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TW201906966A - 黏著劑組成物及附黏著劑層之膜 - Google Patents

黏著劑組成物及附黏著劑層之膜 Download PDF

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TW201906966A
TW201906966A TW107121713A TW107121713A TW201906966A TW 201906966 A TW201906966 A TW 201906966A TW 107121713 A TW107121713 A TW 107121713A TW 107121713 A TW107121713 A TW 107121713A TW 201906966 A TW201906966 A TW 201906966A
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TW
Taiwan
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meth
group
film
acrylate
adhesive layer
Prior art date
Application number
TW107121713A
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English (en)
Inventor
小澤昭一
国見信孝
淺津悠司
Original Assignee
日商住友化學股份有限公司
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Publication date
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Abstract

本發明提供一種黏著劑組成物，其對於相位差膜及有機EL發光元件之來自紫外線之400nm附近之短波長的可見光所造成的劣化，有良好的抑制功能。
本發明之黏著劑組成物含有式(I)所表示之化合物。
Figure TW201906966A_A0001
[式中，R1及R5分別獨立地表示氫原子、碳數1至25之烷基、碳數7至15之芳烷基、碳數6至15之芳基、雜環基。R1A表示氫原子或碳數1至6之烷基。R2、R3及R4分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6之烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基。R6及R7分別獨立地表示氫原子、碳數1至25之烷基或拉電子基。]

Description

黏著劑組成物及附黏著劑層之膜
本發明係關於一種黏著劑組成物及使用該黏著劑組成物之附黏著劑層之膜。
有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平板顯示器)係使用有機EL元件、液晶單元等顯示元件及偏光板等光學膜等的各式各樣的構件，該等構件在貼合時係使用黏著劑。又，該等構件所使用之有機EL化合物及液晶化合物，推測會因紫外線(UV)而劣化，除了紫外線之外，並發現短波長範圍的可見光亦會促進性能劣化。因此，於偏光板等光學膜，除了紫外線之外亦期盼對於400nm附近的光具有吸收特性。另一方面，為了賦予顯示裝置良好的吸收特性，必須對超過440nm的可見光範圍(例如，藍色光)不顯示吸收特性，則對於400nm附近之短波長的可見光具有高的吸收選擇性者極為重要。
作為解決如此問題的手段，於專利文獻1記載著於偏光板的保護膜添加紫外線吸收劑。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2006-308936號公報
然而，於前述專利文獻1所記載的偏光板，對於400nm附近之可見光的吸收特性低，在耐光性上並不一定能滿足。又，近年來，於液晶顯示器等顯示裝置，於長時間之顯示器視覺辨認時，有疲勞及視力降低的問題，作為其對策，需要能夠截斷短波長的可見光。另一方面，為了良好的色彩表現，較佳為不易吸收波長440nm附近的光。因此，期盼能選擇性吸收波長420nm附近之光的光學膜。
本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之膜(光學積層體)及可形成該附黏著劑層之膜的黏著劑組成物，該附黏著劑層之膜，當使用於顯示裝置時，具有良好的顯示特性，並且，可抑制紫外線至400nm附近之短波長的可見光所造成之光學膜的劣化。
本發明係包含以下發明。
[1]一種黏著劑組成物，其係含有式(I)所表示之化合物。
[式中，R1及R5分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25之烷基、可具有取代基之碳數7至15之芳烷基、碳數6至15之芳基、雜環基，該烷基或芳烷基所含之--CH2-可經-NR1A-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-取代。
R1A表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R2、R3及R4分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6之烷基、可具有取代基之芳香族烴基或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基所含之-CH2-可經-NR1B-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-取代。
R1B表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R6及R7分別獨立地表示氫原子、碳數1至25之烷基或拉電子基。
R1及R2可互相連接形成環構造，R2及R3可互相連接形成環構造，R2及R4可互相連接形成環構造，R3及R6可互相連接形成環構造，R6及R7可互相連接形成環構造。]
[2]如[1]所記載之黏著劑組成物，其中，式(I)所表示之化合物，係滿足式(1)的化合物。
ε(405)≧20 (1)[式中，ε(405)表示化合物在波長405nm下之克吸光係數。克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。]
[3]如[1]所記載之黏著劑組成物，其中，式(I)所表示之化合物，係滿足式(2)的化合物。
ε(420)≧5 (2)[式中，ε(420)表示化合物在波長420nm下之克吸光係數。 克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。]
[4]如[1]至[3]中任一項所記載之黏著劑組成物，其進一步含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及交聯劑(B)。
[5]如[4]所記載之黏著劑組成物，其中，式(I)所表示之化合物的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，為0.01至20質量份。
[6]如[4]或[5]所記載之黏著劑組成物，其中，交聯劑(B)的含量，相對於(甲基)丙烯酸樹脂(A)100質量份，為0.01至10質量份。
[7]一種光學積層體，其包含有[1]至[6]中任一項所記載之黏著劑組成物所形成的黏著劑層、與樹脂膜。
[8]如[7]所記載之光學積層體，其中，樹脂膜係選自相位差膜及偏光膜中之至少一種膜。
[9]一種光學積層體，其包含有[1]至[6]中任一項所記載之黏著劑組成物所形成的黏著劑層、偏光膜、與相位差膜。
[10]如[7]至[9]中任一項所記載之光學積層體，其中，黏著劑層的厚度為0.1至30μm。
[11]如[7]至[10]中任一項所記載之光學積層體，其中，黏著劑層係滿足下述式(5)。
A(405)≧0.5 (5)[式中，A(405)表示波長405nm下之黏著劑層的吸光度。]
[12]如[11]所記載之光學積層體，其中，黏著劑層係滿足下述式(6)。
A(420)≧0.1 (6) [式中，A(420)表示波長420nm下之黏著劑層的吸光度。]
[13]如[11]或[12]所記載之光學積層體，其中，黏著劑層進一步滿足下述式(7)。
A(440)≦0.1 (7)[式中，A(440)表示波長440nm下之黏著劑層的吸光度。]
[14]一種顯示裝置，其係包含有[7]至[13]中任一項所記載之光學積層體。
本發明係提供一種附黏著劑層之膜(光學積層體)，其具有良好的顯示特性，並且可抑制紫外線至400nm附近之短波長的可見光所造成之光學膜的劣化。又，亦提供可形成該附黏著劑層之膜的黏著劑。
10‧‧‧光學膜
10A、10B、10C‧‧‧光學積層體
1‧‧‧黏著劑層
20‧‧‧樹脂膜
7、60‧‧‧接著劑層
7a‧‧‧黏著劑層
8‧‧‧保護膜
9‧‧‧偏光膜
40‧‧‧光學膜
50、50a‧‧‧1/4波長相位差層
70‧‧‧1/2波長相位差層
80‧‧‧正C層
30‧‧‧發光元件
第1圖係顯示本發明之光學積層體之層構成之一例。
第2圖係顯示本發明之光學積層體之層構成之一例。
第3圖係顯示本發明之光學積層體之層構成之一例。
第4圖係顯示本發明之光學積層體之層構成之一例。
本發明之黏著劑組成物，係至少含有一種以上之式(I)所表示之化合物(以下，亦稱為化合物(I))。
<化合物(I)>
[式中，R1及R5分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25之烷基、可具有取代基之碳數7至15之芳烷基、碳數6至15之芳基、雜環基，該烷基或芳烷基所含之--CH2-可經-NR1A-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-取代。
R1A表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R2、R3及R4分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6之烷基、可具有取代基之芳香族烴基或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基所含之-CH2-可經-NR1B-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-取代。
R1B表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R6及R7分別獨立地表示氫原子、碳數1至25之烷基或拉電子基。
R1及R2可互相連接形成環構造，R2及R3可互相連接形成環構造，R2及R4可互相連接形成環構造，R3及R6可互相連接形成環構造，R6及R7可互相連接形成環構造。]
R1及R5所表示之碳數1至25之烷基，可舉例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、三級丁基、二級丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等。
R1及R5所表示之碳數1至25之烷基可具有的取代基，可舉例如以下之群A所記載之基。
群A：可舉例如硝基、羥基、羧基、磺酸基、氰基、胺基、鹵素原子、碳數1至6之烷氧基、碳數1至12之烷基矽基、碳數2至8之烷基羰基、＊-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1及Ra2分別獨立地表示碳數1至6之烷二基，Ra3表示碳數1至6之烷基，t1表示1至3的整數)所表示之基等。
碳數1至12之烷基矽基，可舉例如甲基矽基、乙基矽基、丙基矽基等單烷基矽基；二甲基矽基、二乙基矽基、甲基乙基矽基等二烷基矽基；三甲基矽基、三乙基矽基、三丙基矽基等三烷基矽基。
碳數2至8之烷基羰基，可舉例如甲基羰基、乙基羰基等。
鹵素原子，可舉例如氟原子、氯原子、溴原子等。
R1及R5所表示之碳數7至15之芳烷基，可舉例如苄基、苯基乙基等。芳烷基所含之-CH2-，作為取代成-COO-之基，可舉例如2-苯基乙酸乙酯基等。
R1及R5所表示之碳數7至15之芳烷基可具有的取代基，可舉例如上述群A所記載之基。
R1及R5所表示之碳數6至15之芳基，可舉例如苯基、萘基、蒽基等。
R1及R5所表示之碳數3至5之雜環基，可舉例如吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、唑基、吡咯基、噻唑基、呋喃基等碳數3至15之脂肪族雜環基及碳數3至15之芳香族雜環基，較佳為碳數3至9之芳香族雜環基。
R1A及R1B所表示之碳數1至6之烷基，可舉例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、三級丁基、二級丁基、正戊基、正己基等。
R2、R3及R4所表示之碳數1至6之烷基，可舉例如與R1B所表示之碳數1至6之烷基相同者。R2、R3及R4所表示之碳數1至6之烷基可具有的取代基，可舉例如上述群A所記載之基。
R2、R3及R4所表示之芳香族烴基，可舉例如苯基、萘基、蒽基等碳數6至15之芳基；苄基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
R2、R3及R4所表示之芳香族烴基可具有的取代基，可舉例如上述群A所記載之基。
R2、R3及R4所表示之芳香族雜環基，可舉例如吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
R2、R3及R4所表示之芳香族雜環基可舉有的取代基，可舉例如上述群A所記載之基。
R6及R7所表示之碳數1至25之烷基，可舉例如與R1及R5所表示之碳數1至25之烷基相同者。
R6及R7所表示之拉電子基，可舉例如氰基、硝基、鹵素原子、經鹵素原子取代之烷基、式(I-1)所表示之基。
* -X 1 -R 11 (I-1)[式中，R11表示氫原子或碳數1至25之烷基，該烷基中所 含之亞甲基之至少一者可取代成氧原子。
X1表示＊1-CO-、＊1-COO-、＊1-OCO-、＊1-NR12CO-或＊1-CONR13-。
R12及R13分別獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基或苯基。
