TW200823253A - The manufacturing method of polarizing plate protective film, polarizing plate protective film, polarizing plate, and liquid crystal display device - Google Patents

Description

200823253 九、發明說明 - 【發明所屬之技術領域】 • 本發明係關於偏光板保護薄膜的製造方法、偏光板保 護薄膜、偏光板、及液晶顯示裝置。 【先前技術】 纖維素酯薄膜可作爲光學性、物理性偏光板用保護薄 φ 膜使用’故一般廣泛地被使用。然而，薄膜的製造方法爲 使用鹵素系溶劑而藉由流延製膜法之製造方法，溶劑回收 所需的費用成爲非常大之負擔。因此，藉由未使用溶劑之 熔融流延，而製造光學用纖維素酯薄膜之技術被揭示（例 如，參照專利文獻1 )。 另一方面，纖維素酯爲熔融時之黏度非常高的高分子 ，且玻璃轉移溫度亦高，故纖維素酯經熔融後由模具壓出 後，即使於冷卻滾筒或冷卻輸送帶上進行澆鑄（casting ) • 亦難以塗平，壓出後因會短時間內固化，故製膜時會產生 條紋或斑，成爲裝入液晶顯示裝置時的顯示斑之問題。 相對於此，含有纖維素酯與至少1種三嗪環化合物進 行熔融流延時可消除顯示斑之技術已被揭示（例如，參照 專利文獻2。）。 然而，依據本發明者們的討論，得知使用專利文獻2 所記載之方法所製作的偏光板保護薄膜製造偏光板時，於 高溫高濕等強制劣化條件下偏光子的著色成爲問題。有關 著色，作爲至今作爲提高熔融時之熱耐性的手段，一般可 -5- 200823253 使用如受阻胺系耐光安定劑或磷系化合物之添加物，但這 - 些添加物可藉由多量添加而促進薄膜之著色、或濕熱條件 - 下引起酢綿分解等，作爲偏光板保護薄膜使用時，有著引 起高溫高濕條件下的偏光子的著色之問題。 〔專利文獻1〕特開2000-352620號公報 〔專利文獻2〕特開2006-2026號公報 φ 【發明內容】 因此’本發明的目的爲提供藉由熔融流延法之製膜時 不會產生條紋或斑，且高溫高濕條件下之偏光子著色經改 善之偏光板保護薄膜的製造方法、偏光板保護薄膜、偏光 板及液晶顯示裝置。 本發明的上述課題可由以下構成達成。 1·將含有纖維素酯、三嗪環化合物的至少1種、酚 系化合物、與一般式（L )所示化合物之混合物經加熱熔 # 融後藉由熔融流延法進行製膜爲特徴之偏光板保護薄膜的 製造方法。 [化1] 一般式(L)

(式中，R2〜R5爲各互相獨立表示氫原子或取代基， R6表示氫原子或取代基，η表示1或2。η爲1時，1^表 -6 - 200823253 示取代基，η爲2時，I表示2價之連結基。 2·前述三嗪環化合物爲下述一般式（1) 爲特徴之前述1所記載的偏光板保護薄膜的製 [化2] -般式(1) R3

X1. R1 表示單鍵、-NR4-、-0-或-S- ; X2表示單鍵、 或- S-; X3 表示單鍵、-NR6-、-〇·或- S-。R4、 獨立表示氫原子、取代或無取代的烷基、烯3 基或雜環基。） 3 ·前述纖維素酯的醯基取代度爲同時滿 )、（Π )所規定之條件爲特徴之前述1或2 光板保護薄膜的製造方法。 式（i) 2·6‘Χ+ YS3.0 式（ii) 1·0‘Υ$ 1·5 (式中，X表示乙醯基之取代度，γ表月 取代度。） 4. 更含有磷系化合物之至少1種爲特徴 記載的偏光板保護薄膜的製造方法。 5. 其爲前述1至4中任1項所記載的泊 膜的製造方法，將自流延塑模壓出的偏光板仿 由具有金屬製外筒與内筒與其間流動流體之3 所示化合物 造方法。 丨或雜環； •nr5-、-〇* R5及R6各 :、芳香族_ 足下述式（i 所記載的偏 :丙酸酯基之 之前述1所 i光板保護薄 :護薄膜，藉 :間的彈性接 -7- 200823253 觸輥於冷卻輥一邊推壓下一邊搬送爲特徵之偏光板保護薄 、 膜的製造方法。 - 6.藉由前述1至5中任1項所記載的偏光板保護薄 膜的製造方法所製造之偏光板保護薄膜。 7.使用前述6所記載的偏光板保護薄膜於至少一面 爲特徴之偏光板。 8 .使用前述7所記載的偏光板於液晶胞之至少一面 0 爲特徴之液晶顯示裝置。 本發明爲可提供一種藉由熔融流延法之製膜時不會產 生條紋或斑，且於高溫高濕條件下之偏光子的著色經改善 之偏光板保護薄膜的製造方法、偏光板保護薄膜、.偏光板 及液晶顯示裝置。 實施發明的最佳型態 以下對於實施本發明之最佳形態做詳細説明，但本發 φ 明並未限定於這些。 本發明者們有鑑於上述課題進丫了詳細檢討結果’發現 藉由將含有纖維素酯、三嗪環化合物的至少1種、酚系化 合物、與一般式（L )所示化合物之混合物經加熱熔融後 經熔融流延法進行製膜爲特徴之偏光板保護薄膜的製造方 法，可提供藉由熔融流延法進行製膜時不會產生條紋或斑 ，且於高溫高濕條件下之偏光子的著色經改善之偏光板保 護薄膜、偏光板及液晶顯示裝置。 特別爲一般式（L)所示化合物具有可捕捉藉由熱分 -8- 200823253 解所產生的烷基自由基之功能’該化合物使用於纖維素酯 樹脂時，該聚合物鏈之末端或側鏈與來自一般式（L)之 芳香環系的結構結合，推測爲產生新穎化合物者。可推測 該化合物之結構係爲對於纖維素酯樹脂、與一般添加之如 芳香環系可塑劑或三嗪環化合物的滯留調整劑之間產生某 種相互作用者。 以下由每個要素對本發明做詳細説明。 且，有關本發明之偏光板保護薄膜有時亦可僅稱爲纖 維素酯薄膜。 《一般式（L )所示化合物》 本發明爲纖維素酯薄膜所成之偏光板保護薄膜，該偏 光板保護薄膜係以含有下述一般式（L )所示化合物爲特 徴。 [化3] 一般式(L}

一般式（L)中，R2〜R5爲各互相獨立表示氫原子或 取代基，R6表示氫原子或取代基，η表示1或2。η爲1 時’ R!表示取代基，η爲2時，R!表示2價之連結基。 有關本發明之一般式（L)的化合物之添加量可依據 纖維素酯之種類或其他添加劑之種類或量做適宜調整，並 -9- 200823253 無特別限定，對於所形成之偏光板保護薄膜中的纖維素酯 • ，以0.0 1〜1 〇質量％程度之添加量爲佳，〇. 1〜1. 〇質量％ 爲特佳 ° 且，對於本發明的一般式（L )之化合物做詳細説明 〇 一般式（L)中，η表示1或2;n爲1時，R!爲各未 取代、或碳原子數1至4的烷基、碳原子數1至4的烷氧 基、碳原子數1至4的烷基硫基、羥基、鹵素原子、胺基 、碳原子數1至4的烷胺基、苯胺基或二（碳原子數1至 4的烷基）-胺基所取代之萘基、菲基、蒽基、5,6,7,8·四 氮-2-萘基、5,6,7,8 -四氫-卜萘基、噻吩基、苯並〔b〕噻 吩基、萘並〔2,3-b〕噻吩基、噻蒽基、二苯並扶喃基、色 烯基、咕噸基、phenoxanthinyl、卩比咯基、咪_基、卩比哩 基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、吲嗪基、異吲除基、B引哄 基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、酞曉 ^ 基、萘啶基、喹喔啉基、喹唑啉基、噌啉基、蝶11 定基、昨 11坐基、β -咔啉基、菲啶基、吖啶基、呸啶基、菲繞啉基、 吩嗪基、異噻哇基、吩噻嗪基、異噁Π坐啉基、呋咱基、聯 苯基、三聯苯基、芴基或吩噁嗪基、或Ri表示下述式（11 )所示基 [化4] (Π)

Rio R11 -10 - 200823253 ;η爲2時，Ri表示由未取代或碳原子數1至4的丈完 基或羥基所取代之伸苯基、或表示伸萘基；或-R12-X-R13_ (基中，X表示直接結合；氧原子、硫原子或-NR31-。） ;R2、R3、R4及R5爲各互相獨立表示氫原子、氯原子、 羥基、碳原子數1至25的烷基、碳原子數7至9的苯基 烷基、未取代或碳原子數1至4的烷基-取代苯基、未取 代或碳原子數1至4的烷基-取代碳原子數5至8的環院 φ 基；碳原子數1至18的烷氧基、碳原子數1至18的烷基 硫基、碳原子數1至4的烷胺基、二（碳原子數丨至4的 烷基）胺基、碳原子數1至25的鏈烷醯氧基、碳原子數i 至25的鏈烷醯胺基、碳原子數3至25的鏈烯醯氧基；氧 原子、硫原子或 [化5] \ ,Ν—R14 φ 所中斷之碳原子數3至25的鏈烷醯氧基；碳原子數6 至9的環烷基羰氧基、苯甲醯氧基或碳原子數〗至12的 院基-取代苯甲醯氧基（但，R2表示氫原子或甲基時，式 (II)中如後述的R7或R9不表示羥基或碳原子數i至25 的鏈烷醯氧基。）；或取代基R2及r3或、r3及r4或r4 及R5各對與所結合之碳原子連結，形成苯環；r4進一步 表示- (CH2) q〇H(式中，p 表示 〇、 1 或 2;q 表示 1、2、3、4、5及0。）：或 R3、R5&R6 表示氫原子時，R4進·—步表示下述式（ΠΙ) -11 - 200823253 [化6] (1Π)

(式中，Ri表示對於η二1而言與上述所定義者同意 義。）所不基；R6表示氫原子或下述式（IV) [化7]

(式中，R4表示非式（III )之基及Ri表示對於n = 1 而言與上述所定義者同意義。）所示基；R7、Rs、R9及 R10爲各互相獨立表示氫原子、鹵素原子、羥基、碳原子 數1至25的烷基；氧原子、硫原子或 _ [化 8] \

Ru 所中斷之碳原子數2至25的烷基；碳原子數1至25 的院氧基；氧原子、硫原子或 [化9] \ /N_Rl4 所中斷之碳原子數2至25的烷氧基；碳原子數1至 25的烷基硫基、碳原子數3至25的烯基、碳原子數3至 -12- 200823253 25的烯氧基、碳原子數3至25的炔基、碳原子數3至25 的炔氧基、碳原子數7至9的苯基烷基、碳原子數7至9 的苯基烷氧基、未取代或碳原子數1至4的烷基-取代苯 基、未取代或碳原子數1至4的烷基-取代苯氧基；未取 代或碳原子數1至4的烷基-取代碳原子數5至8的環院 基；未取代或碳原子數1至4的烷基-取代碳原子數5至8 的環烷氧基；碳原子數1至4的烷胺基、二（碳原子數1 φ 至4烷基）胺基、碳原子數1至25的鏈烷醯基；氧原子 、硫原子或 [化 10] 所中斷之碳原子數3至25的鏈烷醯基；碳原子數i 至25的鏈烷醯氧基；氧原子、硫原子或 [化 11] \ /N_R14 所中斷之碳原子數3至25的鏈烷醯氧基；碳原子數1 至25的鏈烷醯胺基、碳原子數3至25的鏈烯醯基；氧原 子、硫原子或 [化 12] \ /N—R14 所中斷之碳原子數3至25的鏈烯醯基；碳原子數3 至25的鏈燒醯氧基；氧原子、硫原子或 -13- 200823253 [化 13] \ /N — R14 所中斷之碳原子數3至25的鏈烯醯氧基；碳原子數6 至9的環烷基羰基、碳原子數6至9的環烷基羰氧基、苯 甲醯基或碳原子數1至12的烷基取代苯甲醯基；苯甲醯 氧基或碳原子數1至12的烷基取代苯甲醯氧基； [化 14] R2〇 尺21

Rl8〇 一O-C一C—Ri5 或 r19 又，式（II )中，取代基R7及R8或R8及Ru之各對 可與所結合之碳原子連結而形成苯環，Rn表示氫原子、 碳原子數1至25的烷基、碳原子數1至25的烷基硫基、 碳原子數3至25的烯基、碳原子數3至25的炔基、碳原 子數7至9的苯基烷基、未取代或碳原子數1至4的烷基 φ 取代-苯基、未取代或碳原子數1至4的烷基取代-碳原子 數5至8的環院基；碳原子數1至4的院胺基、二（碳原 子數1至4的烷基）胺基、碳原子數1至25的鏈烷醯基 ;氧原子、硫原子或 [化 15] \ 所中斷之碳原子數3至25的鏈烷醯基；碳原子數1 至25的鏈烷醯胺基、碳原子數3至25的鏈烯醯基；氧原 子、硫原子或 -14- 200823253 [化 16] \ ^ISI—r14 所中斷之碳原子數3至25的鏈嫌醯基；碳原子數6 至9的環烷基羰基、苯甲醯基或碳原子數1至12的烷基- 取代苯甲醯基；但，尺7、尺8、尺9、尺10或尺11的至少1個 非氫原子；Rl2及r13爲各互相獨立表示未取代或碳原子 數1至4的院基-取代伸苯基或伸萘基；R14表不氫原子或 W 碳原子數1至8的烷基；Ri5表示羥基、下述基 [化 17] (基中，Μ表示r價之金屬陽離子、及r表示1、2 或3。）、碳原子數1至18的烷氧基或 [化 18] 户24 -N、 R25 ;Ri6及R17爲各互相獨立表示氫原子、CF3、碳原子 數1至12的烷基或苯基、或Rm及Rl7與所結合之碳原子 連結，形成經未取代或1至3個碳原子數1至4的院基取 代之碳原子數5至8的環亞烷環；Rl8及Rl9爲各互相獨 立表示、氫原子、碳原子數1至4的烷基、苯基；112()表 示氫原子或碳原子數1至4的烷基；r21表示氫原子、未 取代或碳原子數1至4的烷基·取代苯基、碳原子數1至 25的烷基；氧原子、硫原子或 -15- 200823253 [化 19] /N—R，4 所中斷之碳原子數2至25的烷基；未取代或苯基部 分中表示1至3個碳原子數1至4的烷基所取代之碳原子 數7至9的苯基烷基；氧原子、硫原子或 [化 20] /N—Ru 經中斷，且未取代或苯基部分中表示1至3個碳原子 數1至4的烷基所取代之碳原子數7至25的苯基烷基； 或Rio及Rn與所結合之碳原子連結，形成由未取代或1 至3個碳原子數1至4的烷基所取代之碳原子數5至12 的環伸烷基環；R22表示氫原子或碳原子數1至4的烷基 ;R23表示氫原子、碳原子數1至25的鏈烷醯基、碳原子 數3至25的鏈細醯基；氧原子、硫原子或 [化 21] 14

J—R 所中斷之碳原子數3至25的鏈院醯基；由二（碳原 子數1至6的烷基）-次磷酸基所取代之碳原子數2至以 的鏈烷醯基；碳原子數6至9的環烷基羰基、噻吩甲酶其 、呋喃甲醯基、苯甲醯基或碳原子數！至12的烷基取代 苯甲醯基； -16- 200823253 [化 22]

—C-R27—C-R28 或 一 C-R2s—Rao (基中，S表示1或2。）； R24及R25爲各互相獨立 表示氫原子或碳原子數1至18的烷基；R2 6表示氫原子或 碳原子數1至8的烷基；R2 7表示直接結合、碳原子數1 至18的伸烷基；氧原子、硫原子或 [化 23] /N— 所中斷之碳原子數2至18的伸烷基；碳原子數2至 18的伸烯基、碳原子數2至20的亞烷基、碳原子數7至 20的苯基亞烷基、碳原子數5至8的環伸烷基、碳原子數 7至8的雙環伸烷基、未取代或碳原子數1至4的院基-取 代伸苯基、 [化 24] -17- 200823253 ;r28表示羥基、 [化 25]

、碳原子數1至18的烷氧基或 [化 26]

\ ^26

—N

;R29表示氧原子、-NH-或 [化 27]

\ 0 \ II n-c-nh-r3〇 ;R3G表示碳原子數1至18的烷基或苯基；R31表示 氫原子或碳原子數1至1 8的烷基之所示化合物。 N表示l’Ri表示各未取代、或碳原子數1至4的烷 基、碳原子數1至4的烷氧基、碳原子數1至4的烷基硫 φ 基、羥基、鹵素原子、胺基、碳原子數1至4的烷胺基或 二（碳原子數1至4的烷基）-胺基所取代之萘基、菲基 、蒽基、5,6,7,8 -四氫-2-萘基、5,6,7,8 -四氫-卜萘基、噻 吩基、苯並〔b〕噻吩基、萘並〔2,3-b〕噻吩基、噻蒽基 、二苯並呋喃基、色烯基、咕噸基、phenoxanthinyl、吡 咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、吲嗪 基、異吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹 啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹喔啉基、喹唑啉基、 噌啉基、蝶啶基、咔唑基、β -咔啉基、菲啶基、吖啶基、 呸啶基、菲繞啉基、吩嗪基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁 -18- 200823253

唑啉基、呋咱基、聯苯基、三聯苯基、芴基、吩噁嗪基、 或上述式（II)所示基時，較佳爲1-萘基、2·萘基、1-苯 胺基-4-萘基、1-甲基萘基、2-甲基萘基、1-甲氧基-2-萘基 、2-甲氧基-1-萘基、1-二甲胺基-2-萘基、1，2-二甲基-4-萘基、1，2-二甲基-6-萘基、1，2-二甲基-7-萘基、1，3_二甲 基-6-萘基、1，4-二甲基-6-萘基、1，5-二甲基-2-萘基、1，6-二甲基-2-萘基、1-羥基-2-萘基、2-羥基-1-萘基、1，4-二 羥基-2-萘基、7-菲基、1-蒽基、2-蒽基、9-蒽基、3-苯並 〔b〕噻吩基、5-苯並〔b〕噻吩基、2-苯並〔b〕噻吩基、 4 -二苯並呋喃基、4，7 -二苯並呋喃基、4 -甲基-7-二苯並呋 喃基、2-咕噸基、8 -甲基-2-咕噸基、3 -咕噸基、2-phenoxanthinyl、2,7-phenoxanthinyl、2 -口比咯基、3-B比咯 基、5 -甲基-3 -吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑基、5-咪唑基、 2- 甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、 3- 吡唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基 、5，6-二甲基-2-吡嗪基、2 -吲嗪基、2 -甲基-3-異吲哚基、 2_甲基-1-異吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基 、1，5-二甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2,7-二甲基-8_ 嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹嗪基、3-異喹啉 基、6-異喹啉基、7-異喹啉基、異喹啉基、3-甲氧基-6-異 喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、7-喹啉基、2 -甲氧基-3-喹 啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧 基-6-駄嗦基、1，4 - —*甲氧基-6-献曉基、1，8 -奈錶-2-基、2· 嗤喔琳基、6 -陸喔琳基、2，3 - _^甲基-6 -嗤喔琳基、2，3 - __. -19- 200823253 甲氧基-6-喹喔啉基、2-喹唑啉基、7 -喹唑啉基、 〜甲月女 基-6-喹唑啉基、3 -噌啉基、6-噌啉基、7-噌咻基、 〜 -中氧 基-7-噌啉基、2-蝶啶基、6_蝶啶基、7_蝶啶基、6,7_〜m 5 〜甲 氧基-2-蝶啶基、2-咔唑基、2-咔唑基、9-甲基-2_咔嗤基、 9-甲基-3_咔唑基、β-咔啉_3-基、卜甲基_β-咔啉-3-基、 甲基_β-咔啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、^吓 啶基、1-甲基-5-呸啶基、5-菲繞啉基、6-菲繞啉苺 1 ·吩 φ 嗪基、2-吩嗪基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、％異噻d坐基 、2 -吩噻嗪基、3 -吩噻嗪基、10 -甲基吩噻嗪基、 j -異 螺哩琳基、4 -里卩惡唑琳基、5 -異卩惡α坐啉基、4 -甲其q ^ 〆、 楚-咲咱 基、2 -吩噁嗪基或10 -甲基-2-吩噁嗪基。 上述之取代基中，上述式（11)所示基、或各未取代 、或碳原子數1至4的院基、碳原子數1至4的纟完氧其 碳原子數1至4的烷基硫基、羥基、苯胺基或二（碳原子^ 數1至4的烷基）-胺基所取代之萘基、菲基、蒽基、 ♦ 5,6,7,8·四氫-2-萘基、5,6,7,8-四氫-1-萘基、噻吩基、苯 並〔b〕噻吩基、萘並〔2,3_b〕噻吩基、噻蒽基、二苯並 呋喃基、色燒基、咕噸基、phenoxanthinyl、卩比略基、異 口引晚基、吲哚基、吩噻嗪基、聯苯基、三聯苯基、芴基或 吩嚼嗪基爲特佳，作爲代表性者爲萘基、2-萘基、b苯胺 基-4-萘基、1-甲基萘基、2-甲基萘基、^甲氧基_2•萘基、 2-甲氧基-1·萘基、^二甲胺基-2-萘基、丨，2•二甲基-仁萘 基、丨，2-—甲基萘基、1，2-二甲基-7-萘基、1，3-二甲基-6-萘基、1，4-二甲基_6-萘基、丨，^二甲基-2-萘基、丨，6 一二 -20- 200823253 甲基·2·萘基、1-羥基-2-萘基、2-羥基-1-萘基、1，4-二羥 基-2-萘基、7·菲基、1-蒽基、2-蒽基、9-蒽基、3·苯並〔b 〕噻吩基、5-苯並〔b〕噻吩基、2-苯並〔b〕噻吩基、4· 二苯並呋喃基、4,7-二苯並呋喃基、4-甲基-7-二苯並呋喃 基、2-咕噸基、8-甲基-2-咕噸基、3-咕噸基、2-phenoxanthinyl、2,7-phenoxanthinyl、2-D比略基、3-tl比略 基、2 -吩噻嗪基、3 -吩噻嗪基、10 -甲基-3 -吩噻嗪基。 % 鹵素取代基以氯取代基、溴取代基或碘取代基爲佳， 氯取代基較佳。 具有至25個碳原子之鏈院基爲分支或未分支的基 ’例如可舉出甲醯基、乙醯基、丙醯基、丁醯基、戊醯基 、己醯基、庚醯基、辛醯基、壬醯基、癸醯基、十一烷醯 基、十二烷醯基、十三烷醯基、十四烷醯基、十五烷醯基 、十六烷醯基、十七烷醯基、十八烷醯基、十九烷醯基或 二十烷醯基。2至18個爲佳，較佳爲2至12個，2至6 ♦ 個碳原子的鏈烷醯基爲更佳。乙醯基爲特佳。 由二（碳原子數1至6的烷基）次磷酸基所取代之碳 原子數2至25的鏈烷醯基，其代表性者爲 (CH3CH20 ) 2P〇CH2CO-、( CH3〇 ) 2POCH2CO- > (CH3CH2CH2CH20 ) 2POCH2CO-> (CH3CH2O ) 2P〇CH2CH2CO-、( CH3〇 ) 2POCH2CH2CO-、（CH3CH2CH2CH20 ) 2POCH2CH2CO-、 (CH3CH20) 2P〇 ( CH2) 4CO-、 (CH3CH2O ) 2P0 ( ch2 ) 8co-或 -21 - 200823253 (CH3CH2O ) 2P0 ( CH2 ) 17CO- ο

具有至25個碳原子之鏈烷醯氧基爲分支或未分支之 基，例如可舉出甲醯氧基、乙醯氧基、丙醯氧基、丁醯氧 基、戊醯氧基、己醯氧基、庚醯氧基、辛酿氧基、壬醯氧 基、癸醯氧基、十一烷醯氧基、十二烷醯氧基、十三烷醯 氧基、十四烷醯氧基、十五烷醯氧基、十六烷醯氧基、十 七院醯氧基、十八院醯氧基、十九院醯氧基或二十院醯氧 基。2至18個爲佳，較佳爲2至12個，例如2至6個碳 原子的鏈烷醯氧基更佳。乙醯氧基爲特佳。 具有3個至25個碳原子之鏈烯醯基爲分支或未分支 的基，例如可舉出丙烯醯基、2-丁烯醯基、3-丁烯醯基、 異丁烯醯基、n-2,4-戊二烯醯基、3-甲基-2-丁烯醯基、η-2-辛烯醯基、η-2-十二烯醯基、異-十二烯醯基、油醯基、 η-2-十八院醯基或η-4·十八院醯基。3至18個爲佳，較佳 爲3至12個，例如3至6個，最佳爲3至4個碳原子的 鏈烯醯基。 氧原子、硫原子或 [化 28] Ν—R14 所中斷之碳原子數3至25的鏈烯醯基，其代表性者 爲 CH3OCH2CH2CH= CHCO-或 CH3〇CH2CH2〇CH= CHCO-具有3至25個碳原子之鏈烯醯氧基爲分支或未分支 的基，例如，丙烯醯氧基、2-丁烯醯氧基、3-丁烯醯氧基 -22- 200823253 、異丁烯醯氧基、n-2,4-戊二烯醯氧基、3-甲基-2-丁烯醯 氧基、η_2·辛烯醯基氧基、n-2-十二烯醯氧基、異-十二烯 醯氧基、油醯氧基、η_2-十八烯醯氧基或η-4-十八烯醯氧 基。3至18個爲佳，較佳爲3至12個，其代表性者爲3 至6個，最佳爲3至4個碳原子的鏈烯醯氧基。 氧原子、硫原子或 [化 29]

