DE2847011A1 - Aperture arrangement for parallel lying radiation sources - Google Patents
Aperture arrangement for parallel lying radiation sourcesInfo
- Publication number
- DE2847011A1 DE2847011A1 DE19782847011 DE2847011A DE2847011A1 DE 2847011 A1 DE2847011 A1 DE 2847011A1 DE 19782847011 DE19782847011 DE 19782847011 DE 2847011 A DE2847011 A DE 2847011A DE 2847011 A1 DE2847011 A1 DE 2847011A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- diaphragm
- openings
- plates
- plane
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 32
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/02—Arrangements for diagnosis sequentially in different planes; Stereoscopic radiation diagnosis
- A61B6/025—Tomosynthesis
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/08—Auxiliary means for directing the radiation beam to a particular spot, e.g. using light beams
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Surgery (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
PHILIPS PATENTVERVAI-TTTNS Gi-BK, STET1JDAMM 94, 2000 HAMBURG 1PHILIPS PATENTVERVAI-TTTNS Gi-BK, STET 1 JDAMM 94, 2000 HAMBURG 1
28A701128A7011
3 PHD 78-1483 PHD 78-148
Blendenanordnung für in parallelen Ebenen liegenden Strahlenquellen
(Zusatzanmeldung zu Patentanmeldung P 27 28 998.1 (PHD 77-057JLDiaphragm arrangement for radiation sources lying in parallel planes
(Additional application to patent application P 27 28 998.1 (PHD 77-057JL
Die Erfindung betrifft eine Blendenanordnung für mehrere in wenigstens einer Ebene angeordnete Strahlenquellen, deren Strahlenbündel wenigstens annähernd denselben Objektbereich eines Objektes vollständig erfassen, wobei die Blendenan-The invention relates to a panel arrangement for several in Radiation sources arranged in at least one plane, the beam bundles of which have at least approximately the same object area capture an object completely, with the aperture
5 Ordnung, die lateral verschiebbar ist, für jeweils eine Strahlenquelle unterschiedliche Blendenöffnungen zur Begrenzung der entsprechenden Strahlenbündel auf den Objektbereich besitzt und die Verteilung der Blendenöffnungen der Verteilung der in der Ebene liegenden Strahlenquellen entspricht, nach Hauptpatent ... (P 27 28 998.1).5 order, which can be moved laterally, for one at a time Radiation source different aperture openings to limit the corresponding bundle of rays to the object area and the distribution of the diaphragm openings corresponds to the distribution of the radiation sources lying in the plane, according to main patent ... (P 27 28 998.1).
Die Blendenanordnung besteht hierbei aus einer ebenen Platte, die sich zwischen den Strahlenquellen und dem Objekt befindet. Sie besitzt mehrere Gruppen von fixen Blendenöffnungen, wobei die durch jeweils eine Gruppe hindurchtretenden Strahlenbündel von verschiedenen Strahlenquellen kommen und wenig stens annähernd denselben Objektbereich eines Objektes erfassen. Die Größe der Blendenöffnungen innerhalb einer Gruppe richtet sich dabei nach dem Abstand der entsprechendenThe diaphragm arrangement consists of a flat plate that is located between the radiation sources and the object. It has several groups of fixed diaphragm openings, with the bundles of rays passing through each group come from different radiation sources and cover at least approximately the same object area of an object. The size of the diaphragm openings within a group depends on the distance between them
2σ Strahlenquellen von der Platte.2σ radiation sources from the plate.
Durch die Wahl verschiedener Gruppen von Blendenöffnungen können die Strahlenbündel an unterschiedlich große Objektbereiche stufenweise angepaßt werden, indem die Platte ent-By choosing different groups of diaphragm openings, the bundles of rays can be directed to object areas of different sizes can be adjusted step-by-step by moving the plate
030019/0327030019/0327
sprechend, in ihrer Ebene verschoben wird. Da die Zahl der Gruppen von Blendenöffnungen auf der Platte aber begrenzt ist, können die Strahlenbündel nur an eine begrenzte Zahl verschiedener Objektbereiche angepaßt werden.speaking, is shifted in their level. As the number of Groups of diaphragm openings on the plate, however, are limited, the beam can only be a limited number different object areas can be adapted.
