JP2008266484A - ケイ素含有化合物、硬化性組成物及び硬化物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物、並びに、下記一般式(1)におけるZが水素原子である該化合物、ZがC2-4アルケニル基又はアルキニル基である該化合物、及びヒドロシリル化反応触媒を含有してなる硬化性組成物。
(式中、Ra〜RgはC1-12飽和脂肪族炭化水素基又はC6-12芳香族炭化水素基であり(但し、Re及びRfは同時にC1-12飽和脂肪族炭化水素基となることはない)、YはC2-4アルキレン基であり、Zは水素原子又はC2-4アルケニル基若しくはアルキニル基であり、Kは2〜7の数であり、Tは1〜7の数であり、Pは0〜3の数である。M及びNは、N:M=1:1〜1:100且つ全てのMと全てのNの合計が15以上となる数であって、且つ該化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
【選択図】なし
Description
上記一般式(1)において、Ra〜Rgで表される炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第2ブチル、第3ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第3アミル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、イソヘプチル、第3ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第3オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル等が挙げられる。
Zで表される炭素原子数2〜4のアルケニル基としては、CH2=CH−、CH2=CH−CH2−、CH2=CH−CH2−CH2−、CH2=C(CH3)−、CH2=C(CH3)−CH2−、CH2=CH−CH(CH3)−等が挙げられ、Zで表される炭素原子数2〜4のアルキニル基としては、例えば下記の基が挙げられる。
尚、以下、上記一般式(1)又は(2)におけるZが水素原子であるものを、それぞれケイ素含有化合物(A1)又は(A2)、上記一般式(1)又は(2)におけるZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基であるものを、それぞれケイ素含有化合物(B1)又は(B2)とする。
ケイ素含有化合物(A2)は、例えば、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)を前駆体として、環状ポリシロキサン化合物(a2)を反応させることで得ることができる。
上記の不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)は、1種類又は2種類以上の2官能シラン化合物を加水分解による縮合反応を行った後、pが1の場合は1官能モノシラン化合物、pが3の場合は3官能モノシラン化合物、pが4の場合は4官能モノシラン化合物と反応させ、更に不飽和基を有する1官能シラン化合物と反応させて得ることができる。pが2の場合は、縮合反応の後、不飽和基を有する1官能のシラン化合物と反応させて得ることができる。これらのシラン化合物の官能基として代表的なものは、アルコキシ基、ハロゲン基又は水酸基である。不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)と環状ポリシロキサン化合物(a2)は、(a1)の不飽和結合炭素と(a2)のSi−H基との反応により結合させる。
上記3官能モノシラン化合物としては、トリスエトキシメチルシラン、トリスメトキシメチルシラン、トリスエトキシフェニルシラン、トリスメトキシフェニルシラン等のトリスアルコキシシラン化合物;これらのトリスアルコキシシラン化合物の1〜3個のアルコキシ基をフッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記4官能モノシラン化合物としては、テトラキスエトキシシラン、テトラキスメトキシシラン等のテトラキスアルコキシシラン化合物;これらのテトラキスアルコキシシラン化合物の1〜4個のアルコキシ基をフッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記3官能のモノシラン化合物としては、例えば、トリスエトキシメチルシラン、トリスメトキシメチルシラン、トリスエトキシフェニルシラン、トリスメトキシフェニルシラン等のトリスアルコキシシラン化合物;これらのトリスアルコキシシラン化合物の1〜3個のアルコキシ基を、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記4官能モノシラン化合物としては、例えば、テトラキスエトキシシラン、テトラキスメトキシシラン等のテトラキスアルコキシシラン化合物;これらのテトラキスアルコキシシラン化合物の1〜4個のアルコキシ基を、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、上記一般式(1)におけるZが水素原子であるケイ素含有化合物(A1)、上記一般式(1)におけるZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基であるケイ素含有化合物(B1)、及びヒドロシリル化反応触媒(C)を必須成分として含有する組成物である。本発明の硬化性組成物は、ケイ素含有化合物(A1)のZ基とケイ素含有化合物(B1)のZ基とを、熱及びヒドロシリル化反応触媒(C)の作用により反応させて硬化する。本発明の硬化性組成物が含有するケイ素含有化合物(A1)及びケイ素含有化合物(B1)それぞれの好ましい形態は、前述したケイ素含有化合物(A2)及びケイ素含有化合物(B2)である。
本発明の硬化性組成物は、ケイ素含有化合物(A1)100質量部に対して、ケイ素含有化合物(B1)を5〜5000質量部含有することが好ましく、10〜1000質量部がより好ましい。また、ヒドロシリル化反応触媒(C)の含有量は、硬化性及び保存安定性の点で、本発明の硬化性組成物中において5質量%以下が好ましく、0.0001〜1.0質量%がより好ましい。5質量%よりも多いと硬化性組成物の安定性に影響を及ぼす場合がある。
該化合物(D)は、例えば密着性向上の目的で使用することができる任意成分である。該化合物(D)は、前記のケイ素含有化合物(A1)中のSi−H基と反応する化合物、又は前記のケイ素含有化合物(B1)中のアルケニル基若しくはアルキニル基と反応する化合物であり、1種類で又は2種類以上混合で用いられる。化合物種としては、特に限定されないが、ポリシロキサン化合物が硬化物の耐熱性の観点から好ましい。該ポリシロキサン化合物としては、例えば、直鎖又は分岐を有するポリジメチルシロキサンの両末端にビニル基、アセチレン基、Si−H基等の基を有するシリコーン;直鎖又は分岐を有するジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム及び/又はブロック体の両末端に、ビニル基、アセチレン基、Si−H基等の基を有するシリコーン;直鎖又は分岐を有するポリジメチルシロキサンのメチル基の一部がビニル基、アセチレン基及びSi−H基から選ばれる基に置換されたシリコーン;直鎖又は分岐を有するジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム及び/又はブロック体のメチル基又はフェニル基の一部が、ビニル基、アセチレン基及びSi−H基から選ばれる基と置換されたシリコーン;ビニル基、アセチレン基、Si−H基等の基を有するレジン等が挙げられる。
