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JP2003183698A - 浴室用洗浄剤組成物 - Google Patents

浴室用洗浄剤組成物

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Publication number
JP2003183698A
JP2003183698A JP2001388014A JP2001388014A JP2003183698A JP 2003183698 A JP2003183698 A JP 2003183698A JP 2001388014 A JP2001388014 A JP 2001388014A JP 2001388014 A JP2001388014 A JP 2001388014A JP 2003183698 A JP2003183698 A JP 2003183698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
methyl
ether
ethyl
acetate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001388014A
Other languages
English (en)
Inventor
Ayako Suzuki
彩子 鈴木
Hiroshi Yamagishi
弘 山岸
Daisuke Kudo
大介 工藤
Hiroshi Miyake
博 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lion Corp filed Critical Lion Corp
Priority to JP2001388014A priority Critical patent/JP2003183698A/ja
Publication of JP2003183698A publication Critical patent/JP2003183698A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 繊維強化プラスチックを含むプラスチック
類、タイル、ステンレス、ホーロー、陶磁器、ガラス等
に対して優れた洗浄効果等を有する浴室用洗浄剤組成物
を提供する。 【解決手段】 少なくとも界面活性剤、キレート剤、高
分子化合物、溶剤及び香料を含有することを特徴とする
浴室用洗浄剤組成物。キレート剤の具体例としては、金
属イオン封鎖剤又はその塩が使用される。金属イオン封
鎖剤としては、例えば、有機カルボン酸類、アミノカル
ボン酸類、ホスホン酸類、ホスホノカルボン酸類、リン
酸類等が挙げられる。 【効果】 洗浄力、泡質、すすぎ性及び防汚性に優れ
る。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、繊維強化プラスチ
ックを含むプラスチック類、タイル、ステンレス、ホー
ロー、陶磁器、ガラス等に対する浴室用洗浄剤組成物に
関し、更に詳しくは、洗浄力、泡質、すすぎ性、防汚性
に優れた浴室用洗浄剤組成物に関する。 【0002】 【従来の技術】一般に、浴槽、浴室内の床、壁及び用具
類等に使用されている繊維強化プラスチックを含むプラ
スチック類、タイル、ステンレス、陶磁器、ガラス等の
硬表面に付着する主な汚れの1つとして、石鹸やボディ
ーシャンプー等に含まれる脂肪酸と水道水中のカルシウ
ム分等が結合して生成する脂肪酸金属塩(石鹸カス)が
挙げられる。 【0003】従来、このような汚れを除去する洗浄剤の
開発が数多く行われており、例えば、特開昭53−35
710号公報には、アニオン界面活性剤、ノニオン界面
活性剤、グリコールエーテル系溶剤、クエン酸等のキレ
ート剤を組み合わせた浴室洗浄剤が開示され、特開昭6
1−283696号公報には、カチオン性界面活性剤及
び非イオン性界面活性剤を組み合わせた中性洗浄剤が開
示され、特開昭61−283697号公報には、カチオ
ン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び水溶性溶剤
を組み合わせた洗浄剤が開示され、特開昭61−283
700号公報には、カチオン性界面活性剤、非イオン性
界面活性剤及びマレイン酸を組み合わせた洗浄剤が開示
され、特開昭63−51500号公報には、界面活性
剤、アミノカルボン酸からなる洗浄力向上剤、グリコー
ル溶剤を組み合わせた浴室用洗浄剤が開示され、特開平
1−2211497号公報には、カチオン性界面活性
剤、非イオン性界面活性剤、アミノカルボン酸及び溶剤
を組み合わせた浴室用洗浄剤等が開示されている。 【0004】浴室の汚れは、上記脂肪酸金属塩(石鹸カ
ス)の他にも、タンパク質等の含窒素化合物、遊離脂肪
酸、グリセライド類等の有機物及び泥等の無機物が挙げ
られる。実際には、各汚れは、それぞれ単独成分で存在
していることは極めて稀であり、例えば、浴室の人体の
皮脂汚れは、人体洗浄剤、毛髪洗浄剤と複合した汚れを
形成している。 【0005】しかしながら、上記各公報に開示される洗
浄剤は、このような複合汚れの洗浄力と泡質、すすぎ性
を同時に満足するものではないという課題があり、洗浄
力、泡質およびすすぎ性のいずれにも優れた洗浄剤組成
物が望まれているのが現状である。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
課題などに鑑み、これを解消しようとするものであり、
優れた洗浄力、泡質、すすぎ性および防汚性を同時に有
する浴室用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記従来
の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、皮脂汚
れ等に効果的な洗浄力を発揮する界面活性剤と、それに
複合した石鹸カス汚れ等に有効なキレート剤をその至適
pHで組合せ洗浄効果を高め、また高分子化合物を含有
することにより汚れの表面に対する付着力を弱め複合汚
れの形成を抑制することで、上記目的の洗浄剤組成物が
得られることを見い出し、本発明を完成するに至ったの
である。すなわち、本発明の浴室用洗浄剤組成物は、少
なくとも界面活性剤、キレート剤、高分子化合物、溶剤
及び香料を含有することを特徴とする。 【0008】 【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
しく説明する。本発明の浴室用洗浄剤組成物は、少なく
とも界面活性剤、キレート剤、高分子化合物、溶剤及び
香料を含有することを特徴とするものである。 【0009】本発明に用いる界面活性剤は、皮脂汚れ等
に対して、効果的な洗浄力を発揮せしめるために使用す
るものである。本発明に用いることができる代表的な界
面活性剤を下記(1)〜(4)に具体的に例示する。これら
は、単独で、または2種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。 (1) 陰イオン性界面活性剤 硫酸アルキル塩、硫酸アルキルポリオキシエチレン塩、
アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホ
ン酸塩、脂肪酸塩、α−スルホ脂肪酸塩、エーテルカル
ボン酸塩、リン酸アルキル塩、リン酸アルキルポリオキ
シエチレン塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、
スルホコハク酸アルキル塩、アルケニルコハク酸塩、N
−アシルアミノ酸塩、N−アシルメチルタウリン塩等が
挙げられ、これら陰イオン性界面活性剤の対イオン(陽
イオン)は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イ
オン、アルカノールアミンイオン、アンモニウムイオン
等である。 【0010】(2) 陽イオン性界面活性剤 アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチ
ルアンモニウム塩、アルキルアンモニウム塩、ベンザル
コニウム塩、ベンゼトニウム塩、ピリジニウム塩、イミ
ダゾリニウム塩等が挙げられ、これらの陽イオン性界面
活性剤の対イオン(陰イオン)は、ハロゲンイオン等で
ある。 (3) 両性界面活性剤 アルキルカルボキシベタイン、アルキルスルホベタイ
ン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミ
ドベタイン、イミダゾリニウムベタイン等が挙げられ
る。 (4) 非イオン性界面活性剤 ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル、脂肪酸ポリグリ
セリンエステル、脂肪酸ショ糖エステル、脂肪酸アルカ
ノールアミド、アルキルアミンオキサイド、アミドアミ
ンオキサイド等が挙げられる。 【0011】これらの界面活性剤の含有量は、洗浄剤組
成物全量に対して、0.01〜15質量%(以下、
「%」と略する)とすることが好ましく、更に好ましく
は、0.1〜10%とすることが望ましい。これらの界
面活性剤の含有量が0.01%未満であると、洗浄力が
充分でなくなり、また、15%を越えると、それ以上の
効果が得られず、経済的でなく、好ましくない。 【0012】本発明に用いるキレート剤は、複合した石
鹸カス汚れ等に対して優れた洗浄性能を発揮せしめるも
のである。本発明に用いるキレート剤の具体例として
は、金属イオン封鎖剤又はその塩が使用される。金属イ
オン封鎖剤としては、通常使用されるものであれば特に
限定されないが、例えば、有機カルボン酸類、アミノカ
ルボン酸類、ホスホン酸類、ホスホノカルボン酸類、リ
ン酸類等が挙げられる。有機カルボン酸類としては、酢
酸、アジピン酸、モノクロル酢酸、シュウ酸、コハク
酸、オキシジコハク酸、カルボキシメチルコハク酸、カ
ルボキシメチルオキシコハク酸等、またグリコール酸、
ジグリコール酸、乳酸、酒石酸、カルボキシメチル酒石
酸、クエン酸、リンゴ酸、グルコン酸等のヒドロキシカ
ルボン酸物質を挙げることができる。アミノカルボン酸
類としては、ニトリロトリ酢酸、イミノジ酢酸、エチレ
ンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミノペンタ酢
酸、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミン酢酸、エチ
レンジアミンテトラプロピオン酢酸、トリエチレンテト
ラミンヘキサ酢酸、エチレングリコールジエーテルジア
ミンテトラ酢酸、ヒドロキシエチルイミノジ酢酸、シク
ロヘキサン−1,2−ジアミンテトラ酢酸、ジエンコル
酸等を挙げることができる。ホスホン酸類としては、エ
タン−1、1−ジホスホン酸、エタン−1、1、2−ト
リホスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1、1−ジホス
ホン酸およびその誘導体、1−ヒドロキシエタン−1、
1、2−トリホスホン酸、エタン−1、2−ジカルボキ
シ−1、2−ジホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン
酸、アミノトリメチレンホスホン酸等を挙げることがで
きる。ホスホノカルボン酸類としては、2−ホスホノブ
タン−1、2−ジカルボン酸、1−ホスホノブタン−
2、3、4−トリカルボン酸、α−メチルホスホノコハ
ク酸等を挙げることができる。リン酸類としては、オル
ソリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、メタリン酸、
ヘキサメタリン酸、フィチン酸等の縮合リン酸等を挙げ
ることができる。これら金属イオン封鎖剤は、酸の形で
も使用可能であるし、カリウム、ナトリウム等のアルカ
リ金属との塩、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンと
の塩等、塩基性物質との塩の形で使用することも可能で
ある。これらのキレート剤は、単独で、または、2種以
上を混合して用いることができる。 【0013】これらのキレート剤の含有量は、洗浄剤組
成物全量に対して、0.01〜15%とすることが好ま
しく、更に好ましくは、1〜10%とすることが望まし
い。これらのキレート剤の含有量が0.01%未満であ
ると、洗浄力が充分でなくなり、また、15%を越える
と、それ以上の効果が得られず、経済的でなく、好まし
くない。 【0014】本発明に用いる高分子化合物は、汚れの表
面に対する付着力を弱め複合汚れの形成を抑制するため
に含有するものである。本発明に用いる高分子化合物の
具体例としては、例えば、アニオン性基含有ビニル系単
量体、カチオン性基含有ビニル系単量体、ノニオン性基
含有ビニル系単量体からなる共重合体が挙げられる。具
体的には、アニオン性基含有ビニル系単量体としては、
ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタクリルスル
ホン酸、スチレンスルホン酸等のスルホン酸類、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸等のカル
ボン酸類、またはその塩等が挙げられる。カチオン性基
含有単量体としては、アクリル酸-N,N-ジメチルアミノ
エチル、アクリル酸-N,N-ジプロピルアミノエチル、メ
タクリル酸-N,N-ジエチルアミノエチル、メタクリル酸-
N,N-ジプロピルアミノエチル等のアクリル酸-N,N-ジア
ルキルアミノアルキル、メタクリル酸-N,N-ジアルキル
アミノアルキル及びそれらのハロゲン化アルキルによる
四級化物等、また、N-〔(N,N-ジメチルアミノ)プロピ
ル〕アクリルアミド、N-〔(N,N-ジエチルアミノ)プロピ
