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JP5248032B2 - ケイ素含有化合物、硬化性組成物及び硬化物 - Google Patents

ケイ素含有化合物、硬化性組成物及び硬化物 Download PDF

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Description

本発明は、特定の構造を有する新規なケイ素含有化合物、該化合物を含有してなる硬化性組成物、及び該組成物を熱硬化させてなる硬化物に関し、詳しくは、ハンドリング性及び硬化性に優れ、透明性及び可撓性に優れた硬化物を形成する硬化性組成物を与えるケイ素含有化合物、これを含有する硬化性組成物、並びに透明性及び可撓性に優れた硬化物に関する。
有機性素材及び無機性素材を組み合わせた複合材料は、さまざまな研究がなされており、工業的にも、有機高分子に無機充填剤を複合させる手法や、金属表面を有機高分子で修飾するコーティングの手法等が利用されている。これらの有機・無機複合材料では、それを構成している素材がマイクロメートルオーダー以上の大きさを持っているため、一部の物性を予想以上に向上させることはできるものの、他の多くの性能や物性は、単純に有機性素材及び無機性素材それぞれの性能や物性の加成則から予想される値を示すに過ぎない。
一方、近年、有機性素材及び無機性素材の各素材のドメインの大きさがナノメートルオーダー、更には分子レベルで組み合わされた有機・無機複合材料が盛んに研究されている。このような材料は、各素材としての特性を併せ持つのみならず、各素材の長所を兼ね備え、更には加成則では予想ができない、各素材自体とは全く異なる新しい機能性を有する材料となることが期待される。
このような有機・無機複合材料には、共有結合を介して一方の素材及び他方の素材が分子レベルで結合された化学結合型、並びに、一方の素材をマトリックスとして、この中に他方の素材を微細に分散・複合化させた混合型がある。これらの有機・無機複合材料に使用される無機性素材を合成する手法としてゾル・ゲル法がよく利用されているが、このゾル・ゲル法とは、前駆体分子の加水分解とそれに続く重縮合反応により、架橋した無機酸化物が低温で得られる反応である。このゾル・ゲル法で得られる無機性素材は、短期間でゲル化する等、保存安定性が悪いという問題がある。
非特許文献1では、アルキルトリアルコキシシランのアルキル基の鎖長による縮合速度の相違に着目し、メチルトリメトキシシランの重縮合後に、重縮合速度の遅い長鎖アルキルトリアルコキシシランを添加して、ポリシロキサン中のシラノール基を封止すること、更には、アルミニウム触媒を用いてメチルトリメトキシシランの重縮合反応を行い、所定の分子量に到達した時点でアセチルアセトンを添加して、反応系中で配位子交換を行うことにより、保存安定性の改良を試みている。しかし、これらの方法では、保存安定性の改善は不充分であった。また、ゾル・ゲル法で得られた無機性素材は可撓性に問題があった。
これに対し、化学結合型の有機・無機複合材料として、特定のケイ素含有重合体を含有する硬化性組成物が提案されている。例えば、特許文献1には、橋かけ構造を有しアルケニル又アルキニル基を有するケイ素含有重合体(A)と、橋かけ構造を有しシラン基を有する珪素含有重合体(B)と、白金系触媒(D)とを含有し、ハンドリング性及び硬化性に優れ、得られる硬化物の耐熱性にも優れたケイ素含有硬化性組成物が開示されている。しかし、このケイ素含有硬化性組成物は、硬化特性が必ずしも充分とは言えず、低温、短時間で充分な性能を有する硬化物を得ることができないという問題を有していた。
日本化学会誌、No.9、571(1998) 特開2005−325174号公報
本発明の目的は、ハンドリング性及び硬化性に優れ、得られる硬化物が透明性及び可撓性に優れる硬化性組成物を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決すべく検討を進めた結果、特定の構造を有するケイ素含有化合物及びこれを含有してなる硬化性組成物が、上記の課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、下記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物を提供するものである。
Figure 0005248032
(式中、Ra〜Rdは、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、Reは、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、Reが複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Zは、炭素原子数2〜4のアルケニル基はアルキニル基であり、Kは2〜7の数であり、Tは1〜7の数であり、K及びTはK−T≦1を満たし、Pは0〜3の数である。Mは一般式(1)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
また、本発明は、(A1)下記一般式(1’)で表されるケイ素含有化合物、(B1)記ケイ素含有化合物、及び(C)ヒドロシリル化反応触媒を含有してなる硬化性組成物を提供するものである。
Figure 0005248032
(式中、R a 〜R d は、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、R e は、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、R e が複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Kは2〜7の数であり、Tは1〜7の数であり、K及びTはK−T≦1を満たし、Pは0〜3の数である。Mは一般式(1’)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
また、本発明は、上記硬化性組成物を硬化させてなるケイ素含有硬化物を提供するものである。
本発明によれば、ハンドリング性及び硬化性に優れた硬化性組成物、耐熱性、透明性及び柔軟性に優れた硬化物、並びにこれらを与えるケイ素含有化合物を提供することができる。
まず、上記一般式(1)で表される本発明のケイ素含有化合物について説明する。
上記一般式(1)において、Ra〜Reで表される炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第2ブチル、第3ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第3アミル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、イソヘプチル、第3ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第3オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル等が挙げられる。