該金属酸化物微粉末(E)は、硬化後の諸物性を改善する目的で使用することができる任意成分である。該金属酸化物微粉末(E)としては、例えば、いわゆる充填剤、鉱物等の無機材料や、これらを有機変性処理等によって変性又は改質したものが挙げられる。具体的には、例えば、コロイダルシリカ、シリカフィラー、シリカゲル等の二酸化ケイ素類;酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物;マイカ、モンモリロナイト、けい石、珪藻土類、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、ミネソタイト、パイロフィライト等の鉱物類;これらを有機変性処理等によって変性又は改質したものが挙げられる。電子部品、電子回路等の封止材や絶縁材として用いる場合等の高度な絶縁性を要求される場合は、これらの中でも、二酸化ケイ素類、酸化アルミニウムが好ましい。また、上記の変性又は改質の方法としては、アルコキシシラン、クロロシラン等を官能基とした有機シランカップリング剤による表面改質を挙げることができる。
ケイ素含有化合物(A1)、ケイ素含有化合物(B1)、ヒドロシリル化反応触媒(C)、化合物(D)及び金属酸化物微粉末(E)以外の任意成分の使用量は、本発明の目的とする性能を損なわないために、本発明の硬化性組成物中において好ましくは合計で10質量%以下とする。
また、本発明の硬化性組成物の硬化物は、耐熱性、耐クラック性等に優れている。詳しくは、本発明の硬化性組成物からは、硬化物の5質量%の質量減少を来たす温度が300℃以上、より好ましくは400℃以上の硬化物が好適に得られる。また、クラック発生の少ない硬化物が好適に得られる。
ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン9部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後に、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルビニルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−1)を得た。下記条件でのGPCによる分析の結果、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−1)の分子量はMw=20,000であった。なお、以降のGPCは全てこの条件で行った。
(GPCの測定条件)
カラム:東ソー株式会社製TSK-GEL MULTIPORE HXL M、7.8mm X 300mm、
展開溶媒:テトラヒドロフラン
合成例1で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−1)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(A−1)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(A−1)の分子量は、Mw=22,000であった。
ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン9部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)を得た。GPCによる分析の結果、非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)の分子量はMw=20,000であった。
合成例2で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(B−1)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(B−1)の分子量はMw=22,000であった。
ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン9部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水した。ピリジンを20部加え、さらにフェニルトリクロロシラン0.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、この溶液を半分に分割した。
一方に、不飽和結合を有する1官能シラン化合物であるジメチルビニルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−2)を得た。
他方に、Si−H基導入化合物であるジメチルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、非環状ポリシロキサン化合物(b1−2)を得た。
合成例3で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−2)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(A−2)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(A−2)の分子量はMw=42,000であった。
合成例3で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−2)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(B−2)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(B−2)の分子量はMw=42,000であった。
ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン9部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間反応させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水した。ピリジンを20部加え、さらにテトラクロロシラン0.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、この溶液を半分に分割した。
一方に、不飽和結合を有する1官能シラン化合物であるジメチルビニルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−3)を得た。
他方に、Si−H基導入化合物であるジメチルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、非環状ポリシロキサン化合物(b1−3)を得た。
