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WO2019087983A1 - ベンゾトリアゾール化合物 - Google Patents

ベンゾトリアゾール化合物 Download PDF

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WO2019087983A1
WO2019087983A1 PCT/JP2018/039952 JP2018039952W WO2019087983A1 WO 2019087983 A1 WO2019087983 A1 WO 2019087983A1 JP 2018039952 W JP2018039952 W JP 2018039952W WO 2019087983 A1 WO2019087983 A1 WO 2019087983A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
formula
divalent
sulfur
monovalent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2018/039952
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
信裕 金子
恒太郎 金子
河合 功治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miyoshi Yushi KK
Miyoshi Oil and Fat Co Ltd
Original Assignee
Miyoshi Yushi KK
Miyoshi Oil and Fat Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miyoshi Yushi KK, Miyoshi Oil and Fat Co Ltd filed Critical Miyoshi Yushi KK
Priority to US16/755,979 priority Critical patent/US11795151B2/en
Priority to KR1020207011441A priority patent/KR102635085B1/ko
Priority to JP2019550335A priority patent/JP7390890B2/ja
Priority to EP18874505.3A priority patent/EP3712138A4/en
Priority to CN201880068729.9A priority patent/CN111263755A/zh
Publication of WO2019087983A1 publication Critical patent/WO2019087983A1/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/16Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D249/18Benzotriazoles
    • C07D249/20Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/38Esters containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3472Five-membered rings
    • C08K5/3475Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate

Definitions

  • the present invention relates to a benzotriazole compound having an ultraviolet absorbing action.
  • the resin member is deteriorated by the action of ultraviolet light, causing quality deterioration such as discoloration and a decrease in mechanical strength, thereby inhibiting long-term use.
  • quality deterioration such as discoloration and a decrease in mechanical strength, thereby inhibiting long-term use.
  • it is generally practiced to add an ultraviolet absorber to a resin member.
  • Patent documents 1 to 5 are compounds in which an acryloyloxy group having reactivity with a monomer or a resin is introduced to a 2-phenylbenzotriazole skeleton via an alkylene group or an alkylene group having ether oxygen introduced at the base end. Is disclosed.
  • This compound has reactivity with the monomer and the resin, and thus can suppress bleed out.
  • the solubility in monomers and resins there is still room for further improvement in order to satisfy the solubility in monomers and resins, the reactivity enabling high molecular weight formation, and the transparency of resin members as a whole.
  • the harmful long wavelength ultraviolet ray absorption efficiency around 360 to 400 nm is low, and if the addition amount is increased to compensate for this, there is a problem of absorbing wavelength light of 400 nm or more and causing yellowing.
  • the present inventors in particular, use a sulfur-containing group as an ultraviolet absorber that efficiently and sufficiently absorbs noxious light up to 380 to 400 nm and suppresses absorption of wavelength light of 400 nm or longer that causes initial yellowing.
  • a sulfur-containing group as an ultraviolet absorber that efficiently and sufficiently absorbs noxious light up to 380 to 400 nm and suppresses absorption of wavelength light of 400 nm or longer that causes initial yellowing.
  • this UV absorber can sufficiently absorb light in the wavelength range of 250 to 400 nm, yet has a high UV absorption effect (molar absorption coefficient), and the addition of a small amount of that wavelength The light can be absorbed efficiently, and the absorption peak of 350 to 390 nm is larger than that of the conventional ultraviolet absorber, thereby suppressing absorption of light of wavelengths longer than 400 nm and suppressing the initial yellowing of the compounded member Can.
  • the UV absorber is thermally decomposed when heating, molding, and processing a resin composition containing the UV absorber, and the UV absorbing ability of the resin member is lowered, and in the case of a transparent resin member
  • an organic UV absorber that is more heat resistant and may damage the transparency and may contaminate the inside of a molding or processing apparatus.
  • Patent Documents 6 and 7 as a sulfur-containing group of a 2-phenylbenzotriazole derivative, a sulfur-containing group in which a hydrocarbon group composed of carbon and hydrogen such as aliphatic or aromatic is bonded to sulfur at the base end is synthesized
  • a sulfur-containing group in which a hydrocarbon group composed of carbon and hydrogen such as aliphatic or aromatic is bonded to sulfur at the base end is synthesized
  • the ultraviolet light absorbing ability is lowered due to the decomposition of the ultraviolet light absorbent, the transparency is lost in the transparent resin member, and the device is contaminated when processing. . Therefore, there is a need for a UV absorber having excellent heat resistance that can be applied to resins requiring higher molding processing temperatures.
  • JP 2012-25811 A Japanese Patent Laid-Open No. 2000-119569 Japanese Patent Application Publication No. 2001-234072 JP 2002-226521 A JP 2002-226522 A International Publication No. 2016/021664 International Publication No. 2016/174788
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and efficiently absorbs ultraviolet light with a long wavelength of 360 to 400 nm, has high solubility in monomers of resin materials, and can be dissolved at high concentration,
  • An object of the present invention is to provide a benzotriazole compound which can be polymerized with good reactivity to obtain a high molecular weight resin member and a transparent resin member, and a polymer containing the same as a raw material monomer.
  • Another object of the present invention is to provide a benzotriazole compound which is capable of efficiently absorbing ultraviolet light with a long wavelength of 360 to 400 nm and having excellent heat resistance.
  • benzotriazole compound of this invention is represented by following formula (I).
  • R 1 to R 9 each independently represent a monovalent sulfur-containing group represented by the following formula (i-1), a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group or an unsaturated group And a monovalent group selected from a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom. At least one of R 1 to R 9 is a monovalent sulfur-containing group represented by formula (i-1).
  • R 10 is a monovalent or two selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom
  • R 10 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted, or at least one of both ends may be interrupted, or a carbon-carbon bond may be interrupted.
  • R 11 is independently selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom when m is 2 or more.
  • a divalent hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom is substituted, or at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond may be interrupted, in a divalent or divalent group Indicates a group.
  • l represents an integer of 0 or 1
  • m represents an integer of 0 to 3.
  • R 12 represents a monovalent group represented by the following formula (i-2).
  • R 12a , R 12b and R 12c each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms
  • a 1 represents a nitrogen-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, represents a divalent group selected from the phosphorus-containing group and phenylene group
  • X is, -X 1 -, - X 2 -, - X 1 - (Y) p -X 2 -, - X 2 - (Y) p 2 -X 1- and -X 2- (Y) p- X 2- is a divalent group selected from (wherein X 1 represents an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group
  • a hydrogen atom is substituted by a monovalent or divalent group selected from a group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom, or at least one of both ends is
  • a 2 represents any divalent group selected from a nitrogen-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, and a phosphorus-containing group
  • X a represents —X a1 —, —X a2 —
  • X a1 is a monovalent or divalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom
  • X a2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in which an atom is substituted, or at least one of the both ends is interrupted, or the carbon-
  • the benzotriazole compound of the present invention has good solubility in the monomer of the resin raw material, can be dissolved at a high concentration, and polymerizes with good reactivity, and has a high molecular weight resin member, and further A transparent resin member is obtained. Further, heat resistance is improved by introducing a nitrogen-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, or a phenylene group as A 1 of R 12 into the sulfur-containing group.
  • Benzotriazole compounds of the present invention according to the second aspect, the nitrogen-containing groups sulfur-containing groups as A 2 of R 12, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, the heat resistance by introducing a phosphorus-containing group is improved
  • the thermal decomposition is suppressed, and the deterioration of the ultraviolet light absorbing ability and the appearance can be suppressed.
  • the resin since the resin is difficult to be thermally decomposed in the process of heat molding and processing, it can be applied as a UV absorber even to a resin for which a higher molding processing temperature is required.
  • the benzotriazole compounds of the present invention have a structure in which sulfur is introduced into a 2-phenylbenzotriazole skeleton, and light of a wavelength range of 250 to 400 nm can be obtained from the optical characteristics. It can be sufficiently absorbed, moreover, its ultraviolet absorption effect (molar absorption coefficient) is high, and its addition of a small amount can efficiently absorb its wavelength light. Furthermore, the absorption peak of 350 to 390 nm can suppress the absorption of light with a wavelength of about 400 nm or more larger than that of the conventional ultraviolet absorber, thereby suppressing the initial yellowing of the blended member.
  • UV chart UV-visible absorption spectrum
  • UV chart UV-visible absorption spectrum
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  • UV chart UV-visible absorption spectrum of a copolymer film using Compound 1 and Compound 4 of the present invention, and Compound 11 and Compound 12 as Comparative Examples.
  • UV-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 13 which is an example of the present invention. It is a UV-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 14 which is an example of the present invention. It is a UV-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 15 which is an example of the present invention. It is an ultraviolet-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 16 which is an example of the present invention. It is an ultraviolet-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 17 which is an example of the present invention. It is a UV-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 18 which is an example of the present invention. It is an ultraviolet-visible absorption spectrum (UV chart) of the compound 19 which is an example of the present invention.
  • UV chart ultraviolet-visible absorption spectrum
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  • a monovalent or divalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group and a halogen atom a monovalent or divalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group and a halogen atom
  • groups capable of adjusting heat resistance, refractive index, melting point, light resistance, compatibility with a resin, and the like include the following.
  • the aromatic group includes an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring, and preferably has 6 to 18 carbon atoms, and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • monovalent aromatic groups include phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 3, and the like.
  • divalent aromatic group for example, 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,2-phenylene group, 1,8-naphthylene group, 2,7-naphthylene group, 2,6- Naphthylene group, 1,4-naphthylene group, 1,3-naphthylene group, 9,10-anthracenylene group, 1,8-anthracenylene group, 2,7-anthracenylene group, 2,6-anthracenylene group, 1,4-anthracenylene group And 1,3-anthracenylene group.
  • the unsaturated group is a carbon-carbon double bond, carbon-carbon triple bond, carbon-oxygen double bond (carbonyl group, aldehyde group, ester group, carboxy group, carbamate group, urea group, amide group, imide group, carbamoyl group Group, urethane group etc.), carbon-nitrogen double bond (isocyanate group etc.), carbon-nitrogen triple bond (cyano group, cyanato group etc.) etc.
  • the number is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8.
  • unsaturated groups include acryloyl, methacroyl, maleic acid monoester, styryl, allyl, vinyl, alkenyl, alkynyl, carbonyl, aldehyde, ester, carboxy, carbamate, and the like.
  • a urea group, an amido group, an imide group, a carbamoyl group, a cyano group, a cyanato group, an isocyanate group, a urethane group etc. are mentioned.
  • the nitrogen-containing group contains a cyano group, a nitro group or a primary to tertiary amino group, and preferably has 0 to 10 carbon atoms.
  • nitrogen-containing groups include cyano, cyanato, isocyanate, nitro, nitroalkyl, amido, urea, urethane, imide, carbodiimide, azo, pyridine, imidazole and amino groups.
  • the sulfur-containing group includes a thiol group, a thioether group, a sulfide group, a disulfide group, a thioester group, a thioamide group, a sulfonyl group, a sulfo group, a thiocarbonyl group, or a thiourea group, and preferably has 0 to 10 carbon atoms. .
  • sulfur-containing group for example, thiomethoxy group, thioethoxy group, thio-n-propoxy group, thioisopropoxy group, thio-n-butoxy group, thio-t-butoxy group, thiophenoxy group, p-methylthiophenoxy group, p-Methoxythiophenoxy group, thiophene group, thiazole group, thiol group, sulfo group, sulfide group, disulfide group, thioester group, thioamide group, sulfonyl group, thiocarbonyl group, thiourea group, thiocarbamate group, dithiocarbamate group, etc. Can be mentioned.
  • the oxygen-containing group preferably has 6 to 12 carbon atoms when it contains an aromatic ring group or an alicyclic group, and preferably has 0 to 18 carbon atoms when it does not contain an aromatic ring group or an alicyclic group. is there.
  • oxygen-containing group for example, a hydroxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a phenoxy group, a methylphenoxy group, a dimethylphenoxy group, a naphthoxy group, a phenylmethoxy group, a phenylethoxy group, an acetoxy group, an acetyl group And an aldehyde group, a carboxy group, an ether group, a carbonyl group, an ester group, an oxazole group, a morpholine group, a carbamate group, a carbamoyl group, a polyoxyethylene group and the like.
  • the phosphorus-containing group contains a phosphine group, a phosphite group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a phosphoric acid group, or a phosphoric acid ester group, and preferably contains an aromatic ring group or an alicyclic group. 6 to 22, and when the aromatic ring group or alicyclic group is not contained, the carbon number is preferably 0 to 6.
  • a phosphorus containing group for example, trimethyl phosphine group, tributyl phosphine group, tricyclohexyl phosphine group, triphenyl phosphine group, tri tolyl phosphine group, methyl phosphite group, ethyl phosphite group, phenyl phosphite group, phosphonic acid group, A phosphinic acid group, a phosphoric acid group, a phosphoric acid ester group etc. are mentioned.
  • the alicyclic group preferably has 3 to 10, more preferably 3 to 8 carbon atoms.
  • Examples of the alicyclic group include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, and groups containing these as a skeleton.
  • the halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • the benzotriazole compound represented by the above-mentioned formula (I) is a monovalent sulfur represented by the above-mentioned formula (i-1) in at least any position of R 1 to R 9 bonded to the skeleton of a benzotriazole system. Contains the containing group.
  • R 10 is a monovalent or two selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group and a halogen atom
  • a hydrogen atom is substituted, or at least one of the both ends is interrupted, or the carbon-carbon bond may be interrupted, having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10, more preferably Is a divalent hydrocarbon group of 1 to 5, more preferably 1 to 3.
  • divalent hydrocarbon group of R 10 an aliphatic hydrocarbon group, alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group.
  • aliphatic hydrocarbon groups are preferable, and linear or branched alkylene groups, linear or branched alkenylene groups, linear or branched alkynylene groups and the like can be mentioned.
  • the divalent hydrocarbon group is a monovalent or divalent group in which a hydrogen atom is substituted, or at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond is interrupted;
  • the number of divalent or divalent groups is not particularly limited, and examples thereof include 2 or less or 1 or less.
  • aromatic group unsaturated group, nitrogen-containing group, sulfur-containing group, oxygen-containing group, phosphorus-containing group, alicyclic group and halogen atom of the monovalent or divalent group, the above-mentioned [substituents And so on].
  • l represents an integer of 0 or 1, and preferably l is 0.
  • R 11 independently represents an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, And a monovalent or divalent group selected from halogen atoms, in which a hydrogen atom is substituted, or at least one of both ends is interrupted, or the carbon-carbon bond may be interrupted; 20, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5 and still more preferably 1 to 3 divalent hydrocarbon groups.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group of R 11 include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among them, aliphatic hydrocarbon groups are preferable, and those exemplified above as R 10 divalent hydrocarbon groups can be mentioned. Among these, an alkylene group is preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • the number of monovalent or divalent groups is not particularly limited, and examples thereof include 2 or less or 1 or less.
  • aromatic group unsaturated group, nitrogen-containing group, sulfur-containing group, oxygen-containing group, phosphorus-containing group, alicyclic group and halogen atom of the monovalent or divalent group, the above-mentioned [substituents And so on].
  • m is an integer of 0 to 3, preferably m is 0 or 1, and more preferably m is 0.
  • the first embodiment in which R 12 in Formula (i-1) is the above ⁇ 1> will be described below.
  • the benzotriazole compound of the first embodiment has good solubility in the monomer of the resin raw material, can be dissolved at a high concentration, and polymerizes with good reactivity, a resin member of high molecular weight, and a transparent resin A member is obtained. Further, heat resistance is improved by introducing a nitrogen-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, or a phenylene group as A 1 of R 12 into the sulfur-containing group.
  • R 12 is a monovalent group represented by formula (i-2) above.
  • the benzotriazole compound of the first embodiment is characterized in that it has a monovalent group represented by the formula (i-2) via a linking group containing sulfur in a benzotriazole-based skeleton.
  • R 12a , R 12b and R 12c each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
  • Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among them, aliphatic hydrocarbon groups are preferable. As an aliphatic hydrocarbon group, a linear or branched alkyl group, a linear or branched alkenyl group, a linear or branched alkynyl group and the like can be mentioned. Among these, linear or branched alkyl groups are preferable.
  • linear or branched alkyl group for example, methyl group, ethane-1-yl group, propan-1-yl group, 1-methylethan-1-yl group, butan-1-yl group, butan-2-yl group Group, 2-methylpropan-1-yl group, 2-methylpropan-2-yl group, pentan-1-yl group, pentan-2-yl group, hexan-1-yl group, heptane-1-yl group, Octan-1-yl group, nonan-1-yl group, decane-1-yl group, undecane-1-yl group, dodecane-1-yl group, tridecane-1-yl group, tetradecane-1-yl group, pentadecane -1-yl, hexadecan-1-yl, heptadecan-1-yl, octadecan-1-yl and the like.
  • the monovalent hydrocarbon group preferably has 1 to 13 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, still more preferably 1 to 3 carbon atoms, and most preferably 1 carbon atoms. is there.
  • (1) R 12a , R 12b and R 12c are a hydrogen atom
  • (2) R 12a is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms
  • R 12b and R 12c are a hydrogen atom
  • 3) R 12a is a hydrogen atom
  • R 12b is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms
  • R 12c is a hydrogen atom.
  • R 12a , R 12b and R 12c in (1) are hydrogen atoms, or in (2), R 12a is a monovalent hydrocarbon group having 1 carbon atom, and R 12b and R 12c are hydrogen atoms.
  • R 12a is a hydrogen atom
  • R 12b is a C 1 monovalent hydrocarbon group
  • R 12c is a hydrogen atom.
  • a 1 represents any divalent group selected from nitrogen-containing groups, oxygen-containing groups, sulfur-containing groups, phosphorus-containing groups, and phenylene groups.
  • Examples of the nitrogen-containing group, the oxygen-containing group, the sulfur-containing group, and the phosphorus-containing group in the formula (i-2) include, for example, divalent groups among those exemplified in the above-mentioned [substituent etc.] .
  • divalent nitrogen-containing groups examples include amido, urea, urethane, imide, carbodiimide, azo, pyridine, imidazole, toluidine, nitroalkyl, secondary amino, aminoalkyl and the like. It can be mentioned.
  • a divalent nitrogen-containing group having a double bond is preferable, and examples thereof include an amido group, a urea group, a urethane group, an imide group, a carbodiimide group, an azo group, a pyridine group, an imidazole group, an imidazole group, a toluidine group and a nitroalkyl group.
  • divalent oxygen-containing group examples include an ether group, a carbonyl group, an ester group, an oxazole group, a carbamate group and a carbamoyl group.
  • a divalent oxygen-containing group having a double bond is preferable, and examples thereof include a carbonyl group, an ester group, an oxazole group, a carbamate group and a carbamoyl group.
  • divalent sulfur-containing groups examples include thioether group, sulfide group, disulfide group, thioester group, thioamide group, sulfonyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, thiocarbonyl group, thiourea group, thiocarbamate group, dithiocarbamate group, thiophene group, thiazole And the like.
  • a divalent sulfur-containing group having a double bond is preferable.
  • thioester group For example, thioester group, thioamide group, sulfonyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, thiocarbonyl group, thiourea group, thiocarbamate group, dithiocarbamate group, thiophene group, thiazole group Etc.
  • divalent phosphorus-containing groups examples include phosphoric acid ester groups and phosphonic acid esters.
  • a divalent phosphorus-containing group having a double bond is preferable, and examples thereof include a phosphoric acid ester group and a phosphonic acid ester.
  • a 1 is preferably a divalent group selected from an ester group, a phenylene group, and an amide group.
  • the phenylene group is an o-phenylene group, a m-phenylene group or a p-phenylene group.
  • a 1 is an ester group, a urethane group, an amido group or a urea group, a nitrogen-containing group having a double bond in a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, in the same tendency as in the second embodiment described later
  • a sulfur-containing group and a phosphorus-containing group By introducing a sulfur-containing group and a phosphorus-containing group, the heat resistance is improved, the thermal decomposition thereof is suppressed, and it is possible to suppress the deterioration of the ultraviolet absorptivity and the appearance. That is, the solubility of the resin raw material in the monomer is high, so that it can be dissolved at a high concentration, and polymerizes with good reactivity to obtain a high molecular weight resin member and further a transparent resin member. It can be excellent.
  • X is, -X 1 -, - X 2 -, - X 1 - (Y) p -X 2 -, and -X 2 - is selected from - (Y) p -X 1 may be a divalent group, in particular -X 1 -, - X 2 - , - X 1 - (Y) p -X 2 -, - X 2 - (Y) p -X 1 -, and a divalent group selected from - -X 2 - (Y) p -X 2.
  • X 1 is a monovalent or divalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom
  • X 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in which an atom is substituted, or at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond may be interrupted
  • X 2 is a divalent
  • Y represents a hetero atom
  • p represents an integer of 0 or 1.
  • divalent hydrocarbon group X 1 examples include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among them, aliphatic hydrocarbon groups are preferable, and those exemplified above as R 10 divalent hydrocarbon groups can be mentioned. Among these, an alkylene group is preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • the divalent hydrocarbon group X 1 is a monovalent or divalent group
  • a hydrogen atom is substituted, or at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond is interrupted
  • the number of the monovalent or divalent groups is not particularly limited, and examples thereof include 2 or less or 1 or less.
  • aromatic group unsaturated group, nitrogen-containing group, sulfur-containing group, oxygen-containing group, phosphorus-containing group, alicyclic group and halogen atom of the monovalent or divalent group, the above-mentioned [substituents And so on].
  • the divalent aromatic group X 2 contains an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring, and preferably has 6 to 18 carbon atoms, and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring
  • 6 to 18 carbon atoms and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • the hetero atom Y is not particularly limited, and examples thereof include an oxygen atom and a sulfur atom.
  • X 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which is not substituted or interrupted
  • X 2 represents a divalent aromatic group
  • Y is oxygen Indicates an atom or a sulfur atom.
  • X 1 is more preferably a divalent alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which is not substituted or interrupted and-(CH 2 ) n- (n represents an integer of 1 to 20).
  • X is -X 1-
  • X is preferably an alkylene group-(CH 2 ) n- (n is an integer of 1 to 20).
  • n is preferably 2 or more, more preferably 3 or more.
  • the upper limit of n is not particularly limited, but is preferably 10 or less, more preferably 6 or less, in consideration of the solubility of the resin raw material in the monomer, the transparency of the resin member, and in particular the reactivity with the resin raw material monomer. That is, n is preferably 2 to 10, more preferably 3 to 10, still more preferably 2 to 6, and particularly preferably 3 to 6.
  • X 2 is more preferably a divalent phenylene group.
  • X 2 is a bivalent phenylene group
  • X is a phenylene group when X in the above formula (i-2) is —X 2 —.
  • X in the above formula (i-2) can be represented by -X 1- (Y) p -X 2 -or -X 2- (Y) p -X 1-
  • -X 2- (Y) p- X 1 - is preferable
  • X 1 is an alkylene group-(CH 2 ) n- (n is an integer of 1 to 20)
  • Y is an oxygen atom
  • n of the alkylene group-(CH 2 ) n- is preferably 2 to 10, more preferably 3 to 10, still more preferably 2 to 6, and particularly preferably 3 to 6.
  • Particularly preferable examples of the monovalent group represented by the formula (i-1) include the following formulas (i-1-1) and (i-) in which l and m are 0 and R 12c is a hydrogen atom. And groups represented by 1-2) and (i-1-3).
  • R 12a , R 12b , A 1 and n are as defined above
  • R 12a , R 12b , A 1 and n are as defined above
  • the solubility of the resin raw material in the monomer is high, so that dissolution at high concentration is possible, and polymerization is performed with good reactivity, and a resin member of high molecular weight and further transparent. Is obtained. Further, heat resistance is improved by introducing a nitrogen-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, a phosphorus-containing group, or a phenylene group as A 1 of R 12 into the sulfur-containing group.
  • the benzotriazole compound according to the first embodiment has, as a reactive functional group, a monovalent group represented by the above formula (i-2) in the benzotriazole-based skeleton via a linking group containing sulfur,
  • a resin member is obtained by reaction, copolymerization or molding processing using an organic or inorganic compound containing a functional group that reacts with the vinyl group, particularly a monomer or resin of a resin raw material
  • the benzotriazole compound of the first embodiment It can be copolymerized or reacted with the compound of interest, in particular with the monomer of the resin raw material or with the functional group of the resin, and be immobilized on the matrix, and can retain the ultraviolet light absorbing ability for a long time without bleeding out and eluting. And a matrix and a resin member which maintained transparency by selecting a monomer and resin are obtained.
  • the compound of the first embodiment is excellent in reactivity with monomers and resins by introducing a sulfur-containing group and a functional group of the formula (i-2) into a benzotriazole-based ultraviolet ray absorbing skeleton, and the compound of the first embodiment It is compatible with the resin, has high molecular weight, and can impart high ultraviolet absorptivity to a resin molded product or the like while maintaining high transparency if necessary.
  • R 12 is a monovalent group represented by the above formula (i-3).
  • the benzotriazole compound of the second embodiment is characterized in that it has a monovalent group represented by the formula (i-3) via a linking group containing sulfur in a benzotriazole-based skeleton.
  • a 2 represents a divalent group selected from a nitrogen-containing group, an oxygen-containing group, a sulfur-containing group, and a phosphorus-containing group, and is exemplified in the column of [Substituents etc.] Among them, divalent groups are mentioned.
  • divalent nitrogen-containing groups examples include amido, urea, urethane, imide, carbodiimide, azo, pyridine, imidazole, toluidine, nitroalkyl, secondary amino, aminoalkyl and the like. It can be mentioned.
  • a divalent nitrogen-containing group having a double bond is preferable, and examples thereof include an amido group, a urea group, a urethane group, an imide group, a carbodiimide group, an azo group, a pyridine group, an imidazole group, an imidazole group, a toluidine group and a nitroalkyl group.
  • divalent oxygen-containing group examples include an ether group, a carbonyl group, an ester group, an oxazole group, a carbamate group and a carbamoyl group.
  • a divalent oxygen-containing group having a double bond is preferable, and examples thereof include a carbonyl group, an ester group, an oxazole group, a carbamate group and a carbamoyl group.
  • divalent sulfur-containing groups examples include thioether group, sulfide group, disulfide group, thioester group, thioamide group, sulfonyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, thiocarbonyl group, thiourea group, thiocarbamate group, dithiocarbamate group, thiophene group, thiazole And the like.
  • a divalent sulfur-containing group having a double bond is preferable.
  • thioester group For example, thioester group, thioamide group, sulfonyl group, sulfonyl group, sulfoxide group, thiocarbonyl group, thiourea group, thiocarbamate group, dithiocarbamate group, thiophene group, thiazole group Etc.
  • divalent phosphorus-containing groups examples include phosphoric acid ester groups and phosphonic acid esters.
  • a divalent phosphorus-containing group having a double bond is preferable, and examples thereof include a phosphoric acid ester group and a phosphonic acid ester.
  • X a is, -X a1 -, - X a2 -, - X a1 - (Y a) q -X a2 -, - X a2 - (Y a) q -X a1 -, and -X a2 - a divalent group selected from - (Y a) q -X a2 .
  • X a1 is a monovalent or divalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom
  • X a2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in which an atom is substituted, or at least one of the both ends is interrupted, or the carbon-carbon bond may be interrupted, and X a2 is divalent
  • Y a represents a hetero atom
  • q represents an integer of 0 or 1.
  • X b is -X b1 , -X b2 , -X a1- (Y b ) r -X b2 , -X a2- (Y b ) r -X b1 , and -X a2- (Y b ) r -X It shows a monovalent group selected from b2 .
  • X b1 is a monovalent or divalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen-containing group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group and a halogen atom
  • X 1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted in atoms, interrupted in its base end, or interrupted in carbon-carbon bonds
  • X b2 is a monovalent aromatic group Group represents, Y b represents a hetero atom, and r represents an integer of 0 or 1.
  • X a1 and X a2 are as defined above, but are each independently of X a .
  • divalent hydrocarbon group X a1 examples include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among them, aliphatic hydrocarbon groups are preferable, and those exemplified above as R 10 divalent hydrocarbon groups can be mentioned. Among these, an alkylene group is preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • a divalent hydrocarbon group X a1 is a monovalent or divalent group
  • a hydrogen atom is substituted, or at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond is interrupted
  • the number of the monovalent or divalent groups is not particularly limited, and examples thereof include 2 or less or 1 or less.
  • the aromatic group, unsaturated group, nitrogen-containing group, sulfur-containing group, oxygen-containing group, phosphorus-containing group, alicyclic group and halogen atom of the monovalent or divalent group the above-mentioned [substituents And so on].
  • the divalent aromatic group X a2 contains an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring, and preferably has 6 to 18 carbon atoms, and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring
  • 6 to 18 carbon atoms and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • Examples of the monovalent hydrocarbon group X b1 include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among them, aliphatic hydrocarbon groups are preferable, and linear or branched alkyl groups, linear or branched alkenyl groups, linear or branched alkynyl groups and the like can be mentioned, and linear alkyl groups are preferable.
  • alkyl group for example, methyl group, ethane-1-yl group, propan-1-yl group, 1-methylethan-1-yl group, butan-1-yl group, butan-2-yl group, 2-methyl group Propan-1-yl group, 2-methylpropan-2-yl group, pentan-1-yl group, pentan-2-yl group, 2-methylbutan-1-yl group, hexane-1-yl group, 3-methyl Pentan-1-yl group, 2-methylpentan-1-yl group, heptane-1-yl group, 2-methylhexane-yl group, 3-methylhexane-yl group, 3-ethylpentan-1-yl group, Octan-1-yl group, 2-ethylhexan-1-yl group, 3-ethylhexan-1-yl group, 2-methylheptan-1-yl group, 3-methylheptan-1-yl group, 4 -Methylheptan
  • alkenyl group for example, ethen-1-yl group, propen-1-yl group, buten-1-yl group, penten-1-yl group, 2-methyl-1-buten-1-yl group, 3- Methyl-1-buten-1-yl group, 2-methyl-2-buten-1-yl group, hepten-1-yl group, octene-1-yl group, nonen-1-yl group, decene-1-yl group Group, undecen-1-yl group, dodecen-1-yl group, tridecen-1-yl group, tetradecen-1-yl group, pentadecen-1-yl group, hexadecen-1-yl group, octadecen-1-yl group , Nonadecene-1-yl group, eicosen-1-yl group and the like.
  • alkynyl group examples include ethyn-1-yl group, propyn-1-yl group, butin-1-yl group, pentin-1-yl group, 2-methyl-1-butyn-1-yl group, 3- Methyl-1-butyn-1-yl group, 2-methyl-2-butyn-1-yl group, hexin-1-yl group, heptin-1-yl group, octin-1-yl group, nonin-1-yl group Group, decyn-1-yl group, undecin-1-yl group, dodecin-1-yl group, tridecin-1-yl group, tetradecin-1-yl group, pentadecin-1-yl group, hexadecin-1-yl group And octadecyn-1-yl group, nonadecin-1-yl group, eicosin-1-yl group and the like.
  • the monovalent hydrocarbon radicals X b1 a
  • the monovalent hydrocarbon group X b1 is a monovalent or divalent group in which a hydrogen atom is substituted, a base end is interrupted, or a carbon-carbon bond is interrupted;
  • the number of divalent groups is not particularly limited, but examples thereof include 2 or less or 1 or less.
  • the aromatic group, unsaturated group, nitrogen-containing group, sulfur-containing group, oxygen-containing group, phosphorus-containing group, alicyclic group and halogen atom of the monovalent or divalent group the above-mentioned [substituents And so on].
  • the monovalent aromatic group X b2 contains an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring, and preferably has 6 to 18 carbon atoms, and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring
  • 6 to 18 carbon atoms and more preferably 6 to 14 carbon atoms.
  • monovalent aromatic group those exemplified in the above-mentioned [substituent etc.] can be mentioned.
  • the hetero atoms Y a and Y b are not particularly limited, and examples thereof include an oxygen atom and a sulfur atom.
  • X a1 is a substituted or uninterrupted divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • X a2 is a divalent aromatic group
  • Y a is an oxygen atom or Represents a sulfur atom
  • X b1 is a substituted or uninterrupted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • X b2 is a monovalent aromatic group
  • Y b is an oxygen atom or a sulfur atom
  • X a1 the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that are not substituted and interrupted
  • X a2 represents a divalent aromatic group (X a1 and X a2 are each, independently of the X a.) shows a.
  • X a1 is more preferably a divalent alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which is not substituted or interrupted,-(CH 2 ) n- (n is an integer of 1 to 20). preferable.
  • X a is -X a1-
  • X a is preferably an alkylene group-(CH 2 ) n- (n represents an integer of 1 to 20).
  • n is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, in consideration of further improvement of the heat resistance.
  • the upper limit of n is not particularly limited, but is preferably 10 or less, more preferably 6 or less. That is, n is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6, and particularly preferably 3 to 6.
  • X a of the formula (i-3) preferably in that the compound containing divalent aromatic radical X a2 heat resistance is further improved, in this case X a is, -X a2 -, - X a1 - (Y a ) q -X a2 -, - X a2 - (Y a) q -X a1 -, - X a2 - (Y a) q -X a2 - is any divalent group of.
  • q is preferably 0.
  • -X b2 , -X a1- (Y b ) r -X containing an aromatic group X a2 or X b2 b2, -X a2 - (Y b ) r -X b1, -X a2 - (Y b) one of the r -X b2 are preferred.
  • X a and X b in the formula (i-3) are an alkyl group and A 2 is an ester group
  • the number of carbon atoms is preferably 1 or more, and 6 or more in consideration of further improvement of the heat resistance. More preferably, 14 or more is more preferable.
