RU2012115464A - Солнечный элемент, способ изготовления солнечного элемента и модуль солнечных элементов - Google Patents
Солнечный элемент, способ изготовления солнечного элемента и модуль солнечных элементов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012115464A RU2012115464A RU2012115464/28A RU2012115464A RU2012115464A RU 2012115464 A RU2012115464 A RU 2012115464A RU 2012115464/28 A RU2012115464/28 A RU 2012115464/28A RU 2012115464 A RU2012115464 A RU 2012115464A RU 2012115464 A RU2012115464 A RU 2012115464A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- receiving surface
- solar cell
- light
- alumina film
- semiconductor substrate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/311—Coatings for devices having potential barriers for photovoltaic cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/14—Photovoltaic cells having only PN homojunction potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/129—Passivating
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/20—Electrodes
- H10F77/206—Electrodes for devices having potential barriers
- H10F77/211—Electrodes for devices having potential barriers for photovoltaic cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
Abstract
1. Солнечный элемент, содержащий полупроводниковую подложку, имеющую светопринимающую поверхность и не принимающую свет поверхность, pn-переход, образованный в полупроводниковой подложке, пассивирующий слой, расположенный на светопринимающей поверхности и/или не принимающей свет поверхности, и электроды отвода мощности, расположенные на светопринимающей поверхности и не принимающей свет поверхности, при этом упомянутый пассивирующий слой включает в себя пленку оксида алюминия, имеющую толщину до 40 нм.2. Солнечный элемент по пункту 1, при этом упомянутый пассивирующий слой расположен на не принимающей свет поверхности полупроводниковой подложки р-типа или светопринимающей поверхности полупроводниковой подложки n-типа.3. Солнечный элемент по пункту 1, при этом упомянутый пассивирующий слой включает в себя пленку оксида алюминия и расположенную на ней другую диэлектрическую пленку, причем другая диэлектрическая пленка образована из оксида кремния, оксида титана, карбида кремния или оксида олова.4. Солнечный элемент по пункту 1, при этом упомянутый электрод представляет собой спеченный продукт, полученный обжигом проводящей пасты, и этот спеченный продукт проникает сквозь пассивирующий слой, включающий в себя пленку оксида алюминия, устанавливая электрический контакт между электродом и подложкой.5. Солнечный элемент по пункту 4, при этом упомянутый спеченный продукт содержит оксид одного или более элементов, выбранных из группы, состоящей из B, Na, Al, K, Ca, Si, V, Zn, Zr, Cd, Sn, Ba, Ta, Tl, Pb и Bi.6. Солнечный элемент по пункту 4, при этом упомянутая пленка оксида алюминия имеет встроенный отрицательный электрический заряд, кот�
Claims (12)
1. Солнечный элемент, содержащий полупроводниковую подложку, имеющую светопринимающую поверхность и не принимающую свет поверхность, pn-переход, образованный в полупроводниковой подложке, пассивирующий слой, расположенный на светопринимающей поверхности и/или не принимающей свет поверхности, и электроды отвода мощности, расположенные на светопринимающей поверхности и не принимающей свет поверхности, при этом упомянутый пассивирующий слой включает в себя пленку оксида алюминия, имеющую толщину до 40 нм.
2. Солнечный элемент по пункту 1, при этом упомянутый пассивирующий слой расположен на не принимающей свет поверхности полупроводниковой подложки р-типа или светопринимающей поверхности полупроводниковой подложки n-типа.
3. Солнечный элемент по пункту 1, при этом упомянутый пассивирующий слой включает в себя пленку оксида алюминия и расположенную на ней другую диэлектрическую пленку, причем другая диэлектрическая пленка образована из оксида кремния, оксида титана, карбида кремния или оксида олова.
4. Солнечный элемент по пункту 1, при этом упомянутый электрод представляет собой спеченный продукт, полученный обжигом проводящей пасты, и этот спеченный продукт проникает сквозь пассивирующий слой, включающий в себя пленку оксида алюминия, устанавливая электрический контакт между электродом и подложкой.
