substituent are the same as those of the alkyl group described above.
  • the aromatic and heterocyclic groups represented by R 4 , R 5 and R 6 are respectively And R 3 are the same as the aromatic ring and heterocyclic ring, respectively, and the preferred range is also the same.
  • Examples of the substituent that the aromatic ring group and the heterocyclic group may further have a substituent are the same as those of the aromatic ring and the heterocyclic ring of R 1 R 2 and R 3. .
  • X 1 is preferably one NR 4 —
  • X 2 is one NR 5 —
  • X 3 is one NR 6 —.
  • the molecular weight of the triazine ring compound in the present invention is preferably 300 to 2,000.
  • the boiling point of the compound is preferably 260 ° C or higher.
  • the boiling point can be measured using a commercially available measuring device ⁇ for example, “TGZDTA100” manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.).
  • X 1 is NR 4 —
  • X 2 is NR 5 —
  • X 3 is NR 6 —
  • R 5 and R 6 are not the same Specific examples of compounds in which R 2 and R 3 are not identical are:
  • Specific examples of the compound in which R 2 and R 3 are a phenol group include compounds represented by the following general formula (12). Note that a plurality of R in the following general formula is the same as described above.
  • X 1 , X 2 and X 3 are a linking group containing O or S
  • Specific examples of the compound include compounds represented by the following general formulas (14) to (19). Note that a plurality of R in the following general formula is the same as described above.
  • X 1 , X 2 and X 3 are all single bonds
  • Specific examples of the compound in which R 2 and R 3 are the same include a compound represented by the following general formula (110).
  • the plurality of R in the following general formula are the same as described above.
  • the polarizing plate protective film of the present invention preferably contains an anti-oxidation agent as a stabilizer.
  • Antioxidants useful in the present invention include cellulose ester fill with oxygen. Any compound that suppresses deterioration of the molding material can be used without limitation.
  • useful antioxidants include phenolic compounds, hindered amine compounds, phosphorus compounds, phenolic compounds, heat-resistant processing stabilizers, Examples thereof include oxygen scavengers, and among these, phosphorus compounds are particularly preferred in addition to the phenolic compounds which are essential components in the present invention. By blending these compounds, it is possible to prevent coloring and strength reduction of the molded product due to heat, thermal oxidation deterioration, etc. without reducing transparency, heat resistance and the like. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more.
  • Phenolic compounds are known compounds and are described, for example, in columns 12-14 of US Pat. No. 4,839,405, and include 2,6-dialkylphenol derivative compounds.
  • the amount of phenolic compound added is not particularly limited as long as it is appropriately adjusted depending on the type of cellulose ester and the type and amount of other additives.
  • the amount of cellulose ester in the formed polarizing plate protective film is not limited. against, preferably it is added in an amount of 0.01 to 10 weight 0/0 device from 0.2 to 2.0 and particularly preferably at which the mass%.
  • the compound represented by the following general formula (A) is preferred as the compound.
  • R-R represents a substituent.
  • Substituents include hydrogen and halogen atoms (for example,
  • alkyl group eg methyl group, ethyl group, isopropyl group, hydroxyethyl group, methoxymethyl group, trifluoromethyl group, t-butyl group, etc.
  • cycloalkyl group eg, Cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.
  • aralkyl group eg, benzyl group, 2-phenethyl group, etc.
  • aryl group eg, phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.
  • Alkoxy groups eg methoxy, ethoxy, Sopropoxy group, butoxy group, etc.
  • aryloxy group eg, phenoxy group, etc.
  • cyano group acylamino group (eg, acetylylamino group, propio-lamino group, etc.),
  • amine oxide group for example, pyridine mono-oxide group
  • imide group for example, phthalimide group
  • disulfide group for example, benzenedisulfide group, benzothiazolyl 2-disulfide group, etc.
  • carboxyl group for example, pyrrole, pyrrolidyl, pyrazolyl, imidazolyl, pyridyl, Group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, benzimidazole O hexa benzotriazolyl group).
  • substituents may be further substituted.
  • phenolic compounds in which R is a hydrogen atom and R and R are t-butyl groups are preferred.
  • phenolic compounds include n-octadecyl 3- (3,5-tert-butyl 4-hydroxyphenol) propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenol- 1) Acetate, n-octadecyl 3,5-di-tert-butyl 4-hydroxybenzoate, n-hexyl 3,5-di-tert-butyl 4-hydroxyphenezoate, n-dodecyl 3,5-di-t —Butyl 4-hydroxyphenyl benzoate, neo-dodecyl 3— (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenol) propionate, dodecyl j8 (3,5-di-t-butyl—4— Hydroxyphenol) propionate, ethyl alpha — (4-hydroxy 3,5-dibutylbutyl) isobutylene Octadecyl
  • At least one phosphorous compound as an additive in the following general formulas (B-1), (B-2), (B-3), (B-4), ( A compound having a partial structure represented by B-5) in the molecule is preferred.
  • Ph and P represent a phenylene group.
  • the hydrogen atom of the fullerene group is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an alkylcycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms, or 7 to 1 carbon atoms. It may be substituted with 2 aralkyl groups. Ph and P may be the same or different
  • X represents a single bond, a sulfur atom or a CHR— group.
  • R is hydrogen atom, charcoal
  • Ph and P are a phenyl group or
  • the hydrogen atom of the phenyl group or biphenyl group is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl cycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms, or It may be substituted with an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms.
  • R 2 2 may be the same or different.
  • R to R in the general formula (A).

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Description

明 細 書
偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板、及び液 晶表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板、及び液 晶表示装置に関する。
背景技術
[0002] セルロースエステルフィルムは、光学的、物理的に偏光板用の保護フィルムとして 有用であるため一般に広く用いられている。し力しながら、フィルムの製造方法はハロ ゲン系の溶媒を用いた流延製膜法による製造方法であるため、溶媒回収に要する費 用は非常に大きい負担となっていた。そのため、溶媒を用いない溶融流延によって、 光学用セルロースエステルフィルムを作製する技術が開示されている（例えば、特許 文献 1参照。）。
[0003] 一方、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、且つガラス 転移温度も高いため、セルロースエステルを溶融してダイスカゝら押出し、冷却ドラムま たは冷却ベルト上にキャスティングしてもレべリングし 1 、押出し後に短時間で固化 するため、製膜時にスジゃ斑むらが発生し、液晶表示装置に組み込んだ場合表示 斑となるという問題があった。
[0004] これに対し、セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも 1種とを含有し 溶融流延することで、表示斑をなくす技術が開示されている（例えば、特許文献 2参 照。）。
[0005] ところが本発明者らの検討によれば、特許文献 2記載の方法で作製した偏光板保 護フィルムを用いて偏光板を作製すると、高温高湿等の強制劣化条件下では偏光子 の着色が問題となることが判明した。着色に関し、これまでに溶融時の熱耐性を向上 する手段としてヒンダードアミン系耐光安定剤やリン系化合物といった添加物が一般 的に用いられてきたが、これらの添加物は、多量の添カ卩によって、フィルムの着色を 促進したり、湿熱条件下による酢綿分解を起すなどして、偏光板保護フィルムとして 用いた際、高温高湿条件下での偏光子の着色を招くと!、う問題があった。
特許文献 1：特開 2000— 352620号公報
特許文献 2：特開 2006 - 2026号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] 従って本発明の目的は、溶融流延法による製膜時に生じるスジゃ斑むらがなぐ更 に高温高湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルムの製造方法 、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0007] 本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
[0008] 1.セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも 1種と、フ ノール系化合 物と、一般式 (L)で表される化合物とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法 によって製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
[0009] [化 1] 一般式 (L)
Figure imgf000003_0001
[0010] (式中、 R〜Rはおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、 Rは水素
2 5 6 原子または置換基を表し、 nは 1または 2を表す。 nが 1であるとき、 Rは置換基を表し
1
、 nが 2であるとき、 Rは 2価の連結基を表す。 )
1
2.前記トリアジン環化合物が下記一般式（1)で表される化合物であることを特徴と する前記 1に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
[0011] [化 2] 一般式 (1 )
Figure imgf000004_0001
[0012] (式中、
Figure imgf000004_0002
R3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し; X1は単結合 、 一 NR4—、 一 O 又は S を表し; X2は単結合、 NR5 、 一 O 又は S を 表し; X3は単結合、 NR6—、— O 又は— S を表す。
Figure imgf000004_0003
R5及び R6は、それぞれ 独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基 又は複素環基を表す。 )
3.前記セルロースエステルのァシル基の置換度力 下記の式 (i)、 （ii)で規定する 条件を同時に満たすことを特徴とする前記 1または 2に記載の偏光板保護フィルムの 製造方法。
[0013] 式（i) 2. 6≤X+Y≤3. 0
式（ii) 1. 0≤Y≤1. 5
(式中、 Xはァセチル基の置換度を表し、 Υはプロピオネート基の置換度を表す。 )
4.更に、リン系化合物の少なくとも 1種を含有することを特徴とする前記 1に記載の 偏光板保護フィルムの製造方法。
[0014] 5.前記 1乃至 4のいずれか 1項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法であって 、流延ダイカゝら押し出された偏光板保護フィルムを金属製外筒と内筒とその間に流体 を流す空間とを有する弹性タツチロールにより冷却ロールに押圧しながら搬送するこ とを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
[0015] 6.前記 1乃至 5のいずれか 1項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法により製 造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。
[0016] 7.前記 6に記載の偏光板保護フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴と する偏光板。
[0017] 8.前記 7に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とす る液晶表示装置。
発明の効果
[0018] 本発明により、溶融流延法による製膜時に生じるスジゃ斑むらがなぐ更に高温高 湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板 保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することが出来る。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1]本発明の偏光板保護フィルムを製造する装置の説明図である。
符号の説明
1 押し出し機
2 フィルター
3 スタチックミキサー
4 ダイ (厚み調整手段含む)
5 タツチロール
6 第 1冷却ロール
第 2冷却ロール
7 剥離ロール
8 ダンサーローノレ
9 延伸機
10 スリツター
11 厚み測定手段
12 エンボスリング及びバックロール
13 巻き取り機
14 巻き取られたフィルム
発明を実施するための最良の形態
[0021] 以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこ れらに限定されるものではない。
[0022] 本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討の結果、セルロースエステルと、トリアジ ン環化合物の少なくとも 1種と、フ ノール系化合物と、一般式 (L)で表される化合物 とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法によって製膜することを特徴とする偏 光板保護フィルムの製造方法により、溶融流延法による製膜時に生じるスジゃ斑むら 力 Sなぐ更に高温高湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルム、 偏光板及び液晶表示装置を提供出来ることを見出したものである。
[0023] 特に、一般式 (L)で表される化合物は、熱分解により発生したアルキルラジカルを 捕捉する働きがあり、該化合物はセルロースエステル榭脂に用いた場合、そのポリマ 一鎖の末端もしくは側鎖に一般式 (L)に由来する芳香環系の構造が結合し、新たな 化合物が発生するものと推測される。この化合物の構造が、セルロースエステル榭脂 と、通常添加される芳香環系の可塑剤やトリアジン環化合物のようなリタ一デーシヨン 調整剤との間で何らかの相互作用を及ぼすものと推測できる。
[0024] 以下、本発明を各要素毎に詳細に説明する。
[0025] 尚、本発明に力かる偏光板保護フィルムを単にセルロースエステルフィルムと!/、う場 合もある。
[0026] 《一般式 (L)で表される化合物》
本発明は、セルロースエステルフィルムカゝらなる偏光板保護フィルムにおいて、該 偏光板保護フィルムが下記一般式 (L)で表される化合物を含有することが特徴であ る。
[0027] [化 3] 一般式 (L)
Figure imgf000006_0001
[0028] 一般式 (L)において、 R いに独立して水素原子または置換基を
2〜Rはおのおの互
5
表し、 Rは水素原子または置換基を表し、 nは 1または 2を表す。 nが 1であるとき、 R
6 1 は置換基を表し、 nが 2であるとき、 Rは 2価の連結基を表す。 [0029] 本発明に係る一般式 (L)の化合物の添カ卩量は、セルロースエステルの種類やその 他の添加剤の種類や量によって適宜調整すればよぐ特に限定はないが、形成され た偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、 0. 01〜10質量％程度添カロ することが好ましぐ 0. 1〜1. 0質量％となることが特に好ましい。
[0030] さらに、詳細に本発明の一般式 (L)の化合物について説明する。
[0031] 一般式 (L)において、 nは 1または 2を表し; nが 1であるとき、 Rはおのおの未置換
1
の、または炭素原子数 1ないし 4のアルキル基、炭素原子数 1ないし 4のアルコキシ基 、炭素原子数 1ないし 4のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、炭 素原子数 1な 、し 4のアルキルアミノ基、フエ-ルァミノ基またはジ (炭素原子数 1な!ヽ し 4のアルキル）ーァミノ基で置換された、ナフチル基、フエナントリル基、アントリル基 、 5, 6, 7, 8—テトラヒドロー 2 ナフチノレ基、 5, 6, 7, 8—テトラヒドロー 1 ナフチノレ 基、チェ-ル基、ベンゾ [b]チェニル基、ナフト [2, 3— b]チェニル基、チアントレ- ル基、ジベンゾフリル基、クロメニル基、キサンテュル基、フエノキサンチュル基、ピロ リル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ビラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、 インドリジ-ル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル基、プリ-ル基、キノリ ジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタルアジニル基、ナフチリジ-ル基、キノキサ リニル基、キナゾリニル基、シノリル基、プテリジニル基、カルバゾリル基、 β カルボ リニル基、フエナンチリジニル基、アタリジニル基、ペリミジニル基、フエナント口リニル 基、フ ナジニル基、イソチアゾリル基、フ ノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザ ニル基、ビフヱ-ル基、テルフエ-ル基、フルォレ -ル基またはフエノキサジ-ル基を 表すか、あるいは Rは下記式（II)で表される基
[0032] [化 4]
(Π)
Figure imgf000007_0001
[0033] を表し、ならびに； nが 2であるとき、 Rは未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のァ
1
ルキル基もしくはヒドロキシ基により置換されたフエ-レン基、またはナフチレン基を表 すか;または— R — X— R —(基中、 Xは直接結合;酸素原子、硫黄原子もしくは—
12 13
NR を表す。）を表し; R、 R、 R及び Rはおのおの互いに独立して水素原子、塩
31 2 3 4 5
素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 25のアルキル基、炭素原子数 7ないし 9の フエ-ルアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換フエ -ル基、未置換のもしくは炭素原子数 1な 、し 4のアルキル 置換炭素原子数 5な ヽ し 8のシクロアルキル基;炭素原子数 1ないし 18のアルコキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルキルチオ基、炭素原子数 1ないし 4のアルキルアミノ基、ジ (炭素原子数 1な いし 4のアルキル)アミノ基、炭素原子数 1ないし 25のアルカノィルォキシ基、炭素原 子数 1な!、し 25のアルカノィルァミノ基、炭素原子数 3な!、し 25のァルケノィルォキシ 基;酸素原子、硫黄原子もしくは
[0034] [化 5]
\
N— R"
/
[0035] で中断された炭素原子数 3な 、し 25のアルカノィルォキシ基；炭素原子数 6な 、し 9 のシクロアルキルカルボ-ルォキシ基、ベンゾィルォキシ基または炭素原子数 1な ヽ し 12のアルキル—置換ベンゾィルォキシ基を表し (ただし、 Rが水素原子またはメチ
2
ル基の
場合、式 (II)中の、後述する Rまたは Rはヒドロキシ基または炭素原子数 1ないし 25
7 9
のアルカノィルォキシ基を表さない。 )；あるいは置換基 R及び Rまたは、 R及び Rま
2 3 3 4 たは R及び Rのおのおのの対は結合している炭素原子と一緒になつて、ベンゼン環
4 5
を形成し; Rはさらに一（CH ) — COR または一（CH ) OH (式中、 pは 0、 1または
4 2 p 15 2 q
2を表し； qは 1、 2、 3、 4、 5及び 6を表す。）を表し；あるいは R、 R及び Rが水素原
3 5 6 子を表す場合、 Rはさらに下記式 (III)
4
[0036] [化 6]
Figure imgf000009_0001
[0037] (式中、 Rは n= lに対して上記で定義されたと同じ意味を表す。）で表される基を表
1
し; Rは水素原子または下記式 (IV)
6
[0038] [化 7]
Figure imgf000009_0002
[0039] (式中、 Rは式 (III)の基でなく及び Rは n= 1に対して上記で定義されたと同じ意味
4 1
を表す。）で表される基を表し; R、 R、 R及び R はおのおの互いに独立して水素原
7 8 9 10
子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 25のアルキル基;酸素原子、硫 黄原子もしくは
[0040] [化 8]
\
N— R14
/
[0041] で中断された炭素原子数 2ないし 25のアルキル基;炭素原子数 1ないし 25のアルコ キシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは
[0042] [化 9] \
7N- 14
[0043] で中断された炭素原子数 2ないし 25のアルコキシ基;炭素原子数 1ないし 25のアル キルチオ基、炭素原子数 3ないし 25のァルケ-ル基、炭素原子数 3ないし 25のアル ケニルォキシ基、炭素原子数 3ないし 25のアルキ-ル基、炭素原子数 3ないし 25の アルキ -ルォキシ基、炭素原子数 7ないし 9のフエ-ルアルキル基、炭素原子数 7な いし 9のフエ-ルアルコキシ基、未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換フ -ル基、未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換フエノキ シ基;未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換炭素原子数 5ないし 8 のシクロアルキル基;未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換炭素 原子数 5ないし 8のシクロアルコキシ基；炭素原子数 1ないし 4のアルキルアミノ基、ジ (炭素原子数 1な 、し 4アルキル)アミノ基、炭素原子数 1な!、し 25のアルカノィル基； 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0044] [化 10]
\
7N- i4
[0045] で中断された炭素原子数 3ないし 25のアルカノィル基;炭素原子数 1ないし 25のァ ルカノィルォキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは
[0046] [化 11]
\
,N_R14
[0047] で中断された炭素原子数 3ないし 25のアルカノィルォキシ基;炭素原子数 1ないし 25 のアルカノィルァミノ基、炭素原子数 3ないし 25のァルケノィル基;酸素原子、硫黄原 子もしくは [0048] [化 12]
\
7N -R,4
[0049] で中断された炭素原子数 3な 、し 25のアルケノィル基；炭素原子数 3な 、し 25のァ ルケノィルォキシ基;酸素原子、硫黄原子もしくは
[0050] [化 13]
\
-R14
[0051] で中断された炭素原子数 3な 、し 25のアルケノィルォキシ基；炭素原子数 6な 、し 9 のシクロアルキルカルボ-ル基、炭素原子数 6な!、し 9のシクロアルキルカルボ-ル ォキシ基、ベンゾィル基または炭素原子数 1な 、し 12のアルキル置換ベンゾィル基； ベンゾィルォキシ基または炭素原子数 1な!、し 12のアルキル置換ベンゾィルォキシ 基；
[0052] [化 14]
0— R23
Figure imgf000011_0001
[0053] を表すか、また、式（II)中、置換基 R及び Rまたは R及び R のおのおのの対は、結
7 8 8 11
合している炭素原子と一緒になつて、ベンゼン環を形成し、 R は水素原子、炭素原
11
子数 1ないし 25のアルキル基、炭素原子数 1ないし 25のアルキルチオ基、炭素原子 数 3ないし 25のァルケ-ル基、炭素原子数 3ないし 25のアルキ-ル基、炭素原子数 7な!、し 9のフエ-ルアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数 1な 、し 4のアルキル 置換 フ ニル基、未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル置換 炭素原 子数 5な!、し 8のシクロアルキル基;炭素原子数 1な!、し 4のアルキルアミノ基、ジ (炭 素原子数 1な 、し 4のアルキル）アミノ基、炭素原子数 1な!、し 25のアルカノィル基； 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0054] [化 15] \
,Ν— R14
[0055] で中断された炭素原子数 3ないし 25のアルカノィル基;炭素原子数 1ないし 25のァ ルカノィルァミノ基、炭素原子数 3ないし 25のァルケノィル基;酸素原子、硫黄原子も しくは
[0056] [化 16]
\
广 R14
[0057] で中断された炭素原子数 3な 、し 25のアルケノィル基；炭素原子数 6な 、し 9のシク 口アルキルカルボ-ル基、ベンゾィル基または炭素原子数 1な 、し 12のアルキル 置換ベンゾィル基を表し;ただし、 R、R、R、R または R の少なくとも 1つは水素原
7 8 9 10 11
子でなく； R 及び R はおのおの互いに独立して未置換のもしくは炭素原子数 1ない
12 13
し 4のアルキル 置換フエ-レン基またはナフチレン基を表し; R は水素原子または
14