ル〕アクリルアミド、N-〔(N,N-ジメチルアミノ)プロピ
ル〕メタクリルアミド、N-〔(N,N-ジメチルアミノ)プロ
ピル〕メタクリルアミド等のN-〔(N,N-ジアルキルアミ
ノ)アルキル〕アクリルアミド、N-〔(N,N-ジアルキルア
ミノ)アルキル〕メタクリルアミド及びこれらのハロゲ
ン化アルキルによる四級化物等が挙げられ、上記ハロゲ
ン化アルキルとしては、例えば、塩化メチル、塩化エチ
ル、臭化メチル、臭化エチル、よう化メチル、ベンジル
クロリド等が挙げられる。ノニオン性ビニル系単量体
は、イオン性基を持たないものであれば、特に限定され
ずに用いることができ、例えば、炭素数1〜30の直鎖
または分岐鎖状のアクリル酸アルキルエステル類および
メタクリル酸アルキルエステル類、スチレン、α-メチ
ルスチレン等の芳香族ビニル系化合物等が挙げられる。
これらのアニオン性基含有ビニル系単量体、カチオン性
基含有ビニル系単量体、ノニオン性基含有ビニル系単量
体などの高分子化合物は、それぞれ1種用いても良い
し、2種以上を組み合わせて用いても良い。 【0015】更に、本発明に用いることができる高分子
化合物としては、天然高分子のアラビアガム、トラガン
トガム、キサンタンガム、グアーガム、ローカストビー
ンガム、ジェランガム、アルギン酸、カラギーナン、半
合成高分子のメチルセルロース、エチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒトロキシプロピルセルロ
ース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、カチオン化セルロース、合成高分子のポリアクリル
酸、ポリ-α-ヒドロキシアクリル酸、アクリル酸系共重
合体、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エ
ステル系、ノニオン系ポリアクリルアミド、アニオン系
ポリアクリルアミド、カチオン系ポリアクリルアミド、
ポリアミノアルキルメタクリレート、アクリルアミド/
アクリル酸共重合体、ポリビニルスルホン酸、ポリスチ
レンスルホン酸、スルホン化マレイン酸、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコ
ール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエーテル変性シ
リコン等を挙げることができ、これらは、単独で、また
は、2種以上を混合して用いることができる。 【0016】これらの高分子化合物の含有量は、洗浄剤
組成物全量に対して、0.01〜10%とすることが好
ましく、更に好ましくは、0.1〜5%とすることが望
ましい。これらの高分子化合物の含有量が0.01%未
満であると、充分な防汚効果及び効果の持続性が得られ
なくなり、また、10%を越えると、それ以上の効果が
得られず、経済的でなく、好ましくない。 【0017】本発明に溶剤の具体例としては、特に制限
されないが、例えば、ジエチレングリコールモノプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、ジエチレングリコ−ルモノブチルエ−テル、プ
ロピレングリコ−ルジエチレングリコ−ルモノブチルエ
−テル、ジプロピレングリコ−ルエチレングリコ−ルモ
ノブチルエ−テル、ジエチレングリコールモノイソブチ
ルエーテル、プロピレングリコ−ルジエチレングリコ−
ルモノイソブチルエ−テル、ジプロピレングリコ−ルエ
チレングリコ−ルモノイソブチルエ−テル、ジエチレン
グリコ−ルモノ−s−ブチルエ−テル、プロピレングリ
コ−ルジエチレングリコ−ルモノ−s−ブチルエ−テ
ル、ジプロピレングリコ−ルエチレングリコ−ルモノ−
s−ブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノ−t−
ブチルエ−テル、プロピレングリコ−ルジエチレングリ
コ−ルモノ−t−ブチルエ−テル、ジプロピレングリコ
−ルエチレングリコ−ルモノ−t−ブチルエ−テル、ト
リエチレングリコールモノペンチルエーテル、テトラエ
チレングリコールモノペンチルエーテル、ペンタエチレ
ングリコールモノペンチルエーテル、ペンタエチレング
リコールプロピレングリコールモノペンチルエーテル、
トリエチレングリコールモノイソペンチルエーテル、テ
トラエチレングリコールモノイソペンチルエーテル、ペ
ンタエチレングリコールモノイソペンチルエーテル、ペ
ンタエチレングリコールプロピレングリコールモノイソ
ペンチルエーテル、トリエチレングリコールモノシクロ
ペンチルエーテル、テトラエチレングリコールモノシク
ロペンチルエーテル、ペンタエチレングリコールプロピ
レングリコールモノシクロペンチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノヘキシルエーテル、テトラエチレン
グリコールモノヘキシルエーテル、ペンタエチレングリ
コールモノヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコー
ルプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエ
チレングリコールモノ(1,3−ジメチルブチル)エー
テル、テトラエチレングリコールモノ(1,3−ジメチ
ルブチル)エーテル、ペンタエチレングリコールモノ
(1,3−ジメチルブチル)エーテル、ヘキサエチレン
グリコールプロピレングリコールモノ(1,3−ジメチ
ルブチル)エーテル、トリエチレングリコールモノシク
ロヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールモノシ
クロヘキシルエーテル、ペンタエチレングリコールモノ
シクロヘキシルエーテル、ヘキサエチレングリコールプ
ロピレングリコールモノシクロヘキシルエーテル、テト
ラエチレングリコールモノヘプチルエーテル、ペンタエ
チレングリコールモノヘプチルエーテル、ヘキサエチレ
ングリコールモノヘプチルエーテル、ヘプタエチレング
リコールプロピレングリコールモノヘプチルエーテル、
テトラエチレングリコールモノイソヘプチルエーテル、
ペンタエチレングリコールモノイソヘプチルエーテル、
ヘキサエチレングリコールモノイソヘプチルエーテル、
ヘプタエチレングリコールプロピレングリコールモノイ
ソヘプチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
(3−メチルーヘキシル)エーテル、ペンタエチレング
リコールモノ(3−メチルーヘキシル)エーテル、ヘキ
サエチレングリコールモノ(3−メチルーヘキシル)エ
ーテル、ヘプタエチレングリコールプロピレングリコー
ルモノ(3−メチルーヘキシル)エーテル、テトラエチ
レングリコールモノ(5−メチルーヘキシル)エーテ
ル、ペンタエチレングリコールモノ(5−メチルーヘキ
シル)エーテル、ヘキサエチレングリコールモノ(5−
メチルーヘキシル)エーテル、ヘプタエチレングリコー
ルプロピレングリコールモノ(5−メチルーヘキシル)
エーテル、テトラエチレングリコールモノオクチルエー
テル、ペンタエチレングリコールモノオクチルエーテ
ル、ヘキサエチレングリコールモノオクチルエーテル、
オクタエチレングリコールプロピレングリコールモノオ
クチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ(1−
メチルヘプチル)エーテル、ペンタエチレングリコール
モノ(1−メチルヘプチル)エーテル、ヘキサエチレン
グリコールモノ(1−メチルヘプチル)エーテル、オク
タエチレングリコールプロピレングリコールモノ(1−
メチルヘプチル)エーテル、テトラエチレングリコール
モノ(2−エチルヘキシル)エーテル、ペンタエチレン
グリコールモノ(2−エチルヘキシル)エーテル、ヘキ
サエチレングリコールモノ(2−エチルヘキシル)エー
テル、オクタエチレングリコールプロピレングリコール
モノ(2−エチルヘキシル)エーテル、ジエチレングリ
コ−ルモノフェニルエ−テル、トリエチレングリコ−ル
モノフェニルエ−テル、ジエチレングリコールモノベン
ジルエーテル等が挙げられる。これらの溶剤は、単独
で、または、2種以上を混合して用いることができる。 【0018】これらの溶剤の含有量は、洗浄剤組成物全
量に対して、0.1〜30%とすることが好ましく、更
に好ましくは、1〜20%とすることが望ましい。これ
らの溶剤の含有量が0.1%未満であると、洗浄力が充
分でなくなり、また、30%を越えると、それ以上の効
果が得られず、経済的でなく、好ましくない。 【0019】本発明に用いる香料としては、特に限定す
るものではないが、例えば、脂肪族炭化水素、テルペン
炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素類、脂肪族アル
コール、テルペンアルコール、芳香族アルコール等のア
ルコール類、脂肪族エーテル、芳香族エーテル等のエー
テル類、脂肪族オキサイド、テルペン類のオキサイド等
のオキサイド類、脂肪族アルデヒド、テルペン系アルデ
ヒド、水素化芳香族アルデヒド、チオアルデヒド、芳香
族アルデヒド等のアルデヒド類、脂肪族ケトン、テルペ
ンケトン、水素化芳香族ケトン、脂肪族環状ケトン、非
ベンゼン系芳香族ケトン、芳香族ケトン等のケトン類、
アセタール類、ケタール類、フェノール類、フェノール
エーテル類、脂肪酸、テルペン系カルボン酸、水素化芳
香族カルボン酸、芳香族カルボン酸等の酸類、酸アマイ
ド類、脂肪族ラクトン、大環状ラクトン、テルペン系ラ
クトン、水素化芳香族ラクトン、芳香族ラクトン等のラ
クトン類、脂肪族エステル、フラン系カルボン酸エステ
ル、脂肪族環状カルボン酸エステル、シクロヘキシルカ
ルボン酸族エステル、テルペン系カルボン酸エステル、
芳香族カルボン酸エステル等のエステル類、ニトロムス
ク類、ニトリル、アミン、ピリジン類、キノリン類、ピ
ロール、インドール等の含窒素化合物等々の合成香料及
び植物からの天然香料を挙げることができ、これらは1
種または2種以上の混合して用いることができる。 【0020】具体的に用いることができる香料として
は、香料として使用される香料原料リスト、例えば、
「Perfume and Flavor Chemi
cals」,Vol.I and II,Steffen
Arctander,Allured Pub.C
o.(1994)および「合成香料 化学と商品知
識」、印藤元一著、化学工業日報社(1996)および
「Perfume and Flavor Mater
ials of Natural Origin 」,
Steffen Arctander,Allured
Pub.Co.(1994 )および「香りの百
科」、日本香料協会編、朝倉書店(1989)および
「Perfumery Material Perfo
rmance V.3.3」,Boelens Aro
ma Chemical Information S
ervice(1996)および「Flower oi
ls and Floral Compounds I
n Perfumery」,DanuteLajauj
is Anonis,Allured Pub.Co.
(1993)等で見られ、それぞれを引用することによ
り本明細書の開示の一部とされる。 【0021】以下に香料の代表例を挙げるが、これらに
限定されるものではない。 <炭化水素系化合物>オシメン、ジヒドロミルセン、フ
ァルネセン、セドレン、α−ピネン、β−ピネン、リモ
ネン、ジペンテン、カンフェン、フェランドレン、テル
ピネン、3−カレン、テルピノーレン、ビサボレン、β
−カリオフィレン、カジネン、バレンセン、ツヨプセ
ン、グアイエン、アロオシメン、ミルセン、ロンギホレ
ン、ベルドラシン(1,3,5−ウンデカトリエン)、
p−サイメン、4−イソプロピル−1−メチル−2−プ
ロペニルベンゼン、ジフェニル、ジフェニルメタン、オ
レンジテルペン、レモンテルペン、ベルガモットテルペ
ン、ペパーミントテルペン、スペアミントテルペン、ラ
イムテルペン、ベチバーテルペン、ローズワックス、ジ
ャスミンワックス、リモネンダイマー、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカ
ン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナ
デカン、イコサン、ヘンイコサン、ドコサン、トリコサ
ン、テトラコサン、ペンタコサン、ヘキサコサン、ヘプ
タコサン、オクタコサン、ノナコサン、トリアコンタン
等が挙げられる。 【0022】<アルコール系化合物>3−メチル−1−
ペンタノール、ゲラニオール、セドロール、シトロネロ
ール、ロジノール、ネロール、ジヒドロリナロール、リ
ナロール、テトラヒドロリナロール、ジメチルオクタノ
ール、テトラヒドロムゴール、ムゴール、ミルセノー
ル、ジヒドロミルセノール、オシメノール、テトラヒド
ロミルセノール、ラバンジュロール、イソジヒドロラバ
ンジュロール、ヒドロキシシトロネロール、ノナディル
(6,8−ジメチル−2−ノナノール)、エチルリナロ
ール、イソプレゴール、テルピネオール、ジヒドロテル
ピネオール、テルピネオール−4、ペリラアルコール、
4−ツヤノール、3−ツヤノール、ファルネソール、ネ
ロリドール、α−ビサボロール、β−カリオフィレンア
ルコール、サンタロール、ベチベロール、セドレノー
ル、パチュリアルコール、ジヒドロカルベオール、フィ
トール、イソフィトール、スクラレオール、カルベオー
ル、メントール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノー
ル、3−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタ
ノール、3−オクタノール、2−エチルヘキサノール、