/Ν — R14 所中斷之碳原子數3至25的鏈烯醯氧基，其代表性 者爲 CH3OCH2CH2CH = CHCOO-或 CH3OCH2CH2OCH = CHCOO-。 氧原子、硫原子或 [化 30] \ —R14 所中斷之碳原子數3至25的鏈烷醯基，其代表性者 爲 CH3-0-CH2C0-，CH3-S-CH2CO-、CH3-NH-CH2CO-、 CH3-N ( ch3 ) -ch2co_、ch3-o，ch2ch2-och2co、ch3- (O-CH2CH2 ) 2O-CH2CO-、CH3- ( O-CH2CH2- ) 30- CH2CO-或 ch3- ( o-ch2ch2-) 4o-ch2co-。 氧原子、硫原子或 [化 31]

所中斷之碳原子數3至25的鏈烷醯氧基，其代表性 -23- 200823253 者爲 ch3-o-ch2coo- 、 CH3-S-CH2COO- 、 CH3-NH-CH2COO-、CH3-N ( CH3 ) -CH2COO-、CH3-O-CH2CH2· OCH2COO-、CH3- ( 0-CH2CH2) 20-CH2COO-、CH3-(O-CH2CH2- ) 30-CH2C00-或 CH3- ( 0-CH2CH2- ) 4〇- CH2COO- 〇 碳原子數6至9的環烷基羰基的例子爲，環戊基羰基 、環己基羰基、環庚基羰基及環辛基羰基。環己基羰基爲 參佳。 碳原子數6至9的環烷基羰氧基的例子爲，環戊基羰 氧基、環己基羰氧基、環庚基羰氧基及環辛基羰氧基。環 己基鑛氧基爲佳。 較佳爲具有1至3個，最佳爲具有1至2個的烷基之 碳原子數1至12的烷基-取代苯甲醯基，可舉出〇-、m-或 p-甲基苯甲醯基、2，3-二甲基苯甲醯基、2，4-二甲基苯甲 醯基、2,5-二甲基苯甲醯基、2,6·二甲基苯甲醯基、3，4-二 Φ 甲基苯甲醯基、3，5-二甲基苯甲醯基、2 -甲基-6-乙基苯甲 醯基、4-第三丁基-苯甲醯基、2-乙基苯甲醯基、2,4,6_三 甲基苯甲醯基、2，6-二甲基-4-第三丁基苯甲醯基或3,5-二 第三丁基-丁基苯甲醯基。較佳取代基爲碳原子數1至8 的烷基，最佳爲碳原子數1至4的烷基。 較佳爲具有1至3個，最佳爲具有1至2個的烷基之 碳原子數1至12的烷基-取代苯甲醯氧基，0_、m-或p -甲 基苯甲酸氧基、2,3-二甲基苯甲醯氧基、2,4-二甲基苯甲 醯氧基、2,5-二甲基苯甲醯氧基、2，“二甲基苯甲醯氧基 -24- 200823253 、3，4_二甲基苯甲醯氧基、3，5-二甲基苯甲醯氧基、2 -甲 基-6-乙基苯甲醯氧基、4-第三丁基苯甲醯氧基、2-乙基苯 甲醯氧基、2,4,6-三甲基苯甲醯氧基、2,6-二甲基-4-第三 丁基苯甲醯氧基及3,5·二第三丁基苯甲醯氧基。較佳取代 基爲碳原子數1至8的院基，最佳爲碳原子數1至4的焼 基。 具有至25個碳原子之烷基爲分支或未分支的基，例 φ 如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基、η-丁基、第二丁基 、異丁基、第三丁基、2-乙基丁基、η-戊基、異戊基、1-甲基戊基、1，3-二甲基丁基、η-己基、1-甲基己基、η-庚 基、異庚基、1，1，3,3，-四甲基丁基、1-甲基庚基、3_甲基 庚基、η·辛基、2-乙基己基、1，1，3-三甲基己基、1，1，3,3· 四甲基戊基、壬基、癸基、十一烷基、1-甲基十一烷基、 月桂基、1，1，3,3,5,5-六甲基己基、十三烷基、十四烷基、 十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基或 # 二十烷基。R2及R4的較佳之代表性者爲碳原子數1至1 8 的烷基。R4之特佳者爲碳原子數1至4的烷基。 具有3個至25個碳原子之烯基爲分支或未分支的基 ，例如可舉出丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、異丁烯基、 η·2,4-戊二烯基、3-甲基-2-丁烯基、n-2-辛烯基、n_2-十 —^細基、異十一^細基、油嫌基、n-2 -十八燒基或n-4 -十八 烯基。3至18個爲佳，較佳爲3至12個，其代表性者爲 3至6個，最佳爲3至4個碳原子的烯基。 具有3個至25個碳原子之烯氧基爲分支或未分支的 -25- 200823253 基，例如可舉出丙烯氧基、2 -丁烯氧基、3 -丁烯氧基、異 丁烯氧基、η· 2,4-戊二烯氧基、3 -甲基-2-丁烯氧基、n_2-辛烯氧基、n-2-十二烯氧基、異十二烯氧基、油烯氧基、 n-2_十八儲氧基或n-4 -十八嫌氧基。3至18個爲佳，較佳 爲3至12個，其代表性者爲3至6個，最佳爲3至4個 碳原子的烯氧基。 具有3個至25個碳原子之炔基爲分支或未分支的基 φ ，例如可舉出丙炔基（-CH2-C^CH ) 、2-丁炔基、丁炔 基、n-2-辛炔基、n-2 -十二炔基。3至18個爲佳，較佳爲 3至12個，其代表性者爲3至6個，最佳爲3至4個碳原 子的炔基。 具有3個至25個碳原子之炔氧基爲分支或未分支的 基，例如可舉出丙炔氧基（-OCH^C^CH ) 、2·丁炔氧基 、3-丁炔氧基、n-2-辛炔氧基、n-2-十二炔氧基。3至18 個爲佳，較佳爲3至12個，其代表性者爲3至6個，最 __ 佳爲3至4個碳原子的炔氧基。 氧原子、硫原子或 [化 32] >-r14 所中斷之碳原子數2至25的烷基，其代袠性者爲 ch3-o-ch2-，ch3-s-ch2-、ch3-nh-ch2·、 ch3-n ( ch3) -ch2-、ch3-o-ch2ch2-o-ch2-、 CH3 ( O-CH2CH2 ) 2〇-CH2-、CH3- ( 0-CH2CH2- ) 3〇.ch2- 或 CH3- ( 〇-CH2CH2-) 4〇-CH2-。 -26- 200823253 碳原子數7至9的苯基烷基，其代表性者爲苯甲基、 α-甲基苯甲基、α，心二甲基苯甲基及苯基乙基。苯甲基 及α，α-二甲基苯甲基爲佳。 在未取代或苯基部分由1至3個碳原子數1至4的烷 基所取代之碳原子數7至9的苯基烷基，其代表性者爲苯 甲基、α -甲基苯甲基、α，α-二甲基苯甲基、2_苯基乙基、 2 -甲基苯甲基、3 -甲基苯甲基、4 -甲基苯甲基、2,4-二甲 φ 基苯甲基、2,6-二甲基苯甲基或4-第三丁基苯甲基。苯甲 基爲佳。 氧原子、硫原子或 [化 33] \ 所中斷，且在未取代或苯基部分由1至3個碳原子數 1至4的烷基所取代之碳原子數7至9的苯基烷基，例如 可舉出如苯氧基甲基、2-甲基苯氧基甲基、3-甲基苯氧基 甲基、4-甲基苯氧基甲基、2，4-甲基苯氧基甲基、2,3-甲 基苯氧基甲基、苯基硫甲基、N-甲基-N-苯基-甲基、N-乙 基-N-苯基甲基、4-第三丁基苯氧基甲基、4-第三丁基苯氧 基乙氧基甲基、2,4-二-第三丁基苯氧基甲基、2,4_二-第三 丁基苯氧基乙氧基甲基、苯氧基乙氧基乙氧基乙氧基甲基 、苯甲基氧基甲基、苯甲基氧基乙氧基甲基、N-苯甲基-N-乙基甲基或N-苯甲基-N-異丙基甲基之分支或未分支之 碳原子數7至9的苯基烷氧基’其代表性者爲苯甲基 -27- 200823253 氧基、α-甲基苯甲基氧基、α，α-二甲基苯甲基氧基及2-苯 基乙氧基。苯甲基氧基爲佳。 較佳爲含有1至3個，特別爲含有1或2個的烷基之 碳原子數1至4的烷基所取代之苯基的例子爲〇-、m-或 ρ·甲基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲 基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯 基、2-甲基-6-乙基苯基、4-第三丁基苯基、2-乙基苯基及 φ 2,6-二乙基苯基。 較佳爲含有1至3個，特別爲含有1或2個的烷基之 碳原子數1至4的烷基所取代之苯氧基的例子爲〇-、m-或 P-甲基苯氧基、2，3-二甲基苯氧基、2,4-二甲基苯氧基、 2,5-二甲基苯氧基、2，6-二甲基苯氧基、3，4-二甲基苯氧基 Λ 3,5-—甲基苯氧基、2 -甲基-6-乙基苯氧基、4 -第二丁基 苯氧基、2-乙基苯氧基及2,6-二乙基苯氧基。 未取代或碳原子數1至4的烷基所取代之碳原子數5 φ 至8的環烷基的例子爲，環戊基、甲基環戊基、二甲基環 戊基、環己基、甲基環己基、二甲基環己基、三甲基環己 基、第三丁基環己基、環庚基及環辛基。環己基及第三丁 基環己基爲佳。 未取代或碳原子數1至4的烷基所取代之碳原子數5 至8的環烷氧基的例子爲，環戊氧基、甲基環戊氧基、二 甲基環戊氧基、環己氧基、甲基環己氧基、二甲基環己氧 基、三甲基環己氧基、第三丁基環己氧基、環庚氧基及環 辛氧基。環己氧基及第三丁基環己氧基爲佳。 -28- 200823253 具有至25個碳原子之烷氧基爲分支或未分支的基， 例如可舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、η-丁氧 基、異丁氧基、戊氧基、異戊氧基、己氧基、庚氧基、辛 氧、癸基氧基、十四烷基氧基、十六烷基氧基或十八烷基 氧基。1至12個爲佳，較佳爲1至8個，例如1至6個碳 原子的烷氧基爲佳。 氧原子、硫原子或 [化 34] \ /Ν—R14 所中斷之碳原子數2至25的烷氧基，其代表性者爲 ch3-o-ch2ch2o-、ch3-s-ch2ch2o-、ch3-nh-ch2ch2o-、CH3-N ( CH3) -CH2CH2〇- ^ CH3-O-CH2CH2-O-CH2CH2O- 、ch3 ( o-ch2ch2) 2o-ch2ch2o-、ch3- (O-CH2CH2- ) 30-CH2CH20-或 CH3- ( 0-CH2CH2- ) 4〇-

CH2CH20- 〇 具有至25個碳原子之烷基硫基爲分支或未分支的基 ，例如可舉出甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫 基、η-丁基硫基、異丁基硫基、戊基硫基、異戊基硫基、 己基硫基、庚基硫基、辛基硫基、癸基硫基、十四烷基硫 基、十六烷基硫基或十八烷基硫基。1至1 2個爲佳，較佳 爲1至8個，例如1至6個碳原子的烷基硫基爲佳。 具有至4個碳原子之烷胺基爲分支或未分支的基，例 如甲胺基、乙胺基、丙胺基、異丙胺基、η-丁胺基、異丁 胺基或第三丁胺基。 -29- 200823253 二（碳原子數1至4的烷胺基）基，亦又與各其他獨 立之2個部分表示分支或未分支，其代表性者爲二甲胺基 、甲基乙胺基、二乙胺基、甲基-η-丙胺基、甲基異丙胺基 、甲基-η-丁胺基、甲基異丁胺基、乙基異丙胺基、乙基-η-丁胺基、乙基異丁胺基、乙基-第三丁胺基、二乙胺基、 二異丙胺基、異丙基-η-丁胺基、異丙基異丁胺基、二-η-丁胺基或二異丁胺基。 具有至25個碳原子之鏈烷醯胺基爲分支或未分支之 基，例如可舉出甲醯胺基、乙醯胺基、丙醯胺基、丁醯胺 基、戊醯胺基、己醯胺基、庚醯胺基、辛醯胺基、壬醯胺 基、癸醯胺基、十一烷醯胺基、十二烷醯胺基、十三烷醯 胺基、十四烷醯胺基、十五烷醯胺基、十六烷醯胺基、十 七烷醯胺基、十八烷醯胺基、十九烷醯胺基或二十烷醯胺 基。2至18個爲佳，較佳爲2至12個，例如2至6個碳 原子的鏈烷醯胺基爲佳。 具有碳原子數1至18之碳原子的伸烷基爲分支或未 分支的基，例如伸甲基、伸乙基、伸丙基、三伸甲基、四 伸甲基、五伸甲基、六伸甲基、七伸甲基、八伸甲基、十 伸甲基、十二伸伸甲基或十八伸伸甲基。碳原子數1至1 2 的伸烷基爲佳，及碳原子數1至8的伸烷基爲特佳。 1至3個爲佳，較佳爲含有1至2個之分支或未分支 之基，碳原子數1至4的烷基-取代碳原子數5至12的環 伸烷基環的例子爲，環伸戊基、甲基環伸戊基、二甲基環 伸戊基、環伸己基、甲基環伸己基、二甲基環伸己基、三 -30- 200823253 甲基環伸己基、第三丁基環伸己基、環伸庚基、環伸辛基 或環伸癸基環。環伸己基及第三丁基環伸己基環爲佳。 氧原子、硫原子或 [化 35] \ 所中斷之碳原子數2至18的伸烷基之例子爲-(：112-0-C Η 2 -、_ C Η 2 - S - C Η 2 -、- C Η 2 - N Η - C Η 2 -、- C Η 2 - N ( C Η 3 )-CH2-、-CH2-0-CH2CH2-0-CH2-、-CH2- ( 0-CH2CH2- ) 2〇-c 2 - ' -CH2· ( O-CH2CH2) 3O-CH2· ' -CH2" (0-CH2CH2) 40-CH2-及-CH2CH2-S-CH2CH2-。 碳原子數1至1 8的伸烯基，其代表性者爲伸乙烯基 、甲基伸乙烯基、辛烯伸乙基或十二烯伸乙基。碳原子數 2至8的伸烯基爲佳。 具有2至20個碳原子之亞烷基，其代表性者爲亞乙 基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、4-甲基亞戊基、亞庚基、 亞壬基、亞十三烷基、亞十九烷基、1-甲基亞乙基、1-乙 基亞丙基及1-乙基亞戊基。碳原子數2至8的亞烷基爲佳 〇 具有7至20個碳原子之苯基亞烷基的例子爲苯亞甲 基、2-苯基亞乙基及1-苯基-2-亞己基。碳原子數7至9 的苯基亞烷基爲佳。 碳原子數5至8的環伸烷基爲具有2個自由電子價及 至少1個環單位之飽和烴基，例如，環伸戊基、環伸己基 、環伸庚基或環伸辛基。環伸己基爲佳。 -31 - 200823253 碳原子數7至8的雙環伸烷基爲雙環伸庚基及雙環伸 辛基。 未取代或碳原子數1至4的烷基-取代伸苯基或伸萘 基的例子爲 -及 1,4-伸苯基；1，2-，1，3-，1，4-，1，6_ ，1，7-，2,6-或2,7-伸萘基。l，4-伸苯基爲佳。 較佳爲含有1至3個，最佳爲含有1或2個分支或未 分支之烷基，碳原子數1至4的烷基-取代碳原子數5至8 φ 的環亞烷環的例子爲，環亞戊基、甲基環亞戊基、二甲基 環亞戊基、環亞己基、甲基環亞己基、二甲基環亞己基、 三甲基環亞己基、第三丁基環亞己基、環亞庚基及環亞辛 基。環亞己基及第三丁基環亞己基爲佳。 1價、2價或3價之金屬陽離子較佳爲鹼金屬陽離子 、鹼土類金屬陽離子或鋁陽離子，例如Na+、K+、Mg + +、 Ca + +或 Al + + +。 一般式（L)所示化合物中，較佳爲η爲1時，1^爲 Φ 各未取代、或對位中由碳原子數1至18的烷基硫基或二 (碳原子數1至4的烷基）-胺基所取代之苯基；1至5個 的烷基取代基中同時含有最大數18個碳原子數之1至5 個經取代之烷基苯基；各未取代、或碳原子數1至4的烷 基、碳原子數1至4的烷氧基、碳原子數1至4的烷基硫 基、羥基或胺基所取代之萘基、聯苯基、三聯苯基、菲基 、蒽基、芴基、咔唑基、噻吩基、吡咯基、吩噻嗪基或 5,6,7,8-四氫萘基之化合物。 較佳一般式（L)所示化合物爲，^表示2時，1^表 -32- 200823253 示- Ri2-X-R13-; R12及Rl3表示伸苯 -NR3 1-;及r31表示碳原子數1至z 更佳一般式（L )所示化合物焉 示各未取代、或碳原子數1至4的 的院氧基、碳原子數1至4的烷基 、胺基、碳原子數1至4的烷胺基 的烷基）-胺基所取代之萘基、菲; m 喃基、咔唑基、芴基、或式（II) W 1：化 36] (II) 基；X表示氧原子或 的烷基之化合物。 ，η表示 1時，Ri表 烷基、碳原子數1至4 硫基、經基、鹵素原子 或二（碳原子數1至4 _、噻吩基、二苯並呋

所 Tpc 基；R7、R8、R9 及 Rio 爲 、氯原子、溴原子、羥基、碳原子 原子或硫原子所中斷之碳原子數2 數1至1 8的烷氧基；氧原子或硫H 至18的烷氧基；碳原子數1至18 3至12的烯氧基、碳原子數3至 7至9的苯基烷基、碳原子數7至 代或碳原子數1至4的烷基-取代 、碳原子數5至8的環烷氧基；碳 、二（碳原子數1至4烷基）胺遲 鏈烷醯基；氧原子或硫原子所中斷 鏈烷醯基；碳原子數3至12的鐽 各互相獨立表示氫原子 數1至18的烷基；氧 至18的烷基；碳原子 (子所中斷之碳原子數2 的烷基硫基、碳原子數 1 2的炔氧基、碳原子數 9的苯基院氧基、未取 ;苯基、苯氧基、環己基 原子數1至4的烷胺基 ;、碳原子數1至12的 之碳原子數3至12的 丨垸醯氧基；氧原子或硫 -33- 200823253 原子所中斷之碳原子數3至12的鏈烷醯氧基；碳原子數1 至12的鏈垸醯胺基、碳原子數3至12的鏈烯醯基、碳原 子數3至12的鏈細釀氧基、環己基鑛基、環己基鑛氧基 、苯甲醯基或碳原子數1至4的烷基-取代苯甲釀基；苯 甲醯氧基或碳原子數1至4的烷基取代苯甲釀氧基； ^20 ^21 一0-C一C-O-R,, I I 23 H R22 R，8 〇

I II —O-C—c-r16 或

Rl9 又，式（II)中，取代基R7及R8或心及Rll之各對 可與所結合之碳原子連結而形成苯環，Rll表示氫原子、 碳原子數1至18的烷基、碳原子數1至18的烷基硫基、 碳原子數7至9的苯基烷基、未取代或碳原子數1至4的 烷基取代-苯基、環己基、碳原子數1至4的烷胺基、二 (碳原子數1至4的烷基）胺基、碳原子數丨至12的鏈 烷醯基；氧原子或硫原子所中斷之碳原子數3至12的鏈 烷醯基；碳原子數1至12的鏈烷醯胺基、碳原子數3至 12的鏈烯醯基、環己基羰基、苯甲醯基或碳原子數1至4 的烷基-取代苯甲醯基；但，r7、R8、R9、R1()或Rn的至 少1個非氫原子；R15表示羥基、碳原子數1至12的烷氧 基或 [化 38]

«25 R18及R19爲各互相獨立表示、氫原子或碳原子數1 -34- 200823253 至4的院基；R2〇表示氫原子；R〗i表示氫原子、苯基、碳 原子數1至18的院基、氧原子或硫原子所中斷之碳原子 數2至18的院基、碳原子數7至9的苯基院基；氧原子 或硫原子所中斷且未取代或苯基部分中表示1至3個碳原 子數1至4的烷基所取代之碳原子數7至18的苯基烷基 ;或r2G及R21與所結合之碳原子連結，形成由未取代或 1至3個碳原子數1至4的烷基所取代之環伸己基環；r22 φ 表示氫原子或碳原子數1至4的烷基；R23表示氫原子、 碳原子數1至18的鏈烷醯基、碳原子數3至12的鏈烯醯 基；氧原子或硫原子所中斷之碳原子數3至12的鏈烷醯 基’由一（碳原子數1至6的烷基）-次磷酸基所取代之 碳原子數2至12的鏈烷醯基；碳原子數6至9的環烷基 羰基、苯甲醯基； [化 39]

1或2 (基中，s表示 R24及R25爲各互相獨立 -35- 200823253 表示氫原子或碳原子數1至12的院基；R26表示氫原子或 碳原子數1至4的烷基；R27表示碳原子數1至1 2的伸院 基、碳原子數2至8的伸烯基、碳原子數2至8的亞院基 、碳原子數7至12的苯基亞烷基、碳原子數5至8的環 伸烷基、伸苯基；R2 8表示羥基、碳原子數1至12的垸氧 基或 [化 40]

\ R25 ;R29表示氧原子或-NH-，r3〇表示碳原子數1至18 的烷基或苯基之化合物。 又，較佳者爲，η表示1時，1^表示菲基、噻吩基、 二苯並呋喃基；未取代或碳原子數1至4的烷基-取代咔 唑基；或芴基、或式（Π) [化 41]

Rb 所示基；R7、R8、R9及Rio爲各互相獨立表示氫原子 、氯原子、羥基、碳原子數1至18的烷基、碳原子數1 至18的烷氧基、碳原子數1至18的烷基硫基、碳原子數 3至4的烯氧基、碳原子數3至4的炔氧基、苯基、苯甲 醯基、苯甲醯氧基或 -36- 200823253 [化 42] ί21 -o-c-c-o-r23 H R22 表示氫原子、碳原子數1至18的烷基、碳原子 數1至1 8的烷基硫基、苯基或環己基；但，R7、R8、R9 、Ri。或Ru的至少1個非氫原子；R2G表示氫原子；R21 表示氫原子、苯基、碳原子數1至18的院基；或R20及 結合後共同形成未取代或由1至3個碳原子數1至4 的烷基所取之環伸己基環；R22表示氫原子或碳原子數1 至4的烷基；R23表示氫原子、碳原子數1至12的鏈烷醯 基或苯甲醯基之一般式（L)所示化合物。 R7、R8、R9及R1G爲各互相獨立表示氫原子或碳原子 數1至4的烷基，及R"表示氫原子、碳原子數1至12 的烷基、碳原子數1至4的烷基硫基或苯基；但，r7、r8 、R9、R1()或Rn之至少1個不表示氫原子，一般式（L) 所示化合物爲特佳。 較佳一般式（L )所示化合物爲，r2、r3、r4及r5爲 各互相獨立表示氫原子、氯原子、羥基、碳原子數1至18 的烷基、苯甲基、苯基、碳原子數5至8的環烷基、碳原 子數1至18的烷氧基、碳原子數丨至is的烷基硫基、碳 原子數1至18的鏈烷醯氧基、碳原子數ί至is的鏈烷醯 月女基、碳原子數3至18的鍵嫌釀氧基或苯甲釀氧基（但 ，R2表示氫原子或甲基時’ R7或R9不表示羥基或碳原子 數1至25的鏈烷醯氧基。）；或取代基r2及r3或、r3 及R4或R4及R5與所結合之碳原子連結，形成苯環；r4 -37- 200823253 進一步表示-(CH2) p-COR15 或-(CH2) qOH(式中，p 表 示1或2;9表示2、3、4、5或6。）；或尺3、尺5及116 表不氫原子時，R4進一步表示式（ΠΙ)所示基；Ri5表示 羥基、碳原子數1至12的烷氧基或 [化 43]

