JP5840361B2 - オーステナイト系鉄／ニッケル／クロム／銅合金 - Google Patents

Description

本発明は、電磁気装置の製造のためにより特定的に意図されたオーステナイト系鉄／ニッケル／クロム／銅合金に関する。

ニッケルを多く含む、鉄−ニッケルおよび鉄−ニッケル−クロム合金は、長年知られており、それらの新規で様々な物理特性のために、電気（電子および電気技術）工学、ディスプレイ、エネルギー輸送、熱制御または電気的保安用途における多くの用途で使用されている。

したがって、それらは、それらの組成に依存して、２０から１００℃の間で２から１３×１０^−６／℃の熱膨張係数を有し、これは、いくつかの希少材料において固有の、延性材料の非常に優れた特性である。

それらはまた、非常に良好な耐水腐食性への効用を有し、そのニッケルまたはクロム含量が高くなるほど、これは良好である。

その単相オーステナイト構造のために、非常に高い成形性がみられ、これは非常に薄い厚さへの容易な圧延、および高速切削、孔開け、型打ちまたは引抜きを可能にする。

キュリー点Ｔｃ（強磁性が消失する温度）の存在を特徴とするそれらの強磁性挙動はまた、それらの磁気特性（相対透磁率μ_ｒ、保磁力（ｃｏｅｒｃｉｖｅ ｆｉｅｌｄ）Ｈ_ｃおよび磁気損失Ｐ）と同様に顕著である。

磁気損失は非常に良好であり、これらの合金を磁気化することに対してエネルギー消費が少なくなる。したがって、これらの鉄−ニッケルおよび鉄−ニッケル−クロム合金は、エネルギー消費を減らし（時計（置時計または腕時計）の電気モータ、高感度残留電流回路遮断器リレー、高速低温運転モータなど））、または磁気センサからの測定の分散を有意に制限するために非常に小さいヒステリシス（変流器、ＤＣセンサ、レゾルバおよび同期レゾルバ）もしくはヒステリシス損失（測定トランス、モデムトランスなど）を有し、あるいは、ホイールモータもしくは高アテニュエーション受動ワインディングにおいて大きなダイナミックレンジを有するある種の磁気アクチュエータヨーク（例えば、電磁ガソリンインジェクタ）におけるように磁束線に高度に選択的な経路を提供することのいずれかが不可欠である電磁気用途に長年使用されている。

したがって、その保磁力が一般に１２５ｍＯｅ（ミリエルステッド）未満である鉄−ニッケル合金は、従来使用される鉄−ケイ素材料に比べて、電気システムにおけるエネルギー消費の実際の減少を達成することを可能にするが、その理由は、鉄−ケイ素材料が、わずかの用途しか関係しない、一方向のみに約１９０ｍＯｅの保磁力を達成するからであり、すなわち、より一般的には、その用途が（モータ、発電機向け）材料における様々な方向に進む磁束を必要とする場合、５００から１２５０ｍＯｅの範囲に及ぶ。

しかし、特定の攻撃的な環境において常には十分ではない、耐水溶性酸腐食性（ａｑｕｅｏｕｓ ａｃｉｄ ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）および耐塩水噴霧（ｓａｌｔ−ｆｏｇ）腐食性における改善などの、これらの鉄−ニッケル合金のある種の特性を改善する必要がある。

さらに、これら合金の薄板の製造には、より広範な酸化から卑金属を保護する酸化表面層の形成を生じる、しばしばあまり純粋ではない雰囲気における工業的熱処理が含まれる。しかし、この表面層は、あまり接着性ではなく、かつ機械的に非常に弱く、その保護作用をあまり効果あるものにしない。

欧州特許出願公開第１４５５６２２号明細書

本発明の目的は、多くの用途に用いることができ、かつ低コストであり、強い接着性の表面酸化層の形成に適した、改善された耐水溶性酸腐食性および耐塩水噴霧腐食性を有する合金組成物を提供することによってこれらの欠点を是正することである。

この目的のために、本発明の第１の主題は、オーステナイト系鉄−ニッケル−クロム−銅合金であって、その組成が、重量％で表して以下：
２４％≦Ｎｉ≦３６％
Ｃｒ≧０．０２％
Ｃｕ≧０．１％
Ｃｕ＋Ｃｏ≦１５％
０．０１≦Ｍｎ≦６％
０．０２≦Ｓｉ≦２％
０≦Ａｌ＋Ｔｉ≦３％
０≦Ｃ≦２％
０≦Ｖ＋Ｗ≦６％
０≦Ｎｂ＋Ｚｒ≦０．５％
０≦Ｍｏ≦８
Ｓｎ≦１
０≦Ｂ≦０．００６％
０≦Ｓ＋Ｓｅ＋Ｓｂ≦０．００８％
０≦Ｃａ＋Ｍｇ≦０．０２０％
を含み、残部は鉄および溶融精錬から生じる不純物であり、ニッケル、クロム、銅およびコバルトのパーセント含量は、合金が以下の条件：
Ｃｏ＜Ｃｕ
Ｃｏ＜４％（Ｃｒ＞７．５％の場合）
Ｅｑ１＞２８％［ここで、Ｅｑ１＝Ｎｉ＋１．２Ｃｒ＋（Ｃｕ／５）］
Ｃｒ＜７．５％（Ｎｉ＞３２．５％の場合）
をさらに満たし、マンガン含量は以下の条件：
− Ｅｑ３≧２０５の場合、Ｍｎ≦Ｎｉ−２７．５＋Ｃｕ−Ｃｒ
− １８０．５≦Ｅｑ３≦２０５の場合、Ｍｎ≦４％
− Ｅｑ３≦１８０．５の場合、Ｍｎ≦２％
［ここで、Ｅｑ３＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋４（Ｃｕ＋Ｃｏ）およびＸ＝Ｃｒ＋Ｍｏ＋Ｖ＋Ｗ＋Ｓｉ＋Ａｌ］
をさらに満たす、合金である。

この提案される解決策は、わずかの高価な元素を含み、以下に詳細に説明されるいくつかの分野の用途に対して高いまたは新規な性能レベルを与える、アーク炉または誘導炉を用いる安価な工業的溶融精錬に適している強磁性オーステナイト系Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｃｕ合金の系統群である。これまで、合金の系統群がこれらの特性全てを示し得ることは見いだされたことがない。さらに、非常に異なる用途に対して同じ合金（例えば、低膨張、耐食性、磁性およびキュリー点の要件を同時に満たす合金）を用いることによって、非常に大きな総トン数でそれを生産し、工業生産においてより大きな実績を得て、したがって、その特性の再現性の点でより信頼できる合金を有することができる。

さらに、本発明者らは、ケイ素、クロムおよび銅が、その酸化保護表面層を機械的および化学的に強化し、それをより接着性にさせる可能性を認めた。したがって、この酸化層は、酸化周囲雰囲気中での熱処理または使用から長期にわたって非常に安定となり、外部の化学物質に関して化学的に非常に安定になり、工業生産サイクル中の金属部品間の衝撃および摩擦に関して機械的に非常に安定になる。

さらに、この非常に安定な酸化物は一般に、用いられる熱処理サイクルに依存して、数ミクロンの薄い厚さを有する。この薄い酸化物の厚さは、特に、固定子と磁気コイルコア間の空隙を同時に制限および較正し、それぞれ、腕時計により電池から消費されるエネルギーの制限、および工業的に製造される時計モータのばらつきの低下の両方をもたらすので、時計製造に特に有益である。

本発明はこれからより詳細に記載されるが、限定的ではなく、実施例によって例証される。

本発明による合金は、以下に規定される重量でパーセントの含量を有する。

ニッケル含量は、重量で３６％、好ましくは３５％、より好ましくは３４％、さらには２９％以下に限定される。このような限定は、その品種のコストを非常に制限することを可能とする。ニッケル含量が３４％未満である場合、それはまた、その品種が少なくとも７０μΩ．ｃｍまたはさらに少なくとも８０μΩ．ｃｍの電気抵抗を有することを可能とし、これは良好な動的磁化性能の要素の１つである（他の２つの要素は、薄い金属厚さと低保磁力である）。バイメタル帯鋼の製造などのある種の用途に関して、高いキュリー点を保証するためにニッケル含量を３０％またはより高く保つことが好ましい。最小ニッケル含量は、本発明による全体の組成物範囲内でのオーステナイト構造を得ることを保証するために２４％である。

クロム含量は、最小クロム含量が必要とされる耐食性を有するために必要であるので、０．０２％に等しいかそれを超える。さらに、ニッケル含量が３２．５％から３６％である場合、クロム含量は、鉄およびケイ素以外の全ての元素のコストを制限するために、７．５％以下に限定される。

これらの特徴は、化学的に非常に安定な表面酸化物の形成が観察され、これは金属に対してさらにより高度に接着性であるので、この品種の耐水溶性酸腐食性、耐大気腐食性および耐高温酸化腐食性を改善することを可能にする。さらに、これらの元素の位置は、キュリー点または飽和磁化などの、合金の他の使用特性を著しく下げることがない。

銅含量は、０．１％に等しいかそれを超え、含量１５％、好ましくは含量１０％以下に限定され（鉄およびケイ素以外の全ての元素のコストを制限するために）、コバルトによる置換が可能である。この品種の耐食性に対するその影響とは別に、銅は高温時に合金の表面上に形成する酸化層の接着性を実質的に改善する。

そのコストのために、この品種がコバルトを含まないことが好ましく、同じ理由で、コバルトが存在する場合、その含量は銅含量未満であることが必要である。さらに、クロムが７．５％を超える量で存在する場合、鉄およびケイ素以外の全ての元素のコストを制限することが望ましいので、コバルトは最大４％、好ましくは２％に限定されなければならない。

少なくとも０．０２％のケイ素の添加は、この表面酸化物層の機械的耐磨耗性を著しく改善する。さらに、合金の他の特性を損なうことなくアーク炉におけるその脱酸素に関与させるために、最大２％のケイ素が本発明による合金に添加され得る。

さらに、本発明者らは、ニッケル、クロムおよび銅含量が以下の関係：
Ｅｑ１＞２８％［ここで、Ｅｑ１＝Ｎｉ＋１．２Ｃｒ＋（Ｃｕ／５）］
を満たさなければならないことを見いだした。

これは、この条件を満たすことによって、合金のオーステナイト特性を保証することが可能であり、これがないと合金の使用特性はいずれも所望の目的に適合せず、このことは良好な成形性が得られることも妨げるためである。

マンガン含量は、０．０１から６重量％、好ましくは０．０２から６重量％であり、これは、キュリー点および飽和磁化などの合金の使用特性を低下させることなく、硫化物の形成性のために的確な高温変形を受ける合金を得ることを可能にする。４０００Ｇ超において飽和誘導Ｂ_ｓの値を維持するために、マンガン含量は５％未満のままであることが好ましい。より特定的に好ましくは、マンガン含量は、０．１から１重量％である。さらに、クロムの存在下で、飽和誘導に対するその影響は悪化し、したがって、以下：
Ｍｎ≦Ｎｉ−２７．５＋Ｃｕ−Ｃｒ（Ｅｑ３≧２０５の場合）
Ｍｎ≦４％（１８０．５≦Ｅｑ３≦２０５の場合）
Ｍｎ≦２％（Ｅｑ３≦１８０．５の場合）
［ここで、Ｅｑ３＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋４（Ｃｕ＋Ｃｏ）および
Ｘ＝Ｃｒ＋Ｍｏ＋Ｖ＋Ｗ＋Ｓｉ＋Ａｌ］
のとおり限定することが必要である。

合金はまた、炭素、チタン、アルミニウム、モリブデン、バナジウム、タングステン、ニオブ、ジルコニウム、錫、ホウ素、硫黄、セレン、アンチモン、カルシウムおよびマグネシウムなどの添加元素を含み得る。

炭素は、炭化物の変形によって合金を硬化させるために、２％、好ましくは１％の量で合金に添加され得る。しかし、合金の用途が１２５ｍＯｅ未満の保磁力Ｈｃを必要とする場合、炭素含量は、その存在がこの特性を大きく低下させるので、インゴットまたはスラブ中に溶融精錬−凝固後０．１％未満に保持される。さらに、この特性（Ｈｃ）を達成し、時間とともにそれを維持するためには、炭素含量を１００ｐｐｍ未満、好ましくは５０ｐｐｍに著しく減少させるために最終状態においてこの薄板に脱炭熱処理が適用され得る。

