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WO2017038701A1 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents

蛍光x線分析装置 Download PDF

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WO2017038701A1
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Rigaku Corp
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Rigaku Denki Co Ltd
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    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence

Definitions

  • the present invention relates to a scanning X-ray fluorescence analyzer that measures the intensity of secondary X-rays generated by irradiating a sample with primary X-rays.
  • a sample is irradiated with primary X-rays, and the intensity of secondary X-rays such as fluorescent X-rays generated from the sample is measured. Based on the measured intensity, for example, quantitative analysis of the element content in the sample is performed.
  • a scanning X-ray fluorescence analyzer to perform.
  • a standard sample corresponding to the sample to be analyzed is provided, and the analysis target element in the sample to be analyzed and the sample constituent elements in the standard sample and their content (chemical analysis value) are set in advance as quantitative analysis conditions. Is set, a standard sample is measured to create a calibration curve, and the analysis target sample is quantitatively analyzed.
  • an element whose content is unknown is included in the standard sample, and the analysis of the analysis target element may be affected by the inclusion of the element, and in such a case, an error may occur. Even if a fluorescent X-ray analyzer such as the above is used, elements that have unknown contents in the standard sample are not considered when setting quantitative analysis conditions according to the sample type in advance. Accurate analysis is not possible.
  • the present invention has been made in view of such problems, and even when the standard sample contains an element whose content is unknown, appropriate addition of the analysis target element is automatically made in the quantitative analysis conditions, It is an object of the present invention to provide a scanning X-ray fluorescence analyzer capable of accurate analysis.
  • the present invention is a scanning X-ray fluorescence analyzer that measures the intensity of secondary X-rays generated by irradiating a sample with primary X-rays, and corresponds to the sample to be analyzed.
  • the quantitative analysis condition setting means performs a qualitative analysis on the standard sample and a semi-quantitative analysis that is a quantitative analysis based on a qualitative analysis result, detects an element other than a preset sample constituent element as a new detection element, Calculate the theoretical matrix correction factor for the absorption excitation of fluorescent X-rays using the fundamental parameter method (hereinafter also referred to as FP method) for the detection element and the sample constituent elements set in advance.
  • FP method fundamental parameter method
  • the influence degree of the absorption excitation of the fluorescent X-rays by the new detection element on the analysis value of the analysis target element is calculated as the absorption excitation influence degree, and the corresponding predetermined value is calculated. Compare with the reference value.
  • the quantitative analysis condition setting means calls the overlap correction coefficient of the interference line due to the new detection element with respect to the analysis line of the analysis target element from the overlap correction table stored in advance, and the overlap correction coefficient and the semi-quantitative analysis value of the new detection element And based on the pre-set content of the sample constituent elements, the influence of overlapping of interference lines by the new detection element on the analysis line of the target element is calculated as the overlap influence and compared with the corresponding reference value. When at least one of the absorption excitation influence degree and the overlap influence degree is larger than a corresponding predetermined reference value, the new detection element is added as an analysis target element in the analysis target sample as a quantitative analysis condition.
  • the fluorescence X with respect to the analysis value of the analysis target element for a newly detected element other than the preset sample constituent element Since there is a quantitative analysis condition setting means that determines whether or not to add as an analysis element from the absorption excitation influence degree of the line and the influence influence of the interference line overlap with the analysis line of the analysis element, Even when an element with an unknown content rate is included, the element to be analyzed is appropriately added automatically under the quantitative analysis conditions, and an accurate analysis can be performed.
  • the quantitative analysis condition setting means analyzes the new detection element as a quantitative analysis condition. It is preferable to set it as a residual element without adding as an element to be analyzed in the sample.
  • the main component of iron should be a residual element and should not be an element to be analyzed, but this is preferable because the iron can be detected as a new detection element. According to the configuration, such a new detection element is set as a residual element without being added as an analysis target element in the analysis target sample based on the semi-quantitative analysis value.
  • the fundamental parameter using the device sensitivity constant stored in advance as the quantitative analysis condition It is preferable to set quantitative calculation conditions by the method.
  • a quantitative calculation method for new detection elements to be added as analysis target elements in the analysis target sample there is a calibration curve method in which a semi-quantitative analysis value is set as the content of the analysis target element added in the standard sample, but a goniometer is scanned.
  • the semi-quantitative analysis value based on the measured X-ray intensity is not sufficiently accurate.
  • the fundamental parameter method using the device sensitivity constant stored in advance is applied, and the goniometer is fixed and measured. Since a more accurate quantitative analysis value based on the X-ray intensity is used, more accurate analysis can be performed as a whole.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a fluorescent X-ray analyzer according to an embodiment of the present invention. It is a flowchart which shows operation
  • this apparatus is a scanning X-ray fluorescence analyzer that measures the intensity of secondary X-rays 5 generated by irradiating samples 1 and 14 with primary X-rays 3. 1 and 14, a sample stage 2, an X-ray source 4 such as an X-ray tube that irradiates the samples 1 and 14 with primary X-rays 3, and two fluorescent X-rays generated from the samples 1 and 14
  • a spectroscopic element 6 that splits the secondary X-ray 5 and a detector 8 that receives the secondary X-ray 7 dispersed by the spectroscopic element 6 and detects the intensity thereof are provided.
