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WO2005110598A1 - アパタイトとその製造方法、並びにアパタイト基材 - Google Patents

アパタイトとその製造方法、並びにアパタイト基材 Download PDF

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WO2005110598A1
WO2005110598A1 PCT/JP2004/006462 JP2004006462W WO2005110598A1 WO 2005110598 A1 WO2005110598 A1 WO 2005110598A1 JP 2004006462 W JP2004006462 W JP 2004006462W WO 2005110598 A1 WO2005110598 A1 WO 2005110598A1
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WO
WIPO (PCT)
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apatite
metal atom
group
visible light
mol
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2004/006462
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English (en)
French (fr)
Inventor
Toshiya Watanabe
Masato Wakamura
Yasuo Naganuma
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
University of Tokyo NUC
Original Assignee
Fujitsu Ltd
University of Tokyo NUC
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Publication date
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Priority to KR1020107024151A priority patent/KR20100131504A/ko
Priority to KR1020107002484A priority patent/KR20100023976A/ko
Priority to PCT/JP2004/006462 priority patent/WO2005110598A1/ja
Priority to DE112004002861.2T priority patent/DE112004002861B4/de
Priority to KR1020067023854A priority patent/KR101000821B1/ko
Application filed by Fujitsu Ltd, University of Tokyo NUC filed Critical Fujitsu Ltd
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Priority to US11/594,829 priority patent/US20070051668A1/en
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    • B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/39—Photocatalytic properties

Definitions

  • the present invention relates to apatite, a method for producing the same, and an apatite substrate.
  • semiconductor materials such as titanium oxide have a photocatalytic function. That is, when a semiconductor material such as titanium oxide absorbs light energy having a wavelength corresponding to the band gap between the valence band and the conduction band, the electrons in the valence band are transferred to the conduction band by excitation, and are converted to the valence band. Positive charges (holes) are generated.
  • any substance for example, an organic substance
  • the electrons that have moved to the conduction band move to the organic substance on the surface of the semiconductor substance and reduce it. Then, the holes generated there capture electrons and oxidize organic matter.
  • titanium oxide since holes in the valence band have a very strong oxidizing power, organic substances are finally decomposed into water and carbon dioxide.
  • photocatalytic function oxidative decomposition function
  • titanium oxide films have been used as antibacterial agents, bactericides, deodorants, environmental purification agents, and the like.
  • titanium oxide itself does not have the ability to adsorb organic substances on its surface, the oxidative decomposition function obtained is limited.
  • apatite has affinity and adsorption properties. Therefore, the above-mentioned apatite is widely used in medical materials such as artificial bones and dental roots, as well as in adsorbents for chromatography, chemical sensors, ion exchangers, catalysts, etc. Active research is being conducted.
  • the apatite has the ability to specifically adsorb organic substances such as proteins.
  • JP-A-2003-175338, JP-A-2003-334883 has a photocatalytic function equivalent to that of titanium oxide, and the efficiency of the photocatalytic function can be improved by the specific adsorption characteristic of apatite.
  • the light energy required to excite a photocatalyst such as titanium oxide having a strong oxidizing power is 3.2 eV, which is about 380 nm in terms of light wavelength. Therefore, titanium oxide can be excited by near-ultraviolet light, but not by visible light. Since ultraviolet light accounts for 415% of sunlight, the photocatalytic efficiency of titanium oxide is not sufficient. In particular, the photocatalytic function cannot be exhibited in a room under a fluorescent lamp where almost no ultraviolet light exists.
  • the present invention is an apatite containing a metal atom having a photocatalytic function and another metal atom, wherein the metal atom having a photocatalytic function includes a metal atom that absorbs visible light energy. It is an apatite characterized by the following.
  • the present invention includes the steps of preparing a solution containing a metal atom that absorbs visible light 1 X 10- 6 mol / dm 3 or more 1 X 10_ 2 m ol / dm 3 at a concentration, the solution And a step of immersing the apatite in the apatite.
  • the present invention is an apatite raw material solution containing a metal atom that absorbs visible light and another metal atom, wherein the content of the metal atom that absorbs visible light is included in the solution.
  • the present invention also provides an apatite containing a metal atom that absorbs visible light and another metal atom.
  • the metal atom that absorbs visible light is at least one metal atom selected from the group consisting of Cr, Co, Cu, Fe, and Ni
  • the other metal atom is Apatite substrate characterized by being at least one metal atom selected from the group consisting of Ca, Al, La, Mg, Sr, Ba, Pb, Cd, Eu, Y, Ce, Na, and K force It is.
  • FIG. 1 is a view showing an ultraviolet-visible reflection spectrum of Example 1 and a comparative example.
  • FIG. 2 is a view showing an ultraviolet-visible reflection spectrum of Example 8, Example 9, and Comparative Example.
  • FIG. 3 is a graph showing changes in carbon dioxide gas concentration and acetoaldehyde gas concentration in Example 1 and Comparative Example.
  • FIG. 4 is a graph showing changes in carbon dioxide gas concentration and acetoaldehyde gas concentration in Example 8 and Example 9.
  • FIG. 5 is a graph showing the relationship between the chromium concentration of an aqueous solution of chromium nitrate and the amount of acetoaldehyde gas reduced.
  • FIG. 6 is a view showing a relationship between a firing temperature and a carbon dioxide gas concentration.
  • FIG. 7 is a graph showing changes in carbon dioxide gas concentration and acetoaldehyde gas concentration in Example 14.
  • apatite of the present invention is an apatite containing a metal atom ⁇ , a metal atom B, and a metal atom C.
  • the metal atom A is a metal atom contained in ordinary apatite
  • the metal atom B is a metal atom that absorbs ultraviolet light
  • the metal atom C is a metal atom that absorbs visible light.
  • a photocatalytic function can be exhibited not only with ultraviolet light but also with visible light.
  • Apatite can be provided.
  • the apatite of the present embodiment can be basically represented by the following general formula (1).
  • the metal atom A is at least one metal atom selected from the group consisting of Ca, Al, La, Mg, Sr, Ba, Pb, Cd, Eu, Y, Ce, Na, and K force, Metals contained in apatite It is the main component of the atom. Of these, Ca is the most common.
  • the metal atom B that absorbs ultraviolet light is at least one metal atom selected from the group consisting of Ti, Zr, and W. Of these, Ti is most preferred.
  • the content of the metal atom B is preferably 3 mol% or more and 11 mol% or less, more preferably 8 mol% or more and 10 mol% or less, based on the total metal atoms contained in the apatite.
  • the metal atom C that absorbs visible light is at least one metal atom selected from the group consisting of Cr, Co, Cu, Fe, and Ni. Of these, Cr is most preferred.
  • the content of metal atom C is preferably 0.5 mol% or more and 2 mol% or less with respect to the whole metal atoms contained in apatite, and is 0.5 mol. / 0 or more and 1.5 mol% or less are more preferable.
  • the metal atom A forms an apatite crystal structure, and a part of the metal atom A is replaced by a metal atom B and a metal atom C.
  • the above D represents an atom such as P or S, and the above O represents an oxygen atom.
  • the above E represents a hydroxyl group (-OH), a halogen atom (F, Cl, Br, I) and the like.
  • the apatite represented by the above general formula is, for example, a metal atom contained in hydroxyapatite, fluoroapatite, clomouth apatite, tricalcium phosphate, calcium hydrogen phosphate, etc. It has been replaced with an absorbing metal atom.
