[go: up one dir, main page]

JP2000294817A - 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル - Google Patents

太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル

Info

Publication number
JP2000294817A
JP2000294817A JP11102115A JP10211599A JP2000294817A JP 2000294817 A JP2000294817 A JP 2000294817A JP 11102115 A JP11102115 A JP 11102115A JP 10211599 A JP10211599 A JP 10211599A JP 2000294817 A JP2000294817 A JP 2000294817A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
solar cell
resin
cell module
coating film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11102115A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Yamada
泰 山田
Yasuki Suzuura
泰樹 鈴浦
Hiroshi Yamamoto
浩 山本
Katsutoshi Konno
克俊 今野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP11102115A priority Critical patent/JP2000294817A/ja
Publication of JP2000294817A publication Critical patent/JP2000294817A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−
ト層として、フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水分、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更
に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、
その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優
れ、更に、防汚性等にも優れ、より低コストで安全な太
陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安定的に
提供することである。 【解決手段】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
脂フィルムとを積層し、更に、該塗布膜と、無機酸化物
の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムと
からなる積層体のいずれかの一方の面または両面に、防
汚層および/または紫外線吸収剤層を設けたことを特徴
とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれ
を使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。そして、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一般
的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等の
樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進められ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、入射する太陽光を全て透過する性質を有すると共に
耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優れ、かつ、水
分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、更に、表面
硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止
し、その保護能力性が高いこと、その他等の条件が挙げ
られるものである。しかしながら、太陽電池モジュ−ル
を構成する表面保護シ−ト層として、現在、最も一般的
に使用されているガラス板等は、太陽光の透過性に優
れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優
れ、また、防湿性にも優れ、更に、表面硬度が硬く、ま
た、防汚性等にも優れ、その保護能力性が高い等の利点
を有するが、可塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更
に、その加工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等
に欠けるという問題点がある。また、上記の太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系
樹脂等の樹脂シ−トを使用する場合には、ガラス板等と
比較して、可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に
富むものではあるが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅
牢性に劣り、特に、防湿性等に欠けるという問題点があ
る。更に、上記のフッ素系樹脂シ−トを使用する場合に
は、その表面にゴミ等が蓄積し、防汚性等に欠けるとい
う問題点もある。そこで本発明は、太陽電池モジュ−ル
を構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂シ−
トを使用するも、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性
を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の
諸堅牢性についても、その長期的な性能劣化を最小限に
抑え、保護能力性に優れ、更に、防汚性等にも優れ、よ
り低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面
保護シ−トを安定的に提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の太陽
電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層についての
問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モジュ−
ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されているガ
ラス板の特性、フッ素系樹脂、光触媒粉末、紫外線吸収
剤等に着目し、まず、樹脂フィルムの片面に、酸化珪
素、あるいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質
からなる無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸
化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物および
/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組成
物によるコ−ティング膜を設け、次に、該無機酸化物の
蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムのい
ずれかの一方の面あるいは両面に、フッ素系樹脂をビヒ
クルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜を積層し、
更に、該塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティン
グ膜とを設けた樹脂フィルムとからなる積層体のいずれ
かの一方の面または両面に、光触媒粉末を含む組成物に
よる塗布膜からなる防汚層および/または紫外線吸収剤
を含む組成物による塗布膜からなる紫外線吸収剤層を設
けて太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造し、こ
れを表面保護シ−ト層とし、上記の防汚層を最表面と
し、その他方の面に、充填剤層、光起電力素子としての
太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等
を順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引し
て加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池
モジュ−ルを製造したところ、水分、酸素等の侵入を防
止する防湿性を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱
性、耐水性等の諸堅牢性についても、その長期的な性能
劣化を最小限に抑え、その保護能力性に優れ、更に、防
汚性等にも優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モ
ジュ−ルを製造し得ることを見出して本発明を完成した
ものである。
【0005】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂をビヒ
クルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜と、無機酸
化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜
の上に、金属アルコキシド化合物および/またはその加
水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−テ
ィング膜を設けた樹脂フィルムとを積層し、更に、該塗
布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設
けた樹脂フィルムとからなる積層体のいずれかの一方の
面または両面に、防汚層および/または紫外線吸収剤層
を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関
するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。なお、本発明におい
て、シ−トとは、フィルムあるいはシ−トのいずれの場
合も意味するものであり、また、フィルムとは、フィル
ムあるいはシ−トのいずれの場合も意味するものであ
る。本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルについてそ
の層構成を図面等を用いて更に具体的に説明すると、図
1、図2、図3および図4は、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ル用表面保護シ−トの層構成についてその二三
例を例示する概略的断面図であり、図5は、図1に示す
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを
使用して製造した太陽電池モジュ−ルの層構成について
その一例を例示する概略的断面図である。
【0007】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トAは、図1に示すように、フッ素系樹
脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜1
と、その片面に、無機酸化物の蒸着薄膜2を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着薄膜2の上に、金属アルコキシ
ド化合物および/またはその加水分解物をビヒクルの主
成分とする組成物によるコ−ティング膜3を設けた樹脂
フィルム4とを積層し、更に、該塗布膜1と、無機酸化
物の蒸着薄膜2とコ−ティング膜3を設けた樹脂フィル
ム4とからなる積層体5のいずれかの一方の面または両
面に、防汚層6および/または紫外線吸収剤層7を設
け、かつ、該防汚層6を最表面とする構成からなること
基本構造とするものである。本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トについて、具体例を例示する
と、図2に示すように、フッ素系樹脂をビヒクルの主成
分とする樹脂組成物による塗布膜1と、その片面に、例
えば、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜2a
の1層、または、その2層以上の多層膜(図示せず)を
設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜2aの上に、金属
アルコキシド化合物および/またはその加水分解物をビ
ヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティング膜3を
設けた樹脂フィルム4とを積層し、更に、該塗布膜1
と、無機酸化物の蒸着薄膜2aとコ−ティング膜3とを
設けた樹脂フィルム4とからなる積層体5を構成する塗
布膜1面に、防汚層6と紫外線吸収剤層7とを設け、か
つ、該防汚層6を最表面とすることを特徴とする太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トA1 を挙げることができ
る。
【0008】更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トについて、他の例を例示すると、図3
に示すように、フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物による塗布膜1と、例えば、化学気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜2bの1層、または、その
2層以上の多層膜(図示せず)を設け、更に、該無機酸
化物の蒸着薄膜2bの上に、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする
組成物によるコ−ティング膜3を設けた樹脂フィルム4
とを積層し、更に、該塗布膜1と、無機酸化物の蒸着薄
膜2bとコ−ティング膜3とを設けた樹脂フィルム4と
からなる積層体5を構成する塗布膜1面に、防汚層6を
設け、また、該積層体5を構成する無機酸化物の蒸着薄
膜2bとコ−ティング膜3とを設けた樹脂フィルム4面
に、紫外線吸収剤層7を設け、かつ、該防汚層6を最表
面とすることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−トA2 を挙げることができる。また、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、更
に別の例を例示すると、図4に示すように、フッ素系樹
脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜1
と、その片面に、例えば、化学気相成長法による無機酸
化物の蒸着薄膜2bを設け、更に、該無機酸化物の蒸着
薄膜2bの上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜2aを設けて該無機酸化物の蒸着薄膜2a、2b
とからなる2層以上の多層膜8を設け、更に、該多層膜
8の上に、金属アルコキシド化合物および/またはその
加水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−
ティング膜3を設けた樹脂フィルム4とを積層し、更
に、該塗布膜1と、多層膜8とコ−ティング膜3とを設
けた樹脂フィルム4とからなる積層体5を構成する塗布
膜1面に、防汚層6を設け、また、該積層体5を構成す
る多層膜8とコ−ティング膜3とを設けた樹脂フィルム
4面に、紫外線吸収剤層7を設け、かつ、該防汚層6を
最表面とすることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トA3 を挙げることができる。上記の例示
は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トについて、その二三例を例示するものであり、本発明
は、これによって限定されるものではない。例えば、図
示しないが、上記において、塗布膜1と、無機酸化物の
蒸着薄膜2およびコ−ティング膜3を設けた樹脂フィル
ム4とを積層するに際しては、塗布膜1の面と樹脂フィ
ルム4との面、あるいは、塗布膜1の面と、コ−ティン
グ膜3との面等のいずれの面を対向させて積層してもよ
いものである。また、上記において、紫外線吸収剤層7
は、塗布膜1側、あるいは、樹脂フィルム4側等のいず
れの位置に設けてもよく、更には、塗布膜1とコ−ティ
ング膜3との間に設けることもできるものである。
