[go: up one dir, main page]

TWI886173B - 附防眩層之基材及影像顯示裝置與附防眩層之基材的製造方法 - Google Patents

附防眩層之基材及影像顯示裝置與附防眩層之基材的製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI886173B
TWI886173B TW109139705A TW109139705A TWI886173B TW I886173 B TWI886173 B TW I886173B TW 109139705 A TW109139705 A TW 109139705A TW 109139705 A TW109139705 A TW 109139705A TW I886173 B TWI886173 B TW I886173B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
glare layer
glare
group
layer
Prior art date
Application number
TW109139705A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202132490A (zh
Inventor
江口和輝
保坂和義
Original Assignee
日商日產化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日產化學股份有限公司 filed Critical 日商日產化學股份有限公司
Publication of TW202132490A publication Critical patent/TW202132490A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI886173B publication Critical patent/TWI886173B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
    • C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

本發明提供防眩性(anti-glare機能)優異同時不發生閃光(sparkling)而賦予良好視覺辨識性之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置。又，提供形成機能性層之際的塗佈性與密著性優異之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置。 本發明之附防眩層之基材，係具有基材與直接或經由其他層形成於前述基材上之表面具有凹凸構造之防眩層，前述防眩層係由含有具含氟有機基之聚矽氧烷的防眩性被膜形成用組成物之硬化物所形成。

Description

附防眩層之基材及影像顯示裝置與附防眩層之基材的製造方法
本發明有關防眩性(anti-glare機能)優異同時不發生閃光(sparkling)而賦予良好視覺辨識性之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置以及附防眩層之基材之製造方法。
電視、個人電腦、智慧型手機等之各種裝置所具備之影像顯示裝置(液晶顯示器、有機EL顯示器、電漿顯示器等)，若室內照明(螢光燈等)、太陽光等之外來光映入顯示面，則有因反射像使影像之視覺辨識性降低之情況。
作為抑制外光映入之方法，有對影像顯示裝置之顯示面實施防眩處理(anti-glare處理)之方法。作為防眩處理之方法，提案有藉由氫氟酸等之藥劑對玻璃等之透明基材表面進行蝕刻處理(參考專利文獻1)、於表面形成具有凹凸之有機系防眩層之處理(參考專利文獻2)等。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利第5839134號公報 專利文獻2：國際公開2018/070426號公報
[發明欲解決之課題]
然而，以藥劑蝕刻玻璃基板表面之處理中，藥劑之危險性成為問題，於表面形成有機系防眩層之處理中，對玻璃之塗佈性、或於膜上進而形成機能性層之際的塗佈性、密著性產生問題。
又，隨著最近圖像顯示裝置之高精細化，若於顯示面側配置防眩層，則亦有容易於表面顯現無規之光強弱之閃光現象之問題。
基於以上方面，本發明目的在於提供防眩性(anti-glare機能)優異同時不發生閃光而賦予良好視覺辨識性之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置。進而目的在於提供形成機能性層之際的塗佈性與密著性優異之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置及附防眩層之基材之製造方法。 [用以解決課題之手段]
本發明人等發現藉由下述構成可達成上述課題，因而完成本發明。 該本發明在於 1. 一種附防眩層之基材，其特徵係具有基材與直接或經由其他層形成於前述基材上之表面具有凹凸構造之防眩層，前述防眩層係由含有具含氟有機基之聚矽氧烷的防眩性被膜形成用組成物之硬化物所形成，且凸部表面被覆率為5%~70%。 2. 如1之附防眩層之基材，其中前述凹凸構造之凸部高度為50nm~2,000nm。 3. 如1或2之附防眩層之基材，其中前述防眩層之濁度為0.3%~ 40%。 4. 如1至3中任一項之附防眩層之基材，其中前述防眩層之折射率為1.3~ 1.49之範圍。 5. 如1至4中任一項之附防眩層之基材，其中前述防眩層係形成於高折射率層上者，該高折射率層之折射率高於前述防眩層之折射率。 6. 如5之附防眩層之基材，其中前述高折射率層之折射率為1.5~2.1之範圍。 7. 如1至6中任一項之附防眩層之基材，其中進而具備形成於前述防眩層上之機能性層。 8. 一種影像顯示裝置，其特徵係具備如1至7中任一項之附防眩層之基材。 9. 一種附防眩層之基材的製造方法，其係包含於基材上塗佈含有具含氟有機基之聚矽氧烷的防眩性被膜形成用塗佈液而形成防眩層之步驟。 [發明效果]
依據本發明，可提供防眩性(anti-glare機能)優異同時不發生閃光(sparkling)而賦予良好視覺辨識性之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置。且可提供形成機能性層之際的塗佈性與密著性優異之附防眩層之基材及具備此基材之影像顯示裝置及附防眩層之基材之製造方法。
以下更詳細說明本發明。
＜防眩性被膜形成用組成物＞ 本發明所用之防眩性被膜形成用組成物至少具備具含氟有機基之聚矽氧烷(以下亦稱為成分(A))，進而具備將其溶解之溶劑。
＜成分(A)＞ 成分(A)係於側鏈具有經氟原子取代之有機基之聚矽氧烷。此等經氟原子取代之有機基係脂肪族基或芳香族基之氫原子之一部分或全部經氟原子取代之有機基。上述經氟原子取代之有機基中，較佳為含有氫原子之一部分或全部經氟原子取代之烷基或氫原子之一部分或全部經氟原子取代之含醚鍵之烷基、氫原子之一部分或全部經氟原子取代之苯基之有機基等。上述經氟原子取代之有機基所具有之氟原子數亦未特別限定。上述經氟原子取代之有機基之較佳碳數為1~20，更佳為3~15，特佳為3~8。若舉例該等之具體例，則舉例為三氟丙基、十三氟辛基、十七氟癸基、五氟苯基丙基。