Ｎｉ_３（Ｔｉ、Ａｌ）化合物の析出によってこの品種を硬化させるために、合わせた量で３％のチタンおよびアルミニウムが合金に添加され得る。アルミニウムの添加もまた、合金のガラスへの溶接性を改善し得る。しかし、還元ガスにおける熱処理の間に、熱分解した（ｃｒａｃｋｅｄ）アンモニアまたは窒素／水素の事前の混合物を用いることが望ましい。この時点で、窒素は、低温焼きなましの間にＡｌＮまたはＴｉＮ型の化合物中に結合し、したがって、高磁気性能と窒素含有ガス中の熱処理との間の両立性を確保するためにＡｌおよびＴｉ残留物の含量をできるだけ低く減少させることが必要である。この点は、高磁気性能を必要とし、かつ窒素含有雰囲気中での焼きなまし操作を含む任意の用途に特に適用される。この場合、チタンおよびアルミニウムの合わせた含量は３０ｐｐｍ、好ましくは２０ｐｐｍ以下に限定される。

モリブデンは、合金の機械的強度および耐高温酸化性の両方を改善するために８％の量で添加され得る。好ましくは、それはＦｅおよびＳｉ以外の元素のコストを制限するために４％以下に限定される。

バナジウムおよびタングステンは、その靭性を改善するために、６％の合わせた量で合金に添加され得、好ましくは、鉄およびケイ素以外の全ての元素のコストを制限するために３％未満の量で添加される。

ニオブおよびジルコニウムは、その機械的強度を改善するために、０．５％の合わせた量で合金に添加され得る。

錫は、クロムの部分置換として１％の量で合金に添加され得る。

ホウ素は、窒化ホウ素の形成によって切削性を改善するために、２から６０ｐｐｍ、好ましくは５から１０ｐｐｍの範囲の量で本発明による合金に添加され得る。この範囲未満では、その効果はもはや見られず、一方６０ｐｐｍ超ではその効果は飽和する。

硫黄は、合金を溶融精錬するために使用されるくず鉄に存在する不純物であるが、やはり、硫化マンガンの形成によって合金の切削性および機械加工性を改善するために、５から８０ｐｐｍ、好ましくは１０から３０ｐｐｍの範囲の量で添加され得る。硫黄の全てまたは一部は、セレンおよび／またはアンチモンの添加で置換され得る。

硫黄およびホウ素が切削性添加物として添加される場合、それらの合わせた含量は５から６０ｐｐｍであるが、好ましくは、これら２つの元素がそれら自身の好ましいそれぞれの範囲を考慮して、合わせられる。

同様に、カルシウムおよびマグネシウムは、ＭｇＯまたはＣａＯ型の化合物の形成によって切削性を改善するために４から２００ｐｐｍの合わせた量で本発明による合金に添加され得、この広いＣａ＋Ｍｇの範囲は、ある種の硫化物（ＭｎＳなど）および窒化物（ＡｌＮなど）とは違って高温還元焼きなましは製造の終了時に該化合物を溶解することができないので、切削性および磁気性能の間の妥協を調整することを可能にする。

該組成物の残部は、鉄、および溶融精錬から生じる不可避の不純物からなる。これらの中で、最大５００ｐｐｍの量で含まれるリン、窒素および酸素について、より特定的に言及され得る。ある種の用途について、所望の限度内に保磁力を維持するために、酸素および窒素の合わせた含量を１００ｐｐｍ以下に限定することが必要である。

一般に、本発明による合金は、精錬され、熱間圧延帯鋼の形態で製造され得、次いで、これは冷間圧延され、その後、焼きなましされ、次いで、場合によっては硬化（ｗｏｒｋ−ｈａｒｄｅｎｅｄ）される。さらに、熱間圧延帯鋼状態で止めることもできる。

本発明による合金は、バルク製品の形態でも用いられ得、これは鍛造されてもされなくてもよく、熱間圧延から得られ、線引き加工操作により場合によって仕上げられるバーストックまたはロッドストックの形態で用いられてもよい。

該合金帯鋼または部分は、当業者が実施の仕方を知っているような任意の適切な方法で得ることができる。

したがって、本発明による合金は、好ましくは、真空誘導炉中で溶融され、インゴットに鋳造される。このインゴットは１１００から１３００℃で鍛造され、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延され得る。次いで、この熱間圧延帯鋼は化学的に酸洗いされ、その後、所要の厚さに冷間圧延され得る。

冷間圧延操作は、｛１００｝＜００１＞型の特定の結晶構造を成長させることが望ましい場合、それぞれのパス間の中間の焼きなましをすることなく、いくつかのパスにおける９０から９９％の全体の減少率で行われる。

冷間圧延後、焼きなましは、合金帯鋼を軟化し、したがって、その後それを切削または成形し易くするために、好ましくは８００から１０００℃で１時間行われる。しかし、これは、特に金属が前述の元素、例えば、Ｂ、Ｓ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｅなどでこの処理に関して最適化されている場合、冷間圧延の終了時の硬化状態で行われることが、高速型打ちまたは孔開けによる切削にさらにより有利であり得る。

切削または成形後に、その得られた部分は、特に合金の磁気特性を最適化するために、有利には、精製Ｈ_２（露点＜−７０℃）において１１００℃で３時間焼きなましされ得る。しかし、この焼きなましは、膨張またはキュリー点または耐食性の特性が特に求められる場合、全く不必要であり得る。

上に見られたように、本発明による合金は、任意の種類のガス中の工業的焼きなましで製造され得る。

本発明による合金では、多くの分野で潜在的な用途が見いだされる。したがって、所与の用途に対して特に適切である合金をまとめて、好ましい組成物範囲が定義され得、これらは以下に詳細に記載される。

温度自己調節を有する電磁気装置
第１の好ましい実施形態において、ニッケル、クロム、銅、コバルト、モリブデン、マンガン、バナジウム、タングステン、ケイ素およびアルミニウムのパーセント含量は、合金が以下の条件：
０．０２≦Ｍｎ、
Ｅｑ２≧０．９５［ここで、Ｅｑ２＝（Ｎｉ−２４）［０．１８＋０．０８（Ｃｕ＋Ｃｏ）］］、
Ｅｑ３≧１６１、
Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］、
Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］、
Ｅｑ６≧１５０［ここで、Ｅｑ６＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋１．３（Ｃｏ＋Ｃｕ）］および
Ｅｑ７≧１５０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］
をさらに満たす。

この組成は、温度自己調節を有する電磁気装置の製造に特に好適である。

軟質強磁性材料は、自由空間の透磁率より非常に大きい透磁率μを有する。この材料が、時間とともに変化する磁気励起を受ける場合、それ以上ではその材料がもはや強磁性ではないキュリー点Ｔｃを超える場合に比べて、そのキュリー点Ｔｃと呼ばれる固有値に到達する前に非常により高い磁気損失を生じる。さらに、この材料の飽和磁化、その磁気損失、および、したがって、その熱電力発生は、温度がＴｃに近づくにつれて次第に減少する。

したがって、温度自己調節は、それぞれの非磁性導体に特有の残留磁気損失が消散する場合、合金のキュリー点付近で確立され、すなわち、合金から出る熱流束は磁気損失により生成される熱流束よりも大きい。これを行うために、時に、本発明による合金と、アルミニウムまたは銅などの非常により良い熱伝導体である材料とを近接させることが時に必要であり、この材料は、常磁性損失を消散させること、特に、空の場合に不注意に加熱された容器からの熱が自然対流によって消散し得るのみである、誘導加熱を用いる調理用途における温度自己調節を可能にすることに関与する。

この技術は、特に、ＥＰ１４５５６２２に、温度自己調節は、３０から３５０℃の低いＴｃを有し、かつ少なくとも３２．５％のニッケルを含む合金と、Ｔｃに達した場合に、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金の磁気損失を消散させ得るアルミニウム放熱板とを組合せことによって得られると記載されている。

したがって、誘導加熱による調理、例えば、注入器および複合成型ノズルの工業的誘導加熱、飲料、食品、医療製品、血液および成分、軟質または有機材料などの予熱のために、主な使用特性は望ましくは３０℃から４００℃であるその機能的なキュリー点に留まる。

合金はしばしば、工業的雰囲気での様々な媒体および／または成分に接触しているので、最小の腐食および酸化耐性が望まれる。したがって、良好な耐水腐食性および良好な耐塩水噴霧腐食性、および高温酸化性雰囲気中の酸化表面層の良好な機械的安定性（接着性＋耐摩擦性）によって明示される、合金の良好な化学安定性が要求される。

さらに、４×１０^−６／℃を超えるまたはさらに７×１０^−６／℃を超える、２０から１００℃の間の膨張係数を示す合金を探求することも好ましい。この特徴は、クラッディング、保持（ｇｒｉｐｐｉｎｇ）、溶接、プラズマ蒸着などによって、合金と、合金と密接に関係している導電層との間に存在し得る任意のバイメタル効果を減少させることを特に可能にする。

他方、磁気特性に対する特別の要求はなく、保磁力は大いに低下させられ得る。したがって、最大約２％、好ましくは１％未満の多量の炭素を添加することが可能である。これは、多量の炭素は、結晶格子を非常に歪ませ、したがって、磁気モーメント間の交換相互作用を増加させ、したがって、キュリー点を高めることは長年知られているからである。これは、同じキュリー点レベル、したがって同じ自己調節温度を維持するためにニッケルパーセント含量をさらに減少させることを可能にする。

しかし、温度自己制御用途は、誘導加熱による液体および固形食品の調理に限定されず、より一般的に、電磁気誘導子を用いる任意の家庭または工業システム、および特定の臨界温度を超えることなく瞬間的に加熱されなければならない遷移元素上の少なくとも１つの熱的活性部分に関係する。

言及され得る一例は、試食のために、または熱活性化結合、もしくはプラスチックおよび複合材の硬化などの別の工業操作前の前提条件として、予備加熱された材料の一部の生産速度を増加させるために、食品に関するかどうかにかかわらず、比較的粘性流動体の注入である。

熱硬化性複合材（複合材の種類に依存して２００から３５０℃での温度調節を要する）または熱可塑性複合材（複合材の種類に依存して１５０から２５０℃で温度を調節する要件を有する）のための成形型の迅速自己調節表面加熱も言及され得る。

言及され得る別の例は、悪性腫瘍（その細胞は正常細胞より熱により敏感である）の中心部における、被覆によって生体適合性にされた、低Ｔ_ｃ合金から作られた注射針またはインサートの自己制御加熱である。

言及され得る最後の例は、押出ダイ、溶融紡糸用紡糸口金などの自己制御加熱であり、ダイまたは紡糸口金を通して加工される部分における熱勾配を制限し、したがって、内部応力、表面脆化、特性勾配、構造不均一性などを制限することを可能にする。

上に定義されたとおりの本発明による合金は、必要とされる特性の全てが達成されることを可能にする。

特に、本発明者らは、等式２から等式７の限定値が満たされる場合、磁気損失によって熱放出を可能にする、２０℃で０を超える、さらに１０００Ｇを超える飽和誘導レベルのみではなく、キュリー点Ｔｃ≧３０℃を確保することが可能であることを見いだした。

より一般的に、かつ本発明による用途が何であれ、合金の組成を適合させることによって、特定の用途に課せられた限定値を満たすように、それぞれの等式２から等式７の値を変更し、したがって、対象とする合金の誘導のレベルおよびＴｃ値を制御することが可能であることが見いだされた。

磁束自己調節を有する装置
別の好ましい実施形態において、合金はさらに以下：
Ｎｉ≦２９％、
Ｃｏ≦２％、
０．０２≦Ｍｎ≦２％、
Ｅｑ２≧０．９５［ここで、Ｅｑ２＝（Ｎｉ−２４）［０．１８＋０．０８（Ｃｕ＋Ｃｏ）］］、
Ｅｑ３≧１６１、
Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］、
Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］、
Ｅｑ６≧１５０［ここで、Ｅｑ６＝６Ｎｉ−２．６Ｘ＋１．３（Ｃｏ＋Ｃｕ）］および
Ｅｑ７≧１６０
のようであり得る。

