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TW201815936A - 光吸收性組成物 - Google Patents

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TW201815936A
TW201815936A TW106117022A TW106117022A TW201815936A TW 201815936 A TW201815936 A TW 201815936A TW 106117022 A TW106117022 A TW 106117022A TW 106117022 A TW106117022 A TW 106117022A TW 201815936 A TW201815936 A TW 201815936A
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住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明的目的是提供一種光吸收性組成物，此光吸收性組成物對400nm附近的短波長可見光顯示有光選擇吸收性，同時與顯示裝置的構成構件材料具有高的親和性及/或對各種溶劑具有高溶解性。
本發明之光吸收性組成物是含有至少2種光選擇吸收性化合物，其中，至少2種前述光選擇吸收性化合物具有相同的共軛系結構。

Description

光吸收性組成物
本發明是有關光吸收性組成物，以及含有該光吸收性組成物之聚合物組成物、光學膜及顯示裝置。
在有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等的平板顯示裝置(FPD)中，係使用有有機EL元件或液晶單元等顯示元件、以及偏光板或相位差板等光學膜等之各種構件。在此等構件中所使用的有機EL化合物以及液晶化合物等的材料是有機物，因此有由紫外線(UV)引起之劣化問題存在。為了解決如此之問題，已有在顯示裝置所使用之偏光板的保護膜中添加UV吸收劑等對策。例如在專利文獻1中，藉由於此等顯示裝置所使用的偏光板保護膜中添加UV吸收劑來試圖防止構件的劣化。
又，在近年顯示裝置朝薄型化的進行中，要求光學膜的薄型化，亦開發不具備保護膜的光學膜。在如此之光學膜中，必須將添加在以往之保護膜中的成分調配到其他構件中，例如，將UV吸收功能賦予至積層於光學膜上之黏著劑層。在專利文獻2中揭示一種黏著片，係在其基材的一面塗佈有由含有UV吸收性單體之單體混合 物所合成的UV吸收劑。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2006-308936號公報
專利文獻2：日本特開2008-56859號公報
上述UV吸收劑，必須發揮吸收紫外線區域的光，而防止構件劣化之作用，另一方面，必需具有對藍色光(例如，超過430nm的可見光區域)不顯示吸收特性的光選擇吸收性。
又，所述之UV吸收劑，為了組合在黏著劑或光學膜等顯示裝置之構成構件中，故必需具有與構成構件的高親和性或對溶劑的高溶解性。UV吸收劑的親和性不充分時，例如，在黏著劑中添加有UV吸收劑時，UV吸收劑會滲出(bleed out)，阻礙黏著功能，又，對黏著劑塗佈液中的溶劑之溶解性降低時，在構成構件中UV吸收劑不能均勻地分散，導致光吸收功能變為不充分。再者，在相位差膜等光學膜中添加UV吸收劑後，經加熱進行延伸之際，UV吸收劑在膜表面滲出，而不能充分地展現光吸收功能。因此，為了作為UV吸收劑來使用，必需與顯示裝置構成構件材料具有優異的親和性及對各種溶劑具有優異的溶解性。
在此，本發明的目的是提供一種光吸收性組成物，其是對400nm附近的短波長可見光顯示光選擇吸收性的同時，與顯示裝置構成構件材料的具有高親和性及/或對各種溶劑具有高溶解性之光吸收性組成物。
本發明是提供下述較佳態樣者。
[1]一種光吸收性組成物，係含有至少2種光選擇吸收性化合物之吸收性組成物，其中，前述至少2種光選擇吸收性化合物具有相同的共軛系結構。
[2]如前述[1]中記載的光吸收性組成物，其中，前述具有相同共軛系結構之至少2種光選擇吸收性化合物中，最大吸收波長的最大值與最小值之差是5nm以下。
[3]如前述[1]或[2]中記載的光吸收性組成物，其中，前述至少2種光選擇吸收性化合物是下述式(I)或式(II)表示者： 式中，R1表示氫原子或碳數1至10的烷基，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個可被氧原子或硫原子取代，R2及R3相互獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基，A表示亞甲基、二級胺基、氧原子或硫原子， X1及X2相互獨立地表示電子吸引性基，X1及X2可相互連結而形成環結構]； 式中，R1、X1、X2與前述者為相同定義，A2表示氫原子、碳數1至6的烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個可被二級胺基、氧原子、硫原子取代，該芳香族烴基及芳香族雜環基亦可具有取代基]。
[4]如前述[3]中記載的光吸收性組成物，其中，前述式(I)所示的光選擇吸收性化合物是下述式(I-2)所示者： 式中，R1與前述者為相同定義，R4表示氫原子或碳數2至50的烷基，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個可被氧原子取代；前述式(II)所示的光選擇吸收性化合物是下述式(II-2)所示者 式中，R1及R4與前述者為相同定義。
[5]如前述[1]至[4]中任一項記載的光吸收性組成物，其中，在前述光吸收性組成物所含有之具有相同共軛系結構之至少2種的光選擇吸收性化合物中，光吸收性組成物中含量為最大之光選擇吸收性化合物的含量與其他光選擇吸收性化合物含量之總量的比率，係1：10至10：1。
[6]如前述[1]至[5]中任一項記載的光吸收性組成物，係滿足下述式(1)、式(2)及式(3)：ε(420)/ε(400)≦0.3 (1)
λ max≦420nm (2)
ε(400)≧20 (3)式中，ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數(gram extinction coefficient)，ε(400)表示波長400nm中之克吸光係數λ max表示最大吸收波長。
[7]一種聚合物組成物，含有前述[1]至[6]中任一項記載的光吸收性組成物、與聚合物。
[8]如前述[7]中記載的聚合物組成物，其中，相對於前述 聚合物100質量份，前述光吸收性組成物的含量是1至15質量份。
[9]一種光學膜，係由前述[7]或[8]中記載的聚合物組成物構成者。
[10]如前述[9]中記載的光學膜，其中，厚度是0.1至18μm。
[11]一種積層偏光膜，係含有前述[9]或[10]中記載的光學膜、與偏光膜。
[12]如前述[11]中記載的積層偏光膜，係滿足下述式(4)及式(5)：Ap(400)≧0.4 (4)
Ap(420)/Ap(400)≦0.3 (5)式中，Ap(400)表示波長400nm中，在偏光膜的穿透軸方向中的光學膜之吸光度，Ap(420)表示波長420nm中，在偏光膜的穿透軸方向中的光學膜之吸光度]。
[13]一種積層相位差膜，係含有前述[9]或[10]中記載的光學膜、與相位差膜。
[14]一種橢圓偏光膜，係含有前述[9]或[10]中記載的光學膜、偏光膜、與相位差膜。
[15]一種顯示裝置，係含有前述[9]至[14]中任一項記載的膜。
依據本發明，可提供一種光吸收性組成物，其對400nm附近短波長的可見光顯示光選擇吸收性之同時，與顯示裝置構成構件的材料具有高親和性及/或對各種溶劑具有高溶解性。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧表面處理層
3‧‧‧第二保護膜
4‧‧‧第一保護膜
6‧‧‧層間黏著劑
7‧‧‧相位差膜
10‧‧‧偏光板
15‧‧‧附有黏著劑的偏光板
20‧‧‧黏著劑片
30‧‧‧影像顯示元件(玻璃基板)
40‧‧‧光學積層體
第1圖表示本發明的一個實施態樣中，光學積層體的層結構之例子的剖面示意圖。
第2圖表示本發明的一個實施態樣中，光學積層體的層結構之例子的剖面示意圖。
以下，針對本發明的實施形態進行詳細的說明。又，本發明的範圍是不侷限於在此說明的實施形態者，在不損及本發明的主旨範圍下可以有各種的變更。
本發明的光吸收性組成物係含有至少2種光選擇吸收性化合物之組成物，上述至少2種的光選擇吸收性化合物是具有相同的共軛系結構。此外，本發明中，所謂共軛結構是表示π電子系沿著分子鏈而非極化(non-polarized)之分子結構。共軛結構可列舉例如用以下述四方形所圍成之範圍的結構。此外，下述化學式中，與共軛結構(以四方形圍成的範圍之結構)鍵結的部分為亞甲基，但共軛結構是不限定延伸，相關部分不限定於亞甲基，例如可列舉次甲基等。
共軛結構所具有之碳數，較佳為1至20，更佳為2至15，又更佳為3至10。共軛結構所具有之碳數為上述範圍內時，本發明的光吸收性組成物，有難以吸收藍色光，並且對400nm附近的短波長可見光顯示光選擇吸收性之傾向。
本發明的光吸收性組成物中，該組成物所含有的至少2種光選擇吸收性化合物具有相同的共軛系結構。藉此，在黏著劑片中添加有本發明的光吸收性組成物之情形，可抑制黏著劑中的光選擇吸收性化合物的滲出，同時難以阻礙黏著劑的黏著功能。再者，由於能夠抑制光選擇吸收性化合物的滲出，而可在黏著劑中調配高濃度的光選擇吸收性化合物，可以得到薄度和光吸收性皆優異的黏著劑片。伴隨著顯示裝置的薄型化各構件亦必須薄型化，惟進行構件的薄型化時，必須提高在此構件中所調配的光吸收劑之濃度。依據本發明的光吸收性組成物，由於 可抑制滲出，因此可應付構件薄型化的要求。又，在光學膜中添加有本發明的光吸收性組成物之情形，可抑制光選擇吸收性化合物的滲出，同時可抑制光學功能被阻礙。此外，本發明中，在上述光吸收性組成物中所含有的至少2種光選擇吸收性化合物為具有相同的共軛系結構的限制之外，亦可含有與此共軛結構為不同共軛結構的其他光選擇吸收性化合物。
本發明的較佳實施態樣中，具有任意1種光選擇吸收性化合物之共軛結構，係與其他的至少1種光選擇吸收性化合物所具有之共軛結構相同。亦即，在組成物中含有具有共軛結構a之光選擇吸收性化合物A時，亦在組成物中含有具有相同共軛系結構a之其他光選擇吸收性化合物B。進一步，在組成物中更含有具有共軛結構b之光選擇吸收性化合物C時，較佳為在組成物中又含有具有共軛結構b之光選擇吸收性化合物D者。亦即，在本發明的光吸收性組成物中，例如，含有4種光選擇吸收性化合物A至D時，較佳為不存在只有1種光選擇吸收性化合物具有其他的共軛結構之情形。此時，可更為抑制從顯示裝置的構成構件(光學膜、黏著劑等)滲出選擇吸收性化合物，可更為抑制光學膜的光學功能之阻礙及/或黏著劑的黏著功能之阻礙。
在本發明的光吸收性組成物中所含有具有相同共軛系結構之至少2種的光選擇吸收性化合物中，最大吸收波長(以下，也稱為「λ max」)的最大值與最小值之 差，較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，又更佳為3nm以下，特佳為2nm以下，例如1nm以下。上述λ max的最大值與最小值之差為5nm以下，係指具有相同共軛系結構的各種光選擇吸收性化合物之結構為相近(具有類似的結構)。光選擇吸收性化合物的λ max之最大值與最小值的差是在上述上限值以下時，可更抑制從顯示裝置的構成構件滲出光選擇吸收性化合物，又，可得到光選擇吸收性更優異的光吸收性組成物。此外，光選擇吸收性化合物的λ max之最大值與最小值的差之下限值，例如為0nm以上。
本發明的一實施態樣中，由呈現高光選擇吸收性之觀點而言，上述光選擇吸收性化合物較佳為下述式(I)表示者或式(II)表示者： 式中，R1表示氫原子或碳數1至10的烷基，其中，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個亦可被氧原子或硫原子取代，R2及R3相互獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基，A1表示亞甲基、二級胺基、氧原子或硫原子，X1及X2相互獨立地表示電子吸引性基，X1及X2亦可相互連結而形成環結構； 式中，R1、X1、X2是與前述相同定義，A2表示氫原子、碳數1至6的烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基，其中，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個亦可被二級胺基、氧原子、硫原子取代，該芳香族烴基及芳香族雜環基亦可具有取代基。
此外，本發明的光吸收性組成物含有上述式(I)所示的化合物及上述式(II)所示的化合物之兩者時，式中的X1、X2及R1可各自為不同亦可為相同。
式(I)及(II)中，R1表示氫原子，或碳數1至10的烷基，從呈現高光選擇吸收性之觀點而言，較佳為碳數1至8，更佳為碳數1至5，又更佳為碳數1至3的烷基。在此，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個亦可被氧原子或硫原子取代。作為所述之烷基，可列舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、正己基、正辛基、正癸基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基、及聚丙二醇基等。
式(I)及(II)中，X1及X2相互獨立且表示電子吸引性基。作為電子吸引性基，可列舉例如：-CN(氰基)、-NO2(硝基)、鹵素原子、經鹵素原子取代的烷基、-Y1-R4[式 中，R4表示氫原子、碳數2至50的烷基，其中，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個亦可被氧原子取代，該烷基上的碳原子亦可鍵結有取代基；Y1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-NR6CO-或-CONR7-(R6及R7各自獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基)]。X1及X2亦可為相互連結而形成環結構，作為該環結構，可列舉例如：4至8員環的環結構，較佳為5員環或6員環的環結構，作為此例子，可列舉米氏酸(Meldrum's acid)結構、巴比妥酸結構、雙甲酮(Dimedone)結構等。
R4中之碳數2至50的烷基，從與顯示裝置的構成構件的材料的親和性及/或對各種溶劑的溶解性之觀點而言，碳數較佳為3以上，更佳為6以上。又，較佳為40以下，更佳為30以下，又更佳為12以下。又，碳數較佳為2至40(例如2至20)，碳數更佳為3至40(例如3至18)，又更佳為3至30(例如3至16)，特佳為6至12(例如6至14)。
