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TW201906963A - 黏著劑片及附黏著劑層之膜 - Google Patents

黏著劑片及附黏著劑層之膜 Download PDF

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TW201906963A
TW201906963A TW107121710A TW107121710A TW201906963A TW 201906963 A TW201906963 A TW 201906963A TW 107121710 A TW107121710 A TW 107121710A TW 107121710 A TW107121710 A TW 107121710A TW 201906963 A TW201906963 A TW 201906963A
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阪上智恵
小橋亜依
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明係提供藉由對紫外線及波長405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件中由紫外線所引發之劣化具有良好的抑制機能之黏著劑片。
本發明之黏著劑片係由至少包含(甲基)丙烯酸系樹脂及光選擇吸收化合物之黏著劑組成物所形成之黏著劑層，且滿足下述式(1)及(2)：A(350)≧0.5 (1)
A(405)≧0.5 (2)[式(1)中，A(350)表示在波長350nm之吸光度；式(2)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度]。

Description

黏著劑片及附黏著劑層之膜
本發明係關於黏著劑片以及使用該黏著劑片之附黏著劑層之膜。
在有機EL(electroluminescnet)顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD(flat panel display)：平面顯示器)中，已使用有機EL元件、液晶單元等顯示元件或偏光板等光學膜等各式各樣的構件。此等構件中所使用之有機EL化合物及液晶化合物等為有機物，因而紫外線(UV)所引發之劣化易於成為問題。為了解決此種問題，舉例而言，在專利文獻1中已記載將370nm以下的波長區域的紫外線吸收性能優異的紫外線吸收劑添加至偏光板之保護膜中而得之偏光板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2006-308936號公報
此外，近年的顯示裝置的薄型化正進行中，使聚合性液晶化合物進行配向/光硬化而成之液晶系相位差膜的開發正在進展。已清楚得知此等液晶系相位差膜或有機EL發光元件不僅是紫外線引發之劣化，在400nm附近的短波長可見光下亦有發生劣化之傾向。然而，即便專利文獻1所記載之偏光板係370nm以下的波長區域的紫外線吸收性能優異，400nm附近的可見光吸收性能卻低，會有液晶系相位差膜或有機EL發光元件的劣化抑制不夠充分之情形。再者，在近年的顯示裝置中，正謀求更良好的顯示特性。
本發明係提供藉由對紫外線及波長405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件中之紫外線或短波長可見光所引發之劣化具有良好的抑制機能之黏著劑片。
本發明包含以下發明。
[1]一種黏著劑片，係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及光選擇吸收化合物之黏著劑組成物所形成，且滿足下述式(1)及(2)，A(350)≧0.5 (1) A(405)≧0.5 (2)[式(1)中，A(350)表示在波長350nm之吸光度；式(2)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度]。
[2]如[1]所記載之黏著劑片，其更滿足下述式(3)，A(440)≦0.1 (3)[式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度]。
[3]如[1]所記載之黏著劑片，其更滿足下述式(4)，A(405)/A(440)>5 (4)[式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度]。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載之黏著劑片，其中，光選擇吸收化合物包含選擇性地吸收波長350nm的光之化合物及選擇性地吸收波長405nm的光之化合物。
[5]如[4]所記載之黏著劑片，其中，選擇性地吸收波長405nm的光之化合物為滿足式(5)之化合物，ε(405)≧20 (5)[式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數；克吸光係數的單位為L/(g‧cm)]。
[6]如[5]所記載之黏著劑片，其中，選擇性地吸收波長405nm的光之化合物為滿足式(6)之化合物，ε(405)/ε(440)≧20 (6)[式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm之克吸光係數]。
[7]如[4]至[6]中任一項所記載之黏著劑片，其中，選擇性地吸收波長405nm的光之化合物為分子內具有部花青素(merocyanine)結構之化合物。
[8]如[1]至[7]中任一項所記載之黏著劑片，其中，黏著劑 組成物更包含交聯劑。
[9]如[8]所記載之黏著劑片，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，交聯劑(B)的含量為0.01至15質量份。
[10]如[1]至[9]中任一項所記載之黏著劑片，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，光選擇吸收化合物的含量為0.01至20質量份。
[11]一種[1]至[10]中任一項所記載之附黏著劑層之光學膜，其係使光學膜積層於黏著劑片的至少一面而成者。
[12]如[11]所記載之附黏著劑層之偏光板，其中，光學膜為偏光板。
[13]一種顯示裝置，係包含[11]或[12]中任一項所記載之附黏著劑層之光學膜。
本發明之黏著劑片係藉由對紫外線及405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件中之紫外線所引發之劣化具有良好的抑制機能。此外，本發明之黏著劑片係即便在耐候性試驗後亦對波長405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，可保持抑制紫外線或短波長可見光所引發之劣化。在將本發明之黏著劑片使用於顯示裝置中之情況，可賦予良好的顯示特性及耐久性。
1‧‧‧黏著劑片
2‧‧‧剝離膜
10A、10B、10C‧‧‧光學積層體
3‧‧‧保護膜
4‧‧‧光學膜
7、60‧‧‧接著劑層
7a‧‧‧黏著劑層
8‧‧‧保護膜
9‧‧‧偏光膜
30‧‧‧發光元件
40‧‧‧光學膜
50、50a‧‧‧1/4波長相位差層
60‧‧‧接著劑層
70‧‧‧1/2波長相位差層
80‧‧‧正C層
第1圖呈示本發明之黏著劑片的層構成之一例。
第2圖呈示包含本發明之黏著劑片之光學積層體的層構成之一例。
第3圖呈示包含本發明之黏著劑片之光學積層體的層構成之一例。
第4圖呈示包含本發明之黏著劑片之光學積層體的層構成之一例。
本發明之黏著劑片係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及光選擇吸收化合物之黏著劑組成物所形成，且滿足下述式(1)及(2)。
A(350)≧0. (1)
A(405)≧0.5 (2)[式(1)中，A(350)表示在波長350nm之吸光度。式(2)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度。]
A(350)的值越大，表示在波長350nm之吸收越高。若A(350)的值未滿0.5，則在波長350nm之吸收低，抑制紫外線中之相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的劣化之效果小。A(350)的值較佳為0.5以上，更佳為0.8以上，特佳為1.0以上。
A(405)的值越大，表示在波長405nm之吸收越高。若A(405)的值未滿0.5，則在波長405nm之吸收低，抑制紫外線或短波長可見光中之相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的劣化之效果較小。A(405)的值較佳為0.6 以上，更佳為0.8以上，特佳為1.0以上。上限並無特別限制，通常為10以下。
本發明之黏著劑片較佳係更滿足下述式(3)及式(4)中之任一者，更佳係滿足下述式(3)及式(4)兩者。
A(440)≦0.1 (3)[式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度。]
A(405)/A(440)≧5 (4)[式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度。]
A(440)的值越小，表示在波長440nm之吸收越低，若A(440)的值超過0.1，則會有損及顯示裝置中良好的色彩表現之傾向。此外，由於會阻礙顯示裝置的發光，因而亮度亦降低。A(440)的值較佳為0.05以下，更佳為0.04以下，特佳為0.03。並無特別下限，通常為0.00001以上。
A(405)/A(440)的值表示在波長405nm之吸收的大小相對於在波長440nm之吸收的大小，此值越大，表示本發明之黏著劑片在405nm附近的波長區域越有特異性吸收。A(405)/A(440)的值較佳為10以上，更佳為30以上，特佳為60以上。
本發明之黏著劑層係由至少包含(甲基)丙烯酸系樹脂及光選擇吸收化合物之黏著劑組成物所形成。
黏著劑組成物較佳係更包含交聯劑。
光選擇吸收化合物只要是選擇性地吸收波 長350nm的光或波長405nm的光之化合物，即無特別限定。光選擇吸收化合物較佳係包含選擇性地吸收波長350nm的光之化合物及選擇性地吸收波長405nm的光之化合物。
作為選擇性地吸收波長350nm的光之化合物(以下，有時稱為光選擇吸收化合物(A))，可列舉例如紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑並無特別限定，可列舉例如氧基二苯基酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、二苯基酮系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、三系紫外線吸收劑等有機系紫外線吸收劑。更具體而言，可列舉例如5-氯-2-(3,5-二-第二丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、(2-2H-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二基)-4-甲基酚(methylphenol)、2-羥基-4-苄氧基二苯基酮、2,4-苄氧基二苯基酮等。此等有機系紫外線吸收劑亦可併用1種或2種以上。