Eine Blendenanordnung mit fixen Blendenöffnungen ist somit z.B. in der medizinischen Röntgendiagnostik nur eingeschränkt brauchbar, da die zu untersuchenden Objektbereiche in ihrer Größe sehr stark variieren. Hinzu kommt, daß zur Verminderung der Strahlenbelastung des Objektes und zur Verminderung von Streustrahlung die einzelnen Strahlenbündel soweit wie möglich derart begrenzt werden müssen, daß sie möglichst nur den zu untersuchenden Objektbereich durchstrahlen.A diaphragm arrangement with fixed diaphragm openings is therefore only limited, e.g. in medical X-ray diagnostics useful, since the object areas to be examined vary greatly in size. In addition, there is a reduction the radiation exposure of the object and to reduce scattered radiation the individual beam bundles as far as possible must be limited in such a way that they only penetrate the object area to be examined as far as possible.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Blendenanordnung zu schaffen, mit der in einfacher Weise die Strahlenbündel von mehreren in wenigstens einer Ebene liegenden Strahlenquellen kontinuierlich begrenzbar sind.The object of the invention is to create a diaphragm arrangement with which the bundle of rays from several radiation sources lying in at least one plane can be continuously limited.
20Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß die Blendenanordnung aus einer Gruppe von wenigstens zwei parallel zur Ebene liegenden Blendenplatten besteht, welche jeweils mit Durchgangsöffnungen zur Bildung der Blendenöffnungen versehen und in ihrer Ebene gegeneinander verschiebbar angeordnet sind.20This object is achieved according to the invention in that the diaphragm arrangement consists of a group of at least two diaphragm plates lying parallel to the plane, which each provided with through openings to form the diaphragm openings and displaceable in their plane relative to one another are arranged.
Sind die Strahlenquellen in nur einer Ebene (Strahlenquellenebene) angeordnet, so kann die Blendenanordnung z.B. aus einer Gruppe von zwei Blendenplatten bestehen, die parallel zur Strahlenquellenebene gegeneinander verschiebbar angeordnet sind.If the radiation sources are arranged in only one plane (radiation source plane), the aperture arrangement can e.g. consist of a group of two diaphragm plates which are arranged parallel to the radiation source plane so that they can be displaced relative to one another are.
Durch die parallel gegeneinander verschiebbaren Blendenplatten wird erreicht, daß die Blendenöffnungen in ihrer Größe kontinuierlich verstellbar sind, so daß die Strahlenbündel der Strahlenquellen vollständig an die Größe des zu unter-The diaphragm plates, which can be displaced parallel to one another, ensure that the diaphragm openings are larger in size are continuously adjustable so that the beam of the radiation sources is completely adapted to the size of the
030019/0327030019/0327
5 PHD 78-1485 PHD 78-148
suchenden Objektbereiches angepaßt werden können. Die Blendenplatten besitzen hierzu sog. Durchgangsöffnungen, deren Verteilung auf den Blendenplatten der Verteilung der in der Ebene liegenden Strahlenquellen entspricht. Durch Parallel-Verschiebung der Blendenplatten werden somit die Durchgangs-Öffnungen gegeneinander verschoben, so daß diese durch die jeweils andere Blendenplatte partiell abgedeckt werden. Es bleiben somit als resultierende Öffnungen die Blendenöffnungen übrig.searching object area can be adapted. The aperture plates have this so-called. Through openings, their Distribution on the diaphragm plates corresponds to the distribution of the radiation sources lying in the plane. By parallel shift the aperture plates are thus shifted the passage openings against each other, so that these through the each other cover plate are partially covered. The aperture openings thus remain as the resulting openings left over.
Die Blendenplatten können hierbei direkt aufeinander oder imThe diaphragm plates can be placed directly on top of each other or in
Abstand parallel zueinander liegen, wobei die Verschiebung Distance are parallel to each other, the displacement
der jeweiligen Blendenplatten nacheinander oder gleichzeitig erfolgen kann, z.B. mit Hilfe mechanischer oder elektromechanischer Vorrichtungen.of the respective diaphragm plates can be done one after the other or at the same time, e.g. with the help of mechanical or electromechanical Devices.
Natürlich kann eine Gruppe von Blendenplatten auch mehr als zwei Blendenplatten besitzen. Die Anordnung bzw. Verschiebung der Blendenplatten erfolgt dann entsprechend der oben geschilderten Weise.Of course, a group of diaphragm plates can also have more than two diaphragm plates. The arrangement or displacement of the diaphragm plates is then carried out in the manner described above.
Durch die Begrenzung der Strahlenbündel auf den Objektbereich wird eine Bestrahlung nicht zu untersuchender Bereiche vermieden, wodurch sich die Strahlenbelastung des Objektes verringert. Ferner wird hierdurch die beim Durchstrahlen des Objektes entstehende Streustrahlung vermindert, wodurch sich die Bildschärfe und der Kontrast der den Objektbereich darstellenden Bilder vergrößert.By limiting the beam to the object area, irradiation of areas not to be examined is avoided. whereby the radiation exposure of the object is reduced. Furthermore, this is the when irradiating the Scattered radiation produced by the object is reduced, as a result of which the image sharpness and the contrast of the area representing the object are reduced Images enlarged.