  • the metal atom A is Ca
  • the metal atom B is Ti
  • the metal atom C is Cr
  • D is P
  • E is a hydroxyl group.
  • Apatite is preferably used.
  • apatite represented by the following general formula (2) is more preferable.
  • the apatite of the present embodiment is preferably fired at a temperature of 500 ° C. or more and 700 ° C. or less. Thereby, the crystallinity of apatite can be enhanced, and the photocatalytic effect by visible light can be further enhanced.
  • the apatite of the present embodiment can be provided in various shapes and dimensions depending on the purpose of use, production conditions, and the like. Suitable shapes include, for example, powders, tablets, rods, plates, blocks, sheets, finolems, thin films, and the like.
  • the apatite of the present invention includes a metal atom that absorbs visible light and another metal atom.
  • the metal atom that absorbs visible light is at least one metal atom selected from the group consisting of Cr, Co, Cu, Fe, and Ni, and the other metal atom, It is at least one metal atom selected from the group consisting of Ca, Al, La, Mg, Sr, Ba, Pb, Cd, Eu, Y, Ce, Na, and K.
  • This can provide an apatite capable of exhibiting a visible light catalytic function.
  • the present embodiment is a mode that does not include a metal atom having an ultraviolet photocatalytic function.
  • the apatite of the above embodiment is more preferably an apatite represented by the following general formula (3): [0028] General formula (3): CaCr (PO) (OH)
  • the apatite of the above embodiment is almost the same as the apatite represented by the general formula (1) except for the above points.
  • An example of a manufacturing method of the apatite of the present invention includes the steps of preparing a solution containing a metal atom that absorbs visible light at 1 X 10- 2 mol / dm 3 concentration below 1 X 10- 6 mol / dm 3 or more, And a step of immersing apatite in the above solution, which is a so-called immersion method. This makes it easy to produce apatite that can exhibit a photocatalytic function even with visible light.
  • the metal atom that absorbs visible light is at least one metal atom selected from the group consisting of Cr, Co, Cu, Fe, and Ni.
  • X 10 3 mol / dm 3 is preferably less that instrument 4 X 10- 5 mol / dm 3 or more 2 X ⁇
  • the visible light catalyst function can be further enhanced.
  • the manufacturing method of the present embodiment preferably further includes a step of drying the apatite immersed in the above solution, and then firing at a temperature of 500 ° C or more and 700 ° C or less.
  • the firing temperature is more preferably from 550 ° C to 650 ° C.
  • apatite the above-mentioned hydroxyapatite, fluoroapatite, black apatite, tricalcium phosphate, calcium hydrogen phosphate and the like can be used.
  • at least one metal atom selected from the group consisting of Ca, Al, La, Mg, Sr, Ba, Pb, Cd, Eu, Y, Ce, Na, and K is Contains.
  • calcium hydroxyapatite Ca (P ⁇ ) (OH) is particularly preferred.
  • the apatite preferably further contains at least one metal atom selected from the group consisting of Ti, Zr, and W as a metal atom that absorbs ultraviolet light. This is a force that can easily produce apatite that can exhibit a photocatalytic function not only with visible light but also with ultraviolet light.
  • apatite calcium-titanium hydroxyapatite CaTi (PO) (OH) is particularly preferred.
  • Another example of the method for producing apatite of the present invention is an apatite raw material solution containing a metal atom that absorbs visible light and another metal atom, and the content of the metal atom that absorbs visible light is Is a process for producing an apatite raw material solution that is 0.5 mol% or more and 3 mol% or less with respect to all metal atoms contained in the above solution, and coprecipitates elements contained in the apatite raw material solution to precipitate apatite. And a so-called coprecipitation method. This makes it easy to produce apatite that can exhibit a photocatalytic function even with visible light.
  • the metal atom that absorbs visible light is at least one metal atom selected from the group consisting of Cr, Co, Cu, Fe, and Ni.
  • the content of the metal atom that absorbs the visible light in the solution is preferably 0.5 mol% or more and 2 mol% or less based on the total metal atoms contained in the solution. % Or more and 1.5 mol% or less. This is because the visible light catalyst function can be further enhanced within this concentration range.
  • the other metal atom is at least one metal atom selected from the group consisting of Ca, Al, La, Mg, Sr, Ba, Pb, Cd, Eu, Y, Ce, Na, and K. And Ca is particularly preferable.
  • the other metal atom preferably further includes at least one metal atom selected from the group consisting of Ti, Zr, and W as a metal atom that absorbs ultraviolet light. This allows The ability to easily produce apatite that can exhibit a photocatalytic function not only with visible light but also with ultraviolet light. Of these, Ti is particularly preferred.
  • the content of the metal atoms that absorb the ultraviolet light in the solution is preferably 3 mol% or more and 11 mol% or less, and more preferably 8 mol% or more and 10 mol% or more based on the total metal atoms contained in the solution. preferable.
  • the production method of the present embodiment preferably further includes a step of drying the precipitated apatite and then baking it at a temperature of 500 ° C to 700 ° C.
  • a step of drying the precipitated apatite By baking the photoresponsive apatite at a temperature of 500 ° C. or more and 700 ° C. or less, the crystallinity of apatite can be increased, and the visible light catalytic function can be further enhanced.
  • the firing temperature is more preferably from 550 ° C to 650 ° C.
  • apatite substrate of the present invention is a substrate containing apatite containing a metal atom that absorbs visible light and another metal atom, wherein the metal atom that absorbs visible light is Cr, Co, Cu , Fe, and at least one metal atom selected from the group consisting of Ni, and the other metal atoms described above, Ca, Al, La, Mg, Sr, Ba, Pb, Cd, Eu, Y, Ce, It is at least one metal atom selected from the group consisting of Na and K.
  • the other metal atom preferably further includes at least one metal atom selected from the group consisting of Ti, Zr, and W as a metal atom that absorbs ultraviolet light.
  • the material of the base material may be any one selected from the group consisting of paper, synthetic paper, woven fabric, nonwoven fabric, leather, wood, glass, metal, ceramics, synthetic resin, and printing ink. Can be used. Examples of the shape of the substrate include a foil, a film, a sheet, and a plate.
  • the apatite can be used in a form coated or coated on one or both surfaces of the base material. Further, a form in which the apatite is contained in the inside of the base material can also be used. When using a printing ink as a base material, the ink may contain the apatite. [0048] Thus, the apatite can be used as a base material for various products placed in a room, and can exhibit a photocatalytic function even in a room where there is almost no ultraviolet light.
  • the apatite substrate of the present embodiment is used to manufacture an indoor wallpaper, cloth, and a filter for an air purifier, it is possible to remove germs, dust, foul odors, smoke of tobacco, and the like in the room, and easily purify the indoor environment. realizable. Further, by forming the peripheral devices of the computer, such as a keyboard, a mouse, and a housing, with the apatite substrate of the present embodiment, it is possible to prevent adhesion of dirt such as hand marks. Further, the apatite substrate of the present embodiment can be used for sanitary articles such as masks, bandages, and antibacterial gloves.
  • the apatite used for the apatite substrate of the present embodiment all those described in the above-described embodiment of the apatite can be used.
  • the apatite is fired at a temperature of 500 ° C or more and 700 ° C or less.
  • the present invention will be described based on examples.