紫外線吸收劑亦可使用市售品，舉例而言，作為三系紫外線吸收劑，可列舉CHEMIPRO化成股份有限公司製之「Kemisorb 102」、ADEKA股份有限公司製之「ADEKASTAB LA46」、「ADEKASTAB LAF70」、BASF Japan公司製之「TINUVIN 109」、「TINUVIN 171」、「TINUVIN 234」、「TINUVIN 326」、「TINUVIN 327」、「TINUVIN 328」、「TINUVIN 928」、「TINUVIN 400」、「TINUVIN 460」、「TINUVIN 405」、「TINUVIN 477」等。作為苯并三唑系紫外線吸收劑，可列舉ADEKA股份有限 公司製之「ADEKASTAB LA31」及「ADEKASTAB LA36」、住化Chemtex股份有限公司製之「Sumisorb 200」、「Sumisorb 250」、「Sumisorb 300」、「Sumisorb 340」及「Sumisorb 350」、CHEMIPRO化成股份有限公司製之「Kemisorb 74」、「Kemisorb 79」及「Kemisorb 279」、BASF公司製之「TINUVIN 99-2」、「TINUVIN 900」及「TINUVIN 928」等。
此外，紫外線吸收劑亦可為無機系紫外線吸收劑。作為無機系紫外線吸收劑，可列舉氧化鈦、氧化鋅、氧化銦、氧化錫、滑石、高嶺土、碳酸鈣、氧化鈦系複合氧化物、氧化鋅系複合氧化物、ITO(摻雜錫之氧化銦)、ATO(摻雜銻之氧化錫)等。作為氧化鈦系複合氧化物，可列舉例如摻雜氧化矽、氧化鋁之氧化鋅等。此等無機系紫外線吸收劑可使用1種，或併用2種以上而使用。此外，併用有機系紫外線吸收劑及無機系紫外線吸收劑亦無妨。
作為選擇性地吸收波長405nm的光之化合物(以下，有時稱為光選擇吸收化合物(B))，較佳為滿足下述式(5)之化合物，更佳為更滿足下述式(6)之化合物。
ε(405)≧20 (5)[式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數。克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。]
ε(405)/ε(440)≧20 (6)[式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm之克吸光係數。]
另外，克吸光係數係藉由實施例所記載之方法予以測定。
ε(405)的值越大的化合物越易於吸收波長405nm的光，而抑制在紫外線或短波長可見光下之相位差膜的劣化。若ε(405)的值未滿20L/(g‧cm)，則不增加黏著劑組成物中之光選擇吸收化合物(B)的含量時，會有難以表現出相位差膜或有機EL發光元件中之紫外線或短波長可見光所引發之劣化抑制機能之傾向。若光選擇吸收化合物(B)的含量增大，則光選擇吸收化合物(B)會滲出或不均勻地分散，會有光吸收機能變得不充分之情形。ε(405)的值較佳為20L/(g‧cm)以上，更佳為30L/(g‧cm)以上，再佳為40L/(g‧cm)以上，通常為500L/(g‧cm)以下。
ε(405)/ε(440)的值越大的化合物越可在不會阻礙顯示裝置的色彩表現之情形下，吸收405nm附近的光，而抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的光劣化。ε(405)/ε(440)的值較佳為20以上，更佳為40以上，再佳為70以上，特佳為80以上。
選擇性地吸收波長405nm的光之化合物較佳為分子內包含部花青素結構之化合物。作為分子內包含部花青素結構之化合物，係分子內含有-(N-C=C-C=C)-所示之部分結構之化合物，可列舉例如部花青素系化合物、花青素(cyanine)系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物等，較佳為部花青素系化合物、花青素系化合物及苯并三唑系化合物，更佳為式(I)所示之化合物。
[式中，R1及R5各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25的烷基、可具有取代基之碳數7至15的芳烷基、碳數6至15的芳基、雜環基，該烷基或芳烷基中所包含之-CH2-可置換成-NR1A-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-。
R1A表示氫原子或碳數1至6的烷基。
R2、R3及R4各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6的烷基、可具有取代基之芳香族烴基或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基中所包含之-CH2-可經-NR1B-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-置換。
R1B表示氫原子或碳數1至6的烷基。
R6及R7各自獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或電子吸引性基，或者R6及R7可彼此連結而形成環結構。
R1及R2可彼此連結而形成環結構，R2及R3可彼此連結而形成環結構，R2及R4可彼此連結而形成環結構，R3及R6可彼此連結而形成環結構。]
作為R1及R5所表示之碳數1至25的烷基，可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等。
作為R1及R5所表示之碳數1至25的烷基可具有之取代基，可列舉以下群組A所記載之基。
群組A：可列舉硝基、羥基、羧基、磺酸基、氰基、胺基、鹵素原子、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷基矽基、碳數2至8的烷羰基、＊-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1及Ra2各自獨立地表示碳數1至6的烷二基，Ra3表示碳數1至6的烷基，s1表示1至3的整數。)所示之基等。
作為碳數1至12的烷基矽基，可列舉甲基矽基、乙基矽基、丙基矽基等單烷基矽基；二甲基矽基、二乙基矽基、甲基乙基矽基等二烷基矽基；三甲基矽基、三乙基矽基、三丙基矽基等三烷基矽基。
作為碳數2至8的烷羰基，可列舉甲羰基、乙羰基等。
作為鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子等。
作為R1及R5所表示之碳數7至15的芳烷基，可列舉苄基、苯乙基等。作為芳烷基中所包含之-CH2-經置換成-SO2-或-COO-之基，可列舉2-苯基乙酸乙酯基等。
作為R1及R5所表示之碳數7至15的芳烷基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R1及R5所表示之碳數6至15的芳基，可列舉苯基、萘基、蒽基等。
作為R1及R5所表示之碳數6至15的芳基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R1及R5所表示之碳數6至15的雜環基，可列舉吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9的芳香族雜環基。
作為R1A及R1B所表示之碳數1至6的烷基，可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基等。
作為R2、R3及R4所表示之碳數1至6的烷基，可列舉與R1B所表示之碳數1至6的烷基相同者。
作為R2、R3及R4所表示之碳數1至6的烷基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族烴基，可列舉苯基、萘基、蒽基等碳數6至15的芳基；苄基、苯乙基等碳數7至15的芳烷基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族烴基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族雜環，可列舉吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9的芳香族雜環基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族雜環可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R6及R7所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1及R5所表示之碳數1至25的烷基相同者。
作為R6及R7所表示之碳數1至25的烷基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R6及R7所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1及R5所表示之碳數1至25的烷基相同者。
作為R6及R7所表示之電子吸引性基，可列舉例如氰 基、硝基、鹵素原子、經鹵素原子取代之烷基、式(I-1)所示之基。
*-X1-R11 (I-1)[式中，R11表示氫原子或碳數1至25的烷基，該烷基中所包含之亞甲基中之至少1者可置換成氧原子。
X1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSO-、-CSS-、-NR12CO-或CONR13-。
R12及R13各自獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基。]
作為鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為經鹵素原子取代之烷基，可列舉例如三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基及全氟己基等全氟烷基等。作為經鹵素原子取代之烷基的碳數，通常為1至25。
R6及R7可彼此連結而形成環結構，作為由R6及R7所形成之環結構，可列舉例如米氏酸(meldrum’s acid)結構、巴比妥酸(barbituric acid)結構、雙甲酮(dimedone)結構等。
作為R11所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1及R5所表示之烷基相同者。