炭素原子数 1ないし 8のアルキル基を表し; R はヒドロキシ基、下記基
15
[0058] [化 17]
-0~ -|- r +
[0059] (基中、 Mは r価の金属カチオンを表し、及び rは 1、 2もしくは 3を表す。 )、炭素原子 数 1ないし 18のアルコキシ基または
[0060] [化 18] ^24
— N
、
[0061] を表し; R 及び R はおのおの互いに独立して水素原子、 CF、炭素原子数 1ないし
16 17 3
12のアルキル基またはフエ二ル基を表す力、あるいは R 及び R は結合している炭
16 17
素原子と一緒になつて、未置換のもしくは 1な 、し 3個の炭素原子数 1な 、し 4のアル キル基により置換された炭素原子数 5ないし 8のシクロアルキリデン環を形成し; R 及
18 び R はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数 1ないし 4のアルキル基、
19
フ 二ル基を表し; R は水素原子または炭素原子数 1ないし 4のアルキル基を表し；
20
R は水素原子、未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換フエニル
21
基、炭素原子数 1ないし 25のアルキル基;酸素原子、硫黄原子もしくは
[0062] [化 19]
[0063] で中断された炭素原子数 2ないし 25のアルキル基;未置換のもしくはフ -ル部分に お!、て 1な!、し 3個の炭素原子数 1な 、し 4のアルキル基で置換された炭素原子数 7 な!、し 9のフエ-ルアルキル基；酸素原子、硫黄原子もしくは
[0064] [化 20]
\
一 R"
[0065] で中断され、かつ、未置換のもしくはフエ-ル部分において 1ないし 3個の炭素原子 数 1な 、し 4のアルキル基で置換された炭素原子数 7な!、し 25のフエ-ルアルキル基 を表し;あるいは R 及び R は結合している炭素原子と一緒になつて、未置換のもしく
20 21
は 1ないし 3個の炭素原子数 1ないし 4のアルキル基により置換された炭素原子数 5な いし 12のシクロアルキレン環を形成し; R は水素原子または炭素原子数 1ないし 4の アルキル基を表し; R は水素原子、炭素原子数 1ないし 25のアルカノィル基、炭素
23
原子数 3な ヽし 25のアルケノィル基；酸素原子、硫黄原子もしくは
[0066] [化 21]
\
,Ν— R14
[0067] で中断された炭素原子数 3な 、し 25のアルカノィル基；ジ (炭素原子数 1な 、し 6のァ ルキル） ホスホネート基により置換された炭素原子数 2ないし 25のアルカノィル基； 炭素原子数 6ないし 9のシクロアルキルカルボ-ル基、テノィル基、フロイル基、ベン ゾィル基または炭素原子数 1な 、し 12のアルキル置換ベンゾィル基；
[0068] [化 22]
Figure imgf000014_0001
Figure imgf000014_0002
一 F¾29一 R30
[0069] (基中、 sは 1または 2を表す。）を表し; R 及び R はおのおの互いに独立して水素原
24 25
子または炭素原子数 1ないし 18のアルキル基を表し; R は水素原子または炭素原
26
子数 1ないし 8のアルキル基を表し; R は直接結合、炭素原子数 1ないし 18のアルキ レン基;酸素原子、硫黄原子もしくは
[0070] [化 23] \
,Ν— R14
[0071] で中断された炭素原子数 2ないし 18のアルキレン基;炭素原子数 2ないし 18のアル ケニレン基、炭素原子数 2ないし 20のアルキリデン基、炭素原子数 7ないし 20のフエ -ルアルキリデン基、炭素原子数 5ないし 8のシクロアルキレン基、炭素原子数 7ない し 8のビシクロアルキレン基、未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置 換フエ二レン基、
[0072] [化 24]
Figure imgf000015_0001
[0073] を表し; R はヒドロキシ基、
28
[0074] [化 25]
-0" - -Mr+ ]
[0075] 、炭素原子数 1ないし 18のアルコキシ基または
[0076] [化 26] 24
— N
R25
[0077] を表し; R は酸素原子、—NH—または
29
[0078] [化 27] o
\
ノ N -C-NH-R30
[0079] を表し; R は炭素原子数 1ないし 18のアルキル基またはフエ-ル基を表し; R は水
30 31 素原子または炭素原子数 1ないし 18のアルキル基を表す、で表される化合物に関す る。
[0080] nが 1であり、 R力 おのおの未置換の、または炭素原子数 1ないし 4のアルキル基
1
、炭素原子数 1ないし 4のアルコキシ基、炭素原子数 1ないし 4のアルキルチオ基、ヒ ドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、炭素原子数 1ないし 4のアルキルアミノ基または ジ (炭素原子数 1ないし 4のアルキル）ーァミノ基で置換された、ナフチル基、フエナン 卜ジノレ基、アン卜ジノレ基、 5, 6, 7, 8—テ卜ラヒドロ一 2 ナフチノレ基、 5, 6, 7, 8—テ卜 ラヒドロー 1 ナフチル基、チェ-ル基、ベンゾ [b]チェ-ル基、ナフト [2, 3— b]チェ -ル基、チアントレ-ル基、ジベンゾフリル基、クロメ-ル基、キサンテュル基、フエノ キサンチニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ビラジニル基、ピリミジ- ル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル 基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタルアジ二ル基、ナフ チリジ-ル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シノリル基、プテリジ-ル基、カル バゾリル基、 β カルボリ-ル基、フエナンチリジ-ル基、アタリジ-ル基、ペリミジ- ル基、フエナント口リニル基、フエナジ-ル基、イソチアゾリル基、フエノチアジ-ル基、 イソキサゾリル基、フラザ-ル基、ビフヱ-ル基、テルフ -ル基、フルォレ -ル基、フ エノキサジニル基、もしくは上記式 (II)で表される基である場合、好ましくは、 1 ナフ チル基、 2 ナフチル基、 1 フエ-ルァミノー 4 ナフチル基、 1ーメチルナフチル 基、 2—メチルナフチル基、 1ーメトキシ 2—ナフチル基、 2—メトキシ 1 ナフチ ル基、 1ージメチルアミノー 2 ナフチル基、 1, 2 ジメチルー 4 ナフチル基、 1, 2 ジメチルー 6 ナフチル基、 1, 2 ジメチルー 7 ナフチル基、 1, 3 ジメチルー 6 ナフチル基、 1, 4 ジメチルー 6 ナフチル基、 1, 5 ジメチルー 2 ナフチル 基、 1, 6 ジメチルー 2 ナフチル基、 1ーヒドロキシ 2 ナフチル基、 2 ヒドロキ シ— 1—ナフチル基、 1, 4 ジヒドロキシ— 2 ナフチル基、 7 フエナントリル基、 1 アントリル基、 2 アントリル基、 9 アントリル基、 3 べンゾ [b]チェ-ル基、 5— ベンゾ [b]チェ-ル基、 2 べンゾ [b]チェ-ル基、 4ージベンゾフリル基、 4, 7 ジ ベンゾフリル基、 4ーメチルー 7 ジベンゾフリル基、 2 キサンテュル基、 8 メチル 2 キサンテュル基、 3 キサンテュル基、 2 フエノキサンチュル基、 2, 7 フエ ノキサンチュル基、 2 ピロリル基、 3 ピロリル基、 5—メチルー 3 ピロリル基、 2— イミダゾリル基、 4 イミダゾリル基、 5 イミダゾリル基、 2—メチルー 4 イミダゾリル 基、 2 ェチルー 4 イミダゾリル基、 2 ェチルー 5 イミダゾリル基、 3 ピラゾリル 基、 1ーメチルー 3 ピラゾリル基、 1 プロピル 4 ピラゾリル基、 2 ピラジュル基 、 5, 6 ジメチルー 2 ピラジュル基、 2—インドリジ-ル基、 2—メチル—3—イソイン ドリル基、 2—メチルー 1 イソインドリル基、 1ーメチルー 2—インドリル基、 1 メチル 3 インドリル基、 1, 5 ジメチルー 2 インドリル基、 1ーメチルー 3 インダゾリル 基、 2, 7 ジメチルー 8 プリ-ル基、 2—メトキシー7—メチルー 8 プリ-ル基、 2 ーキノリジ-ル基、 3 イソキノリル基、 6—イソキノリル基、 7—イソキノリル基、イソキノ リル基、 3—メトキシー 6 イソキノリル基、 2 キノリル基、 6 キノリル基、 7 キノリル 基、 2—メトキシー3 キノリル基、 2—メトキシー6 キノリル基、 6 フタラジュル基、 7 フタラジュル基、 1ーメトキシー 6 フタラジュル基、 1, 4ージメトキシー 6 フタラ ジニル基、 1, 8 ナフチリジニー 2—ィル基、 2 キノキサリニル基、 6 キノキサリニ ル基、 2, 3 ジメチルー 6 キノキサリニル基、 2, 3 ジメトキシー 6 キノキサリニル 基、 2 キナゾリニル基、 7 キナゾリニル基、 2 ジメチルアミノー 6 キナゾリ-ル基 、 3—シノリニル基、 6—シノリニル基、 7—シノリニル基、 3—メトキシ一 7—シノリ-ル 基、 2 プテリジニル基、 6 プテリジ-ル基、 7 プテリジ-ル基、 6, 7 ジメトキシ 2 プテリジ-ル基、 2—力ルバゾリル基、 2—力ルバゾリル基、 9ーメチルー 2—力 ルバゾリル基、 9ーメチルー 3—力ルバゾリル基、 13 カルボリ- 3—ィル基、 1ーメ チルー 13 カルボリ- 3—ィル基、 1ーメチルー 13 カルボリ- 6—ィル基、 3— フエ-アントリジ-ル基、 2—アタリジ-ル基、 3—アタリジ-ル基、 2 ペリミジ -ル基、 1ーメチルー 5 ペリミジ -ル基、 5 フエナント口リ-ル基、 6 フエナント口リ-ル基、 1 フエナジ-ル基、 2 フエナジ-ル基、 3 イソチアゾリル基、 4 イソチアゾリル基 、 5 イソチアゾリル基、 2 フエノチアジ-ル基、 3 フエノチアジ-ル基、 10—メチ ルー 3—フエノチアジ-ル基、 3—イソキサゾリル基、 4 イソキサゾリル基、 5—イソキ サゾリル基、 4ーメチルー 3 フラザ-ル基、 2 フエノキサジニル基または 10—メチ ルー 2—フエノキサジ-ル基である。
[0081] 上記の置換基のうち、上記式 (II)で表される基、または各々未置換の、または炭素 原子数 1ないし 4のアルキル基、炭素原子数 1ないし 4のアルコキシ基、炭素原子数 1 ないし 4のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、フエニルァミノ基またはジ (炭素原子数 1な いし 4のアルキル）—ァミノ基で置換された、ナフチル基、フエナントリル基、アントリル 基、 5, 6, 7, 8—テトラヒドロー 2 ナフチノレ基、 5, 6, 7, 8—テトラヒドロー 1 ナフチ ル基、チェ-ル基、ベンゾ [b]チェニル基、ナフト [2, 3— b]チェニル基、チアントレ ニル基、ジベンゾフリル基、クロメニル基、キサンテュル基、フエノキサンチュル基、ピ 口リル基、イソインドリル基、インドリル基、フ ノチアジ-ル基、ビフヱ-ル基、テルフ ェニル基、フルォレニル基またはフエノキサジ-ル基が特に好ましぐ代表的には 1 ナフチル基、 2 ナフチル基、 1 フエ-ルァミノー 4 ナフチル基、 1ーメチルナフチ ル基、 2—メチルナフチル基、 1—メトキシ一 2—ナフチル基、 2—メトキシ一 1—ナフ チル基、 1—ジメチルァミノ 2 ナフチル基、 1, 2 ジメチルー 4 ナフチル基、 1, 2 ジメチルー 6 ナフチル基、 1, 2 ジメチルー 7 ナフチル基、 1, 3 ジメチル 6 ナフチル基、 1, 4 ジメチルー 6 ナフチル基、 1, 5 ジメチルー 2 ナフチ ル基、 1, 6 ジメチルー 2 ナフチル基、 1ーヒドロキシ 2 ナフチル基、 2 ヒドロ キシ— 1—ナフチル基、 1, 4 ジヒドロキシ— 2 ナフチル基、 7 フエナントリル基、 1—アントリル基、 2 アントリル基、 9 アントリル基、 3 ベンゾ [b]チェ-ル基、 5— ベンゾ [b]チェ-ル基、 2 べンゾ [b]チェ-ル基、 4ージベンゾフリル基、 4, 7 ジ ベンゾフリル基、 4ーメチルー 7 ジベンゾフリル基、 2 キサンテュル基、 8 メチル 2 キサンテュル基、 3 キサンテュル基、 2 フエノキサンチュル基、 2, 7 フエ ノキサンチュル基、 2 ピロリル基、 3 ピロリル基、 2—フエノチアジ-ル基、 3 フエ ノチアジ-ル基、 10—メチルー 3 フエノチアジ-ル基である。
[0082] ハロゲン置換基は、塩素置換基、臭素置換基またはヨウ素置換基であることが好ま しぐ塩素置換基がより好ましい。
[0083] 25個までの炭素原子をもつアルカノィル基は枝分かれしたまたは枝分かれして ヽ ない基であり、例えば、ホルミル基、ァセチル基、プロピオニル基、ブタノィル基、ペン タノィル基、へキサノィル基、ヘプタノィル基、オタタノィル基、ノナノィル基、デカノィ ル基、ゥンデカノィル基、ドデカノィル基、トリデカノィル基、テトラデカノィル基、ペン タデカノィル基、へキサデカノィル基、ヘプタデカノィル基、ォクタデカノィル基、エイ コサノィル基またはドコサノィル基である。 2ないし 18個の、より好ましくは 2ないし 12 個の、特に 2ないし 6個の炭素原子のアルカノィル基が好ましい。ァセチル基が特別 に好ましい。
[0084] ジ (炭素原子数 1な 、し 6のアルキル)ホスホネート基により置換されて 、る炭素原 子数 2ないし 25のアルカノィル基は代表的には、（CH CH O) POCH CO—、 (CH
3 2 2 2
O) POCH CO—、 (CH CH CH CH O) POCH CO—、 (CH CH O) POCH
3 2 2 3 2 2 2 2 2 3 2 2 2
CH CO—、 (CH O) POCH CH CO—、 (CH CH CH CH O) POCH CH CO
2 3 2 2 2 3 2 2 2 2 2 2 一、 (CH CH O) PO (CH ) CO- , (CH CH O) PO (CH ) CO または（CH C
3 2 2 2 4 3 2 2 2 8 3
H O) PO (CH ) CO である。
2 2 2 17
[0085] 25個までの炭素原子を持つアルカノィルォキシ基は、枝分かれしたまたは枝分か れしていない基であり、例えば、ホルミルォキシ基、ァセトキシ基、プロピオ二ルォキ シ基、ブタノィルォキシ基、ペンタノィルォキシ基、へキサノィルォキシ基、ヘプタノィ ルォキシ基、オタタノィルォキシ基、ノナノィルォキシ基、デカノィルォキシ基、ゥンデ カノィルォキシ基、ドデカノィルォキシ基、トリデカノィルォキシ基、テトラデカノィルォ キシ基、ペンタデカノィルォキシ基、へキサデカノィルォキシ基、ヘプタデカノィルォ キシ基、ォクタデカノィルォキシ基、ェキコサノィルォキシ基またはドコサノィルォキシ 基である。 2ないし 18個の、より好ましくは 2ないし 12個の、例えば 2ないし 6個の炭素 原子のアルカノィルォキシ基が好まし ヽ。ァセトキシ基が特別に好まし!/、。
[0086] 3個な 、し 25個の炭素原子を持つアルケノィル基は枝分かれしたまたは枝分かれ していない基であり、例えば、プロぺノィル基、 2 ブテノィル基、 3 ブテノィル基、 イソブテノィル基、 n—2, 4 ペンタジエノィル基、 3—メチルー 2 ブテノィル基、 n 2—ォクテノィル基、 n—2—ドデセノィル基、ィソードデセノィル基、ォレオイル基、 n—2 オタダデカノィル基または n— 4 ォクタデカノィル基である。 3な!、し 18個の 、より好ましくは 3ないし 12個の、例えば 3ないし 6個の、最も好ましくは 3ないし 4個の 炭素原子のアルケノィル基が好まし 、。
[0087] 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0088] [化 28]
\
一 R14
[0089] で中断された炭素原子数 3ないし 25のアルケノィル基は代表的には CH OCH CH
3 2 2
CH = CHCO または CH OCH CH OCH = CHCO である。
3 2 2
[0090] 3な 、し 25個の炭素原子をもつアルケノィルォキシ基は枝分かれしたまたは枝分か れしていない基であり、例えば、プロぺノィルォキシ基、 2 ブテノィルォキシ基、 3— ブテノィルォキシ基、イソブテノィルォキシ基、 n— 2, 4 ペンタジエノィルォキシ基、 3—メチル 2 ブテノィルォキシ基、 n— 2—ォクテノィルォキシ基、 n— 2 ドデセノ ィルォキシ基、ィソードデセノィルォキシ基、ォレオイルォキシ基、 n— 2—ォクタデセ ノィルォキシ基または n— 4—ォクタデセノィルォキシ基である。 3ないし 18個の、より 好ましくは 3ないし 12個の、代表的には 3ないし 6個の、最も好ましくは 3ないし 4個の 炭素原子のアルケノィルォキシ基が好まし 、。
[0091] 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0092] [化 29]
\
7 - i4
[0093] で中断された炭素原子数 3ないし 25のアルケノィルォキシ基は代表的には CH OC
3
H CH CH = CHCOO または CH OCH CH OCH = CHCOO である。
2 2 3 2 2
[0094] 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0095] [化 30] \
N_R14
[0096] で中断された炭素原子数 3ないし 25のアルカノィル基は代表的には CH— O— CH
3 2
CO—， CH -S-CH CO—、 CH NH— CH CO—、 CH N (CH ) CH C
3 2 3 2 3 3 2
O—、 CH -O-CH CH -OCH CO、 CH一（O— CH CH ) O— CH CO—、 C
3 2 2 2 3 2 2 2 2
H (O-CH CH一） O-CH CO—または CH—（O— CH CH一） O-CH C
O である。
[0097] 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0098] [化 31]
\
N— R 14
/
[0099] で中断された炭素原子数 3な 、し 25のアルカノィルォキシ基は代表的には CH - O
3
-CH COO—、 CH -S-CH COO—、 CH NH— CH COO—、 CH N (C
2 3 2 3 2 3
H ) CH COO—、 CH -O-CH CH OCH COO—、 CH (O-CH CH )
3 2 3 2 2 2 3 2 2 2
O-CH COO—、 CH (O-CH CH一） O— CH COO または CH—（O— C
2 3 2 2 3 2 3
H CH一） O-CH COO である。
2 2 4 2
[0100] 炭素原子数 6な!、し 9のシクロアルキルカルボ-ル基の例は、シクロペンチルカルボ ニル基、シクロへキシルカルボ-ル基、シクロへプチルカルボ-ル基及びシクロオタ チルカルボ-ル基である。シクロへキシルカルボ-ル基が好まし 、。
[0101] 炭素原子数 6な!、し 9のシクロアルキルカルボ-ルォキシ基の例は、シクロペンチル カルボ-ルォキシ基、シクロへキシルカルボニルォキシ、シクロへプチルカルポ-ル ォキシ基及びシクロォクチルカルボ-ルォキシ基である。シクロへキシルカルボ-ル 才キシ基が好ましい。
[0102] 好ましくは 1ないし 3個の、最も好ましくは 1ないし 2個のアルキル基をもつ、炭素原 子数 1な 、し 12のアルキル—置換ベンゾィル基は o—、 m—もしくは p メチルベンゾ ィル基、 2, 3 ジメチルベンゾィル基、 2, 4 ジメチルベンゾィル基、 2, 5 ジメチ ルベンゾィル基、 2, 6 ジメチルベンゾィル基、 3, 4 ジメチルベンゾィル基、 3, 5 ージメチルベンゾィル基、 2—メチルー 6 ェチルベンゾィル基、 4 第三ブチルー ベンゾィル基、 2 ェチルベンゾィル基、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィル基、 2, 6 ジ メチル 4 第三ブチルベンゾィル基または 3, 5—ジ第三ブチル ブチルベンゾィ ル基である。好ましい置換基は炭素原子数 1ないし 8のアルキル基、最も好ましくは 炭素原子数 1な 、し 4のアルキル基である。
[0103] 好ましくは 1ないし 3個の、最も好ましくは 1ないし 2個のアルキル基をもつ、炭素原 子数 1な!、し 12のアルキル—置換ベンゾィルォキシ基は o—、 m—もしくは p メチル ベンゾィルォキシ基、 2, 3 ジメチルベンゾィルォキ基、 2, 4 ジメチルベンゾィル ォキシ基、 2, 5 ジメチルベンゾィルォキシ基、 2, 6 ジメチルベンゾィルォキシ基 、 3, 4ージメチルベンゾィルォキシ基、 3, 5 ジメチルベンゾィルォキシ基、 2—メチ ルー 6 ェチルベンゾィルォキシ基、 4 第三ブチルベンゾィルォキシ基、 2 ェチ ルベンンゾィルォキシ基、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルォキシ基、 2, 6 ジメチル 4 第三ブチルベンゾィルォキシ基及び 3 , 5 ジ第三ブチルベンゾィルォキシ基 である。好ましい置換基は炭素原子数 1ないし 8のアルキル基、最も好ましくは炭素 原子数 1な 、し 4のアルキル基である。
[0104] 25個までの炭素原子をもつアルキル基は枝分かれしたまたは枝分かれして 、な ヽ 基であり、例えばメチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、 n ブチル基、 第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、 2—ェチルブチル基、 n—ペンチル基 、イソペンチル基、 1ーメチルペンチル基、 1, 3 ジメチルブチル基、 n—へキシル基 、 1 メチルへキシル基、 n—へプチル基、イソへプチル基、 1, 1, 3, 3, ーテトラメチ ルブチル基、 1 メチルヘプチル基、 3 メチルヘプチル基、 n—ォクチル基、 2 ェ チルへキシル基、 1, 1, 3 トリメチルへキシル基、 1, 1, 3, 3—テトラメチルペンチ ル基、ノニル基、デシル基、ゥンデシル基、 1ーメチルゥンデシル基、ドデシル基、 1, 1, 3, 3, 5, 5 へキサメチルへキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシ ル基、へキサデシル基、ヘプタデシル基、ォクタデシル基、エイコシル基またはドコシ ル基である。好ましい R及び Rの意味は代表的には、炭素原子数 1ないし 18のアル キル基である。特に好ましい Rの意味は炭素原子数 1ないし 4のアルキル基である。
4
[0105] 3個な 、し 25個の炭素原子を持つアルケ-ル基は枝分かれしたまたは枝分かれし ていない基であり、例えば、プロぺニル基、 2—ブテニル基、 3—ブテニル基、イソブ テュル基、 n—2, 4—ペンタジェ-ル基、 3—メチルー 2—ブテュル基、 n—2—オタ テニル基、 n—2—ドデセニル基、イソドデセニル基、ォレイル基、 n—2—オタダデカ -ル基または n— 4—ォクタデ力-ル基である。 3ないし 18個の、より好ましくは 3ない し 12個の、代表的には 3ないし 6個の、最も好ましくは 3ないし 4個の炭素原子のアル ケニル基が好ましい。
[0106] 3個な 、し 25個の炭素原子を持つアルケ-ルォキシ基は枝分かれしたまたは枝分 かれしていない基であり、例えば、プロべ-ルォキシ基、 2—ブテュルォキシ基、 3— ブテュルォキシ基、イソブテュルォキシ基、 n—2, 4—ペンタジェ-ルォキシ基、 3— メチルー 2—ブテュルォキシ基、 n—2—オタテュルォキシ基、 n—2—ドデセ -ルォ キシ基、イソドデセ-ルォキシ基、ォレイルォキシ基、 n— 2—オタダデ力-ルォキシ 基または n— 4—ォクタデカニルォキシ基である。 3ないし 18個の、より好ましくは 3な いし 12個の、代表的には 3ないし 6個の、最も好ましくは 3ないし 4個の炭素原子のァ ルケニルォキシ基が好まし 、。
[0107] 3個な 、し 25個の炭素原子を持つアルキニル基は枝分かれしたまたは枝分かれし ていない基であり、例えば、プロピ-ル基（— CH— C≡CH)、 2—プチ-ル基、 3—
2
ブチュル基、 n—2—ォクチ-ル基、 n—2—ドデシ-ル基である。 3ないし 18個の、よ り好ましくは 3ないし 12個の、代表的には 3ないし 6個の、最も好ましくは 3ないし 4個 の炭素原子のアルキ-ル基が好まし 、。
[0108] 3個な 、し 25個の炭素原子を持つアルキニルォキシ基は枝分かれしたまたは枝分 かれしていない基であり、例えば、プロピ-ルォキシ基（一 OCH— C≡CH)、 2—ブ
2
チュルォキシ基、 3—ブチュルォキシ基、 n— 2—ォクチ-ルォキシ基、 n— 2—ドデ シ-ルォキシ基である。 3ないし 18個の、より好ましくは 3ないし 12個の、代表的には 3ないし 6個の、最も好ましくは 3ないし 4個の炭素原子のアルキ-ルォキシ基が好ま しい。
[0109] 酸素原子、硫黄原子もしくは [0110] [化 32] \
7N- i4
[0111] で中断された炭素原子数 2ないし 25のアルキル基は、代表的には CH -O-CH
3 2 一， CH -S -CH 一、 CH -NH-CH 一、 CH N (CH ) CH —、 CH O
3 2 3 2 3 3 2 3
-CH CH -O-CH 一、 CH (O-CH CH ) O CH —、 CH一（O CH CH
2 2 2 3 2 2 2 2 3 2 2
-) O-CH—または CH - (O-CH CH -) O CH—である。
3 2 3 2 2 4 2
[0112] 炭素原子数 7ないし 9のフ -ルアルキル基は代表的には、ベンジル基、 α—メチ ルベンジル基、 α , α—ジメチルベンジル基及び 2—フエ-ルェチル基である。ベン ジル基及び α , α ジメチルベンジル基が好まし！/、。
[0113] 未置換のまたはフエ-ル部分で 1ないし 3個の炭素原子数 1ないし 4のアルキル基 で置換されている炭素原子数 7ないし 9のフエ-ルアルキル基は代表的には、ベンジ ル基、 α メチルベンジル基、 α , α—ジメチルベンジル基、 2—フエ-ルェチル基 、 2 メチルベンジル基、 3 メチルベンジル基、 4 メチルベンジル基、 2, 4 ジメ チルベンジル基、 2, 6 ジメチルベンジル基または 4 第三ブチルベンジル基であ る。ベンジル基が好ましい。
[0114] 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0115] [化 33]
\
,Ν— R14
[0116] で中断され、かつ、未置換のまたはフエニル部分で 1ないし 3個の炭素原子数 1ない し 4のアルキル基で置換されて 、る炭素原子数 7な!、し 9のフエ-ルアルキル基は、 例えばフエノキシメチル基、 2 メチルフエノキシメチル基、 3 メチルフエノキシメチ ル基、 4 メチルフエノキシメチル基、 2, 4 メチルフエノキシメチル基、 2, 3 メチル フエノキシメチル基、フエ-ルチオメチル基、 N—メチルー N—フエ-ルーメチル基、 N ェチルー N—フエ-ルメチル基、 4 第三ブチルフエノキシメチル基、 4 第三ブ チルフエ-キシエトキシメチル基、 2, 4 ジ—第三ブチルフエノキシメチル、 2, 4 ジ 第三ブチルフエノキシエトキシメチル基、フエノキシエトキシエトキシエトキシメチル 基、ベンジルォキシメチル基、ベンジルォキシエトキシメチル基、 N べンジルー N— ェチルメチル基または N ベンジル N—イソプロピルメチル基のような、枝分かれし たまたは枝分かれして ヽな 、基である。
[0117] 炭素原子数 7ないし 9のフエ-ルアルコキシ基は代表的には、ベンジルォキシ基、 α メチルベンジルォキシ基、 α , α—ジメチルベンジルォキシ基及び 2—フエ-ル エトキシ基である。ベンジルォキシ基が好ましい。
[0118] 好ましくは 1ないし 3個、特に 1または 2個のアルキル基を含む、炭素原子数 1ないし 4のアルキル基で置換されたフエ-ル基の例は、 ο—、 m—もしくは ρ メチルフエ- ル基、 2, 3 ジメチルフエ-ル基、 2, 4 ジメチルフエ-ル基、 2, 5 ジメチルフエ- ル基、 2, 6 ジメチルフエ-ル基、 3, 4 ジメチルフエ-ル基、 3, 5 ジメチルフエ- ル基、 2—メチル—6 ェチルフエ-ル基、 4 第三ブチルフエ-ル基、 2 ェチルフ ェ-ル基及び 2, 6 ジェチルフエ-ル基である。
[0119] 好ましくは 1ないし 3個、特に 1または 2個のアルキル基を含む、炭素原子数 1ないし 4のアルキル基で置換されたフエノキシ基の例は、 o—、 m—もしくは p—メチルフエノ キシ基、 2, 3 ジメチルフエノキシ基、 2, 4 ジメチルフエノキシ基、 2, 5 ジメチル フエノキシ基、 2, 6 ジメチルフエノキシ基、 3, 4 ジメチルフエノキシ基、 3, 5 ジメ チルフエノキシ基、 2—メチルー 6 ェチルフエノキシ基、 4 第三ブチルフエノキシ基 、 2 ェチルフエノキシ基及び 2, 6 ジェチルフエノキシ基である。
[0120] 未置換のもしくは炭素原子数 1な!、し 4のアルキル基で置換された炭素原子数 5な いし 8のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメ チルシクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロへキシル基、ジメチルシクロ へキシル基、トリメチルシクロへキシル基、第三ブチルシクロへキシル基、シクロヘプ チル基及びシクロォクチル基である。シクロへキシル基及び第三ブチルシクロへキシ ル基が好ましい。
[0121] 未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル基で置換された炭素原子数 5な いし 8のシクロアルコキシ基の例は、シクロペントキシ基、メチルシクロペントキシ基、ジ メチルシクロペントキシ基、シクロへクソキシ基、メチルシクロへクソキシ基、ジメチルシ クロへクソキシ基、トリメチルシクロへクソキシ基、第三ブチルシクロへクソキシ基、シク 口ヘプトキシ基及びシクロオタトキシ基である。シクロへクソキシ基及び第三ブチルシ クロへキシキシ基が好まし ヽ。
[0122] 25個までの炭素原子をもつアルコキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれして 、な い基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、 n—ブ トキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、へキソキシ基、ヘプトキシ 基、オタトキシ、デシルォキシ基、テトラデシルォキシ基、へキサデシルォキシ基また はォクタデシルォキシ基である。 1ないし 12個の、好ましくは 1ないし 8個の、例えば 1 な!、し 6個の炭素原子のアルコキシ基が好まし 、。
[0123] 酸素原子、硫黄原子もしくは
[0124] [化 34]
\
N-R14
[0125] で中断された炭素原子数 2ないし 25のアルコキシ基は代表的には、 CH O CH
3 2
CH O 、 CH -S -CH CH O 、 CH NH— CH CH O 、 CH N (CH )
2 3 2 2 3 2 2 3 3
CH CH O 、 CH -O-CH CH O CH CH O 、 CH (O-CH CH ) O—
2 2 3 2 2 2 2 3 2 2 2
CH CH O 、 CH (O-CH CH一） O CH CH O または
2 2 3 2 2 3 2 2
CH - (O-CH CH -) O-CH CH O—である。
3 2 2 4 2 2
[0126] 25個までの炭素原子をもつアルキルチオ基は枝分かれしたまたは枝分かれして ヽ ない基であり、例えばメチルチオ基、ェチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチ ォ基、 n—ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、 へキシルチオ基、へプチルチオ基、ォクチルチオ基、デシルチオ基、テトラデシルチ ォ基、へキサデシルチオ基またはォクタデシルチオ基である。 1ないし 12個の、好ま しくは 1な!、し 8個の、例えば 1な 、し 6個の炭素原子のアルキルチオ基が好まし 、。
[0127] 4個までの炭素原子をもつアルキルアミノ基は枝分かれしたまたは枝分かれして ヽ ない基であり、例えばメチルァミノ基、ェチルァミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピル アミノ基、 n—プチルァミノ基、イソプチルァミノ基または第三プチルァミノ基である。
[0128] ジ (炭素原子数 1な 、し 4のアルキルァミノ）基もまた、おのおの他方と独立した 2つ の部分は枝分かれしたまたは枝分かれしていないことを意味し、代表的には、ジメチ ルァミノ基、メチルェチルァミノ基、ジェチルァミノ基、メチルー n—プロピルアミノ基、 メチルイソプロピルアミノ基、メチルー n—ブチルァミノ基、メチルイソブチルァミノ基、 ェチルイソプロピルアミノ基、ェチルー n—ブチルァミノ基、ェチルイソブチルァミノ基 、ェチル一第三ブチルァミノ基、ジェチルァミノ基、ジイソプロピルアミノ基、イソプロピ ルー n—ブチルァミノ基、イソプロピルイソブチルァミノ基、ジー n ブチルアミノ基ま たはジイソプチルァミノ基である。
[0129] 25個までの炭素原子を持つアルカノィルァミノ基は、枝分かれしたまたは枝分かれ していない基であり、例えば、ホルミルアミノ基、ァセチルァミノ基、プロピオ-ルァミノ 基、ブタノィルァミノ基、ペンタノィルァミノ基、へキサノィルァミノ基、ヘプタノィルアミ ノ基、オタタノィルァミノ基、ノナノィルァミノ基、デカノィルァミノ基、ゥンデカノィルアミ ノ基、ドデカノィルァミノ基、トリデカノィルァミノ基、テトラデカノィルァミノ基、ペンタデ カノィルァミノ基、へキサデカノィルァミノ基、ヘプタデカノィルァミノ基、ォクタデカノ ィルァミノ基、ェキコサノィルァミノ基またはドコサノィルァミノ基である。 2ないし 18個 の、好ましくは 2ないし 12個の、例えば 2ないし 6個の炭素原子のアルカノィルァミノ 基が好ましい。