  • the output of the detector 8 is input to a control means 11 for controlling the entire apparatus through an amplifier, a wave height analyzer, a counting means, etc. (not shown).
  • This apparatus is a wavelength dispersion type and scanning type X-ray fluorescence analyzer, and interlocks the spectroscopic element 6 and the detector 8 so that the wavelength of the secondary X-ray 7 incident on the detector 8 changes.
  • Means 10, ie a so-called goniometer, is provided.
  • the extension line 9 of the secondary X-ray 5 and the secondary X-ray 7 dispersed (diffracted) by the spectroscopic element 6 have an incident angle ⁇ of 2.
  • the interlocking unit 10 changes the wavelength of the secondary X-ray 7 that is split by changing the spectral angle 2 ⁇ , while the split secondary X-ray 7 is transmitted to the detector 8.
  • the spectroscopic element 6 is rotated about an axis O perpendicular to the paper plane passing through the center of the surface so as to be incident, and the detector 8 is moved along the circle 12 about the axis O by twice the rotation angle. Rotate.
  • the value of the spectral angle 2 ⁇ (2 ⁇ angle) is input from the interlocking unit 10 to the control unit 11.
  • This apparatus includes a plurality of standard samples 14 having different compositions for creating a calibration curve corresponding to the analysis target sample 1, and the analysis target element and each standard in the analysis target sample 1 as the quantitative analysis conditions in advance.
  • Quantitative analysis condition setting means 13 for setting the sample constituent elements and their content in the sample 14 is provided as part of the control means 11.
  • the analysis target sample 1 and the standard sample 14 are collectively referred to as samples 1 and 14.
  • Quantitative analysis condition setting means 13 performs qualitative analysis and semi-quantitative analysis based on qualitative analysis results for each standard sample 14, and detects elements other than the preset sample constituent elements as new detection elements.
  • the qualitative analysis refers to an analysis in which a spectrum is obtained by measuring the intensity of the secondary X-ray 5 in a wide wavelength range under a predetermined standard analysis condition, and a peak identification analysis is performed.
  • the goniometer 10 is scanned to measure the spectrum of all elements from F to U, and the peak detected from the measured spectrum is identified and analyzed.
  • Semi-quantitative analysis refers to analysis in which the content of each element is quantified based on the X-ray intensity measured by qualitative analysis.
  • the quantitative analysis is based on the X-ray intensity measured with the goniometer 10 fixed, using a calibration curve corresponding to the sample 1 to be analyzed, or by the fundamental parameter method using the instrument sensitivity constant stored in advance. An analysis that quantifies the rate.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 calculates a theoretical matrix correction coefficient for absorption excitation of fluorescent X-rays by a fundamental parameter method for a new detection element and a preset sample constituent element, and the theoretical matrix correction coefficient, the new detection element Based on the semi-quantitative analysis value of the sample and the content of the sample constituent elements set in advance, the influence level of the absorption excitation of fluorescent X-rays by the new detection element on the analysis value of the target element is calculated and supported Compare with a predetermined reference value.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 calls the overlap correction coefficient of the interference line by the new detection element for the analysis line of the analysis target element from the overlap correction table stored in advance, and the overlap correction coefficient and the semi-quantitative analysis value of the new detection element Based on the preset content of the constituent elements of the sample, the influence of the overlap of the interference line by the new detection element on the analysis line of the target element is calculated as the overlap influence and compared with the corresponding predetermined reference value.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 sets the new detection element as the analysis target sample as the quantitative analysis condition when at least one of the absorption excitation influence degree and the overlap influence degree is larger than the corresponding predetermined reference value. 1 as an analysis target element.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 has a semi-quantitative analysis value of a new detection element having a predetermined content rate. If it is larger than that, the new detection element is set as a residual element without being added as an analysis target element in the analysis target sample 1 as a quantitative analysis condition.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 adds a new detection added as an analysis target element in the analysis target sample 1
  • quantitative calculation conditions by the fundamental parameter method using apparatus sensitivity constants stored in advance are set as quantitative analysis conditions.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 included in the fluorescent X-ray analyzer of the present embodiment specifically operates as shown in the flowchart of FIG. In FIG. 2, YES is abbreviated as Y and NO is abbreviated as N.
  • the quantitative analysis condition setting means 13 includes, as quantitative analysis conditions, the analysis target element in the analysis target sample 1, the sample constituent elements in each standard sample 14 (including the analysis target element in the analysis target sample 1), and the contents thereof
  • the overlap correction table which is a table of overlap correction coefficients based on the theoretical strengths obtained for each combination of rate, possible analysis line and interference line, the measured intensity obtained by measuring pure substances for the representative elements, and the theory based on the FP method
  • a sensitivity library which is a library of device sensitivity constants obtained from the intensity ratio, is set.
  • step S1 each standard sample 14 is subjected to qualitative analysis and semi-quantitative analysis that is quantitative analysis based on the qualitative analysis results.
  • step S2 if no element other than the preset sample constituent element is detected in the semi-quantitative analysis result, the operation is terminated. If detected, the element or elements are newly detected elements. Then, the process proceeds to step S3.