R4中，碳數2至50的烷基具有至少1個亞甲基時，至少1個亞甲基可被氧原子取代，作為所述之烷基，可列舉例如：乙氧基、丙氧基、2-甲氧基乙氧基甲基。又，也可列舉：二乙二醇基、三乙二醇基等多乙二醇基、及二丙二醇基、三丙二醇基等多丙二醇等。
又，在R4的烷基上之碳原子亦可鍵結有取代基。作為取代基，可列舉例如：鹵素原子、碳數1至6的烷基、氰基、硝基、碳數1至6的烷基亞磺醯基、碳數 1至6的烷基磺醯基、羧基、碳數1至6的氟烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至6的烷基硫基、碳數1至6的N-烷基胺基、碳數2至12的N,N-二烷基胺基、碳數1至6的N-烷基胺磺醯基、碳數2至12的N,N-二烷基胺磺醯基等。
R4是碳數2至50的烷基時，從與疏水性物質的親和性，及對疏水性溶劑的溶解性之觀點而言，R4更佳為具有分枝結構之烷基。
在此，所謂具有分枝結構的烷基，表示該烷基所具有的碳原子之至少一個為三級碳、或四級碳之烷基。作為碳數3至12的具有分枝結構之烷基之具體例，可列舉具有下述結構之烷基。
從光選擇吸收性以及與顯示裝置的構成構件之材料的親和性及/或對各種溶劑的溶解性之觀點而言，X1及X2較佳是各自獨立為-CN(氰基)、-NO2(硝基)、鹵素原子、或-Y1-R4，其中，Y1為-CO-、-COO-、或-OCO-，更佳為-CN(氰基)、或-Y1-R4，其中Y1為-COO-。
上述式(I)中，R2及R3各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基，從呈現高的光選擇吸收性之觀點而言，較佳為氫原子或碳數1至10的烷基，更佳為氫原子 或碳數1至8的烷基，又更佳為氫原子或碳數1至5的烷基，特佳為氫原子或碳數1至3的烷基，非常佳為氫原子。
式(I)中，A1表示亞甲基、二級胺基、氧原子或硫原子。二級胺基是一般式-NR5-所示的取代基，R5例如表示碳數1至15，較佳為碳數1至10，更佳為碳數1至5的脂肪族烴基、脂環式烴基或芳香族烴基。從呈現高的光選擇吸收性之觀點而言，A1較佳為亞甲基或氧原子。
式(II)中，A2表示氫原子、碳數1至6的烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基。該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個亦可被二級胺基、氧原子、或硫原子取代，該芳香族烴基及芳香族雜環基亦可具有取代基。A2所示之烷基，可列舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、正己基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基等。又，A2所示的芳香族烴基及芳香族雜環基可具有的取代基，可列舉例如：鹵素原子、碳數1至6的烷基、氰基、硝基。作為如此之芳香族烴基，較佳為碳數6至12的芳香族烴基，可列舉例如苯基、萘基等。又，作為芳香族雜環基，較佳為碳數3至9的芳香族雜環基，可列舉例如：吡啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、唑基、吡咯基、噻唑基、及呋喃基等。從製造的容易度之觀點而言，A2較佳為苯基或萘基，更佳為苯基。
本發明的光吸收性組成物為含有上述式(I)所示化合物至少2種以上時，表示各化合物之式(I)中的R1至R3、X1、X2及A1，各自可為相異也可為相同，惟R1至 R3、X1、X2及A1之中至少1個為相異。本發明的較佳實施態樣中，本發明的光吸收性組成物，含有至少上述式(I)所示之化合物2種以上時，從更提高本發明的光吸收性組成物之光選擇吸收性的觀點而言，表示各化合物之式(I)中的R1至R3、X1及A1各自為相同，X2為相異。本發明的光吸收性組成物，含有上述式(II)所示之化合物至少2種以上時，表示各化合物之式(II)中的R1、X1、X2及A2各自可為相異，亦可為相同，惟至少1個是相異。本發明的較佳實施態樣中，本發明的光吸收性組成物，含有上述式(II)所示之化合物至少2種以上時，從更提高本發明的光吸收性組成物之光選擇吸收性觀點而言，表示各化合物之式(II)中的R1、X1及A2各自為相同，X2為相異。
作為式(I)所示的光選擇吸收性化合物，可列舉例如下述式所示的化合物等。
式(I-1-2)中，A1、R1至R4、X1及Y1各自表 示與前述相同之意思。
式(I)所示之光選擇吸收性化合物，由於具有光選擇吸收性、與顯示裝置的構成構件材料的親和性及/或對各種的溶劑之溶解性優異，較佳為下述式(I-2)所示之光選擇吸收性化合物。
式(I-2)中，R1及R4是與前述相同定義。
作為式(I-2)所示之化合物，可具體列舉如下述之化合物。
從光選擇吸收性及製造的容易度之觀點而言，式(II)所示之光選擇吸收性化合物較佳為下述式(II-2)所示之光選擇吸收性化合物。
式中，R1及R4是與上述相同定義。
作為式(II-2)所示之化合物，可具體列舉如下述之化合物。
又，作為式(II)所示之光選擇吸收性化合物，也可列舉下述式所示之化合物等。
前述式(I-2)所示之化合物，例如將2-甲基吡咯啉藉由甲基化劑作成1,2-二甲基吡咯鎓鹽，接著，與N,N’-二苯基甲脒反應。最後，在乙酸酐、及胺觸媒存在下，藉由使活性亞甲基化合物反應而可製造式(I-2)所示之化合物。前述式(I)及(I-1-2)所示之化合物，係藉由與前述式(I-2)所示之化合物的同樣方法來可製造。式(II)及(II-2)所示之 化合物，係使3-甲醯基吲哚與活性亞甲基化合物進行反應(Knoevenagel反應)而可以得到，反應也可併用胺觸媒。式(II)及(II-2)中R1是碳數1至10的烷基時，對於3-甲醯基吲哚，於鹼觸媒存在下與鹵化烷反應，之後與活性亞甲基化合物反應而可製造目的的光選擇吸收性化合物。又，也可以使用市售品作為此等化合物。
在本發明的光吸收性組成物中所含有之具有相同共軛系結構之至少2種的光選擇吸收性化合物中，將光吸收性組成物中含量為最大之光選擇吸收性化合物設為化合物cmax時，光吸收性組成物中的化合物cmax之含量與其他光選擇吸收性化合物的含量之總量的比率([化合物cmax的含量]：[其他光選擇吸收性化合物的含量之總量])，較佳為1：10至10：1，更佳為1：8至8：1，又更佳為1：6至6：1，特佳為1：5至5：1，特別較佳為1：4至4：1，特別是1：3至3：1，例如1：2至2：1。上述比率為上述範圍內時，能抑制光選擇吸收性化合物的滲出，難以阻礙作為黏著劑的黏著功能或作為光學膜的光學功能。
上述光吸收性組成物，係與顯示裝置的構成構件(例如黏著劑或光學膜等)的親和性優異及/或對各種溶劑的溶解性優異。對構成黏著劑塗佈液之溶劑的溶解性優異時，由於在黏著劑片中可均勻地分散光選擇吸收性化合物，故可得到具有優異的光吸收性之黏著劑。作為所述之溶劑，可列舉例如：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、1-丁醇、2-丁醇、丙二醇、甲基賽珞蘇、丁基賽珞蘇、丙 二醇單甲基醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、2-丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯、三甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷、1,4-二烷等醚溶劑；及二氯甲烷、氯仿、氯化苯等氯化烴溶劑。
所述溶劑中具有親水性溶劑及疏水性溶劑。例如醇溶劑雖取決於碳數，但一般而言為具有親水性的溶劑。另一方面，戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑，一般而言為具有疏水性的溶劑。從可擴大溶劑的選擇性之觀點而言，上述光吸收性組成物較佳為可溶於親水性溶劑或疏水性溶劑，更佳為該光吸收性組成物可溶於親水性溶劑及疏水性溶劑，亦即具有兩親媒性。
本發明的光吸收性組成物，特別是與黏著劑或光學膜等的親和性優異。若與構成黏著劑的聚合物(特別是丙烯酸樹脂)的親和性優異，可抑制從黏著劑片滲出光選擇吸收性化合物，難以阻礙黏著劑片所具有的黏著功能。又，本發明的光吸收性組成物，若與構成光學膜的聚合物(特別是，聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯)的親和性優異，由於可抑制從光學膜滲出光選擇吸收性化合物，故難以阻礙光學膜所 具有的光學功能。又，若與構成保護膜的聚合物(特別是，三乙醯纖維素、環烯烴聚合物)的親和性優異，可抑制從保護膜滲出光選擇吸收性化合物。
上述光吸收性組成物較佳為滿足下述式(1)。
ε(420)/ε(400)≦0.3 (1)
式(1)中，ε(420)表示在波長420nm中光吸收性組成物的克吸光係數，ε(400)表示在波長400nm中光吸收性組成物的克吸光係數。ε(420)/ε(400)的值表示在波長420nm中的吸收強度(克吸光係數)相對於在波長400nm中的吸收強度(克吸光係數)，此值越小，則與420nm附近的波長區之吸收相比，在400nm附近的波長區中有特異的吸收，表示具有光選擇吸收性。此值越小則淡黃色越少成為透明的化合物。
上述光吸收性組成物滿足上述式(1)時，會吸收波長400nm的光而另一方面難以吸收波長420nm的光，並且難以吸收藍色的可見光，故本發明的光吸收性組成物可提供作為難以阻礙良好色彩表現的光吸收劑。再者，在光學積層體含有所述之光吸收性組成物時，可抑制構成光學積層體的構件(例如，相位差膜等的光學膜、有機EL元件或液晶顯示元件等的顯示元件)因短波長的可見光(亦即波長400nm附近的光)對性能造成的劣化。上述光吸收性組成物中之ε(420)/ε(400)的值，較佳為0.3以下，更佳為0.25以下，又更佳為0.2以下，特佳為0.15以下，特 別更佳為0.1以下，非常佳為0.05以下，例如0.03以下。此值之下限值並無特別限定，但從維持上述光吸收性組成物之400nm附近的吸收能之觀點而言，通常較佳為0.005以上。本發明之一較佳實施態樣中，ε(420)/ε(400)的值是0.01至0.17。
又，上述光吸收性組成物除了滿足上述式(1)之外，較佳為進一步滿足下述式(2)及(3)。
λ max≦420nm (2)
ε(400)≧20 (3)
式(2)中，λ max表示光吸收性組成物的最大吸收波長。式(3)中，ε(400)表示在波長400nm中光吸收性組成物的克吸光係數，克吸光係數的單位是以L/(g‧cm)來定義。
滿足上述式(2)及(3)時，光吸收性組成物的最大吸收係指存在於較420nm短之波長側，並且，對波長400nm附近顯示高吸收之組成物。上述光吸收性組成物藉由滿足如此之式，含有所述之組成物的光學膜等構件，可具有難以對顯示特性造成影響的高耐光性。本發明中，光吸收性組成物的最大吸收λ max，更佳為410nm以下，又更佳為400nm以下。光吸收性組成物的最大吸收λ max，例如370nm以上。
又，上述光吸收性組成物滿足上述式(3)時，由於具有高的光吸收性，故在構成光學積層體之構件中所含有的光吸收性組成物即使為少量，在黏著劑中含有該光吸收性組成物時亦難以阻礙黏著劑之黏著功能，又，在保護膜中含 有該光吸收性組成物時難以阻礙作為保護膜的光學功能。ε(400)的值，較佳為20[L/(g‧cm)]以上，更佳為30[L/(g‧cm)]以上，又更佳為40[L/(g‧cm)]以上，又再更佳為50[L/(g‧cm)]以上，特佳為80[L/(g‧cm)]以上，非常佳為90[L/(g‧cm)]以上。又，ε(400)的值，通常為300[L/(g‧cm)]以下。
本發明的其他實施態樣中，提供含有上述光吸收性組成物與聚合物之聚合物組成物(以下，也稱為「本發明的聚合物組成物」)。藉由使用該聚合物組成物，可以得到構成光學積層體的各種構件(例如，黏著劑片、保護膜、偏光膜、相位差膜及前面板等)。所述之光學積層體，由於含有光選擇吸收性優異的上述光吸收性組成物，且難以吸收藍色的可見光，故難以阻礙良好的色彩表現。再者，屬於顯示裝置的構成構件之顯示元件、光學膜的性能，不僅是紫外線，即使是短波長區的可見光，亦即波長400nm附近的光亦會劣化其性能，惟在影像顯示裝置中所含有的構成光學積層體之構件，可抑制經由短波長的可見光造成之劣化。
本發明的光學膜厚度並無特別限定，通常較佳為18μm以下，更佳為13μm以下，又更佳為8μm以下。光學膜的厚度為上述上限值以下時，即使光學膜中所含有的光吸收性組成物之濃度較高亦難以發生滲出現象，故在容易得到薄型的光學積層體之同時，亦可發揮經安定的光吸收性及光學膜所具有的功能(例如，相位差膜所 具有的相位差功能，黏著劑片所具有的黏著功能)。又，本發明光學膜之厚度的下限值並無特別限定，較佳為0.1μm以上，更佳為1μm以上，又更佳為2μm以上。光學膜的厚度為上述上限值以下時，從薄型化的觀點而言為佳。又，光學膜的厚度，可藉由例如：雷射顯微鏡、橢偏儀(Ellipsometer)等來測定。
本發明的其他實施態樣中，亦提供由上述聚合物組成物構成的黏著劑及光學膜(也稱為「本發明的光學膜」)。本發明中，作為光學膜，可列舉：偏光膜、相位差膜、保護膜、黏著劑片、及前面板等。此等的光學膜及黏著劑，可列舉作為構成光學積層體的構件。此外，本發明中，光學積層體是指含有本發明的光學膜之積層體，含有後述的積層偏光膜、積層相位差膜及橢圓偏光膜。
在此，有關光學積層體，在第1圖及第2圖中表示幾個較佳層結構之例的剖面示意圖。第1圖所示之例子，係將可具有表面處理層2的第一保護膜4，以與其表面處理層2為相反側之面貼付在偏光膜1的一面上，而在偏光膜1的其他面上，貼付第二保護膜3，來構成偏光板10。在構成偏光板10之第二保護膜3的外側，設有黏著劑片20，而構成附有黏著劑之偏光板15。接著，將此黏著劑片20的與偏光板10為相反側的面黏合在影像顯示元件30，進而構成光學積層體40。所述之光學積層體是可使用於影像顯示裝置。此外，含有本發明的光吸收性組成物之構件，相較於容易劣化的光學膜、有機EL元件等影 像顯示元件更適合配置在觀看側。藉由所述之配置，可抑制容易劣化之構件的功能下降。
又，第2圖所示之例，係將可具有表面處理層2之第一保護膜4以與其表面處理層2為相反側的面貼付在偏光膜1的一面上，而在偏光膜1的其他面上，貼付第二保護膜3，又在第二保護膜3的外側，通過層間黏著劑6貼付相位差膜7，而構成偏光板10。在構成偏光板10的相位差膜7的外側設有黏著劑片20，而構成附有黏著劑之偏光板15。接著，將此黏著劑片20的與相位差膜7為相反側的面貼合在影像顯示元件30，而構成光學積層體40。
此等例子中，第一保護膜4及第二保護膜3，一般是由三乙醯纖維素膜或聚環烯烴所構成，惟亦可以用下述的透明樹脂膜構成。又，可在第一保護膜4的表面形成的表面處理層，可為硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層等。亦可設置複數此等中之層。