[0130] 炭素原子数 1ないし 18の炭素原子をもつアルキレン基は枝分かれしたまたは枝分 かれしていない基であり、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン 基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、へキサメチレン基、ヘプタメチレン基、ォクタ メチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基またはォクタデカメチレン基である。炭 素原子数 1ないし 12のアルキレン基が好ましぐ及び炭素原子数 1ないし 8のアルキ レン基が特に好ましい。
[0131] 1ないし 3個の、好ましくは 1ないし 2個の枝分かれしたまたは枝分かれしていない基 を含む、炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換炭素原子数 5ないし 12のシクロアル キレン環の例は、シクロペンチレン、メチルシクロペンチレン、ジメチルシクロペンチレ ン、シクロへキシレン、メチルシクロへキシレン、ジメチルシクロへキシレン、トリメチル シクロへキシレン、第三ブチルシクロへキシレン、シクロへプチレン、シクロオタチレン またはシクロデシレン環である。シクロへキシレン及び第三ブチルシクロへキシレン環 が好ましい。
[0132] 酸素原子、硫黄原子または
[0133] [化 35]
\
N— R"
[0134] で中断された炭素原子数 2ないし 18のアルキレン基の例は—CH—O CH
2 2
CH -S-CH -CH -NH-CH CH— N (CH ) CH CH—
2 2 2 2 2 3 2 2
O-CH CH -O-CH 一、 -CH 一 （O CH CH -) O CH —、 一 CH (O
2 2 2 2 2 2 2 2 2
-CH CH ) O-CH―、 -CH - (O-CH CH ) O CH—及び— CH CH -
2 2 3 2 2 2 2 4 2 2 2
S -CH CH一である。
2 2
[0135] 炭素原子数 1ないし 18のァルケ-レン基は代表的にはビ-レン基、メチルビ-レン 基、オタテュルエチレン基またはドデセニルエチレン基である。炭素原子数 2ないし 8 のァノレケニレン基が好まし 、。
[0136] 2ないし 20個の炭素原子を持つアルキリデン基は代表的には、ェチリデン基、プロ ピリデン基、ブチリデン基、ペンチリデン基、 4ーメチルペンチリデン基、ヘプチリデン 基、ノニリデン基、トリデシリデン基、ノナデシリデン基、 1ーメチルェチリデン基、 1 ェチルプロピリデン基及び 1ーェチルペンチリデン基である。炭素原子数 2な!、し 8の アルキリデン基が好ましい。
[0137] 7ないし 20個の炭素原子を持つフエ-ルアルキリデン基の例はべンジリデン基、 2 フエニルェチリデン基及び 1 フエニル基 2—へキシリデン基である。炭素原子 数 7な!、し 9のフエ-ルアルキリデン基が好まし!/、。
[0138] 炭素原子数 5ないし 8のシクロアルキレン基は 2つの自由電子価及び少なくとも 1つ の環単位をもつ飽和炭化水素基であり、例えば、シクロペンチレン基、シクロへキシレ ン基、シクロへプチレン基またはシクロオタチレン基である。シクロへキシレン基が好 ましい。
[0139] 炭素原子数 7な!、し 8のビシクロアルキレン基はビシクロへプチレン基及びビシクロ オタチレン基である。
[0140] 未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換フエ-レン基またはナフ チレン基の例は 1, 2—, 1, 3—及び 1, 4 フエ-レン基； 1, 2—, 1, 3—, 1, 4—, 1, 6- , 1, 7- , 2, 6 または 2, 7 ナフチレン基である。 1, 4 フエ二レン基が好 ましい。
[0141] 好ましくは 1ないし 3個の、最も好ましくは 1または 2個の、枝分かれしたまたは枝分 かれして ヽな 、アルキル基を含む、炭素原子数 1な!、し 4のアルキル 置換炭素原 子数 5ないし 8のシクロアルキリデン環の例は、シクロペンチリデン、メチルシクロペン チリデン、ジメチルシクロペンチリデン、シクロへキシリデン、メチルシクロへキシリデン 、ジメチルシクロへキシリデン、トリメチルシクロへキシリデン、第三ブチルシクロへキシ リデン、シクロへプチリデン及びシクロオタチリデンである。シクロへキシリデン及び第 三ブチルシクロへキシリデンが好まし！/、。
[0142] 1価、 2価または 3価の金属カチオンは好ましくはアルカリ金属カチオン、アルカリ土 類金属カチオンまたはアルミニウムカチオンであり、例えば Na+、 K+、 Mg 、 Ca また は Al +である。
[0143] 一般式 (L)で表される化合物は、好ましくは、 nが 1であるとき、 R力 おのおの未置
1
換の、またはパラ位において、炭素原子数 1ないし 18のアルキルチオ基もしくはジ（ 炭素原子数 1ないし 4のアルキル）—ァミノ基により置換されたフエニル基； 1ないし 5 個のアルキル置換基中で同時に最大数 18個の炭素原子数を含む一ないし五置換 されたアルキルフエ-ル基；おのおの未置換の、または炭素原子数 1ないし 4のアル キル基、炭素原子数 1ないし 4のアルコキシ基、炭素原子数 1ないし 4のアルキルチオ 基、ヒドロキシ基またはァミノ基で置換された、ナフチル基、ビフエ-ル基、テルフエ- ル基、フ ナントリル基、アントリル基、フルォレニル基、カルバゾリル基、チェ-ル基 、ピロリル基、フエノチアジ-ル基または 5, 6, 7, 8—テトラヒドロナフチル基を表す、 化合物である。
[0144] 好ましい一般式 (L)で表される化合物は、 nが 2であるとき、 Rがー R —X—R — を表し; R 及び R 力フエ-レン基を表し; Xが酸素原子または— NR —を表し;及び
12 13 31
R が炭素原子数 1ないし 4のアルキル基を表す、化合物である。
31
[0145] さらに好ましい一般式 (L)で表される化合物は、 nが 1であるとき、 R力 おのおの未
1
置換の、または炭素原子数 1ないし 4のアルキル基、炭素原子数 1ないし 4のアルコキ シ基、炭素原子数 1ないし 4のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基 、炭素原子数 1な 、し 4のアルキルアミノ基またはジ (炭素原子数 1な 、し 4のアルキ ル）—ァミノ基で置換された、ナフチル基、フエナントリル基、チェ-ル基、ジベンゾフ リル基、カルバゾリル基、フルォレニル基を表すか、あるいは式（II)
[0146] [化 36]
Figure imgf000030_0001
[0147] で表される基を表し; R、R、R及び R はおのおの互いに独立して水素原子、塩素
7 8 9 10
原子、臭素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルキル基;酸素原子もしく は硫黄原子で中断された炭素原子数 2ないし 18のアルキル基;炭素原子数 1ないし 18のアルコキシ基;酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数 2ないし 18 のアルコキシ基;炭素原子数 1ないし 18のアルキルチオ基、炭素原子数 3ないし 12 のァルケニルォキシ基、炭素原子数 3ないし 12のアルキ-ルォキシ基、炭素原子数 7ないし 9のフエ-ルアルキル基、炭素原子数 7ないし 9のフエ-ルアルコキシ基、未 置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換フエ-ル基、フエノキシ基、シ クロへキシル基、炭素原子数 5ないし 8のシクロアルコキシ基;炭素原子数 1ないし 4 のアルキルアミノ基、ジ (炭素原子数 1ないし 4アルキル)アミノ基、炭素原子数 1ない し 12のアルカノィル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数 3な 、し 12のアルカノィル基；炭素原子数 3な 、し 12のアルカノィルォキシ基；酸素原子もしく は硫黄原子で中断された炭素原子数 3な ヽし 12のアルカノィルォキシ基；炭素原子 数 1ないし 12のアルカノィルァミノ基、炭素原子数 3ないし 12のァルケノィル基、炭素 原子数 3ないし 12のァルケノィルォキシ基、シクロへキシルカルボ-ル基、シクロへキ シルカルボニルォキシ基、ベンゾィル基または炭素原子数 1な 、し 4のアルキル 置 換ベンゾィル基；ベンゾィルォキシ基または炭素原子数 1な 、し 4のアルキル置換べ ンゾィルォキシ基；
[0148] [化 37]
O - R23
Figure imgf000031_0001
[0149] を表すか、また、式 (Π)中、置換基 R及び Rまたは R及び R のおのおのの対は、結
7 8 8 11
合している炭素原子と一緒になつて、ベンゼン環を形成し、 R は水素原子、炭素原
11
子数 1ないし 18のアルキル基、炭素原子数 1ないし 18のアルキルチオ基、炭素原子 数 7な!、し 9のフエ-ルアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数 1な 、し 4のアルキ ル置換 フエ-ル基、シクロへキシル基、炭素原子数 1ないし 4のアルキルアミノ基、 ジ (炭素原子数 1な 、し 4のアルキル)アミノ基、炭素原子数 1な!、し 12のアルカノィ ル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数 3な ヽし 12のアルカノィル 基;炭素原子数 1ないし 12のアルカノィルァミノ基、炭素原子数 3ないし 12のアルケノ ィル基、シクロへキシルカルボ-ル基、ベンゾィル基または炭素原子数 1ないし 4のァ ルキル—置換ベンゾィル基を表し；ただし、 R、 R、 R、 R または R の少なくとも 1つ
7 8 9 10 11
は水素原子でなく； R はヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 12のアルコキシ基または
15
[0150] [化 38]
, 24
— N
\
^25
[0151] を表し; R 及び R はおのおの互いに独立して、水素原子または炭素原子数 1ないし
18 19
4のアルキル基を表し; R は水素原子を表し; R は水素原子、フエニル基、炭素原 子数 1ないし 18のアルキル基、酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数 2な!、し 18のアルキル基、炭素原子数 7な!、し 9のフ -ルアルキル基；酸素原子も しくは硫黄原子で中断され、かつ、未置換のもしくはフエニル部分において 1ないし 3 個の炭素原子数 1ないし 4のアルキル基で置換された炭素原子数 7ないし 18のフエ -ルアルキル基を表し;あるいは R 及び R は結合している炭素原子と一緒になつて
20 21
、未置換のもしくは 1ないし 3個の炭素原子数 1ないし 4のアルキル基により置換され たシクロへキシレン環を形成し; R は水素原子または炭素原子数 1ないし 4のアルキ
22
ル基を表し; R は水素原子、炭素原子数 1ないし 18のアルカノィル基、炭素原子数
23
3な ヽし 12のアルケノィル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数 3 な！、し 12のアルカノィル基；ジ（炭素原子数 1な 、し 6のアルキル）—ホスホネート基 により置換された炭素原子数 2ないし 12のアルカノィル基;炭素原子数 6ないし 9のシ クロアルキルカルボ-ル基、ベンゾィル基；
[化 39]
Figure imgf000032_0001
Figure imgf000032_0002
Figure imgf000032_0003
(基中、 sは 1または 2を表す。）を表し; R 及び R はおのおの互いに独立して水素原
24 25
子または炭素原子数 1ないし 12のアルキル基を表し; R は水素原子または炭素原 子数 1ないし 4のアルキル基を表し; R は炭素原子数 1ないし 12のアルキレン基、炭
27
素原子数 2ないし 8のァルケ-レン基、炭素原子数 2ないし 8のアルキリデン基、炭素 原子数 7ないし 12のフエ-ルアルキリデン基、炭素原子数 5ないし 8のシクロアルキレ ン基、フエ-レン基を表し; R はヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 12のアルコキシ基
28
または
[0154] [化 40]
— N
\
[0155] を表し; R は酸素原子または—NH—を表し R は炭素原子数 1ないし 18のアルキル
29 30
基またはフエ二ル基を表す、化合物である。
[0156] また、好ましいものは、 nが 1であるとき、 R力 フエナントリル基、チェニル基、ジべ
1
ンゾフリル基;未置換のもしくは炭素原子数 1ないし 4のアルキル 置換カルバゾリル 基；またはフルォレニル基を表す力、あるいは式（II)
[0157] [化 41]
(Π)
Figure imgf000033_0001
[0158] で表される基を表し; R、R、R及び R はおのおの互いに独立して水素原子、塩素
7 8 9 10
原子、ヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルキル基、炭素原子数 1ないし 18の アルコキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルキルチオ基、炭素原子数 3ないし 4のァ ルケ-ルォキシ基、炭素原子数 3ないし 4のアルキ-ルォキシ基、フエ-ル基、ベンゾ ィル基、ベンゾィルォキシ基または
[0159] [化 42] f¾20 R2i
I I
― O-C― C-0-R23
H t ,,
[0160] を表し、 R は水素原子、炭素原子数 1ないし 18のアルキル基、炭素原子数 1ないし 1
11
8のアルキルチオ基、フエニル基またはシクロへキシル基を表し；ただし、 R、 R、 R、
7 8 9
R または R の少なくとも 1つは水素原子でなく； R は水素原子を表し; R は水素原
10 11 20 21 子、フエ二ル基、炭素原子数 1ないし 18のアルキル基を表し；あるいは R 及び R は
20 21 結合して 、る一緒になつて、未置換のもしくは 1な 、し 3個の炭素原子数 1な 、し 4の アルキル基により置換されたシクロへキシレン環を形成し; R は水素原子または炭素
22
原子数 1ないし 4のアルキル基を表し; R は水素原子、炭素原子数 1ないし 12のアル
23
カノィル基またはベンゾィル基を表す、一般式 (L)で表される化合物である。
[0161] R、 R、 R及び R はおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数 1ないし
7 8 9 10
4のアルキル基を表し、及び R は水素原子、炭素原子数 1ないし 12のアルキル基、
11
炭素原子数 1ないし 4のアルキルチオ基またはフエ-ル基を表し;ただし、 R、 R、 R
7 8 9
、R または R の少なくとも 1つは水素原子でない、一般式 (L)で表される化合物は
10 11
特別に好ましい。
[0162] より好ましい一般式 (L)で表される化合物は、 R、 R、 R及び Rはおのおの互いに
2 3 4 5
独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルキル基、 ベンジル基、フエ-ル基、炭素原子数 5ないし 8のシクロアルキル基、炭素原子数 1な いし 18のアルコキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルキルチオ基、炭素原子数 1な いし 18のアルカノィルォキシ基、炭素原子数 1ないし 18のアルカノィルァミノ基、炭 素原子数 3な 、し 18のアルケノィルォキシ基またはベンゾィルォキシ基を表し (ただ し、 Rが水素原子またはメチル基の場合、 Rまたは Rはヒドロキシ基または炭素原子
2 7 9
数 1ないし 25のアルカノィルォキシ基を表さない。 )；あるいは置換基 R及び Rまたは
2 3
、 R及び Rまたは R及び Rは結合している炭素原子と一緒になつて、ベンゼン環を
3 4 4 5
形成し; Rはさらに—（CH ) — COR または—（CH ) OH (式中、 pは 1または 2を表
4 2 p 15 2 q
し； qは 2、 3、 4、 5または 6を表す。）を表し；あるいは R、 R及び Rが水素原子を表す 場合、 Rはさらに式 (III)で表される基を表し; R はヒドロキシ基、炭素原子数 1ないし
4 15
12のアルコキシ基または
[0163] [化 43]
— N
\
25
[0164] を表し; R 及び R はメチル基を表す力 または結合している炭素原子と一緒になつ
16 17
て、未置換のもしくは 1ないし 3個の炭素原子数 1ないし 4のアルキル基により置換さ れた炭素原子数 5ないし 8のシクロアルキリデン環を形成し; R及び R はおのおの
24 25
互いに独立して水素原子または炭素原子数 1ないし 12のアルキル基を表す、化合 物である。
[0165] 特に好ましい一般式 (L)で表される化合物はまた、 R、 R、 R及び Rの少なくとも 2
2 3 4 5
つが水素原子である、化合物である。
[0166] 特に好ま 、一般式 (L)で表される化合物は、 R及び Rが水素原子である化合物
3 5
である。
[0167] 非常に特別に好ましい一般式 (L)で表される化合物は、 Rが炭素原子数 1ないし 4
2
のアルキル基を表し; Rが水素原子を表し; Rが炭素原子数 1ないし 4のアルキル基
3 4
を表す力または、 Rが水素原子を表す場合、 Rはさらに式 (III)で表される基を表し；
6 4
R
5は水素原子を表し、ならびに R
16及び R
17は結合している炭素原子と一緒になつて シクロへキシリデン環を形成する、化合物である。
[0168] 一般式 (L)で表される化合物はそれ自体公知の方法によって製造できる。
[0169] 一般式 (L)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定さ れるものではない。
[0170] [化 44]
Figure imgf000036_0001
]
Figure imgf000037_0001
[0172] [化 46]
Figure imgf000038_0001
Figure imgf000038_0002
[0173] また、最も好まし!/、一般式 (L)で表される化合物は下記構造式で示すィ匕合物であり
、チノく'スペシャルティ ·ケミカルズ (株）より HP— 136と!、う名称で製造されて!、る。
[0174] [化 47]
HP— 136
Figure imgf000038_0003
[0175] 《トリアジン環化合物》
本発明では、トリアジン環化合物の少なくとも 1種を用いるが、中でも前記一般式（1 )で示されるトリアジン環化合物をセルロースエステルに添加することが好まし!/、。
[0176] トリアジン環化合物は単独で用いてもよぐ混合して用いてもよい。好ましい含有量 は、形成された偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、 0. 1質量％以 上 15質量％以下であり、より好ましくは 0. 3質量％以上 12質量％以下、さらに好まし くは 0. 8質量％以上 8質量％以下である。トリアジン環化合物を 2種以上混合して用 V、た場合、これらの含有量は添加されるトリアジン環化合物の総和を指す。
[0177] 前記一般式（1)で示されるトリアジン環化合物の式中、
Figure imgf000039_0001
R3は、それぞれ独 立して、芳香族環又は複素環を表し; X1は単結合、 NR4—、— O 又は— S を表 し; X2は単結合、 NR5—、—O 又は— S を表し; X3は単結合、 NR6—、— O —又は— S を表す。
Figure imgf000039_0002
R5及び R6は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは 無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。
[0178] 上記一般式（1)中の 、 R2、 R3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表 す。 R3が表す芳香族環は、フエ-ル又はナフチルであることが好ましぐフエ -ルであることが特に好ましい。
Figure imgf000039_0003
R3が表す芳香族環は、置換基を有していて もよぐ置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シァノ基、ニトロ基、カル ボキシル基、アルキル基、ァルケ-ル基、ァリール基、アルコキシ基、アルケニルォキ シ基、ァリールォキシ基、ァシルォキシ基、アルコキシカルボ-ル基、ァルケ-ルォキ シカルボニル基、ァリールォキシカルボ-ル基、スルファモイル基、アルキル置換ス ルファモイル基、ァルケ-ル置換スルファモイル基、ァリール置換スルファモイル基、 スルオンアミド基、力ルバモイル、アルキル置換力ルバモイル基、ァルケ-ル置換力 ルバモイル基、ァリール置換力ルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、ァルケ-ル チォ基、ァリールチオ基及びァシル基が含まれる。
[0179] R2、 R3が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ま 、。芳香族性を有す る複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素 環である。複素環は 5員環、 6員環又は 7員環であることが好ましぐ 5員環又は 6員環 であることがさらに好ましぐ 6員環であることが最も好ましい。複素環のへテロ原子は 、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましぐ窒素原子であることが特 に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環 (複素環基としては、 2- ピリジル又は 4 ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい 。複素環基の置換基の例は、上記芳香族環が有してもよい置換基の例と同様である 。 XI、 X2及び X3がそれぞれ単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原 子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基 は、 5員環、 6員環又は 7員環であることが好ましぐ 5員環又は 6員環であることがさら に好ましぐ 5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有して いてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のへテロ原子 (例えば o、 S)を有して いてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。
[0180] [化 48]
(He— 1 ) (He
Figure imgf000040_0001
[0181] [化 49]
(He— 8)
Figure imgf000041_0001
(He— 10)
Figure imgf000041_0002
(He— 11 ) (He -12)
Figure imgf000041_0003
[0182] さらに（1)式中 X1は、単結合、—NR4 —O—又は—S—を表し、 X2は、単結合、
NR5— O—又は S—を表し、 X3は単結合、 NR6 O—又は S—を表 す。 R5及び R6は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキ ル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。
[0183] R4、 R5及び R6がそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アル キル基であってもよいが、鎖状アルキル基を表すのが好ましぐ分岐を有する鎖状ァ ルキル基よりも、直鎖状アルキル基を表すのがより好ましい。アルキル基の炭素原子 数は 1〜30であることが好ましぐ 1〜20であることがより好ましぐ 1〜10であることが さらに好ましぐ 1〜8がさらにまた好ましぐ 1〜6であることが最も好ましい。アルキル 基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基 (例 えばメトキシ、エトキシ)及びァシルォキシ基 (例えば、アタリロイルォキシ、メタタリロイ ルォキシ）が含まれる。
[0184] R5及び R6がそれぞれ表すァルケ-ル基は、環状ァルケ-ル基であっても鎖状 ァルケ-ル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましぐ分岐を有す る鎖状アルケニル基よりも、直鎖状ァルケ-ル基を表すのがより好ましい。アルケニル 基の炭素原子数は 2〜30であることが好ましぐ 2〜20であることがより好ましぐ 2〜 10であることがさらに好ましぐ 2〜8であることがさらにまた好ましぐ 2〜6であること が最も好ましい。ァルケ-ル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述 のアルキル基の置換基と同様である。 R4、 R5及び R6がそれぞれ表す芳香族環基及 び複素環基は、
Figure imgf000042_0001
及び R3がそれぞれ表す芳香族環及び複素環と同様であり、 好ま ヽ範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基はさらに置換基を有して ヽて もよぐ置換基の例には R1 R2、及び R3の芳香族環及び複素環の置換基と同様であ る。
[0185] これらの中で特に好ましいものは、 X1が一 NR4—、 X2が一 NR5—、 X3が一 NR6—で ある。
[0186] 本発明におけるトリアジン環化合物の分子量は、 300〜2, 000であることが好まし い。該化合物の沸点は 260°C以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置 { 例えば、 "TGZDTA100"セイコー電子工業 (株)製 }を用いて測定できる。
[0187] 以下に本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物の具体例を示す。先ず、こ れらのうち、 X1、 X2及び X3が— NH—であり、
Figure imgf000042_0002
R2及び R3が同一ではない 化合物の具体例を示す。
[0188] [化 50]
奮〔〕〔〕0189
Figure imgf000043_0001
n} (}l12i— (1—9) (1-10)
Figure imgf000044_0001
(1-13) (1—14)
(1一 15)
Figure imgf000044_0002
2] (1一 17) (1-18)
Figure imgf000045_0001
3] (1—25) (1-26)
(
(
(
Figure imgf000046_0001
] 0〔S 5
Figure imgf000047_0001
(1-41) (1一 42)
Figure imgf000048_0001
]
Figure imgf000049_0001
(1-56)
Figure imgf000050_0001
] (1一 62) (1-63)
Figure imgf000051_0001
] (1一 70) (1一 71)
(
(
Figure imgf000052_0001
] (1一 78) (1一 79)
Figure imgf000053_0001
H
Figure imgf000053_0002
[0199] また、 X1がー NR4— X2がー NR5— X3がー NR6—であり、
Figure imgf000053_0003
R5及び R6は同一で はなぐ
Figure imgf000053_0004
R2及び R3も同一ではない化合物の具体例としては：
[0200] [化 61] (1一 86)
Figure imgf000054_0001
[0201] さらに、 X1、 X2及び X3が一 ΝΗ であって、
Figure imgf000054_0002
R3が同一（1^=1^=1^=1¾の 化合物としては、下記一般式（1— 1)に示される化合物を挙げることができる。なお、 下記の一般式における複数の Rは同一の基を意味し、 Rの定義は、具体例番号と共 に一般式の後に示す。
[0202] [化 62]
(2— ·！)〜 (2— 190)
一般式 (1一 1)
Figure imgf000054_0003
[0203] R:
(2—1)フエ-ル
(2- 2) 4-ブチルフエ-ル
(2— 3) 4— (2—メトキシ一 2 エトキシェチル）フエ-ル
(2-4) 4- (5 ノネニル）フ ニル
(2— 5) p ビフエ-リル
(2-6) 4 エトキシカルボ-ルフエ-ル (2-7)4-ブトキシフエ-ル
(2— 8) 4 メチルフエ-ル
(2— 9)4 クロ口フエ二ノレ
(2-10)4-フエ-ルチオフエ-ル
(2-11)4-ベンゾィノレフエ-ノレ
(2-12)4-ァセトキシフエ二ノレ
(2-13)4-ベンゾィルォキシフエ-ル
(2— 14) 4 フエノキシカルボ-ルフエ-ル
(2— 15)4—メトキシフエ-ル
(2— 16)4 ァ-リノフエ-ル
(2— 17) 4 イソブチリルアミノフエ-ル
(2—18)4 フエノキシカルボ-ルァミノフエ-ル (2— 19) 4一（3 ェチルウレイド）フエ-ル
(2-20)4- (3, 3 ジェチルウレイド）フエ-ル
(2— 21)4 フエノキシフエ-ル
(2-22)4-ヒドロキシフエ-ル
(2-23)3-ブチルフエ-ル
(2— 24)3— (2—メトキシー2 エトキシェチル）フエ-ル
(2— 25) 3—（5 ノネニル）フ ニル
(2— 26) m—ビフエ-リル
(2— 27) 3 エトキシカルボ-ルフエ-ル
(2-28)3-ブトキシフエ-ル
(2— 29) 3 メチルフエ-ル
(2— 30) 3 クロ口フエ二ノレ
(2— 31)3 フエ-ルチオフエ-ル
(2— 32) 3 ベンゾィルフエ-ル
(2— 33) 3 ァセトキシフエ-ル
(2-34)3-ベンゾィルォキシフエ-ル (2- 35) 3一フエノキシカルボ-ルフエ-ル
(2- 36) 3ーメトキシフエ二ル
(2- 37) 3 -ァ-リノフエ-ル
(2- 38) 3一イソブチリルアミノフエニル
(2- 39) 3一フエノキシカルボ-ルァミノフエ:ニル
(2- 40) 3 - (3—ェチルウレイド）フエ-ル
(2- 41) 3 - (3, 3—ジェチルウレイド）フエ；: レ
(2- 42) 3 -フエノキシフエ-ル
(2- 43) 3 -ヒドロキシフエニル
(2- 44) 2ーブチルフヱニル
(2- 45) 2一（2—メトキシー 2—エトキシェチル）フエ-ル
(2- 46) 2 _ (5—ノネ-ル）フエ-ル
(2- 47) oービフエ二リノレ
(2- 48) 2一エトキシカルボユルフェニル
(2- 49) 2一ブトキシフエニル
(2- 50) 2一メチルフエニル
(2- 51) 2一クロ口フエ二ノレ
(2- 52) 2 -フエ二ルチオフエニル
(2- 53) 2 -ベンゾィノレフエ二ノレ
(2- 54) 2ーァセトキシフエ二ノレ
(2- 55) 2一ベンゾィルォキシフエ-ル
(2- 56) 2一フエノキシカルボ-ルフエ-ル
(2- 57) 2ーメトキシフエ二ル
(2- 58) 2 -ァ-リノフエ-ル
(2- 59) 2一イソブチリルアミノフエニル
(2- 60) 2一フエノキシカルボ-ルァミノフエ:ニル
(2- 61) 2 - (3—ェチルウレイド）フエ-ル
(2- 62) 2 - (3, 3—ジェチルウレイド）フエ；: ：ル (2- 63) 2—フ: ϋノキシフエ二ノレ
(2- 64) 2 -ヒドロキシフエニル
(2- 65) 3, 4-ジブチルフ ニル
(2- 66) 3, 4-ジ（2—メトキシ 2 エトキシェチル）フエ:ニル
(2- 67) 3, 4-ジフエ二ノレフエ二ノレ
(2- 68) 3, 4-ジエトキシカルボユルフェニル
(2- 69) 3, 4-ジドデシルォキシフエ-ル
(2- 70) 3, 4-ジメチルフエニル
(2- 71) 3, 4-ジクロロフエ二ノレ
(2- 72) 3, 4-ジベンゾィルフエニル
(2- 73) 3, 4-ジァセトキシフエ二ノレ
(2- 74) 3, 4-ジメトキシフエニル
(2- 75) 3, 4-ジー Ν メチルァミノフエニル
(2- 76) 3, 4-ジイソプチリルアミノフエニル
(2- 77) 3, 4-ジフエノキシフエ二ノレ
(2- 78) 3, 4-ジヒドロキシフエニル
(2- 79) 3, 5-ジブチルフ ニル
(2- 80) 3, 5-ジ（2—メトキシ 2 エトキシェチル）フエ:ニル
(2- 81) 3, 5-ジフエ二ノレフエ二ノレ
(2- 82) 3, 5-ジエトキシカルボユルフェニル
(2- 83) 3, 5-ジドデシルォキシフエ-ル
(2- 84) 3, 5-ジメチルフエニル
(2- 85) 3, 5-ジクロロフエ二ノレ
(2- 86) 3, 5-ジベンゾィルフエニル
(2- 87) 3, 5-ジァセトキシフエ二ノレ
(2- 88) 3, 5-ジメトキシフエニル
(2- 89) 3, 5-ジー Ν メチルァミノフエニル
(2- 90) 3, 5-ジイソプチリルアミノフエニル (2- 91)3, 5-ジフエノキシフエ二ノレ
(2- 92)3, 5-ジヒドロキシフエニル
(2- 93)2, 4-ジブチルフエニル
(2— 94)2, 4-ジ（2—メトキシ一 2—エトキシェチル）フエニル
(2- 95)2, 4-ジフエ二ノレフエ二ノレ
(2- 96)2, 4-ジエトキシカルボユルフェニル
(2- 97)2, 4-ジドデシルォキシフエ-ル
(2— 98)2, 4-ジメチルフエニル
(2— 99)2, 4-ジクロロフエニノレ
(2— 100)2, 4一ジベンゾィルフエニル
(2- 101)2, 4一ジァセトキシフエ二ノレ
(2- 102)2, 4ージメトキシフエ二ル
(2- 103)2, 4 -ジー N—メチルァミノフエニル
(2— 104)2, 4ージイソブチリルアミノフエ-ル
(2— 105)2, 4一ジフエノキシフエ二/レ