この組成は、磁束自己調節を有する装置の製造に特に好適である。

雰囲気温度に応じた装置の磁束調節は、実質的に一定で極めて高率の低下を伴って、キュリー点に近接する温度につれての飽和磁化の低下に依存する。磁束分流システムは、磁石と補償合金との間の磁束断面を変えることによって磁石の磁化の低下の正確な補償を与え、したがって、常に、所与の温度範囲内の同じ磁束を与える。

この磁束自己調節は、通常、周囲温度付近、特に３０℃から＋１００℃の間で達成される。したがって、この温度範囲内のキュリー点Ｔｃを有する様々な合金に対する要求がある。

しかし、磁気特性に対する特定の要件はなく、この状況で、保磁力は、本発明による新規な合金の可能性のある性能に対応する１０Ａ／ｍ限界に対して非常に低下させられ得る。先述のように、炭素含量は最大２％、好ましくは最大１％に調整され得る。

制御膨張装置
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下のようである：
Ｎｉ≦３５％
０．０２≦Ｍｎ
Ｃ≦０．５％
Ｅｑ２≧１
Ｅｑ３≧１７０
Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
Ｅｑ６≧１５９
Ｅｑ７≧１６０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］。

この組成は、制御膨張装置の製造により特定的に適切である。

「制御膨張合金」という用語は、他の金属合金（α_{２０−１００}＞１０×１０^−６／℃）より低い膨張係数（すなわち、典型的には、α_{２０−１００}＜１０×１０^−６／℃またはα_{２０−３００}＜１３×１０^−６／℃）を有する合金を意味することが理解される。

これらの合金は、温度に応じて正確に維持されるある種のこれらの構成要素の形状および寸法を必要とする、あるいはこれらの活性材料の１つと制御膨張合金との間の熱膨張に関して高度の適合性を必要とする用途に使用され、別の機能（例えば、電流電導または機械的支持機能）を与える。これらの用途は、共通して、その構成要素が２０から４５０℃の範囲内の温度変動を受けるという事実を有する。

したがって、一部の用途に関して、その用途において別の活性材料（ケイ素、ゲルマニウム、ＧａＡｓ、ＳｉＣ、ソーダガラス、他のガラス、低膨張ステンレス鋼、セラミックなど）との熱膨張という点から近接した適合性が存在することが必要である。別の材料と合金との間のこの近接した適合性は、これら２つの材料の両方が、クラッディング、溶接、接着、蒸し煮（ｂｒａｉｓｉｎｇ）、保持などによって一緒に連結されて、それらの形状を変えることなく一緒に膨張することを可能にし、その寸法は一般熱膨張法則の結果としての予期可能な形式でのみ変化する。この近接した膨張適合性の別の利点は、この２つの材料間の非常に低いレベルの熱誘導内部応力が存在することである。これはこの２材料の装置の操作の間に熱疲労を無視できるものにし、したがって、その寿命を著しく伸ばす。

これらの用途の１つは、集積回路接続分野（リードフレームのような）においてであり、ここで、合金は、それに電流を供給するためにその半導体に密接に接着されている。したがって、熱疲労およびインターフェースの早期劣化を大きく抑制するために制御膨張合金を用いることが必要である。

別の用途は、所定の温度範囲内の低膨張機械的支持材のためである。例えば、ビデオプロジェクターは、その装置が温まり、それによりその鏡のための支持材は、４００−４５０℃の温度に局所的に至らしめられ得る場合、その位置はできるだけ少ししか動いてはならない多数の小さい鏡を使用する。

別の用途は、トランジスター、オプトエレクトロニクスの回路半導体（例えば、ＧａＡｓからできている）、Ｘ線管、ガラス製品の密封浸透などの支持体及びパッケージの製造である。

これらの用途全てにおいて、制御膨張合金は、半導体またはガラスもしくはセラミックに密着して接着され、膨張係数に関する要件は、４から５×１０^−６／℃から１１×１０^−６／℃の範囲であり得る。言及され得る一例は、２つの、乗物サンルーフ（開いていようとなかろうと）の支持／曲げのためであり、ここで、合金は、ガラスパネルと同じようにそれらを接着する接着剤とともに必ず膨張しなければならない。自動燃料噴射アクチュエータとして使用されるＰＺＴなどの圧電セラミック用の低変形支持体についても言及され得る。

この制御膨張合金が、用途においてこの単一機能のみを提供することもできるが、曲げ、引抜き、型押し、流れ旋削（ｆｌｏｗ ｔｕｒｎｉｎｇ）、機械加工、化学的ミリング加工（エッチング）、溶接などによって精密に成形されることがさらに可能である。この場合、制御膨張合金で製造される精密な寸法を有する機械部品は、広い温度範囲内で低く、かつ所定の膨張を有する利点を有する。したがって、電子銃の部品が電子の作用によって温まり、電子が通過する特定の孔のみをそれらに与え（電子ビームの大きさ決定）、これはこれらの部品の機能である：したがって、全体の動作温度内でできるだけ少ししか膨張せず、良好な成形性を有する合金に対する要求がある。

膨張性とは別に、酸化層の良好な耐水溶性酸腐食性、良好な耐塩水噴霧腐食性および良好な機械的耐磨耗性は望ましい特性である。これらの特性は、コストがかからない工業焼きなまし（低いまたは低下した露点）で、またはさらなる保護の必要がない苛酷な環境において得られる。

したがって、これらの合金は、より少ないニッケルを含む、従来のＦｅＮｉ合金の良い代替となる。

電流センサ、測定トランスおよび磁気高調波センサ
別の好ましい実施形態において、合金はさらに以下：
Ｃｕ≦１０％
０．０２≦Ｍｎ
Ｃ≦０．１
Ｅｑ２≧１
Ｅｑ３≧１７０
Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
Ｅｑ６≧１５９
Ｅｑ７≧１６０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］
のようである。

この組成は、電流センサまたは測定トランスの製造により特定的に好適である。

好ましくは、所望の目的は、任意の種類の工業的非酸化性雰囲気、例えば、不活性ガス、Ｈｅ、Ｈ_２、Ｎ_２、ＮＨ_３などにおいて良好な磁気性能を得て、それにより、チタン含量を可能な限り、好ましくは＜３０ｐｐｍＴｉ、好ましくは＜２０ｐｐｍＴｉに減少させ得ることである。

「電流センサまたは測定トランス」という表現は、閾値超過を警告する（電子残留電流回路ブレーカー）または電流もしくは磁場を測定する（電流または電圧トランス、エネルギー計測器（ｃｏｕｎｔｅｒ）、ＤＣセンサ）目的を有して、電流または磁界を検出するための装置を意味することが理解される。

この種の用途は、最も特に低保磁力を必要とするが、飽和磁化は、例えば、多くの閉ループ電流センサのケースにおけるように低くてもよく（２０℃で４０００から８０００Ｇ）、あるいは開ループ電流センサのケースにおけるように高くてもよい（＞１００００Ｇ）。

この用途の主なパラメータは、多くの場合における磁化曲線またはヒステリシスサイクルのＢ−Ｈ線形性である、使用される合金の保磁力に非常に依存する測定精度であって、Ｈｃが低いほど、測定精度は良好となる。

広い周波数バンドを有するトランス／電流センサなどの一部の用途について、良好な測定精度および中周波（ｍｏｄｅｒａｔｅ ｆｒｅｑｕｅｎｃｉｅｓ）を保証するために、非常に低い動的ヒステリシスが必要とされ、これは、低い誘導で作動する閉ループ構造によってだけではなく、低いＨ_ｃおよび高い電気抵抗を有する材料を選択することによっても達成され得る。

要約すると、これらの用途に好適な材料は、以下の特性を有しなければならない：
− 用途に依存して、４０００Ｇから１３０００Ｇ超の２０℃における誘導Ｂｓ、
− Ｈｃ＜７５ｍＯｅ（好ましくは＜３７ｍＯｅ）、および
− 電気抵抗ρ_ｅｌ＞６０μΩ．ｃｍ（好ましくはρ_ｅｌ＞７０μΩ．ｃｍ）。

ある種の用途において、磁化曲線における屈曲部までのＢ−Ｈ磁化曲線の線形性も望ましい。この線形性は、飽和接近帯域におけるＢ_ｒ／Ｂ_ｍ比、すなわち、残留誘導対測定誘導の比により特徴づけられる。Ｂ_ｒ／Ｂ_ｍ＜０．３の場合、線形性は、局在ギャップをもたない磁気コアを有するこれらの特定の用途において利用可能になる。

本発明による合金は、これらの特性全てが達成されることを可能にする。

これらの用途に好適な組成は、磁気高調波センサの製造にも好適である。

この用途において、高い透磁率および低い保磁力を有する材料は、半残留磁気材料の比較的高い磁気分極を受ける−この材料の磁化状態（磁化された、消磁された、または部分的に磁化された）は、その分極によって軟質材料に伝達される情報または警告に対応する。この軟質材料は、外部磁界によって中周波において励起され、軟質材料が、それぞれ、消磁された、部分的に磁化された、または磁化された半残留状態下にあるかどうかに依存して、放射される基本波の高調波を全く生成しない、ほとんど生成しない、または多く生成する。したがって、高調波の検出振幅は、半残留状態の分極レベルのイメージである。

例えば、図書館において、この装置はそれぞれの保存される本のカバー中に磁化された状態で滑り込ませられる。本が借りられるとき、それは登録されると同時に、検査ゲート出入口を通って邪魔されることなく通るように消磁される（高調波放射は無い）。その本が特別の装置によって消磁されなかった場合、本が検出出入口下の出口に向かって通る際に、高レベルの高調波放射が警告信号を鳴らして作動させる。

このようなパルスに動的に反応するには、高い動的磁化性能、すなわち、高電気抵抗、非常に薄い帯鋼厚さ（通常５０μｍ未満、好ましくは３０μｍ未満）、および低い保磁力（通常６３ｍＯｅ未満、好ましくは２５ｍＯｅ未満のＨ_ｃ）が必要である。この保磁力はまた、磁気−高調波センサの感度を一次に制御し、Ｈ_ｃが低いほど励磁アンテナからさらに離れて作動させることを可能にする。保磁力は、組成の範囲の点で最も制約する特性であり、組成はこの理由のために銅に関して限定されなければならない。

要約すると、これらの用途に好適な材料は以下の特性を有しなければならない：
− Ｈｃ＜６３ｍＯｅ（好ましくは＜２５ｍＯｅ）［中周波での励起場に対する良好な感度のセンサを有すること、および動的ヒステリシスを制限すること（したがって、動的磁化性能を高める）の両方ために］、
− 電気抵抗ｒ_ｅｌ＞６０μΩｃｍ（好ましくはｒ_ｅｌ＞８０μΩ）（中周波での外部励起に対する良好な動的応答を有するために）。

本発明による合金は、これらの特性全てを得ることを可能にする。

モータおよび電磁アクチュエータ
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下：
０．０５％≦Ｍｎ≦２％
Ｃ≦０．１
Ｅｑ２≧１．５
Ｅｑ３≧１７５
Ｅｑ４≦７（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦１０（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ５≦１０．６（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦１３．６（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ６≧１６４
Ｅｑ７≧１６０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］
のようであり得る。

この組成は、モータおよび電磁アクチュエータの製造のためにより特定的に好適である。

好ましくは、所望の目的は、いずれの種類の工業的非酸化性雰囲気、例えば、不活性ガス、Ｈｅ、Ｈ_２、Ｎ_２、ＮＨ_３などにおいても良好な磁気性能を得て、それによりチタン含量を、好ましくは＜３０ｐｐｍＴｉ、好ましくは＜２０ｐｐｍＴｉに、可能な限り減少せしめる能力である。

本発明により製造され得るモータおよび電磁アクチュエータは、中から高容量出力、高い移動精度、低い損失および低いコストを有する。

この用途の範囲内には、高電気抵抗および低磁気損失を有する軟磁性材料からできている可動部分［回転システム（モータ、アクチュエータ、同期レゾルバ、リラクタンストルクセンサ、ホイールモータなど）のためのロータ、または並進運動システム（リニアモータ、ソレノイドバルブ、インジェクタ、無カム型衝撃リニアアクチュエータなど）のための電機子もしくはコア］、ならびに磁化磁性材料を含む静的部分から構成される全ての非分極化電磁気装置が含まれる。