【0009】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トAを使用した例で説明すると、図5
に示すように、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トAに、その防汚層6を最
表面とし、その他方の面を内側にし、順次に、充填剤層
11、光起電力素子としての太陽電池素子12、充填剤
層13、および、裏面保護シ−ト層14等を積層し、次
いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着する
ラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各
層を一体成形体として太陽電池モジュ−ルTを製造する
ことができる。なお、図中、1、2、3、4、5、7等
は、前述と同じ意味である。上記の例示は、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
ものであり、本発明はこれにより限定されるものではな
い。例えば、図示しないが、上記の太陽電池モジュ−ル
においては、太陽光の透過性、吸収性、補強、その他等
の目的のもとに、更に、他の層を任意に加えて積層する
ことができるものである。
【0010】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂
組成物による塗布膜について説明すると、かかる塗布膜
を形成するには、まず、フッ素系樹脂の1種ないし2種
以上をビヒクルの主成分とし、これに、必要ならば、例
えば、塗布膜の加工性、耐熱性、耐光性、耐水性、耐候
性、機械的ないし化学的性質、寸法安定性、抗酸化性、
滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、その
他等を改良、改質する目的で種々のプラスチックの添加
剤、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、
難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防ガビ剤、着色剤、その他等
の添加剤野1種ないし2種以上を太陽光の透過に影響し
ない範囲内で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤等で十
分に混練して、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エ
マルジョン型等の樹脂組成物を調整する。次に、上記で
調整した樹脂組成物を、例えば、フロ−ティングナイフ
コ−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−テ
ィドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ
−スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ル
コ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト
法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−
ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア
印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印
刷、その他等の印刷法を用いて、前述の無機酸化物の蒸
着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムのいず
れかの一方の面、あるいは、その両面に塗布ないし印刷
し、乾燥して塗布膜を形成することができる。而して、
本発明においては、上記のように無機酸化物の蒸着薄膜
とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムに塗布膜を形
成することにより、該塗布膜と無機酸化物の蒸着薄膜と
コ−ティング膜途を設けた樹脂フィルムとを積層した積
層体を製造することができる。上記において、塗布膜の
膜厚としては、1〜75g/m2 (乾燥状態)位、より
好ましくは、10〜50g/m2 (乾燥状態)位が望ま
しい。
【0011】上記において、フッ素系樹脂としては、例
えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テト
ラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−
テルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂
(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチ
レンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフ
ルオロプロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオ
ロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−
(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂
(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレ
ンとのコポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系
樹脂(PVDF)、フッ化ビニル系樹脂(PVF)、商
品名、CYTOP(サイトップ、登録商標)、または、
商品名、ルミフロン(登録商標)からなる透明フッ素樹
脂(両方とも、旭硝子株式会社製)等からなるフッ素系
樹脂の1種ないし2種以上を使用することができる。本
発明において、上記のフッ素系樹脂としては、可視光透
過率が、90%以上、好ましくは、93%以上であっ
て、入射する太陽光を全て透過する性質を有することが
望ましいものである。なお、本発明においては、上記の
フッ素系樹脂の中でも、特に、商品名、CYTOP(サ
イトップ、登録商標)、または、商品名、ルミフロン
(登録商標)からなる透明フッ素樹脂が、透明性を有
し、太陽光の透過性等の観点から好ましいものである。
而して、本発明において、上記のフッ素系樹脂を使用す
ることにより、該フッ素系樹脂が有する優れた特性、特
に、機械的特性、化学的特性、光学的特性等、更には、
耐光性、耐熱性、耐水性、その他等の超耐候性、耐汚染
性、耐薬品性等の諸特性を利用し、太陽電池を構成する
表面保護シ−トとするものであり、これにより、従来の
ガラス板等と同等の光学特性、耐久性等を有し、また、
そのフレキシブル性や機械的特性等からガラス板等より
も軽く、かつ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易
さ等の利点を有するものである。なお、本発明において
は、上記のフッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂
組成物には、種々の添加剤を添加し得るが、それらの中
でも、紫外線吸収剤および/または酸化防止剤を添加す
ることが好ましいものである。
【0012】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層あるい
は2層以上の多層膜を形成して、製造することができる
ものである。上記の物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティ
ング法等の物理気相成長法(Physical Vap
or Deposition法、PVD法)を用いて無
機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発明に
おいて、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを
加熱して樹脂フィルムの上に蒸着する真空蒸着法、また
は、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素
を導入して酸化させて樹脂フィルムの上に蒸着する酸化
反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズ
マ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成する
ことができる。本発明において、物理気相成長法による
無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法について、その具
体例を挙げると、図6は、巻き取り式真空蒸着装置の一
例を示す概略的構成図である。図6に示すように、巻き
取り式真空蒸着装置21の真空チャンバ−22の中で、
巻き出しロ−ル23から繰り出す樹脂フィルム4は、ガ
イドロ−ル24、25を介して、冷却したコ−ティング
ドラム26に案内される。而して、上記の冷却したコ−
ティングドラム26上に案内された樹脂フィルム4の上
に、るつぼ27で熱せられた蒸着源28、例えば、金属
アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発さ
せ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口29より酸素ガ
ス等を噴出し、これを供給しながら、マスク30、30
を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の
蒸着薄膜を成膜化し、次いで、上記において、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成した
樹脂フィルム4を、ガイドロ−ル25′、24′を介し
て送り出し、巻き取りロ−ル31に巻き取ることによっ
て、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜を形成することができる。なお、本発明におい
ては、上記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2
回以上繰り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装
置を2連以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそ
れ以上からなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することが
できる。また、本発明においては、使用する金属、また
は金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物
で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構
成することもできる。
【0013】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜200
0Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。
【0014】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
(Chemical Vapor Depositio
n法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
樹脂フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用
モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更
に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プ
ラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長
法(CVD法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着
薄膜を形成することができる。上記において、低温プラ
ズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パル
ス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用
することがてき、而して、本発明においては、高活性の
安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式
による発生装置を使用することが望ましい。
【0015】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図7は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図7に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャン
バ−42内に配置された巻き出しロ−ル43から樹脂フ
ィルム4を繰り出し、更に、該樹脂フィルム4を、補助
ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ドラム45
周面上に搬送する。而して、本発明においては、ガス供
給装置46、47および、原料揮発供給装置48等から
酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノ
マ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混
合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル49を通し
て真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス組成物を導
入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45周面上に搬
送された樹脂フィルム4の上に、グロ−放電プラズマ5
0によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム45
は、チャンバ−外に配置されている電源51から所定の
電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム45の
近傍には、マグネット52を配置してプラズマの発生が
促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した樹脂フィルム4は、補助ロ−ル
53を介して巻き取りロ−ル54に巻き取って、本発明
にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜を製造することができるものである。なお、図
中、55は、真空ポンプを表す。なお、本発明において
は、上記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を2回
以上繰り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装置
を2連以上接続し、2層以上重層して2層あるいはそれ
以上からなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することがで
きる。また、本発明においては、蒸着用モノマ−ガス等
としては、1種または2種以上の混合物で使用し、異種
の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成することもで
きる。上記の例示は、その一例を例示するものであり、
これによって本発明は限定されるものではないことは言
うまでもないことである。
【0016】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
【0017】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が樹脂フィル
ムの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成
することができ、通常、一般式SiOX (ただし、X
は、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とす
る連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般
式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として
有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、
または、その両者の元素を微量構成元素として含有する
酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å
〜2000Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素