(2- 106)2, 4ージヒドロキシフエ二/レ
(2- 107)2, 3 -ジブチルフヱニル
(2- 108)2, 3ージ（2—メトキシー 2—エトキシェチル）フエニル
(2— 109)2, 3ージフエ二ノレフエ二ノレ
(2— 110)2, 3一ジェトキシカルボニルフエニル
(2- 111)2, 3 -ジドデシルォキシフエ-ル
(2- 112)2, 3 -ジメチルフエニル
(2- 113)2, 3ージクロ口フエ二ノレ
(2- 114)2, 3一ジベンゾィルフエニル
(2— 115)2, 3一ジァセトキシフエ二ノレ
(2— 117)2, 3 -ジー N—メチルァミノフエニル
(2- 118)2, 3 -ジイソプチリルアミノフエ二ル
(2- 119)2, 3一ジフエノキシフエ二ノレ (2- 120) 2, 3ージヒドロキシフエ二ノレ
(2- 121) 2, 6 -ジブチルフヱニル
(2- 122) 2, 6ージ（2—メトキシー2 エトキシェチル）フエ-
(2- 123) 2, 6ージフエ二ノレフエ二ノレ
(2- 124) 2, 6 ジエトキシカルボユルフェニル
(2- 125) 2, 6 ジドデシルォキシフエ-ル
(2- 126) 2, 6ージメチルフエニル
(2- 127) 2, 6ージクロ口フエ二ノレ
(2- 128) 2, 6 ジベンゾィルフエニル
(2- 129) 2, 6 ジァセトキシフエ二ノレ
(2- 130) 2, 6ージメトキシフエ二ル
(2- 131) 2, 6 -ジー N メチルァミノフエニル
(2- 132) 2, 6 ジイソプチリルアミノフエニル
(2- 133) 2, 6ージフエノキシフエ二ノレ
(2- 134) 2, 6ージヒドロキシフエ二ノレ
(2- 135) 3, 4, 5 トリブチルフエニル
(2- 136) 3, 4, 5 トリ（2—メトキシ一 2 エトキシェチル）フ
(2- 137) 3, 4, 5 トリフエ-ルフエ-ル
(2- 138) 3, 4, 5 トリエトキシカルボニルフエニル
(2- 139) 3, 4, 5 トリドデシルォキシフエ-ル
(2- 140) 3, 4, 5 トリメチルフエニル
(2- 141) 3, 4, 5 トリクロ口フエ二ノレ
(2- 142) 3, 4, 5 -トリベンゾィルフエニル
(2- 143) 3, 4, 5 トリァセトキシフエ-ル
(2- 144) 3, 4, 5 トリメトキシフエ二ル
(2- 145) 3, 4, 5 トリー N メチルァミノフエニル
(2- 146) 3, 4, 5 トリイソブチリルアミノフエニル
(2- 147) 3, 4, 5 トリフエノキシフエ-ル (2- 148) 3 4, 5 トリヒドロキシフエニル
(2- 149) 2 4, 6 トリブチルフ エル
(2- 150) 2 4, 6 トリ（2—メトキシ— 2 エトキシェチル）フエ-ル
(2- 151) 2 4, 6 トリフエニルフヱニル
(2- 152) 2 4, 6 トリエトキシカルボユルフェニル
(2- 153) 2 4, 6 トリドデシルォキシフエ-ル
(2- 154) 2 4, 6 トリメチルフエニル
(2- 155) 2 4, 6 トリクロ口フエ二ノレ
(2- 156) 2 4, 6 トリベンゾィルフエニル
(2- 157) 2 4, 6 トリァセトキシフエニル
(2- 158) 2 4, 6 トリメトキシフエ二ル
(2- 159) 2 4, 6 トリ一 N—メチルァミノフエニル
(2- 160) 2 4, 6 トリイソブチリルアミノフ ニル
(2- 161) 2 4, 6 トリフエノキシフエニル
(2- 162) 2 4, 6 トリヒドロキシフエニル
(2- 163)ペンタフルオロフェ-ル
(2- 164)ペンタクロロフエ二ノレ
(2- 165)ペンタメトキシフエニル
(2- 166) 6 N メチルスルファモイル 8—メトキシ 2 ナフチル
(2- 167) 5 N—メチルスルファモイル 2 ナフチル
(2- 168) 6 N フエ-ルスルファモイル 2 ナフチル
(2- 169) 5 エトキシ 7— N メチルスルファモイル 2 ナフチル
(2- 170) 3ーメトキシー 2 ナフチル
(2- 171) 1 エトキシー 2 ナフチル
(2- 172) 6 N フエ-ルスルファモイル 8—メトキシ 2 ナフチル
(2- 173) 5ーメトキシ一 7— N フエ-ルスルファモイル 2 ナフチル
(2- 174) 1一（4—メチノレフエ二ノレ） 2 ナフチノレ
(2- 175) 6, 8 ジ—N—メチルスルファモイルー 2 ナフチル (2- -176)6- -N-2-ァセトキシェチルスルファモイル一 8—メトキシ一 2—ナフ チル
(2- -177)5- -ァセトキシ— 7— N—フエ-ルスルファモイル— 2—ナフチル
(2- -178)3- -ベンゾィルォキシ一 2—ナフチル
(2- -179)5- -ァセチルァミノ一 1一ナフチル
(2- -180)2- -メトキシー 1一ナフチル
(2- -181)4-一フエノキシ一 1—ナフチノレ
(2- -182)5- -N—メチルスルファモイルー 1一ナフチル
(2- -183)3- -N—メチルカノレバモイノレ一 4—ヒドロキシー 1一ナフチノレ
(2- -184)5- -メトキシ— 6— N—ェチルスルファモイル— 1—ナフチル
(2- -185)7- -テトラデシルォキシー 1一ナフチル
(2- -186)4- - (4一メチルフエノキシ）一 1一ナフチル
(2- -187)6- -N—メチルスルファモイルー 1一ナフチル
(2- -188)3- -N, N—ジメチルカルバモイルー 4ーメトキシー 1一ナフチル
(2- -189)5- -メトキシ一 6— N—ベンジルスルファモイル一 1—ナフチル
(2- -190)3, 6—ジ— N—フエニルスルファモイル— 1—ナフチル
さら 二また、 X1がー NR4—、 X2がー NR5—、 X3がー NR6—であり、 R4、 R5及び R6は 同一 (R4=R5=R6=R)で、
Figure imgf000061_0001
R2及び R3がフエ-ル基である化合物の具体例と しては、下記一般式（1一 2)に示される化合物を挙げることができる。なお、下記の一 般式における複数の Rに関しては、前記と同様である。
[化 63]
(2— 191)~(2— 193)
一 一 2)
Figure imgf000062_0001
[0205] R:
(2— 191)メチル
(2— 192)フエ-ル
(2— 193)ブチル
次に、本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物のうち、 X1、 X2及び X3の少な くとも 1つが O又は Sを含む連結基であって、
Figure imgf000062_0002
の 化合物としては、化合物の具体例としては、下記一般式（1 4)〜（1 9)の化合物 を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数の Rに関しては、前記と同 様である。
[0206] [化 64]
(3— 1)〜(3— 66>
一般式 (1一 4)
Figure imgf000062_0003
[0207] R:
(3— 1)フエ-ル
(3— 2) 3 エトキシカルボ-ルフエ-ル (3- -3)3-ブトキシフエニル
(3- -4)m- -ビフエ二リノレ
(3- -5)3-フエニノレチオフェニル
(3- -6)3— 'クロ口フエ二/レ
(3- -7)3-ベンゾィノレフエ二ノレ
(3- -8)3—ァセトキシフエ二ノレ
(3- -9)3-ベンゾィルォキシフエ-ル
(3- 10)3一フエノキシカルボニルフエニル
(3- 11)3 -メトキシフエニル
(3- 12)3ーァ-リノフエ-ル
(3- 13)3一イソブチリルアミノフエニル
(3- 14)3一フエノキシカルボ-ルァミノフエニル
(3- 15)3一（3—ェチルウレイド）フエ-ル
(3- 16)3一（3, 3—ジェチルウレイド）フエニル
(3- 17)3一メチルフエニル
(3- 18)3 -フエノキシフエニル
(3- 19)3- -ヒドロキシフエニル
(3- 20)4一エトキシカルボニルフエニル
(3- 21)4- -ブトキシフエ二ル
(3- 22)p-ービフエ二リノレ
(3- 23)4一フエニノレチオフェニル
(3- 24)4-一クロ口フエ二/レ
(3- 25)4- -ベンゾィノレフエ二ノレ
(3- 26)4-ーァセトキシフエ二ノレ
(3- 27)4- -ベンゾィルォキシフエ-ル
(3- 28)4- -フエノキシカルボニルフエニル
(3- 29)4- -メトキシフエニル
(3- 30)4-ーァ-リノフエ-ル (3- - 31； 4 -イソブチリルアミノフエ二ル
(3- 32； 4 -フエノキシカルボ-ルァミノフエ-ル
(3- 33； 4 - (3—ェチルウレイド）フエ-ル
(3- 34； 4 - (3, 3—ジェチルウレイド）フエ-ル
(3- 35; 4- -メチルフエニル
(3- 36; 4- -フエノキシフエ-ル
(3- 37； 4- -ヒドロキシフエニル
(3- 38； 3， 4 ジエトキシカルボニルフエニル
(3- 39〕 3， 4 ジブトキシフエ二ル
(3- 40) 3， 4 ジフエ二ノレフエ二ノレ
(3- 41) 3， 4 ジフヱ二ルチオフエニル
(3- 42) 3, 4 ジクロロフエ二ノレ
(3- 43) 3， 4 ジベンゾィルフエニル
(3- 44) 3， 4 ジァセトキシフエ二ノレ
(3- 45) 3， 4 ジベンゾィルォキシフエニル
(3- 46〕 3， 4 ジフエノキシカルボニルフエ-ル
(3- 47) 3， 4—ジメトキシフエ二ノレ
(3- 48) 3， 4 ジァ-リノフエニル
(3- 49) 3， 4ージメチルフエニル
(3— 50) 3， 4 ジフエノキシフエ二/レ
(3— 51) 3， 4 ジヒドロキシフエニル
(3— 52) 2- -ナフチノレ
(3— 53) 3， 4， 5—トリエトキシカルボユルフェニル
(3— 54) 3， 4， 5—トリブトキシフエニル
(3— 55) 3， 4, 5—トリフエニルフエニル
(3— 56) 3， 4, 5 トリフエ二ルチオフエニル
(3— 57) 3， 4, 5—トリクロ口フエ二ノレ
(3— 58) 3， 4， 5 トリベンゾィルフエニル (3 -59)3, 4, 5-トリァセトキシフエニル
(3 -60)3, 4, 5-トリベンゾィルォキシフエニル
(3 -61)3, 4, 5-トリフエノキシカルボニルフヱニル
(3 -62)3, 4, 5-トリメトキシフエ二ル
(3 -63)3, 4, 5-トリア-リノフエ-ル
(3 -64)3, 4, 5-トリメチルフエニル
(3 -65)3, 4, 5-トリフエノキシフエニル
(3 -66)3, 4, 5-トリヒドロキシフエニル
[0208] [化 65]
(3— 67ト (3— 132)
一般式 (1一 5)
R
Figure imgf000065_0001
[0209] R:
(3- -67)フェ-ノレ
(3- -68)3-一エトキシカルボユルフェニル
(3- 69)3- -ブトキシフエニル
(3- -70)mービフエユリノレ
(3- -71)3- -フエ二ルチオフエニル
(3- -72)3-一クロ口フエ二ノレ
(3- -73)3- -ベンゾィノレフエ二ノレ
(3- -74)3-ーァセトキシフエ二ノレ
(3- -75)3- -ベンゾィルォキシフエ-ル
(3- -76)3- -フエノキシカルボ-ルフエ-ル
(3— -77)3- -メトキシフエニル (3- -78)3- -ァニリノフエ-ル
(3- -79)3- -イソブチリルァミノフエニル
(3- 80)3- -フエノキシカルボ-ルァミノフエこニル
(3- -81)3- - (3—ェチルウレイド）フエ-ル
(3- 82)3- (3， 3—ジェチルウレイド）フエ- ：ル
(3- 83)3-メチルフエニル
(3- 84)3-フエノキシフエ-ル
(3- 85)3-ヒドロキシフエニル
(3- 86)4-エトキシカルボユルフェニル
(3- 87)4-ブトキシフ ニル
(3- 88)p-ビフエ二リノレ
(3- 89)4-フエ二ルチオフエニル
(3- 90)4-クロ口フエ二ノレ
(3- 91)4-ベンゾィノレフエ二ノレ
(3- 92)4-ァセトキシフエ二ノレ
(3— 93)4-ベンゾィルォキシフエ-ル
(3— 94)4-フエノキシカルボユルフェ-ル
(3- 95)4-メトキシフエニル
(3- 96)4-ァ-リノフエ-ル
(3— 97)4-イソブチリルアミノフエニル
(3— 98)4-フエノキシカルボニルァミノフエ；: ：ル
(3- 99)4- (3—ェチルウレイド）フエ-ル
(3— 100)4 -(3, 3—ジェチルウレイド）フエニル
(3- 101)4一メチルフエニル
(3- 102)4一フエノキシフエ二ノレ
(3— 103)4 -ヒドロキシフエニル
(3- 104)3, 4ージエトキシカルボニルフエ- -ル
(3- 105)3, 4—ジブトキシフエニル (3— 106) 3, 4ージフエ二ノレフエ二ノレ
(3— 107) 3, 4 -ジフヱ二ルチオフ ニル
(3— 108) 3, 4ージクロ口フエ二ノレ
(3— 109) 3, 4 ジベンゾィルフエニル
(3— 110) 3, 4 ジァセトキシフエ二ノレ
(3— 111) 3, 4 -ジベンゾィルォキシフエニル
(3— 112) 3, 4 -ジフエノキシカルボニルフエニル
(3— 113) 3, 4 -ジメトキシフエ二ル
(3— 114) 3, 4 -ジァ-リノフエ-ル
(3— 115) 3, 4 -ジメチルフエニル
(3— 116) 3, 4ージフエノキシフエ二ノレ
(3— 117) 3, 4ージヒドロキシフエ二ノレ
(3— 118) 2 -ナフチノレ
(3— 119) 3, 4, 5 トリエトキシカルボニルフエニル
(3— 120) 3, 4, 5—トリブトキシフエニル
(3— 121) 3, 4, 5—トリフエ-ルフエ-ル
(3— 122) 3, 4, 5 トリフエ二ルチオフエニル
(3— 123) 3, 4, 5 トリクロ口フエ二ノレ
(3— 124) 3, 4, 5 -トリベンゾィルフエニル
(3— 125) 3, 4, 5 トリァセトキシフエ-ル
(3— 126) 3, 4, 5 トリベンゾィルォキシフエニル
(3— 127) 3, 4, 5 トリフエノキシカルボニルフヱニル
(3— 128) 3, 4, 5—トリメトキシフエ二ル
(3— 129) 3, 4, 5—トリア-リノフエ-ル
(3— 130) 3, 4, 5 トリメチルフエニル
(3— 131) 3, 4, 5 トリフエノキシフエ-ル
(3— 132) 3, 4, 5 トリヒドロキシフエニル
6] (3— 133ト (3— 151 )
一般式 (1一 6)
Figure imgf000068_0001
[0211] R:
(3- 133 )フエニル
(3- 134, ) 4 エトキシカルボユルフェニル
(3- 135： ) 4 ブトキシフエニル
(3- 136； » P —ビフエ二リル
(3— 137； ) 4 フエ二ルチオフエニル
(3— 138； ) 4 クロ口フエ二ノレ
(3— 139； 4 -ベンゾィ /レフェニノレ
(3— 140； 4ーァセトキシフエ二ノレ
(3— 141； 4 ベンゾイノレオキシフエニル
(3— 142； 4 フエノキシカルボユルフェ-ル
(3— 143〕 4 -メトキシフエニル
(3 - 144〕 4ーァニリノフエ-ル
(3— 145〕 4 -イソプチリルアミノフエニル
(3— 146) 4 -フエノキシカルボニルァミノフエニル
(3— 147) 4 - (3 ェチルウレイド）フエ-ル
(3— 148) 4一（3, 3 ジェチルウレイド）フエ-ル
(3- 149) 4 -メチルフヱニル
(3 - 150) 4- フエノキシフエ二ノレ
(3— 151) 4- -ヒドロキシフエニル
[0212] [化 67] (3— 152)〜(3— 170)
式 (1—7)
Figure imgf000069_0001
[0213] R:
(3- 152： )フエニル
(3- 153： ) 4- -エトキシカノレポユルフェ二ノレ
(3— 154； ) 4- -ブトキシフエニル
(3— 155； ) p- -ビフエ-リル
(3— 156； ) 4-一フエニノレチ才フエ二ノレ
(3— 157； 4-一クロ口フエ二ノレ
(3— 158； 4- -ベンゾィノレフエ二ノレ
(3— 159； 4- -ァセトキシフエ二ノレ
(3— 160； 4- -ベンゾィルォキシフエ-ル
(3— 161； 4- -フエノキシ力ノレボニルフエニル
(3- 162) 4- -メトキシフエニル
(3— 163) 4- -ァ-リノフエニル
(3— 164) 4 - -イソプチリルアミノフエニル
(3- 165) 4- -フエノキシカルボニルァミノフエ、ニル
(3— 166) 4 - - (3—ェチルウレイド）フエニル
(3— 167) 4 - - (3, 3—ジェチルウレイド）フエこニル
(3 - 168) 4- -メチルフエニル
(3 - 169) 4 - -フエノキシフエ-ル
(3— 170) 4 - -ヒドロキシフエ二ノレ
[0214] [化 68] (3— 171)〜(3— 189)
—般式 (1一 8)
Figure imgf000070_0001
[0215] R:
(3- 171)フコニル
(3- 172)4- -エトキシカルボユルフェニル
(3- 173)4- -ブトキシフエニル
(3- 174)p- -ビフエユリノレ
(3- 175)4- -フエ二ルチオフエニル
(3- 176)4- -クロ口フエニノレ
(3- 177)4- -ベンゾィノレフエ二ノレ
(3- 178)4- -ァセトキシフエ二ノレ
(3- 179)4- -ベンゾィルォキシフエ-ル
(3- 180)4- -フエノキシカルボニルフエニル
(3- 181)4- -メトキシフエ二ル
(3- 182)4- -ァ-リノフエニル
(3— 183)4-イソブチリルァミノフエニル
(3— 184)4- -フエノキシカルボ-ルァミノフエ-ル
(3— 185)4- - (3—ェチルウレイド）フエニル
(3- 186)4- (3, 3—ジェチルウレイド）フエニル
(3— 187)4-メチルフエニル
(3— 188)4-フエノキシフエ-ル
(3— 189)4-七ドロキシフエニル
[0216] [化 69] (3— 190)〜(3— 208)
一般式 (1一 9)
Figure imgf000071_0001
R:
(3- 190)フ工-ノレ
(3- 191)4- -エトキシカルボニルフエニル
(3- 192)4- -ブトキシフヱニル
(3- 193)p- -ビフエユリ/レ
(3- 194)4- -フエ二ルチオフエニル
(3- 195)4- クロ口フエ二ノレ
(3- 196)4- ベンゾィノレフエ二ノレ
(3- 197)4- -ァセトキシフエ二ノレ
(3- 198)4- -ベンゾイノレオキシフエ二ノレ
(3- 199)4- -フエノキシカルボ-ルフエニル
(3- 200)4- -メトキシフエニル
(3- 201)4- -ァニリノフエニル
(3- 202)4- -イソプチリルアミノフエニル
(3- 203)4- -フエノキシカルボ-ルァミノフエニル
(3- 204)4- - (3 ェチルウレイド）フエニル
(3- 205)4- -(3， 3 ジェチルウレイド）フエニル
(3- 206)4- -メチルフエニル
(3- 207)4- -フエノキシフエ-ル
(3— 208)4- -ヒドロキシフエニル
また x x2及び X3の少なくとも 1つが O又は Sを含む連結基である化合物の具体例 としては、さらに次の化合物を挙げることができる。
[0218] [化 70]
(3-209) (3-210)
Figure imgf000072_0001
[0219] 3番目として、本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物のうち、 X1、 X2及び X 3が何れも単結合であり、
Figure imgf000072_0002
R2及び R3が同一である化合物の具体例としては、下記 一般式（1 10)の化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数 の Rに関しては、前記と同様である。
[0220] [化 71]
(4一 1)〜(4一 9)
一般式 (1一 10>
Figure imgf000072_0003
[0221] R: (4 1)フ ニル
(4- 2) 4 エトキシカルボ-ルフエ-ル
(4- 3) 4-ブトキシフエ二ノレ
(4 4) p ビフエ-リル
(4— 5) 4—ピリジル
(4 6) 2 ナフチル
(4- 7) 2-メチルフエ-ル
(4-8) 3, 4ージメトキシフエ二ノレ
(4 9) 2 フリル
さらに：
[0222] [化 72]
Figure imgf000073_0001
[0223] 《酸化防止剤》
セルロースエステルは、熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発 明の偏光板保護フィルムにおいては安定化剤として酸ィ匕防止剤を含有することが好 ましい。
[0224] 特に、溶融流延法による製膜が行われるような高温環境下では、セルロースエステ ルフィルム成形材料の熱、及び酸素による分解が促進されるため、酸化防止剤を含 有することが好ましい。
[0225] 本発明において有用な酸ィ匕防止剤としては、酸素によるセルロースエステルフィル ム成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも 有用な酸化防止剤としては、フエノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系 化合物、ィォゥ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これ らの中でも、特に本発明では必須成分であるフ ノール系化合物の他ではリン系化 合物が好ましい。これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下さ せることなぐ熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これ らの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて用いることが できる。
[0226] (フ ノール系化合物）
フエノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第 4, 839, 405号 明細書の第 12〜14欄に記載されており、 2, 6—ジアルキルフエノール誘導体化合 物が含まれる。フエノール系化合物の添カ卩量については、セルロースエステルの種 類やその他の添加剤の種類や量によって適宜調整すればよぐ特に限定はないが、 形成された偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、 0. 01〜10質量0 /0 程度添加することが好ましぐ 0. 2〜2. 0質量％となることが特に好ましい。このような 化合物のうち好まし 、ィ匕合物として、下記一般式 (A)で表される化合物が好ま 、。
[0227] [化 73] 一般式 (A)
Figure imgf000074_0001
式中、 R 〜R は置換基を表す。置換基としては、水素原子、ハロゲン原子 (例え
11 15
ばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基 (例えばメチル基、ェチル基、イソプロピル 基、ヒドロキシェチル基、メトキシメチル基、トリフルォロメチル基、 t—ブチル基等）、シ クロアルキル基 (例えばシクロペンチル基、シクロへキシル基等）、ァラルキル基 (例え ばべンジル基、 2—フエネチル基等）、ァリール基（例えばフエ-ル基、ナフチル基、 p —トリル基、 p—クロ口フエニル基等）、アルコキシ基 (例えばメトキシ基、エトキシ基、ィ ソプロポキシ基、ブトキシ基等）、ァリールォキシ基 (例えばフエノキシ基等）、シァノ基 、ァシルァミノ基 (例えばァセチルァミノ基、プロピオ-ルァミノ基等）、アルキルチオ 基 (例えばメチルチオ基、ェチルチオ基、プチルチオ基等）、ァリールチオ基 (例えば フエ-ルチオ基等）、スルホ -ルァミノ基（例えばメタンスルホ -ルァミノ基、ベンゼン スルホ -ルァミノ基等）、ウレイド基 (例えば 3—メチルウレイド基、 3, 3—ジメチルウレ イド基、 1, 3 ジメチルウレイド基等）、スルファモイルァミノ基 (ジメチルスルファモイ ルァミノ基等）、力ルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、ェチルカルバモイル 基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばェチルスルファモイル基 、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボ-ル基（例えばメトキシカルボ-ル 基、エトキシカルボニル基等）、ァリールォキシカルボ-ル基 (例えばフエノキシカル ボ-ル基等）、スルホ -ル基（例えばメタンスルホ-ル基、ブタンスルホ-ル基、フエ- ルスルホニル基等）、ァシル基 (例えばァセチル基、プロパノィル基、ブチロイル基等 )、アミノ基 (メチルァミノ基、ェチルァミノ基、ジメチルァミノ基等）、シァノ基、ヒドロキ シ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンォキシド基 (例えばピリジン一才キシド基）、イミド基（ 例えばフタルイミド基等）、ジスルフイド基 (例えばベンゼンジスルフイド基、ベンゾチア ゾリルー 2—ジスルフイド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基 (例えば、ピ ロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル 基、ベンズチアゾリル基、ベンズォキサゾリル基等)等が挙げられる。これらの置換基 はさらに置換されてもよい。
また、 R は水素原子、 R 、 R は t ブチル基であるフエノール系化合物が好まし
11 12 16
い。フエノール系化合物の具体例としては、 n—ォクタデシル 3— (3, 5—ジー tーブ チルー 4ーヒドロキシフエ-ル） プロピオネート、 n—ォクタデシル 3—（3, 5—ジ t —ブチルー 4—ヒドロキシフエ-ル）一アセテート、 n—ォクタデシル 3, 5—ジ一 t—ブ チルー 4ーヒドロキシベンゾエート、 n—へキシル 3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキ シフエ-ルペンゾエート、 n—ドデシル 3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル ベンゾエート、ネオ—ドデシル 3— (3, 5—ジ— t—ブチル—4—ヒドロキシフエ-ル） プロピオネート、ドデシル j8 (3, 5—ジ— t—ブチル—4—ヒドロキシフエ-ル）プロピ ォネート、ェチル α—（4ーヒドロキシ 3, 5—ジー t ブチルフエ-ル）イソブチレー ト、ォクタデシル α—（4ーヒドロキシ 3, 5—ジー t—ブチルフエ-ル）イソブチレート 、ォクタデシル α— (4—ヒドロキシ一 3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル） プロピオネート、 2 （n—ォクチルチオ）ェチル 3, 5 ジ—tーブチルー 4ーヒドロキ シ一べンゾエート、 2 （n—ォクチルチオ）ェチル 3, 5 ジー tーブチルー 4ーヒドロ キシ—フエ-ルアセテート、 2 （n—ォクタデシルチオ）ェチル 3, 5 ジー t—ブチル 4ーヒドロキシフエ-ルアセテート、 2 （n—ォクタデシルチオ）ェチル 3, 5 ジ t ーブチルー 4ーヒドロキシ一べンゾエート、 2- (2 ヒドロキシェチルチオ）ェチル 3, 5—ジ—tーブチルー 4ーヒドロキシベンゾエート、ジェチルダリコールビス (3, 5— ジ tーブチルー 4ーヒドロキシ一フエ-ル）プロピオネート、 2- (n—ォクタデシルチ ォ）ェチル 3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオネート、ステ アルアミド N, N ビス一 [エチレン 3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ- ル）プロピオネート]、 n—ブチルイミノ N, N—ビス一 [エチレン 3— (3, 5—ジ一 t ブ チルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、 2- (2—ステアロイルォキシェチル チォ）ェチル 3, 5 ジ tーブチルー 4ーヒドロキシベンゾエート、 2—（2—ステアロイ ルォキシェチルチオ）ェチル 7—（ 3—メチル 5— t ブチル 4 ヒドロキシフエ- ル）ヘプタノエート、 1, 2 プロピレングリコールビス— [3— (3, 5 ジ— t—ブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、エチレングリコールビス [3— (3, 5—ジー tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス [3— (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、エチレングリ コールビス一 (3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシフエ-ルアセテート）、グリセリン —1—n—ォクタデカノエートー 2, 3 ビス一（3, 5 ジ一 t—ブチノレ一 4 ヒドロキシ フエ-ルアセテート）、ペンタエリトリトール—テトラキス— [3— (3' , 5' —ジ— t—ブ チル一 4' —ヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、 1, 1, 1—トリメチロールエタン一ト リス— [3— (3, 5—ジ— t ブチル—4—ヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、ソルビ トールへキサ [3— (3, 5—ジ—tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオネート ]、 2 ヒドロキシェチル 7— (3—メチル—5— t—ブチル—4 ヒドロキシフエ-ル）プ 口ピオネート、 2—ステアロイルォキシェチル 7— (3—メチル 5— t—ブチル 4 ヒ ドロキシフエ-ル）ヘプタノエート、 1, 6— n—へキサンジオール一ビス [ , 5' - ジ— t—ブチル—4—ヒドロキシフエ-ル）プロピオネート]、ペンタエリトリトール—テト ラキス（3, 5—ジ一 t—ブチル 4—ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タ イブのフエノール系化合物は、例えば、 Ciba Specialty Chemicalsから、 "Irgano xl076"及び" IrganoxlOlO"という商品名で市販されている。
[0230] (リン系化合物）
本発明において添加剤として、リン系化合物の少なくとも 1種を含有することが好ま しぐ下記一般式 (B— 1)、（B— 2)、（B— 3)、（B— 4)、（B— 5)で表される部分構造 を分子内に有する化合物が好ましい。
[0231] [化 74]
—般式 (B— 1 )
Figure imgf000077_0001
[0232] 式中、 Ph及び P は置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の R 〜R
1 1 11 15 で表される置換基と同義である。より好ましくは、 Ph及び P はフエ-レン基を表し
1 1
、該フヱ-レン基の水素原子はフ ニル基、炭素数 1〜8のアルキル基、炭素数 5〜8 のシクロアルキル基、炭素数 6〜 12のアルキルシクロアルキル基または炭素数 7〜 1 2のァラルキル基で置換されていてもよい。 Ph及び P は互いに同一でもよぐ異
1 1
なってもよい。 Xは単結合、硫黄原子または CHR—基を表す。 Rは水素原子、炭
6 6
素数 1〜8のアルキル基または炭素数 5〜8のシクロアルキル基を表す。また、これら は前記一般式 (A)の R 〜R で表される置換基と同義の置換基により置換されても
11 15
よい。
[0233] [化 75] 一般式 (B— 2)
— h — Ph
[0234] 式中、 Ph及び P は置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の R 〜R
2 2 11 15 で表される置換基と同義である。より好ましくは、 Ph及び P はフエ-ル基または
2 2
ビフエ-ル基を表し、該フエ-ル基またはビフエニル基の水素原子は炭素数 1〜8の アルキル基、炭素数 5〜8のシクロアルキル基、炭素数 6〜 12のアルキルシクロアル キル基または炭素数 7〜 12のァラルキル基で置換されていてもよい。 Ph及び P
2 2 は互いに同一でもよぐ異なってもよい。また、これらは前記一般式 (A)の R 〜R で
11 15 表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
[0235] [化 76] 一般式 (B— 3)
0
Ph,-0-P
0-
[0236] 式中、 Phは置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の R 〜R で表される
3 11 15 置換基と同義である。より好ましくは、 Phはフエニル基またはビフエ-ル基を表し、該
3
フエニル基またはビフヱ-ル基の水素原子は炭素数 1〜8のアルキル基、炭素数 5〜 8のシクロアルキル基、炭素数 6〜 12のアルキルシクロアルキル基または炭素数 7〜 12のァラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式 (A)の R 〜R
11 で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
15
[0237] [化 77] 一般式 (B— 4)
Ph4— 0— P、
[0238] 式中、 Phは置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の R 〜R で表される
4 11 15 置換基と同義である。より好ましくは、 Phは炭素数 1〜20のアルキル基またはフエ-
4
ル基を表し、該アルキル基またはフ 二ル基は前記一般式 (A)の R 〜R で表され
11 15 る置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
[0239] [化 78] 一般式 (B— 5)
Ph5
, /
Ph s P.