  • the force mainly describing the apatite of the above-mentioned general formula (1) in which the metal atom A is Ca, the metal atom B is Ti, and the metal atom C is Cr, and the other metal atoms usable in the present invention are Similar results can be obtained with apatite using a combination of these.
  • Apatite was produced by the dipping method as described below. 1 X 10- 4 mol / commercial calcium nitrate chromium solution 300 cm 3 of dm 3 'titanium hydroxyapatite Ca Ti (PO)
  • TiHAP0201 (Taira Chemical's "TiHAP0201" is weighed and weighed 1.5g.
  • Example 1 The mixture was stirred with a magnetic stirrer for 5 minutes. After stirring, the mixture was filtered, washed with 4 dm 3 of pure water, and dried in an oven at 100 ° C. to obtain Cr-doped TiHAP powder. Thereafter, the TiHAP powder was heated to 650 ° C. over 1 hour and calcined to obtain a sample of Example 1.
  • Example 2 Samples of Examples 2 to 7 were produced in the same manner as in Example 1 except that an aqueous solution of chromium nitrate having the concentration shown in Table 1 was used.
  • Anotite was produced by the coprecipitation method as described below. First, dissolve the calcium nitrate 21.2 5 g and a chromium nitrate 0 ⁇ 40 g in pure water the decarbonation treatment, while stirring with a magnetic static one color, 30% aqueous solution of titanium sulfate 5.55Cm 3 and 95% phosphoric acid aqueous solution 2.94 cm 3 was added dropwise. Finally, the pH was adjusted to 9 by quickly adding 10% aqueous ammonia. Thereafter, the mixture was aged at 100 ° C for 5 hours, filtered, washed with 4 dm 3 of pure water, and dried in an oven at 100 ° C to obtain Cr-doped TiHAP powder. Thereafter, the TiHAP powder was heated to 650 ° C. for 1 hour and fired to obtain a sample of Example 8.
  • Example 10 A sample of Example 10 was produced in the same manner as in Example 8, except that the temperature was raised to 300 ° C. over 1 hour and calcined.
  • Example 11 A sample of Example 11 was produced in the same manner as in Example 8, except that the temperature was raised to 550 ° C. over 1 hour and calcination was performed.
  • Example 12 was repeated in the same manner as in Example 8, except that the temperature was raised to 600 ° C. over 1 hour, followed by firing. Were prepared.
  • Example 13 A sample of Example 13 was produced in the same manner as in Example 8, except that the temperature was raised to 800 ° C. over 1 hour, followed by firing.
  • Example 14 A sample of Example 14 was produced in the same manner as in Example 8, except that the aqueous solution of titanium sulfate was not dropped.
  • UV-Vis reflection spectra of the samples of Example 1, Example 8, Example 9, and Comparative Example were measured.
  • a UV / VIS Spectrophotometer "JASCO V-560" manufactured by JASCO Corporation was used as a measuring device.
  • the results are shown in FIGS. 1 and 2.
  • FIGS. 1 and 2 in Examples 1, 8 and 9, not only ultraviolet light (light having a wavelength of less than 380 nm) but also visible light (light having a wavelength of 380 to 780 nm) was used. A decrease in reflectance due to absorption was observed.
  • the comparative example a decrease in reflectance due to absorption of visible light was not observed, and a decrease in reflectance due to absorption of only ultraviolet light was observed.
  • the specific surface area of the sample was measured by the BET method, and the sample was weighed so that the surface area became 85.5 m 2 based on the value of the specific surface area, and pressed to form a tablet-shaped measurement sample. .
  • the measurement sample was placed in a sealed glass container having a volume of 500 cm 3 replaced with standard air, and acetoaldehyde gas (CH 2 CH 2) was introduced until the gas phase concentration became 7500 ppm.
  • CH 2 CH 2 acetoaldehyde gas
  • one hour After standing for 3 hours, irradiate with visible light for 3 hours, and then irradiate with ultraviolet light for 2 hours.Every hour, it is generated by decomposition of acetoaldehyde gas and acetoaldehyde gas in the sealed glass container.
  • the concentration of carbon dioxide (CO 2) was measured.
  • a xenon light source "LA-25 lXe” manufactured by Hayashi Watch Industry Co., Ltd. combined with L-42 finoleta is used to cut ultraviolet light (39,500 lux).
  • lh at a place means standing at the place for 1 hour
  • Vis_lh means irradiating visible light for 1 hour
  • UV-lh means ultraviolet. It means that light was irradiated for 1 hour, and the same applies to the following.
  • Example 1 From FIGS. 3 and 4, in Examples 1, 8 and 9, a decrease in the acetoaldehyde gas concentration and an increase in the carbon dioxide gas concentration by visible light irradiation were observed. This tendency was also maintained by UV irradiation. As a result, it was confirmed that the samples of Example 1, Example 8, and Example 9 have not only an ultraviolet photocatalytic function but also a visible light catalytic function.
  • the chromium content in the apatite raw material solution in the coprecipitation method is preferably 0.5 mol% or more and 2 mol% or less with respect to titanium and chromium as a whole 0.5 mol% or more 1. 5 mol% or less is more preferable.
  • concentration of chromium sulfate aqueous solution 1 X 10- 5 mol / dm 3 or more 1 X 10- 3 mol / dm 3 is preferably instrument 4 X 10- 5 mol / dm 3 or more or less 2 X 10- 4 mol / dm 3 or less is more preferable.
  • FIG. 6 shows the results.
  • Fig. 6 shows the concentration of carbon dioxide gas for each irradiation time by irradiation of visible light and ultraviolet light. From FIG. 6 and the results of Example 8 (sintering temperature of 650 ° C.), the sintering temperature is preferably from 500 ° C. to 700 ° C., more preferably from 550 ° C. to 650 ° C.
  • Example 14 The photocatalytic function of the sample of Example 14 was measured in the same manner as described above.
  • Figure 7 shows the results. In FIG. 7, only visible light was irradiated for 5 hours.
  • the present invention can provide an apatite having an unconventional structure, a method for producing the same, and an apatite substrate, and by using the apatite substrate as a substrate for various products placed indoors. Also, the photocatalytic function can be exhibited indoors.