^26 φ ;Rl6及R17表示甲基、或與結合之碳原子連結，形 成經未取代或1至3個碳原子數1至4的烷基取代之碳原 子數5至8的環亞烷環；R24及R25爲各互相獨立表示氫 原子或碳原子數1至12的烷基之化合物。 特佳一般式（L )所示化合物爲R2、R3、R4及Rs的 至少2個爲氫原子之化合物。 特佳一般式（L )所示化合物爲R3及R5表示氫原子 之化合物。 Φ 非常特佳之一般式（L)所示化合物爲，R2表示碳原 子數1至4的烷基；R3表示氫原子；R4表示碳原子數1 至4的烷基或、R6表示氫原子時，R4進一步表示式（III )所示基；R5表示氫原子、及R16及R17與結合之碳原子 連結形成環亞己基環之化合物。 一般式（L)所示化合物可藉由自體公知之方法製造 〇 一般式（L )所示化合物之具體例如以下所示，但本 發明未限定於此。 -38- 200823253 [化 44]

CHa

CH3 104

CH3

CHa

CH3

CHa

CH3 -39- 200823253 [化 45]

116 ch3 CH3

-40 200823253 [化 46]

又，最佳一般式（L)所示化合物爲下述結構式所示 化合物，其由 Ciba Specialty Chemicals (股）之 HP-136 的名稱製造出。 [化 47]

HP_136

《三嗪環化合物》 本發明中，雖使用三嗪環化合物的至少1種，其中亦 可將前述一般式（1 )所示三嗪環化合物添加於纖維素酯 者爲佳。 三嗪環化合物可單獨使用或混和使用。較佳含有量對 於所形成之偏光板保護薄膜中的纖維素酯而言’爲0·1質 -41 - 200823253 量％以上15質量％以下，較佳爲0·3質量％以上12質量％ 以下，更佳爲0 · 8質量％以上8質量％以下。混和2種以上 的三嗪環化合物使用時，這些含有量表示所添加之Ξ嗪環 化合物的總和。 前述一般式（1 )所示三嗪環化合物的式中’ R1、R2 、R3各獨立表示芳香族環或雜環；X1表示單鍵、-NR、、 •0-或- S-; X2表示單鍵、-NR5-、-0-或- S-; X3表示單鍵 • 、-NR6-、-〇-或- S-。R4、R5及R6各獨立表示氫原子、取 代或無取代的烷基、烯基、芳香族環基或雜環基。 上述一般式（1)中之R'RlR3可各獨立表示芳香 族環或雜環。R1、R2、R3所示芳香族環以苯基或萘_爲佳 ，苯基時爲特佳。R1、R2、R3所示芳香族環爲可具有取代 基，作爲取代基的例子含有鹵素原子、羥基、氰基、硝_ 、羧基、烷基、烯基、芳基、烷氧基、烯氧基、芳氧基、 醯氧基、烷氧基羰基、烯氧基羰基、芳氧基羰基、胺磺_ # 基、烷基取代胺磺醯基、烯基取代胺磺醯基、芳基取代胺 磺醯基、磺醯胺基、胺基甲醯基、烷基取代胺基甲醯基、 烯基取代胺基甲醯基、芳基取代胺基甲醯基、醯胺基、燒 基硫基、烯基硫基、芳基硫基及醯基。 R1 ' R2、R3所示雜環基爲具有芳香族性者爲佳。具有 芳香族性之雜環一般爲不飽和雜環，較佳爲最多具有雙鍵 之雜環。雜環以5員環、6員環或7員環爲佳，5員環或6 貝環爲更ί土 ’ 6貝環爲最佳。雜ί哀之雑原子以氮原子、硫 原子或氧原子爲佳，氮原子爲特佳。作爲具有芳香族性之 -42- 200823253 雜環，以吡啶環（作爲雜環基爲2_吡啶基或4-Π比 特佳。雜環基亦可具有取代基。雜環基之取代基 具有上述芳香族環之取代基例子相同。XI、Χ2：5 單鍵時之雜環基以氮原子上具有游離原子價之雜 。氮原子上具有游離原子價之雜環基以5員環、 7員環爲佳，5員環或6員環爲更佳，5員環爲最 基可具有複數氮原子。又，雜環基亦可具有氮原 φ 雜原子（例如0、S)。以下舉出氮原子上具有 價之雜環基例子。 [化 48] 啶基）爲 的例子與 .X3各爲 環基爲佳 6員環或 佳。雜環 子以外之 游離原子

-43 - 200823253 [化 49]

(He—7} (He—8}

(He—11) (He—12)

一 且，（1)式中X1表示單鍵、-NR4-、-〇-或- s-，X2 表示單鍵、-NR5-、-〇-或-s-，X3表示單鍵、以尺6-、-0- 或。R4、R5及R6各獨立表示氫原子、取代或無取代之 烷基、烯基、芳香族環基或雜環基。 R4、R5及R6各所表示之烷基可爲環狀烷基或鏈狀烷 基，但表示鏈狀烷基較佳，與具有分支仓之鏈狀烷基比較 ，表示直鏈狀烷基較佳。烷基之碳原子數爲1〜30時爲佳 ，1〜20爲較佳，1〜10爲更佳，1〜8爲特佳，1〜6爲最 佳。烷基可具有取代基。取代基的例子含有鹵素原子、烷 氧基（例如甲氧基、乙氧基）及醯氧基（例如，丙烯醯氧 基、甲基丙烯醯氧基）。 R4、R5及R6各表示的烯基可爲環狀烯基或鏈狀烯基 ，但表示鏈狀烯基爲佳，與具有分支之鏈狀烯基比較，表 示直鏈狀烯基爲較佳。烯基之碳原子數爲2〜30時爲佳， -44 - 200823253 2〜20爲較佳，2〜10爲更佳，2〜8爲特佳，2〜6爲最佳 °嫌基可具有取代基。取代基的例子與前述的烷基之取代 基相同。R4、R5及R6各所表示之芳香族環基及雜環基與 R1、R2、及R3各所表示之芳香族環及雜環相同，較佳範 圍亦相同。芳香族環基及雜環基可進一步具有取代基，取 代基的例子與R1、R2、及R3的芳香族環及雜環之取代基 相同。 φ 這些中特佳者爲X1爲-NR4·、X2爲-NR5-、X3爲-NR6- 〇 本發明中三嚓環化合物之分子量以3 00〜2,000爲佳 。該化合物之沸點以260°C以上爲佳。沸點可使用販賣之 測定裝置{例如，“TG/DTA100”精工電子工業（股）製} 進行測定。 以下舉出本發明所使用的具有三嗪環之化合物的具體 例。首先記載彼等中X1、X2及X3表示-NH-，且前述r1 Φ 、R2及R3非同一之化合物的具體例。 -45 - 200823253 [化 50] (1-1) (1-2)

ch3 -46- 200823253 [化 51]

(1-14)

Ν «-/Λ yV Μ N 丫N 、CH3

Cl

47- 200823253 [化 52]

(1-17) (1-18)

Br

(1 一 21) (1-22)

-48 200823253 (1-26) [化 53] (1-25)

NH

0rF

(1-28) Μ ⑻ (1-27)

F (1-30) (1 - 29) 〇2Η$

CH3

NH

ch3 (1-32)

CP3 -49 200823253 [化 54] (1-33) N \jr\ rV M ch3 ΝγΝ CH2 mu ΠΙΠ ό (1-35) 丫 ch3 况丫况 CH； MM ivn 6rc, (1-34)

ό

(1-39)

(1-40)

-50- 200823253 [化 55] (1-41) (1-42) p^rNra_Q H3CO N VN 〇ch3 h3co NV^N 〇CHa N 丫N NHd, N 丫N NH^rcl (1-43) (1-44)

P-«YV«-Q Cl NyN Xcl NH ir (1-45) (1-46) <Ρ^ΚγΝγ}3-Η0 <0^ΝγΝγΝΗ0 C\ N^N Cl NH Λ ci Νγ-Ν C| NH Λ V ch3 V och3 (1-47} (1-48) ^Vr力 <0~ΝγΝγΝ"^3 Cl N^N Cl NH ch3 n^n ch3 KILJ 6 l\Ui 0lCHj -51 - 200823253 [化 56]

(1-53)

NH

ch3

丫 V

ch3

(1-55)

N

COOC2H5 0rc， 52- 200823253 [化 57] (1-56) c2h5ooc COOC2H6

N 丫N NH

(1-57)

53 - 200823253 [化 58] (1-62) (1^63) ο~ν?~ο ΝγΝ MU Οή ΙΜΠ {1-64) (1-65) ο~ν?·〇 Or、 Ν 丫Ν ΝΗ 夕' ch3 (1-66) (1-67) 〇-νν"Ό Ο-1 Ν 丫Ν ΜΗ ΙΜΠ 0rc， (1-68) (1—69) 〇-! Ν 丫Ν MU πιπ I. Υ Υ Ν 丫Ν ΝΗ 6 丨丫 Νγ ΝγΝ ΝΗ 6 !τνίγ ΝγΝ ΝΗ 6 ίτ Ν 丫 ΪΝ ΝΗ 0 «-〇 ch3 «-〇 ,C2Hs xooc2h5 -54- 200823253 [化 59]

(1-70} (1-71} OVr1 N 丫N NH N 丫N KiU ΙνΙΊ 6 IMM (1-72) (1-73) Ν·γ^Ν ch3 ο~νν ΝγΝ 〇ch3 NH ό"

NH

CH3 (1-74) (1-75) h3c- Η3〇-^-}3γΝτ«-{ Kl M CH3 ΝγΝ NH0rc，

N丫N NH COOC2H6 <1-76) (1-77)

Ο"νΝτκ~0 Η3〇〇"0~κγν^ ch· Νλ. .N

N丫N NH

Th COOC2H5 CHa -55- 200823253 [化 60] (1 一 78) (1-79)

CHg OCH3 又，作爲X1表示-NR4-、X2表示-NR5-、X3表示-NR6- ，R4、R5及R6非相同，且R1、R2及R3亦非相同的化合 物之具體例： -56- 200823253 [化 61] (1-86)

6 且作爲X1、X2及X3表示-ΝΗ-，R1、R2、R3表示相同 φ ( R1- R2= R3- R)之化合物，可舉出下述一般式（1-1) 所示化合物。且，下述一般式中複數R表示相同基，R的 定義與具體例號碼同時表示於一般式後。 [化 62] {2 — 1}〜(2—190) 一般式(1 一 1}

R ： (2-1 )苯基 (2-2 ) 4-丁基苯基 (2-3) 4- (2 -甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-4) 4- ( 5-壬烯基）苯基 (2-5 ) P-聯苯基 (2-6) 4 -乙氧基鑛基苯基 (2-7) 4 -丁氧基苯基 (2-8 ) 4-甲基苯基 -57- 200823253 (2-9) 4 -氛苯基 (2-10 ) 4-苯基硫苯基 (2-1 1 ) 4-苯甲醯基苯基 (2-12 ) 4-乙醯氧苯基 (2-13 ) 4-苯甲醯氧基苯基 (2-14) 4 -苯氧基鑛基苯基 (2-15 ) 4-甲氧基苯基 (2-16 ) 4-苯胺基苯基 (2-17) 4-異丁醯胺基苯基 (2-1 8 ) 4-苯氧基羰胺基苯基 (2-19) 4- (3 -乙基脈基）苯基 (2-20) 4- ( 3,3 - 一乙基脈基）本基 (2-21 ) 4-苯氧基苯基 (2-22 ) 4-羥基苯基 (2-23 ) 3-丁基苯基 (2-24) 3-(2 -甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-25) 3-(5 -壬儲基）苯基 (2-26) m-聯苯基 (2-27) 3-乙氧基羰基苯基 (2-28 ) 3-丁氧基苯基 (2-29 ) 3-甲基苯基 (2-30 ) 3-氯苯基 (2-31 ) 3_苯基硫苯基 (2-32 ) 3-苯甲醯基苯基 -58- 200823253

(2-33 ) 3·乙醯氧苯基 (2-34 ) 3-苯甲醯氧基苯基 (2-35) 3-苯氧基羰基苯基 (2-36 ) 3-甲氧基苯基 (2-37) 3-苯胺基苯基 (2-38) 3-異丁醯胺基苯基 (2-39) 3-苯氧基羰胺基苯基 (2-40) 3- ( 3-乙基脲基）苯基 (2-41) 3-(3,3-二乙基脲基）苯基 (2-42 ) 3-苯氧基苯基 (2-43 ) 3-羥基苯基 (2-44 ) 2-丁基苯基 (2-45 ) 2- ( 2-甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-46 ) 2- ( 5-壬烯基）苯基 (2-47 )〇-聯苯基 (2-48 ) 2-乙氧基羰基苯基 (2-49 ) 2-丁氧基苯基 (2-5 0) 2 -甲基苯基 (2-51 ) 2-氯苯基 (2-52 ) 2-苯基硫苯基 (2-53 ) 2-苯甲醯基苯基 (2-54) 2 -乙醯氧苯基 (2-55 ) 2-苯甲醯氧基苯基 (2_5 6)2 -苯氧基羰基苯基 -59 - 200823253

(2-57 ) 2-甲氧基苯基 (2-58) 2 -苯胺基苯基 (2-59) 2-異丁醯胺基苯基 (2-60) 2 -苯氧基鐵胺基苯基 (2-61) 2- (3 -乙基服基）苯基 (2-62) 2-(3,3-二乙基脲基）苯基 (2-63 ) 2-苯氧基苯基 (2-64) 2-羥基苯基 (2-65 ) 3,4-二丁 基苯基 (2-66) 3,4»二（2-甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-67) 3,4 -二苯基苯基 (2-68) 3,4- 一^乙氧基鑛基苯基 (2-69) 3,4 -—月桂氧基苯基 (2-70 ) 3,4-二甲基苯基 (2-71 ) 3,4·二氯苯基 (2-72 ) 3,4-二苯甲醯基苯基 (2-73 ) 3,4·二乙醯氧苯基 (2-74 ) 3,4-二甲氧基苯基 (2-75 ) 3,4·二-N-甲胺基苯基 (2-76) 3,4-二異丁醯胺基苯基 (2-77 ) 3,4-二苯氧基苯基 (2-78 ) 3,4-二羥基苯基 (2-79 ) 3,5-二丁 基苯基 (2-80) 3,5 - —· (2 -甲氧基-2-乙氧基乙基）本基 -60- 200823253

(2-81 ) 3,5-二苯基苯基 (2-82) 3,5·二乙氧基羰基苯基 (2-83) 3,5 - 一^月桂氧基苯基 (2-84 ) 3,5-二甲基苯基 (2-85 ) 3,5-二氯苯基 (2-86 ) 3,5-二苯甲醯基苯基 (2-87 ) 3,5-二乙醯氧苯基 (2-88 ) 3,5-二甲氧基苯基 (2-89) 3,5 - _*-Ν -甲胺基本基 (2-90) 3,5-二異丁醯胺基苯基 (2-91 ) 3,5-二苯氧基苯基 (2-92) 3,5_二羥基苯基 (2-93 ) 2,4-二丁 基苯基 (2-94) 2,4- 一（2 -甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-95 ) 2,4-二苯基苯基 (2-96) 2,4 -—乙氧基簾基苯基 (2-97) 2,4-二月桂氧基苯基 (2-98 ) 2,4-二甲基苯基 (2·99 ) 2,4·二氯苯基 (2-100) 2,4-二苯甲醯基苯基 (2-101 ) 2,4-二乙醯氧苯基 (2-102 ) 2,4-二甲氧基苯基 (2-103) 2,4 - 一 -Ν -甲胺基本基 (2-104) 2,4-二異丁醯胺基苯基 -61 - 200823253 (2-105) 2,4 -二苯氧基苯基 (2-106) 2,4 -二羥基苯基 (2-107 ) 2,3-二丁 基苯基 (2-108) 2,3 - 一* (2 -甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-1 09 ) 2,3-二苯基苯基 (2-110) 2,3- 一.乙氧基羯某苯某 (2-1 1 1 ) 2,3-二月桂氧基苯基

(2-1 12 ) 2,3-二甲基苯基 (2-1 13 ) 2,3-二氯苯基 (2-1 14 ) 2,3-二苯甲醯基苯基 (2-115) 2,3 -二乙醯氧苯基 (2-117) 2,3-二-N-甲胺基苯基 (2-1 18 ) 2,3-二異丁醯胺基苯基 (2-119) 2,3 -二苯氧基苯基 (2-120) 2，3 -二羥基苯基 (2-121 ) 2,6-二丁 基苯基 (2-122) 2,6-二（2-甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-1 23 ) 2,6-二苯基苯基 (2-124) 2,6-二乙氧基羰基苯基 (2-125 ) 2,6-二月桂氧基苯基 (2-126 ) 2,6-二甲基苯基 (2-127 ) 2,6-二氯苯基 (2-128) 2,6-二苯甲醯基苯基 (2-129 ) 2,6-二乙醯氧苯基 -62- 200823253 (2-130 ) 2,6-二甲氧基苯基 (2-131) 2,6-二-N-甲胺基苯基 (2_132) 2,6-二異丁醯胺基苯基 (2-133) 2,6-二苯氧基苯基 (2-134) 2,6-二羥基苯基 (2-135 ) 3,4,5-三丁 基苯基 (2-136) 3，4,5 -二（2 -甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基

(2 = 137 ) 3,4,5-三苯基苯基 (2-138) 3,4,5-三乙氧基羰基苯基 (2-139 ) 3,4,5-三月桂氧基苯基 (2-140 ) 3,4,5-三甲基苯基 (2-141 ) 3,4,5-三氯苯基 (2-142) 3,4,5-三苯甲醯基苯基 (2-143) 3,4,5-三乙醯氧苯基 (2-144 ) 3,4,5-三甲氧基苯基 (2-145) 3,4,5-三-N-甲胺基苯基 (2-146) 3,4,5-三異丁醯胺基苯基 (2-147) 3,4,5-三苯氧基苯基 (2-148 ) 3,4,5-三羥基苯基 (2-149 ) 2,4,6-三丁 基苯基 (2-150) 2,4,6-三（2-甲氧基-2-乙氧基乙基）苯基 (2-1 5 1 ) 2,4,6-三苯基苯基 (2-152) 2,4,6-三乙氧基羰基苯基 (2-153 ) 2,4,6-三月桂氧基苯基 -63 - 200823253

(2-154 ) 2,4,6·三甲基苯基 (2-155 ) 2,4,6-三氯苯基 (2-156) 2,4,6-三苯甲醯基苯基 (2-157 ) 2,4,6-三乙醯氧苯基 (2-158 ) 2,4,6-三甲氧基苯基 (2-159) 2,4,6-三-Ν-甲胺基苯基 (2-160) 2,4,6-三異丁醯胺基苯基 (2-161) 2，4,6-三苯氧基苯基 (2-162 ) 2,4,6-三羥基苯基 (2-163 )五氟苯基 (2-164 )五氯苯基 (2-165)五甲氧基苯基 (2-166) 6-Ν-甲基胺磺醯基-8-甲氧基-2-萘基 (2-167) 5-Ν-甲基胺磺醯基-2_萘基 (2-168) 6-Ν-苯基胺磺醯基-2-萘基 (2-169) 5-乙氧基-7-Ν-甲基胺磺醯基-2-萘基 (2-170 ) 3-甲氧基-2-萘基 (2-171 ) 1-乙氧基-2-萘基 (2-172) 6-Ν-苯基胺磺醯基-8-甲氧基-2-萘基 (2-173) 5-甲氧基-7-Ν-苯基胺磺醯基-2-萘基 (2-174) 1- ( 4-甲基苯基）-2-萘基 (2-175) 6,8-二-Ν-甲基胺磺醯基-2-萘基 (2-176) 6-Ν-2-乙醯氧乙基胺磺醯基-8-甲氧基-2-萘

-64- 200823253

(2-177) 5-乙醯氧-7-N-苯基胺磺醯基-2-萘基 (2-178 ) 3_苯甲醯氧基-2-萘基 (2-179) 5-乙醯胺基-1·萘基 (2-180) 2-甲氧基-1-萘基 (2-181 ) 4-苯氧基-1-萘基 (2-182) 5-N-甲基胺礦釀基-1-奈基 (2-183) 3-N-甲胺基甲醯基-4-羥基-1-萘基 (2-184) 5_甲氧基- 6- N-乙基胺礦釀基-1-奈基 (2-185) 7-十四烷基氧基-1-萘基 (2-186) 4-(4-甲基苯氧基）-1-萘基 (2-187) 6-N-甲基胺磺醯基-1-萘基 (2-188 ) 3-N，N-二甲胺基甲醯基-4-甲氧基-1-萘基 (2-189) 5-甲氧基-6-N-苯甲基胺磺醯基-1-萘基 (2-190) 3,6 - —*·Ν·苯基胺礦釀基-1·蔡基 又，作爲X1表示-NR4-、X2表示-NR5-、X3表示-NR6-，R4、R5 及 R6 爲相同（R4= R5= R6 = R)，且 R1、R2 及 R3表示苯基之化合物的具體例，可舉出下述一般式（1-2 )所示化合物。且，有關下述一般式中複數R與前述相同 -65- 200823253 I 化 63] (2 -191}〜{2 -193} 一般式(1 一 2}

R

R

，NyvN

丫CT ΓΌ

R ： (2-191 )甲基 (2-192)苯基 (2-193 ) 丁基 其次，本發明所使用的具有三嗪環之化合物中，作爲 X1、X2及X3的至少1個爲含有Ο或S之連結基，R1、R2 、R3爲相同（R1二R2= R3 = R)之化合物，作爲化合物之 具體例，可舉出下述一般式（1-4)〜（1-9)之化合物。 且有關下述一般式之複數R，與前述相同。 [化 64] (3 — 1)〜(3—66) 一般式{1一4) R I Ο 丫丫、N 丫N R〆0

R R ： (3-1 )苯基 (3 - 2 ) 3 -乙氧基鑛基苯基 -66 - 200823253

(3-3 ) 3-丁氧基苯基 (3-4) m -聯苯基 (3-5 ) 3-苯基硫苯基 (3-6) 3 -氯本基 (3-7) 3-苯甲醯基苯基 (3-8 ) 3-乙醯氧苯基 (3-9) 3-苯甲醯氧基苯基 (3-10) 3-苯氧基羰基苯基 (3-11) 3-甲氧基苯基 (3_12 ) 3-苯胺基苯基 (3-13) 3 -異丁釀胺基苯基 (3-14) 3-苯氧基羰胺基苯基 (3-15) 3- (3 -乙基脲基）苯基 (3-16) 3- ( 3,3 - 一乙基脈基）苯基 (3 -1 7 ) 3 -甲基苯基 (3 -1 8 ) 3 -苯氧基苯基 (3-19 ) 3-羥基苯基 (3_20 ) 4-乙氧基羰基苯基 (3-21 ) 4-丁氧基苯基 (3-22) p -聯苯基 (3-23 ) 4-苯基硫苯基 (3-24 ) 4-氯苯基 (3-25 ) 4-苯甲醯基苯基 (3-26 ) 4-乙醯氧苯基 -67- 200823253

(3-27) 4 -苯甲醯氧基苯基 (3-28) 4 -本氧基鑛基本基 (3-29 ) 4-甲氧基苯基 (3-30) 4-苯胺基苯基 (3_31) 4-異丁醯胺基苯基 (3-32) 4-苯氧基羰胺基苯基 (3-33 ) 4- ( 3-乙基脲基）苯基 (3-34) 4-(3,3-二乙基脲基）苯基 (3-35 ) 4-甲基苯基 (3-36 ) 4-苯氧基苯基 (3-37) 4-羥基苯基 (3-38) 3,4-二乙氧基羰基苯基 (3-39 ) 3,4-二丁氧基苯基 (3-4 0) 3，4-二苯基苯基 (3-41 ) 3,4-二苯基硫苯基 (3-42 ) 3,4-二氯苯基 (3-43 ) 3,4-二苯甲醯基苯基 (3-44) 3,4-二乙醯氧苯基 (3-45) 3,4-二苯甲醯氧基苯基 (3-46) 3,4-二苯氧基羰基苯基 (3-47) 3,4 - 一·甲氧基本基 (3-48) 3,4-二苯胺基苯基 (3-49 ) 3,4-二甲基苯基 (3_50) 3,4-二苯氧基苯基 - 68- 200823253 (3-51 ) 3,4-二羥基苯基 (3-52 ) 2-萘基 (3-53) 3,4,5-三乙氧基羰基苯基 (3-54 ) 3,4,5-三丁氧基苯基 (3·55 ) 3,4,5·三苯基苯基 (3-56) 3，4,5-三苯基硫苯基 (3-57 ) 3,4,5-三氯苯基