、
[0240] 式中、 Ph、Ph' 及び Ph" は置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の
5 5 5
R 〜R で表される置換基と同義である。より好ましくは、 Ph、Ph^ 及び Phグ は炭
11 15 5 5 5 素数 1〜20のアルキル基またはフ -ル基を表し、該アルキル基またはフ -ル基 は前記一般式 (A)の R 〜R で表される置換基と同義の置換基により置換されても
11 15
よい。
[0241] リン系化合物の添カ卩量は、セルロースエステルの種類やその他の添加剤の種類や 量によって適宜調整すればよぐ特に限定はないが、形成された偏光板保護フィルム 中のセルロースエステルに対し、 0. 01〜10質量％程度添加することが好ましぐ 0. 1〜1. 0質量％となることが特に好ましい。
[0242] リン系化合物の具体例としては、トリフエ-ルホスフアイト、ジフヱ-ルイソデシルホス ファイト、フエ-ルジイソデシルホスフアイト、トリス（ノ -ルフエ-ル）ホスファイト、トリス（ ジノ-ルフエ-ル）ホスファイト、トリス（2, 4 ジ一 t—ブチルフエ-ル）ホスファイト、 1 0— (3, 5 ジ一 t—ブチル 4 ヒドロキシベンジル） 9, 10 ジヒドロ一 9—ォキ サ一 10 ホスファフェナントレン一 10—オキサイド、 6— [3— (3— t—ブチル 4 ヒ ドロキシ 5 メチルフエ-ル）プロポキシ ] 2, 4, 8, 10—テトラー tーブチルジベン ズ [d, f] [l. 3. 2]ジォキサホスフエピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト 系化合物； 4, 4' ーブチリデンービス（3—メチルー 6— t ブチルフエ-ルージートリ デシルホスフアイト）、 4, 4' —イソプロピリデン—ビス（フエ-ル―ジ—アルキル（C1 2〜C 15)ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；などのジホスファイト系化合物；ト リフエ-ルホスホナイト、テトラキス（2, 4 ジ tert ブチルフエ-ル） [1, 1ービフエ ニル] 4, 4'—ジィルビスホスホナイト、テトラキス（2, 4 ジ一 tert—ブチル 5— メチルフエ-ル） [1, 1—ビフエ-ル]— 4, 4'—ジィルビスホスホナイトなどのホスホナ イト系化合物；トリフエ-ルホスフイナイト、 2, 6 ジメチルフエ-ルジフエ-ルホスフィ ナイトなどのホスフィナイト系化合物；トリフエ-ルホスフィン、トリス（2, 6 ジメトキシフ ェニル）ホスフィンなどのホスフィン系化合物；などが挙げられる。上記タイプのリン系 化合物は、例えば、住友ィ匕学工業株式会社から、 "SumilizerGP",旭電化工業株 式会社から ADK STAB PEP— 24G"、 "ADK STAB PEP— 36，，及び" ADK STAB 3010"、エーピーアイコーポレーション社から，， GSY—P101，，、チバ 'スぺ シャルティ ·ケミカルズ株式会社から" IRGAFOS P - EPQ" t 、う商品名で巿販さ れている。
[0243] また、下記化合物が挙げられる。
[0244] [化 79]
[0 ] [ fZ0
Figure imgf000081_0001
08 99S.00/800Z OAV
Figure imgf000082_0001
Figure imgf000083_0001
XXlf90/-00Zdf/I3d 38 99SZ.00/800Z OAV
Figure imgf000084_0001
[0248] (ヒンダードアミン系化合物）
本発明にお 、て有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式 (C)で表されるヒン ダードアミン系化合物が好まし 、。
[0249] [化 83] 一般式 (C)
Figure imgf000084_0002
[0250] 式中、 R 〜R は置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の R 〜R で表さ
21 27 11 15 れる置換基と同義である。 R は水素原子、メチル基、 R は水素原子、 R 、 R 、 R 、
24 27 22 23 25
R はメチル基が好ましい。
26
[0251] ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4 ピペリジル）セバケート、ビス（2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジル)スクシネート 、ビス（1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル一 4 ピペリジル）セバケート、ビス（N—オタトキ シ一 2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピペリジル）セバケート、ビス（N ベンジルォキ シ一 2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピペリジル）セバケート、ビス（N シクロへキシル ォキシ—2, 2, 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジル）セノ ケート、ビス（1, 2, 2, 6, 6 —ペンタメチル一 4 ピペリジル） 2— (3, 5 ジ一 t—ブチル 4 ヒドロキシベンジ ル）ー2 ブチルマロネート、ビス（1ーァクロイルー 2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピ ペリジル） 2, 2 ビス（3, 5 ジ一 t—ブチル 4 ヒドロキシベンジル） 2 ブチル マロネート、ビス（1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル一 4 ピペリジル）デカンジ才エート、 2 , 2, 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジルメタタリレート、 4— [3— (3, 5 ジ— t—ブ チル— 4 ヒドロキシフエ-ル）プロピオ-ルォキシ]— 1— [2— (3— (3, 5 ジ— t— ブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル）プロピオ-ルォキシ）ェチル ] 2, 2, 6, 6—テトラメ チルピペリジン、 2—メチルー 2—（2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジル）ァミノ — N— (2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（2, 2 , 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジル） 1, 2, 3, 4 ブタンテトラカルボキシレート、テ トラキス（1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチル— 4 ピペリジル） 1, 2, 3, 4 ブタンテトラ力 ルポキシレート等が挙げられる。
[0252] また、高分子タイプの化合物でもよぐ具体例としては、 N, Ν' , Νグ , Νグ ' —テ トラキスー [4, 6 ビス 〔ブチルー（Ν—メチルー 2, 2, 6, 6—テトラメチルピベリジ ン— 4—ィル）ァミノ〕—トリァジン— 2—ィル]—4, 7 ジァザデカン— 1, 10 ジアミ ン、ジブチノレアミンと 1, 3, 5 トリアジンー Ν, N' ビス（2, 2, 6, 6—テトラメチノレ 4ーピペリジル）ー1, 6 へキサメチレンジァミンと Ν—（2, 2, 6, 6—テトラメチル 4ーピペリジル）ブチルァミンとの重縮合物、ジブチルァミンと 1, 3, 5 トリアジンと Ν, N' ビス（2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4ーピペリジル）ブチルァミンとの重縮合 物、ポリ〔{ (1, 1, 3, 3—テトラメチルブチル）アミノー 1, 3, 5 トリアジン 2, 4 ジ ィル } { (2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピペリジル)イミノ}へキサメチレン { (2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピペリジル)ィミノ }〕、 1, 6 へキサンジァミン一 N, N' —ビス (2, 2, 6, 6—テトラメチル— 4 ピペリジル）とモルフォリン— 2, 4, 6 トリクロ口 1 , 3, 5 トリァジンとの重縮合物、ポリ [ (6 モルフォリノ s トリァジン— 2, 4 ジィ ル）〔（2, 2, 6, 6, —テトラメチル— 4 ピペリジル)ィミノ〕—へキサメチレン〔（2, 2, 6 , 6—テトラメチル— 4—ピペリジル)ィミノ〕]等の、ピぺリジン環がトリァジン骨格を介 して複数結合した高分子量 HALS ;コハク酸ジメチルと 4ーヒドロキシ 2, 2, 6, 6— テトラメチルー 1ーピペリジンエタノールとの重合物、 1, 2, 3, 4 ブタンテトラカルボ ン酸と 1, 2, 2, 6, 6 ペンタメチルー 4ーピベリジノールと 3, 9 ビス（2 ヒドロキシ - 1, 1ージメチルェチル） 2, 4, 8, 10—テトラオキサスピロ [5, 5]ゥンデカンとの 混合エステルイ匕物等の、ピぺリジン環がエステル結合を介して結合したィ匕合物等が 挙げられる力 これらに限定されるものではない。
[0253] これらの中でも、ジブチルァミンと 1, 3, 5 トリァジンと N, N' —ビス（2, 2, 6, 6 —テトラメチル一 4 ピペリジル)プチルァミンとの重縮合物、ポリ〔{ (1, 1, 3, 3—テト ラメチノレブチノレ）アミノー 1, 3, 5 トリアジンー 2, 4 ジィル } { (2, 2, 6, 6—テトラメ チル一 4 ピペリジル)イミノ}へキサメチレン { (2, 2, 6, 6—テトラメチル一 4 ピペリ ジル)イミノ}〕、 コハク酸ジメチルと 4ーヒドロキシ 2, 2, 6, 6—テトラメチルー 1ーピ ペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Mn)が 2, 000〜5, 000のもの が好ましい。
[0254] 上記タイプのヒンダードアミン系化合物は、例えば、チノく'スペシャルティ'ケミカル ズ社から、 "Tinuvinl44"及び" Tinuvin770"、旭電化工業株式会社から" ADK STAB LA— 52"という商品名で市販されている。
[0255] (ィォゥ系化合物）
本発明にお 、て有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式 (D)で表されるィォ ゥ系化合物が好ましい。
[0256] [化 84] 一般式 (D)
Figure imgf000087_0001
[0257] 式中、 R及び R は置換基を表す。置換基としては前記一般式 (A)の R
31 32 11〜R で
15 表される置換基と同義である。
[0258] ィォゥ系化合物の具体例としては、ジラウリル 3, 3 チォジプロピオネート、ジミリス チル 3, 3' —チォジプロピピオネート、ジステアリル 3, 3—チォジプロピオネート、ラ ゥリルステアリル 3, 3—チォジプロピオネート、ペンタエリスリトールーテトラキス（j8— ラウリル チォープロピオネート）、 3, 9 ビス（2 ドデシルチオェチル） 2, 4, 8, 10 テトラオキサスピロ [5, 5]ゥンデカン等が挙げられる。
[0259] 上記タイプのィォゥ系化合物は、例えば、住友ィ匕学工業株式会社から、 "スミライザ
TPL - R"及び"スミライザ一 TP— D"という商品名で市販されて!、る。
[0260] 酸ィ匕防止剤は、後述のセルロースエステル同様に、製造時力も持ち越される、ある いは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去することが 好ましぐより好ましくは純度 99%以上である。残留酸及び水としては、 0. 01-100 ppmであることが好ましぐセルロースエステルを溶融流延法による製膜する上で、熱 劣化を抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
[0261] 酸化防止剤は 0. 1〜： L0質量％添加することが好ましぐさらに 0. 2〜5質量％添加 することが好ましぐさらに 0. 3〜2質量％添加することが好ましい。これらは 2種以上 を併用してもよい。
[0262] 酸化防止剤の添加量が少なすぎると溶融時に安定化作用が低いために、効果が 得られず、また添カ卩量が少なすぎるとセルロースエステルへの相溶性の観点カゝらフィ ルムとしての透明性の低下を引き起こし、またフィルムが脆くなることがあるため好まし くない。
[0263] 《酸捕捉剤》
セルロースエステルは溶融流延法による製膜が行われるような高温環境下では酸 によっても分解が促進されるため、本発明の偏光板保護フィルムにおいては安定ィ匕 剤として酸捕捉剤を含有することが好ま Uヽ。本発明にお ヽて有用な酸捕捉剤として は、酸と反応して酸を不活性ィ匕する化合物であれば制限なく用いることができるが、 中でも米国特許第 4, 137, 201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有 する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシィ匕合物は当該技術分野 において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコ ール 1モル当たりに約 8〜40モルのエチレンォキシド等の縮合によって誘導されるポ リグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシィ匕合物（例えば 、塩ィ匕ビュルポリマー組成物において、及び塩ィ匕ビ二ルポリマー組成物と共に、従来 力も利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフエノール Aのジグ リシジルエーテル（即ち、 4, 4' ージヒドロキシジフエ-ルジメチルメタン）、エポキシ 化不飽和脂肪酸エステル (特に、 2〜22個の炭素原子の脂肪酸の 4〜2個程度の炭 素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）等）、及び種々 のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等 (例えば、エポキシィ匕大豆油、エポキシ化亜 麻仁油等）の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽 和天然油（これらはときとしてエポキシィ匕天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され 、これらの脂肪酸は一般に 12〜22個の炭素原子を含有している）が含まれる。また、 市販のエポキシ基含有エポキシド榭脂化合物として、 EPON 815C、及び下記一 般式 (E)で表される他のエポキシィ匕エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いる ことができる。
[化 85]
-般式 (E)
Figure imgf000088_0001
OCH2— CH -CH
\ / [0265] 式中、 nは 0〜12の整数である。用いることができるその他の酸捕捉剤としては、特 開平 5— 194788号公報の段落 87〜105に記載されているものが含まれる。
[0266] 酸捕捉剤は 0. 1〜10質量％添加することが好ましぐさらに 0. 2〜5質量％添加す ることが好ましぐさらに 0. 5〜2質量％添加することが好ましい。これらは 2種以上を 併用してちょい。
[0267] なお酸捕捉剤は、酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、 本発明にお ヽてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。
[0268] 《セルロースエステル》
次に、本発明に係るセルロースエステルについて、詳述する。
[0269] 本発明の偏光板保護フィルムは、セルロースエステルを用いて溶融流延法により製 造される。
[0270] 本発明における溶融流延とは、実質的に溶媒を用いずにセルロースエステルを流 動性を示す温度まで加熱溶融しこれを用いて製膜する方法であり、例えば流動性の セルロースエステルをダイスカゝら押し出して製膜する方法である。なお溶融セルロー スエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよ ヽが、フィルム状に成形を行 う溶融流延法による製膜プロセスにおいては実質的に溶媒を用いずに成形加工する
[0271] 偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステルとしては、溶融流延法による製 膜可能なセルロースエステルであれば特に限定はされな 、が、光学特性等の得られ るフィルムの特性に鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用することが好 ま ヽ。本発明にお ヽてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは 炭素原子数が 5以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプ 口ピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂 肪酸エステルの好まし 、ものとして挙げられる。炭素原子数が 6以上の脂肪酸で置換 されたセルロースエステルでは、溶融流延法による製膜性は良好であるものの、得ら れるセルロースエステルフィルムの力学特性が低ぐ実質的に光学フィルムとして用 いることが難しいためである。力学特性と溶融流延法による製膜性の双方を両立させ るために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等 のように混合脂肪酸エステルを用いてもょ ヽ。なお溶液流延製膜で一般に用いられ ているセルロースエステルであるトリァセチルセルロースについては、溶融温度よりも 分解温度の方が高いセルロースエステルであるため、溶融流延法による製膜には用 いることは難しい。
[0272] 従って、最も好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルは炭素原子数 2又は 3のァ シル基を置換基として有し、酢酸による置換度、即ちァセチル基の置換度を Xとし、 プロピオ-ル基による置換度を Yとした時、下記式 (i)、 （ii)を満たすセルロースエス テルが好ましい。
[0273] 式（i) 2. 6≤X+Y≤3. 0
式（ii) 1. 0≤Y≤1. 5
この中でも、特にァセチル基の置換度力 プロピオニル基の置換度と同じ力、プロ ピオ-ル基の置換度より大き 、ことが好まし 、。ァシル基で置換されて 、な 、部分は 通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
[0274] 尚、ァセチル基、プロピオ-ル基、ブチリル基等のァシル基の置換度の測定方法は ASTM— D817— 96の規定に準じて測定することが出来る。
[0275] 本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量 MwZ数平均分子量 Mn比が 1. 0〜5. 5のものが用いられ、特に好ましくは 1. 4〜5. 0であり、更に好ま しくは 2. 0〜3. 0である。また、 Mwは 10万〜 50万、中でも 15万〜 30万のものが好 ましく用いられる。
[0276] セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィー を用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平 均分子量を算出する。
[0277] 測定条件は以下の通りである。
[0278] 溶媒 ： テトヒドロフラン
装置 ： HLC— 8220 (東ソー (株)製）
カラム： TSKgel SuperHM— M (東ソ一（株）製）
カラム温度： 40°C
試料温度： 0. 1質量％ 注入量： 10 1
流量 ： 0.6ml,丄 mm
校正曲線： 標準ポリスチレン： PS— 1 (Polymer Laboratories社製） Mw= 2, 5 60, 000〜580迄の 9サンプルによる校正曲線を使用。
[0279] 本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花 リンターでもよぐ木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ま しい。製膜の際の剥離性の点力もは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作 られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することが出来る。
[0280] 例えば、綿花リンター由来セルロース榭脂:木材パルプ (針葉樹）由来セルロース榭 脂：木材パルプ（広葉樹）由来セルロース榭脂の比率が 100:0:0、 90:10:0、 85:1 5:0、 50:50:0、 20:80:0、 10:90:0、 0:100:0、 0:0:100、 80:10:10、 85:0: 15、 40: 30: 30で用いることが出来る。
[0281] セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピ オン酸及び Zまたは無水酪酸を用いて常法によりァセチル基、プロピオ-ル基及び /またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。このようなセルロース エステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平 10— 45804号或いは 特表平 6— 501040号に記載の方法を参考にして合成することが出来る。
[0282] また、工業的にはセルロースエステルは硫酸を触媒として合成されている力 この 硫酸は完全には除去されておらず、残留する硫酸が溶融流延法による製膜時に各 種の分解反応を引き起こし、得られるセルロースエステルフィルムの品質に影響を与 えるため、本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元 素換算で 0. l〜40ppmの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有してい ると考えられる。残留硫酸含有量が 40ppmを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着 物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリツティングの際 に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、 0.1未満とするにはセ ルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなぐ 逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが榭脂に 影響を与えているの力もしれないがよく分かっていない。更に 0. l〜30ppmの範囲 が好ましい。残留硫酸含有量は、同様に ASTM— D817— 96により測定することが 出来る。
[0283] また、その他 (酢酸等）の残留酸を含めたトータル残留酸量は lOOOppm以下が好 ましぐ 500ppm以下が更に好ましぐ lOOppm以下がより好ましい。
[0284] 合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更 に十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることが出来、溶融流延 法によってフィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れる フィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述する厚み方向のリ ターデーシヨン値 Rt、面内方向のリタ一デーシヨン値 Roが良好なフィルムを得ること が出来る。また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノール のような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用 いることが出来、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去する事が出来る 。更に、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードァミン、亜リン酸エステルといった酸 化防止剤の存在下で行うことが好ましぐセルロースエステルの耐熱性、製膜安定性 が向上する。
[0285] また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セ ルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステル の低分子量成分、その他不純物を除去する事が出来る。この時、前述のセルロース エステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ま 、。
[0286] 更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物 を添加してもよい。
[0287] 本発明の偏光板保護フィルムは輝点異物に優れるが、用いられるセルロースエステ ルもフィルム製膜した時に輝点異物が少な 、ものであることが好ま 、。輝点異物と は、 2枚の偏光板を直交に配置し (クロス-コル）、この間に偏光板保護フィルムを配 置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面力 偏光板保護フィルムを観 察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。このとき評価に用いる偏光板 は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましぐ偏光子の保 護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物はセルロースエステル に含まれる未酢ィ匕若しくは低酢ィ匕度のセルロースがその原因の 1つと考えられ、輝点 異物の少ないセルロースエステルを用いる（例えば、置換度の分散の小さいセルロー スエステルを用いる）ことと、溶融したセルロースエステルを濾過すること、或いはセル ロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくとも何れか〖こおいて
、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することも出来る。 溶融榭脂は粘度が高いため、後者の方法のほうが効率がよい。
[0288] フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに 含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向が あるが、輝点異物は、輝点の直径 0. 01mm以上が 200個 Zcm2以下であることが好 ましぐ更に 100個 Zcm2以下であることが好ましぐ 50個 Zcm2以下であることが好 ましぐ 30個 Zcm2以下であることが好ましぐ 10個 Zcm2以下であることが好ましい 力 皆無であることが最も好ましい。また、 0. 005-0. 01mm以下の輝点についても 200個/ cm2以下であることが好ましぐ更に 100個/ cm2以下であることが好ましぐ 50個 Zcm2以下であることが好ましぐ 30個 Zcm2以下であることが好ましぐ 10個 Zcm2以下であることが好まし 、が、皆無であることが最も好まし!/、。
[0289] 輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融さ せたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸ィ匕防止剤等を添加混合したセル ロースエステル組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好まし 、。もちろ ん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい 。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することが出来る。濾過 はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が 10000P以下で濾過されることが好ま しぐ更に好ましくは 5000P以下が好ましぐ 1000P以下であることが更に好ましぐ 5 OOP以下であることが更に好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾 紙、四フッ化工チレン榭脂などの弗素榭脂等の従来公知のものが好ましく用いられる 力 特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては 50 m以 下のものが好ましく用いられ、 30 m以下のものが更に好ましぐ 10 m以下のもの が更に好ましぐ 5 m以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わ せて使用することも出来る。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いるこ とが出来るが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
[0290] 別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた 後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いても良い。その際には可塑剤、紫外 線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも 1つ以上と共に溶媒に 溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。溶媒としては、メチレンクロ ライド、酢酸メチル、ジォキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることが 出来、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の 過程で— 20°C以下に冷却したり、 80°C以上に加熱したりしても良い。このようなセル ロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしゃすぐ光学特 性を均一に出来ることがある。
[0291] 本発明の偏光板保護フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合 したものでもよ ヽ。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるも のが好ましぐフィルムにした時の透過率が 80%以上、更に好ましくは 90%以上、更 に好ましくは 92%以上であることが好ましい。
[0292] 《紫外線吸収剤》
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波 長 370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長 400nm以上の可視光の吸収が少な 、ものが好ま 、。本発明に用いられる紫外線 吸収剤としては、例えば、ォキシベンゾフエノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合 物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフエノン系化合物、シァノアクリレート系化 合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができる力 ベンゾ フエノン系化合物や着色の少な 、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物 が好ましい。また、特開平 10— 182621号、同 8— 337574号公報記載の紫外線吸 収剤、特開平 6— 148430号、特開 2003— 113317号公報記載の高分子紫外線吸 収剤を用いてもよい。