  • X b of formula (i-3) for example, X b1 is a substituted or non-interrupted monovalent alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, X b2 is a monovalent aromatic group, and Y b is an oxygen atom or a sulfur atom And X a1 may be a substituted or non-interrupted divalent alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and X a2 may represent a divalent aromatic group.
  • the solubility of the resin raw material in the monomer is good, so that dissolution at high concentration is possible, and good reactivity is achieved.
  • a high molecular weight resin member and further a transparent resin member can be obtained.
  • r is preferably 0.
  • a 2 in the formula (i-3) is preferably an amide group, an ester group, a urethane group or a urea group.
  • an ester group and an amide group are more preferable, and an amide group is particularly preferable.
  • X a and X b in the formula (i-3) each represent an aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, alkylene group) and an aromatic group or both represent an aliphatic hydrocarbon group (alkyl group
  • the total carbon number of X a and X b is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 10 or more, and particularly preferably 18 or more.
  • X a, the combination of X b is, X a, compound both X b is an aromatic group is more preferable.
  • the thermal decomposition temperature of the UV absorber is If the temperature is low, the UV absorption effect can not be sufficiently exhibited, and the apparatus is contaminated. In the case of a transparent resin member, it is desirable that the thermal decomposition temperature be high in order to prevent the loss of transparency.
  • the heat resistance of the benzotriazole compound of the first embodiment is improved by introducing the thioether group represented by the above formula (i-1).
  • the 5% weight loss temperature of the benzotriazole compound of the first embodiment is preferably 255 ° C. or higher, more preferably 270 ° C.
  • the 5% weight loss temperature is higher than the general resin softening temperature of 100 to 250 ° C ("Well-understood plastic", ed .: Japan Plastics Industry Federation, publication: Japan Business Publishing Co., Ltd.)
  • the present invention is applicable to thermosetting resins and thermoplastic resins having a temperature of 200 ° C., and thermoplastic resins for which a molding processing temperature higher than 200 to 250 ° C. is required.
  • R 1 to R 9 is a monovalent sulfur-containing group represented by Formula (i-1) It is.
  • the whiteness of the resin member to which the compound of the present invention is added is suppressed by improving the easiness of actual synthesis, absorption characteristics and cost, heat resistance, or compatibility with the monomer of the resin material.
  • monovalent sulfur containing 1-2 of R 1 ⁇ R 9 is represented by the formula (i-1) It is preferably a group, and more preferably one monovalent sulfur-containing group represented by formula (i-1).
  • the position of the monovalent sulfur-containing group represented by formula (i-1) in formula (I) is not particularly limited, and the monovalent sulfur-containing group represented by formula (i-1) is It is preferable to have any one of R 6 to R 9 of the formula (I), and the positions of R 6 and R 9 are more preferable.
  • R 1 to R 9 in the formula (I) is a group other than a monovalent sulfur-containing group represented by the formula (i-1), a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group And a monovalent group selected from unsaturated groups, nitrogen-containing groups, sulfur-containing groups, oxygen-containing groups, phosphorus-containing groups, alicyclic groups, and halogen atoms.
  • R 1 to R 9 are monovalent hydrocarbon groups
  • examples of the monovalent hydrocarbon group include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among them, aliphatic hydrocarbon groups are preferable, and linear or branched alkyl groups, linear or branched alkenyl groups, linear or branched alkynyl groups and the like can be mentioned.
  • R 1 to R 9 are a monovalent group selected from an aromatic group, an unsaturated group, a sulfur-containing group, an oxygen-containing group, a phosphorus-containing group, an alicyclic group and a halogen atom, specific examples thereof are And those exemplified in the above-mentioned [substituent etc.] column.
  • R 9 at 5-position has a monovalent sulfur-containing group represented by Formula (i-1), as a group other than the monovalent sulfur-containing group represented by Formula (i-1)
  • R 6 , R 7 and R 8 are all hydrogen atoms.
  • R ⁇ 1 >, R ⁇ 2 >, R ⁇ 3 >, R ⁇ 4 >, R ⁇ 5 > it is as follows.
  • Hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (including alkenyl group and hydrocarbon group having 2 to 18 carbon atoms including alkynyl group), hydroxy group, aromatic group having 6 to 18 carbon atoms, 1 carbon atom
  • the substituent is at least one selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and a hydroxy group.
  • the substituent is at least one selected from a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and a hydroxy group.
  • the hydrocarbon group of the substituent is a linear or branched alkyl group.
  • the substituent is at least one selected from a methyl group, a t-butyl group, and a hydroxy group.
  • the substituent is at least one selected from a methyl group, a t-butyl group, and a hydroxy group, and the hydroxy group is one or less.
  • the number of substituents is 2 to 4.
  • a substituent is present at any position of R 1 to R 4 , and the other R 1 to R 5 are hydrogen atoms.
  • a substituent is present at any position of R 1 , R 2 and R 4 , and the other R 1 to R 5 are hydrogen atoms.
  • R 1 is a hydroxy group
  • R 2 is a t-butyl group
  • R 4 is a methyl group
  • R 3 and R 5 are hydrogen atoms.
  • the transparent resin member containing the benzotriazole compound of the present invention represented by the formula (I) has long wavelength range while suppressing yellowing from the characteristics of the peak of ultraviolet absorption in addition to the transparency of the resin due to its compatibility. Enables the absorption of Specifically, it is possible to sharply cut the longer wavelength of 360 to 400 nm ultraviolet light even in the UV-A region without cutting 400 to 500 nm (visible region) from the characteristics of the ultraviolet light absorbing ability. . For this reason, as the resin member, one excellent in appearance with suppressed yellow coloring can be obtained. That is, light in the wavelength range of 250 to 400 nm can be sufficiently absorbed from its optical characteristics.
  • the ultraviolet absorption effect (molar absorption coefficient) is high, the addition of a small amount can sufficiently absorb the wavelength light, and the inclination of the absorption peak at 350 to 390 nm in the chloroform solution is larger than that of the conventional ultraviolet absorber, Yellowing of the resin member can be suppressed.
  • the absorption peak of light in the solution is preferably in the range of 350 to 390 nm, more preferably in the range of 360 to 380 nm, and particularly preferably in the range of 360 to 375 nm. Moreover, it is preferable that the absorption peak which exists in those wavelength regions is the largest absorption wavelength ((lambda) max ).
  • the slope on the wavelength side is preferably 0.025 or more, more preferably 0.030 or more, and 0.040 or more Is more preferably 0.042 or more, particularly preferably 0.043 or more.
  • the molar absorption coefficient (maximum molar absorption coefficient: ⁇ ⁇ max ) of the above absorption peak of 350 to 390 nm is preferably 17000 L / (mol ⁇ cm) or more, and 18000 L / (mol • cm) or more is more preferable, 20000 L / (mol ⁇ cm) or more is more preferable, and 21000 L / (mol ⁇ cm) or more is particularly preferable.
  • composition to which the benzotriazole compound of the present invention is added Composition to which the benzotriazole compound of the present invention is added
  • the use of the benzotriazole compound of this invention is not specifically limited, The application to the composition which added the benzotriazole compound of this invention as a ultraviolet absorber is mentioned.
  • composition includes compositions obtained by adding the benzotriazole compound of the present invention regardless of their properties such as solid, fluid, gel, sol, etc. Also included are raw materials for manufacturing.
  • member is not particularly limited, but includes, for example, those used for the applications exemplified below, and includes shapes having any shape.
  • the composition to which the benzotriazole compound of the present invention is added includes those which the benzotriazole compound of the present invention has reacted after addition, and includes, for example, the polymer of the present invention described later.
  • Examples of the material of the composition to which the benzotriazole compound of the present invention is added include organic materials and inorganic materials.
  • the benzotriazole compounds of the present invention have high affinity, compatibility, and reactivity with various organic materials and inorganic materials, and when the benzotriazole compounds of the present invention are mixed, dissolved, dispersed, reacted, homogeneous members can be obtained. In particular, when a transparent member is used, a member having excellent transparency can be obtained.
  • the polymer of the present invention contains the benzotriazole compound of the present invention as a raw material monomer.
  • the polymer of the present invention is suitable for obtaining a highly transparent resin member, and although it is transparent in a preferred embodiment, the polymer of the present invention is not necessarily limited to the transparent one.
  • the polymer of the present invention is not particularly limited, homopolymers of the benzotriazole compound of the present invention and copolymers with monomers of other resin raw materials capable of reacting with the vinyl group of the benzotriazole compound of the present invention can be mentioned. And copolymers of two or more benzotriazole compounds and monomers.
  • the benzotriazole compound of the present invention may be reacted with a polymer compound having a reactive functional group at an end or a side chain to form a block copolymer or a graft copolymer.
  • the polymer of the present invention is obtained by mixing or coating a benzotriazole compound of the present invention with a resin, an organic compound having a reactive functional group, an inorganic compound, particularly a resin, and then reacting the mixture. May be
  • a (meth) acrylate type monomer, a styrene type monomer, an acrylamide type monomer, an olefin type monomer, a vinyl type monomer etc. are mentioned.
  • the (meth) acrylate monomer is not particularly limited, and examples thereof include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and the like.
  • the styrene-based monomer is not particularly limited, and examples thereof include styrene, ⁇ -methylstyrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, triethylstyrene, propylstyrene, isopropylstyrene and butylstyrene.
  • Alkylstyrenes such as isobutylstyrene, t-butylstyrene, s-butylstyrene, pentylstyrene, hexylstyrene, heptylstyrene and octylstyrene; halogenated styrenes such as chlorostyrene, fluorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene and iodostyrene; p Alkoxystyrenes such as -methoxystyrene; aryl styrenes such as p-phenylstyrene; styrene sulfonic acid or alkali metal salt thereof, nitrostyrene, Styrene, hydroxystyrene, and 4 (trimethoxysilyl) styrene.
  • halogenated styrenes such
  • the acrylamide monomer is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylamide, N, N-dimethyl acrylamide, (meth) N, N-diethyl acrylamide, (meth) N, N-dipropyl acrylamide, Meta) N, N-diisopropylacrylamide, (meth) acryloyl morpholine, diacetone (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N, N-bishydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) Acrylamide, N, N-bishydroxyethyl (meth) acrylamide, N-hydroxypropyl (meth) acrylamide, N, N-bishydroxypropyl (meth) acrylamide, N-hydroxybutyl (meth) acrylamide, N, N Bis-hydroxybutyl (meth) acrylamide.
  • the olefin monomer is not particularly limited.
  • the vinyl monomer is not particularly limited, and examples thereof include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl alcohol, allyl alcohol, (meth) acrylonitrile, methacrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, vinyl chloride, vinyl bromide, Vinyl iodide, vinylidene chloride, vinylidene bromide, vinylidene iodide, vinylsulfonic acid and its salts, methallylsulfonic acid and its salts, 2-acrylamido-2-methylsulfonic acid and its salts, etc.
  • N-vinyl-2- Pyrrolidone (meth) acryloyl morpholine, N-vinyl piperidone, N-vinyl piperazine, N-vinyl pyrrole, N-vinyl imidazole are mentioned.
  • the benzotriazole compound of the present invention has excellent solubility in the above-mentioned monomer and can be mixed at a high concentration, and even if added at a high concentration, the benzotriazole compound of the present invention is homogeneous to the monomer And maintain high transparency.
  • the polymer of the present invention is not particularly limited, and can be produced, for example, by the following methods (1) to (3).
  • a homopolymer of a benzotriazole compound is produced, it is carried out in the same manner without using other monomers.
  • (1) A method of mixing the benzotriazole compound of the present invention and another monomer, adding and stirring a polymerization initiator in a solvent or in the absence of a solvent, heating, ultraviolet irradiation or drying, removing the solvent after the reaction
  • Method of mixing the benzotriazole compound of the present invention with a monomer, casting it in a mold or a glass mold, curing it by heating, ultraviolet irradiation or drying, and molding among these methods, the benzo of the present invention of (2) The method of coating and forming a coating solution containing a
  • a coating liquid is prepared by diluting or not diluting the benzotriazole compound and the monomer of the present invention in an organic solvent or an aqueous solvent, and the coating solution is coated on a substrate to form a film. If necessary, drying, cooling, heating, and ultraviolet irradiation are performed to improve the film strength.
  • a polymerization initiator is added to the coating liquid as necessary. Any polymerization initiator may be used as long as it generates radicals upon heating.
  • peroxide type polymerization initiators azo compound type polymerization initiators, and persulfate type radical polymerization initiators can be used.
  • the peroxide-based polymerization initiator is not particularly limited.
  • the azo compound-based polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2,3-dimethylbutyronitrile), 2,2'-azobis- (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis (2,3,3-trimethylbutyronitrile ), 2,2'-azobis (2-isopropylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), Examples thereof include 2- (carbamoylazo) isobutyronitrile, 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate and the like.
  • the persulfate salt radical polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include potassium persulfate, ammonium persulfate, sodium persulfate and the like.
  • a photopolymerization initiator is added to the coating liquid as necessary.
  • Any photopolymerization initiator may be used as long as it generates radicals when it is irradiated with ultraviolet light.
  • acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones and the like can be used.
  • a solvent for dilution may be added to the coating solution.
  • the solvent is not particularly limited, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene; hydrocarbons such as n-hexane, heptane and cyclohexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, Ethers such as dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole; methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopenta Ketones such as nonon, cyclohexanone and methylcyclohe
  • additives such as an antifoaming agent, a leveling agent, an antioxidant, a light stabilizer, a polymerization inhibitor, a catalyst, a dye, and a pigment may be blended, if necessary.
  • the prepared coating liquid is not particularly limited, but it is possible to use bar coater, gravure coater, comma coater, lip coater, curtain coater, roll coater, blade coater, spin coater, reverse coater, die coater, spray, dipping etc. It can be applied to the substrate by an appropriate method.
  • a base material for coating For example, a resin board, a resin film, a resin sheet, glass, construction materials, a metal plate, a wood etc. are mentioned.
  • the benzotriazole compound of the present invention can also be used by mixing and kneading it with an organic or inorganic material, particularly a resin.
  • the organic and inorganic materials can be provided with ultraviolet absorbing ability by mixing and reacting with the organic or inorganic material having a substituent capable of reacting with the vinyl group of the benzotriazole compound of the present invention of the first embodiment.
  • These are members of the present invention using an organic or inorganic material as a base material, and among them, when a resin is used as a base, the resin member of the present invention is used.
  • thermoplastic resin is not particularly limited.
  • thermosetting resin is not particularly limited.
  • phenol resin, urea resin, melamine resin, acrylic melamine resin, unsaturated polyester, silicone resin, alkyd resin, epoxy resin, polyethylene terephthalate resin, episulfide resin, nylon resin, etc. Can be mentioned.
  • transparent resins can be preferably used, and examples thereof include polycarbonate, polystyrene, acrylic resin, methacrylic resin, polyethylene terephthalate resin, urea resin, melamine resin, and acrylic melamine resin. More preferably, polycarbonate, polystyrene, acrylic resin, methacrylic resin, polyethylene terephthalate resin, melamine resin, acrylic melamine resin can be mentioned.
  • the thermal decomposition temperature of the UV absorber is low It is preferable that the thermal decomposition temperature is high, because it decomposes and can not sufficiently exert the ultraviolet absorption effect.
  • the 5% weight loss temperature of the benzotriazole compound of the present invention is preferably 255 ° C. or higher, more preferably 270 ° C. or higher, still more preferably 280 ° C. or higher, 290 ° C. or higher Is particularly preferable, 300 ° C. or more is more preferable, and 310 ° C. or more is particularly preferable.
  • the molding method of the resin member of the present invention is not particularly limited, an injection molding method, an extrusion molding method, a calendar molding method, a blow molding method, a compression molding method and the like can be used.
  • a resin member can be produced by a method of forming a film by an extruder or preparing an original sheet by an extruder and then stretching the film into uniaxial or biaxial to make a film. .
  • additives used for ordinary resin molding such as an infrared absorber, an ultraviolet absorber, a high refractive index agent, an antioxidant, a light stabilizer, a flame retardant, a plasticizer and the like may be added.
  • the film thickness in the case of using the resin member of the present invention as a part of a film or member having a functional optical layer satisfies the required physical properties such as the type of resin material, adhesion, hardness and optical properties. There is no particular limitation as long as it is within the range where it can occur, but it is, for example, in the range of 50 nm to 250 ⁇ m.
  • the resin member of the present invention can be used in all applications where a synthetic resin is used, and is not particularly limited, but can be particularly suitably used in applications that may be exposed to light including sunlight or ultraviolet light.
  • a synthetic resin for example, glass substitutes and their surface coating materials, window glasses and coating materials for dwellings, facilities, transport equipment, etc., coatings for daylighting glass and light source protective glass, coatings for light protection members such as dwellings, facilities and transport equipment Materials, window films of houses, facilities, transportation equipment etc., interior and exterior materials for interiors, facilities, transportation equipment etc.
  • the resin member of the present invention is particularly an optical material, particularly a film or member having a functional optical layer, from the viewpoint of being capable of imparting ultraviolet absorptivity and a high refractive index while maintaining the transparency of the matrix.
  • an optical material particularly a film or member having a functional optical layer, from the viewpoint of being capable of imparting ultraviolet absorptivity and a high refractive index while maintaining the transparency of the matrix.
  • the resin member of the present invention is used in at least one of the layers.
  • the optical film may be a substrate film provided with a functional layer corresponding to various applications, and is not particularly limited.
  • Optical disc substrate protective film, reflective film, antireflection film, alignment film, polarizing film, polarizing layer protective film, retardation film, light diffusion film, viewing angle improving film, electromagnetic wave shielding film, antiglare film, light shielding film, brightness An improvement film etc. are mentioned.
  • the member having a functional optical layer is not particularly limited, but, for example, an antireflection layer, a hard coat layer, an antistatic layer, an adhesion stabilizing layer, a protective layer, an electromagnetic wave shield on the surface of a panel substrate etc.
  • the resin member of this invention is suitable for the surface protection film for solar cells.
  • a solar cell element usually has a structure in which an active layer serving as a solar cell is provided between a pair of substrates, but a flexible solar cell is a polyester material such as a gas barrier film used as its member, or an organic In a solar cell, the active layer itself absorbs ultraviolet light and deteriorates, so a protective film having ultraviolet absorption is required.
  • a protective film having ultraviolet absorption is required.
  • since solar cells are installed outdoors for many years, such protective films are required to have high weather resistance.
  • a solar cell absorbs light energy and converts it into electric power, such a protective film is required to have high transparency. That is, although the protective film for protecting a flexible solar cell is required to have high transparency, high ultraviolet absorption ability, high weather resistance, and flexibility, the resin member of the present invention is suitable for such applications. .
  • the resin member of the present invention is a lens element of plastic for eyeglasses, a contact lens, an optical pickup lens, an optical lens such as a camera lens and a lenticular lens, a prism, a filter, an optical substrate such as a touch panel substrate and a light guide plate, an optical fiber And optical molded articles such as information recording substrates.
  • the optical lens is a plastic lens such as a lens film such as a Fresnel lens film or a lenticular lens film, or the purpose of enhancing the light collecting property or light diffusing property with a miniaturized optical functional element, or collecting light on the light receiving element of the image pickup element
  • the present invention is also suitable for a microlens array using microlenses having a diameter of several ⁇ m and having a diameter of several ⁇ m, which is used for such purposes.
  • the resin member of the present invention may be a display substrate and film, for example, a liquid crystal display, an organic EL display, a plasma display, a field emission display, a flat panel display substrate such as electronic paper, a film or a liquid crystal display, a signal, a neon sign, etc. It is suitable also for the substrate for back light of this, a film, etc.
  • the benzotriazole compounds of the present invention can also be applied to inorganic materials.
  • the inorganic material is not particularly limited, and examples thereof include siliceous materials by sol-gel method, glass, water glass, low melting point glass, quartz, silicon resin, alkoxysilane, silane coupling agent and the like.
  • the glass is not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide, alkali-free glass, soda glass and the like.
  • the water glass is not particularly limited, and examples thereof include aqueous solutions of water-soluble alkali metal salts such as sodium silicate and potassium silicate.
  • the low melting point glass is not particularly limited, and examples thereof include a glass containing lead oxide (PbO) and boric anhydride (B 2 O 3 ) as main components.
  • silicone resin for example, the organic resin modified silicone resin etc. which were denatured with methyl silicone resin, methyl phenyl silicone resin, an epoxy resin, an alkyd resin, polyester resin etc. are mentioned.
  • alkoxysilane for example, dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropylmethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxy Silane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
  • the silane coupling agent is not particularly limited.
  • the benzotriazole compound of the present invention is used for applications that are required to be stabilized and functionalized by an ultraviolet absorber while having the above-mentioned function, and is not particularly limited.
  • glass substitutes, residences, facilities Window glass for transportation equipment, daylight glass, lighting member and protection member for housing, facility, transportation equipment, interior and exterior materials for housing, facility, transportation equipment and the like, paint for interior and exterior, coating film formed by the paint, fluorescence Light source members such as lamps, mercury lamps, halogen bulbs and LED lights, precision machines, members for electronic and electrical equipment, materials for shielding electromagnetic waves generated from various displays, containers or packaging materials for food, chemicals, medicines, printed matter, Dyeing materials, anti-fading agents such as dyes, protective films of resin members, safety glass, glass interlayers, cosmetics, textile products for clothing and textiles, curtains, carpets, wallpaper, etc.
  • Interior products for garden, plastic lenses, medical instruments such as artificial eye, optical filters, back light display films, prisms, mirrors, optical products such as photographic materials, stationery,
  • the compound 11 and the compound 12 used the reagent by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. product.
  • Compounds 1 to 9 of the present invention had an absorption band in the wavelength region of ultraviolet light, and when added to a film or a resin, they function as an ultraviolet light absorber.
  • the benzotriazole compounds 1 to 9 of the present invention in which a thioether group having a reactive functional group represented by the above formula (i-2) is introduced into a benzotriazole group are the conventional reactive ultraviolet light absorbers (compound 11) and It was confirmed that the peak top was shifted to the long wavelength region compared to the long wavelength absorption type ultraviolet light absorber (compound 12), and the ultraviolet light absorption near 360 to 400 nm in the long wavelength region was excellent.
  • Compounds 5 and 6 in which an aromatic group is introduced into X of formula (i-2) have a large absorption peak in the region of 250 to 320 nm (the absorbance becomes large), and a wide range of low to long wavelengths It can absorb ultraviolet light.
  • Compounds 1 to 9 of the present invention having a thioether group and an acryloyloxy group introduced show higher molar absorptivity of 21000 or more than Compounds 10, 11 and 12, and show that ultraviolet rays are efficiently absorbed with a small amount of addition. It was done.
  • the peak end is defined as the intersection of the absorption spectrum on the long wavelength side of the absorption peak at 350 to 390 nm and the baseline (line where the slope of the absorption spectrum at 380 to 500 nm is 0)
  • Example: FIG. 1) The absolute value of the slope of the long wavelength side of the absorption peak in the wavelength range of 350 to 390 nm was determined by the following equation (Table 2).
  • the absolute values of the slopes of the compounds 1 to 9 are all 0.040 or more, larger than those of the compounds 10, 11 and 12 (absolute slope values: 0.022 to 0.038), and the peaks are sharp.
  • the compounds 1 to 9 of the present invention having a sulfur-containing group (thioether group) and an acryloyloxy group introduced have a low cut of 400 to 500 nm (visible region), and suppress yellowing of films, resin members, particularly transparent resin members It is suggested that the effect is excellent. In particular, compounds 1 to 6 of 0.042 or more are excellent in the effect.
  • the compounds 1 to 6, 11 having a methacryl or acryl group have a reaction rate of about 70% or more after 10 hours, and the reaction It confirmed that the sex was high.
  • the compounds 1 to 6 having a sulfur-containing group (thioether group) have a reaction rate of about 99% or more after 10 hours, and the reactivity It is suggested that the polymerization is possible with a higher molecular weight and a higher molecular weight, and it has been confirmed that the reactivity is improved by the introduction of the functional group of acryloyloxy group (methacrylic, acrylic group) and the sulfur-containing group (thioether group).
  • the compound 1 having an acrylic group has a high reaction rate after 5, 10 hours, and in the compounds 2 to 4 in which X is an alkylene group and a methacrylic group, from the methacrylic group to the sulfur-containing group (thioether group)
  • the compounds 3 and 4 having 3 or more carbon atoms in the alkylene group are higher in the reaction rate after 1, 5, 10 hours than the compounds 2 having 2 carbon atoms in the alkylene group, and it is confirmed that the reactivity is good.
  • the polymer containing the compounds 1 and 4 of the present invention was more excellent in long wavelength absorption than the compounds 11 and 12 by suppressing yellowing.
  • the solution obtained by adding the compound 12 to the solution polymerized under the condition of the reactivity evaluation (1) was coated on a slide glass in an amount of 1 mL, the solvent was removed, and a transparent film was formed.
  • the obtained film / slide glass is immersed in 135 mL of heptane and immersed in a thermostat at 60 ° C. for 2.5 hours, and then heptane is distilled off under reduced pressure, the eluate is dissolved in THF, and HPLC (high performance liquid chromatography, manufactured by ThermoFishe SIRNTIFIC) , Confirmed in Ultimete 3000).
  • the film using the compound 12 having no reactive functional group became cloudy, and the peak of the compound 12 was detected in the eluate, and the elution was confirmed.
  • the compound 4 having a reactive functional group the film after immersion was transparent, the peak of the compound 4 was not detected in the eluate, and the elution was not confirmed.
  • the compound of the present invention having a reactive functional group is reacted with a monomer to be immobilized in a resin, and is capable of maintaining transparency and maintaining ultraviolet absorption ability over a long period without bleeding out or eluting.
  • a monomer to be immobilized in a resin and is capable of maintaining transparency and maintaining ultraviolet absorption ability over a long period without bleeding out or eluting.
  • Compound 1 was soluble at 2 wt%, Compound 2 at 5 wt%, Compound 3 at 5 wt%, and Compound 4 at 1 wt% with respect to acrylonitrile, which is a vinyl-based monomer.
  • the 5% weight loss decomposition temperatures of the compounds of the present invention are all 280 ° C. or higher compared to the compounds 10 to 12 of the comparative examples, and among them, compounds 1, 4 to 6 and 8 are 310 ° C. or higher
  • the heat resistance is improved.
  • their 5% weight loss decomposition temperature is in a relation of compound 1 to 8> compound 10> compounds 11 and 12, and introduction of a sulfur-containing group (thioether group), further introduction of an acryloyloxy group, especially aroma X It was suggested that the heat resistance is improved by the introduction of a group group (compound 5, 6> compound 4).
  • the 5% weight loss decomposition temperature of compounds 1 to 8 is that the softening temperature of most common resins is 100 to 250 ° C.
  • Well understood plastic supervision: Japan Plastics Industry Federation, published by Japan Business Publishing Co., Ltd.
  • thermoplastic resins that require molding processing temperatures higher than 200 to 250 ° C, and reactions at high temperatures are also possible, and the ultraviolet ray absorbing ability of resin members is imparted, transparent resin It is possible to suppress the decrease in the transparency of the member.
  • Compounds 13 to 28 of the present invention had an absorption band in the wavelength region of ultraviolet light, and when added to a film or a resin, function as an ultraviolet light absorber.
  • the benzotriazole compounds 13 to 28 of the present invention in which the above formula (i-3) is introduced to the thioether group (the above formula (i-1)) in the benzotriazole group are UV absorbers having a conventional ester group (compounds 11) It was confirmed that the peak top was shifted to the long wavelength region compared to the long wavelength absorption type ultraviolet light absorber (compound 12), and the ultraviolet light absorption near 360 to 400 nm in the long wavelength region was excellent.
  • Compounds 17 to 19 and 21 to 28 in which an aromatic group is introduced into X a of formula (i-3) and a benzotriazole group to a sulfur atom to an aromatic group (X a ) is a ⁇ electron system are the X a of alkylene
  • the absorption peak in the region of 250 to 320 nm is larger (absorbance is larger) than that of the basic compounds 14 and 16, and among them, the ⁇ electron system is elongated to introduce an aromatic group to X a and X b , and A 2 compound 19 but the introduction of oxygen-containing groups of the ester group, further, to introduce an aromatic group into X a a 2 is an amide group, compounds 21-28 of introducing nitrogen-containing groups such as urea groups, among them, urea groups
  • the compounds 25 to 28 have a further increased absorption peak in the region of 250 to 320 nm (increased absorbance), and can absorb ultraviolet light in a wide range of low to long wavelengths.
  • the compounds 13 to 28 of the present invention had a molar absorption coefficient higher than that of the compounds 11 and 12 as 21000 or more, and efficiently absorbed ultraviolet light by the addition of a small amount.
  • the absolute values of the slopes of the compounds 13 to 28 are all 0.040 or more, larger than those of the compounds 11 and 12 (absolute slopes of 0.032 to 0.038), and the peaks are sharp. It was suggested that the compounds 13 to 28 of the present invention have a small cut of 400 to 500 nm (visible region) and are excellent in the yellow suppression effect on a film, a resin member, particularly a transparent resin member.
  • the compound of the present invention is measured at a temperature rising temperature of 10 ° C./min, a measurement range of 25 ° C. to 550 ° C., using a differential thermal thermal simultaneous measurement device (TG / DTA6200 manufactured by SII), and the weight change The temperature at which (TG) decreased by 5% by weight was read (Table 9).
  • the compound 13 carbon number 2,283 ° C
  • the compound 15 carbon number 3,327 ° C
  • the compound 16 carbon number 6,357 ° C
  • X a is an alkylene group, where X b is compared with a 5% weight reduction decomposition temperature of the compound 16, 20 alkyl group, a compound containing a urethane group 20 compound containing (299 ° C.) than an ester group 16 ( As a result of comparing compounds 18 and 22 in which X a is an aromatic group and X b is an alkyl group, the compound 22 (371 ° C.) contains an amide more than the compound 18 (346 ° C.) containing an ester group.
  • the ester group is also an ester group.
  • the compound 21 (352 ° C.) containing the amide is higher than the compound 17 (319 ° C.) containing the compound 19 (365 ° C.), and the compound 23 (389 ° C.) is higher than the nitrogen containing group having a double bond, among the oxygen containing groups. , Urethane, S Le, heat resistance in the order of the amide was excellent.
  • X a and X b are an aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, alkylene group) and an aromatic group or X a and X b are an aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, an alkylene group), X a and X b for a total number of carbon atoms, where a 2 is compared with a 5% weight reduction decomposition temperature of the compound 13 to 18 ester group, a total carbon number of 5 or more 17 (7,319 carbon atoms ° C.), 14 (8 carbon atoms, 319 ° C., 15 (carbon number: 12,327 ° C.), 16 (carbon number: 23,357 ° C.), 18 (carbon number: 23,346 ° C.), the compound 13 (carbon number: 3,283 ° C.) has 10 carbon atoms.
  • the above compounds 15, 16 and 18 were higher than the compounds 13, 17 and 14 and the compounds 16 and 18 having 18 or more carbon atoms were higher than the compounds 13, 17, 14 and 15 and had
  • X a the combination of X b, if the number 6, A 2 carbons of X a were compared in the same manner of compound 16, 18, 19 of the ester group
  • X a aliphatic hydrocarbon group (an alkyl group, an alkylene Group)
  • X b compound 18 (346 ° C.) consisting of aromatic group
  • X a aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, alkylene group)
  • X b from aliphatic hydrocarbon group (alkyl group, alkylene group)
  • From the compound 16 (357 ° C.) the tendency was high for the compound 19 (365 ° C.) comprising X a : aromatic group and X b : aromatic group.