また、Reで表される飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基は、置換基である飽和脂肪族炭化水素基も含めた全体で炭素原子数が6〜12である。置換基である飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、上に例示した飽和脂肪族炭化水素基のうち、上記炭素原子数を満たすことができるものを採用することができる。従って、Reで表される飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第3ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、2,4,5−トリメチルフェニル等が挙げられる。
また、Yで表される炭素原子数2〜4のアルキレン基としては、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH(CH3)−等が挙げられる。
Zで表される炭素原子数2〜4のアルケニル基としては、CH2=CH−、CH2=CH−CH2−、CH2=CH−CH2−CH2−、CH2=C(CH3)−、CH2=C(CH3)−CH2−、CH2=CH−CH(CH3)−等が挙げられ、Zで表される炭素原子数2〜4のアルキニル基としては、例えば下記の基が挙げられる。
Figure 0005248032
上記一般式(1)で表される本発明のケイ素含有化合物の好ましい形態は、下記一般式(2)で表されるケイ素含有化合物である。下記一般式(2)で表されるケイ素含有化合物は、上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物のうち、T=Kのものである。通常の合成手法により得られるものは、下記一般式(2)で表されるケイ素含有化合物か、上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物の複数種の混合物であって、下記一般式(2)で表されるケイ素含有化合物を主な成分とするものである。例えば、上記一般式(1)のK−Tが1より大きい数である化合物は、シクロポリシロキサン環を導入する化合物として多官能の(RaSiHO)Kで表されるシクロポリシロキサンを用いた場合であっても、生成はわずかである。これは、シクロポリシロキサンの2つ以上のSi−Hに非環状のポリシロキサンがYを介して結合した化合物の生成は、エネルギー的に大きく不利であるためである。
Figure 0005248032
(式中、Ra〜Rdは、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、Reは、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、Reが複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Zは、水素原子又は炭素原子数2〜4のアルケニル基若しくはアルキニル基であり、kは2〜7の数であり、pは1〜4の数である。mは一般式(2)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
上記一般式(1)又は一般式(2)におけるRa〜Rdは、得られる硬化物の耐熱性が良好であるので、メチル基が好ましい。
また、上記一般式(1)又は一般式(2)におけるReは、得られる硬化物の耐光性が良好であるので、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、得られる硬化物の耐熱性も良好であるので、メチル基がより好ましい。
また、上記一般式(2)におけるkは、2〜7である。7より大きいと、官能基数が多すぎて得られる硬化物に必要な可撓性が得られない。kは、2〜5であるものが工業的に容易に原料入手が可能であり、官能基の数が適正なので好ましく、3が最も好ましい。
本発明のケイ素含有化合物の質量平均分子量は、3000〜100万である。3000より小さいと得られる硬化物の耐熱性が不充分となり、100万より大きいと粘度が大きくなりハンドリングに支障をきたす。質量平均分子量は、5000〜50万が好ましく、1万〜10万がより好ましい。
本発明のケイ素含有化合物は、その製造方法により、特に制限されることはなく、周知の反応を応用して製造することができる。以降の製造方法は、本発明のケイ素含有化合物の上記一般式(2)で表されるものを代表として、上記一般式(2)におけるZが水素原子であるものと、Zが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基であるものについて、順に説明する。
尚、以下、上記一般式(1)又は(2)におけるZが水素原子であるものを、それぞれケイ素含有化合物(A1)又は(A2)、上記一般式(1)又は(2)におけるZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基であるものを、それぞれケイ素含有化合物(B1)又は(B2)とする。
上記一般式(2)におけるZが水素原子であるケイ素含有化合物(A2)の製造方法について以下に説明する。
ケイ素含有化合物(A2)は、例えば、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)を前駆体として、環状ポリシロキサン化合物(a2)を反応させることで得ることができる。
上記の不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)は、1種類又は2種類以上の2官能シラン化合物を加水分解による縮合反応を行った後、pが1の場合は1官能モノシラン化合物、pが3の場合は3官能モノシラン化合物、pが4の場合は4官能モノシラン化合物と反応させ、更に不飽和基を有する1官能シラン化合物と反応させて得ることができる。pが2の場合は、縮合反応の後、不飽和基を有する1官能のシラン化合物と反応させて得ることができる。これらのシラン化合物の官能基として代表的なものは、アルコキシ基、ハロゲン基又は水酸基である。不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)と環状ポリシロキサン化合物(a2)は、(a1)の不飽和結合炭素と(a2)のSi−H基との反応により結合させる。
上記の不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)の製造に用いられる上記2官能シラン化合物の例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジオクチルジメトキシシラン、ジオクチルジエトキシシラン等のジアルコキシモノシラン化合物;これらのジアルコキシモノシラン化合物のアルコキシ基の1つ又は2つを、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物;これらのモノシラン化合物が2つ以上縮合したジシロキサン化合物及びオリゴシロキサン化合物が挙げられる。