該等中，基於容易獲得透明性高的被膜之觀點，較佳為具有全氟烷基之有機基，更佳為以下述式(F)表示之有機基。 CF3 (CF2 )k CH2 CH2 -*     (F) (式中，k為0~12之整數，*表示鍵結位置)。 作為以上述式(F)表示之有機基之具體例舉例為三氟丙基、十三氟辛基、十七氟癸基。
本發明中，亦可併用複數種具有如上述側鏈之聚矽氧烷。
獲得於側鏈具有上述經氟原子取代之有機基之聚矽氧烷的方法並未特別限定。一般係將於側鏈具有上述有機基之烷氧基矽烷化合物聚縮合而得。
其中，較佳為以含有以式(1)表示之烷氧基矽烷化合物之烷氧基矽烷成分聚縮合而得之聚矽氧烷。 R11 Si(OR12 )3 (1)
此處，式(1)之R11 表示經上述氟原子取代之有機基，該有機基具有之氟原子數未特別限定。
又，式(1)之R12 表示碳數1~5之烴基，較佳為碳數1~5之飽和烴基，更佳為甲基、乙基、丙基或丁基。
此等以式(1)表示之烷氧基矽烷中，較佳為R11 係全氟烷基之烷氧基矽烷，更佳為R11 係上述式(F)表示之有機基之烷氧基矽烷。
作為具有以式(F)表示之有機基之烷氧基矽烷之具體例舉例為三氟丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三乙氧基矽烷、十三氟辛基三甲氧基矽烷、十三氟辛基三乙氧基矽烷、十七氟癸基三甲氧基矽烷、十七氟癸基三乙氧基矽烷等。
尤其基於容易獲得透明性高的被膜之觀點，較佳為k係2~12之整數的情況。
本發明中，只要使用以式(1)表示之烷氧基矽烷中之至少1種即可，但亦可根據需要使用複數種。
又，於側鏈具有上述經氟原子取代之有機基之聚矽氧烷亦可為使含有以上述式(1)表示之烷氧基矽烷化合物以外之烷氧基矽烷化合物(以下亦稱為其他烷氧基矽烷化合物)之烷氧基矽烷成分聚縮合而得之聚矽氧烷。作為其他之烷氧基矽烷化合物之具體例，舉例為選自由以下述式(2)表示之烷氧基矽烷化合物及以下述式(3)表示之烷氧基矽烷化合物所成之群之至少1種，但不限定於該等。 Si(OR2 )4 (2) R31 n Si(OR32 )4-n (3) (式中，R31 表示未經氟原子取代之有機基或氫原子，R32 表示碳數1~5之烴基，n為1~3之整數)。
式(2)中之R2 表示烴基，但由於碳數較少反應性較高，故較佳為碳數1~5之飽和烴基，更佳為甲基、乙基、丙基或丁基。
作為此等四烷氧基矽烷之具體例舉例為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷或四丁氧基矽烷等，亦可作為市售品容易取得。
式(3)之R32 分別獨立表示碳數1~5之烴基。R32 可為相同亦可分別不同。
式(3)之R31 較佳為碳數1~20之有機基，更佳為碳數1~15之有機基。R31 可為相同亦可分別不同。作為上述未經氟原子取代之有機基之例舉例為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、硬脂基(十八烷基)等之碳數1~18之烷基；乙烯基等之2~18之烯基；環己基等之環烷基；3-(甲基)丙烯醯氧基丙基(γ-(甲基)丙烯醯氧基丙基)等之含(甲基)丙烯醯氧基之烷基；3-羥基丙基等之含羥基之烷基；γ-脲基(3-脲基)丙基之含脲基之烷基；γ-胺基(3-胺基)丙基、2-胺基乙基胺基甲基、3-(N-苯乙烯基甲基-2-胺基乙基胺基)丙基等之含胺基之烷基；γ-縮水甘油氧基(3-縮水甘油氧基)丙基、2-(3,4-環氧基環己基)乙基等之含環氧基之烷基；γ-巰基(3-巰基)丙基等之含巰基之烷基；3-異氰酸酯基丙基等之含異氰酸酯基之烷基；苯基等之芳基等。 該等中，較佳為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、庚基、辛基、十二烷基、十六烷基、十八烷基、苯基、乙烯基、γ-胺基丙基、γ-縮水甘油氧基丙基、γ-甲基丙烯醯氧基丙基。
如此，作為以式(3)表示之烷氧基矽烷之具體例舉例為甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、丁基三乙氧基矽烷、戊基三甲氧基矽烷、戊基三乙氧基矽烷、庚基三甲氧基矽烷、庚基三乙氧基矽烷、辛基三甲氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、十二烷基三乙氧基矽烷、十六烷基三甲氧基矽烷、十六烷基三乙氧基矽烷、十八烷基三甲氧基矽烷、十八烷基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷或γ-脲基丙基三乙氧基矽烷等之三烷氧基矽烷及二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷等之二烷氧基矽烷，但不限定於該等。
以式(1)表示之烷氧基矽烷化合物之合計使用量，基於容易獲得被膜之觀點，相對於用以獲得成分(A)之烷氧基矽烷化合物之合計100莫耳%，較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上。又，基於抑制凝膠或異物生成之觀點，較佳為40莫耳%以下，更佳為30莫耳%以下。
其他烷氧基矽烷化合物之合計使用量，相對於用以獲得成分(A)之全部烷氧基矽烷化合物之合計100莫耳%，上限較佳為97莫耳%以下，更佳為95莫耳%以下。下限較佳為60莫耳%以上，更佳為70莫耳%以上。
(聚矽氧烷之合成) 本發明所用之使聚矽氧烷縮合之方法並未特別限定，但舉例為例如使烷氧基矽烷於醇或二醇等之溶劑中水解・縮合之方法。此際，水解・縮合反應可為部分水解及完全水解之任一者。完全水解之情況，理論上添加烷氧基矽烷中全部烷氧基之0.5倍莫耳的水即可，通常添加多於0.5倍莫耳之過量水。
本發明中，上述反應所用之水量可根據期望適當選擇，但通常為烷氧基矽烷中全部烷氧基之0.1~7倍莫耳，較佳為0.1~5倍莫耳。
又，通常基於促進水解・縮合反應之目的，亦可使用鹽酸、硫酸、硝酸、乙酸、甲酸、草酸、馬來酸等之酸；氨、甲胺、乙胺、乙醇胺、三乙胺等之鹼；鹽酸、硫酸或硝酸等之金屬鹽作為觸媒。該情況，反應所用之觸媒量，較佳為烷氧基矽烷中全部烷氧基之0.001~0.1倍莫耳左右，更佳為0.01~0.06倍莫耳。再者，藉由加熱溶解有烷氧基矽烷之溶液，一般亦可促進水解・縮合反應。此際，加熱溫度及加熱時間可根據期望適當選擇，較佳將反應系設為50℃~180℃，以不引起液體蒸發、揮散等之方式，於密閉容器中或回流下進行數十分鐘至數十小時。例如舉例為於50℃加熱・攪拌24小時，於回流下加熱・攪拌2~10小時等之方法。
又，作為其他方法，舉例為例如使烷氧基矽烷、溶劑及草酸之混合物加熱之方法。具體而言，預先於醇中添加草酸作成草酸之醇溶液後，將該溶液與烷氧基矽烷混合、加熱之方法。此際，草酸之量，一般相對於烷氧基矽烷具有之全部烷氧基1莫耳，為0.2~2莫耳，較佳為0.5~2莫耳。該方法中之加熱可於液溫50℃~180℃進行，較佳以不引起液體蒸發、揮散等之方式，於例如密閉容器中或回流下進行數十分鐘~數十小時。