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Abstract

360~400nmの長波長の紫外線を効率よく吸収し、i)樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解が可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られ、あるいはii)耐熱性に優れたベンゾトリアゾール化合物を提供する。 本発明のベンゾトリアゾール化合物は、下記式(I):(式中、R1~R9のうち少なくとも1つは下記式(i-1): (R10、R11は炭化水素基等であり、R12は下記式(i-2)又は式(i-3)で表わされる。 (式(i-2)中、A1は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、及びフェニレン基から選ばれる2価の基、R12a~R12cとXは炭化水素基等を示す。式(i-3)中、A2は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、及びリン含有基から選ばれる2価の基、XaとXbは炭化水素基等を示す。)で表わされる。

Description

ベンゾトリアゾール化合物
 本発明は、紫外線吸収作用を持つベンゾトリアゾール化合物に関する。
 樹脂部材は紫外線の作用により劣化し、変色や機械的強度の低下等の品質劣化を引き起こして長期の使用を阻害する。このような品質劣化を防止したり、あるいは透過光の波長を制御したりするために、樹脂部材に紫外線吸収剤を配合することが一般に行われている。
 従来、有機系の紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、シアノアクリレート系、サリシレート系等の紫外線吸収剤が知られている。ベンゾトリアゾール化合物等の従来における有機系の紫外線吸収剤は、添加した紫外線吸収剤の樹脂からのブリードアウト、樹脂、モノマーとの相溶性が低いと高濃度での添加が困難なこと等が課題とされている。特許文献1~5には、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に、アルキレン基やあるいは基端にエーテル酸素を導入したアルキレン基を介して、モノマーや樹脂との反応性を持つアクリロイルオキシ基を導入した化合物が開示されている。この化合物は、モノマーや樹脂との反応性を持つため、ブリードアウトを抑制し得る。しかし、モノマーや樹脂への溶解性、高分子量化を可能とする反応性、樹脂部材の透明性を全体的に満足するためには更に改良の余地があった。また、360~400nm付近の有害な長波長の紫外線吸収効率は低いものであり、これを補うために添加量を増量すると400nm以上の波長光を吸収し、黄色化を生じる問題があった。
 本発明者らは、特に、380~400nmまでの有害光を効率よく十分に吸収し、かつ初期の黄色化の要因となる400nm以上の波長光の吸収を抑制する紫外線吸収剤として、硫黄含有基を有する2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体を提案した(特許文献6、7)。この紫外線吸収剤は、その光学的特性から、250~400nmまでの波長領域の光を十分に吸収することができ、しかも、紫外線吸収効果(モル吸光係数)が高く、少量の添加で、その波長光を効率よく吸収でき、さらに、350~390nmの吸収ピークの傾きが従来の紫外線吸収剤よりも大きく400nm付近以上の波長光の吸収を抑制し、配合した部材の初期の黄色化を抑制することができる。実施例では2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に硫黄原子を介してアリル基を結合した化合物を合成しているが、高分子量化を可能とする反応性、樹脂原料のモノマーへの溶解性にはさらに改良の余地があった。
 有機系の紫外線吸収剤は、紫外線吸収剤を含む樹脂組成物を加熱して成形、加工する際に紫外線吸収剤が熱分解し、樹脂部材の紫外線吸収能の低下、そして、透明樹脂部材の場合、その透明性を損ない、さらには、成形、加工装置内を汚染させる可能性があり、より耐熱性に優れた有機系の紫外線吸収剤が求められている。特許文献6、7では、2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体の硫黄含有基として、脂肪族や芳香族等の炭素と水素からなる炭化水素基が基端の硫黄に結合した硫黄含有基を合成しているが、高い成形加工温度が求められる樹脂に対して使用すると、紫外線吸収剤の分解による紫外線吸収能の低下、透明樹脂部材における透明性の損失や、加工する際に装置を汚染する懸念があった。そのため、より高い成形加工温度が求められる樹脂に対しても適用が可能となるような、耐熱性に優れた紫外線吸収剤が求められている。
特開2012-25811号公報 特開2000-119569号公報 特開2001-234072号公報 特開2002-226521号公報 特開2002-226522号公報 国際公開第2016/021664号 国際公開第2016/174788号
 本発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであり、360~400nmの長波長の紫外線を効率よく吸収し、樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解が可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られるベンゾトリアゾール化合物とそれを原料モノマーとして含む重合体を提供することを課題としている。
 また本発明は、360~400nmの長波長の紫外線を効率よく吸収し、耐熱性に優れたベンゾトリアゾール化合物を提供することも課題としている。
 上記の課題を解決するものとして、本発明のベンゾトリアゾール化合物は、下記式(I)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 式中、R1~R9はそれぞれ独立に、下記式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価の基を示す。R1~R9のうち少なくとも1つは式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(i-1)中、R10は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、R11はmが2以上の場合はそれぞれ独立に芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示す。lは0又は1の整数を示し、mは0~3の整数を示す。
<1>  本発明における第1の態様では、R12は下記式(i-2)で表される1価の基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 式中、R12a、R12b、及びR12cはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~18の1価の炭化水素基を示し、A1は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、及びフェニレン基から選ばれる2価の基を示し、Xは、-X1-、-X2-、-X1-(Y)p-X2-、-X2-(Y)p-X1-、及び-X2-(Y)p-X2-から選ばれる2価の基を示す(X1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、X2は2価の芳香族基を示し、Yはヘテロ原子を示し、pは0又は1の整数を示す)。
<2>  本発明における第2の態様では、R12は下記式(i-3)で表される1価の基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(式中、A2は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、及びリン含有基から選ばれるいずれかの2価の基を示し、Xaは、-Xa1-、-Xa2-、-Xa1-(Yaq-Xa2-、-Xa2-(Yaq-Xa1-、及び-Xa2-(Yaq-Xa2-から選ばれる2価の基を示し(Xa1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、Xa2は2価の芳香族基を示し、Yaはヘテロ原子を示し、qは0又は1の整数を示す。)、Xbは、-Xb1、-Xb2、-Xa1-(Ybr-Xb2、-Xa2-(Ybr-Xb1、及び-Xa2-(Ybr-Xb2から選ばれる1価の基を示す(Xb1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、基端が中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の1価の炭化水素基を示し、Xb2は1価の芳香族基を示し、Ybはヘテロ原子を示し、rは0又は1の整数を示す。Xa1とXa2は前記と同義であるがXaのものとは各々独立である。)で表される1価の基を示す。
 上記第1の態様に係る本発明のベンゾトリアゾール化合物は、樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解が可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られる。また、硫黄含有基にR12のA1として窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、フェニレン基を導入することで耐熱性が向上する。
 上記第2の態様に係る本発明のベンゾトリアゾール化合物は、硫黄含有基にR12のA2として窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基を導入することで耐熱性が向上し、その熱分解が抑制され、紫外線吸収能や外観の低下を抑制できる。特に加熱成形や加工をする過程で熱分解されにくいため、より高い成形加工温度が求められる樹脂に対しても紫外線吸収剤としての適用が可能となる。
 また、上記第1及び第2の態様に係る本発明のベンゾトリアゾール化合物は、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に硫黄を導入した構造によって、その光学的特性から、250~400nmまでの波長領域の光を十分に吸収することができ、しかも、紫外線吸収効果(モル吸光係数)が高く、少量の添加で、その波長光を効率よく吸収できる。さらに、350~390nmの吸収ピークの傾きが従来の紫外線吸収剤よりも大きく400nm付近以上の波長光の吸収を抑制し、配合した部材の初期の黄色化を抑制することができる。
本発明の実施例である化合物1の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物2の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物3の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物4の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物5の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物6の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物7の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物8の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物9の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 比較例である化合物10の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 比較例である化合物11の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 比較例である化合物12の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の化合物1と化合物4、比較例である化合物11と化合物12を用いた共重合体フィルムの紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物13の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物14の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物15の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物16の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物17の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物18の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物19の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物20の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物21の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物22の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物23の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物24の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物25の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物26の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物27の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。 本発明の実施例である化合物28の紫外-可視吸収スペクトル(UVチャート)である。
 以下に、本発明を詳細に説明する。
(式(I)で表わされるベンゾトリアゾール化合物)
[置換基等]
 本発明において、「芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基」には、耐熱性、屈折率、融点、耐光性、樹脂に対する相溶性等を調整できる基が含まれ、例えば、次のものが挙げられる。
 芳香族基は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香環を含み、炭素数が好ましくは6~18、より好ましくは6~14である。1価の芳香族基としては、例えば、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,4-ジメチルフェニル基、2,5-ジメチルフェニル基、3,4-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,5-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、4-ビフェニル基、2-メトキシフェニル基、3-メトキシフェニル基、4-メトキシフェニル基、2-エトキシフェニル基、3-エトキシフェニル基、4-エトキシフェニル基、2-クロロフェニル基、2-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2-トリフルオロメチルフェニル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基等が挙げられる。2価の芳香族基としては、例えば、1,4-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,2-フェニレン基、1,8-ナフチレン基、2,7-ナフチレン基、2,6-ナフチレン基、1,4-ナフチレン基、1,3-ナフチレン基、9,10-アントラセニレン基、1,8-アントラセニレン基、2,7-アントラセニレン基、2,6-アントラセニレン基、1,4-アントラセニレン基、1,3-アントラセニレン基等が挙げられる。
 不飽和基は、炭素-炭素二重結合、炭素-炭素三重結合、炭素-酸素二重結合(カルボニル基、アルデヒド基、エステル基、カルボキシ基、カルバメート基、尿素基、アミド基、イミド基、カルバモイル基、ウレタン基等)、炭素-窒素二重結合(イソシアネート基等)、炭素-窒素三重結合(シアノ基、シアナト基等)等の炭素-炭素又は炭素-ヘテロ原子の不飽和結合を含み、炭素数が好ましくは1~10、より好ましくは1~8である。不飽和基としては、例えば、アクリロイル基、メタクロイル基、マレイン酸モノエステル基、スチリル基、アリル基、ビニル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、アルデヒド基、エステル基、カルボキシ基、カルバメート基、尿素基、アミド基、イミド基、カルバモイル基、シアノ基、シアナト基、イソシアネート基、ウレタン基等が挙げられる。
 窒素含有基は、シアノ基、ニトロ基又は1~3級アミノ基を含み、炭素数が好ましくは0~10である。窒素含有基としては、例えば、シアノ基、シアナト基、イソシアネート基、ニトロ基、ニトロアルキル基、アミド基、尿素基、ウレタン基、イミド基、カルボジイミド基、アゾ基、ピリジン基、イミダゾール基、アミノ基、1級アミノ基、2級アミノ基、3級アミノ基、アミノアルキル基、3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミジルメチル基、2-[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル-)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール-イル]-メチル基等が挙げられる。
 硫黄含有基は、チオール基、チオエーテル基、スルフィド基、ジスルフィド基、チオエステル基、チオアミド基、スルホニル基、スルホ基、チオカルボニル基、又はチオ尿素基を含み、炭素数が好ましくは0~10である。硫黄含有基としては、例えば、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオ-n-プロポキシ基、チオイソプロポキシ基、チオ-n-ブトキシ基、チオ-t-ブトキシ基、チオフェノキシ基、p-メチルチオフェノキシ基、p-メトキシチオフェノキシ基、チオフェン基、チアゾール基、チオール基、スルホ基、スルフィド基、ジスルフィド基、チオエステル基、チオアミド基、スルホニル基、チオカルボニル基、チオ尿素基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基等が挙げられる。
 酸素含有基は、芳香環基又は脂環式基を含む場合には炭素数が好ましくは6~12、芳香環基又は脂環式基を含まない場合には炭素数が好ましくは0~18である。酸素含有基としては、例えば、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ナフトキシ基、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、アセトキシ基、アセチル基、アルデヒド基、カルボキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基、モルホリン基、カルバメート基、カルバモイル基、ポリオキシエチレン基等が挙げられる。
 リン含有基は、ホスフィン基、ホスファイト基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基、又はリン酸エステル基を含み、芳香環基又は脂環式基を含む場合には炭素数が好ましくは6~22、芳香環基又は脂環式基を含まない場合には炭素数が好ましくは0~6である。リン含有基としては、例えば、トリメチルホスフィン基、トリブチルホスフィン基、トリシクロヘキシルホスフィン基、トリフェニルホスフィン基、トリトリルホスフィン基、メチルホスファイト基、エチルホスファイト基、フェニルホスファイト基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基、リン酸エステル基等が挙げられる。
 脂環式基は、炭素数が好ましくは3~10、より好ましくは3~8である。脂環式基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基やこれらを骨格として含む基等が挙げられる。
  ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
 前記の式(I)で表わされるベンゾトリアゾール化合物は、ベンゾトリアゾール系の骨格に結合するR1~R9の少なくともいずれかの位置に、前記の式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基を含む。
 式(i-1)において、R10は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20、好ましくは1~10、より好ましくは1~5、さらに好ましくは1~3の2価の炭化水素基を示す。
 R10の2価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖又は分岐のアルキレン基、直鎖又は分岐のアルケニレン基、直鎖又は分岐のアルキニレン基等が挙げられる。具体的には、例えば、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、1-メチルエタン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-イル基、テトラデカン-1,14-イル基、ペンタデカン-1,15-イル基、ヘキサデカン-1,16-イル基、ヘプタデカン-1,17-イル基、オクタデカン-1,18-イル基、ノナデカン-1,19-イル基、エイコサン-1,20-イル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキレン基が好ましく、直鎖のアルキレン基がより好ましい。
 2価の炭化水素基が、前記1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断される場合、前記1価もしくは2価の基の数は、特に限定されないが、その例としては、2個以下、あるいは1個以下が挙げられる。
 前記1価もしくは2価の基の芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、ハロゲン原子の具体例としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 式(i-1)において、lは0又は1の整数を示し、好ましくは、lは0である。
 式(i-1)において、R11はmが2以上の場合はそれぞれ独立に芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20、好ましくは1~10、より好ましくは1~5、さらに好ましくは1~3の2価の炭化水素基を示す。
 R11の2価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、R10の2価の炭化水素基で前記に例示したものが挙げられる。これらの中でも、アルキレン基が好ましく、直鎖のアルキレン基がより好ましい。
 R11の2価の炭化水素基が、前記1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断される場合、前記1価もしくは2価の基の数は、特に限定されないが、その例としては、2個以下、あるいは1個以下が挙げられる。
 前記1価もしくは2価の基の芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、ハロゲン原子の具体例としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 式(i-1)において、mは0~3の整数を示し、好ましくは、mは0又は1であり、より好ましくは、mは0である。
<第1の実施形態>
 以下、式(i-1)におけるR12が、上記<1>である第1の実施形態について説明する。第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物は、樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解が可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られる。また、硫黄含有基にR12のA1として窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、フェニレン基を導入することで耐熱性が向上する。
 式(i-1)において、R12は、上記式(i-2)で表される1価の基である。第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物は、ベンゾトリアゾール系の骨格に、硫黄を含む結合基を介してこの式(i-2)で表される1価の基を有することを特徴としている。
 式(i-2)において、R12a、R12b、及びR12cはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~18の1価の炭化水素基を示す。
 炭素数1~18の1価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましい。脂肪族炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、直鎖又は分岐のアルキニル基等が挙げられる。これらの中でも、直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。直鎖又は分岐のアルキル基としては、例えば、メチル基、エタン-1-イル基、プロパン-1-イル基、1-メチルエタン-1-イル基、ブタン-1-イル基、ブタン-2-イル基、2-メチルプロパン-1-イル基、2-メチルプロパン-2-イル基、ペンタン-1-イル基、ペンタン-2-イル基、ヘキサン-1-イル基、ヘプタン-1-イル基、オクタン-1-イル基、ノナン-1-イル基、デカン-1-イル基、ウンデカン-1-イル基、ドデカン-1-イル基、トリデカン-1-イル基、テトラデカン-1-イル基、ペンタデカン-1-イル基、ヘキサデカン-1-イル基、ヘプタデカン-1-イル基、オクタデカン-1-イル基等が挙げられる。
 樹脂原料のモノマーとの反応性、溶解性を考慮すると、1価の炭化水素基は、好ましくは炭素数1~13、より好ましくは1~5、さらに好ましくは1~3、特に好ましくは1である。また、好ましい態様は、(1) R12a、R12b、R12cが水素原子、(2) R12aが炭素数1~3の1価の炭化水素基、R12b、R12cが水素原子、(3) R12aが水素原子、R12bが炭素数1~13の1価の炭化水素基、R12cが水素原子である。特に、(1)のR12a、R12b、R12cが水素原子であるか、(2)のうちR12aが炭素数1の1価の炭化水素基、R12b、R12cが水素原子であるか、又は、(3)のうちR12aが水素原子、R12bが炭素数1の1価の炭化水素基、R12cが水素原子であるものが好ましい態様である。 式(i-2)において、A1は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、及びフェニレン基から選ばれるいずれかの2価の基を示す。
 式(i-2)において、窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、及びリン含有基としては、例えば、前記[置換基等]の欄に例示したもののなかで2価の基が挙げられる。
 2価の窒素含有基としては、アミド基、尿素基、ウレタン基、イミド基、カルボジイミド基、アゾ基、ピリジン基、イミダゾール基、トルイジン基、ニトロアルキル基、2級アミノ基、アミノアルキル基等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価の窒素含有基が好ましく、例えば、アミド基、尿素基、ウレタン基、イミド基、カルボジイミド基、アゾ基、ピリジン基、イミダゾール基、トルイジン基、ニトロアルキル基等が挙げられる。
 2価の酸素含有基としては、エーテル基、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基、カルバメート基、カルバモイル基等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価の酸素含有基が好ましく、例えば、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基、カルバメート基、カルバモイル基等が挙げられる。
 2価の硫黄含有基としては、チオエーテル基、スルフィド基、ジスルフィド基、チオエステル基、チオアミド基、スルホニル基、スルホキシド基、チオカルボニル基、チオ尿素基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオフェン基、チアゾール基等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価の硫黄含有基が好ましく、例えば、チオエステル基、チオアミド基、スルホニル基、スルホキシド基、チオカルボニル基、チオ尿素基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオフェン基、チアゾール基等が挙げられる。
 2価のリン含有基としては、リン酸エステル基、ホスホン酸エステル等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価のリン含有基が好ましく、例えば、リン酸エステル基、ホスホン酸エステル等が挙げられる。
 A1は、好ましくは、エステル基、フェニレン基、及びアミド基から選ばれる2価の基である。エステル基は-C(=O)O-又は-OC(=O)-である。フェニレン基はo-フェニレン基、m-フェニレン基、又はp-フェニレン基である。アミド基は-NHC(=O)-又は-C(=O)NH-である。樹脂原料のモノマーとの反応性、溶解性を考慮すると、A1はエステル基が好ましく、その中でもXに酸素原子が結合した-X-O-C(=O)-のエステル基がより好ましい。
 また、A1がエステル基、ウレタン基、アミド基又は尿素基であると、後述の第2の実施形態と同様な傾向で、硫黄含有基に二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基を導入することで耐熱性が向上し、その熱分解が抑制され、紫外線吸収能や外観の低下を抑制できる。すなわち、樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解が可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られるとともに、耐熱性に優れたものとすることができる。
 式(i-2)において、Xは、-X1-、-X2-、-X1-(Y)p-X2-、及び-X2-(Y)p-X1-から選ばれる2価の基であってよく、具体的には-X1-、-X2-、-X1-(Y)p-X2-、-X2-(Y)p-X1-、及び-X2-(Y)p-X2-から選ばれる2価の基を示す。ここでX1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、X2は2価の芳香族基を示し、Yはヘテロ原子を示し、pは0又は1の整数を示す。
 2価の炭化水素基X1としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、R10の2価の炭化水素基で前記に例示したものが挙げられる。これらの中でも、アルキレン基が好ましく、直鎖のアルキレン基がより好ましい。
 2価の炭化水素基X1が、前記1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断される場合、前記1価もしくは2価の基の数は、特に限定されないが、その例としては、2個以下、あるいは1個以下が挙げられる。
 前記1価もしくは2価の基の芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、ハロゲン原子の具体例としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 2価の芳香族基X2は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香環を含み、炭素数が好ましくは6~18、より好ましくは6~14である。2価の芳香族基としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 ヘテロ原子Yは、特に限定されるものではないが、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。
 式(i-2)のXにおいて、好ましくは、X1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、X2は2価の芳香族基を示し、Yは酸素原子又は硫黄原子を示す。
 式(i-2)のXにおいて、X1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価のアルキレン基-(CH2n-(nは1~20の整数を示す。)がより好ましい。Xが、-X1-である場合は、Xはアルキレン基-(CH2n-(nは1~20の整数を示す。)が好ましい。
 X1、Xがアルキレン基-(CH2n-である場合、樹脂原料のモノマーへの溶解性と樹脂部材の透明性を得ながら、特に樹脂原料のモノマーとの反応性が良好でより高い分子量での重合が可能である点を考慮すると、nは2以上が好ましく、3以上がより好ましい。nの上限は特に限定されないが、樹脂原料のモノマーへの溶解性、樹脂部材の透明性、特に樹脂原料のモノマーとの反応性を考慮すると、10以下が好ましく、6以下がより好ましい。つまり、nは2~10が好ましく、3~10がより好ましく、2~6がさらに好ましく、3~6が特に好ましい。
 上記式(i-2)のXにおいて、X2は2価のフェニレン基がより好ましい。X2が2価のフェニレン基である場合において、上記式(i-2)のXが、-X2-である場合は、Xはフェニレン基である。X2が2価のフェニレン基である場合において、上記式(i-2)のXが、-X1-(Y)p-X2-又は-X2-(Y)p-X1-である場合は、-X2-(Y)p-X1-が好ましく、X1はアルキレン基-(CH2n-(nは1~20の整数を示す。)であり、Yは酸素原子であることがより好ましい。この場合、アルキレン基-(CH2n-のnは2~10が好ましく、3~10がより好ましく、2~6がさらに好ましく、3~6が特に好ましい。
 式(i-1)で表される1価の基として特に好ましい例としては、l、mが0であり、R12cは水素原子である次の式(i-1-1)、(i-1-2)、(i-1-3)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
(式中、R12a、R12b、A1、nは前記と同義である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
(式中、R12a、R12b、A1、nは前記と同義である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
(式中、R12a、R12b、A1は前記と同義である。)
 第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物によれば、樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解も可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られる。また、硫黄含有基にR12のA1として窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、フェニレン基を導入することで耐熱性が向上する。第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物は、ベンゾトリアゾール系の骨格に、硫黄を含む結合基を介して上記式(i-2)で表される1価の基を反応性官能基として有し、そのビニル基と反応する官能基を含有する有機、無機化合物、特に樹脂原料のモノマーや樹脂を用いて反応、共重合、成形加工して樹脂部材を得る場合、第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物が、対象とする化合物、特に樹脂原料のモノマーもしくは樹脂の官能基と共重合又は反応し、マトリックスに固定化され、ブリードアウト、溶出することなく、紫外線吸収能を長期間保持することができる。そして、モノマー、樹脂を選定することにより透明性を保持したマトリックス、樹脂部材が得られる。
 第1の実施形態の化合物は、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収骨格に硫黄含有基及び式(i-2)の官能基を導入したことで、モノマーや樹脂に対して反応性が良好で、モノマーに対して相溶性が良く、高分子量で、必要に応じて高い透明性を維持しながら高い紫外線吸収能を樹脂成形体等に付与することができる。
<第2の実施形態>
 以下、式(i-1)におけるR12が、上記<2>である第2の実施形態について説明する。第2の実施形態のベンゾトリアゾール化合物は、硫黄含有基及び硫黄含有基にR12のA2として窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基を導入することで耐熱性が向上し、その熱分解が抑制され、紫外線吸収能や外観の低下を抑制できる。特に加熱成形や加工をする過程で熱分解されにくいため、より高い成形加工温度が求められる樹脂に対しても紫外線吸収剤としての適用が可能となる。
 式(i-1)において、R12は、上記式(i-3)で表される1価の基である。第2の実施形態のベンゾトリアゾール化合物は、ベンゾトリアゾール系の骨格に、硫黄を含む結合基を介してこの式(i-3)で表される1価の基を有することを特徴としている。
 式(i-3)において、A2は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、及びリン含有基から選ばれる2価の基を示し、例えば、前記[置換基等]の欄に例示したもののなかで2価の基が挙げられる。
 2価の窒素含有基としては、アミド基、尿素基、ウレタン基、イミド基、カルボジイミド基、アゾ基、ピリジン基、イミダゾール基、トルイジン基、ニトロアルキル基、2級アミノ基、アミノアルキル基等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価の窒素含有基が好ましく、例えば、アミド基、尿素基、ウレタン基、イミド基、カルボジイミド基、アゾ基、ピリジン基、イミダゾール基、トルイジン基、ニトロアルキル基等が挙げられる。
 2価の酸素含有基としては、エーテル基、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基、カルバメート基、カルバモイル基等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価の酸素含有基が好ましく、例えば、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基、カルバメート基、カルバモイル基等が挙げられる。
 2価の硫黄含有基としては、チオエーテル基、スルフィド基、ジスルフィド基、チオエステル基、チオアミド基、スルホニル基、スルホキシド基、チオカルボニル基、チオ尿素基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオフェン基、チアゾール基等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価の硫黄含有基が好ましく、例えば、チオエステル基、チオアミド基、スルホニル基、スルホキシド基、チオカルボニル基、チオ尿素基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオフェン基、チアゾール基等が挙げられる。
 2価のリン含有基としては、リン酸エステル基、ホスホン酸エステル等が挙げられる。中でも二重結合を有する2価のリン含有基が好ましく、例えば、リン酸エステル基、ホスホン酸エステル等が挙げられる。
 このように、R12にA2を導入することで耐熱性が向上し、その熱分解が抑制され、紫外線吸収能や外観の低下を抑制できる。また、特に加熱成形や加熱加工するする過程で熱分解され難いため、より高い成形加工温度が要求される樹脂に対しても紫外線吸収剤としての適用が可能となる。
 式(i-3)において、Xaは、-Xa1-、-Xa2-、-Xa1-(Yaq-Xa2-、-Xa2-(Yaq-Xa1-、及び-Xa2-(Yaq-Xa2-から選ばれる2価の基を示す。ここでXa1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、Xa2は2価の芳香族基を示し、Yaはヘテロ原子を示し、qは0又は1の整数を示す。Xbは、-Xb1、-Xb2、-Xa1-(Ybr-Xb2、-Xa2-(Ybr-Xb1、及び-Xa2-(Ybr-Xb2から選ばれる1価の基を示す。ここでXb1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、基端が中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の1価の炭化水素基を示し、Xb2は1価の芳香族基を示し、Ybはヘテロ原子を示し、rは0又は1の整数を示す。Xa1とXa2は前記と同義であるがXaのものとは各々独立である。
 2価の炭化水素基Xa1としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、R10の2価の炭化水素基で前記に例示したものが挙げられる。これらの中でも、アルキレン基が好ましく、直鎖のアルキレン基がより好ましい。
 2価の炭化水素基Xa1が、前記1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断される場合、前記1価もしくは2価の基の数は、特に限定されないが、その例としては、2個以下、あるいは1個以下が挙げられる。前記1価もしくは2価の基の芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、ハロゲン原子の具体例としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 2価の芳香族基Xa2は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香環を含み、炭素数が好ましくは6~18、より好ましくは6~14である。2価の芳香族基としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 1価の炭化水素基Xb1としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、直鎖又は分岐のアルキニル基等が挙げられ、直鎖のアルキル基が好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エタン-1-イル基、プロパン-1-イル基、1-メチルエタン-1-イル基、ブタン-1-イル基、ブタン-2-イル基、2-メチルプロパン-1-イル基、2-メチルプロパン-2-イル基、ペンタン-1-イル基、ペンタン-2-イル基、2-メチルブタン-1-イル基、ヘキサン-1-イル基、3-メチルペンタン-1-イル基、2-メチルペンタン-1-イル基、ヘプタン-1-イル基、2-メチルヘキサン-イル基、3-メチルヘキサン-イル基、3-エチルペンタン-1-イル基、オクタン-1-イル基、2-エチルヘキサン-1-イル基、3-エチルヘキサン-1-イル基、2-メチルへプタン-1-イル基、3-メチルへプタン-1-イル基、4-メチルへプタン-1-イル基、1,1,3,3-テトラメチルブチル-1-イル基、ノナン-1-イル基、3-エチルへプタン-1-イル基、4-エチルヘプタン-1-イル基、2-メチルオクタン-1-イル基、3-メチルオクタン-1-イル基、4-メチルオクタン-1-イル基、デカン-1-イル基、4-プロピルへプタン-1-イル基、3-エチルオクタン-1-イル基、4-エチルオクタン-1-イル基、ウンデカン-1-イル基、ドデカン-1-イル基、2-メチルウンデカン-1-イル基、2-エチルデカン-1-イル基、トリデカン-1-イル基、テトラデカン-1-イル基、ペンタデカン-1-イル基、ヘキサデカン-1-イル基、ヘプタデカン-1-イル基、オクタデカン-1-イル基、ノナデカン-1-イル基、エイコサン-1-イル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、エテン-1-イル基、プロペン-1-イル基、ブテン-1-イル基、ペンテン-1-イル基、2-メチル-1-ブテン-1-イル基、3-メチル-1-ブテン-1-イル基、2-メチル-2-ブテン-1-イル基、ヘプテン-1-イル基、オクテン-1-イル基、ノネン-1-イル基、デセン-1-イル基、ウンデセン-1-イル基、ドデセン-1-イル基、トリデセン-1-イル基、テトラデセン-1-イル基、ペンタデセン-1-イル基、ヘキサデセン-1-イル基、オクタデセン-1-イル基、ノナデセン-1-イル基、エイコセン-1-イル基等が挙げられる。アルキニル基としては、例えば、エチン-1-イル基、プロピン-1-イル基、ブチン-1-イル基、ペンチン-1-イル基、2-メチル-1-ブチン-1-イル基、3-メチル-1-ブチン-1-イル基、2-メチル-2-ブチン-1-イル基、ヘキシン-1-イル基、ヘプチン-1-イル基、オクチン-1-イル基、ノニン-1-イル基、デシン-1-イル基、ウンデシン-1-イル基、ドデシン-1-イル基、トリデシン-1-イル基、テトラデシン-1-イル基、ペンタデシン-1-イル基、ヘキサデシン-1-イル基、オクタデシン-1-イル基、ノナデシン-1-イル基、エイコシン-1-イル基等が挙げられる。また、1価の炭化水素基Xb1としては、上記式(i-2)のうちA1に結合する1価の基である、-(R12a)=(R12b)(R12c)が挙げられる。
 1価の炭化水素基Xb1が、前記1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、基端が中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断される場合、前記1価もしくは2価の基の数は、特に限定されないが、その例としては、2個以下、あるいは1個以下が挙げられる。前記1価もしくは2価の基の芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、ハロゲン原子の具体例としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。1価の芳香族基Xb2は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香環を含み、炭素数が好ましくは6~18、より好ましくは6~14である。1価の芳香族基としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 ヘテロ原子Ya、Ybは、特に限定されるものではないが、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。
 好ましくは、式(i-3)のXaにおいて、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価の炭化水素基、Xa2は2価の芳香族基、Yaは酸素原子又は硫黄原子を示し、Xbにおいて、Xb1は置換及び中断されない炭素数1~20の1価の炭化水素基、Xb2は1価の芳香族基、Ybは酸素原子又は硫黄原子、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価の炭化水素基、Xa2は2価の芳香族基(Xa1とXa2はXaのものとは各々独立である。)を示す。
 式(i-3)のXaにおいて、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価のアルキレン基-(CH2n-(nは1~20の整数を示す。)がより好ましい。Xaが、-Xa1-である場合は、Xaはアルキレン基-(CH2n-(nは1~20の整数を示す。)が好ましい。
 Xaがアルキレン基-(CH2n-である場合、耐熱性がより向上する点を考慮すると、nは2以上が好ましく、3以上がより好ましい。nの上限は特に限定されないが、10以下が好ましく、6以下がより好ましい。つまり、nは2~10が好ましく、2~6がより好ましく、3~6が特に好ましい。
 式(i-3)のXaにおいて、2価の芳香族基Xa2を含むと耐熱性がより向上する点で好ましく、この場合Xaは、-Xa2-、-Xa1-(Yaq-Xa2-、-Xa2-(Yaq-Xa1-、-Xa2-(Yaq-Xa2-のうちのいずれかの2価の基である。
 式(i-3)のXaにおいて、qは0が好ましい。
 式(i-3)のXbにおいて、耐熱性がより向上する点を考慮すると、芳香族基であるXa2又はXb2を含む、-Xb2、-Xa1-(Ybr-Xb2、-Xa2-(Ybr-Xb1、-Xa2-(Ybr-Xb2のうちいずれかが好ましい。式(i-3)のXa、Xbがアルキル基、A2がエステル基である場合には、耐熱性がより向上する点を考慮すると、その炭素数は1以上が好ましく、6以上がより好ましく、14以上がさらに好ましい。
 式(i-3)のXbにおいて、例えば、Xb1は置換及び中断されない炭素数1~20の1価のアルキル基、Xb2は1価の芳香族基、Ybは酸素原子又は硫黄原子、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価のアルキル基、Xa2は2価の芳香族基を示すものであってよい。これとは別の例として、Xbは、式(i-2)のうちA1に結合する1価の基である、-(R12a)=(R12b)(R12c)であってよく、耐熱性に優れたものとすることができるとともに、前述の第1の実施形態と同様に、樹脂原料のモノマーへの溶解性が良く高濃度での溶解が可能で、かつ良好な反応性で重合し、高分子量の樹脂部材、さらには透明の樹脂部材が得られる。
 式(i-3)のXbにおいて、rは0が好ましい。
 さらに、耐熱性を向上させる点としては、式(i-3)のA2はアミド基、エステル基、ウレタン基、尿素基が好ましい。アミド基は-NHC(=O)-又は-C(=O)NH-、エステル基は-C(=O)O-又は-OC(=O)-、ウレタン基は-NHC(=O)O-又は-OC(=O)NH-、尿素基は-NHC(=O)NH-である。その中でも、エステル基、アミド基がより好ましく、アミド基が特に好ましい。一方で、式(i-3)のXa、Xbにおいて、Xa、Xbが脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)と芳香族基もしくは両方が脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)である場合、XaとXbの総炭素数は2以上が好ましく、5以上がより好ましく、10以上がさらに好ましく、18以上が特に好ましい。また、Xa、Xbの組み合わせは、Xa、Xbの両方が芳香族基である化合物がより好ましい。 紫外線吸収剤を、樹脂をはじめとする有機物及び無機物と加熱下で反応、混合、混練する場合や、紫外線吸収剤を含む樹脂部材を加熱により加工、成形する場合、紫外線吸収剤の熱分解温度が低いと分解し、紫外線吸収の効果を十分発揮できず、装置を汚染し、透明樹脂部材の場合、透明性の損失を防ぐため、熱分解温度が高い方が望ましい。第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物は、上記式(i-1)で表されるチオエーテル基を導入することにより、耐熱性が向上する。第1の実施形態のベンゾトリアゾール化合物の5%重量減少温度は、255℃以上が好ましく、270℃以上がより好ましく、280℃以上がさらに好ましく、290℃以上が特に好ましく、300℃以上が一層好ましく、310℃以上が殊更好ましい。一般的な樹脂の軟化温度である100~250℃(「よくわかるプラスチック」、監修:日本プラスチック工業連盟、出版:日本実業出版社)よりも5%重量減少温度が高いため、成形加工温度100~200℃の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂をはじめ、200~250℃より高い成形加工温度が求められる熱可塑性樹脂に対しても適用が可能となる。