上記1官能モノシラン化合物としては、例えば、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、トリブチルエトキシシラン、トリオクチルメトキシシラン、トリオクチルエトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、メチルジフェニルエトキシシラン、ジメチルフェニルエトキシシラン等のモノアルコキシシラン化合物;これらのモノアルコキシシラン化合物のアルコキシ基をフッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記3官能モノシラン化合物としては、トリスエトキシメチルシラン、トリスメトキシメチルシラン、トリスエトキシエチルシラン、トリスメトキシエチルシラン、トリスエトキシブチルシラン、トリスメトキシブチルシラン、トリスエトキシオクチルシラン、トリスメトキシオクチルシラン、トリスエトキシフェニルシラン、トリスメトキシフェニルシラン等のトリスアルコキシシラン化合物;これらのトリスアルコキシシラン化合物の1〜3個のアルコキシ基を、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記4官能モノシラン化合物としては、テトラキスエトキシシラン、テトラキスメトキシシラン等のテトラキスアルコキシシラン化合物;これらのテトラキスアルコキシシラン化合物の1〜4個のアルコキシ基をフッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記の不飽和基を有する1官能のシラン化合物としては、ジメチルビニルクロロシラン、ジメチルビニルメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルビニルクロロシラン、ジフェニルビニルエトキシシラン、ジフェニルビニルメトキシシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン、メチルフェニルエトキシシラン、メチルフェニルメトキシシラン等が挙げられる。
上記環状ポリシロキサン化合物(a2)としては、1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサン、1,3,5,7,9,11,13−ヘプタメチルシクロヘプタシロキサン、1,3,5,7,9,11,13,15−オクタメチルシクロオクタシロキサン、1,3,5−トリエチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラエチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタエチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサエチルシクロヘキサシロキサン、1,3,5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサフェニルシクロヘキサシロキサン等が挙げられる。
尚、上記の2官能シラン化合物、1官能モノシラン化合物、3官能モノシラン化合物、4官能モノシラン化合物、不飽和基を有する1官能のシラン化合物、又は環状ポリシロキサン化合物(a2)として、それぞれの化合物が有する水素原子の一部又は全部が、重水素及び/又はフッ素に置換されているものを用いると、後述する、本発明のケイ素含有化合物の水素原子の一部又は全部が、重水素及び/又はフッ素に置換された化合物を得ることができる。
ケイ素含有化合物(A2)の前駆体である不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)を得るための加水分解による縮合反応は、いわゆるゾル・ゲル反応により行えばよい。2官能シラン化合物の加水分解・縮合反応は、アルコキシ基やハロゲン基が水によって加水分解しシラノール基(Si−OH基)を生成し、この生成したシラノール基同士、シラノール基とアルコキシ基、又はシラノール基とハロゲン基が縮合することにより進行する。この加水分解反応を速やかに進ませるためには、適量の水を加えることが好ましく、触媒を加えてもよい。また、空気中の水分、又は水以外の溶媒中に含まれる微量の水によってもこの縮合反応は進行する。この反応には溶媒を用いてもよく、溶媒としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、水や、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の親水性有機溶剤が挙げられ、これらは1種で又は2種以上を混合して用いることができる。
また、上記の触媒としては、酸又は塩基を使用することができ、具体的には、例えば、塩酸、リン酸、硫酸等の無機酸類;酢酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸モノイソプロピル等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン化合物(有機塩基)類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタン化合物類;ジブチル錫ラウレート、オクチル錫酸等の錫化合物類;トリフルオロボラン等のホウ素化合物類;アルミニウムトリスアセチルアセテート等のアルミニウム化合物類;鉄、コバルト、マンガン、亜鉛等の金属の塩化物、並びにこれらの金属のナフテン酸塩及びオクチル酸塩等の金属カルボン酸塩類等が挙げられ、これらは1種類で又は2種以上併用で使用することができる。また、2種以上の2官能シラン化合物からの加水分解・縮合反応を行う場合、それぞれ単独である程度加水分解を行ってから、両者を混合して更に加水分解縮合反応を行ってもよく、すべてを混合して一度に加水分解・縮合反応を行ってもよい。
前駆体である不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)は、上述したように、上記の加水分解・縮合反応の後、さらに、pが1の場合は1官能モノシラン化合物と、pが3の場合は3官能モノシラン化合物と、pが4の場合は4官能モノシラン化合物と反応させてから、不飽和基を有する1官能のシラン化合物と反応させて得ることができ、pが2の場合は、不飽和基を有する1官能のシラン化合物と反応させて得ることができる。
前駆体である不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)と環状ポリシロキサン化合物(a2)との反応は、ヒドロシリル化反応による方法を用いればよい。例えば、ケイ素含有化合物(A2)は、非環状ポリシロキサン化合物(a1)と環状ポリシロキサン化合物(a2)とを混合し、白金触媒を任意量添加した後に加熱することで得られる。
上記一般式(2)におけるZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基であるケイ素含有化合物(B2)の製造方法について以下に説明する。
ケイ素含有化合物(B2)は、例えば、非環状ポリシロキサン化合物(b1)を前駆体として、不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物(b2)を反応させることで得ることができる。非環状ポリシロキサン化合物(b1)は、1種類又は2種類以上の2官能のシラン化合物を加水分解による縮合反応を行った後、pが1の場合は1官能モノシラン化合物と、pが3の場合は3官能モノシラン化合物と、pが4の場合は4官能モノシラン化合物と反応させ、更にSi−H基導入化合物と反応させて得ることができる。非環状ポリシロキサン化合物(b1)と不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物(b2)とは、(b1)のSi−H基と(b2)の不飽和基との反応により結合させる。上記の2官能シラン化合物の代表的な官能基は、アルコキシ基、ハロゲン基又は水酸基である。