1−ノナノール、2−ノナノール、イソノニルアルコー
ル(3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノール)、1
−デカノール、1−ウンデカノール、2−ウンデカノー
ル、1−ドデカノール、プレノール(3−メチル−2−
ブテン−1−オール)、2−メチル−3−ブテン−2−
オール、β−ペンテノール(1−ペンテン−3−オー
ル)、リーフアルコール(cis−3−ヘキセノー
ル)、trans−2−ヘキセノール、trans−3
−ヘキセノール、cis−4−ヘキセノール、2,4−
ヘキサジエン−1−オール、マツタケオール(1−オク
テン−3−オール)、cis−6−ノネノール、キュカ
ンバーアルコール(2,6−ノナジエノール)、アンド
ロール(1−ノネン−3−オール)、ロザルバ(9−デ
セノール)、1−ウンデセノール、ウンデカベルトール
(4−メチル−3−デセン−5−オール)、オシロール
(3,7−ジメチル−7−メトキシ−2−オクタノー
ル)、サンタリノール(2−メチル−4−(2,2,3
−トリメチル−3−シクロペンテン−1−イル)−2−
ブテン−1−オール)、p,α−ジメチルベンジルアル
コール、2,2,6−トリメチルシクロヘキシル−3−
ヘキサノール、1,2−ペンタンジオール、ベンジルア
ルコール、アニスアルコール、β−フェニルエチルアル
コール、スチラリルアルコール(1−フェニル−1−ヒ
ドロキシエタン)、ヒドラトロパアルコール、メチルβ
−フェニルエチルアルコール、α−プロピルフェニルエ
チルアルコール、バニリルアルコール、デカヒドロβ−
ナフトール、フルフリルアルコール、3−メチル−1−
フェニル−3−ペンタノール、アミルシンナミックアル
コール、シンナミックアルコール、フェノキサノール
(3−メチル−5−フェニルペンタノール)、1,2−
ペンタンジオール、2−エチルヘキサノール、ジメトー
ル(2,6−ジメチルヘプタノール)、3,6−ジメチ
ル−3−オクタノール、コヒノール(3,4,5,6,
6−ペンタメチル−2−ヘプタノール)、ブラハマノー
ル(メチルトリメチルシクロペンテニルブタノール)、
バクダノール(2−エチル−4−(2,2,3−トリメ
チル−3−シクロペンテン−1−イル)−2−ブテン−
1−オール)、サンダロール(3−メチル−5−(2,
2,3−トリメチルシクロペンタ−3−エン−イル)−
ペンタン−2−オール)、シクロヘキシルエチルアルコ
ール、アポパチョン(p−イソプロピルシクロヘキサノ
ール)、フロラロール(2,4−ジメチル−3−シクロ
ヘキセン−1−メタノール)、パチョン(p−tert
−ブチルシクロヘキサノール)、ベルドール(o−te
rt−ブチルシクロヘキサノール)、マイヨール(p−
イソプロピルシクロヘキシルメタノール)、シクロメチ
レンシトロネロール、アンブリノール(2,5,5−ト
リメチル−オクタヒドロ−2−ナフトール)、メチルサ
ンデフロール(5’or6’−メチルノルボルン−5’
−エン−2−イル)−2−メチルペント−1−エン−3
−オール)、チンベロール(2,2,6−トリメチルシ
クロヘキシル−3−ヘキサノール)、ポリサントール
(3,3−ジメチル−5−(2,2,3−トリメチル−
3−シクロペンテン−1−イル)−4−ペンテン−2−
オール)、ヒドロキシシトロネロール、ノナディル
(6,8−ジメチル−2−ノナノール)、イソプレゴー
ル、イソシクロゲラニオール、ミルテノール、ノポール
(6,6−ジメチルビシクロ〔3.1.1〕ヘプト−2
−エン−2−エタノール)、ピノカルベオール、α−フ
ェンキルアルコール、ボルネオール、イソボルネオー
ル、パチョミント(2−(3,3−ジメチルビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−2−イリデン)エタノール)、
カメコール(トリメチルノルボルナンメタノール)、ジ
メチルサイクロモル、サンタレックスT(イソカンフィ
ルシクロヘキサノール)、ゲラニルリナロール、クミン
アルコール、2−メトキシフェニルエチルアルコール、
フェノキシエチルアルコール(1−ヒドロキシ−2−フ
ェノキシエタン)、α,α−ジメチルフェニルエチルア
ルコール、イソブチルベンジルカルビノール、p−メチ
ルベンジルカルビノール、ヒドロシンナミックアルコー
ル、センチフォール(1,1−ジメチル−3−フェニル
プロパノール−1)、ミュゲットアルコール(2,2−
ジメチル−3−フェニルプロパノール)、フェニルヘキ
サノール、デカヒドロβ−ナフトール、AR−1(3,
6−ジメチルオクタン−3−オール)、アビトール(ヒ
ドロアビエチルアルコール)、α−プロピルフェニルエ
チルアルコール、p−メチルジメチルベンジルカルビノ
ール、ムゲタノール(1−(4−イソプロピルシクロヘ
キシル)エタノール)、フロロール(2−イソブチル−
4−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラン)、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシ
レングリコール等が挙げられる。 【0023】<フェノール系及びフェノールエーテル系
化合物>アニソール、エストラゴール、チャビコール、
アネトール、クレオゾール、カルバクロール、p−クレ
ゾール、p−クレジルメチルエーテル、β−ナフトール
メチルエーテル、β−ナフトールエチルエーテル、β−
ナフトールイソブチルエーテル、ベラトロール(1,2
−ジメトキシベンゼン)、1,3−ジメトキシベンゼ
ン、1,4−ジメトキシベンゼン、カテコール、レゾル
シノール、グアヤコール、バルスパイス(4−メチルグ
アヤコール)、4−エチルグアヤコール、オルシニル3
(3−メトキシ−5−メチルフェノール)、チモール、
メチルチモール、プロペニルグアエトール(trans
−2−エトキシ−5−(1−プロペニル)−フェノー
ル)、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、
p−エチルフェノール、2−tert−ブチルフェノー
ル、シリンゴール(2,6−ジメトキシフェノール)、
ハイドロキノンジメチルエーテル、レゾルシンジメチル
エーテル、オイゲノール、イソオイゲノール、ジヒドロ
オイゲノール、メチルオイゲノール、メチルイソオイゲ
ノール、エチルイソオイゲノール、ベンジルオイゲノー
ル、ベンジルイソオイゲノール、ジオスフェノール、ヒ
ノキチオール、バニトロープ(1−エトキシ−2−ヒド
ロキシ−4−プロペニルベンゼン)、ショーガオール、
ジンゲロール、アセチルオイゲノール、アセチルイソオ
イゲノールサフロール、イソサフロール、ジフェニルオ
キサイド、ベチバーエーテル(tert−ブチルハイド
ロキノンジメチルエーテル)等が挙げられる。 【0024】<アルデヒド系化合物>シトロネラール、
シトラール、3,7−ジメチル−1−オクタナール、ヒ
ドロキシシトロネラール、メトキシシトロネラール、ペ
リラアルデヒド、ミルテナール、カリオフィレンアルデ
ヒド、n−ヘキサナール、2−メチルブタナール、イソ
バレルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、アセトアル
デヒド、n−ヘプタナール、n−オクタナール、n−ノ
ナナール、2−メチルオクタナール、3,5,5−トリ
メチルヘキサナール、1−デカナール、ウンデカナー
ル、ドデカナール、2−メチルデカナール、2−メチル
ウンデカナール、トリデカナール、テトラデカナール、
2−ペンテナール、cis−3−ヘキセナール、tra
ns−2−ヘキセナール、trans−2−ヘプテナー
ル、4−ヘプテナール、trans−2−オクテナー
ル、trans−2−ノネナール、cis−6−ノネナ
ール、メロナール(2,6−ジメチル−5−ヘプテナー
ル)、trans−4−デセナール、cis−4−デセ
ナール、trans−2−デセナール、グリナール
(2,5,6−トリメチル−4−ヘプテナール)、10
−ウンデセナール、trans−2−ウンデセナール、
trans−2−ドデセナール、マンダリンアルデヒド
(3−ドデセナール)、trans−2−トリデセナー
ル、アドキサール(2,6,10−トリメチル−9−ウ
ンデセン−1−アール)、2,4−ヘキサジエナール、
2,4−ヘプタジエナール、2,4−オクタジエナー
ル、2,4−ノナジエナール、2,6−ノナジエナー
ル、2,4−デカジエナール、2,4−ウンデカジエナ
ール、2,4−ドデカジエナール、ゲラルデヒド(5,
9−ジメチル−4,8−デカジエナール)、トリメナー
ル(3,7,9−トリメチル−2,6−デカジエン−1
−アール)、オンシダール(2,6,10−トリメチル
−5,9−ウンデカジエナール)、ベルガマール(α−
メチレンシトロネラール)、カンフォレンアルデヒド、
シクロシトラール、イソシクロシトラール、サフラナー
ル(2,6,6−トリメチル−1,3−シクロヘキサジ
エン−1−カルボキシアルデヒド)、ミュゲアルデヒド
(6,10−ジメチル−3−オキサ−9−ウンデセナー
ル)、ゲラニルオキシアセトアルデヒド、トリプラール
(ジメチルテトラヒドロベンズアルデヒド)、クリサン
タール(3−プロピルビシクロ〔2,2,1〕−5−ヘ
プテン−2−カルボキシアルデヒド)、センテナール
(メトキシジシクロペンタジエンカルボキシアルデヒ
ド)、デュピカール(4−トリシクロデシリデンブタナ
ール)、4−(4−メチル−3−シクロヘキセニリデン
−1)ペンタナール、マイラックアルデヒド(4(3)
−(4−メチル−3−ペンテン−1−イル)−3−シク
ロヘキセン−1−カルボキシアルデヒド)、セトナール
(トリメチルシクロヘキセンメチルブタナール)、イノ
ナール(2−メチル−4−(2,6,6−トリメチル−
1(2)−シクロヘキセニル)−ブテナール)、テレス
トラール(4−シクロオクテン−1−カルボキシアルデ
ヒド)、ベンズアルデヒド、p−トリルアルデヒド、フ
ェニルアセトアルデヒド、トリフェルナール(3−フェ
ニルブタナール)、クミンアルデヒド、p−メチルフェ
ニルアセトアルデヒド、p−イソプロピルフェニルアセ
トアルデヒド、ヒドラトロパアルデヒド、p−メチルヒ
ドラトロパアルデヒド、p−イソプロピルヒドラトロパ
アルデヒド、フェニルプロピオンアルデヒド、β−メチ
ルヒドロシンナミックアルデヒド、ジャスモランジ(2
−メチル−3−(4−メチルフェニル)−プロパナー
ル)、ブルジェオナール(p−tert−ブチルヒドロ
シンナミックアルデヒド)、シクラメンアルデヒド(2
−メチル−3−(p−イソプロピルフェニル)−プロピ
オンアルデヒド)、フロラロゾン(p−エチル−α,α
−ジメチルヒドロシンナミックアルデヒド)、スザラー
ル(p−イソブチル−α−メチルヒドロシンナミックア
ルデヒド)、シンナミックアルデヒド、サリチルアルデ
ヒド、アニスアルデヒド、o−メトキシベンズアルデヒ
ド、o−メトキシシンナミックアルデヒド、カントキサ
ール(2−メチル−3−(p−メトキシフェニル)−プ
ロパナール)、バニリン、エチルバニリン、メチルバニ
リン(3,4−ジメトキシベンズアルデヒド)、ヘリオ
トロピン、ヘリオナール(α−メチル−3,4−メチレ
ンジオキシヒドロシンナミックアルデヒド)、フェノキ
シアセトアルデヒド、p−メチルフェノキシアセトアル
デヒド、フルフラール、5−メチルフルフラール、5−
ヒドロキシメチル−2−フルフラール、フリルアクロレ
イン、リラール(4(3)−(4−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)−3−シクロヘキセン−1−カルボキシ
アルデヒド)、ベルンアルデヒド(1−メチル−4−
(4−メチルペンチル)−3−シクロヘキセンカルボキ
シアルデヒド)、ホモマイラックアルデヒド(1−メチ
ル−4(4−メチル−3−ペンテニル)−3−シクロヘ
キセンカルボキシアルデヒド)、ジュニパール(4
(5)−ホルミル−7,7,9−トリメチルビシクロ
〔4.3.0〕−ノネン)、ヴェルトラール(オクタヒ
ドロ−4,7−メタノインデンカルボキシアルデヒ
ド)、リリアール(p−tert−ブチル−α−メチル
ヒドロシンナミックアルデヒド)、メフラナール(3−
メチル−5−フェニルバレラルデヒド)、エグランター
ル(4−メチル−2−フェニル−2−ペンテナール)、
コカール(5−メチル−2−フェニル−2−ヘキセナー
ル)、α−メチルシンナミックアルデヒド、α−ブチル
シンナミックアルデヒド、α−アミルシンナミックアル
デヒド、α−ヘキシルシンナミックアルデヒド、ホルミ
ルエチルテトラメチルテトラリン(6−エチル−7−フ
ォルミル−1,1,4,4−テトラメチル−1,2,
3,4−テトラヒドロナフタレン)等が挙げられる。 【0025】<アセタール系及びケタール系化合物>マ
グノラン(2,4−ジメチル−4,4a,5,9b−テ
トラヒドロインデノ〔1.2d〕−1,3−ジオキサ
ン)、アントキサン(4−イソプロピル−5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン)、インドフロール(ジヒド
ロインデニル−2,4−ジオキサン)、ボアサンブレン
フォルテ(ホルムアルデヒドシクロドデシルエチルアセ
タール)、アセトアルデヒドジエチルアセタール、リー
フアセタール(アセトアルデヒドエチルヘキセニルアセ
タール)、アセトアルデヒドエチルヘキシルアセター
ル、シトロネリルメチルアセタール、エリンタール(ア
セトアルデヒドエチルリナリルアセタール)、ボナロッ
クス(2,4−ジオキサン−3−メチル−7,10−メ
タノスピロ〔5.5〕ウンデカン)、エフェタール(ア
セトアルデヒドエチルフェニルアセタール)、アセトア
ルデヒドエチルイソオイゲニルアセタール、アセタール
R(アセトアルデヒドフェニルエチルn−プロピルアセ
タール)、フロロパール(アセトアルデヒド2−フェニ
ル−2,4−ペンタンジオールアセタール)、スピロフ
ロール(3−エチル−2,4−ジオキサスピロ〔5.