(3-58) 3,4,5-三苯甲醯基苯基 (3-59 ) 3,4,5-三乙醯氧苯基 (3-60) 3,4,5-三苯甲醯氧基苯基 (3-61) 3,4,5-三苯氧基羰基苯基 (3-62 ) 3,4,5-三甲氧基苯基 (3-63) 3，4,5 -三苯胺基苯基 (3-64 ) 3,4,5-三甲基苯基 (3-65) 3，4,5 -三苯氧基苯基 (3-66) 3，4,5 -二經基苯基 [化 65] {3—67)〜{3 —132) 一般式(1 一 5}

yVs、R

N 丫N R ： (3-67 )苯基 (3-68) 3 -乙氧基簾基苯基 -69- 200823253 (3-69) 3-丁氧基苯基 (3-70 ) m-聯苯基 (3-71 ) 3-苯基硫苯基 (3-72 ) 3-氯苯基 (3-73 ) 3-苯甲醯基苯基 (3-74 ) 3-乙醯氧苯基 (3-75 ) 3-苯甲醯氧基苯基 φ ( 3-76) 3-苯氧基羰基苯基 (3-77 ) 3-甲氧基苯基 (3-78 ) 3-苯胺基苯基 (3-79) 3-異丁醯胺基苯基 (3-80) 3-苯氧基羰胺基苯基 (3-81) 3- ( 3 -乙基脈基）本基 (3-82) 3- ( 3,3 - —*乙基脈基）本基 (3-83) 3-甲基苯基 • (344)3 -苯氧基苯基 (3-85 ) 3-羥基苯基 (3-86) 4 ·乙氧基鑛基苯基 (3-87 ) 4-丁氧基苯基 (3-88) P-聯苯基 (3-89 ) 4-苯基硫苯基 (3-90 ) 4-氯苯基 (•3-91) 4 -苯甲醯基苯基 (3-92) 4 -乙醯氧苯基 -70- 200823253

(3-93 ) 4-苯甲醯氧基苯基 (3-94) 4-苯氧基羰基苯基 (3-95 ) 4-甲氧基苯基 (3-96) 4-苯胺基苯基 (3_97) 4-異丁醯胺基苯基 (3-98 ) 4-苯氧基羰胺基苯基 (3-99 ) 4- ( 3-乙基脲基）苯基 (3-100) 4-(3,3·二乙基脲基）苯基 (3-101 ) 4-甲基苯基 (3-102) 4 -苯氧基苯基 (3-103 ) 4-羥基苯基 (3-104) 3,4-二乙氧基羰基苯基 (3-105) 3,4 - _* 丁 氧基苯基 (3 · 1 0 6 ) 3，4 -二苯基苯基 (3-107) 3,4 -二苯基硫苯基 (3-108 ) 3,4-二氯苯基 (3-109) 3,4-二苯甲醯基苯基 (3-1 10 ) 3,4-二乙醯氧苯基 (3-111) 3,4-二苯甲醯氧基苯基 (3-112) 3,4-二苯氧基羰基苯基 (3-1 13 ) 3,4-二甲氧基苯基 (3-114) 3,4-二苯胺基苯基 (3-1 15 ) 3,4-二甲基苯基 (3-116) 3,4 -二苯氧基苯基 -71- 200823253 (3-1 17 ) 3,4-二羥基苯基 (3-1 18 ) 2-萘基 (3-119) 3,4,5-三乙氧基羰基苯基 (3-120 ) 3,4,5-三丁氧基苯基 (3-121) 3，4,5 -三苯基苯基 (3-122 ) 3,4,5-三苯基硫苯基 (3-123 ) 3,4,5-三氯苯基

(3-124) 3,4,5-三苯甲醯基苯基 (3-125 ) 3,4,5-三乙醯氧苯基 (3-126) 3,4,5-三苯甲醯氧基苯基 (3-127) 3,4,5-三苯氧基羰基苯基 (3-128 ) 3,4,5-三甲氧基苯基 (3-129) 3,4,5-三苯胺基苯基 (3-1 30 ) 3,4,5-三甲基苯基 (3-1 3 1 ) 3,4,5-三苯氧基苯基 (3-132 ) 3,4,5-三羥基苯基 [化 66] (3 -133)〜(3-151} 一般式(1 一6) R I Ο

rVR、 N 丫N

R R ： (3-133)苯基 (3-1 34 ) 4-乙氧基羰基苯基 -72- 200823253 (3-135 ) 4-丁氧基苯基 (3-136 ) ρ·聯苯基 (3-137 ) 4-苯基硫苯基 (3-138 ) 4-氯苯基 (3-139 ) 4-苯甲醯基苯基 (3-140 ) 4-乙醯氧苯基 (3-141 ) 4-苯甲醯氧基苯基

(3-142) 4-苯氧基羰基苯基 (3-143 ) 4-甲氧基苯基 (3-144 ) 4-苯胺基苯基 (3-145 ) 4-異丁醯胺基苯基 (3_146 ) 4-苯氧基羰胺基苯基 (3-147 ) 4- ( 3-乙基脲基）苯基 (3-148) 4- ( 3,3 - 一►乙基服基）苯基 (3-149 ) 4-甲基苯基 (3-1 50 ) 4-苯氧基苯基 (3-151 ) 4-羥基苯基 [化 67] (3 — 152)〜(3—170} 一般式(1 一 7} Η

R R ： (3-152)苯基 -73- 200823253 (3_153 ) 4-乙氧基羰基苯基 (3-154 ) 4-丁氧基苯基 (3-155 ) p-聯苯基 (3-156) 4 -本基硫本基 (3-157 ) 4-氯苯基 (3-158 ) 4-苯甲醯基苯基 (3-159 ) 4-乙醯氧苯基

(3-160 ) 4-苯甲醯氧基苯基 (3-161) 4 -本氧基鑛基本基 (3-162) 4 -甲氧基苯基 (3-163) 4 -本胺基本基 (3-164) 4-異丁醯胺基苯基 (3-165) 4-苯氧基羰胺基苯基 (3-166 ) 4- ( 3-乙基脲基）苯基 (3-167) 4-(3,3-二乙基脲基）苯基 (3-168) 4 -甲基本基 (3-169) 4 -苯氧基苯基 (3-170) 4-羥基苯基 [化 68] {3 -171}〜(3 -189) 一般式(1 一 8)

R 丫 NrN、 r

R R ： 74- 200823253 (3-171 )苯基 (3-172 ) 4-乙氧基羰基苯基 (3-173 ) 4-丁氧基苯基 (3-174) ρ-聯苯基 (3-175) 4·本基硫本基 (3-176) 4-氯苯基 (3-177) 4-苯甲醯基苯基 (3-178 ) 4-乙醯氧苯基 (3-179 ) 4-苯甲醯氧基苯基 (3-180) 4-苯氧基鑛基苯基 (3-181) 4 -甲氧基本基 (3-1 82 ) 4-苯胺基苯基 (3-183) 4-異丁醯胺基苯基 (3_184) 4-苯氧基羰胺基苯基 (3-185 ) 4- ( 3-乙基脲基）苯基

(3-186) 4- ( 3,3 - 一乙基脈基）苯基 (3-1 87 ) 4-甲基苯基 (3-1 88 ) 4-苯氧基苯基 (3-189) 4-羥基苯基 [化 69] (3 —190)〜(3—208) 一般式(1 一 9) yV、 r -75- 200823253 R :

(3-190)苯基 (3-191) 4-乙 (3-192) 4-丁 (3-193 ) p-聯 (3-194) 4-苯 (3-195 ) 4-氯 (3-196) 4-苯 (3-197) 4-乙 (3-198) 4-苯 (3-199) 4 -苯 (3-200 ) 4-甲 (3-201 ) 4-苯 (3 -202 ) 4-異 (3 -203 ) 4 -苯 (3-2 04 ) 4-( (3-205) 4-( (3-206 ) 4-甲 (3-207 ) 4-苯 ( 3 -208 ) 4 -羥 又，作爲X1、 結基的化合物之具 氧基羰基苯基 氧基苯基 苯基 基硫苯基 苯基 甲醯基苯基 醯氧苯基 甲醯氧基苯基 氧基羰基苯基 氧基苯基 胺基苯基 丁醯胺基苯基 氧基羰胺基苯基 3-乙基脲基）苯基 3,3-二乙基脲基）苯基 基苯基 氧基苯基 基苯基 X2及X3的至少1個爲含有〇或S之連 體例，可進一步舉出以下化合物。 -76- 200823253 [化 70] (3-210) (3-209) ζ) ζ) τ；τΌ

ρ ρχιΝΌ σΝΌ (3-212) (3-211) r

Nrσ° Ό ς) ρ σδ 作爲第3個，本發明所使用的具有三嗪環之化合物中 ，X1、X2及X3任一表示單鍵，R1、R2及R3爲相同之化 合物的具體例，可舉出下述一般式（1-10)之化合物。且 ，有關下述一般式中複數R與前述相同。

[化 71] (4 一 1}〜(4 一 9) 一般式(1 一 10}

R 丫 N 丫N R : (4 - 1 )苯基 (4-2) 4-乙氧基羰基苯基 (4-3 ) 4-丁氧基苯基 -77- 200823253 (4-4) p -聯苯基 (4-5 ) 4-吡啶基 (4 - 6 ) 2 -蔡基 (4-7) 2 -甲基苯基 (4-8 ) 3,4-二甲氧基苯基 (4-9 ) 2-呋喃基 可再舉出： [化 72]

《抗氧化劑》 纖維素酯不僅藉由熱亦可藉由氧而促進分解，故本發 明的偏光板保護薄膜中含有作爲安定化劑之抗氧化劑爲佳 特別爲藉由熔融流延法進行製膜之高溫環境下，纖維 素酯薄膜成形材料的熱、及氧會促進分解，故含有抗氧化 劑爲佳。 作爲本發明之有用的抗氧化劑’僅可抑制藉由氧之纖 維素酯薄膜成形材料的劣化之化合物即可，並無特別限定 -78- 200823253 ’其中作爲有用之抗氧化劑可舉出酚系化合物、受阻胺系 化合物、憐系化合物、硫系化合物、耐熱加工安定劑、氧 清除劑等’其中特別以本發明中爲必須成分之酚系化合物 以外的磷系化合物爲佳。藉由添加這些化合物，不會降低 透明性、耐熱性等下，可防止因熱或熱氧化劣化等所造成 的成形體之著色或強度降低。這些抗氧化劑各可單獨或組 合2種以上使用。 (酚系化合物） 酚系化合物爲已知的化合物，例如含有美國專利第 4,83 9,405號說明書之第12〜14欄所記載的2,6-二烷基酹 衍生物化合物。對於酚系化合物之添加量可依據纖維素酯 之種類或其他添加劑之種類或量做適宜調整，並無特別限 定，但對於所形成之偏光板保護薄膜中的纖維素酯，以 0·01〜10質量％程度之添加量爲佳，0·2〜2.0質量。/。爲特 Φ 佳。作爲如此化合物之較佳化合物，以下述一般式（A ) 所示化合物爲佳。 [化 73] 一般式{A)

Rl1*° Ru Rl6 ^16 式中，Rh-Ru表示取代基。作爲取代基可舉出氨原 子、鹵素原子（例如氟原子、氯原子等）、烷基（例如甲 基、乙基、異丙基、經基乙基、甲氧基甲基、三氟甲基、 -79- 200823253 t-丁基等）、環烷基（例如環戊基、環己基等）、芳烷基 (例如苯甲基、2-苯乙基等）、芳基（例如苯基、萘基、 p-甲苯基、p-氯苯基等）、烷氧基（例如甲氧基、乙氧基 、異丙氧基、丁氧基等）、芳氧基（例如苯氧基等）、氰 基、醯胺基（例如乙醯胺基、丙醯胺基等）、烷基硫基（ 例如甲基硫基、乙基硫基、丁基硫基等）、芳基硫基（例 如苯基硫基等）、磺醯胺基（例如甲磺醯胺基、苯磺醯胺 φ 基等）、脲基（例如3-甲基脲基、3,3-二甲基脲基、1，3-二甲基脲基等）、胺磺醯基胺基（二甲基胺磺醯基胺基等 )、胺基甲醯基（例如甲胺基甲醯基、乙胺基甲醯基、二 甲胺基甲醯基等）、胺磺醯基（例如乙基胺磺醯基、二甲 基胺磺醯基等）、烷氧基羰基（例如甲氧基羰基、乙氧基 羰基等）、芳氧基羰基（例如苯氧基羰基等）、磺醯基（ 例如甲磺醯基、丁烷磺醯基、苯基磺醯基等）、醯基（例 如乙醯基、丙醯基、丁醯基等）、胺基（甲胺基、乙胺基 • 、二甲胺基等）、氰基、羥基、硝基、亞硝基、胺氧化物 基（例如吡啶-氧化物基）、亞胺基（例如酞醯亞胺基等 )、二硫化物基（例如苯二硫化物基、苯並噻唑-2-二硫化 物基等）、羧基、磺基、雜環基（例如，吡咯基、吡咯烷 基、吡唑基、咪唑基、吡啶基、苯並咪唑基、苯並噻唑基 、苯並噁唑基等）等。這些取代基亦可進一步地被取代。 又，Rll表示氫原子、Rl2、Rl6表示卜丁基之酣系化 合物爲佳。作爲酚系化合物之具體例，可舉出η-十八烷基 3-(3,5 - 一-丁基-4-經基苯基）-丙酸醋、η -十八院基3- -80- 200823253 (3,5- — - t-丁基-4 -邀基苯基）-乙酸醋、η -十八垸基3,5-二-t-丁基-4-羥基苯甲酸酯、η-己基3,5-二-t-丁基-4-羥基 苯基苯甲酸酯、η-月桂基3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基苯甲酸 酯、新-月桂基3- ( 3，5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯、 月桂基β ( 3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯、乙基α-( 4 -經基-3,5 - _*-t -丁基苯基）異丁酸醋、十八垸基α-(4 -經 基- 3,5-二-t-丁基苯基）異丁酸酯、十八烷基α- ( 4·羥基-φ 3，5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯、2- ( η-辛基硫）乙基 3.5- 二-t-丁基-4-羥基-苯甲酸酯、2-(n-辛基硫）乙基3,5-—-丁基-4-經基-苯基乙酸醋、2- ( η-十八院基硫）乙基 3.5- 一 - t-丁基-4 -經基苯基乙酸醋、2- (η-十八垸基硫）乙 基3，5-二-t-丁基-4-羥基-苯甲酸酯、2- ( 2-羥基乙基硫） 乙基3,5-二-t-丁基-4-羥基苯甲酸酯、二乙基乙二醇雙-( 3.5- 一*-t -丁基-4-經基-苯基）丙酸醋、2- (η-十八院基硫） 乙基3- ( 3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯、硬脂醯胺 φ N，N-雙-〔伸乙基3- ( 3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯 〕、n-丁基亞胺N，N-雙-〔伸乙基3-(3,5-二-t-丁基-4-羥 基苯基）丙酸酯〕、2-(2-硬脂醯氧基乙基硫）乙基3,5-二_t_丁基-4-羥基苯甲酸酯、2- ( 2-硬脂醯氧基乙基硫）乙 基7- ( 3-甲基-5-t-丁基-4-羥基苯基）庚酸酯、1，2-伸丙基 乙二醇雙-〔3- ( 3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯〕、 伸乙基乙二醇雙-〔3- ( 3，5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸 酯〕、新戊基乙二醇雙-〔3- ( 3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基 )丙酸酯〕、伸乙基乙二醇雙-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯 -81 - 200823253 基乙酸酯）、甘油-l-n-十八烷酸酯-2,3-雙-(3,5-二-t-丁 基-4-羥基苯基乙酸酯）、季戊四醇-肆-〔3_ (3，，5，·二小 丁基-4’-羥基苯基）丙酸酯〕、三羥甲基乙烷·參-〔 3- ( 3,5-二-卜丁基-4-羥基苯基）丙酸酯〕、山梨糖醇六-〔3- ( 3，5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯〕、2-羥基乙基 7- (3-甲基-5-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯、2-硬脂醯氧基 乙基7- ( 3-甲基- 5-t-丁基-4-羥基苯基）庚酸酯、l，6-n-己 # 二醇-雙〔（3，，5，-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙酸酯〕、季戊 四醇-肆（3，5-二-t-丁基-4-羥基桂皮酸酯）。上述型式的 酣系化合物，例如可舉出由 Ciba Specialty Chemicals購 得之 ”Irganoxl〇76，，及，，Irganoxl010”之商品名。 (磷系化合物） ί乍爲本發明之添加劑，含有磷系化合物之至少1種爲 佳’分子內具有下述一般式（B-l) 、 （Β-2) 、（Β-3) ^ 、（ B_4) 、（ Β-5)所示部分結構之化合物爲佳。 [化 74] 一般式<Β— 一尸一ihl —Ρ\ ί , 0—Phi 式中’ ΡίΜ及Ph’i表示取代基。作爲取代基與前述一 般式（A )之Rll〜Rl5所示取代基同義。較佳爲Ph及 Ph、表示伸苯基，該伸苯基之氫原子可由苯基、碳數1〜8 的焼基、碳數5〜8的環烷基、碳數6〜12的烷基環烷基 -82- 200823253 刖 或碳數7〜12的芳烷基取代。phi& “、可互相相同或相 異。X表示單鍵、硫原子或ΤΗ、-基。h表示氫原子、碳 數1〜8的丨兀基或碳數5〜8的環院基。又，可由與這些 述一般式（A)之Rn-R!5所示取代基同義之取代基進 步取代。 [化 75] 一般式{B—2) 0—Ph2 Ο—Ph 式中，Ph2及Ph’2表示取代基。作爲取代基與前述一 般式（A )的Rll〜Rls所示取代基同義。較佳爲ph2及 ph’2表不苯基或聯苯基，該苯基或聯苯基的氫原子可由碳 數1〜8的烷基、碳數5〜8的環烷基、碳數6〜12的烷基 環燒基或碳數7〜12的芳烷基所取代。ph2及ph，2可互相 相同或相異。又，這些可由與前述一般式（A)之Ril〜 R15所示取代基同義的取代基進—步取代。 [化 76] —般式(B—3) 0-

Ph3-0一F 式中’ Ph表示取代基。作爲取代基與前述一般式（a )的所示取代基同義。較佳爲ph3表示苯基或聯 本基’該苯基或聯苯基之氫原子可由碳數1〜8的院基、 礙數5〜8的環烷基、碳數6〜12的烷基環烷基或碳數7〜 -83 - 200823253 12的芳烷基所取代。又，這些可由與前述—般式（A)之

Rm〜R15所不取代基同義之取代基進一步取。 [化 77]

一般式(B—4J

Ph4 式中，PlM袠示取代基。作爲取代基與前述一般式（a )的Ru-Rh所示取代基同義。較佳爲Pb表示碳數 20的烷基或本基，該烷基或苯基可由與前述一般式（a) 的R11〜R15所示取代基同義之取代基進一步取代。 [化 78] 一般式(B—5}

Ph,

Ph, 式中，Ph5、Ph，5及Ph，，5表示取代基。作爲取代基與 則述一般式（A)的所示取代基同義。較佳爲 Ph5、Ph’5及Ph”5表示碳數1〜2〇的烷基或苯基，該烷基 或苯基可由與前述一般式（A)的Ru〜R15所示取代基同 義之取代基進一步取代。 磷系化合物之添加量可依據纖維素酯之種類或其他添 加劑之種類或量做適宜調整，並無特別限定，但對於所形 成之偏光板保護薄膜中之纖維素酯而言，以0.01〜10質 量％程度之添加量爲佳，0 · 1〜1 · 0質量％爲特佳。 作爲磷系化合物之具體例，可舉出三苯基磷酸酯、二 苯基異癸基磷酸酯、苯基二異癸基磷酸酯、參（壬基苯基 -84- 200823253 )磷酸酯、爹（一壬基本基）磷酸酯、參（2,4·二-t -丁基 苯基）磷酸酯、10-(3，5-二+ 丁基-4-羥基苯甲基）_9,1〇· 一氫-9 -噁-1 〇 -膦菲-1 〇 -氧化物、6 _〔 3 _ ( 3 _ t •丁基· 4 •羥基· 5_甲基苯基）丙氧基〕_2,4,8，1〇-四-t-丁基二苯並〔d，f〕 〔1·3·2〕dioxaphosphepine、十三烷基磷酸酯等單磷酸酯 系化合物；4,4’-亞丁基-雙（3-甲基-6小丁基苯基·二-十三 烷基磷酸酯）、454 ’_異亞丙基-雙（苯基-二-烷基（〇12〜 ^ C15)磷酸酯）等一磷酸酯系化合物；等二磷酸酯系化合 物；三苯基亞磷酸、肆（2,4-二-tert-丁基苯基）〔l，i-聯 苯基〕-4,4’-二基雙亞磷酸、肆（2,扣二-tert-丁基·5_甲基 苯基）〔1，1-聯苯基〕-4,4’-二基雙亞磷酸等亞磷酸系化合 物；三苯基亞磷酸酯、2,6-二甲基苯基二苯基亞磷酸酯等 亞磷酸酯系化合物；三苯基膦、參（2,6 -二甲氧基苯基） 膦等膦系化合物等。上述型式之磷系化合物，例如可使用 由住友化學工業股份有限公司之“SumilizerGP”、由旭電化 φ 工業股份有限公司之 ADK STAB PEP-24G”、由“ADK STAB ΡΈΡ-3 6”及” ADK STAB 3010”、由堺化學股份有限公 司之 “GSY-P101”、由 Ciba Specialty Chemicals 股份有限 公司之“IRGAFOS P-EPQ”的商品名購得。 又，可舉出下述化合物。 -85 - 200823253 [化 79]

-86- 200823253 [化 80]

P7 P8

P15 OCH： P16 〇CH3 200823253 [化 81]

Ο -88 - 200823253 [化 82]

ο (受阻胺系化合物）

作爲本發明中有用抗氧化劑之一，以下述一般式（C )所示受阻胺系化合物爲佳。 [化 83] 一般式(C) r22

式中，R21〜R27表示取代基。作爲取代基與前述一般 -89- 200823253 式（A)之Ru〜R15所示取代基同義。R24表示氫原子、 甲基，R27表示氫原子，R22、R23、R25、R26表示甲基爲 佳。 作爲受阻胺系化合物之具體例，可舉出雙（2,2,6,6-四 甲基-4-哌啶）癸二酸酯、雙（2，2,6，6-四甲基-4-哌啶）琥 珀酸酯、雙（1，2,2,6,6-五甲基-4-哌啶）癸二酸酯、雙（ N-辛氧-2，2,6,6-四甲基-4-哌啶）癸二酸酯、雙（N-苯甲基 φ 氧基-2,2,6，6·四甲基-4-哌啶）癸二酸酯、雙（N-環己氧 基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶）癸二酸酯、雙（1，2,2,6,6-五甲 基-4-哌啶）2-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯甲基）-2-丁基丙 二酸酯、雙（1-丙烯醯基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶）2,2-雙 (3，5-二-t-丁基-4-羥基苯甲基）-2-丁基丙二酸酯、雙（ 1，2,2,6,6-五甲基-4-哌啶）癸二酸酯、2,2,6,6-四甲基-4-哌 啶甲基丙烯酸酯、4-〔 3- ( 3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙 醯氧基〕-1-〔2-(3·(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基）丙醯氧 # 基）乙基〕-2,2,6,6-四甲基哌啶、2-甲基-2-(2,2,6,6-四 甲基-4-哌啶）胺基-N- ( 2,2,6,6_四甲基-4-哌啶）丙醯胺 、肆（2,2,6,6-四甲基-4-哌啶）1，2,3,4-丁烷四羧酸酯、肆 (1，2,2,6,6-五甲基-4-哌啶）1，2,3,4-丁烷四羧酸酯等。 又，可爲高分子型式之化合物，作爲具體例可舉出 N，N’，N”，N”’-肆-〔4,6-雙-〔丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲 基峨啶-4-基）胺基〕-三嗪-2-基〕-4,7-二氮雜癸烷-1，10-二胺、二丁基胺與1，3,5-三嗪-N，N’-雙（2,2,6,6-四甲基- 4-哌啶）-1，6-六伸甲基二胺與N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶） -90- 200823253 丁基胺之縮聚物、二丁基胺與1，3,5-三曉與N，N’-雙（ 2.2.6.6- 四甲基-4-哌啶）丁基胺之縮聚物、聚〔{( 1，1，3,3-四甲基丁基）胺基-1，3,5-三嗪_2,4-二基丨{( 2.2.6.6- 四甲基-4-哌啶）亞胺}六伸甲基{(2,2,6,6-四甲 基-4-哌啶）亞胺} 〕、1，6-己二胺-N，N’-雙（2,2,6,6-四甲 基-4-哌啶）與嗎啉·2,4,6·三氯·1，3,5 -三嚓之縮聚物、聚〔 (6-嗎啉代-8-三嗪-2,4-二基）〔（2,2,6,6，-四甲基-4·脈D定 φ )亞胺〕-六伸甲基〔（2,2,6,6 -四甲基-4-哌卩定）亞胺〕〕 等、哌啶環介由三嗪骨架經複數結合之高分子量HALS; 琥珀酸二甲酯與4 -羥基- 2,2,6,6 -四甲基-1-哌啶乙醇之聚合 物、1，2,3,4 -丁烷四羧酸與^^“五甲基-仁哌啶醇與 3,9-雙（2-經基-1，1-二甲基乙基）-2,4,8，1〇-四卩惡螺〔5,5 〕十一烷之混合酯化物等、哌啶環介著酯鍵經結合之化合 物等，但並未限定於此。 這些中，以二丁基胺與 1，3,5-三嗪與 N，N，-雙（ φ 2，2,6,6 -四甲基_4·哌啶）丁基胺之縮聚物、聚〔{( 1，1，3,3-四甲基丁基）胺基-1，3,5-三嗪-2,4-二基} {( 2.2.6.6- 四甲基-4-哌啶）亞胺}六伸甲基{(2,2,6,6-四甲 基-4-哌啶）亞胺}〕、琥珀酸二甲基與4-羥基-2，2,6，6-四 甲基-1-哌啶乙醇之聚合物等，其中以數平均分子量（Μη) 爲2,000〜5,000者爲佳。