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Abstract

　本発明は、光触媒機能を有する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイトであって、前記光触媒機能を有する金属原子は、可視光の光エネルギーに相当するエネルギーを吸収する金属原子を含むアパタイトである。このアパタイトを用いたアパタイト基材を室内に配置するさまざまな製品の基材に用いることにより、室内においても光触媒機能を発揮できる。

Description

明 細 書
アパタイトとその製造方法、並びにアパタイト基材
技術分野
[0001] 本発明は、アパタイトとその製造方法、並びにアパタイト基材に関するものである。
背景技術
[0002] 酸化チタン等の半導体物質は、光触媒機能を有することが知られている。即ち、酸 化チタンのような半導体物質は、価電子帯と伝導帯のバンドギャップに相当する波長 の光エネルギーを吸収すると、励起によって価電子帯の電子が伝導帯に移り、価電 子帯に正の電荷（正孔）が発生する。ここで、半導体物質の表面に何らかの物質 (例 えば、有機物）が吸着していた場合、伝導帯に移ってきた電子は半導体物質表面の 有機物に移動してそれを還元し、また、価電子帯では、そこに発生した正孔が電子を 奪い取り、有機物の酸化を行う。特に、酸化チタンにおいては、価電子帯の正孔が非 常に強い酸化力を有しているので、有機物を最終的には水と二酸化炭素にまで分解 してしまう。近年では、このような酸化チタンの光触媒機能 (酸化分解機能）を利用し て、酸化チタン膜を抗菌剤、殺菌剤、脱臭剤、環境浄化剤などとして使用することが 行われている。しかし、酸化チタンそのものは、有機物をその表面に吸着する能力を 有していないため、得られる酸化分解機能には限界がある。
[0003] 一方、歯や骨などの生体硬組織の主成分であるカルシウムハイドロキシアパタイト C a (P〇） (OH) は、さまざまなカチオンゃァニオンとイオン交換しやすぐ高い生体
10 4 6 2
親和性及び吸着特性を有している。そのため、上記アパタイトは、人工骨、人工歯根 などの医療用材料をはじめとして、クロマトグラフィー用吸着剤、化学センサー、ィォ ン交換体、触媒などの幅広レ、分野への応用につレ、て活発な研究が行われてレ、る。 上記アパタイトは、特に蛋白質などの有機物を特異的に吸着する能力を有している。
[0004] 最近では、上記した酸化チタン等の半導体物質とカルシウムハイドロキシアパタイト 等の燐酸カルシウム系化合物とを組み合わせて、両者の特性を効果的に引き出すこ とができる製品の研究及び開発が行われている（例えば、特開 2003— 80078号公 報、特開 2003-321313号公報参照）。 [0005] さらに、上記アパタイト中のカルシウムイオンの一部をチタンイオンと交換することに より、光触媒機能を有するカルシウム 'チタンハイドロキシアパタイト Ca Ti (PO ) (O
9 4 6
H) も開発されている（例えば、特開 2000—327315号公報、特開 2001—302220
2
号公報、特開 2003-175338号公報、特開 2003—334883号公報参照）。これによ り、酸化チタンと同等の光触媒機能を有し、さらにアパタイトが有する特異的吸着特 性によってその光触媒機能の効率を向上させることができる。
[0006] しかし、酸化チタンのような酸化力が強い光触媒を励起するのに必要な光エネルギ 一は 3. 2eVであり、光の波長に換算すると約 380nmとなる。従って、酸化チタンは、 近紫外光で励起可能であるが、可視光では励起することはできなレ、。太陽光のうち 紫外光が占める割合は 4一 5%であるため、酸化チタンの光触媒効率は十分なものと はいえない。特に、紫外光がほとんど存在しない蛍光灯下の室内では光触媒機能を 発揮することができない。
[0007] そこで、太陽光のうち約 45%を占める可視光でも作用する光触媒の開発が強く望 まれている。可視光で作用する光触媒が開発されれば、効率も飛躍的に向上し、さら に蛍光灯下の室内でも光触媒機能を発揮できる。
発明の開示
[0008] 本発明は、光触媒機能を有する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイトであ つて、前記光触媒機能を有する金属原子は、可視光の光エネルギーを吸収する金 属原子を含むことを特徴とするアパタイトである。
[0009] また、本発明は、可視光を吸収する金属原子を 1 X 10— 6mol/dm3以上 1 X 10_2m ol/dm3以下の濃度で含む溶液を製造する工程と、前記溶液にアパタイトを浸漬す る工程とを含むことを特徴とするアパタイトの製造方法である。
[0010] また、本発明は、可視光を吸収する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイト 原料溶液であって、前記可視光を吸収する金属原子の含有量が、前記溶液に含ま れる金属原子全体に対して、 0. 5mol%以上 3mol%以下であるアパタイト原料溶液 を製造する工程と、前記アパタイト原料溶液に含まれる要素を共沈させてアパタイト を析出させる工程とを含むことを特徴するアパタイトの製造方法である。
[0011] また、本発明は、可視光を吸収する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイト を含む基材であって、前記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子であり、前記他の金属原子は、 Ca、 Al、 La, Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及び K力らなる群力ら選 れ る少なくとも 1種の金属原子であることを特徴するアパタイト基材である。
図面の簡単な説明
[0012] [図 1]実施例 1と比較例の紫外一可視反射スペクトルを示す図である。
[図 2]実施例 8と実施例 9と比較例の紫外一可視反射スペクトルを示す図である。
[図 3]実施例 1と比較例の炭酸ガス濃度とァセトアルデヒドガス濃度の変化を示す図 である。
[図 4]実施例 8と実施例 9の炭酸ガス濃度とァセトアルデヒドガス濃度の変化を示す図 である。
[図 5]硝酸クロム水溶液のクロム濃度とァセトアルデヒドガス減少量との関係を示す図 である。
[図 6]焼成温度と炭酸ガス濃度との関係を示す図である。
[図 7]実施例 14の炭酸ガス濃度とァセトアルデヒドガス濃度の変化を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
[0013] <アパタイトの実施の形態 >
本発明のアパタイトの一例は、金属原子 Αと、金属原子 Bと、金属原子 Cとを含むァ パタイトである。上記金属原子 Aは通常のアパタイトに含まれる金属原子であり、上記 金属原子 Bは紫外光を吸収する金属原子であり、上記金属原子 Cは可視光を吸収 する金属原子である。
[0014] このようにアパタイトに含まれる金属原子に、紫外光を吸収する金属原子のみなら ず可視光を吸収する金属原子を含めることにより、紫外光のみならず可視光でも光 触媒機能を発揮できるアパタイトを提供できる。
[0015] 本実施形態のアパタイトは、基本的には次のような一般式（1)で表すことができる。
[0016] 一般式（1)： A B C (DO ) E
χ— m— n m n y z s
[0017] 上記金属原子 Aは、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及び K 力 なる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子であり、アパタイトに含まれる金属 原子の主成分である。この中では、 Caが最も一般的である。
[0018] 上記紫外光を吸収する金属原子 Bは、 Ti、 Zr、及び Wからなる群から選ばれる少な くとも 1種の金属原子である。この中では、 Tiが最も好ましい。金属原子 Bの含有量は 、アパタイトに含まれる金属原子全体に対して、 3mol%以上 l lmol%以下が好まし く、 8mol%以上 10mol%以下がより好ましい。
[0019] 上記可視光を吸収する金属原子 Cは、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選 ばれる少なくとも 1種の金属原子である。この中では Crが最も好ましい。金属原子 C の含有量は、アパタイトに含まれる金属原子全体に対して、 0. 5mol%以上 2mol% 以下が好ましぐ 0. 5mol。/0以上 1. 5mol%以下がより好ましい。
[0020] 本実施形態のアパタイトは、金属原子 Aがアパタイト結晶構造を構成し、その金属 原子 Aの一部が金属原子 Bと金属原子 Cとによって置換されていることが好ましい。
[0021] 上記 Dは、 P、 Sなどの原子を表し、上記 Oは、酸素原子を表す。また、上記 Eは、水 酸基 (一 OH)、ハロゲン原子（F、 Cl、 Br、 I)などを表す。