本発明による装置は、特に以下の特徴を有する：
− かなり小さいから非常に小さい寸法（アクチュエータまたはセンサまたはモータの出力が高いほど、高い飽和を有する材料を有することがより重要であることを理解して、用途において移送される出力に依存する）。これは５０００Ｇを超える飽和誘導を意味する、
− 低エネルギー損失（または良好なエネルギー効率）［高電気抵抗（＞７０μΩ．ｃｍ）、低Ｈｃ（＜１２５ｍＯｅ）および非常に高いＤＣ透磁率（＞５０００μ_０）のため］、および
− 可動部分を配置する際の良好な精度［一方向性または回転動的ヒステリシス効果（Ｈ_ｃ＜１２５ｍＯｅ、好ましくは＜７５ｍＯｅによって得られる）を大きく減少させることによって］。この特性は、レゾルバおよび同期レゾルバ、およびさらに一般的に、低いギャップリラクタンスを有する全ての回転システムに関して、可変リラクタンストルクセンサの場合に最も特に重要である。

この種類の用途において、磁気ヨークは、一方向磁気作動を有するシステム（ソレノイドバルブ、電子噴射、無カムアクチュエータ、ガス安全作動など）において、巨視的誘導電流、磁気損失および動的ヒステリシス効果を最小にすることを可能にする非常に薄い厚さ（＞０．１ｍｍ、好ましくは０．１５ｍｍ）を有して、切断部品を積み重ねることによって構成され得、最終焼きなまし前の引抜き／成形／加圧成形／機械加工などによる最終ヨークの形態で作られた厚い板またはワイヤがむしろ使用される。

回転磁界で作動する装置の場合（例えば、回転方式）、合金がその磁気性能の最良の等方性を有することが好ましく、そうではなければこれは、回転段階に依存したトルク振動（モータの場合に）、可動部分の位置に依存した磁気リラクタンス変動（同期レゾルバ、リラクタントトルクセンサなどの場合に）を誘導する。この問題は、結晶学的組織を発生させない回転／焼きなまし順序を用いることによってか、または例えば、｛１００｝＜０ｖｗ＞もしくは｛１１１｝＜ｕｖｗ＞組織の「平面」タイプ組織を発生させることによってのいずれかで解決される。

ガス加熱システム（例えば、水ヒーター）における家庭のガス漏れを防止するために使用されるもののような非分極性電磁安全アクチュエータ装置の場合、この装置は、低いトリップ電流および低い放出電流（およびまた、これらの電流間の小さい差）を有しなければならず、これは必然的にアクチュエータの磁気ヨークと可動コア間の低い保磁力（上記参照）および小さいギャップを含むが、しかしまた、非常に小さいギャップでさえ放出を確実にするために、トリップ電流と放出電流間の差を減少させるために、および装置の性能における製造変動を減少させるために、低い残留磁気も含む。特に、この用途の場合、Ｂ_ｒ／Ｂ_ｍａｘ＜０．５、好ましくは＜０．３（少なくとも３Ｈ_ｃに等しい磁界のための誘導Ｂ_ｍａｘ）を有することが望ましい。

本発明による合金は、これらの特性全てを達成することを可能にする。

時計モータ用の固定子
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下：
０．０５％≦Ｍｎ≦２％
Ｃ≦０．１
Ｃｏ≦１．８％
Ｏ＋Ｎ≦０．０１％
Ｅｑ２≧１．５
Ｅｑ３≧１７５
Ｅｑ４≦７（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦１０（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ５≦１０．６（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦１３．６（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ６≧１６４
Ｅｑ７≧１６０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］
のようであり得、合金は以下の関係：
０．０００２≦Ｂ≦０．００２％
０．０００８≦Ｓ＋Ｓｅ＋Ｓｂ≦０．００４％
０．００１≦Ｃａ＋Ｍｇ≦０．０１５％
の少なくとも１つをさらに満たす。

この組成は、時計モータ（特にステッパタイプの）用固定子の製造により特定的に好適である。

好ましくは、所望の目的は、いずれの種類の工業的非酸化性雰囲気、例えば、不活性ガス、Ｈｅ、Ｈ_２、Ｎ_２、ＮＨ_３などにおいても良好な磁気性能を得て、それによりチタン含量を、好ましくは＜３０ｐｐｍＴｉ、好ましくは＜２０ｐｐｍＴｉに、可能な限り減少せしめる能力である。

この種の用途について、この目的は、特定数の特性をなお満足させながら、低コストの合金を提供することである。

第１の目的は、低い工具磨耗および高い切削レートを可能にする、孔開け、型打ちまたは任意の他の適切な加工による合金帯鋼の良好な切削性を有することである。特に、この金属は、型打ちによる高速切削に好都合な金属の十分な機械的硬度を維持するように、硬化されたまたは磨かれた状態で製造業者によって供給される。しかし、この硬度は、再度研ぐまたはそれを置換しなければならい点まで、相当のバリを作ることなく、かつ切削ダイ、および特に、切削パンチを摩滅させることなく、数十万の固定子部品を切断するには十分ではない。これを達成するためには、パンチとダイの間に、切削加工中に「点線に沿う切削」の機能を有するある種の精細な介在物を金属中に挿入することも必要である。さらに、この精細な介在物は、磁気特性を最適化するためにその後の高温焼きなましの間に取り除くことができなければならない。これが、この用途のために意図される本発明による合金が８から４０ｐｐｍのＳ、Ｓｅ、Ｓｂならびに／あるいは２から２０ｐｐｍのおよび／または１０から１５０ｐｐｍのＣａ、Ｍｇを取り込む理由である。

次の目的は、６０℃で４０００Ｇを超える、しかし好ましくは７０００Ｇ未満ではなければならない飽和誘導Ｂ_ｓを有することである。

この目的はまた、その公称出力で使用される場合、すなわち、その固定子の磁性合金がその材料のＢ−Ｈ磁化における屈曲部に近接して働く場合、腕時計モータの電力消費を最小にすることである。

これを行うために、それ未満では機械的強度がもはや十分ではない、最小０．４ｍｍに限定された固定子厚さに関して、該合金は、腕時計にはめ込まれる前に７０μΩ．ｃｍ、好ましくは８０μΩ．ｃｍより大きい電気抵抗、および１２５ｍＯｅ未満、好ましくは７５ｍＯｅ未満の低い保磁力を有しなければならない。

さらに、腕時計の電力消費は、周囲温度が上昇するとき著しく増加してはならない。これは、温度が増加するときにそのワーク磁化が低下する場合、その回転子の半回転の回転で最小のトルクを常に与えるために、エネルギー発生器は、固定子の磁化レベル、およびしたがって回転子に適用される駆動トルクを保持するためにより多くのエネルギーを供給しなければならない。したがって、高温雰囲気で使用されている腕時計の場合、その消費は実質的に増加する。

したがって、周囲温度が上昇する場合に電力消費を制御するために、飽和磁化Ｊ_ｓがこの時計の潜在的動作範囲、主に−４０℃から＋６０℃の範囲内で安定のままであることが必要である：このような特徴は、該合金のキュリー点Ｔｃが１００℃に等しいかまたはそれを超える場合に自動的に得られる。

別の目的は、良好な耐食性を有することである。これは、固定子の磁気部品が、一旦それらが磁気性能を最適化するために切断され熱処理を受けると、保存され、輸送され、次いで、開放空気中で腕時計機構部分の中にはめ込まれるからである。これらのはめ込み操作は、高レベルの大気腐食、特に塩タイプの腐食または大気汚染（硫黄、塩素など）によるものが存在する国においてますます行われるようになっている。

耐酸腐食性に対する要求は、腕時計の所望の品質および所望の寿命に依存して変化する。これは、腕時計の寿命が大気腐食による固定子合金の明らかな劣化に対する時間を超えないからである。時計モータが「スイス製」または「日本製」と呼ばれる有名製造地帯についての品質でできている場合、腕時計は、数年持ちこたえるように製造され、腕時計合金は、この期間にわたって著しく腐食してはならない。それが最高級時計モータまたは特にモータの可視部分を有する透明腕時計である場合、モータは原則としてヒトの寿命の間全く問題なしに作動しなければならない。

次いで、耐腐食性の様々なレベルは以下のようであり得る：
− 最低級時計機構部分：最小耐食性（Ｉ^ｏｘ _ｍａｘ≦５ｍＡ）
− 「スイス製」または「日本製」タイプの品質時計機構部分：中間耐食性（Ｉ^ｏｘ _ｍａｘ≦３ｍＡ）、および
− 可視作動時計機構部分（透明腕時計）または生涯保証：高性能耐食性（Ｉ^ｏｘ _ｍａｘ≦１ｍＡ）。

パワーエレクトロニクス用の誘導子およびトランス
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下：
Ｃｕ≦１０％
０．０２≦Ｍｎ
Ｃ≦０．１
Ｅｑ２≧１．５％
Ｅｑ３≧１８９
Ｅｑ４≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ５≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ６≧１７３
Ｅｑ７≧１８５
のようであり得る。

この組成は、パワーエレクトロニクス用の誘導子およびトランスの製造により特定的に好適である。

パワーエレクトロニクスまたは任意の他の中周波エネルギー変換システム（数百Ｈｚから数百ｋＨｚで動作）において使用されるパッシブ磁気構成部品の磁気回路は、しばしば電源装置の大きい部品を構成する平滑誘導子またはトランスの使用が必要である。

これらの構成部品を設計する場合、用いられる軟質磁気材料による容量減少の達成できる可能性を決定するのは、磁気コアの飽和磁化のみではなく、ジュール熱を介する導体損失、および全体の構成部品で発生したまたはそれにより消散した磁気損失である。

したがって、貯蔵インダクタンスまたは平滑タイプのパッシブ磁気構成部品、またはパワートランスの良好な磁気コアは第１に、通常約１００−１２０℃である動作温度において高い飽和誘導を有さなければならないことになる。したがって、この目的は、４０００Ｇに等しいかまたはそれを超える飽和誘導Ｂ_ｓ ^１００℃を有することであり、これは２０℃における飽和誘導、すなわち、８０００Ｇを超えるＢ_ｓ ^２０℃、あるいは１５０℃に等しいかそれを超えるキュリー点Ｔｃに相当する。

これは、最大５０μｍの金属厚さについて、６０μΩ．ｃｍを超える、好ましくは１００μΩ．ｃｍを超える１００℃での電気抵抗、および７５ｍＯｅ未満、好ましくは３７．５ｍＯｅ未満の１００℃での保磁力Ｈ_ｃを特徴とする低い動的ヒステリシスに相当する、動作温度での低い磁気損失も有しなければならない。したがって、この要件は、７５ｍＯｅ以下、好ましくは３７．５ｍＯｅ以下の２０℃での保磁力Ｈ_ｃに対してのみである。これは、温度がキュリー点に近づくと、軟質磁性材料の温度とともにＨ_ｃが減少し、したがって、１００℃における性能は、２０℃における性能が保証された場合になお確かに得られることは当業者によく知られているからである。

さらに、本発明による合金の残留損失は、金属合金の高い熱伝導およびこれらの高度に延性の磁気ヨークの非常に高い成形性および加工性のために、これらの損失を消散させるより良好な性能によって補償され得、冷却回路のそこへの容易な取り付けまたは磁気回路に複雑な形状を与えることを可能にする。

バイメタル帯鋼
別の好ましい実施形態において、合金はさらに以下：
Ｎｉ≧３０％
０．０２≦Ｍｎ
Ｃ≦０．１
Ｅｑ２≧１．５
Ｅｑ３≧１８９
Ｅｑ４≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ５≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ６≧１７３
Ｅｑ７≧１８５
Ｅｑ８≧３３［ここで、Ｅｑ８＝Ｎｉ＋Ｃｕ−１．５Ｃｒ］
のようであり得る。

この組成は、バイメタル帯鋼の製造により特定的に好適である。

この用途において、異なる膨張係数を有する狭いギャップの帯鋼形態にある２つの材料の密接した結合のために、温度の変化は、バイメタル帯鋼の変形、または他端は所与の位置に保たれたままのバイメタル帯鋼の端部の上昇、またはバイメタル帯鋼の自由端によって発揮される力、のいずれかに変換され得る。

バイメタル帯鋼部品は、多層材料の電気抵抗およびそのたわみによる過電流センサ、バイメタル帯鋼がたわみ、次いで電気回路を切断することによる温度センサ、あるいはバイメタル帯鋼の様々な構成要素の不均衡な膨張により生じた力による熱機械アクチュエータとして働き得る。全ての場合に、バイメタル細片の作用は、そのたわみを介して起こり、その増幅は、バイメタル細片の２つの外部の構成要素間の膨張係数の差に比例している。所与の細片厚さおよび／または所与の温度差に対する膨張係数の差が大きいほど、バイメタル帯鋼アクチュエータの感度はより高い。