上述型式之受阻胺系化合物，例如可爲由 Ciba Specialty Chemicals 公司購得之 “Tinuvinl44” 及 “Tinuvin770”、由旭電化工業股份有限公司購得之“ADK -91 - 200823253 STAB LA-52”之商品名。 (硫系化合物）

作爲本發明中有用抗氧化劑之一，以下述一般式（D )所示硫系化合物爲佳。 [化 84] 一般式(D) r31—s-r32 式中’ R；31及R32表7K取代基。作爲取代基與前述一 般式（A)的Rn〜R15所示取代基同義。 作爲硫系化合物之具體例，可舉出二月桂基3,3-硫二 丙酸酯、二肉豆蔻基3,3’-硫二丙酸酯、二硬脂醯基3,3-硫一丙酸醋、月桂基硬脂釀基3,3 -硫二丙'酸醋、季四戊 醇-肆（β-月桂基-硫-丙酸酯）、3,9-雙（2-月桂基硫乙基 )-2,4,8，10-四噁螺〔5,5〕十一烷等。 上述型式之硫系化合物，例如可由住友化學工業股份 有限公司購得“Sumilizer TPL-R” 及 “SumilizerTP-D”之商品名。 抗氧化劑與後述之纖維素酯同樣地，可於自製造時含 有或除去保存中所產生的殘留酸、無機鹽、有機低分子等 雜質爲佳，較佳爲純度9 9 %以上。作爲殘留酸及水以0.0 1 〜lOOppm爲佳，將纖維素酯藉由熔融流延法進行製膜時 ，可抑制熱劣化，提高製膜安定性、薄膜之光學物性、機 械物性。 抗氧化劑以0.1〜1 0質量％之添加量爲佳，較佳爲〇 · 2 -92- 200823253 〜5質量％，更佳爲〇 · 3〜2質量％之添加量。這些可合倂2 種以上使用。 抗氧化劑之添加量過少時，熔融時安定化作用會降低 ，故無法得到效果，又添加量過少時，由對纖維素酯之相 溶性的觀點來看，會引起薄膜之透明性降低，且使薄膜變 脆，故不佳。 《酸捕捉劑》 纖維素酯藉由熔融流延法進行製膜之高溫環境下，因 酸亦會促進分解，故本發明的偏光板保護薄膜中作爲安定 化劑以含有酸捕捉劑爲佳。作爲本發明中有用酸捕捉劑， 僅爲與酸進行反應使酸成爲不活性化之化合物即可，並無 特別限定，其中以美國專利第4，1 37,20 1號說明書所記載 之具有環氧基之化合物爲佳。作爲如此酸捕捉劑之環氧化 合物於該技術領域中爲已知，種種聚乙二醇之二環氧丙醚 ，特別爲聚乙二醇每1莫耳中約8〜40莫耳的伸乙基氧化 物等縮合所衍生的聚乙二醇、甘油之二環氧丙醚等、金屬 環氧化合物（例如，氯化乙烯基聚合物組成物中，同時與 氯化乙烯基聚合物組成物自過去已被使用者）、環氧化醚 縮合生成物、雙酚Α之二環氧丙醚（即，4,4’-二羥基二苯 基二甲基甲烷）、環氧化不飽和脂肪酸酯（特別爲2〜22 個碳原子之脂肪酸的4〜2個程度之碳原子的烷基之酯（ 例如，丁基環氧硬脂酸酯）等）、及種種環氧化長鏈脂肪 酸甘油三酸酯等（例如，環氧化大豆油、環氧化亞麻仁油 -93- 200823253 等）的組成物作爲代表所例示之環氧化植物油及其他不飽 和天然油（這些有時稱爲環氧化天然甘油酯或不飽和脂肪 酸，這些脂肪酸一般含有12〜22個碳原子）。又，作爲 販賣的環氧基含有環氧物樹脂化合物可使用EP ON 81 5C、 及下述一般式（E)所示他的環氧化醚寡聚物縮合生成物 者亦佳。 [化 85] 一般式(E)

式中，η表示0〜12的整數。作爲所使用的其他酸捕 捉劑，含有特開平5- 1 94788號公報之段落87〜105所記 載者。 酸捕捉劑以0.1〜10質量％之添加量爲佳，〇.2〜5質 量％之添加量爲較佳，0.5〜2質量％之添加量爲更佳。這 些可合倂2種以上使用。 且酸捕捉劑有時稱爲酸清除劑、酸捕獲劑、酸掃除齊11 等，但本發明未限定於這些稱呼的相異而皆可使用。 《纖維素酯》 其次，對於本發明之纖維素酯做詳細說明。 本發明的偏光板保護薄膜可藉由使用纖維素酯之熔融 流延法製造 -94- 200823253 本發明中，所謂熔融流延爲實質上不用溶劑，加熱熔 融至纖維素酯顯示流動性之溫度，使用其進行製膜之方法 ，例如將流動性之纖維素酯由模具壓出後製膜之方法。且 調製熔融纖維素酯之過程的一部份考使用溶劑，藉由成形 爲薄膜狀之熔融流延法進行製膜步驟中，實質上不使用溶 劑進行成形加工。 作爲構成偏光板保護薄膜之纖維素酯，僅可藉由熔融 Φ 流延法進行製膜之纖維素酯即可，並無特別限定，但有鑑 於光學特性等所得之薄膜特性，使用纖維之低級脂肪酸酯 爲佳。本發明中，纖維的低級脂肪酸酯之低級脂肪酸表示 碳原子數爲5以下之脂肪酸，例如可舉出纖維乙酸酯、纖 維丙酸酯、纖維丁酸酯、纖維三甲基乙酸酯等纖維之低級 脂肪酸酯較佳者。碳原子數爲6以上之脂肪酸所取代之纖 維素酯中，藉由熔融流延法之製膜性良好，但所得之纖維 素酯薄膜的力學特性較低，實質上難作爲光學薄膜使用。 # 與使力學特性與藉由熔融流延法之製膜性的雙方成立，可 使用如纖維乙酸酯丙酸酯或纖維乙酸酯丁酸酯等之混合脂 肪酸酯。且，對於溶液流延製膜的一般所使用的纖維素酯 之三乙醯基纖維，因分解溫度比熔融溫度高之纖維素酯， 難使用於藉由熔融流延法進行製膜。 因此，最佳纖維之低級脂肪酸酯具有碳原子數2或3 之醯基作爲取代基，藉由乙酸之取代度，即乙醯基的取代 度以X表示，藉由丙醯基之取代度作爲Y時，滿足下述 式（i) 、（ ii)之纖維素酯爲佳。 -95- 200823253 式（i) 2.6SX+ YS3.0 式（ii) 1.0$ Y‘ 1.5 其中，特別以乙醯基之取代度與丙醯基之取代度相同 、或比丙釀基之取代度大爲佳。未被釀基取代之部分，一* 般以羥基形式存在。可由這些公知方法合成。 且，乙醯基、丙醯基、丁醯基等醯基之取代度的測定 方法可依據AS TM-D 8 17-96的規定之方法測定。 本發明所使用的纖維素酯爲，重量平均分子量Mw/數 平均分子量Μη比爲1.0〜5.5者，特佳爲1.4〜5.0，更佳 爲2.0〜3.0。又，可使用Mw爲10萬〜50萬者，其中以 1 5萬〜3 0萬者爲佳。 纖維素酯的平均分子量及分子量分佈可使用高速液體 層析法並以公知方法進行測定。使用此算出數平均分子量 、重量平均分子量。 測定條件如下所示。 溶劑 ：四氫呋喃 裝置 ：HLC-8220 (東索（股）製） 管柱 ：TSKgel SuperHM-M (東索（股）製） 管柱溫度：40°C 試料溫度：0.1質量％ 注入量 ：10μ1 流量 ：0.6ml/lmin 校對曲線：使用標準聚苯乙烯：PS-1 ( Polymer Laboratories 公司製）Mw = 2,560,000 〜580 之 9 個取樣做 -96- 200823253 成之校對曲線。 本發明所使用的纖維素酯之原料纖維素可爲木材紙漿 或綿花絨，木材紙漿可爲針葉樹或闊葉樹，但以針葉樹較 佳。由製膜時之剝離性的觀點來看，使用綿花絨爲佳。由 彼等所調製之纖維素酯可適宜混合、或單獨使用。 例如，可使用來自綿花絨之纖維素樹脂：來自木材紙 漿（針葉樹）之纖維素樹脂：來自木材紙漿（闊葉樹）之 Φ 纖維素樹脂的比率爲100: 0:0、90: 10:0、85: 15:0 、50: 50: 0、 20: 80: 0、 10: 90: 0、 0: 100： 0、 0: 0 ：100、80·· 10: 10、85: 0: 15、40: 30: 30° 纖維素酯係由例如將原料纖維素之羥基使用乙酸酐、 丙酸酐及/或丁酸酐依據常法將乙醯基、丙醯基及/或丁基 於上述範圍内進行取代而得到。如此纖維素酯之合成方法 並無特別限定，例如，可參考特開平10-45804號或特表 平6-501040號所記載的方法合成。 Φ 又，工業上纖維素酯可由硫酸作爲觸媒時合成，該硫 酸並未完全被除去，殘留之硫酸於熔融製膜時會引起各種 分解反應，對所得之纖維素酯薄膜的品質產生影響，故本 發明所使用的纖維素酯中之殘留硫酸含有量由硫元素換算 下爲0·1〜40ppm之範圍爲佳。可推測爲彼等以鹽之形式 含有。殘留硫酸含有量若超過4Oppm時，熱熔融時的模唇 部之附著物會增加而不佳。又，熱延伸時或熱延伸後進行 分條時容易斷裂故不佳。雖較少爲佳，但未達〇.1時，不 僅纖維素酯之洗淨步驟負擔會過大而不佳，相反地容易斷 -97- 200823253 裂而不佳。殘留硫酸含有量若未達0.1 ppm時，洗 會過度增加，不知此是否影響到樹脂之特性。且以 3 〇ppm之範圍爲佳。殘留硫酸含有量可同樣地由 D817-96 測定。 又，含有其他（乙酸等）殘留酸之全殘留| lOOOppm以下爲佳，5 00ppm以下爲較佳，l〇〇ppm 更佳。 φ 將合成之纖維素酯的洗淨與使用於溶液流延法 素酯相比，其可更充分進行，進而可使殘留酸含有 述範圍內，藉由熔融流延法製造薄膜時，對唇部之 減輕，可得到平面性優良的薄膜，且尺寸變化、機 、透明性、耐透濕性、後述厚度方向之滯留性値Rt 方向之滯留性値Ro良好之薄膜。又，纖維素酯之 除使用水以外，可使用如甲醇、乙醇之弱溶劑、或 果爲弱溶劑之弱溶劑與良溶劑之混合溶劑，可除去 # 以外之無機物、低分子之有機雜質。且，纖維素酯 可於受阻胺、亞磷酸酯之抗氧化劑的存在下進行爲 提高纖維素酯之耐熱性、製膜安定性。 又，欲提高纖維素酯之耐熱性、機械物性、光 等，可將纖維素酯溶解於纖維素酯之良溶劑後，於 中再沈澱，可除去纖維素酯之低分子量成分、其他 此時，與前述纖維素酯之洗淨同樣地，可於抗氧化 在下進行爲佳。 且’纖維素酯經再沈澱處理後，可添加其他聚 淨次數 0.1〜 ASTM- 駿量以 以下爲 之纖維 量於上 附著被 械強度 、面内 洗淨， 作爲結 殘留酸 之洗淨 佳，可 學物性 弱溶劑 雜質。 劑之存 合物或 -98- 200823253 低分子化合物。 本發明的偏光板保護薄膜雖具備優良亮點異物耐性之 特性，所使用的纖維素酯亦以薄膜製膜時亮點異物較少者 爲佳。所謂亮點異物爲將2片偏光板配置成直交方向（正 交尼科耳），其間配置偏光板保護薄膜，其中一面由光源 的光照射，由另一面觀察偏光板保護薄膜時，看到光源之 光漏出之點。此時於評估所使用的偏光板爲無亮點異物之 φ 保護薄膜所構成者爲佳，偏光子之保護上使用玻璃板者爲 佳。亮點異物的原因之一被推測爲含於纖維素酯之未醋化 或低醋化度的纖維素，使用亮點異物較少的纖維素酯（例 如，使用取代度之分散較少的纖維素酯）、過濾熔融之纖 維素酯、或纖維素酯合成後期之過程或得到沈澱物之過程 的至少一過程中，一度成爲溶液狀態後進行相同過濾步驟 而可除去亮點異物。熔融樹脂因黏度較高，故後者方法之 效率較佳。 Φ 薄膜膜厚越薄每單位面積之亮點異物數越少，含於薄 膜之纖維素酯的含有量越少亮點異物有越少的傾向，亮點 異物爲亮點之直徑0.01mm以上爲200個/ cm2以下爲佳， 100個/cm2以下爲較佳，50個/cm2以下爲更佳，30個 /cm2以下爲特佳，10個/cm2以下爲更特佳，但完全沒有 爲最佳。又，對於0.005〜0.01mm以下之亮點，亦以200 個/ cm2以下爲佳，且100個/cm2以下較佳，50個/ cin2以 下爲更佳，30個/cm2以下爲特佳，10個/ cm2以下爲更特 佳，但完全沒有爲最佳。 -99- 200823253 亮點異物藉由熔融過濾除去時，與將纖維素酯單獨下 熔融並經過濾者相比，添加•混合可塑劑、劣化防止劑、 抗氧化劑等之纖維素酯組成物經過濾時，其亮點異物的除 去效率更高故較佳。當然，纖維素酯的合成時可藉由溶解 於溶劑後經過濾而減低。亦可過濾紫外線吸收劑、其他添 加物經適當混合者。過濾爲含有纖維素酯之熔融物的黏度 爲1 0000P以下進行過濾者爲佳，5000P以下爲佳，1 000P φ 以下爲較佳，500P以下爲更佳。作爲濾材可使用玻璃纖 維、纖維素纖維、濾紙、四氟化伸乙基樹脂等氟化樹脂等 過去公知者，特別適用陶土、金屬等。作爲絶對過濾精度 以50μιη以下者爲佳，30μπι以下者爲較佳，ΙΟμπι以下者 爲更佳’ 5μιη以下者爲特佳。這些可適當組合使用。濾材 可使用表面型或深度型，深度型較不易阻塞故較佳。 作爲另一實施態樣，可使用原料之纖維素酯至少一度 溶解於溶劑後，再將溶劑乾燥之纖維素酯。此時可使用與 φ 至少1種可塑劑、紫外線吸收劑、劣化防止劑、抗氧化劑 及消光劑同時溶解於溶劑後再乾燥之纖維素酯。作爲溶劑 ，可使用一氯甲院、乙酸甲基、二氧戊環等溶液流延法所 使用的良溶劑，同時可使用甲醇、乙醇、丁醇等弱溶劑。 溶解過程中可冷卻至-20°C以下、或加熱至8(TC以上。使 用如此纖維素酯，可使熔融狀態時的各添加物容易均勻， 可均勻光學特性。 本發明的偏光板保護薄膜可爲適宜地混合纖維素酯樹 脂以外的高分子成分者。經混合之高分子成分與纖維素酯 -100、 200823253 之相溶性優良者爲佳，作爲薄膜時的透過率爲80%以上 較佳90%以上，更佳爲92%以上。 《紫外線吸收劑》 線 收 上 吸 化 烯 以 嗪 8- 號 苯 氫 基 ) 並 基 作爲紫外線吸收劑，由對偏光子或顯示裝置之紫外 的劣化防止之觀點來看，以波長3 70nm以下之紫外線吸 能優良，且由液晶顯示性之觀點來看，以波長400nm以 φ 之可見光吸收較少者爲佳。作爲本發明所使用的紫外線 收劑，例如可舉出氧基二苯甲酮系化合物、苯並三唑系 合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙 酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物、三嗪系化合物等，但 二苯甲酮系化合物或著色較少的苯並三唑系化合物、三 系化合物等爲佳。又，可使用特開平1 0- 1 8262 1號、同 3 3 75 74號公報記載之紫外線吸收劑、特開平6- 1 48430 、特開20 03 - 1 1 3 3 1 7號公報記載之高分子紫外線吸收劑< # 作爲苯並三唑系紫外線吸收劑之具體例，可舉出2- 2’-羥基- 5’-甲基苯基）苯並三唑、2- (2’-羥基- 3’，5’-二 tert-丁基苯基）苯並三唑、2- (2’-羥基- 3’-tert-丁基-ί 甲基苯基）苯並三唑、2-(2，-羥基-3’，5’-二461^-丁基 基）-5-氯苯並三唑、2- ( 2，-羥基- 3，- ( 3，，，4”，5，，，6，’-四 酞醯亞胺基甲基）-5’-甲基苯基）苯並三唑、2,2-伸甲 雙（4-(1，1，3,3-四甲基丁基）-6-(211-苯並三唑-2-基 酚）、2- ( 25·羥基-3’-tert-丁基- 5’-甲基苯基）-5·氯苯 三唑、2- ( 2H-苯並三唑-2-基）-6-(直鏈及側鏈月桂 -101 - 200823253 )-4 -甲基酚、辛基·3-〔 3-tert-丁基-4-羥基-5-(氯- 2H-苯 並三唑-2-基）苯基〕丙酸酯與2-乙基己基-3-〔 3-tert-丁 基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯並三唑-2-基）苯基〕丙酸酯的 混合物、2- ( 2H-苯並三唑-2-基）·4,6-雙（1-甲基-1-苯基 乙基）酚、2- (2Η-苯並三唑-2-基）-4,6-雙（1-甲基-1-苯 基乙基）酚、6- (2·苯並三唑）-4-t-辛基-6’-t-丁基- 4’-甲 基-2,2’伸甲基雙酚等，但不限定於此。

又，作爲販賣品，可舉出TINUVIN171、TINUVIN109 、 TINUVIN234 、 TINUVIN3 60 、 TINUVIN900 、 TINUVIN928 (皆爲 Ciba Specialty Chemicals 公司製）、 LA31 (旭電化公司製）、JAST-5 00 (城北化學公司製） 、Sumisorb 250 (住友化學公司製）。 作爲二苯甲酮系化合物之具體例，可舉出2,4_二經基 二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲 氧基-5-磺基二苯甲酮、雙（2 -甲氧基-4-經基-5-苯甲醯基 • 苯基甲烷）等，但未限定於此。 本發明中，紫外線吸收劑以添加0 · 1〜5質量％爲佳， 以添加0.2〜3質量％爲較佳，更佳爲〇·5〜2質量。/。。這幽 可並用2種以上。 又這些苯並三唑結構或二苯甲酮結構可爲聚合物的一 部份、或可規則地以側鏈方式導入於聚合物、可塑劑、抗 氧化劑、酸掃去劑等其他添加劑的分子結構一部份。 《可塑劑》 -102- 200823253 本發明的偏光板保護薄膜之製造中，薄膜形成材料中 含有至少1種可塑劑1〜30質量％爲佳。 可塑劑爲，一般藉由添加於高分子中而可改良脆弱性 、或賦予柔軟性之效果的添加劑，本發明中，欲降低熔融 溫度至比纖維素酯單獨下的熔融溫度更低，又相同加熱溫 度下欲將含有可塑劑之薄膜組成物的熔融黏度降低至比纖 維素酯單獨更低可添加可塑劑。又，添加作爲改善纖維素 φ 酯之親水性，改善光學薄膜之透濕度的透濕防止劑。 其中，所謂薄膜組成物之熔融溫度，表示該材料經加 熱而表現流動性之狀態的溫度。欲使纖維素酯進行熔融流 動，至少必須加熱至比玻璃轉移溫度更高之溫度。於玻璃 轉移溫度以上中，藉由熱量吸收會降低彈性率或黏度而表 現流動性。然而，纖維素酯於高溫下成熔融之同時藉由熱 分解而產生纖維素酯之分子量降低，對於所得之薄膜的力 學特性等會有壞影響，故必須盡可能於較低溫度下熔融纖 Φ 維素酯。欲降低薄膜組成物之熔融溫度，可添加具有比纖 維素酯之玻璃轉移溫度更低融點或玻璃轉移溫度之可塑劑 而達成。 本發明偏光板保護薄膜中，將具有下述一般式（2) 所示有機酸與3價以上之醇經縮合的結構之酯化合物，含 有1〜25質量％爲特佳。添加1質量％以上得到平面改善 效果，比25質量％少時可抑制漏出的產生，可維持薄膜之 經時安定性故佳。較佳爲含有該可塑劑3〜20質量％之偏 光板保護薄膜，更佳爲含有5〜1 5質量％之偏光板保護薄 -103- 200823253 膜。 [化 86]

式中，Ri〜R5表示氫原子或環烷基、芳烷基、烷氧基 、環烷氧基、芳氧基、芳烷基氧基、醯基、羰氧基、氧基 鑛基、氧基鑛氧基，這些可再具有取代基。L表示連結基 、取代或無取代的伸烷基、氧原子、或直接結合。 作爲Ri〜R5所不環院基，以碳數3〜8的環院基爲佳 ’具體爲環丙基、環戊基、環己基等基。這些基可再被取 代，作爲較佳取代基爲鹵素原子、例如，氯原子、溴原子 、氟原子等、經基、院基、院氧基、環院氧基、芳院基（ 該苯基亦可進一步地被烷基或鹵素原子等取代）、乙烯基 、烯丙基基等的烯基、苯基（該苯基亦可進一步地被烷基 或鹵素原子等取代）、苯氧基（該苯基亦可進一步地被院 基或鹵素原子等取代）、乙醯基、丙醯基等碳數2〜8之 醯基、又可舉出乙醯氧基、丙醯氧基等碳數2〜8的無取 代之羰氧基等。 作爲1^〜义5所示芳烷基表示苯甲基、苯乙基、”苯 基丙基等基’又m些基可再被取代，作爲較佳取代基，可 舉出與前述環烷基上可被取代之相同基。 作爲Ri〜R5所示烷氧基，可舉出碳數1〜8的烷氧基 ，具體爲甲氧基、乙氧基、η-丙氧基、心丁氧基、n_辛氧 -104- 200823253 基、異丙氧基、異丁氧基、乙基己氧基、或t•丁氧基等 各烷氧基。又，這些基可再被取代，作爲較佳取代基可舉 出鹵素原子、例如，氯原子、溴原子、氟原子等、羥基、 烷氧基、環烷氧基、芳烷基（該苯基亦可由烷基或鹵素原 子等）、烯基、苯基（該苯基亦可進一步地被烷基或鹵素 原子等取代）、芳氧基（例如苯氧基（該苯基亦可進一步 地被烷基或鹵素原子等取代））、乙醯基、丙醯基等醯基 φ ，又乙醯氧基、丙醯氧基等碳數2〜8的無取代之醯氧基 、又可舉出苯甲醯氧基等芳基羰氧基。 作爲Ri〜R5所示環烷氧基，可舉出字爲無取代的環 太兀氧基之碳數1〜8的環院氧基，具體可舉出環丙氧基、 環戊氧基、環己氧基等基。又，這些基可再被取代，作爲 較佳取代基’可舉出與前述環烷基上可被取代之相同基。 作爲Ri-R5所示芳氧基，可舉出苯氧基，但該苯基 可由作爲可由烷基或鹵素原子等前述環烷基所取代之基所 φ 舉出的取代基進行取代。 作爲Ri〜R5所示芳烷基氧基，可舉出苯甲基氧基、 苯乙氧基等，這些取代基可再被取代，作爲較佳取代基， 可舉出與前述環烷基上可被取代之相同基。 作爲Ri〜R5所示醯基可舉出乙醯基、丙醯基等碳數2 〜8的無取代之釀基（作爲釀基之煙基含有垸基、靖基、 炔基。）、這些取代基可進一步被取代，作爲較佳取代基 ，可舉出與前述環烷基上可被取代之相同基。 作爲Ri〜R5所示羰氧基可舉出乙醯氧基、丙醯氧基 -105- 200823253 2〜8的無取代之醯氧基（作爲醯基之烴基含有烷 、炔基。）、又可舉出苯甲醯氧基等芳基羰氧基 ’ ^些基可進一步由與可由前述環烷基所取代之基的相同 基所取代。 作爲1-115所示氧基羰基，表示甲氧基羰基、乙氧 基_基、丙氧基羰基等的烷氧基羰基、及苯氧基羰基等芳 氧基鑛基。這些取代基可再被取代，作爲較佳取代基，可 φ 舉出與前述環烷基上可被取代之相同基。 又’作爲1〜115所示氧基羰氧基，表示甲氧基羰氧 基等碳數1〜8的烷氧基羰氧基，這些取代基可再被取代 ’作爲較佳取代基，可舉出與前述環烷基上可被取代之相 同基。