上述各方法中，使用複數烷氧基矽烷之情況，可將複數烷氧基矽烷預先混合而使用，亦可依序添加複數之烷氧基矽烷。
以上述方法使烷氧基矽烷聚縮合之際，饋入之烷氧基矽烷之矽原子合計量換算為SiO2 之濃度(以下稱為SiO2 換算濃度)，一般設為20質量%以下，較佳為15質量%以下。藉由於此等濃度範圍選擇任意濃度，可抑制凝膠生成，獲得均質聚矽氧烷溶液。
使烷氧基矽烷聚縮合之際使用之溶劑若為可溶解前述烷氧基矽烷化合物者則未特別限定。一般為了藉由烷氧基矽烷之聚縮合反應生成醇，故使用醇類或與醇類相溶性良好之有機溶劑。
作為上述聚縮合之際使用之溶劑之具體例舉例為甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇等之醇，乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚等之二醇醚等。本發明中，上述有機溶劑亦可混合複數種而使用。
＜防眩性被膜形成用組成物＞ 調製本發明之防眩性被膜形成用組成物的塗佈液(以下簡稱為塗佈液或防眩性被膜形成用塗佈液)之方法並未特別限定。作為一例，亦可於上述所得之聚矽氧烷溶液中添加下述溶劑群(A)、溶劑群(B)及根據需要之其他溶劑群。又，根據需要，亦可使用將上述聚矽氧烷溶液濃縮或置換為其他溶劑後而調製之方法。
＜溶劑群(A)＞ 本發明之防眩性被膜形成用塗佈液所含有之溶劑群(A)係選自沸點未達160℃之二醇醚及其衍生物、或酮類之至少1種。具體而言，舉例為乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚等之二醇醚類及其衍生物、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等之酮類，但其中，基於塗佈安定性之觀點，較佳為乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、甲基異丁基酮。
溶劑群(A)於防眩性被膜形成用塗佈液中之含量，相對於成分(A)具有之矽原子合計量換算為SiO2 之質量之1質量份，為0.1~300質量份，較佳為0.3~100質量份，特佳為0.8~50質量份。
＜溶劑群(B)＞ 本發明之防眩性被膜形成用塗佈液所含有之溶劑群(B)係選自沸點120℃以下之醇類之至少1種。具體而言，舉例為甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、2-甲基-1-丙醇、2-甲基-2-丙醇，但其中，基於組成物之儲存安定性之觀點，較佳為甲醇、乙醇、2-丙醇、2-丁醇、2-甲基-1-丙醇。
溶劑群(B)於防眩性被膜形成用塗佈液中之含量，相對於成分(A)具有之矽原子合計量換算為SiO2 之質量之1質量份，為0.5~500質量份，較佳為1~200質量份，特佳為2~150質量份。
＜其他溶劑＞ 本發明之防眩性被膜形成用塗佈液中，基於塗佈液之安定性等之觀點，亦可根據需要含有溶劑群(A)及溶劑群(B)以外之溶劑(以下亦稱為其他溶劑)。
作為其他溶劑之例舉例為己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、十一烷醇、十二烷醇、二丙酮醇等之醇類，乙二醇、二乙二醇、二丙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、丙烷二醇、丁烷二醇、戊烷二醇、己烷二醇、庚烷二醇等之二醇類，乙二醇單丁醚、乙二醇二丁醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、丙二醇二丙醚、丙二醇二丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚等之二醇醚類，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯等之酯類，N-甲基-2-吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、γ-丁內酯、二甲基亞碸、四甲基脲、六甲基磷三醯胺、間-甲酚、四氫呋喃等。其中，基於取得性及組成物之儲存安定性之觀點，較佳為乙二醇、二乙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、丙烷二醇、丁烷二醇、乙二醇單丁醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二醇二丁醚、N-甲基-2-吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、四氫呋喃。
防眩性被膜形成用塗佈液中成分(A)具有之矽原子合計量換算為SiO2 之濃度(SiO2 換算濃度)，較佳為0.2~10質量%，更佳為0.5~8質量%。
＜其他成分＞ 本發明中，亦可含有成分(A)、溶劑群(A)及(B)以外之其他成分，例如無機微粒子、金屬氧烷寡聚物、金屬氧烷聚合物、調平劑、界面活性劑等成分。
作為無機微粒子較佳為氧化矽微粒子、氧化鋁微粒子、氧化鈦微粒子、氟化鎂微粒子等之微粒子，特佳為該等無機微粒子之膠體溶液。該膠體溶液可為將無機微粒子粉分散於分散介質者，亦可為市售品的膠體溶液。
本發明中，藉由含有無機微粒子，可賦予形成之硬化被膜之表面形狀或其他機能。作為無機微粒子，其平均粒徑較佳為0.001~0.2 μm，更佳為0.001~0.1μm。無機微粒子之平均粒徑超過0.2μm之情況，會有使用所調製之塗佈液形成之硬化被膜之透明性降低之情況。
作為無機微粒子之分散介質可舉例為水及有機溶劑。作為膠體溶液，基於被膜形成用塗佈液之安定性之觀點，較佳將pH或pKa調整為1~10。更佳為2~7。
作為膠體溶液之分散介質所用之有機溶劑，舉例為甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、丁烷二醇、戊烷二醇、2-甲基-2,4-戊烷二醇、二乙二醇、二丙二醇、乙二醇單丙醚等之醇類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮等之酮類；甲苯、二甲苯等之芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等之醯胺類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-丁內酯等之酯類；四氫呋喃、1,4-二噁烷等之醚類。該等中，較佳為醇類及酮類。該等有機溶劑可單獨或混合2種以上作為分散介質使用。
作為金屬氧烷寡聚物或金屬氧烷聚合物係使用矽、鈦、鋯、鋁、鉭、銻、鉍、錫、銦、鋅等之單獨或複合氧化物前驅物。作為金屬氧烷寡聚物或金屬氧烷聚合物可為市售品，亦可為自金屬烷氧化物、硝酸鹽、鹽酸鹽、羧酸研等之單體藉由水解等之常用方法獲得者。
＜防眩層及防眩層之形成＞ 本發明之防眩層可藉由將上述防眩性被膜形成用塗佈液塗佈於基材並熱硬化而得。亦即，防眩層係由防眩性被膜形成用塗佈液中含有之具含氟有機基之聚矽氧烷之硬化物而成。