＊1表示與R11的鍵結鍵。
＊表示與碳原子的鍵結鍵。]
鹵素原子，可舉例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
經鹵素原子取代之烷基，可舉例如三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟二級丁基、全氟三級丁基、全氟戊基及全氟己基等全氟烷基等。經鹵素原子取代之烷基的碳數，通常為1至25。
R11所表示之碳數1至25之烷基，可舉例如與R1及R5所表示之烷基相同者。
R12及R13所表示之碳數1至6之烷基，可舉例如與R1A所表示之碳數1至6之烷基相同之基。
R6及R7可互相連接形成環構造，由R6及R7所形成之環構造，可舉例如米氏酸構造、巴比妥酸構造、5,5-二甲基-1,3-環己二酮構造等。由R6及R7所形成之環構造可具有取代基，可舉例如碳數1至6之烷基、碳數6至12之芳基。
R2及R3互相鍵結所形成的環構造，係包含與R2鍵結之氮原子的含氮環構造，可舉例如4至14員環 的含氮雜環。R2及R3互相鍵結所形成的環構造，可為單環、可為多環，亦可含有氮以外之雜原子作為環的構成單元。又，該等環可具有取代基。R2及R3互相鍵結所形成的環構造，具體而言，可舉例如吡咯啶環、二氫吡咯環、咪唑啶環、咪唑啉環、唑啉環、噻唑啉環、哌啶環、嗎福林環、哌環、吲哚環、異吲哚環、吡咯環、嘧啶環及下述所記載之環等。
R1及R2互相鍵結所形成的環構造，係包含R1及R2鍵結之氮原子的含氮環構造，可舉例如4至14員環的含氮雜環。R1及R2互相鍵結所形成的環構造，可為單環、可為多環，亦可含有氮以外之雜原子作為環的構成單元。又，該等環可具有取代基。R1及R2互相鍵結所形成的環構造，具體而言，可舉例如與R2及R3互相鍵結所形成的環構造相同者。
R2及R4互相鍵結所形成的環構造，可舉例如4至14員環之含氮環構造，較佳為5員環至9員環的含氮環構造。R2及R4互相鍵結所形成的環構造，可為單環、可為多環，亦可含有氮以外之雜原子作為環的構成單元。又，該等環亦可具有取代基。R2及R4互相鍵結所形成的環構造，具體而言，可舉例如與由前述R2及R3形成的環構造所例示者為相同者。
R3及R6互相鍵結所形成的環構造，係R3-C=C-C=C-R6形成環之骨架的環構造。可舉例如苯基等。
R2及R3互相鍵結形成環構造之式(I)所表示之化合物，可舉例如式(I-A)所表示之化合物，R2及R4互相鍵結形成環構造之式(I)所表示之化合物，可舉例如式(I-B)所表示之化合物等。
[式(I-A)、式(I-B)中，R1、R3、R4、R5、R6及R7分別表示與上述相同意義。
環W1及W2，分別獨立地表示含氮環。]
環W1及W2，分別獨立地表示含有作為環之構成單元之氮原子的含氮環。環W1及W2，可為單環、可為多環，亦可含有氮以外之雜原子作為環的構成單元。又，環W1及W2，可為脂肪族環、亦可為芳香族環。
環W1及W2，較佳為分別獨立之5員環至9員環的環。
式(I-A)所表示之化合物，較佳為式(I-A-1)所表示之化合物。
[式(I-A)中，R1、R4、R5、R6及R7分別表示與上述相同意義。
A1表示-CH2-、-O-、-S-或-NR1D-。
R14及R15分別獨立地表示氫原子或碳數1至12之烷基。
R1D表示氫原子或碳數1至6之烷基。]
R14及R15所表示之碳數1至12之烷基，可舉例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、三級丁基、二級丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基等。
R1D所表示之碳數1至6之烷基，可舉例如與R1A所表示之碳數1至6之烷基相同者。
式(I-B)所表示之化合物，較佳為式(I-B-1)所表示之化合物及式(I-B-2)所表示之化合物。
[式(I-B-1)中，R1、R6及R7分別表示與上述相同意義。
R16，分別獨立地表示氫原子或碳數1至12之烷基、芳基。]
[式(I-B-2)中，R3、R5、R6及R7分別表示與上述相同意義。
R30表示氫原子、氰基、硝基、鹵素原子、巰基、胺基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、碳數6至18之芳香族烴基、碳數2至13之醯基、碳數2至13之醯氧基或碳數2至13之烷氧羰基。
R31表示碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、巰基、碳數1至12之烷硫基、可具有取代基之胺基、或雜環基。]
R30所表示之鹵素原子，可舉例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
R30所表示之碳數2至13之醯基，可舉例如乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
R30所表示之碳數2至13之醯氧基，可舉例如甲基羰氧基、乙基羰氧基、丙基羰氧基、丁基羰氧基等。
R30所表示之碳數2至13之烷氧羰基，可舉例如甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、丁氧羰基等。
R30所表示之碳數6至18之芳香族烴基，可舉例如苯基、萘基、聯苯基等碳數6至18之芳基；苄基、苯基乙基等之碳數7至18之芳烷基。
R30所表示之碳數1至12之烷基，可舉例如與R14所 表示之碳數1至12之烷基相同者。
R30所表示之碳數1至12之烷氧基，可舉例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等。
R30較佳為碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、胺基或巰基。
R31所表示之碳數1至12之烷基，可舉例如與R14所表示之碳數1至12之烷基相同者。
R31所表示之碳數1至12之烷氧基，可舉例如與R30所表示之碳數1至12之烷氧基相同者。
R31所表示之碳數1至12之烷硫基，可舉例如甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基、戊硫基、己硫基等。
R31所表示之可具有取代基之胺基，可舉例如胺基；N-甲基胺基、N-乙基胺基等經一個碳數1至8之烷基取代的胺基；N,N-二甲基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-甲基乙基胺基等經兩個碳數1至8之烷基取代的胺基等。
R31所表示之雜環，可舉例如吡咯啶基、呱啶基、嗎福林基等碳數4至9之含氮雜環基等。
R3及R6互相鍵結形成環構造、且R2及R4互相鍵結形成環構造之式(I)所表示之化合物，可舉例如式(I-C)所表示之化合物等。
[式(I-C)中，R1、R6及R7表示與上述相同意義。
R21、R22，分別獨立地表示氫原子、碳數1至12之烷基或羥基。
X2及X3，分別獨立地表示-CH2-或-N(R25)=。
R25表示氫原子、碳數1至25之烷基、可具有取代基之芳香族烴基。]
R25所表示之碳數1至25之烷基，可舉例如與R1所表示之碳數1至25之烷基相同者。
R25所表示之芳香族烴基，可舉例如苯基、萘基等芳基；苄基、苯基乙基等芳烷基；聯苯基等，較佳為碳數6至20之芳香族烴基。R25所表示之芳香族烴基可具有之取代基，可舉例如羥基。
R1及R2互相鍵結形成環構造、且R3及R6互相鍵結形成環構造之式(I)所表示之化合物，可舉例如式(I-D)所表示之化合物等。
[式(I-D)中，R4、R5、R7表示與上述相同意義。
R25、R26、R27及R28分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至12之烷基、羥基、芳烷基。]
R25、R26、R27及R28所表示之碳數1至12之烷基，可舉例如與R1A及R1B所表示之碳數1至12之烷基相同者。R25、R26、R27及R28所表示之碳數1至12之 烷基可具有之取代基，可舉例如羥基。
R25、R26、R27及R28所表示之芳烷基，可舉例如苄基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
R6及R7互相鍵結形成環構造之化合物(I)，可舉例如式(I-E)所表示之化合物等。
[式(I-C)中，R1、R2、R3及R5分別表示與上述相同意義。環W3表示環構造。]
環W3可為單環、亦可為多環。又，環W3可為脂肪族、亦可為芳香族。環W3可舉例如5員環至9員環之環，亦可為含有氮原子、氧原子、硫原子等雜原子作為環之構成單元的雜環。
式(I-E)所表示之化合物，較佳為式(IE-1)所表示之化合物。
[式(I-E-1)中，R1、R3、R4及R5分別表示與上述相同意義。
R17、R18、R19及Rq分別獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳數1至12之烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基所含之-CH2-基，可取代成-NR2D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-，R17及R18可互相鍵結形成環構造，R18及 R19可互相鍵結形成環構造，R19及Rq可互相鍵結形成環構造。
R2D表示氫原子、或可具有取代基之碳數1至12之烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基所含之-CH2-基，可取代成-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-。m、p、q分別獨立地表示1至3之整數。]
化合物(I)較佳為滿足下述式(1)、式(2)之至少一者。
ε(405)≧20 (1)
ε(420)≧5 (2)[式中，ε(405)表示化合物在波長405nm下之克吸光係數，ε(420)表示化合物在波長420nm下之克吸光係數，克吸光係數的單位定義為L/(g‧cm)。]
化合物(I)之ε(405)之值愈大愈容易吸收波長405nm的光，可抑制紫外線或短波長之可見光下相位差膜的劣化。ε(405)之值若未滿20L/(g．cm)，如未增大黏著劑層中之化合物(I)的含量，則有難以發揮相位差膜或有機EL元件之短波長之可見光所致之劣化抑制功能的傾向。若增大化合物(I)的含量，則化合物(I)會滲出或分散不均，會有光吸收功能不充分的情形。ε(405)之值以20L/(g‧cm)以上為佳、更佳為30L/(g‧cm)以上、又更佳為40L/(g‧cm)以上，通常為500L/(g‧cm)以下。
化合物(I)之ε(420)之值愈大愈容易吸收波長420nm的光。ε(420)之值若未滿5，則為了發揮相位差 膜或有機EL發光元件之短波長之可見光所致之劣化抑制功能，而增大黏著劑組成物中之化合物(I)的含量。黏著劑組成物中之化合物(I)的含量若增大，則化合物(I)會滲出或分散不均，會有光吸收功能不充分的情形。ε(420)之值以5L/(g‧cm)以上為佳、更佳為10L/(g‧cm)以上、又更佳為20L/(g‧cm)以上，通常為500L/(g‧cm)以下。
再者，化合物(I)較佳為滿足下述式(3)、式(4)之至少一者。
ε(405)/ε(440)≧20 (3)
ε(420)/ε(440)≧4 (4)[式中，ε(405)、ε(420)表示與上述相同意義。表示化合物在波長440nm下之克吸光係數，ε(440)表示化合物在波長440nm下之克吸光係數。]
化合物(I)之ε(405)/ε(440)之值愈大，愈不會阻礙顯示裝置的色彩表現，可吸收405nm附近的光而能抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的光劣化。ε(405)/ε(440)之值以20以上為佳、更佳為40以上、又更佳為70以上、特佳為80以上。
化合物(I)之ε(420)/ε(440)之值愈大，愈不會阻礙顯示裝置的色彩表現，可吸收420nm附近的光而能抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的光劣化。因此，ε(420)/ε(440)之值較佳為4以上、更佳為6以上、又更佳為10以上、特佳為20以上。
式(I)所表示之化合物，可舉例如以下之化 合物。
式(I)所表示之化合物的含量，於黏著劑組成物之固形分100質量%中，通常為0.01至20質量%、較佳為0.05至15質量%、更佳為0.1至10質量%、又更佳為0.1至5質量%。
本發明中，作為構成黏著劑層的黏著劑，例如，可使用具有丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等基質聚合物的黏著劑。該等之中， 由高耐熱性、耐光性的觀點考量，構成本發明之光學膜的黏著劑層，較佳為由含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為基質聚合物的黏著劑組成物所形成者。
本發明之黏著劑組成物，較佳為進一步含有樹脂、交聯劑及矽烷化合物，更佳為進一步含有抗靜電劑。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳為以來自(甲基)丙烯酸酯之構成單元為主成分(較佳為含50質量%以上)的聚合物。來自(甲基)丙烯酸酯之構成單元，可含有一種以上之來自(甲基)丙烯酸酯以外之單體的構造單元(例如，來自具有極性官能基之單體的構造單元)。又，本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸，係指丙烯酸或甲基丙烯酸之任一者皆可之意，以外，所謂(甲基)丙烯酸酯等時之「(甲基)」亦表示相同之意。
(甲基)丙烯酸酯，可舉例如下述式(I)所表示之(甲基)丙烯酸酯。
[式(I)中，R1係以氫原子或甲基表示，R2表示碳數1至14之烷基或碳數7至20之芳烷基，該烷基或該芳烷基的氫原子，可經碳數1至10之烷氧基取代。]
式(I)中，R2較佳為碳數1至14之烷基、更佳為碳數1至8之烷基。