 第1及び第2の実施形態に係る本発明のベンゾトリアゾール化合物は、式(I)において、R1~R9のうち少なくとも1つは式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基である。その中でも、実際の合成の容易性、吸収特性やコスト、耐熱性、あるいは、樹脂原料のモノマーとの相溶性を良好なものとすることで、本発明の化合物を添加した樹脂部材の白濁を抑制し、高濃度の添加での高い紫外線吸収能の発現を可能とする点等を考慮すると、R1~R9のうち1~2個が式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基であることが好ましく、1個が式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基であることがより好ましい。 式(I)における式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基の位置は、特に限定されるものではなく、式(i-1)で表される1価の硫黄含有基は、式(I)のR6~R9のうちのいずれかに有することが好ましく、R6、R9の位置がより好ましい。
 式(I)において、R1~R9が式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基以外の基である場合、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価の基を示す。
 R1~R9が1価の炭化水素基である場合、この1価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、直鎖又は分岐のアルキニル基等が挙げられる。具体的には、例えば、メチル基、エタン-1-イル基、プロパン-1-イル基、1-メチルエタン-1-イル基、ブタン-1-イル基、ブタン-2-イル基、2-メチルプロパン-1-イル基、2-メチルプロパン-2-イル基、ペンタン-1-イル基、ペンタン-2-イル基、2-メチルブタン-1-イル基、ヘキサン-1-イル基、2-メチルペンタン-1-イル基、3-メチルペンタン-1-イル基、ヘプタン-1-イル基、3-エチルペンタン-1-イル基、2-メチルヘキサン-イル基、3-メチルヘキサン-イル基、オクタン-1-イル基、2-メチルへプタン-1-イル基、3-メチルへプタン-1-イル基、4-メチルへプタン-1-イル基、2-エチルヘキサン-1-イル基、3-エチルヘキサン-1-イル基、1,1,3,3-テトラメチルブチルノナン-1-イル基、3-エチルへプタン-1-イル基、4-エチルヘプタン-1-イル基、2-メチルオクタン-1-イル基、3-メチルオクタン-1-イル基、4-メチルオクタン-1-イル基、デカン-1-イル基、4-プロピルへプタン-1-イル基、3-エチルオクタン-1-イル基、4-エチルオクタン-1-イル基、ウンデカン-1-イル基、ドデカン-1-イル基、2-メチルウンデカン-1-イル基、2-エチルデカン-1-イル基、トリデカン-1-イル基、テトラデカン-1-イル基、ペンタデカン-1-イル基、ヘキサデカン-1-イル基、ヘプタデカン-1-イル基、オクタデカン-1-イル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1~8の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素数1~4の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましい。
 R1~R9が芳香族基、不飽和基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価の基である場合、その具体例としては、前記[置換基等]の欄に例示したものが挙げられる。
 式(I)において、5位のR9に式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基を有する場合、式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基以外の基として、R6、R7、R8がいずれも水素原子であることが好ましい。また、R1、R2、R3、R4、R5の組み合わせのうち好ましい例を挙げると次のとおりである。
[1] 炭素数1~18の炭化水素基(アルケニル基、アルキニル基を含む炭素数2~18の炭化水素基を含む。)、ヒドロキシ基、炭素数6~18の芳香族基、炭素数1~18のエーテル基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のエステル基、(メタ)アクリロイルオキシ基及び/又は炭素数1~20のポリオキシエチレン基、又はそれらの置換基で水素原子が置換されるか、基端が中断されるか炭素-炭素結合が中断されてもよい炭素数1~18の炭化水素基から選ばれる置換基を1つ以上含む。
[2] [1]において、置換基が炭素数1~10の炭化水素基、及びヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種である。
[3] [2]において、置換基が炭素数1~8の炭化水素基、及びヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種である。
[4] [1]~[3]のいずれかにおいて、置換基の炭化水素基が直鎖又は分岐のアルキル基である。
[5] [4]において、置換基がメチル基、t-ブチル基、及びヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種である。
[6] [5]において、置換基がメチル基、t-ブチル基、及びヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種であり、かつヒドロキシ基は1つ以下である。
[7] [1]から[6]のいずれかにおいて、置換基の数が2~4個である。
[8] [1]から[7]のいずれかにおいて、R1~R4のいずれかの位置に置換基を有し、それ以外のR1~R5は水素原子である。
[9] [1]から[8]のいずれかにおいて、R1、R2、R4のいずれかの位置に置換基を有し、それ以外のR1~R5は水素原子である。
[10] [9]において、R1はヒドロキシ基、R2はt-ブチル基、R4はメチル基であり、R3、R5は水素原子である。
 式(I)で表わされる本発明のベンゾトリアゾール化合物を含有する透明樹脂部材は、その相溶性による樹脂の透明性に加えて、紫外線吸収のピークの特性から、黄色化を抑制しながら長波長領域の波長の吸収を可能とする。具体的には、紫外線吸収能の特性から400~500nm(可視域)をカットすることなく、UV-A領域でも、より長波長の360~400nm付近の紫外線をシャープにカットすることが可能である。このため、樹脂部材は、黄色着色が抑制された、外観に優れるものが得られる。すなわち、その光学的特性から、250~400nmまでの波長領域の光を十分吸収することができる。しかも、紫外線吸収効果(モル吸光係数)が高く、少量の添加で、その波長光を十分吸収でき、クロロホルム溶液中で350~390nmの吸収ピークの傾きが従来の紫外線吸収剤よりも大きいことから、樹脂部材の黄色化を抑制することができる。また、式(i-3)において、Xaに芳香族基を導入した化合物は、250~320nmの領域の吸収ピークが大きくなり、さらに、Xbに芳香族基及び/又はA2にアミド基、尿素基等の窒素含有基(特に尿素基)を導入すると、その吸収ピークは一層大きくなり、低波長~長波長の広範囲に紫外線を吸収することができる。~400nmまでの幅広い波長領域の有害光を吸収し、黄色化の要因となる400nm付近以上の波長光の吸収を抑制し、黄色化を抑え外観に優れた樹脂部材を得るためには、100μMクロロホルム溶液における光の吸収ピークが350~390nmにあることが好ましく、360~380nmにあることがより好ましく、特に360~375nmにあることが好ましい。また、それらの波長領域にある吸収ピークは、最大吸収波長(λmax)であることが好ましい。さらに、その波長ピークは、400nm付近よりも長波長の光の吸収を抑制するために、長波長側の吸収スペクトルはシャープな方が(傾きの絶対値が大きい方が)良く、吸収ピークの長波長側の傾き(吸収ピークと長波長側の吸収スペクトルのピークエンドを結んだ直線の傾きの絶対値)が0.025以上であることが好ましく、0.030以上がより好ましく、0.040以上がさらに好ましく、0.042以上が特に好ましく、0.043以上が殊更好ましい。また、少量で効率よく吸収するためには、上記の350~390nmの吸収ピークのモル吸光係数(最大モル吸光係数:ελmax)は、17000L/(mol・cm)以上が好ましく、18000L/(mol・cm)以上がより好ましく、20000L/(mol・cm)以上がさらに好ましく、21000L/(mol・cm)以上が特に好ましい。
 式(I)で表わされるベンゾトリアゾール化合物を製造する際には、特に限定されないが、後述の実施例の開示と公知の技術が参照される。
(本発明のベンゾトリアゾール化合物を添加した組成物)
 本発明のベンゾトリアゾール化合物の用途は、特に限定されないが、本発明のベンゾトリアゾール化合物を紫外線吸収剤として添加した組成物への適用が挙げられる。
 本発明において、組成物の用語には、固形状や流動状、ゲル状、ゾル状などその性状を問わず、本発明のベンゾトリアゾール化合物を添加した組成物が包含され、部材の他、部材を製造するための原料も包含する。本発明において、部材の用語には、特に限定されないが、例えば、後記に例示した用途に使用されるものが含まれ、任意の形状を持つ形状物が包含される。また、本発明のベンゾトリアゾール化合物を添加した組成物とは、添加後に本発明のベンゾトリアゾール化合物が反応したものを包含し、例えば後述の本発明の重合体を包含する。
 本発明のベンゾトリアゾール化合物を添加した組成物の材料としては、有機材料、無機材料が挙げられる。本発明のベンゾトリアゾール化合物は、種々の有機材料、無機材料との親和性、相溶性、反応性が高く、本発明のベンゾトリアゾール化合物を混合、溶解、分散、反応させた場合、均質な部材を得ることができ、特に透明な部材を用いた場合には透明性に優れた部材を得ることができる。
(重合体)
 以下、上記第1の実施形態に係るベンゾトリアゾール化合物を用いた本発明の重合体について説明する。
 本発明の重合体は、本発明のベンゾトリアゾール化合物を原料モノマーとして含む。本発明の重合体は、透明性の高い樹脂部材を得るのに適しており、好ましい態様において透明であるが、本発明の重合体は透明なものに必ずしも限定されない。
 本発明の重合体は、特に限定されないが、本発明のベンゾトリアゾール化合物の単独重合体、本発明のベンゾトリアゾール化合物のビニル基と反応し得る他の樹脂原料のモノマーとの共重合体が挙げられ、2種以上のベンゾトリアゾール化合物、モノマーとの共重合体としてもよい。本発明のベンゾトリアゾール化合物を、反応性官能基を末端又は側鎖に有する高分子化合物と反応させてブロック共重合体又はグラフト共重合体としてもよい。
 また、本発明の重合体は、本発明のベンゾトリアゾール化合物を樹脂に混合したものや、反応性官能基を有する有機化合物、無機化合物、特に樹脂と混合もしくはコーティングした後、反応させたものであってもよい。
 上記共重合体の原料となるモノマーの具体例としては、特に限定されないが、(メタ)アクリレート系モノマー、スチレン系モノマー、アクリルアミド系モノマー、オレフィン系モノマー、ビニル系モノマー等が挙げられる。
 (メタ)アクリレート系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸アミル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸へプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸シクロプロピル、(メタ)アクリル酸シクロブチル、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸o-トリル、(メタ)アクリル酸m-トリル、(メタ)アクリル酸p-トリル、(メタ)アクリル酸2,3-キシリル、(メタ)アクリル酸2,4-キシリル、(メタ)アクリル酸2,5-キシリル、(メタ)アクリル酸2,6-キシリル、(メタ)アクリル酸3,4-キシリル、(メタ)アクリル酸3,5-キシリル、(メタ)アクリル酸1-ナフチル、(メタ)アクリル酸2-ナフチル、(メタ)アクリル酸ビナフチル、メタクリル酸アントリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3-ジヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジル、2-ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチル、シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド等が挙げられる。
 スチレン系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えばスチレン、α-メチルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、イソブチルスチレン、t-ブチルスチレン、s-ブチルスチレン、ペンチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン等のアルキルスチレン;クロロスチレン、フルオロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン等のハロゲン化スチレン;p-メトキシスチレン等のアルコキシスチレン;p-フェニルスチレン等のアリールスチレン;スチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩、ニトロスチレン、アミノスチレン、ヒドロキシスチレン、4(トリメトキシシリル)スチレン等が挙げられる。
 アクリルアミド系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、(メタ)N,N-ジエチルアクリルアミド、(メタ)N,N-ジプロピルアクリルアミド、(メタ)N,N-ジイソプロピルアクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ビスヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ビスヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ビスヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ビスヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
 オレフィン系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、4-フェニル-1-ブテン、6-フェニル-1-ヘキセン、3-メチル-1-ブテン、4-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ヘキセン、4-メチル-1-ヘキセン、5-メチル-1-ヘキセン、3,3-ジメチル-1-ペンテン、3,4-ジメチル-1-ペンテン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、ビニルシクロヘキサン、ヘキサフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン、2-フルオロプロペン、フルオロエチレン、1,1-ジフルオロエチレン、3-フルオロプロペン、トリフルオロエチレン、3,4-ジクロロ-1-ブテン、ブタジエン、ヘキサジエン、イソプレン、ジシクロペンタジエン、ノルボルネン、アセチレン等が挙げられる。
 ビニル系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルアルコール、アリルアルコール、(メタ)アクリロニトリル、メタクリロニトリル、N-ビニルピロリドン、塩化ビニル、臭化ビニル、ヨウ化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニリデン、ヨウ化ビニリデン、ビニルスルホン酸及びその塩、メタリルスルホン酸及びその塩、2-アクリルアミド-2-メチルスルホン酸及びその塩等、N-ビニル-2-ピロリドン、(メタ)アクリロイルモルホリン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾールが挙げられる。
 本発明のベンゾトリアゾール化合物は、上記モノマーに対して優れた溶解性を有し、高濃度で混合させることが可能であり、高濃度で添加しても、本発明のベンゾトリアゾール化合物はモノマーに均一に溶解し、高い透明性を維持することができる。
 本発明の重合体は、特に限定されないが、例えば、次の(1)~(3)の方法で製造することができる。ベンゾトリアゾール化合物の単独重合体を製造する場合は、他のモノマーを使用せず同様の方法で行う。
(1)  本発明のベンゾトリアゾール化合物と他のモノマーとを混合し、溶媒中又は無溶媒で重合開始剤を添加し撹拌すると共に、加熱、紫外線照射や乾燥し、反応後に溶媒を除去する方法
(2)  本発明のベンゾトリアゾール化合物とモノマーを含有するコーティング液を基材に塗布し、加熱、紫外線照射や乾燥で成膜する方法
(3)  本発明のベンゾトリアゾール化合物をモノマーと混合し、金型やガラス型に注型し加熱、紫外線照射や乾燥で硬化させ成形する方法
 これらの方法のうち、(2)の本発明のベンゾトリアゾール化合物とモノマーを含有するコーティング液を塗布し成膜する方法は、透明な複層構造、フィルム、又はシートを得る点から本発明において好適である。
 この方法では、本発明のベンゾトリアゾール化合物とモノマーを、有機溶媒又は水系溶媒に希釈して、あるいは希釈しないでコーティング液を調製し、基材に塗布し成膜する。必要に応じて、乾燥、冷却、加熱、紫外線照射を行い、膜強度を向上させる。
 加熱及び乾燥により成膜する場合((3)についても)には、必要に応じてコーティング液には重合開始剤を添加する。重合開始剤としては、加熱の際にラジカルを発生するものであればよい。
 例えば、特に限定されないが、過酸化物系重合開始剤、アゾ化合物系重合開始剤、過硫酸塩系ラジカル重合開始剤を用いることができる。過酸化物系重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、オルトクロロベンゾイルペルオキシド、オルトメトキシベンゾイルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、クメンヒドロペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、t-ブチルヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド等が挙げられる。
 また、アゾ化合物系重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2'-アゾビス(2,3-ジメチルブチロニトリル)、2,2'-アゾビス-(2-メチルブチロニトリル)、2,2'-アゾビス(2,3,3-トリメチルブチロニトリル)、2,2'-アゾビス(2-イソプロピルブチロニトリル)、1,1'-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、2,2'-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、2-(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、4,4'-アゾビス(4-シアノバレリン酸)、ジメチル-2,2'-アゾビスイソブチレート等が挙げられる。
 更には、過硫酸塩系ラジカル重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム等が挙げられる。
 紫外線照射により成膜する場合には、必要に応じてコーティング液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよい。特に限定されるものではないが、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等を用いることができる。
 コーティング液には、必要に応じて、希釈のための溶媒を加えてもよい。溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル類;メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類;、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n-ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n-ペンチル、γ-プチロラクトン等のエステル類;メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;水等が挙げられる。
 コーティング液には、必要に応じて、消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤、重合禁止剤、触媒、染料、顔料等の添加剤を配合してもよい。
 作製したコーティング液は、特に限定されるものではないが、バーコーター、グラビアコーター、コンマコーター、リップコーター、カーテンコーター、ロールコーター、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、スプレー、ディッピング等の適宜の方法によって基材に塗布することができる。
 コーティング用の基材としては、特に限定されるものではないが、例えば、樹脂板、樹脂フィルム、樹脂シート、ガラス、建材、金属板、木材等が挙げられる。
(部材)
 以下、上記第1及び第2の実施形態に係るベンゾトリアゾール化合物を添加した本発明の部材、特に樹脂部材(本発明の重合体を含む。)について説明する。
 本発明のベンゾトリアゾール化合物は、有機、無機材料、特に樹脂に混合、混練して使用することもできる。又は第1の実施形態の本発明のベンゾトリアゾール化合物のビニル基と反応可能な置換基を有する有機、無機材料と混合、反応させて、有機、無機材料に紫外線吸収能を付与することもできる。これらは基材として有機、無機材料を用いた本発明の部材とされ、その中でも基材として樹脂を用いた場合には、本発明の樹脂部材とされる。
 本発明のベンゾトリアゾール化合物を混合、混練する樹脂としては、特に限定されないが、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリマレイミド、ポリアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエステル、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン(ABS)樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル-塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル-スチレン(AS)樹脂、スチレン-イソプレン共重合体、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、液晶プラスチック等が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アクリルメラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、エピスルフィド樹脂、ナイロン樹脂等が挙げられる。中でも透明な樹脂を好ましく用いることができ、例えばポリカーボネート、ポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アクリルメラミン樹脂が挙げられる。より好ましくは、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、メラミン樹脂、アクリルメラミン樹脂が挙げられる。
 紫外線吸収剤を樹脂をはじめとする有機物及び無機物と加熱下で反応、混合、混練する場合や、紫外線吸収剤を含む樹脂部材を加熱により加工、成形する場合、紫外線吸収剤の熱分解温度が低いと分解し、紫外線吸収の効果を十分発揮できないため、熱分解温度が高い方が望ましい。この点から、上記第1の場合も含めて、本発明のベンゾトリアゾール化合物の5%重量減少温度は、255℃以上が好ましく、270℃以上がより好ましく、280℃以上がさらに好ましく、290℃以上が特に好ましく、300℃以上が一層好ましく、310℃以上が殊更好ましい。
 本発明の樹脂部材の成形方法は、特に限定されないが、射出成形法、押出成形法、カレンダー成形法、ブロー成形法、圧縮成形法等を用いることができる。押出機を使用する場合は、押出機によりフィルム化するか、あるいは押出機により原反を作製し、その後、1軸又は2軸に延伸してフィルムにする方法で樹脂部材を製造することができる。
 なお、混練する際に、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、高屈折率剤、酸化防止剤、光安定剤、難燃剤、可塑剤等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を添加してもよい。
 本発明の樹脂部材を機能性の光学層を有するフィルムや部材の一部として使用する場合の膜厚は、樹脂材料の種類、密着性、硬度、光学特性等の要求される物性を満足することができる範囲内であれば特に限定されるものではないが、例えば50nm~250μmの範囲内である。
 本発明の樹脂部材は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用でき、特に限定されるものではないが、特に日光又は紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。例えば、ガラス代替品とその表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラスとそのコーティング材、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材、住居、施設、輸送機器等の照明保護部材のコーティング材、住居、施設、輸送機器等のウインドウフィルム、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料及び該塗料によって形成させる塗膜、蛍光灯、水銀灯、ハロゲン電球、LEDライト等の光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品、化粧品等の容器又は包装材、農工業用シート又はフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、安全ガラス、ガラス中間層、化粧品、衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルター、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。
 中でも、本発明の樹脂部材は、マトリックスの透明性を維持しつつ、紫外線吸収能や、高屈折率の付与が可能である点から、特に光学材料、中でも機能性の光学層を有するフィルムや部材、粘着剤、接着剤、光学成形品に好適である。
 機能性の光学層を有するフィルムや部材としては、単層フィルムや、基材フィルム又は基板に、各種用途に応じた1層又は複層の光学層が設けられた多層フィルムや光学層付き基板でもよく、複層の光学層が設けられる場合にはその少なくとも1層に本発明の樹脂部材が使用される。
 機能性の光学層を有するフィルムや部材のうち、光学フィルムとしては、基材フィルムに各種用途に応じた機能層が設けられたものであってもよく、特に限定されるものではないが、例えば、各種光ディスク基板保護フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、配向フィルム、偏光フィルム、偏光層保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、視野角向上フィルム、電磁波シールドフィルム、防眩フィルム、遮光フィルム及び輝度向上フィルム等が挙げられる。
 機能性の光学層を有する部材としては、特に限定されるものではないが、例えば、パネル基板等の表面に、反射防止層、ハードコート層、帯電防止層、密着安定層、保護層、電磁波シールド層、赤外線カット層等の少なくともいずれかを、1層又は複層で積層した部材等が挙げられる。
 また本発明の樹脂部材は、太陽電池用表面保護フィルムに好適である。太陽電池素子は通常、一対の基板の間に、太陽電池として働く活性層が設けられた構成をしているが、フレキシブルな太陽電池は、その部材として用いられるガスバリアフィルム等のポリエステル材料や、有機太陽電池においては活性層そのものが、紫外線を吸収して劣化してしまうため、紫外線吸収性の保護フィルムを必要とする。また、太陽電池は、屋外で、永年に渡って設置されるため、このような保護フィルムには、高い耐候性が求められる。更に、太陽電池は、光エネルギーを吸収して電力に変換することから、このような保護フィルムには、高い透明性が求められる。すなわち、フレキシブルな太陽電池を保護するための保護フィルムは、高い透明性、高い紫外線吸収能、高い耐候性、及びフレキシブル性が求められるが、本発明の樹脂部材はこのような用途に適している。
 また本発明の樹脂部材は、眼鏡用プラスチックのレンズ素子、コンタクトレンズ、光ピックアップレンズ、カメラ用レンズ及びレンチキュラーレンズ等の光学レンズ、プリズム、フィルター、並びにタッチパネル用基板及び導光板等の光学基板、光ファイバー、情報記録基盤等の光学成形品に好適に用いることができる。光学レンズとしては、フレネルレンズフィルム、レンチキュラーレンズフィルム等のレンズフィルムのようなプラスチックレンズや、小型化した光学機能素子で集光性や光拡散性を高める目的や撮像素子の受光素子への集光等の目的で使用される、数μmサイズの微小径のマイクロレンズを使用したマイクロレンズアレイにも好適である。
 また本発明の樹脂部材は、ディスプレイ用基板及びフィルム、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、電子ペーパー等のフラットパネルディスプレイ用基板及びフィルム又は液晶ディスプレイ、信号、ネオンサイン等のバックライト用基板及びフィルム等にも好適である。
 また、本発明のベンゾトリアゾール化合物は、無機材料に適用することもできる。無機材料としては、特に限定されないが、例えば、ゾルゲル法によるシリカ質材料、ガラス、水ガラス、低融点ガラス、石英、シリコン樹脂、アルコキシシラン、シランカップリング剤等が挙げられる。ガラスとしては、特に限定されないが、例えば、酸化珪素、無アルカリガラス、ソーダガラス等が挙げられる。水ガラスとしては、特に限定されないが、水溶性アルカリ金属塩の水溶液、例えば、珪酸ソーダ、珪酸カリウム等が挙げられる。低融点ガラスとしては、特に限定されないが、例えば、主成分として酸化鉛(PbO)と無水ほう酸(B23)とを含むガラス等が挙げられる。シリコン樹脂としては、特に限定されないが、例えば、メチルシリコン樹脂、メチルフェニルシリコン樹脂、及びエポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂等で変性された有機樹脂変性シリコン樹脂等が挙げられる。アルコキシシランとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3,3,3-トリフロロプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシランN-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-イソシアネートプロピルエトキシシラン等が挙げられる。
 また、本発明のベンゾトリアゾール化合物は、上記の機能を持ちながら、紫外線吸収剤によって安定化、機能化することが求められる用途に使用され、特に限定されないが、例えば、ガラス代替品、住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス、住居、施設、輸送機器等の照明部材及び保護部材、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料及び該塗料によって形成させる塗膜、蛍光灯、水銀灯、ハロゲン電球、LEDライト等の光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器又は包装材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、樹脂部材の保護膜、安全ガラス、ガラス中間層、化粧品、衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルター、バックライトディスプレーフィルム、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等にも用いることができる。
 以下に、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
1.紫外線吸収剤の合成
<中間体化合物の合成>
 下記式で表される中間体1~7を合成した。
<中間体1>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(5.00g 15.8mmol)、2-メルカプトエタノール(2.48g 31.7mmol)、炭酸カリウム(4.82g 69.7mmol)及び、よう化カリウム(3.95g 47.5mmol)を、DMF13mL中で、8時間135~140℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、pH調製、濾過、MeOH洗浄を行い、カラム精製後、再結晶をすることで、淡黄色固体の中間体1を得た。
<中間体2>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(6.85g 21.7mmol)、3-メルカプト-1-プロパノール(3.00g 32.5mmol)、炭酸カリウム(6.60g 47.7mmol)及び、よう化カリウム(0.25g 1.52mmol)を、DMF30mL中で、8時間135~140℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、pH調製、濾過、MeOH洗浄を行い、再結晶をすることで、淡黄色固体の中間体2を得た。
<中間体3>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(18.82g 59.6mmol)、6-メルカプト-1-ヘキサノール(12.00g 89.4mmol)、炭酸カリウム(18.21g 131.1mmol)及び、よう化カリウム(0.69g 4.17mmol)を、DMF60mL中で、10時間135~140℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、pH調製、濾過、MeOH洗浄を行い、再結晶をすることで、淡黄色固体の中間体3を得た。
<中間体4>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g 79.2mmol)、4-ヒドロキシベンゼンチオール(20.0g 158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g, 174.2mmol)及びヨウ化カリウム(0.92g5.54mmol)を、DMF66mL中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、メタノール洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、淡黄色固体の中間体4を得た。
<中間体5>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 中間体4(0.50g 1.23mmol)、6-ブロモ-1-ヘキサノール(0.23g 1.29mmol)、炭酸カリウム(0.33g 2.46mmol)をアセトニトリル15mL中で、80℃、15時間反応を行った。反応終了後、酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、カラム精製することで、淡黄色液体の中間体5を合成した。
<中間体6>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(5.00g 15.8mmol)、4-アミノベンゼンチオール(2.97g 23.8mmol)、炭酸カリウム(4.81g, 34.8mmol)及びよう化カリウム(0.18g1.11mmol)を、DMF30g中で、135℃、3時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、水洗、MeOH洗浄を行い、再結晶することにより、淡黄色固体の中間体6を得た。
<中間体7>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 4-アミノベンゼンチオール(1.50g 12.0mmol)とイソシアン酸オクタデシル(3.54g 12.0mmol)、DMF10mL中で、8時間90℃で加熱攪拌を行った。反応終了後、MeOHを加え析出した結晶を濾過することで、乳白色の粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をMeOHにて再結晶することで、白色の中間体7を得た。
 下記化学式で表される化合物1~9、13~27を合成した。
<化合物1>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 中間体3(0.50g 1.21mmol)、アクリル酸(0.13g 1.82mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.023g 0.12mmol)をトルエン15mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、再結晶することで、淡黄色固体の化合物1を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):3099cm-1:O-H伸縮振動 1719cm-1:C=O伸縮振動 1411, 1362cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.31-1.54 (m, 13H, -O-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-S-, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.68 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2CH2CH2CH2-S-), 1.74 (quin, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH 2CH2-S-) , 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.03 (t, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH2CH 2-S-), 4.17 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2CH2CH2CH2-S-), 6.12 (q, 1H, CH2=CH-C(=O)-O-), 6.37, 5.79 (d, 1H, CH 2=CH-C(=O)-O-), 7.16 (s, 1H), 7.38 (d, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.05 (S, 1H), (insg.5arom. CH), 11.59 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.5~29.5 (C=C-C(=O)-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 33.1 (C=C-C(=O)-O-(CH2)4 CH2CH2-S), 35.4(C=C-C(=O)-O-(CH2)5 CH2-S), 64.4 (C=C-C(=O)-O-CH2(CH2)5-S), 113.8, 117.6, 119.3, 128.6, 129.3 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 137.4(C arom-S), 139.1(C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH) 128.7 (C=C-C(=O)-O-) , 130.6 (C=C-C(=O)-O-) , 166.3 (C=C-C(=O)-O-)
<化合物2>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 中間体1(0.60g 1.68mmol)、メタクリル酸(0.22g 2.51mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0319g 0.168mmol)をトルエン15mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし液状の粗生成物を得た後、カラム精製することで、淡黄色粘性液体の化合物2を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2956cm-1:O-H伸縮振動 1720cm-1:C=O伸縮振動 1451, 1359cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.49 (S, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.92 (S, 3H, CH2=C(CH 3)-C(=O)-O-), 2.39 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.33 (t, 2H, -O-CH2CH 2-S-), 4.41 (t, 2H, -O-CH 2CH2-S-), 5.56 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 6.09 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 7.18 (s, 1H), 7.44 (d, 1H), 7.83 (s, 1H), 7.89 (d, 1H), 8.06 (S, 1H), (insg.5arom. CH), 11.57 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 18.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 32.1 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4(C=C-C(=O)-O-CH2 CH2-S), 62.8 (C=C-C(=O)-O-CH2CH2-S), 115.7, 118.0, 119.4, 128.9, 129.6 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 135.9(C arom-S), 139.2(C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH) 126.1 (C=C(CH3)-C(=O)-O-) , 135.8 (C=C(CH3)-C(=O)-O-) , 167.1 (C=C(CH3)-C(=O)-O-)
<化合物3>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 中間体2(3.00g 8.08mmol)、メタクリル酸(1.04g 12.11mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.15g 0.81mmol)をトルエン50mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、再結晶することで、淡黄色固体の化合物3を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2958cm-1:O-H伸縮振動 1706cm-1:C=O伸縮振動 1453, 1392cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.49 (S, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.96 (S, 3H, CH2=C(CH 3)-C(=O)-O-), 2.01 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2-S-) , 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.13 (t, 2H, -O-CH2CH2CH 2-S-), 4.31 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2-S-), 5.60 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 6.14 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 7.17 (s, 1H), 7.40 (d, 1H), 7.76 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.05 (S, 1H), (insg.5arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 18.4 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.1 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 29.9 (C=C-C(=O)-O-CH2 CH2CH2-S), 35.4 (C=C-C(=O)-O-CH2CH2 CH2-S), 63.0 (C=C-C(=O)-O-CH2CH2CH2-S), 114.5, 117.8, 119.3, 128.8, 129.4 (CHarom), 125.4, 141.4, 143.3 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 136.8 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 125.7 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 136.2 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 167.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-)
<化合物4>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 中間体3(0.60g 1.50mmol)、メタクリル酸(0.22g 2.55mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0323g 0.17mmol)をトルエン15mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、再結晶することで、淡黄色固体の化合物4を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2943cm-1:O-H伸縮振動 1712cm-1:C=O伸縮振動 1433, 1362cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.44-1.54 (m, 13H, -O-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-S-, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.70 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2CH2CH2CH2-S-), 1.74 (quin, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH 2CH2-S-) , 1.94 (S, 3H, CH2=C(CH 3)-C(=O)-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.05 (t, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH2CH 2-S-), 4.14 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2CH2CH2CH2-S-), 5.54 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 6.09 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 7.16 (s, 1H), 7.37 (d, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.82 (d, 1H), 8.05 (S, 1H), (insg.5arom. CH), 11.59 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 18.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.6  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.5~29.5 (C=C(CH3)-C(=O)-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S) , 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 33.1 (C=C(CH3)-C(=O)-O-(CH2)4 CH2CH2-S), 35.4 (C= C(CH3)-C(=O)-O- CH2(CH2)4 CH2-S), 64.6 (C= C(CH3)-C(=O)-O-CH2(CH2)4CH2-S), 113.8, 117.6, 119.3, 128.7, 129.3 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.3 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 137.8 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 125.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 137.8 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 167.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-)