此處，防眩層於表面具有凹凸構造。凹凸構造係凸部高度為50nm~2,000nm之微細凹凸構造。防眩層全體之厚度為50nm~3,000nm，該防眩層之表面側成為微細凹凸構造。亦即，由於於均一且平坦之被膜上形成微細凹凸構造，故亦可表現為於平坦被膜上間歇形成凸部。又，該情況，未形成凸部之部分成為凹部。微細凹凸構造之凸部所佔比例的凸部表面被覆率為5%~70%，較佳為10%~60%。
上述凸部表面被覆率具體而言可藉以下方法測定。亦即，使用白色光干涉型顯微鏡(ContourGT，BRUKER公司製)，測定表面形狀，進而藉由形狀解析而進行。表面形狀測定係以VSI測定方式使用高密度CCD相機，以變焦透鏡倍率為0.55倍，接物透鏡倍率為50倍，測定區域為230μm×170μm，光源為白色光源，光量及閾值以測定中雜訊極力不進入的適當條件下進行。進而，作為形狀解析，係以Terms Removal(CylinderandTilt)，進行濾波處理後，以256色階之灰階處理影像。上述凸部表面被覆率之測定係於膜面之任意部位進行，前述處理影像分割為1900個，求出該區域之亮度，亮度高的區域為凸部，亮度低且均一化之區域為平坦部，以凸部/平坦部×100算出之值為該膜表面之凸部表面被覆率。測定時之環境為23℃及30RH%下。
基於獲得抑制閃光並且視覺辨識性高的影像顯示裝置之觀點，上述防眩層以濁度計較佳為0.3%~ 40%，更佳為0.5%~30%。又，本說明書及申請專利範圍中，濁度可依據JIS K7163，使用濁度計(SUGA試驗機(股)公司製，濁度計HZ-V3)測定。
平坦被膜部與微細凹凸構造亦可藉一次塗佈形成，但亦可形成平坦被覆部後，形成微細凹凸構造。且亦可將形成平坦被覆部之防眩性被膜形成用塗佈液與形成微細凹凸構造之防眩性被膜形成用塗佈液作為相同塗佈液，亦可兩者之塗佈液不同。例如兩者之固形分組成相同，但形成微細凹凸構造之塗佈液之固形分濃度可高於平坦被覆部，亦可兩者之固形分組成不同。進而亦可兩者之固形分組成相同，但可兩者之溶劑組成不同，但不限定於該等。
微細凹凸構造可例如塗佈防眩性被膜形成用塗佈液後，於硬化前對表面吹風，而於表面形成微細凹凸，亦可形成平坦被膜部後，噴霧塗佈較少之濃度高的塗佈液而部分形成凸部，亦可於噴霧塗佈時調整防眩性被膜形成用塗佈液之流量與後述之氣體流量，而形成微細凹凸，但不限定於該等。
基於抑制反射光之觀點，防眩層之折射率係自例如1.3~1.49之範圍選擇。
用以形成防眩層之防眩性被膜形成用塗佈液之塗佈可應用例如浸漬塗佈法、流塗法、旋轉塗佈法、軟版印刷法、噴墨塗佈法、棒塗佈法、凹印輥塗佈法、輥塗佈法、刮板塗佈法、空氣刮板塗佈法、氣刀塗佈法、淋洗刮板塗佈法、逆輥塗佈法、轉模輥塗佈法、微凹板塗佈法、接觸塗佈法、澆鑄塗佈法、狹縫孔塗佈法、簾流塗佈法、模嘴塗佈法等之習知或周知方法，但本發明之防眩性被膜形成用塗佈液之特徵係特別適用於噴霧塗佈法。
作為基材可舉例為塑膠、玻璃、陶瓷等之習知或周知之基材。作為塑膠舉例為聚碳酸酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚醚碸、聚丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯、聚碸、聚醚、聚醚酮、聚甲基戊烯、聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二酯、(甲基)丙烯腈、三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、乙酸酯丁縮醛纖維素等之板及膜等。
藉由噴霧塗佈法所得之如上述均一膜厚可藉由藥液量、噴嘴/載台距離(噴嘴與載台之距離)、塗佈速度、氣體流量或氣體壓力等而調整。
藥液量係決定膜厚之參數，藉由增加藥液量而膜厚變厚，藉由減少則膜厚變薄。噴霧塗佈中，藥液量為例如0.5~20mL(毫升)/min，較佳為0.8~12mL/min。
氣體流量係形成微細液滴之參數，作為使用之氣體例，舉例為N2 或乾燥空氣，但未特別限定於該等。噴霧塗佈中，氣體流量為例如3~70L(升)/min，較佳為6~60L/min。氣體壓力之情況，為30~700kPa，較佳為50~ 650kPa。
就形成微細凹凸之觀點，作為較佳之氣體的流量，較佳係相對於防眩性被膜形成用塗佈液的流量，將氣體於大氣環境中以150~140,000倍，較佳500~75,000倍之流量通氣，邊使防眩性被膜形成用塗佈液之液滴微細化邊塗佈於基材表面。
噴嘴/載台距離係與膜厚、塗佈性及凸部對表面之被覆量有關之參數。例如膜厚藉由使距離拉近而變厚，而距離拉遠則膜厚變薄。較佳噴嘴/載台距離例如為30~200mm，更佳為50~150mm。
塗佈速度係與膜厚及凸部對表面之被覆量有關之參數，例如膜厚於速度變快時膜厚變薄，而變慢則膜厚變厚。於噴霧塗佈中，塗佈速度為例如50~2000mm/ sec，較佳為100~1500mm/sec。
形成於基材上之被膜厚度可藉由塗佈時如上述之參數而調節，但亦可藉由塗佈液之SiO2 換算濃度而容易調節。
形成於基材上之塗膜藉由加熱而獲得被膜。考慮基材等之耐熱性之情況，燒成溫度較佳為80℃~300℃之範圍，更佳為100℃~250℃之範圍內。
亦可於本發明之防眩層之下層設置比防眩層更高折射率之高折射率層。該情況，藉由適當調整防眩層與高折射率層之折射率，而可以使於防眩層表面反射之反射光與於高折射率層表面反射之反射光以逆相位予以干涉而可進一步附加減低反射光之效果。
此處，高折射率層若為比防眩層成為更高折射率之層則未特別限定，但若考慮與防眩層之密著性，則較佳為含有金屬烷氧化物與烷氧基矽烷之塗佈液之硬化物，例如可使用國際公開WO2012-057165號公報中揭示之被膜。
上述公報中揭示之高折射率層可舉例為塗佈含有1種或2種以上之下述式(A)之金屬烷氧化物、式(B)之烷氧基矽烷或該等之縮合體之塗佈液並使之硬化之膜。
M1 (OR1 )n (A) (式中，M1 表示矽(Si)、鈦(Ti)、鉭(Ta)、鋯(Zr)、硼(B)、鋁(Al)、鎂(Mg)、錫(Sn)及鋅(Zn)等之金屬，R1 表示碳數1至5之烷基，n表示M1 之價數)。 (R102 )n Si(OR103 )4-n (B) (式中，R102 表示烷基、烯基、環烷基、芳基或於前述烷基、烯基、環烷基及芳基之碳-碳間包含具有雜原子之基之含雜原子基，但上述烷基、烯基、環烷基、芳基及含雜原子基所具有之一部分或全部氫原子可經取代基取代，上述烷基、烯基於其一部分亦可具有環烷基或芳基，R103 表示碳數1~5之烷基，n表示1或2之整數)。
作為上述具有雜原子之基舉例為例如具有選自氧原子、氮原子及硫原子所成之群之至少1種之基，舉例為-O-、-NR-(R表示氫原子或碳數1~6之烷基)、-CO-、 -S-、-CO-及組合該等之基等。
作為上述取代基舉例為例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等之鹵原子、氰基、硝基、羥基、胺基、脲基、異氰酸酯基、巰基等。
作為以式(A)表示之金屬烷氧化物之代表例，於M1 為鈦之情況，舉例為四甲氧基鈦、四乙氧基鈦、四異丙氧基鈦、四正丙氧基鈦、四正丁氧基鈦、四異丁氧基鈦、四第三丁氧基鈦、四戊氧基鈦等之烷氧基鈦。 於M1 為矽之情況，舉例為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷、四丁氧基矽烷等之烷氧基矽烷。