如第2圖所示之例，在偏光板10中積層相位差膜7時，若為中小型的液晶顯示裝置，作為此相位差膜7的較佳例子，可舉1/4波長板。此時，一般以偏光膜1的吸收軸與屬於1/4波長板的相位差膜7之慢軸交叉為幾乎45度之方式配置，惟因應影像顯示元件30的特性，亦有將此角度自45度偏移某種程度之情形。另一方面，若為電視等大型液晶顯示裝置，以影像顯示元件30的相位差補償或視野角補償為目的，配合影像顯示元件30的特性使用 具有各種相位差值的相位差膜。此時，一般以偏光膜1的吸收軸與相位差膜7的慢軸成為幾乎垂直或幾乎平行的關係之方式配置。以1/4波長板構成相位差膜7時，適合使用單軸或雙軸延伸膜。又，將相位差膜7以影像顯示元件30的相位差補償或視野角補償為目的而設置時，作為相位差膜7使用者，除了單軸或雙軸延伸膜之外，亦可為：單軸或雙軸延伸之外在厚度方向亦經配向的膜、在支持膜上塗佈液晶等相位差表現物質而經配向固定的膜等稱為光學補償膜者。
如同第2圖所示之例子，在偏光板10的構成中將相位差膜7通過層間黏著劑6貼合時，在此層間黏著劑6中，常例為使用一般的丙烯酸系黏著劑，惟在此亦可使用由本發明的聚合物組成物所構成的黏著劑或黏著劑片。如先前所述之大型液晶顯示裝置，以偏光膜1的吸收軸與相位差膜7的慢軸幾乎垂直或幾乎平行的關係之方式配置時，在製作偏光板10時，將偏光膜1與相位差膜7通過層間黏著劑6貼合之際，可進行捲筒至捲筒貼合。
在相位差膜上形成有黏著劑片之附有黏著劑之相位差膜，除了將其黏著劑片貼合在影像顯示元件上成為光學積層體之外，亦可在其相位差膜側貼合偏光板。
在此，偏光膜(也稱為「偏光元件」)，係指具有對於自然光等入射光射出偏光的功能之光學膜。偏光板具有：具有吸收具有入射到偏光板面之某方向的振動面之直線偏光，使具有與其垂直的振動面之直線偏光穿透之 性質的直線偏光板；具有反射具有入射到膜面的某方向振動面之直線偏光，使具有與其垂直振動面之直線偏光穿透之性質的偏光分離膜；積層有偏光板與後述之相位差膜的橢圓偏光板等。作為偏光板，特別是直線偏光板(也有稱為偏光元件或偏光元件膜)之較佳具體例，可列舉：使經單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向碘或二色性染料等二色性色素者。又，也可以使用塗佈型的薄膜偏光膜。作為塗佈型的薄膜偏光膜，可以使用例如，日本特開2012-58381、特開2013-37115、國際公開第2012/147633、國際公開第2014/091921中所例示者。偏光片的厚度並無特別限定，通常使用0.5至35μm者。
相位差膜，係指顯示光學異方性的光學膜，可列舉例如：藉由將聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚甲基丙烯酸酯、聚醯亞胺、聚烯烴，聚環烯烴(降冰片烯或四環十二烯或此等的衍生物之聚合物)、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、液晶聚酯、乙醯纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等聚合物所成的聚合物膜延伸1.01至6倍左右而得到的延伸膜等。其中，較佳為將聚碳酸酯膜或聚環烯烴膜進行單軸延伸或雙軸延伸的聚合物膜。本發明的一實施態樣中，係藉由將含有上述聚合物及本發明的光吸收性組成物之組成物進行成膜，將得到的膜進行單軸延伸或雙軸延伸，而可得到相位差膜。又，藉由聚合性液晶化合物的塗佈/配向而表現光學異方性之膜亦可作為相位差膜來使用。
再者，在此等光學膜貼付有保護膜者，亦可作為光學膜使用。作為保護膜，係使用透明的樹脂膜，作為其透明樹脂，可列舉例如：以三乙醯纖維素或二乙醯纖維素為代表的乙醯纖維素系樹脂、以聚甲基丙烯酸甲酯為代表的甲基丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碸樹脂等。在構成保護膜的樹脂中，亦可調配水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物、丙烯酸氰酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等紫外線吸收劑，此時，藉由與本發明的光吸收性組成物的效果相乘之效果，可適當地抑制顯示裝置的劣化。作為保護膜，可適當地使用三乙醯纖維素膜等乙醯纖維素系樹脂膜。
上述說明的光學膜之中，直線偏光板，係大多以在構成其的偏光膜，例如，包含聚乙烯醇系樹脂之偏光板的單面或雙面上，貼付保護膜的狀態來使用。又，前述的橢圓偏光板，係積層有直線偏光板與相位差膜者，惟此偏光板亦大多為在偏光板的單面或雙面上，貼付有保護膜的狀態。
又，保護膜，係指以保護屬於被保護體的光學膜等之表面免於受到傷害或髒汙為目的而使用的膜。作為保護膜的基材，可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烴；聚氟乙烯、聚氟偏乙烯、聚氟乙烯等氟化聚烯烴；聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸乙二酯/間苯二甲酸酯共 聚物等聚酯；尼龍6、尼龍6,6等的聚醯胺；聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯基醇共聚物、聚乙烯醇、維尼綸(vinylon)等乙烯聚合物；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、玻璃紙(cellophane)、三乙醯纖維素等的纖維素聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯等丙烯酸聚合物；其他如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚胺酯等。
黏著劑片，係指包含黏著劑的片。黏著劑係用於使上述光學膜等構件與其他構件接合之劑。構成黏著劑的聚合物是無特別限定者，可列舉例如：聚(甲基)丙烯酸酯(丙烯酸樹脂)、矽氧聚合物、聚胺酯、及橡膠等。上述聚合物可單獨或組合使用。其中，從藉由選擇導入至聚合物的單體種類而可容易地賦予黏著劑功能性之觀點而言，較佳為採用丙烯酸樹脂作為上述聚合物。此外，(甲基)丙烯酸酯，係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
藉由使用本發明的聚合物組成物，可得到構成光學積層體的各構件。例如，本發明的一實施態樣中，係由含有本發明的光吸收性組成物及聚合物之聚合物組成物構成，可提供黏著劑片、保護膜、相位差膜、偏光膜、及前面板等。
從可適當地製造構成光學積層體的構件之觀點而言，上述聚合物組成物所含有的聚合物，較佳為選自由上述丙烯酸樹脂[聚(甲基)丙烯酸酯]、聚胺酯、聚酯、 聚碳酸酯、聚環烯烴及三乙醯纖維素所成群組中之至少1種。
在黏著劑片中調配有UV吸收劑時(特別是，調配高濃度時)，有阻害黏著劑片的黏著功能之情形，惟由本發明的聚合物組成物構成的黏著劑片，由於能保持黏著功能，並且光選擇吸收性優異，再者，可抑制黏著劑片的滲出，故發揮經過長時期仍安定的光吸收性。在使用有此黏著劑片的顯示裝置中，沒有必要配置具有光吸收功能的其他構件，故可謀求顯示裝置的薄型化及輕質化。
本發明的一實施態樣中，上述聚合物組成物，係除了上述聚合物及上述光吸收性組成物之外，依據所需亦可含有交聯劑。交聯劑，係例如與源自聚(甲基)丙烯酸酯中之特別是含有羥基或極性官能基之單體的構成單位反應，使聚(甲基)丙烯酸酯進行交聯之化合物。具體而言，可例示：異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、氮丙啶系化合物、金屬螯合物化合物等。此等之中，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物及氮丙啶系化合物，係在分子中至少具有2個可與聚(甲基)丙烯酸酯(A)中的羥基及依場合之極性官能基反應的官能基。
上述聚合物組成物中，相對於上述聚合物(固形份)100質量份，上述光吸收性組成物(較佳為光吸收性組成物所含有的光選擇吸收性化合物的總量)之含量，較佳為1至15質量份，更佳為1.5至12質量份，又更佳為2至10質量份，特佳為2.2至8質量份。上述光吸收性組成 物的含量為上述下限值以上時，被吸收的光量變多，可以抑制構成光學積層體的構件(例如，相位差膜等光學膜、有機EL元件等影像顯示元件)之由短波長的可見光引起的劣化。上述光吸收性組成物的含量為上述上限值以下時，在黏著劑使用聚合物組成物時可充分地發揮黏著功能，並且，更難以阻礙使用聚合物組成物而得到之光學膜的光學功能。此外，由於上述光吸收性組成物對各種溶劑的溶解性優異，故即使上述含量較高(例如，相對於上述聚合物(固形份)100質量份，上述光吸收性組成物(較佳為，光吸收性組成物所含有的光選擇吸收性化合物的總量)之含量，較佳為1質量份以上，更佳為1.5質量份以上，又更佳為2質量份以上，特佳為2.2質量份以上)，仍可抑制滲出，並且難以阻礙作為黏著劑的黏著功能或作為光學膜的光學功能。
本發明的聚合物組成物，係構成黏著劑片的黏著劑組成物時，在本發明的較佳實施態樣中，本發明的聚合物組成物是含有：(A)丙烯酸樹脂，係以丙烯酸樹脂(聚合物)的固形份全體之量為基準，以下述式(A-1)所示之(甲基)丙烯酸酯單體50至99.9質量%、及(A-2)具有極性官能基的不飽和單體0.1至50質量%作為構成成分之共聚物，且重量平均分子量是50萬至200萬的丙烯酸樹脂；以及(B)交聯劑，係相對於前述丙烯酸樹脂100質量份，含有0.01至10質量份。
前述式(A-1)中，Rp是氫原子或甲基。Rq表示碳數1至20的烷基或芳烷基，較佳為碳數1至10的烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基的氫原子，可被-O-(C2H4O)n-Rr取代。在此，n較佳為0至4，更佳為0至3的整數，Rr較佳為碳數1至12的烷基，更佳為碳數1至5的烷基，較佳為碳數1至12的芳基，更佳為碳數1至10的芳基。
作為前述式(A-1)所示之(甲基)丙烯酸酯單體(A-1)(以下，有稱為「單體(A-1)」的情形)，具體而言例示：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸月桂酯等直鏈狀丙烯酸烷基酯；丙烯酸異丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯等分枝狀丙烯酸烷基酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等直鏈狀甲基丙烯酸烷基酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯等分枝狀的甲基丙烯酸烷基酯；丙烯酸苯酯、丙烯酸苯甲基酯等具有芳香族基的丙烯酸酯；丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲基丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸苯氧基酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯甲基酯等具有芳香族基的甲基丙烯酸酯等。此等可單獨使用，亦可組合複數種使用。其中，從黏 著性表現的觀點而言，較佳為丙烯酸正丁酯。
在具有極性官能基之不飽和單體(A-2)(以下，有稱為「單體(A-2)」的情形)中，作為極性官能基，可列舉：遊離羧基、羥基、胺基、包含環氧環的雜環基等。單體(A-2)較佳為具有極性官能基的(甲基)丙烯酸系化合物。作為此例，可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、及丙烯酸β-羧基乙基酯等具有遊離羧基之不飽和單體；(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-或3-氯-2-羥基丙酯、及二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等具有羥基不飽和單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、己內醯胺改質四氫糠基丙烯酸酯、3,4-環氧基環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、及2,5-二氫呋喃等具有雜環基不飽和單體；N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等與雜環不同之具有胺基的不飽和單體等。此等單體(A-2)可各自單獨使用，亦可使用不同的複數種。
此等之中，從提高黏著劑組成物的接著力，使耐久性更提高之觀點而言，較佳為含有具有羥基的不飽和單體作為1個構成丙烯酸樹脂(A)的單體(A-2)。
將單體(A-1)與單體(A-2)作為構成單元之丙烯酸樹脂(以下，有稱為「丙烯酸樹脂(A)」的情形)，係以其固形份全體的量作為基準，將源自單體(A-1)的構成單元，以較佳為50至99.9質量%，又更佳為70至99.9質量%之比率含有。又，源自單體(A-2)之構成單元是以較佳為 0.1至50質量%，又更佳為0.1至30質量%的比率含有。單體(A-1)與單體(A-2)的比率為前述範圍內時，可提供加工性優異之黏著劑組成物。
再者，丙烯酸樹脂(A)，除了單體(A-1)與單體(A-2)之外，亦可含有作為構成成分的其他單體(以下，有稱為「單體(A-3)」之情形)。作為其他單體，可列舉例如：在分子內具有脂環式結構的(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯系單體、乙烯基系單體、在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體、(甲基)丙烯醯胺衍生物等。
脂環式結構，係指碳數通常為5以上，較佳為5至7左右的環烷烴結構。作為具有脂環式結構的丙烯酸酯之具體例子，可列舉：丙烯酸異冰片酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸二環戊酯、丙烯酸環十二烷酯、丙烯酸甲基環己酯、丙烯酸三甲基環己酯、丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯、丙烯酸環己基苯酯等；作為具有脂環式結構的甲基丙烯酸酯的具體例子者，可列舉：甲基丙烯酸異冰片酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸環十二烷酯、甲基丙烯酸甲基環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸第三丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯酯等。