<化合物5>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 中間体4(0.50g 1.23mmol)、メタクリロイルクロリド(0.26g 2.47mmol)とトリエチルアミン(0.21g 2.71mmol)を塩化メチレン15mL中で、15時間室温で攪拌を行った。反応終了後、クロロホルムと水を加え二層とし、酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、再結晶することで、淡黄色固体の化合物5を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2956cm-1:O-H伸縮振動 1724cm-1:C=O伸縮振動 1446, 1391cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 2.08 (S, 3H, CH2=C(CH 3)-C(=O)-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 5.79 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 6.37 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 7.12 (s, 1H), 7.18(d, 2H), 7.35 (d, 1H), 7.51 (d, 2H), 7.70 (s, 1H), 7.82 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 18.4 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.6  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 116.7, 118.1, 119.3, 128.7, 129.3, 125.4, 134.0 (CHarom), 125.4, 141.7, 143.2 (C arom), 128.3 (C arom-CH3), 128.9 (C arom-S), 137.3 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 151.1(C arom-O-), 125.4 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 135.7 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 167.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-)
<化合物6>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 中間体5(0.50g 0.98mmol)を用いて、メタクリル酸(0.13g 1.48mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0188g 0.0989mmol)をトルエン15mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製することで、淡黄色の粘性液体化合物6を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2958cm-1:O-H伸縮振動 1716cm-1:C=O伸縮振動 1453, 1392cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.31-1.46 (m, 4H, -O-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-O-Ph-) ,1.47 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.72 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2CH2CH2CH2-O-Ph-), 1.84 (quin, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH 2CH2-O-Ph-) , 1.95 (S, 3H, CH2=C(CH 3)-C(=O)-O-), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 4.01 (t, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH2CH 2-O-Ph-), 4.17 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2CH2CH2CH2-O-Ph-),5.56 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 6.11 (S, 1H, CH 2=C(CH3)-C(=O)-O-), 6.94(d, 2H), 7.12 (s, 1H), 7.31 (d, 1H), 7.42 (s, 1H), 7.51 (d, 2H), 7.76 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.57 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz):  18.3 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.8  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.6~29.1 (O-CH2CH2(CH2)3CH2-O-Ph) , 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 30.4 (O- CH2 CH2(CH2)4-O-Ph), 35.4 (O-CH2(CH2)4CH2-O-Ph), 38.8 (O-CH2(CH2)4 CH2-O-Ph), 113.7, 115.9, 117.7, 119.3, 128.7, 130.9, 136.5 (CHarom), 125.2, 141.3, 143.3 (C arom), 128.3 (C arom-CH3), 128.8 (C arom-S), 136.4 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 160.1(C arom-O-), 125.4 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 135.7 (C=C(CH3)-C(=O)-O-), 167.8 (C=C(CH3)-C(=O)-O-)
<化合物7>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 中間体3(2.00g 4.84mmol)クロトン酸(0.63g 7.26mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0912g 0.48mmol)をトルエン50mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、再結晶することで、淡黄色固体の化合物7を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2953cm-1:O-H伸縮振動 1719cm-1:C=O伸縮振動 1446, 1392cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.42-1.64 (m, 13H, -O-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-S-, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.66 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2CH2CH2CH2-S-), 1.74 (quin, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH 2CH2-S-) , 1.87 (S, 3H, CH 3CH=CH-C(=O)-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.03 (t, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH2CH 2-S-), 4.14 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2CH2CH2CH2-S-), 5.82 (d, 1H, CH3CH=CH-C(=O)-O-), 6.97 (quin, 1H, CH3CH=CH-C(=O)-O-), 7.16 (s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.70 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.04 (S, 1H), (insg.5arom. CH), 11.59 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 18.0 (CH3C=C-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.5~28.5 (CH3C=C-C(=O)-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 33.1 (CH3C=C-C(=O)-O-(CH2)4 CH2CH2-S), 35.4 (CH3C=C-C(=O)-O-(CH2)5 CH2-S), 64.1 (CH3C=C-C(=O)-O-CH2(CH2)5-S), 113.8, 117.6, 119.3, 128.7, 129.3 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 137.8(C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.8 (C arom-OH) 122.8 (CH3C=C-C(=O)-O-) , 144.5 (CH3 C=C-C(=O)-O-) , 166.6 (CH3C=C-C(=O)-O-)
<化合物8>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 中間体3(1.00g 4.84mmol)、2-ヘキセン酸(0.42g 7.26mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0461g 0.48mmol)をトルエン50mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし、黄色の粗生成物を得た後、再結晶することで、淡黄色固体の化合物8を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2956cm-1:O-H伸縮振動 1715cm-1:C=O伸縮振動 1446, 1391cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.92 (m, 3H, CH 3CH2CH2CH=CH-C(=O)-O-) , 1.49-1.55 (m, 15H, -O-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-S-,  CH3CH 2CH2CH=CH-C(=O)-O-, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.68 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2CH2CH2CH2-S-), 1.75 (quin, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH 2CH2-S-) , 2.17 (q, 2H, CH3CH2CH 2CH=CH-C(=O)-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.04 (t, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH2CH 2-S-), 4.13 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2CH2CH2CH2-S-), 5.83 (d, 1H, CH3(CH2)2CH=CH-C(=O)-O-), 6.96 (S, 1H, CH3(CH2)2CH=CH-C(=O)-O-), 7.17 (s, 1H), 7.36 (d, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.82 (d, 1H), 8.05 (s, 1H), (insg.5arom. CH), 11.60 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 13.7 (CH3(CH2)2C=C-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.6~28.6 (CH3(CH2)2C=C-C(=O)-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 34.2 (CH3(CH2)2C=C-C(=O)-O-(CH2)4 CH2CH2-S), 35.4 (CH3(CH2)2C=C-C(=O)-O-(CH2)5 CH2-S), 64.1 (CH3(CH2)2C=C-C(=O)-O-CH2(CH2)5-S), 113.8, 117.6, 119.3, 128.7, 129.3 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 137.8(C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 149.3 (C arom-OH) 121.3 (CH3(CH2)2=C-C(=O)-O-) , 146.7 (CH3(CH2)2 C=C-C(=O)-O-) , 166.8 (CH3(CH2)2C=C-C(=O)-O-)
<化合物9>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 中間体3(0.27g 0.66mmol)、2-ヘキサデセン酸(0.25g 0.98mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0125g 0.0655mmol)をトルエン15mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートし、液状の粗生成物を得た後、カラム精製することで淡黄色粘性液体の化合物9を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2925cm-1:O-H伸縮振動 1723cm-1:C=O伸縮振動 1464, 1391cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.94 (t, 3H, CH 3CH2CH2CH=CH-C(=O)-O-) , 1.32-1.57 (m, 35H, -O-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-S-,  CH3(CH 2)11CH2CH=CH-C(=O)-O-, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 1.68 (quin, 2H, -O-CH2CH 2CH2CH2CH2CH2-S-), 1.75 (quin, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH 2CH2-S-) , 2.17 (q, 2H, CH3(CH2)11CH 2CH=CH-C(=O)-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.04 (t, 2H, -O-CH2CH2CH2CH2CH2CH 2-S-), 4.14 (t, 2H, -O-CH 2CH2CH2CH2CH2CH2-S-), 6.96 (d, 1H, CH3(CH2)12CH=CH-C(=O)-O-), 7.53 (q, 1H, CH3(CH2)12CH=CH-C(=O)-O-), 7.17 (s, 1H), 7.36 (d, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.82 (d, 1H), 8.05 (s, 1H), (insg.5arom. CH), 11.60 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 14.0 (CH3(CH2)12C=C-C(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 23.0 (CH3 CH2CH2(CH2)10C=C-C(=O)-O-), 25.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.0~30.4 (CH3CH2CH2 (CH2)9CH2C=C-C(=O)-O-), 28.5~28.6 (CH3(CH2)12C=C-C(=O)-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 31.9 (CH3CH2 CH2(CH2)10C=C-C(=O)-O-), 32.2 (CH3(CH2)11 CH2C=C-C(=O)-O-), 33.1 (CH3(CH2)12C=C-C(=O)-O-(CH2)4 CH2CH2-S), 35.4 (CH3(CH2)12C=C-C(=O)-O-(CH2)5 CH2-S), 64.1 (CH3(CH2)12C=C-C(=O)-O-CH2(CH2)5-S), 113.8, 117.6, 119.3, 128.7, 129.3 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 137.8(C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 149.7 (C arom-OH) 121.1 (CH3(CH2)12=C-C(=O)-O-) , 146.7 (CH3(CH2)12 C=C-C(=O)-O-) , 166.9 (CH3(CH2)12C=C-C(=O)-O-)
<化合物13>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 中間体1(0.40g 1.21mmol)、アセチルクロリド(0.18g 0.18mmol)とトリエチルアミン(0.19g 2.46mmol)を塩化メチレン15mL中で、18時間室温で撹拌を行った。反応終了後、水、クロロホルムを加え酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製及び再結晶することで、淡黄色固体の化合物13を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):3011cm-1:O-H伸縮振動 1744cm-1:C=O伸縮振動 1448, 1361cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.49 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 2.05 (s, 3H, CH 3-C=O-O-), 2.39 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.28 (t, 2H, -C=O-O-CH2CH 2-S) , 4.33 (t, 2H, -C=O-O-CH 2CH2-S)
7.18 (d, 2H), 7.74(s, 1H), 7.83 (d, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.06 (s, 1H), (insg.5arom. CH), 11.62 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 20.8 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 20.9  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 32.2 (-C=O-O-CH2 CH2-S) , 35.4 (CH3-C(=O)-O-), 62.5 (-C=O-O-CH2CH2-S) 
115.8, 118.0, 119.4, 128.4, 135.8 (CHarom), 125.4, 141.6, 143.3 (C arom), 128.9 (Carom-CH3), 129.7 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8(C arom-OH), 170.7 (CH3-C=O-O-)
<化合物14>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 中間体1(2.00g 5.59mmol)、塩化ベンゾイル(1.18g 8.39mmol)とトリエチルアミン(0.89g 11.19mmol)を塩化メチレン30mL中で、18時間室温で撹拌を行った。反応終了後、水、クロロホルムを加え酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製及び再結晶することで、淡黄色固体の化合物14を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2963cm-1:O-H伸縮振動 1719cm-1:C=O伸縮振動 1449, 1357cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.50 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 2.39 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.41 (t, 2H, -C=O-O-CH2CH 2-S) , 4.59 (t, 2H, -C=O-O-CH 2CH2-S)7.19 (s, 1H), 7.38(t, 2H), 7.45 (d, 1H), 7.50 (t, 1H), 7.81 (d, 1H), 7.91~7.96 (m, 3H), 8.05 (s, 1H), (insg.10arom. CH), 11.54 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 32.5 (-C=O-O-CH2 CH2-S) , 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 63.4 (-C=O-O-CH2CH2-S)116.3, 118.0, 119.4, 128.3 , 128.9, 129.8 , 133.1, 135.8 (CHarom), 125.4, 141.6, 143.3 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 129.7 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8(C arom-OH), 166.3 (Ph-C(=O)-O-)
<化合物15>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 中間体2(0.50g 1.35mmol)、デカン酸(0.35g 2.02mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.0256g 0.14mmol)をトルエン15mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製することで、薄黄色の固体化合物15を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):3339cm-1:O-H伸縮振動 1685cm-1:C=O伸縮振動 1470, 1359cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.87 (t, 3H, CH 3(CH2)6-C=O-O-), 1.25 (m, 8H, CH3(CH 2)4CH2CH2-C=O-O-), 1.49 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.63 (quin, 4H, CH3(CH2)13CH2CH 2CH2-C=O-O-CH2CH 2(CH2)4-S), 1.73 (quin, 2H, -C=O-O-CH2CH 2CH2-S), 2.06 (quin, 2H, CH3(CH2)4CH 2CH2-C=O-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.11 (t, 2H, -C=O-O-CH2CH2CH 2-S), 4.23 (t, 2H, -C=O-O-CH 2CH2CH2-S), 7.17(s, 1H), 7.37 (s, 1H), 7.75 (d, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.05 (s, 1H), (insg.5arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz):  14.1 (CH3(CH2)6-C=O-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 22.7  (CH3 CH2(CH2)5-C=O-O-), 25.0 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.1 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) ,29.3~29.6 (CH3CH2(CH2)3CH2CH2-C=O-O-) , 28.1 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 30.0 (-C=O-O-CH2 CH2CH2-S), 31.9 (CH3(CH2)4 CH2CH2-C=O-O-), 34.3 (CH3(CH2)5 CH2-C=O-O-), 35.4 (-C=O-O-CH2CH2 CH2-S), 62.5 (-C=O-O-CH2CH2CH2-S), 114.7, 117.8, 119.4, 128.3, 136.9 (CHarom), 125.4, 141.4, 143.4 (C arom), 128.8 (Carom-CH3), 129.5 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 173.8 (CH3(CH2)16-C=O-O-)
<化合物16>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 中間体3(0.30g 0.73mmol)、ステアリン酸(0.31g 1.10mmol)とp-トルエンスルホン酸(0.013g 0.073mmol)をトルエン5mL中で、18時間80~90℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、キョーワード500を加え1時間攪拌し、濾過を行い、ろ液をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物を再結晶することで、薄黄色の固体化合物16を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2917cm-1:O-H伸縮振動 1733cm-1:C=O伸縮振動 1463, 1376cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.89 (t, 3H, CH 3(CH2)16-C=O-O-), 1.27 (m, 28H, CH3(CH 2)13CH2CH2CH2-C=O-O-(CH2)2CH2CH 2(CH2)2-S), 1.41 (quin, 2H, CH3(CH2)13CH 2CH2CH2-C=O-O-) , 1.49 (m, 11H, -C=O-O-(CH2)2CH 2CH2(CH2)2-S  -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.60 (quin, 4H, CH3(CH2)13CH2CH 2CH2-C=O-O-CH2CH 2(CH2)4-S), 1.73 (quin, 2H, -C=O-O-(CH2)4CH 2CH2-S), 2.28 (t, 2H, CH3(CH2)13CH2CH2CH 2-C=O-O-), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.03 (t, 2H, -C=O-O-(CH2)5CH 2-S), 4.01 (t, 2H, -C=O-O-CH 2(CH2)5-S), 7.16(s, 2H), 7.35 (s, 1H), 7.70 (d, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), 7.76 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.60 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz):  14.5 (CH3(CH2)16-C=O-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 23.1  (CH3 CH2(CH2)15-C=O-O-), 25.1 (CH3(CH2)13 CH2CH2CH2-C=O-O-), 25.8  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.5~29.7 (CH3 CH2(CH2)13CH2CH2-C=O-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S) , 29.7 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 31.9 (-C=O-O-CH2 CH2(CH2)4-S), 33.4 (CH3(CH2)14 CH2CH2-C=O-O-), 34.4 (CH3(CH2)15 CH2-C=O-O-), 35.8 (-C=O-O-(CH2)5 CH2-S), 64.1 (-C=O-O-CH2(CH2)5-S), 113.7, 117.6, 119.3, 128.3, 137.8 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (C arom), 128.7 (Carom-CH3), 129.3 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 174.0 (CH3(CH2)16-C=O-O-)
<化合物17>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 中間体4(0.40g 0.99mmol)、アセチルクロリド(0.16g 1.97mmol)とトリエチルアミン(0.17g 2.18mmol)を塩化メチレン30mL中で、18時間室温で撹拌を行った。反応終了後、水、クロロホルムを加え酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製及び再結晶することで、淡黄色固体の化合物17を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2968cm-1:O-H伸縮振動 1762cm-1:C=O伸縮振動 1448, 1367cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 2.32 (s, 3H, CH 3-C=O-O-), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 7.12 (d, 2H), 7.17(s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.48 (d, 2H), 7.70 (s, 1H), 7.82 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.54 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 21.1  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (CH3-C(=O)-O-), 116.9, 118.1, 119.4, 122.9, 128.9, 129.7, 133.9 (CHarom), 125.4, 141.7, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 130.9 (C arom-S), 137.1 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 150.8(C arom-O-), 169.1 (CH3-C(=O)-O-)
<化合物18>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 中間体4(0.40g 0.99mmol)、ステアリルクロリド(0.60g 1.97mmol)とトリエチルアミン(0.17g 2.18mmol)を塩化メチレン30mL中で、18時間室温で撹拌を行った。反応終了後、水、クロロホルムを加え酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製及び再結晶することで、淡黄色固体の化合物18を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2918cm-1:O-H伸縮振動 1756cm-1:C=O伸縮振動 1471, 1376cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.88 (t, 3H, CH 3(CH2)16-C=O-O-), 1.25 (m, 26H, CH3(CH 2)13CH2 CH2CH2-C=O-O-), 1.41 (quin, 2H, CH3(CH2)13CH 2CH2CH2-C=O-O-) , 1.48 (m, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.78 (quin, 2H, CH3(CH2)13CH2CH 2CH2-C=O-O-), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 2.56 (t, 2H, CH3(CH2)13CH2CH2CH 2-C=O-O-), 7.11 (d, 2H), 7.13(s, 1H), 7.34 (d, 1H), 7.48 (d, 2H), 7.68 (s, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.03 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.54 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): 14.1 (CH3(CH2)16-C=O-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 22.7  (CH3 CH2(CH2)15-C=O-O-), 24.9(-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.1~29.7 (CH3(CH2)13CH2(CH2)2-C=O-O-), 29.7 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 31.9 (CH3(CH2)13 CH2(CH2)2-C=O-O-), 34.4 (CH3(CH2)14 CH2CH2-C=O-O-), 35.4 (CH3(CH2)15 CH2-C=O-O-),
116.7, 118.1, 119.4, 122.9, 128.9, 129.6, 134.0 (CHarom), 125.4, 141.6, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 130.6 (C arom-S), 137.3 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8(C arom-OH), 150.8(C arom-O-), 172.0 (CH3(CH2)16-C(=O)-O-)
<化合物19>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 中間体4(0.40g 0.99mmol)、塩化ベンゾイル(0.28g 1.97mmol)とトリエチルアミン(0.17g 2.18mmol)を塩化メチレン30mL中で、18時間室温で撹拌を行った。反応終了後、水、クロロホルムを加え酸処理、水洗を行い、有機層をエバポレートすることで粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製及び再結晶することで、淡黄色固体の化合物19を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr):2962cm-1:O-H伸縮振動 1738cm-1:C=O伸縮振動 1487, 1355cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.49 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 7.16 (s, 2H), 7.25(d, 2H), 7.36 (d, 1H), 7.50~7.56 (m, 4H), 7.63 (t, 1H), 7.72 (s, 1H), 8.04 (s, 1H), 8.20 (d, 1H), (insg.14arom. CH), 11.56 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 116.9, 118.1, 119.4, 123.1, 128.7 , 128.9, 129.7 , 130.2, 133.8, 134.0 (CHarom), 125.4, 141.7, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 129.3(C arom-C(=O)-O-Ph), 131.0 (C arom-S), 137.1 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8(C arom-OH), 151.1(Ph-C(=O)-O-C arom), 164.9 (Ph-C(=O)-O-)
<化合物20>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 中間体3(5.00g 12.10mmol)とイソシアン酸オクタデシル(4.69g 12.71mmol)、クロロベンゼン/O-ジクロロベンゼン(80/20)50mL中で、8時間130℃で加熱攪拌を行った。反応終了後、MeOHを加え析出した結晶を濾過することで、黄色の粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物をカラム精製、再結晶することで、薄黄色の固体化合物20を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):3065cm-1:O-H伸縮振動 1685cm-1:C=O伸縮振動 1470, 1359cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.88 (t, 3H, CH 3(CH2)17-HNC(=O)-O-), 1.24 (m, 28H, CH3(CH 2)13CH2CH2CH2-HNC(=O)-O-(CH2)2CH2CH 2(CH2)2-S), 1.41~1.49 (m, 13H, CH3(CH2)13CH 2CH2CH2-HNC(=O)-O-(CH2)2CH 2CH2(CH2)2-S  -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.62 (m, 2H, -HNC(=O)-O-CH2CH 2(CH2)4-S), 1.75 (t, 2H, quin, 2H, -HNC(=O)-O-(CH2)4CH 2CH2-S), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.03 (m, 2H, -HNC(=O)-O-(CH2)5CH 2-S), 3.13 (m, 2H, CH3(CH2)13CH2CH 2CH2-HNC(=O)-O-), 4.01 (t, 2H, -HNC(=O)-O-CH 2(CH2)5-S), 4.61 (m, 1H, -HNC(=O)-O-), 7.16(s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.70 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.05 (s, 1H), (insg.5arom. CH), 11.60 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz):δ14.1 (CH3(CH2)17-HNC(=O)-O-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 22.7 (CH3 CH2(CH2)16-HNC(=O)-O-), 25.5  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 26.8 (CH3(CH2)14 CH2CH2CH2-C=O-O-), 28.6~29.7 (CH3 CH2(CH2)14CH2CH2-HNC(=O)-O-CH2CH2(CH2)3CH2-S) , 29.7 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 31.9 (-HNC(=O)-O-CH2 CH2(CH2)4-S), 33.2 (CH3(CH2)15 CH2CH2-HNC(=O)-O-), 35.4 (-HNC(=O)-O-(CH2)5 CH2-S), 41.1 (CH3(CH2)16 CH2-HNC(=O)-O-),  64.6 (-HNC(=O)-O-CH2(CH2)5-S), 113.9, 117.6, 119.3, 128.3, 137.8 (CHarom), 125.5, 141.3, 143.4 (C arom), 128.7 (Carom-CH3), 129.4 (C arom-S), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 156.0 (-HNC(=O)-O-)
<化合物21>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(3.15g 9.97mmol)、4-アセトアミドベンゼンチオール(2.50g 14.96mmol)、炭酸カリウム(3.03g, 21.94mmol)及びよう化カリウム(0.12g0.7mmol)を、DMF30g中で、135℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整し、濾過、水洗を行い、数回再結晶することで、淡黄色固体の化合物21を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2963cm-1:O-H伸縮振動 1653cm-1:C=O伸縮振動 1445, 1396cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3) , 2.21 (s, 3H, CH 3-C=O-NH-), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 7.17(s, 1H), 7.31 (d, 1H), 7.48 (d, 2H), 7.56 (d, 3H), 7.79 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.54 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 24.7  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (CH3-C(=O)-NH-), 115.6, 117.9, 119.3, 120.7, 127.9, 128.8, 134.5 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 129.1 (C arom-S), 138.4 (C arom-S), 138.2 (C arom-NH),139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 168.3 (CH3-C(=O)-NH-)
<化合物22>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 ステアリン酸(0.70g 2.47mmol)、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物(0.41g, 2.71mmol)及びN,N'-ジイソプロピルカルボジイミド(0.35g 2.76mmol)、MEK14gを加え、窒素雰囲気下にて、65~75℃で1時間反応させた後、中間体6(1.00g  2.47mmol)を加え、4時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾過した。得られた濾物をMeOHで洗浄し、再結晶することで、淡黄色固体の化合物22を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2958cm-1:O-H伸縮振動 1655cm-1:C=O伸縮振動 1464, 1396cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.88 (t, 3H, CH 3(CH2)16-C(=O)NH-), 1.25 (m, 26H, CH3(CH 2)13CH2CH2-C(=O)NH-), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.74 (quin, 2H, CH3(CH2)13CH 2CH2-C(=O)NH-), 2.37 (m, 5H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3, CH3(CH2)13CH2CH 2-C(=O)NH-), 7.16 (m, 1H, CH3(CH2)16-C(=O)NH-), 7.17(s, 1H), 7.33 (d, 1H), 7.48 (d, 2H), 7.58 (m, 3H), 7.79 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ14.1 (CH3(CH2)16-C(=O)NH-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 22.7 (CH3 CH2(CH2)15-C(=O)NH-), 25.6  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.3~29.7 (CH3 CH2(CH2)12CH2CH2CH2-C(=O)NH-) , 29.7 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 31.9 (CH3(CH2)13 CH2CH2CH2-C(=O)NH-), 35.4 (CH3(CH2)14 CH2CH2-C(=O)NH-), 37.9 (CH3(CH2)15 CH2-C(=O)NH-), 115.5, 117.9, 119.3, 120.7, 127.6, 128.8, 134.6 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 129.0 (C arom-S), 138.6 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 138.1 (C arom-NH), 146.7(C arom-OH), 171.6 (CH3(CH2)17-C(=O)NH-)
<化合物23>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 中間体6(0.50g 1.24mmol)と塩化ベンゾイル(0.26g 1.86mmol)を塩化メチレン10mL中で、18時間室温で撹拌を行った。反応終了後、反応溶液にメタノールを添加し、析出物を濾過することで、黄色の粗生成物を得た。このようして得られた粗生成物を再結晶することで、淡黄色固体の化合物23を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2955m-1:O-H伸縮振動 1654cm-1:C=O伸縮振動 1449, 1396cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.90 (m, 1H, Ph-C(=O)NH-), 7.16(s, 1H), 7.33 (d, 1H), 7.50-7.57 (m, 5H), 7.63 (s, 1H), 7.73 (d, 2H), 7.82 (d, 1H), 7.90 (m, 2H), 8.04 (s, 1H), (insg.14arom. CH), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 115.8, 118.0, 119.3, 121.1, 127.0 , 128.4, 128.9 , 132.1, 134.5 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 128.8(C arom-C(=O)NH-), 129.2 (C arom-S), 138.1 (C arom-S), 138.5(Ph-C(=O)NH-C arom), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8(C arom-OH), 165.7 (Ph-C(=O)NH-)