  • step S3 it is determined whether or not the semi-quantitative analysis value of the element having the maximum content among the newly detected elements is greater than a predetermined content (for example, 50%). This is a determination as to whether or not the new detection element having the maximum content is the main component.
  • a predetermined content for example, 50%
  • the process proceeds to step S6 described later.
  • the process proceeds to step S4. move on.
  • step S4 the new detection element is set as a residual element without being added as an analysis target element in the analysis target sample 1 as a quantitative analysis condition.
  • step S5 it is confirmed whether there is still a new detection element other than the new detection element set as the residual element in step S4. If not, the operation is terminated. If there is, the process proceeds to step S6.
  • step S6 theoretical matrix correction coefficients ⁇ ik and ⁇ ij for the absorption excitation of fluorescent X-rays are calculated by the fundamental parameter method for the newly detected element k and preset sample constituent elements i and j, and the theoretical matrix is calculated.
  • the sample constituent elements j include all the new detection elements k, and the content ratios W i and W j of the sample constituent elements i and j (including the semi-quantitative analysis values W k of the new detection elements k).
  • the new detection that is the object of determination in the absorption excitation influence degree ⁇ W i / W i of the equation (1)
  • the semi-quantitative analysis value W k of the element k the maximum values in the plurality of standard samples 14 are used, and the content rates W i and W j of the other sample constituent elements i and j (new detection not subject to determination) for comprises a semi-quantitative analysis value W k of elements k), the total content of the semi-quantitative analysis value W k with the maximum value of 100% (mass%, adjusted to be below the same).
  • step S7 if the absorption excitation influence degree ⁇ W i / W i calculated for each analysis target element i is larger than a corresponding predetermined reference value, the new detection element to be determined k is affected.
  • the predetermined reference value corresponding to the degree of absorption excitation influence is, for example, 0.005 when the average content of the analysis target element i in the plurality of standard samples 14 is greater than 0.1%, and 0.1 In the case of% or less, 0.02.
  • step S8 if it is determined that there is an influence in step S7, the process proceeds to step S11 described later, and if it is not determined that there is an effect in step S7, the process proceeds to step S9.
  • step S9 the overlap correction coefficient 3 ⁇ ik of the interference line by the new detection element k with respect to the analysis line of the analysis target element i is called from the previously stored overlap correction table, and the overlap correction coefficient 3 ⁇ ik , the new detection element Based on the theoretical intensity T I k of the interference line by k and the theoretical intensity T I i of the analysis line of the analysis element i, the influence of the overlap of the interference line by the new detection element k on the analysis line of the analysis element i is expressed as follows: The overlap influence degree 3 ⁇ ik T I k / T I i in the following equation (2) is calculated.
  • the analyte element i per the overlapping calculated influence 3 ⁇ ik T I k / T I i is greater than any corresponding predetermined reference value, the subject of determination It is assumed that there is an influence on the newly detected element k.
  • the predetermined reference value corresponding to the overlapping influence degree is, for example, the element to be analyzed in the plurality of standard samples 14 in the same manner as the predetermined reference value corresponding to the absorption excitation influence degree ⁇ W i / W i in step S7.
  • the average content rate of i is larger than 0.1%, it is set to 0.005, and when it is 0.1% or less, 0.02.
  • step S11 it is confirmed whether or not an undetermined new detection element k remains. If it remains, the process returns to step S6, and if not, the process proceeds to step S12.
  • step S12 as a quantitative analysis condition, a new detection element k that is considered to be affected is added as an analysis target element i in the analysis target sample 1, and the operation is terminated.
  • the new detection element k to be added as the analysis target element i a known content rate (chemical analysis value) is not set in the standard sample 14, but as a quantitative calculation method in the analysis target sample 1, the standard sample 14 is used.
  • the quantitative analysis condition setting unit 13 adds the new detection element k determined to be affected as the analysis target element i in the analysis target sample 1 in step S12, for its new analyte element i, as quantitative analysis conditions, such as the following, to set quantitative calculation condition by fundamental parameter method using a previously stored device sensitivity constant k i.
  • quantitative analysis conditions such as the following
  • T I iP is the theoretical intensity in a pure substance whose analysis target element i is 100%
  • W i (0) is the initial content rate
  • W i (n) is the n-th content rate
  • T I in is the content of each element
  • the theoretical intensity W i (n + 1) for the analysis target element i calculated from the composition at the n-th content rate is the n + 1-th content rate, that is, a quantitative analysis value.
  • W i (n + 1) W i (n) ⁇ T I Mi / T I in ... (5)
  • the analysis element i originally set in the quantitative analysis conditions is subjected to the iterative calculation according to the following equations (6) and (7) of the calibration curve method. Is called.
  • a and B are calibration curve constants
  • ⁇ j is a theoretical matrix correction coefficient.
  • the overlap correction term is omitted in the equations (4) to (7).
  • the analysis target element i originally set as the quantitative analysis condition as part of the composition for calculating the theoretical strength T I in is the nth time according to the formula (7).
  • the fundamental parameter method using the device sensitivity constant k i stored in advance is applied to the added new analysis target element i and is based on the X-ray intensity I Mi measured with the goniometer 10 fixed. Since the quantitative analysis value W i (n + 1) with higher accuracy is used, more accurate analysis can be performed as a whole.
  • the analysis is performed for the new detection element k other than the preset sample constituent element.