作為R2及R3彼此鍵結所形成之環結構，係包含與R2鍵結之氮原子之含氮環結構，可列舉例如4至 14員環的含氮雜環。R2及R3彼此連結所形成之環結構可為單環，亦可為多環。具體而言，可列舉吡咯啶環、吡咯啉環、咪唑啶環、咪唑啉環、唑啉環、噻唑啉環、哌啶環、嗎啉環、哌環、吲哚環、異吲哚環等。
作為R1及R2彼此鍵結所形成之環結構，係包含與R1及R2鍵結之氮原子之含氮環結構，可列舉例如4至14員環(較佳為4至8員環)的含氮雜環。R1及R2彼此連結所形成之環結構可為單環，亦可為多環。具體而言，可列舉與R2及R3彼此連結所形成之環結構相同者。
作為R2及R4彼此鍵結所形成之環結構，可列舉4至14員環的含氮環結構，較佳為5員環至9員環的含氮環結構。R2及R4彼此鍵結所形成之環結構可為單環，亦可為多環。此等環可具有取代基，作為此種環結構，可列舉與前述例示作為由R2及R3所形成之環結構者相同者。
作為R3及R6彼此連結所形成之環結構，係R3-C=C-C=C-R6形成環的骨架之環結構。可列舉例如苯基等。
作為R2及R3彼此連結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-A)所示之化合物，作為R2及R4彼此連結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-B)所示之化合物等。
[式(I-A)、式(I-B)中，R1、R3、R4、R5、R6及R7各自表示與上述相同意義。
環W1及環W2各自獨立地表示含氮環。]
環W1及環W2表示含有氮原子作為環的構成單元之含氮環。環W1及環W2可各自獨立地為單環，亦可為多環，亦可包含氮以外之雜原子作為環的構成單元。環W1及環W2較佳係各自獨立地為5員環至9員環的環。
式(I-A)所示之化合物較佳為式(I-A-1)所示之化合物。
[式(I-A)中，R1、R4、R5、R6及R7各自表示與上述相同意義。
A1表示-CH2-、-O-、-S-或-NR1D-。
R14及R15各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基。
R1D表示氫原子或碳數1至6的烷基。]
式(I-B)所示之化合物較佳為式(I-B-1)所示 之化合物及式(I-B-2)所示之化合物。
[式(I-B-1)中，R1、R6及R7各自表示與上述相同意義。
R16各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基、芳基。]
[式(I-B-2)中，R3、R5、R6及R7各自表示與上述相同意義。
R30表示氫原子、氰基、硝基、鹵素原子、巰基、胺基、碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、碳數6至18的芳香族烴基、碳數2至13的醯基、碳數2至13的醯氧基或碳數2至13的烷氧羰基。
R31表示碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、巰基、碳數1至12的烷硫基、可具有取代基之胺基或雜環基。]
作為R30所表示之鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為R30所表示之碳數2至13的醯基，可列舉乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
作為R30所表示之碳數2至13的醯氧基，可列舉甲羰氧基、乙羰氧基、丙羰氧基、丁羰氧基等。
作為R30所表示之碳數2至13的烷氧羰基，可列舉甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、丁氧羰基等。
作為R30所表示之碳數6至18的芳香族烴基，可列舉苯基、萘基、聯苯基等碳數6至18的芳基；苄基、苯乙基等碳數7至18的芳烷基。
作為R30所表示之碳數1至12的烷基，可列舉與R14所表示之碳數1至12的烷基相同者。
作為R30所表示之碳數1至12的烷基，可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等。
R30較佳為碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、胺基或巰基。
作為R31所表示之碳數1至12的烷基，可列舉與R14所表示之碳數1至12的烷基相同者。
作為R31所表示之碳數1至12的烷氧基，可列舉與R30所表示之碳數1至12的烷氧基相同者。
作為R31所表示之碳數1至12的烷硫基，可列舉甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基、戊硫基、己硫基等。
作為R31所表示之可具有取代基之胺基，可列舉胺基；N-甲基胺基、N-乙基胺基等經1個碳數1至8的烷基取代之胺基；N,N-二甲基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-甲基乙基胺基等經2個碳數1至8的烷基取代之胺基；等。
作為R31所表示之雜環，可列舉吡咯啶基、哌啶基、 嗎啉基等碳數4至9的含氮雜環基等。
作為R3及R6彼此連結而形成環結構，且R2及R4彼此鍵結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-C)所示之化合物等。
[式(I-C)中，R1、R5及R7表示與上述相同意義。
R21、R22各自獨立地表示氫原子、碳數1至12的烷基或羥基。
X2及X3各自獨立地表示-CH2-或-N(R25)=。
R25表示氫原子、碳數1至25的烷基、可具有取代基之芳香族烴基。]
作為R25所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1所表示之碳數1至25的烷基相同者。
作為R25所表示之芳香族烴基，可列舉苯基、萘基等芳基；苄基、苯乙基等芳烷基；聯苯基等，較佳為碳數6至20的芳香族烴基。作為R25所表示之芳香族烴基可具有之取代基，可列舉羥基等。
R3及R6較佳係各自獨立地為電子吸引性基。
作為R1及R2彼此連結而形成環結構，且R3及R6彼此鍵結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可 列舉式(I-D)所示之化合物等。
[式(I-D)中，R4、R5、R7表示與上述相同意義。
R25、R26、R27及R28各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至12的烷基、羥基、芳烷基。]
作為R25、R26、R27及R28所表示之碳數1至12的烷基，可列舉與R1A及R1B所表示之碳數1至12的烷基相同者。作為R25、R26、R27及R28所表示之碳數1至12的烷基可具有之取代基，可列舉羥基。
作為R25、R26、R27及R28所表示之芳烷基，可列舉苄基、苯乙基等碳數7至15的芳烷基。
作為R6及R7彼此連結而形成環結構之化合物(I)，可列舉式(I-E)所示之化合物等。
[式(I-E)中，R1、R3、R4、R5各自表示與上述相同意義。
環W3表示環狀化合物。]
環W3為5員環至9員環的環，亦可包含氮原子、氧原子、硫原子等雜原子作為環的構成單元。
式(I-E)所示之化合物較佳為式(IE-1)所示 之化合物。
[式(I-C-1)中，R1、R2、R3及R5各自表示與上述相同意義。
R17、R18、R19、Rq各自獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳數1至12的烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基中所包含之-CH2-基可置換成-NR1D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-，R17及R18可彼此連結而形成環結構，R18及R19可彼此連結而形成環結構，R19及Rq可彼此連結而形成環結構。m、p、q各自獨立地表示0至3的整數。]
作為式(I)所示之化合物，可列舉以下化合物。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，光選擇吸收化合物之合計含量通常為0.01至20質量份，較佳為0.05至15質量份，更佳為0.1至10質量份，再佳為0.1至5質量份。
光選擇吸收化合物(A)與光選擇吸收化合物(B)之質量比(光選擇吸收化合物(A)/光選擇吸收化合物(B))通常為0.05至20，較佳為0.1至10。
<(甲基)丙烯酸系樹脂(A)>
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳為以源自(甲基)丙烯酸酯之構成單元作為主成分(較佳係包含50質量%以上)之聚合物。源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元亦可包含一種以上源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體之結構單元(例如源自具有極性官能基之單體之結構單元)。另外，在本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸，係意味丙烯酸或甲基丙烯酸之任一者，此外，提及(甲基)丙烯酸酯等時之「(甲基)」亦為同樣的意旨。
作為(甲基)丙烯酸酯，可列舉下述式(I)所示之(甲基)丙烯酸酯。
[式(I)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1至14的烷基或碳數7至20的芳烷基，該烷基或該芳烷基之氫原子可經碳數1至10的烷氧基置換。]
在式(I)中，R2較佳為碳數1至14的烷基，更佳為碳數1至8的烷基。
作為式(I)所示之(甲基)丙烯酸酯，可列舉： (甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸之直鏈狀烷酯； (甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸之分枝狀烷酯； (甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸之含脂環骨架之烷酯； (甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸之含芳香環骨架之酯；等。
此外，亦可列舉對(甲基)丙烯酸烷酯中之烷基導入取代基而得之含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯。含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯之取代基為將烷基之氫原子進行置換之基， 其具體例包含苯基、烷氧基、苯氧基。作為含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯，具體而言，可列舉(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)酯等。
此等(甲基)丙烯酸酯可各自單獨使用，除此以外，亦可使用不同的複數種。