 <化合物24>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 中間体6(1.00g 2.47mmol)と2-ナフトイルクロリド(0.71g 3.71mmol)を塩化メチレン2mL中で、3時間室温で撹拌を行った。反応終了後、析出物を濾過し、粗生成物を再結晶することで、淡黄色固体の化合物24を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2956m-1:O-H伸縮振動 1659cm-1:C=O伸縮振動 1445, 1397cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16(s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.55-7.63 (m, 5H), 7.65 (s, 1H), 7.77 (d, 2H), 7.84 (d, 1H), 7.91-7.99 (m, 4H), 8.04 (m, 2H), (insg.14arom. CH), 8.41 (s, 1H, Np-C(=O)NH-), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 115.8, 118.0, 119.3, 121.1, 127.1 , 127.7, 127.9, 128.1, 128.9 , 129.2, 132.1, 134.5 (CHarom), 135.0, 131.9 (Np-C arom), 123.4, 141.6, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 128.8(C arom-C(=O)NH-), 129.2 (C arom-S), 138.1 (C arom-S), 138.6(Np-C(=O)NH-C arom), 139.2(C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH), 165.7(Np-C(=O)NH-)

<化合物25>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 中間体6(1.00g 2.47mmol)とイソシアン酸エチル(1.18g 16.54mmol)、DMF20mL中で、16時間100℃で加熱攪拌を行った。反応終了後、トルエンと水を加え、水洗し、有機層を減圧留去することで、黄色の固体を得た。このようにして得られた粗生成物をカラム精製、再結晶することで、薄黄色の固体化合物25を合成した。物性値を下記に示す。FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2968cm-1:O-H伸縮振動 1639cm-1:C=O伸縮振動 1436, 1392cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.13 (t, 3H, CH 3CH2-NH-C(=O)NH-), 1.41 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.30 (m, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.26 (quin, 2H, CH3CH 2-NH-C(=O)NH-), 4.63 (m, 1H, CH3CH2-NHC(=O)NH-), 6.31 (m, 1H, CH3CH2-NHC(=O)NH-)
7.08(s, 1H), 7.23 (d, 1H), 7.30 (d, 2H), 7.38 (m, 2H), 7.49 (d, 1H), 7.71 (s, 1H), 7.95 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.47 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3400MHz): δ14.1 (CH3CH2-HNC(=O)NH-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (CH3 CH2-HNC(=O)NH-), 115.3, 117.9, 119.3, 121.1, 126.2, 128.8, 134.9 (CHarom), 125.3, 141.4, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 128.9 (C arom-S), 138.7 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 139.1 (C arom-NH), 146.7(C arom-OH), 154.8 (CH3CH2-HNC(=O)NH-)
<化合物26>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 中間体7(1.00g 2.38mmol)、2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(0.60g 1.90mmol)、炭酸カリウム(0.58g 4.18mmol)及び、よう化カリウム(0.002g 0.11mmol)を、DMF20mL中で、8時間135~140℃で加熱撹拌を行った。反応終了後、pH調製、濾過、MeOH洗浄を行い、カラム精製後、再結晶をすることで、黄色固体の化合物26を得た。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2916cm-1:O-H伸縮振動 1636cm-1:C=O伸縮振動 1465, 1396cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.88 (t, 3H, CH 3(CH2)17-NHC(=O)NH-), 1.25 (m, 28H, CH3(CH 2)14CH2CH2CH2-NHC(=O)NH-), 1.48 (m, 11H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3,  CH3(CH2)14CH 2CH2CH2-NHC(=O)NH-), 1.56 (m, 2H, CH3(CH2)14CH2CH 2CH2-NHC(=O)NH-), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.27 (quin, 2H, CH3(CH2)14CH2CH2CH 2-NHC(=O)NH-), 4.68 (m, 1H, CH3(CH2)14CH2CH2CH2-NHC(=O)NH-), 6.35 (m, 1H, CH3(CH2)14CH2CH2CH2-NHC(=O)NH-),7.15(s, 1H), 7.32 (d, 1H), 7.38 (d, 2H), 7.45 (d, 2H), 7.56 (s, 1H), 7.78 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3400MHz):   14.1 (CH3(CH2)17-NHC(=O)NH-), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 22.7 (CH3 CH2(CH2)16-NHC(=O)NH-), 26.9  (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.4~29.7 (CH3 CH2(CH2)13CH2CH2CH2-NHC(=O)NH-) , 29.7 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 31.9 (CH3(CH2)14 CH2CH2CH2-NHC(=O)NH-), 35.4 (CH3(CH2)15 CH2CH2-NHC(=O)NH-), 40.6 (CH3(CH2)16 CH2-NHC(=O)NH-),115.1, 117.8, 119.3, 120.9, 126.2, 128.7, 134.9 (CHarom), 125.3, 141.4, 143.2 (C arom), 128.2 (Carom-CH3), 128.9 (C arom-S), 138.7 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 139.7 (C arom-NH), 146.7(C arom-OH), 155.4 (CH3(CH2)17-NHC(=O)NH-)
<化合物27>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 中間体6(1.00g 2.47mmol)とイソシアン酸フェニル(0.31g 2.60mmol)、DMF20mL中で、8時間100℃で加熱攪拌を行った。反応終了後、水を加え析出した結晶を濾過することで、黄色の固体を得た。このようにして得られた粗生成物をカラム精製、再結晶することで、薄黄色の固体化合物27を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2961cm-1:O-H伸縮振動 1659cm-1:C=O伸縮振動 1444, 1396cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 6.60 (m, 1H, -Ph-NHC(=O)NH-), 6.73 (m, 1H, -Ph-NHC(=O)NH-)
7.16(m, 2H), 7.32 (d, 1H), 7.38 (m, 4H), 7.44 (m, 4H), 7.57 (s, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.14arom. CH), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 115.5, 117.9, 119.3, 121.1, 121.9, 128.8, 129.0, 129.7, 129.6, 134.7(CHarom), 125.0, 141.5, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 125.4 (Ph-S-C arom), 127.2 (C arom-S-Ph), 139.1(C arom-C(CH3)3), 137.5(Ph-HN-C(=O)-NH-C arom), 138.4(C arom-HN-C(=O)-NH-Ph), 146.7(C arom-OH), 152.7 (-HN-C(=O)-NH-)
<化合物28>
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 中間体6(0.10g 0.25mmol)とイソシアン酸4-メトキシフェニル(0.0369g 0.25mmol)、DMF5mL中で、18時間100℃で加熱攪拌を行った。反応終了後、水を加え析出した結晶を濾過することで、黄色の固体を得た。このようにして得られた粗生成物をカラム精製、再結晶することで、薄黄色の固体化合物28を合成した。物性値を下記に示す。
FT-IR(KBr): FT-IR(KBr):2964cm-1:O-H伸縮振動 1673cm-1:C=O伸縮振動 1409, 1358cm-1:トリアゾール環伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.36 (m, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.80 (s, 3H, CH 3O-Ph-), 6.55 (m, 1H, -Ph-NHC(=O)NH-), 6.77 (m, 1H, -Ph-NHC(=O)NH-), 6.89(d, 2H), 7.15(s, 1H), 7.28 (m, 3H), 7.39 (m, 4H), 7.76 (d, 1H), 8.01 (s, 1H), (insg.13arom. CH), 11.54 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 55.6 (CH3-O-Ph-)
115.0, 117.9, 119.1, 120.8, 120.9, 128.8, 129.0, 129.5, 129.6, 134.8(CHarom), 125.0, 141.5, 143.2 (C arom), 128.3 (Carom-CH3), 125.4 (Ph-S-C arom), 127.2 (C arom-S-Ph), 139.1(C arom-C(CH3)3), 137.5(Ph-HN-C(=O)-NH-C arom), 138.4(C arom-HN-C(=O)-NH-Ph), 146.7(C arom-OH), 152.7 (-HN-C(=O)-NH-)
 化合物10、化合物29及び化合物30は、国際公開第2016/021664号に記載の方法で合成した。
 化合物11及び化合物12は、東京化成工業(株)製の試薬を用いた。
2.紫外線吸収性能の評価(1)
 化合物1~12をクロロホルム100μMで希釈して10mm石英セルに収容し、紫外可視分光光度計(日本分光社製V-550)を用いて吸収スペクトルを測定した(図1~12)。
 その結果、本発明の化合物1~9は、紫外線の波長領域に吸収帯が存在し、フィルム、樹脂に添加した際、紫外線吸収剤として機能することが示された。
 ベンゾトリアゾール基に、上記式(i-2)で表わされる反応性官能基を有するチオエーテル基を導入した本発明のベンゾトリアゾール系化合物1~9は、従来の反応性紫外線吸収剤(化合物11)及び長波長吸収タイプの紫外線吸収剤(化合物12)に比べ長波長領域にピークトップがシフトし、より長波長領域の360~400nm付近の紫外線吸収に優れることを確認した。式(i-2)のXに芳香族基を導入した化合物5,6は、総体的に250~320nmの領域の吸収ピークが大きくなり(吸光度が大きくなり)、低波長~長波長の広範囲に紫外線を吸収することができる。
 化合物1~12の吸収スペクトルから、350~390nmの波長領域の吸収ピーク(最大吸収波長:λmax)、吸光度を読み取り、そのピークのモル吸光係数(最大モル吸光係数:εmax)を下記式により求めた(表1)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000046
 その結果、チオエーテル基及びアクリロイルオキシ基を導入した本発明の化合物1~9は、化合物10,11,12よりモル吸光係数が21000以上と高く、少量の添加で効率よく紫外線を吸収することが示された。
 また、化合物1~12の吸収スペクトルから、350~390nmにある吸収ピークにおける長波長側の吸収スペクトルとベースライン(380~500nmの吸収スペクトルの傾きが0のライン)との交点をピークエンドとして(例:図1)、下記式により、350~390nmの波長領域にある吸収ピークの長波長側の傾きの絶対値を求めた(表2)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000047
 その結果、化合物1~9の傾きの絶対値は、いずれも、0.040以上であり、化合物10,11,12(傾きの絶対値:0.022~0.038)より大きく、ピークがシャープであり、硫黄含有基(チオエーテル基)及びアクリロイルオキシ基を導入した本発明の化合物1~9は、400~500nm(可視域)のカットが少なく、フィルム、樹脂部材、特に透明樹脂部材に対する黄色抑制効果に優れていることが示唆された。特に、0.042以上の化合物1~6は、その効果に優れる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
3.反応性の評価(1)
 メタクリル酸メチル(4.99mmol)、化合物1~6,10,11(0.15mmol)、トルエン(0.5g)、MEK(0.5g)を入れ、1時間窒素置換した後、1,1'-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)(0.15mmol)を加え、90~96℃で10時間加熱攪拌することで共重合反応を行った。その際、NMRにて二重結合に結合した水素原子のピークを所定の時間毎(1,5,10時間)測定し、反応率を算出した(表3)。
 その結果、反応性官能基にメタクリル又はアクリル基を持たない化合物10と比較し、メタクリル又はアクリル基を持つ化合物1~6,11は、10時間後の反応率が約70%以上であり、反応性が高いことを確認した。
 その中でも、硫黄含有基(チオエーテル基)を持たない化合物11と比較すると、硫黄含有基(チオエーテル基)を持つ化合物1~6は、10時間後の反応率が約99%以上であり、反応性が高く、より高い分子量で重合が可能なことが示唆され、アクリロイルオキシ基(メタクリル、アクリル基)の官能基及び硫黄含有基(チオエーテル基)の導入により、反応性が向上することを確認した。
 さらに、アクリル基を有する化合物1は5,10時間後の反応率が高く、また、Xがアルキレン基でメタクリル基を有する化合物2~4の中では、メタクリル基から硫黄含有基(チオエーテル基)までのアルキレン基の炭素数が3以上の化合物3,4は、アルキレン基の炭素数が2の化合物2より1,5,10時間後の反応率が高く、反応性が良好であることが確認された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
4.共重合体フィルムの評価
 上記の3.反応性の評価(1)で重合した化合物1~6の反応溶液に、クロロホルム1mLを加え、スライドガラスに10μL滴下した後、溶媒を除去することにより、フィルムを作成した。その透明性を次の基準で評価した(表4)。
評価基準
○:白濁がなく透明
△:一部白濁が見られるが透明
×:白濁が見られ透明性が悪い
その結果、化合物1~6において、透明性が良好な重合体が得られることを確認した。
 また、化合物1,4,11,12に関し、上記で得られた溶液50μLをスライドガラス上にスピンコートし、溶媒を除去することにより、膜厚1~10μmのフィルムを作製した。さらに得られたフィルムの吸光度を紫外可視分光光度計により測定した(図13)。
 紫外-可視吸収スペクトル測定から、本発明の化合物1,4を含む重合体は、化合物11、12より、黄色化を抑制し長波長吸収に優れていることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
5.フィルムからの溶出(ブリードアウト)の評価
 上記の反応性の評価(1)では、化合物1~6は、反応性基のプロトンがほぼ全て消失し、樹脂中に紫外線吸収剤が固定化されたことから、ブリードアウトせず、透明性を保持し、紫外線吸収能を長期間保持できることが示唆されるが、実際に、フィルムに取込まれた紫外線吸収剤の溶出、ブリードアウトを確認するため、化合物4,12を用いたフィルムを次の操作で作成した。化合物4は3.反応性の評価(1)で得られた溶液を、化合物12はメタクリル酸メチルのみを3.反応性の評価(1)の条件で重合した溶液に化合物12を添加することで得られた溶液をスライドガラスに1mL塗布し、溶媒を除去し、透明のフィルムを作成した。得られたフィルム/スライドガラスをヘプタン135mLに浸漬させ60℃の恒温槽で2.5時間浸した後、ヘプタンを減圧留去し、溶出物をTHFで溶解しHPLC(高速液体クロマトグラフィー、ThermoFisheSIRNTIFIC製、Ultimete3000)で確認した。
 その結果、反応性官能基を持たない化合物12を用いたフィルムは白濁し、溶出物中に化合物12のピークが検出され、溶出が確認された。一方で、反応性官能基を持つ化合物4は、浸漬後のフィルムは透明で溶出物中に化合物4のピークは検出されず、溶出が確認されなかった。
 以上の結果、反応性官能基を有する本発明の化合物は、モノマーと反応し樹脂中に固定化され、ブリードアウト、溶出せず、透明性を保持し、紫外線吸収能を長期間保持できるとことが示唆された。
6.各種モノマーへの溶解性及び反応性の評価(2)
 表5に示す組み合わせで、化合物1~6,10,11(0.1g)に対し、(メタ)アクリレート系モノマーのメタクリル酸メチル、スチレン系モノマーのスチレン、ビニル系モノマーの酢酸ビニル、アクリルアミド系モノマーのジメチルアクリルアミド、オレフィン系モノマーのヘキサジエンを所定の濃度になるよう加え、超音波を5分照射し溶解性を確認した後、室温(20~30℃)に4時間静置し、析出の有無を確認することにより、最大溶解度を求めた。
 さらに、化合物1~6,10,11をメタクリル酸メチル、スチレン、酢酸ビニルのモノマーに対し最大溶解度の濃度で添加、溶解し、1時間窒素置換した後、モノマーに対して0.03モル%の1,1'-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)を加え、90~96℃で10時間加熱攪拌することで共重合反応を行い、重合体の透明性を確認した。表に、溶解可能な最大濃度、及び重合体の透明性を次の基準で評価した結果を示した(表5)。
評価基準
○:白濁がなく透明
△:一部白濁が見られるが透明
×:白濁が見られ透明性が悪い
 その結果、(メタ)アクリレート系モノマーのメタクリル酸メチル、スチレン系のスチレンに対して、比較例の反応性紫外線吸収剤(化合物10,11)と比べ、本発明の化合物1~6はいずれも高濃度で添加が可能で、透明性も良好な重合体が得られた。
 また、ビニル系モノマーの酢酸ビニル、アクリルアミド系モノマーのジメチルアクリルアミド、オレフィン系のヘキサジエンに対しても同様な溶解性の傾向を示し、化合物1~3,5,6は、酢酸ビニルの系で、透明な重合体が得られた。
 同様な評価方法で、ビニル系モノマーのアクリロニトリルに対しても、それぞれ化合物1は2wt%、化合物2は5wt%、化合物3は5wt%、化合物4は1wt%、溶解可能であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
7.5%重量減少温度の評価(1)
 化合物1~8,10~12について、示差熱熱重量同時測定装置(SII社製、TG/DTA6200)を用いて、昇温温度:10℃/min、測定範囲:25℃~550℃で測定を行い、重量変化(TG)が5重量%減少した温度を読み取った(表6)。
 その結果、比較例の化合物10~12と比較して、本発明の化合物の5%重量減少分解温度はいずれも280℃以上であり、その中でも化合物1,4~6,8は、310℃以上と高く、耐熱性が向上した。また、それらの5%重量減少分解温度は化合物1~8>化合物10>化合物11,12の関係にあり、硫黄含有基(チオエーテル基)の導入、さらにはアクリロイルオキシ基の導入、特にXに芳香族基の導入によって(化合物5,6>化合物4)、耐熱性が向上されることが示唆された。
 つまり、化合物1~8の5%重量減少分解温度は、ほとんどの一般的な樹脂の軟化温度は100~250℃(「よくわかるプラスチック」、監修:日本プラスチック工業連盟、出版:日本実業出版社)よりも高く、200~250℃より高い成形加工温度が求められる熱可塑性樹脂に対しても適用が可能となり、また、高温での反応も可能であり、樹脂部材の紫外線吸収能の付与、透明樹脂部材の透明性の低下の抑制が可能となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
8.紫外線吸収性能の評価(2)
 化合物11~28をクロロホルム100μMで希釈して10mm石英セルに収容し、紫外可視分光光度計(日本分光社製V-550)を用いて吸収スペクトルを測定した(図11,12,14~29)。
 その結果、本発明の化合物13~28は、紫外線の波長領域に吸収帯が存在し、フィルム、樹脂に添加した際、紫外線吸収剤として機能することが示された。
 ベンゾトリアゾール基に、上記式(i-3)をチオエーテル基(上記式(i-1))に導入した本発明のベンゾトリアゾール系化合物13~28は、従来のエステル基を有する紫外線吸収剤(化合物11)及び長波長吸収タイプの紫外線吸収剤(化合物12)に比べ長波長領域にピークトップがシフトし、より長波長領域の360~400nm付近の紫外線吸収に優れることを確認した。式(i-3)のXaに芳香族基を導入しベンゾトリアゾール基~硫黄原子~芳香族基(Xa)でπ電子系からなる化合物17~19,21~28は、Xaがアルキレン基の化合物14,16等より、250~320nmの領域の吸収ピークが大きく(吸光度が大きく)、それらの中でも、π電子系を伸長し、Xa、Xbに芳香族基を導入しA2がエステル基の酸素含有基を導入した化合物19、さらに、Xaに芳香族基を導入しA2がアミド基、尿素基等の窒素含有基を導入した化合物21~28、その中でも、尿素基の化合物25~28は250~320nmの領域の吸収ピークが、さらに大きくなり(吸光度が大きくなり)、低波長~長波長の広範囲に紫外線を吸収することができる。
 化合物11~28の吸収スペクトルから、350~390nmの波長領域の吸収ピーク(最大吸収波長:λmax)、吸光度を読み取り、そのピークのモル吸光係数(最大モル吸光係数:εmax)を下記式により求めた(表7)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000054
 その結果、本発明の化合物13~28は、化合物11,12よりモル吸光係数が21000以上と高く、少量の添加で効率よく紫外線を吸収することが示された。
 また、化合物11~28の吸収スペクトルから、350~390nmにある吸収ピークにおける長波長側の吸収スペクトルとベースライン(380~500nmの吸収スペクトルの傾きが0のライン)との交点をピークエンドとして(例:図1)、下記式により、350~390nmの波長領域にある吸収ピークの長波長側の傾きの絶対値を求めた(表8)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000055
 その結果、化合物13~28の傾きの絶対値は、いずれも、0.040以上であり、化合物11,12(傾きの絶対値:0.032~0.038)より大きく、ピークがシャープであり、本発明の化合物13~28は、400~500nm(可視域)のカットが少なく、フィルム、樹脂部材、特に透明樹脂部材に対する黄色抑制効果に優れていることが示唆された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
9.5%重量減少温度の評価(2)
 本発明の化合物について、示差熱熱重量同時測定装置(SII社製、TG/DTA6200)を用いて、昇温温度:10℃/min、測定範囲:25℃~550℃で測定を行い、重量変化(TG)が5重量%減少した温度を読み取った(表9)。
 式i-3中のXa、Xbがアルキレン基の化合物13,15,16,20と硫黄含有基にアルキレン基を含む比較例18の化合物29(277℃)と比較し、二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基(エステル、ウレタン)が導入された本発明の化合物13,15,16,20は、いずれも5%重量減少分解温度が280℃以上で高く、その中でも、化合物15,16,20は290℃以上、さらに、化合物15,16は310℃以上であり、耐熱性が向上した。また、それらの5%重量減少分解温度は化合物13,15,16,20>化合物29>化合物11,12の関係にあり、硫黄含有基(チオエーテル基)の導入、さらには二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基の導入によって、耐熱性が向上されることが示唆された。
 さらに、Xa、Xbのいずれか一方もしくは両方が芳香族基である化合物14,17,18,19,21,22,23,24と硫黄含有基に芳香族を含む比較例19の化合物30(293℃)と比較し、二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基(エステル、アミド)が導入された本発明の化合物14,17,18,19,21,22,23,24は、いずれも5%重量減少分解温度が310℃以上で高く、耐熱性が向上した。
 これらのことから、5%重量減少分解温度の向上には、エステル、アミド、ウレタンをはじめとする二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基の導入が必須であることが示唆された。
 一方で実施例77~88から式(i-3)におけるXa、Xb、A2と耐熱性(5%重量減少分解温度)については、下記の傾向が認められた。
 Xaのアルキレン基の炭素数について、Xaがアルキレン基、Xbがアルキル基、A2がエステル基の化合物13,15,16の5%重量減少分解温度を比較したところ、Xaの炭素数が2以上の化合物13(炭素数2,283℃)、化合物15(炭素数3,327℃)及び化合物16(炭素数6,357℃)は、比較例の化合物29(277℃)より高く、それらの中でも炭素数3以上の化合物15及び化合物16は、化合物13より5%重量減少分解温度が高く、耐熱性に優れることが示唆された。
 Xbのアルキル基の炭素数について、Xaがアルキレン基、Xbがアルキル基、A2がエステル基の場合、その炭素数について、Xaがアルキレン基、Xbがアルキル基、A2がエステル基の化合物13,15,16の5%重量減少分解温度を比較したところ、Xbの炭素数が1以上の化合物13(炭素数1,283℃)、化合物15(炭素数9,327℃)及び化合物16(炭素数17,357℃)は、比較例の化合物29(277℃)より高く、それらの中でも炭素数6以上の化合物15及び化合物16は化合物13より、さらに、炭素数14以上の化合物16は化合物13,15より、5%重量減少分解温度が高く、耐熱性に優れることが示唆された。
 A2について、Xaがアルキレン基、Xbがアルキル基の化合物16,20の5%重量減少分解温度を比較したところ、ウレタン基を含む化合物20(299℃)よりエステル基を含む化合物16(357℃)が高く、さらに、Xaが芳香族基、Xbがアルキル基の化合物18,22を比較した結果、エステル基を含む化合物18(346℃)よりアミドを含む化合物22(371℃)が、また、同様にXaが芳香族基、Xbがアルキル基の化合物17,21、Xaが芳香族基、Xbが芳香族基の化合物19,23を比較しても、エステル基を含む化合物17(319℃)、化合物19(365℃)より、アミドを含む化合物21(352℃)、化合物23(389℃)が高く、二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基の中でも、ウレタン、エステル、アミドの順で耐熱性が優れていた。
 A2について、XaとXbが同一でA2がエステルとアミドの化合物の5%重量減少分解温度を比較したところ、化合物17(319℃)と化合物21(352℃)、化合物18(346℃)と化合物22(371℃)、化合物19(365℃)と化合物23(389℃)のいずれにおいてもエステルよりアミドが5%重量減少分解温度が高く、アミドが耐熱性に優れていた。
 Xa、Xbが脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)と芳香族基もしくは、Xa、Xbが脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)の場合、Xa、Xbの総炭素数について、A2がエステル基の化合物13~18の5%重量減少分解温度を比較したところ、総炭素数5以上の17(炭素数7,319℃),14(炭素数8,319℃),15(炭素数12,327℃),16(炭素数23,357℃),18(炭素数23,346℃)は、化合物13(炭素数3,283℃)より、炭素数10以上の化合物15,16,18は、化合物13,17,14より、炭素数18以上の化合物16,18は化合物13,17,14,15より高く、耐熱性が優れていた。
 また、Xa、Xbの組み合わせについて、Xaの炭素数6、A2がエステル基の化合物16,18,19を同様に比較した場合、Xa:脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)とXb:芳香族基からなる化合物18(346℃)およびXa:脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)とXb:脂肪族炭化水素基(アルキル基、アルキレン基)からなる化合物16(357℃)より、Xa:芳香族基とXb:芳香族基からなる化合物19(365℃)が高い傾向が認められた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058