Ri〜R5中任彼此可互相連結，形成環結構。 又，作爲L所示連結基，可表示取代或無取代的伸院 基、氧原子、或直接結合，作爲伸院基爲伸甲基、伸乙基 •、伸丙基等基，這些基可進一步由可由前述1〜115所示 基所取代之基所舉出的基所取代。 其中，作爲L所示連結基之特佳者爲直接結合之芳香 族羧酸。 又，這些構成本發明之可塑劑的酯化合物，作爲前述 一般式（2)所不有機酸爲，至少於Ri或具有前述院 氧基、醯基、氧基羰基、羰氧基、氧基羰氧基爲佳。又具 有複數之取代基的化合物亦佳。 且取代本發明中3價以上的醇之羥基的有機酸可爲單 -106- 200823253 一種或複數種。 本發明中，作爲與前述一般式（2)所示有機酸進行 反應形成多元醇酯化合物之3價以上的醇化合物，較佳爲 3〜20價之脂肪族多元醇，本發明中3價以上的醇如下述 一般式（3)所不者爲佳。 一般式（3 ) R，- ( OH ) m 式中，R’表示m價有機基，m表示3以上之正整數、 φ OH基表示醇性羥基。特佳爲m表示3或4之多元醇。 作爲較佳多元醇之例子可舉出以下者，但本發明爲不 限定於此。以戊五醇、阿糖醇、1，2，4 - 丁烷三醇、1，2，3 -己 烷三醇、1，2,6-己烷三醇、甘油、二甘油、赤蘚糖醇、季 四戊醇、二季四戊醇、三季四戊醇、半乳糖醇、葡萄糖、 纖維二糖、肌醇、甘露糖醇、3-甲基戊烷-1，3,5-三醇、 四甲基乙二醇、山梨糖醇、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷 、木糖醇等。特別以甘油、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷 # 、季四戊醇爲佳。 一般式（2)所示有機酸與3價以上之多元醇的酯， 可依據公知方法合成。實施例中雖舉出代表合成例，但前 述一般式（2)所示有機酸、與多元醇藉由例如酸存在下 進行縮合之酯化的方法、又將有機酸預先成酸氯化物或酸 酐，與多元醇進行反應之方法、有機酸的苯基酯與多元醇 進行反應之方法等，依據目的之酯化合物適宜地選擇，， 收率高之方法爲佳。 作爲一般式（2)所示有機酸與3價以上的多元醇之 -107- 200823253 酯所成的可塑劑，以γ β 、 [化87] 处一般式（4 )所示化合物爲佳。 一般式(4)

基、環焼氧基、芳氧基、芳院基氧基、醯基、㈣基、氧 基鑛基、冑基羰氧基，這些可再具有取代基。&表示氨 原子或院基。 R6〜R2〇的環烷基、芳烷基、烷氧基、環烷氧基、芳 氧基、芳院基氧基、醯基、羰氧基、氧基羰基、氧基羰氧 基中，可舉出與前述一般式（2)之Ri〜R5的相同基。 如此所得之多元醇酯的分子量並無特別限定，以300 〜1500爲佳，以400〜1000爲更佳。分子量過大者較難揮 發而不佳，由透濕性、與纖維素酯之相溶性的觀點來看以 較小者爲佳。 以下舉例出使用於本發明之多元醇酯的具體化合物。 [化 88]

-108- 200823253 [化 89]

578.52

Ο ο

〇 丫 CH3

200823253 [化 90]

-110- 200823253 [化 91] 21

848.71 〇

-111 - 200823253 [化 92]

-112 200823253 [化9¾

-113- 200823253 [化 94]

-114- 43200823253 [化 95]

536.57 ,0、 yU°Y^ c2h5 o 536.57 44

H3CO

626.65

46

H3CO

OCH3 〇 c2h5 〇 och3 626.65 626.65

-115- 200823253 [化 96]

-116- 200823253 [化 97]

-117- 200823253 [化 99]

61

ΡΕΤΒ GTB

Hxr。 〇 ά

OuXojO 有關本發明之偏光板保護薄膜的製造，至少將由前述 一般式（2)所示有機酸及3價以上的多元醇所製造之酯 化合物作爲可塑劑而以1〜25質量％含有爲佳，亦可並用 此以外之可塑劑。 前述一般式（2)所示有機酸與3價以上之多元醇所 成之酯化合物因具有對纖維素酯之相溶性高，且可高添加 率下添加之特徵，即使並用其他可塑劑或添加劑亦不會產 生外漏，視必要可容易地並用其他種類的可塑劑或添加劑 〇 且並用其他可塑劑時，上述可塑劑之含有量至少爲可 -118- 200823253 塑劑全體之50質量％以上爲佳。較佳爲70%以上，更 含有80%以上。僅於如此範圍下使用，即使並用其他 劑，可得到提高熔融流延時之纖維素酯薄膜的平面性 定效果。 作爲可並用之其他可塑劑，脂肪族羧酸-多元醇 塑劑、特開2003- 1 2823公報段落30〜33所記載的芳 羧酸或環烷基羧酸-多元醇酯系可塑劑、或二辛基己 φ 酯、二環己基己二酸酯、二苯基琥珀酸酯、二-萘基 環己烷二羧酸酯、三環己基三碳酸酯、四3 -甲基苯基 呋喃-2,3,4,5-四羧酸酯、四丁基·1，2,3,4-環戊烷四羧 、三苯基-1，3,5-環己基三羧酸酯、三苯基苯-1，3,5-四 酯' 酞酸系可塑劑（例如二乙基酞酸酯、二甲氧基乙 酸酯、二甲基酞酸酯、二辛基酞酸酯、二丁基酞酸 二-2-乙基己基酞酸酯、二辛基酞酸酯、二環己基酞酸 =環己基對苯二甲酸酯、甲基酞醯基甲基乙醇酸酯、 ® 酞醯基乙基乙醇酸酯、丙基酞醯基丙基乙醇酸酯、丁 醯基丁基乙醇酸酯等）、檸檬酸系可塑劑（檸檬酸乙 三甲基、檸檬酸乙醯基三乙基、檸檬酸乙醯基三丁基 等多價羧酸酯系可塑劑、三苯基磷酸酯、聯苯基二苯 酸酯、伸丁基雙（二乙基磷酸酯）、伸乙基雙（二苯 酸酯）、伸苯基雙（二丁基磷酸酯）、伸苯基雙（二 磷酸酯）（旭電化製 ADK STABPFR )、伸苯基雙（ 甲苯基磷酸酯）（旭電化製ADKSTABFP500)、雙 一苯基磷酸酯（旭電化製ADK STABFP600 )等磷酸 佳爲 可塑 之一 系可 香族 二酸 -1,4- 四氫 酸酯 羧酸 基酞 酯、 酯、 乙基 基酞 醯基 等） 基碟 基磷 苯基 二伸 酚A 酯系 -119- 200823253 可塑劑、例如特開2002-22956的段落號碼49〜56所記載 的聚合物聚酯等、聚醚系可塑劑等。 然而，磷酸系可塑劑藉由水解產生強酸，促進可塑劑 本身及纖維素酯之水解。因此，保存安定性較差，使用於 藉由纖維素酯之熔融流延法進行製膜時，會有產生薄膜之 著色等問題，而使用酞酸酯系可塑劑，故使用多元羧酸酯 系可塑劑、檸檬酸酯系可塑劑、聚酯系可塑劑、聚醚系可 φ 塑劑爲佳。 且，本發明之偏光板保護薄膜若著色時會影響到光學 用途，較佳爲黃色度（黃色指標、YI )爲3.0以下，較佳 爲1.0以下。黃色度可依據JIS-K7 103進行測定。 《黏度低下劑》 本發明中，以減低熔融黏度作爲目的，可添加氫鍵性 溶劑。所謂氫鍵性溶劑，如J.N.Israelachvili著，「分子 Φ 間力與表面力」（近藤保、大島廣行譯、McGraw-Hill出 版、1991年）所記載，於電性爲陰性之原子（氧、氮、氟 、氯）與電性爲陰性之原子經共價鍵之氫原子間產生之可 產生氫原子媒介「鍵結」的有機溶劑，即，鍵距較大，且 含有氫之鍵，例如，其爲藉由含有0-H (烴鍵）、N-H ( 氮氫鍵）、F-H (氟氫鍵）而接近的分子間可排列之有機 溶劑。此爲與纖維素酯之分子間氫鍵比較，具有與纖維之 間可形成更強氫鍵的能力者而言，本發明所進行的熔融流 延法中，與所使用的纖維素酯單獨之玻璃轉移溫度比較， -120- 200823253 藉由氫鍵性溶劑之添加可降低纖維素酯組 、或相同熔融溫度下與纖維素酯比較，可 溶劑之纖維素酯組成物的熔融黏度。

作爲氫鍵性溶劑，例如爲醇類：例如 丙醇、異丙醇、η-丁醇、sec-丁醇、t-丁醇 庚醇、辛醇、壬醇、十二烷醇、乙二醇、 、二丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、甲基 φ 纖劑、丁基溶纖劑、己基溶纖劑、甘油等 甲基乙基酮等、羧酸類：例如甲酸、乙酸 、醚類：例如，二乙基醚、四氫呋喃、二 酮類：例如，N-甲基吡咯烷酮等、胺類·· 基胺、吡啶等。這些氫鍵性溶劑可單獨下 使用。其中以醇、酮、醚類爲佳，尤其甲 、異丙醇、辛醇、十二烷醇、乙二醇、甘 呋喃爲佳。且以如甲醇、乙醇、丙醇、異 # 甘油、丙酮、四氫呋喃之水溶性溶劑爲特 溶性爲對於水l〇〇g而言，溶解度爲10g A 《滯留調整劑》 本發明的偏光板保護薄膜中形成配向 ，可進行光學薄膜與來自液晶層之滯留經 學補償能之偏光板加工，使用調整滯留之 光板保護薄膜中。 使用於調整滯留所添加之化合物可 成物之熔融溫度 降低含有氫鍵性 ，甲醇、乙醇、 、2-乙基己醇、 丙二醇、己二醇 溶纖劑、乙基溶 、酮類：丙酮、 、丙酸、丁酸等 喔院等、卩比略院 例如可舉出三甲 或混合2種以上 醇、乙醇、丙醇 油、丙酮、四氫 丙醇、乙二醇、 佳。其中所謂水 (上者。 膜而設置液晶層 複合化後賦予光 化合物可含於偏 使用歐洲專利第 -121 - 200823253 911，656A2號說明書所記載之具有二個以上之芳香族環的 芳香族化合物。又可合倂2種類以上之芳香族化合物使用 。該芳香族化合物之芳香族環中除芳香族烴環以外亦可含 有芳香族性雜環。芳香族性雜環爲特佳，芳香族性雜環一 般爲不飽和雜環。其中具有本發明之1，3,5-三嗪環的化合 物爲佳。 φ 《消光劑》 本發明之偏光板保護薄膜於賦予潤滑性或光學性、機 械性功能時可添加消光劑。作爲消光劑可舉出無機化合物 之微粒子或有機化合物之微粒子。 消光劑的形狀可爲球狀、棒狀、針狀、層狀、平板狀 等形狀。作爲消光劑，例如可舉出二氧化矽、二氧化鈦、 氧化鋁、氧化銷、碳酸鈣、陶土、滑石、燒成矽酸鈣、水 和矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、磷酸鈣等金屬之氧化物、磷 # 酸鹽、矽酸鹽、碳酸鹽等無機微粒子或交聯高分子微粒子 。其中又以二氧化矽因可降低薄膜之霧値而較佳。這些微 粒子可藉由有機物進行表面處理，因可降低薄膜之霧値故 較佳。 表面處理係以鹵矽烷類、烷氧基矽烷類、矽氮烷、矽 氧烷等進行爲佳。微粒子的平均粒徑較大者其潤滑性效果 較大，相反地平均粒徑較小者其透明性較優良。又，微粒 子的一次粒子之平均粒徑爲0.01〜1.0 μιη的範圍時爲佳。 微粒子的一次粒子之平均粒徑以5〜50nm爲佳，更佳爲7 -122- 200823253 〜14nm。這些微粒子因可於偏光板保護薄膜表面上生成 0.01〜1 .Ομιη之凹凸故較佳。 作爲二氧化矽之微粒子可舉出日本AEROSIL (股）製 之 AEROSIL 200、200V、300、R972、R972V、R974、 R202、R812、0X50、TT600 等，較佳爲 AEROSIL200V、 R972、R972V、R974、R202、R812。這些微粒子可合倂 2 種以上使用。 合倂2種以上使用時，可任意比率下混合使用。平均 粒徑或材質之相異微粒子，例如，以質量比爲0.1 : 99.9 〜99.9: 0.1 的範圍下使用 AEROSIL200V 與 R972V。 這些消光劑之添加方法可藉由混煉等方式進行爲佳。 又，做爲其他形態，預先分散於溶劑之消光劑與纖維素酯 及/或可塑劑及/或紫外線吸收劑經混合分散後，使溶劑經 揮發或沈澱後得到固體物，將此使用於纖維素酯熔融物之 製造過程中，可使消光劑均勻地分散於纖維樹脂中故較佳 〇 欲改善薄膜之機械性、電性、光學性特性可添加上述 消光劑。 且添加這些微粒子下，所得之偏光板保護薄膜的潤滑 性可提高’添加下霧値可提高，含有量以0.001〜5質量％ 爲佳，較佳爲0.005〜1質量％，更佳爲〇〇1〜〇·5質量％ 〇 且’作爲本發明之偏光板保護薄膜，其霧値値若超過 1.0%時，會影響到作爲光學用材料之作用，霧値値未達 -123- 200823253 1 · 0 %爲佳，較佳爲未達0 · 5 %。霧値値可依據Π S - K7 1 3 6進 行測定。 薄膜構成材料於熔融及製膜步驟中，要求較少或不產 生揮發成分者。此爲加熱熔融時發泡，消除或迴避薄膜内 部之缺陷或薄膜表面之平面性劣化。 《熔融流延法》 φ 本發明之偏光板保護薄膜藉由熔融流延形成。不用溶 液流延法中所使用的溶劑（例如氯化伸甲基等），藉由加 熱熔融之熔融流延的成形法，更詳細可分類爲熔融壓出成 形法、壓出成形法、吹塑成形法、射出成形法、吹氣成形 法、延伸成形法等。其中，欲得到機械性強度及表面精度 等優良的偏光板保護薄膜，使用熔融壓出法爲佳。 欲以熔融流延法得到本發明的偏光板保護薄膜，首先 使用纖維素酯或添加劑之混合物，製作出顆粒狀成型物爲 Φ 佳。作爲顆粒狀之成型物之製作方法，可舉出藉由2軸壓 出機於纖維素酯的玻璃轉移溫度以上，融點+ 30 °C以下的 溫度中，組成物經熔融壓出後得到棒狀紗狀物後，剪裁爲 所望尺寸之方法等。 因纖維素酯爲藉熱會顯著劣化的材料，故於不會劣化 之溫度下成型之方法爲佳。 混和纖維素酯與本發明之添加劑所得的成型物之尺寸 爲 lmmxlmmxlmm〜20mmx20mm><20mm之立方體的範圍 内時可得到本發明的效果故較佳。熔融壓出法中，若比 -124 - 200823253 1 mm xl mm xl mm小時，成型物投入時會造成堵塞而無法穩 定下供給，又若比 20mmx20mmx20mm大時，成型物的熔 融及粉碎性會變差，結果恐怕會堵住投入口，而使得生産 性顯著惡化。又，若比1 mm X 1 mm X 1 mm小時，成型物之比 表面積會變大而與空氣（特別爲氧與水）之接觸面積亦變 大，使得纖維容易劣化，且分子量降低，結果恐怕會降低 機械性強度。推壓加熱溶融法中，比 20mmx20mmx20mm φ 大時難以得到膜厚較小（ΙΟΟμιη以下）之薄膜。又，膜厚 上容易產生不均。（膜厚精度會惡化。） 作爲成型物時，欲使樹脂與添加劑密著，提高混合· 分散性。又，與空氣（特別爲氧與水）之接觸面積因變小 ，對於纖維素酯之劣化亦有利。 例如，將本發明所使用的纖維素酯及添加劑的混合物 經熱風乾燥或真空乾燥後，經熔融壓出再由Τ型塑模壓成 薄膜狀，藉由靜電外加法等於冷卻滾筒密著，並冷卻固化 # 後得到未延伸薄膜。 本發明中所使用的纖維素酯及添加劑以0.1〜20mm程 度之粉體、或顆粒爲佳。依原料爲含有之水分量較多而必 須乾燥者。乾燥可爲單獨乾燥或亦可混合複數種原料後乾 燥。纖維素酯爲經加熱後會產生酸，該酸所引起分解劣化 之進行，故欲使其不要產生酸而於60〜90°C程度下乾燥爲 佳。欲提高所到達之乾燥水準，使用露點較低的乾燥空氣 、或減壓至真空乾燥亦佳。較佳露點爲-20 °C以下。較佳露 點爲-2 0°C以下，更佳爲-3 0°C以下。依添加劑爲融點較低 -125- 200823253 者’混合後乾燥時’欲使乾燥中不要黏著而硬化，必須於 使用材料中融點最低之物質的融點以下之溫度中進行乾燥 ° S然可單獨下乾燥後再混合’但混合中會有吸濕現象產 生，故混合後再乾燥爲佳。 乾燥終了之原料爲馬上送至壓出機、或欲防止吸濕故 經維持於高溫低露點至減壓的貯藏庫中保管後再送至壓出 機。 Φ 作爲原料，於製膜後剪裁之殘餘部分或捲取後未成爲 製品的損失部分的薄膜可回收後再使用。回收薄膜一般經 粉碎後供給，但亦可成形爲顆粒狀後供給、或經造粒後供 給。回收薄膜雖亦必須乾燥，但可單獨下進行乾燥、或與 原始聚合物原料進行混合後乾燥，或與添加劑混合後再乾 燥。 熔融壓出可舉出一軸壓出機、二軸壓出機、或進一步 將2臺壓出機以直列方式連結後串連壓出等，本發明中以 # 使用將2台壓出機以直列方式連結之串連壓出爲佳。 於該壓出機下游可設置塑模後直接壓出而製膜、或設 置紗狀物塑模後一旦顆粒化後再壓出該顆粒之製膜。 且將原料槽、原料之投入部、壓出機内之原料供給、 熔融步驟，由氮氣體等惰性氣體取代、或減壓下進行爲佳 。本發明中，欲混合纖維素酯與複數種添加劑，使用混煉 性能優良的二軸壓出機進行顆粒化後，使用定量性良好的 單軸壓出機進行熔融壓出之製膜爲佳。 特別於製造薄膜上要留意的事爲，儘可能不要造成機 -126- 200823253 械性壓力下進行加熱熔融之方法爲佳。作爲既有的裝置爲 1軸壓出機、熱壓機等。使用1軸壓出機的情況爲，於可 得到透明薄膜之溫度下，儘可能於低溫下且短時間內壓出 爲佳。自投入口至塑模的途徑中，纖維素酯的玻璃轉移溫 度設定爲：Tg〜融點：Tm+ 50°C之溫度爲佳，隨著接近塑 模，階段式地提高溫度爲佳。塑模的溫度以設定爲Tm〜 Tm+ 30°C爲佳。 φ 滯留時間（壓出時間）爲盡可能短時間爲佳。20〜 3 60秒爲佳，較佳爲20〜6 0秒。滯留時間若過長，恐怕劣 化變的顯著，且若過於短時，恐怕熔融會不充分。滯留時 間可藉由位移轉數、成型物之黏彈性、加熱溫度等做調整 〇 本發明的前述熔融壓出時之溫度爲150〜300 °C，較佳 爲200〜280°C之溫度範圍。 於壓出機下游配置齒輪幫浦、過濾器爲佳。齒輪幫浦 # 可定量地搬運熔融樹脂，故可適用於使拉出的薄膜之膜厚 成均等。齒輪幫浦的前面設置欲保護齒輪幫浦之過濾器爲 佳。齒輪幫浦有2齒輪型式、3齒輪型式等，但定量性較 佳者爲3齒輪型式。於齒輪幫浦下游配置主過濾器。主過 濾器可減少製品薄膜中之異物，提高製品品質。 塑模係以T塑模爲佳。具備推拉式螺栓、唇形加熱器 、加熱螺栓等唇間隙調整機制調整膜厚成均一。因唇部容 易受傷，施予鍍敷或進行如類鑽碳（Diamond-Like Carbon )之超硬度處理亦佳。吐出方向可爲水平方向或垂直方向 -127- 200823253 。亦可配合拉取輥而往傾斜方向吐出。 吐出後的熔融薄膜之拉取，可藉由靜電外加法等密著 於冷卻滾筒之拉取方法、或亦可使用於2根輥間挾著熔融 薄膜而拉取之方法。 本發明中，作爲前述2根輥內之1根，自流延塑模壓 出之偏光板保護薄膜藉由，金屬製外筒與内筒之間具有流 入流體之空間的下述彈性接觸輥於冷卻輥中推壓下進行搬 φ 送時可減低製膜時所產生的條紋或斑故較佳。 本發明中較佳彈性接觸輥爲，形成金屬製外筒與内筒 之2重結構，具有其間流入冷卻流體之空間者。且金屬製 外筒因具有彈性，可更精確地控制接觸輥表面之溫度，且 適度地利用彈性變形性質，因具有往長方向壓薄膜成距離 之效果，可減少因熱所產生的劣化或變形。金屬製外筒之 厚度範圍爲0.003 ^(金屬製外筒之厚度）/(接觸輥半徑 )S0.03即可，可具有適度之彈性而較佳。接觸輥之半徑 φ ，即金屬外筒之半徑越大，金屬外筒之厚度即使較厚亦可 適度地彎曲。接觸輥的直徑爲100mm〜600mm爲佳。金屬 製外筒之厚度若過薄時強度會不足，恐怕有破損之疑慮。 另一方面，若過厚時，輥質量會過重，恐怕有轉動不均之 疑慮。因此，金屬外筒之厚度以0.1〜5mm爲佳。 金屬外筒表面之表面粗度以Ra爲0.1 μπι以下爲佳’ 0· 05 μιη以下爲更佳。輥表面越平滑，所得之薄膜表面亦 可越平滑。 金屬外筒之材質爲平滑且具有適度彈性時’可得到耐 -128- 200823253 久性。可使用碳鋼、不鏽鋼、鈦、以電鑄法所製造之鎳等 爲佳。且可提高該表面之硬度，可改良與樹脂之剝離性， 故施予硬鉻鍍、或鎳鍍、非晶質鉻鍍等、或陶瓷溶射等表 面處理爲佳。經表面加工之表面可進一步硏磨後使其成爲 上述之表面粗度爲佳。 内筒爲以碳鋼、不鏽鋼、鋁、鈦等輕量且具有剛性之 金屬製内筒爲佳。因於内筒具有剛性，故可抑制輥之轉動 φ 搖晃。内筒之厚度爲外筒之2〜1 0倍時可得到充分的剛性 。於内筒亦可進一步以聚矽氧烷、氟橡膠等樹脂製彈性材 料被覆。 流動冷卻流體之空間的結構僅爲可均勻地控制輥表面 之溫度者即可，例如使其往寬方向時返回可交互流動、或 因成螺旋狀流動故可將輥表面之溫度分佈控制爲較小溫度 。冷卻流體並無特別限定，可配合所使用之溫度區域，使 用水或油。 φ 接觸輥之表面溫度比薄膜之玻璃轉移溫度（Tg )低爲 佳。比Tg高時，薄膜與輥的剝離性會有劣化之情況。若 過低時，自薄膜中之揮發成分會於輥析出，故以1 o°c〜 Tg-10°c爲更佳。 此所謂Tg爲，薄膜的Tg，依據DSC測定（昇溫速度 10°c/分鐘）求得，底線開始偏離之溫度。 本發明所使用的彈性接觸輥爲，寬方向之中央部比端 部的徑更大，即所謂的冠狀輥之形狀爲佳。接觸輥一般爲 將該兩端部以推壓手段壓成薄膜，但此時接觸輥因具有撓 129- 200823253 性，越往端部推壓會有越強之現象，因輥爲冠狀形狀故可 均勻高度下進行推壓。 因本發明所使用的彈性接觸輥之寬爲比薄膜幅更寬， 故可使薄膜全體密著於冷卻輥故較佳。又，牽伸比越大， 薄膜之兩端部因縮幅現象而可能成爲耳高（端部之膜厚變 厚）之情況。此時欲迴避耳高部，可使金屬製外筒之寬度 比薄膜寬度更窄。或將金屬製外筒的外徑縮小而避開耳高 • 部。 作爲金屬製彈性接觸輥之具體例，可舉出專利第 3 1 94904號、專利第3422798號、特開2002-363 32號、特 開2002-3 63 3 3號所記載之成形用輥。 欲防止接觸輥之彎曲，對於冷卻輥於接觸輥之反側可 設置支持輥。 亦可配置清除接觸輥之污染的裝置。作爲清掃裝置， 例如可使用將輥表面依所需浸透於溶劑之不織布等部材壓 • 於輥之方法、於液體中與輥接觸之方法、藉由電暈放電或 發光放電等電漿放電將輥表面之污垢揮發的方法等。 欲使接觸輥之表面溫度更爲均勻，於接觸輥與溫調輥 接觸、或吹入經溫度控制之空氣、或與液體等熱媒體接觸 皆可。 本發明中，進一步地將接觸輥推壓時的接觸輥線壓調 整爲lkg/cm以上，15kg/cm以下爲佳。將接觸輥線壓於該 範圍時，可得到熔融流延法所製造之纖維樹脂薄膜的熱所 引起的變形較少的偏光板保護薄膜。所謂線壓爲，將接觸 -130- 200823253 輥推壓於薄膜的力量除以推壓時的薄膜寬度所得値。使線 壓於上述範圍之方法並無特別限定，例如可藉由汽缸或油 壓注射筒等對輥兩端推壓。因藉由支持輥推壓接觸輥，故 亦可間接地推壓薄膜。 以接觸輥推壓薄膜時的薄膜溫度越高時，越可減低變 形，但過於高時，可能產生其他變形。此可推測爲自薄膜 中之揮發成分經揮發後，以接觸輥進行推壓時無法均勻地 φ 推壓而導致。本發明中將接觸輥側薄膜表面溫度T成Tg <T<Tg+110°C爲佳。使推壓時的薄膜溫度爲上述範圍之 方法並無特別限定，例如可舉出使塑模與冷卻輥間之距離 接近，抑制塑模與冷卻輥間之冷卻的方法、或將塑模與冷 卻輥間以隔熱材包圍使其保溫、或熱風或紅外線加熱器或 微波加熱等進行加溫之方法。當然可將壓出溫度設定爲更 薄膜表面溫度及輥表面溫度可由非接觸式紅外溫度計 # 測定。具體爲使用非接觸手操作溫度計（IT2-80、（股） Keyence製）於薄膜之寬方向的10處由被測定物以〇.5m 之距離進行測定。 接觸輥側薄膜表面溫度T表示，將被搬送之薄膜以剝 離接觸輥之狀態下由接觸輥側以非接觸式紅外溫度計進行 測定之薄膜表面溫度。 冷卻輥爲，具備以高剛性金屬輥於内部流動成爲可溫 度控制之熱媒體或冷媒體的結構之輥，尺寸雖未被限定， 僅爲可充分地冷卻經熔融壓出的薄膜之尺寸即可，一般的 -131 · 200823253 冷卻輥之直徑爲100mm至lm程度。冷卻輥的表面材質可 舉出碳鋼、不鏽鋼、鋁、鈦等。且欲提高表面之硬度、或 與樹脂之剝離性可改良，可施予硬鉻鍍、鎳鍍、或非晶質 鉻鍍等、或陶瓷溶射等表面處理爲佳。冷卻輥表面的表面 粗度以Ra爲Ο.ίμιη以下時爲佳，0·05μιη以下爲更佳。輥 表面越平滑，所得之薄膜表面亦可更平滑。當然經表面加 工之表面再經硏磨使其成爲上述表面粗度爲佳。 φ 又，含有纖維素酯樹脂之熔融物與其他熱塑性樹脂比 較，熔融黏度較高，延伸亦較難進行。因此，牽伸比若過 大時有著在搬送方向容易產生膜厚變動，又拉幅步驟下進 行延伸時亦容易斷裂之問題，一般以牽伸比7〜8程度下 實施，但本發明中，含有纖維樹脂之熔融物自塑模壓出成 薄膜狀，將所得之牽伸比1 〇以上3 0以下之薄膜以彈性接 觸輥於冷卻輥上一邊推壓一邊搬送爲佳。 所謂牽伸比爲，將塑模的唇間隙除以於冷卻輥上固化 φ 之薄膜的平均膜厚所得値。使牽伸比於該範圍時，在液晶 顯示裝置顯示影像時，可減少條紋或斑點狀不均之產生， 可得到生産性良好之偏光板保護薄膜。牽伸比可藉由塑模 唇間隙與冷卻輥之拉取速度而調整。塑模唇間隙以900μιη 以上爲佳，以1mm以上2mm以下爲更佳。 又，由塑模出口吸引出冷卻滾筒或拉取輥之周圍環境 氣體下進行爲佳。其爲防止由經熔融壓出之薄膜的聚合物 分解物或可塑劑等添加劑之揮發、以及防止於塑模唇或輥 的污染附著。吸引爲自塑模唇吐出樹脂後馬上設置爲佳。 -132- 200823253 揮發氣體除去效果包圍周圍爲佳。包圍下吸引時，通過隙 間吸引周圍之空氣會使自塑模唇吐出的樹脂薄膜搖動而造 成膜厚不均，故包圍吸引風量與同量之新鮮空氣下進行供 給較佳。供給空氣之溫度若不定會使樹脂薄膜之溫度會產 生變化而造成膜厚不均，故控制一定溫度爲佳。即使施予 如此措施，亦無法完全解決自熔融薄膜之揮發氣體所造成 的輥污染，故於拉取輥或冷卻滾筒中設置清掃裝置爲佳。 Φ 清掃裝置可爲薄膜成形中一直持續發揮其功能之型式、與 定期性地中斷薄膜成形之功能的型式皆可。 本發明的偏光板保護薄膜爲，於寬方向或製膜方向或 兩方向進行延伸製膜之薄膜爲佳。 將自前述冷卻滾筒剝離後所得之未延伸薄膜介著複數 輥群及/或紅外線加熱器等加熱裝置，自纖維素酯之玻璃 轉移溫度（Tg )加熱至Tg+ 100°c的範圍内，進行一段或 多段縱延伸爲佳。延伸的倍率爲可滿足於製品所要求的滯 _ 留而選自5〜200%的範圍。 其次，將如上述所得之往縱方向延伸的偏光板保護薄 膜於Tg-2 0°C〜Tg+ 20°C的溫度範圍内以 5〜200%的範圍 進行橫延伸，其次進行熱固定爲佳。 進行橫延伸時，以分割爲2個以上之延伸區域下一邊 將溫度差逐次於1〜50°C的範圍下昇溫，一邊進行橫延伸 ，寬方向之物性分佈可減低故較佳。且，橫延伸後，將薄 膜於該最終橫延伸溫度以下，Tg-40°C以上的範圍中保持 0.0 1〜5分鐘時，寬方向之物性分佈會更減低故更佳。延 -133- 200823253 伸的順序並未限定爲縱、橫之順序’亦可爲橫、縱之順序 〇 又同時二軸延伸亦可適用。逐次延伸中第2段延伸時 有著容易斷裂的傾向，但同時二軸延伸較難斷裂’具有縱 橫之配向爲均一之優點。 熱固定爲比該最終橫延伸溫度還高溫，Tg+ 50 °C以下 之溫度範圍内，一般爲進行〇·5〜300秒間之熱固定。此 φ 時，以分割爲2個以上之區域下一邊將溫度差逐次於1〜 100 °C的範圍下昇溫，一邊進行熱固定爲佳。 經熱固定後的薄膜一般爲冷卻至Tg以下，剪斷薄膜 兩端之夾子把持部分後捲取。此時，最終熱固定溫度以下 ，Tg_ 3 0 °C以上之溫度範圍内，於橫方向及/或縱方向進行 0.1〜10%弛緩處理爲佳。又冷卻爲自最終熱固定溫度至 Tg以每秒1 0 0 °C以下的冷卻速度下徐徐冷卻爲佳。冷卻、 弛緩之處理手段並無特別限定，可進行過去已知的手段， # 特別爲以複數溫度區域下一邊逐次冷卻一邊進行這些處理 時，由提高薄膜之尺寸安定性的觀點來看較佳。且，冷卻 速度係由，最終熱固定溫度爲T1，薄膜由最終熱固定溫 度到達Tg之時間爲t時，以（Tl-Tg ) /t所求之値。 這些熱固定條件、冷卻、弛緩處理條件的最適條件爲 ，取決於構成薄膜之纖維素酯，故測定所得之延伸薄膜的 物性，適宜地調整成具有較佳特性來決定即可。 又，製膜步驟中，經剪斷之薄膜兩端的夾子把持部分 經粉碎處理後、或視必要進行造粒處理後，可作爲相同品 -134- 200823253 種之薄膜用原料或作爲相異品種之薄膜用原料再利用。 (延伸操作、折射率控制） 本發明的偏光板保護薄膜作爲相位差薄膜使用時，藉 由延伸操作進行折射率控制爲佳。作爲延伸操作，於纖維 素酯的1方向成1.0〜2.0倍及於薄膜面内與其成直交之方 向成1 · 0 1〜2 · 5倍延伸時，可控制於較佳範圍之折射率。 φ 例如薄膜的長方向（製膜方向）及與其以薄膜面内成 直交之方向，即對於寬方向，可逐次或同時進行延伸。此 時對於至少1方向之延伸倍率若過小時無法得到充分的相 位差，若過大則延伸會困難而產生斷裂現象。 例如經熔融後往流延方向延伸時，寬方向之收縮若過 大時，薄膜的厚度方向之折射率會過大。此時，可抑制薄 膜之寬收縮、或亦可得到往寬方向延伸等改善。往寬方向 延伸時，會有寬方向產生折射率分佈之情況。此爲使用拉 # 幅法時可能見到的現象，因往寬方向進行延伸，於薄膜中 央部會產生收縮力，此爲固定端部時所產生的現象，可推 測爲所謂之彎曲（bowing )現象。此時，亦於往該流延方 向進行延伸，可抑制彎曲現象，使得寬邊的相位差之分佈 變少而得到改善。 且，藉由往互相平行之2軸方向進行延伸時，所得之 薄膜的膜厚變動會減少。偏光板保護薄膜之膜厚變動若過 大時會使相位差變的不均，使用於液晶顯示器時，會有著 色等不均之問題。 -135- 200823253 偏光板保護薄膜的膜厚變動爲±3%，更佳爲±1 %的範 圍。對於如上述之目的，往互相直交的2軸方向進行延伸 之方法爲有效，互相直交之2軸方向的延伸倍率於各最終 之流延方向爲1·0〜2.0倍，寬方向爲1.01〜2.5倍的範圍 時爲佳，往流延方向爲1·〇1〜1.5倍，寬方向爲1.05〜2.0 倍的範圍下進行爲佳。 對於應力，使用得到正複折射之纖維素酯時，因往寬 φ 方向進行延伸，可賦予偏光板保護薄膜之遲相軸於寬方向 。此時，本發明中欲提高顯示品質，偏光板保護薄膜的遲 相軸於寬方向上較佳，必須滿足（寬方向之延伸倍率）> (流延方向之延伸倍率）。 延伸帶狀物的方法並無特別限定。例如可舉出對於複 數輥賦予周速差，其間利用輥周速差往縱方向延伸之方法 、將帶狀物的兩端以夾子或針固定，將夾子或針之間隔往 進行方向擴充再往縱方向進行延伸之方法，同樣地往橫方 # 向擴充後往橫方向進行延伸之方法、或同時往縱橫方向擴 充並往縱橫兩方向進行延伸之方法等。當然這些方法可組 合後使用。又，所謂拉幅法的情況爲，以線性驅動方式將 夾子部分進行驅動時可進行滑動式延伸，可減少斷裂等危 險性產生故較佳。 製膜步驟的彼等寬保持或橫方向之延伸可藉由拉幅進 行爲佳，針拉幅或夾子拉幅皆可。 將本發明的偏光板保護薄膜作爲相位差薄膜使用時， 進行上述延伸操作，於23°C、55%RH的環境下，波長 -136- 200823253 590nm中之式（a)所示面内滯留値R〇爲10〜lOOnm，較 佳爲20〜80nm的範圍，式（b)所示厚度方向滯留値Rt 爲80〜400nm，較佳爲100〜250nm的範圍，且Rt/Ro爲 2·0〜5.0的範圍爲佳。 式（1) Ro = ( nx-ny) x d 式（2) Rt 二{ (nx+ny) /2-nz} xd (其中，薄膜面内遲相軸方向的折射率以nx表示， φ 於遲相軸呈直交方向的折射率以ny表示，薄膜厚度方向 的折射率以nz表示，d表示薄膜的膜厚（nm )。） 本發明的偏光板保護薄膜的厚度以10〜500 μιη爲佳。 特別爲20μπι以上，35μιη以上爲更佳。又，150μηι以下爲 佳，更佳爲120 μιη以下。特佳爲25以上〜90 μιη。偏光板 保護薄膜的厚度僅爲5 00 μηι以下，偏光板加工後之偏光板 不會過厚，對於使用於筆記型電腦或攜帶型電子機器之液 晶顯不上’特別適用於薄型輕量之目的上。另一方面，僅 # 爲上述1 〇μ^以上，可表現滞留性，可於較低條件下控制 薄膜之透濕性，對於偏光子可賦予由濕度之保護能力故較 佳。 本發明的偏光板保護薄膜的遲相軸或進相軸存在於薄 膜面内，與製膜方向所成之角度爲Θ1時，Θ1以-1。以上+ 1°以下爲佳，-〇·5°以上+ 0.5°以下爲較佳。該01可定義爲 配向角，Θ1之測定爲使用自動複折射計KOBRA-21 ADH ( 王子計測機器）進行。Θ 1滿足上述各關係時，可得到顯示 影像之高亮度’並可抑制或防止光漏，於彩色液晶顯示裝 -137- 200823253 置可得到忠實的顏色重現。 〈功能性層〉 本發明的偏光板保護薄膜之製造時，於延伸前及/或 後，可塗佈防靜電層、硬塗層、防反射層、易滑性層、易 接著層、防眩層、障礙層、光學補償層、背塗佈層等功能 性層。特別設置至少1層之選自防靜電層、硬塗層、防反 φ 射層、易接著層、防眩層、及背塗佈層者爲佳，該防反射 層欲減低反射率，含有中空微粒子爲特佳。此時可視必要 進行電暈放電處理、電漿處理、薬液處理等各種表面處理 〈偏光板〉