[0022] 上記一般式で表されるアパタイトは、例えば、ハイドロキシアパタイト、フルォロァパ タイト、クロ口アパタイト、燐酸三カルシウム、燐酸水素カルシウムなどに含まれる金属 原子を紫外光を吸収する金属原子と可視光を吸収する金属原子とで置換したもので ある。本実施形態のアパタイトは、金属原子 Aが Caであり、金属原子 Bが Tiであり、金 属原子 Cが Crであり、 Dが Pであり、 Eが水酸基であるカルシウム ·チタン'クロムハイド ロキシアパタイトが好適に用いられる。特に、下記一般式（2)で表されるアパタイトが より好ましい。
[0023] 一般式（2) : Ca Ti Cr (PO ) (OH)
9 0. 9 0. 1 4 6 2
[0024] また、本実施形態のアパタイトは、 500°C以上 700°C以下の温度で焼成されている ことが好ましい。これにより、アパタイトの結晶性を高めることができ、可視光による光 触媒効果をより高めることができる。
[0025] 本実施形態のアパタイトは、その使用目的、製造条件などに応じて種々の形状及 び寸法で提供できる。好適な形状としては、例えば、粉体、タブレット、ロッド、プレー ト、ブロック、シート、フイノレム、薄膜などを挙げることができる。
[0026] 本発明のアパタイトの他の一例は、可視光を吸収する金属原子と、他の金属原子と を含むアパタイトであって、上記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、 及び Niからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子であり、上記他の金属原子 ίま、 Ca、 Al、 La, Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及び K力らなる群力ら選 ばれる少なくとも 1種の金属原子である。これにより、可視光触媒機能を発揮できるァ パタイトを提供できる。なお、本実施形態は、紫外光触媒機能を有する金属原子を含 まない形態である。
[0027] 上記実施形態のアパタイトは、下記一般式（3)で表されるアパタイトがより好ましレ、 [0028] 一般式（3) : Ca Cr (PO ) (OH)
9. 9 0. 1 4 6 2
[0029] 上記実施形態のアパタイトは、上記以外の点については、前述の一般式（1)で表さ せるアパタイトとぼぼ同じである。
[0030] <アパタイトの製造方法の実施の形態 >
本発明のアパタイトの製造方法の一例は、可視光を吸収する金属原子を 1 X 10— 6 mol/dm3以上 1 X 10— 2mol/dm3以下の濃度で含む溶液を製造する工程と、上記 溶液にアパタイトを浸漬する工程とを含む製造方法であり、いわゆる浸漬法による製 造方法である。これにより、可視光でも光触媒機能を発揮できるアパタイトを容易に製 造できる。
[0031] 上記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ば れる少なくとも 1種の金属原子である。
[0032] 上記溶液の上記可視光を吸収する金属原子の濃度は、 1 X 10— 5mol/dm3以上 1
X 10 3 mol/dm3以下であることが好ましぐ 4 X 10— 5mol/dm3以上 2 X ΙθΛηοΙ
/dm3以下がより好ましい。この濃度範囲内であれば、可視光触媒機能をより高める ことができるからである。
[0033] また、本実施形態の製造方法は、上記溶液に浸漬したアパタイトを乾燥した後、 50 0°C以上 700°C以下の温度で焼成する工程をさらに含むことが好ましい。上記光応 答性アパタイトを 500°C以上 700°C以下の温度で焼成することにより、アパタイトの結 晶性を高めることができ、可視光触媒機能をより高めることができる。焼成温度は、 55 0°C以上 650°C以下がより好ましい。 [0034] 上記アパタイトとしては、前述したハイドロキシアパタイト、フルォロアパタイト、クロ口 アパタイト、燐酸三カルシウム、燐酸水素カルシウムなどを使用できる。上記ァパタイ 卜 ίま、通常、 Ca、 Al、 La, Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及び K力らなる群 力、ら選ばれる少なくとも 1種の金属原子を含んでいる。この中でも、特にカルシウムハ イドロキシアパタイト Ca (P〇 ) (OH) が好ましい。
10 4 6 2
[0035] また、上記アパタイトは、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr、及び Wからな る群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含むことが好ましい。これにより、 可視光のみならず紫外光でも光触媒機能を発揮できるアパタイトを容易に製造でき る力 である。上記アパタイトとしては、特にカルシウム ·チタンハイドロキシアパタイト Ca Ti (PO ) (OH) が好ましい。
9 4 6 2
[0036] 本発明のアパタイトの製造方法の他の一例は、可視光を吸収する金属原子と、他 の金属原子とを含むアパタイト原料溶液であって、上記可視光を吸収する金属原子 の含有量が、上記溶液に含まれる金属原子全体に対して、 0. 5mol%以上 3mol% 以下であるアパタイト原料溶液を製造する工程と、上記アパタイト原料溶液に含まれ る要素を共沈させてアパタイトを析出させる工程とを含む製造方法であり、いわゆる 共沈法による製造方法である。これにより、可視光でも光触媒機能を発揮できるァパ タイトを容易に製造できる。
[0037] 上記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ば れる少なくとも 1種の金属原子である。
[0038] 上記溶液の上記可視光を吸収する金属原子の含有量は、上記溶液に含まれる金 属原子全体に対して、 0. 5mol%以上 2mol%以下であることが好ましぐ 0. 5mol% 以上 1. 5mol%以下であることがより好ましい。この濃度範囲内であれば、可視光触 媒機能をより高めることができるからである。
[0039] 上記他の金属原子は、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及 び Kからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子であり、この中でも特に Caが 好ましい。
[0040] 上記他の金属原子は、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr、及び Wからなる 群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含むことが好ましい。これにより、可 視光のみならず紫外光でも光触媒機能を発揮できるアパタイトを容易に製造できる 力 である。この中でも特に Tiが好ましい。
[0041] 上記溶液の上記紫外光を吸収する金属原子の含有量は、上記溶液に含まれる金 属原子全体に対して、 3mol%以上 l lmol%以下が好ましぐ 8mol%以上 10mol% 力 り好ましい。
[0042] また、本実施形態の製造方法は、上記析出したアパタイトを乾燥した後、 500°C以 上 700°C以下の温度で焼成する工程をさらに含むことが好ましい。上記光応答性ァ パタイトを 500°C以上 700°C以下の温度で焼成することにより、アパタイトの結晶性を 高めることができ、可視光触媒機能をより高めることができる。焼成温度は、 550°C以 上 650°C以下がより好ましい。
[0043] 特に、本実施形態の共沈法で製造されたアパタイトとしては、カルシウム'チタン'ク ロムヒドロキシアパタイト Ca Ti Cr (PO ) (OH) が好ましい。
9 0. 9 0. 1 4 6 2
[0044] <アパタイト基材の実施の形態 >
本発明のアパタイト基材の一例は、可視光を吸収する金属原子と、他の金属原子と を含むアパタイトを含む基材であって、上記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co 、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子であり、上記他 の金属原子 ίま、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及び K力らな る群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子である。
[0045] また、上記他の金属原子は、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr、及び Wか らなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含むことが好ましい。