Nach einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung sind zur Begrenzung der Strahlenbündel von in zueinander parallelen Ebenen liegenden Strahlenquellen zusätzliche Gruppen von Blendenplatten vorgesehen, wobei jeweils einer Ebene eine Gruppe von Blendenplatten zugeordnet ist, und wobei die Blendenplatten jeweils einer Gruppe weitere Öffnungen für die aus den dieser Gruppe nicht zugeordneten Ebenen kommendenAccording to an advantageous development of the invention are for Limitation of the bundles of rays from radiation sources lying in mutually parallel planes additional groups of Aperture plates provided, a group of aperture plates being assigned to each plane, and wherein the Aperture plates each have a group of additional openings for the coming from the levels not assigned to this group
030019/0327030019/0327
6 PHD 78-1486 PHD 78-148
Strahlenbündel besitzen, die durch die Öffnungen bei jeder Stellung der entsprechenden Blendenplatten vollständig hindurchtreten. Have bundles of rays which completely pass through the openings in each position of the corresponding diaphragm plates.
Liegen die Strahlenquellen in mehreren zueinander parallelen Ebenen, so muß zur kontinuierlichen Begrenzung der Strahlenbündel mit Hilfe von Blendenplatten jeder Ebene eine Gruppe von Blendenplatten zugeordnet sein. Die einzelnen Gruppen von Blendenplatten, welche unterschiedlichen Abstand voneinander und von den ihnen jeweils zugeordneten Ebenen haben können, besitzen jeweils gleich große Blendenöffnungen, deren Größe aber in unterschiedlichen Gruppen von Blendenplatten verschieden sein kann. Die Blendenplatten sind dabei so im Strahlengang positioniert, daß die durch sie hindurchtretenden Strahlenbündel denselben zu untersuchenden Objektbereich eines Objektes vollständig erfassen. Hierbei besitzen die Blendenplatten zusätzliche Öffnungen, für die aus den ihnen nicht zugeordneten Ebenen kommenden Strahlenbündel. Diese Strahlenbündel treten aber bei jeder durch Parallelverschiebung erzeugten Stellung der Blendenplatten vollständig durch die Öffnungen hindurch, so daß sie nicht zusätzlich begrenzt werden.If the radiation sources are in several parallel planes, the beam must be continuously limited a group of diaphragm plates can be assigned to each level with the aid of diaphragm plates. The individual groups of orifice plates, which have different distances from each other and from the planes assigned to them in each case each have the same size aperture, but their size in different groups of aperture plates can be different. The diaphragm plates are positioned in the beam path in such a way that the ones passing through them Beams completely capture the same object area to be examined of an object. Here have the Diaphragm plates have additional openings for the bundles of rays coming from the planes that are not assigned to them. These However, bundles of rays pass through completely in every position of the diaphragm plates produced by parallel displacement the openings through so that they are not additionally limited.
Bei Vergrößerung oder Verkleinerung des zu untersuchenden Objektbereiches werden die Blendenöffnungen dann gemäß dem Abstand der jeweiligen Gruppen von den ihnen zugeordneten Ebenen geöffnet oder verschlossen, was eine entsprechende Parallelverschiebung der jeweiligen Blendenplatten erfordert. Die Parallelverschiebung kann hierbei für alle Blendenplatten gleichzeitig mit Hilfe mechanischer bzw. elektromechanischer Vorrichtungen oder von Hand erfolgen.With enlargement or reduction of the object area to be examined, the aperture openings are then according to the Distance of the respective groups from the levels assigned to them opened or closed, which is a corresponding Requires parallel displacement of the respective diaphragm plates. The parallel shift can be done for all orifice plates simultaneously with the help of mechanical or electromechanical Devices or done by hand.
Die Zeichnung stellt Ausführungsbeispiele der Erfindung dar. Es zeigenThe drawing illustrates exemplary embodiments of the invention. They show
35FIg. 1 eine aus einem Paar von Blendenplatten bestehende Blendenanordnung, 35 FIg. 1 a diaphragm assembly consisting of a pair of diaphragm plates,
030019Λ0327030019Λ0327
7 PHD 78-1487 PHD 78-148
Fig. 2 eine Draufsicht der Blendenanordnung nach Fig. 1 und Fig. 3 eine aus zwei Paaren von Blendenplatten bestehende Blendenanordnung.Fig. 2 is a plan view of the diaphragm assembly of Fig. 1 and Fig. 3 is a two-pair diaphragm plate assembly Aperture arrangement.