上記の非環状ポリシロキサン化合物(b1)の製造に用いられる上記2官能シラン化合物の例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジオクチルジメトキシシラン、ジオクチルジエトキシシラン等のジアルコキシモノシラン化合物;これらのジアルコキシモノシラン化合物のアルコキシ基の1つ又は2つを、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物;これらのモノシラン化合物が2つ以上縮合したジシロキサン化合物及びオリゴシロキサン化合物が挙げられる。
上記1官能モノシラン化合物としては、例えば、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、トリブチルエトキシシラン、トリオクチルメトキシシラン、トリオクチルエトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、メチルジフェニルエトキシシラン、ジメチルフェニルエトキシシラン等のモノアルコキシシラン化合物;これらのモノアルコキシシラン化合物のアルコキシ基をフッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記3官能モノシラン化合物としては、例えば、トリスエトキシメチルシラン、トリスメトキシメチルシラン、トリスエトキシエチルシラン、トリスメトキシエチルシラン、トリスエトキシブチルシラン、トリスメトキシブチルシラン、トリスエトキシオクチルシラン、トリスメトキシオクチルシラン、トリスエトキシフェニルシラン、トリスメトキシフェニルシラン等のトリスアルコキシシラン化合物;これらのトリスアルコキシシラン化合物の1〜3個のアルコキシ基を、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記4官能モノシラン化合物としては、例えば、テトラキスエトキシシラン、テトラキスメトキシシラン等のテトラキシアルコキシシラン化合物;これらのテトラキスアルコキシシラン化合物の1〜4個のアルコキシ基を、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択されるハロゲン原子又は水酸基に置き換えたモノシラン化合物が挙げられる。
上記の不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物(b2)としては、1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリビニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサメチル1,3,5,7,9,11−ヘキサビニルシクロヘキサシロキサン、1,3,5,7,9,11,13−ヘプタメチル−1,3,5,7,9,11,13−ヘプタビニルシクロヘプタシロキサン、1,3,5,7,9,11,13,15−オクタメチル−1,3,5,7,9,11,13,15−オクタビニルシクロオクタシロキサン、1,3,5−トリフェニル−1,3,5−トリビニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラフェニル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタフェニル−1,3,5,7,9−ペンタビニルシクロペンタシロキサン等が挙げられる。
上記Si−H基導入化合物としては、ジメチルクロロシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジフェニルクロロシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、フェニルメチルクロロシラン、フェニルメチルメトキシシラン、フェニルメチルエトキシシラン、ヒドロキシジメチルシラン、ヒドロキシジフェニルシラン、ヒドロキシフェニルメチルシラン等が挙げられる。
尚、上記の2官能シラン化合物、1官能モノシラン化合物、3官能モノシラン化合物、4官能モノシラン化合物、Si−H基導入化合物、又は不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物(b2)として、それぞれの化合物が有する水素原子の一部又は全部が重水素及び/又はフッ素に置換されているものを用いると、後述する、本発明のケイ素含有化合物の水素原子の一部又は全部が、重水素及び/又はフッ素に置換された化合物を得ることができる。
ケイ素含有化合物(B2)の前駆体である非環状ポリシロキサン化合物(b1)を得るための加水分解による縮合反応は、いわゆるゾル・ゲル反応により行えばよく、これについては、前記の不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1)で説明したゾル・ゲル反応と同様である。
前駆体である非環状ポリシロキサン化合物(b1)と不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物(b2)との反応は、ヒドロシリル化反応による方法を用いればよい。例えば、非環状ポリシロキサン化合物(b1)と不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物(b2)とを混合し、白金触媒を任意量添加した後に加熱することで、ケイ素含有化合物(B2)が得られる。
本発明のケイ素含有化合物は、後述するように硬化性組成物の主成分として用いることができるほか、他の高分子化合物や高分子組成物と混合されて、樹脂、プラスチック改質剤等の用途に用いることもできる。
尚、本発明のケイ素含有化合物の範囲外ではあるが、前記一般式(1)又は(2)中の非環状のシロキサン鎖中には、ホウ素、マグネシウム、アルミニウム、リン、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、亜鉛、ニオブ、タンタル、スズ、テルル等のケイ素以外の元素を導入することが可能である。その方法としては、例えば、これらの他元素供給誘導体を併用して加水分解・縮合反応を行い、シロキサン鎖中にケイ素以外の元素を組み込む方法が挙げられる。また、前記のケイ素含有化合物の水素原子の一部又は全部が、重水素及び/又はフッ素に置換されたものも存在し得る。
次に、本発明の硬化性組成物について説明する。
本発明の硬化性組成物は、上記一般式(1)におけるZが水素原子であるケイ素含有化合物(A1)、上記一般式(1)におけるZが炭素原子数2〜4のアルケニル基又はアルキニル基であるケイ素含有化合物(B1)、及びヒドロシリル化反応触媒(C)を必須成分として含有する組成物である。本発明の硬化性組成物は、ケイ素含有化合物(A1)のZ基とケイ素含有化合物(B1)のZ基とを、熱及びヒドロシリル化反応触媒(C)の作用により反応させて硬化する。本発明の硬化性組成物が含有するケイ素含有化合物(A1)及びケイ素含有化合物(B1)それぞれの好ましい形態は、前述したケイ素含有化合物(A2)及びケイ素含有化合物(B2)である。
本発明の硬化性組成物は、ケイ素含有化合物(A1)100質量部に対して、ケイ素含有化合物(B1)を5〜5000質量部含有することが好ましく、10〜1000質量部がより好ましい。また、ヒドロシリル化反応触媒(C)の含有量は、硬化性及び保存安定性の点で、本発明の硬化性組成物中において5質量%以下が好ましく、0.0001〜1.0質量%がより好ましい。5質量%よりも多いと硬化性組成物の安定性に影響を及ぼす場合がある。