本發明的具有偏光板保護薄膜之偏光板的製作方法並 無特別限定，可使用一般方法製作。將所得之偏光板保護 # 薄膜經鹼處理，對於將聚乙烯基醇薄膜或乙烯單位之含有 量1〜4莫耳％，聚合度2000〜4000，皂化度99.0〜99.99 莫耳％之乙烯變性聚乙烯基醇於碘溶液中進行浸漬延伸所 製作之偏光子，使用完全皂化聚乙烯基醇水溶液，於偏光 子之兩面貼合偏光板保護薄膜、或於至少單面上將本發明 之偏光板保護薄膜直接貼合於偏光子。另一面可使用其他 偏光板保護薄膜、或商品之纖維素酯薄膜（例如， Konicaminolta KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、 KC8UCR4、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC4UE、KC8UE -138- 200823253 、KC4FR-1、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UX-RHA-N 、以上 Konicaminolta opt (股）製）等。 又，取代上述鹼處理，例如可施予如特開平6-949 1 5 號、同6- 1 1 8232號所記載之簡易接著加工進行偏光板加 工。 偏光板係可由偏光子及保護其兩面之保護薄膜所構成 ，且於該偏光板的一面上貼合保護薄膜，反面上貼合分離 φ 薄膜所構成。保護薄膜及分離薄膜於偏光板出荷時，於製 品檢査時等保護偏光板爲目的。此時，保護薄膜係以保護 偏光板之表面爲目的而被貼合，使用於偏光板貼合於液晶 板之面的反面側。又，分離薄膜係以使用於覆蓋貼合於液 晶板之接著層的目的上，使用偏光板貼合於液晶胞之面側 (液晶顯示裝置） 於液晶顯示裝置一般配置2片偏光板間含有液晶胞之 基板，但本發明的偏光板保護薄膜爲配置於任何部位皆可 得到優良顯示性。特別爲液晶顯示裝置之顯示側最表面的 偏光板保護薄膜因設有透明硬塗層、防眩層、防反射層等 ，故將該偏光板保護薄膜使用於該部分時亦佳。又，經延 伸之本發明的偏光板保護薄膜因視野角擴大故亦可作爲相 位差薄膜使用爲佳。 本發明的偏光板保護薄膜及使用其之偏光板可作爲反 射型、透過型、半透過型LCD或TN型、STN型、OCB型 -139- 200823253 、HAN型、VA型（PVA型、MVA型）、IPS型等各種驅 動方式之LCD使用。畫面爲30吋以上，特別爲30吋〜 54吋之大畫面之顯示裝置中，畫面周邊部不會產生脫白等 現象，可長其間維持該效果，於MVA型液晶顯示裝置中 顯示顯著效果已被確認。特別少有色斑、泛光或波形不均 ’且具有長時間之鑑賞亦無眼睛疲勞的效果。 φ 【實施方式】 〔實施例〕 以下舉出實施例對本發明做具體説明，但本發明未受 到這些限定。 (所使用的原料） 〈纖維素酯〉 C-1·纖維乙酸酯丙酸酯：乙醯基取代度1.92、丙醯基 # 取代度0.74、總醯基取代度2.66、數平均分子量60000 c-2·纖維乙酸酯丁酸酯：乙醯基取代度us、丁醯基 取代度1.30、總醯基取代度2.68、數平均分子量ιοοοοο C-3·纖維乙酸酯丙酸酯：乙醯基取代度1.4、丙醯基 取代度1·35、總醯基取代度、數平均分子量6000() C-4·纖維乙酸酯丙酸酯··乙醯基取代度ι·8〇、丙醯基 取代度1 · 0 G、總醯基取代度2 · 8 〇、數平均分子量6 〇 〇 〇 〇 C-5·纖維乙酸酯丙酸酯：乙醯基取代度ι·45、丙醯基 取代度1.45、總醯基取代度2·9〇、數平均分子量60000 -140- 200823253 C-6.纖維乙酸酯丙酸酯：乙醯基取代度1.2、丙醯基 取代度160、總醯基取代度2.80、數平均分子量60000 且，乙醯基、丙醯基、丁醯基等醯基之取代度測定方 法以AS TM-D 8 17-96的規定爲準進行測定。 〈可塑劑〉 (合成例1 :三羥甲基丙烷三苯甲酸酯（TMPTB )的 φ 合成） 將保持於100°c之45質量份的三羥甲基丙烷、101質 量份的三乙基胺之混合溶液一邊攪拌下，一邊將7 1質量 份的氯化苯甲醯基花30分鐘滴入，再攪拌30分鐘。反應 終了後冷卻至室溫，過濾沈澱物後，加入乙酸乙酯·純水 並洗淨，分出有機相並減壓餾去乙酸乙酯後得到1 26質量 份（收率8 5 % )之白色結晶。且，該化合物之分子量爲 446 ° • (合成例2 : —般式（2 )所示化合物、化合物例9 ) 將保持於10 °C之54質量份的三羥甲基丙烷、127質 量份的吡啶、5 00質量份的乙酸乙酯之混合溶液一邊攪拌 下，一般將240質量份的〇 -甲氧基苯甲醯基氯化物花3〇 分鐘滴入，其後，加熱至8 0 °C後攪拌3小時。反應終了後 ，冷卻至室溫並過濾沈澱物後，加入1莫耳/L HC1水溶液 後洗淨，再加入l%Na2C〇3水溶液並洗淨後，分出有機相 並減壓餾去乙酸乙酯，得到193質量份（收率90% )之透 -141 - 200823253 明液體。且，該化合物之分子量爲5 3 7 ° 〈添加劑1〉 (合成例3 : —般式（L )所示化合物、化合物1 0 1 ) 由5,7-二- tert-Bu-3-經基- 3H-苯並呋喃-2·酮、ρ·二甲 苯及作爲觸媒之Fulcat22B出發，合成5,7-二-tert-Bu-3-(2,5-二甲基苯基）-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物101)。 a) 5,7-二46 1*卜：611-3-羥基-311-苯並呋喃-2-酮的合成 將 1，2-二氯乙烷 300ml 中之 2,4-二-tert-Bu-酚（97% )212.5g ( l.OOmol ) 、50% 水性乙醛酸 1 6 3 · 0 g ( 1 · 1 0 m ο 1 )及p-甲苯磺酸一水鹽〇.5g(2.6mmol)於水分離器上進 行3 · 5小時，氮氣流中之迴流。其後，將反應混合物以減 壓轉動蒸餾器進行濃縮。將殘渣溶解於己烷800ml後，以 水洗淨3次。分液漏斗中，分離水相再以己烷3 00ml進行 Φ 萃取。收集有機相，以硫酸鎂乾燥並以減壓蒸餾器進行濃 縮。由殘渣得到深黃色之樹脂形態，且經分析純化之5,7-二-tert-Bu-3-羥基- 3H-苯並呋喃-2-酮 262.3g (〜100%)。 b) 5,7-二-tert-Bu-3-(2,5-二甲基苯基）-3H-苯並呋 喃-2-酮（化合物（101))的合成 於 ρ-二甲苯 500ml(4.05mol)之 5,7-:-tert-Bu-3^! 基-3H -苯並呋喃-2 -酮 262.3g( l.OOmol)溶液中加入 Fuleat22B40g，將混合物於水分離器上進行1.5小時迴流 -142- 200823253 。FUlcat22B觸媒由下次過濾時除去，過剩p-二甲苯經減 壓蒸餾器餾去。藉由自甲醇4 00ml之殘渣的結晶化’得到 融點93-97 °C之5，7 -二-第三丁基- 3-( 2，5 -二甲基苯基）-3H-苯並呋喃-2·酮（化合物1 0 1 ) 280.6g ( 80% )。 (合成例4 : 一般式（L )所示化合物、化合物103 ' 103A的合成） 由2,4 -二- tert-Bu -酣、乙醛酸及〇 -二甲苯及作爲觸媒 之？111〇&1或[111111〇1^出發，合成3-(3,4-二甲基苯基）-5,7-二-tert-Bu-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物 103)及 3-( 2,3-二甲基苯基）-5,7-二-tert-Bu-3H-苯並呋喃-2-酮（化 合物103A異構物）之約5.7 : 1混合物。 於具備水分離器之1 5 00ml的二層反應器放入2,4-二· tert-Bu-酣 206.3 g ( 1 .Omol ) 、〇-二甲苯 48 5 g ( 5.5mol) 、p -甲苯擴酸一水鹽0.5g ( 2.6mmol)及50%水性乙醒酸 # 163g ( l.lmol)。一邊攪拌下將混合物於8 5〜9 0 °C加熱後 ，將裝置同時排氣成約45 Ombar。反應器中的溫度爲85〜 90°C時馬上開始蒸餾〇-二甲苯/水混合物，〇-二甲苯經迴流 且水由系統除去。連續提高減壓至反應器的溫度保持於8 5 〜9(TC。約90〜100ml的所有水經3至4小時蒸餾。減壓 由氮氣解除，將觸媒（Fulcat30或40、FulmontXMP-3或 XMP-4 ) 40g加於透明之黃色溶液。將裝置排氣成700 mbar之壓力後，將懸浮液於165°C之加熱浴溫度下進行攪 拌。由約128 °C之溫度開始將反應水作爲共沸物由系統餾 -143- 200823253 去。裝置的溫度到最後最高昇溫至140 °C。由總量約20ml 之水自系統花1至2小時餾去。其次藉由氮氣解除減壓。 將反應混合物冷卻至9 0〜1 〇 〇 °c後過濾。將裝置及過濾器 殘渣以二甲苯100g洗淨。將濾液移至二層反應器再於 減壓下濃縮後以〇 - 一甲苯360g回收。將稍赤黃色之殘澄 冷卻至70°C，溫度保持於60〜65 °C下，由滴定漏斗小心翼 翼地加入甲醇63 6g。溶液中放入結晶種，於60〜65它下 Φ 進行約3 0分鐘攪拌並使其結晶化。其次將結晶化泥漿花2 小時冷卻至-5 °C後，於溫度下再繼續攪拌1小時將結晶以 吸引過濾方式收集，將殘渣使用冷甲醇（-5 °C ) 400ml分5 次洗淨。將充分乾壓之生成物以.50〜60 °C的真空乾燥機進 行乾燥，得到白色固體266g。表示該物質爲3- ( 3,4-二甲 基苯基）-5,7-二-tert-Bu-3H-苯並肤喃-2-酮（化合物 103 )約85%、及3-(253-二甲基苯基）5,7-二46以-：811-3-：9-苯並呋喃-2 -酮異構物（化合物1 0 3 A )約1 5 %所成。 (合成例5 : —般式（L )所示化合物、化合物105 的合成） 由 5,7-二-tert-Bu-3-羥基-3H-苯並呋喃-2-酮、乙基苯 及作爲觸媒之Fulcat22B出發，合成5,7-二-tert-Bu-3·( 4-乙基苯基）-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物105)。 於乙基苯 5 00ml ( 4.08mol )之 5，7 -二-1 e r t - B u - 3 ·羥基-3H-苯並呋喃-2-酮 262.3 g(1.00mol)溶液加入 Fulcat22B 4〇g，將混合物於水分離器上進行1.5小時迴流。 -144- 200823253

