JP6465121B2 - 分析データ処理方法及び装置 - Google Patents
分析データ処理方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6465121B2 JP6465121B2 JP2016565611A JP2016565611A JP6465121B2 JP 6465121 B2 JP6465121 B2 JP 6465121B2 JP 2016565611 A JP2016565611 A JP 2016565611A JP 2016565611 A JP2016565611 A JP 2016565611A JP 6465121 B2 JP6465121 B2 JP 6465121B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- reference value
- value
- data
- values
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/0027—Methods for using particle spectrometers
- H01J49/0036—Step by step routines describing the handling of the data generated during a measurement
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F18/00—Pattern recognition
- G06F18/10—Pre-processing; Data cleansing
- G06F18/15—Statistical pre-processing, e.g. techniques for normalisation or restoring missing data
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V20/00—Scenes; Scene-specific elements
- G06V20/60—Type of objects
- G06V20/69—Microscopic objects, e.g. biological cells or cellular parts
- G06V20/695—Preprocessing, e.g. image segmentation
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2218/00—Aspects of pattern recognition specially adapted for signal processing
- G06F2218/02—Preprocessing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/0004—Imaging particle spectrometry
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/161—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission using photoionisation, e.g. by laser
- H01J49/164—Laser desorption/ionisation, e.g. matrix-assisted laser desorption/ionisation [MALDI]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Artificial Intelligence (AREA)
- Evolutionary Biology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Probability & Statistics with Applications (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Bioinformatics & Computational Biology (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Data Mining & Analysis (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
Description
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、各測定点のマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を基準値に基づいて規格化する際に、その規格化後の強度値が所定の許容値を超えない基準値を求める個別基準値取得ステップと、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得ステップにより得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出ステップと、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出ステップにより選出された共通の基準値に基づいて規格化する規格化実行ステップと、
を有することを特徴としている。
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、一つの測定点におけるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値の積算値と最大強度値との比が全ての測定点の中で最大であるものを規格化のための基準値として求める個別基準値取得ステップと、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得ステップにより得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出ステップと、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出ステップにより選出された共通の基準値に基づいて、規格化後の強度値が所定の許容値を超えないように規格化する規格化実行ステップと、
を有することを特徴としている。
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、各測定点のマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を基準値に基づいて規格化する際に、その規格化後の強度値が所定の許容値を超えない基準値を求める個別基準値取得部と、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得部により得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出部と、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出部により選出された共通の基準値に基づいて規格化する規格化実行部と、
を備えることを特徴としている。
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、一つの測定点におけるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値の積算値と最大強度値との比が全ての測定点の中で最大であるものを規格化のための基準値として求める個別基準値取得部と、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得部により得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出部と、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出部により選出された共通の基準値に基づいて、規格化後の強度値が所定の許容値を超えないように規格化する規格化実行部と、
を備えることを特徴としている。
まず、本発明の特徴の一つである、複数の質量分析イメージングデータに対する規格化処理方法について、図4を参照して説明する。
この場合、一つ質量分析イメージングデータ内の全ての測定点について、次の(1)式を満たせば、規格化の演算の際にオーバーフローは生じない。
Ii×(Psj/Pi)≦long_Max …(1)
この(1)式を変形すると、
Psj ≦long_Max×(Pi/Ii) …(2)
となる。
図4(a)では、i=8、i=16の二つの測定点に対するマススペクトルを例示しており、前者からI8、P8が求まり、後者からI16、P16が求まる。
G=Pmin/Pi …(3)
この場合、分析者は操作部4により比較したい複数の質量分析イメージングデータを指定する(ステップS21)。すでに述べた図4は、三つの試料A、B、Cに対する質量分析イメージングデータが指定された例である。それらの比較解析を行うに先立って、共通基準値決定部22は外部記憶装置3に保存されている、それら複数の質量分析イメージングデータに対応するデータファイルから未スケーリング個別基準値Fjを読み出す(ステップS22)。そして、読み出された複数の未スケーリング個別基準値Fj中で最小の値を見つけ未スケーリング共通基準値Fminとして内部に記憶する(ステップS23)。