式(I)所表示之(甲基)丙烯酸酯，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙 酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸之直鏈狀烷基酯；(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等之(甲基)丙烯酸之分支狀烷基酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二烷酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三級丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸之含脂環骨架之烷基酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸之含芳香環骨架之酯等。
又，可舉例如於(甲基)丙烯酸烷酯中之烷基導入取代基之含取代基的(甲基)丙烯酸烷基酯。含取代基之(甲基)丙烯酸烷基酯的取代基，係取代烷基之氫原子的基，其之具體例包含苯基、烷氧基、苯氧基。含取代基之(甲基)丙烯酸烷基酯，具體而言，可舉例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)酯等。
該等(甲基)丙烯酸酯，可分別單獨使用、亦可使用複數種不同者。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳為含有來自均聚物之玻璃轉移溫度Tg未滿0℃之(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)的構成單元、及來自均聚物之Tg為0℃以上之(甲基)丙烯酸烷基酯(a2)的構成單元。其有利於提高黏著劑層的高溫耐久性。(甲基)丙烯酸烷基酯之均聚物的Tg，例如可採用POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等之文獻值。
(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)的具體例，包含丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二烷酯等烷基之碳數為2至12左右的(甲基)丙烯酸烷基酯。
(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)可僅使用一種，亦可併用兩種以上。其中，由積層於光學膜時之追循性及再加工性的觀點考量，較佳為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基已酯等。
(甲基)丙烯酸烷基酯(a2)，為(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)以外的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯(a2)的具體例，包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三級丁酯等。
(甲基)丙烯酸烷基酯(a2)可僅使用一種，亦 可併用兩種以上。其中，由高溫耐久性的觀點考量，(甲基)丙烯酸烷基酯(a2)，較佳為包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯等，更佳為包含丙烯酸甲酯。
式(I)所示之來自(甲基)丙烯酸酯的構造單元，於(甲基)丙烯酸系樹脂所含之總構造單元中，以50質量%以上為宜，較佳為60至95質量%、更佳為65至95質量%。
來自(甲基)丙烯酸酯以外之單體的構造單元，較佳為來自具有極性官能基之單體的構造單元，更佳為來自具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯的構造單元。極性官能基，可舉例如羥基、羧基、取代或未取代之胺基、環氧基等雜環基等。
具有極性官能基之單體，可舉例如(甲基)丙烯酸1-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥 基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥基己酯、(甲基)丙烯酸5-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸6-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十七烷 酯等具有羥基的單體；(甲基)丙烯酸、羧基烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，羧基乙基(甲基)丙烯酸酯、羧基戊基(甲基)丙烯酸酯)、馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、丁烯酸等具有羧基的單體；丙烯醯基嗎福林、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、四氫呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、己內酯變性四氫呋喃甲基丙烯酸酯、3,4-環氧基環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基的單體；胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯酸酯等具有取代或未取代胺基的單體。
其中，由(甲基)丙烯酸酯聚合物與交聯劑之反應性的觀點，較佳為具有羥基或/及羧基的單體，更佳為包含具有羥基及羧基之單體之任一者。
具有羥基之單體，較佳為丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸6-羥基己酯。特別是，藉由使用丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯及丙烯酸5-羥基戊酯而可得到良好的耐久性。
具有羧基之單體，較佳為使用丙烯酸。
由可防止積層於黏著劑層的外表面之隔離膜之剝離力增強的觀點，較佳為實質上不含具有胺基的單體。此處所謂實質上不含者，係指於構成(甲基)丙烯酸酯 系樹脂(A)的總構成單元100重量份中，為0.1重量份以下。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中之來自具有極性官能基之單體之構造單元的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物之總構造單元100質量份，較佳為20質量份以下，更佳為0.5質量份以上15質量份以下，再更佳為0.5質量份以上10質量份以下，特佳為1質量份以上7質量份以下。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中之來自具有芳香族基之單體之構造單元的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物之總構造單元100質量份，較佳為20質量份以下，更佳為4質量份以上20質量份以下，再更佳為4質量份以上16質量份以下。
來自(甲基)丙烯酸酯以外之單體的構造單元，可舉例如來自苯乙烯系單體的構造單元、來自乙烯系單體的構造單元、來自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體的構造單元、來自(甲基)丙烯醯胺系單體的構造單元等。
苯乙烯系單體，可舉例如苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；及二乙烯基苯。
乙烯系單體，可舉例如乙酸乙烯酯、丙酸 乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵乙烯；二氯亞乙烯等二鹵亞乙烯；乙烯吡啶、乙烯吡咯啶酮、乙烯咔唑等含氮芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；以及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體，可舉例如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基的單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基的單體。
(甲基)丙烯醯胺系單體，可舉例如N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基](甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙 氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺等。其中，較佳為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的重量平均分子量(Mw)，較佳為50萬至250萬。重量平均分子量若為50萬以上，則高溫環境下之黏著劑層的耐久性提升，可容易抑制被黏著體與黏著劑層之間的浮起剝離、或黏著劑層之凝集破壞等不良情形。重量平均分子量若為250萬以下，則於將黏著劑組成物例如於加工成薄片狀(塗布於基材)時之塗布性的觀點上為有利。由兼顧黏著劑層之耐久性及黏著劑組成物之塗布性的觀點考量，重量平均分子量較佳為60萬至180萬、更佳為70萬至170萬、特佳為100萬至160萬。又，以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比所表示的分子量分布(Mw/Mn)通常為2至10、較佳為3至8、更佳為3至6。重量平均分子量，可藉由凝膠滲透層析法來分析，係標準苯乙烯換算之值。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，當溶解於乙酸乙酯時以作成濃度20質量%的溶液時，25℃下的黏度，較佳為20Pa‧s以下、更佳為0.1至15Pa‧s。若為該範圍的黏度，則由將黏著劑組成物塗布於基材時之塗布性的觀點考量為有利。又，黏度可藉Brookfield黏度計進行測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之玻璃轉移溫度(Tg)，例如為-60至20℃、較佳為-50至15℃、更佳為-45至10℃、特佳為-40至0℃。Tg若為上限值以下則有利於提升黏著劑層對被黏著體基材的濕潤性，若為下限值以上，則有利於提升黏著劑層的耐久性。又，玻璃轉移溫度可藉示差掃描熱析儀(DSC)進行測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，例如，可藉由溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等周知之方法製造，特別以溶液聚合法為佳。溶液聚合法，可舉例如下述方法，將單體及有機溶劑混合，於氮氣環境下，添加熱聚合起始劑，於40至90℃、較佳為50至80℃左右的溫度條件下，攪拌3至15小時左右的方法。為了控制反應，於聚合中亦可連續或間歇地添加單體或熱聚合起始劑。該單體及熱聚合起始劑，亦可為添加於有機溶劑中的狀態。
聚合起始劑可使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。光聚合起始劑，可舉例如4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑，可舉例如2,2’-偶氮雙異丁睛、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己 烷-1-腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系化合物；過氧化月桂醯基、過氧化三級丁基、過氧化苯甲醯基、過氧苯甲酸三級丁酯、氫過氧化異丙苯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧新癸酸三級丁酯、過氧化特戊酸三級丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等之無機過氧化物等。又，亦可使用併用過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等。
聚合起始劑之比例，相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之單體的總量100質量份，為0.001至5質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂的聚合，亦可使用藉由活性能量線(例如紫外線等)之聚合法。
有機溶劑，可舉例如甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等酮類等。
樹脂(A)之含量，於黏著劑組成物之固形分100質量%中，通常為60質量%至99.9質量%，較佳為70質量%至99.5質量%、更佳為80質量%至99質量%。
黏著劑組成物可含有交聯劑(b)。該交聯劑(b)會與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之極性官能基(例如，羥基、胺基、羧基、雜環基等)反應。交聯劑(B)會與(甲基)丙烯酸系樹脂等形成交聯構造，而形成有利於耐久性及再 加工性的交聯構造。
交聯劑(b)，可舉例如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等，特別由黏著劑組成物之適用期及黏著劑層之耐久性、交聯速度等之觀點考量，較佳為異氰酸酯系交聯劑。