合成例4で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−3)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(A−3)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(A−3)の分子量はMw=52,000であった。
合成例4で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−3)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−ビニルシクロテトラロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(B−3)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(B−3)の分子量はMw=52,000であった。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)50部と実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)50部とを混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.1を得た。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)20部、実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)50部、及びシリカフィラー(平均粒径10μm、二酸化ケイ素)30部を混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.2を得た。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)15部、実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)25部、ジメチルジメトキシシラン及びビニルメチルジメトキシシランをモノマーとしてランダム縮合させたポリシロキサン(Mw:30,000、ビニル基量:3.5mmol/g)15部、ジメチルジメトキシシラン及びメチルジメトキシシランをモノマーとしてランダム縮合させたポリシロキサン(Mw:30,000、Si−H基量:3.5mmol/g)15部、並びにシリカフィラー(平均粒径10μm、二酸化ケイ素)30部を混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.3を得た。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)15部、実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)25部、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びジメチルジメトキシシランをモノマーとして、モル比で1:4:5の割合でランダム縮合させたポリシロキサンレジン(Mw:30,000、ビニル基量:3.5mmol/g)15部、トリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びジメチルジメトキシシランをモノマーとして、モル比で1:4:5の割合でランダム縮合させたポリシロキサンレジン(Mw:30,000、Si−H基量:3.5mmol/g)15部、並びにシリカフィラー(平均粒径10μm、二酸化ケイ素)30部を混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.4を得た。
実施例3で得たケイ素含有化合物(A−2)50部と実施例4で得たケイ素含有化合物(B−2)50部とを混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.5を得た。
実施例5で得たケイ素含有化合物(A−3)50部と実施例6で得たケイ素含有化合物(B−3)50部とを混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.6を得た。
上記合成例1で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン(a1−1)50部と、上記合成例3で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−1)を得た。
ジメチルジメトキシシラン及びビニルメチルジメトキシシランをモノマーとしてランダム縮合させたポリシロキサン(Mw:30,000、ビニル基量:3.5mmol/g)50部と、ジメチルジメトキシシラン及びメチルジメトキシシランをモノマーとしてランダム縮合させたポリシロキサン(Mw:30,000、Si−H基量:3.5mmol/g)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−2)を得た。
ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びジメチルジメトキシシランをモノマーとして、モル比で1:4:5の割合でランダム縮合させたポリシロキサンレジン(Mw:30,000、ビニル基量:3.5mmol/g)50部と、トリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びジメチルジメトキシシランをモノマーとして、モル比で1:4:5の割合でランダム縮合させたポリシロキサンレジン(Mw:30,000、Si−H基量:3.5mmol/g)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−3)を得た。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)50部と両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン(Mw:20,000)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−4)を得た。
実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)50部と両末端Si−H基ポリジメチルシロキサン(Mw:20,000)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−5)を得た。
ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン9部とを混合し、100部のイオン交換水、50部トルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水した。ピリジンを20部加え、これに0.005部のフェニルトリクロロシランを加え、70℃で120分間攪拌した後、この溶液を半分に分割した。
他方に、Si−H基導入化合物であるジメチルクロロシラン10部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除き、次いで150℃で溶媒を減圧留去して、Si−H基を有する非環状ポリシロキサン化合物(b1−4)を得た。