G’=long_Max×(Fmin/Pi) …(4)
そして、この規格化係数G’を質量分析イメージングデータに含まれる各測定点におけるマススペクトルの強度値に乗じることで、該強度値を修正してメインメモリ28に格納する(ステップS25)。この場合には、上述した規格化処理方法の説明とは異なり、未スケーリング個別基準値Fjにlong_Maxの要素が織り込まれておらず、当然、未スケーリング共通基準値Fminにもlong_Maxの要素が織り込まれていないが、(4)式で求める規格化係数G’にはlong_Maxの要素が織り込まれるため、規格化演算の際にオーバーフローが生じないようにスケーリングが同時に実施される。したがって、上述した規格化方法と同様の規格化が達成されることになる。
2…データ処理部
20…データ収集部
21…個別基準値算出部
22…共通基準値決定部
23…規格化演算処理部
24…ピーク行列作成部
25…イメージング画像作成部
26…統計解析演算部
27…データファイル作成部
28…メインメモリ
29…表示処理部
3…外部記憶装置
4…操作部
5…表示部
100…サンプル
101…測定対象領域
102…測定点
Claims (7)
- 試料上に設定された所定の測定対象領域内の複数の測定点に対しそれぞれ質量分析を実行することで収集された、質量電荷比とイオン強度値との関係を示すマススペクトルデータが前記測定点の空間位置情報に関連付けられてなるスペクトルデータ集合を扱う分析データ処理方法であって、含まれるマススペクトルデータの質量分解能及び/又は空間分解能が互いに異なる複数のスペクトルデータ集合について、
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、各測定点のマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を基準値に基づいて規格化する際に、その規格化後の強度値が所定の許容値を超えない基準値を求める個別基準値取得ステップと、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得ステップにより得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出ステップと、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出ステップにより選出された共通の基準値に基づいて規格化する規格化実行ステップと、
を有することを特徴とする分析データ処理方法。 - 試料上に設定された所定の測定対象領域内の複数の測定点に対しそれぞれ質量分析を実行することで収集された、質量電荷比とイオン強度値との関係を示すマススペクトルデータが前記測定点の空間位置情報に関連付けられてなるスペクトルデータ集合を扱う分析データ処理方法であって、含まれるマススペクトルデータの質量分解能及び/又は空間分解能が互いに異なる複数のスペクトルデータ集合について、
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、一つの測定点におけるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値の積算値と最大強度値との比が全ての測定点の中で最大であるものを規格化のための基準値として求める個別基準値取得ステップと、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得ステップにより得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出ステップと、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出ステップにより選出された共通の基準値に基づいて、規格化後の強度値が所定の許容値を超えないように規格化する規格化実行ステップと、
を有することを特徴とする分析データ処理方法。 - 請求項1又は2に記載の分析データ処理方法であって、
前記所定の許容値は、前記規格化実行ステップによる規格化演算を実行する際に強度値が格納される変数が採り得る最大値であることを特徴とする分析データ処理方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の分析データ処理方法であって、
前記個別基準値取得ステップによる一つのスペクトルデータ集合毎の基準値の取得は、所定の測定対象領域内の複数の測定点に対しそれぞれ質量分析を実行することでそのスペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータが収集されるときに行われることを特徴とする分析データ処理方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の分析データ処理方法であって、
前記共通基準値選出ステップでは、全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得ステップにより得られた複数の基準値をユーザに提示し、その提示された情報に基づくユーザの指示に応じた値を共通の基準値として設定することを特徴とする分析データ処理方法。 - 試料上に設定された所定の測定対象領域内の複数の測定点に対しそれぞれ質量分析を実行することで収集された、質量電荷比とイオン強度値との関係を示すマススペクトルデータが前記測定点の空間位置情報に関連付けられてなるスペクトルデータ集合を扱う分析データ処理装置において、含まれるマススペクトルデータの質量分解能及び/又は空間分解能が互いに異なる複数のスペクトルデータ集合について、
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、各測定点のマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を基準値に基づいて規格化する際に、その規格化後の強度値が所定の許容値を超えない基準値を求める個別基準値取得部と、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得部により得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出部と、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出部により選出された共通の基準値に基づいて規格化する規格化実行部と、
を備えることを特徴とする分析データ処理装置。 - 試料上に設定された所定の測定対象領域内の複数の測定点に対しそれぞれ質量分析を実行することで収集された、質量電荷比とイオン強度値との関係を示すマススペクトルデータが前記測定点の空間位置情報に関連付けられてなるスペクトルデータ集合を扱う分析データ処理装置であって、含まれるマススペクトルデータの質量分解能及び/又は空間分解能が互いに異なる複数のスペクトルデータ集合について、
a)一つのスペクトルデータ集合毎に、一つの測定点におけるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値の積算値と最大強度値との比が全ての測定点の中で最大であるものを規格化のための基準値として求める個別基準値取得部と、
b)全てのスペクトルデータ集合に対し前記個別基準値取得部により得られた複数の基準値の中から最小のものを共通の基準値として選出する、又はその最小のものよりもさらに小さい値を共通の基準値として設定する共通基準値選出部と、
c)各スペクトルデータ集合に含まれるマススペクトルデータ中の全て又は一部の質量電荷比値に対する強度値を、前記共通基準値選出部により選出された共通の基準値に基づいて、規格化後の強度値が所定の許容値を超えないように規格化する規格化実行部と、
を備えることを特徴とする分析データ処理装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2014/083864 WO2016103312A1 (ja) | 2014-12-22 | 2014-12-22 | 分析データ処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2016103312A1 JPWO2016103312A1 (ja) | 2017-08-03 |
| JP6465121B2 true JP6465121B2 (ja) | 2019-02-06 |
Family
ID=56149416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016565611A Active JP6465121B2 (ja) | 2014-12-22 | 2014-12-22 | 分析データ処理方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10896813B2 (ja) |
| EP (1) | EP3239704B1 (ja) |