と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的
に変化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸
着薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、そ
の膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少している
ことを特徴とするものである。而して、本発明におい
て、上記の酸化珪素の蒸着薄膜について、例えば、X線
光電子分光装置(Xray Photoelectro
n Spectroscopy、XPS)、二次イオン
質量分析装置(Secondary Ion Mass
Spectroscopy、SIMS)等の表面分析
装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分
析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析
を行うことより、上記のような物性を確認することがで
きるものである。また、本発明において、上記の酸化珪
素の蒸着薄膜の膜厚としては、膜厚50Å〜2000Å
位であることが望ましく、具体的には、その膜厚として
は、より好ましくは、100〜1000Å位が望まし
く、而して、上記において、1000Å、更には、20
00Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易
くなるので好ましくなく、また、100Å、更には、5
0Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難
になることから好ましくないものである。上記のおい
て、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分
析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファン
ダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。ま
た、上記において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚を
変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくする
こと、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする
方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うこと
ができる。
【0018】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の2層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、樹脂フィルムの上に、化学気相成
長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラック
の発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次い
で、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、2層以上の多層膜
からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成することが望まし
いものである。なお、本発明においては、コ−ティング
膜等との密接着性、親和性等を向上させるために、無機
酸化物の蒸着薄膜面に、例えば、気体をア−ク放電によ
り電離させることにより生じるプラズマガスを利用して
表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用してプラ
ズマ処理面、あるいは、コロナ放電処理法等を利用して
コロナ処理面等を形成することができるものである。
【0019】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する金属アルコキシド化合物および/または
その加水分解物をビヒクルの主成分として含む組成物に
よるコ−ティング膜について説明すると、まず、上記の
金属アルコキシド化合物および/またはその加水分解物
としては、例えば、主に、一般式、M(0R)n (式
中、Mは、Si、Ti、Al、B、Zr、W、または、
Taからなる金属原子を表し、Rは、C1 〜C10からな
るアルキル基を表し、nは、1〜4の整数を表す。)で
表される金属アルコキシド化合物、または、その加水分
解物、あるいは、その両者の混合物等を使用することが
できる。上記において、金属アルコキシド化合物として
は、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライ
ソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライ
ソブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、
テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラ−n−アミ
ルオキシシラン、テトライソアミルオキシシラン、テト
ラヘキシルオキシシラン、テトラヘプチルオキシシラ
ン、テトラオクチルオキシシラ、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、メチルトリブトキシシラ、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロ
ポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、トリメチル
メトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチ
ルブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−
(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
クロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、その他等の
アルコキシシラン化合物;トリメトキシアルミニウム、
トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミ
ニウム、その他等のアルミニウムアルコキシド化合物;
テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニ
ウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブト
キシジルコニウム、その他等のジルコニウムアルコキシ
ド化合物;テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシ
チタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラ
ブトキシチタニウム、その他等のチタニウムアルコキシ
ド化合物;タンタルペンタプロポキシド、タンタルペン
タブトキシ、その他等のタンタルアルコキシド化合物;
ボロントリメトキシド、ボロントリブトキシド、その他
等のボロンアルコキシド化合物;その他等の1種ないし
2種以上の混合物を使用することができる。
【0020】次に、本発明において、金属アルコキシド
化合物の加水分解物としては、上記のような金属アルコ
キシド化合物の1種ないし2種以上を適当な溶媒中に溶
解して、金属アルコキシド化合物の部分ないし完全加水
分解物を得ることができる。上記において、溶媒として
は、水、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロピルアルコ
−ル、ブタノ−ル、その他等のアルコ−ル類、上記の水
−アルコ−ル系等からなる混合溶媒、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、その他等のケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチル、その他等のエステル類、ハロゲ
ンカ炭化水素、トルエン、キシレン、その他等の芳香族
炭化水素類、その他等を使用することができる。なお、
本発明において、上記の加水分解を行う際には、例え
ば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機
酸等を触媒として少量添加して使用することができる。
【0021】次に、本発明において、上記の金属アルコ
キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
の主成分として含む組成物において、金属アルコキシド
化合物および/またはその加水分解物の含有量として
は、該金属アルコキシド化合物が100%加水分解およ
び縮合したとして生じるSiO2 換算で0.1重量%以
上、好ましくは、0.1〜70重量%、更には、0.1
〜50重量%位になるように溶媒中に溶解させて使用す
ることが望ましい。上記において、0.1重量%未満で
あると、形成されるコ−ティング膜が、所望の特性、す
なわち、所望のバリア性能を有する被膜を形成すること
ができず、また、50重量%、更に、70重量%を越え
ると、透明な均質の被膜を形成することが困難となるこ
とから好ましくないものである。
【0022】而して、本発明において、上記の金属アル
コキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分として含む組成物によるコ−ティング膜を形
成するには、まず、例えば、金属アルコキシド化合物お
よび/またはその加水分解物の1種ないしそれ以上をビ
ヒクルの主成分とし、これに、更に、必要ならば、例え
ば、結合剤としての樹脂、充填剤、安定剤、可塑剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘
剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練して
なる溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等から
なる組成物を調整する。而して、本発明においては、上
記で調整した組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ−ト
法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、ス
クイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、カ
−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法によ
り、コ−ティング量、例えば、0.1g/m2 〜10g
/m2 (乾燥状態)位、好ましくは、0.5g/m2
5g/m2 (乾燥状態)位になるようにコ−ティング
し、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施
して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成することが
できる。上記において、上記の組成物としては、金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物を溶解
ないし混練し、更に、これらを硬化させることから、
水、あるいは、アルコ−ル−水系溶液等を使用して調整
した組成物を使用することが好ましく、而して、上記の
アルコ−ル成分としては、例えば、n−プロピルアルコ
−ル、イソプロピルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t−
ブタノ−ル、エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を
使用することができ、また、上記のアルコ−ル−水系溶
液において、アルコ−ルと水との配合割合としては、例
えば、アルコ−ル、50〜70重量部に対し水、50〜
30重量部の割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調
整することが望ましい。
【0023】上記の組成物において、添加剤としては、
例えば、金属酸化物微粒子等の無機充填剤を同時に混合
して使用することが好ましいものである。かかる場合に
は、金属酸化物微粒子が、それ自身で硬い構造であるの
に比べ、その表面に多くの水酸基を持つSiO2 混合ゾ
ルが加熱等によりSiO2 ゲル膜を形成する際に、その
表面の水酸基と反応し、コ−ティング膜を補強させると
いう利点を有するものである。上記の金属酸化物微粒子
としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、その他等を使用することができ、而して、その
粒子径としては、0.005〜1.0μm位のものを少
量添加して使用することがてきる。
【0024】また、上記の組成物においては、コ−ティ
ング膜の被膜性、コ−ティング膜の無機酸化物の蒸着薄
膜への密接着性、その他等のことから、例えば、水溶
性、親水性、疎水性、その他等の各種の樹脂の1種ない
し2種以上を添加することもできる。上記において、樹
脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、あるいは、その
酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリアクリルあるいはメタクリル系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
ポリビニルピロリドン系樹脂、メチルセルロ−ス、エチ
ルセルロ−ス、カルボキシルメチルセルロ−ス、ニトロ
セルロ−ス、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、その他等を使用することができる。
【0025】次にまた、上記の組成物においては、架橋
剤として、例えば、二元反応性を有するシランカップリ
ング剤、あるいは、イソシアネ−ト化合物等を添加する
ことができる。上記のシランカップリング剤としては、
例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3、
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒ
ドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの1種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記のイソシアネ
−ト化合物としては、その分子中に2個以上のイソシア
ネ−ト基を有するものを使用することができ、例えば、
トリレンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイ
ソシアネ−ト、テトラメチルキシレンジイソシアネ−
ト、その他等を使用することがてきる。その使用量とし
ては、微量添加するだけでよい。
【0026】更に、本発明においては、金属アルコキシ
ド化合物および/またはその加水分解を架橋硬化させる
ために、更には、架橋剤等と反応させ、架橋構造を構成
する際に、例えば、硬化触媒等を添加することができ
る。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質的に不
溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン類、例え
ば、N.N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン等、ま
た、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、
酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができる。そ
の使用量としては、微量添加することで充分である。
【0027】ところで、本発明において、上記の金属ア
ルコキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒ
クルの主成分とし、これに、必要ならば、所望の添加剤
を任意に添加し、水、あるいは、アルコ−ル−水系溶
剤、希釈剤等で充分に混練してなる組成物を調整し、こ
れを通常のコ−ティング法でコ−ティングし、次いで、
加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施すことによ
り、コ−ティング膜を形成することができる。而して、
上記のコ−ティング膜は、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に優れ、その両者の接着強度は極めて強く、その
層間において剥離する等の現象は認められず、更に、本
発明においては、無機酸化物の蒸着薄膜と上記のコ−テ
ィング膜との2層からなるバリア性膜を形成し、それに