  • Analysis from the absorption excitation degree ⁇ W i / W i of the fluorescent X-ray with respect to the analysis value of the target element i and the overlapping degree 3 ⁇ ik T I k / T I i of the interference line with respect to the analysis line of the analysis target element i Since the quantitative analysis condition setting means 11 for determining whether or not to add as the target element i is provided, even if the standard sample 14 contains an element whose content is unknown, the analysis target element i under the quantitative analysis condition. Appropriate addition is automatically made and accurate analysis is possible.

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Abstract

本発明の走査型の蛍光X線分析装置は、標準試料(14)の定性分析結果および半定量分析結果に基づいて、あらかじめ設定された試料構成元素以外の新規検出元素について、分析対象元素の分析値に対する蛍光X線の吸収励起影響度と、分析対象元素の分析線に対する妨害線の重なり影響度とから、分析対象元素として追加すべきか否かを判定する定量分析条件設定手段(13)を備える。

Description

蛍光X線分析装置 関連出願
 本出願は、2015年8月28日出願の特願2015-169543の優先権を主張するものであり、それらの全体を参照により本願の一部をなすものとして引用する。
 本発明は、試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する走査型の蛍光X線分析装置に関する。
 従来、試料に1次X線を照射して、試料から発生する蛍光X線等の2次X線の強度を測定し、その測定強度に基づいて、例えば試料における元素の含有率について定量分析を行う走査型の蛍光X線分析装置がある。このような装置においては、分析対象試料に対応する標準試料が備えられるとともに、定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料における分析対象元素ならびに標準試料における試料構成元素およびその含有率(化学分析値)が設定されており、標準試料を測定して検量線を作成し、分析対象試料の定量分析を行う。
 定量分析条件の設定に関連し、品種記憶手段、半定量分析手段、品種判定手段および定量分析手段を備えることにより、試料について、半定量分析結果に基づく試料の品種の判定、その判定した品種に適切な分析条件での定量分析が、自動的に行われる蛍光X線分析装置がある(特許文献1参照)。また、検量線を補正するための理論マトリックス補正係数を計算するにあたり、試料に対して適切な補正モデルが設定される蛍光X線分析装置がある(特許文献2参照)。これらの装置によれば、試料の品種に応じて定量分析条件の選択が自動的になされるので、熟練していない操作者でも正確な分析ができる。
特開2002-340822号公報 特開2013-205080号公報
 しかし、標準試料に含有率が不明な元素が含まれていて、しかもその元素が含まれることで分析対象元素の分析が影響を受けて誤差を生じることがあり、そのような場合には、上述のような蛍光X線分析装置を用いても、試料の品種に応じた定量分析条件をあらかじめ設定する際に標準試料において含有率が不明な元素については考慮されていないことから、分析対象元素について正確な分析ができない。
 本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、標準試料に含有率が不明な元素が含まれている場合でも、定量分析条件において分析対象元素の適切な追加が自動的になされ、正確な分析ができる走査型の蛍光X線分析装置を提供することを目的とする。
 前記目的を達成するために、本発明は、試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する走査型の蛍光X線分析装置であって、分析対象試料に対応する検量線を作成するための複数の標準試料と、定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料における分析対象元素ならびに標準試料における試料構成元素およびその含有率が設定される定量分析条件設定手段とを備えている。
 そして、前記定量分析条件設定手段が、標準試料について定性分析および定性分析結果に基づく定量分析である半定量分析を行い、あらかじめ設定された試料構成元素以外の元素を新規検出元素として検出し、新規検出元素およびあらかじめ設定された試料構成元素についてファンダメンタルパラメーター法(以下、FP法ともいう)により蛍光X線の吸収励起に関する理論マトリックス補正係数を計算し、その理論マトリックス補正係数、新規検出元素の半定量分析値およびあらかじめ設定された試料構成元素の含有率に基づいて、分析対象元素の分析値に対する新規検出元素による蛍光X線の吸収励起の影響度を吸収励起影響度として計算して対応する所定の基準値と比較する。
 さらに、前記定量分析条件設定手段が、あらかじめ記憶した重なり補正テーブルから分析対象元素の分析線に対する新規検出元素による妨害線の重なり補正係数を呼び出し、その重なり補正係数、新規検出元素の半定量分析値およびあらかじめ設定された試料構成元素の含有率に基づいて、分析対象元素の分析線に対する新規検出元素による妨害線の重なりの影響度を重なり影響度として計算して対応する所定の基準値と比較し、前記吸収励起影響度および前記重なり影響度の少なくとも一方が、対応する所定の基準値よりも大きい場合に、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料における分析対象元素として追加する。