したがって、この目的は、広い温度範囲にわたって使用を可能にするために、７×１０^−６／℃を超えない、好ましくは５×１０^−６／℃を超えない、２０℃から１００℃の間で平均膨張係数α_{２０−１００}、および同時に、１０×１０^−６／℃を超えない、好ましくは８×１０^−６を超えない平均膨張係数α_{２０−３００}をもつ材料を有することである。

熱源がバイメタル帯鋼を通って流れる電流から由来する場合の別の重要なパラメータは、電気抵抗ρ_ｅｌである。したがって、高い平均電気抵抗を有するバイメタル帯鋼はより多く温まり、低い電気抵抗を有するバイメタル帯鋼より高い温度に上昇する。これは、同じ比率でのバイメタル帯鋼のたわみ振幅、または同じ比率でのバイメタル帯鋼アクチュエータの力のいずれかを生じる。さらに、電気抵抗は、熱伝導性に逆比例しており、これにより温度の均一化性、したがって、バイメタル帯鋼の動的応答を確実にする。

したがって、７５μΩ．ｃｍを超える、好ましくは８０μΩ．ｃｍを超える、２０℃での電気抵抗ρ_ｅｌを有する材料が求められている。

さらに、低および高膨張係数を有する層間に、銅またはニッケルなどの第３の金属層を加えながら、膨張係数を変えることなく様々な抵抗／伝導性の妥協値を調整することが可能である。

さらに、膨張特性の良好な温度安定性を維持するために、１６０℃に等しいかそれを超える、好ましくは２００℃を超えるキュリー点Ｔｃをもつ材料を有することが必要である。

この高いキュリー点、この低い膨張係数およびこの高い電気抵抗を得るために、本発明による合金が３０％を超えるニッケルを有すること、および以下：
Ｅｑ８＝％Ｎｉ＋％Ｃｕ−１．５％Ｃｒ≧３３
によって規定される等式８を満たすことが必要である。

時計モータコイルコアおよび高感度電磁継電器
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下：
０．０５％≦Ｍｎ≦２％
Ｃ≦０．１
Ｅｑ２≧２
Ｅｑ３≧１９５
Ｅｑ４≦２（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦６（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ５≦２（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦６（Ｎｉ＞３２．５の場合）
Ｅｑ６≧１８０
Ｅｑ７≧１９０
のようであり得る。

この組成は、時計モータコイルのコアおよび高感度電磁継電器の製造により特定的に好適である。

好ましくは、所望の目的は、いずれの種類の工業的非酸化性雰囲気、例えば、不活性ガス、Ｈｅ、Ｈ_２、Ｎ_２、ＮＨ_３などにおいても良好な磁気性能を得て、それによりチタン含量を、好ましくは＜３０ｐｐｍＴｉ、好ましくは＜２０ｐｐｍＴｉに、可能な限り減少せしめる能力である。

腕時計の低電力消費の一般的な目的とともに、腕時計磁気回路を磁化することが意図される磁界は、最小電流で、すなわち、最大巻き数の励起コイルで発生されなければならず、これは、コアの横断面を減少させ、その上にできるだけ多数のコイルを置くために、非常に細いワイヤおよび高磁束を有する磁気コアを使用することを意味する。

したがって、磁束が材料の横断面で乗じた磁化の積であるので、コアの磁性合金では必ず、高い磁気飽和を働かせなければならない。したがって、１００００Ｇを超える２０℃での飽和誘導Ｂ_ｓを有する合金が求められている。

該合金は、磁気損失を減少させ、したがって、腕時計の電力消費を制限するために、低い保持力Ｈ_ｃおよび高い電気抵抗も有しなければならない。したがって、１２５ｍＯｅ未満、好ましくは７５ｍＯｅ未満である２０℃での保持力Ｈ_ｃおよび６０μΩ．ｃｍ、好ましくは８０μΩ．ｃｍを超える電気抵抗ρ_ｅｌを有する合金が求められている。

さらに、この用途のために意図される本発明による合金は、好ましくは、良好な切削性を有し、したがって、８から４０ｐｐｍのＳ、Ｓｅ、Ｓｂならびに／あるいは２から２０ｐｐｍおよび／または１０から１５０ｐｐｍのＣａ、Ｍｇを場合によって取り込み得る。

本発明による合金は、これらの特性全てを達成することを可能にする。

好ましい実施形態において、本発明による合金は、１３０００Ｇを超える飽和誘導Ｂ_ｓを有し、したがって、それらの組成は、等式９：
Ｅｑ９≧１３０００［ここで、Ｅｑ９＝１１００（Ｎｉ＋Ｃｏ／３＋Ｃｕ／３）−１２００Ｃｒ−２６０００］
を満たさなければならない。

腕時計モータコイルコアを製造するために好適な組成は、高感度電磁継電器の製造にも好適である。

電磁継電器は、電気的に制御された機械アクチュエータであり、ここで、一般に製造／成形の容易さおよび低コストのためのソリッドヨークである磁性ヨークは、一片の材料によって、およびヨーク脚の一端のスイッチング位置で遮断される。「開」状態および「閉」状態間のスイッチングのためのスイッチング位置は、バネ（ヨークの外側に置かれ、ヨーク脚の周りに可動電機子ピボットを作ることによって磁気回路を開ける傾向がある）の機械的復元力と、静止時に、その電機子上の磁石による磁化ヨークのまさに磁気引力からなる電磁気力との間の均衡の結果生じる。

外部事象から生じ、機械信号に変換されなければならない電流がそれを通って流れる場合、磁気引力の振幅を減少させるヨークに対する電機子の反発力のために、反発磁気力が加えられるように、コイルはヨークの一方の脚の周りに巻かれる。したがって、コイルにおける電流の増幅に依存して、この反発力は、バネの作用がそれを移動させ、継電器を開かせ、機械的システムを作動させるのに十分なレベルを達成し得る。特に電気回路遮断器が作動するのはこの原理に基づく。

この種の継電器が高感度で作動するために、コイルを通る電流Ｉにおける小さい変化が、反発力における大きい変化を引き起こすことが必要であり、継電器の適切なプレセットを可能にするために、この挙動が十分に広範な電流範囲にわたって比例的であることも必要である。これは、静止における継電器の動作基点を中心とした非常に線形なＢ−Ｈ誘導範囲内の高い透磁率要件を規定することを意味し、このことは、所与の作動周波数に対して、磁石によって分極化された継電器の磁化に相当する。

材料の飽和誘導Ｂ_ｓが高いほど、電流Ｉの作用下のヨークにおける誘導の変動は高くなり、継電器の感度は高くなり、かつ所与の動的透磁率におけるその出力は高くなる。１００００Ｇを超える、好ましくは１３０００Ｇを超える２０℃での飽和誘導Ｂ_ｓ、および６０μΩ．ｃｍを超える、好ましくは７０μΩ．ｃｍを超えるより高い電気抵抗ρ_ｅｌにより得られる良好な磁化動的範囲、および１２５ｍＯｅ未満、好ましくは７５ｍＯｅ未満の低い保磁力Ｈｃ（２０℃での）を有することも必要である。

さらに、継電器はしばしば非密閉包装により保護され、それらを周囲の外気［これは、潜在的に高温、湿ったまたは酸化性（Ｃｌ、Ｓなど）であり得る］中に置かれるので最小の腐食の耐性が必要とされる一方で、その磁気性能においてドリフトがないことによるトリッピング条件の再現性を保証するために、数年に及ぶその動作中の金属の非酸化状態が重要である。Ｉ^ｏｘ _ｍａｘが５ｍＡ未満、好ましくは３ｍＡ未満、またはさらに１ｍＡ未満のままであることが必要である。

非接触温度測定および温度−上昇異常検出のための装置
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下：
Ｃｕ≦１０％
０．０２≦Ｍｎ
Ｃ≦１％
Ｅｑ２≧０．４
Ｅｑ３≧１４０
Ｅｑ４≦１０
Ｅｑ５≦１３．６
Ｅｑ６≧１４０
Ｅｑ７≧１２５
のようであり得る。

この組成は、非接触温度測定または温度−上昇異常検出のための装置の製造により特定的に好適である。

非接触温度測定（可逆的磁気現象を用いる実時間における測定）または非接触温度上昇異常測定（可逆的現象を用いる帰納的測定、しかし、監視プロセスの終了時にラベルをリセットすることができる）のためのラベルの磁気部分は、温度および周囲の磁界に関して安定化される配置にある磁気軟質材料（「該合金」）および永久磁化（ＰＭ）磁性材料などの非常に異なる材料を同時に使用する。この温度監視は、ラベルのまさにその原理によって、軟質磁性合金のキュリー点の直ぐ下および付近の温度範囲で行われる。

この用途において、例えば、薄いＦｅＮｉ合金または非晶質合金などの、断面Ｓ_２を有する非常に高い透磁率の材料のプレートに結合された断面Ｓ_１のＰＭ材料のプレートを、その２つの材料間の小さいギャップｄを空けて用いることが可能である。このＰＭ材料は、隣接する軟質磁性材料の磁気分極子として働く。さらに、キュリー点Ｔ_ｃを有する本発明による合金からできている第３のプレートは、ＰＭ材料の他の側に、あるいはＰＭ材料と高透磁率材料間のいずれかに置かれるが、ギャップｄによってそれらから隔てられている。

周囲温度が本発明による合金のキュリー点Ｔ_ｃに近づくと、それは少ししか磁化されず、ＰＭ材料の磁束は、Ｔ／Ｔ_ｃ比に依存して増加する磁化レベルに分極される高透磁率材料に殆ど密集する。

したがって、高透磁率材料を遠隔アンテナからの中周波領域で励起することによって、磁化の変化ΔＪは、分極磁化Ｊ_１の周りに生じ、Ｊ_１は、Ｓ_１、Ｓ_２およびｄの選択によって、この目的のために前もって最適化されているので、この材料は高調波を強く放射する。

例えば、冷房装置、ワインセラー温度、［腐敗しやすい食品（冷蔵保存されるか否かにかかわらず）、魚および肉コンテナ、血液製品および血液製剤］の保存および輸送、または［非−消耗熱腐敗性有機物質（植物、花、移植用に取り出されたヒト臓器など、細胞培養物および病原菌もしくは細菌培養物、ポリマー、巨大分子のバッチなど）］の保存および出荷などの、消耗製品の温度を監視する多くの用途の場合、実用的なキュリー点は、−５０℃から４００℃、特に−３０℃から＋１００℃にあることが望ましい。このキュリー点は、最大４００℃に限定され、好ましくは−３０℃から１００℃である。

一方で、中周波での励起磁界に対するセンサの高感度、他方で、高電気抵抗（＞６０μΩ．ｃｍ、好ましくは＞８０μΩ．ｃｍ）と好ましくは薄い材料厚さとを組み合わせることによるセンサの大きい動的範囲を得るために、十分に低い保磁力（＜７５ｍＯｅ、好ましくは＜３２．５ｍＯｅ）が求められている。この低い保磁力に対する制限により、最大ニッケル含量３４％とともに、銅含量が最大１０％、好ましくは６％未満に限定されることが必要となる。

この目的はまた、合金が工業的雰囲気において様々な媒体および／または成分としばしば接触しているので、最小の腐食および酸化耐性を有することである。これらの用途において、高温酸化性雰囲気における酸化表面層の良好な耐水腐食性（Ｉ_ｏｘ＜５ｍＡ）、良好な耐塩水噴霧腐食性および良好な機械的安定性（接着性＋耐磨耗性）によって示される合金の良好な化学安定性に対する要求がしばしばある。

本発明による合金は、これらの特性全てを達成することを可能にする。

エピタキシー用高組織化基板
別の好ましい実施形態において、合金は、さらに以下：
Ｍｎ≦２％
Ｓｉ≦１％
Ｃｕ≦１０％
Ｃｒ＋Ｍｏ≦１８％
Ｃ≦０．１
Ｔｉ＋Ａｌ≦０．５％
のようであり得、合金は、以下の関係：
０．０００３≦Ｂ≦０．００４％
０．０００３≦Ｓ＋Ｓｅ＋Ｓｂ≦０．００８％
の少なくとも１つをさらに満たす。