5〕ウンデセン−8−エン)、エチルジメチルジオキサ
スピロウンデセン、ヘルボキサン(2−ブチル−4,
4,6−トリメチル−1,3−ジオキサン)、カラナー
ル(2−(2,4−ジメチルシクロヘキ−3−セン−1
−イル)−5−メチル−5(1−メチルプロピル)1,
3−ジオキサン)、ヘキサナールジメチルアセタール、
ヘキサナールジエチルアセタール、ヘキサナールプロピ
レングリコールアセタール、カロティン(4,7−ジヒ
ドロ−2−(3−ペンタニル)−1,3−ジオキセピ
ン)、2−ヘキセナールジエチルアセタール、cis−
3−ヘキセナールジエチルアセタール、ヘプタナールジ
メチルアセタール、ヘプタナールジエチルアセタール、
ヘプタナールエチレングリコールアセタール、2−ヘキ
シル−5−メチル−1,3−ジオキソラン、5−メチル
−5−プロピル−2−(1−メチルブチル)−1,3−
ジオキサン、オクタナールジメチルアセタール、オクタ
ナールジエチルアセタール、ノナナールジメチルアセタ
ール、ノナナールジエチルアセタール、デカナールジメ
チルアセタール、デカナールジエチルアセタール、2−
メチルウンデカナールジメチルアセタール、ドデカナー
ルジメチルアセタール、シトラールジメチルアセター
ル、シトラールジエチルアセタール、シトラールプロピ
レングリコールアセタール、シトロネラールシクロモノ
グリコールアセタール、ヒドロキシシトロネラールジメ
チルアセタール、ヒドロキシシトロネラールジエチルア
セタール、cis−3−ヘキセナールジエチルアセター
ル、ベンズアルデヒドジメチルアセタール、ベンズアル
デヒドジエチルアセタール、ベンズアルデヒドプロピレ
ングリコールアセタール、ベンズアルデヒドグリセリン
アセタール、フェニルアセトアルデヒドジメチルアセタ
ール、フェニルアセトアルデヒドエチレングリコールア
セタール、フェニルアセトアルデヒドジイソブチルアセ
タール、フェニルアセトアルデヒドプロピレングリコー
ルアセタール、フェニルアセトアルデヒド2,3−ブチ
レングリコールアセタール、フェニルアセトアルデヒド
グリセリルアセタール、レセダボディ(フェニルアセト
アルデヒド−2,4−ジヒドロキシ−2−メチルペンタ
ンアセタール)、3−フェニルプロピオンアルデヒドジ
メチルアセタール、ヒドラトロパアルデヒドジメチルア
セタール、ヒドラトロパアルデヒドエチレングリコール
アセタール、オスミナールDMA(アミルシンナミック
アルデヒドジメチルアセタール)、オスミナールDEA
(アミルシンナミックアルデヒドジエチルアセター
ル)、ヘリオトロピンジメチルアセタール、ヘリオトロ
ピンジエチルアセタール、バニリンプロピレングリコー
ルアセタール、ベルドキサン(2,2,5,5−テトラ
メチル−4−イソプロピル−1,3−ジオキサン)、ア
ンバーセージ(4,7−ジヒドロ−2−イソペンチル−
2−メチル−1,3−ジオキセピン)、アセトケタール
(2,5,5−トリメチル−2−フェニル−1,3−ジ
オキサン)、ジャスモナン(2−ブチル−4−ジオキサ
スピロ〔4.4〕ノナノン)、フレイストン(エチル−
2,4−ジメチル−1,3−ジオキソラン−2−アセテ
ート)、フルクトン(エチル−2−メチル−1,3−ジ
オキソラン−2−アセテート)等が挙げられる。 【0026】<ケトン系化合物>アセチルカリオフィレ
ン、カルボン、プレゴン、ピペリテノン、ピペリトン、
メントン、ショウ脳、オキソセドラン、イソロンギフォ
ラノン、ヌートカトン、2−ヘプタノン、2−ペンタノ
ン、3−ヘキサノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノ
ン、2−オクタノン、3−オクタノン、2−ノナノン、
3−ノナノン、2−ウンデカノン、2−トリデカノン、
メチルイソプロピルケトン、エチルイソアミルケトン、
メシチルオキサイド、ブチリデンアセトン、メチルヘプ
タジエノン、メチルヘプテノン、ジメチルオクテノン、
コアボン(4−メチレン−3,5,6,6−テトラメチ
ル−2−ヘプタノン)、ゲラニルアセトン、ファルネシ
ルアセトン、アセトイン、ブチロイン(5−ヒドロキシ
−4−オクタノン)、メチルラベンダーケトン(3−ヒ
ドロキシメチル−2−ノナン)、ジアセチル、2,3−
ペンタジオン、2,3−ヘキサジオン、3,4−ヘキサ
ジオン、2、3−ヘプタジオン、アセチルイソバレリ
ル、アミルシクロペンタノン、アミルシクロペンテノ
ン、2−シクロペンチルシクロペンタノン、ヘキシルシ
クロペンタノン、フルウラモン(2−n−ヘプチルシク
ロペンタノン)、cis−ジャスモン、ジヒドロジャス
モン、イソジャスモン、トリメチルペンチルシクロペン
タノン、セダモン(2−ブチリデン−3,5,5(3,
3,5)−トリメチルシクロペンタノン)、サンデック
ス(3−メチル−5−(2,2,3−トリメチル−3−
シクロペンテニル)−3−ペンテン−2−オン)、シク
ロテン、コロノール(3,5−ジメチル−1,2−シク
ロペンタジオン)、メチルコリロン(3,4−ジメチル
1,2−シクロペンタジオン)、ベルドン(2−ter
t−ブチルシクロヘキサノン)、p−tert−ブチル
シクロヘキサノン、ヘルバック(3,3−ジメチルシク
ロヘキシルメチルケトン)、フレスコメンテ(2−se
c−ブチルシクロヘキサノン)、アルテモン(1−アセ
チル−3,3−ジメチル−1−シクロヘキセン)、セル
リーケトン(3−メチル−5−プロピル−2−シクロヘ
キセノン)、クリプトン(4−イソプロピル−2−シク
ロヘキサノン)、オリボン(p−tert−ペンチルシ
クロヘキサノン)、メチルシクロシトロン(2,3,5
−トリメチル−4−シクロヘキセニル−1−メチルケト
ン)、ネロン(1−(p−メンテン−6−イル)−1−
プロパン)、ベチバール(4−シクロヘキシル−4−メ
チル−2−ペンタノン)、ハバノール(2−(1−シク
ロヘキセン−1−イル)−シクロヘキサノン)、マルト
ール、エチルマルトール、オキサイドケトン(cis−
2−アセトニル−4−メチル−テトラヒドロピラン)、
エモキシフロン(5−エチル−3−ヒドロキシ−4−メ
チル−2〔5H〕−フラノン)、ホモフロール(2−エ
チル−4−ヒドロキシ−5−メチル−3〔2H〕−フラ
ノン and 5−エチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ル−3〔2H〕−フラノン)、ソトロン(3−ヒドロキ
シ−4,5−ジメチル−2〔5H〕−フラノン)、フラ
ネオール(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシ−3〔2
H〕−フラノン)、アセチルジメチルフラン、フルフラ
ールアセトン、2−アセチル−5−メチルフラン、2−
アセチルフラン、メチルテトラヒドロフラノン、ジベン
ジルケトン、ベンゾフェノン、メチルナフチルケトン、
4−ダマスコール(5−フェニル−5−メチル−3−ヘ
キサノン)、ベチコン(4−メチル−4−フェニル−2
−ペンタノン)、α−メチルアニサルアセトン、ヘリオ
トロピルアセトン、アニシリデンアセトン、アニシルア
セトン、p−メトキシフェニルアセトン、ラズベリーケ
トン(4−(p−ヒドロキシフェニル)−2−ブタノ
ン)、ラバンドゾン(3−メチル−4−フェニル−3−
ブテン−2−オン)、ベンジリデンアセトン、p−メト
キシアセトフェノン、p−メチルアセトフェノン、プロ
ピオフェノン、アセトフェノン、ダマセノン、ダマスコ
ン、イソダマスコン、α−ダイナスコン(1−(5,5
−ジメチルシクロヘキセン−1−イル)−4−ペンテン
−1−オン)、イリトン(4−(2,4,6−トリメチ
ル−3−シクロヘキセン−1−イル)−3−ブテン−2
−オン and 4−3,5,6−トリメチル−3−シ
クロヘキセン−1−イル)−3−ブテン−2−オン)、
ヨノン、プソイドヨノン、メチルヨノン、メチルイリト
ン(3−メチル−4−(2,4,6−トリメチル−3−
シクロヘキセニル)−3−ブテン−2−オン)、シクロ
ウッド(2,4−ジ−tert−ブチルシクロヘキサノ
ン)、イロン、アリルヨノン、2,6,6−トリメチル
−2−シクロヘキセン−1,4−ジオン、カメクDH
(2−アセチル−3,3−ジメチルノルボルナン)、フ
ロレックス(6−エチリデンオクタヒドロ−5,8−メ
タノ−2H−1−ベンゾピラン−2−オン)、プリカト
ン(4−メチルトリシクロ〔6.2.1.02,7〕ウ
ンデカン−5−オン)、オキソセドラン、ベルトフィッ
クス(9−アセチル−2,6,6,8−テトラメチルト
リシクロ〔5.3.11,7.01,5〕−8−ウンデセ
ン)、ベルベノン(4,6,6−トリメチル−(1R)
−ビシクロヘプト−3−エン−2−オン)、フェンコ
ン、カロン(7−メチル−3,5−ジヒドロ−2H−ベ
ンゾジオキセピン−3−オン)、トリモフィックスO
(2,6,10−トリメチル−1−アセチル−2,5,
9−シクロドデカトリエン)、ビタライド(アセチルジ
メチルテトラヒドロベンツインダン)、エピトン(7
(8)−アセチル−5−イソプロピル−2−メチルビシ
クロ〔2.2.2〕オクト−2−エン)、アトリノン
(4(5)−アセチル−7,7,9(7,7,9)−ト
リメチルビシクロ〔4.3.0〕−1−ノネン)、カシ
ュメラン(6,7−ジヒドロ−1,1,2,3,3−ペ
ンタメチル−4(5H)−インダノン)、ムスコン(3
−メチルシクロペンタデカノン−1)、シベトン(シク
ロヘプタデカ−9−エン−1−オン)、エキザルトン
(シクロペンタデカノン)、ムスクTM−II(シクロヘ
キサデセノン)、ファントリド(5−アセチル−1,
1,2,3,3,6−ヘキサメチルインダン)、セレス
トリド(4−アセチル−6−tert−ブチル−1,1
−ジメチルインダン)、トラセオライド(5−アセチル
−3−イソプロピル−1,1,2,6−テトラメチルイ
ンダン)、トナリド(6−アセチル−1,1,2,4,
4,7−ヘキサメチルテトラヒドロナフタレン)、ビタ
ライド(アセチルジメチルテトラヒドロベンズインダ
ン)、イソ・イー・スーパー(7−アセチル−1,2,
3,4,5,6,7,8−オクタヒドロ−1,1,6,
7−テトラメチルナフタレン)、ジヒドロカルボン、ジ
オスフェノール、ジンゲロン等が挙げられる。 【0027】<エーテル系化合物>メチルヘキシルエー
テル、デシルメチルエーテル、デシルビニルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、シトロネリルエチルエ
ーテル、ゲラニルエチルエーテル、α−テルピニルメチ
ルエーテル、ハーバベルト(3,3,5−トリメチルシ
クロヘキシルエチルエーテル)、イソボルニルメチルエ
ーテル、トリシクロデセニルメチルエーテル、イソプロ
キセン(2−エチリデン−6−イソプロポキシビシクロ
〔2.2.1〕ヘプタン)、ジュニパローム(メトキシ
ジメチルトリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ
ン)、シクロドデシルメチルエーテル、マドロックス
(1−メチルシクロドデシルメチルエーテル)、フィゼ
オール(2−エトキシ−2,6,6−トリメチル−9−
メチレンビシクロ〔3.3.1〕−ノナン)、セドラン
バー(セドロールメチルエーテル)、メチルベンジルエ
ーテル、メチルフェニルエチルエーテル、エチル2−メ
トキシベンジルエーテル、アリルフェニルエチルエーテ
ル、イソアミルベンジルエーテル、アンサー(イソアミ
ルフェニルエチルエーテル)、ジャセン(2−メチル−
2−ブテニルフェニルエチルエーテル)、ジベンジルエ
ーテル、シクロヘキシルフェニルエーテル、ミロオキサ
イド(オシメンエポキシド)、リモネンオキサイド(p
−メンタ−8−エン−1,2−エポキシド)、ルボフィ
クス(スピロ〔1,4−メタノナフタレン−2(1
H),2’−オキシラン〕,−3,4,4a,5,8,
8a−ヘキサヒドロ−3’,7−ジメチル and ス
ピロ〔1,4−メタノナフタレン−2(1H),2’−
オキシラン〕,−3,4,4a,5,8,8a−ヘキサ
ヒドロ−3’,6−ジメチル)、トリメチルシクロドデ
カトリエンエポキシド、カリオフィレンオキサイド、セ
ドレンエポキシド、イソロンギフォレンエポキシド、リ
ナロールオキサイド、シトロオキサイド(2,2−ジメ
チル−5(1−メチル−1−プロペニル)−テトラヒド
ロフラン)、ヘルボオキサイド(5−イソプロペニル−
2−メチル−2−ビニルテトラヒドロフラン)、ローズ
フラン(3−メチル−2−(3−メチル−2−ブテニ
ル)−フラン)、ヘプタベルト(2−ヘプチルテトラヒ
ドロフラン)、メントフラン、テアスピラン、オキシベ
ット(2−オキサスピロ〔4,7〕ドデカン)、ムスコ
ゲン(3−オキサビシクロ〔10.3.0〕−6−ペン
タデセン)、シクランバー(13−オキサビシクロ〔1
0.3.0〕ペンタデカン)、アンブロキサン(デカヒ
ドロ−3a,6,6,9a−テトラメチルナフト〔2.