| JP (1) | JP6465121B2 (ja) |
| WO (1) | WO2016103312A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6643970B2 (ja) * | 2016-11-07 | 2020-02-12 | 株式会社日立製作所 | 光学装置、光学測定方法 |
| DE102017008885B4 (de) | 2017-09-22 | 2024-04-25 | Bruker Daltonics GmbH & Co. KG | Massenspektrometrisches Verfahren und MALDI-TOF-Massenspektrometer |
| GB2568354B (en) * | 2017-09-28 | 2022-08-10 | Bruker Daltonics Gmbh & Co Kg | Wide-range high mass resolution in reflector time-of-flight mass spectrometers |
| WO2019150653A1 (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-08 | 株式会社島津製作所 | 表示処理装置、イメージング質量分析システムおよび表示処理方法 |
| WO2020166007A1 (ja) * | 2019-02-14 | 2020-08-20 | 株式会社島津製作所 | イメージング質量分析装置 |
| US12112933B2 (en) * | 2019-08-01 | 2024-10-08 | Shimadzu Corporation | Imaging mass spectrometer |
| JP7413775B2 (ja) | 2019-12-26 | 2024-01-16 | 株式会社島津製作所 | イメージング分析データ処理方法及び装置 |
| JP7347685B2 (ja) * | 2020-09-04 | 2023-09-20 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置及び質量分析方法 |
| CN112418072B (zh) * | 2020-11-20 | 2024-08-02 | 上海交通大学 | 数据处理方法、装置、计算机设备和存储介质 |
| CN114671435A (zh) * | 2022-04-15 | 2022-06-28 | 无锡林泰克斯新材料科技股份有限公司 | 湿式摩擦材料用纳米TiC的制备方法 |
| CN120604117A (zh) * | 2023-02-03 | 2025-09-05 | 株式会社岛津制作所 | 质量分析方法及质量分析装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010249939A (ja) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Sony Corp | ノイズ低減装置、ノイズ判定方法 |
| GB201005959D0 (en) * | 2010-04-12 | 2010-05-26 | Univ Leuven Kath | Spectroscopic analysis system |
| US20120016598A1 (en) | 2010-05-21 | 2012-01-19 | Bruker Daltonik Gmbh | Normalization of mass spectra acquired by mass spectrometric imaging |
| JP5971184B2 (ja) * | 2013-04-22 | 2016-08-17 | 株式会社島津製作所 | イメージング質量分析データ処理方法及びイメージング質量分析装置 |
| US9412571B2 (en) * | 2013-04-22 | 2016-08-09 | Shimadzu Corporation | Imaging mass spectrometric data processing method and imaging mass spectrometer |
-
2014
- 2014-12-22 JP JP2016565611A patent/JP6465121B2/ja active Active
- 2014-12-22 EP EP14908923.7A patent/EP3239704B1/en active Active
- 2014-12-22 US US15/538,685 patent/US10896813B2/en active Active
- 2014-12-22 WO PCT/JP2014/083864 patent/WO2016103312A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2016103312A1 (ja) | 2016-06-30 |
| JPWO2016103312A1 (ja) | 2017-08-03 |
| US20170352525A1 (en) | 2017-12-07 |
| US10896813B2 (en) | 2021-01-19 |
| EP3239704B1 (en) | 2024-07-03 |
| EP3239704A4 (en) | 2018-01-24 |
| EP3239704A1 (en) | 2017-11-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6465121B2 (ja) | 分析データ処理方法及び装置 | |
| JP5971184B2 (ja) | イメージング質量分析データ処理方法及びイメージング質量分析装置 | |
| JP5950034B2 (ja) | イメージング質量分析データ処理方法及びイメージング質量分析装置 | |
| CA2795585C (en) | Spectroscopic analysis system | |
| JP5348029B2 (ja) | 質量分析データ処理方法及び装置 | |
| JP5565810B2 (ja) | 質量分析データ処理方法及び装置 | |
| CN110214271B (zh) | 分析数据解析方法以及分析数据解析装置 | |
| JPWO2017195271A1 (ja) | イメージング質量分析装置 | |
| JP7004073B2 (ja) | イメージングデータ処理装置 | |
| JP2018504600A (ja) | 干渉検出および着目ピークのデコンボルーション | |
| US11276565B2 (en) | Data processing device for imaging mass spectrometric analysis | |
| US10147590B2 (en) | Mass spectrometry data processing apparatus and mass spectrometry data processing method | |
| JP7001157B2 (ja) | イメージング質量分析データ処理装置 | |
| WO2016098247A1 (ja) | 分析装置 | |
| JP2021196303A (ja) | イメージング質量分析方法、及びイメージング質量分析装置 | |
| JP7622864B2 (ja) | 質量分析データ解析方法及びイメージング質量分析装置 | |
| US20240320192A1 (en) | Data processing method, data processing apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium | |
| JP6217399B2 (ja) | 装置制御システム、装置制御方法、および装置制御プログラム | |
| WO2023032181A1 (ja) | 質量分析データ解析方法及びイメージング質量分析装置 | |
| WO2019150574A1 (ja) | イメージング質量分析装置 | |
| CN113508293A (zh) | 成像质量分析装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170411 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170411 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180424 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180615 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181211 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181224 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6465121 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |