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WO1995006762B1 - Dampfphasenreinigung - Google Patents

Dampfphasenreinigung

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WO1995006762B1
WO1995006762B1 PCT/EP1994/002847 EP9402847W WO9506762B1 WO 1995006762 B1 WO1995006762 B1 WO 1995006762B1 EP 9402847 W EP9402847 W EP 9402847W WO 9506762 B1 WO9506762 B1 WO 9506762B1
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WO
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organic solvent
solvent
cleaning chamber
cleaning
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PCT/EP1994/002847
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Abstract

In einem Verfahren zur Reinigung einer oder mehrerer Gegenstände in der Dampfphase eines organischen Lösungsmittels wird Lösungsmitteldampf in eine Reinigungskammer (1) eingespeist, worin ein absoluter Druck von 200 mbar oder weniger aufrecht erhalten wird und die Reinigung bei einer Temperatur beim oder oberhalb des Flammpunktes des organischen Lösungsmittels durchgeführt wird. Eine bevorzugte Apparatur zur Durchführung des Reinigungsverfahrens enthält eine Reinigungskammer (1), zwei Vorratsbehälter (2 und 3), einen Verdampfer (4), eine Heizvorrichtung (5) und einen Kondensator (6). Sie sind mittels eines Leitungssystems verbunden, das mit einer Vakuumpumpe (7), zwei Pumpen (8 und 9) und Ventilen (12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21 und 22) versehen ist. Zuluft (11) kann in die Reinigungskammer (1) gespeist werden. Abgas (10) kann mit Hilfe der Vakuumpumpe (7) aus der Apparatur entfernt werden.

Claims

GEÄNDERTE ANSPRÜCHE[beim Internationalen Büro am 17. März 1995 (17.03.95) eingegangen; ursprüngliche Ansprüche 1-10 durch geänderte Ansprüche 1-10 ersetzt (2 Seiten)]
1. Verfahren zur Reinigung eines oder mehrerer Gegenstände in der Dampfphase eines organischen Lösungsmittels mit einem Flammpunkt von 40°C bis 100°C, welches die folgenden Schritte enthält:
Einspeisen des Lδsungsmitteldampfes in eine 0 Reinigungskammer, worin ein absoluter Druck von 200 mbar oder weniger aufrecht erhalten wird und
Reinigung bei einer Temperatur beim oder oberhalb des Flammpunktes des organischen t- Lösungsmittels.
2. Verfahren nach Patentanspruch 1, worin ein absoluter Druck von 125 mbar oder weniger in der Reinigungskammer aufrecht erhalten wird. 0
3. Verfahren nach Patentanspruch 1 oder 2, worin das organische Lösungsmittel mehr als 50% eines aliphatischen Kohlenwasserstoffes mit 5 bis 15 Kohlenstoffen, eines aromatischen Kohlenwasserstoffes, c einer sauerstoffhaltigen organischen Verbindung, eines zyklischen Siloxans oder einer Mischung von zwei oder mehr solcher Verbindungen enthält, bezogen auf das Gesamtgewicht des organischen Lösungsmittels.
0 4. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 3, worin das organische Lösungsmittel halogenfrei ist.
5. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 5 bis 4, worin das organische Lösungsmittel ein Alkoxypropanol oder eine Mischung von zwei oder mehr Alkoxypropanolen ist.
6. Verfahren nach einem der Patentansprüchen 1 bis 5, worin der oder die Gegenstände mit einen flüssigen Lösungsmittel vorgereinigt werden.
7. Verfahren nach einem der Patentansprüchen 1 bis 6, worin nach der Reinigung in der Dampfphase der oder die Gegenstände in einem Prozess getrocknet werden, worin der Absolutdruck in der Reinigungskammer auf die Hälfte oder weniger des Druckes reduziert wird, der während der Reinigung in der Dampfphase aufrecht erhalten wird.
8. Apparatur zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Patentansprüche 1 bis 7, enthaltend eine evakuierbare Reinigungskammer (1), einen evakuierbaren Verdampfer (4), eine Vakuumpumpe (7) und einen oder mehrere evakuierbare Vorratsbehälter (2, 3) für flüssiges Lösungsmittel.
9. Apparatur nach Patentanspruch 8, enthaltend, zusätzlich einen Kondensator (6).
10. Apparatur nach Anspruch 8 oder 9, enthaltend ein organisches Lösungsmittel mit einem Flammpunkt von 40°C bis 100°C.
GEÄNDEP-TES BLATT (ARTIKEL 19)
PCT/EP1994/002847 1993-08-30 1994-08-29 Dampfphasenreinigung Ceased WO1995006762A2 (de)

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US08/605,013 US5690751A (en) 1993-08-30 1994-08-29 Vapor phase cleaning

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4329178A DE4329178B4 (de) 1993-08-30 1993-08-30 Dampfphasenreinigung
DEP4329178.3 1993-08-30

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Publication Number Publication Date
WO1995006762A2 WO1995006762A2 (de) 1995-03-09
WO1995006762A3 WO1995006762A3 (de) 1995-04-06
WO1995006762B1 true WO1995006762B1 (de) 1995-04-27

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PCT/EP1994/002847 Ceased WO1995006762A2 (de) 1993-08-30 1994-08-29 Dampfphasenreinigung

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DE (1) DE4329178B4 (de)
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