[0046] 上記基材の材質としては、紙、合成紙、織布、不織布、皮革、木材、ガラス、金属、 セラミックス、合成樹脂、及び印刷用インクからなる群から選ばれるいずれ力、 1種を使 用できる。上記基材の形状としては、例えば、箔、フィルム、シート、板などが挙げら れる。
[0047] 上記アパタイトは、上記基材の片面又は両面に塗付又は被覆した形態で使用でき る。また、上記基材の内部に上記アパタイトを含有させた形態でも使用できる。なお、 印刷用インクを基材として用いる場合は、インクに上記アパタイトを含有させればよい [0048] これにより、上記アパタイトを室内に配置するさまざまな製品の基材に用いることが でき、紫外光がほとんど存在しない室内においても光触媒機能を発揮できる。例えば 、本実施形態のアパタイト基材を用いて室内用壁紙、クロス、空気清機用フィルター を製造すれば、室内の雑菌、ほこり、悪臭、たばこの煙などを除去でき、簡易に室内 環境浄化を実現できる。また、コンピュータの周辺機器、例えばキーボード、マウス、 筐体などを本実施形態のアパタイト基材で形成することにより、手垢などの汚れの付 着を防止できる。さらに、マスク、包帯、防菌手袋などの衛生用品にも本実施形態の アパタイト基材は使用できる。
[0049] 本実施形態のアパタイト基材に用いるアパタイトは、前述のアパタイトの実施の形態 で説明したものがすべて使用できる。また、上記アパタイトは、 500°C以上 700°C以 下の温度で焼成されていることが好ましい。
[0050] 以下、本発明を実施例に基づき説明する。以下の実施例では、前述の一般式（1) の金属原子 Aが Ca、金属原子 Bが Ti、金属原子 Cが Crのアパタイトを主として説明し た力 本発明で使用可能な他の金属原子との組み合わせによるアパタイトでも同様 の結果が得られる。
[0051] <浸漬法によるアパタイトの製造 >
(実施例 1)
下記のようにして、浸漬法によりアパタイトを製造した。 1 X 10— 4mol/dm3の硝酸ク ロム水溶液 300cm3に市販のカルシウム 'チタンハイドロキシアパタイト Ca Ti (PO )
9 4 6
(OH) (以下、 TiHAPという。）（太平化学製" TiHAP0201")を 1 · 5g秤量して入れ
2
、マグネティックスターラーで 5分間攪拌した。攪拌後、濾過及び 4dm3の純水で洗浄 した後、 100°Cのオーブンで乾燥させて Crをドープした TiHAP粉体を得た。その後 、この TiHAP粉体を 650°Cまで 1時間かけて昇温して焼成し、実施例 1の試料とした
[0052] (実施例 2— 7)
表 1に示した濃度の硝酸クロム水溶液を用いた以外は、実施例 1と同様にしてそれ ぞれ実施例 2— 7の試料を製造した。
[0053] [表 1] 濃度 （mo 1 /dm3)
実施例 2 1 X 1 0— 6
実施例 3 1 X 1 0—5
実施例 4 4 X 1 0一 5
実施例 5 2 X 1 0 -4
実施例 6 1 X 1 0—3
実施例 7 1 X 1 0— 2
[0054] <共沈法によるアパタイトの製造 >
(実施例 8)
下記のようにして、共沈法によりァノ タイトを製造した。先ず、硝酸カルシウム 21.2 5gと硝酸クロム 0· 40gとを脱炭酸ガス処理をした純水に溶解し、マグネティックスタ 一ラーで攪拌しながら、 30%の硫酸チタン水溶液 5.55cm3と 95%の燐酸水溶液 2 .94cm3を滴下した。最後にすばやく 10%のアンモニア水をカ卩えて pHを 9に調整し た。その後、 100°Cで 5時間熟成を行レ、、濾過及び 4dm3の純水で洗浄し、 100°Cの オーブンで乾燥させて Crをドープした TiHAP粉体を得た。その後、この TiHAP粉 体を 650°Cまで 1時間かけて昇温して焼成し、実施例 8の試料とした。
[0055] なお、上記アパタイト原料溶液中の Ca、 Ti、 Crのモル比（mol%)は、 Ca:Ti:Cr=
90: 9:1である。
[0056] (実施例 9)
アパタイト原料溶液中の Ca、Ti、 Crのモル比（mol%)を、 Ca:Ti:Cr=90: 7: 3と した以外は、実施例 8と同様にして実施例 9の試料を製造した。
[0057] (実施例 10)
300°Cまで 1時間かけて昇温して焼成した以外は、実施例 8と同様にして実施例 10 の試料を製造した。
[0058] (実施例 11)
550°Cまで 1時間かけて昇温して焼成した以外は、実施例 8と同様にして実施例 11 の試料を製造した。
[0059] (実施例 12)
600°Cまで 1時間かけて昇温して焼成した以外は、実施例 8と同様にして実施例 12 の試料を製造した。
[0060] (実施例 13)
800°Cまで 1時間かけて昇温して焼成した以外は、実施例 8と同様にして実施例 13 の試料を製造した。
[0061] (実施例 14)
硫酸チタン水溶液を滴下しなかった以外は、実施例 8と同様にして実施例 14の試 料を製造した。
[0062] なお、アパタイト原料溶液中の Ca、 Crのモル比（mol%)は、 Ca : Cr= 99 : 1とした。
[0063] (比較例）
実施例 1で使用した太平化学製の" TiHAP0201"をそのまま用いて本比較例の試 料とした。
[0064] <各試料の形態 >
実施例 1一 14及び比較例の試料の形態はすべて粉体であつた。
[0065] <紫外一可視（UV— Vis)反射スペクトルの測定 >
実施例 1、実施例 8、実施例 9及び比較例の各試料の UV - Vis反射スペクトルを測 定した。測定装置には、 日本分光製の UV/VIS Spectrophotometer"JASCO V— 560"を用いた。その結果を図 1及び図 2に示す。図 1及び図 2より、実施例 1、実 施例 8及び実施例 9では、紫外光（380nm未満の波長の光）のみならず、可視光（3 80— 780nmの波長の光）においても光吸収による反射率の低下が認められた。こ れに対して、比較例では、可視光の吸収による反射率の低下は認められず、紫外光 のみの吸収による反射率の低下が認められた。
[0066] <光触媒機能の評価（1) >
実施例 1、実施例 8、実施例 9及び比較例の各試料の光触媒機能を以下のようにし て測定した。
[0067] 先ず、試料の比表面積を BET法で測定し、その比表面積の値から表面積が 85. 5 m2となるように試料を秤量し、加圧成形してタブレット状の測定試料とした。次に、標 準空気で置換した容積 500cm3の密閉ガラス容器に測定試料を入れ、ァセトアルデ ヒドガス（CH CH〇）を気相濃度が 7500ppmになるまで導入した。続いて、 1時間喑 所に静置した後、 3時間可視光を照射し、その後 2時間紫外光を照射して、 1時間ご とに密閉ガラス容器内のァセトアルデヒドガスと、ァセトアルデヒドガスの分解により発 生する炭酸ガス (CO )の濃度を測定した。
2
[0068] 測定装置には、 GL Sciences製のガスクロマトグラフィー" GC—390B'，を用いた。
また、可視光の照射には林時計工業製のキセノン光源" LA— 25 lXe"と L一 42フィノレ タとを組み合わせて紫外光をカットした光（39500ルクス）を用レ、、紫外光の照射には ブラックライト（lmWZcm2)を用いた。
[0069] その結果を図 3及び図 4に示す。なお、図 3及び図 4において、喑所 lhとは、喑所 に 1時間静置したことを意味し、 Vis_lhとは、可視光を 1時間照射したことを意味し、 UV-lhとは紫外光を 1時間照射したことを意味し、以下も同様である。
[0070] 図 3及び図 4から、実施例 1、実施例 8及び実施例 9では、可視光の照射によりァセ トアルデヒドガス濃度の減少と炭酸ガス濃度の上昇が認められた。また、この傾向は 紫外光の照射によっても維持されていた。これにより、実施例 1、実施例 8及び実施 例 9の試料は、紫外光触媒機能のみならず可視光触媒機能を有することが確認でき た。
[0071] これに対して、比較例では、可視光の照射では、ァセトアルデヒドガス濃度の減少 及び炭酸ガス濃度の上昇はほとんど認められなかった。但し、比較例においても紫 外光の照射によりァセトアルデヒドガス濃度の減少と炭酸ガス濃度の上昇が認められ た。
[0072] <共沈法におけるアパタイト原料溶液中の可視光を吸収する金属原子の含有量の 最適化 >
また、上記図 4から、共沈法におけるアパタイト原料溶液中のクロム含有量は、チタ ンとクロムの全体に対して、 0. 5mol%以上 2mol%以下が好ましぐ 0. 5mol%以上 1. 5mol%以下がより好ましい。
[0073] <浸漬法における浸漬溶液の可視光を吸収する金属原子の濃度の最適化 > 実施例 2—実施例 7の試料についても上記と同様にして光触媒機能を測定した。そ の結果を実施例 1 (Cr濃度 1 X 10_4molZdm3)の結果と合わせて図 5に示す。図 5 は、可視光照射 1時間あたりのァセトアルデヒドガス濃度の減少量を、硫酸クロム水溶 液の濃度ごとにプロットしたものである。図 5から、硫酸クロム水溶液（浸漬溶液）の濃 度は、 1 X 10— 5mol/dm3以上 1 X 10— 3mol/dm3以下が好ましぐ 4 X 10— 5mol/d m3以上 2 X 10— 4mol/dm3以下がより好ましい。