5. Солнечный элемент по пункту 4, при этом упомянутый спеченный продукт содержит оксид одного или более элементов, выбранных из группы, состоящей из B, Na, Al, K, Ca, Si, V, Zn, Zr, Cd, Sn, Ba, Ta, Tl, Pb и Bi.
6. Солнечный элемент по пункту 4, при этом упомянутая пленка оксида алюминия имеет встроенный отрицательный электрический заряд, который увеличен с помощью этапа обжига.
7. Солнечный элемент по пункту 4, при этом область упомянутой пленки оксида алюминия, которая должна быть расположена непосредственно под электродом, замещена путем проникновения спеченного продукта, и упомянутая пленка оксида алюминия присутствует в, по меньшей мере, части данной области, исключая область, расположенную непосредственно под электродом.
8. Модуль солнечных элементов, содержащий множество электрически соединенных солнечных элементов по любому из пунктов 1-7.
9. Способ изготовления солнечного элемента, содержащий этапы формирования pn-перехода в полупроводниковой подложке, формирования пассивирующего слоя на светопринимающей поверхности и/или не принимающей свет поверхности полупроводниковой подложки и формирования электродов отбора мощности на светопринимающей поверхности и не принимающей свет поверхности, при этом в качестве пассивирующего слоя формируют пленку оксида алюминия, имеющую толщину до 40 нм.
10. Способ по пункту 9, при этом электрод формируют обжигом проводящей пасты при 500-900°С в течение от 1 секунды до 30 минут с образованием спеченного продукта, который проникает через пассивирующий слой, устанавливая электрический контакт между электродом и подложкой.
11. Способ по пункту 10, при этом упомянутый спеченный продукт содержит оксид одного или более элементов, выбранных из группы, состоящей из B, Na, Al, K, Ca, Si, V, Zn, Zr, Cd, Sn, Ba, Ta, Tl, Pb и Bi.
12. Способ по пункту 10, при этом упомянутая пленка оксида алюминия имеет встроенный отрицательный электрический заряд, который увеличивают с помощью этапа обжига.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009-217382 | 2009-09-18 | ||
| JP2009217382 | 2009-09-18 | ||
| PCT/JP2010/058706 WO2011033826A1 (ja) | 2009-09-18 | 2010-05-24 | 太陽電池、その製造方法及び太陽電池モジュール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012115464A true RU2012115464A (ru) | 2013-10-27 |
| RU2532137C2 RU2532137C2 (ru) | 2014-10-27 |
Family
ID=43758439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012115464/28A RU2532137C2 (ru) | 2009-09-18 | 2010-05-24 | Солнечный элемент, способ изготовления солнечного элемента и модуль солнечных элементов |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US10032940B2 (ru) |
| EP (4) | EP3806165B1 (ru) |
| JP (1) | JP5649580B2 (ru) |
| KR (6) | KR20120083400A (ru) |
| CN (1) | CN102598308B (ru) |
| AU (1) | AU2010296714B9 (ru) |
| CA (1) | CA2774405C (ru) |
| MY (1) | MY162597A (ru) |
| PH (1) | PH12012500545A1 (ru) |
| RU (1) | RU2532137C2 (ru) |
| WO (1) | WO2011033826A1 (ru) |
Families Citing this family (67)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013524510A (ja) * | 2010-03-30 | 2013-06-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | p型拡散層の上に負荷電パッシベーション層を形成する方法 |