本発明に係るヒドロシリル化反応触媒(C)は、ヒドロシリル化反応を促進する白金、パラジウム及びロジウムからなる群から選択される一種以上の金属を含有する公知の触媒である。例えば、白金系触媒としては、白金−カルボニルビニルメチル錯体、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体、白金−オクチルアルデヒド錯体等が挙げられる。パラジウム系触媒及びロジウム系触媒としては、例えば、該白金系触媒において、白金の代わりに同じく白金系金属であるパラジウム又はロジウム等を含有する化合物が挙げられる。これらは一種で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。特に硬化性の点から、白金を含有するものが好ましく、具体的には、白金−カルボニルビニルメチル錯体が好ましい。また、クロロトリストリフェニルホスフィンロジウム(I)等の、上記白金系金属を含有するいわゆるWilkinson触媒も、ヒドロシリル化反応触媒(C)に含まれる。
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて、ケイ素含有化合物(A1)あるいはケイ素含有化合物(B1)と反応できる化合物(D)を含有させてもよい。
該化合物(D)は、例えば密着性向上の目的で使用することができる。該化合物(D)は、前記のケイ素含有化合物(A1)中のSi−H基と反応する化合物、又は前記のケイ素含有化合物(B1)中のアルケニル基若しくはアルキニル基と反応する化合物であり、1種類で又は2種類以上混合で用いられる。化合物種としては、特に限定されないが、ポリシロキサン化合物が硬化物の耐熱性の観点から好ましい。該ポリシロキサン化合物としては、例えば、直鎖又は分岐を有するポリジメチルシロキサンの両末端にビニル基、アセチレン基、Si−H基等の基を有するシリコーン;直鎖又は分岐を有するジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム及び/又はブロック体の両末端に、ビニル基、アセチレン基、Si−H基等の基を有するシリコーン;直鎖又は分岐を有するポリジメチルシロキサンのメチル基の一部がビニル基、アセチレン基及びSi−H基から選ばれる基に置換されたシリコーン;直鎖又は分岐を有するジメチルシロキサンとジフェニルシロキサンのランダム及び/又はブロック体のメチル基又はフェニル基の一部が、ビニル基、アセチレン基及びSi−H基から選ばれる基と置換されたシリコーン;ビニル基、アセチレン基、Si−H基等の基を有するレジン等が挙げられる。
該化合物(D)を使用する場合の使用量は、反応する相手であるケイ素含有化合物(A1)及びケイ素含有化合物(B1)の合計量に対して50質量%以下が好ましい。50質量%より多いと、得られる硬化物の柔軟性及び耐光性が低下する場合がある。
本発明の硬化性組成物には、更に任意の成分として、無機性のフィラー、耐候性付与剤等の成分を配合してもよい。
上記の無機性のフィラーとしては、例えば、いわゆる充填剤、鉱物等の無機材料や、これらを有機変性処理等によって改質したものが挙げられる。具体的には、例えば、コロイダルシリカ、シリカフィラー、シリカゲル等の二酸化ケイ素類;酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物;マイカ、モンモリロナイト、けい石、珪藻土類、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、ミネソタイト、パイロフィライト等の鉱物類;これらを有機変性処理等によって改質したしたものが挙げられる。
上記の無機性のフィラーの粒径は、耐熱性の点から100μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましい。また、硬化物の用途が透明性を重視する場合は、少ない使用量で効果の大きい1μm以下の微粒子が好ましい。本発明の硬化性組成物における無機性のフィラーの含有量は、透明性を重視する場合は使用しないかできる限り少ない使用が好ましいので、0〜10質量%が好ましく、耐熱性向上、増粘、チクソ性付与のために使用する場合は、10〜90質量%が好ましい。
上記耐候性付与剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤等の周知一般に用いられているものを使用することができる。例えば、光安定剤としてはヒンダードアミン類が挙げられ、紫外線吸収剤としては、2−ヒドロキシベンゾフェノン類、2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4,6−ジアリール−1,3,5−トリアジン類、ベンゾエート類、シアノアクリレート類が挙げられ、フェノール系酸化防止剤としてはトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ジブチルヒドロキシトルエン(BHT)、2,6−ジ−t−ブチル−パラクレゾール(DBPC)等が挙げられ、硫黄系酸化防止剤としては、ジアルキルチオジプロピオネート類、β−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられ、リン系酸化防止剤としては、有機ホスファイト類が挙げられる。
上記耐候性付与剤を使用する場合、その含有量は、耐熱性、電気特性、硬化性、力学特性、保存安定性、ハンドリング性の点から、本発明の硬化性組成物中において0.0001〜50質量%が好ましく、0.001〜10質量%がさらに好ましい。
本発明の硬化性組成物には、本発明の目的とする性能を損なわない範囲で、その他の公知の各種樹脂、添加剤、充填剤等を配合することができる。任意に配合できる各種樹脂の例としては、ポリイミド樹脂、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等のポリエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が挙げられ、任意に配合できる添加剤の例としては、帯電防止剤等が挙げられる。
ケイ素含有化合物(A1)、ケイ素含有化合物(B1)及びヒドロシリル化反応触媒(C)以外の任意成分の使用量は、本発明の目的とする性能を損なわないために、ケイ素含有化合物(A1)とケイ素含有化合物(B1)との合計量100質量部に対して、好ましくは合計で10質量部以下とする。
本発明の硬化性組成物は、室温(25℃)で良好な流動性があり、ハンドリング性に優れる。流動性に関しては、無機性のフィラーを含まない状態で、室温(25℃)においてE型粘度計で測定した粘度が50Pa・S以下であるのが好ましく、10Pa・S以下であるのがより好ましい。
また、本発明の硬化性組成物の硬化物は、耐熱性、耐クラック性、透明性、耐光性等に優れている。詳しくは、本発明の硬化性組成物からは、硬化物の5質量%の質量減少を来たす温度が300℃以上、より好ましくは400℃以上の硬化物が好適に得られる。また、クラック発生の少ない硬化物が好適に得られる。
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化させてなるものである。硬化させる際の加熱温度は0〜300℃が好ましく、100〜200℃がより好ましい。硬化時間は0.1〜10時間が好ましく、0.5〜6時間がより好ましい。これらの硬化反応条件下で硬化反応を行うことにより、本発明の硬化性組成物から、耐熱性、耐クラック性等に優れた性能を有する硬化物を得ることができる。