Die Fig. 1 zeigt schematisch drei in einer Ebene E angeordnete Röntgenstrahlenquellen 1, 2 und 3, die zusammen als Mehrfachstrahlenquelle in einem gemeinsamen Tank (nicht dargestellt) angeordnet sind. Die drei Röntgenstrahlenquellen 1, 2 und 3 senden jeweils Primärstrahlenbündel 4, 5 und 6 aus, die auf eine aus zwei aufeinanderliegenden Blendenplatten B1 und B2 bestehende Blendenanordnung B auftreffen. Die Blendenanordnung B besitzt hierbei Blendenöffnungen 7, 8 und 9 zum—■ Begrenzen der Primärstrahlenbündel 4, 5 und 6 auf die Strahlenbündel 10, 11 und 12, die sich in einer parallel zur Ebene E liegenden Überlagerungsebene 13 vollständig überdecken und nahezu denselben, innerhalb eines Objektes 14 liegenden Objektbereich 15 durchstrahlen. Das Objekt 14 kann beispielsweise ein menschlicher Körper sein. Da die Strahlenbündel 10, 11 und 12 nur den zu untersuchenden Objektbereich vollständig erfassen, entsteht innerhalb des Objektes 14 das geringste Streustrahlen verursachende Volumen 16 (gestrichelt gezeichnet). Die Strahlenbündel 10j 11 und 12 können beispielsweise auf eine strahlenempfindliche Aufnahmeschicht, z.B. einen Film 17 oder auf den Eingangsschirm eines Röntgenbildverstärkers zur Erzeugung von Überlagerun^sbildern, auftreffen.Fig. 1 shows schematically three arranged in a plane E. X-ray sources 1, 2 and 3, which are used together as a multiple beam source in a common tank (not shown) are arranged. The three X-ray sources 1, 2 and 3 each emit primary beams 4, 5 and 6, on one of two superimposed aperture plates B1 and B2 meet the existing diaphragm arrangement B. The diaphragm arrangement B has diaphragm openings 7, 8 and 9 for the purpose Limiting the primary beams 4, 5 and 6 to the beams 10, 11 and 12, which are in a parallel to Overlay plane 13 lying on plane E completely and almost the same within an object 14 irradiate lying object area 15. The object 14 can be a human body, for example. Because the bundle of rays 10, 11 and 12 only completely capture the object area to be examined, arises within the object 14 the volume 16 causing the least scattered radiation (dashed drawn). The bundles of rays 10j 11 and 12 can, for example, be applied to a radiation-sensitive recording layer, e.g. a film 17 or on the input screen of an X-ray image intensifier to generate overlay images, hit.
Die beiden Blendenplatten B1 und B2, die beispielsweise aufeinander oder in einem geringen Abstand parallel zueinander liegen können, besitzen jeweils zur Erzeugung der Blendenöffnungen 7, 8 und 9 sogenannte Durchgangsöffnungen 7a, 8a und 9a bzw. 7b, 8b und 9b, deren Verteilung auf den Blendenplatten B1, B2 der Verteilung der Röntgenstrahlenquellen 1, 2 und 3 in der Ebene E entspricht. Durch ParallelverschiebungThe two diaphragm plates B1 and B2, for example one on top of the other or can be parallel to one another at a small distance, each have to generate the aperture openings 7, 8 and 9 so-called through openings 7a, 8a and 9a or 7b, 8b and 9b, the distribution of which on the diaphragm plates B1, B2 of the distribution of the X-ray sources 1, 2 and 3 in level E. By parallel shift
35der Blendenplatten B1, B2, die z.B. aus Blei bestehen, werden nun die Durchgangsöffnungen 7a, b bis 9a, b so gegeneinander 35 of the diaphragm plates B1, B2, which are made, for example, of lead, the through openings 7a, b to 9a, b are now aligned with one another
030019A0327030019A0327
8 PHD 78-1488 PHD 78-148
verschoben, daß sie durch die jeweils andere Blendenplatte partiell abgedeckt werden. Auf diese Weise entstehen verbleibende Öffnungen, die als Blendenöffnungen 7, 8 und 9 die Strahlenbündel 10, 11 und 12 begrenzen.moved so that they are partially covered by the other aperture plate. This creates remaining ones Openings which, as aperture openings 7, 8 and 9, delimit the bundles of rays 10, 11 and 12.
Die Blendenplatten B1 und B2 können dabei von Hand oder mit Hilfe einer elektromechanischen Vorrichtung V gleichzeitig gegeneinander verschoben werden. Vorzugsweise ist die Blendenanordnung B gemeinsam mit der Verschiebevorrichtung V am Tank der Mehrfachstrahlenquelle befestigt, so daß sie bei Aufnahme des Objektbereiches 15 aus unterschiedlichen Richtungen mit der Mehrfachstrahlenquelle mitbewegt werden kann.The diaphragm plates B1 and B2 can be done by hand or with the help of an electromechanical device V at the same time are shifted against each other. Preferably, the diaphragm arrangement B is together with the displacement device V am Tank of the multiple beam source attached, so that when the object area 15 is recorded from different directions can be moved with the multiple beam source.