 本発明の蛍光X線分光装置によれば、標準試料の定性分析結果および半定量分析結果に基づいて、あらかじめ設定された試料構成元素以外の新規検出元素について、分析対象元素の分析値に対する蛍光X線の吸収励起影響度と、分析対象元素の分析線に対する妨害線の重なり影響度とから、分析対象元素として追加すべきか否かを判定する定量分析条件設定手段を備えているので、標準試料に含有率が不明な元素が含まれている場合でも、定量分析条件において分析対象元素の適切な追加が自動的になされ、正確な分析ができる。
 本発明の蛍光X線分光装置においては、前記定量分析条件設定手段が、新規検出元素の半定量分析値が所定の含有率よりも大きい場合に、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料における分析対象元素として追加することなく、残分元素として設定することが好ましい。標準試料が例えば鉄鋼である場合、主成分である鉄は残分元素とすべきであって分析対象元素とすべきでない元素であるが、その鉄が新規検出元素として検出され得るので、この好ましい構成により、そのような新規検出元素を半定量分析値に基づいて分析対象試料における分析対象元素として追加することなく、残分元素として設定する。
 本発明の蛍光X線分光装置においては、前記定量分析条件設定手段が、分析対象試料における分析対象元素として追加する新規検出元素については、定量分析条件として、あらかじめ記憶した装置感度定数を用いるファンダメンタルパラメーター法による定量演算条件を設定することが好ましい。分析対象試料における分析対象元素として追加する新規検出元素についての定量演算方法としては、標準試料における追加した分析対象元素の含有率として半定量分析値を設定する検量線法もあるが、ゴニオメータを走査させて測定したX線強度に基づく半定量分析値の精度が今一つ十分でないところ、この好ましい構成によれば、あらかじめ記憶した装置感度定数を用いるファンダメンタルパラメーター法が適用され、ゴニオメータを固定して測定したX線強度に基づく、より精度の高い定量分析値を用いるので、全体としてより正確な分析ができる。
 請求の範囲および/または明細書および/または図面に開示された少なくとも2つの構成のどのような組合せも、本発明に含まれる。特に、請求の範囲の各請求項の2つ以上のどのような組合せも、本発明に含まれる。
 この発明は、添付の図面を参考にした以下の好適な実施形態の説明からより明瞭に理解されるであろう。しかしながら、実施形態および図面は単なる図示および説明のためのものであり、この発明の範囲を定めるために利用されるべきでない。この発明の範囲は添付の請求の範囲によって定まる。添付図面において、複数の図面における同一の部品番号は、同一部分を示す。
本発明の一実施形態の蛍光X線分析装置を示す概略図である。 同蛍光X線分析装置の動作を示すフローチャートである。
 以下、本発明の一実施形態の装置について、図にしたがって説明する。図1に示すように、この装置は、試料1,14に1次X線3を照射して発生する2次X線5の強度を測定する走査型の蛍光X線分析装置であって、試料1,14が載置される試料台2と、試料1,14に1次X線3を照射するX線管等のX線源4と、試料1,14から発生する蛍光X線等の2次X線5を分光する分光素子6と、その分光素子6で分光された2次X線7が入射され、その強度を検出する検出器8とを備えている。検出器8の出力は、図示しない増幅器、波高分析器、計数手段などを経て、装置全体を制御する制御手段11に入力される。
 この装置は、波長分散型でかつ走査型の蛍光X線分析装置であり、検出器8に入射する2次X線7の波長が変化するように、分光素子6と検出器8を連動させる連動手段10、すなわちいわゆるゴニオメータを備えている。2次X線5がある入射角θで分光素子6へ入射すると、その2次X線5の延長線9と分光素子6で分光(回折)された2次X線7は入射角θの2倍の分光角2θをなすが、連動手段10は、分光角2θを変化させて分光される2次X線7の波長を変化させつつ、その分光された2次X線7が検出器8に入射するように、分光素子6を、その表面の中心を通る紙面に垂直な軸Oを中心に回転させ、その回転角の2倍だけ、検出器8を、軸Oを中心に円12に沿って回転させる。分光角2θの値(2θ角度)は、連動手段10から制御手段11に入力される。
 この装置は、分析対象試料1に対応する検量線を作成するための、組成が相異なる複数の標準試料14を備えるとともに、定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料1における分析対象元素ならびに各標準試料14における試料構成元素およびその含有率が設定される定量分析条件設定手段13を制御手段11の一部として備えている。なお、分析対象試料1と標準試料14とを合わせて試料1,14という。
 定量分析条件設定手段13は、各標準試料14について定性分析および定性分析結果に基づく定量分析である半定量分析を行い、あらかじめ設定された試料構成元素以外の元素を新規検出元素として検出する。ここで、定性分析とは、所定の標準的な分析条件で広い波長範囲において2次X線5の強度を測定してスペクトルを得て、ピークの同定解析を行う分析のことをいい、例えば、ゴニオメータ10を走査させてFからUまで全元素のスペクトル測定を行い、測定したスペクトルから検出されたピークの同定解析を行う。半定量分析とは、定性分析で測定したX線強度に基づいて、各元素の含有率を定量する分析のことをいう。定量分析とは、ゴニオメータ10を固定して測定したX線強度に基づき、分析対象試料1に対応した検量線を用いて、またはあらかじめ記憶した装置感度定数を用いるファンダメンタルパラメーター法により、各元素の含有率を定量する分析のことをいう。
 また、定量分析条件設定手段13は、新規検出元素およびあらかじめ設定された試料構成元素についてファンダメンタルパラメーター法により蛍光X線の吸収励起に関する理論マトリックス補正係数を計算し、その理論マトリックス補正係数、新規検出元素の半定量分析値およびあらかじめ設定された試料構成元素の含有率に基づいて、分析対象元素の分析値に対する新規検出元素による蛍光X線の吸収励起の影響度を吸収励起影響度として計算して対応する所定の基準値と比較する。
 さらに、定量分析条件設定手段13は、あらかじめ記憶した重なり補正テーブルから分析対象元素の分析線に対する新規検出元素による妨害線の重なり補正係数を呼び出し、その重なり補正係数、新規検出元素の半定量分析値およびあらかじめ設定された試料構成元素の含有率に基づいて、分析対象元素の分析線に対する新規検出元素による妨害線の重なりの影響度を重なり影響度として計算して対応する所定の基準値と比較する。