作為苯乙烯系單體，除了苯乙烯之外，可列舉：甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基 苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；又，硝基苯乙烯、乙醯基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、二乙烯基苯等。
作為乙烯基系單體，可列舉：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、酪酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等的脂肪酸乙烯酯；氯乙烯或溴化乙烯等乙烯基鹵化物；偏二氯乙烯的偏二鹵乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑等含氮芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯戊二烯等共軛二烯單體；再者，丙烯腈、甲基丙烯腈等。
作為在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體，可列舉：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等在分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等在分子內具有3個(甲基)丙烯醯基的單體等。
作為(甲基)丙烯醯胺衍生物，可列舉：N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、3-羥基丙基(甲基)丙烯醯胺、4-羥基丁基(甲基)丙烯醯胺、5-羥基戊基(甲基)丙烯醯胺、6-羥基己基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-二甲基胺基丙基 (甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-酮丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-側氧基-1-咪唑烷基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸等。
前述單體(A-1)、單體(A-2)及單體(A-3)可各自單獨，或組合複數種使用。本發明中，在黏著劑組成物中可使用的丙烯酸樹脂(A)中，以丙烯酸樹脂(A)的固形份全體之量為基準，源自前述單體(A-3)之構成單元，通常以0至20質量份，較佳為以0至10質量份的比率含有。
本發明的一個實施態樣中，黏著劑組成物，係可含有1種或2種以上的前述丙烯酸樹脂(A)。
前述丙烯酸樹脂(A)藉由凝膠滲透層析分析法(GPC)經標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)，較佳為50萬至200萬，更佳為60萬至180萬，又更佳為70萬至170萬。此標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量為50萬以上時，有提升高溫高濕下的接著性，玻璃基板(影像顯示元件)與黏著劑片之間發生浮起或剝離的可能性變低之傾向，並且再加工性也有提升之傾向故為較佳。又，此重量平均分子量為200萬以下時，將此黏著劑片貼合在光學膜等時，即使光學膜的尺寸有變化，由於黏著劑片追隨此尺寸變化而變動，故在液晶單元等的影像顯示元件之周圍部分的明亮度與中心部分的明亮度之間沒有差異，有抑制白點、色彩不均勻性之傾向故為較佳。以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)的比(Mw/Mn)所示之分子量分佈，通常為2至10左右的範圍。
前述丙烯酸樹脂(A)，例如可藉由溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法等習知的各種方法而分別製造。此丙烯酸樹脂的製造中，通常使用有聚合起始劑。相對於在製造丙烯酸樹脂中使用之全部單體的合計100質量份，聚合起始劑使用0.001至5質量份左右。
作為聚合起始劑，可以使用熱聚合起始劑、光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑與，可舉例如4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑，可列舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系化合物；月桂基過氧化物、第三丁基過氧化氫、過氧化苯甲醯、過氧化苯甲酸第三丁酯、異丙苯過氧化氫、過氧化二羧酸二異丙酯、過氧化二羧酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯，過氧化新戊酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。又，併用有過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等，亦可作為聚合起始劑使用。
作為丙烯酸樹脂(A)的製造方法，上面所示的方法中，較佳為溶液聚合法。列舉溶液聚合法的具體例進行說明時，可列舉：混合所期望的單體以及有機溶劑，於氮氣環境下，添加熱聚合起始劑，於40至90℃左右，較佳為在50至80℃左右攪拌3至15小時左右之方法等。 又，為了控制反應，將單體、熱聚合起始劑以連續或間歇性地添加到聚合中，亦可以已溶解於有機溶劑的狀態添加。在此，作為有機溶劑，可使用例如：甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、2-丁酮、甲基異丁基酮等酮類等。
黏著劑組成物，除了前述丙烯酸樹脂(A)之外，亦可含有與丙烯酸樹脂(A)不同的丙烯酸樹脂。作為如此的丙烯酸樹脂，可列舉例如：以源自(甲基)丙烯酸酯的構成單元作為主成分者(例如，聚(甲基)丙烯酸甲酯)，重量平均分子量為如5萬至30萬的範圍之比較低分子量者。
黏著劑組成物含有與丙烯酸樹脂(A)不同的丙烯酸樹脂時，相對於丙烯酸樹脂(A)100質量份，與丙烯酸樹脂(A)不同的丙烯酸樹脂之含量，通常較佳為50質量份以下，更佳為30質量份以下。
黏著劑組成物所含有的丙烯酸樹脂(組合2種類以上時係此等的混合物)，將其溶解在乙酸乙酯中，並且固形份濃度調整成20質量%的溶液，較佳為於25℃中顯示濃度為20Pa‧s以下，更佳為0.1至7Pa‧s的黏度。此時的黏度為20Pa‧s以下時，有提升於高溫高濕下的接著性，在顯示元件與黏著劑片之間發生浮起或剝離的可能性變低之傾向，並且再加工性有提升的傾向故為較佳。黏度可藉由普魯克菲爾德黏度計(Brookfield viscometer)來測定。
黏著劑組成物中，作為交聯劑，例如可使 用：與源自丙烯酸樹脂(A)中之特別是源自具有極性官能基的不飽和單體之構成單元反應，而使丙烯酸樹脂(A)交聯的化合物。具體而言，可例示：異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、氮丙啶(Aziridine)系化合物、金屬螯合物化合物等。此等之中，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物及氮丙啶系化合物，係在分子內具有至少2個可與丙烯酸樹脂(A)中的極性官能基反應之官能基。
異氰酸酯系化合物是在分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)之化合物，可列舉例如：甲苯二異氰酸酯、二異氰酸六亞甲酯、異氟爾酮二異氰酸酯、二異氰酸二甲苯酯、氫化二異氰酸二甲苯酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又，使此等異氰酸酯系化合物與甘油或三羥甲基丙烷等多元醇反應而成之加成物、或將異氰酸酯系化合物作成二聚物、三聚物等亦可成為黏著劑所使用的交聯劑。亦可混合2種以上的異氰酸酯系化合物來使用。
環氧系化合物是在分子內具有至少2個環氧基之化合物，可列舉例如：雙酚A型的環氧樹脂、乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、N,N-二環氧丙基苯胺、N,N,N’,N’-四環氧丙基-間二甲苯二胺、1,3-雙(N,N’-二環氧丙基胺基甲基)環己烷等。亦可混合2種以上的環氧系化合 物來使用。
氮丙啶系化合物是亦稱為伸乙基亞胺之在分子內具有至少2個包含1個氮原子與2個碳原子之3員環的骨架之化合物，可列舉例如：二苯基甲烷-4,4’-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、甲苯-2,4-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、三伸乙基三聚氰胺、間苯二甲醯基雙-1-(2-甲基氮丙啶)、參-1-氮丙啶基氧化膦、六亞甲基-1,6-雙(1-氮丙啶基甲醯胺)、三羥甲基丙烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯等。
作為金屬螯合物化合物，可列舉例如：在鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、釩、鉻及鋯等多價金屬上，配位有乙醯基丙酮或乙醯基乙酸乙酯之化合物等。
此等交聯劑中，可較佳地使用：異氰酸酯系化合物，特別是，二異氰酸二甲苯酯、甲苯二異氰酸酯或二異氰酸六亞甲酯，或使此等異氰酸酯系化合物與甘油或三羥甲基丙烷等多元醇反應而成之加成物，或將異氰酸酯系化合物作成二聚物、三聚物等的混合物，混合有此等的異氰酸酯系化合物者等。作為較佳之異氰酸酯系化合物，可列舉：甲苯二異氰酸酯、使甲苯二異氰酸酯與多元醇反應的加成物、甲苯二異氰酸酯的二聚物、及甲苯二異氰酸酯的三聚物，以及，二異氰酸六亞甲酯、使二異氰酸六亞甲酯與多元醇反應而成之的加成物、二異氰酸六亞甲酯的二聚物、及二異氰酸六亞甲酯的三聚物。此等可單獨 使用，亦可組合2種以上而使用。
本發明中，相對於前述丙烯酸樹脂的固形份100質量份(在含有2種以上丙烯酸樹脂時是其之合計100質量份)，黏著劑組成物，較佳為含有0.01至10質量份，更佳為0.01至0.08質量份，又更佳為0.01至0.06質量份的交聯劑。交聯劑的量為0.01質量份以上時，由於黏著劑片的耐久性有提升之傾向故為較佳，又為10質量份以下時，將從黏著劑組成物得到的黏著劑應用於液晶顯示裝置時的白點變得不明顯。
又，本發明中黏著劑組成物較佳為含有矽烷系化合物，特佳為，使調配交聯劑前的丙烯酸樹脂含有矽烷系化合物。由於矽烷系化合物提升對玻璃之黏著力，藉由含有矽烷系化合物，可提高在玻璃基板中所夾住的顯示元件與黏著劑片間的密著性。
作為矽烷系化合物，可列舉例如：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙基丙基二甲氧基甲 基矽烷、3-環氧丙基丙基乙氧基二甲基矽烷等。此等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
矽烷系化合物亦可為矽氧寡聚物型者。將矽氧寡聚物以(單體)寡聚物的形式表示時，可列舉例如下述所示者。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、及3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有巰基丙基之共聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、及巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有巰基甲基的共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、及3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基的共聚物； 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、及3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有丙烯醯氧基丙基的共聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、及乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有乙烯基的共聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、及3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷- 四乙氧基矽烷共聚物等含有胺基的共聚物等。
相對於丙烯酸樹脂的固形份100質量份(使用2種以上時為此等的合計100質量份)，黏著劑組成物中之矽烷系化合物的調配量，通常使用0.01至10質量份左右，較佳為使用0.01至5質量份的比率。相對於丙烯酸樹脂的固形份100質量份，矽烷系化合物的量為0.01質量份以上時，由於提升黏著劑片與顯示元件的密著性故為較佳。又，此量為10質量份以下時，由於有抑制自黏著劑片滲出矽烷系化合物之傾向故為較佳。
又，黏著劑組成物，亦可含有交聯觸媒、抗靜電劑、抗氧化劑、耐候安定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料、丙烯酸樹脂之外的樹脂等。作為抗氧化劑，可以列舉：氫醌、二丁基羥基甲苯、2,2’-亞甲基雙(6-第三丁基-4-甲酚)、3,9-雙[2-[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯基氧基]-1,1-二甲基乙基]-2,4,8,10-四氧雜螺[5,5]十一烷、1,3,5-參(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、6,6’-二-第三丁基-4,4’-丁烯基二-間甲酚等酚系抗氧化劑；亞磷酸三異癸酯、亞磷酸參(4-壬基苯基)酯、亞磷酸2,2’-亞甲基雙(4,6-二-第三丁基苯基)2-乙基己酯、亞磷酸參(2,4-二-第三丁基苯基)酯等磷系抗氧化劑；3,3’-硫代雙丙酸二(十三烷基)酯、雙[3-(十二烷基硫代)丙酸]2,2-雙[[3-(十二烷基硫代)-1-氧雜丙氧基]甲基]-1,3-丙烷二基、雙[3-(十二烷基硫代)丙酸]2,2-雙[[3-(十二烷基硫代)-1-側氧基丙氧基]甲基]-1,3- 丙二基等硫系抗氧化劑；甲基丙烯酸2,2,6,6-四甲基-4-哌啶、甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶、碳酸雙(2,2,6,6-四甲基-1-十一烷氧基哌啶-4-基)酯、丁烷-1,2,3,4-四羧酸肆(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯等胺系抗化劑。