異氰酸酯系化合物，較佳為分子內至少具有2個異氰酸基(-NCO)之化合物，可舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯化合物(例如二異氰酸甲苯酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。又，交聯劑(B)，亦可為前述異氰酸酯化合物之多元醇化合物的加成物(adduct體)[例如，甘油、三羥甲基丙烷等之加成物]、與三聚異氰酸酯化合物、縮二脲型化合物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等加成反應之胺基甲酸酯預聚物型之異氰酸酯化合物等的衍生物。交聯劑(B)可單獨使用或組合二種以上使用。該等之中，代表性者可舉例如芳香族異氰酸酯系化合物(例如二異氰酸甲苯酯、二甲苯二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)或該等之多元醇化合物(例如甘油、三羥甲基丙烷)之加成物、或三聚異氰酸酯體。交聯劑(B)若為芳香族異氰酸酯系化合物及/或該等之多元醇化合物、或三聚異氰酸酯體之加成 物，則是否因有利於形成最佳的交聯密度(或交聯構造)，故可提升黏著劑層的耐久性。特別是，若為二異氰酸甲苯酯系化合物及/或該等之多元醇化合物之加成物，則即使於例如將黏著劑層使用於偏光板時，亦可提升耐久性。
交聯劑(b)之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，通常為0.01至15重量份、較佳為0.05至10重量份、更佳為0.1至5重量份。
樹脂組成物可進一步含有矽烷化合物(D)。
矽烷化合物(D)，可舉例如乙烯基三甲氧矽烷、乙烯基三乙氧矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-乙氧基環己基)乙基三甲氧矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧矽烷、3-氯丙基三甲氧矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷、3-巰基丙基三甲氧矽烷等。
矽烷化合物(D)，可為聚矽氧寡聚物。聚矽氧寡聚物之具體例，以單體彼此之組合的形式來表示時係如以下所示。
3-巰基丙基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物等含有巰基丙基的寡聚物；巰基甲基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物等含有巰基甲基 的寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物等含有3-環氧丙氧基丙基的寡聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基的寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧矽烷- 四乙氧矽烷寡聚物等含有丙烯醯氧基丙基的寡聚物；乙烯基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物等含有乙烯基的寡聚物；3-胺基丙基三甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基三甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基三乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧矽烷-四甲氧矽烷寡聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧矽烷-四乙氧矽烷寡聚物等含有胺基的寡聚物等。
矽烷化合物(D)，可為下述式(d1)所表示之矽烷化合物。黏著劑組成物若含有下述式(d1)所表示之矽烷化合物，則可更提升密合性(或接著性)，故可形成耐剝離性良好的黏著劑層。特別是，於高溫環境下，即使將黏著劑層使用(或積層)於透明電極或玻璃時，亦可維持密合性(或接著性)而顯示高的耐久性。
(式中，B表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之二價的脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-，可取代成-O-或-CO-，R7表示碳數1至5之烷基，R8、R9、R10、R11及R12分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基。)
式(d1)中，B表示亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸己基、伸庚基、伸辛基等碳數1至20之烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20之二價脂環式烴基；或構成該等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-，被-O-或-CO-所取代之基。較佳之B為碳數1至10之烷二基。R7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、二級丁基、三級丁基、戊基等碳數1至5之烷基，R8、R9、R10、R11及R12分別獨立地表示前述R7所例示之碳數1至5之烷基、或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基等碳數1至5之烷氧基。較佳為，R8、R9、R10、R11及R12分別獨立地表示碳數1至5之烷氧基。該等矽烷化合物(D)可單獨使用或組合兩種以上使用。
具體之前述(d1)所表示之矽烷化合物，可舉例如(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2- 雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷烴；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷烴；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基-二C1-5烷基矽基)C1-10烷烴等。該等之中，較佳為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10烷烴，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
矽烷化合物(A)之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，通常為0.01至10重量份、較佳為0.03至5重量份、更佳為0.05至2重量份、又更佳為 0.1至1重量份。若為上述上限值以下，則有利於抑制來自黏著劑層之矽烷化合物(D)的滲出，若為上述下限值以上，則容易提升黏著劑層、與金屬層或玻璃基板等之密合性(或接著性)，而有利於耐剝離性等的提升。
黏著劑組成物可進一步含有抗靜電劑。
抗靜電劑可舉例如界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，而以離子性化合物為佳。離子性化合物可舉例如慣用者。構成離子性化合物的陽離子成分，可舉例如有機陽離子、無機陽離子等。有機陽離子，可舉例如吡啶陽離子、吡咯啶陽離子、哌啶陽離子、咪唑陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。無機陽離子，可舉例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子、鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。特別是，由與(甲基)丙烯酸系樹脂之相溶性的觀點考量，較佳為吡啶陽離子、咪唑陽離子、吡咯啶陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。構成離子性化合物之陰離子成分，可為無機陰離子及有機陰離子之任一者，而由抗靜電性能的觀點，以含有氟原子的陰離子成分為佳。含有氟原子的陰離子成分，可舉例如六氟磷酸鹽陰離子(PF6 -)、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽[(C6F5)4B-]等。該等離子性化合物可單獨使用或組合二種以上使用。特別以雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子 [(C6F5)4B-]為佳。
由黏著劑組成物所形成之黏著劑層之抗靜電性能的經時安定性優異之觀點，以室溫下為固體之離子性化合物為佳。
抗靜電劑之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，例如為0.01至20質量份、較佳為0.1至10質量份、更佳為1至7質量份。
黏著劑組成物，可含有一種或兩種以上之溶劑、交聯觸媒、增黏劑、塑化劑、軟化劑、顏料、防鏽劑、無機填料、光散射性微粒子等添加劑。
<黏著劑層及附黏著劑層之光學膜的構成及製造方法>
本發明包含前述黏著劑組成物所構成之黏著劑層。該黏著劑層，例如可藉由下述方式形成：將前述黏著劑組成物溶解或分散於溶劑作成含有溶劑的黏著劑組成物，接著，將其塗布於光學膜或脫模膜的表面，進行乾燥而形成。
又，本發明亦包含光學積層體，其係含有樹脂膜、與積層於該樹脂膜之至少一面之前述黏著劑層。
於第1圖至第4圖顯示含有本發明之黏著劑組成物所形成之黏著劑層的光學積層體之一例的概略截面圖。
第1圖所記載之光學積層體10，係樹脂膜2、與積層於該樹脂膜2之單面之黏著劑層1的積層體。又，樹脂膜2可積層於黏著劑層1的兩面。
第2圖所記載之光學積層體10A，係包含有保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜8、黏著劑層1、樹脂膜2的積層體。
第3圖所記載之光學積層體10B及第3圖所記載之光學積層體10C，係包含有保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜8、黏著劑層1、光學膜40、黏著劑層7a、發光元件30(液晶單元、有機EL單元)的積層體，光學膜40係具有多層構造的光學積層體。光學膜40可為圖式所示之多層構造、亦可為單層構造。接著劑層7只要為周知之接著劑所形成的接著劑層即可，接著劑層7可為周知之黏著劑所形成的黏著劑層，亦可為本發明之黏著劑組成物所形成的黏著劑層。
將黏著劑層1積層於樹脂膜2之表面時，可於樹脂膜2及/或黏著劑層1之貼合面形成底漆層，亦可進行電漿處理、電暈處理等表面活化處理。
光學積層體10可含有積層於黏著劑層1之外表面之隔離膜(剝離膜)。該隔離膜，通常於黏著劑層1之使用時(例如積層於透明導電極或玻璃基板時)剝離去除。隔離膜，例如，可為於聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂所構成之薄膜之形成黏著劑層1的面，施以聚矽氧處理等之脫膜處理者。
光學積層體10，係可將構成上述黏著劑組成物之各成分，溶解或分散於溶劑作成含有溶劑之黏著劑組成物，接著，將其塗布於樹脂膜2的表面並乾燥，以形 成黏著劑層1，藉此來製得。又，光學積層體10，亦可藉由於隔離膜之脫模處理面與上述同樣地形成黏著劑層1，將該黏著劑層1積層(轉印)於樹脂膜2的表面來製得。
黏著劑層之厚度，通常為0.1至30μm，由附黏著劑層之光學膜的耐久性或附黏著劑層之光學膜的再加工性等之觀點，較佳為3至30μm、更佳為5至25μm。黏著劑層之厚度若為上述上限值以下，則再加工性良好，若為上述下限值以上，則耐久性良好。
黏著劑層於23℃下之儲存彈性模數通常為100MPa以上、較佳為300MPa以上、更佳為500MPa以上，而以10000MPa以下為佳。黏著劑層之儲存彈性模數，可使用市售之黏彈性測定裝置，例如REOMETRIC公司製之黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」進行測定。
黏著劑層以滿足下述式(5)為佳。
A(405)≧0.5 (5)[式中，A(405)表示波長405nm下之黏著劑層的吸光度。]A(405)之值愈大表示於波長405nm之吸收高，A(405)之值若未滿0.5，則於波長405nm之吸收低，於紫外線下容易引起有機EL元件等顯示裝置及相位差膜的劣化。A(405)之值較佳為0.6以上、更佳為0.8以上、特佳為1.0以上。
黏著劑層較佳為進一步滿足下述式(6)。
A(420)≧0.1 (6)[式中，A(420)表示波長420nm下之黏著劑層的吸光度]。
A(420)之值愈大表示於波長420nm之吸收高，A(420)之值若未滿0.1，則於波長420nm之吸收低，於紫外線下容易引起有機EL元件等顯示裝置及相位差膜的劣化。A(420)之值較佳為0.1以上、更佳為0.15以上、特佳為0.2以上。
黏著劑層較佳為進一步滿足下述式(7)。
A(440)≦0.1 (7)[式(7)中，A(440)表示波長440nm下之黏著劑層的吸光度]。
A(440)之值愈小表示於波長440nm之吸收低，A(440)之值若超過0.1，則有損及顯示裝置之良好色彩表現的傾向。且由於阻礙顯示裝置的發光，故亮度亦降低。A(440)之值較佳為0.05以下、較佳為0.04以下、特佳為0.03。
黏著劑層較佳為滿足下述式(8)及式(9)之至少一者。
A(405)/A(440)≧5 (8)
A(420)/A(440)≧1.5 (9)[式中，A(405)表示波長405nm下之黏著劑層的吸光度，A(440)表示波長440nm下之黏著劑層的吸光度，A(420)表示波長420nm下之黏著劑層的吸光度。]
A(405)/A(440)之值，表示波長405nm下之吸光度的大小相對於波長440nm下之吸光度的大小，該值愈大表示於405nm附近的波長範圍有特定的吸收。A(405)/A(440)之值以10以上為佳，更佳為30以上、特佳為60以上。
A(420)/A(440)之值，表示波長420nm下之吸光度的大小相對於波長440nm下之吸光度的大小，該值愈大表示於420nm附近的波長範圍有特定的吸收。A(420)/A(440)之值以1.5以上為佳，更佳為3以上、特佳為5以上。
<樹脂膜>
構成本發明之光學積層體10之樹脂膜2，較佳為光學膜。所謂光學膜，係指具有使光線穿透、反射、吸收等光學機能的膜。
樹脂膜2，可為單層構造、亦可為多層構造。單層構造之光學膜，可舉例如偏光片、相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜。多層構造之光學膜，可舉例如偏光板、相位差板、前述所記載之單層構造之光學膜的積層體等。於將單層構造之光學膜積層時，可透過接著劑層或黏著劑層。
樹脂膜2較佳為相位差膜、偏光板。
<相位差膜>