(甲基)丙烯酸系樹脂(a)較佳係含有源自均聚物的玻璃轉移溫度Tg未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元，及源自均聚物的Tg為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。含有源自丙烯酸烷酯(a1)之構成單元及源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元在提高黏著劑層的高溫耐久性方面實屬有利。(甲基)丙烯酸烷酯之均聚物的Tg可採用例如POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等之文獻值。
作為丙烯酸烷酯(a1)之具體例，可列舉丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二酯等烷基的碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯等。
丙烯酸烷酯(a1)可僅使用1種，亦可併用2種以上。該等之中，由將本發明之黏著劑片積層於光學膜時之追隨性或再加工性之觀點而言，較佳為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
丙烯酸烷酯(a2)為丙烯酸烷酯(a1)以外之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯(a2)之具體例包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等。
丙烯酸烷酯(a2)可僅使用1種，亦可併用2種以上。該等之中，由高溫耐久性之觀點而言，丙烯酸烷酯(a2)較佳係包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯等，更佳係包含丙烯酸甲酯。
在(甲基)丙烯酸系樹脂中所包含之所有結構單元中，式(I)所示之源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元較佳為50質量%以上，更佳為60至95質量%，更佳為65至95質量%以上。
作為源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體之結構單元，較佳為源自具有極性官能基之單體之結構單元，更佳為源自具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯之結構單元。作為極性官能基，可列舉羥基、羧基、經取代或未經取代之胺基、環氧基等雜環基等。
作為具有極性官能基之單體，可列舉：(甲基)丙烯酸1-羥甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥己酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥 己酯、(甲基)丙烯酸3-羥庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥己酯、(甲基)丙烯酸4-羥庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥己酯、(甲基)丙烯酸5-羥庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸6-羥庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥十一酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥十一酯、(甲基)丙烯酸8-羥十二酯、(甲基)丙烯酸9-羥壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥十一酯、(甲基)丙烯酸9-羥十二酯、(甲基)丙烯酸9-羥十三酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥十一酯、(甲基)丙烯酸10-羥十二酯、(甲基)丙烯酸10-羥十三酯、(甲基)丙烯酸10-羥十四酯、(甲基)丙烯酸11-羥十一酯、(甲基)丙烯酸11-羥十二酯、(甲基)丙烯酸11-羥十三酯、(甲基)丙烯酸11-羥十四酯、(甲基)丙烯酸11-羥十五酯、(甲基)丙烯酸12-羥十二酯、(甲基)丙烯酸12-羥十三酯、(甲基)丙烯酸12-羥十四酯、(甲基)丙烯酸12-羥十五酯、(甲基)丙烯酸13-羥十四酯、(甲基)丙烯酸13-羥十五酯、(甲基)丙烯酸14-羥十四酯、(甲基) 丙烯酸14-羥十五酯、(甲基)丙烯酸15-羥十五酯、(甲基)丙烯酸15-羥十七酯等具有羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧烷酯(例如(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯)、馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、巴豆酸等具有羧基之單體；丙烯醯嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、己內酯改質丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有經取代或未經取代之胺基之單體。
該等之中，就(甲基)丙烯酸酯聚合物與交聯劑之反應性方面而言，較佳為具有羥基之單體或/及具有羧基之單體，更佳係包含具有羥基之單體及具有羧基之單體二者。
作為具有羥基之單體，較佳為丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸3-羥丙酯、丙烯酸4-羥丁酯、丙烯酸5-羥戊酯、丙烯酸6-羥己酯。特定而言，可藉由使用丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸4-羥丁酯及丙烯酸5-羥戊酯而獲得良好的耐久性。
作為具有羧基之單體，較佳係使用丙烯酸。
由防止可積層於黏著劑片外表面之分離膜的剝離力亢進之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係 實質上不含源自具有胺基之單體之結構單元。在此處，所謂實質上不含，係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(a)之所有構成單元100質量份中為0.1質量份以下。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有結構單元100質量份，源自具有極性官能基之單體之結構單元的含量較佳為20質量份以下，更佳為0.5質量份以上且15質量份以下，再佳為0.5質量份以上且10質量份以下，特佳為1質量份以上且7質量份以下。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有結構單元100質量份，源自具有芳香族基之單體之結構單元的含量較佳為20質量份以下，更佳為4質量份以上且20質量份以下，再佳為4質量份以上且16質量份以下。
作為源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體之結構單元，亦可列舉源自苯乙烯系單體之結構單元、源自乙烯系單體之結構單元、源自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體之結構單元、源自(甲基)丙烯醯胺系單體之結構單元等。
作為苯乙烯系單體，可列舉苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；及二乙烯基苯。
作為乙烯系單體，可列舉乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、酪酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯；偏二氯乙烯等偏二鹵化乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
作為分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體，可列舉1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體。
作為(甲基)丙烯醯胺系單體，可列舉N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基) 丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺等。該等之中，較佳為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的重量平均分子量(Mw)較佳為50萬至250萬。若重量平均分子量為50萬以上，則高溫環境下之黏著劑片的耐久性提升，易於抑制被黏體與黏著劑片之間之浮起剝落或黏著劑片的凝集破壞等不良情形。若重量平均分子量為250萬以下，則就塗佈性之觀點而言實屬有利。由兼顧黏著劑片的耐久性及黏著劑組成物的塗佈性之觀點而言，重量平均分子量較佳為60萬至180萬，更佳為70萬至170萬，特佳為100萬至160萬。此外，以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比表示之分子量分佈(Mw/Mn)通常為2至10，較佳為3至8，更佳為3至6。重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析予以分析，其係標準聚苯乙烯換算之值。
使(甲基)丙烯酸樹脂(A)溶解於乙酸乙酯中，製成濃度20質量%的溶液時，在25℃之黏度較佳為20Pa‧s以下，更佳為0.1至15Pa‧s。若為該範圍的黏度，則由將黏著劑組成物塗佈於基材時之塗佈性之觀點而言實屬有利。另外，黏度可藉由布魯克非黏度計(Brookfield viscometer)予以測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)可為例如-60至20℃，較佳為-50至15℃，更佳為-45至10℃，特佳為-40至0℃。若Tg為上限值以下，則有利於黏著劑片對被黏體基材之浸潤性的提升，若為下限值以上，則有利於黏著劑片的耐久性的提升。另外，玻璃轉移溫度可藉由示差掃描熱量計(DSC)予以測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)可藉由例如溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等公知的方法予以製造，特佳為溶液聚合法。作為溶液聚合法，可列舉例如將單體及有機溶媒混合，於氮環境下，添加熱聚合起始劑，在40至90℃，較佳為50至80℃左右的溫度條件下，攪拌3至15小時左右之方法。為了控制反應，亦可在聚合中連續地或間歇地添加單體或熱聚合起始劑。該單體或熱聚合起始劑亦可為添加至有機溶媒中之狀態。