[0074] ぐ焼成温度の最適化 >
実施例 10—実施例 13の試料についても上記と同様にして光触媒機能を測定した 。その結果を図 6に示す。図 6では、可視光及び紫外光の照射による照射時間ごとの 炭酸ガス濃度を示したものである。図 6及び前述の実施例 8 (焼成温度 650°C)の結 果から、焼成温度は 500°C以上 700°C以下が好ましぐ 550°C以上 650°C以下がよ り好ましい。
[0075] <光触媒機能の評価 (2) >
実施例 14の試料について上記と同様にして光触媒機能を測定した。その結果を図 7に示す。なお、図 7では可視光のみを 5時間照射した。紫外光を吸収するチタンを 含まない実施例 14においても、可視光を吸収するクロムを含んでいるので、実施例 1 と同様の可視光触媒機能が認められた。これにより、可視光触媒機能の発揮にはほ ぼクロムのみが関与していることが分かる。
産業上の利用の可能性
[0076] 本発明は、従来にない構成を有するアパタイト及びその製造方法、並びにァパタイ ト基材を提供することができ、そのアパタイト基材を室内に配置するさまざまな製品の 基材に用いることにより、室内においても光触媒機能を発揮できる。

Claims

請求の範囲
[I] 光触媒機能を有する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイトであって、 前記光触媒機能を有する金属原子は、可視光の光エネルギーに相当するェネル ギーを吸収する金属原子を含むことを特徴とするアパタイト。
[2] 前記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ば れる少なくとも 1種の金属原子である請求項 1に記載のアパタイト。
[3] 前記可視光を吸収する金属原子の含有量は、前記アパタイトに含まれる金属原子 全体に対して、 0. 5mol%以上 2mol%以下である請求項 1に記載のアパタイト。
[4] 前記他の金属原子は、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及 び Kからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子である請求項 1に記載のァパ タイト。
[5] 前記光触媒機能を有する金属原子は、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr 、及び Wからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含む請求項 1に 記載のアパタイト。
[6] 前記アパタイトは、 500°C以上 700°C以下の温度で焼成されている請求項 1に記載 のアパタイト。
[7] 可視光を吸収する金属原子を 1 X 10— 6mol/dm3以上 1 X 10— 2mol/dm3以下の 濃度で含む溶液を製造する工程と、
前記溶液にアパタイトを浸漬する工程とを含むことを特徴するアパタイトの製造方法
[8] 前記溶液に浸漬したアパタイトを乾燥した後、 500°C以上 700°C以下の温度で焼 成する工程をさらに含む請求項 7に記載のアパタイトの製造方法。
[9] 前記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ば れる少なくとも 1種の金属原子である請求項 7に記載のアパタイトの製造方法。
[10] 前記ァノ タイト ίま、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及び 100 らなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子を含む請求項 7に記載のアパタイトの 製造方法。
[II] 前記アパタイトは、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr、及び Wからなる群か ら選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含む請求項 10に記載のアパタイトの製 造方法。
[12] 可視光を吸収する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイト原料溶液であって
、前記可視光を吸収する金属原子の含有量が、前記溶液に含まれる金属原子全体 に対して、 0. 5mol%以上 3mol%以下であるアパタイト原料溶液を製造する工程と、 前記アパタイト原料溶液に含まれる要素を共沈させてアパタイトを析出させる工程と を含むことを特徴するアパタイトの製造方法。
[13] 前記析出したアパタイトを乾燥した後、 500°C以上 700°C以下の温度で焼成する 工程をさらに含む請求項 12に記載のアパタイトの製造方法。
[14] 前記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ば れる少なくとも 1種の金属原子である請求項 12に記載のアパタイトの製造方法。
[15] 前記他の金属原子は、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及 び Kからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子である請求項 12に記載のァパ タイトの製造方法。
[16] 前記他の金属原子は、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr、及び Wからなる 群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含む請求項 15に記載のアパタイト の製造方法。
[17] 可視光を吸収する金属原子と、他の金属原子とを含むアパタイトを含む基材であつ て、
前記可視光を吸収する金属原子は、 Cr、 Co、 Cu、 Fe、及び Niからなる群から選ば れる少なくとも 1種の金属原子であり、
前記他の金属原子は、 Ca、 Al、 La、 Mg、 Sr、 Ba、 Pb、 Cd、 Eu、 Y、 Ce、 Na、及 び Kからなる群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子であることを特徴するァパタイ ト基材。
[18] 前記他の金属原子は、紫外光を吸収する金属原子として、 Ti、 Zr、及び Wからなる 群から選ばれる少なくとも 1種の金属原子をさらに含む請求項 17に記載のアパタイト 基材。
[19] 前記基材は、紙、合成紙、織布、不織布、皮革、木材、ガラス、金属、セラミックス、 合成樹脂、及び印刷用インクからなる群から選ばれるいずれ力 1種からなる請求項 1 7に記載のアパタイト基材。
前記アパタイトは、 500°C以上 700°C以下の温度で焼成されている請求項 17に記 載のアパタイト基材。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007262621A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Fujitsu Ltd 光触媒能を有する繊維、及びこの繊維を用いた布帛、並びに、この布帛を用いた布製品
JP2007260587A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Fujitsu Ltd 光触媒アパタイト組成物及びその製造方法ならびに物品
US7579296B2 (en) 2005-03-01 2009-08-25 Fujitsu Limited Broad band light absorbing photocatalyst, process for producing thereof, broad band light absorbing photocatalyst composition, and molded article
JP5200937B2 (ja) * 2006-09-27 2013-06-05 富士通株式会社 樹脂組成物、粉砕物および樹脂組成物の廃棄方法
JP2015530366A (ja) * 2012-07-26 2015-10-15 コスウェル・エス・ペー・アーＣｏｓｗｅｌｌ Ｓ．Ｐ．Ａ． ＴｉＯ２ナノ粒子で表面機能化された無機粒子を含む、光触媒活性を有するオーラルケア口腔衛生製品
CN105039609A (zh) * 2015-07-29 2015-11-11 浙江理工大学 一种针对于干硬脆弱皮革文物加脂柔顺剂的制备方法
RU2816665C1 (ru) * 2023-05-11 2024-04-02 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова Российской академии наук (ИМЕТ РАН) Способ получения порошкового однофазного вольфрамсодержащего гидроксиапатита методом химического соосаждения