Die Fig. 2 zeigt die Draufsicht der aus zwei Blendenplatten B1 und B2 bestehenden Blendenanordnung B nach Fig. 1. Beide Blendenplatten B1, B2, die z.B. quadratisch und gleich groß sind, besitzen jeweils drei Durchgangsöffnungen 7a, 8a, 9a bzw. 7b, 8b, 9b, die z.B. rechteckig ausgebildet sind, gleiche Abmessungen besitzen und deren Längsseiten alle parallel zueinander liegen. Sie sind jeweils so auf den beiden Blendenplatten B1, B2 angeordnet, daß sie im unverschobenen Zustand der Blendenplatten B1, B2 deckungsgleich übereinanderliegen. In diesem Zustand durchstrahlen die durch die Blendenanordnung B hindurchtretenden Strahlenbündel 10, 11 und 12 den größten Objektbereich 15. Durch Parallelverschiebung der Blendenplatten B1, B2 in eine der durch die Pfeile a, b, c angegebenen Richtungen oder in dazwischenliegenden Richtungen werden die DurchgangsÖffnungen einer Blendenplatte durch die jeweils andere Blendenplatte abgedeckt. Auf diese Weise entstehen die Blendenöffnungen 7, 8 und 9, die durch die Ränder jeweils zweier Durchgangsöffnungen 7a, b usw. begrenzt sind. Die Blendenöffnungen 7, 8 und 9 liegen hierbei immer im Zentrum der Primärstrahlenbündel 4, 5 und 6. Durch die Verschiebung der Blendenplatten B1, B2 können somit in Größe und Form unterschiedliche Objektbereiche 15 durchstrahlt werden. Natürlich können die jeweiligen Blendenplatten B1,FIG. 2 shows the top view of the diaphragm arrangement B according to FIG. 1, consisting of two diaphragm plates B1 and B2. Both Orifice plates B1, B2, which are e.g. square and of the same size, each have three through openings 7a, 8a, 9a or 7b, 8b, 9b, which are, for example, rectangular, have the same dimensions and their long sides are all parallel to one another lie. They are each arranged on the two diaphragm plates B1, B2 that they are in the unshifted state of the diaphragm plates B1, B2 are congruent on top of each other. In this state, they shine through the diaphragm arrangement B penetrating beam 10, 11 and 12 den largest object area 15. By parallel displacement of the diaphragm plates B1, B2 in one of the areas indicated by the arrows a, b, c specified directions or in directions in between, the through openings of a diaphragm plate through the each other cover plate covered. In this way, the diaphragm openings 7, 8 and 9 are created through the edges two through openings 7a, b, etc. are limited in each case. The aperture openings 7, 8 and 9 are always in the center the primary beam 4, 5 and 6. By shifting the diaphragm plates B1, B2 can thus in size and shape different object areas 15 are irradiated. Of course, the respective aperture plates B1,
030019/0327030019/0327
9 PHD 78-1489 PHD 78-148
B2 auch gegeneinander um eine senkrecht zu ihrer Ebene stehenden Achse z.B. zur Erzeugung weiterer Blendenöffnungen gedreht werden.B2 also against each other around an axis perpendicular to their plane, e.g. to create further diaphragm openings to be turned around.
In Fig. 3 ist eine Blendenanordnung B1 für in zwei parallel zueinanderliegenden Ebenen angeordneten Strahlenquellen dargestellt. Die Röntgenstrahlenquellen 19 und 20 liegen in einer ersten Ebene E1 und gehören zu einer Mehrfachstrahlenquelle 18, während in einer unterhalb der ersten Ebene E1 und parallel zu ihr liegenden zweiten Ebene E2 eine weitere Röntgenstrahlenquelle 21 und eine sichtbares Licht aussendende Strahlenquelle 41 angeordnet sind. ——3 shows a diaphragm arrangement B 1 for radiation sources arranged in two planes lying parallel to one another. The X-ray sources 19 and 20 lie in a first plane E1 and belong to a multiple radiation source 18, while a further X-ray source 21 and a visible light emitting radiation source 41 are arranged in a second plane E2 below the first plane E1 and parallel to it. ——
Die Blendenanordnung B1 besteht nun aus einem ersten Paar von aufeinanderliegenden Blendenplatten B3, B4, welche den in der Ebene E1 liegenden Strahlenquellen 19, 20 zugeordnet sind, und aus einem zweiten Paar von aufeinanderliegenden Blendenplatten B5, Bo, welche den in der Ebene E2 liegenden Strahlenquellen 21 und 41 zugeordnet sind. Beide Paare von Blenden-20platten sind hierbei unterhalb der Strahlenquellen 19» 20, 21 und. 41 angeordnet, wobei die Paare parallel zueinander und zu den Ebenen E1, E2 liegen, und das zweite Paar unter dem ersten liegt. Natürlich können die Paare und die Ebenen auch in einer anderen geeigneten Reihenfolge angeordnet sein.The diaphragm arrangement B 1 now consists of a first pair of diaphragm plates B3, B4 lying on top of one another, which are assigned to the radiation sources 19, 20 lying in plane E1, and a second pair of diaphragm plates B5, Bo lying on top of one another, which are those lying in plane E2 Radiation sources 21 and 41 are assigned. Both pairs of diaphragm plates are here below the radiation sources 19 »20, 21 and. 41, wherein the pairs are parallel to each other and to the planes E1, E2, and the second pair is below the first. Of course, the pairs and the levels can also be arranged in any other suitable order.