より、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対するバリア性を
更に向上させ、かつ、透明性、耐熱性、耐熱水性、ラミ
ネ−ト適性、その他等にも優れ、極めて良好な積層材を
製造し得るものである。
【0028】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜
とを設けた樹脂フィルムにおいて、その樹脂フィルムと
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリ
エチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等
のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボ
ネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、(メタ)アクリル
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル
共重合体のケン化部等のポリビニルアルコ−ル系樹脂、
ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、
ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系
樹脂、フッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができる。而して、本発明
において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、上記の樹脂の1種ないしそれ以上を使用
し、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の製膜化
法を用いて、上記の樹脂を単独で製膜化する方法、ある
いは、2種以上の異なる樹脂を使用して多層共押し出し
製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製
膜化する前に混合して製膜化する方法等により、樹脂の
フィルムないしシ−トを製造し、更に、例えば、テンタ
−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸
ないし2軸方向に延伸してなる樹脂のフィルムないしシ
−トを使用することができる。本発明において、樹脂フ
ィルムの膜厚としては、5〜200μm位、より好まし
くは、10〜50μm位が望ましい。なお、上記におい
て、樹脂の製膜化に際して、例えば、フィルムの加工
性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化
性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、
その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック
配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量と
しては、太陽光の透過に影響しない極く微量から数十%
まで、その目的に応じて、任意に添加することができ
る。また、上記において、一般的な添加剤としては、例
えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填
剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発
泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用することがで
き、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。
【0029】また、本発明において、樹脂フィルムは、
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温プラズマ処
理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化
処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前
に別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズ
マ処理やグロ−放電処理等による表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理としてイン
ライン処理により前処理で行うことができ、このような
場合は、その製造コストを低減することができるという
利点がある。上記の表面前処理は、樹脂フィルムと無機
酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法とし
て実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法
として、その他、例えば、基材フィルムの表面に、予
め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、ある
いは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成すること
もできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用すること
ができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法と
しては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジ
ョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法
を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期として
は、基材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施するこ
とができる。なお、本発明において、基材フィルムとし
ては、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム等
の2軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルム、2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム等の2軸延伸ポリエ
ステル系樹脂フィルム、または、2軸延伸ナイロンフィ
ルム等の2軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムを使用する
ことが望ましいものである。
【0030】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する光
触媒粉末を含む組成物による塗布膜からなる防汚層につ
いて説明すると、かかる防汚層は、表面保護シ−トの最
表面に設けるものである。すなわち、本発明において
は、太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを構成するフ
ッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による
塗布膜の他方の片面(最表面)に、ゴミ、埃等の蓄積を
防止する防汚層を形成するものである。而して、上記の
防汚層としては、光触媒粉末または光触媒ゾル(以下、
光触媒粉末とは、光触媒ゾルも含む意味で記す)を含む
組成物による塗布膜から構成することができる。上記に
おいて、光触媒粉末を含む組成物による塗布膜として
は、まず、例えば、光触媒粉末の1種ないし2種以上
に、ビヒクルとしての結合剤の1種ないし2種以上を添
加し、更に、必要ならば、例えば、滑剤、架橋剤、酸化
防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補
強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ
剤、顔料、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を太
陽光の透過に影響しない範囲内で任意に添加し、更に、
溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水
性型、あるいは、エマルジョン型等の組成物を調整す
る。次いで、本発明においては、上記で調整した組成物
を使用し、これを、、例えば、ナイフコ−ト法、スクイ
−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ロ−ル
コ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト
法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−
ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア
印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印
刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし印刷し、次
いで、乾燥して塗布膜を形成することにより、本発明に
かかる防汚層を構成することができるものである。上記
において、塗布膜の膜厚としては、0.1〜10g/m
2 位(乾燥状態)、より好ましくは、0.5〜1g/m
2 位が望ましい。
【0031】上記において、光触媒粉末としては、太陽
光等の光の作用により、例えば、樹脂が、酸化等により
劣化、破壊、あるいは、分解し、または、低分子化し、
防汚層の表面に付着した塵埃等を、その粘着性を破壊
し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を清掃に保持する
ことを容易にする作用を有する化学物質を使用すること
ができる。具体的には、例えば、光触媒粉末としては、
例えば、TiO2 、ZnO、SrTiO3 、CdS、C
aP、InP、GaAs、BaTiO2 、K2 Ti
3 、K2 NbO3 、Fe2 3 、Ta2 3 、W
3 、SnO2 、Bi2 8 、NiO、Cu2 O、Si
C、SiO2 、MoS2 、InPb、RuO2 、CeO
2 等、あるいは、これらにPt、Rh、RuO2 、N
b、Cu、Sn、Ni、Fe等の金属および/またはこ
れらの金属酸化物とを混合した組成物を使用することが
できる。上記の組成物において、光触媒粉末の含有量と
しては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約
0.1〜30重量%位が好ましい。また、上記におい
て、防汚層としては、酸化チタンを主成分とする光触媒
粉末、若しくはゾルに含まれる微粒子からなる組成物に
よる塗布膜からなるものが望ましいものである。
【0032】また、上記において、ビヒクルとしての結
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末の
光活性に影響を受けない結合剤を使用することができ、
具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−
アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸また
はメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポ
リブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリル
ニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリ
ル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリ
ル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、
ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ
−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−
酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン
系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、
エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、アミノプラスト系
樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニトロセルロ−ス、無機系ポ
リマ−、その他等の各種の天然ないし半若しくは合成樹
脂、無機系ポリマ−、その他等の公知の樹脂、あるい
は、その変性樹脂、その他等の1種ないし2種以上を使
用することができる。而して、本発明においては、光触
媒粉末の影響を受けない結合剤としては、上記のような
結合剤の中でも、特に、低融点ガラス、アルカリ金属シ
リケ−ト、ホスフェ−ト、または、コロイダルシリカ、
その他等の無機系ポリマ−の1種ないしそれ以上を使用
することが好ましいものである。
【0033】ところで、本発明においては、上記の防汚
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末の光活性が、該防汚
層の下層に位置する、例えば、フッ素系樹脂シ−ト等に
影響を与え、その劣化、分解、あるいは、破壊等に起こ
さないように、その相互の接触を遮断する無機質膜等か
らなる光触媒粉末の活性を遮断する活性遮断層を設ける
ことができる。上記の活性遮断層は、通常、防汚層の下
層に設けるものである。上記の活性遮断層を構成する無
機質膜としては、例えば、前述の透明性を有する酸化珪
素、あるいは、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着
膜等を使用することができる。上記の無機酸化物の蒸着
膜の形成は、前述と同様にして製膜化して、活性遮断層
を形成することができ、その膜厚としては、100〜3
000Å位、より好ましくは、100〜1500Å位が
望ましい。また、本発明においては、上記の防汚層の密
接着性を強固にするために、該防汚層を構成する光触媒
粉末を含む組成物による塗布膜を設けるに際し、必要な
らば、フッ素系樹脂シ−トの表面に接着用プライマ−層
等を設けることができる。上記のプライマ−層を構成す
る材料としては、例えば、防汚層中の光触媒粉末の光活
性等によって分解されない無機系のプライマ−層を構成
する材料を使用して形成することが望ましいものであ
る。具体的には、有機チタン化合物として代表的なテト
ライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−ト、
テトラステアリルチタネ−ト等のアルキルチタネ−トや
チタンキレ−ト等の加水分解による生成物等を使用する
ことができ、その他、無機ポリシラザン(ペルヒドポリ
シラザラン)等も使用することができる。本発明におい
ては、特に、加水分解速度が極めて早く、溶液を塗工後
に分解できるテトライソプロピルチタネ−ト、テトラブ
チルチタネ−トが好ましい材料である。
【0034】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト太陽電池モジュ−ル等を構成する紫外
線吸収剤を含む組成物による塗布膜からなる紫外線吸収
剤層について説明すると、かかる紫外線吸収剤層として
は、例えば、紫外線吸収剤の1種ないし2種以上に、ビ
ヒクルとしての結合剤の1種ないし2種以上を添加し、
更に、必要ならば、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、
顔料、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を太陽光
の透過に影響しない範囲内で任意に添加し、更に、溶
剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水性
型、あるいは、エマルジョン型等の組成物を調整し、次
いで、該組成物を、例えば、ナイフコ−ト法、スクイ−
ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ
−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト
法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−コ−
ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア
印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印
刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし印刷するこ
とにより塗布膜を形成して紫外線吸収剤層を設けること
ができる。上記において、塗布膜の膜厚としては、0.
1〜10g/m2 位(乾燥状態)、より好ましくは、
1.0〜5g/m2 位が望ましい。
【0035】上記において、紫外線吸収剤としては、太
陽光中の有害な紫外線を吸収し、分子内で無害な熱エネ
ルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励
起されるのを防止するものであり、具体的には、べンゾ
フェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、
アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン
系、超微粒子酸化チタン(粒径、0.01〜0.06μ
m)、超微粒子酸化亜鉛(粒径、0.01〜0.04μ
m)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないし2種以上
を使用することができる。上記の組成物において、紫外
線吸収剤の含有量としては、約0.1〜20重量%位が
望ましい。また、上記において、上記の組成物には、高
分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止する酸化防止剤、
具体的には、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、りん酸
系、その他等の酸化防止剤を使用することが望ましいも
のである。また、上記の組成物において、ビヒクルとし
ての結合剤としては、前述の防汚層を構成する際に例示
した結合剤を同様に使用することができる。
【0036】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、入射する太陽光を透過する性質を有する透
明性を必要とするものであり、また、表面保護シ−トと
の接着性を有することも必要であり、更に、光起電力素
子としての太陽電池素子の表面の平滑性を保持する機能
を果たすために熱可塑性を有すること、更には、光起電
力素子としての太陽電池素子の保護とういことから、耐
スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが必要で
ある。具体的には、上記の充填剤層としては、例えば、
フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオ
ノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、または、メタクリ
ル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレ
フィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、
フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリ
オレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、シリ
コ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)アクリル系樹
脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の混合物を使
用することができる。なお、本発明においては、上記の
充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光性、耐水性
等の耐候性等を向上させるために、その透明性を損なわ
ない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止剤、光安定
剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等の添加剤を
任意に添加し、混合することができるものである。而し
て、本発明においては、太陽光の入射側の充填剤として
は、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考慮すると、
フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂が望ましい
素材である。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、2
00/1000μm位、より好ましくは、350〜60
0μm位が望ましい。
【0037】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、薄膜多結晶性シリコン太陽電池素子、薄膜微結晶
性シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリコン太陽電池素
子とアモルファスシリコン太陽電池素子とのハイブリッ
ト素子等を使用することができる。
【0038】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200/
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
【0039】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、2軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、12〜20
0μm位、好ましくは、25〜150μm位が望まし
い。
【0040】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、ポリエチレン系樹脂、
ポリプロピレン系樹脂、エチレン−プロピレン共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹
脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテ
ンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹
脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリ
ル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−ス
チレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブ
タジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエ
ステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系
樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹
脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニト
ロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないし
シ−トから任意に選択して使用することができる。本発
明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、
一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのもの
でも使用することができる。また、その厚さは、任意で
あるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使
用することができる。更に、本発明においては、フィル
ムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−シ
ョン成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよ
い。
【0041】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その無機酸化物の蒸
着薄膜の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、そ
の他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸
引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等
の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とし
て加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造するこ
とができる。上記において、必要ならば、各層間の接着
性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクル
の主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬
化型接着剤、その他等を使用することができる。
【0042】
【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを巻き取り
式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、こ
れをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記の蒸着
条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給
しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による
反応真空蒸着法により、その易接着処理面に、膜厚30
0Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で製膜化した膜厚300Åの酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜面に、その蒸着直後に、グロ−放電プラズ
マ発生装置を使用し、プラズマ出力、1500W、酸素
ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=19:1からな
る混合ガスを使用し、混合ガス圧6X10-5Toor、
処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスプ
ラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形成した。 (2).他方、ジメチルジメトキシシラン2重量部とエ
タノ−ル1重量部と0.1規定の塩酸0.2重量部とを
その割合で混合して、50℃にて2時間還流した。得ら
れたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶液
に、メチルトリメトキシシラン25重量部とエタノ−ル
5重量部とポリメチルメタクリレ−ト(PMMA)のト
ルエン溶液(20%)20重量部の割合で添加し、室温
にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。
次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処
理面に、上記で得られた塗布用の組成物を使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。 (3).更に、上記で製造したコ−ティング硬化膜面
に、フッ素樹脂塗布液(商品名、ルミフロン、旭硝子株
式会社製)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用い
て、コ−ティングし、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の
塗布膜を形成して積層体を製造した。次に、上記で製造
した積層体の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム面に、0.03μmの酸化チタン超微粒子5重量部
とエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体液(固形分20
%溶液)95重量部とからなる紫外線吸収剤組成物をグ
ラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚
0.5g/m2 (乾燥状態)の紫外線吸収剤層を形成し
て、本発明にかかる表面保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (5).なお、上記において、上記のフッ素樹脂塗布液
(商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、
テトラフルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−から
なるフッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同
様にして、同様な本発明にかかる表面保護シ−ト、およ
び、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0043】実施例2 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の蒸
着条件で厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2
軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの易接着処
理面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 次に、上記で膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成
した後、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面
に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロ
ナ放電処理を行って、コロナ処理面を形成し、その蒸着
薄膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向
上させた。 (2).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とをその
割合で混合して、50℃にて3時間還流した。得られた
テトラエトキシシランの部分加水分解物溶液に、ポリメ
チルメタクリレ−ト(PMMA)のトルエン溶液(20
%)30重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌し
て、塗布用の組成物を調整した。次に、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜のコロナ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ1.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で1分加熱処理してコ
−ティング硬化膜を形成した。 (3).更に、上記で製造したコ−ティング硬化膜面
に、フッ素樹脂塗布液(商品名、ルミフロン、旭硝子株
式会社製)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用い
て、コ−ティングし、膜厚10g/m2 (乾燥状態)の
塗布膜を形成して積層体を製造した。次に、上記で製造
した積層体の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤1重量部と熱
硬化型アクリル系樹脂液(固形分20%)99重量部と
からなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いてコ−ティングし、膜厚2.0g/m2 (乾燥状
態)の紫外線吸収剤層を形成して、本発明にかかる表面
保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。 (5).なお、上記において、上記のフッ素樹脂塗布液
(商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、
テトラフルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−から
なるフッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同
様にして、同様な本発明にかかる表面保護シ−ト、およ
び、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0044】実施例3 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例2
と全く同様にして、厚さ300Åの酸化珪素の蒸着薄膜
を、その易接着処理面に形成し、更に、その酸化珪素の
蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行って、コロナ処理面
を形成し、その蒸着薄膜面の表面張力を35dyneよ
り60dyneに向上させた。次に、上記の実施例1と
全く同様にして、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理面
に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成
し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズマ
処理を行ってプラズマ処理面を形成した。 (2).他方、ジメチルジメトキシシラン5重量部とエ
タノ−ル2.5重量部と0.1規定の塩酸0.5重量部
とをその割合で混合して、50℃にて2時間還流した。
得られたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶
液に、メチルトリメトキシシラン15重量部とエタノ−
ル3重量部と環状ポリオレフィンのシクロヘキサン溶液
(30%)10重量部の割合で添加し、室温にて更に2
時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。次に、上記
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上
記で得られた塗布用の組成物を使用し、これをグラビア
ロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ2.0g/m
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、1
20℃で1分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成し
た。 (3).次に、上記で製造したコ−ティング硬化膜面
に、0.03μmの酸化チタン超微粒子5重量部とエチ
レン−ビニルアルコ−ル共重合体液(固形分20%溶
液)95重量部とからなる紫外線吸収剤組成物をグラビ
アロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚0.5
g/m2 (乾燥状態)の紫外線吸収剤層を形成した。更
に、上記の紫外線吸収剤層の上に、フッ素樹脂塗布液
(商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)を使用し、
グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、コ−ティングし、膜
厚10g/m2 (乾燥状態)の塗布膜を形成して積層体
を製造した。次に、上記で製造した積層体の塗布膜面
(最表面)に、粒径0.03μmの酸化チタン超微粒子
10重量部とテトラエトキシシラン液90重量部(固形
分20%)とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ
−ト法を用いて塗布し、膜厚1g/m2 (乾燥状態)の
防汚層を形成し、本発明にかかる表面保護シ−トを製造
した。 (4).次に、上記で製造した表面保護シ−トの2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム面に、アモルフ
ァスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚
さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム(受光面)を、その太陽電池素子面を対向させ、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記のフッ素樹脂塗布液
(商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製)に代えて、
テトラフルオロエチレンとエチレンとのコポリマ−から
なるフッ素樹脂液を使用し、それ以外は、上記と全く同
様にして、同様な本発明にかかる表面保護シ−ト、およ
び、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。
【0045】実施例4 (1).上記の実施例1で製造した膜厚300Åの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、更に、上
記の実施例1と全く同様にして、膜厚300Åの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜を形成し、また、酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行って、2層の酸化
アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン25重量部とエタ
ノ−ル10重量部と0.1規定の塩酸5重量部とを混合
して、50℃にて3時間還流した。得られたテトラエト
キシシランの部分加水分解物溶液に、フッ素系アクリル
樹脂液(旭硝子株式会社製、商品名、ルミフロン)25
重量部を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用
の組成物を調整した。次に、上記の酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ0.5g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理して
コ−ティング硬化膜を形成した。 (3).次いで、上記で形成したコ−ティング硬化膜面
に、上記の実施例3と全く同様にして、紫外線吸収剤層
を設け、更に、該紫外線吸収剤層の上に、塗布膜を設け
て積層体を構成し、次いで、該積層体の塗布膜面(最表
面)に、上記の実施例3と全く同様して、粒径0.03
μmの酸化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシ
シラン液90重量部(固形分20%)とからなる光触媒
塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚
1g/m2 (乾燥状態)の防汚層を形成して、本発明に
かかる表面保護シ−トを製造した。更に、上記で製造し
た表面保護シ−トを使用し、上記の実施例1と同様にし
て本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0046】実施例5 (1).上記の実施例2において製造した酸化珪素の蒸
着薄膜のコロナ処理面に、更に、上記の実施例2と全く
同様にして、膜厚300Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成
し、また、酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を
行って、2層の酸化珪素の蒸着薄膜を形成した。 (2).他方、テトラエトキシシラン20重量部と水5
0重量部とエタノ−ル30重量部と0.1規定の塩酸5
重量部とをその割合で混合して、50℃にて3時間還流
した。得られたテトラエトキシシランの部分加水分解物
溶液に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体の水−イ
ソプロピ−ルアルコ−ル溶液(固形分8%)50重量部
を添加し、室温にて更に2時間攪拌して、塗布用の組成
物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のプラ
ズマ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.0g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成した。 (3).次いで、上記で形成したコ−ティング硬化膜面
に、上記の実施例3と全く同様にして、紫外線吸収剤層
を形成し、更に、該紫外線吸収剤層の上に、塗布膜を形
成して積層体を構成し、次いで、該積層体の塗布膜面
(最表面)に、上記の実施例3と全く同様して、粒径
0.03μmの酸化チタン超微粒子10重量部とテトラ
エトキシシラン液90重量部(固形分20%)とからな
る光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布
し、膜厚1g/m2 (乾燥状態)の塗布膜からなる防汚
層を形成して、本発明にかかる表面保護シ−トを製造し
た。更に、上記で製造した表面保護シ−トを使用し、上
記の実施例2と同様にして本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ルを製造した。
【0047】実施例6 (1).基材として、紫外線吸収剤を練り込んだ厚さ5
0μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
を使用し、上記の実施例1と全く同様にして、厚さ30
0Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成し、更に、そ
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理を行
った。次に、上記の実施例2と全く同様にして、上記の
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、膜厚300
Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、酸化珪素の蒸
着薄膜面に、コロナ放電処理を行った。 (2).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理
面に、以下、上記の実施例2と全く同様にして、本発明
にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造し
た。更に、上記で製造した表面保護シ−トを使用し、上
記の実施例2と全く同様にして本発明にかかる太陽電池
モジュ−ルを製造した。
【0048】実施例7 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1
と同様にして、その易接着処理面に、膜厚300Åの酸
化アルミニウムの蒸着薄膜を形成し、更に、その酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズマ処理面を形成し
た。 (2).次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプ
ラズマ処理面に、上記の実施例1と同様にして、コ−テ
ィング硬化膜を形成した。更に、上記で製造したコ−テ
ィング硬化膜面に、上記の実施例1と全く同様にして塗
布膜を形成して積層体を製造した。次に、上記で製造し
た積層体の塗布膜の面(最表面)に、粒子径0.03μ
mの酸化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシ
ラン液(固形分20%)90重量部とからなる光触媒塗
工液をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚1
g/m2 (乾燥状態)の塗布膜からなる防汚層を形成し
て、本発明にかかる表面保護シ−トを製造した。次に、
上記で製造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例
3と全く同様にして、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ルを製造した。
【0049】実施例8 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例2
と同様にして、その易接着処理面に、厚さ300Åの酸
化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、その酸化珪素の蒸着
薄膜面に、コロナ処理面を形成した。 (2).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処理
面に、上記の実施例5と同様にして、コ−ティング硬化
膜を形成した。更に、上記で製造したコ−ティング硬化
膜面に、上記の実施例2と全く同様にして、塗布膜を形
成して、積層体を製造した。次に、上記で製造した積層
体の塗布膜の面(最表面)に、粒子径0.03μmの酸
化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシラン液
(固形分20%)90重量部とからなる光触媒塗工液を
グラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚1g/m
2 (乾燥状態)の防汚層を形成して、本発明にかかる表
面保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した表面保護シ−トの2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム面に、アモルフ
ァスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚
さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム(受光面)を、その太陽電池素子面を対向させ、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0050】実施例9 (1).基材として、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例2
と全く同様にして、その易接着処理面に、厚さ300Å
の酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更に、その酸化珪素の
蒸着薄膜面に、コロナ処理面を形成した。次に、上記の
実施例1と全く同様にして、上記の2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロ
ナ処理面に、膜厚300Åの酸化アルミニウムの蒸着薄
膜を形成し、更に、その酸化アルミニウムの蒸着薄膜面
に、プラズマ処理面を形成した。 (2).次に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプ
ラズマ処理面に、上記の実施例3と同様にして、コ−テ
ィング硬化膜を形成した。更に、上記で製造したコ−テ
ィング硬化膜面に、上記の実施例1と同様にして、塗布
膜を形成して積層体を製造した。更に、上記で製造した
積層体の塗布膜の面(最表面)に、粒径0.03μmの
酸化チタン超微粒子10重量部とテトラエトキシシラン
液90重量部(固形分20%)とからなる光触媒塗工液
をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚1g/
2 (乾燥状態)の防汚層を形成してた。また、上記で
製造した積層体の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム面に、粒径0.03μmの酸化チタン超微粒子
5重量部とメチルメタクリレ−ト液95重量部(固形分
20%)とからなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−
ルコ−ト法を用いて塗布、乾燥し、膜厚0.5g/m2
(乾燥状態)の紫外線吸収剤層を形成して、本発明にか
かる表面保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した表面保護シ−トの紫外線
吸収剤層面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電
池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介し
て積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造
した。
【0051】比較例1 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム(PVF)を使用し、これを表面保護シ−トし、そ
の片面に、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム(受光面)を、その太陽電池素
子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積
層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0052】比較例2 上記の実施例1において、金属アルコキシド化合物およ
び/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組
成物によるコ−ティング膜を形成しないで、その他は、
上記の実施例1と全く同様にして、表面保護シ−ト、お