 そして、定量分析条件設定手段13は、前記吸収励起影響度および前記重なり影響度の少なくとも一方が、対応する所定の基準値よりも大きい場合に、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料1における分析対象元素として追加する。
 さらにまた、本発明の蛍光X線分析装置としては必須ではないが、本実施形態の蛍光X線分析装置では、定量分析条件設定手段13が、新規検出元素の半定量分析値が所定の含有率よりも大きい場合に、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料1における分析対象元素として追加することなく、残分元素として設定する。
 さらにまた、本発明の蛍光X線分析装置としては必須ではないが、本実施形態の蛍光X線分析装置では、定量分析条件設定手段13が、分析対象試料1における分析対象元素として追加する新規検出元素については、定量分析条件として、あらかじめ記憶した装置感度定数を用いるファンダメンタルパラメーター法による定量演算条件を設定する。
 本実施形態の蛍光X線分析装置が備える定量分析条件設定手段13は、具体的には、図2のフローチャートに示したように動作する。なお、図2において、YESはY、NOはNと略記している。また、定量分析条件設定手段13には、定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料1における分析対象元素、各標準試料14における試料構成元素(分析対象試料1における分析対象元素を含む)およびその含有率、可能性のある分析線と妨害線の組み合わせごとに求められた理論強度による重なり補正係数の表である重なり補正テーブル、代表的な元素について純物質などを測定した測定強度とFP法による理論強度の比から求められた装置感度定数のライブラリである感度ライブラリなどが設定されている。
 まず、ステップS1において、各標準試料14について定性分析および定性分析結果に基づく定量分析である半定量分析を行う。次に、ステップS2において、半定量分析結果においてあらかじめ設定された試料構成元素以外の元素を検出していなければ、動作を終了し、検出していれば、その単数または複数の元素を新規検出元素として、ステップS3に進む。
 次に、ステップS3において、新規検出元素のうち、最大含有率の元素の半定量分析値が所定の含有率(例えば50%)よりも大きいか否かを判定する。これは、最大含有率の新規検出元素が主成分であるか否かの判定である。最大含有率の半定量分析値が所定の含有率以下である場合には、後述するステップS6に進み、最大含有率の半定量分析値が所定の含有率よりも大きい場合には、ステップS4に進む。次に、ステップS4において、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料1における分析対象元素として追加することなく、残分元素として設定する。
 標準試料14が例えば鉄鋼である場合、主成分である鉄は残分元素とすべきであって分析対象元素とすべきでない元素であるが、その鉄がステップS2において新規検出元素として検出され得るので、ステップS3、S4により、そのような新規検出元素を半定量分析値に基づいて分析対象試料1における分析対象元素として追加することなく、残分元素としている。
 次に、ステップS5において、ステップS4で残分元素として設定した新規検出元素以外にまだ新規検出元素があるか否かを確認して、なければ動作を終了し、あればステップS6に進む。次に、ステップS6において、新規検出元素kおよびあらかじめ設定された試料構成元素i,jについてファンダメンタルパラメーター法により蛍光X線の吸収励起に関する理論マトリックス補正係数αik,αijを計算し、その理論マトリックス補正係数αik,αij、新規検出元素kの半定量分析値Wおよびあらかじめ設定された試料構成元素i,jの含有率W,Wに基づいて、分析対象元素iの分析値に対する新規検出元素kによる蛍光X線の吸収励起の影響度を、次式(1)により吸収励起影響度ΔW/Wとして計算する。
 ΔW/W=αik/(1+Σαij)   …(1)
 なお、この計算においては、試料構成元素jにすべての新規検出元素kも含め、試料構成元素i,jの含有率W,W(新規検出元素kの半定量分析値Wを含む)については、基本的に複数の標準試料14における含有率、半定量分析値の平均値を用いるが、式(1)の吸収励起影響度ΔW/Wにおいて判定の対象となっている新規検出元素kの半定量分析値Wについては、複数の標準試料14における最大値を用い、それ以外の試料構成元素i,jの含有率W,W(判定の対象となっていない新規検出元素kの半定量分析値Wを含む)については、最大値を用いた半定量分析値Wとの合計含有率が100%(mass%、以下同様)になるように調整する。
 次に、ステップS7において、分析対象元素iごとに計算した吸収励起影響度ΔW/Wが、1つでも対応する所定の基準値よりも大きい場合、判定の対象となっている新規検出元素kについて影響ありとする。ここで、吸収励起影響度に対応する所定の基準値は、例えば、複数の標準試料14における分析対象元素iの平均含有率が0.1%よりも大きい場合は0.005とし、0.1%以下の場合は0.02とする。
 次に、ステップS8において、ステップS7で影響ありとされた場合には後述するステップS11へ進み、ステップS7で影響ありとされなかった場合には、ステップS9に進む。次に、ステップS9において、あらかじめ記憶した重なり補正テーブルから分析対象元素iの分析線に対する新規検出元素kによる妨害線の重なり補正係数γikを呼び出し、その重なり補正係数γik、新規検出元素kによる妨害線の理論強度および分析対象元素iの分析線の理論強度に基づいて、分析対象元素iの分析線に対する新規検出元素kによる妨害線の重なりの影響度を、次式(2)の重なり影響度γik として計算する。
 γik    …(2)
 ここで、分析対象元素iの分析線の理論強度、新規検出元素kによる妨害線の理論強度は、ステップS6で用いたのと同様の新規検出元素kの半定量分析値Wおよびあらかじめ設定された試料構成元素i,jの含有率W,Wに基づいて、FP法により計算される。
 次に、ステップS10において、分析対象元素iごとに計算した重なり影響度γik が、1つでも対応する所定の基準値よりも大きい場合、判定の対象となっている新規検出元素kについて影響ありとする。ここで、重なり影響度に対応する所定の基準値は、例えば、ステップS7での吸収励起影響度ΔW/Wに対応する所定の基準値と同様に、複数の標準試料14における分析対象元素iの平均含有率が0.1%よりも大きい場合は0.005とし、0.1%以下の場合は0.02とする。