作為式(B)中之R102 之具體例舉例為甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、硬脂基等之碳數1~18之烷基；乙烯基等之烯基；環己基等之環烷基；3-(甲基)丙烯醯氧基丙基等之含(甲基)丙烯醯氧基之烷基；3-氯丙基、三氟丙基、十三氟辛基、十七氟癸基等之含鹵原子之烷基；3-羥基丙基等之含羥基之烷基；γ-脲基(3-脲基)丙基之含脲基之烷基；γ-胺基(3-胺基)丙基、2-胺基乙基胺基甲基、3-(N-苯乙烯基甲基-2-胺基乙基胺基)丙基等之含胺基之烷基；γ-縮水甘油氧基(3-縮水甘油氧基)丙基、2-(3,4-環氧基環己基)乙基等之含環氧基之烷基；γ-巰基(3-巰基)丙基等之含巰基之烷基；3-異氰酸酯基丙基等之含異氰酸酯基之烷基；苯基等之芳基等。
作為式(B)之具體例，舉例為三烷氧基矽烷、二烷氧基矽烷等之烷氧基矽烷等。 作為三烷氧基矽烷之具體例舉例為甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、丁基三乙氧基矽烷、戊基三甲氧基矽烷、戊基三乙氧基矽烷、庚基三甲氧基矽烷、庚基三乙氧基矽烷、辛基三甲氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、十二烷基三乙氧基矽烷、十六烷基三甲氧基矽烷、十六烷基三乙氧基矽烷、十八烷基三甲氧基矽烷、十八烷基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-胺基乙基胺基甲基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-(2-胺基乙基胺基丙基)三甲氧基矽烷、3-(2-胺基乙基胺基丙基)三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、苯乙烯基乙基三乙氧基矽烷、3-(N-苯乙烯基甲基-2-胺基乙基胺基)丙基三甲氧基矽烷、對-苯乙烯基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三乙氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三乙氧基矽烷、十三氟辛基三甲氧基矽烷、十三氟辛基三乙氧基矽烷、十七氟癸基三甲氧基矽烷、十七氟癸基三乙氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷。 作為二烷氧基矽烷之具體例可舉例為二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷。
作為上述縮合體之具體例，舉例為矽酸甲酯51、矽酸甲酯53、矽酸乙酯40、矽酸乙酯48(商品名，COLCOAT公司製)、MKC矽酸酯(商品名，三菱化學公司製)、東麗道康寧公司製之矽樹脂、Momentive Performance Materials Japan股份公司製之矽樹脂、信越化學工業公司製之矽樹脂、道康寧亞洲公司製之含羥基之聚二甲基矽氧烷、東麗道康寧公司製之矽寡聚物等之矽寡聚物；四正丁氧化鈦、四聚物(關東化學公司製)等之鈦寡聚物等。
高折射率之折射率係高於防眩層之折射率，較佳為以使於防眩層表面反射之反射光與於防眩層與高折射率層之界面的高折射率層表面反射之反射光成為逆相位之折射率，例如自1.5~2.1之範圍，更佳為1.5~1.8之範圍選擇。
上述高折射率層亦可藉由調整硬化溫度，而調整折射率。該情況，就硬化溫度越高，高折射率層之折射率越高而言較佳。基於考慮基材等之耐熱性之觀點，燒成溫度較佳為100℃~300℃之範圍，更佳為150℃~250℃之範圍內。
上述高折射率層亦可於硬化後進而對塗膜照射紫外線(UV)，而調整所得高折射率層之折射率。高折射率層中，為了獲得期望之折射率的紫外線照射可使用例如高壓水銀燈進行。而且，使用高壓水銀燈之情況，較佳為以365nm換算之全光照射1000mJ/cm2 以上之照射量，更佳為2000mJ/cm2 ~10000mJ/cm2 之照射量。又，作為UV光源，並未特別指定，亦可使用別的UV光源。使用別的光源之情況，只要照射與使用上述高壓水銀燈之情況同量的累積光量即可。
其次，亦可於防眩層表面形成由特定塗覆劑所得之機能性層。本發明中，由於防眩層係由上述塗佈液形成，故成為對防眩層上形成機能性層之塗佈液之塗佈性及與機能性層之密著性良好者。
本發明中，設於防眩層上之機能性層並未特別限定。作為具體例可舉例為由防汙劑、塗料、接著劑、抗反射劑、撥水劑、親水劑、撥油劑、親油劑、硬塗覆劑、防滑劑等所得之機能性層。
防眩層或機能性層之厚度均較佳為5~1000 nm，更佳為10~400 nm。
本發明之被膜形成用塗佈液可形成塗佈性優異、透過率高的被膜。且，噴霧塗佈之情況的著液效率亦優異。因此，可較佳地使用於電視、電腦、汽車導航、行動電話等之顯示器等之領域。 [實施例]
以下列舉實施例，更詳細說明本發明，但並非限定於該等。 以下所用之簡稱如下述。
TEOS：四乙氧基矽烷 F13：十三氟辛基三甲氧基矽烷 UPS：γ-脲基丙基三乙氧基矽烷 TTE：四乙氧基鈦 AN：硝酸鋁九水合物 MeOH：甲醇 EtOH：乙醇 IPA：異丙醇 PGME：丙二醇單甲醚 BCS：丁基溶纖素 PB：丙二醇單丁醚 PG：丙二醇 HG：2-甲基-2,4-戊烷二醇 NMP：N-甲基-2-吡咯啶酮
＜合成例1＞ 於具備回流管之200mL四頸燒瓶中，添加TEOS(31.6 g)、F13(6.2g)及MeOH(30.3g)並攪拌，於其中添加MeOH (15.1g)、水(15.0g)及草酸(0.8g)，於10℃冰浴中攪拌30分鐘。隨後，於65℃攪拌2小時，隨後添加UPS(0.5g)及MeOH(0.5g)，進而於65℃反應2小時。隨後放冷至室溫，獲得溶液K1。
＜合成例2＞ 於200mL容量之燒瓶中，添加AN(2.9g)、水(2.6g)及EtOH(50.6g)並攪拌，獲得AN溶液。於該AN溶液中添加TEOS(21.2g)，於室溫攪拌30分鐘。隨後，添加TTE(10.0 g)及EtOH(12.7g)，進而於室溫攪拌30分鐘，獲得溶液K2。
＜合成例3＞ 於200mL容量之燒瓶中，添加AN(2.8g)、水(2.6g)及EtOH(51.2g)並攪拌，獲得AN溶液。於該AN溶液中添加TEOS(17.7g)，於室溫攪拌30分鐘。隨後，添加TTE(12.9 g)及EtOH(12.8g)，進而於室溫攪拌30分鐘，獲得溶液K3。
＜合成例4＞ 於200mL容量之燒瓶中，添加AN(2.7g)、水(2.5g)及EtOH(51.8g)並攪拌，獲得AN溶液。於該AN溶液中添加TEOS(14.3g)，於室溫攪拌30分鐘。隨後，添加TTE(15.7 g)及EtOH(13.0g)，進而於室溫攪拌30分鐘，獲得溶液K4。
＜合成例5＞ 於具備回流管之200mL四頸燒瓶中，添加TEOS(33.0 g)及MeOH(32.5g)並攪拌，於其中添加MeOH(13.8g)、水(15.0g)及草酸(0.9g)，於10℃冰浴中攪拌30分鐘。隨後，於60℃攪拌2小時，隨後添加UPS(2.4g)及MeOH(2.4g)，進而於60℃反應30分鐘。隨後放冷至室溫，獲得溶液K5。