1−b〕フラン)、グリサルバ(3a−エチルドデカヒ
ドロ−6,6,9a−トリメチルナフト〔2.1−b〕
フラン)、1,8−シネオール、1,4−シネオール、
ガラクソリド(1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ
−4,6,6,7,8,8−ヘキサメチルシクロペンタ
−γ−2−ベンゾピラン)、ローズオキサイド、ネロー
ルオキサイド、リメトール(2,2,6−トリメチル−
6−ビニルテトラヒドロピラン)、ジラン(2−ブチル
−4,6−ジメチルジヒドロピラン)、ドレモックス
(テトラヒドロ−4−メチル−2−フェニル−2H−ピ
ラン)、ルボフロア(9−エチリデン−3−オキサトリ
シクロ〔6.2.1.02,7〕ウンデカン)、ヘキサ
ヒドロインデノピラン等が挙げられる。 【0028】<酸系化合物>ゲラン酸、酢酸、プロピオ
ン酸、ピルビン酸、酪酸、イソ酪酸、2−メチル酪酸、
2−エチル酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、2−メチル吉草
酸、3−メチル吉草酸、ヘキサン酸、イソヘキサン酸、
2−ヘキサン酸、4−ペンテン酸、2−メチル−2−ペ
ンテン酸、ヘプタン酸、2−メチルヘプタン酸、オクタ
ン酸、ノナン酸、デカン酸、2−デセン酸、ウンデシレ
ン酸、ドデカン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸、アントラニル酸、オレイン酸、レブリン酸、
乳酸、安息香酸、フェニル酢酸、ケイ皮酸、3−フェニ
ルプロピオン酸、バニリン酸、バリン、アビエチン酸、
ソルビン酸等が挙げられる。 【0029】<ラクトン系化合物>ペンタリド(シクロ
ペンタデカノリド)、ハバノリド(オキサシクロヘキサ
デセン−2−オン)、アンブレットリド、シクロヘキサ
デカノリド、10−オキサヘキサデカノリド、11−オ
キサヘキサデカノリド、12−オキサヘキサデカノリ
ド、エチレンドデカンジオエート、γ−ブチロラクト
ン、γ−バレロラクトン、アンゲリカラクトン、γ−ヘ
キサラクトン、γ−ヘプタラクトン、γ−オクタラクト
ン、γ−ノナラクトン、ウイスキーラクトン(3−メチ
ル−4−オクタノリド)、γ−デカラクトン、γ−ウン
デカラクトン、γ−ドデカラクトン、γ−ジャスモラク
トン、ジャスミンラクトン、シスジャスモンラクトン、
ラクトジャスモン(4−メチル−4−デカノリド)、ジ
ャスモラクトン(テトラヒドロ−6−(3−ペンテニ
ル)−2H−ピラン−2−オン)、メンタラクトン
(3,6−ジメチル−5,6,7,7a−テトラヒドロ
−2(4H)−ベンゾフラノン)、n−ブチルフタリ
ド、プロピリデンフタリド、ブチリデンフタリド、δ−
ヘキサラクトン、δ−オクタラクトン、トリバロン
(4,6,6(4,4,6)−トリメチルテトラヒドロ
ピラン−2−オン)、δ−ノナラクトン、δ−デカラク
トン、δ−2−デセノラクトン、δ−ウンデカラクト
ン、δ−ドデカラクトン、δ−トリデカラクトン、δ−
テトラデカラクトン、ラクトスカトン(デカヒドロ−
4,α−ヒドロキシ−2,8,8−トリメチルナフタリ
ン−2−カルボキシアシッド−δ−ラクトン)、クマリ
ン、ジヒドロクマリン、シクロヘキシルラクトン、6−
メチルクマリン、ε−デカラクトン、ε−ドデカラクト
ン等が挙げられる。 【0030】<エステル系化合物>ギ酸エチル、ギ酸プ
ロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、ギ酸イソアミル、ギ
酸ヘキシル、ギ酸cis−3−ヘキセニル、ギ酸オクチ
ル、ギ酸リナリル、ギ酸シトロネリル、ギ酸ゲラニル、
ギ酸ネリル、ギ酸ロジニル、ギ酸テルピニル、ギ酸セド
リル、ギ酸カリオフェイレン、アフェルマート(α,
3,3−トリメチルシクロヘキサンメチルフォーメー
ト)、ギ酸オキシオクタリン、ギ酸ベンジル、ギ酸シン
ナミル、ギ酸フェニルエチル、ギ酸アニシル、ギ酸オイ
ゲニル、ギ酸デカヒドロ−β−ナフチル、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブ
チル、酢酸イソブチル、酢酸2−メチルブチル、酢酸イ
ソアミル、酢酸アミル、酢酸プレニル、酢酸ヘキシル、
酢酸cis−3−ヘキセニル、酢酸trans−2−ヘ
キセニル、酢酸2−エチルヘキシル、酢酸ヘプチル、酢
酸オクチル、酢酸3−オクチル、酢酸オクテニル、酢酸
ノニル、酢酸デシル、酢酸トリメチルヘキシル、酢酸デ
セニル、酢酸ノナンジオール、酢酸ドデシル、酢酸ジメ
チルウンデカジエニル、ジアセチル、ジアセチン、トリ
アセチン、エチレングリコールジアセテート、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、アリルアミ
ルグリコレート、酢酸オシメニル、酢酸ミルセニル、酢
酸ジヒドロミルセニル、酢酸ジメチルオクタニル、酢酸
リナリル、酢酸シトロネリル、酢酸ロジニル、酢酸ゲラ
ニル、酢酸ネリル、酢酸テトラヒドロムゴール,酢酸エ
チルリナリル、酢酸ラバンジュリル、酢酸イソヒドロラ
バンジュリル、酢酸ネロリドール、酢酸カルビル、酢酸
ジヒドロカルビル、酢酸ジヒドロクミニル、酢酸テルピ
ニル、酢酸イソプレゴール、酢酸メンチル、酢酸シトリ
ル、酢酸ミルテニル、酢酸ノピル、酢酸フェンキル、酢
酸ボルニル、酢酸イソボルニル、酢酸セドリル、カリオ
フィレンアセテート、酢酸サンタリル、酢酸ベチベリ
ル、酢酸グアヤック、シクロペンチリデン酢酸メチル、
酢酸シクロヘキシル、酢酸p−イソプロピルシクロヘキ
サニル、酢酸tert−アミルシクロヘキシル、酢酸ジ
ヒドロテルピニル、酢酸シクロヘキシルエチル、フロラ
レート(酢酸2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニル
メチル)、ロザムスク(酢酸α,3,3−トリメチルシ
クロヘキサンメチル)、ベルテネックス(酢酸p−te
rt−ブチルシクロヘキシル)、ベルドックス(酢酸o
−tert−ブチルシクロヘキシル)、酢酸1−エチニ
ルシクロヘキシル、ジヒドロアンブレート(1−アセト
キシ−2−sec−ブチル−1−ビニルシクロヘキサ
ン)、酢酸ミラルディル(4(3)−(4−メチル−3
−ペンテニル)−3−シクロヘキセニルメチルアセテー
ト)、酢酸トリシクロデセニル、酢酸トリシクロデシ
ル、酢酸ベンジル、酢酸p−クレジル、酢酸フェニルエ
チル、酢酸スチラリル、酢酸p−メチルベンジル、酢酸
アニシル、酢酸ピペロニル、アセチルバニリン、ローズ
フェノン、酢酸ヒドラトロピル、酢酸2,4−ジメチル
ベンジル、酢酸シンナミル、酢酸フェニルプロピル、酢
酸クミニル、酢酸ジメチルベンジルカルビニル、フェニ
ルグリコールジアセテート、酢酸ジメチルフェニルエチ
ルカルビニル、酢酸フェニルエチルメチルエチルカルビ
ニル、ベチコールアセテート(4−メチル−4−フェニ
ル−2−ペンチルアセテート)、酢酸α−アミルシンナ
ミミル、ジャスマロール(trans−デカヒドロ−β
−ナフチルアセテート)、酢酸フルフリル、酢酸テトラ
ヒドロフルフリル、ジャスマール(酢酸3−ペンチルテ
トラヒドロピラニル)、ジャスメリア(酢酸5−メチル
−3−ブチルテトラヒドロピラニル)、アセト酢酸エチ
ル、ジェッサーテ(2−ヘキシルアセト酢酸エチル)、
ベンジルアセト酢酸エチル、シクロヘキシル酢酸アリ
ル、シクロヘキセニル酢酸イソプロピル、プロピオン酸
エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸アリル、
プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソブチル、プロピ
オン酸イソアミル、プロピオン酸ヘキシル、プロピオン
酸cis−3−ヘキセニル、プロピオン酸trans−
2−ヘキセニル、プロピオン酸デセニル、プロピオン酸
リナリル、プロピオン酸シトロネリル、プロピオン酸ロ
ジニル、プロピオン酸ゲラニル、プロピオン酸ネリル、
プロピオン酸カルビル、プロピオン酸テルピニル、プロ
ピオン酸メンチル、プロピオン酸ボルニル、プロピオン
酸イソボルニル、プロピオン酸トリシクロデセニル、プ
ロピオン酸ベンジル、プロピオン酸スチラリル、プロピ
オン酸アニシル、プロピオン酸フェニルエチル、プロピ
オン酸シンナミル、プロピオン酸フェニルプロピル、プ
ロピオン酸ジメチルベンジルカルビニル、プロピオン酸
フェノキシエチル、プロピオン酸プロピレングリコール
ジプロピオネート、ラブダナックス(3−ヒドロキシ−
3フェニルプロピオン酸エチル)、フランプロピオン酸
イソブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、
酪酸イソプロピル、酪酸アリル、酪酸ブチル、酪酸イソ
ブチル、酪酸アミル、酪酸イソアミル、酪酸ヘキシル、
酪酸ヘプチル、酪酸cis−3−ヘキセニル、酪酸tr
ans−2−ヘキセニル、酪酸オクチル、プロピレング
リコールジブチレート、酪酸リナリル、酪酸シトロネリ
ル、酪酸ロジニル、酪酸ゲラニル、酪酸ネリル、酪酸テ
ルピニル、酪酸シクロヘキシル、酪酸ベンジル、酪酸シ
ンナミル、酪酸フェニルエチル、酪酸ジメチルベンジル
カルビニル、酪酸テトラヒドロフルフリル、酪酸サンタ
リル、イソ酪酸メチル、イソ酪酸エチル、イソ酪酸プロ
ピル、イソ酪酸イソプロピル、イソ酪酸ブチル、イソ酪
酸イソブチル、イソ酪酸イソアミル、イソ酪酸ヘキシ
ル、イソ酪酸cis−3−ヘキセニル、イソ酪酸2,4
−ヘキサジエニル、イソペンチレート(イソ酪酸1,3
−ジメチル−3−ブテニル)、イソ酪酸オクチル、イソ
酪酸リナリル、イソ酪酸シトロネリル、イソ酪酸ロジニ
ル、イソ酪酸ゲラニル、イソ酪酸ネリル、イソ酪酸テル
ピニル、イソ酪酸トリシクロデセニル、イソ酪酸ベンジ
ル、イソ酪酸p−クレジル、イソ酪酸シンナミル、イソ
酪酸フェニルエチル、イソ酪酸フェニルプロピル、イソ
酪酸スチラリル、イソ酪酸ジメチルカルビニル、イソ酪
酸ジメチルフェニルエチルカルビニル、フロラノール
(イソ酪酸フェノキシエチル)、イソ酪酸デカヒドロ−
β−ナフチル、2−メチル酪酸メチル、2−メチル酪酸
エチル、2−メチル酪酸−2メチルブチル、シドラン
(2−メチル酪酸ヘキシル)、2−メチル酪酸cis−
3−ヘキセニル、2−メチル酪酸ベンジル、2−メチル
酪酸フェニルエチル、2−エチル酪酸アリル、3−ヒド
ロキシ酪酸エチル、吉草酸メチル、吉草酸エチル、吉草
酸ブチル、吉草酸イソブチル、吉草酸アミル、吉草酸c
is−3−ヘキセニル、吉草酸ベンジル、吉草酸フェニ
ルエチル、吉草酸フルフリル、イソ吉草酸メチル、イソ
吉草酸エチル、イソ吉草酸プロピル、イソ吉草酸イソプ
ロピル、イソ吉草酸アリル、イソ吉草酸ブチル、イソ吉
草酸イソブチル、イソ吉草酸イソアミル、イソ吉草酸ア
ミル、イソ吉草酸2−メチルブチル、イソ吉草酸cis
−3−ヘキセニル、イソ吉草酸ヘキシル、イソ吉草酸オ
クチル、イソ吉草酸リナリル、イソ吉草酸シトロネリ
ル、イソ吉草酸ゲラニル、イソ吉草酸メンチル、イソ吉
草酸テルピニル、イソ吉草酸シクロヘキシル、イソ吉草
酸ベンジル、イソ吉草酸フェニルエチル、イソ吉草酸フ
ェニルプロピル、イソ吉草酸シンナミル、マンザネート
(2−メチル吉草酸エチル)、フェニルサリシレート、
ペラナト(2−メチル吉草酸2−メチルペンチルエステ
ル)、ヘキサン酸メチル、ヘキサン酸エチル、ヘキサン
酸プロピル、ヘキサン酸イソプロピル、ヘキサン酸アリ
ル、ヘキサン酸ブチル、ヘキサン酸イソブチル、ヘキサ
ン酸アミル、ヘキサン酸イソアミル、ヘキサン酸ヘキシ
ル、ヘキサン酸cis−3−ヘキセニル、ヘキサン酸t
rans−2−ヘキセニル、ヘキサン酸ヘプチル、ヘキ
サン酸リナリル、ヘキサン酸シトロネリル、ヘキサン酸
ゲラニル、ヘキサン酸シトロネリル、ヘキサン酸ベンジ
ル、イソヘキサン酸メチル、2−ヘキセン酸メチル、t
rans−2−ヘキセン酸エチル、3−ヘキセン酸メチ
ル、3−ヘキセン酸エチル、3−ヒドロキシヘキサン酸
メチル、3−ヒドロキシヘキサン酸エチル、2−エチル
ヘキサン酸エチル、メルサット(3,5,5−トリメチ
ルヘキサン酸エチル)、ベリフロ(エチル6−アセトキ
シヘキサノエート)、ヘプタン酸メチル、ヘプタン酸エ
チル、ヘプタン酸プロピル、ヘプタン酸アリル、ヘプタ
ン酸オクチル、オクタン酸メチル、オクタン酸エチル、
オクタン酸アミル、オクタン酸ブチル、オクタン酸プロ
ピル、オクタン酸アリル、オクタン酸イソアミル、オク
タン酸ヘキシル、オクタン酸ヘプチル、オクタン酸オク
チル、オクタン酸リナリル、オクタン酸ベンジル、オク
タン酸フェニルエチル、オクタン酸p−クレジル、2−
オクテン酸エチル、ノナン酸メチル、ノナン酸エチル、