不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−4)及び非環状ポリシロキサン化合物(b1−4)それぞれは、GPCによる分析の結果、分子量がいずれもMw=20,000であった。
上記実施例7〜12で得た硬化性組成物No.1〜6及び比較例1〜6で得た比較用硬化性組成物(比−1)〜(比−6)のそれぞれを、アルミ板上に膜厚約1mmに製膜し、150℃で30分加熱して硬化させて、硬化物No.1〜6及び硬化物 比1〜6を得た。尚、使用した硬化性組成物の番号と得られた硬化物の番号とはそれぞれ対応している。これらの硬化物について、硬化状態の評価、耐熱性試験及び180度曲げ試験を、以下のようにして行なった。
耐熱性試験においては、空気雰囲気でのTG/DTAによる5質量%減量温度を測定した。
180度曲げ試験においては、アルミ板上に膜厚約1mmに製膜して得た硬化膜を180度曲げた時の膜の状態を観察した。180度折り曲げ時に、膜にクラックや剥がれが無いサンプルは○、180度ではクラックが発生するが、90度ではクラックや剥がれが発生しないサンプルは△、90度でクラックが発生するサンプルは×とした。
結果を表1に示す。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)25部、実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)25部、及びシリカフィラー(平均粒径10μm、二酸化ケイ素)50部を混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.0025部を混合して、硬化性組成物No.7を得た。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)10部、実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)10部、及びアルミナフィラー(平均粒径5μmのもの40質量%、平均粒径20μmのもの20質量%、及び平均粒径100μmのもの40質量%の混合物)50部を混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.001部を混合して、硬化性組成物No.8を得た。
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)47部、実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)47部、及びシリカフィラー(一次平均粒径12nm、オクチルシラン表面処理二酸化ケイ素:日本アエロジル社製アエロジルR805)6部を混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.0047部を混合して、硬化性組成物No.9を得た。
上記の実施例7、19〜21で得た硬化性組成物No.1、No.7〜9について、25℃でのE型粘度計による粘度測定、及び、25℃におけるE型粘度計での5rpmの粘度と20rpmの粘度との比(5rpm粘度/20rpm粘度)によるチクソ指数の測定を行った。
また、各硬化性組成物0.5gをガラス基材上にスポイトによりキャストした後、25℃/分の昇温速度で200℃まで昇温し、その後200℃で1時間保持して硬化物No.7〜10を得た。硬化物No.7〜10の直径及びTMAによる線膨張係数を測定した。結果を表2に示す。
Claims (9)
- 下記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物。
(式中、Ra〜Rgは、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり(但し、Re及びRfは同時に炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基となることはない)、Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Zは水素原子又は炭素原子数2〜4のアルケニル基若しくはアルキニル基であり、Kは2〜7の数であり、Tは1〜7の数であり、Tを繰り返し数とする重合部分と、K−Tを繰り返し数とする重合部分とは、ブロック状であってもランダム状であってもよい。Pは0〜3の数である。M及びNは、N:M=1:1〜1:100且つ全てのMと全てのNとの合計が15以上となる数であって、且つ一般式(1)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。また、Mを繰り返し数とする重合部分と、Nを繰り返し数とする重合部分とは、ブロック状であってもランダム状であってもよい。) - 下記一般式(2)で表されるケイ素含有化合物。
(式中、Ra〜Rgは、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり(但し、Re及びRfは同時に炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基となることはない)、Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Zは水素原子又は炭素原子数2〜4のアルケニル基若しくはアルキニル基であり、kは2〜7の数であり、pは1〜4の数である。m及びnは、n:m=1:1〜1:100且つm+n≧15となる数であって、且つ一般式(2)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。また、mを繰り返し数とする重合部分と、nを繰り返し数とする重合部分とは、ブロック状であってもランダム状であってもよい。) - (A1)上記一般式(1)においてZが水素原子である請求項1記載のケイ素含有化合物、(B1)上記一般式(1)においてZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基である請求項1記載のケイ素含有化合物、及び(C)ヒドロシリル化反応触媒を含有してなる硬化性組成物。
- (A2)上記一般式(2)においてZが水素原子である請求項2記載のケイ素含有化合物、(B2)上記一般式(2)においてZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基である請求項2記載のケイ素含有化合物、及び(C)ヒドロシリル化反応触媒を含有してなる硬化性組成物。
- さらに、上記(A1)若しくは(B1)成分のケイ素含有化合物又は上記(A2)若しくは(B2)成分のケイ素含有化合物と反応できる化合物(D)を含有してなる請求項3又は4に記載の硬化性組成物。
- さらに金属酸化物微粉末(E)を含有してなる請求項3〜5のいずれかに記載の硬化性組成物。
- 上記金属酸化物微粉末(E)が二酸化ケイ素類である請求項6記載の硬化性組成物。
- 上記金属酸化物微粉末(E)が酸化アルミニウムである請求項6記載の硬化性組成物。
- 請求項3〜8のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
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