本発明の硬化物は、優れた物性を有し、特に、透明性、耐熱性、耐クラック性、耐光性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、耐汚染性、難燃性、耐湿性、ガスバリヤ性、可撓性、伸びや強度、電気絶縁性、低誘電率性等の力学特性、光学特性、電気特性等に優れた材料である。
本発明のケイ素含有化合物を含有してなる本発明の硬化性組成物は、安定性、硬化性等に優れ、更にその硬化物は、耐クラック性、耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性、耐候性、光学特性、電気特性等の諸物性に優れる。本発明の硬化性組成物は、電気・電子材料分野における表示材料・光材料・記録材料・半導体等の封止材料、高電圧絶縁材料、絶縁・防振・防水・防湿を目的としたポッティング・シーリング材、プラスチック部品の試作母型、コーティング材料、層間絶縁膜、絶縁用パッキング、熱収縮ゴムチューブ、O−リング、表示デバイス用シール剤・保護材、光導波路、光ファイバー保護材、光学レンズ、光学機器用接着剤、高耐熱性接着剤、高放熱性材料、高耐熱シール材、太陽電池・燃料電池用部材、電池用固体電解質、絶縁被覆材、複写機用感光ドラム、ガス分離膜等に応用できる。また、土木・建材分野におけるコンクリート保護材、ライニング、土壌注入剤、シーリング剤、蓄冷熱材、ガラスコーティング等へも応用することが可能であり、さらに医療用材料分野においても、チューブ、シール材、コーティング材料、滅菌処理装置用シール材、コンタクトレンズ、酸素富化膜等に応用することが可能である。
以下、実施例等により本発明を更に説明するが、本発明はこれらの実施例等によって限定されるものではない。尚、実施例中の「部」や「%」は質量基準によるものである。尚、以下の実施例1〜15のうち、実施例1、3及び5は参考例である。



[合成例1]
ジクロロジメチルシラン100部を、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後に、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルビニルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−1)を得た。下記条件でのGPCによる分析の結果、非環状ポリシロキサン化合物(a1−1)の分子量はMw=20,000であった。なお、以降のGPCは全てこの条件で行った。
(GPCの測定条件)
カラム:東ソー株式会社製TSK-GEL MULTIPORE HXL M、7.8mm X 300mm、
展開溶媒:テトラヒドロフラン
[実施例1]
合成例1で得た非環状ポリシロキサン化合物(a1−1)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(A−1)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(A−1)の分子量は、Mw=22,000であった。
[合成例2]
ジクロロジメチルシラン100部を、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)を得た。GPCによる分析の結果、非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)の分子量はMw=20,000であった。
[実施例2]
合成例2で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(B−1)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(B−1)の分子量はMw=22,000であった。
[合成例3]
ジクロロジメチルシラン100部を、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水した。ピリジンを20部加え、さらにメチルトリクロロシラン0.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、この溶液を半分に分割した。
一方に、不飽和結合を有する1官能シラン化合物であるジメチルビニルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−2)を得た。
他方に、Si−H基導入化合物であるジメチルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、非環状ポリシロキサン化合物(b1−2)を得た。
[実施例3]
合成例3で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−2)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及びと環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(A−2)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(A−2)の分子量はMw=42,000であった。
[実施例4]
合成例3で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−2)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(B−2)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(B−2)の分子量はMw=42,000であった。
[合成例4]
ジクロロジメチルシラン100部を、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間反応させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水した。ピリジンを20部加え、さらにテトラクロロシラン0.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、この溶液を半分に分割した。
一方に、不飽和結合を有する1官能シラン化合物であるジメチルビニルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−3)を得た。
他方に、Si−H基導入化合物であるジメチルクロロシラン2.5部を加え、室温で30分、さらに70℃で30分攪拌した後、イオン交換水で水洗することでピリジン塩酸塩を除いて、非環状ポリシロキサン化合物(b1−3)を得た。
[実施例5]
合成例4で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(a1−3)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(A−3)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(A−3)の分子量はMw=52,000であった。
[実施例6]
合成例4で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−3)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−ビニルシクロテトラロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(B−3)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(B−3)の分子量はMw=52,000であった。