所謂相位差膜係指顯示光學各向異性的光學膜，可舉例如將聚乙烯醇系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚芳香酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、烯烴系樹脂、環烯烴系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚碸及聚醚碸等碸系樹脂、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、液晶聚酯系樹脂、含三乙醯纖維素之纖維素系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯系樹脂、丙烯酸樹脂等所構成之樹脂膜經拉 伸1.01至6倍左右所得的拉伸膜。其中，較佳為將環烯烴系樹脂膜、纖維素系樹脂膜、聚酯系樹脂膜及聚碳酸酯膜經單軸或雙軸拉伸所得之樹脂膜。又，相位差膜，可為將液晶性化合物塗布於基材，並經由配向使其展現光學各向異性的相位差膜。又，本說明書中，相位差膜包含零相位差膜(zero retardation film)，亦包含稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
又，本說明書中，相位差膜包含零相位差膜(zero retardation film)，亦包含稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
所謂零相位差膜，係指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth皆為-15至15nm，於光學上為各向同性的膜。零相位差膜，可舉例如纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(直鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對酞酸乙二酯系樹脂所構成之樹脂膜，由容易控制延遲值且容易取得的觀點，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零相位差膜亦可作為保護膜使用。零相位差膜，可舉例如富士底片(股)所販售之“Z-TAC”(商品名)、柯尼卡美達能(股)所販售之“ZeroTAC(註冊商標)”、日本ZEON(股)所販售之“ZF-14”(商品名)等。
藉由液晶化合物的塗布、配向而展現光學各向異性的膜、或藉由無機層狀化合物的塗布而展現光學各向異性的膜，可舉例如，稱為溫度補償型相位差膜、JX日鑛日石能源(股)所販售之“NH Film”(商品名；棒狀液 晶傾斜配向的膜)、富士底片(股)所販售“WV Film”之(商品名；圓盤狀液晶傾斜配向的膜)、住友化學(股)所販售之“VAC Film”(商品名；完全雙軸配向型的膜)、住友化學(股)所販售之“new VAC Film”(商品名；雙軸配向型的膜)等。
於本發明之光學膜，相位差膜以藉由液晶化合物之塗布、配向以展現光學各向異性的膜為佳。
藉由液晶化合物之塗布、配向以展現光學各向異性的膜，可舉例如以下之第一形態~第五形態。
第一形態：棒狀液晶化合物對支撐基材朝水平方向配向的相位差膜
第二形態：棒狀液晶化合物對支撐基材朝垂直方向配向的相位差膜
第三形態：棒狀液晶化合物於面內之配向方向成螺旋狀變化的相位差膜
第四形態：圓盤狀液晶化合物傾斜配向的相位差膜
第五形態：圓盤狀液晶化合物對支撐基材朝垂直方向配向的相位差膜
例如，有機電致發光顯示器(有機EL顯示裝置)所使用之光學膜，較佳可使用第一形態、第二形態、第五形態。又，亦可將該等形態之相位差膜積層使用。
相位差膜，如為聚合性液晶化合物之配向狀態下之聚合物所構成的層(以下，亦稱為「光學各向異性層」)時，相位差膜較佳為具有逆波長分散性。所謂逆波長 分散性，係指於短波長下之液晶配向面內相位差值較長波長下之液晶配向面內相位差值小的光學特性，較佳為，相位差膜滿足下述式(10)及式(11)。又，Re(λ)表示對於波長λnm之光的面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (10)
1≦Re(630)/Re(550) (11)
於本發明之光學膜，當相位差膜為第一形態且具有逆波長分散性時，於顯示裝置之黑顯示時的著色減少故較佳，前述式(10)中若0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93則更佳。再更佳為120≦Re(550)≦150。
當相位差膜為具有光學各向異性層之膜時的聚合性液晶化合物，可舉例如，液晶手冊(液晶手冊編輯委員會編，丸善(股)平成12年10月30日發行)之「3.8.6網格(全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」所記載之化合物中具有聚合性基的化合物、以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2011-162678號、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及日本特表2011-207765號公報所記載的聚合性液晶化合物等。
由聚合性液晶化合物之配向狀態下的聚合物製造相位差膜的方法，可舉例如日本特開2010-31223號公報所記載的方法等。
當為第二形態時，正面相位差值Re(550)只 要調整為0至10nm之範圍、較佳為0至5nm的範圍即可，厚度方向之相位差值Rth只要調整為-10至-300nm之範圍、較佳為-20至-200nm的範圍即可。表示厚度方向之折射率各向異性的厚度方向之相位差值Rth，可由以面內之快軸作為傾斜軸傾斜50度所測定之相位差值R50與面內之相位差值R0計算出。亦即，厚度方向之相位差值Rth，可由面內之相位差值R0、以快軸作為傾斜軸傾斜50度所測定之相位差值R50、相位差膜之厚度d、及相位差膜之平均折射率n0，藉由以下之式(12)至(14)求出nx、ny及nz，將該等代入式(15)即可計算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (15)
R0=(nx-ny)×d (12)
[(nx+ny+nz)/3=n0 (14)
此處，
相位差膜可為具有兩層以上之層的多層膜。可舉例如，於相位差膜之單面或雙面積層保護膜者、或透過黏著劑或接著劑積層有兩個以上之相位差膜者。
當光學膜為積層有兩個以上之相位差膜的多層膜時，本發明之含有光學膜之光學積層體的構成，可舉例如第3圖所示之包含下述光學膜40的構成，該光學膜40，係將對穿透光賦予1/4波長之相位差的1/4波長相位 差層50、與對穿透光賦予1/2波長之相位差的1/2波長相位差層70，透過接著劑或黏著劑60積層。又，可舉例如第4圖所示之包含下述光學膜40的構成，該光學膜40，係將1/4波長相位差層50a與正C層80，透過接著劑或黏著劑積層。
第3圖之賦予1/4波長之相位差的1/4波長相位差層50、及對穿透光賦予1/2波長之相位差的1/2波長相位差層70，可為上述第一形態的光學膜、亦可為第五形態的光學膜。當為第3圖之構成時，較佳為至少一者為第五形態。
當為第4圖之構成時，1/4波長相位差層50a較佳為上述第一形態的光學膜，更佳為滿足式(8)、式(9)。
<偏光板>
偏光板，多以於偏光片之單面或雙面貼合保護膜的狀態使用。通常其中一面形成有黏著劑層。又，積層偏光板與相位差膜之橢圓偏光板，多為於偏光片之單面或雙面貼合有保護膜的狀態。於如此之橢圓偏光板形成黏著劑層時，通常係於其相位差膜側形成黏著劑層。
偏光片係具有下述性質之膜：具有與其吸收軸平行的振動面之直線偏光的吸收、以及垂直於吸收軸(與透過軸平行)的振動面之直線偏光的透過，例如，可使用於聚乙烯醇系樹脂膜使二色性色素吸附配向的膜。二色性色素，可舉例如碘或二色性有機染料等。
聚乙烯醇系樹脂，可藉由使聚乙酸乙烯酯 系樹脂皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂，可舉例如，乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯、可與乙酸乙烯酯共聚合的單體(例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等)與乙酸乙烯酯的共聚物等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85至100莫耳%、較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經變性，例如，亦可為經醛類變性之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，通常為1000至10000、較佳為1500至5000。又，聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，可依據JIS K 6726來求得。
一般係使用將聚乙烯醇系樹脂製膜者作為偏光片的原料膜。聚乙烯醇系樹脂，可藉周知之方法製膜。原料膜之厚度通常為1至150μm，若考量延伸之容易度等，則以10μm以上為佳。
偏光片例如可藉下述方式製造：對原料膜施以單軸拉伸之步驟、以二色性色素將膜染色使其吸附該二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理膜之步驟、及對膜進行水洗的步驟，於最後進行乾燥來製造。偏光片之厚度，通常為1至30μm，由附黏著劑層之樹脂膜1之薄膜化的觀點考量，較佳為20μm以下、更佳為15μm以下、特佳為10μm以下。
保護膜較佳為透明的熱塑性樹脂。熱塑性樹脂，可舉例如乙酸纖維素樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂等 樹脂所構成的膜。
於偏光片與保護膜的貼合，可使用周知之接著劑。接著劑可為水系接著劑、亦可為活性能量硬化型接著劑。
聚光膜係為了控制光程等所使用者，故可為稜鏡陣列薄片或透鏡陣列薄片、設有點之薄片等。
增亮膜，係為了使使用偏光板之液晶顯示裝置之亮度提升所使用者。具體而言可舉例如：積層複數片之折射率各向異性互為相異的薄膜，以使反射率產生各向異性之方式所設計的反射型偏光間隔片；將膽固醇型液晶聚合物之配向膜或其配向液晶層於基材膜上支撐的圓振偏光間隔片等。
本發明之光學積層體，較佳為依序含有偏光板、黏著劑層與相位差膜的積層膜。
包含有本發明之黏著劑組成物所形成之黏著劑層的光學積層體，可積層於有機EL元件、液晶單元等顯示元件，而使用於有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平板顯示器)。
[實施例]
以下，藉由實施例及比較例以更詳細說明本發明。實施例及比較例中之「%」及「份」，除了特別說明之外，為「質量%」及「質量份」。
又，於以下之例中，重量平均分子量及數量平均分子量之測定，係以下述方式進行，於凝膠滲透層 析(以下，記為GPC)裝置(GPC-8120，東曹(股)製)，作為管柱，將4支「TSKgel XL(東曹(股)製)」、及1支「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」共5支串聯配置，使用四氫呋喃作為沖提液，以試樣濃度5mg/mL、試樣導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分的條件進行，藉由標準聚苯乙烯換算來計算出。
<丙烯酸樹脂之調製>
依據表1所示之組成，藉由以下之方法，調製丙烯酸樹脂(A)及丙烯酸樹脂(B)。
[聚合例1]：丙烯酸樹脂(A)之調製
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，裝填作為溶劑之乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)之丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、作為單體(A-2)之丙烯酸2-羥基乙酯1.0份、作為單體(A-3)之丙烯酸0.6份的混合溶液，以氮氣取代裝置內的空氣作成不含氧，同時使內溫提升至55℃。之後，添加使偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份之溶液的總量。於添加起始劑之後的1小時保持該溫度，接著，於保持內溫為54至56℃之下，以添加速度17.3份/Hr，連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，於丙烯酸樹脂之濃度成為35%的時間點停止乙酸乙酯的添加，並且自乙酸乙酯的添加開始至經過12小時為止於該溫度下保溫。最後，加入乙酸乙酯以將丙烯酸樹脂的濃度調節為20%，調製成丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯 酸樹脂，以GPC所得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量Mw為142萬、Mw/Mn為5.2。將其作為丙烯酸樹脂(A)。
[聚合例2]：丙烯酸樹脂(B)之調製
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機的反應容器，裝填作為溶劑之乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)之丙烯酸丁酯96.0份及作為單體(A-3)之丙烯酸4.0份的混合溶液，以氮氣取代裝置內的空氣作成不含氧，同時使內溫提升至55℃。之後，添加使偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份之溶液的總量。於添加起始劑之後的1小時保持該溫度，接著，於保持內溫為54至56℃之下，以添加速度17.3份/Hr，連續地添加乙酸乙酯至反應容器內，於丙烯酸樹脂之濃度成為35%的時間點停止乙酸乙酯的添加，並且自乙酸乙酯的添加開始至經過12小時為止於該溫度下保溫。最後，加入乙酸乙酯以將丙烯酸樹脂的濃度調節為20%，調製成丙烯酸樹脂的乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂，以GPC所得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量Mw為75萬6000、Mw/Mn為4.1。將其作為丙烯酸樹脂(B)。