作為聚合起始劑，係使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑，可列舉4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑，可列舉2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、 1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥甲基丙腈)等偶氮系化合物；月桂基過氧化物、第三丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯、過氧苯甲酸第三丁酯、異丙苯氫過氧化物、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。此外，亦可使用併用過氧化物及還原劑之氧化還原系起始劑等。
相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之單體的總量100質量份，聚合起始劑的比例為0.001至5質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂的聚合亦可使用利用活性能量線(例如紫外線等)之聚合法。
作為有機溶媒，可列舉甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
在黏著劑組成物100質量%中，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的含量通常為60質量%至99.9質量%，較佳為70質量%至99.5質量%，更佳為80質量%至99質量%。
交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之極性官能基(例如羥基、胺基、羧基、雜環基等)進行反應。交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂等形成交聯結構， 形成有利於耐久性或再加工性之交聯結構。
作為交聯劑(B)，可列舉異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮雜環丙烷系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等，特定而言，由黏著劑組成物的適用期(pot life)及黏著劑層的耐久性、交聯速度等之觀點而言，較佳為異氰酸酯系交聯劑。
作為異氰酸酯系化合物，較佳為分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物，可列舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。此外，交聯劑(B)亦可為前述異氰酸酯化合物之多元醇化合物之加成物(加成體)[例如與甘油、三羥甲基丙烷等之加成物]、三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物、與聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而得之胺基甲酸酯預聚物型異氰酸酯化合物等衍生物。交聯劑(B)可單獨或組合二種以上而使用。此等之中，就代表性而言，可列舉芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)或此等之多元醇化合物(例如甘油、三羥甲基丙烷)之加成物，或三聚異氰酸酯體。若交聯 劑(B)為芳香族異氰酸酯系化合物及/或此等之多元醇化合物或三聚異氰酸酯體之加成物，則可能由於有利於最適的交聯密度(或交聯結構)的形成，可提升黏著劑層的耐久性。特定而言，若為伸甲苯基二異氰酸酯系化合物及/或此等之多元醇化合物之加成物，則即便在例如將黏著劑層應用於偏光板之情況，亦可提升耐久性。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，交聯劑(B)的含量通常為0.01至15質量份，較佳為0.05至10質量份，更佳為0.1至5質量份。
本發明之黏著劑組成物可更包含矽烷化合物(d)。
作為矽烷化合物(d)，可列舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(d)亦可為聚矽氧寡聚物。若以單體彼此組合之形式記述聚矽氧寡聚物之具體例，則如下。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙 基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含巰基丙基之寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含巰基甲基之寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含3-環氧丙氧基丙基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲 氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含胺基之共聚物等。
矽烷化合物(d)亦可為下述式(d1)所示之矽烷化合物。若黏著劑組成物包含下述式(d1)所示之矽烷化 合物，則可進一步提升對基材或玻璃、透明電極等之密接性，因而不易發生在高溫環境下之浮起剝落或發泡等，可形成耐久性良好的黏著劑層。
(式中，B表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可置換成-O-或-CO-，Rd7表示碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基。)
在式(d1)中，B表示亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1至20的烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20的二價脂環式烴基；或構成此等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-經置換成-O-或-CO-之基。較佳的B為碳數1至10的烷二基。Rd7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基等碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12各自獨立地表示前述R21中所例示之碳數1至5的烷基，或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等碳數1至5的烷氧基。較 佳的Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12各自獨立地為碳數1至5的烷氧基。此等矽烷化合物(d)可單獨或組合二種以上而使用。
作為具體的前述式(d1)所示之矽烷化合物，可列舉例如(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷烴；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷烴；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基-二C1-5烷基矽基)C1-10烷烴等。此等之中，較佳為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基 矽基)C1-10烷烴，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，矽烷化合物(d)的含量通常為0.01至10質量份，較佳為0.03至5質量份，更佳為0.05至2質量份，再佳為0.1至1質量份。若為上述上限值以下，則有利於抑制矽烷化合物(d)自黏著劑層中滲出，若為上述下限值以上，則易於提升黏著劑層與金屬層或玻璃基板等之密接性(或接著性)，有利於提升耐剝落性等。
黏著劑組成物可更含有抗靜電劑。
作為抗靜電劑，可列舉界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，較佳為離子性化合物。作為離子性化合物，可列舉慣用者。作為構成離子性化合物之陽離子成分，可列舉有機陽離子、無機陽離子等。作為有機陽離子，可列舉例如吡啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。作為無機陽離子，可列舉例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子；鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。特定而言，由與(甲基)丙烯酸系樹脂之相容性之觀點而言，較佳為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。作為構成離子性化合物之陰離子成分，無機陰離子及有機陰離子皆可，就抗靜電性能之方面而言，較佳為包含氟原子之陰離子成分。作為包含氟原子之陰離子成分，可列舉 例如六氟磷酸鹽陰離子(PF6-)、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子〔(C6F5)4B-〕等。此等離子性化合物可單獨或組合二種以上而使用。特佳為雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子〔(C6F5)4B-〕。
就由黏著劑組成物所形成之黏著劑層的抗靜電性能的經時安定性之方面而言，較佳為於室溫呈固體之離子性化合物。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，抗靜電劑的含量為例如0.01至20質量份，較佳為0.1至10質量份，更佳為1至7質量份。
黏著劑組成物可含有1種或2種以上之溶劑、交聯觸媒、增黏劑、可塑劑、軟化劑、顏料、防鏽劑、無機填料、光散射性微粒子等添加劑。
<黏著劑層及附黏著劑層之光學膜的構成以及製造方法>
本發明之黏著劑片係例如將前述黏著劑組成物溶解或分散於溶劑中製成含溶劑之黏著劑組成物，接著，將其塗佈於基材的表面，使其乾燥而形成。附黏著劑層之光學膜可列舉將光學膜積層於前述所形成之附黏著劑片之基材的黏著劑單面後將基材進行剝離之方法，以及在光學膜等樹脂膜上塗佈黏著劑組成物並進行乾燥之方法等。
作為基材，適宜地為塑膠膜，具體而言，可列舉經施加離型處理之剝離膜。作為剝離膜，可列舉對由聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等樹脂所構成之膜的一面施加聚矽氧處理等離型處理而得者。為了黏著劑片的暫時性保護，亦可將剝離膜黏貼於黏著劑層片。