又，黏著劑組成物中調配紫外線硬化性化合物，於黏著劑片形成後照射紫外線後使其硬化，成為更硬的黏著劑片亦有用。其中，在黏著劑組成物中若一起調配交聯劑與交聯觸媒的話，可將黏著劑片以短時間的熟成來調製，在獲得的光學積層體中，有可抑制於偏光板或保護膜等與黏著劑片之間浮起或剝離之發生、抑制黏著劑片內發泡之產生，又再加工性亦成為良好之情形。作為交聯觸媒，可列舉例如：六亞甲基二胺、伸乙基二胺、聚伸乙基亞胺、六亞甲基四胺、二伸乙基三胺、三伸乙基四胺、異氟爾酮二胺、三亞甲基二胺、聚胺基樹脂、三聚氰胺樹脂等胺系化合物等。黏著劑組成物中調配胺系化合物作為交聯觸媒時，作為交聯劑較佳為異氰酸酯系化合物。
構成黏著劑的前述各成分，亦可以已溶解在溶劑的狀態來構成黏著劑組成物。作為所述之溶劑，可列舉例如：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基賽珞蘇、丁基賽珞蘇、丙二醇單甲基醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、2-丁酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯、 二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶劑；以及，氯仿、氯苯等氯化烴溶劑。其中，從各成分的溶解性，及環境負荷降低的觀點而言，較佳為2-丁基酮、甲基異丁基酮等。
黏著劑片，例如可藉由將如上述的黏著劑組成物作成有機溶劑溶液，將此溶液以積層之方式藉由模具塗佈機或凹版塗佈機等在膜或層(例如偏光板或保護膜等)上進行塗佈，使其乾燥的方法來設置。又，亦可藉由將形成在經實施離型處理之塑膠膜(亦稱為分離膜)上的片狀黏著劑，以積層之方式轉印至膜或層之方法來設置。
本發明的其他實施態樣，提供含有本發明的光學膜、與偏光膜之積層偏光膜(也稱為「本發明的積層偏光膜」)。在此，所謂偏光膜，係指具有對於自然光等入射光射出偏光的功能之光學膜。在偏光膜中，係具有吸收具有入射到膜面的某方向的振動面之直線偏光，使具有與其垂直的振動面之直線偏光穿透的性質之直線偏光膜；具有反射具有入射到膜面的某方向振動面之直線偏光，使具有與其垂直振動面的直線偏光穿透之性質的偏光分離膜；積層有偏光膜與後述的相位差膜之橢圓偏光板等。作為偏光膜，特別是直線偏光膜(也有稱為偏光元件)之較佳具體例，可以列舉：使經單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜或聚合性液晶化合物的聚合物吸著配向碘或二色性染料等二色性色素者。積層偏光膜，係含有偏光膜、本發明的光學膜，例如黏著劑片、保護膜、相位差膜等之積層光學膜。含有 偏光膜與黏著劑片之積層光學膜，特別是指在偏光膜上積層有黏著劑片的積層光學膜，亦稱為附有黏著劑的偏光板。
本發明的積層偏光膜，較佳為滿足下述式(4)。
Ap(400)≧0.4 (4)
式(4)中，Ap(400)表示在波長400nm中偏光膜的穿透軸方向之吸光度。Ap(400)的值越大則表示在波長400nm中之吸收越高，此值未達0.4時，在波長400nm的吸收較弱，難以確保對400nm附近短波長的可見光有充分的高耐光性。因此，在本發明的積層偏光膜中之Ap(400)的值，較佳為0.4以上，更佳為0.6以上，又更佳為0.8以上，又再更佳為1以上，特佳為1.2以上，特別更佳為1.5以上，非常佳為1.8以上，例如2以上。Ap(400)的值之上限並無特別限定，惟從抑制積層偏光膜中之光吸收性組成物的滲出之觀點而言，通常較佳為5以下。
又，本發明的積層偏光膜較佳為滿足下述式(5)。
Ap(420)/Ap(400)≦0.3 (5)
式(5)中，Ap(400)表示波長400nm中之偏光膜的穿透軸方向的吸光度，Ap(420)表示波長420nm中之偏光膜的穿透軸方向的吸光度。Ap(420)/Ap(400)的值表示在波長420nm中的吸收強度相對於在波長400nm中的吸收強度，此值越小，則與420nm附近的波長區之吸收相比較，在400nm附近的波長區中有特異的吸收。此值較小則淡黃色越少， 有得到透明的積層偏光膜之傾向。
上述積層偏光膜滿足上述式(5)時，會吸收波長400nm的光而另一方面難以吸收波長420nm的光，並且難以吸收藍色的可見光，故難以阻礙良好的色彩表現，可進一步呈現藍光削減功能。在光學積層體中組合有所述之積層偏光膜時，可抑制構成光學積層體的構件(例如，相位差膜等的光學膜、有機EL元件或液晶顯示元件等的顯示元件)因短波長的可見光(亦即波長400nm附近的光)可對性能造成的劣化。上述積層偏光膜中之Ap(420)/Ap(400)的值，較佳為0.25以下，更佳為0.2以下，又更佳為0.15以下，例如0.1以下。此值之下限值並無特別限定者，但從維持上述積層偏光膜之400nm附近的吸收能之觀點而言，通常較佳為0.01以上。在本發明之一較佳實施態樣中，Ap(420)/Ap(400)的值為0.05至0.15。
本發明的其他實施態樣，提供含有本發明的光學膜、與相位差膜之積層相位差膜(也稱為「本發明的積層相位差膜」)。在此，所謂相位差膜，係表示光學異方性的光學膜，可列舉例如：將包含聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏氟乙烯/聚甲基甲基丙烯酸酯、乙醯纖維素、乙烯基-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等之高分子膜，藉由延伸成1.01至6倍左右而得到的延伸膜等。其中，較佳為將聚碳酸酯膜、環烯烴系樹脂膜進行單軸延伸或雙軸延伸的高分子膜。又，本發明中之光學積層體含 有相位差膜時，從薄型化的觀點而言，較佳為含有藉由塗佈/配向聚合性液晶化合物而展現光學異方性之相位差膜。
積層相位差膜，係含有相位差膜、本發明的光學膜，例如黏著劑片、保護膜、及偏光膜等的積層光學膜。再者，本發明亦提供，含有本發明的光學膜、偏光膜、及相位差膜之橢圓偏光膜(也稱為「本發明的橢圓偏光膜」)。橢圓偏光膜，係含有相位差膜、偏光膜、及本發明的光學膜之積層光學膜。此外，含有相位差膜與黏著劑片之積層光學膜，特別是在相位差膜上積層有黏著劑片的積層光學膜，亦稱為附有黏著劑的相位差膜。
本發明的積層相位差膜，較佳為滿足下述式(6)。
100nm≦Re(550)≦170nm (6)
藉由具有上述式(6)所示的光學特性，本發明的積層相位差膜係可作用為1/4波長板。此外，本發明的積層相位差膜，理論上較佳為Re(550)=137.5nm，惟作為得到良好顯示特性的範圍，較佳為滿足下述式(6-1)。
130nm≦Re(550)≦150nm (6-1)
本發明的積層相位差膜中，相位差膜較佳為具有逆波長分散性。逆波長分散性是指，在短波長的面內相位差值大於在長波長的面內相位差值之光學特性，較佳為，相位差膜滿足下述式(7)及式(8)。此外，Re(λ)表示對波長λ nm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
本發明的積層相位差膜中，相位差膜具有逆波長分散性時，降低顯示裝置中之顯示黑時的著色故較佳，若前述式(7)中0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93則更佳。
本發明的積層相位差膜中，相位差膜較佳為是由聚合性液晶化合物的配向狀態聚合物而成的層(以下，有稱為「光學異方性層」的情形)。聚合性液晶化合物，係指具有聚合性官能基，特別是光聚合性官能基的液晶化合物。光聚合性官能基，係指藉由自光聚合起始劑所產生的活性自由基或氧等可進行相關聚合反應的基。作為光聚合性官能基，可列舉：乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧基自由基、氧雜環丁烷基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、氧基自由基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯氧基為。液晶性可為熱致性(thermotropic)液晶亦可為溶致性(lyotropic)液晶，惟以可控制緻密膜厚之觀點而言，較佳為熱致性液晶。又熱致性液晶中作為相秩序結構者可為向列型(nematic state)液晶亦可為近晶型(smectic state)液晶。
本發明中，作為前述聚合性液晶化合物者，從展現前述逆波長分散性之觀點而言，特佳為下述式(III)的結構。
式(III)中，Ar表示2價芳香族基，該2價芳香族基含有氮原子、氧原子、硫原子中的至少1個以上。
G1及G2各自獨立地表示2價芳香族基或2價脂環式烴基。在此，該2價芳香族基或2價脂環式烴基中所含有的氫原子，亦可被鹵素原子、碳數1至4的烷基、碳數1至4的氟烷基、碳數1至4的烷氧基、氰基或硝基所取代，構成該2價芳香族基或2價脂環式烴基的碳原子，亦可被氧原子、硫原子或氮原子所取代。
L1、L2、B1及B2是各自獨立，為單鍵或二價連結基。
k及l各自獨立地表示0至3的整數，滿足1≦k+l的關係。在此，2≦k+l時，B1及B2、G1及G2各自可互為相同亦可為相異。
E1及E2各自獨立地表示碳數1至17的烷二基，在此，在烷二基中所含有的氫原子，亦可被鹵素原子所取代，在該烷二基中所含的-CH2-，亦可被-O-、-Si-取代。
P1及P2相互獨立地表示聚合性基或氫原子，至少1個是聚合性基。
G1及G2是各自獨立，較佳為，可被選自鹵素原子及碳數1至4的烷基所成群組中至少1個的取代基取代之1,4-苯基、可被選自鹵素原子及碳數1至4的烷基所成群組中至少1個的取代基取代之1,4-環己基，更佳為經甲基取代之1,4-苯基、無取代的1,4-苯基、或無取代的1,4-反式-環己基，特佳為無取代的1,4-苯基、或無取代的1,4-反式-環己基。
又，較佳為存在複數個的G1及G2之中，至少1個為2價脂環式烴基，又，更佳為鍵結至L1或L2的G1及G2之中，至少1個為2價脂環式烴基。
L1及L2是各自獨立，較佳為，單鍵、-O-、-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-N=N-、-CRa=CRb-、或-C≡C-。在此Ra及Rb表示碳數1至4的烷基或氫原子。L1及L2是各自獨立，更佳為單鍵、-O-、-CH2CH2-、-COO-、或-OCO-。
B1及B2是各自獨立，較佳為，單鍵、-O-、-S-、-CH2O-、-COO-、或-OCO-，更佳為，單鍵、-O-、-COO-、或-OCO-。
從展現逆波長分散性的觀點而言，k及l，較佳為2≦k+l≦6的範圍，k+l=4為較佳，k=2且l=2為更佳。k=2並且l=2時，成為對稱結構故為較佳。
E1及E2是各自獨立，較佳為碳數1至17的烷二基，更佳為碳數4至12的烷二基。
作為P1或P2所示之聚合性基，可列舉：環氧基、乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯基氧基、甲基丙烯醯氧基、氧基自由基、及氧雜環丁烷基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、氧自由基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯氧基。
Ar較佳為具有芳香族雜環。作為該芳香族雜環，可列舉：呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、噻吩環、 吡啶環、噻唑環、苯并噻唑環、噻吩並噻唑環、唑環、苯并唑環、及菲咯啉(phenanthroline)環等。其中，較佳為具有噻唑環、苯并噻唑環、或苯并呋喃環，更佳為具有苯并噻唑基者。又，Ar中含有氮原子時，該氮原子較佳為具有π電子。
式(III)中，Ar所示之2價芳香族基所含的π電子之合計數Nπ較佳為10以上，更佳為14以上，又更佳為18以上。又，較佳為30以下，更佳為26以下，又更佳為24以下。
作為Ar所示之芳香族基，可列舉例如下述的基。
式(Ar-1)至式(Ar-20)中，＊記號表示連結處，Z0、Z1及Z2各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1至12的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷基亞磺醯基、碳數1至12的烷基磺醯基、羧基、碳數1至12的氟烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷基硫基、碳數1至12的N-烷基胺基、碳數2至12的N,N-二烷基胺基、碳數1至12的N-烷基胺磺醯基或碳數2至12的N,N-二烷基胺磺醯基。
Q1、Q2及Q3各自獨立地表示-CR2’R3’-、-S-、-NH-、-NR2’-、-CO-或-O，其中，R2’及R3’各自獨立地表示氫原子或碳數1至4的烷基。
Y1、Y2及Y3各自獨立地表示可被取代的芳香族烴基或芳香族雜環基。
W1及W2各自獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵素原子，m表示0至6的整數。
Y1、Y2及Y3中作為芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、菲基、聯苯基等碳數6至20的芳香族烴基，較佳為苯基、萘基、更佳為苯基。作為芳香族雜環基，可列舉：呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等含有至少1個氮原子、氧原子、硫原子等雜原子之碳數4至20的芳香族雜環基，較佳為呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。
Y1、Y2及Y3是各自獨立，可為可被取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族 烴基，係指合多環系芳香族烴基、或源自縮芳香環集合之基。多環系芳香族雜環基，係指縮合多環系芳香族雜環基、或源自芳香環集合之基。
Z0、Z1及Z2是各自獨立，較佳為氫原子、鹵素原子、碳數1至6的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷氧基，Z0更佳為氫原子、碳數1至12的烷基、氰基，Z1及Z2更佳為氫原子、氟原子，氯原子、甲基、氰基。