よび、それを使用した太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0053】比較例3 上記の実施例2において、金属アルコキシド化合物およ
び/またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組
成物によるコ−ティング膜を形成しないで、その他は、
上記の実施例2と全く同様にして、表面保護シ−ト、お
よび、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0054】実験例 上記の実施例1〜9で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜9
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜3で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材シ−トを基準とし、実施例1〜9で製造し
た本発明にかかる表面保護シ−トと比較例1〜3にかか
る表面保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−により
全光線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜9で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例1〜3にかかる表面保護シ−
トについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米
国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度23
℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCO
N)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRA
N)〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
1に示す。
【0055】 上記の表1において、水蒸気透過度は、〔g/m2 /d
ay・40℃・100%RH〕の単位であり、また、酸
素透過度は、〔cc/m2 /day・23℃・90%R
H〕の単位である。
【0056】上記の表1に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例1〜9のものは、全光線透過率が高く、ま
た、水蒸気バリア性、酸素バリア性に優れており、更
に、その出力低下率も低いものであった。これに対し、
比較例1のものは、全光線透過率が高いものの、水蒸気
バリア性、酸素バリア性に劣り、そのため、その出力低
下率が、高いという問題点があり、また、比較例2、3
のものは、実施例1〜9のものと比較すると、コ−ティ
ング膜を設けていないものであることから、水蒸気バリ
ア性、酸素バリア性において、若干、劣るものであっ
た。
【0057】
【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸
収剤等に着目し、まず、フッ素系樹脂をビヒクルの主成
分とする樹脂組成物による塗布膜と、その片面に、酸化
珪素、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質からなる
無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸
着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物および/または
その加水噴火委物をビヒクルの主成分とする組成物によ
るコ−ティング膜を設けた樹脂フィルムとを積層し、更
に、該塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング
膜とを設けた樹脂フィルムとからなる積層体のいずれか
の一方の面または両面に、光触媒粉末を含む組成物によ
る塗布膜からなる防汚層および/または紫外線吸収剤を
含む組成物による塗布膜からなる紫外線吸収剤層を設け
て太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造し、これ
を表面保護シ−ト層とし、その防汚層を最表面とし、そ
の他方の面に、充填剤層、光起電力素子としての太陽電
池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層等を順次
に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引して加熱
圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池モジュ
−ルを製造して、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性
を著しく向上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の
諸堅牢性についても、その長期的な性能劣化を最小限に
抑え、保護能力性に優れ、また、ゴミ等の蓄積してその
表面を汚染する汚染性等を防止し、より低コストで安全
な太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使
用した太陽電池モジュ−ルを製造し得ることができると
いうものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図4】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。
【図5】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。
【図6】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
【図7】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
【符号の説明】
A 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A1 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A2 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト A3 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト 1 塗布膜 2 無機酸化物の蒸着薄膜 2a 無機酸化物の蒸着薄膜 2b 無機酸化物の蒸着薄膜 3 コ−ティング膜 4 樹脂フィルム 5 積層体 6 防汚層 7 紫外線吸収剤層 8 多層膜 T 太陽電池モジュ−ル 11 充填剤層 12 太陽電池素子 13 充填剤層 14 裏面保護シ−ト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5F051 BA17 BA18 HA19 HA20 JA03 JA04 JA05

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
    樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
    け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
    キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
    の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
    脂フィルムとを積層し、更に、該塗布膜と、無機酸化物
    の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムと
    からなる積層体のいずれかの一方の面または両面に、防
    汚層および/または紫外線吸収剤層を設けたことを特徴
    とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  2. 【請求項2】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
    樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
    け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
    キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
    の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
    脂フィルムとを積層し、更に、該塗布膜と、無機酸化物
    の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムと
    からなる積層体を構成する塗布膜面に、防汚層と紫外線
    吸収剤層とを設け、かつ、該防汚層を最表面とすること
    を特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  3. 【請求項3】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
    樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
    け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコ
    キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
    の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
    脂フィルムとを積層し、更に、該塗布膜と、無機酸化物
    の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムと
    からなる積層体を構成する塗布膜面に、防汚層を設け、
    また、該積層体を構成する無機酸化物の蒸着薄膜とコ−
    ティング膜とを設けた樹脂フィルム面に、紫外線吸収剤
    層を設け、かつ、該防汚層を最表面とすることを特徴と
    する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  4. 【請求項4】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする
    樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を設
    け、更に、該無機酸化物之蒸着薄膜の上に、金属アルコ
    キシド化合物および/またはその加水分解物をビヒクル
    の主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた樹
    脂フィルムとを積層し、更に、該塗布膜と、無機酸化物
    の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルムと
    からなる積層体を構成する塗布膜面に、防汚層を設け、
    また、該積層体を構成する塗布膜とコ−ティング膜との
    間に、紫外線吸収剤層を設け、かつ、該防汚層を最表面
    とすることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護
    シ−ト。
  5. 【請求項5】 塗布膜が、可視光透過率が90%以上で
    ある透明フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組
    成物からなることを特徴とする上記の請求項1〜4に記
    載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  6. 【請求項6】 塗布膜が、商品名CYTOP(サイトッ
    プ)または商品名ルミフロン(両方とも、旭硝子株式会
    社製)からなる透明フッ素系樹脂をビヒクルの主成分と
    する樹脂組成物からなることを特徴とする上記の請求項
    1〜5に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
    ト。
  7. 【請求項7】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
    法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
    多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜6に
    記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  8. 【請求項8】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
    法による無機酸化物の蒸着薄膜の1層ないし2層以上の
    多層膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜6に
    記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  9. 【請求項9】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
    法および化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の
    2層以上の多層膜からなることを特徴とする上記の請求
    項1〜6に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
    ト。
  10. 【請求項10】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成
    長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機
    酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸
    化物の蒸着薄膜を設けた2層以上の多層膜からなること
    を特徴とする上記の請求項9に記載する太陽電池モジュ
    −ル用表面保護シ−ト。
  11. 【請求項11】 無機酸化物の蒸着薄膜が、プラズマ処
    理面、または、コロナ処理面を形成してなることを特徴
    とする上記の請求項1〜10に記載する太陽電池モジュ
    −ル用表面保護シ−ト。
  12. 【請求項12】 組成物が、樹脂成分をふくむことを特
    徴とする上記の請求項1〜11に記載する太陽電池モジ
    ュ−ル用表面保護シ−ト。
  13. 【請求項13】 樹脂成分が、水溶性ないし親水性樹脂
    であることを特徴とする上記の請求項12に記載する太
    陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  14. 【請求項14】 組成物が、金属アルコキシド化合物お
    よび/またはその加水分解物の硬化触媒を含むことを特
    徴とする上記の請求項1〜13に記載する太陽電池モジ
    ュ−ル用表面保護シ−ト。
  15. 【請求項15】 組成物が、無機酸化物微粒子を含むこ
    とを特徴とする上記の請求項1〜14に記載する太陽電
    池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
  16. 【請求項16】 組成物が、架橋剤を含むことを特徴と
    する上記の請求項1〜15に記載する太陽電池モジュ−
    ル用表面保護シ−ト。
  17. 【請求項17】 樹脂フィルムが、二軸延伸ポリエステ
    ル系樹脂フィルム、二軸延伸ポリアミド系樹脂フィル
    ム、二軸延伸ポリプロピレン系樹脂フィルム、環状ポリ
    オレフィン系樹脂フィルム、または、(メタ)アクリル
    系樹脂フィルムからなることを特徴とする上記の請求項
    1〜16に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
    ト。
  18. 【請求項18】 防汚層が、酸化チタンを主成分とする
    光触媒粉末、またはゾルに含まれる微粒子からなる組成
    物による塗布膜からなることを特徴とする上記の請求項
    1〜17に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
    ト。
  19. 【請求項19】 紫外線吸収剤層が、紫外線吸収剤を含
    む組成物による塗布膜からなることを特徴とする上記の