將本發明之黏著劑片的層構成之一例示於第1圖。第1圖所記載之黏著劑片1係為了暫時性保護而呈黏貼剝離膜2之狀態。剝離膜可積層於黏著劑片的單面，亦可積層於兩面。
將光學膜積層於本發明之黏著劑層的至少一面而得之光學積層體亦包含在本發明內。將包含本發明之黏著劑片之光學積層體示於第2圖至第4圖。第2圖所記載之光學積層體10A為包含保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜3、黏著劑片1、剝離膜2之光學積層體。保護膜3亦可具有相位差。此外，保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜3的層構成係相當於光學膜40所示之偏光板。第3圖所記載之光學積層體10B及第4圖所記載之光學積層體10C為包含保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、保護膜3、黏著劑片1、光學膜40、黏著劑層7a、發光元件30(液晶單元、OLED單元)之光學積層體，光學膜40為多層結構的光學膜。
光學膜40為具有使光線穿透、反射、吸收等光學機能之膜，可為單層的膜，亦可為多層的膜。光學膜40可列舉例如偏光膜(偏光板)、相位差膜、亮度提升膜、 防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜、窗膜(window film)等，較佳為偏光膜、相位差膜、窗膜或此等之積層膜。
所謂相位差膜，係顯示光學異向性之光學膜，可列舉例如藉由將由聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等所構成之高分子膜延伸成1.01至6倍左右所獲得之延伸膜等。該等之中，較佳為將聚碳酸酯膜或環烯烴系樹脂膜進行單軸延伸或雙軸延伸而得之高分子膜。另外，在本說明書中，相位差膜包含零延遲膜，亦包含被稱為單軸性相位差膜、低光彈性率相位差膜、廣視野角相位差膜等之膜。
作為藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現光學異向性之膜或藉由無機層狀化合物的塗佈而表現光學異向性之膜，可列舉被稱為溫度補償型相位差膜之膜、由JX液晶Film所販售之「NH Film」(商品名；棒狀液晶傾斜配向而得之膜)、由富士Film股份有限公司所販售之「WV Film」(商品名；圓盤狀液晶傾斜配向而得之膜)、由住友化學股份有限公司所販售之「VAC Film」(商品名；完全雙軸配向型膜)、「new VAC Film」(商品名；雙軸配向型膜)等。
所謂零延遲膜，係指正面延遲Re及厚度方向的延遲Rth皆為-15至15nm，在光學上等向之膜。作為零延遲膜，可列舉由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚 烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對酞酸乙二酯系樹脂所構成之樹脂膜，就延遲值的控制容易且購入亦容易之方面而言，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零延遲膜亦可用於作為保護膜。作為零延遲膜，可列舉由富士Film股份有限公司所販售之「Z-TAC(商品名)」、由Konica Minolta股份有限公司所販售之「ZeroTAC(註冊商標)」、由日本Zeon股份有限公司所販售之「ZF-14(商品名)」等。
在本發明之光學膜中，相位差膜較佳為使聚合性液晶化合物硬化而成之相位差膜。
作為藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現光學異向性之膜，可列舉，第一形態：棒狀液晶化合物係對支持基材沿水平方向進行配向而得之相位差膜、第二形態：棒狀液晶化合物係對支持基材沿垂直方向進行配向而得之相位差膜、第三形態：棒狀液晶化合物係在面內沿螺旋狀將配向的方向進行變化之相位差膜、第四形態：圓盤狀液晶化合物係進行傾斜配向之相位差膜、第五形態：圓盤狀液晶化合物係對支持基材沿垂直方向進行配向而得之雙軸性相位差膜。
舉例而言，作為有機電致發光顯示器中所使用之光學膜，係適宜地使用第一形態、第二形態、第五形態。或者亦可將該等積層而使用。
在相位差膜為由聚合性液晶化合物為配向狀態之聚合物所構成之層(以下，有時稱為「光學異向性層」)之情況，相位差膜較佳係具有逆波長分散性。所謂逆波長 分散性，係在短波長之液晶配向面內相位差值成為小於在長波長之液晶配向面內相位差值之光學特性，較佳係相位差膜滿足下述式(7)及式(8)。另外，Re(λ)表示對波長λnm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
在本發明之光學膜中，在相位差膜為第一形態且具有逆波長分散性之情況，在顯示裝置中之黑顯示時之著色減低，因而較佳，在前述式(7)中，若0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93，即更佳。再者，較佳為120≦Re(550)≦150。
作為相位差膜為具有光學異向性層之膜時之聚合性液晶化合物，可列舉在液晶便覽(液晶便覽編輯委員會編，丸善(股)平成12年10月30日發行)之「3.8.6網絡(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列液晶材料」所記載之化合物中具有聚合性基之化合物，以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2011-162678號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及日本特表2011-207765號公報所記載之聚合性液晶化合物。
由聚合性液晶化合物於配向狀態下之聚合物製造相位差膜之方法可列舉例如日本特開2010-31223號公報所記載之方法。
在第二形態之情況，正面相位差值Re(550) 只要調整成0至10nm的範圍，較佳為0至5nm的範圍即可，厚度方向的相位差值Rth只要調整成-10至-300nm的範圍，較佳為-20至-200nm的範圍即可。表示厚度方向的折射率異向性之厚度方向的相位差值Rth可由使面內的進相軸傾斜50度作為傾斜軸所測定之相位差值R50及面內的相位差值R0予以算出。即，厚度方向的相位差值Rth可由面內的相位差值R0、使進相軸傾斜50度作為傾斜軸所測定之相位差值R50、相位差膜的厚度d及相位差膜的平均折射率n0，藉由下式(10)至(12)求出nx、ny及nz，將此等代入式(9)，而予以算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
R50=(nx-ny')×d/cos() (11)
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)在此處，=sin-1[sin(40°)/n0]
ny'=ny×nz/[ny 2×sin2()+nz 2×cos2()]1/2
相位差膜亦可為具有二層以上之多層膜。可列舉例如保護膜係積層於相位差膜的單面或兩面而得者，或二層以上相位差膜係經由黏著劑或接著劑積層而得者。
相位差膜的厚度通常為0.1至100μm。
在相位差膜為多層之情況，只要合計的厚度為0.5至 200μm即可。
在光學膜40為二層以上相位差膜積層而得之多層膜之情況，包含本發明之光學膜之光學積層體的構成可列舉如第3圖所示，包含將對穿透光賦予1/4波長份的相位差之1/4波長相位差層50及對穿透光賦予1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70經由接著劑或黏著劑60進行積層而得之光學膜40之構成。此外，亦可列舉如第4圖所示，包含將1/4波長相位差層50a及正C層80經由接著劑層或黏著劑層進行積層而得之光學膜40之構成。
第3圖之賦予1/4波長份的相位差之1/4波長相位差層50及對穿透光賦予1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70可為上述第一形態的光學膜，亦可為上述第五形態的光學膜。在第3圖之構成之情況，更佳係至少一方為第五形態。
在第4圖之構成之情況，1/4波長相位差層50a較佳為上述第一形態的光學膜，更佳係更滿足式(7)、式(8)。
偏光膜為具有吸收平行於其吸收軸之振動面之直線偏光，而穿透直交於吸收軸(與穿透軸平行)之振動面之直線偏光之性質之膜，可使用例如使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而得之膜。作為二色性色素，可列舉例如碘或二色性有機染料等。
通常，使用將聚乙烯醇系樹脂製膜而得之 物作為偏光膜之原材膜。聚乙烯醇系樹脂可以公知的方法進行製膜。原材膜的厚度通常為1至150μm，若考慮到延伸容易度等，較佳為10μm以上。
關於偏光膜，舉例而言，可對原材膜施加單軸延伸之步驟、以二色性色素將膜染色並使該二色性色素吸附之步驟、以硼酸水溶液對膜進行處理之步驟及將膜水洗之步驟，最後進行乾燥而予以製造。偏光件2的厚度通常為1至30μm，由附黏著劑層之光學膜1的薄膜化之觀點而言，較佳為20μm以下，更佳為15μm以下，特佳為10μm以下。
使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光膜係除了使用聚乙烯醇系樹脂膜的單獨膜作為原材膜，並對此膜施加單軸延伸處理及二色性色素的染色處理之方法(設為方法(1))以外，亦可藉由對基材膜塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液(水溶液等)，進行乾燥而獲得具有聚乙烯醇系樹脂層之基材膜後，對各基材膜進行單軸延伸，對延伸後之聚乙烯醇系樹脂層施加二色性色素的染色處理，接著剝離去除基材膜之方法(設為方法(2))而獲得。作為基材膜，可使用由與熱塑性樹脂同樣的熱塑性樹脂所組成之膜，較佳為由聚對酞酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等所構成之膜。若利用上述方法(2)，則薄膜偏光膜的製作變得容易，即便是例如厚度7μm以下的偏光件2的製作亦可容易 地施行。
偏光膜的至少一面較佳係經由接著劑設置有保護膜。
作為接著劑，係使用公知的接著劑，可為水系接著劑，亦可為活性能量線硬化型接著劑。
作為水系接著劑，可列舉慣用的水系接著劑(例如由聚乙烯醇系樹脂水溶液所組成之接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑、醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑等)。此等之中，可適宜地使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水系接著劑。另外，在使用水系接著劑之情況，將偏光膜與保護膜進行貼合後，較佳係實施乾燥以去除水系接著劑中所包含之水之步驟。乾燥步驟後，亦可設有於例如20至45℃左右的溫度進行熟化之熟化步驟。由水系接著劑所形成之接著劑層通常為0.001至5μm。