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007252983A (ja) * 2006-03-20 2007-10-04 Fujitsu Ltd 光触媒及びその製造方法、並びに成形体
JP2008050348A (ja) * 2006-07-27 2008-03-06 Fujitsu Ltd 植物の防疫剤、植物の防疫方法及び植物の防疫システム、並びに、植物及び植物の栽培方法
JP5888340B2 (ja) * 2011-12-28 2016-03-22 富士通株式会社 光触媒、及び光触媒の製造方法
JPWO2014192075A1 (ja) * 2013-05-28 2017-02-23 富士通株式会社 口腔内固定用組成物
CN103537253B (zh) * 2013-10-21 2015-08-05 哈尔滨工业大学 一种用羟基磷灰石制备介孔材料的方法
US10176234B2 (en) 2014-11-05 2019-01-08 Ab Initio Technology Llc Impact analysis
CN105439110A (zh) * 2015-11-12 2016-03-30 中国科学院金属研究所 一种Sr和Mg元素掺杂的非晶磷灰石材料和晶体磷灰石材料
KR101879395B1 (ko) * 2016-11-08 2018-07-18 경상대학교산학협력단 수산화인회석-전이금속 복합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 자외선 및 가시광선 차단 재료
CN109179559B (zh) * 2018-01-17 2022-01-21 赵兴海 一种光催化材料催化降解芳胺废水的方法
KR102162532B1 (ko) * 2018-09-21 2020-10-07 김보영 광촉매 복합체 및 그의 제조방법
CN112093788B (zh) * 2020-09-06 2023-04-07 桂林理工大学 一种镉-钙-氟磷灰石固溶体制备方法及其应用
KR102302532B1 (ko) * 2021-02-05 2021-09-16 솔로몬산업 주식회사 광촉매 복합체를 포함하는 방음벽 및 그의 제조방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0390007A (ja) * 1989-09-01 1991-04-16 Nippon Chem Ind Co Ltd 抗菌剤
JPH0413605A (ja) * 1990-05-01 1992-01-17 Sangi Co Ltd 無機抗菌剤及びその製造法
JPH04317404A (ja) * 1991-04-11 1992-11-09 Nippon Chem Ind Co Ltd アパタイト粉末の製造方法
JPH10273322A (ja) * 1997-01-30 1998-10-13 Kubota Corp 抗菌性複合チタン酸化合物およびその製造方法
JP2000327315A (ja) * 1999-05-21 2000-11-28 Fujitsu Ltd 金属修飾アパタイト及びその製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1260539A (en) * 1969-05-05 1972-01-19 British Petroleum Co Improvements relating to catalysts, their preparation and their use
US5009898A (en) * 1988-09-29 1991-04-23 Kabushiki Kaisha Sangi Antimicrobial hydroxyapatite powders and methods for preparing them
JPH061708A (ja) * 1992-06-18 1994-01-11 Sangi Co Ltd 抗菌性リン酸カルシウム系セラミックス
JP3177039B2 (ja) 1992-12-03 2001-06-18 日本化学工業株式会社 リン酸塩系抗菌剤およびその製造法
JPH08245208A (ja) 1995-03-07 1996-09-24 Fujitsu Ltd アパタイト構造金属化合物およびその合成方法
JP3697608B2 (ja) 2001-03-30 2005-09-21 富士通株式会社 金属修飾アパタイト材料及びその製造方法
KR20040031776A (ko) 2001-07-18 2004-04-13 도꾸리쯔교세이호진 상교기쥬쯔 소고겡뀨죠 세정재, 세정 시스템, 표백재 및 환경 보전 조성물
JP4157943B2 (ja) 2001-09-07 2008-10-01 独立行政法人産業技術総合研究所 光活性を有する化合物及びその用途
KR100425024B1 (ko) * 2001-11-01 2004-03-27 주식회사 성원인더스트리 다기능성 복합소재
JP4061061B2 (ja) 2001-12-12 2008-03-12 富士通株式会社 光触媒機能を有する金属修飾アパタイト膜の形成方法および金属修飾アパタイト被膜材
JP4385115B2 (ja) 2002-02-27 2009-12-16 独立行政法人産業技術総合研究所 紫外・可視光活性触媒による滅菌システム
CN1308189C (zh) * 2002-03-27 2007-04-04 富士通株式会社 使用金属改性磷灰石的食品保存方法和其所用的食品容器
JP3806061B2 (ja) 2002-05-21 2006-08-09 富士通株式会社 金属修飾アパタイト含有膜の形成方法、これに用いられるコーティング液、および金属修飾アパタイト含有膜で被覆された部位を有する電子機器
KR20030097322A (ko) 2002-06-20 2003-12-31 (주)세렉트론 탈취 코팅제 및 탈취 코팅막 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0390007A (ja) * 1989-09-01 1991-04-16 Nippon Chem Ind Co Ltd 抗菌剤
JPH0413605A (ja) * 1990-05-01 1992-01-17 Sangi Co Ltd 無機抗菌剤及びその製造法
JPH04317404A (ja) * 1991-04-11 1992-11-09 Nippon Chem Ind Co Ltd アパタイト粉末の製造方法
JPH10273322A (ja) * 1997-01-30 1998-10-13 Kubota Corp 抗菌性複合チタン酸化合物およびその製造方法
JP2000327315A (ja) * 1999-05-21 2000-11-28 Fujitsu Ltd 金属修飾アパタイト及びその製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7579296B2 (en) 2005-03-01 2009-08-25 Fujitsu Limited Broad band light absorbing photocatalyst, process for producing thereof, broad band light absorbing photocatalyst composition, and molded article
JP2007262621A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Fujitsu Ltd 光触媒能を有する繊維、及びこの繊維を用いた布帛、並びに、この布帛を用いた布製品
JP2007260587A (ja) * 2006-03-29 2007-10-11 Fujitsu Ltd 光触媒アパタイト組成物及びその製造方法ならびに物品
JP5200937B2 (ja) * 2006-09-27 2013-06-05 富士通株式会社 樹脂組成物、粉砕物および樹脂組成物の廃棄方法
JP2015530366A (ja) * 2012-07-26 2015-10-15 コスウェル・エス・ペー・アーＣｏｓｗｅｌｌ Ｓ．Ｐ．Ａ． ＴｉＯ２ナノ粒子で表面機能化された無機粒子を含む、光触媒活性を有するオーラルケア口腔衛生製品
CN105039609A (zh) * 2015-07-29 2015-11-11 浙江理工大学 一种针对于干硬脆弱皮革文物加脂柔顺剂的制备方法
RU2816665C1 (ru) * 2023-05-11 2024-04-02 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова Российской академии наук (ИМЕТ РАН) Способ получения порошкового однофазного вольфрамсодержащего гидроксиапатита методом химического соосаждения

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