表1中，單體組成欄中之符號，分別表示以下之單體。
[單體(A-1)]
BA：丙烯酸丁酯
MA：丙烯酸甲酯
PEA：丙烯酸2-苯氧基乙酯
[單體(A-2)]
HEA：丙烯酸2-羥基乙酯
[單體(A-3)]
AA：丙烯酸
<光選擇吸收性化合物之合成>
[合成例1]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛2.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)0.72g、氰乙酸丁酯(東京化成工業股份有限公司製)1.3g、1-丁醇(和光純藥工業股份有限公司製)8g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫，以內溫80℃保溫18小時。之後，冷卻至室溫，過濾取得析出之結晶，以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到粉末之以UVA-01所表示之化合物2.7g。產率為87%。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-01所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.94(t、3H)、1.42(sext、2H)、1.69(quin、2H)、3.71(s、3H)、4.23(t、2H)、7.40-7.43(m、5H)、7.56-7.58(m、3H)、8.14(s、1H)、8.45-8.47(m、1H)
<克吸光係數ε測定>
為了測定所得之光選擇吸收性化合物(1)的克吸光係數，使光選擇吸收性化合物(1)溶解於2-丁酮。將所得之溶液置入1cm的石英槽，將石英槽裝設至分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)，以雙光束法於1nm step 300至800nm之波長範圍測定吸光度。由所得之吸光度之值、溶液中之光吸收性化合物濃度、石英槽的光程長，由下述式計算出各波長的克吸光係數ε。
ε(λ)=A(λ)/CL
[式中，ε(λ)表示波長λnm下化合物的克吸光係數L/(g‧cm)，A(λ)表示波長λnm下的吸光度，C表示濃度g/L，L表示石英槽的光程長cm。]
測定UVA-01所表示之化合物之吸收極大波長(λmax)的結果，λmax=389nm(2-丁酮中)，ε(405)之值為43L/(g‧cm)，ε(420)之值為8.8L/(g‧cm)。
[合成例2]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之200mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填參考專利文獻(日本特開2014-194508)所合成之UVA-M-02所表示之化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.7g、氰乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業股份有限公司製)5.8g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁攪拌器攪拌。於內溫25℃下，以1小時滴入N,N-二異丙基乙胺(以下，簡寫為DIPEA。東京化成工業股份有限公司製)4.7g，滴入結束後以內溫25℃再保溫2小時。將所得之混合物使用減壓蒸發器以除去乙腈。對所得之油狀物添加甲苯而生成的不溶成分進行過濾去除。使用減壓蒸發器對濾液再度進行濃縮，將濃縮後之溶液供至管柱層析(二氧化矽凝膠)以進行精製，由甲苯中進行再結晶而得目的物。以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-02所表示之化合物5.2g。產率為65%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-02所表示之化合物之ε(405)之值為58L/(g‧cm)，ε(420)之值為1.9L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-02所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t、3H)、2.10(quin、2H)、2.98-3.04(m、5H)、3.54-3.72(m、6H)、4.31(t、2H)、5.53(d、2H)、7.93(d、2H)
[合成例3]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛3.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.2g、氰乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業股份有限公司製)2.2g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)12g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫，以內溫80℃保溫18小時。之後，冷卻至室溫，以減壓蒸發器除去乙腈。將所得之粗結晶溶解於甲苯，並將該甲苯溶液在分液漏斗中以1%鹽酸進行共計2次之分液洗淨，接著以純水以使水層之pH至6以上的方式進行分液洗淨。將洗淨後之甲苯溶液以芒硝乾燥後，使用減壓蒸發器除去甲苯，以60℃減壓乾燥所得之結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-03所表示之化合物4.0g。產率為84%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-03所表示之化合物之ε(405)之值為38L/(g．cm)，ε(420)之值為8.4L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-03所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t、3H)、3.56(q、2H)、3.69-3.73(m、5H)、4.37(m、2H)、7.36-7.44(m、5H)、7.56-7.58(m、3H)、8.42-8.46(m、1H)
[合成例4]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之200mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填參考專利文獻(日本特開2014-194508)所合成之UVA-M-02所表示之化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰乙酸2-乙基己酯(東京化成工業股份有限公司製)6.9g、及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁攪拌器攪拌。於內溫25℃下，以1小時滴入DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g，滴入結束後以內溫25℃再保溫2小時。反應結束後，使用減壓蒸發器以除去乙腈，供至管柱層析(二氧化矽凝膠)以進行精製，對含有UVA-04的沖提液使用減壓蒸發器除去溶劑，得到黃色結晶。以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-04所表示之化合物4.6g。產率為50%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，則ε(405)之值為47L/(g‧cm)，ε(420)之值為1.5L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-04所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m、6H)、1.32-1.67(m、8H)、1.59-1.66(m、2H)、2.09(quin、2H)、3.00(m、5H)、3.64(t、2H)、4.10(dd、2H)、5.52(d、2H)、7.87(d、2H)
[合成例5]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之200mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛10.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰乙酸(東京化成工業股份有限公司製)4.0g、乙醇(和光純藥工業股份有限公司製)40g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫，以內溫80℃保溫24小時。之後，冷卻至室溫，過濾取得所析出之結晶，以60℃減壓乾燥所得之結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-M-03所表示之化合物10g。產率為78%。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-M-03所表示之化合物的生成。
1H-NMR(DMSO-d6)δ：3.71(s、3H)、7.34-7.42(m、2H)、 7.51-7.95(m、6H)、8.26-8.29(m、1H)
[合成例6]
將1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺鹽酸鹽(EDC，東京化成工業股份有限公司製)1.4g溶解於氯仿2.0g，得到溶解液(1)。
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填合成例5所得之UVA-M-03所表示之化合物2.0g、三乙二醇單甲基醚(東京化成工業股份有限公司製)1.2g、N,N-二甲基-4-胺基吡啶(DMAP，東京化成工業股份有限公司製)20mg、氯仿8g，以磁攪拌器攪拌，以冰浴使內溫冷卻至0℃。以2小時將溶解液(1)滴入至內溫保持為0℃的燒瓶內，滴入結束後再以0℃保溫6小時。之後，使用減壓蒸發器除去氯仿。使所得之油狀物溶解於乙酸乙酯，於分液漏斗中，以10%稀硫酸分液洗淨，接著以純水對乙酸乙酯溶液以使水層之pH為6以上的方式進行分液洗淨。將洗淨後之有機層以芒硝乾燥，除去芒硝後以減壓蒸發器除去乙酸乙酯，而得黃色油狀物之以UVA-05所表示之化合物2.5g。產率為83%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-05所表 示之化合物之ε(405)之值為38L/(g‧cm)，ε(420)之值為8.3L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-05所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.26(t、1H)、2.04(s、1H)、3.37(s、3H)、3.64-3.71(m、12H)、4.37(dd、2H)、7.35-7.46(m、5H)、7.54-7.59(m、3H)、8.42-8.46(m、1H)
[合成例7]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛3.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.2g、氰乙酸2-乙基己酯(東京化成工業股份有限公司製)2.8g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)12g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫，以內溫80℃保溫18小時。之後，冷卻至室溫，以減壓蒸發器除去乙腈。使所得之油狀物溶解於乙酸乙酯，於分液漏斗中以1%鹽酸分液洗淨該乙酸乙酯溶液共2次，接著，以純水以使水層之pH為6以上的方式進行分液洗淨。將洗淨後之乙酸乙酯溶液以芒硝乾燥，以減壓蒸 發器除去乙酸乙酯，而得橙色油狀物之以UVA-06所表示之化合物5.5g。產率為104%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，則UVA-06所表示之化合物之ε(405)之值為31L/(g‧cm)，ε(420)之值為6.2L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-06所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.90(t、6H)、1.03-1.62(m、10H)、2.35(s、1H)、3.72(s、3H)、4.13(q、2H)、7.16-7.26(m、1H)、7.36-7.44(m、4H)、7.56-7.58(m、2H)、8.44-8.49(m、1H)
[合成例8]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之200mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填參考專利文獻(日本特開2014-194508)所合成之UVA-M-02所表示之化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)6.3g、米氏酸(東京化成工業股份有限公司製)4.4g、三乙胺(和光純藥工業股份有限公司製)6.3g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)130g，以磁攪拌器攪拌。使用油浴使內溫加溫至78℃，保 溫30分鐘。之後，使內溫冷卻至室溫，以減壓蒸發器除去乙腈。將所得之油狀物，供至管柱層析(二氧化矽凝膠)以進行精製。對含有目的化合物之管柱沖提液，再使用減壓蒸發器除去溶劑而得黃色結晶。以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-07所表示之化合物1.5g。產率為20%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，則UVA-07所表示之化合物之ε(405)之值為72L/(g‧cm)，ε(420)之值為5.0L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-07所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.70(s、6H)、2.16(quin、2H)、3.15-3.22(m、5H)、3.77(t、2H)、6.95(d、2H)、8.10(d、2H)