さらに、０．００３から０．５％のニオブおよび／またはジルコニウムを添加することが好ましい。

これらの組成は、エピタキシー用高組織化基板の製造により特定的に好適である。

多くの用途では、可能な限り組織化されている多結晶材料、すなわち、可能ならば、できるだけ最も強調された一成分組織を有する材料の薄いフィルムの成長が必要とされる。

「一成分組織」という用語は、ミラー指数で［ｈｋｌ］（ｕｖｗ）によって示される意図された理想の配向を囲む立体角（円錐半角ωを有する）内にそれら全てが位置するような、多結晶の結晶学的配向の非ランダム分布を意味すると理解される。ωは、平均組織結晶方位差と呼ばれ、測定が圧延面内または該面の外であるかどうかに依存する様々な値を取り得る。

これらの溶着材料は、例えば、Ｙ−Ｂａ−Ｃｕ−Ｏ型酸化物の場合の超伝導などの特有の物理特性を有する。

これらの特性は、粒界において低い欠陥密度が存在することによって非常に大きく改善され、これは、隣接する結晶間の低い結晶方位差（ｍｉｓｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ ａｎｇｌｅ）（強調された組織の役割）、および同じ組織結晶方位差の欠陥の体積密度を減少させるための約数十ミクロンの結晶粒サイズによって生じる。

これらの高度に組織化された多結晶被覆を得るために、非常にしばしば用いられる方法の１つは、溶着（ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ）生成物のものに極めて近い格子パラメータ、できるだけ強調された一成分組織、溶着酸化物の形成により必要とされるあり得る酸化焼きなまし操作中の良好な耐酸化性、ならびに焼きなまし中にクリープを起こさないため、および最終製品の加工（コイリング、巻取り、引張りなど）に耐えるための最小機械強度を有して、それ自体高組織化されている基板上の気相エピタキシーまたは液相エピタキシーである。

したがって、この高組織化基板の必要とされる特有の使用特性は特に、双晶の表面部分、ならびに理想［１００］（００１）立方晶配向から１５°未満、好ましくは１０％未満、好ましくは５％未満の結晶方位差、およびまた、｛１００｝＜００１＞立方晶組織の主な成分からの１０°未満、好ましくは７°未満の結晶方位差ωで中心に置かれた配向から異なる他の配向の存在である。

最終用途に依存して変わり得る、２０℃から１００℃の間の平均熱膨張係数および２０℃から３００℃の間の平均熱膨張係数を有することも望ましい。したがって、高温で行われる基板上への溶着の間に、溶着フィルムが、生成物が周囲温度に戻るときに、圧縮状態にあることが必要条件であり得る。したがって、２０℃と溶着温度間で、溶着材料の膨張／収縮に依存する非常に様々なレベルに調整される膨張係数を選択できることが必要である。

最後に、キュリー点はこの特性に対して限定されず、ある種の超伝導用途において、基板が使用温度、すなわち、７７Ｋで、できるだけ少ない磁性であることがはるかにさらに好ましい。

（実施例）
本発明の文脈において、以下の略語が使用される：
Ｉｎｖ．：本発明による試験、
Ｃｏｍｐ．：比較試験、
ＮＣＯ：実施されない試験、
ＳＦＣ：塩水噴霧腐食に対する感度、
ＭＷ：酸化性工業的雰囲気における合金の酸化表面層の機械的磨耗に対する抵抗性、
Ｂ_ｓ ^２０℃：２０℃で測定して、ガウスで表した飽和誘導、
Ｂ_ｓ ^６０℃（Ｇ）：６０℃で測定して、ガウスで表した飽和誘導、
Ｔ_ｃ：℃で表した、材料のキュリー点、
Ｈ_ｃ：ｍＯｅで測定した、２０℃における保磁力、
Ｉ^ｏｘ：ｍＡで測定した、最大負荷電位（ｉｍｐｏｓｅｄ−ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）、
Ｂ_ｒ／Ｂ_ｍ：飽和近接帯域における残留誘導Ｂ_ｒ対測定誘導Ｂ_ｍの比、
α_{２０−１００}：２０から１００℃の間で測定して、１０^−６／℃で表した材料の平均膨張係数（「膨張率」とも呼ばれる）、およびα_{２０−３００}：２０から３００℃の間で測定して、１０^−６／℃で表した材料の平均膨張係数、およびα_{２０−７７Ｋ}：７７Ｋから２０℃の間で測定して、１０^−６／℃で表した材料の平均膨張係数、
ρ_ｅｌまたはρ（ｅｌｅｃ）：μΩ．ｃｍで測定した、２０℃での電気抵抗、
μ_ｍａｘ ^ＤＣ：自由空間（したがって無次元、すなわち単位を有しない）の透磁率μ_０（＝４π×１０^−７）との比較で測定した、最大相対ＤＣ透磁率、および
ω：°（度）で測定した、平均組織結晶方位差。

試験および測定
本発明による合金を試験するために、所望の組成で５０ｋｇインゴットの形態で、真空誘導溶融によって、種々の合金組成物を作製した。次いで、この材料を１０００から１２００°で鍛造し、４．５ｍｍの厚さに１１５０から８００℃で熱間圧延し、化学的に酸洗いし、次いで、中間の焼きなましをすることなく０．６ｍｍに冷間圧延した。それらの合金全てを、例えば、膨張係数、Ｔ_ｃ、Ｉ^ｏｘ _ｍａｘ、およびＪ_ｓの測定のためのものならびにワッシャ（径で２５×３６ｍｍ）などの種々の試験片に切断した後、この段階で少なくとも特徴づけした。

次いで、異なる試験を実施した。

耐塩水噴霧腐食性またはＳＦＣ
ＳＦＣを測定するために、合金の薄板を、９５％相対湿度を有し、かつ塩（ＮａＣｌ）で飽和した雰囲気の塩水噴霧環境室中に２４時間投入した。次いで、この板をアルコールですすぎ洗いし、次いで、いずれかの点食（ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ ｐｉｔｔｉｎｇ）がないか観察する。次いで、このピクリング（ｐｉｃｋｌｉｎｇ）の密度および大きさを３つの敏感レベルに関して評価する：
０ ：（塩水噴霧腐食に対して）敏感ではない、
− ：わずかに敏感、
−− ：敏感、および
−−−：非常に敏感。

表面酸化物層の機械的磨耗またはＭＷ
ＭＷを測定するために、０．６ｍｍ厚さの湿式硬化金属を最初に、露点が−３０℃であるような純水素および水蒸気中、１１００℃の温度で３時間焼きなましする（工業焼きなましのシミュレーション）。次いで、このように焼きなましした２枚の板を、１０ｃｍ^２の面積上１ｋｇに等しい圧力を与える均一に分布した重量下に積み重ねる。次いで、他方に対して一方の板の中間長まで１００回の前後摺動運動を実施し、次いで、表面の磨耗を、金属の表面検査後、３つのレベルの耐磨耗性を用いて観察する：
− ０ ：低い耐磨耗性、
− ＋ ：平均的な機械的耐磨耗性、および
− ＋＋：非常に良好な機械的耐磨耗性。

キュリー点Ｔｃ
Ｔ_ｃを、Ｃｈｅｖｅｎａｒｄ熱磁気計を用いて磁力を測定することによって測定する：試験片を８００℃まで１００℃／時間で加熱し、次いで、同じ速度で室温に冷却する。採用したＴ_ｃ値は、加熱モードのサーモグラフの使用に相当するものである−値Ｔ_ｃを、磁力曲線：ｆ（Ｔ^ｒＢ）の接線から変曲点までκ−軸（偏差＝０）上に外挿する。

耐水溶性酸腐食性Ｉ^ｏｘ _ｍａｘ
腐食性雰囲気または水溶性酸媒体における合金の耐食性は、合金プレート試験片を０．０１Ｍ硫酸浴に浸漬した場合に（該合金が導体を介して白金でできている別のプレート電極に接続されている）、様々な電圧Ｕをかけることによって得られる最大電流を測定することによって決定することができる。したがって、様々な電流Ｉを２個の電極を接続する導体で測定し、次いで、Ｉ（Ｕ）の最大値Ｉ^ｏｘ _ｍａｘを決定する。

プレート間の加電圧でのこの試験によって、導体における電流の変化、特にその最大値は合金がその表面上に安定な酸化物層を形成する性能の正確な測定を与える：Ｉ^ｏｘ _ｍａｘが低いほど、合金の腐食抵抗性は良好である。

膨張係数
平均熱膨張係数は、＜α_２０→Ｔ＞で示される２０℃と温度Ｔ間であるか、または便宜上、α_２０−Ｔは、標準Ｐｙｒｏｓ試験片（正確な組成および正確な膨張を有するＦｅ−Ｎｉからできている）との比較によってＣｈｅｖｅｎａｒｄ膨張計で測定される：温度Ｔの関数として、初期長ｌ_０に関して試験片の伸びΔｌの変化、すなわち、Δｌ＝ｆ（Ｔ）が記録される。２０℃と温度Ｔ_１間の平均膨張係数は、１０^−６／℃（温度当たり相対伸びの百万分の一）で表して、以下：

によって与えられる。

磁気特性Ｈ_ｃ、Ｂ_ｒおよびμ_ｍａｘ ^ＤＣ
これらの特性は、焼きなましされたワッシャについてＩＥＣ４０４−６標準による磁束計で測定される。：ヒステリシスサイクルをプロットすることにより、Ｈ_ｃ、Ｂ_ｒおよびμ_ｍａｘ ^ＤＣの値を決定することが可能である。

（実施例１）
温度自己調節を有する磁気装置
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍで製造して得た。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、脱脂して、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、飽和誘導、キュリー点、耐酸腐食性および２０から１００℃の間の膨張係数を測定するために行った。

これらの試験の結果を表２に示す。

これにより、本発明による合金の一部は、３０％未満のＮｉを含み、例えば、ＳＶ３０２ｍｏｄ−１（Ｔ_ｃ＝１９９℃）などのＩｎｖａｒ（Ｒ）（Ｆｅ−３６％Ｎｉ：Ｔｃ＝２５０℃）のものに非常に近いキュリー点を有し得ることがわかる。したがって、この合金のコストは、ニッケルの一部を銅に置換することによって実質的に減少させられる。さらに、耐水腐食性、耐塩水噴霧腐食性および耐酸化性は、Ｃｕ、ＳｉおよびＣｒの合わせた添加によって改善される。

比較において、銅が３０％Ｎｉ合金に入れられない場合、４０℃程度の低いキュリー点および非常に不良な耐酸腐食性が得られる。

実施例ＳＶ２９８−１において、３０％のＮｉを超えることなく、Ｎｉ、ＣｒおよびＣｕ含量を適切に調整することによって、２０から１００℃の間の高い膨張係数（実施例において１１×１０^−６／℃）を得ることができることも理解され得る。組成の選択は同時にキュリー点も決定する。

（実施例２）
磁束自己調節を有する装置
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍで製造して得た。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、脱脂して、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中で１１００℃において３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、飽和誘導、キュリー点、耐酸腐食性および２０から１００℃の間の膨張係数を測定するために行った。

これらの試験の結果を表４に示す。

本発明による合金の大部分は、所望の耐食性および／または耐酸化性に依存して、２５から２８％のＮｉのみを含む合金について３０℃から約１００℃の範囲のキュリー点を有することが理解され得る。ＳＶ３０２ｍｏｄ−４の反例は、２％を超えるマンガンを含み、ケイ素の存在にもかかわらず、酸化層の耐磨耗性低下を示すので適切であり得ない。

反例ＳＶ２９７−１、反例ＮＭＨＧ−１および反例ＮＭＧＨ−２は、等式２を満たさないので本発明によるものではない。それらのキュリー点温度が、本発明による実施例と違って、３０℃の限界値未満であることを理解し得る。

（実施例３）
制御膨張装置
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍで製造して得た。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、脱脂して、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中で１１００℃において３時間焼きなましした。

膨張係数の測定を−１９６℃から８００℃においてＣｈｅｖｅｎａｒｄ膨張計で行った。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、キュリー点、耐酸腐食性および２０から１００℃の間かつ２０から３００℃の間の膨張係数を測定するために行った。