＜調製例1＞ 於K1、K5溶液(60g)中，添加PGME(20g)及EtOH(20g)，分別獲得溶液KL1-1、KM2-1。
＜調製例2＞ 於K1溶液(12g)中，添加PG(5g)、NMP(20g)及MeOH (63g)，獲得溶液KL1-2。
＜調製例3＞ 於K2~K4溶液(18g)中，添加EtOH(2.5g)、IPA(42g)、BCS(9.4g)、PB(9.4g)及HG(18.7g)，分別獲得溶液KL2~ KL4。
＜調製例4＞ 於K1溶液(40g)中，添加PGME(20g)及EtOH(40g)，獲得溶液KM1。
＜調製例5＞ 於K5溶液(15g)中，添加MeOH(1.8g)、EtOH(18.5g)、PGME(18.5g)、PB(27.7g)及HG(18.5g)，獲得溶液KM2-2。
[噴霧塗佈條件] 噴霧塗佈以下述所示裝置、條件進行。 裝置名：APEIROS(股)公司製噴霧塗佈器API-240-3D
＜塗佈條件I-1＞ 噴霧型號：LPVN45，噴嘴高：100mm，Y軸間距：2mm，空氣壓力：550kPa，藥液流量1.0mL/min，噴嘴速度：900mm/sec
＜塗佈條件I-2＞ 自塗佈條件I-1變更為Y軸間距：3mm，其他條件相同。
＜塗佈條件I-3＞ 自塗佈條件I-1變更為Y軸間距：5mm，其他條件相同。
＜塗佈條件I-4＞ 自塗佈條件I-1變更為Y軸間距：1.4mm，其他條件相同。
＜塗佈條件II-1＞ 噴霧型號：LPVN12，噴嘴高：100mm，Y軸間距：7mm，空氣壓力：560kPa，藥液流量4.9mL/min，噴嘴速度：500mm/sec
＜塗佈條件II-2＞ 自塗佈條件II-1變更為噴嘴速度：550mm/sec，其他條件相同。
＜塗佈條件III＞ 噴霧型號：LPVN45，噴嘴高：100mm，Y軸間距：7mm，空氣壓力：470kPa，藥液流量4.9mL/min，噴嘴速度：170mm/sec
＜塗佈條件IV＞ 噴霧型號：LPVN45，噴嘴高：100mm，Y軸間距：7mm，空氣壓力：365kPa，藥液流量4.9mL/min，噴嘴速度：500mm/sec
＜塗佈條件V＞ 噴霧型號：LPVN45，噴嘴高：50mm，Y軸間距：3mm，空氣壓力：550kPa，藥液流量1.0mL/min，噴嘴速度：700mm/sec
[燒成條件] ＜燒成條件A＞ 於加熱板上以溫度70℃乾燥5分鐘，以熱風循環式烘箱於160℃燒成30分鐘。
＜燒成條件B＞ 以熱風循環式烘箱於溫度130℃乾燥3分鐘，UV照射3000mJ/cm2 (365nm換算，高壓水銀燈)，以熱風循環式烘箱於160℃燒成30分鐘。
＜燒成條件C＞ 於加熱板上以溫度40℃乾燥5分鐘，以熱風循環式烘箱於160℃燒成30分鐘。
＜各種評價條件＞ [濁度] 基板使用鈉鈣玻璃，以噴霧塗佈與實施例及比較例相同之塗佈條件製膜。所得附被膜之基板以SUGA試驗機(股)公司製濁度計HZ-V3測定濁度。
[表面觀察] 基板使用鈉鈣玻璃，所製作之附被膜基板以Bruker Japan(股)公司製3次元白色干涉顯微鏡Contour GT進行觀察。
[凸部表面被覆率] 自表面觀察所得之影像，自影像解析之亮成分算出於任意測定部位內之凸部及平坦部之面積比率，算出凸部表面被覆率。凸部表面被覆率以與上述說明之凸部表面被覆率之算出方法同樣方法算出。
[反射率] ＜正反射、反射色＞ 基板使用鈉鈣玻璃，所製作之附被膜基板以島津製作所(股)公司製紫外線可見光近紅外線分光光度計UV-3600，測定於光之入射角5°之波長380nm至800nm之範圍的反射率，自所得分光反射率曲線，依據JIS R 3106，求出平均視感反射率(正反射)及反射色a*、b*。
＜SCI、SCE＞ 基板使用鈉鈣玻璃，所製作之附被膜基板以Konica Minolta(股)製分光測色計CM-3700A，測定於光之入射角8°之波長360nm至740nm之範圍的反射率，依據JIS Z 8722，求出SCI、SCE之平均視感反射率。又，SCI(Specular Component Include：包含鏡面正反射光)係將正反射光列入考慮之測定，SCE(Specular Component Exclude：排除鏡面正反射光)係未將正反射光列入考慮之測定。
[閃光(sparkling)] 以像素密度350ppi之液晶顯示器，將黃綠色為前面且以最大亮度顯示，於其畫面上直接放置附被膜基板，發生閃光者評價為×，可確認若干閃光者評價為△，未發生閃光者評價為○。
[折射率] 基板使用矽基板(100)，藉旋轉塗佈以燒成後膜厚成為100nm之方式使溶液KL2~4製膜，以上述燒成條件B燒成，使用所得之附被膜基板，以橢圓偏振儀(溝尻光學工業所公司製，DVA-FLVW)測定波長633nm下之折射率。
＜實施例1＞ 基板使用鈉鈣玻璃，將上述調製例2所得之溶液KL1-2以塗佈條件III進行噴霧塗佈後，以燒成條件A進行燒成，形成下層。於所得基板上，將上述調製例1所得之溶液KL1-1以塗佈條件I-1進行噴霧塗佈後，以燒成條件C進行燒成，獲得附被膜基板。 使用所得附被膜基板進行各種評價。結果示於表1-2。
＜實施例2~3、比較例1~4＞ 除了使用之溶液及各條件如下述表1-1所示般變更之方面以外，與實施例1同樣進行，獲得附被膜基板。又，比較例2及比較例4中，進行下層之形成作成附被膜基板。 使用所得附被膜基板進行各種評價。結果示於表1-2。
如表1-2所示，實施例1~3中，正反射及SCI值抑制為較低，且亦未發生閃光。再者，相對於比較例2，由於產生反射率中之光散射成分的SCE，故可展現防眩機能，基於以上，提示可建構經賦予抗反射機能之防眩性機能膜。
比較例1中，SCI值非常大，且亦發生閃光。
比較例3中係使用無氟烷基成分之溶液的情況，無法獲得凸部表面被覆率低的形狀，會使SCI值變高。且，針對比較例4，並無防眩性，且反射色亦小。而且，SCI、正反射均變高。
＜實施例4~6、比較例5~7＞ 除了使用之溶液及各條件如下述表2-1所示般變更之方面以外，與實施例1同樣進行，獲得附被膜基板。 使用所得附被膜基板進行各種評價。結果示於表2-2。
如表2-2所示，實施例4~6中， SCI值可抑制為較低，且亦未發生閃光。再者，分別與比較例5~7比較，反射色之值的絕對值可減低且產生SCE，故可展現防眩機能，基於以上，提示可形成附抗反射機能之防眩性機能膜。 [產業上之可利用性]
藉由本發明之防眩性被膜形成用塗佈液及使用利用其之被膜構成物，可提供可形成於玻璃基板上且抗反射性及防眩性(anti-glare機能)之兩者優異之積層體。藉此，可對於電視、個人電腦、智慧型手機等之各種裝置所具備之影像顯示裝置(液晶顯示器、有機EL顯示器、電漿顯示器等)之顯示品質的提高產生貢獻。

Claims (16)

  1. 一種附防眩層之基材，其特徵係具有基材與直接或經由其他層形成於前述基材上之表面具有凹凸構造之防眩層， 前述防眩層係由含有具含氟有機基之聚矽氧烷的防眩性被膜形成用組成物之硬化物所形成， 前述聚矽氧烷係將含有以下述式(1)表示之烷氧基矽烷化合物之烷氧基矽烷成分聚縮合而得， R 11Si(OR 12) 3(1) (R 11表示經前述氟原子取代之有機基，R 12表示碳數1~5之烴基)，且 於前述防眩層的平坦被膜上間歇形成凸部之表面凹凸構造中，以白色光干涉型顯微鏡進行表面形狀解析所求得作為前述凸部所佔比例的凸部表面被覆率為5%~70%。