Die von den Röntgenstrahlenquellen 19 und 20 ausgehenden Primärstrahlenbündel 19a, 20a treffen auf die ihnen zugeordneten, innerhalb des ersten Paares von Blendenplatten B3, B4 liegenden Blendenöffnungen 36, 37, die durch gegeneinanderThe primary beam bundles 19a, 20a emanating from the x-ray sources 19 and 20 strike the diaphragm openings 36, 37 assigned to them and located within the first pair of diaphragm plates B3, B4, which pass through one another
30verschobene Durchgangsöffnungen (siehe Fig. 2) erzeugt wurden. Die Blendenöffnungen 36, 37 besitzen die gleiche Form und Größe und liegen so in den Blendenplatten B3, B4, daß die durch sie hindurchtretenden bzw. begrenzten Strahlenbündel 33, 34 denselben zu untersuchenden Obgektbereich 27 eines Objek-30 shifted through openings (see Fig. 2) were generated. The aperture openings 36, 37 have the same shape and size and are in the aperture plates B3, B4 that the through them passing or limited beam bundles 33, 34 the same object area 27 of an object to be examined
35tes 28 durchstrahlen bzw. sich in einer Überlagerungsebene innerhalb des Objektbereiches 27 vollständig überdecken. Die35tes 28 radiate through or are in an overlay plane completely cover within the object area 27. the
030013/0327030013/0327
10 PHD 78-14810 PHD 78-148
Strahlenbündel 33, 34 treffen anschließend zur Erzeugung von Überlagerungsbildern auf eine strahlungsempfindliche Schicht 30, z.B. einen Röntgenfilm.Beams of rays 33, 34 then strike a radiation-sensitive layer in order to generate superimposed images 30, e.g., an X-ray film.
Damit die Strahlenbündel 33, 34 nicht durch das zweite Paar von Blendenplatten B5, B6 unterbrochen werden, befinden sich in diesem weitere Öffnungen S2, durch die die Strahlenbündel 33, 34 bei jeder Stellung der parallel verschiebbaren Blendenplatten B5, B6 vollständig hindurchtreten. Entsprechende Öffnungen S1 befinden sich auch in dem ersten Paar von Blendenplatten B3, B4 für die Primärstrahlenbündel 21a und 41a der innerhalb der Ebene E2 liegenden Strahlenquellen 21 und 41. Diese Primärstrahlenbündel 21a, 41atreffen nach Durchtritt durch die Öffnungen S1 auf die ihnen zugeordneten Blendenöffnungen 35 und 42, die ebenfalls die gleiche Form und Größe besitzen, und die wiederum aus entsprechenden, parallel verschobenen Durchgangsöffnungen (siehe Fig. 2) erzeugt wurden. Die Blendenöffnung 35 liegt dabei so in den Blendenplatten B5, Bö, daß das durch sie begrenzte Strahlenbündel denselben Objektbereich 27 wie die Strahlenbündel 33, 34 bzw. dieselbe überlagerungsebene 23 vollständig durchstrahlt. Das Strahlenbündel 22 bzw. die Röntgenstrahlenquelle 21 dient hierbei zum Aufsuchen bzw. Justieren des interessierenden Objektbereiches 27.So that the bundles of rays 33, 34 are not interrupted by the second pair of diaphragm plates B5, B6, are located in this further openings S2 through which the bundles of rays 33, 34 in each position of the diaphragm plates which can be displaced in parallel Step through B5, B6 completely. Corresponding openings S1 are also located in the first pair of diaphragm plates B3, B4 for the primary beams 21a and 41a of the radiation sources 21 and located within the plane E2 41. These primary beams 21a, 41a meet after passing through through the openings S1 to the aperture openings assigned to them 35 and 42, which also have the same shape and size, and which in turn consist of corresponding, parallel shifted through openings (see Fig. 2) were generated. The aperture 35 is located in the aperture plates B5, Bo that the beam limited by it the same object area 27 as the bundle of rays 33, 34 or the same superposition plane 23 is completely irradiated. That The beam 22 or the X-ray source 21 is used to locate or adjust the point of interest Object area 27.