これらの試験の結果を表６に示す。

最初の２つの試験は、非常に低い膨張係数に対応する。それに続く９つの試験は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＡｓおよびＳｉＣなどの半導体に近い膨張係数を有する。次の７つは、ガラスのものに近い膨張係数を有する。次の６つは、ＬＮＧ（液化天然ガス）タンカーの船倉において７７Ｋで液化ガスを輸送する気密容器としての使用に適合する。

Ｉｎｖａｒ（Ｒ）と比較した実施例３６において、３．５％のＮｉを４％のＣｕおよび少含量のＳｉおよびＣｒと置換することにより、２０から１００℃の間で３×１０^−６／℃未満の膨張係数を維持することが可能になることが明らかであり、これは、高解像度陰極線管スクリーンのシャドーマスク、自動車の圧電燃料噴射アクチュエータ支持材、炭素繊維でできた航空部品のバルク鋳物などの、コストおよび室温付近の膨張の両方が制限されることを要し、およびまた、非常にわずかに還元性の雰囲気またはさらに酸化性雰囲気における工業的焼きなましで少ししか酸化しない材料を要する多くの用途に十分であり、保護ガス雰囲気を使用しないで済ますことを可能にし、したがって、工業的処理を単純化する。

Ｎ４２と比較した実施例ＳＶ３１８−６において、８％のＮｉを６％のＣｕおよび２％のＣｒおよび少量のＳｉと置換することにより、２０から３００℃の間で６×１０^−６／℃を超えない膨張係数、およびさらに、２０から１００℃の間で等しい膨張係数を維持することが可能になることが明らかであり、これは、コストおよび、集積回路支持材などの、周囲温度を超える１００から３００℃の範囲の制限温度において半導体材料と接触後の膨張の両方が制限されることを要する大部分の用途に十分である。

鉛ソーダガラスタイプのガラスとのその膨張適合性のために用いられた、Ｎ４２６と比較したこの表の実施例ＳＶ３０４−４および実施例ＴＤ５６１−３において、１４％のＮｉを７から１０％のＣｕならびに少量のＳｉおよびＣｒと置換することにより、２０から１００℃の間で約７×１０^−６／℃および２０から３００℃の間で１１．５×１０^−６／℃の膨張係数を維持することが可能になることが明らかであり、これは、室温を超える１００から３００℃の制限温度範囲内で、コストおよび、これらのある種のガラス、アルミナ、酸化ベリリウム、ＧａＡｓなどのある種の半導体などと接触後の膨張の両方が制限されることを要する多くの用途に十分である。

Ｎ４８５と比較した、この表の実施例ＴＤ５２１−４において、２０％Ｎｉを６％Ｃｕおよび２％未満のＣｒおよび少量のＳｉと置換することにより、２０から１００℃の間で約９．５×１０^−６／℃および２０と３００℃との間で１１．９×１０^−６／℃の膨張係数を維持することが可能になることが明らかであり、これは、室温を超える１００から３００℃の制限温度範囲内で、コストおよび、これらの高度に膨張性のガラス、ＺｒＯ_２、フォルステライトなどと接触後の膨張の両方が制限されることを要する多くの用途に十分である。

ＬＮＧタンカーにおいて、巨大な液化ガス容器が、特に容器の三重溶接接合部における破壊的膨張力に耐え得るように−１９６℃（窒素ガス液化温度）と周囲温度間の非常に低い膨張係数を有する必要がある。表の最後の実施例において、３から６％のＮｉを３から１０％のＣｕならびに少量のＳｉおよびＣｒと置換することにより、−１９６℃から２０℃の間で約３から３．５×１０^−６／℃の膨張係数を維持することが可能になることが理解され得、これは、コストおよび、一方の側の−１９６℃の液化ガスと他方の側の周囲温度との間の上部構造の膨張の両方が制限されることを要するこの用途に十分である。

（実施例４）
電流センサおよび測定トランス
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから中間の焼きなましをすることなく冷間圧延し、測定用の種々の部片またはワッシャ（用いられる特徴づけの種々の種類については上記参照）に切断し、その後脱脂し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、２０℃での飽和誘導、２０℃でのヒステリシスサイクルの角形性、２０度での保磁力、２０℃での電気抵抗および耐酸腐食性を測定するために行った。

これらの試験の結果を表８に示す。

この表により、１０％を超えるＣｕを含む合金は、測定トランス型の用途に適合しない２００から４００ｍＯｅの範囲の非常に高い保磁力を有することがわかる。

合金ＳＶ３３０−４は特にコストがかからず、２８％のＮｉおよび３％のＣｕを含み、測定トランスの非常に高い精度を可能にする非常に低い１９ｍＯｅのＨｃを有する。しかし、その低い飽和（４４３０Ｇ）はそれを室温付近の用途に制限する。

本発明の別の実施例において、合金ＳＶ３３０−６は、ほとんど同様にコストがかからず、２８％のＮｉおよび７％のＣｕを含み、Ｈｃ＝３３ｍＯｅのために、閉ループ電流センサの良好な精度を可能にする。さらに、そのより高い飽和（６８００Ｇ）により、顕著に温度をより安定にさせ、測定トランスが最大７０℃まで動作することを可能にする。

最後の実施例において、高い飽和（１１５４０Ｇ）および低い保磁力（３４ｍＯｅ）を有する合金ＳＶ３１７−５は、高い精度の開ループ電流センサがコストをかけずに（３４％のＮｉを含んで）製造されることを可能とし、一方さらに、ケイ素と組み合わせた２％Ｃｒおよび４％Ｃｕの組合せのために、多くの媒体において良好な耐食性を保証する。

（実施例５）
磁気高調波センサ
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を製造し、最終厚さ０．０４ｍｍで得た。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延から冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、最終厚さ４０μｍに圧延し、次いで、脱脂して、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、２０℃での飽和誘導、２０度での保磁力、２０℃での電気抵抗および耐酸腐食性を測定するために行った。

これらの試験の結果を表１０に示す。

本発明による実施例ＳＶ３２３−６は、非常に改善された耐水腐食性を有し、そのセンサの感度は優れている（Ｈ_ｃ＝１５ｍＯｅ）。

実施例ＳＶ３０６−４において、ニッケル含量を２８％まで低下させ、一方、高温酸化性雰囲気における耐食性、耐塩水噴霧腐食性および耐酸化性は、センサの感度同様に、全く優れている（Ｈ_ｃ＝１８ｍＯｅ）。これは、関係するＮｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、ＭｎおよびＳｉの組成の最適化のために可能になる。高い銅含量（５．６％）のために２６．５％のみのＮｉを含む実施例ＳＶ２８９−４において、このセンサのコストも、実質的に低下させ得、良好な耐食性、良好な耐酸化性およびセンサの非常に良好な感度を得ることを可能にする（Ｈ_ｃ＝３１ｍＯｅ）。

（実施例６）
モータおよび電磁アクチュエータ
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから中間の焼きなましをすることなく冷間圧延し、次いで、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、その後脱脂し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、２０℃での飽和誘導、２０度での保磁力、２０℃での電気抵抗および耐酸腐食性を測定するために行った。

これらの試験の結果を表１２に示す。

酸化表面層の耐塩水噴霧腐食感度および機械的耐磨耗性の特性は、Ｃｒ、ＳｉおよびＣｕの最小値が考慮されることを条件に、常に良好であることが理解され得る。

２８から３４％のニッケルを含む種々の組成を有する多くの合金は、５０００から１２０００Ｇの範囲の磁気飽和および８０から９０μΩ．ｃｍの範囲の電気抵抗を得ることを可能にし、一方、用途の厳密な要求に依存する低保磁力および種々の耐食性値をなお維持する。

反例として、合金ＳＶ２９２−４ｍｏｄは、等式２を満たさず、その結果ニッケル含量に対して不十分なパーセント含量のＣｕと組み合わせて低すぎる飽和（４８００Ｇ）を生じる。別の反例において、合金ＳＶ３０４−２ｍｏｄは、その飽和があまりに低すぎる（５０００Ｇの最小値の代わりに４０８０Ｇ）ので、本発明に適合せず、これは、その過剰に高いマンガン含量のためである。

合金ＴＤ５６０−８は、３５％のＮｉを含み、高い飽和を有する。圧延方向に対して０°、４５°および９０°の方向にその透磁率μｍａｘを測定した。得られた値は、それぞれ、１９０００、１７２００および１７６００であり、これは、一連の重い圧延工程および高温での最終焼きなましのために、この合金がほとんど完全に等方性であることを示す。この特性によって、循環する磁束は等方性であり、そのプレートの特定の方向が優先的ではなく、これは電気機械における電磁トルク変動のしばしば原因となる。したがって、本発明による合金は、適切な冷間圧延および焼きなまし工程によって、必要に応じて、磁気特性の良好な等方性を有することができる特性も有する。

本発明による合金は、低い残留磁気（ヒステリシスサイクルの角形性、Ｂｒ／Ｂｍ＜０．３）を有し、それにより、励起が取り除かれるとすぐに大部分に対して自然に消磁される（自然的［脱磁束］）か、または妨害寄生フィールド（重畳場、または非常に短期間に材料を飽和させる非常に高い過渡過電流）に鈍感である、のいずれかを可能とすることが観察された。特に、Ｂ_ｒ／Ｂ_ｍ角形性を非常に低い値、例えば、最小％のＣｒ含量、２８から３１％のＮｉおよび１０％のＣｕを有する合金ＴＤ５６０−１、３および５の場合に０．１７に減少させるためにニッケル含量％およびクロム含量％を低くすることが有利であることが留意されるべきである。

（実施例７）
腕時計モータ用固定子
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから中間の焼きなましをすることなく冷間圧延し、次いで、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、その後、脱脂し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中で１１００℃において３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

キュリー点は、温度８００℃まで上昇後、降下させる、熱磁気計の往復測定により決定した。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、２０℃での電気抵抗、キュリー点、２０℃での保磁力、２０℃での飽和誘導および６０℃での飽和誘導を測定するために行った。

これらの試験結果を表１４に示す。

（実施例８）
パワーエレクトロニクス用の誘導子およびトランス
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、脱脂して、厚さ０．０５ｍｍに冷間圧延し、せん断し、焼きなましの間に巻き線がくっつくのを防止するために鉱物絶縁材で被覆し、径３０×２０ｍｍの径および高さ２０ｍｍを有するトーラスとして巻いて、その後、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、２０℃での飽和誘導、キュリー点、２０℃での保磁力、２０℃での電気抵抗および耐酸腐食性を測定するために行った。

これらの試験の結果を表１６に示す。

本発明による合金の全ては、少なくとも８０μΩ．ｃｍの２０℃での電気抵抗および７５ｍＯｅ未満、一般に４１ｍＯｅ未満の２０℃での保磁力を有することが理解され得る。より薄い厚さおよび良好な巻線間絶縁と組み合わせたこの性能は、低い磁気損失を確実にし、これは、それらの良好な熱伝導がこれらの磁気損失が容易に消散されることを可能にするのでパッシブ磁気構成部品のこれらの磁気コアにおいて一層容認される。

反例ＳＶ３０１ｍｏｄ−１、ＳＶ２９２−１およびＴＣ７６８において、Ｎｉ％およびＣｕ％間の均衡は、飽和が十分であるように、すなわち、磁気回路の設計がフェライトに関して十分に有用な容量をもたらすように正確に確保されなければならない。

（実施例９）
バイメタル帯鋼
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、脱脂して、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、キュリー点、２０℃での電気抵抗、２０から２００℃の間の膨張係数および２０から３００℃の間の膨張係数を測定するために行った。

これらの試験の結果を表１８に示す。

（実施例１０）
腕時計モータコイルおよび高感度電磁継電器
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから中間の焼きなましをすることなく冷間圧延し、次いで、測定用の種々の部片またはワッシャに切断し、その後、脱脂し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中、１１００℃で３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、２０℃での電気抵抗、キュリー点、２０℃での飽和誘導、２０℃での保磁力および耐酸腐食性を測定するために行った。

これらの試験の結果を表２０に示す。

３０％のＮｉのみで１００００Ｇの２０℃での飽和、および３４％のＮｉのみで２０℃での１３０００Ｇの飽和を得ることが可能であることが理解され得る。

この性能は、酸化層の良好な耐食性および機械的耐磨耗性の特性だけではなく、非常に有利で、革新的である。

（実施例１１）
非接触温度測定および温度異常指示のための装置
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．６ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ２．５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を厚さ０．６ｍｍに熱間圧延厚さから冷間圧延し、次いで、８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、脱脂して、測定用の種々の部片またはワッシャ（用いられる特徴づけの種々の種類については上記参照）に切断し、次いで、純Ｈ_２（露点＜−７０℃）中で１１００℃において３時間焼きなましした。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、２０℃での飽和誘導、キュリー点、２０℃での保磁力および耐酸腐食性を測定するために行った。