| KR101624989B1 (ko) * | 2010-09-10 | 2016-05-27 | 주식회사 원익아이피에스 | 태양전지기판의 표면처리방법 및 태양전지 제조방법 |
| KR20120084104A (ko) * | 2011-01-19 | 2012-07-27 | 엘지전자 주식회사 | 태양전지 |
| CN103430319B (zh) * | 2011-03-31 | 2016-01-20 | 京瓷株式会社 | 太阳能电池元件及太阳能电池模块 |
| CN102842638B (zh) * | 2011-06-21 | 2015-04-15 | 新日光能源科技股份有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
| KR101258938B1 (ko) * | 2011-07-25 | 2013-05-07 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 |
| CN102386249B (zh) * | 2011-10-31 | 2013-08-14 | 北京吉阳技术股份有限公司 | 一种下一代结构高效率晶体硅电池及制作方法 |
| JP5780934B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2015-09-16 | 京セラ株式会社 | 光電変換素子の製造方法および光電変換素子 |
| US20130146136A1 (en) * | 2011-12-13 | 2013-06-13 | Kyoung-Jin Seo | Photovoltaic device and method of manufacturing the same |
| KR101860919B1 (ko) | 2011-12-16 | 2018-06-29 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
| US20130157409A1 (en) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | Kaushik Vaidya | Selective atomic layer deposition of passivation layers for silicon-based photovoltaic devices |
| JP5762575B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2015-08-12 | 京セラ株式会社 | 光電変換素子の製造方法および光電変換素子 |
| JP2013165160A (ja) | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 |
| JP5908763B2 (ja) * | 2012-03-19 | 2016-04-26 | 京セラ株式会社 | 光電変換素子および光電変換素子の製造方法 |
| CN104247045B (zh) * | 2012-03-30 | 2017-04-26 | 京瓷株式会社 | 太阳能电池元件 |
| JP5754411B2 (ja) * | 2012-04-16 | 2015-07-29 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| US9312420B2 (en) * | 2012-04-17 | 2016-04-12 | Lg Electronics Inc. | Solar cell and method for manufacturing the same |
| KR101929444B1 (ko) * | 2012-04-17 | 2019-03-14 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
| KR101929445B1 (ko) * | 2012-04-17 | 2018-12-14 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
| GB201209692D0 (en) * | 2012-05-31 | 2012-07-18 | Dow Corning | Silicon wafer coated with a passivation layer |
| TWI589012B (zh) * | 2012-07-12 | 2017-06-21 | 日立化成股份有限公司 | 太陽電池元件及其製造方法 |
| KR20140029563A (ko) | 2012-08-28 | 2014-03-11 | 엘지전자 주식회사 | 태양전지의 제조 방법 |
| KR101889775B1 (ko) | 2012-09-27 | 2018-08-20 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
| JP2014075418A (ja) * | 2012-10-03 | 2014-04-24 | Ulvac Japan Ltd | 太陽電池用シリコン基板及びその製造方法、並びに太陽電池 |
| JP2014075440A (ja) * | 2012-10-03 | 2014-04-24 | Hyogo Prefecture | 界面安定化膜を備えた太陽電池 |
| FI20126253L (fi) * | 2012-11-29 | 2014-05-30 | Beneq Oy | Menetelmä passivointikalvon valmistamiseksi kiteiselle piipinnalle |
| CN102945895A (zh) * | 2012-12-03 | 2013-02-27 | 天威新能源控股有限公司 | 一种晶体硅太阳能电池氧化铝钝化膜的制备方法 |
| JP6076814B2 (ja) * | 2013-04-19 | 2017-02-08 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| JP6109939B2 (ja) * | 2013-07-11 | 2017-04-05 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| KR20150024485A (ko) * | 2013-08-26 | 2015-03-09 | 현대중공업 주식회사 | Perl형 태양전지의 제조방법 |
| JP2016532317A (ja) * | 2013-09-27 | 2016-10-13 | ダンマークス テクニスク ユニバーシテットDanmarks Tekniske Universitet | ナノ構造化されたシリコン系太陽電池およびナノ構造化されたシリコン系太陽電池を製造する方法 |
| KR20150035189A (ko) * | 2013-09-27 | 2015-04-06 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 |
| KR101507767B1 (ko) | 2013-11-07 | 2015-04-07 | 충남대학교산학협력단 | 태양 전지 제조 방법 |
| WO2015081927A1 (de) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | Helmholtz-Zentrum Für Materialien Und Energie Gmbh | Passivierungsschicht mit punktkontakten für dünnschichtsolarzellen und verfahren zu ihrer herstellung |
| KR101614190B1 (ko) | 2013-12-24 | 2016-04-20 | 엘지전자 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조 방법 |
| JP2015138959A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 三菱電機株式会社 | 光起電力装置および光起電力装置の製造方法 |
| JP6430842B2 (ja) * | 2014-01-30 | 2018-11-28 | 京セラ株式会社 | 太陽電池素子の製造方法および太陽電池モジュールの製造方法 |
| EP3151286B1 (en) * | 2014-05-29 | 2021-12-08 | Kyocera Corporation | Solar cell element, method for manufacturing same and solar cell module |
| DE102014109179B4 (de) * | 2014-07-01 | 2023-09-14 | Universität Konstanz | Verfahren zum Erzeugen von unterschiedlich dotierten Bereichen in einem Siliziumsubstrat, insbesondere für eine Solarzelle, und Solarzelle mit diesen unterschiedlich dotierten Bereichen |
| JP2016092238A (ja) * | 2014-11-05 | 2016-05-23 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池及びその製造方法 |
| JP5938113B1 (ja) * | 2015-01-05 | 2016-06-22 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池用基板の製造方法 |
| RU2590284C1 (ru) * | 2015-04-10 | 2016-07-10 | Общество с ограниченной ответственностью "НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике при ФТИ им. А.Ф. Иоффе", ООО "НТЦ ТПТ" | Солнечный элемент |
| JP5994895B2 (ja) * | 2015-04-24 | 2016-09-21 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| JP6203986B2 (ja) | 2015-05-27 | 2017-09-27 | 京セラ株式会社 | 太陽電池素子およびその製造方法 |
| US11651957B2 (en) | 2015-05-28 | 2023-05-16 | SemiNuclear, Inc. | Process and manufacture of low-dimensional materials supporting both self-thermalization and self-localization |
| US9972489B2 (en) | 2015-05-28 | 2018-05-15 | SemiNuclear, Inc. | Composition and method for making picocrystalline artificial borane atoms |
| JP2017033970A (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | 京セラ株式会社 | 太陽電池素子およびその製造方法 |
| WO2017122422A1 (ja) * | 2016-01-13 | 2017-07-20 | 三菱電機株式会社 | 太陽電池および太陽電池を生産する方法 |
| RU2632266C2 (ru) * | 2016-02-09 | 2017-10-03 | Общество с ограниченной ответственностью "НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике при ФТИ им. А.Ф. Иоффе", ООО "НТЦ ТПТ" | Гетероструктурный фотоэлектрический преобразователь на основе кристаллического кремния |
| RU2632267C2 (ru) * | 2016-03-10 | 2017-10-03 | Общество с ограниченной ответственностью "НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике при ФТИ им. А.Ф. Иоффе", ООО "НТЦ ТПТ" | Структура фотопреобразователя на основе кристаллического кремния и линия по его производству |
| JP6330108B1 (ja) * | 2016-11-07 | 2018-05-23 | 信越化学工業株式会社 | 高光電変換効率太陽電池及び高光電変換効率太陽電池の製造方法 |
| CN110050352B (zh) * | 2016-11-07 | 2022-04-29 | 信越化学工业株式会社 | 高效率太阳能电池的制造方法 |
| IL266967B2 (en) * | 2016-11-29 | 2024-12-01 | Seminuclear Inc | Composition and method for making picocrystalline artificial borane atoms |