Das durch die Blendenöffnung 42 begrenzte Lichtstrahlenbündel 44 erzeugt auf dem Objekt 28 einen Lichtfleck 45, der der Größe des Objektbereiches 27 entspricht und mit dessen Hilfe das Objekt 28, welches auf einem Tisch 29 liegt, unter Verschiebung in unterschiedlichen Richtungen XYZ relativ zu den Strahlenbündeln 22, 33, 34 ebenfalls positioniert werden kann.The light beam 44 limited by the aperture 42 generates a light spot 45 on the object 28, which corresponds to the size of the object area 27 and with the help of which the object 28, which lies on a table 29, is below Displacement in different directions XYZ relative to the bundles of rays 22, 33, 34 can also be positioned can.
Gemäß dem Abstand der einzelnen Blendenplattenpaare von den Ebenen E1, E2, denen sie zugeordnet sind, müssen bei Ausblendung eines Objektbereiches 27 unterschiedlich großeAccording to the distance between the individual diaphragm plate pairs from the levels E1, E2 to which they are assigned, when fading out an object area 27 of different sizes
030019/0327030019/0327
Blendenöffnungen 36, 37 und 35, 42 durch Parallelverschiebung der Blendenplatten eingestellt werden, wobei die Verschiebung der jeweiligen Paare von Blendenplatten ebenfalls von diesem Abstand abhängig ist. Wird der Quotient aus dem Abstand d1 des ersten Plattenpaares B3, B4 von der Ebene E1 und dem Abstand d2 der Überlagerungsebene 23 von der Ebene E1 gleich dem Quotienten aus dem Abstand d3 des zweiten Blendenplattenpaares B5, B6 von der Ebene E2 und dem Abstand d4 der Überlagerungsebene 23 von der Ebene Ξ2 gewählt, gilt alsoApertures 36, 37 and 35, 42 by parallel displacement of the diaphragm plates can be adjusted, the displacement of the respective pairs of diaphragm plates also depends on this distance. If the quotient of the distance d1 of the first pair of plates B3, B4 from the plane E1 and the distance d2 of the overlay plane 23 from the plane E1 equal to the quotient of the distance d3 of the second Orifice plate pair B5, B6 selected from the plane E2 and the distance d4 of the overlay plane 23 from the plane Ξ2 applies so
d1_ = d3
d2 d4d1_ = d3
d2 d4
so können bei gleich großen Blendenöffnungen in beiden Blendenplattenpaaren die Jeweils auf einer Seite liegenden Blendenplatten B3, B5 bzw. B4, Bo zur gleichmäßigen Verschiebung mechanisch fest miteinander verbunden sein.so can with equally large aperture openings in both pairs of aperture plates the diaphragm plates B3, B5 or B4, Bo, each on one side, for uniform displacement be mechanically firmly connected to each other.
