JP4977851B2 - メソ細孔性またはメソ細孔性およびミクロ細孔性の組み合わせの無機酸化物を製造する方法 - Google Patents
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Description
組成物は、触媒としてまたは触媒組成物の一部として使用できる。触媒の一部として、本発明の組成物は、触媒の活性成分であるか、または触媒担体である。シリカの場合、本発明の組成物は、触媒担体またはマトリックスとして主として使用され、それらは、多くの応用例えば水素化、水素化分解などのための貴金属例えばPd、PtおよびRhを支持できる。配合された元素の官能性に応じて、組成物は弱い酸性、中度の酸性または強い酸性を有することができる。その結果、それは、クラッキング、異性化、アルキル化、アシル化、重合、脱水、脱窒素化および脱硫黄化または有機化合物を触媒化できる。組成物は、また、レドックス性を有することができ、それはアルケン(例えばシクロヘキセン、エチレンまたはプロピレン)のエポキシ化、アルカン(例えばシクロドデカン、シクロヘキサン)、アルコールおよびアミンの選択的酸化、芳香族のヒドロキシル化およびケトンのアンモ酸化を触媒化できる。この組成物への金属の添加は、水素化分解、(脱)水素化および脱硫黄化の能力を提供する。シリカ−アルミナの場合、組成物は、クラッキングまたはエステル化用の酸性の触媒として使用できるが、それはまた触媒担体/マトリックスとして使用できる。Bi−Mo、Fe−SbまたはMo−V−Nb−Te混合酸化物を配合することにより、組成物は、有機物の選択的酸化用の活性触媒成分として使用できる。本発明の組成物は、触媒、共触媒(触媒の一部)、触媒担体、吸着剤および分子ふるいとして応用できる。
次に、細孔性物質の前駆物は、所望により、約48時間以内に及ぶエージング時間で約20−約120℃でエージングされる。所望により、混合物は、室温における先行するエージングとともにまたはそれなしに、約2日以内で約50−約120℃の温度で加圧容器中でオートクレーブ処理される。
最後に、細孔性物質の前駆物は、溶媒抽出および/または400℃より高い温度でのか焼により処理して、細孔性物質の前駆物の細孔内に含まれたすべての有機化合物を除いてメソ細孔性または組み合わされたメソ細孔性/ミクロ細孔性の無機酸化物物質を得ることができる。
この比較例Aでは、Ludoxシリカゾルがシリカ源として使用された。まず、92部のLudox HS−40を93部のトリエタノールアミン(TEA)および65部の水と混合した。1時間の攪拌後、水酸化テトラエチルアンモニウム(TEAOH、35重量%)を、pHの値が10に達するまで、上記の混合物中に添加した。2時間の攪拌後、混合物全体をオートクレーブに移し、そして6時間自然発生の圧力下180℃で水熱処理にかけた。次に、合成混合物を98℃で乾燥して水を除き濃いゲルを得た。乾燥したゲルを次にオートクレーブに移して4時間180℃で他の水熱処理を行った。最後に、乾燥したゲルを、1℃/分の温度勾配で空気中で10時間600℃でか焼した。
この比較例Bでは、水ガラスをシリカ源として使用した。まず、19部の水ガラス(〜14重量%NaOH、〜27重量%SiO2)を7部の水と混合し、次に25部のテトラエチレングリコール(TEG)を加えた。次に、合成混合物を20時間98℃で乾燥し、そして1℃/分の温度勾配で10時間600℃でか焼した。
以下の実施例は、本発明の方法を使用してメソ細孔性物質の製造の点で成功している。
乾燥した混合物のXRDパターンは、2θで約1.1の集中的な反射を示し、それはメソ細孔性物質の特徴を示す。窒素吸着は、860m2/gの表面積、0.66cm3/gの全孔体積および約3.5nmの平均孔直径を明らかにした。
第三に、濃いゲルを、本明細書でサンプル3−1および3−2と名付けられる2つの部分に分割した。2つの部分を2つのオートクレーブに移し、そしてそれぞれ6時間および11時間70℃に加熱した。次に、これらの2つのゲルを23時間98℃で乾燥した。再びそれらをオートクレーブに入れそして24時間180℃に加熱した。最後に、これらの2つの部分を、1℃/分の温度勾配で10時間空気中で600℃でか焼した。
これら4つのサンプルの細孔の性質は、表2にリストされる。
第三に、ゲルを12時間80℃で乾燥し、次にオートクレーブに移しそして3時間180℃に加熱した。最後に、ゲルを、1℃/分の温度勾配で10時間空気中で600℃でか焼した。
Claims (18)
- a)シリカゲル、シリカヒドロゲル、シリカエアロゲル、燻蒸シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、酸化マグネシウム、及び水酸化マグネシウムからなる群より選択された無機酸化物源を、アルカノールアミンと混合する工程と、
b)150度から250度の間の温度で前記無機酸化物源と前記アルカノールアミンとを反応させて、少なくとも1種の水溶性錯体を得、その後、前記少なくとも1種の水溶性錯体を水に溶かし水溶性混合物を得る工程と、
c)前記少なくとも1種の水溶性錯体を分解して、前記アルカノールアミンを少なくとも一部含有するメソ細孔性無機酸化物骨格を備える細孔性物質前駆物質を得る工程と、
d)溶媒抽出により、前記メソ細孔性無機酸化物骨格から前記アルカノールアミンの少なくとも大部分を回収した上で再利用する工程と、
e)前記メソ細孔性無機酸化物骨格をか焼する工程と、
からなることを特徴とする、メソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。 - 前記アルカノールアミンは、トリエタノールアミン、トリ−イソプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、トリス−ヒドロキシメチレンアミノメタン、N,N−ジメチルエタノールアミン、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項1に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記アルカノールアミンは、グリコール溶媒と混合される、請求項1又は2に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記グリコール溶媒は、エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、トリプロピレングリコール、及びテトラプロピレングリコールからなる群より選択される、請求項3に