| EP3331029B1 (en) * | 2016-12-02 | 2021-09-01 | LG Electronics Inc. | Tandem solar cell and method of manufacturing the same |
| JP2018148142A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| EP3404724B1 (en) * | 2017-05-19 | 2022-08-03 | LG Electronics Inc. | Solar cell and method for manufacturing the same |
| KR102060425B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2020-02-11 | 엘에스니꼬동제련 주식회사 | 태양전지 전극용 도전성 페이스트 및 이에 포함되는 유리 프릿, 그리고 태양 전지 |
| CN108183065A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-06-19 | 北京品捷电子科技有限公司 | 一种消除晶圆翘曲的方法及复合衬底 |
| CN110718604A (zh) * | 2018-06-26 | 2020-01-21 | 上海硅洋新能源科技有限公司 | P型晶硅太阳能电池的背场及背钝化层制备方法 |
| KR102087813B1 (ko) * | 2018-06-28 | 2020-03-19 | 한국에너지기술연구원 | 패시베이션 특성이 향상된 태양전지 |
| KR20210010095A (ko) * | 2019-07-19 | 2021-01-27 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
| KR102498523B1 (ko) * | 2019-10-16 | 2023-02-10 | 상라오 징코 솔라 테크놀러지 디벨롭먼트 컴퍼니, 리미티드 | 태양 전지 및 이의 제조 방법 |
| CN112687763B (zh) * | 2020-12-28 | 2022-12-09 | 天合光能股份有限公司 | 一种钝化接触晶体硅电池制备方法 |
| CN113097341B (zh) * | 2021-03-31 | 2023-10-31 | 通威太阳能(安徽)有限公司 | 一种PERC电池、其AlOx镀膜工艺、多层AlOx背钝化结构及方法 |
| CN117525212B (zh) * | 2024-01-04 | 2024-03-19 | 无锡松煜科技有限公司 | 一种太阳能电池钝化结构及其制备方法 |
| CN118398675B (zh) * | 2024-05-08 | 2024-12-17 | 江苏海洋大学 | 一种基于旋涂法氧化硅的钝化接触太阳电池及其制备方法和应用 |
| KR102813486B1 (ko) * | 2024-07-29 | 2025-05-28 | (주)피앤테크 | 태양전지 및 그의 제조방법 |
Family Cites Families (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0548123A (ja) * | 1991-08-14 | 1993-02-26 | Sharp Corp | 光電変換素子 |
| JP3050064B2 (ja) * | 1994-11-24 | 2000-06-05 | 株式会社村田製作所 | 導電性ペースト、この導電性ペーストからなるグリッド電極が形成された太陽電池及びその製造方法 |
| JP2001202822A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Murata Mfg Co Ltd | 導電性ペースト |
| JP2002270869A (ja) | 2001-03-12 | 2002-09-20 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 太陽電池 |
| JP3910072B2 (ja) * | 2002-01-30 | 2007-04-25 | 東洋アルミニウム株式会社 | ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池 |
| JP2003249277A (ja) | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 色素増感太陽電池電極 |
| US7045430B2 (en) * | 2002-05-02 | 2006-05-16 | Micron Technology Inc. | Atomic layer-deposited LaAlO3 films for gate dielectrics |
| JP2004193350A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Sharp Corp | 太陽電池セルおよびその製造方法 |
| US6815246B2 (en) * | 2003-02-13 | 2004-11-09 | Rwe Schott Solar Inc. | Surface modification of silicon nitride for thick film silver metallization of solar cell |
| JP4118187B2 (ja) * | 2003-05-09 | 2008-07-16 | 信越半導体株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| EP1634323A4 (en) * | 2003-06-13 | 2008-06-04 | Univ North Carolina State | COMPLEX OXIDES FOR USE IN SEMICONDUCTOR COMPONENTS AND THE SAME METHOD |
| US7659475B2 (en) * | 2003-06-20 | 2010-02-09 | Imec | Method for backside surface passivation of solar cells and solar cells with such passivation |
| WO2005083799A1 (en) * | 2004-02-24 | 2005-09-09 | Bp Corporation North America Inc | Process for manufacturing photovoltaic cells |
| JP2005311060A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Sharp Corp | 太陽電池の製造方法、太陽電池 |
| US7759158B2 (en) * | 2005-03-22 | 2010-07-20 | Applied Materials, Inc. | Scalable photovoltaic cell and solar panel manufacturing with improved wiring |