Fulcat22B觸媒由下次過濾時除去，將過剩乙基苯經減壓 蒸餾器餾去。GC-MS分析顯示由p_異構物（化合物105) 59.2%、m-異構物（化合物105A) 10.8%及〇-異構物（化 合物105B ) 21.1 %之混合物顯示殘渣。藉由自甲醇40〇ml 之殘渣的結晶化，得到5,7-二-te;rt-Bu-3- ( 4-乙基苯基）-3H-苯並呋喃·2-酮（化合物105 ) ( p-異構物）163.8g (

47%)，此爲進一步含有m-異構物5,7-二- tert-Bu-3- ( 3-乙基苯基）-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物105A) 5.6%、及 〇-異構物 5,7-二-tert-Bu-3-(2-乙基苯基）-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物105B ) 1.3%。由甲醇再進行結晶化後得到 融點1 27- 1 32°C之幾乎純的對異構物（化合物105)。 (合成例6 : —般式（L )所示化合物、化合物1 1 1 ) 由 5,7-二-tert-Bu-3-羥基-3H·苯並呋喃-2-酮、五甲基 苯及作爲觸媒之四氯化錫出發，合成5,7-二-tert-Bu-3-( • 2,3,4,5,6-五甲基苯基）-311-苯並呋喃-2-酮（化合物（111 ))° 將五甲基苯 11.5 g ( 77· 5 mol )及四氯化錫 l〇ml ( 85.〇mmol)加入於 1,2-二氯甲烷 50ml 之 5,7-二-tert-Bu-3-羥基- 3H-苯並呋喃-2-酮19.7g ( 75.0mmol )溶液後，反應 混合物進行1小時迴流。將反應混合物以水稀釋後以甲苯 進行3次萃取。收集有機相並以水洗淨，以硫酸鈉乾燥後 以減壓蒸餾器進行濃縮。藉由自乙醇之殘渣的結晶化得到 融點 185-19CTC 之 5,7-二·tert-Bu-(253,455,6-五甲基苯基 -145- 200823253 )-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物1 1 1 ) 26.3 g ( 89% )。 (合成例7 : —般式（L )所示化合物、化合物108 ) 由 5,7-二-tert-Bu_3-羥基-3H-苯並呋喃-2-酮、硫苯甲 醚及作爲觸媒之三氯化鋁出發合成5,7-二-tert-Bii-3- ( 4-甲基硫苯基）-3H-苯並呋喃-2_酮（化合物108)。 將硫苯甲醚 25ml(0.21mol)之 5,7 -二-tert-Bu-3-經 φ 基- 3H-苯並呋喃-2-酮26.2g ( O.lOmol)的溶液於35〜40°C 下滴入添加於硫苯甲醚15ml(0.13mol)的氯化鋁14.7g( 0.1 lmol)之溶液。其後將反應混合物以30 °C進行30分鐘 攪拌及以80°C進行2小時攪拌，冷卻後將約50ml的水， 其次將濃鹽酸及二氯甲烷小心翼翼地加入至可成均質之2 層混合物的充分量爲止。分離有機相並以水洗淨，再以硫 酸鈉進行乾燥後以轉動蒸餾器濃縮。由乙醇之殘渣的結晶 化得到融點125-13 1°C之5,7-二-tert-Bu-3- ( 4-甲基硫苯基 • ) 苯並呋喃-2-酮（化合物108 ) 6.7g。 HP136 ； IRGANOX HP136 ( Ciba Specialty Chemicals 公司製：一般式（L )所示化合物例） 〈添加劑2 :三嗪環化合物〉 其次，具體記載有關本實施例所使用之三嗪環化合物 的合成法，但對此以外之化合物，亦可由與這些例子相同 方式合成。 -146- 200823253 合成例1 :例示化合物（1 -1 ) (1 ) 2,4·二-m-苯甲胺基-6_氯代-1，3,5-三嗪的合成 於40 0L之反應容器中加入氰尿醯氯25kg(136莫耳 )，以甲基乙基酮200L溶解。其次，將m-甲苯胺29.lkg (27〇莫耳）於5°C以下滴入後，將二異丙基乙基胺 3 5.2kg ( 270莫耳）於5°C以下滴入。滴入後，室溫下進行 2小時反應後，將反應液注入於冰水50 0L中，將有機層 φ 以乙酸乙酯5 00L萃取。萃取液以無水硫酸鈉乾燥後，再 將乙酸乙酯經減壓餾去。其次將所得之殘渣溶解於異丙基 醇1 00L並再結晶。將所得之結晶藉由乾燥得到目的物（ 收量37.7 kg，收率85莫耳％)。 (2 )例示化合物（1 -1 )的合成 將上述所得之2,4 -二-m-苯甲胺基-6-氯代-1，3,5 -三嗪 8.1kg ( 25莫耳）、與苯胺2.3kg ( 25莫耳）放入3 00L之 φ 反應容器，以DMF20L溶解。再加入碳酸鉀5.2kg ( 37.5 莫耳）於120°C下進行2小時反應後並冷卻，以乙酸乙酷 1 00L進行萃取。萃取液以無水硫酸鈉乾燥後，以乙酸乙 酯進行減壓餾去。將所得之殘渣以二氧化矽膠管柱層析法 (溶離液：η-己烷/乙酸乙酯=5/1 (體積比））分離後得 到目的物（收量8.6kg，收率90莫耳％ )。化學結構以 NMR光譜、MS光譜及元素分析確認。 合成例2 :例示化合物（1 - 2 )的合成 -147- 200823253 將上述合成例1 ( 1 )所得之2,4-二-m-苯甲胺基-6-氯 代-1,3,5-三嗪8.1kg ( 25莫耳）、與p-甲氧基苯胺3.1kg (25莫耳）放於20 0L之反應容器，並以DMF2 0L溶解。 其次加入碳酸鉀5.2kg ( 37.5莫耳），再以120 °C下進行2 小時反應。冷卻後以乙酸乙酯1 00L萃取，萃取液以無水 硫酸鈉乾燥。再以乙酸乙酯進行減壓餾去，將所得之殘渣 以二氧化矽膠層析法（溶離液：η-己烷/乙酸乙酯=5/1 ( φ 體積比））分離後得到目的物（收量9.1kg，收率88莫耳 % )。化學結構以NMR光譜、MS光譜及元素分析確認。 合成例3 :例示化合物（1 -3 5 )的合成 (1)2-(2-氯代苯胺基）-4,6-二氯-1，3,5-三嗪的合 成。 於500L之反應容器中放入氰尿醯氯14.4kg (78莫耳 )’溶解於甲基乙基酮80L。其次將〇-氯代苯胺l〇kg(78 # 莫耳）於0°C以下滴入，再將二異丙基乙基胺10.1kg ( 78 莫耳）於0 °C以下滴入。滴入後，室溫下進行2小時反應 後，將反應液注入於冰水1 6 0 L中，並將有機層以乙酸乙 酯200L萃取。其後，將萃取液以無水硫酸鈉進行乾燥後 ’減壓餾去乙酸乙酯，所得之殘渣以二氧化矽膠管柱層析 法（溶離液：η-己烷/乙酸乙酯=4/1 (體積比））分離後 得到目的物（收量19.3kg，收率90莫耳％ )。 (2 )例示化合物（1 - 3 5 )的合成 -148- 200823253 將上述所得之2-(2-氯代苯胺基）-4,6-二氯代-1，3,5· 三嗪5.4kg ( 20莫耳）放入於' 400L之反應容器，並以 DMF2 0L溶解。其次加入m-甲苯胺4.2kg ( 40莫耳）與碳 酸鉀8.2 kg (60莫耳），於120 °C下進行2小時反應。冷 卻後將反應液注入於冰水1 〇〇L中，有機層以乙酸乙酯 1 5 0L萃取。萃取液以水硫酸鈉乾燥後，再將酯經減壓餾 去後所得之殘渣以二氧化矽膠管柱層析法（溶離液：η-己 φ 烷/乙酸乙酯=9/1 (體積比））分離並得到目的物（收量 7.3kg，收率87莫耳％ )。化學結構以NMR光譜、MS光 譜及元素分析確認。 合成例4 :例示化合物（2-1)的合成 於400L之反應容器中加入氰尿醯氯25kg(136莫耳 )，以甲基乙基酮200L溶解。其次將苯胺40kg(405莫 耳）於5°C以下滴入後，將二異丙基乙基胺52.8kg ( 405 φ 莫耳）於5°C以下滴入。滴入後，室溫下進行2小時反應 後將反應液注入於冰水500L中，有機層以乙酸乙酯5 00L 萃取。萃取液以無水硫酸鈉乾燥後，再將乙酸乙酯以減壓 餾去。其次將所得之殘渣溶解於異丙基醇100L中並再結 晶。所得之結晶經乾燥後得到目的物（收量50.4kg，收率 8 5莫耳％ )。 合成例5 :例示化合物（2 - 2 9 )的合成 於400L之反應容器中加入氰尿醯氯25kg ( 136莫耳 •149- 200823253 )，溶解於甲基乙基酮200L。其次將m -甲苯胺38kg( 405莫耳）於5°C以下滴入後，將二異丙基乙基胺52.8kg (4 0 5莫耳）於5 °C以下滴入。滴入後，室溫下進行2小 時反應後將反應液注入於冰水5 0 0 L中，有機層以乙酸乙 酯5 0 0 L萃取。將萃取液以無水硫酸鈉乾燥後將乙酸乙酯 以減壓餾去。其次將所得之殘渣溶解於異丙基醇100L並 再結晶。將所得之結晶藉由乾燥得到目的物（收量5 4.4kg ，收率8 5莫耳％ )。 〈添加劑3 :酚系化合物〉 HP-1 : IRGANOX-1010 ( Ciba Specialty Chemicals 公 司製） HP-2 : IRGANOX- 1 076 ( Ciba Specialty Chemicals 公 司製） # 〈添加劑4 :磷系化合物〉 GSY ： GSY-P101 ( API Corporation 製） P-EPQ ： IRGAFOS P-EPQ ( Ciba Specialty Chemicals 公司製） 實施例1 (偏光板保護薄膜101的製作） 使用以上述合成例所製作之各種化合物、或使用販賣 之各種化合物藉由熔融流延法製作出偏光板保護薄膜101 -150- 200823253 纖維素酯（c-1) 100質量份 可塑劑（TMPTB ) 5質量份 可塑劑（一般式（2)例示化合物9 ) 5質量份 添加劑1 (合成例4的3- ( 3,4-二甲基苯基）-5,7-二-tert-Bii-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物 103)及3-(2,3-二甲 基苯基）-5,7_:-tert-Bu-3H-苯並呋喃-2-酮（化合物103A φ 異構物的約5 · 7 : 1混合物）） 〇 · 3質量份 添加劑2 ( —般式（1)例示化合物（1 -1) ) 1質量份 添加劑3 ( HP-1 ) 〇·5質量份 紫外線吸收劑 Ti928 ( Ciba Specialty Chemicals 公司 製） 1 . 5質量份 消光齊!l ( SEAHOSTARKEP-30 :日本觸媒（股）製、 平均粒徑0.3 μπι二氧化矽微粒子） 〇.1質量份 151 - 200823253 W 匕 100]

IRGAFOS P-EPQ IRGANOX -1076

CHa

HaC

將纖維素酯於70°C進行3小時減壓乾燥並冷卻至室溫 後，混合可塑劑、添加劑、紫外線吸收劑、消光劑。將該 混合物於真空真空圓錐螺旋混合機，80°C、ITorr下進行3 小時混合後使其乾燥。將所得之混合物使用2軸式擠出機 以23 5 °C下進行熔融混合並使其顆粒化。此時，欲抑制混 -152- 200823253 煉時所產生的剪力發熱，不使用混煉盤，使用全螺絲型螺 絲。又，由吸孔進行真空吸氣，吸出混煉中所產生的揮發 成分。且供給於擠出機之供應器或料斗、擠出機塑模至冷 卻槽間可設定爲乾燥氮氣體環境，防止對樹脂之水分吸濕 〇 薄膜製膜以如圖1所示製造裝置進行。 第1冷卻輥及第2冷卻輥爲直徑4 0 cm的不鏽鋼製， φ 表面施以硬鉻鍍敷。又，内部循環溫度調整用之油（冷卻 用流體），控制輥表面溫度。彈性接觸輥爲直徑20cm， 内筒與外筒爲不鏽鋼製，外筒表面上施予鍍硬鉻。外筒之 壁厚爲2mm，内筒與外筒之間的空間循環溫度調整用油（ 冷卻用流體）進而控制彈性接觸輥之表面溫度 將所得之顆粒（水分率50ppm )，使用1軸擠出機由 T塑模成薄膜狀，於表面溫度100 °C的第1冷卻輥上以熔 融溫度250°C成薄膜狀進行熔融擠出，得到延伸比（draw 參 ratio )爲20且膜厚80μιη之擠塑薄膜。此時，使用τ塑 模之唇間隙1.5mm、唇部平均表面粗糙度κ^〇·〇ιμιη之Τ 塑模。又，自擠出機中間部之料斗開口部添加作爲潤滑劑 之二氧化矽粒子至0.1質量份。 且，第1冷卻輥上薄膜以具有2mm厚之金屬表面的 彈性接觸輥以線壓1 〇kg/cm進行擠壓。擠壓時之接觸輥側 的薄膜溫度爲180°C±1°C。（於此所謂的擠壓時的接觸輥 側之薄膜溫度爲，第1輥（冷卻輥）上之接觸輥所接觸位 置之薄膜溫度，使用非接觸式溫度計，使接觸輥後退後之 -153- 200823253 無接觸輥的狀態下由距離50cm之位置於寬方向上的10點 進行測定所得之薄膜表面溫度平均値。）該薄膜之玻璃轉 移溫度Tg爲136°C。（使用高斯（股）製之DSC6200，以 DSC法（氮氣中，昇溫溫度l〇°C/分鐘）測定出由模具擠 出之薄膜的玻璃轉移溫度。） 且，使彈性接觸輥之表面溫度爲°C，使第2冷卻 輥之表面溫度爲3 0°C。彈性接觸輥、第1冷卻輥、第2冷 φ 卻輥之各輥的表面溫度爲，自薄膜最初接觸輥之位置對於 轉動方向的90°正前方位置之輥表面溫度，使用非接觸式 溫度計於寬方向的1 0點進行測定，所得之平均値爲各輥 之表面溫度。 將所得之薄膜導入具有予熱區、延伸區、保持區、冷 卻區（於各區間亦具有可確實各區間隔熱的中立區）之拉 幅，於寬方向在1 6 0 °c下進行1 . 3倍延伸後，於寬方向一 邊緩和2%緩和下冷卻至7(TC，其後自夾子解開，剪去夾 # 子把持部，於薄膜兩端施予寬l〇mm、高度5μιη之滾花（ knurling)加工，得到切成寬1 430mm的膜厚60μιη之偏光 板保護薄膜1 0 1。此時，藉由調整預熱溫度、保持溫度進 行延伸來防止彎曲（bowing )現象。自所得之偏光板保護 薄膜1 〇 1並無檢測出殘留溶劑。 其次，將纖維素酯、添加劑1、添加劑2、添加劑3、 添加劑4變更成如表丨所示以外，皆與本發明的偏光板保 護薄膜101同樣下得到寬1 43 0mm、膜厚60μιη之偏光板 保護薄膜102〜123。 -154- 200823253 〔表1〕

偏光板 保護 薄顧〇· 纖維 素酯 添加劑1 添加劑2 添加劑3 添加劑4 備註 種類 質量份 種類 質量份 種類 質量份 種類 質量份 101 C-1 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 - 本發明 102 C-2 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 - 齡 本發明 103 C-3 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 - 輯 本發明 104 C-4 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 - 本發明 105 C-5 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 - 本發明 106 C-6 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 本發明 107 C-3 化合物 103/103A 0.3 例示化合 物1-1 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 本發明 108 C-3 化合物 105 0.3 例示化合 物1-2 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 本發明 109 C-3 化合物 101 0.3 例示化合 物1-2 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 本發明 110 C-3 化合物 111 0.3 例示化合 物1-2 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 本發明 111 03 化合物 108 0.3 例示化合 物1-2 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 本發明 112 C-3 HP136 0.3 例示化合 物1-2 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 本發明 113 C-3 - • 例示化合 物 1-35 1 HP-1 0.5 GSY 0.3 比較例 114 C-3 HP136 0.3 - - HP-1 0.5 GSY 0.3 比較例 115 C-3 HP136 0.3 例示化合 物 1-35 1 - - GSY 0.3 比較例 116 C-3 - - - - - - GSY 0.6 比較例 117 C-3 HP136 0.3 例示化合 物2-1 1 HP-1 0.5 GSY 0.15 本發明 118 C-3 HP136 0.3 例示化合 物 2-29 1 HP-1 0.5 GSY 0.15 本發明 119 C-3 HP136 0.3 例示化合 物1-2 0.2 HP-1 0.5 GSY 0.15 本發明 120 C-3 HP136 0.3 例示化合 物1-2 4 HP-1 0.5 P-EPQ 0.3 本發明 121 C-3 HP136 0.5 例示化合 物 1-35 4 HP-2 0.5 P-EPQ 0.3 本發明 122 C-3 HP136 0.5 例示化合 物2-1 0.2 HP-1 0.5 P-EPQ 0.3 本發明 123 C-3 HP136 0.5 例示化合 物 2-29 10.0 HP-1 0.5 P-EPQ 0.3 本發明 -155- 200823253 《偏光板的製作》 使用上述製作之偏光板保護薄膜ίο1〜123，進行下述 皂化處理後進行偏光板的製作。 〈皂化處理〉 皂化步驟 2M-NaOH 5 0°C 90秒 水洗步驟 水 3 0°C 45秒 中和步驟 10質量％HC1 3 0°C 45秒 水洗步驟 水 3 0°C 45秒 皂化處理後以水洗、中和、水洗之順序進行，其次於 80°c下進行乾燥。 〈偏光子的製作〉 將厚度120μηι之長輥聚乙烯基醇薄膜浸漬於含有碘1 質量份、硼酸4質量份之水溶液100質量份中，於50°C下 Φ 往搬送方向延伸5倍後製作出偏光子。 於上述偏光子之單面上，將經皂化處理之前述偏光板 保護薄膜101〜123，以及於另一面將

KonicaminoltaKC4FR-l ( Konicamino It a opt (股）製）， 以完全皂化型聚乙烯基醇5%水溶液作爲接著劑進行各貼 合並乾燥後得到偏光板P 1 0 1〜1 2 3。 《液晶顯示裝置的製作》 剝落VA型液晶顯示裝置之富士通製15型顯示器VL- -156- 200823253 15 OSD的預先貼合的辨識側偏光板，將上述製作之偏光板 P1 01〜123貼合於各液晶胞（VA型）之玻璃面上，製作 出液晶顯示裝置1 0 1〜1 23。此時欲將上述製作之偏光板保 護薄膜101〜119成爲顯示面側，又偏光板之貼合方向爲 ，使吸收軸往與經預先貼合的偏光板之同一方向下進行。 《評估》 使用所得之偏光板、液晶顯示裝置進行以下之評估。 (偏光子安定性之評估方法） 對於上述製作之偏光板，於溫度60 °C，濕度90%RH 的環境下保持5 G小時，實施強制劣化試驗。對於試驗後 之偏光板，將可視域領域之色變化有無以目視進行觀察， 所得之結果如下述表2所示。 ◎:無變化 〇：稍有著色 △:有著色 X :著色顯著 (明暗條紋） 在上述製作的液晶顯不裝置上顯示灰色影像，目視觀 察條紋所引起的明暗條紋，依據下述基準對明暗之條紋耐 性進行評估，所得結果如下述表2所示。 -157- 200823253 等級 基準 ◎:未觀察到條紋 〇：僅部分觀察到條紋 △:於全體稍觀察到條紋 X :於全體觀察到明顯的條紋 (斑不均） Φ 在上述製作之液晶顯示裝置上使其黒顯示時以點狀或 面狀出現的斑狀之明暗由目視觀察，並依據下述基準賦予 等級，所得結果如下述表2所示。 等級 基準 ◎:並無光脫且全體爲均一黑暗視線 〇：僅於部分出現明暗斑 △:於全體稍有明暗斑出現 X :於全體出現明暗斑 -158- 200823253 〔表2〕

偏光板/液晶顯示裝置No. 偏光板保護薄膜No· 著色 明暗條紋 斑不均 備註 101 101 〇 〇 〇 本發明 102 102 〇 〇 〇 本發明 103 103 ◎ 〇 〇 本發明 104 104 ◎ ◎ 〇 本發明 105 105 ◎ 〇 〇 本發明 106 106 〇 〇 〇 本發明 107 107 ◎ ◎ ◎ 本發明 108 108 ◎ ◎ ◎ 本發明 109 109 ◎ ◎ ◎ 本發明 110 110 ◎ ◎ ◎ 本發明 111 111 ◎ ◎ ◎ 本發明 112 112 ◎ ◎ ◎ 本發明 113 113 X X X 比較例 114 114 X X X 比較例 115 115 X X X 比較例 116 116 X X X 比較例 117 117 〇 〇 〇 本發明 118 118 〇 〇 〇 本發明 119 119 〇 〇 〇 本發明 120 120 ◎ ◎ ◎ 本發明 121 121 ◎ ◎ ◎ 本發明 122 122 〇 〇 〇 本發明 123 123 〇 〇 〇 本發明 由上述表得知使用本發明的偏光板保護薄膜101〜112 、1 1 7〜1 23之偏光板、液晶顯示裝置於著色、明暗之條紋 、斑上爲優良，且爲辨識性優良的偏光板、液晶顯示裝置 -159- 200823253 【圖式簡單說明】 〔圖1〕表示製造本發明的偏光板保護薄膜之裝置説 明圖。 【主要元件符號說明】 1 :壓出機 2 :過濾器

3 :靜態型混合攪拌器 4 :塑模（含厚度調整手段) 5 :接觸輥 6 :第1冷卻輥 6，：第2冷卻輥 7 :剝離輥 8 :跳動輥 9 :延伸機 1 〇 :縱剪切機 1 1 :厚度測定手段 12:浮雕環（emboss ring)及被輥 13 :捲取機 1 4 :經捲取之薄膜 -160 -

Claims (1)

1. 200823253 十、申請專利範圍 k 一種偏光板保護薄膜之製造方法’其特徵將含有 纖維素酯、三嗪環化合物的至少1種、酣系化合物、與一 般式（L )所示化合物之混合物經加熱熔融後’藉由溶融 流延法進行製膜者； [化1] 一般式(L)

   (式中，R2〜R5爲各互相獨立表示氫原子或取代基， R6表示氫原子或取代基，η表示1或2; η爲1時，1?^表 示取代基，η爲2時，I表示2價之連結基）。 2 ·如申請專利範圍第1項之偏光板保護薄膜之製造 方法，其中該三嗪環化合物爲下述一般式（1)所示化合 _物； [化2] 一般式(υ R3 I X3 Ν X1 丫 ΊΓ、 R2 /X2 (式中，R1、R2、R3各獨立表示芳香族環或雜環；X1 表示單鍵、-NR4-、-0-或-S- ; X2表示單鍵、以115-、-0-或-S- ; X3 表示單鍵、-NR6-、-〇-或-S- ; R4、R5 及 R6 各 -161 - 200823253 獨立表示氫原子、取代或無取代的烷基、烯基、芳香族環 基或雑環基）。 3·如申請專利範圍第〗項或第2項之偏光板保護薄 膜之製造方法，其中該纖維素酯的醯基之取代度爲同時滿 足下述式（i) 、（ ii)所規定之條件； 式（i ) 2.6SX+ YS3.0 式（Π) 1.0^ 1.5 φ (式中，X表示乙醯基之取代度，Υ表示丙酸酯基之 取代度）。 4·如申請專利範圍第1項之偏光板保護薄膜之製造 方法，其中更含有磷系化合物之至少i種。 5 · —種偏光板保護薄膜之製造方法，其係申請專利 範圍第1項至第4項中任1項之偏光板保護薄膜之製造方 法，其特徵爲將自流延塑模所壓出的偏光板保護薄膜，藉 由具有金屬製外筒、内筒與於其間流動流體之空間的彈性 φ 接觸輥於冷卻輥上一邊推壓一邊搬送者。 6· —種偏光板保護薄膜，其特徵爲藉由如申請專利 範圍第1項至第5項中任1項之偏光板保護薄膜之製造方 法所製造者。 7· —種偏光板，其特徵爲將申請專利範圍第6項之 偏光板保護薄膜使用於至少一面者。 8. —種液晶顯示裝置，其特徵爲將如申請專利範圍 第7項之偏光板使用於液晶胞的至少一面者。 -162-