[0293] ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、 2— (2' —ヒドロキシ一 5' - メチルフエ-ル）ベンゾトリアゾール、 2— (2' —ヒドロキシ— 3' , 5' —ジ— tert— ブチルフエ-ル）ベンゾトリアゾール、 2—（2' —ヒドロキシ—3' —tert—ブチルー 5 ' —メチルフエ-ル）ベンゾトリアゾール、 2— (2' —ヒドロキシ— 3' , 5' —ジ— ter t ブチルフエ-ル）ー5 クロ口べンゾトリアゾール、 2—（2' —ヒドロキシ 3' —（ 3" , " , 5グ , Q" —テトラヒドロフタルイミドメチル） 5, —メチルフエニル）ベンゾ トリァゾール、 2, 2—メチレンビス（4— ( 1 , 1 , 3, 3—テトラメチルブチル） 6— (2H —ベンゾトリアゾール 2—ィル）フエノール）、 2— (2' —ヒドロキシ一 3' — tert— ブチル 5' —メチルフエニル） 5 クロ口べンゾトリァゾール、 2— (2H ベンゾトリ ァゾールー 2 ィル）ー6 （直鎖及び側鎖ドデシル）ー4 メチルフエノール、ォクチ ル— 3—〔3— tert—ブチル—4 ヒドロキシ— 5— (クロ口 2H ベンゾトリアゾール — 2 ィル）フエ-ル〕プロピオネートと 2 ェチルへキシル 3—〔 3— tert -ブチル — 4 ヒドロキシ 5— (5 クロ口一 2H ベンゾトリアゾール - 2 ィル）フエ-ル〕プ 口ピオネートの混合物、 2— (2H ベンゾトリアゾール—2—ィル）—4, 6 ビス（1— メチルー 1 フエ-ルェチル）フエノール 、 2—(2H—べンゾトリァゾールー 2—ィル） —4, 6 ビス（1—メチル 1—フエ-ルェチル）フエノール、 6— (2—ベンゾトリァゾ ル） 4— t—ォクチルー 6，一 t—ブチル 4，一メチルー 2, 2，メチレンビスフエノー ル等を挙げることができる力 これらに限定されない。
[0294] また、市販品として、チヌビン (TINUVIN) 171、チヌビン (TINUVIN) 109、チヌ ビン（TINUVIN) 234、チヌビン（TINUVIN) 360、チヌビン（TINUVIN) 900、チ ヌビン（TINUVIN) 928 (いずれもチノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製）、 LA31 (旭 電化社製）、 JAST- 500 (城北化学社製）、 Sumisorb 250 (住友化学社製）が挙 げられる。
[0295] ベンゾフエノン系化合物の具体例として、 2, 4 ジヒドロキシベンゾフエノン、 2, 2' —ジヒドロキシ一 4—メトキシベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4—メトキシ一 5—スルホ ベンゾフエノン、ビス（2 メトキシ 4 ヒドロキシ 5 ベンゾィルフエ-ルメタン）等 を挙げることができる力 S、これらに限定されるものではない。
[0296] 本発明においては、紫外線吸収剤は 0. 1〜5質量％添加することが好ましぐさら に 0. 2〜3質量％添加することが好ましぐさらに 0. 5〜2質量％添加することが好ま しい。これらは 2種以上を併用してもよい。
[0297] またこれらのベンゾトリアゾール構造やベンゾフヱノン構造力 ポリマーの一部、ある いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよぐ可塑剤、酸化防止剤、酸掃去 剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されて 、てもよ 、。
[0298] 《可塑剤》
本発明に係る偏光板保護フィルムの製造にぉ ヽては、フィルム形成材料中に少な くとも 1種の可塑剤を 1〜30質量％含有することが好ま 、。
[0299] 可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔 軟性を付与したりする効果のある添加剤である力 本発明においては、セルロースェ ステル単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度にお いてセルロース榭脂単独よりも可塑剤を含むフィルム構成材料の溶融粘度を低下さ せるために、可塑剤を添加する。また、セルロースエステルの親水性を改善し、偏光 板保護フィルムの透湿度改善するためにも添加されるため透湿防止剤としての機能 を有する。
[0300] ここで、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された 状態の温度を意味する。セルロースエステルを溶融流動させるためには、少なくとも ガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。ガラス転移温度以上におい ては、熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。しかし セルロースエステルでは高温下では溶融と同時に熱分解によってセルロースエステ ルの分子量の低下が発生し、得られるフィルムの力学特性等に悪影響を及ぼすこと があるため、なるべく低い温度でセルロースエステルを溶融させる必要がある。フィル ム構成材料の溶融温度を低下させるためには、セルロースエステルのガラス転移温 度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成すること ができる。
[0301] 本発明の偏光板保護フィルムには、下記一般式 (2)で表される有機酸と 3価以上の アルコールが縮合した構造を有するエステル化合物を、 1〜25質量％含有すること が好ましい。 1質量％以上の添カ卩により、平面性改善の効果が認められ、 25質量％ より少ないとブリードアウトしに《なり、フィルムの経時安定性に優れるため好ましい。 より好ましくは該可塑剤を 3〜20質量％含有する偏光板保護フィルムであり、さらに 好ましくは 5〜 15質量％含有する偏光板保護フィルムである。 [0302] [化 86] 一般式 (2)
Figure imgf000097_0001
[0303] 式中、 R〜Rは水素原子またはシクロアルキル基、ァラルキル基、アルコキシ基、
1 5
シクロアルコキシ基、ァリールォキシ基、ァラルキルォキシ基、ァシル基、カルボ-ル ォキシ基、ォキシカルボ-ル基、ォキシカルボ-ルォキシ基を表し、これらはさらに置 換基を有していてよい。 Lは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素 原子、または直接結合を表す。
[0304] R〜Rで表されるシクロアルキル基としては、炭素数 3〜8のシクロアルキル基が好
1 5
ましぐ具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシル等の基である。こ れらの基は置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、 塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シ クロアルコキシ基、ァラルキル基（このフエ-ル基にはアルキル基またはハロゲン原子 等によってさらに置換されていてもよい）、ビニル基、ァリル基等のアルケニル基、フエ -ル基 (このフエニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換さ れていてもよい）、フエノキシ基（このフエ-ル基にはアルキル基またはハロゲン原子 等によってさらに置換されていてもよい）、ァセチル基、プロピオニル基等の炭素数 2 〜8のァシル基、またァセチルォキシ基、プロピオ-ルォキシ基等の炭素数 2〜8の 無置換のカルボニルォキシ基等が挙げられる。
[0305] R〜Rで表されるァラルキル基としては、ベンジル基、フエネチル基、 Ύ フエニル
1 5
プロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよぐ好ましい置換基 としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
[0306] R〜Rで表されるアルコキシ基としては、炭素数 1〜8のアルコキシ基が挙げられ、
1 5
具体的には、メトキシ、エトキシ、 n—プロポキシ、 n—ブトキシ、 n—ォクチルォキシ、 イソプロポキシ、イソブトキシ、 2—ェチルへキシルォキシ、もしくは t—ブトキシ等の各 アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよぐ好ましい置換基として は、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、ァ ルコキシ基、シクロアルコキシ基、ァラルキル基（このフエ-ル基にはアルキル基また はハロゲン原子等を置換していてもよい）、ァルケ-ル基、フエ-ル基（このフエ-ル 基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、ァリ ールォキシ基（例えばフエノキシ基（このフエ-ル基にはアルキル基またはハロゲン原 子等によってさらに置換されていてもよい））、ァセチル基、プロピオニル基等のァシ ル基が、またァセチルォキシ基、プロピオ-ルォキシ基等の炭素数 2〜8の無置換の ァシルォキシ基、またベンゾィルォキシ基等のァリールカルボ-ルォキシ基が挙げら れる。
[0307] R〜Rで表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基として
1 5
は炭素数 1〜8のシクロアルコキシ基基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルォキ シ、シクロペンチルォキシ、シクロへキシルォキシ等の基が挙げられる。また、これら の基は置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置 換してもょ ヽ基を同様に挙げることができる。
[0308] R〜Rで表されるァリールォキシ基としては、フエノキシ基が挙げられる力 このフエ
1 5
-ル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよ
V、基として挙げられた置換基で置換されて 、てもよ 、。
[0309] R〜Rで表されるァラルキルォキシ基としては、ベンジルォキシ基、フエネチルォキ
1 5
シ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよぐ好ましい置換基と しては、前記のシクロアルキル基に置換してもよ 、基を同様に挙げることができる。
[0310] R〜Rで表されるァシル基としては、ァセチル基、プロピオニル基等の炭素数 2〜
1 5
8の無置換のァシル基が挙げられ (ァシル基の炭化水素基としては、アルキル、アル ケニル、アルキ-ル基を含む。）、これらの置換基はさらに置換されていてもよぐ好ま し 、置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよ 、基を同様に挙げるこ とがでさる。
[0311] R〜Rで表されるカルボ-ルォキシ基としては、ァセチルォキシ基、プロピオ-ル
1 5
ォキシ基等の炭素数 2〜8の無置換のァシルォキシ基 (ァシル基の炭化水素基として は、アルキル、ァルケ-ル、アルキ-ル基を含む。）、またベンゾィルォキシ基等のァ リールカルボ-ルォキシ基が挙げられる力 これらの基はさらに前記シクロアルキル 基に置換してもよ 、基と同様の基により置換されて 、てもよ 、。
[0312] R〜Rで表されるォキシカルボ-ル基としては、メトキシカルボ-ル基、エトキシカ
1 5
ルボニル基、プロピルォキシカルボ-ル基等のアルコキシカルボ-ル基、またフエノ キシカルボニル基等のァリールォキシカルボ二ル基を表す。これらの置換基はさらに 置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換して もよ 、基を同様に挙げることができる。
[0313] また、 R〜Rで表されるォキシカルボ-ルォキシ基としては、メトキシカルボ-ルォ
1 5
キシ基等の炭素数 1〜8のアルコキシカルボ二ルォキシ基を表し、これらの置換基は さらに置換されていてもよぐ好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置 換してもょ ヽ基を同様に挙げることができる。
[0314] R〜Rのうちの!/、ずれか同士で互いに連結し、環構造を形成して 、てもよ 、。
1 5
[0315] また、 Lで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、 または直接結合を表す力 アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレ ン基等の基であり、これらの基は、さらに前記の R〜Rで表される基に置換してもよ
1 5
V、基としてあげられた基で置換されて 、てもよ 、。
[0316] 中でも、 Lで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボ ン酸である。
[0317] また、これら本発明にお ヽて可塑剤となるエステルイ匕合物を構成する、前記一般式
(2)で表される有機酸としては、少なくとも Rまたは Rに前記アルコキシ基、ァシル基
1 2
、ォキシカルボ-ル基、カルボ-ルォキシ基、ォキシカルボ-ルォキシ基を有するも のが好ま U、。また複数の置換基を有する化合物も好ま 、。
[0318] なお本発明においては 3価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一 種であっても複数種であってもよ！/、。
[0319] 本発明において、前記一般式（2)で表される有機酸と反応して多価アルコールェ ステルイ匕合物を形成する 3価以上のアルコールィ匕合物としては、好ましくは 3〜20価 の脂肪族多価アルコールであり、本発明おいて 3価以上のアルコールは下記一般式 (3)で表されるものが好ま 、。
[0320] 一般式（3) R' 一（OH)
m
式中、！^ は m価の有機基、 mは 3以上の正の整数、 OH基はアルコール性水酸基 を表す。特に好ましいのは、 mとしては 3または 4の多価アルコールである。
[0321] 好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができ る力 本発明はこれらに限定されるものではない。アド-トール、ァラビトール、 1, 2, 4 ブタントリオール、 1, 2, 3 へキサントリオール、 1, 2, 6 へキサントリオール、 グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、 トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、イノシトール、マンニトール、 3—メチルペン タン 1, 3, 5 トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメ チロールェタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、グリセリン、トリメチロール ェタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。
[0322] 一般式（2)で表される有機酸と 3価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方 法により合成できる。実施例に代表的合成例を示した力 前記一般式（2)で表される 有機酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステルイ匕する方法、また 、有機酸を予め酸クロライドあるいは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させ る方法、有機酸のフエ-ルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、 目 的とするエステルイ匕合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。
[0323] 一般式（2)で表される有機酸と 3価以上の多価アルコールのエステル力 なる可塑 剤としては、下記一般式 (4)で表される化合物が好ま U、。
[0324] [化 87] 一般式 (4) R12 [0325] 式中、 R〜R は水素原子またはシクロアルキル基、ァラルキル基、アルコキシ基、
6 20
シクロアルコキシ基、ァリールォキシ基、ァラルキルォキシ基、ァシル基、カルボ-ル ォキシ基、ォキシカルボ-ル基、ォキシカルボ-ルォキシ基を表し、これらはさらに置 換基を有して 、てよ 、。 R21は水素原子またはアルキル基を表す。
[0326] R〜R のシクロアルキル基、ァラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ァ
6 20
リールォキシ基、ァラルキルォキシ基、ァシル基、カルボニルォキシ基、ォキシカルボ
-ル基、ォキシカルボ-ルォキシ基については、前記一般式（2)の R〜Rと同様の
1 5 基が挙げられる。
[0327] このようにして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、 300〜1500であることが好ましぐ 400〜1000であることがさらに好ましい。分子量 が大きい方が揮発し難くなるため好ましぐ透湿性、セルロースエステルとの相溶性の 点では小さい方が好ましい。
[0328] 以下に、本発明に用いられる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する
[0329] [化 88]
Figure imgf000101_0001
[0330] [化 89]
Figure imgf000102_0001
[0331] [化 90] İ33291
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OAV7:-00z<K>d ni£90 ΚΗ
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s εεοs [fe^ [esso]
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TllC90/.OOZdf/X3d 901- 99S.00/800Z OAV
Figure imgf000107_0001
[0336] [化 95]
miz-ivufcld/ 99si O8iAV
Figure imgf000108_0001
1s
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^§8εεο
Figure imgf000110_0001
[0339] [化 98]
i/:/ m/-002Tl£/-00800AV 0_4
Figure imgf000111_0001
§6io
Figure imgf000112_0001
[0341] 本発明に係る偏光板保護フィルムの製造にお!ヽて、少なくとも前記一般式 (2)で表 される有機酸及び 3価以上の多価アルコールから製造されるエステル化合物を可塑 剤として 1〜25質量％含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよ い。
[0342] 前記一般式（2)で表される有機酸と 3価以上の多価アルコール力 なるエステル化 合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高ぐ高添加率で添加することができ る特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することが なぐ必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができる。
[0343] なお、他の可塑剤を併用する際には、上記可塑剤が、可塑剤全体の少なくとも 50 質量％以上含有されることが好ましい。より好ましくは 70%以上、さらに好ましくは 80 %以上含有されることが好ましい。このような範囲で用いれば、他の可塑剤との併用 によっても、溶融流延時のセルロールエステルフィルムの平面性を向上させることが できるという、一定の効果を得ることができる。
[0344] 併用するその他の可塑剤としては、脂肪族カルボン酸—多価アルコール系可塑剤 、特開 2003— 12823公報段落 30〜33に記載されているような、無置換の芳香族力 ルボン酸またはシクロアルキルカルボン酸—多価アルコールエステル系可塑剤、ある いはジォクチルアジペート、ジシクロへキシルアジペート、ジフエニルサクシネート、ジ 2 ナフチルー 1, 4ーシクロへキサンジカルボキシレート、トリシクロへキシルトリカル バレート、テトラ 3 メチルフエ-ルテトラヒドロフラン 2, 3, 4, 5—テトラカルボキシ レート、テトラプチルー 1, 2, 3, 4ーシクロペンタンテトラカルボキシレート、トリフエ二 ルー 1, 3, 5 シクロへキシルトリカルボキシレート、トリフエ-ルベンゼン一 1, 3, 5— テトラカルボキシレート、フタル酸系可塑剤（例えばジェチルフタレート、ジメトキシェ チルフタレート、ジメチルフタレート、ジォクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジー 2—ェチルへキシルフタレート、ジォクチルフタレート、ジシクロへキシルフタレート、ジ シクロへキシルテレフタレート、メチルフタリルメチルダリコレート、ェチルフタリルェチ ルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルダリコレ ート等）、クェン酸系可塑剤（タエン酸ァセチルトリメチル、タエン酸ァセチルトリェチ ル、タエン酸ァセチルトリブチル等）等の多価カルボン酸エステル系可塑剤、トリフエ 二ノレホスフェート、ビフエ-ルジフエ-ルホスフェート、ブチレンビス（ジェチノレホスフエ ート）、エチレンビス（ジフエ-ノレホスフェート）、フエ-レンビス（ジブチノレホスフェート） 、フエ-レンビス（ジフエ-ルホスフェート）（旭電化製アデカスタブ PFR)、フエ-レン ビス（ジキシレニルホスフェート）（旭電化製アデカスタブ FP500)、ビスフエノール Aジ フエ-ルホスフェート（旭電化製アデカスタブ FP600)等のリン酸エステル系可塑剤、 例えば特開 2002— 22956の段落番号 49〜56に記載のポリマーポリエステル等、 ポリエーテル系可塑剤等が挙げられる。
[0345] しかし、リン酸系可塑剤は加水分解によって強酸を発生し、可塑剤自身及びセル口 ースエステルの加水分解を促進する。このため、保存安定性が悪い、セルロースエス テルの溶融流延法による製膜に使用するとフィルムの着色が発生しやすい等の問題 により、フタル酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、タエン酸ェ ステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、ポリエーテル系可塑剤を使用することが好 ましい。
[0346] なお、本発明に係る偏光板保護フィルムは、着色すると光学用途として影響を与え るため、好ましくは黄色度 (イェローインデックス、 YI)が 3. 0以下、より好ましくは 1. 0 以下である。黄色度 ¾JIS—K7103に基づいて測定することができる。
[0347] 《粘度低下剤》
本発明において、溶融粘度を低減する目的として、水素結合性溶媒を添加する事 が出来る。水素結合性溶媒とは、 J. N.イスラエルァチビリ著、「分子間力と表面力」 ( 近藤保、大島広行訳、マグロウヒル出版、 1991年）に記載されるように、電気的に陰 性な原子 (酸素、窒素、フッ素、塩素）と電気的に陰性な原子と共有結合した水素原 子間に生ずる、水素原子媒介「結合」を生ずることが出来るような有機溶媒、即ち、結 合モーメントが大きぐかつ水素を含む結合、例えば、 O— H (酸素水素結合）、 N— H (窒素水素結合)、 F— H (フッ素水素結合)を含むことで近接した分子同士が配列 出来るような有機溶媒をいう。これらは、セルロースエステルの分子間水素結合よりも セルロースとの間で強 、水素結合を形成する能力を有するもので、本発明で行う溶 融流延法においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、水素 結合性溶媒の添カ卩によりセルロースエステル組成物の溶融温度を低下する事が出 来る、または同じ溶融温度においてセルロースエステルよりも水素結合性溶媒を含む セルロースエステル組成物の溶融粘度を低下する事が出来る。
[0348] 水素結合性溶媒としては、例えば、アルコール類:例えば、メタノール、エタノール、 プロパノール、イソプロパノール、 n—ブタノール、 sec—ブタノール、 tーブタノール、 2—ェチルへキサノール、ヘプタノール、ォクタノール、ノナノール、ドデカノール、ェ チレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール、ジプロピレングリコー ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、メチルセ口ソルブ、ェチノレセロ ソルブ、ブチルセ口ソルブ、へキシルセ口ソルブ、グリセリン等、ケトン類：アセトン、メ チルェチルケトン等、カルボン酸類:例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エー テル類:例えば、ジェチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン等、ピロリドン類： 例えば、 N—メチルピロリドン等、アミン類:例えば、トリメチルァミン、ピリジン等、等を 例示することが出来る。これら水素結合性溶媒は、単独で、又は 2種以上混合して用 いることが出来る。これらのうちでも、アルコール、ケトン、エーテル類が好ましぐ特に メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ォクタノール、ドデカノール 、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランが好ましい。更に、メタノ 一ノレ、エタノーノレ、プロパノーノレ、イソプロパノーノレ、エチレングリコーノレ、グリセリン、 アセトン、テトラヒドロフランのような水溶性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、 水 lOOgに対する溶解度が 10g以上のものをいう。
[0349] 《リタ一デーシヨン調整剤》
本発明の偏光板保護フィルムにお 、て配向膜を形成して液晶層を設け、光学フィ ルムと液晶層由来のリタ一デーシヨンを複合ィ匕して光学補償能を付与した偏光板カロ ェを行ってもょ 、し、リタ一デーシヨンを調整するための化合物を偏光板保護フィル ムに含有させてもよい。
[0350] リタ一デーシヨンを調整するために添加する化合物は、欧州特許第 911, 656A2 号明細書に記載されて!ヽるような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使 用することも出来る。また 2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化 合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性へテロ環を含む。芳 香族性へテロ環であることが特に好ましぐ芳香族性へテロ環は一般に不飽和へテロ 環である。中でも本発明に係る 1, 3, 5—トリアジン環を有する化合物が好ましい。
[0351] 《マット剤》
本発明に係る偏光板保護フィルムは、滑り性や光学的、機械的機能を付与するた めにマット剤を添加することができる。マット剤としては、無機化合物の微粒子または 有機化合物の微粒子が挙げられる。
[0352] マット剤の形状は、球状、棒状、針状、層状、平板状等の形状のものが好ましく用い られる。マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸ィ匕アルミニウム、 酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケィ酸カルシウム、水和ケ ィ酸カルシウム、ケィ酸アルミニウム、ケィ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の金属 の酸化物、リン酸塩、ケィ酸塩、炭酸塩等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げ ることができる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。 これらの微粒子は有機物により表面処理されていること力 フィルムのヘイズを低下 できるため好ましい。
[0353] 表面処理は、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等で行うこと が好ましい。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きぐ反対に平均粒径 の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の一次粒子の平均粒径は 0. 01〜1. 0 μ mの範囲であることが好ましい。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は 5〜50n mが好ましぐさらに好ましくは、 7〜14nmである。これらの微粒子は、偏光板保護フ イルム表面に 0. 01-1. 0 mの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。
[0354] 二酸化ケイ素の微粒子としては、日本ァエロジル (株）製のァエロジル (AEROSIL ) 200、 200V、 300、 R972、 R972V、 R974、 R202、 R812
、 0X50、 TT600等を挙げ、ること力 Sでき、好ましくはァエロジノレ 200V、 R972、 R972 V、 R974、 R202、 R812である。これらの微粒子は 2種以上併用してもよい。
[0355] 2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。平均粒径や 材質の異なる微粒子、例えば、ァエロジル 200Vと R972Vを質量比で 0. 1 : 99. 9〜 99. 9 : 0. 1の範囲で使用できる。
[0356] これらのマット剤の添加方法は混練する等によって行うことが好ましい。また、別の 形態として予め溶媒に分散したマット剤とセルロースエステル及び Zまたは可塑剤及 び Zまたは紫外線吸収剤を混合分散させた後、溶媒を揮発または沈殿させた固形 物を得て、これをセルロースエステル溶融物の製造過程で用いること力 マット剤が セルロース榭脂中で均一に分散できる観点力も好ましい。
[0357] 上記マット剤は、フィルムの機械的、電気的、光学的特性改善のために添加するこ とちでさる。
[0358] なお、これらの微粒子を添加するほど、得られる偏光板保護フィルムの滑り性は向 上するが、添加するほどヘイズが上昇するため、含有量は好ましくは 0. 001〜5質量 %が好ましぐより好ましくは 0. 005〜1質量％であり、さらに好ましくは 0. 01〜0. 5 質量％である。 [0359] なお、本発明に係る偏光板保護フィルムとしては、ヘイズ値が 1. 0%を超えると光 学用材料として影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は 1. 0%未満、より好ましくは 0. 5%未満である。ヘイズ値 ίお IS— K7136に基づいて測定することができる。
[0360] フィルム構成材料は溶融及び製膜工程にお!ヽて、揮発成分が少な!/ヽまたは発生し ないことが求められる。これは加熱溶融時に発泡して、フィルム内部の欠陥やフィル ム表面の平面性劣化を削減または回避するためである。
[0361] 《溶融流延法》
本発明に係る偏光板保護フィルムは溶融流延によって形成する。溶液流延法にお V、て用いられる溶媒 (例えば塩化メチレン等）を用いずに、加熱溶融する溶融流延に よる成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法 、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強 度及び表面精度等に優れる偏光板保護フィルムを得るためには、溶融押し出し法が 優れている。
[0362] 溶融流延法で本発明の偏光板保護フィルムを得るには、予めルロースエステルや 添加剤の混合物を用いて、ペレット状成型物を作製することが好ましい。ペレット状の 成型物を作製する方法としては、 2軸押出し機にてセルロースエステルのガラス転移 温度以上、融点 + 30°C以下の温度にて、糸且成物を溶融押出しして棒状のストランド を得た後、所望の大きさに裁断する方法などが挙げられる。