Q1、Q2及Q3較佳為-NH-、-S-、-NR2’-、-O-，R2’較佳為氫原子。其中，特佳為以-S-、-O-、-NH-。
式(Ar-1)至(Ar-20)之中，從分子安定性之觀點而言，較佳為式(Ar-6)及式(Ar-7)。
式(Ar-14)至(Ar-20)中，Y1亦可為與其鍵結的氮原子及Z0一起形成芳香族雜環基。可列舉例如：吡咯環、咪唑環、吡咯啉環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯烷環等。此芳香族雜環基亦可具有取代基。又，Y1可為與其鍵結的氮原子及Z0一起之前述的可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。
光學異方性層，係藉由將含有上述聚合性液晶化合物之組成物(也稱為「光學異方性層形成用組成物」)，以例如光照射等進行硬化而形成。光學異方性層形成用組成物可含有各種添加劑，作為添加劑，可列舉：上述聚合起始劑、聚合抑制劑、光增感劑及塗佈劑。在上述光學異方性層形成用組成物的固形份100質量份中，聚合性液晶化合物所佔有的合計含量，通常為70質量份至99.5 質量份，較佳為80質量份至99質量份，更佳為80質量份至94質量份，又更佳為80質量份至90質量份。上述合計的含量若為上述範圍內，則得到的光學異方性層之配向性有變高之傾向。在此，固形份係指從組成物中去除溶劑後的成分之合計量。
本發明的其他實施態樣中，亦可提供具備有上述光學膜、積層偏光膜、積層相位差膜、或橢圓偏光膜的任一者的顯示裝置。所述之顯示裝置，由於含有上述光吸收性組成物之構件，故可抑制相位差膜等的光學膜、顯示元件的劣化，又，可展現削減藍光的功能。再者，上述光吸收性組成物，由於對波長400nm附近的光的光選擇吸收性優異，故難以吸收藍色光波長的430nm附近之光，因而影像顯示裝置可呈現良好的色彩。
[實施例]
以下，藉由實施例及比較例進一步詳細地說明本發明。實施例及比較例中的「%」及「份」，若無特別記載限制，係指「質量%」及「質量份」。
<凝膠滲透層析分析法測定>
又，在以下的例子中，重量平均分子量及數量平均分子量的測定，係在凝膠滲透層析分析儀(以下，記載為GPC)的裝置(GPC-8120，東曹(股)製)中，作為管柱，為4根「TSK gel XL(東曹(股)製)」、及1根「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」，共計5根以串聯之方式配置，作為溶出液者是使用四氫呋喃，試料濃度為5mg/mL，試料導入量100μ L，溫度40℃，流速1mL/分鐘的條件下進行，藉由標準聚苯乙烯換算而計算出。
<丙烯酸樹脂的調製>
依照表1所示的組成，藉由下述之方法，調製出丙烯酸樹脂(a)及丙烯酸樹脂(b)。
[聚合例1]丙烯酸樹脂(a)的調製
在具備有冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，饋入作為溶媒的乙酸乙酯81.8份，作為單體(A-1)的丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、以及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、作為單體(A-2)的丙烯酸2-羥基乙酯1.0份及丙烯酸0.6份的混合溶液，一邊以氮氣置換裝置內的空氣使裝置內不含氧一邊將內溫昇到55℃。之後，將在乙酸乙酯10份中溶解有偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份之溶液全量添加。添加聚合起始劑後1小時，維持此溫度，接著一邊將內溫維持在54至56℃中一邊以17.3份/hr之添加速度將乙酸乙酯連續地加到反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時間點終止乙酸乙酯的添加，進一步自乙酸乙酯的添加開始經過12小時為止保持在此溫度。最後以使丙烯酸樹脂的濃度調整為20%之方式添加乙酸乙酯，調製出丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得的丙烯酸樹脂以GPC經聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw是142萬，Mw/Mn是5.2。將此作為丙烯酸樹脂(a)。
[聚合例2]丙烯酸樹脂(b)的調製
在具備有冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反 應容器中，饋入作為溶劑的乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)的丙烯酸丁酯96.0份及作為單體(A-2)的丙烯酸4.0份之混合溶液，一邊以氮氣取代裝置內的空氣使裝置內不含氧一邊將內溫上昇到55℃。之後，將在乙酸乙酯10份中溶解有偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份之溶液全量添加。聚合起始劑添加後1小時保持在此溫度，其次一面將內溫維持在54至56℃一邊以17.3份/hr的添加速度將乙酸乙酯連續地加到反應容器內，在丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時間點終止乙酸乙酯的添加，又自添加乙酸乙酯開始經過12小時為止保持在此溫度。最後以使丙烯酸樹脂的濃度成為20%之方式添加乙酸乙酯，而調製出丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。得到的丙烯酸樹脂以GPC經聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw是75萬6000，Mw/Mn是4.1。將此作為丙烯酸樹脂(b)。
<黏著劑組成物及黏著劑片的調製>
(a)黏著劑組成物的調製
如下述，將丙烯酸樹脂(a)、光選擇吸收性化合物(紫外線吸收劑)、交聯劑及矽烷系化合物混合，調製出各個黏著劑組成物。
此外，交聯劑及矽烷系化合物係如下述。光選擇吸收性化合物(化合物(1)至(9))的結構及物性表示於表2。又，將光選擇吸收性化合物(化合物(1)至(9))的添加量示於表3及5，惟此添加量是相對於丙烯酸樹脂中的固形份100質量份之質量份。交聯劑及光選擇吸收性化合物，係各自與2-丁酮混合而添加到丙烯酸樹脂。
[交聯劑]
˙CORONATEL：甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固形份濃度75%)，日本聚胺酯股份有限公司製
˙TAKENATE D-110N：二甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷付加物的乙酸乙酯溶液(固形份濃度75%)，三井化學股份有限公司製(以下，簡稱為「D110N」)
[矽烷系化合物]
˙KBM-403：3-環氧丙基丙基三甲氧基矽烷，液體，信越化學工業股份有限公司製
[光選擇吸收性化合物]
<光選擇吸收性化合物的合成>
(合成例1)
在設置有戴氏冷卻管(Dimroth condenser)及 溫度計的200mL-四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入參考專利文獻(日本特開2011-184414)而合成的中間物1粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)3.7g、嗎啉(和光純藥(股)製)2.5g，及2-丙醇(和光純藥工業(股)製)15g，以磁力攪拌器攪拌。將內溫昇溫到72℃，攪拌3小時。反應完成後，冷卻到室溫，使用蒸發器蒸餾去除溶劑。在所得的濃縮液中，添加甲醇17g及水3g的混合液，得到結晶。該結晶藉由40℃減壓乾燥，得到為黃色粉末之化合物(1)2.0g。產率是70%。
又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)，測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=389nm(2-丁酮中)，ε(400)是171L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)是0.0251。
進行化合物(1)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.55(s,6H)、3.55-3.73(m,8H)、6.83(q,1H)、7.87(d,1H)、8.00(d,1H)
(合成例2)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入中間物2粉末(和光純藥工業(股)製)3g、氰基乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業(股)製)2.2g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)12g，以磁力攪拌器 攪拌。將內溫昇溫至75℃後，滴下吡啶(和光純藥工業(股)製)1.1g，攪拌6小時。反應完成後，冷卻到室溫，使用蒸發器蒸餾去除溶劑。在所得的濃縮液中，添加甲苯20g、4.1質量%的鹽酸水溶液30g，將甲苯溶液分液洗淨。進一步，在甲苯溶液中添加水40g，進行分液洗淨。使用蒸發器蒸餾去除甲苯，得到結晶。該結晶藉由40℃減壓乾燥，得到為黃色粉末之化合物(2)3.5g。產率是73%。
又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=386nm(在2-丁酮中)，ε(400)是51L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)是0.165。
進行化合物(2)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t,3H)、3.56(q,2H)、3.69-3.73(m,5H)、4.37(m,2H)、7.36-7.44(m,5H)、7.56-7.58(m,3H)、8.42-8.46(m,1H)
(合成例3)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入參考專利文獻(日本特開2014-194508)而合成的中間物3粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)3.7g、氰基乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業(股)製)5.8g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)60g，以磁石攪拌器 攪拌。於內溫25℃，將N,N-二異丙基乙胺(以下，簡稱為DIPEA。東京化成工業(股)製)4.7g花費1小時自滴下漏斗滴下，滴下完成後於內溫25℃再保溫2小時。反應完成後，使用減壓蒸發器去除乙腈，在所得的油狀物中加入甲苯，將生成的不溶成分過濾取出去除。再度使用減壓蒸發器濃縮濾液，將濃縮後的溶液供給至管柱層析分析儀(矽膠)進行精製，獲得從甲苯再結晶之目的物。該結晶藉由60℃減壓乾燥，得到為黃色粉末的化合物(3)5.2g。產率是65%。
又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=389nm(在2-丁酮中)，ε(400)是125L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)是0.0153。
進行化合物(3)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t,3H)、2.10(quin.2H)、2.98-3.04(m,5H)、3.54-3.72(m,6H)、4.31(t,2H)、5.53(d,2H)、7.93(d,2H)
(合成例4)
在設置有戴氏冷卻管、溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入參考專利文獻(日本特開2014-194508)而合成之中間物3粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰基乙酸2-乙基己酯(東京化 成工業股份有限公司製)6.9g、及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁石攪拌器攪拌。在內溫25℃，將DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g自滴下漏斗花費1小時滴下，於滴下完成後在內溫25℃中再保溫2小時。反應完成後，使用減壓蒸發器去除乙腈，供給至管柱層析分析儀(矽膠)進行精製，將含有化合物(4)的流出液使用減壓蒸發器去除溶劑，得到黃色結晶。將該結晶藉由60℃減壓乾燥，得到為黃色粉末的化合物(4)4.6g。產率是50%。
使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=389nm(在2-丁酮中)，ε(400)的值是108L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)的值是0.013。
進行化合物(4)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m,6H)、1.32-1.67(m,8H)、1.59-1.66(m,2H)、2.09(quin,2H)、3.00(m,5H)、3.64(t,2H)、4.10(dd,2H)、5.52(d,2H)、7.87(d,2H)
(合成例5)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入氰基乙酸(東京化成工業(股)製)2.0g、三乙二醇單甲基醚(東京化成工業(股)製)4.3g、對甲苯磺酸一水合物(和光純藥工業(股)製)0.2g、甲苯(和光 純藥工業(股)製)20g，以磁石攪拌器攪拌。將內溫昇溫到110℃，攪拌3小時。反應完成後，在甲苯溶液中添加水40g，進行分液洗淨。使用蒸發器將所得的甲苯溶液蒸餾去除甲苯，得到為油狀液體的中間物4 4.7g。產率是86%。
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入中間物2粉末(和光純藥工業(股)製)2.0g、中間物4 2.6g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)8.0g，以磁石攪拌器攪拌。將內溫昇溫到75℃，將哌啶(和光純藥工業(股)製)0.7g自滴下漏斗花費1小時滴下，在滴下完成後，於內溫75℃中再保溫6小時。