これらの試験の結果を表２２に示す。

反例は等式１を満たさず、これは合金が完全にはオーステナイトではないことを意味することが留意されるべきである。合金の非オーステナイト特性は、必要とされる保磁力値が達成されることを妨げる。

（実施例１２）
エピタキシー用高組織化基板
使用特性を特徴づけするために、いくつかの合金を最終厚さ０．１ｍｍに製造した。これらの合金は、９９．９％純度材料から製造し、真空誘導炉中で溶融し、５０ｋｇインゴットに鋳造した。このインゴットを１１００から１３００℃で鍛造し、次いで、１０００から１２００℃で厚さ５ｍｍに熱間圧延し、次いで、化学的に酸洗いした。次いで、この帯鋼を、中間の焼きなましをすることなく、厚さ０．１ｍｍに冷間圧延し、次いで、研摩剤入り研摩フェルトで約１ミクロンの非常に細かい研摩粒に機械的に研摩した。次いで、この金属を８００から１１００℃で１時間焼きなましし、次いで、得られた組織の型と強度を評価するために、Ｘ線極点図を測定するために種々の部片に切断した。

試験した品種は、以下の表に記載した元素を含み、残部は鉄および不可避不純物であった。

一連の試験を、耐塩水噴霧腐食性、機械的耐磨耗性、キュリー点、耐酸腐食性、２０から３００℃の間の膨張係数、双晶含量および平均組織結晶方位差を測定するために行った。

これらの試験の結果を表２４に示す。

本発明による合金は、低い双晶含量（＜１０％）および低い平均組織結晶方位差ω（＜１０°）、ならびに最小量のＣｒ、ＳｉおよびＣｕの添加のために、劣化した操作雰囲気または焼きなまし雰囲気における酸化層の高い機械的耐磨耗性、および広範囲にわたって変り得る膨張係数を有して、｛１００｝＜００１＞立方晶組織を形成する強い能力を有し、エピタキシー用基板上の被覆のためのほとんどの膨張要件を満たすことを可能にすることが理解され得る。

Claims (36)

1. オーステナイト系鉄−ニッケル−クロム−銅合金であって、その組成が質量％で以下：
   ２４％≦Ｎｉ≦３６％
   ０．０２％≦Ｃｒ≦８％
   Ｃｕ≧４％
   Ｃｕ＋Ｃｏ≦１５％
   ０．０１≦Ｍｎ≦６％
   ０．０２≦Ｓｉ≦２％
   ０≦Ａｌ＋Ｔｉ≦０．００３０％
   ０≦Ｃ≦０．１％
   ０≦Ｖ＋Ｗ＜３％
   ０≦Ｎｂ＋Ｚｒ≦０．５％
   ０≦Ｍｏ≦４％
   Ｓｎ≦１％
   ０≦Ｂ≦０．００６％
   ０≦Ｓ＋Ｓｅ＋Ｓｂ≦０．００８％
   ０≦Ｃａ＋Ｍｇ≦０．０２０％
   を含み、残部は鉄および溶融精錬から生じる不純物であり、ニッケル、クロム、銅およびコバルトのパーセント含量は、合金が以下の条件：
   Ｃｏ＜Ｃｕ
   Ｃｏ＜４％（Ｃｒ＞７．５％の場合）
   Ｅｑ１＞２８％［ここで、Ｅｑ１＝Ｎｉ＋１．２Ｃｒ＋（Ｃｕ／５）］
   Ｃｒ＜７．５％（Ｎｉ＞３２．５％の場合）
   をさらに満たすものであり、マンガン含量は以下の条件：
   − Ｅｑ３≧２０５である場合、Ｍｎ≦Ｎｉ−２７．５＋Ｃｕ−Ｃｒ
   − １８０．５≦Ｅｑ３≦２０５である場合、Ｍｎ≦４％
   − Ｅｑ３≦１８０．５である場合、Ｍｎ≦２％
   ［ここで、Ｅｑ３＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋４（Ｃｕ＋Ｃｏ）およびＸ＝Ｃｒ＋Ｍｏ＋Ｖ＋Ｗ＋Ｓｉ＋Ａｌ］
   をさらに満たすものである、合金。
2. ニッケル、クロム、銅、コバルト、モリブデン、マンガン、バナジウム、タングステン、ケイ素およびアルミニウムのパーセント含量が、合金が以下の条件：
   ０．０２≦Ｍｎ
   Ｅｑ２≧０．９５［ここで、Ｅｑ２＝（Ｎｉ−２４）［０．１８＋０．０８（Ｃｕ＋Ｃｏ）］］、
   Ｅｑ３≧１６１、
   Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
   Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
   Ｅｑ６≧１５０［ここで、Ｅｑ６＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋１．３（Ｃｏ＋Ｃｕ）］
   Ｅｑ７≧１５０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］
   をさらに満たすものであることを特徴とする、請求項１に記載の合金。
3. 温度自己調節機能を有する電磁気装置において、請求項２に記載の合金を、当該温度自己調節機能を得るために使用する方法。
4. 温度自己調節機能を有する電磁気装置であって、当該温度自己調節機能が請求項２に記載の合金により得られる、装置。
5. Ｎｉ≦２９％
   Ｃｏ≦２％
   ０．０２≦Ｍｎ≦２％
   Ｅｑ２≧０．９５［ここで、Ｅｑ２＝（Ｎｉ−２４）［０．１８＋０．０８（Ｃｕ＋Ｃｏ）］］
   Ｅｑ３≧１６１
   Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
   Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
   Ｅｑ６≧１５０［ここで、Ｅｑ６＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋１．３（Ｃｏ＋Ｃｕ）］
   Ｅｑ７≧１６０［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］］
   をさらに特徴とする、請求項１に記載の合金。
6. 磁束自己調節機能を有する電磁気装置において、請求項５に記載の合金を、当該磁束自己調節機能を得るために使用する方法。
7. 磁束自己調節機能を有する電磁気装置であって、当該磁束自己調節機能が請求項５に記載の合金により得られる、装置。
8. Ｎｉ≦３５％
   Ｅｑ２≧１
   Ｅｑ３≧１７０
   Ｅｑ６≧１５９
   Ｅｑ７≧１６０
   をさらに特徴とする、請求項２に記載の合金。
9. 低膨張が必要な装置において、請求項８に記載の合金を、当該低膨張のために使用する方法。
10. 請求項８に記載の合金を含む、低膨張が必要な装置。
11. Ｃｕ≦１０％
    Ｃ≦０．１
    Ｅｑ２≧１
    Ｅｑ３≧１７０
    Ｅｑ６≧１５９
    Ｅｑ７≧１６０
    をさらに特徴とする、請求項２に記載の合金。
12. 電流センサ、測定トランスまたは磁気高調波センサに、請求項１１に記載の合金を使用する方法。
13. 請求項１１に記載の合金を含む、電流センサ、測定トランスまたは磁気高調波センサ。
14. ０．０５％≦Ｍｎ≦２％
    Ｃ≦０．１
    Ｅｑ２≧１．５
    Ｅｑ３≧１７５
    Ｅｑ４≦７（Ｎｉ≦３２．５の場合）
    Ｅｑ５≦１０．６（Ｎｉ≦３２．５の場合）
    Ｅｑ６≧１６４
    Ｅｑ７≧１６０
    をさらに特徴とする、請求項２に記載の合金。
15. モータまたは電磁アクチュエータに、請求項１４に記載の合金を使用する方法。
16. 請求項１４に記載の合金を含む、電磁アクチュエータまたはモータ。
17. Ｃｏ≦１．８％
    Ｏ＋Ｎ≦０．０１％
    をさらに特徴とし、以下の関係：
    ０．０００２≦Ｂ≦０．００２％
    ０．０００８≦Ｓ＋Ｓｅ＋Ｓｂ≦０．００４％
    ０．００１≦Ｃａ＋Ｍｇ≦０．０１５％
    の少なくとも１つをさらに満たす、請求項１４に記載の合金。
18. 時計モータ用固定子に、請求項１７に記載の合金を使用する方法。
19. 請求項１７に記載の合金を含む、時計モータ用固定子。
20. Ｅｑ２≧１．５％
    Ｅｑ３≧１８９
    Ｅｑ４≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
    Ｅｑ５≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
    Ｅｑ６≧１７３
    Ｅｑ７≧１８５
    をさらに特徴とする、請求項１１に記載の合金。
21. パワーエレクトロニクス用の誘導子またはトランスに、請求項２０に記載の合金を使用する方法。
22. 請求項２０に記載の合金を含む、パワーエレクトロニクス用誘導子またはトランス。
23. Ｎｉ≧３０％
    Ｅｑ２≧１．５
    Ｅｑ３≧１８９
    Ｅｑ４≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
    Ｅｑ５≦４（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦７（Ｎｉ＞３２．５の場合）
    Ｅｑ６≧１７３
    Ｅｑ７≧１８５
    Ｅｑ８≧３３［ここで、Ｅｑ８＝Ｎｉ＋Ｃｕ−１．５Ｃｒ］
    をさらに特徴とする、請求項２に記載の合金。
24. バイメタルストリップに、請求項２３に記載の合金を使用する方法。
25. 請求項２３に記載の合金を含むバイメタルストリップ。
26. Ｅｑ２≧２
    Ｅｑ３≧１９５
    Ｅｑ４≦２（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ４≦６（Ｎｉ＞３２．５の場合）
    Ｅｑ５≦２（Ｎｉ≦３２．５の場合）、またはＥｑ５≦６（Ｎｉ＞３２．５の場合）
    Ｅｑ６≧１８０
    Ｅｑ７≧１９０
    をさらに特徴とする、請求項１４に記載の合金。
27. Ｅｑ９≧１３０００［ここで、Ｅｑ９＝１１００（Ｎｉ＋Ｃｏ／３＋Ｃｕ／３）−１２００Ｃｒ−２６０００］
    をさらに特徴とする、請求項２６に記載の合金。
28. 時計モータコイルのコアまたは高感度の電磁継電器に、請求項２６または２７に記載の合金を使用する方法。
29. 請求項２６または２７に記載の合金を含む、時計モータコイルのコアまたは高感度の電磁継電器。
30. Ｃｕ≦１０％
    ０．０２≦Ｍｎ
    Ｅｑ２≧０．４［ここで、Ｅｑ２＝（Ｎｉ−２４）［０．１８＋０．０８（Ｃｕ＋Ｃｏ）］］
    Ｅｑ３≧１４０
    Ｅｑ４≦１０［ここで、Ｅｑ４＝Ｃｒ−１．１２５（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
    Ｅｑ５≦１３．６［ここで、Ｅｑ５＝Ｃｒ−０．２２７（Ｃｕ＋Ｃｏ）］
    Ｅｑ６≧１４０［ここで、Ｅｑ６＝６Ｎｉ−２．５Ｘ＋１．３（Ｃｏ＋Ｃｕ）］
    Ｅｑ７≧１２５［ここで、Ｅｑ７＝６Ｎｉ−５Ｃｒ＋４Ｃｕ］
    をさらに特徴とする、請求項１に記載の合金。
31. 非接触温度測定または温度異常指示のための装置に、請求項３０に記載の合金を使用する方法。
32. 請求項３０に記載の合金を含む、非接触温度測定または温度異常指示装置。
33. Ｍｎ≦２％
    Ｓｉ≦１％
    Ｃｕ≦１０％
    をさらに特徴とし、以下の関係：
    ０．０００３≦Ｂ≦０．００４％
    ０．０００３≦Ｓ＋Ｓｅ＋Ｓｂ≦０．００８％
    の少なくとも１つをさらに満たす、請求項１に記載の合金。
34. ０．００３≦Ｎｂ＋Ｚｒ≦０．５％
    をさらに特徴とする、請求項３３に記載の合金。
35. エピタキシー用高組織化基板に、請求項３３または３４に記載の合金を使用する方法。
36. 請求項３３または３４に記載の合金を含む、エピタキシー用高組織化基板。