ノナン酸フェニルエチル、ブーバルテート(2−ノネン
酸メチル)、3−ノネン酸メチル、デカン酸メチル、デ
カン酸エチル、デカン酸イソプロピル、デカン酸ブチ
ル、デカン酸イソアミル、2−デセン酸エチル、2,4
−デカジエン酸エチル、2,4−デカジエン酸プロピ
ル、ウンデシレン酸メチル、ウンデシレン酸ブチル、ウ
ンデシレン酸イソアミル、ドデカン酸メチル、ドデカン
酸エチル、ドデカン酸ブチル、ドデカン酸イソアミル、
ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸メチル、ミリスチン
酸イソプロピル、パルミチン酸エチル、ステアリン酸エ
チル、ステアリン酸ブチル、オレイン酸メチル、オレイ
ン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香
酸プロピル、安息香酸イソプロピル、安息香酸アリル、
安息香酸イソブチル、安息香酸イソアミル、安息香酸プ
レニル、安息香酸ヘキシル、安息香酸cis−3−ヘキ
セニル、安息香酸リナリル、安息香酸ゲラニル、安息香
酸ベンジル、安息香酸フェニルエチル、安息香酸シンナ
ミル、アニス酸メチル、アニス酸エチル、o−メトキシ
安息香酸メチル、o−メトキシ安息香酸エチル、チグリ
ン酸エチル、チグリン酸ヘキシル、チグリン酸cis−
3−ヘキセニル、チグリン酸シトロネリル、チグリン酸
ゲラニル、チグリン酸ベンジル、チグリン酸フェニルエ
チル、チグリン酸シンナミル、アンゲリカ酸メチル、ア
ンゲリカ酸ブチル、アンゲリカ酸イソブチル、アンゲリ
カ酸イソアミル、アンゲリカ酸プレニル、アンゲリカ酸
cis−3−ヘキセニル、アンゲリカ酸3−メチルペン
チル、アンゲリカ酸フェニルエチル、アクリル酸エチ
ル、メタクリル酸フェニルエチル、クロトン酸エチル、
クロトン酸イソブチル、クロトン酸シクロヘキシル、フ
ルチナト(4−メチル−ペンタン−2−オール−クロト
ネート)、ピロプルナト(2−シクロペンチル−シクロ
ペンチルクロトネート)、ダチラト(1−シクロヘキシ
ルエチルクロトネート)、レブリン酸エチル、レブリン
酸ブチル、レブリン酸イソアミル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、乳酸アミル、乳酸イソブチル、乳酸cis−3−
ヘキセニル、ブチリル乳酸ブチル、ピルビン酸エチル、
ゲラン酸メチル、ゲラン酸エチル、シクロゲラン酸メチ
ル、シクロゲラン酸エチル、フルテート(エチルトリシ
クロ〔5.2.1.02,6〕デカン−2−イル カル
ボキシレート)、ジベスコン(エチル−2−エチル−
6,6−ジメチル−2−シクロヘキセン−1−カルボキ
シレート & エチル−2,3,6,6−テトラメチル
−2−シクロヘキセンカルボキシレート)、エチルサフ
ラネート(エチルデヒドロシクロゲラネート)、シクロ
ヘキシルプロピオン酸アリル、シクロガルバネート(ア
リルシクロヘキシルオキシアセテート)、カリクソール
(エチル−2−メチル−6−ペンチル−4−オキソシク
ロヘキシ−2−エンカルボキシレート)、タクリサーテ
(メチル−1−メチル−3−シクロヘキセンカルボキシ
レート)、フロラメート(エチル−2−tert−ブチ
ルシクロヘキシルカルボネート)、ジャスマシクレート
(メチルシクロオクチルカルボネート)、マハゴネート
(1−メチル−4−イソプロピル−2−カルボメトキシ
ビシクロ〔2,2,2〕−オクト−5−エン)、ピバル
酸フェニルエチル、ジャスモン酸メチル、ヘディオン
(ジヒドロジャスモン酸メチル)、ベラモス(メチル−
3,6−ジメチル−β−レゾルシレート)、フランカル
ボン酸メチル、フランカルボン酸エチル、フランアクリ
ル酸プロピル、ヘプチンカルボン酸メチル、ヘプチンカ
ルボン酸エチル、ヘプチンカルボン酸イソアミル、オク
チンカルボン酸メチル、オクチンカルボン酸エチル、デ
シンカルボン酸メチル、グリコメル(3−(ビシクロ
〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2−イル)−3メチ
ルオキシランカルボキシアシッドのメチルエステル)、
フェニルグリシド酸メチル、フェニルグリシド酸エチ
ル、アルデヒドC−16(3−メチル−3−フェニルグ
リシド酸エチル)、アルデヒドC−20(p−メチル−
β−フェニルグリシド酸エチル)、メチルp−トリルグ
リシド酸エチル、シュウ酸エチルシトロネリル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジメチル、マロン酸ジエチル、酒
石酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、セバチン酸ジエチ
ル、クエン酸トリエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸
ジエチル、フタル酸ジブチル、フェニル酢酸メチル、フ
ェニル酢酸エチル、フェニル酢酸イソプロピル、フェニ
ル酢酸ブチル、フェニル酢酸プロピル、フェニル酢酸イ
ソブチル、フェニル酢酸イソアミル、フェニル酢酸ヘキ
シル、フェニル酢酸cis−3−ヘキセニル、フェニル
酢酸シトロネリル、フェニル酢酸ロジニル、フェニル酢
酸ゲラニル、フェニル酢酸メンチル、フェニル酢酸ベン
ジル、フェニル酢酸フェニルエチル、フェニル酢酸p−
クレジル、フェニル酢酸オイゲニル、フェニル酢酸イソ
オイゲニル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮
酸プロピル、ケイ皮酸イソプロピル、ケイ皮酸アリル、
ケイ皮酸イソブチル、ケイ皮酸イソアミル、ケイ皮酸リ
ナリル、ケイ皮酸ベンジル、ケイ皮酸シンナミル、ケイ
皮酸フェニルエチル、サリチル酸メチル、サリチル酸エ
チル、サリチル酸ブチル、サリチル酸イソブチル、サリ
チル酸アミル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ヘキ
シル、サリチル酸cis−3−ヘキセニル、サリチル酸
シクロヘキシル、サリチル酸フェニル、サリチル酸ベン
ジル、サリチル酸フェニルエチル、シクロピデン(メチ
ルシクロペンチリデンアセテート)、エチル−2,2,
6−トリメチルシクロヘキサンカーボネート、アバリン
(メチルアビエテート)、ハーコリン(メチルジヒドロ
アビエテート)、サリチル酸p−クレジル、フェノキシ
酢酸アリル、フェニルプロピオン酸エチル、エチレンブ
ラシレート、トリアセチン等が挙げられる。 【0031】<含窒素系化合物>アントラニル酸メチ
ル、アントラニル酸エチル、アントラニル酸ブチル、ア
ントラニル酸cis−3−ヘキセニル、アントラニル酸
フェニルエチル、アントラニル酸シンナミル、N−メチ
ルアントラニル酸メチル、オーランチオール(ヒドロキ
シシトロネラール−メチルアンスラニレートのシッフベ
ース)、メバントラール(メチルプロピルアセトアルデ
ヒド−メチルアンスラニレートのシッフベース)、ジャ
スメンチン(α−アミルシンナミックアルデヒド−メチ
ルアンスラニレートのシッフベース)、リガントラール
(メチル−(3,5−ジメチル−3−シクロヘキセン−
1−イル)メチレンアンスラニレート)、インドール、
スカトール、クロナール(ドデカンニトリル)、タンジ
ェニール(2−トリデセンニトリル)、シトラルバ(ゲ
ラニルニトリル)、シトロネリルニトリル、レモニール
(3,7−ジメチル−2,6−ノナジエニトリル)、ク
ミニルニトリル、シンナマルバ(シンナミルニトリ
ル)、トリメチルアミン、ピリジン、3−エチルピリジ
ン、2−アセチルピリジン、3−アセチルピリジン、2
−イソブチルピリジン、3−イソブチルピリジン、2−
n−ペンチルピリジン、5−エチル−2−メチルピリジ
ン、ニコチン酸メチル、4−(1,4,8−トリメチル
−3,7−ノナジエニル)ピリジン、キノリン、イソキ
ノリン、p−メチルキノリン、テトラヒドロ−p−メチ
ルキノリン、6−イソプロピルキノリン、イソブチルキ
ノリン、2−イソブチルキノリン、6−sec−ブチル
キノリン、8−sec−ブチルキノリン、6(p)−t
ert−ブチルキノリン、2−tert−ブチルキノリ
ン、ピラジン、2−メチルピラジン、2,5−ジメチル
ピラジン、2,6−ジメチルピラジン、2,3,5−ト
リメチルピラジン、2−エチルピラジン、2−エチル−
3−メチルピラジン、2−エチル−5−メチルピラジ
ン、2−エチル−3,5(3,6)−ジメチルピラジ
ン、2,3−ジエチルピラジン、2,3−ジエチル−5
−メチルピラジン、テトラメチルピラジン、2−メチル
−5−ビニルピラジン、メトキシピラジン、2−メトキ
シ−3−メチルピラジン、2−メトキシ−3−エチルピ
ラジン、2−メトキシ−3−イソプロピルピラジン、2
−イソブチル−3−メトキシピラジン、2−アセチルピ
ラジン、2−アセチル−3−エチルピラジン、メチルチ
オメチルピラジン、コリロンピラジン(5−メチル−
6,7−ジヒドロシクロペンタピラジン)、5−メチル
キノキサリン、シクロヘキサピラジン(5,6,7,8
−テトラヒドロキノキサリン)、1−メチルピロール、
2−アセチルピロール、ピロリジン、インドレン(イン
ドール−ヒドロキシシトロネラールのシッフベース)、
2−メチルベンゾオキサゾール、デカヒドロシクロドデ
カオキサゾール、5−メチル−3−ヘプタノンオキシ
ム、ブコキシム(ビシクロ〔3.2.1〕オクタン−8
−オン,1,5−ジメチル−,オキシム)、ガルダマイ
ド(N−メチル−N−フェニル−2−メチルブチルアミ
ド)、ムスクキシロール、ムスクケトン、ムスクアンブ
レット、ムスクチベテン、モスケン、2,6−ルチジ
ン、ピペリジン、2−(1,4,8−トリメチル−3,
7−ノナジエニル)ピリジン、2−(2−ピネン−10
−イルメチル)ピリジン、4−(2−ピネン−10−イ
ソメチル)ピリジン、ピペリン、カプサイシン、ノナン
酸バニリルアミド、キニーネ、ペリラルチン(L−ペリ
ラアルデヒド α−アンチ−アルドオキシム)、2−イ
ソプロピル−4−メチルチアゾール、2−イソブチルチ
アゾール等が挙げられる。 【0032】<含硫黄系化合物>チアゾール、4−メチ
ルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、トリメチ
ルチアゾール、2−メチル−5−メトキシチアゾール、
2−イソプロピル−4−メチルチアゾール、4−メチル
−5−ビニルチアゾール、2−イソブチルチアゾール、
スルフロール(4−メチル−5−チアゾールエタノー
ル)、スルフリールアセテート(4−メチル−5−チア
ゾールエタノールアセテート)、2−アセチルチアゾー
ル、5−アセチル−2,4−ジメチルチアゾール、ベン
ゾチアゾール、プロピルメルカプタン、硫化水素、イソ
プロピルメルカプタン、2−メチル−3−ブタンチオー
ル、アリルメルカプタン、イソアミルメルカプタン、チ
オゲラニオール、リモネンチオール、スルフォックス
(8−メルカプトメントン)フェニルメルカプタン、o
−チオクレゾール、2−エチルチオフェノール、2−ナ
フチルメルカプタン、フルフリルメルカプタン、2−メ
チル−3−フランチオール、ジメチルスルフィド、ジメ
チルジスルフィド、ジメチルトリスルフィド、メチルプ
ロピルジスルフィド、メチルプロピルトリスルフィド、
プロピルジスルフィド、ジプロピルトリスルフィド、ジ
アリルスルフィド、ジアリルジスルフィド、ジブチルス
ルフィド、メチオノール(3−(メチルチオ)−1−プ
ロパノール)、3−メチルチオ−1−ヘキサノール、メ
チオナール(3−(メチルチオ)プロピオンアルデヒ
ド)、ミントスルフィド、ジチオスピロフラン、フルフ
リルメチルスルフィド、2−メチル−5−メチルチオフ
ラン、メチルフルフリルジスルフィド、フルフリルジス
ルフィド、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、3−
チオフェンカルボキシアルデヒド、5−メチル−2−チ
オフェンカルボキシアルデヒド、テトラヒドロチオフェ
ン−3−オン、トリチオアセトン、チオグリコール酸、
メチルチオ酢酸メチル、メチルチオ酢酸エチル、2−メ
ルカプトプロピオン酸、パイナップルメルカプタン(メ
チルメルカプトメチルプロピオネート)、3−メチルチ
オプロピオン酸エチル、チオ酢酸エチル、チオ酢酸フル
フリル、チオプロピオン酸フルフリル、チオ酪酸メチ
ル、メチルメタンチオスルフォネート、イソチオシアン
酸アリル、イソチオシアン酸ベンジル、チアルジン
(2,4,6−トリメチル−4,5−ジヒドロ−1,
3,5−ジチアゾン)、オキサン(2−メチル−4−プ
ロピル−1,3−オキサチアン)等が挙げられる。 【0033】<天然系香料>アサフェチダレジノイド、