  2. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述具含氟有機基之聚矽氧烷含有以下述式(F)表示之有機基， CF 3(CF 2) kCH 2CH 2-*     (F) (式中，k為0~12之整數，*表示鍵結位置)。
  3. 如請求項2之附防眩層之基材，其中前述聚矽氧烷係進而將含有選自以下述式(2)表示之烷氧基矽烷化合物及以下述式(3)表示之烷氧基矽烷化合物所成之群之至少一種的烷氧基矽烷成分聚縮合而得， Si(OR 2) 4(2) R 31 nSi(OR 32) 4-n(3) (式中，R 2表示烴基，R 31表示未經氟原子取代之有機基或氫原子，R 32表示碳數1~5之烴基，n為1~3之整數)。
  4. 如請求項3之附防眩層之基材，其中前述未經氟原子取代之有機基係選自碳數1~18之烷基、碳數2~18之烯基、環烷基、含(甲基)丙烯醯氧基之烷基、含羥基之烷基、含脲基之烷基、含胺基之烷基、含環氧基之烷基、含巰基之烷基、含異氰酸酯基之烷基或芳基。
  5. 如請求項3之附防眩層之基材，其中前述以式(2)表示之烷氧基矽烷化合物係四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷或四丁氧基矽烷。
  6. 如請求項3之附防眩層之基材，其中前述以式(3)表示之烷氧基矽烷化合物係甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、丁基三乙氧基矽烷、戊基三甲氧基矽烷、戊基三乙氧基矽烷、庚基三甲氧基矽烷、庚基三乙氧基矽烷、辛基三甲氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、十二烷基三乙氧基矽烷、十六烷基三甲氧基矽烷、十六烷基三乙氧基矽烷、十八烷基三甲氧基矽烷、十八烷基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷或γ-脲基丙基三乙氧基矽烷。
  7. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述防眩性被膜形成用組成物含有選自乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯及甲基異丁基酮之至少一種。
  8. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述防眩性被膜形成用組成物含有選自甲醇、乙醇、2-丙醇、2-丁醇及2-甲基-1-丙醇之至少一種。
  9. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述凹凸構造之凸部高度為50nm~2,000nm。
  10. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述防眩層之濁度為0.3%~ 40%。
  11. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述防眩層之折射率為1.3~ 1.49之範圍。
  12. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述防眩層係形成於高折射率層上者，該高折射率層之折射率高於前述防眩層之折射率。
  13. 如請求項1之附防眩層之基材，其中前述高折射率層之折射率為1.5~2.1之範圍。
  14. 如請求項1之附防眩層之基材，其中進而具備形成於前述防眩層上之機能性層。
  15. 一種影像顯示裝置，其特徵係具備如請求項1至14中任一項之附防眩層之基材。
  16. 一種如請求項1至14中任一項之附防眩層之基材的製造方法，其係包含於基材上塗佈含有具含氟有機基之聚矽氧烷的防眩性被膜形成用塗佈液而形成防眩層之步驟。
TW109139705A 2019-11-15 2020-11-13 附防眩層之基材及影像顯示裝置與附防眩層之基材的製造方法 TWI886173B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019207410 2019-11-15
JP2019-207410 2019-11-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202132490A TW202132490A (zh) 2021-09-01
TWI886173B true TWI886173B (zh) 2025-06-11

Family

ID=75912632

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109139705A TWI886173B (zh) 2019-11-15 2020-11-13 附防眩層之基材及影像顯示裝置與附防眩層之基材的製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7606163B2 (zh)
KR (1) KR102808715B1 (zh)
CN (1) CN114730023B (zh)
TW (1) TWI886173B (zh)
WO (1) WO2021095770A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102752187B1 (ko) * 2021-09-14 2025-01-09 코오롱인더스트리 주식회사 코팅필름, 코팅용 조성물 및 표시장치
CN117700120A (zh) * 2023-12-11 2024-03-15 安徽简星科技有限公司 一种在玻璃盖板表面形成防眩光涂层的方法及车载显示屏
CN117700119A (zh) * 2023-12-11 2024-03-15 安徽简星科技有限公司 一种车载显示屏用盖板玻璃上形成防眩抗指纹涂层的方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200903021A (en) * 2007-01-12 2009-01-16 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, process for producing antireflection film, polarizing plate, and display device
JP2009047915A (ja) * 2007-08-20 2009-03-05 Central Glass Co Ltd 防眩性基板を有する表示装置
WO2009075201A1 (ja) * 2007-12-11 2009-06-18 Konica Minolta Opto, Inc. 防眩性フィルム、偏光板及び液晶表示装置
CN101836136A (zh) * 2007-10-23 2010-09-15 住友化学株式会社 防眩膜、防眩性偏振板及图像显示装置
TW201606357A (zh) * 2014-07-08 2016-02-16 Asahi Glass Co Ltd 附防眩膜之基材及物品