所謂上述活性能量線硬化性接著劑，係指藉由照射紫外線或電子線等活性能量線而進行硬化之接著劑，可列舉例如包含聚合性化合物及光聚合起始劑之硬化性組成物、包含光反應性樹脂之硬化性組成物、包含黏合劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等，較佳為紫外線硬化性接著劑。
在使用活性能量線硬化性接著劑之情況，將偏光膜與保護膜進行貼合後，視需要施行乾燥步驟，接 著施行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量線之光源並無特別限定，較佳為在波長400nm以下具有發光分佈之紫外線。由活性能量線硬化性接著劑所形成之接著劑層通常為0.1至20μm。
將偏光膜與保護膜進行貼合之方法，可列舉對此等中至少任一者的貼合面施加皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理之方法等。在樹脂膜係貼合於偏光膜的兩面之情況，用於貼合此等樹脂膜之接著劑可為同種類的接著劑，亦可為不同種類的接著劑。
偏光板的較佳構成係保護膜經由接著劑層積層於偏光膜的至少一面而得之偏光板。在保護膜僅積層於偏光膜的一面之情況，更佳係積層於觀看側。積層於觀看側之保護膜較佳為由三乙醯基纖維素系樹脂或環烯烴系樹脂所構成之保護膜。保護膜可為未延伸膜，亦可沿任意方向進行延伸並具有相位差。在積層於觀看側之保護膜的表面亦可設有硬塗層或防眩層等表面處理層。
在保護膜係積層於偏光膜的兩面之情況，面板側(與觀看側相反之側)之保護膜較佳為由三乙醯基纖維素系樹脂、環烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂所組成之保護膜或相位差膜。相位差膜亦可為後述之零延遲膜。
在偏光板與面板之間，可更積層其他層或膜。在使用作為有機EL顯示器用圓偏光板之情況，較佳係積層具有1/4波長相位差層及1/2波長相位差層之相位差層及上述之逆波長分散性1/4波長層。由薄膜化之觀點而言相位差 層較佳為液晶系相位差膜。
集光膜係以光路徑控制等為目的而使用，可為稜鏡陣列片或透鏡陣列片、附設點之片等。
亮度提升膜係在提升應用偏光板之液晶顯示裝置中之亮度之目的下使用。具體而言，可列舉以將折射率的異向性彼此不同的薄膜積層複數片而產生反射率異向性之方式設計之反射型偏光分離板、將膽固醇液晶聚合物之配向膜或其配向液晶層支持於基材膜上之圓偏光分離板等。
所謂窗膜，係意味在可撓性顯示器等可撓性顯示裝置中之前面板，一般而言係配置於顯示裝置的最表面。窗膜可列舉例如由聚醯亞胺樹脂所構成之樹脂膜。窗膜亦可為諸如包含例如聚醯亞胺及氧化矽之樹脂膜之有機材料與無機材料之混成膜。此外，窗膜亦可在其表面配置用於賦予表面硬度或防汙性、耐指紋性之機能之硬塗層。作為窗膜，可列舉例如日本特開2017-94488號所記載之膜等。
包含本發明之黏著劑層片之光學積層體可積層於有機EL元件、液晶單元等顯示元件，而使用於有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平面顯示器)中。
[實施例]
以下，藉由實施例及比較例進一步詳細說明本發明。實施例及比較例中之「%」及「份」，在沒有特 別註記之前提下，為「質量%」及「質量份」。
此外，在以下例中，關於重量平均分子量及數量平均分子量的測定，係在凝膠滲透層析(以下，記為GPC)裝置(GPC-8120，東曹(股)製)中直列地連接配置4根「TSK gel XL(東曹(股)製)」及1根「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」共計5根作為管柱，使用四氫呋喃作為溶出液，在試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件下施行，藉由標準聚苯乙烯換算加以算出。
(合成例1)光選擇吸收性化合物(1)的合成
使已設置戴氏(Dimroth)冷卻管、溫度計之200mL四口燒瓶內成為氮環境，饋入參考專利文獻(日本專利特開2014-194508)所合成之式(aa)所示之化合物10份、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6份、氰基乙酸2-乙基己酯(亦稱為DIPEA；東京化成工業股份有限公司製)6.9份及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60份，以磁力攪拌器進行攪拌。於內溫25℃由滴液漏斗耗費1小時滴加DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5份，滴加終了後於內溫25℃再保溫2小時。反應終了後，使用減壓蒸發器去除乙腈，供予管柱層析(矽膠)而進行精製，對包含式(aa1) 所示之光選擇吸收性化合物(1)之流出液使用減壓蒸發器去除溶媒，獲得黃色結晶。藉由將該結晶進行60℃減壓乾燥，而以黃色粉末之形式獲得光選擇吸收性化合物(1)4.6份。產率為50%。
施行1H-NMR解析，結果觀測到以下峰值，故可確認已生成光選擇吸收性化合物1。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m、6H)、1.32-1.67(m、8H)、1.59-1.66(m、2H)、2.09(quin、2H)、3.00(m、5H)、3.64(t、2H)、4.10(dd、2H)、5.52(d、2H)、7.87(d、2H)
<克吸光係數ε測定>
為了測定所獲得之光選擇吸收性化合物(1)的克吸光係數，使光選擇吸收性化合物(1)溶解於2-丁酮中。將所獲得之溶液(0.006g/L)裝入1cm的石英槽中，將石英槽置於分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)，藉由雙束法以1nm步距300至800nm的波長範圍測定吸光度。由所獲得之吸光度的值及溶液中之光吸收性化合物濃度、石英槽的光路徑長度，使用下述式算出各波長之克吸光係數。
ε(λ)=A(λ)/CL
[式中，ε(λ)表示在波長λnm之化合物的克吸光係數L/(g‧cm)，A(λ)表示在波長λnm之吸光度，C表示濃度g/L，L表示石英槽的光路徑長度cm。]
測定光選擇吸收性化合物(1)的吸收極大波長(λmax)，結果λmax=389nm(2-丁酮中)，ε(405)的值為47L/(g‧ cm)，ε(440)的值為0.1L/(g‧cm)以下，ε(405)/ε(440)的值為80以上。
(合成例2)光選擇吸收性化合物(2)的合成
在已設置戴氏冷卻管、溫度計之200mL四口燒瓶內，在氮環境中，饋入參考日本特開2014-194508所合成之式(aa)所示之化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰基乙酸2-丁基辛酯(東京化成工業股份有限公司製)10g及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁力攪拌器進行攪拌。於內溫25℃將DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g耗費1小時滴加至所獲得之混合物中後，於內溫25℃再保溫2小時。然後，使用減壓蒸發器去除乙腈，供予管柱層析(矽膠)而進行精製，對包含式(aa2)所示之化合物之流出液使用減壓蒸發器去除溶媒，獲得黃色結晶。藉由將該結晶進行60℃減壓乾燥，而以黃色粉末之形式獲得式(aa2)所示之化合物(光選擇吸收化合物(2))4.6g。產率為56%。
以與上述相同的方法求出克吸光係數，則式(aa2)所示之化合物的ε(405)的值為45L/(g‧cm)，ε(420)的值為2.1L/(g‧cm)。
(合成例3)(甲基)丙烯酸系樹脂的合成
在具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，饋入將作為溶媒之乙酸乙酯81.8份、作為單體之丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、丙烯酸2-羥乙酯1.0份及丙烯酸0.6份進行混合所獲得之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣進行置換後，使內溫成為60℃。然後，添加使偶氮雙異丁腈0.12份溶解於乙酸乙酯10份中而得之溶液。於相同溫度保持1小時後，一面將內溫保持於54至56℃，一面以添加速度17.3份/小時將乙酸乙酯以使聚合物的濃度大致成為35%之方式連續地加至反應容器內。自乙酸乙酯的添加開始起至經過12小時為止將內溫保持於54至56℃後，加入乙酸乙酯並以使聚合物的濃度成為20%之方式進行調整，而獲得(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸乙酯溶液(1)。(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量Mw為139萬，重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。
另外，關於重量平均分子量及數量平均分子量的測定，係在GPC裝置中直列地連接配置4根「TSK gel XL(東曹股份有限公司製)」及1根「Shodex GPC KF-802(昭和電工股份有限公司製)」共計5根作為管柱，使用四氫呋喃作為溶出液，在試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件下施行，藉由標準聚苯乙烯換算加以算出。
(合成例4)黏著劑組成物(1)的合成
相對於合成例3所獲得之(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸 乙酯溶液(1)(樹脂濃度：20%)之固形份100份，混合交聯劑0.4份、矽烷化合物0.4份、合成例1所合成之光選擇吸收性化合物(1)2份及Sumisorb 350(住化Chemtex股份有限公司製)2.0份，再以固形份濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯而獲得黏著劑組成物(1)。另外，上述交聯劑的摻合量為有效成分之重量份數。
合成例4所使用之交聯劑及矽烷化合物的詳情如以下。
交聯劑：伸甲苯基二異氰酸酯之三烴甲基丙烷加成體的乙酸乙酯溶液(固形份濃度75%)，購入自東曹股份有限公司之商品名「Coronate L」。
矽烷化合物：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，購入自信越化學工業股份有限公司之商品名「KBM403」。
(合成例5)黏著劑組成物(2)的合成
除了將光選擇吸收性化合物替代成合成例2所獲得之光選擇吸收化合物(2)2.0份及2-羥基-4-甲氧基二苯基酮(東京化成工業股份有限公司製)1.0份以外，以與合成例4同樣之方式獲得黏著劑組成物(2)。