アジョワンオイル、スターアニスオイル、アビエスオイ
ル、アミリスオイル、アンブレットシードオイル、アン
バーグリスチンキ、イランイランオイル、イランイラン
アブソリュート、イリスレジノイド、イリスアブソリュ
ート、イリスオイル、ウィンターグリーンオイル、エレ
ミオレオレジン、エレミレジノイドアブソリュート、エ
レミチンキ、オークモスコンクリート、オークモスアブ
ソリュート、オークモスレジン、オークモスレジノイ
ド、オコティアオイル、オスマンサスアブソリュート、
オスマンサスコンクリート、オポパナックスレジノイ
ド、オポパナックスアブソリュート、オポパナックスオ
イル、オリバナムレジノイド、オリバナムアブソリュー
ト、オリバナムオイル、オールスパイスオイル、オレガ
ノオイル、オレガノオレオレジン、オレンジオイル、オ
レンジフラワーアブソリュート、オレンジフラワーコン
クリート、カナンガオイル、ガージュンバルサム、ガー
ジュンバルサムオイル、カスカリラバークオイル、カス
トリウムアブソリュート、カッシーアブソリュート、カ
ッシーフラワーオイル、カッシアオイル、ガーデニアア
ブソリュート、カーネションアブソリュート、カブリュ
ーバオイル、カモミルオイル、カルダモンオイル、ガル
バナムオイル、ガルバナムレジン、ガルバナムレジノイ
ド、キャラウェーシードオイル、キャロットシードオイ
ル、グァヤックウッドオイル、グァヤックレジン、グァ
ヤックコンクリート、クスノキオイル、クベバオイル、
クミンオイル、クミンアブソリュート、クミンオレオレ
ジン、クラリセージオイル、グレープフルーツオイル、
クローブオイル、コスタスオイル、コパイババルサム、
コパイババルサムオイル、コパイババルサムレジン、コ
リアンダーオイル、サッサフラスオイル、サンダルウッ
ドオイル、ジュネアブソリュート、シソオイル、シトロ
ネラオイル、ジャスミンアブソリュート、ジャスミンコ
ンクリート、ジュニパーベリーオイル、シベットアブソ
リュート、シベットチンキ、ジョンキルアブソリュー
ト、アガーウッドオイル、ジンジャーオイル、シナモン
オイル、シナモンバークオイル、シナモンリーフオイ
ル、スギオイル、スチラックスオイル、スチラックスレ
ジノイド、スペアミントオイル、セイボリーオイル、セ
ージオイル、セダーオイル、セダーリーフオイル、ゼラ
ニウムオイル、セロリーシードオイル、タイムオイル、
タゲットオイル、タラゴンオイル、チュベローズアブソ
リュート、ディルオイル、ティーツリーオイル、トリー
モスアブソリュート、トルーバルサム、ナツメッグオイ
ル、ナルシサスアブソリュート、ネロリオイル、バイオ
レットリーフアブソリュート、パインオイル、バジルオ
イル、パセリリーフオイル、パセリシードオイル、パセ
リハーブオイル、パチョリオイル、ハッカオイル、バニ
ラアブソリュート、ハネーサックルアブソリュート、パ
ルマローザオイル、バレリアンオイル、ビターオレンジ
オイル、ヒソップオイル、ヒバオイル、ヒヤシンスアブ
ソリュート、フェンネルオイル、フィグアブソリュー
ト、プチグレンオイル、ブチュオイル、ベチバーオイ
ル、ペニーロイヤルオイル、ペッパーオイル、ペパーミ
ントオイル、ベルガモットオイル、ペルーバルサム、ベ
ンゾインチンキ、ベンゾインレジノイド、ボアドローズ
オイル、ホウショウオイル、ホップオイル、ホップコン
クリート、ホップアブソリュート、マージョラムオイ
ル、マンダリンオイル、ミカンオイル、ミモザコンクリ
ート、ミモザアブソリュート、ミモザオイル、ミルレジ
ノイド、ミルアブソリュート、ミルオイル、ムスクアブ
ソリュート、ムスクチンキ、ユーカリオイル、ユズオイ
ル、ヨモギオイル、ライムオイル、ラブダナムオイル、
ラブダナムレジノイド、ラベンダーオイル、ラベンダー
アブソリュート、ラバンジンオイル、ラバンジンアブソ
リュート、リナロエオイル、レモンオイル、レモングラ
スオイル、ローズオイル、ローズアブソリュート、ロー
ズコンクリート、ローズマリーオイル、ロベージオイ
ル、ローレルオイル、ローレルリーフオイル、ワームウ
ッドオイル、麝香、霊猫香、竜ぜん香、海狸香、ムスク
・チバタ等が挙げられる。 【0034】<調合香料>また、香料成分を組合わせた
調合香料である次のような香調のベース類がある。レモ
ン調、ライム調、オレンジ調、スイートオレンジ調、マ
ンダリン調、ベルガモット調等のシトラスタイプベー
ス、プチグレン調、ネロリ調、レモングラス調、アグル
メン調、等のフレッシュタイプベース、アップル調、ピ
ーチ調、ストロベリー調、ココナッツ調、パイナップル
調、ラズベリー調、ウォーターメロン調等のフルーティ
タイプベース、ローズ調、ジャスミン調、ムゲ調、ライ
ラック調、カーネーション調、ヒアシンス調、チュベロ
ーズ調、ガーデニア調、ミモザ調、ナルシス調、バイオ
レット調、イラン調、フローラルブーケ調等のフローラ
ルタイプベース、シナモンバーク調、シナモンリーフ
調、クローブ調、ピメントベリー調、ナツメグ調、ペッ
パー調、カルダモン調、コリアンダー調、クミン調等の
スパイシータイプベース、シダーウッド調、ベチバー
調、サンダルウッド調、グアイアックウッド調、ウディ
アンバー調、ウディイリス調等のウッディタイプベー
ス、スモーキー調、キノリン調等のレザータイプ、バニ
ラ調、トンカ調、ハネー調、ピュアーバルサム調等のス
ゥイートタイプベース、その他アルデハイディックタイ
プベース、アンバータイプベース、アニマルタイプベー
ス、アニスタイプベース、アロマティックハーバルタイ
プベース、アガータイプベース、アクアタイプベース、
カンファーシネオールタイプベース、グリーンタイプベ
ース、シードタイプベース、ハーブタイプベース、パイ
ンタイプベース、パチュリタイプベース、バルサミック
タイプベース、ミントタイプベース、ムスクタイプベー
ス、モスタイプベース、ラベンダータイプベース、リナ
ロールタイプベース、レジンタイプベース等が挙げられ
る。更に、香料用溶剤としては、エタノール、アセチン
(トリアセチン)、MMBアセテート(3−メトキシ−
3−メチルブチルアセテート)、エチレングリコールジ
ブチレート、ヘキシレングリコール、ジブチルセバケー
ト、デルチールエキストラ(イソプロピルミリステー
ト)、メチルカルビトール(ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル)、カルビトール(ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル)、TEG(トリエチレングリコ
ール)、安息香酸ベンジル、プロピレングリコール、フ
タル酸ジエチル、トリプロピレングリコール、アボリン
(ジメチルフタレート)、デルチルプライム(イソプロ
ピルパルミテート)、ジプロピレングリコールDPG−
FC(ジプロピレングリコール)、ファルネセン、ジオ
クチルアジペート、トリブチリン(グリセリルトリブタ
ノエート)、ヒドロライト−5(1,2−ペンタンジオ
ール)、プロピレングリコールジアセテート、セチルア
セテート(ヘキサデシルアセテート)、エチルアビエテ
ート、アバリン(メチルアビエテート)、シトロフレッ
クスA−2(アセチルトリエチルシトレート)、シトロ
フレックスA−4(トリブチルアセチルシトレート)、
シトロフレックスNo.2(トリエチルシトレート)、
シトロフレックスNo.4(トリブチルシトレート)、
ドゥラフィックス(メチルジヒドロアビエテート)、M
ITD(イソトリデシルミリステート)、ポリリモネン
(リモネンポリマー)、プロピレングリコール、1,3
−ブチレングリコール等が挙げられる。これらの香料用
溶剤の使用量は、香料組成物全量に対して、0.1〜9
9質量%、好ましくは、1〜50質量%含有される。 【0035】また、香料安定化剤としては、ジブチルヒ
ドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ビタ
ミンEとその誘導体、カテキン化合物、フラボノイド化
合物、ポリフェノール化合物等が挙げられ、香料組成中
に0.0001〜10%配合されるが、好ましくは、
0.001〜5%配合される。これらの中で、好ましい
安定化剤としては、ジブチルヒドロキシトルエンであ
る。本発明において、香料組成物とは、前記の香料成
分、溶剤、香料安定化剤等からなる混合物である。 【0036】これらの香料の含有量は、洗浄剤組成物全
量に対して、0.0001〜20%とすることが好まし
く、更に好ましくは、0.001〜5%とすることが望
ましい。この香料の含有量が0.0001%未満である
と、香り立ちが不十分であり、また、5%を越えて多く
含有しても、格別な向上は認められず、経済的に好まし
くない。 【0037】更に、本発明の浴室用洗浄剤組成物には、
本発明の効果を損なわない範囲で、その目的や用途に応
じて、種々の任意成分を含有することが可能である。用
いることができる任意成分としては、安息香酸塩などの
芳香族カルボン酸や、パラトルエンスルホン酸、キシレ
ンスルホン酸、クメンスルホン酸などに代表される芳香
族スルホン酸などのハイドロトロープ剤も好適に含有す
ることができる。また、エタノール、種々の香料変性エ
タノール、イソプロパノール、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ヘキシレングリコールなどの水溶性
溶剤も好適に含有することができる。更に、着色剤、酸
化防止剤、防腐剤、殺菌剤、除菌剤、pH調整剤なども
好適に含有することができる。本発明の浴室用洗浄剤組
成物の残部は、水(精製水、イオン交換水、純水、海洋
深層水等)で調整される。また、本発明の浴室用洗浄剤
組成物は、複合した石鹸カス汚れ等に有効に洗浄効果を
発揮せしめる点等から、組成物中に含有するキレート剤
の解離平衡定数による至適pHに設定することが必要で
あり、pHを2.0〜10.0とすることが望ましい。 【0038】本発明の浴室用洗浄剤組成物は、上記各成
分を混合することにより製造することができ、混合には
特に制限がないが、特別な攪拌装置やミキサーは必要な
く、常温又は使用する溶剤の沸点以下に加熱下、通常の
攪拌装置を使用して、各成分を混合配合することにより
製造することができる。 【0039】本発明の浴室用洗浄剤組成物の剤型として
は、例えば、水溶液状、水性分散液等が挙げられ、ボト
ル、トリガースプレー、エアゾールなどの各種剤型とす
ることができるが、これに限定されるものではない。図
1(a)は、本発明の浴室用洗浄剤組成物をボトル容器
に充填して使用する場合、図1(b)は、トリガー容器
に充填して使用する場合、図1(c)はエアゾール缶に
充填して使用する場合であり、エアゾール缶には本発明
のトイレ用洗浄剤組成物と共に噴射剤とを充填するもの
であり、図1(d)は、ディスペンサー容器に充填させ
て使用する場合である。ボトル容器に充填する場合のボ
トル材質としては、PP、PEなど挙げられ、ヒンジキ
ャップ材質としてはPP等が挙げられ、ヒンジキャップ
仕様としては4孔シャワー方式が挙げられる。トリガー
タイプにおけるボトル材質としてはPP、PE、PET
等が挙げられ、トリガー材質としてはPP、PE、PO
M等が挙げられ、トリガー仕様としては泡噴霧方式が挙
げられる。また、エアゾールに適用する噴射剤としては
特に限定されるものではないが、エタン、プロパン、ブ
タン、ペンタン等から構成される液化石油ガスやジメチ
ルエーテル等を本発明のガラス用洗浄剤組成物に用いる
ことができ、内圧は0.2MPa〜0.5MPaに調整
することが好ましい。噴射剤の配合量は、浴室用洗浄剤
組成物100質量部に対して、1質量部〜10質量部が
好ましい。更に、エアゾールにおける缶の材質としては
ブリキ缶又はアルミ缶(共に、内面コート層有り又は無
し)などが挙げられ、バルブ仕様としては噴口0.4mm
φ、メカニカルブレークアップ方式が挙げられる。ま
た、ディスペンサータイプにおけるボトル材質としては
PP、PE、PET等が挙げられ、ディスペンサー材質
としてはPP、PE、POM等が挙げられる。 【0040】このように構成される本発明の浴室用洗浄
剤組成物は、少なくとも界面活性剤、キレート剤、溶
剤、水溶性高分子及び香料を含有することにより、優れ
た洗浄力、泡質、すすぎ性および防汚性を同時に有する
優れた洗浄剤組成物となるものである。 【0041】 【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明は下記実施例によって何ら限定されるも
のではない。 【0042】〔実施例1〜104〕下記表1〜表8に示
す浴室用洗浄剤組成物を調製した。得られた洗浄剤組成