[0363] セルロースエステルは熱による劣化が著しい材料のため、劣化しない温度にて成型 する方法が好ましい。
[0364] セルロースエステルと本発明に係る添加剤を混合し得られた成型物の大きさは、 1 mm X lmm X lmm〜20mm X 20mmX 20mmの立方体の範囲内であることが本 発明の効果を得る上で好ましい。溶融押出し法においては、 1mm X 1mm X 1mmよ り小さいと、成型物投入時にブロッキングを起こし供給が安定せず、また、 20mm X 2 Omm X 20mmより大きいと、成型物の溶融及び粉砕性が悪ぐ結果投入口で詰まり 、生産性が著しく悪くなる恐れがある。また、 1mm X 1mm X 1mmより小さいと、成型 物の比表面積が大きくなるため空気 (特に酸素と水）との接触面積も大きくなり、セル ロースが劣化しやすくなり、分子量が低下し、結果、機械的強度が低下する恐れがあ る。加圧加熱溶融法においては、 20mm X 20mm X 20mmより大きいと膜厚の小さ い（100 m以下)フィルムが得られに《なる。また、膜厚にムラが出来やすくなる。 ( 膜厚精度が悪くなる。 )
成型物にすると、榭脂と添加剤が密着するため、混合'分散性が高まる。また、空気 (特に酸素と水）との接触面積が小さくなるためセルロースエステルの劣化にも有利で ある。
[0365] 例えば、本発明に用いられるセルロースエステル及び添加剤の混合物を、熱風乾 燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、 T型ダイよりフィルム状に押出しして、静電印 加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。
[0366] 本発明のセルロースエステル及び添加剤は、 0. l〜20mm程度の粉体、またはべ レットであることが好ましい。原料によっては含有する水分の量が多ぐ乾燥が必要な ものもある。乾燥は、単独に乾燥しても良ぐ複数の原料を混合してから乾燥しても良 い。セルロースエステルは加熱により酸を発生することがあり、この酸により分解劣化 が進行するので、酸を発生させな 、ように 60〜90°C程度で乾燥することが好ま U、。 到達乾燥レベルを上げるために、露点の低い乾燥空気を使用する力、減圧ないし真 空乾燥することも好ましい。好ましい露点は— 20°C以下、更に好ましくは— 30°C以 下である。添加剤によっては融点が低いものもあり、混合してから乾燥する場合は、 乾燥中に粘着して固まらな 、ように、使用材料中最も融点の低 、物質の融点以下で 乾燥する必要がある。もちろん単独に乾燥して力も混合すればよいのである力 混合 中に吸湿することがあるので、混合してから乾燥するのが好ま 、。
[0367] 乾燥終了した原料は、すぐ押出し機に送るか、吸湿を防止するために高温低露点 ないし減圧に維持されたストックタンクに保管された後、押出し機に送る。
[0368] 原料として、製膜後スリットしたり、巻き取った後製品にならな力つたロスフィルムを 回収再使用することが出来る。回収フィルムは通常粉砕して供給するが、それだけで ペレットに成形したり、造粒して供給することも出来る。回収フィルムも乾燥が必要で あるが、単独で乾燥しても良いし、バージンのポリマー原料と混合してから乾燥しても 良いし、添加剤と混合してから乾燥しても良い。
[0369] 溶融押出しは、一軸押出し機、二軸押出し機、更に 2台の押出し機を直列に連結 するタンデム押出しなどが挙げられるが、本発明では 2台の押出し機を直列に連結 するタンデム押出しを用いることが好ま 、。
[0370] 該押出し機下流にダイを設置して直接押出し製膜しても良いし、ストランドダイを設 置して 、つたんペレツトイ匕して力もそのペレットを押出し製膜しても良 、。
[0371] 更に、原料タンク、原料の投入部、押出し機内といった原料の供給、溶融工程を、 窒素ガス等の不活性ガスで置換、或いは減圧することが好ましい。本発明では、セル ロースエステルと複数の添加剤を混合するため、混練性能に優れた二軸押出し機を 使用してペレット化した後、定量性の良い単軸押出し機を用いて溶融押出し製膜す ることが好ましい。
[0372] 特にフィルムを製造する上で留意することは、なるべく機械的ストレスを与えずに加 熱溶融させる方法が好ましい。既存の装置としては、 1軸押出し機、ホットプレス機な どがある。 1軸押出し機の場合、透明なフィルムを得ることが出来る温度において、で きる限り低温にて短時間で押出しすることが望ましい。投入ロカもダイまでの経路に お！、ては、セルロースエステルのガラス転移温度： Tg〜融点： Tm+ 50°Cの温度に 設定しておくことが望ましぐダイに近づくにつれて温度を段階的に上げるのが好まし い。ダイの温度は、 Τπ！〜 Tm+30°Cに設定することが好ましい。
[0373] 滞留時間（押出し時間）は、可能な限り短時間の方が好ま 、。 20〜360秒が好ま しぐより好ましくは 20〜60秒であった。滞留時間が長いと、劣化が著しくなる恐れが あり、また、あまりにも短時間すぎると、溶融が不十分になる恐れがある。滞留時間は 、シャフトの回転数、成型物の粘弾性、加熱温度などによって調整される。
[0374] 本発明の前記溶融押出し時の温度は、 150〜300°C、より好ましくは 200〜280°C の温度範囲であることが好まし 、。
[0375] 押出し機下流に、ギヤポンプ、フィルターを配置するのが好まし 、。ギヤポンプは溶 融榭脂を定量的に搬送出来るので、弓 I取りフィルムの膜厚を均一にするために好ま しく適用出来る。ギヤポンプ直前に、ギヤポンプ保護のためのフィルターを配置する のが好ましい。ギヤポンプは、 2ギヤタイプ、 3ギヤタイプなどある力 定量性のより良 い 3ギヤタイプが好ましい。ギヤポンプ下流にメインフィルターを配置する。メインフィ ルターは製品フィルム中の異物を減らし、製品品質を向上する。 [0376] ダイは、 Tダイが好まし!/、。押し引きボルト、リップヒータ、ヒートボルトなどのリップ間 隙調整機構を備え、膜厚を均一に調整する。リップを傷つきに《するために、メツキ したり、ダイヤモンドライクカーボンのような超硬度処理することも好ましい。吐出する 方向は、水平方向でも垂直方向でも良い。引取りロールにあわせて斜め下に吐出す ることち適用出来る。
[0377] 吐出された溶融フィルムの引取りは、静電印加法等により冷却ドラムに密着させて
I取る方法、または 2本のロールの間に溶融フィルムを挟んで引取る方法も好ましく 適用出来る。
[0378] 本発明において、前記 2本のロールの内 1本として、流延ダイから押し出された偏光 板保護フィルムを金属製外筒と内筒とその間に流体を流す空間とを有する下記弾性 タツチロールにより冷却ロールに押圧しながら搬送することが製膜時に生じるスジゃ 斑むらの発生を低減する上好ま ヽ。
[0379] 本発明で好ましい弹性タツチロールは、金属製外筒と内筒との 2重構造になってお り、その間に冷却流体を流せるように空間を有しているものである。更に、金属製外 筒は弾性を有していることにより、タツチロール表面の温度を精度よく制御でき、かつ 適度に弾性変形する性質を利用して、長手方向にフィルムを押圧する距離が稼げる との効果を有することにより、熱による劣化や歪も低減される。金属製外筒の肉厚の 範囲は、 0. 003≤ (金属製外筒の肉厚） Ζ (タツチロール半径）≤0. 03であれば、 適度な弾性となり好ましい。タツチロールの半径、すなわち、金属外筒の半径が大き ければ金属外筒の肉厚が厚くても適度に撓むのである。タツチロールの直径は 100 mn！〜 600mmが好ましい。金属製外筒の肉厚があまり薄すぎると強度が不足し、破 損の懸念がある。一方、厚すぎると、ロール質量が重くなりすぎ、回転むらの懸念があ る。従って、金属外筒の肉厚は、 0. l〜5mmであることが好ましい。
[0380] 金属外筒表面の表面粗さは、 Raで 0. 1 μ m以下とすることが好ましぐ更に 0. 05 m以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表 面も平滑にできる。
[0381] 金属外筒の材質は、平滑で、適度な弾性があり、耐久性があることが求められる。
炭素鋼、ステンレス、チタン、電铸法で製造されたニッケルなどが好ましく用いること ができる。更にその表面の硬度をあげたり、榭脂との剥離性を改良するため、ハード クロムメツキや、ニッケルメツキ、非晶質クロムメツキなどや、セラミック溶射等の表面処 理を施すことが好まし 、。表面カ卩ェした表面は更に研磨し上述した表面粗さとするこ とが好ましい。
[0382] 内筒は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどの軽量で剛性のある金属製 内筒であることが好ましい。内筒に剛性をもたせることで、ロールの回転ぶれを抑える ことができる。内筒の肉厚は、外筒の 2〜10倍とすることで十分な剛性が得られる。内 筒には更にシリコーン、フッ素ゴムなどの榭脂製弾性材料が被覆されていてもよい。
[0383] 冷却流体を流す空間の構造は、ロール表面の温度を均一に制御できるものであれ ばよぐ例えば、巾方向に行きと戻りが交互に流れるようにしたり、スパイラル状に流 れるようにすることでロール表面の温度分布の小さい温度制御ができる。冷却流体は 、特に制限はなぐ使用する温度域に合わせて、水やオイルを使用できる。
[0384] タツチロールの表面温度は、フィルムのガラス転移温度 (Tg)より低 、ことが好まし ヽ 。 Tgより高いと、フィルムとロールとの剥離性が劣る場合がある。低すぎるとフィルム中 力もの揮発成分がロールに析出する場合があるので、 10°C〜Tg— 10°Cであること が更に好ましい。
[0385] ここでいう Tgとは、フィルムの Tgであり、 DSC測定 (昇温速度 10°CZ分）によって 求められる、ベースラインが偏奇し始める温度である。
[0386] 本発明で用いる弹性タツチロールは、巾方向の中央部が端部より径が大きいいわ ゆるクラウンロールの形状とすることが好ましい。タツチロールは、その両端部を加圧 手段でフィルムに押圧するのが一般的である力 この場合、タツチロールが橈むため 、端部にいくほど強く押圧されてしまう現象がある。ロールをクラウン形状にすることで 高度に均一な押圧が可能となるのである。
[0387] 本発明で用いる弾性タツチロールの幅は、フィルム幅よりも広くすることで、フィルム 全体を冷却ロールに密着できるので好ましい。また、ドロー比が大きくなると、フィルム の両端部がネックイン現象により耳高 (端部の膜厚が厚くなる）になる場合がある。こ の場合は、耳高部を逃げるように、金属製外筒の幅をフィルム幅より狭くしてもよい。 あるいは、金属製外筒の外径を小さくして耳高部を逃げてもょ 、。 [0388] 金属製弹性タツチロールの具体例としては、特許第 3194904号、特許第 342279 8号、特開 2002— 36332号、特開 2002— 36333号【こ記載されて!ヽる成形用ロー ルが挙げられる。
[0389] タツチロールの橈みを防止するため、冷却ロールに対してタツチロールの反対側に サポートロールを配してもょ 、。
[0390] タツチロールの汚れを清掃する装置を配してもよ!、。清掃装置としては、例えば、口 ール表面を必要により溶剤を浸透させた不織布などの部材をロールに押し当てる方 法、液体中にロールを接触させる方法、コロナ放電やグロ一放電などのプラズマ放電 によりロール表面の汚れを揮発させる方法などが好ましく用いることができる。
[0391] タツチロールの表面温度を更に均一にするため、タツチロールに温調ロールを接触 させたり、温度制御された空気を吹き付けたり、液体などの熱媒体を接触させてもよ い。
[0392] 本発明では、更にタツチロール押圧時のタツチロール線圧を lkgZcm以上、 15kg Zcm以下に調整することが好ましい。タツチロール線圧をこの範囲とすることで、溶 融流延法で製造されたセルロース榭脂フィルムの熱による歪を少なくした偏光板保 護フィルムが得られる。線圧とは、タツチロールがフィルムを押圧する力を押圧時のフ イルム幅で除した値である。線圧を上記の範囲にする方法は、特に限定はなぐ例え ば、エアーシリンダーや油圧シリンダーなどでロール両端を押圧することができる。サ ポートロールによりタツチロールを押圧することで、間接的にフィルムを押圧してもよい
[0393] タツチロールでフィルムを押圧する際のフィルム温度は、高いほど歪が低減されるが 、あまり高すぎると、別の歪が発生する場合がある。これは、フィルム中から揮発成分 が揮発し、タツチロールで押圧する際に均一に押圧されないためと予想している。本 発明ではタツチロール側フィルム表面温度 Tを、 Tg<T<Tg+ 110°Cとすることが好 ましい。押圧時のフィルム温度を上記範囲にする方法は特に限定はないが、例えば 、ダイと冷却ロール間の距離を近づけて、ダイと冷却ロール間での冷却を抑制する方 法やダイと冷却ロール間を断熱材で囲って保温したり、あるいは熱風や赤外線ヒータ やマイクロ波加熱等により加温する方法が挙げられる。もちろん押出温度を高く設定 してちよい。
[0394] フィルム表面温度およびロール表面温度は非接触式の赤外温度計で測定できる。
具体的には、非接触ハンディ温度計 (IT2— 80、（株)キーエンス製)を用いてフィル ムの幅手方向に 10箇所を被測定物から 0. 5mの距離で測定する。
[0395] タツチロール側フィルム表面温度 Tは、搬送されているフィルムをタツチロールをは ずした状態でタツチロール側力 非接触式の赤外温度計で測定したフィルム表面温 度のことをさす。
[0396] 冷却ロールは、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒 体が流れるような構造を備えるロールであり、大きさは限定されないが、溶融押出され たフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよぐ通常冷却ロールの直径は 100 mmから lm程度である。冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミ-ゥ ム、チタンなどが挙げられる。更に表面の硬度をあげたり、榭脂との剥離性を改良す るため、ハードクロムメツキや、ニッケルメツキ、非晶質クロムメツキなどや、セラミック溶 射等の表面処理を施すことが好ましい。冷却ロール表面の表面粗さは、 Raで 0. 1 μ m以下とすることが好ましぐ更に 0. 05 m以下とすることが好ましい。ロール表面が 平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできる。もちろん表面カ卩ェした表面 は更に研磨し上述した表面粗さとすることが好まし 、。
[0397] また、セルロースエステル榭脂を含む溶融物は他の熱可塑性榭脂と比較して、溶 融粘度が高ぐ延伸もしにくい。そのため、ドロー比が大きいと搬送方向で膜厚変動 が生じやすぐ又、テンター工程で延伸する際にも破断しやすくなるという問題があり 、通常はドロー比 7〜8程度で実施していたのである力 本発明では、セルロース榭 脂を含む溶融物をダイ力もフィルム状に押出し、ドロー比 10以上 30以下として得られ たフィルムを、弾性タツチロールで冷却ロールに押圧しながら搬送することが好まし ヽ
[0398] ドロー比とは、ダイのリップクリアランスを冷却ロール上で固化したフィルムの平均膜 厚で除した値である。ドロー比をこの範囲とすることで、液晶表示装置で画像を表示 したときに、スジゃ斑点状ムラの発生を低減出来、生産性の良好な偏光板保護フィル ムが得られる。ドロー比は、ダイリップクリアランスと冷却ロールの引き取り速度により 調整できる。ダイリップクリアランスは、 900 m以上が好ましぐ更に lmm以上 2mm 以下が好ましい。
[0399] また、ダイ出口力 冷却ドラムや引取りロールの周辺雰囲気を吸引することが好まし く行われる。溶融押出しされたフィルムカゝらポリマー分解物や可塑剤などの添加剤が 揮発し、ダイリップやロールに付着汚染するのを防ぐためである。吸引は、ダイリップ カも榭脂が吐出された直後に設置することが好ましい。揮発ガスの除去効果を上げ るために周辺を囲むことも好ましい。囲って吸引すると、隙間を通して周囲力も空気を 吸い込むことにより、ダイリップから吐出された榭脂フィルムがゆらいで膜厚ムラとなる ことがあるので、吸引風量と同量の新鮮空気を囲 、の中に供給することも好ま 、。 供給する空気の温度が振れると榭脂フィルムの温度が変化して膜厚ムラを生じるの で、温度も一定に制御することが好ましい。このような措置を施したとしても、溶融フィ ルムからの揮発ガスによるロール汚染を完全になくすわけにいかないので、引取り口 ールゃ冷却ドラムに清掃装置を設置することが好ましく行われる。清掃装置はフィル ム成形中もずつと継続して機能するタイプと、定期的にフィルム成形を中断して機能 するタイプのどちらも適用出来る。
[0400] 本発明の偏光板保護フィルムは、幅手方向もしくは製膜方向または両方向に延伸 製膜されたフィルムであることが好まし 、。
[0401] 前述の冷却ドラム力 剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び Z 又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転移温度 (T g)から Tg+ 100°Cの範囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸することが好ましい。延 伸の倍率は 5〜200%の範囲で製品に要求されるリタ一デーシヨンを満足するように 選択される。
[0402] 次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸された偏光板保護フィルムを、 Tg— 20°C〜Tg + 20°Cの温度範囲内で、 5〜200%の範囲で横延伸し、次いで熱固定 することが好ましい。
[0403] 横延伸する場合、 2つ以上に分割された延伸領域で温度差を 1〜50°Cの範囲で順 次昇温しながら横延伸すると、幅方向の物性の分布が低減でき好ましい。更に横延 伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下で Tg— 40°C以上の範囲に 0. 01〜5分 間保持すると幅方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。延伸の順番は、タテ、ョ コの順に限らず、ョコ、タテの順でも力まわない。
[0404] また同時二軸延伸も好ましく適用出来る。逐次延伸では 2段目の延伸時に破断し やすい傾向がある力 同時二軸延伸は破断しにくぐ縦横の配向が均一に出来るメリ ットカ Sある。
[0405] 熱固定は、その最終横延伸温度より高温で、 Tg + 50°C以下の温度範囲内で通常 0. 5〜300秒間熱固定する。この際、 2つ以上に分割された領域で温度差を 1〜： LO o°cの範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。
[0406] 熱固定されたフィルムは通常 Tg以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部 分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、 Tg— 30°C以上の温度範 囲内で、横方向及び Z又は縦方向に 0. 1〜10%弛緩処理することが好ましい。又 冷却は、最終熱固定温度から Tgまでを、毎秒 100°C以下の冷却速度で徐冷すること が好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなぐ従来公知の手段で行える 力、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸 法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱固定温度を Tl、フィルムが 最終熱固定温度から Tgに達するまでの時間を tとしたとき、 (T1— Tg) Ztで求めた 値である。
[0407] これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成する セルロースエステルにより異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定し、好まし Vヽ特性を有するように適宜調整することにより決定すればよ!ヽ。
[0408] また、製膜工程にぉ ヽて、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処 理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料と して又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。
[0409] (延伸操作、屈折率制御）
本発明の偏光板保護フィルムを位相差フィルムとして用いる場合、延伸操作により 屈折率制御を行うことが好ましい。延伸操作としては、セルロースエステルの 1方向に 1. 0-2. 0倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に 1. 01-2. 5倍延伸するこ とで好ましい範囲の屈折率に制御することが出来る。 [0410] 例えばフィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、 即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することが出来る。このとき少なくとも 1方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延 伸が困難となり破断が発生してしまう場合がある。
[0411] 例えば溶融して流延した方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、フィ ルムの厚み方向の屈折率が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑 制或いは、幅方向にも延伸することで改善出来る。幅方向に延伸する場合、幅手で 屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられること があるが、幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定 されていることにより生じる現象で、所謂ボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。 この場合でも、該流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制出来、幅手の位 相差の分布を少なく改善出来るのである。
[0412] 更に、互いに直行する 2軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動 が減少出来る。偏光板保護フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、 液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
[0413] 偏光板保護フィルムの膜厚変動は、 ± 3%、更に ± 1%の範囲とすることが好ましい 。以上の様な目的において、互いに直交する 2軸方向に延伸する方法は有効であり 、互いに直交する 2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に 1. 0〜2 . 0倍、幅方向に 1. 01-2. 5倍の範囲とすることが好ましぐ流延方向に 1. 01-1. 5倍、幅方向に 1. 05-2. 0倍に範囲で行うことが好ましい。
[0414] 応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、幅方向に延伸 することで、偏光板保護フィルムの遅相軸が幅方向に付与することが出来る。この場 合、本発明において、表示品質の向上のためには、偏光板保護フィルムの遅相軸が 、幅方向にあるほうが好ましぐ（幅方向の延伸倍率） > (流延方向の延伸倍率)を満 たすことが必要である。
[0415] ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつ け、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリツ プゃピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方 法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横 両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて 用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆 動すると滑らかな延伸を行うことが出来、破断等の危険性が減少出来るので好ましい
[0416] 製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ま しぐピンテンターでもクリップテンターでもよい。
[0417] 本発明の偏光板保護フィルムを位相差フィルムとして用いるには、上記延伸操作を 行い、 23°C55%RH下で波長 590nmでの式（1)で表される面内リタ一デーシヨン値 Ro力 O〜100nm、好ましくは 20〜80nmの範囲にあり、式（2)で表される厚み方向 リタ一デーシヨン値 Rtが 80〜400nm、好ましくは 100〜250nmの範囲にあり、かつ RtZRoが 2. 0〜5. 0の範囲にあることが好ましい。
[0418] 式（l) Ro = (nx-ny) X d
式（2) Rt= { (nx+ny) /2 -nz} X d
(ここで、フィルム面内遅相軸方向の屈折率を nx、遅相軸に直交する方向の屈折率 を ny、フィルム厚み方向の屈折率を nz、 dはフィルムの膜厚（nm)をそれぞれ表す。 ) 本発明の偏光板保護フィルムの厚さは 10〜500 μ mが好ましい。特に 20 μ m以上 、更に 35 m以上が好ましい。又、 150 m以下、更に 120 m以下が好ましい。特 に好ましくは 25以上〜 90 mが好ましい。上記領域よりも偏光板保護フィルムが厚 いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンゃモパイル型電子機器 に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域 よりも薄いと、リタ一デーシヨンの発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり 偏光子に対して湿度力 保護する能力が低下してしまうために好ましくない。
[0419] 本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製 膜方向とのなす角を 0 1とすると 0 1は 以上 + 1° 以下であることが好ましぐ - 0. 5° 以上 + 0. 5° 以下であることがより好ましい。この 0 1は配向角として定義 出来、 Θ 1の測定は、自動複屈折計 KOBRA—21ADH (王子計測機器)を用いて 行うことが出来る。 Θ 1が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度 を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与出来、カラー液晶表示装置にお いては忠実な色再現を得ることに寄与出来る。
[0420] 〈機能性層〉
本発明の偏光板保護フィルムの製造に際し、延伸の前及び Z又は後帯電防止層、 ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償 層、ノックコート層等の機能性層を塗設してもよい。特に、帯電防止層、ハードコート 層、反射防止層、易接着層、防眩層、及びバックコート層から選ばれる少なくとも 1層 を設けることが好ましぐ該反射防止層は反射率低減の為に中空微粒子を含有する ことが特に好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表 面処理を必要に応じて施すことが出来る。
[0421] 〈偏光板〉
本発明の偏光板保護フィルムを有する偏光板の作製方法は特に限定されず、一般 的な方法で作製することが出来る。得られた偏光板保護フィルムをアルカリ処理し、 ポリビュルアルコールフィルム或いはエチレン単位の含有量 1〜4モル0 /0、重合度 20 00〜4000、けんィ匕度 99. 0〜99. 99モノレ0 /0であるエチレン変'性ポリビニノレアノレコ ールを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子に完全鹼ィ匕ポリビュルアルコー ル水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせてもよいし、少 なくとも片面に本発明
の偏光板保護フィルムを偏光子に直接貼合してもよい。もう一方の面には別の偏光 板保護フィルムを用いてもよぐ市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コ -カミ ノノレタタック KC8UX、 KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4、 KC8UY、 KC4UYゝ KC12URゝ KC4UEゝ KC8UEゝ KC4FR— 1、 KC8UY— HAゝ KC8U X—RHA、 KC8UX—RHA— N、以上コ-カミノルタォプト (株)製)等が好ましく用 いられる。
[0422] また、上記アルカリ処理の代わりに特開平 6— 94915号、同 6— 118232号に記載 されて 、るような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもょ 、。
[0423] 偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該 偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構 成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製 品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィ ルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面 の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバ 一する目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
[0424] (液晶表示装置）
液晶表示装置には通常 2枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されてい るが、本発明の偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られ る。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムにはクリアハードコート 層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に 用いることも好ましい。また、延伸した本発明の偏光板保護フィルムは視野角拡大の 為の位相差フィルムとして用いることも好まし 、。
[0425] 本発明の偏光板保護フィルム及びそれを用いた偏光板は反射型、透過型、半透過 型 LCD或いは TN型、 STN型、 OCB型、 HAN型、 VA型（PVA型、 MVA型）、 IPS 型等の各種駆動方式の LCDで好ましく用いられる。特に画面が 30型以上、特に 30 型〜 54型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなぐその効果 が長期間維持され、 MVA型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、色 むら、ぎらつきや波打ちムラが少なぐ長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果が めつに。
実施例
[0426] 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定され るものではない。
[0427] (用いる素材）
〈セノレロースエステノレ〉
C- 1.セルロースアセテートプロピオネート：ァセチル基置換度 1. 92、プロピオ- ル基置換度 0. 74、総ァシル基置換度 2. 66、数平均分子量 60000
C 2.セルロースアセテートブチレート：ァセチル基置換度 1. 38、ブチリル基置換 度 1. 30、総ァシル基置換度 2. 68、数平均分子量 100000 C- 3.セルロースアセテートプロピオネート：ァセチル基置換度 1. 4、プロピオ-ル 基置換度 1. 35、総ァシル基置換度、数平均分子量 60000