Claims (26)

  1.  下記式(I):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式中、R1~R9はそれぞれ独立に、下記式(i-1):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (式(i-1)中、R10は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、R11はmが2以上の場合はそれぞれ独立に芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、R12は下記式(i-2):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (式中、R12a、R12b、及びR12cはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~18の1価の炭化水素基を示し、A1は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、及びフェニレン基から選ばれる2価の基を示し、Xは、-X1-、-X2-、-X1-(Y)p-X2-、-X2-(Y)p-X1-、及び-X2-(Y)p-X2-から選ばれる2価の基を示す(X1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、X2は2価の芳香族基を示し、Yはヘテロ原子を示し、pは0又は1の整数を示す。)。)で表される1価の基を示す。lは0又は1の整数を示し、mは0~3の整数を示す。)で表わされる1価の硫黄含有基、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価の基を示す。R1~R9のうち少なくとも1つは式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基である。)で表わされるベンゾトリアゾール化合物。
  2.  式(i-2)における前記A1が二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、リン含有基、及びフェニレン基から選ばれる2価の基である請求項1に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  3.  式(i-1)におけるlが0である請求項1又は2に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  4.  式(i-1)におけるl及びmが0であり、式(i-2)におけるR12cが水素原子である請求項3に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  5.  式(i-2)においてA1がエステル基、フェニレン基、及びアミド基から選ばれる2価の基である請求項1~4のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  6.  式(i-2)のXにおいて、X1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、X2は2価の芳香族基を示し、Yは酸素原子又は硫黄原子を示す請求項1~5のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  7.  式(i-2)におけるXは、アルキレン基-(CH2n-(nは1以上の整数を示す。)である請求項6に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  8.  式(i-2)におけるXは、アルキレン基-(CH2n-であり、nが2~10の整数である請求項7に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  9.  式(i-2)におけるXは、アルキレン基-(CH2n-であり、nが3~10の整数である請求項8に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  10.  式(i-2)におけるX2は、フェニレン基である請求項6に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  11.  式(i-2)におけるXは、-X2-(Y)p-X1-であり、X1はアルキレン基-(CH2n-(nは1以上の整数を示す。)であり、X2はフェニレン基であり、Yは酸素原子である請求項6に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  12.  式(i-2)におけるA1はエステル基である請求項1~11のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  13.  式(i-1)で表される1価の硫黄含有基を式(I)のR6~R9のうちのいずれかに有する請求項1~12のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  14.  請求項1~13のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物を原料モノマーとして含む重合体。
  15.  下記式(I):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    (式中、R1~R9はそれぞれ独立に、下記式(i-1):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    (式(i-1)中、R10は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、R11はmが2以上の場合はそれぞれ独立に芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、R12は下記式(i-3):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    (式中、A2は窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、及びリン含有基から選ばれる2価の基を示し、Xaは、-Xa1-、-Xa2-、-Xa1-(Yaq-Xa2-、-Xa2-(Yaq-Xa1-、及び-Xa2-(Yaq-Xa2-から選ばれる2価の基を示し(Xa1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基を示し、Xa2は2価の芳香族基を示し、Yaはヘテロ原子を示し、qは0又は1の整数を示す。)、Xbは、-Xb1、-Xb2、-Xa1-(Ybr-Xb2、-Xa2-(Ybr-Xb1、及び-Xa2-(Ybr-Xb2から選ばれる1価の基を示す(Xb1は芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、基端が中断されるか、又は炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の1価の炭化水素基を示し、Xb2は1価の芳香族基を示し、Ybはヘテロ原子を示し、rは0又は1の整数を示す。Xa1とXa2は前記と同義であるがXaのものとは各々独立である。)で表される1価の基を示す。lは0又は1の整数を示し、mは0~3の整数を示す。)で表わされる1価の硫黄含有基、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、及びハロゲン原子から選ばれる1価の基を示す。R1~R9のうち少なくとも1つは式(i-1)で表わされる1価の硫黄含有基である。)で表わされるベンゾトリアゾール化合物。
  16.  式(i-1)におけるA2が二重結合を有する窒素含有基、酸素含有基、硫黄含有基、及びリン含有基から選ばれる2価の基である請求項15に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  17.  式(i-1)におけるlが0である請求項15又は16に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  18.  式(i-1)におけるl及びmが0である請求項17に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  19.  式(i-3)においてA2がエステル基、ウレタン基、アミド基、及び尿素基から選ばれる2価の基である請求項15~18のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  20.  式(i-3)のXaにおいて、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価の炭化水素基、Xa2は2価の芳香族基、Yaは酸素原子又は硫黄原子を示し、Xbにおいて、Xb1は置換及び中断されない炭素数1~20の1価の炭化水素基、Xb2は1価の芳香族基、Ybは酸素原子又は硫黄原子、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価の炭化水素基、Xa2は2価の芳香族基(Xa1とXa2はXaのものとは各々独立である。)を示す請求項15~19のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  21.  式(i-3)におけるXaは、アルキレン基-(CH2n-(nは1以上の整数を示す。)又は置換及び中断されない2価の芳香族基である請求項20に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  22.  式(i-3)におけるXaは、2価の芳香族基である請求項20に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  23.  式(i-3)のXbにおいて、Xb1は置換及び中断されない炭素数1~20の1価のアルキル基、Xb2は1価の芳香族基、Ybは酸素原子又は硫黄原子、Xa1は置換及び中断されない炭素数1~20の2価のアルキル基、Xa2は2価の芳香族基を示す請求項15~19のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  24.  式(i-1)で表される1価の硫黄含有基を式(I)のR6~R9のうちのいずれかに有する請求項15~23のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物。
  25.  請求項15~24のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物を添加した組成物。
  26.  請求項1~13、15~24のいずれか一項に記載のベンゾトリアゾール化合物からなる紫外線吸収剤。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019151708A (ja) * 2018-03-01 2019-09-12 株式会社日本触媒 樹脂組成物および光学フィルター
WO2020138249A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 日本板硝子株式会社 コーティング膜付きガラス板およびそれを形成するための組成物
CN113105404A (zh) * 2020-01-13 2021-07-13 台湾永光化学工业股份有限公司 新型反应型苯并三唑紫外线吸收剂及其用途
WO2021187344A1 (ja) * 2020-03-19 2021-09-23 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
WO2021187345A1 (ja) * 2020-03-19 2021-09-23 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
WO2022039120A1 (ja) 2020-08-21 2022-02-24 富士フイルム株式会社 重合性組成物、重合体、紫外線遮蔽材料、積層体、化合物、紫外線吸収剤及び化合物の製造方法
WO2024135470A1 (ja) 2022-12-23 2024-06-27 ミヨシ油脂株式会社 紫外線吸収剤
US12486239B2 (en) 2019-09-18 2025-12-02 Mitsui Chemicals, Inc. Benzotriazole compound, light absorber, and resin composition

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220073702A1 (en) * 2018-12-26 2022-03-10 Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. Light-resistant, heat-resistant and durable ultraviolet absorber
US12110381B2 (en) 2019-02-26 2024-10-08 Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. Resin molding material, method for producing same, and method for producing resin member or the like
CN112552250B (zh) * 2020-12-14 2022-04-29 天津利安隆新材料股份有限公司 反应型苯并三氮唑类化合物、其应用及包括其的高分子聚合物材料
KR102663941B1 (ko) 2024-03-04 2024-05-08 주식회사 세라수 Drometrizole trisiloxane(DMTS)의 제조방법

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3629191A (en) * 1961-06-16 1971-12-21 Geigy Ag J R Uv-absorbing hydroxyphenyl-benzotriazoles
US3629192A (en) * 1961-06-16 1971-12-21 Geigy Ag J R Polymers stabilized with substituted hydroxyphenyl benzotriazoles
JPS6355542A (ja) * 1986-08-26 1988-03-10 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPH06505743A (ja) * 1991-02-12 1994-06-30 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 5−スルホニル−置換ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及び安定化した組成物
JP2000119569A (ja) 1998-10-13 2000-04-25 Otsuka Chem Co Ltd 耐候性記録液
JP2001234072A (ja) 2000-02-24 2001-08-28 Otsuka Chem Co Ltd 変性シリコン系室温硬化性組成物
JP2002172865A (ja) * 2000-09-27 2002-06-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体および情報記録方法
JP2002226521A (ja) 2001-02-02 2002-08-14 Otsuka Chem Co Ltd 紫外線吸収性共重合体
JP2002226522A (ja) 2001-02-02 2002-08-14 Otsuka Chem Co Ltd 紫外線吸収性共重合体、耐候性樹脂組成物及び記録材料
WO2003029227A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-10 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Adhesion promoters containing benzotriazoles
JP2003168243A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
JP2012025811A (ja) 2010-07-21 2012-02-09 Shinnakamura Kagaku Kogyo Kk 紫外線吸収性のベンゾトリアゾール系(共)重合体及びこれを含む塗料並びに該塗料がコーティングされたフィルム
JP2012532196A (ja) * 2009-07-06 2012-12-13 ノバルティス アーゲー 眼科用レンズ材料のための紫外線/可視光吸収剤
WO2016021664A1 (ja) 2014-08-05 2016-02-11 ミヨシ油脂株式会社 マトリックスに紫外線吸収能及び/又は高屈折率を付与するための添加剤とそれを用いた樹脂部材
WO2016174788A1 (ja) 2015-04-30 2016-11-03 東海光学株式会社 プラスチックレンズ
JP2018122450A (ja) * 2017-01-30 2018-08-09 三菱製紙株式会社 可逆性感熱記録材料

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003203390A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
TWI495506B (zh) * 2012-08-30 2015-08-11 Univ Nat Ilan Adsorbent for treating phosphate-containing wastewater and preparation method thereof (1)

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3629191A (en) * 1961-06-16 1971-12-21 Geigy Ag J R Uv-absorbing hydroxyphenyl-benzotriazoles
US3629192A (en) * 1961-06-16 1971-12-21 Geigy Ag J R Polymers stabilized with substituted hydroxyphenyl benzotriazoles
JPS6355542A (ja) * 1986-08-26 1988-03-10 Konica Corp 発汗現象及びスタチツクマ−ク発生を防止したハロゲン化銀写真感光材料
JPH06505743A (ja) * 1991-02-12 1994-06-30 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 5−スルホニル−置換ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及び安定化した組成物
JP2000119569A (ja) 1998-10-13 2000-04-25 Otsuka Chem Co Ltd 耐候性記録液
JP2001234072A (ja) 2000-02-24 2001-08-28 Otsuka Chem Co Ltd 変性シリコン系室温硬化性組成物
JP2002172865A (ja) * 2000-09-27 2002-06-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体および情報記録方法
JP2002226522A (ja) 2001-02-02 2002-08-14 Otsuka Chem Co Ltd 紫外線吸収性共重合体、耐候性樹脂組成物及び記録材料
JP2002226521A (ja) 2001-02-02 2002-08-14 Otsuka Chem Co Ltd 紫外線吸収性共重合体
WO2003029227A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-10 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Adhesion promoters containing benzotriazoles
JP2003168243A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
JP2012532196A (ja) * 2009-07-06 2012-12-13 ノバルティス アーゲー 眼科用レンズ材料のための紫外線/可視光吸収剤
JP2012025811A (ja) 2010-07-21 2012-02-09 Shinnakamura Kagaku Kogyo Kk 紫外線吸収性のベンゾトリアゾール系(共)重合体及びこれを含む塗料並びに該塗料がコーティングされたフィルム
WO2016021664A1 (ja) 2014-08-05 2016-02-11 ミヨシ油脂株式会社 マトリックスに紫外線吸収能及び/又は高屈折率を付与するための添加剤とそれを用いた樹脂部材
WO2016174788A1 (ja) 2015-04-30 2016-11-03 東海光学株式会社 プラスチックレンズ
JP2018122450A (ja) * 2017-01-30 2018-08-09 三菱製紙株式会社 可逆性感熱記録材料

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SAPOZHNIKOV, 0. Y. ET AL.: "Studies on substitution of nitro groups in 1,3,5-trinitrobenzene with NH-azoles", RUSSIAN CHEMICAL BULLETIN, vol. 53, no. 3, 2004, pages 588 - 595, XP055614962 *

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7128633B2 (ja) 2018-03-01 2022-08-31 株式会社日本触媒 樹脂組成物および光学フィルター
JP2019151708A (ja) * 2018-03-01 2019-09-12 株式会社日本触媒 樹脂組成物および光学フィルター
WO2020138249A1 (ja) * 2018-12-26 2020-07-02 日本板硝子株式会社 コーティング膜付きガラス板およびそれを形成するための組成物
JP2020105022A (ja) * 2018-12-26 2020-07-09 日本板硝子株式会社 コーティング膜付きガラス板およびそれを形成するための組成物
JP7371847B2 (ja) 2018-12-26 2023-10-31 日本板硝子株式会社 コーティング膜付きガラス板およびそれを形成するための組成物
US12486239B2 (en) 2019-09-18 2025-12-02 Mitsui Chemicals, Inc. Benzotriazole compound, light absorber, and resin composition
CN113105404A (zh) * 2020-01-13 2021-07-13 台湾永光化学工业股份有限公司 新型反应型苯并三唑紫外线吸收剂及其用途
CN113105404B (zh) * 2020-01-13 2022-11-11 台湾永光化学工业股份有限公司 新型反应型苯并三唑紫外线吸收剂及其用途
JP7456819B2 (ja) 2020-03-19 2024-03-27 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
JP2021147514A (ja) * 2020-03-19 2021-09-27 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
JP2021147515A (ja) * 2020-03-19 2021-09-27 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
WO2021187345A1 (ja) * 2020-03-19 2021-09-23 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
JP7474613B2 (ja) 2020-03-19 2024-04-25 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体を用いた水性組成物
WO2021187344A1 (ja) * 2020-03-19 2021-09-23 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
WO2022039120A1 (ja) 2020-08-21 2022-02-24 富士フイルム株式会社 重合性組成物、重合体、紫外線遮蔽材料、積層体、化合物、紫外線吸収剤及び化合物の製造方法
WO2024135470A1 (ja) 2022-12-23 2024-06-27 ミヨシ油脂株式会社 紫外線吸収剤
KR20250127750A (ko) 2022-12-23 2025-08-26 미요시 유시 가부시끼가이샤 자외선 흡수제
EP4640785A1 (en) 2022-12-23 2025-10-29 Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. Ultraviolet light absorbing agent

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