反應完成後，冷卻到室溫，使用蒸發器蒸餾去除溶劑。在所得的濃縮液中添加乙酸乙酯(和光純藥工業(股)製)10g、水20g，將乙酸乙酯溶液分液洗淨。使用蒸發器將所得的乙酸乙酯溶液蒸餾去除乙酸乙酯，得到為油狀液體的化合物(5)3.6g。產率是93%。
進行化合物(5)的1H-NMR測定。此結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.26(t,1H)、2.04(s,1H)、3.37(s,3H)、3.64-3.71(m,12H)、4.37(dd,2H)、7.35-7.46(m,5H)、7.54-7.59(m,3H)、8.42-8.46(m,1H)
(合成例6)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入中間物2粉末(和光純藥工業(股)製)3.0g、氰基乙酸2-乙基己酯(東京化成工業(股)製)2.7g、吡啶(和光純藥工業(股)製)1.0g及乙腈(和光純藥工業(股)製)12.0g，以磁石攪拌器攪拌。將內溫昇溫到75℃，並且保溫6小時。反應完成後，冷卻到室溫，將析出的結晶過濾。將該結晶以乙腈(和光純藥工業(股)製)10g洗淨，進一步將該結晶藉由40℃減壓乾燥，得到為黃色粉末的化合物(6)4.3g。產率是81%。
進行化合物(6)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.90(t,6H)、1.03-1.62(m,10H)、2.35(s,1H)、3.72(s,3H)、4.13(q,2H)、7.16-7.26(m,1H)、7.36-7.44(m,4H)、7.56-7.58(m,2H)、8.44-8.49(m,1H)
(合成例7)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入中間物3粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)2.9g、氰基乙酸異丁酯(東京化成工業(股)製)4.4g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)30g，以磁石攪拌器攪拌。在內溫25℃中，將DIPEA(東京化成工業(股)製)3.7g自滴下漏斗花費1小時滴下，於滴下完成後在內溫25℃再保溫2小時。反應完成後，在冷水150g中滴下乙腈溶液，過濾析出的結晶。將該結晶以水2g、乙腈10g的混合溶液洗淨，進一步將該結晶以庚烷10g洗淨。經洗淨的該結晶藉由70℃減壓乾燥，得到為黃色粉末的化合物(7)5.2g。產率是84%。
又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=389nm(在2-丁酮中)，ε(400)是130L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)是0.0092。
進行化合物(7)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.97(d,6H)、1.95-2.15(m,3H)、3.00(t,5H)、3.64(t,2H)、3.95(d,2H)、5.53(d,1H)、7.92(d,1H)
(合成例8)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入氰基乙酸(東京化成工業(股) 製)6.3g、2-正辛基-1-十二烷醇(東京化成工業(股)製)20.0g、對甲苯磺酸一水合物(和光純藥工業(股)製)0.6g、甲苯(和光純藥工業(股)製)100g，以磁力攪拌器攪拌。將內溫昇溫到110℃，攪拌3小時。反應完成後，在甲苯溶液中添加水100g，進行分液洗淨。使用蒸發器將所得的甲苯溶液蒸餾去除甲苯，得到為液體的中間物5 22g。產率是90%。
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入中間物3粉末6g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)1.8g、中間物5 6.3g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)18g，以磁力攪拌器攪拌。在內溫25℃中將DIPEA(東京化成工業(股)製)3.7g自滴下漏斗花費1小時滴下，滴下完成後，在內溫25℃中再保溫2小時。反應完成後，在冷水90g中將乙腈溶液滴下，過濾析出的結晶。將該結晶以水2g、乙腈10g的混合溶液洗淨，進一步將該結晶以庚烷10g洗淨。經洗淨的該結晶藉由70℃減壓乾燥，得到為黃色粉末的化合物(8)6.5g。產率是92%。
又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=389nm(2-丁酮中)，ε (400)是52L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)是0.0121。
進行化合物(8)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.88(t,6H)、1.68(s,1H)、2.09(q,2H)、2.97-3.03(t,5H)、3.64(t,2H)、4.07(d,2H)、5.52(d,1H)、7.90(d,1H)
(合成例9)
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入氰乙酸(東京化成工業(股)製)14g、2-乙基-1-丁醇(東京化成工業(股)製)15g、對甲苯磺酸一水合物(和光純藥工業(股)製)1.4g、甲苯(和光純藥工業(股)製)75g，以磁力攪拌器攪拌。將內溫昇溫到110℃，攪拌3小時。反應完成後，在甲苯溶液中添加水100g，進行分液洗淨。使用蒸發器將所到的甲苯溶液蒸餾去除甲苯，得到為液體的中間物6 22g。產率是90%。
在設置有戴氏冷卻管及溫度計的200mL四口燒瓶內，於氮氣環境中，饋入中間物3粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)2.9g、中間物6 4.8g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)30g，以磁力攪拌器攪拌。在內溫25℃中，將DIPEA(東京化成工業(股)製)3.7g由滴下漏斗花費1小時滴下，滴下完成後，在內溫25℃中再保溫2小時。反應完成後，在冷水150g中滴下乙腈溶液，過濾析出的結晶。將該結晶以水2g、乙腈10g的混合溶液洗淨，進一步將該結晶以庚烷10g洗淨。經洗淨的該結晶藉由70℃減壓乾燥，得到為黃色粉末的化合物(9)5.7g。產率是84%。
又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)測定吸收最大波長(λ max)時，λ max=389nm(在2-丁酮中)，ε(400)是118L/(g‧cm)，ε(420)/ε(400)是0.0090。
進行化合物(9)的1H-NMR測定。其結果如下述。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.91(t,6H)、1.41(q,4H)、1.58(q,2H)、2.98-3.04(m,5H)、3.64(t,2H)、4.10(d,2H)、5.52(d,1H)、7.92(d,1H)
(a-1)製造例1：黏著劑組成物(1)的調製
相對於丙烯酸樹脂(a)的固形份100質量份，分別調配交聯劑(CORONATE L.)0.50質量份、矽烷系化合物(KBM-403)0.50質量份。進一步，以使固形份濃度成為14%之方式添加2-丁酮，使用攪拌機(Yamato科學股份有限公司製Three-One Motor)，以300rpm攪拌混合30分鐘，調製出黏著劑組成物(1)。
(a-2)製造例2至27：黏著劑組成物(2)至(27)的調製
相對於丙烯酸樹脂(a)的固形份100質量份，將交聯劑(CORONATE L)0.50質量份及矽烷系化合物(KBM-403)0.50質量份、以及表3所示的光選擇吸收性化合物(化合物(1)至(9))，以表3所示之量進行調配。進一步，以使固形份濃度成為14質量%之方式添加2-丁酮，使用攪拌機(Yamato科學股份有限公司製Three-One Motor)，以300rpm攪拌混合30分鐘，分別調製出黏著劑組成物(2)至(27)。
針對製造例2至27得到的黏著劑組成物(2)至(27)，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)，測定最大吸收波長λ max。又，亦測定ε(400)及ε(420)，計算出ε(420)/ε(400)。將其結果示於表4。
(a-3)製造例28：黏著劑組成物(28)的調製
相對於丙烯酸樹脂(b)的固形份100質量份，分別調配交聯劑(CORONATE L)0.50質量份、矽烷系化合物(KBM-403)0.50質量份。進一步，以使固形份濃度成為14%之方式添加2-丁酮，使用攪拌機(Yamato科學股份有限公 司製Three-One Motor)，以300rpm攪拌混合30分鐘，調製出黏著劑組成物(28)。
(a-4)製造例29至52：黏著劑組成物(29)至(52)的調製
相對於丙烯酸樹脂(b)的固形份100質量份，將交聯劑(CORONATE L)0.50質量份及矽烷系化合物(KBM-403)0.50質量份、以及表5所示的光選擇吸收性化合物，以表5所示之量進行調配。進一步，以使固形份濃度成為14%的方式添加2-丁酮，使用攪拌機(Yamato科學股份有限公司製Three-One Motor)，以300rpm攪拌混合30分鐘，分別調製出黏著劑組成物(29)至(52)。
針對製造例29至52得到的黏著劑組成物(29)至(52)，使用分光光度計UV-3150(島津製作所(股)製)，測定最大吸收波長λ max。又，亦測定ε(400)及ε(420)，計算出ε(420)/ε(400)。其結果示於表6。
(b-1)參考例1
在經實施離型處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜(Lintec公司製SP-PLR 382050，以下，簡稱為「分離件」)的離型處理面上，將製造例1調製的黏著劑組成物(1)，以使乾燥後的黏著劑層厚度成為10μ的方式使用塗抹機進行塗佈，以100℃乾燥1分鐘，製作出黏著劑片(R1)。
藉由分光光度計(UV-3150；島津製作所(股)製)測定所 得的黏著劑片(R1)的光學特性。將結果示於表7。表中的T(400)表示波長400nm的穿透率(%)，T(420)表示波長420nm的穿透率(%)。
(b-2)參考例2
於分離件的離型處理面上，將製造例1調製的黏著劑組成物(1)，以使乾燥後的黏著劑層厚度成為5μm的方式使用塗抹機進行塗佈，以100℃乾燥1分鐘，製作出黏著劑片(R2)。藉由與參考例1同樣的方法測定得到的黏著劑片(R2)之光學特性。將結果示於表7。
(b-3)比較例1至17
取代黏著劑組成物(1)，分別使用製造例2至18所調製的黏著劑組成物(2)至(18)，藉由與參考例1同樣的方法，分別製作出比較例1至17的黏著劑片(C1)至(C17)。藉由與參考例1同樣的方法測定得到的黏著劑片(C1)至(C17)之光學特性。將結果示於表7。
(b-4)實施例1至9
取代黏著劑組成物(1)，分別使用製造例19至27所調製的黏著劑組成物(19)至(27)，藉由與參考例1同樣的方法，分別製作出實施例1至9的黏著劑片(E1)至(E9)。藉由與參考例1同樣的方法測定所得的黏著劑片(E1)至(E9)之光學特性。將結果示於表7。
(b-5)實施例10至14
取代黏著劑組成物(1)，使用製造例19至23所調製的黏著劑組成物(19)至(23)，藉由與參考例2同樣的方法，分 別製作出實施例10至14的黏著劑片(E10)至(E14)。藉由與參考例1同樣的方法測定所得的黏著劑片(E10)至(E14)之光學特性。將結果示於表7。
(b-6)參考例3
使用製造例28所調製的黏著劑組成物(28)，藉由與參考例1同樣的方法，製作出參考例3的黏著劑片(R3)。藉由與參考例1同樣的方法測定所得的黏著劑片(R3)之光學特性，。將結果示於表8。
(b-7)比較例18至34
使用製造例29至45所調製的黏著劑組成物(29)至(45)，藉由與參考例1同樣的方法，分別製作出比較例18至34的黏著劑片(C18)至(C34)。藉由與參考例1同樣的方法測定所得的黏著劑片(C18)至(C34)之光學特性。將結果示於表8。
(b-8)實施例15至21
使用製造例46至52所調製的黏著劑組成物(46)至(52)，藉由與參考例1同樣的方法，分別製作出實施例15至21的黏著劑片(E15)至(E21)。藉由與參考例1同樣的方法測定所得的黏著劑片(E15)至(E21)之光學特性。將結果示於表8。
<黏著劑片的結晶析出評估>
[40℃加溫試驗(在表7及8記載為「加溫」)]
在恆溫槽(Espec股份有限公司製：型號PL-3KT)中，將上述黏著劑片分別投入，於溫度40℃的乾燥條件下，分 別放置7天及30天後，以目視觀察黏著劑片的外觀狀態，依照下述的評估基準進行評估。將此結果示於表7及8。
[40℃加溫試驗的評估基準]
A：在30天後的試樣中，幾乎看不到結晶析出等的外觀變化。
B：在7天後的試樣中，幾乎看不到結晶析出等的外觀變化。
C：在7天後的試樣中，可顯著地看到結晶析出等的外觀變化。
[-15℃冷卻試驗(於表7及8記載為「冷卻」)]
在恆溫槽中將上述黏著劑片投入，於溫度-15℃的乾燥條件下，分別放置7天及30天後，以目視觀察黏著劑片的外觀狀態，依照下述的評估基準進行評估。將此結果示於表7及8。
〔-15℃冷卻試驗的評估基準〕
A：在30天後的試樣中，幾乎看不到結晶析出等的外觀變化。
B：在7天後的試樣中，幾乎看不到結晶析出等的外觀變化。
C：在7天後的試樣中，可顯著地看到結晶析出等的外觀變化。
<積層光學膜的製作>
其次，如下所述，製作積層光學膜。積層光學膜的製作中，使用下述的聚合物膜。又，有關處理裝置、測定裝置及測定方法亦如下所述。
‧環烯烴聚合物(COP)膜：日本ZEON股份有限公司製的ZF-14
‧電暈處理裝置：春日電機股份有限公司製的AGF-B10
‧電暈處理的條件：使用上述電暈處理裝置，以輸出0.3kW，處理速度3m/分鐘的條件實施1次
‧偏光UV照射裝置：USHIO電機股份有限公司製的附偏光單元之SPOT CURE SP-7
‧雷射顯微鏡：Olympus股份有限公司製的LEXT
‧高壓水銀燈：USHIO電機股份有限公司製的UniQure VB-15201 BY-A