 次に、ステップS11において、未判定の新規検出元素kが残っているか否かを確認し、残っていればステップS6に戻り、残っていなければステップS12に進む。次に、ステップS12において、定量分析条件として、影響ありとされた新規検出元素kを分析対象試料1における分析対象元素iとして追加して、動作を終了する。
 さて、分析対象元素iとして追加する新規検出元素kについては、標準試料14において既知の含有率(化学分析値)が設定されていないところ、分析対象試料1における定量演算方法としては、標準試料14における追加した分析対象元素iの含有率としてステップS1で求めた同元素(新規検出元素k)の半定量分析値Wを設定する検量線法もあるが、ゴニオメータ10を走査させて測定したX線強度に基づく半定量分析値Wの精度は今一つ十分でない。
 そこで、本実施形態の蛍光X線分析装置では、定量分析条件設定手段13が、ステップS12において、影響ありとされた新規検出元素kを分析対象試料1における分析対象元素iとして追加する際に、その新たな分析対象元素iについては、定量分析条件として、以下のような、あらかじめ記憶した装置感度定数kを用いるファンダメンタルパラメーター法による定量演算条件を設定する。この定量演算では、まず、次式(3)により、ゴニオメータ10を固定して測定したX線強度IMiを、あらかじめ設定された感度ライブラリから呼び出した装置感度定数kを用いて理論強度スケールに換算し、換算測定強度Miとする。
 Mi=kMi   …(3)
 そして、次式(4)および(5)による繰り返し計算(逐次近似計算)を適切な収束条件で行う。ここで、iPは分析対象元素iが100%の純物質における理論強度、W(0) は初期含有率、W(n) はn回目の含有率、inは各元素のn回目の含有率による組成から計算した分析対象元素iについての理論強度、W(n+1) はn+1回目の含有率、つまり定量分析値である。
 W(0) =100×MiiP   …(4)
 W(n+1) =W(n) ×Miin   …(5)
 なお、式(4)および(5)による繰り返し計算と同時に、もともと定量分析条件に設定されていた分析対象元素iについては、検量線法の次式(6)および(7)による繰り返し計算が行われる。ここで、A,Bは検量線定数、αは理論マトリックス補正係数である。ただし、式(4)~(7)においては重なり補正項を省略している。また、式(5)の繰り返し計算において、理論強度inを計算するための組成の一部として、もともと定量分析条件に設定されていた分析対象元素iについては、式(7)によるn回目の含有率W(n) が用いられ、一方、式(7)の繰り返し計算において、加補正成分の含有率W(n) として、追加された新たな分析対象元素iについては、式(5)によるn回目の含有率W(n) が用いられる。
 W(0) =AIMi+B   …(6)
 W(n+1) =(AIMi+B)(1+Σα(n))   …(7)
 この構成によれば、追加された新たな分析対象元素iについては、あらかじめ記憶した装置感度定数kを用いるファンダメンタルパラメーター法が適用され、ゴニオメータ10を固定して測定したX線強度IMiに基づく、より精度の高い定量分析値W(n+1) を用いるので、全体としてより正確な分析ができる。
 以上のように、本実施形態の蛍光X線分光装置によれば、標準試料14の定性分析結果および半定量分析結果に基づいて、あらかじめ設定された試料構成元素以外の新規検出元素kについて、分析対象元素iの分析値に対する蛍光X線の吸収励起影響度ΔW/Wと、分析対象元素iの分析線に対する妨害線の重なり影響度γik とから、分析対象元素iとして追加すべきか否かを判定する定量分析条件設定手段11を備えているので、標準試料14に含有率が不明な元素が含まれている場合でも、定量分析条件において分析対象元素iの適切な追加が自動的になされ、正確な分析ができる。
 以上のとおり、図面を参照しながら好適な実施例を説明したが、当業者であれば、本件明細書を見て、自明な範囲内で種々の変更および修正を容易に想定するであろう。したがって、そのような変更および修正は、添付の請求の範囲から定まるこの発明の範囲内のものと解釈される。
1 分析対象試料
3 1次X線
5 2次X線
13 定量分析条件設定手段
14 標準試料

Claims (3)

  1.  試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する走査型の蛍光X線分析装置であって、
     分析対象試料に対応する検量線を作成するための複数の標準試料と、
     定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料における分析対象元素ならびに標準試料における試料構成元素およびその含有率が設定される定量分析条件設定手段とを備え、
     前記定量分析条件設定手段が、
     標準試料について定性分析および定性分析結果に基づく定量分析である半定量分析を行い、あらかじめ設定された試料構成元素以外の元素を新規検出元素として検出し、
     新規検出元素およびあらかじめ設定された試料構成元素についてファンダメンタルパラメーター法により蛍光X線の吸収励起に関する理論マトリックス補正係数を計算し、その理論マトリックス補正係数、新規検出元素の半定量分析値およびあらかじめ設定された試料構成元素の含有率に基づいて、分析対象元素の分析値に対する新規検出元素による蛍光X線の吸収励起の影響度を吸収励起影響度として計算して対応する所定の基準値と比較し、
     あらかじめ記憶した重なり補正テーブルから分析対象元素の分析線に対する新規検出元素による妨害線の重なり補正係数を呼び出し、その重なり補正係数、新規検出元素の半定量分析値およびあらかじめ設定された試料構成元素の含有率に基づいて、分析対象元素の分析線に対する新規検出元素による妨害線の重なりの影響度を重なり影響度として計算して対応する所定の基準値と比較し、
     前記吸収励起影響度および前記重なり影響度の少なくとも一方が、対応する所定の基準値よりも大きい場合に、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料における分析対象元素として追加する蛍光X線分析装置。
  2.  請求項1に記載の蛍光X線分析装置において、
     前記定量分析条件設定手段が、
     新規検出元素の半定量分析値が所定の含有率よりも大きい場合に、定量分析条件として、当該新規検出元素を分析対象試料における分析対象元素として追加することなく、残分元素として設定する蛍光X線分析装置。