| JP2008204967A (ja) * | 2005-05-31 | 2008-09-04 | Naoetsu Electronics Co Ltd | 太陽電池素子及びその製造方法 |
| US7195999B2 (en) * | 2005-07-07 | 2007-03-27 | Micron Technology, Inc. | Metal-substituted transistor gates |
| US8721931B2 (en) * | 2005-12-21 | 2014-05-13 | E I Du Pont De Nemours And Company | Paste for solar cell electrode, solar cell electrode manufacturing method, and solar cell |
| JP4767110B2 (ja) | 2006-06-30 | 2011-09-07 | シャープ株式会社 | 太陽電池、および太陽電池の製造方法 |
| ES2611937T3 (es) * | 2006-08-31 | 2017-05-11 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Sustrato semiconductor, procedimiento de formación de electrodo, y procedimiento de fabricación de célula solar |
| JP2008066212A (ja) | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Toray Ind Inc | 色素増感型太陽電池用導電性基板 |
| NL2000248C2 (nl) * | 2006-09-25 | 2008-03-26 | Ecn Energieonderzoek Ct Nederl | Werkwijze voor het vervaardigen van kristallijn-silicium zonnecellen met een verbeterde oppervlaktepassivering. |
| TWI320974B (en) * | 2006-09-27 | 2010-02-21 | Sino American Silicon Prod Inc | Solar cell and method of fabircating the same |
| KR101241617B1 (ko) * | 2006-12-01 | 2013-03-08 | 샤프 가부시키가이샤 | 태양 전지 및 그 제조 방법 |
| US20100096014A1 (en) | 2006-12-25 | 2010-04-22 | Hideyo Iida | Conductive paste for solar cell |
| KR100974226B1 (ko) * | 2007-03-23 | 2010-08-06 | 엘지전자 주식회사 | 유전체를 이용한 태양전지의 후면 반사막 및 패시베이션층형성 |
| RU2336596C1 (ru) * | 2007-04-11 | 2008-10-20 | Российская академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ) | Полупроводниковый фотоэлектрический генератор (варианты) |
| KR100927212B1 (ko) | 2007-07-24 | 2009-11-16 | 한국과학기술연구원 | 속빈 구 형태의 금속산화물 나노입자를 포함하는 염료감응태양전지용 광전극 및 이의 제조방법 |
| US8309844B2 (en) * | 2007-08-29 | 2012-11-13 | Ferro Corporation | Thick film pastes for fire through applications in solar cells |
| KR20100080614A (ko) * | 2007-10-18 | 2010-07-09 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 반도체 소자의 제조에 사용하기 위한 전도성 조성물 및 공정: Mg-함유 첨가제 |
| WO2009064870A2 (en) * | 2007-11-13 | 2009-05-22 | Advent Solar, Inc. | Selective emitter and texture processes for back contact solar cells |
| DE102007054384A1 (de) * | 2007-11-14 | 2009-05-20 | Institut Für Solarenergieforschung Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle mit einer oberflächenpassivierenden Dielektrikumdoppelschicht und entsprechende Solarzelle |
| TW200929575A (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-01 | Ind Tech Res Inst | A passivation layer structure of the solar cell and the method of the fabricating |
| CN101488529A (zh) * | 2008-01-16 | 2009-07-22 | 财团法人工业技术研究院 | 太阳能电池的钝化层结构及其制造方法 |
| KR101189623B1 (ko) * | 2008-02-19 | 2012-10-10 | 주식회사 엘지화학 | 실리콘 태양전지의 전면전극 형성용 금속 페이스트 조성물및 그 제조 방법과 이를 포함하는 실리콘 태양전지 |
| JP5186673B2 (ja) | 2008-04-03 | 2013-04-17 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| US20100108134A1 (en) * | 2008-10-31 | 2010-05-06 | Crystal Solar, Inc. | Thin two sided single crystal solar cell and manufacturing process thereof |