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記少なくとも1種の水溶性錯体を分解する工程(c)は、酸性、塩基性、又は中性のpHの水性流体による前記錯体の加水分解を含む、請求項1から4のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記少なくとも1種の水溶性錯体を分解する工程(c)は、251℃から400℃の温度で前記錯体をか焼することを含む、請求項1から5のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記溶媒抽出は、水、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、及びこれらの組み合わせからなる群より選択された溶媒中に前記細孔性物質前駆物質を浸漬することを含む、請求項1から6のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記工程(e)の前記か焼は、48時間以内の期間の間、401℃から1100℃の温度に前記細孔性物質前駆物質を加熱することを含む、請求項1から7のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記工程(c)の後に、48時間以内の期間の間、20℃から120℃の温度で前記細孔性物質前駆物質をエージングする工程をさらに含む、請求項1から8のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記細孔性物質前駆物質をエージングする工程の後に、前記細孔性物質前駆物質を乾燥させる工程をさらに含む、請求項9に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記工程(c)の後に、4日以内の期間の間、大気圧を上回る圧力下で、前記細孔性物質前駆物質を加熱する工程をさらに含む、請求項1から10のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔
/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。 - ゼオライトを工程(b)の前記少なくとも1種の水溶性錯体に添加する工程をさらに含む、請求項1から11のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記ゼオライトは、ゼオライトY、ゼオライトX、ゼオライトL、ゼオライトA、ゼオライトベータ、モルデン沸石、SSZ−32、ZSM−5、ZSM−11、ZSM−22、ZSM−23、ZSM−48、ZSM−58、MCM−22、MCM−36、PSH−3、シリカライト−1、及びシリカライト−2からなる群より選択される、請求項12に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- a)シリカゲル、シリカヒドロゲル、シリカエアロゲル、燻蒸シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、酸化マグネシウム、及び水酸化マグネシウムからなる群より選択された無機酸化物源を、アルカノールアミンと混合する工程と、
b)150度から250度の間の温度で前記無機酸化物源を前記アルカノールアミンと反応させて、少なくとも1種の水溶性錯体を得、その後、前記少なくとも1種の水溶性錯体を水に溶かし水溶性混合物を得、該水溶性混合物に予め形成されたミクロ細孔性ゼオライトを添加する工程と、
c)前記少なくとも1種の水溶性錯体を分解して、前記アルカノールアミンを少なくとも一部含有し且つ前記ミクロ細孔性ゼオライトが埋め込まれているメソ細孔性無機酸化物骨格を備える細孔性物質前駆物質を得る工程と、
d)溶媒抽出及びか焼により、前記メソ細孔性無機酸化物骨格から前記アルカノールアミンの少なくとも大部分を除去して、X線回折パターンが2θで0.3から3.5度の間に少なくとも1つのピークを有することで特徴付けられるメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物を得る工程と、
からなることを特徴とする、メソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。 - a)シリカゲル、シリカヒドロゲル、シリカエアロゲル、燻蒸シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、酸化マグネシウム、及び水酸化マグネシウムからなる群より選択された無機酸化物源を、アルカノールアミンと混合する工程と、
b)150度から250度の間の温度で前記無機酸化物源をグリコール溶媒と混合された前記アルカノールアミンと反応させて、少なくとも1種の水溶性錯体を得、その後、前記少なくとも1種の水溶性錯体を水に溶かし水溶性混合物を得る工程と、
c)前記少なくとも1種の水溶性錯体を分解して、前記アルカノールアミンを少なくともある程度含有するメソ細孔性無機酸化物骨格を備える細孔性物質前駆物質を得る工程と、
d)溶媒抽出及びか焼により、前記メソ細孔性無機酸化物骨格から前記アルカノールアミンの少なくとも大部分を除去する工程と、
からなることを特徴とする、メソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。 - 前記アルカノールアミンは、トリエタノールアミン、トリ−イソプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、トリス−ヒドロキシメチレンアミノメタン、N,N−ジメチルエタノールアミン、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項15に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記アルカノールアミンはトリエタノールアミンであり、前記グリコール溶媒はエチレングリコールである、請求項16に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
- 前記メソ細孔性無機酸化物骨格は、X線回折パターンが2θで0.3から3.5度の間に少なくとも1つのピークを有することで特徴付けられる、請求項15から17のいずれか1項に記載のメソ細孔性の又はメソ細孔/ミクロ細孔混在性の無機酸化物の製造方法。
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