[合成例9]
根據專利文獻(DE101 09 243 A1)所記載之方法，合成以UVA-08所表示之化合物。精製係供至管柱層析(二氧化矽凝膠)來進行。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，ε(405)之值為55L/(g‧cm)，ε(420)之值為17L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的 波峰，故可確認UVA-08所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.31(t、3H)、2.09(quin、2H)、3.01(m、5H)、3.64(t、2H)、4.23(q、2H)、5.52(d、1H)、7.92(d、1H)
[合成例10]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛5.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.8g、丙二腈(東京化成工業股份有限公司製)1.5g、乙醇(和光純藥工業股份有限公司製)20g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫，以內溫80℃保溫18小時。之後，冷卻至室溫，過濾取得析出之結晶，以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-09所表示之化合物4.9g。產率為82%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-09所表示之化合物之ε(405)之值為93L/(g‧cm)，ε(420)之值為24L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-09所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：3.71(s、3H)、7.34-7.38(m、2H)、7.44-7.47(m、4H)、7.60-7.63(m、3H)、8.37-8.40(m、1H)
[合成例11]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛3.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.1g、氰乙酸乙酯(東京化成工業股份有限公司製)1.6g、乙醇(和光純藥工業股份有限公司製)12g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫，以內溫80℃保溫18小時。之後，冷卻至室溫，過濾取得所析出之結晶，以60℃減壓乾燥所得之結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-10所表示之化合物3.6g。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-10所表示之化合物之ε(405)之值為49L/(g‧cm)，ε(420)之值為9.6L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-10所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.34(t、3H)、3.72(s、3H)、4.29(q、2H)、7.38-7.43(m、5H)、7.56-7.58(m、3H)、8.15(s、1H)、8.41-8.47(m、1H)
[合成例12]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之200mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填參考專利文獻(日本特開2014-194508)所合成之UVA-M-02所表示之化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰乙酸2-乙基丁酯(東京化成工業股份有限公司製)6.6g、及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁攪拌器攪拌。於內溫25℃下，以1小時滴入DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g，滴入結束後以內溫25℃再保溫2小時。之後，使用減壓蒸發器以除去乙腈，供至管柱層析(二氧化矽凝膠)以進行精製，對含有以UVA-11所表示之化合物的沖提液，使用減壓蒸發器除去溶劑，得到黃色結晶。以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-11所表示之化合物3.0g。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，則UVA-11所表示之化合物之ε(405)之值為48L/(g‧cm)，ε(420)之值為1.1L/(g‧cm)。
[合成例13]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之200mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填參考專利文獻(日本特開2014-194508)所合成之UVA-M-02所表示之化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰乙酸2-辛基己酯(東京化成工業股份有限公司製)10g、及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁攪拌器攪拌。於內溫25℃下，以1小時將DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g滴入至所得之混合物，滴入結束後以內溫25℃再保溫2小時。之後，使用減壓蒸發器以除去乙腈，供至管柱層析(二氧化矽凝膠)以進行精製，對含有UVA-12的沖提液，使用減壓蒸發器除去溶劑，得到黃色結晶。以60℃減壓乾燥該結晶，藉此得到黃色粉末之以UVA-12所表示之化合物4.6g。產率為56%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-12所表示之化合物之ε(405)之值為45L/(g‧cm)，ε(420)之值為2.1L/(g‧cm)。
[合成例14]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計及攪拌機之300mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填丙二醛二苯胺鹽酸鹽(東京化成工業(股)製)20g、1,3-二甲基巴比妥酸(東京化成工業(股)製)13.8g、甲醇46g，於室溫下開始攪拌。由滴液漏斗以30分鐘滴入三乙胺(和光純藥工業(股)製)8.6g，於室溫下持續攪拌1小時。之後，使用油浴使內溫升溫至65℃，沸騰回流1小時。反應結束後使內溫冷卻至室溫，過濾取得所析出之結晶，再以甲醇洗淨該濕結晶。對洗淨後之濕結晶以40℃進行減壓乾燥，藉此得到橙色粉末之以UVA-M-04所表示之化合物18.5g。產率為84%。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-M-04所表示之化合物的生成。
1H-NMR(DMSO-d 6)δ(ppm)：3.07(s、6H)、7.04-7.07(m、1H)、7.26-7.32(m、4H)、7.43(dd、1H)、8.07(d、1H)、8.55(d、1H)、11.4(s、1H)
[合成例15]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填UVA-M-04所表示之化合物2.0g、嗎福林 (和光純藥工業(股)製)1.6g、2-丙醇(Nacalai tesque(股)製)10g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫使內溫為83℃，沸騰回流3小時，反應結束後冷卻至室溫。過濾取得所析出之結晶，以2-丙醇洗淨該濕結晶共四次後，以40℃進行減壓乾燥，藉此得到橙色粉末之UVA-13所表示之化合物1.6g。產率為82%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-13所表示之化合物之ε(405)之值為314L/(g‧cm)，ε(420)之值為85L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-13所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：3.27(s、3H)、3.29(s、3H)、3.50-3.59(m、4H)、3.72-3.78(m、4H)、7.19-7.32(m、2H)、7.95-8.06(m、1H)
[合成例16]
使設置有戴氏冷凝管、溫度計之100mL-四口燒瓶內為氮氣環境，裝填UVA-M-04所表示之化合物2.0g、二乙胺(和光純藥工業(股)製)10g、2-丙醇(Nacalai tesque(股)製)10g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫使內溫為52℃，保溫5小時，反應結束後冷卻至室溫。使用減壓蒸發器除去2-丙醇，將所得之油狀物，供至管柱層析(二氧化矽凝膠)以進行精製，得到橙色粉末之以UVA-14所表示之化合物1.1g。產率為58%。
以與上述相同之方法求出克吸光係數，UVA-14所表 示之化合物之ε(405)之值為303L/(g‧cm)，ε(420)之值為81L/(g‧cm)。
進行1H-NMR分析的結果，觀測到以下的波峰，故可確認UVA-14所表示之化合物的生成。
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：1.26-1.37(m、6H)、3.34(s、3H)、3.35(s、3H)、3.43-3.56(m、4H)、7.27-7.39(m、2H)、8.04(d、1H)
[合成例17]
參照Anal.Chem.2017,89,9432-9437，由式(M-1)所表示之化合物合成UVA-15所表示之化合物。
將所得之光吸收性化合物之克吸光係數測定的結果示於表2。
<黏著劑組成物及黏著片的調製>
(a-1)實施例1至21及比較例1之黏著劑組成物的調製
對於丙烯酸樹脂(A)之固形分100質量份，分別以表3所示之量調配交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物。再添加2-丁酮使固形分濃度為14%，使用攪拌機 (Yamato科學股份有限公司製Three-one motor)，以300rpm攪拌30分鐘，調製成各黏著劑組成物。又，交聯劑及光選擇吸收性化合物，係分別作成2-丁酮溶液添加至丙烯酸樹脂中。
(a-2)實施例22至34及比較例2之黏著劑組成物的調製
除了將丙烯酸樹脂(A)改變成丙烯酸樹脂(B)以外，藉由與前述實施例1至21及比較例2之相同方法，依據表3所示之配方調製各黏著劑組成物。
(a-3)實施例35至36
將光選擇吸收性化合物以UVA-15所表示之化合物取代，並且使其添加量相對於丙烯酸樹脂(A)之固形分100質量份為表3所示之量，除此之外，以與實施例1至21之相同方法調製黏著劑組成物。
又，表3中所示之交聯劑、矽烷化合物、光選擇吸收性化合物，分別為以下所示者。
[交聯劑(B)]
Coronate-L：甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷等加成物的乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)，日本聚胺基甲酸酯股份有限公司製。
[矽烷化合物]
KBM-403：3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷，液體，信越化學工業股份有限公司製(以下，簡寫為「KBM-403」)。
[光選擇吸收性化合物(紫外線吸收劑)]
KEMISORB 73[λmax=353nm，ε(405)=1.4L/(g‧cm)，ε(420)無吸收]：2-(3,5-二-三級戊基-2-羥基苯基)苯并三唑，固體，CHEMIPRO化成股份有限公司製(以下，簡寫為「KEMISORB 73」)。
SUMISORB 300[λmax=354nm，ε(405)=1.9L/(g‧cm)，ε(420)無吸收]：2-(3-三級丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯苯并三唑，固體，Sumika Chemtex股份有限公司製(以下，簡寫為「SUMISORB 300」)。
又，KEMISORB 73及SUMISORB 300之克吸光度係數，可以與上述所記載方法之相同方法來求得。
(b)黏著片之製作
將前述(a)所調製之各黏著劑組成物，使用撒布機以使乾燥膜厚為20μm的方式，塗布於施以脫模處理之聚對酞酸乙二酯膜(LINTEC公司製SP-PLR382050，以下，簡寫 為「隔離膜」)的脫模處理面，以100℃乾燥1分鐘製作成黏著片。
<黏著劑層之吸光度測定>