| US8404970B2 (en) * | 2009-05-01 | 2013-03-26 | Silicor Materials Inc. | Bifacial solar cells with back surface doping |
| US20110132444A1 (en) * | 2010-01-08 | 2011-06-09 | Meier Daniel L | Solar cell including sputtered reflective layer and method of manufacture thereof |
-
2010
- 2010-05-24 KR KR1020127009329A patent/KR20120083400A/ko not_active Ceased
- 2010-05-24 CA CA2774405A patent/CA2774405C/en active Active
- 2010-05-24 AU AU2010296714A patent/AU2010296714B9/en not_active Ceased
- 2010-05-24 RU RU2012115464/28A patent/RU2532137C2/ru active
- 2010-05-24 KR KR1020197023184A patent/KR102111411B1/ko active Active
- 2010-05-24 EP EP20196434.3A patent/EP3806165B1/en active Active
- 2010-05-24 US US13/496,596 patent/US10032940B2/en active Active
- 2010-05-24 PH PH1/2012/500545A patent/PH12012500545A1/en unknown
- 2010-05-24 MY MYPI2012001172A patent/MY162597A/en unknown
- 2010-05-24 CN CN201080050384.8A patent/CN102598308B/zh active Active
- 2010-05-24 EP EP10816939.2A patent/EP2479804B1/en active Active
- 2010-05-24 WO PCT/JP2010/058706 patent/WO2011033826A1/ja not_active Ceased
- 2010-05-24 KR KR1020187029823A patent/KR102017558B1/ko active Active
- 2010-05-24 EP EP20196435.0A patent/EP3770974A1/en not_active Withdrawn
- 2010-05-24 KR KR1020177018194A patent/KR20170081735A/ko not_active Ceased
- 2010-05-24 KR KR1020207013373A patent/KR102247785B1/ko active Active
- 2010-05-24 JP JP2011531826A patent/JP5649580B2/ja active Active
- 2010-05-24 EP EP23204282.0A patent/EP4287272A3/en active Pending
- 2010-05-24 KR KR1020207036621A patent/KR102340522B1/ko active Active
-
2018
- 2018-06-21 US US16/014,691 patent/US11538944B2/en active Active
-
2019
- 2019-05-28 US US16/423,325 patent/US11545588B2/en active Active
-
2022
- 2022-11-16 US US17/988,063 patent/US12191406B2/en active Active
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012115464A (ru) | Солнечный элемент, способ изготовления солнечного элемента и модуль солнечных элементов | |
| CN102549768B (zh) | 太阳能电池模块及其制造方法 | |
| RU2013131015A (ru) | Солнечный элемент и модуль солнечного элемента | |
| US9252300B2 (en) | Method for backside-contacting a silicon solar cell, silicon solar cell and silicon solar module | |
| JP2016006869A (ja) | 太陽電池素子および太陽電池モジュール | |
| TWM527159U (zh) | 異質接面太陽能電池結構 | |
| KR101910642B1 (ko) | 태양 전지 및 그 제조 방법 | |
| KR101114169B1 (ko) | 태양광 발전장치 | |
| CN102403370A (zh) | 共面式光伏电池及其制造方法 | |
| CN104868007A (zh) | 聚光型光电转换装置及其制造方法 | |
| JP7127042B2 (ja) | 光電変換モジュール及び光電変換モジュールを製造する方法 | |
| KR20090122728A (ko) | 비선형 태양전지 모듈 | |
| KR101155890B1 (ko) | 태양 전지 및 그 제조 방법 | |
| JP5602234B2 (ja) | 太陽光発電装置及びその製造方法 | |
| JP2018201052A (ja) | 太陽電池モジュール | |
| JP6185840B2 (ja) | 太陽光発電装置及びその製造方法 | |
| TWI492400B (zh) | 太陽能電池及其製造方法與太陽能電池模組 | |
| KR101306529B1 (ko) | 태양전지 및 이의 제조방법 | |
| KR20130068962A (ko) | 태양 전지 및 이의 제조 방법 | |
| KR101210034B1 (ko) | 태양전지 및 이의 제조방법 | |
| JPWO2017038733A1 (ja) | 光電変換素子 | |
| US9362430B2 (en) | Solar cell and solar cell module using the same | |
| JPWO2019054240A1 (ja) | 光電変換モジュール及び光電変換モジュールを製造する方法 | |
| US20120298169A1 (en) | Multi-junction Photovoltaic Cells | |
| KR101820600B1 (ko) | 전극 구조물의 형성 방법 및 이를 이용한 태양 전지의 제조 방법 |