    請求項1〜18に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保
    護シ−ト。
  20. 【請求項20】 フッ素系樹脂をビヒクルの主成分とす
    る樹脂組成物による塗布膜と、無機酸化物の蒸着薄膜を
    設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アル
    コキシド化合物および/またはその加水分解物をビヒク
    ルの主成分とする組成物によるコ−ティング膜を設けた
    樹脂フィルムとを積層し、更に、該塗布膜と、無機酸化
    物の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを設けた樹脂フィルム
    とからなる積層体のいずれたの一方の面または両面に、
    防汚層および/または紫外線吸収剤層を設けた太陽電池
    モジュ−ル用表面保護シ−トの一方の面に、充填剤層、
    光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
    び、裏面保護シ−ト層を順次に積層し、これらを真空吸
    引して加熱圧着ラミネ−ション法等により一体成形体と
    したことを特徴とする太陽電池モュジュ−ル。
JP11102115A 1999-04-09 1999-04-09 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル Withdrawn JP2000294817A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11102115A JP2000294817A (ja) 1999-04-09 1999-04-09 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11102115A JP2000294817A (ja) 1999-04-09 1999-04-09 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000294817A true JP2000294817A (ja) 2000-10-20

Family

ID=14318810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11102115A Withdrawn JP2000294817A (ja) 1999-04-09 1999-04-09 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000294817A (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069769A (ja) * 2010-09-24 2012-04-05 Fujifilm Corp 太陽電池用バックシート用ポリマーシート及び太陽電池モジュール
JP2013154584A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにガスバリア性フィルムを用いた装置
WO2014014114A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
WO2014014109A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法、及び太陽電池
WO2014014108A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
WO2014014110A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
CN104471719A (zh) * 2012-07-19 2015-03-25 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板及其制造方法、以及太阳能电池元件及其制造方法
CN104471718A (zh) * 2012-07-19 2015-03-25 日立化成株式会社 太阳能电池元件、太阳能电池元件的制造方法及太阳能电池模块
CN104471715A (zh) * 2012-07-12 2015-03-25 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板及其制造方法、太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池
CN104488070A (zh) * 2012-07-19 2015-04-01 日立化成株式会社 带钝化层的半导体基板及其制造方法
CN104488088A (zh) * 2012-07-19 2015-04-01 日立化成株式会社 太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池模块
US20150303318A1 (en) * 2012-01-06 2015-10-22 Hitachi Chemical Company, Ltd. Composition for forming passivation film, semiconductor substrate provided with passivation film and production method therefor, and photovoltaic cell element and production method therefor
WO2019087798A1 (ja) * 2017-10-30 2019-05-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 太陽電池モジュール及び移動体

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069769A (ja) * 2010-09-24 2012-04-05 Fujifilm Corp 太陽電池用バックシート用ポリマーシート及び太陽電池モジュール
US20150303318A1 (en) * 2012-01-06 2015-10-22 Hitachi Chemical Company, Ltd. Composition for forming passivation film, semiconductor substrate provided with passivation film and production method therefor, and photovoltaic cell element and production method therefor
JP2013154584A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにガスバリア性フィルムを用いた装置
CN104471715A (zh) * 2012-07-12 2015-03-25 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板及其制造方法、太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池
CN104471715B (zh) * 2012-07-12 2016-12-07 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板及其制造方法、太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池
CN104488070A (zh) * 2012-07-19 2015-04-01 日立化成株式会社 带钝化层的半导体基板及其制造方法
WO2014014109A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法、及び太陽電池
CN104471718A (zh) * 2012-07-19 2015-03-25 日立化成株式会社 太阳能电池元件、太阳能电池元件的制造方法及太阳能电池模块
CN104471717A (zh) * 2012-07-19 2015-03-25 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板、带钝化层的半导体基板的制造方法、太阳能电池元件、太阳能电池元件的制造方法及太阳能电池
CN104471720A (zh) * 2012-07-19 2015-03-25 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板、带钝化层的半导体基板的制造方法、太阳能电池元件、太阳能电池元件的制造方法及太阳能电池
WO2014014110A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
CN104488089A (zh) * 2012-07-19 2015-04-01 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板、带钝化层的半导体基板的制造方法、太阳能电池元件、太阳能电池元件的制造方法及太阳能电池
WO2014014108A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
CN104488088A (zh) * 2012-07-19 2015-04-01 日立化成株式会社 太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池模块
KR20150036363A (ko) * 2012-07-19 2015-04-07 히타치가세이가부시끼가이샤 패시베이션층 형성용 조성물, 패시베이션층이 형성된 반도체 기판, 패시베이션층이 형성된 반도체 기판의 제조 방법, 태양 전지 소자, 태양 전지 소자의 제조 방법 및 태양 전지
CN104508830A (zh) * 2012-07-19 2015-04-08 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板、带钝化层的半导体基板的制造方法、太阳能电池元件、太阳能电池元件的制造方法及太阳能电池
CN104471719A (zh) * 2012-07-19 2015-03-25 日立化成株式会社 钝化层形成用组合物、带钝化层的半导体基板及其制造方法、以及太阳能电池元件及其制造方法
JPWO2014014109A1 (ja) * 2012-07-19 2016-07-07 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法、及び太陽電池
JPWO2014014110A1 (ja) * 2012-07-19 2016-07-07 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
JPWO2014014114A1 (ja) * 2012-07-19 2016-07-07 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
JPWO2014014108A1 (ja) * 2012-07-19 2016-07-07 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
WO2014014114A1 (ja) * 2012-07-19 2014-01-23 日立化成株式会社 パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層付半導体基板の製造方法、太陽電池素子、太陽電池素子の製造方法及び太陽電池
TWI569461B (zh) * 2012-07-19 2017-02-01 日立化成股份有限公司 太陽電池元件及其製造方法及太陽電池模組
US9714262B2 (en) 2012-07-19 2017-07-25 Hitachi Chemical Company, Ltd. Composition for forming passivation layer, semiconductor substrate having passivation layer, method of producing semiconductor substrate having passivation layer, photovoltaic cell element, method of producing photovoltaic cell element and photovoltaic cell
CN104488088B (zh) * 2012-07-19 2017-08-01 日立化成株式会社 太阳能电池元件及其制造方法、以及太阳能电池模块
KR102083249B1 (ko) * 2012-07-19 2020-03-02 히타치가세이가부시끼가이샤 패시베이션층 형성용 조성물, 패시베이션층이 형성된 반도체 기판, 패시베이션층이 형성된 반도체 기판의 제조 방법, 태양 전지 소자, 태양 전지 소자의 제조 방법 및 태양 전지
WO2019087798A1 (ja) * 2017-10-30 2019-05-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 太陽電池モジュール及び移動体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060166023A1 (en) Backside protective sheet for solar battery module and solar battery module using the same
JP4217935B2 (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP4050780B2 (ja) 太陽電池モジュール用裏面保護シートおよびそれを使用した太陽電池モジュール
JP2002083988A (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP4303951B2 (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2004247390A (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000294817A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP4184675B2 (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2001111073A (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000208797A (ja) 太陽電池モジュ―ル用表面保護シ―トおよびそれを使用した太陽電池モジュ―ル
JP2000138387A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000332278A (ja) 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2003152206A (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2003152212A (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000138388A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000277770A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2001007368A (ja) 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000208795A (ja) 太陽電池モジュ―ル用表面保護シ―トおよびそれを使用した太陽電池モジュ―ル
JP2000138391A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP4757364B2 (ja) 太陽電池モジュ−ル
JP2003152215A (ja) 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000340818A (ja) 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000294822A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000124486A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP2000294816A (ja) 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060704