為了測定所得之黏著劑層的吸光度，將黏著劑層貼合於玻璃，將隔離膜剝離後，於黏著劑層貼合環烯烴聚合物(COP)膜(日本ZEON股份有限公司製ZF-14)，製作成黏著劑層評價用積層體。將所製作之黏著劑層評價用積層體裝設於分光光度計UV-2450(股份有限公司島津製作所製)，以雙光束法於1nm step 300至800nm之波長範圍測定吸光度。將所製作之黏著劑層的吸光度示於表4。
<光學積層體之製作(實施例37至71、比較例3、4)>
於光學各向異性層或積層體的製造，係使用以下所示之「光配向膜形成用組成物」、「摩擦配向性聚合物組成物」、「含聚合性液晶化合物之組成物」、及「偏光板」。
<光配向膜形成用組成物之調製>
混合下述構造之光配向性材料5份、與環戊酮(溶劑)95份作為成分，對所得之混合物以80℃攪拌1小時，藉此得到光配向膜形成用組成物。下述光配向性材料，係以日本特開2013-33248號公報記載之方法合成。
<含聚合性液晶化合物之組成物A之調製>
混合下述構造之聚合性液晶化合物A、聚丙烯酸酯化合物(調平劑)(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)、與下述之聚合起始劑與溶劑作為成分，而得到含聚合性液晶化合物之組成物。
聚合性液晶化合物A(12.0份)：
聚合性液晶化合物A，係以日本特開2010-31223號公報所記載的方法合成。聚合性液晶化合物A之極大吸收波長λmax(LC)為350nm。
聚合起始劑(0.72份)：2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎福林基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE369；Ciba精化公司製)
調平劑(0.12份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)
溶劑：環戊酮(100份)
[實施例37]
<偏光板之製造>
將厚度30μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)，以乾式拉伸單軸拉伸約4倍，並保持於繃緊狀態，浸漬於40℃之純水40秒鐘之後，浸漬於28℃之碘/碘化鉀/水的重量比為0.044/5.7/100的染色水溶液30秒鐘，以進行染色處理。之後，浸漬於70℃之碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100的硼酸水溶液120秒鐘。接著，以8℃之純水洗淨15秒鐘之後，於保持為300N之張力的狀態下，以60℃乾燥50秒鐘、接著以75℃乾燥20秒鐘，得到聚乙烯醇膜吸附配向有碘之厚度12μm的偏光片。
於所得之偏光片、與環烯烴聚合物膜(COP，日本ZEON股份有限公司製ZF-4，無UV吸收特性，30μm)之間注入水系接著劑，以夾輥貼合。使所得之貼合物之張力保持為430N/m的狀態下，以60℃乾燥2分鐘，得到單面具有保護膜之環烯烴膜之42μm的偏光板。又，上述水系接著劑，係於水100份，添加羧基變性聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司製；KURARAY POVAL KL318)3份、與水溶性聚醯胺環氧樹脂(住化Chemtex股份有限公司製；Sumirez Resin650；固形分濃度30%之水溶液)1.5份來調製。
如以下方式，測定所得之偏光板之偏光度Py及單體透過率Ty。
使用於分光光度計(UV-2450；島津製作所股份有限公司製)裝設有附偏光片鏡夾之裝置，以雙光束法於2nm step 380至680nm之波長範圍，測定透過軸方向之單體透過率(T1)及吸收軸方向之單體透過率(T2)。使用下述式(p)及(q)，計算出各波長下之單體透過率、偏光度，再藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)進行能見度修正，計算出能見度修正單體透過率(Ty)及能見度修正偏光度(Py)。其結果，得到能見度修正單體透過率Ty為43.0%、能見度修正偏光度Py為99.99%的吸收型偏光板。
單體透過率Ty(%)={(T1+T2)/2}×100 (p)
偏光度Py(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 (q)
<光學各向異性層之製造>
使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘的條件，對環烯烴聚合物膜(COP，日本ZEON股份有限公司製ZF-14)進行處理一次。於施以電暈處理的表面，棒塗布光配向膜形成用組成物，以80℃乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份有限公司製)，以100mJ/cm2之累積光量實施偏光UV曝光。以橢圓偏光計M-200(日本分光股份有限公司製)測定所得配向膜之膜厚的結果，為100nm。
接著，於配向膜上，使用棒塗布器塗布之前所調製之含聚合性液晶化合物之組成物A所構成的塗布液，以120℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A，USHIO電機股份有限公司製)，由塗布有含聚合性液晶化合物之組成物的面側，照射紫外線(氮氣環境下，波長313nm下之累積光量：500mJ/cm2)，藉此形成含光學各向異性層1的光學膜。以雷射顯微鏡(LEXT Olympus股份有限公司製)測定所得之光學各向異性層1之膜厚的結果，為2μm。
於所得之光學膜之光學各向異性層1側，貼合製造例2所製作之黏著劑組成物之後，貼合使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘的條件處理一次的偏光板。此時，係以使光學各向異性層之慢軸相對於偏光板之吸收軸的關係成45°的方式積層，而形成圓偏光板。之後，將基 材的COP膜剝離，藉此得到於偏光板轉印有光學各向異性層1的光學積層體1(圓偏光板1)。所得光學積層體1的厚度為64μm。
為了測定光學積層體1的光學特性，藉由轉印至玻璃以製作測定用樣品。以雙折射測定裝置(KOBRA-WR；王子計測機器股份有限公司製)測定該樣品於波長450nm、波長550nm及波長630nm下的相位差值。以分光光度計(UV-2450；島津製作所股份有限公司製)測定透過率。又，藉由於光源側配置偏光稜鏡作成完全直線偏光，以該直線偏光照射測定用樣品進行測定。此時，藉由入射與光學積層體之偏光板側之透過軸平行的直線偏光，測定偏光板之透過方向在波長405nm下之光學積層體的透過率Tp(405)、偏光板之透過方向在波長420nm下之光學積層體的透過率Tp(420)、偏光板之透過方向在波長440nm下之光學積層體的透過率Tp(440)。將其結果示於表5。
[實施例38至71、比較例3、4]
分別使用上述表4之實施例1至35所記載之黏著劑組成物，與前述實施例37以同樣方法製作轉印有光學各向異性層的光學積層體(圓偏光板)。與實施例1以同樣方法測定所得之光學積層體(圓偏光板)的光學特性。
<光學積層體之評價>
對於上述所製作之光學積層體，進行光學耐久性試驗、耐熱試驗、耐濕熱試驗及耐熱衝擊試驗，以進行評價。又，各試驗係依據以下的方法進行。
光耐久性試驗(於表6標記為「SWOM」)：將光學積層體投入日光型耐候計(Suga試驗機股份有限公司製：型號：SUNSHINE WEATHER METER S80)，照射100小時後，測定於波長450nm、波長550nm及波長630nm下的相位差值。由光學耐久性試驗前後之相位差值的變化，依據以下的基準進行評價。將結果示於表6。
[光學耐久性試驗之評價基準]
A：光學耐久性試驗前後之Re變化未滿5。
B：光學耐久性試驗前後之Re變化為5以上未滿10。
C：光學耐久性試驗前後之Re變化為10以上。
耐熱試驗(於表6標記為「耐熱」)：將光學積層體投入恆溫槽(ESPEC股份有限公司製：型號PL-3KT)，分別放置於溫度85℃的乾燥條件下250小時、500小時之後，以目視觀察光學積層體的外觀狀態，依據以下的評價基準進行評價。將結果示於表6。
[耐熱試驗之評價基準]
A：於500小時後大致未見樣品的浮起、剝離、發泡等之外觀變化。
B：於250小時後大致未見樣品的浮起、剝離、發泡等之外觀變化。
C：於250小時後顯著確認到樣品的浮起、剝離、發泡等之外觀變化。
耐濕熱試驗(於表6標記為「耐濕熱」)：將光學積層體投入恆溫槽(ESPEC股份有限公司製：型號PH-4KT)，分別放置於溫度60℃、相對濕度90%下250小時、500小時之後，以目視觀察光學積層體的外觀狀態，依據以下的評價基準進行評價。將結果示於表6。
[耐濕熱試驗之評價基準]
A：於500小時後大致未見樣品的浮起、剝離、發泡等之外觀變化。
B：於250小時後大致未見樣品的浮起、剝離、發泡等之外觀變化。
C：於250小時後顯著確認到樣品的浮起、剝離、發泡等之外觀變化。
於未添加光選擇吸收性化合物之比較例3及4，光學耐久性試驗後之Re(450)之值大幅地變化為10以上。又，另一方面，A(405)、A(420)之值分別超過0.5、0.1，且A(405)/A(440)、A(420)/A(440)之值分別超過10、1的依據本發明之光學積層體(實施例36至70)，於光學耐久性試驗後之Re(450)之值的變化則改善為未滿5。特別是，包含具有特定構造之光選擇吸收性化合物的光學積層體(實施例36至68及實施例71)，於各耐久試驗後皆未產生浮起、剝離、發泡等，外觀亦無變化，可知耐久性優異。
接著，以分光光度計測定所製作之光學積層體的透過率，推斷OLED顯示器下的光提取效率。將結果示於表7。
又，光提取效率係基於OLED發光光譜及光學積層體的透過光譜，依據以下所計算出來。
藍、綠、紅之光提取效率，係分別為波長420至560nm、480至655nm、535至755nm下之光萃取的效率。
OLED光提取效率(%)=OLED發光光譜×光學積層體的透過率
依據本發明之光學積層體(實施例37至70)，與未添加光選擇吸收性化合物之比較例3及4顯示同等的光提取效率，可知不會損及顯示特性。
[產業上之可利用性]
使用本發明之黏著劑組成物的附黏著劑層之膜，具有良好的顯示特性，並且，可抑制紫外線至400nm附近之短波長的可見光所造成之光學膜的劣化。

Claims (14)

  1. 一種黏著劑組成物，其係含有式(I)所表示之化合物； 式中，R 1及R 5分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25之烷基、可具有取代基之碳數7至15之芳烷基、碳數6至15之芳基、雜環基，該烷基或芳烷基所含之-CH 2-可經-NR 1A-、-CO-、-SO 2-、-O-或-S-取代；R 1A表示氫原子或碳數1至6之烷基；R 2、R 3及R 4分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6之烷基、可具有取代基之芳香族烴基或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基所含之-CH 2-可經-NR 1B-、-CO-、-SO 2-、-O-或-S-取代；R 1B表示氫原子或碳數1至6之烷基；R 6及R 7分別獨立地表示氫原子、碳數1至25之烷基或拉電子基；R 1及R 2可互相連接形成環構造，R 2及R 3可互相連接形成環構造，R 2及R 4可互相連接形成環構造，R 3及R 6可互相連接形成環構造，R 6及R 7可互相連接形成環構造。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之黏著劑組成物，其中，式(I)所表示之化合物，係滿足式(1)的化合物； ε(405)≧20 (1)式中，ε(405)表示化合物在波長405nm下之克吸光係數；克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之黏著劑組成物，其中，式(I)所表示之化合物，係滿足式(2)的化合物；ε(420)≧5 (2)式中，ε(420)表示化合物在波長420nm下之克吸光係數；克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。
  4. 申請專利範圍第1至3項中任一項所述之黏著劑組成物，其進一步含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及交聯劑(B)。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之黏著劑組成物，其中，式(I)所表示之化合物的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，為0.01至20質量份。
  6. 如申請專利範圍第4或5項所述之黏著劑組成物，其中，交聯劑(B)的含量，相對於(甲基)丙烯酸樹脂(A)100質量份，為0.01至10質量份。
  7. 一種光學積層體，其包含有申請專利範圍第1至6項中任一項所述之黏著劑組成物所形成的黏著劑層、與樹脂膜。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學積層體，其中，樹脂膜係選自相位差膜及偏光膜之至少一種膜。
  9. 一種光學積層體，其包含有申請專利範圍第1至6項中任一項所述之黏著劑組成物所形成的黏著劑層、偏 光膜、與相位差膜。
  10. 如申請專利範圍第7至9項中任一項所述之光學積層體，其中，黏著劑層的厚度為0.1至30μm。
  11. 如申請專利範圍第7至10項中任一項所述之光學積層體，其中，黏著劑層係滿足下述式(5)；A(405)≧0.5 (5)式中，A(405)表示波長405nm下之黏著劑層的吸光度。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之光學積層體，其中，黏著劑層係滿足下述式(6)；A(420)≧0.1 (6)式中，A(420)表示波長420nm下之黏著劑層的吸光度。
  13. 如申請專利範圍第11或12項所述之光學積層體，其中，黏著劑層進一步滿足下述式(7)；A(440)≦0.1 (7)式中，A(440)表示波長440nm下之黏著劑層的吸光度。
  14. 一種顯示裝置，其係包含有申請專利範圍第7至13項中任一項所述之光學積層體。
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