[実施例7]
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)50部と実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)50部とを混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.1を得た。
[実施例8]
実施例3で得たケイ素含有化合物(A−2)50部と実施例4で得たケイ素含有化合物(B−2)50部とを混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.2を得た。
[実施例9]
実施例5で得たケイ素含有化合物(A−3)50部と実施例6で得たケイ素含有化合物(B−3)50部とを混合したものに、ヒドロシリル化反応触媒(C)として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、硬化性組成物No.3を得た。
[比較例1]
上記合成例1で得た不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン(a1−1)50部と上記合成例2で得た非環状ポリシロキサン化合物(b1−1)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−1)を得た。
[比較例2]
ジメチルジメトキシシラン及びビニルメチルジメトキシシランをモノマーとしてランダム縮合させたポリシロキサン(Mw:30,000、ビニル基量:3.5mmol/g)50部と、ジメチルジメトキシシラン及びメチルジメトキシシランをモノマーとしてランダム縮合させたポリシロキサン(Mw:30,000、Si−H基量:3.5mmol/g)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−2)を得た。
[比較例3]
ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びジメチルジメトキシシランをモノマーとして、モル比で1:4:5の割合でランダム縮合させたポリシロキサンレジン(Mw:30,000、ビニル基量:3.5mmol/g)50部と、トリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン及びジメチルジメトキシシランをモノマーとして、モル比で1:4:5の割合でランダム縮合させたポリシロキサンレジン(Mw:30,000、Si−H基量:3.5mmol/g)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−3)を得た。
[比較例4]
実施例1で得たケイ素含有化合物(A−1)50部と、両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン(Mw:20,000)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−4)を得た。
[比較例5]
実施例2で得たケイ素含有化合物(B−1)50部と、両末端Si−H基ポリジメチルシロキサン(Mw:20,000)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−5)を得た。
[比較例6]
ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン9部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルビニルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(比a1−1)を得た。
得られた不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(比a1−1)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(比A−1)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(比A−1)の分子量は、Mw=22,000であった。
一方、ジクロロジメチルシラン90部とジクロロジフェニルシラン10部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、非環状ポリシロキサン化合物(比b1−1)を得た。
得られた非環状ポリシロキサン化合物(比b1−1)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(比B−1)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(比B−1)の分子量はMw=22,000であった。
上記ケイ素含有化合物(比A−1)50部と上記ケイ素含有化合物(比B−1)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−6)を得た。
[比較例7]
ジクロロジメチルシラン75部とジクロロジフェニルシラン24部とを混合し、100部のイオン交換水、50部のトルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルビニルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(比a1−2)を得た。
得られた不飽和結合を有する非環状ポリシロキサン化合物(比a1−2)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(比A−2)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(比A−2)の分子量は、Mw=22,000であった。
一方、ジクロロジメチルシラン75部とジクロロジフェニルシラン24部とを混合し、100部のイオン交換水、50の部トルエン及び450部の48%水酸化ナトリウム水溶液の混合物中に滴下し、105℃で5時間重合させた。得られた反応溶液を500部のイオン交換水で水洗した後、このトルエン溶液を脱水し、ピリジンを20部加え、これにさらにジメチルクロロシラン20部を加えて70℃で30分間攪拌した。その後、100部のイオン交換水で水洗した後、150℃で溶媒を減圧留去した。次に100部のアセトニトリルで洗浄し、その後、70℃で溶媒を減圧留去し、非環状ポリシロキサン化合物(比b1−2)を得た。
得られた非環状ポリシロキサン化合物(比b1−2)100部をトルエン200部に溶かし、白金触媒0.003部、及び不飽和結合を有する環状ポリシロキサン化合物である1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン10部を加え、105℃で2時間反応させた。70℃で溶媒を減圧留去した後にアセトニトリル100部で洗浄した。その後、70℃で溶媒を減圧留去し、ケイ素含有化合物(比B−2)を得た。GPCによる分析の結果、ケイ素含有化合物(比B−2)の分子量はMw=22,000であった。