‧面內相位差值的測定：使用雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製的KOBRA-WR)測定
‧配向膜的膜厚測定：使用日本分光股份有限公司製的Ellipsometer M-220測定
在光學異方性層及積層體等的製造中，使用下述所示的「光配向膜形成用組成物」、「摩擦配向性聚合物組成物」、「含有聚合性液晶化合物A的組成物」，及「偏光板」。
<光配向膜形成用組成物的調製>
藉由混合下述結構的光配向性材料5份與環戊酮(溶劑)95份，將得到的混合物在80℃中攪拌1小時，而獲得光配向膜形成用組成物。
<含有聚合性液晶化合物A的組成物之調製>
將下述結構的聚合性液晶化合物A、與下述聚合起始劑與調平劑與溶劑作為成分混合，獲得含有聚合性液晶化合物A的組成物。此外，聚合性液晶化合物A是以日本特開2010-31223號公報所記載的方法來合成。聚合性液晶化合物A的最大吸收波長λ max(LC)是350nm。
‧聚合性液晶化合物A(12.0份)：
‧聚合起始劑(0.72份)：2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE 369；Ciba specialty chemicals公司製)
‧調平劑(0.12份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)
‧溶劑(100份)：環戊酮
<偏光板的製造>
將厚度30μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸成約4倍，進一步在保持緊張狀態下，直接在40℃的純水中浸漬40秒後，在碘/碘化鉀/水的重量比是0.044/5.7/100的染色水溶液中，於28℃浸漬30秒進行染色處理。之後，在碘 化鉀/硼酸/水的重量比是11.0/6.2/100的硼酸水溶液中於70℃浸漬120秒。接著，以8℃的純水洗淨15秒後，保持在300N的張力狀態，於60℃乾燥50秒，其次於75℃乾燥20秒，獲得在聚乙烯醇膜中吸著配向有碘的厚度12μm之偏光片。
在所得的偏光片、與環烯烴聚合物膜(COP，日本ZEON股份有限公司製ZF-4無UV吸收特性30μm)之間注入水系接著劑，以軋輥(nip roll)進行貼合。所得的貼合物一邊保持張力在430N/m，一邊在60℃乾燥2分鐘，獲得在單面具有環烯烴膜作為保護膜之42μm偏光板。此外，上述水系接著劑，係在水100份中添加羧基改質聚乙烯醇(東麗股份有限公司製；Kuraray Poval KL 318)3份、及水溶性聚醯胺環氧樹脂(住化化學科技股份有限公司製；Sumirez Resin 650；固形份濃度30%的水溶液)1.5份而調製。
如下所述，測定所得的偏光板的偏光度Py及單體穿透率Ty。
將穿透軸方向的單體穿透率(T1)及吸收軸方向的單體穿透率(T2)，使用在分光光度計(UV-3150；島津製作所股份有限公司製)中安裝有付有偏光片的夾具，藉由雙光束法以2nm步進於380至680nm的波長範圍中測定。使用下述式(p)及(q)，藉由各波長中單體穿透率，計算出偏光度，又藉由JIS Z8701的2度視野(C光源)進行視感度補正，計算出視感度補正單體穿透率(Ty)及視感度補正偏光度 (Py)。其結果，得到的視感度補正單體穿透率Ty為43.0%，視感度補正偏光度Py為99.99%的吸收型偏光板。
單體穿透率Ty(%)={(T1+T2)/2}×100 (p)
偏光度Py(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 (q)
<光學異方性層的製造>
將環烯烴聚合物膜(COP，日本ZEON股份有限公司製ZF-14)使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW，處理速度3m/分鐘的條件處理1次。在經實施電暈處理的表面，將光配向膜形成用組成物以棒塗佈機進行塗佈，於80℃中乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份有限公司製)，以100mJ/cm2的累積光量實施偏光UV曝光。將所得的配向膜之膜厚以Ellipsometer測定時，為100nm。
接著，在配向膜上，將由先前調製的含有聚合性液晶化合物A的組成物所成的塗佈液，使用棒塗佈機進行塗佈，於120℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(UniQure VB-15201 BY-A，USHIO電機股份有限公司製)，藉由從塗佈有塗佈液的面側照射(氮氣環境下，波長313nm中累積光量：500mJ/cm2)紫外線，可得到含有光學異方性層(相位差膜)的光學膜。所得的光學異方性層的膜厚以雷射顯微鏡測定時，為2μm。
(c-1)實施例22：積層光學膜(1)的製造
在上述光學膜的光學異方性層側，黏合實施例1所製作的黏著劑片(E1)，去除前述黏著劑片(E1)的分離件後，於 顯現出黏著劑組成物(19)的表面積層上述的偏光板。之後，使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW，處理速度3m/分鐘的條件處理1次，將上述偏光板與上述光學異方性層，通過黏著劑組成物(19)而貼合。此時，相對於偏光板的吸收軸，以使光學異方性層的慢軸之關係成為45°之方式積層，形成圓偏光板。之後，藉由剝離屬於上述光學膜基材之COP膜，獲得在偏光板上轉印有光學異方性層的積層光學膜(圓偏光板)1。所得的積層光學膜1的厚度是64μm。
為了測定積層光學膜1的光學特性，藉由在玻璃上轉印製作出測定用試樣。此試樣的波長450nm、波長550nm以及波長630nm之相位差值，係藉由雙折射測定裝置(KOBRA-WR；王子計測機器股份有限公司製)來測定，藉由分光光度計(UV-3150；島津製作所股份有限公司製)測定波長400nm以及波長420nm的穿透率。此外，藉由在光源側配置偏光棱鏡作成完全直線偏光，將此直線偏光照射到測定用試樣來測定。此時，與積層光學膜1(圓偏光板1)的偏光板側之穿透軸成平行入射直線偏光，測定在偏光板的穿透軸方向之波長400nm之積層光學膜的吸光度Ap(400)、以及在偏光板的穿透軸方向的波長420nm中之積層光學膜的吸光度Ap(420)。將此結果示於表9。又，積層光學膜1具有下述式(4)至(8)所示之全部的光學特性。
Ap(400)≧0.4 (4)
Ap(420)/Ap(400)≦0.3 (5)
100nm≦Re(550)≦170nm (6)
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
(c-2)參考例4至6、比較例35至39、及實施例23至42
分別使用下述表9中所記載的黏著劑片，藉由與實施例22同樣的方法，製作積層光學膜(圓偏光板)。所得的積層光學膜(圓偏光板)的光學特性，藉由與實施例22同樣的方法進行測定。
<積層光學膜的評估>
針對上述所製作的積層光學膜，進行光學耐久性試驗、耐熱試驗、耐濕熱試驗及耐熱衝擊試驗。又，各試驗 是依照下述的方法進行。
[光學耐久性試驗]
在日曬耐候儀(瓦斯試驗機股份有限公司製：型號SUN SHINE WEATHER METER S80)中投入積層光學膜，照射100小時後，測定波長450nm、波長550nm及波長630nm的相位差值Re(λ)。由光學耐久性試驗前後的相位差值之變化，依據下述的基準進行評估。將結果示於表10。
〔光學耐久性試驗的評估基準〕
A：光學耐久性試驗前後的相位差值之變化△Re(λ)未達5
B：光學耐久性試驗前後的相位差值的變化△Re(λ)是5以上未達10
C：光學耐久性試驗前後的相位差值的變化△Re(λ)是10以上
[耐熱試驗]
在恆溫槽(Espec股份有限公司製：型號PL-3KT)中投入積層光學膜，於溫度85℃的乾燥條件下分別放置250小時、500小時之後，以目視觀察積層光學膜的外觀狀態，依據下述的評估基準進行評估。將結果示於表10。
〔耐熱試驗的評估基準〕
A：在500小時後的試樣中，幾乎看不到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
B：在250小時後的試樣中，幾乎看不到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
C：在250小時後的試樣中，可顯著地看到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
[耐濕熱試驗]
在恆溫槽(Espec股份有限公司製：型號PH-4KT)中投入積層光學膜，在溫度60℃，相對濕度90%中，分別放置250小時、500小時之後，以目視觀察積層光學膜的外觀狀態，依據下述的評估基準進行評估。將結果示於表10。
〔耐濕熱試驗的評估基準〕
A：在500小時後的試樣，幾乎看不到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
B：250小時後的試樣中，幾乎看不到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
C：250小時後的試樣中，可顯著地看到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
[耐熱擊(HS)試驗]
在冷熱衝撃裝置(Espec股份有限公司製：型號TSA-71L-A)中投入積層光學膜，將加熱到70℃的狀態後降溫到-40℃，接著再昇溫到70℃的過程當作1個循環(30分鐘)，將此分別重覆進行50個循環、100個循環後，以目視觀察積層光學膜的外觀狀態。依據下述的評估基準進行評估。將結果示於表10。
〔耐熱衝擊試驗的評估基準〕
A：在100個循環後的試樣中，幾乎看不到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
B：在50循環後的試樣中，幾乎看不到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
C：在50循環後的試樣中，可顯著地看到浮起、剝離、發泡、結晶析出等的外觀變化。
可知相較於參考例4至6，由於實施例22至42的光學膜是在波長400nm中具有高吸收特性，故可抑制相位差膜的△Re(450)及△Re(550)。

Claims (15)

  1. 一種光吸收性組成物，係含有至少2種光選擇吸收性化合物，其中，前述至少2種光選擇吸收性化合物具有相同的共軛系結構。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光吸收性組成物，其中，前述具有相同共軛系結構的至少2種光選擇吸收性化合物中，最大吸收波長的最大值與最小值的差是5nm以下。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之光吸收性組成物，其中，前述至少2種光選擇吸收性化合物係下述式(I)或式(II)所示者： 式中，R 1表示氫原子或碳數1至10的烷基，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個可被氧原子或硫原子取代，R 2及R 3相互獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基，A表示亞甲基、二級胺基、氧原子或硫原子，X 1及X 2相互獨立地表示電子吸引性基，X 1及X 2可互相連結而形成環結構；式(II)： 式中，R 1、X 1、X 2與前述者為相同定義，A 2表示氫原子、碳數1至6的烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基，其中，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個可被二級胺基、氧原子、硫原子取代，該芳香族烴基及芳香族雜環基可具有取代基。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光選擇吸收性組成物，其中，前述式(I)所示之光選擇吸收性化合物是下述式(I-2)所示者： 式中，R 1與前述者為相同定義，R 4表示氫原子或碳數2至50的烷基，該烷基具有至少1個亞甲基時，該亞甲基的至少1個可被氧原子取代；前述式(II)所示之光選擇吸收性化合物是式(II-2)所表示者： 式中，R 1及R 4與前述者為相同定義。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之光吸收性組成物，其中，在前述光吸收性組成物所含有的具有相同共軛系結構的至少2種光選擇吸收性化合物中，光吸收性組成物中含量為最大之光選擇吸收性化合物的含量與其他光選擇吸收性化合物含量的總量之比率，係1：10至10：1。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之光吸收性組成物，係滿足下述式(1)、式(2)及式(3)：ε(420)/ε(400)≦0.3 (1) λ max≦420nm (2) ε(400)≧20 (3)式中，ε(420)表示波長420nm中的克吸光係數，ε(400)表示波長400nm中的克吸光係數，λ max表示最大吸收波長。
  7. 一種聚合物組成物，係含有申請專利範圍第1至6項中任一項所述之光吸收性組成物、與聚合物。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之聚合物組成物，其中，相對於前述聚合物100質量份，前述光吸收性組成物的 含量是1至15質量份。
  9. 一種光學膜，係由申請專利範圍第7或8項所述之聚合物組成物構成者。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之光學膜，其厚度是0.1至18μm。
  11. 一種積層偏光膜，係含有申請專利範圍第9或10項所述之光學膜、與偏光膜。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之積層偏光膜，係滿足下述式(4)及式(5)：Ap(400)≧0.4 (4) Ap(420)/Ap(400)≦0.3 (5)式中，Ap(400)表示波長400nm中，在偏光膜的穿透軸方向之光學膜的吸光度，Ap(420)表示波長420nm中，在偏光膜的穿透軸方向之光學膜的吸光度。
  13. 一種積層相位差膜，係含有申請專利範圍第9或10項所述之光學膜、與相位差膜。
  14. 一種橢圓偏光膜，係含有申請專利範圍第9或10項所述之光學膜、偏光膜、與相位差膜。
  15. 一種顯示裝置，係含有申請專利範圍第9至14項中任一項所述之膜。
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