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WO2005106071B1 - Vorrichtung und verfahren zur kontinuierlichen thermischen vakuumbeschichtung - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur kontinuierlichen thermischen vakuumbeschichtung

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WO2005106071B1
WO2005106071B1 PCT/DE2005/000700 DE2005000700W WO2005106071B1 WO 2005106071 B1 WO2005106071 B1 WO 2005106071B1 DE 2005000700 W DE2005000700 W DE 2005000700W WO 2005106071 B1 WO2005106071 B1 WO 2005106071B1
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coating method
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Beschichtungsverfahren zur thermischen Vakuumbeschichtung von einem kontinuierlich transportierten Substrat (14), das sich in einem Bedampfungskanal bewegt (13), durch Verdampfen von festen/oder flüssigen Beschichtungsmaterialen (10) und Dampfabscheidung des dampfförmigen Beschichtungsmaterials auf dem Substrat in einer Bedampfungseinrichtung. Die Lösung der erfindungsgemäßen Aufgabe, ein solches Beschichtungsverfahren zur thermischen Vakuumbeschichtung von kontinuierlich transportiertem Substrat bereitzustellen, bei dem die Zugänglichkeit zu der Verdampfungseinrichtung (3) verbessert wird und gleichzeitig eine voneinander unabhängige Prozesssteuerung von Bedampfungskammer und Verdampfungseinrichtung möglich ist, wird dadurch erreicht, dass das Beschichtungsmaterial in wenigstens einer außerhalb der Bedampfungskammer angeordneten Verdampfungseinrichtung mit einem Verdampfer verdampft wird, wobei die Dampfzufuhr zwischen den Verdampfer und der Bedampfungskanal reguliert wird.

Claims

GEÄNDERTE ANSPRÜCHE beim Internationalen Büro am 08 Februar 2006 (08.02.2006) eingegangen,
1. Beschichtungsverfahren zur thermischen Vakuumbeschich- tung von einem kontinuierlich transportierten Substrat, das sich in einem Bedampfungskanal bewegt, durch Ver¬ dampfen von festen und/oder flüssigen Beschichtungsma- terialen und Dampfabscheidung des dampfförmigen Be- schichtungsmaterials auf dem Substrat in einer Bedamp- fungseinrichtung, wobei das Beschichtungsmaterial (10) in wenigstens einer außerhalb der Bedampfungskammer (2) angeordneten Verdampfungseinrichtung (3) mit mindestens zwei Verdampfern (6) pro Verdampfungseinrichtung ver¬ dampft wird und die Dampfzufuhr zwischen dem Verdampfer (6) und dem Bedampfungskanal (13) reguliert wird, da¬ durch gekennzeichnet, dass zur kontinuierlichen Beschi¬ ckung der Bedampfungskammer (2) mit dem dampfförmigen Beschichtungsmaterial die Verdampfer (6) abwechselnd Dampf zum Bedampfungskanal (13) zuführen und zur Be¬ schickung mit dem festem und/oder flüssigen Beschich¬ tungsmaterial (10) die Dampfzufuhr des zu beschickenden Verdampfers (6) unterbunden wird.
2. Beschichtungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass die Regulierung über austrittsseitig an den Verdampfern (6)) angeordnete Dampfsperr-VentiIe (11) erfolgt.
3. Beschichtungsverfahren nach Anspruch 1 oder 2 , dadurch gekennzeichnet, dass das dampfförmige Beschichtungsma- terial aus dem Verdampfer (6) in eine Dampfsammeiein¬ richtung (5) der Verdampfungseinrichtung (3) geleitet wird.
4. Beschichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass zur kontinuierlichen Beschickung das dampfförmige Beschichtungsmaterial (10) von dem Verdampfer (6) zu dem Bedampfungskanal (13) transportiert wird, und dass zur Beschickung mit dem festem und/oder flüssigen Beschichtungsmaterial (10) die Dampfzufuhr zwischen dem Verdampfer (6) und dem Be¬ dampfungskanal (13) unterbunden wird.
5. Beschichtungsverfahren einem der Ansprüche 2 bis 4, da¬ durch gekennzeichnet, dass die Dampfsperr-Ventile (11) unabhängig voneinander angesteuert werden.
6. Beschichtungsverfahren nach Anspruch 5, dadurch gekenn¬ zeichnet, dass zur kontinuierlichen Beschickung der Be¬ dampfungseinrichtung (1) vier Verdampfer (6) angeordnet werden und mit dem dampfförmigen Beschichtungsmaterial abwechselnd immer drei von vier Verdampfern (6) in Dampfzufuhr mit dem Bedampfungskanal (13) stehen und zur Beschickung mit dem festem und/oder flüssigen Be¬ schichtungsmaterial (10) die Dampfzufuhr des zu beschi¬ ckenden Verdampfers (6) unterbunden wird.
7. Beschichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschickung des Be- dampfungskanals (13) mit dem dampfförmigen Beschich¬ tungsmaterial (10) über eine zwischen dem Bedampfungs- kanal (13) und der Verdampfungseinrichtung (3) angeord¬ neten Dampftransportlinie (4) erfolgt.
8. Beschichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschickung des Be- dampfungskanals (13) mit dem dampfförmigen Beschich- tungsmaterial über zwei Verdampfungseinrichtungen (3) erfolgt.
9. Beschichtungseinrichtung zur thermischen Vakuumbe- schichtung von kontinuierlich transportiertem Substrat mit einer Bedampfungskammer, in der ein das Substrat umschließender Bedampfungskanal angeordnet ist, und ei¬ ner mit dem Bedampfungskanal verbundenen Verdampfungs- einrichtung, wobei die Verdampfungseinrichtung (3) von der Bedampfungskammer (2) beabstandet angeordnet ist und die Verdampfungseinrichtung (3) mindestens zwei Verdampfer (6) aufweist, die mit dem Bedampfungskanal
(13) über eine beheizte Dampftransportlinie (4) verbun¬ den ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Dampfsam¬ meieinrichtung (5) und die Verdampfer (6) über je ein vakuumdicht schließendes Dampfsperr-Ventil (11) mitein¬ ander verbunden sind.
10. Beschichtungseinrichtung nach Anspruch 9, dadurch ge¬ kennzeichnet, dass die Verdampfungseinrichtung (3) eine Dampfsammeieinrichtung (5) umfasst.
PCT/DE2005/000700 2004-04-27 2005-04-16 Vorrichtung und verfahren zur kontinuierlichen thermischen vakuumbeschichtung Ceased WO2005106071A2 (de)

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