(合成例6)黏著劑組成物(3)的合成
除了將光選擇吸收性化合物以合成例2所獲得之光選擇吸收化合物(2)及EST-5(住友精化股份有限公司製)1.0份替代以外，以與合成例4同樣之方式獲得黏著劑組成物(3)。
(合成例7)黏著劑組成物(4)的合成
除了光選擇吸收性化合物僅為合成例1所獲得之光選擇吸收化合物(1)2份而未混合Sumisoap 350以外，以與合成例4同樣之方式獲得(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(7)。
(合成例8)黏著劑組成物(5)的合成
除了光選擇吸收性化合物僅為合成例2所獲得之光選擇吸收化合物(2)2份而未混合Sumisoap 350以外，以與合成例4同樣之方式獲得(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(5)。
<黏著劑片的製作>
(實施例1)黏著劑片(1)的製作
使用塗佈器將所獲得之黏著劑組成物(1)以乾燥後之厚度成為15μm之方式塗佈於經施加離型處理之由聚對酞酸乙二酯膜所構成之分離膜〔購入自Lintec股份有限公司之商品名「PLR-382190」〕的離型處理面，於100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(1)。
藉由層壓機使所獲得之黏著劑層(1)貼合於23μm的環烯烴膜後，在溫度23℃、相對濕度65%之條件下熟化7日，獲得黏著劑片(1)。
(實施例2)黏著劑片(2)的製作
除了將黏著劑組成物以合成例5所獲得之黏著劑組成物(2)替代以外，以與實施例1同樣之方式獲得黏著劑片(2)。
(實施例3)黏著劑片(3)的製作
除了將黏著劑組成物以合成例6所獲得之黏著劑組成物(3)替代以外，以與實施例1同樣之方式獲得黏著劑片(3)。
(比較例1)黏著劑片(4)的製作
除了將黏著劑組成物以合成例7所獲得之黏著劑組成物(4)替代以外，以與實施例1同樣之方式獲得黏著劑片(4)。
(比較例2)黏著劑片(5)的製作
除了將黏著劑組成物以合成例8所獲得之黏著劑組成物(5)替代以外，以與實施例1同樣之方式獲得黏著劑片(5)。
<附黏著劑之偏光板的製作>
(製造例1)偏光板膜的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30μm的聚乙烯醇膜〔Kuraray(股)製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#3000」〕浸漬於37℃的純水中後，於30℃浸漬於包含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(質量比)=0.04/1.5/100)中。然後，於56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(質量比)=12/3.6/100)中。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃進行乾燥，而獲得碘吸附配向於聚乙烯醇之厚度約12μm的偏光件。延伸主要係在碘染色及硼酸處理之步驟中施行，總延伸倍率為5.3倍。
將厚度25μm的由三乙醯基纖維素膜所構成之透明保護膜〔Konica Minolta Opto(股)製之商品名「KC2UA」，以 下有時稱為「TAC膜」〕經由由聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成之接著劑貼合於所獲得之偏光件的單面。其次，將厚度23μm的由環狀聚烯烴系樹脂所構成之零相位差膜〔日本Zeon(股)製之商品名「ZEONOR」，以下有時稱為「COP膜」〕經由由聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成之接著劑貼合於上述偏光件中之與三乙醯基纖維素膜相反側之面，製作偏光板。
(實施例4)附黏著劑之偏光板(1)的製作
除了將23μm的環烯烴膜以製造例1所獲得之偏光板替代以外，以與實施例2同樣之方式獲得附黏著劑之偏光板(1)。附黏著劑層之偏光板(1)具有TAC膜/接著劑層/偏光膜/接著劑層/COP膜/黏著劑層之構成。
(實施例5)附黏著劑之偏光板(2)的製作
除了將23μm的環烯烴膜以製造例1所獲得之偏光板替代以外，以與實施例3同樣之方式獲得附黏著劑之偏光板(2)。附黏著劑層之偏光板(2)具有TAC膜/接著劑層/偏光膜/接著劑層/COP膜/黏著劑層之構成。
(比較例3)附黏著劑之偏光板(3)的製作
除了將23μm的環烯烴膜以製造例1所獲得之偏光板替代以外，以與比較例2同樣之方式獲得附黏著劑之偏光板(3)。附黏著劑層之偏光板(3)具有TAC膜/接著劑層/偏光膜/接著劑層/COP膜/黏著劑層之構成。
<黏著劑片之吸光度測定>
將所獲得之附黏著劑片之膜(1)裁成30mm×30mm的大 小，將黏著劑片與無鹼玻璃〔Corning公司製之商品名「EAGLE XG」〕進行貼合，將其作為樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份有限公司製)測定所製作之樣品的波長300至800nm範圍之吸光度。將結果示於表1。吸光度保持率越高，越無光選擇吸收機能的劣化，顯示出良好的耐候性。另外，COP膜單質及無鹼玻璃單質的波長350nm、波長405nm及波長440nm之吸光度皆為0。
將吸光度測定後之樣品在63℃、50%相對濕度條件下投入Sunshine Weather Meter(Suga試驗機股份有限公司製)中24小時，實施24小時的耐候性試驗。以與上述同樣的方法測定所取出之樣品的吸光度。由所測定之吸光度，基於下述式，求出在405nm之樣品的吸光度保持率。將結果示於表1。
吸光度保持率=(耐久試驗後之A(405)/耐久試驗前之A(405))×100
<附黏著劑之偏光板之吸光度測定>
將所獲得之附黏著劑之偏光板裁成30mm×30mm的大小後，將黏著劑層貼合於玻璃基板，獲得測定樣品。測定 樣品的層構成為玻璃基板/黏著劑層/COP膜/接著劑層/偏光件/接著劑層/TAC膜。使用無鹼玻璃基板〔Corning公司製之商品名「Eagle XG」〕當作玻璃基板。
針對所獲得之測定樣品，使用附積分球之分光光度計〔日本分光(股)製之製品名「V7100」〕測定在波長380至780nm的範圍之偏光板的穿透軸方向及吸收軸方向的穿透光譜，由偏光板的穿透軸方向的穿透光譜，算出附黏著劑層之偏光板的吸光度。另外，確認抑制附黏著劑之偏光板在波長405nm的短波長可見光下之劣化。此外，TAC膜單質、COP膜單質及無鹼玻璃單質的波長405nm及波長440nm之吸光度皆為0。
如表1所記載，本發明之黏著劑片係波長350nm附近的光吸收機能及波長405nm附近的光吸收機能良好。因此，若將本發明之黏著劑片積層於相位差膜或有機EL元件，則本發明之黏著劑片可遮蔽對著相位差膜或有機EL元件之紫外線及波長405nm附近的光，可抑制因紫外線及短波長可見光兩者所致之相位差膜或有機EL元件的劣化。再者，本發明之黏著劑片係即便在耐候性試驗後，對波長405nm附近的光吸收機能亦良好，具有良好的 耐候性(耐久性)。此外，本發明之黏著劑片在波長440nm附近之光吸收性能較低，能夠在不會阻礙液晶顯示裝置的發光之情形下進行良好的色彩表現。
此外，如表2所記載，本發明之附黏著劑片之光學膜係波長405nm附近的光吸收機能良好。再者，即便在耐候性試驗後，波長405nm附近的光吸收機能亦良好，具有良好的耐候性(耐久性)。
〔產業上之可利用性〕
本發明之黏著劑片及附黏著劑片之光學膜可適宜地使用於液晶面板及液晶顯示裝置中。

Claims (13)

  1. 一種黏著劑片，係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及光選擇吸收化合物之黏著劑組成物所形成，且滿足下述式(1)及(2)，A(350)≧0.5 (1) A(405)≧0.5 (2)式(1)中，A(350)表示在波長350nm之吸光度；式(2)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之黏著劑片，其更滿足下述式(3)，A(440)≦0.1 (3)式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之黏著劑片，其更滿足下述式(4)，A(405)/A(440)≧5 (4)式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之黏著劑片，其中，光選擇吸收化合物包含選擇性地吸收波長350nm的光之化合物及選擇性地吸收波長405nm的光之化合物。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之黏著劑片，其中，選擇性地吸收波長405nm的光之化合物為滿足式(5)之化合物， ε(405)≧20 (5)式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數；克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之黏著劑片，其中，選擇性地吸收波長405nm的光之化合物為滿足式(6)之化合物，ε(405)/ε(440)≧20 (6)式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm之克吸光係數。
  7. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之黏著劑片，其中，選擇性地吸收波長405nm的光之化合物為分子內具有部花青素(merocyanine)結構之化合物。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之黏著劑片，其中，黏著劑組成物更包含交聯劑(B)。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之黏著劑片，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，交聯劑(B)的含量為0.01至15質量份。
  10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項所述之黏著劑片，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，光選擇吸收化合物的含量為0.01至20質量份。
  11. 一種申請專利範圍第1至10項中任一項所述之附黏著劑層之光學膜，其係使光學膜積層於黏著劑片的至少一面而成者。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之附黏著劑層之偏光板， 其中，光學膜為偏光板。
  13. 一種顯示裝置，係包含申請專利範圍第11或12項所述之附黏著劑層之光學膜。
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