  3.  請求項1に記載の蛍光X線分析装置において、
     前記定量分析条件設定手段が、
     分析対象試料における分析対象元素として追加する新規検出元素については、定量分析条件として、あらかじめ記憶した装置感度定数を用いるファンダメンタルパラメーター法による定量演算条件を設定する蛍光X線分析装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021051053A (ja) * 2019-09-26 2021-04-01 株式会社リガク 蛍光x線分析装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018168939A1 (ja) * 2017-03-15 2018-09-20 株式会社リガク 蛍光x線分析方法、蛍光x線分析プログラムおよび蛍光x線分析装置
JP6797421B2 (ja) * 2018-08-09 2020-12-09 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
JP6998608B2 (ja) * 2019-09-20 2022-01-18 株式会社リガク 定量分析方法、定量分析プログラム、及び、蛍光x線分析装置
JP7190749B2 (ja) * 2020-05-18 2022-12-16 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
JP7190751B2 (ja) * 2020-10-30 2022-12-16 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
RU2756666C1 (ru) * 2021-02-01 2021-10-04 Акционерное общество "Чепецкий механический завод" Способ определения содержания гафния в металлическом цирконии и сплавах на его основе
JP7325849B2 (ja) * 2021-10-28 2023-08-15 株式会社リガク ピーク同定解析プログラム及び蛍光x線分析装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002340822A (ja) * 2001-05-16 2002-11-27 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2013205080A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Rigaku Corp 蛍光x線分析装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2853261B2 (ja) * 1989-05-16 1999-02-03 三菱マテリアル株式会社 金属分析方法および分析装置
US6041096A (en) * 1995-08-09 2000-03-21 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Method and apparatus for total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
JP2000310602A (ja) 1999-02-23 2000-11-07 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置およびこれに使用する記録媒体
JP2004212406A (ja) 1999-02-23 2004-07-29 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置およびこれに使用する記録媒体
JP3567177B2 (ja) * 2000-04-11 2004-09-22 理学電機工業株式会社 蛍光x線分析装置
DE10159828B4 (de) 2001-12-06 2007-09-20 Rigaku Industrial Corporation, Takatsuki Röntgenfluoreszenzspektrometer
US6845147B2 (en) 2002-06-17 2005-01-18 Edax Inc. Scatter spectra method for x-ray fluorescent analysis with optical components
JP4908119B2 (ja) 2005-10-19 2012-04-04 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
WO2011027613A1 (ja) 2009-09-07 2011-03-10 株式会社リガク 蛍光x線分析方法
JP6002890B2 (ja) * 2014-09-18 2016-10-05 株式会社リガク X線分析装置
US9784699B2 (en) 2015-03-03 2017-10-10 Panalytical B.V. Quantitative X-ray analysis—matrix thickness correction

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002340822A (ja) * 2001-05-16 2002-11-27 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2013205080A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Rigaku Corp 蛍光x線分析装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021051053A (ja) * 2019-09-26 2021-04-01 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
WO2021059597A1 (ja) * 2019-09-26 2021-04-01 株式会社リガク 蛍光x線分析装置

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