物について、下記表1〜表8に示す容器タイプ〔ボト
ル、エアゾール、トリガー、図1(a)、(b)、
(c)参照〕に充填し、下記試験法により、洗浄力、泡
立ち性、すすぎ性、防汚性の評価を行った。これらの評
価結果を下記表1〜表8に示す。なお、浴室用洗浄剤組
成物のpHは、により測定した。 【0043】なお、下記表1〜表8の香料A〜Dは下記
表9〜表20に示す配合組成を使用した。また、下記表
1〜表8において、*1〜*4は下記のものを使用し
た。 *1:キサンタンガム(ケルザンT、メルク社製、Mw
=約200万) *2:ポリメタクリル酸系共重合体(AAC−1、一方
社製) *3:ポリビニルピロリドン(ルビスコールK−30、
BASF社製、Mw=約40000) *4:ポリエーテル変性シリコン(ポリエーテル変性シ
リコーンSF8410、東レ・ダウコーニング・シリコ
ーン社製、Mw=約30000) 【0044】〔洗浄力評価方法〕一般家庭の浴槽内側壁
面にFRP製テストピース(3×10cm)を固定した
後、成人男性1名、女性1名、小学生男児2名がそれぞれ
2回入浴(1日につき1回入浴し、2日間繰り返し、その
間風呂水は入れ替えずに沸かし直して使用)し、汚れを
付着させた。この浴槽汚れが付着したテストピースを充
分乾燥させた後、洗浄剤組成物(原液)が全面濡れるよ
うにスプレーし(使用量約20g)、30秒間放置した
後、水道水(15℃)ですすぎ流した。次いで、充分乾
燥させた後、テストピース表面の汚れの除去状態を下記
の評価基準で視覚評価した。 評価基準: 5点:汚れ落ちが非常に良好 4点:汚れ落ちが良好 3点:汚れ落ちにむらがある 2点:若干汚れが落ちる程度 1点:ほとんど汚れが落ちない 【0045】〔泡立ち性評価方法〕5倍に希釈した洗浄
剤組成物50gを含浸させたウレタン製スポンジを用い
て、約10g/cm2の荷重をかけながらステンレス製
浴槽(100×75×65cm)の内側全面を円を描く
ように擦った際の泡の状態を下記の評価基準で視覚評価
した。 評価基準: 5点:泡立ちが非常に良好 4点:泡立ちが良好 3点:泡立ちにむらがある 2点:若干泡立つ程度 1点:ほとんど汚れが落ちない 【0046】〔すすぎ性評価方法〕上記泡立ち性評価方
法により泡を立てた後、シャワーを用いて水道水(温度
20℃、流量10L/分)ですすぎを開始し、泡が完全
になくなり、すすぎが終了するまでの時間を測定した。 【0047】〔防汚性評価方法〕清浄な浴槽用FRP製
テストピース(5×15cm)に防汚洗浄剤を0.5m
l塗布し、ウレタンスポンジを用いて約10g/cm2
の荷重をかけながら全面を擦り、次いで、水道水(5L
/分、25℃)で20秒間すすいだ後、自然乾燥させ
た。このテストピースを一般家庭の浴槽内側壁面上部に
固定し、成人男性1名、女性1名、小学生男児2名がそ
れぞれ2回入浴(1日につき1回入浴し、2日間繰り返
し、その間風呂水は入れ替えずに沸かし直して使用)し
た後、テストピース表面への汚れの付着具合を以下の基
準で目視判定した。 評価基準: ◎:汚れがつかない ○:汚れがほとんどつかない ×:はっきりと汚れが付いた 【0048】 【表1】【0049】 【表2】【0050】 【表3】【0051】 【表4】【0052】 【表5】【0053】 【表6】【0054】 【表7】【0055】 【表8】【0056】 【表9】【0057】 【表10】【0058】 【表11】【0059】 【表12】【0060】 【表13】【0061】 【表14】【0062】 【表15】【0063】 【表16】【0064】 【表17】【0065】 【表18】【0066】 【表19】【0067】 【表20】 【0068】上記表1〜表8などの結果から明らかなよ
うに、本発明となる実施例1〜104の浴室用洗浄剤組
成物は、洗浄力、泡立ち性、すすぎ性及び防汚性に優れ
ていることが判明した。 【0069】 【発明の効果】本発明によれば、洗浄力、泡質、すすぎ
性及び防汚性に優れた浴室用洗浄剤組成物が提供され
る。
【図面の簡単な説明】 【図1】(a)は本発明の浴室用洗浄剤組成物を充填し
たボトル容器を示す概略図であり、(b)は本発明の浴
室用洗浄剤組成物を充填したトリガー容器を示す概略図
であり、(c)は本発明の浴室用洗浄剤組成物を充填し
たエアゾール容器の正立噴射及び倒立噴射を示す概略図
であり、(d)は本発明の浴室用洗浄剤組成物を充填し
たディスペンサーを示す概略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 工藤 大介 東京都墨田区本所一丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 三宅 博 東京都墨田区本所一丁目3番7号 ライオ ン株式会社内 Fターム(参考) 4H003 AB03 AB15 AB19 AB31 AB44 AC13 AD02 AD04 AE05 BA20 DA05 DA08 EB04 EB07 EB08 EB15 EB16 EB22 EB24 ED02 ED29 FA12 FA21 FA23 FA26 FA28

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 少なくとも界面活性剤、キレート剤、高
    分子化合物、溶剤及び香料を含有することを特徴とする
    浴室用洗浄剤組成物。
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006016501A (ja) * 2004-07-01 2006-01-19 Kobayashi Pharmaceut Co Ltd 泡沫芳香剤用エアゾール組成物及び該組成物を充填してなるエアゾール
JP2007119707A (ja) * 2005-09-28 2007-05-17 Kimura Soap Industry Co Ltd 排水口洗浄用および洗濯槽洗浄用のエアゾール剤
WO2007118747A1 (de) * 2006-04-11 2007-10-25 Henkel Ag & Co. Kgaa Parfümhaltiges wässriges reinigungsmittel
JP2008106156A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Dainippon Jochugiku Co Ltd アフタードローを抑えたエアゾール用発泡性洗剤組成物
JP2009013321A (ja) * 2007-07-06 2009-01-22 Dainippon Jochugiku Co Ltd アフタードローを抑えたエアゾール用発泡性洗剤組成物
US7605114B2 (en) 2005-05-03 2009-10-20 Claudia Rushlow Multi-purpose cleaner comprising blue iron powder
JP2012111846A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Dainippon Jochugiku Co Ltd 酸性抗菌洗浄剤組成物
JP2012131951A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Lion Corp 液体洗浄剤製品
JP2013023642A (ja) * 2011-07-25 2013-02-04 Dainippon Jochugiku Co Ltd 硬質表面用洗浄剤のすすぎ促進剤
JP2014132062A (ja) * 2012-12-07 2014-07-17 Kao Corp 硬質表面用液体洗浄剤組成物
JP2014132063A (ja) * 2012-12-07 2014-07-17 Kao Corp 硬質表面用液体洗浄剤組成物
JP2017078170A (ja) * 2015-10-21 2017-04-27 ライオン株式会社 浴室用液体洗浄剤
WO2018164115A1 (ja) * 2017-03-10 2018-09-13 花王株式会社 硬質表面用液体洗浄剤組成物
JP2022089322A (ja) * 2020-12-04 2022-06-16 山崎産業株式会社 液状防汚洗浄剤組成物及び防汚方法
JP2023143721A (ja) * 2022-03-25 2023-10-06 山崎産業株式会社 硬質表面用の液状抗菌性付与洗浄剤組成物及び抗菌性付与方法
JP2023145340A (ja) * 2022-03-28 2023-10-11 山崎産業株式会社 硬質表面への汚れ付着抑制用液状洗浄剤組成物及び汚れ付着抑制方法

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006016501A (ja) * 2004-07-01 2006-01-19 Kobayashi Pharmaceut Co Ltd 泡沫芳香剤用エアゾール組成物及び該組成物を充填してなるエアゾール
US7605114B2 (en) 2005-05-03 2009-10-20 Claudia Rushlow Multi-purpose cleaner comprising blue iron powder
JP2007119707A (ja) * 2005-09-28 2007-05-17 Kimura Soap Industry Co Ltd 排水口洗浄用および洗濯槽洗浄用のエアゾール剤
WO2007118747A1 (de) * 2006-04-11 2007-10-25 Henkel Ag & Co. Kgaa Parfümhaltiges wässriges reinigungsmittel
JP2008106156A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Dainippon Jochugiku Co Ltd アフタードローを抑えたエアゾール用発泡性洗剤組成物
JP2009013321A (ja) * 2007-07-06 2009-01-22 Dainippon Jochugiku Co Ltd アフタードローを抑えたエアゾール用発泡性洗剤組成物
JP2012111846A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Dainippon Jochugiku Co Ltd 酸性抗菌洗浄剤組成物
JP2012131951A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Lion Corp 液体洗浄剤製品
JP2013023642A (ja) * 2011-07-25 2013-02-04 Dainippon Jochugiku Co Ltd 硬質表面用洗浄剤のすすぎ促進剤
JP2014132063A (ja) * 2012-12-07 2014-07-17 Kao Corp 硬質表面用液体洗浄剤組成物
JP2014132062A (ja) * 2012-12-07 2014-07-17 Kao Corp 硬質表面用液体洗浄剤組成物
JP2017078170A (ja) * 2015-10-21 2017-04-27 ライオン株式会社 浴室用液体洗浄剤
WO2018164115A1 (ja) * 2017-03-10 2018-09-13 花王株式会社 硬質表面用液体洗浄剤組成物
JP2018150523A (ja) * 2017-03-10 2018-09-27 花王株式会社 硬質表面用液体洗浄剤組成物
CN110325627A (zh) * 2017-03-10 2019-10-11 花王株式会社 硬质表面用液体清洁剂组合物
JP2022089322A (ja) * 2020-12-04 2022-06-16 山崎産業株式会社 液状防汚洗浄剤組成物及び防汚方法
JP7748180B2 (ja) 2020-12-04 2025-10-02 山崎産業株式会社 液状防汚洗浄剤組成物及び防汚方法
JP2023143721A (ja) * 2022-03-25 2023-10-06 山崎産業株式会社 硬質表面用の液状抗菌性付与洗浄剤組成物及び抗菌性付与方法
JP7752648B2 (ja) 2022-03-25 2025-10-10 山崎産業株式会社 硬質表面用の液状抗菌性付与洗浄剤組成物及び抗菌性付与方法
JP2023145340A (ja) * 2022-03-28 2023-10-11 山崎産業株式会社 硬質表面への汚れ付着抑制用液状洗浄剤組成物及び汚れ付着抑制方法

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