C—4.セルロースアセテートプロピオネート：ァセチル基置換度 1. 80、プロピオ- ル基置換度 1. 00、総ァシル基置換度 2. 80、数平均分子量 60000
C- 5.セルロースアセテートプロピオネート：ァセチル基置換度 1. 45、プロピオ- ル基置換度 1. 45、総ァシル基置換度 2. 90、数平均分子量 60000
C-6.セルロースアセテートプロピオネート：ァセチル基置換度 1. 2、プロピオ-ル 基置換度 1. 60、総ァシル基置換度 2. 80、数平均分子量 60000
尚、ァセチル基、プロピオ-ル基、ブチリル基等のァシル基の置換度の測定方法は ASTM -D817- 96の規定に準じて測定した。
[0428] 〈可塑剤〉
(合成例 1：トリメチロールプロパントリべンゾエート（TMPTB)の合成）
100°Cに保持した 45質量部のトリメチロールプロパン、 101質量部のトリェチルアミ ンの混合溶液を攪拌しながら、 71質量部の塩ィ匕ベンゾィルを 30分間かけて滴下し、 さらに 30分間攪拌した。反応終了後室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、酢酸ェ チル ·純水を加えて洗浄し、有機相を分取して酢酸ェチルを減圧留去し、 126質量 部（収率 85%)の白色の結晶を得た。なお、この化合物の分子量は 446である。
[0429] (合成例 2：一般式 (2)で表される化合物、化合物例 9)
10°Cに保持した 54質量部のトリメチロールプロパン、 127質量部のピリジン、 500 質量部の酢酸ェチルの混合溶液を攪拌しながら、 240質量部の o—メトキシベンゾィ ルクロライドを 30分間かけて滴下し、その後、 80°Cまで加熱して、 3時間攪拌した。反 応終了後、室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、 1モル ZL HC1水溶液を加えて 洗浄し、さらに l%Na CO水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸ェチ
2 3
ルを減圧留去し、 193質量部（収率 90%)の透明液体を得た。なお、この化合物の 分子量は 537である。
[0430] 〈添加剤 1〉
(合成例 3：一般式 (L)で表される化合物、化合物 101)
5, 7—ジー 6 ー：611—3—ヒドロキシー311—べンゾフランー2—ォン、 p—キシレ ンならびに触媒としてフルキャット（Fulcat)22Bから出発して、 5, 7 ジ tert—Bu -3-(2, 5 ジメチルフエ-ル） 3H ベンゾフラン一 2—オン（ィ匕合物 101)を合 成した。
[0431] a) 5, 7 ジ一 tert—Bu— 3 ヒドロキシ一 3H ベンゾフラン一 2—オンの合成
1, 2 ジクロロェタン 300ml中の 2, 4 ジ一 tert—Bu—フエノール（97%) 212. 5g(l. 00mol)、 50%水性ダリオキシル酸 163. Og(l. lOmol)及び p トルエンス ルホン酸一水塩 0. 5g(2. 6mmol)を水分離器上で 3. 5時間、窒素気流中で還流し た。その後、反応混合物を減圧ロータリーエバポレーターで濃縮した。残渣をへキサ ン 800mlに溶解し、そして水で 3回洗浄した。分液漏斗中、水相を分離し、さらにへ キサン 300mlで抽出した。有機相を集め、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧エバポレ 一ターで濃縮した。残渣カも濃い黄色の榭脂の形態の、分析的に精製された 5, 7- ジ一 tert—Bu— 3 ヒドロキシ一 3H ベンゾフラン一 2—オン 262. 3g(~100%) を得た。
[0432] b)5, 7 ジ一 tert—Bu— 3— (2, 5 ジメチルフエ-ル）一 3H ベンゾフラン一 2 —オン (ィ匕合物（101))の合成
p キシレン 500ml (4. 05mol)中の 5, 7 ジ一 tert— Bu— 3 ヒドロキシ一 3H— ベンゾフラン一 2—オン 262. 3g(l. OOmol)溶液にフルキャット 22B40gを加え、及 び混合物を水分離器上で 1. 5時間還流した。フルキャット 22B触媒を次にろ過により 除去し、過剰 p キシレンを減圧エバポレーターで留去した。メタノール 400mlからの 残渣の結晶化により、融点 93— 97°Cの 5, 7 ジ—第三ブチルー 3—（2, 5 ジメチ ルフエ-ル） 3H ベンゾフラン一 2—オン（ィ匕合物 101) 280. 6g(80%)を得た。
[0433] (合成例 4:一般式 (L)で表される化合物、化合物 103、 103Aの合成）
2, 4ージ tert—Bu—フエノール、グリオキシル酸及び o キシレンならびに触媒 としてフルキャットまたはフルモント（Fulmont)から出発して、 3— (3, 4—ジメチルフ ェ -ル） 5, 7 ジ一 tert—Bu— 3H ベンゾフラン一 2—オン（ィ匕合物 103)及び 3 — (2, 3 ジメチルフエ-ル）一 5, 7 ジ一 tert—Bu— 3H ベンゾフラン一 2—ォ ン (ィ匕合物 103A異性体)の約 5. 7: 1混合物を合成した。
[0434] 水分離器を備えた 1500mlの二層反応器に 2, 4 ジ— tert—Bu—フエノール 20 6. 3g (l. Omol)、 o キシレン 485g (5. 5mol)、 p トルエンスルホン酸一水塩 0. 5g (2. 6mmol)及び 50%水性ダリオキシル酸 163g (l. lmol)を入れた。攪拌しな がら、混合物を 85〜90°Cに加熱しそして装置を同時に約 450mbarに排気した。反 応器中の温度が 85〜90°Cになると直ちに、 o キシレン Z水混合物が蒸留され始め 、 o キシレンは還流され及び水は系から除去された。反応器の温度を 85〜90°Cに 保てるように減圧を連続的に高めた。水約 90〜： LOOmlの全てが 3ないし 4時間かけ て蒸留された。減圧を窒素により解除し、触媒 (フルキャット 30もしくは 40、フルモント XMP— 3もしくは XMP— 4) 40gを透明な黄色の溶液に加えた。装置を 700mbarの 圧力に排気しそして懸濁物を 165°Cの加熱浴温度で攪拌した。約 128°Cの温度から 反応水が共沸物として系カも留去され始めた。装置の温度は最後の方で最大 140 °Cに昇温させた。総量約 20mlの水が系から 1ないし 2時間かけて留去された。次に 減圧を窒素により解除した。反応混合物を 90〜100°Cに冷却し及びろ過した。装置 及びフィルター残渣を o キシレン 100gですすいだ。ろ液を二層反応器に移しそし て減圧下で濃縮し、 o キシレン 360gで回収した。やや赤い黄色の残渣を 70°Cに 冷却し、温度を 60〜65°Cに保ちながら、メタノール 636gを滴下漏斗から注意して加 えた。溶液に結晶種を入れ、 60〜65°Cで約 30分間攪拌して結晶化させた。次に結 晶ィ匕スラリーを 2時間かけて— 5°Cに冷却し、そしてこの温度で攪拌をさらに 1時間続 けた。結晶を吸引ろ過で集め、残渣を冷メタノール（一 5°C) 400mlを使用して 5回に 分けて洗浄した。十分に乾圧された生成物を 50〜60°Cの真空乾燥機で乾燥して、 白色固体 266gを得た。ガスクロマトグラフィーによる分析は、この物質が 3— (3, 4— ジメチルフエ-ル） 5, 7 ジ一 tert— Bu— 3H ベンゾフラン一 2—オン（ィ匕合物 1 03)約 85%、ならびに 3— (2, 3 ジメチルフエ-ル） 5, 7 ジ一 tert— Bu— 3— H —ベンゾフラン一 2 オン異性体 (ィ匕合物 103A)約 15%力もなることを示す。
[0435] (合成例 5 :—般式 (L)で表される化合物、化合物 105の合成）
5, 7 ジ一 tert— Bu— 3 ヒドロキシ一 3H ベンゾフラン一 2—オン、ェチノレベン ゼンならびに触媒としてフルキャット 22Bから出発して、 5, 7 ジ tert— Bu— 3—（ 4 -ェチルフエ-ル） 3H ベンゾフラン 2 オン（化合物 105)を合成した。
[0436] ェチルベンゼン 500ml (4. 08mol)中の 5, 7 ジ一 tert— Bu— 3 ヒドロキシ一 3 H ベンゾフラン— 2—オン 262. 3g (l. OOmol)溶液にフルキャット 22B 40gをカロ え、そして混合物を水分離器上で 1. 5時間還流した。フルキャット 22B触媒を次にろ 過により除去し、過剰ェチルベンゼンを減圧エバポレーターで留去した。 GC— MS 分析はパラ—異性体 (ィ匕合物 105) 59. 2%、メタ—異性体 (ィ匕合物 105A) 10. 8% 及びオルト一異性体 (ィ匕合物 105B) 21. 1%の混合物力もなる残渣を示した。メタノ ール 400mlからの残渣の結晶化により、 5, 7—ジー 6 ー：611—3—（4ーェチルフェ -ル） 3H べンゾフラン 2 オン（ィ匕合物 105) (パラー異性体） 163. 8g (47% )が得られ、それはさらにメタ 異性体 5, 7—ジー 61^—811—3—（3—ェチルフェ- ル）—3H—べンゾフランー2 オン（ィ匕合物 105A) 5. 6%、及びオルト 異性体 5, 7 ジ一 tert— Bu— 3— (2 ェチルフエ-ル） 3H—ベンゾフラン一 2—オン（ィ匕合 物 105B) 1. 3%を含む。メタノールからのさらなる結晶化から、融点 127— 132°Cの ほとんど純粋なパラ異性体 (ィ匕合物 105)を得た。
[0437] (合成例 6 :—般式 (L)で表される化合物、化合物 111)
5, 7 ジ tert— Bu— 3 ヒドロキシ 3H べンゾフランー2 オン、ペンタメチ ルベンゼンならびに触媒として四塩化錫から出発して、 5, 7—ジ tert— Bu— 3—（ 2, 3, 4, 5, 6 ペンタメチルフエ-ル） 3H べンゾフラン 2 オン（ィ匕合物（11 1) )を合成した。
[0438] ペンタメチルベンゼン 11. 5g (77. 5mol)及び四塩化錫 10ml (85. Ommol)を 1, 2 -ジクロロメタン 50ml中の 5 , 7 ジ一 tert— Bu— 3 ヒドロキシ 3H ベンゾフラ ン— 2—オン 19. 7g (75. Ommol)の溶液にカ卩え、そして反応混合物を 1時間還流し た。反応混合物を水で稀釈しそしてトルエンで 3回抽出した。有機相を集め、水で洗 浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして減圧エバポレーターで濃縮した。エタノールか らの残 の結晶ィ匕により融点、185— 190。Cの、 5, 7 ジー tert— Bu—（2, 3, 4, 5, 6 -ペンタメチルフエ-ル） 3H ベンゾフラン 2 オン（化合物 111) 26. 3g (89 %)が得られた。
[0439] (合成例 7 :—般式 (L)で表される化合物、化合物 108)
5, 7 ジ tert— Bu— 3 ヒドロキシ 3H べンゾフランー2 オン、チオアニソ ールならびに触媒として三塩化アルミニウムから出発して、 5, 7—ジ—tert— Bu— 3 一（4ーメチルチオフエ-ル） 3H べンゾフラン 2 オン（ィ匕合物 108)を合成し た。
[0440] チオア-ノール 25ml (0. 21mol)中の 5, 7 ジ一 tert— Bu— 3 ヒドロキシ一 3H —ベンゾフラン一 2—オン 26. 2g (0. lOmol)の溶液をチオア-ノール 15ml (0. 13 mol)中の塩化アルミニウム 14. 7g (0. l lmol)の溶液に 35〜40°Cで滴下で添カロし た。反応混合物をその後 30°Cで 30分間及び 80°Cで 2時間攪拌し、そして冷却後、 水約 50ml、そして次に濃塩酸及び塩化メチレンを均質な 2層混合物が形成されるの に十分な量で注意深く加えた。有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥 しそしてロータリーエバポレーターで濃縮した。エタノールからの残渣の結晶化により 、融点 125— 131°Cの 5, 7 ジ— tert— Bu— 3— (4—メチルチオフエ-ル） 3H -ベンゾフラン 2 オン (化合物 108) 6. 7gを得た。
[0441] HP136 ;IRGANOX HP 136 (チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製：一般式（L) で表される化合物例）
〈添加剤 2：トリアジン環化合物〉
次に、本実施例で使用されるトリアジン環化合物の合成法に関して具体的に記載 するが、これ以外の化合物に対しても、これらの例と同様に合成することができる。
[0442] 合成例 1：例示化合物（ 1 1)
(1) 2, 4 ジ一 m—トルイジノ一 6 クロル一 1, 3, 5 トリァジンの合成
400Lの反応容器に塩ィ匕シァヌル 25kg (136モル）を入れ、メチルェチルケトン 20 0Lで溶解した。次いで、 m—トルイジン 29. 1kg (270モル）を 5°C以下で滴下し、そ の後、ジイソプロピルェチルァミン 35. 2kg (270モル）を 5°C以下で滴下した。滴下 後、室温下で 2時間反応させたのち、反応液を氷水 500L中に注ぎ込み、有機層を 酢酸ェチル 500Lで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸ェチ ルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール 100Lに溶解し 再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た (収量 37. 7kg、収率 8 5モル0 /0)。
[0443] (2)例示化合物（1 1)の合成
上記で得られた 2, 4 ジ—m—トルイジノー6 クロル 1, 3, 5 トリアジン 8. Ik g (25モル）と、ァ-リン 2. 3kg (25モル）とを 300Lの反応容器に入れ、 DMF20Lで 溶解した。次いで、炭酸カリウム 5. 2kg (37. 5モル)を加え 120°Cで 2時間反応させ た後、冷却し、酢酸ェチル 100Lで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し た後、酢酸ェチルを減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ 一 (溶出液: n—へキサン Z酢酸ェチル =5Zl (体積比） )で単離し目的物を得た (収 量 8. 6kg、収率 90モル％)。化学構造は NMRスペクトル、 MSスペクトル及び元素 分析で確認した。
[0444] 合成例 2：例示化合物（ 1 2)の合成
上記合成例 1 (1)で得られた 2, 4 ジ一 m—トルイジノ一 6 クロル一 1, 3, 5 トリ ァジン 8. 1kg (25モル）と、 p ァ-シジン 3. 1kg (25モル）とを 200Lの反応容器に 人れ、 DMF20Lで溶解した。次!ヽで、炭酸カリウム 5. 2kg (37. 5モノレ）をカロえ 120 °Cで 2時間反応させた。冷却後、酢酸ェチル 100Lで抽出し、抽出液を無水硫酸ナト リウムで乾燥した。酢酸ェチルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトダラ フィー (溶出液: n—へキサン Z酢酸ェチル =5Zl (体積比））で単離し目的物を得た (収量 9. lkg、収率 88モル％)。化学構造は NMRスペクトル、 MSスペクトル及び元 素分析で確認した。
[0445] 合成例 3：例示化合物（ 1 35)の合成
(1) 2— (2 クロルァ-リノ）一 4, 6 ジクロロ一 1, 3, 5 トリァジンの合成。
[0446] 500Lの反応容器に塩化シァヌル 14. 4kg (78モル）を入れ、メチルェチルケトン 8 0Lに溶解した。次いで、 o クロルァ-リン 10kg (78モル）を 0°C以下で滴下し、更に ジイソプロピルェチルァミン 10. 1kg (78モル）を 0°C以下で滴下した。滴下後、室温 下で 2時間反応させたのち、反応液を氷水 160L中へ注ぎ込んで有機層を酢酸ェチ ル 200Lで抽出した。その後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸ェチ ルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出液: n—へ キサン Z酢酸ェチル =4Zl (体積比））で単離し目的物を得た (収量 19. 3kg、収率 90モル0 /0)。
[0447] (2)例示化合物（1 35)の合成
上記で得られた 2— (2 クロノレア二リノ）一 4, 6 ジクロノレ 1, 3, 5 トリァジン 5. 4kg (20モル）を 400Lの反応容器に入れ、 DMF20Lで溶解した。次いで、 m—トル ィジン 4. 2kg (40モル）と炭酸カリウム 8. 2kg (60モル）とを加え、 120°Cで 2時間反 応させた。冷却後、反応液を氷水 100L中へ注ぎ込み、有機層を酢酸ェチル 150L で抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸ェチルを減圧留去し得 られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液: n キサン Z酢酸ェチル = 9/1 (体積比) )で単離し目的物を得た (収量 7. 3kg、収率 87モル％) 化学構造 は NMR ^ベクトル、 MSスペクトル及び元素分析で確認した。
[0448] 合成例 4：例示化合物（2— 1)の合成
400Lの反応容器に塩ィ匕シァヌル 25kg (136モル）を入れ、メチルェチルケトン 20 0Lで溶解した。次いで、ァ-リン 40kg (405モル）を 5°C以下で滴下し、その後、ジィ ソプロピルェチルァミン 52. 8kg (405モル）を 5°C以下で滴下した。滴下後、室温下 で 2時間反応させたのち、反応液を氷水 500L中に注ぎ込み、有機層を酢酸ェチル 500Lで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸ェチルを減圧留 去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール 100Lに溶解し再結晶した。 得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た (収量 50. 4kg、収率 85モル％)。
[0449] 合成例 5 :例示化合物（2— 29)の合成
400Lの反応容器に塩ィ匕シァヌル 25kg (136モル）を入れ、メチルェチルケトン 20 0Lで溶解した。次いで、 m—トルイジン 38kg (405モル）を 5°C以下で滴下し、その 後、ジイソプロピルェチルァミン 52. 8kg (405モル）を 5°C以下で滴下した。滴下後、 室温下で 2時間反応させたのち、反応液を氷水 500L中に注ぎ込み、有機層を酢酸 ェチル 500Lで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸ェチルを 減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール 100Lに溶解し再結 晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た (収量 54. 4kg、収率 85モ ル％；)。
[0450] 〈添加剤 3 :フ ノール系化合物〉
HP— 1： IRGANOX- 1010 (チノく'スペシャルティ ·ケミカルズ社製）
HP- 2 :IRGANOX- 1076 (チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製）
〈添加剤 4 :リン系化合物〉 GSY: GSY— P101 (エーピーアイコーポレーション社製）
P-EPQ :IRGAFOS P— EPQ (チノく'スペシャルティ'ケミカルズ社製） 実施例 1
(偏光板保護フィルム 101の作製）
上記合成例で作製した各種化合物、また市販の各種化合物を用いて、溶融流延 法により偏光板保護フィルム 101を作製した。
[0451] セルロースエステル（C 1) 100質量部
可塑剤 (TMPTB) 5質量部
可塑剤 (一般式 (2)例示化合物 9) 5質量部 添加剤 1 (合成例 4の 3— (3, 4 ジメチルフエ-ル）ー 5, 7 ジ— tert— Bu— 3H
—ベンゾフラン一 2—オン（ィ匕合物 103)及び 3— (2, 3 ジメチルフエ-ル） 5, 7
—ジ— tert - BU- 3H-ベンゾフラン 2 オン（化合物 103 A異性体の約 5. 7 : 1 混合物)） 0. 3質量部
添加剤 2 (—般式 (1)例示化合物（1 1) ) 1質量部 添加剤 3 (HP— 1) 0. 5質量部
紫外線吸収剤 Ti928 (チノくスペシャルティケミカルズ社製） 1. 5質量部 マット剤（シーホスター KEP— 30：日本触媒 (株)製、平均粒径 0. 3 μ mシリカ微粒 子） 0. 1質量部
[0452] [化 100]
IRGANOX-1010 IRGANOX— 1076
Figure imgf000138_0001
セルロースエステル C— 1を 70°C、 3時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後 、可塑剤、添加剤、紫外線吸収剤、マット剤を混合した。この混合物を真空ナウターミ キサ一で 80°C、 ITorrで 3時間混合しながら更に乾燥した。得られた混合物を 2軸式 押し出し機を用いて 235°Cで溶融混合しペレツトイ匕した。この際、混鍊時のせん断に よる発熱を抑えるため-一デイングディスクは用いずオールスクリュータイプのスクリュ 一を用いた。また、ベント孔カも真空引きを行い、混鍊中に発生する揮発成分を吸引 除去した。なお、押出機に供給するフィーダ一やホッパー、押出機ダイ力 冷却槽間 は、乾燥窒素ガス雰囲気として、榭脂への水分の吸湿を防止した。
[0454] フィルム製膜は図 1に示す製造装置で行った。
[0455] 第 1冷却ロール及び第 2冷却ロールは直径 40cmのステンレス製とし、表面にハー ドクロムメツキを施した。又、内部には温度調整用のオイル (冷却用流体)を循環させ て、ロール表面温度を制御した。弹性タツチロールは、直径 20cmとし、内筒と外筒は ステンレス製とし、外筒の表面にはハードクロムメツキを施した。外筒の肉厚は 2mmと し、内筒と外筒との間の空間に温度調整用のオイル (冷却用流体)を循環させて弾性 タツチロールの表面温度を制御した。
[0456] 得られたペレット（水分率 50ppm)を、 1軸押出機を用いて Tダイ力もフィルム状に 表面温度 100°Cの第 1冷却ロール上に溶融温度 250°Cでフィルム状に溶融押し出し ドロー比 20で、膜厚 80 mのキャストフィルムを得た。この際、 Tダイのリップタリァラ ンス 1. 5mm、リップ部平均表面粗さ RaO. 01 mの Tダイを用いた。また押出機中 間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ微粒子を、 0. 1質量部となるよう添カロ した。
[0457] 更に、第 1冷却ロール上でフィルムを 2mm厚の金属表面を有する弹性タツチロー ルを線圧 lOkgZcmで押圧した。押圧時のタツチロール側のフィルム温度は、 180°C ± 1。Cであった。（ここでいう押圧時のタツチロール側のフィルム温度は、第 1ロール（ 冷却ロール）上のタツチロールが接する位置のフィルムの温度を、非接触温度計を用 V、て、タツチロールを後退させてタツチロールがな!、状態で 50cm離れた位置から幅 方向に 10点測定したフィルム表面温度の平均値を指す。 )このフィルムのガラス転移 温度 Tgは 136°Cであった。（セイコー（株）製、 DSC6200を用いて DSC法（窒素中、 昇温温度 10°CZ分）によりダイスカゝら押し出されたフィルムのガラス転移温度を測定 した。）
なお、弹性タツチロールの表面温度は 100°C、第 2冷却ロールの表面温度は 30°C とした。弹性タツチロール、第 1冷却ロール、第 2冷却ロールの各ロールの表面温度 は、ロールにフィルムが最初に接する位置から回転方向に対して 90° 手前の位置の ロール表面の温度を非接触温度計を用いて幅方向に 10点測定した平均値を各ロー ルの表面温度とした。
[0458] 得られたフィルムを予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーン（各ゾーン間 には各ゾーン間の断熱を確実にするための-ユートラルゾーンも有する）を有するテ ンターに導入し、巾方向に 160°Cで 1. 3倍延伸した後、巾方向に 2%緩和しながら 7 0°Cまで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落として、フィルム 両端に幅 10mm、高さ 5 mのナーリング力卩ェを施し、幅 1430mmにスリットした膜 厚 60 /z mの偏光板保護フィルム 101を得た。この際、予熱温度、保持温度を調整し 延伸によるボーイング現象を防止した。得られた偏光板保護フィルム 101から残留溶 媒は検出されなかった。
[0459] 次いで、セルロースエステル、添加剤 1、添加剤 2、添加剤 3、添加剤 4を表 1のよう に変更した以外は本発明の偏光板保護フィルム 101と同様にして、幅 1430mm、膜 厚 60 μ mの偏光板保護フィルム 102〜 123を得た。
[0460] [表 1]
Figure imgf000141_0001
《偏光板の作製》
上記作製した偏光板保護フィルム 101〜： 123を使って、下記アルカリケンィヒ処理 次 、で偏光板の作製を行った。 [0462] 〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程 2M—NaOH 50°C 90秒
水洗工程 水 30°C 45秒
中和工程 10質量％HC1 30°C 45秒
水洗工程 水 30°C 45秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで 80°Cで乾燥を行った。
[0463] 〈偏光子の作製〉
厚さ 120 mの長尺ロールポリビュルアルコールフィルムを沃素 1質量部、ホウ酸 4 質量部を含む水溶液 100質量部に浸漬し、 50°Cで 5倍に搬送方向に延伸して偏光 子を作った。
[0464] 上記偏光子の片面にアル力リケンィ匕処理した前記偏光板保護フィルム 101〜 123 を、もう一方の面にコ-カミノルタタック KC4FR— 1 (コ-力ミノルタォプト（株）製）を、 完全ケンィ匕型ポリビニルアルコール 5%水溶液を接着剤として、各々貼り合わせ、乾 燥して偏光板 P 101〜 123を作製した。
[0465] 《液晶表示装置の作製》
VA型液晶表示装置である富士通製 15型ディスプレイ VL— 150SDの予め貼合さ れていた視認側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板 P101〜123をそれぞれ 液晶セル (VA型）のガラス面に貼合し、液晶表示装置 101〜123を作製した。その 際、上記作製した偏光板保護フィルム 101〜123が表示面側となるように、また偏光 板の貼合の向きは予め貼合されていた偏光板と同一方向に吸収軸が向くように行つ た。
[0466] 《評価》
得られた偏光板、液晶表示装置を用いて以下の評価を行った。
[0467] (偏光子安定性の評価方法）
上記作製した偏光板について、温度 60°C、湿度 90%RHの環境下に 50時間保持 して、強制劣化試験を実施した。試験後の偏光板について、可視域領域の色変化の 有無を目視にて観察し、得られた結果を下記の表 2に示した。
[0468] ◎:変化なし 〇：やや着色あり
△:着色あり
X：着色著しい
(明暗のスジ）
上記作製した液晶表示装置でグレー画像を表示させ、スジに起因する明暗のスジ を目視で観察し、下記基準でランク付けし、得られた結果を下記の表 2に示した。
[0469] ランク 基準
◎：スジは認められない
〇：部分的に僅かにスジが認められる
△：全体に僅かにスジが認められる
X：全体にはっきりとスジが認められる
(斑むら）
上記作製した液晶表示装置で黒表示にしたときの点状あるいは面状で現れる斑状 の明暗を目視で観察し、下記基準でランク付けし、得られた結果を下記の表 2に示し た。
[0470] ランク 基準
◎：光の抜けはなく全体に均一な暗視野
〇：部分的に僅かに明暗の斑が認められる
△：全体に僅か〖こ明暗の斑が認められる
X：全体に明暗の斑が認められる
[0471] [表 2]
偏光板 液晶 偏光板保護
着色 明暗スジ 斑むら 備 考
表示装置 No . フィノレム No .
101 101 〇 〇 〇 本発明
102 102 〇 〇 〇 本発明
103 103 ◎ 〇 〇 本発明
104 104 ◎ ◎ 〇 本発明
105 105 ◎ 〇 〇 本発明
106 106 〇 〇 〇 本発明
107 107 ◎ ◎ 本発明
108 108 ◎ ◎ ◎ 本発明
109 109 ◎ ◎ 本発明
110 110 ◎ ◎ 本発明
111 111 ◎ ◎ 本発明
112 112 ◎ © ◎ 本発明
113 113 X X X 比較例
114 114 X X X 比較例
115 115 X X X 比較例
116 116 X X X 比較例
117 117 〇 〇 〇 本発明
118 118 〇 〇 〇 本発明
119 119 〇 〇 〇 本発明
120 120 ◎ ◎ ◎ 本発明
121 121 ◎ ◎ ◎ 本発明
122 122 〇 〇 〇 本発明
123 123 〇 〇 〇 本発明 上表から、本発明の偏光板保護フィルム 101〜112、 117〜123を用いた偏光板、 液晶表示装置は、着色、明暗のスジ、斑むらに優れており、視認性に優れた偏光板 、液晶表示装置であることが分力つた。

Claims

請求の範囲 [1] セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも 1種と、フ ノール系化合物 と、一般式 (L)で表される化合物とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法によ つて製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
[化 1] 一般式 (L)
Figure imgf000145_0001
(式中、 R〜Rはおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、 Rは水素
2 5 6 原子または置換基を表し、 nは 1または 2を表す。 nが 1であるとき、 Rは置換基を表し
1
、 nが 2であるとき、 Rは 2価の連結基を表す。 )
1
前記トリアジン環化合物が、下記一般式（1)で表される化合物であることを特徴とす る請求の範囲第 1項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
[化 2]
-般式 (1 )
Figure imgf000145_0002
(式中、
Figure imgf000145_0003
R3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し; X1は単結合 NR4 O—又は S—を表し; X2は単結合、 NR5— O—又は S—を 表し; X3は単結合、— NR6—、— O—又は— S—を表す。
Figure imgf000145_0004
R5及び R6は、それぞれ 独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基 又は複素環基を表す。 )
[3] 前記セルロースエステルのァシル基の置換度力 下記の式 (i)、 (ii)で規定する条 件を同時に満たすことを特徴とする請求の範囲第 1項または第 2項に記載の偏光板 保護フィルムの製造方法。
式（i) 2. 6≤X+Y≤3. 0
式（ii) 1. 0≤Y≤1. 5
(式中、 Xはァセチル基の置換度を表し、 Υはプロピオネート基の置換度を表す。 )
[4] 更に、リン系化合物の少なくとも 1種を含有することを特徴とする請求の範囲第 1項 に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
[5] 請求の範囲第 1項乃至第 4項のいずれ力 1項に記載の偏光板保護フィルムの製造 方法であって、流延ダイカゝら押し出された偏光板保護フィルムを金属製外筒と内筒と その間に流体を流す空間とを有する弹性タツチロールにより冷却ロールに押圧しな 力 搬送することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
[6] 請求の範囲第 1項乃至第 5項のいずれ力 1項に記載の偏光板保護フィルムの製造 方法により製造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。
[7] 請求の範囲第 6項に記載の偏光板保護フィルムを少なくとも一方の面に用いたこと を特徴とする偏光板。
[8] 請求の範囲第 7項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを 特徴とする液晶表示装置。
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