上記ケイ素含有化合物(比A−2)50部と上記ケイ素含有化合物(比B−2)50部とを混合したものに、硬化触媒として白金-カルボニルビニルメチル錯体0.005部を混合して、比較用の硬化性組成物(比−7)を得た。
[実施例10〜12、比較例8〜12]
上記実施例7〜9で得た硬化性組成物No.1〜3及び比較例1〜5で得た比較用硬化性組成物(比−1)〜(比−5)それぞれを、アルミ板上に膜厚約1mmに製膜し、150℃で30分加熱して硬化させて、硬化物No.1〜3及び硬化物 比1〜5を得た。尚、使用した硬化性組成物の番号と得られた硬化物の番号とはそれぞれ対応している。これらの硬化物について、硬化状態の評価及び180度曲げ試験を、以下のようにして行なった。
硬化状態については、所定硬化時間後の硬化膜のタック感有無で判断し、流動性のある状態は×、流動性がなくともタック感のあるものはその度合いにより△〜○、タックフリーであれば◎とした。
180度曲げ試験においては、アルミ板上に膜厚約1mmに製膜して得た硬化膜を180度曲げた時の膜の状態を観察した。180度折り曲げ時に、膜にクラックや剥がれが無いサンプルは○、180度ではクラックが発生するが、90度ではクラックや剥がれが発生しないサンプルは△、90度でクラックが発生するサンプルは×とした。
結果を表1に示す。
Figure 0005248032
表1から明らかなように、実施例10〜12の硬化物No.1〜3は、比較例9〜12の硬化物 比2〜5と比べて、硬化状態については同等であるか向上しており、180度曲げ試験についてはいずれも向上している。また、硬化性組成物(比−1)からは、充分な固形硬化物が得られなかった。これらのことから、本発明の構成をとることにより、硬化状態及び柔軟性が向上することが確認できた。
[実施例13〜15、比較例13、14]
上記実施例7〜9で得た硬化性組成物No.1〜3、及び上記比較例6、7で得た硬化性組成物(比−6)、(比−7)を、それぞれ、20mm×20mm×3mmの型に流し込み、150℃で1hr加熱して、厚さ3mmの硬化物No.4〜6及び比6、比7を得た。これらの硬化物について、高圧水銀灯を用いて、365nmでの出力9.96W/cmの放射線2時間照射による光劣化試験を行った。光劣化試験前後の400nmの透過率を表2に示す。
Figure 0005248032
表2から明らかなように、実施例13〜15の硬化物No.4〜6は、いずれも、比較例11、12の硬化物 比6、比7と比べて耐光性が向上している。このことから、Ra〜Reが脂肪族のみからなる硬化性組成物を硬化させた硬化物は、耐光性が良好であることが確認できた。

Claims (9)

  1. 下記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物。
    Figure 0005248032
    (式中、Ra〜Rdは、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、Reは、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、Reが複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Zは、炭素原子数2〜4のアルケニル基はアルキニル基であり、Kは2〜7の数であり、Tは1〜7の数であり、K及びTはK−T≦1を満たし、Pは0〜3の数である。Mは一般式(1)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
  2. 下記一般式(2)で表されるケイ素含有化合物。
    Figure 0005248032
    (式中、Ra〜Rdは、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、Reは、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族
    炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、Re
    が複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Zは、炭素原子数2〜4のアルケニル基はアルキニル基であり、kは2〜7の数であり、pは1〜4の数である。mは一般式(2)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
  3. eが炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基である請求項1又は2に記載のケイ素含有化合物。
  4. a〜Reが全てメチル基である請求項1又は2に記載のケイ素含有化合物。
  5. (A1)下記一般式(1’)で表されるケイ素含有化合物、(B1)請求項1記載のケイ素含有化合物、及び(C)ヒドロシリル化反応触媒を含有してなる硬化性組成物。
    Figure 0005248032
    (式中、R a 〜R d は、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、R e は、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、R e が複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、Kは2〜7の数であり、Tは1〜7の数であり、K及びTはK−T≦1を満たし、Pは0〜3の数である。Mは一般式(1’)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
  6. (A2)下記一般式(2’)で表されるケイ素含有化合物、(B2)請求項2記載のケイ素含有化合物、及び(C)ヒドロシリル化反応触媒を含有してなる硬化性組成物。
    Figure 0005248032
    (式中、R a 〜R d は、同一でも異なっていてもよい炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基であり、R e は、炭素原子数1〜12の飽和脂肪族炭化水素基、又は、飽和脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい炭素原子数6〜12の芳香族炭化水素基であり、R e が複数ある場合は、それらは同一でも異なってもよい。Yは炭素原子数2〜4のアルキレン基であり、kは2〜7の数であり、pは1〜4の数である。mは一般式(2’)で表されるケイ素含有化合物の質量平均分子量を3000〜100万とする数である。)
  7. 上記(A1)成分のケイ素含有化合物は、上記一般式(1’)におけるR a 〜R e が全てメチル基であり、上記(B1)成分のケイ素含有化合物は、上記一般式(1)におけるRa〜Reが全てメチル基である請求項5に記載の硬化性組成物。
  8. 上記(A2)成分のケイ素含有化合物は、上記一般式(2’)におけるR a 〜R e が全てメチル基であり、上記(B2)成分のケイ素含有化合物は、上記一般式(2)におけるRa〜Reが全てメチル基である請求項6に記載の硬化性組成物。
  9. 請求項5〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化させてなる硬化物。
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