TW201629529A (zh) * 2013-07-05 2016-08-16 Dainippon Printing Co Ltd 防眩薄膜、偏光板、液晶面板、及影像顯示裝置
TW201908401A (zh) * 2010-06-08 2019-03-01 日商住友化學股份有限公司 光學膜、防眩性膜及偏光板

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000262963A (ja) * 1999-03-19 2000-09-26 Dainippon Ink & Chem Inc 親水性皮膜の形成方法および塗装物品
JP2001343505A (ja) * 2000-03-28 2001-12-14 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、その製造方法および画像表示装置
JP2002055205A (ja) * 2000-08-11 2002-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2002131507A (ja) * 2000-10-24 2002-05-09 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性反射防止フィルムおよび偏光板
JP4384898B2 (ja) 2003-11-28 2009-12-16 日油株式会社 撥水撥油性被膜の製造方法
CN100549736C (zh) * 2005-02-21 2009-10-14 大日本印刷株式会社 光学层叠体、使用它的偏振板及图像显示装置
JP2008020864A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Central Glass Co Ltd 吸音性不織布シート
KR101916507B1 (ko) 2013-01-30 2018-11-07 에이지씨 가부시키가이샤 방오막이 형성된 투명 기체
WO2018070426A1 (ja) * 2016-10-12 2018-04-19 日産化学工業株式会社 防眩性ハードコート積層体
WO2019116204A1 (en) * 2017-12-14 2019-06-20 3M Innovative Properties Company Siloxane-based dual-cure transparent transfer film

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200903021A (en) * 2007-01-12 2009-01-16 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, process for producing antireflection film, polarizing plate, and display device
JP2009047915A (ja) * 2007-08-20 2009-03-05 Central Glass Co Ltd 防眩性基板を有する表示装置
CN101836136A (zh) * 2007-10-23 2010-09-15 住友化学株式会社 防眩膜、防眩性偏振板及图像显示装置
WO2009075201A1 (ja) * 2007-12-11 2009-06-18 Konica Minolta Opto, Inc. 防眩性フィルム、偏光板及び液晶表示装置
TW201908401A (zh) * 2010-06-08 2019-03-01 日商住友化學股份有限公司 光學膜、防眩性膜及偏光板
TW201629529A (zh) * 2013-07-05 2016-08-16 Dainippon Printing Co Ltd 防眩薄膜、偏光板、液晶面板、及影像顯示裝置
TW201606357A (zh) * 2014-07-08 2016-02-16 Asahi Glass Co Ltd 附防眩膜之基材及物品

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2021095770A1 (zh) 2021-05-20
JP7606163B2 (ja) 2024-12-25
TW202132490A (zh) 2021-09-01
CN114730023A (zh) 2022-07-08
KR20220099545A (ko) 2022-07-13
CN114730023B (zh) 2024-11-01
KR102808715B1 (ko) 2025-05-15
WO2021095770A1 (ja) 2021-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101864458B1 (ko) 저굴절률막 형성용 조성물 및 이것을 사용한 저굴절률막의 형성 방법
JP4107050B2 (ja) コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品
CN108139506B (zh) 适合于移动显示设备的玻璃盖片等的玻璃基板
TWI886173B (zh) 附防眩層之基材及影像顯示裝置與附防眩層之基材的製造方法
JP5382310B2 (ja) 被膜形成用塗布液、その製造方法、その被膜、及び反射防止材
CN1860196A (zh) 具有低折射率及斥水性的覆膜
CN101535430B (zh) 低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料
US20070155897A1 (en) Coating film having low refractive index and large water contact angle
JP5458575B2 (ja) 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材
JP5293180B2 (ja) リン酸エステル化合物を含有する被膜形成用塗布液及び反射防止膜
KR101970934B1 (ko) 스프레이 도포용의 피막 형성용 도포액 및 피막
JP4893103B2 (ja) 被膜形成用塗布液及びその被膜並びに被膜形成方法
KR20150131499A (ko) 저굴절률막 형성용 조성물 및 그 제조 방법 그리고 저굴절률막의 형성 방법
JP5310549B2 (ja) 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材
JP5531614B2 (ja) メルカプト基で修飾したポリシロキサンを含有する反射防止被膜形成用塗布液
WO2025041710A1 (ja) 反射防止膜付き基板の製造方法、及び反射防止膜付き基板
WO2025041708A1 (ja) 反射防止膜付き基板の製造方法、及び反射防止膜付き基板