030019/0327030019/0327
LeerseiteBlank page
Claims (7)
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2847011A DE2847011C2 (en) | 1978-10-28 | 1978-10-28 | Device for generating layer images of a three-dimensional body |
| FR7924163A FR2440014A1 (en) | 1978-10-28 | 1979-09-28 | DIAPHRAGM DEVICE FOR USE IN COMBINATION WITH RADIATION SOURCES LOCATED IN PARALLEL PLANS |
| NL7907806A NL7907806A (en) | 1978-10-28 | 1979-10-24 | Diaphragm system for radiant sources lying in parallel planes. |
| CA000338382A CA1135881A (en) | 1978-10-28 | 1979-10-25 | Aperture system for radiation sources situated in parallel planes |
| GB7937144A GB2035769B (en) | 1978-10-28 | 1979-10-25 | Aperture system for multi-source tomography and a multisource tomography arrangment including said aperture system |
| JP13711479A JPS5560900A (en) | 1978-10-28 | 1979-10-25 | Opening device used in plural radioactive source |
| IT26785/79A IT1125599B (en) | 1978-10-28 | 1979-10-25 | DIAPHRAGM SYSTEM FOR RADIATION SOURCES LOCATED IN PARALLEL PLANS |
| ES485429A ES485429A1 (en) | 1978-10-28 | 1979-10-26 | Aperture system for multi-source tomography and a multi-source tomography arrangement including said aperture system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2847011A DE2847011C2 (en) | 1978-10-28 | 1978-10-28 | Device for generating layer images of a three-dimensional body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2847011A1 true DE2847011A1 (en) | 1980-05-08 |
| DE2847011C2 DE2847011C2 (en) | 1983-01-05 |
Family
ID=6053377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2847011A Expired DE2847011C2 (en) | 1978-10-28 | 1978-10-28 | Device for generating layer images of a three-dimensional body |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5560900A (en) |
| CA (1) | CA1135881A (en) |
| DE (1) | DE2847011C2 (en) |
| ES (1) | ES485429A1 (en) |
| FR (1) | FR2440014A1 (en) |
| GB (1) | GB2035769B (en) |
| IT (1) | IT1125599B (en) |
| NL (1) | NL7907806A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0175381A1 (en) * | 1984-09-21 | 1986-03-26 | HappyCard International Limited | Pick-up camera for making image carriers |
| EP0164037A3 (en) * | 1984-06-04 | 1987-05-27 | Bayer Ag | Illumination device for the optical measurement of microbiological objects, especially by image analysis |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3121324A1 (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-16 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | TOMOSYNTHESIS DEVICE |
| DE3136806A1 (en) * | 1981-09-16 | 1983-03-31 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | X-RAY EXAMINATION DEVICE |
| EP0142841A3 (en) * | 1983-11-18 | 1987-04-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Aperture device of radiation diagnostic apparatus |
| FR2597054B1 (en) * | 1986-04-15 | 1993-11-26 | Pomagalski Sa | TELESCOPE WITH AUTOMATIC CONTROL OF SEAT PROTECTION DEVICES |
| DE3852009D1 (en) * | 1987-12-11 | 1994-12-08 | Varian International Ag | Therapy simulator. |
| US8681936B2 (en) | 2006-11-10 | 2014-03-25 | Elekta Ab (Publ) | Radiotherapeutic apparatus |
| JP5247363B2 (en) | 2008-11-11 | 2013-07-24 | キヤノン株式会社 | X-ray equipment |
| JP5403605B2 (en) * | 2009-06-29 | 2014-01-29 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 | Radiation irradiation equipment |
| US8406374B2 (en) * | 2010-06-25 | 2013-03-26 | Rigaku Innovative Technologies, Inc. | X-ray optical systems with adjustable convergence and focal spot size |
| EP2614507B1 (en) | 2010-09-06 | 2016-12-28 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray imaging system with detector having pixels |
| JP5555353B2 (en) * | 2013-04-08 | 2014-07-23 | キヤノン株式会社 | X-ray equipment |
| WO2014180809A1 (en) * | 2013-05-08 | 2014-11-13 | Koninklijke Philips N.V. | Collimation for distanced focal spots |
| DE102016204870B4 (en) * | 2016-03-23 | 2023-11-23 | Siemens Healthcare Gmbh | Aperture device for collimating an X-ray beam from an X-ray device |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3840747A (en) * | 1973-04-09 | 1974-10-08 | A Macovski | Gamma ray imaging system |
| US3936639A (en) * | 1974-05-01 | 1976-02-03 | Raytheon Company | Radiographic imaging system for high energy radiation |
| DE2748687C2 (en) * | 1977-10-29 | 1986-08-07 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Device for subdividing radiation from a multiple radiation source penetrating a three-dimensional object into any radiation subgroups |
-
1978
- 1978-10-28 DE DE2847011A patent/DE2847011C2/en not_active Expired
-
1979
- 1979-09-28 FR FR7924163A patent/FR2440014A1/en active Granted
- 1979-10-24 NL NL7907806A patent/NL7907806A/en not_active Application Discontinuation
- 1979-10-25 IT IT26785/79A patent/IT1125599B/en active
- 1979-10-25 JP JP13711479A patent/JPS5560900A/en active Granted
- 1979-10-25 GB GB7937144A patent/GB2035769B/en not_active Expired
- 1979-10-25 CA CA000338382A patent/CA1135881A/en not_active Expired
- 1979-10-26 ES ES485429A patent/ES485429A1/en not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| NICHTS-ERMITTELT * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0164037A3 (en) * | 1984-06-04 | 1987-05-27 | Bayer Ag | Illumination device for the optical measurement of microbiological objects, especially by image analysis |
| EP0175381A1 (en) * | 1984-09-21 | 1986-03-26 | HappyCard International Limited | Pick-up camera for making image carriers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6327677B2 (en) | 1988-06-03 |
| JPS5560900A (en) | 1980-05-08 |
| DE2847011C2 (en) | 1983-01-05 |
| IT7926785A0 (en) | 1979-10-25 |
| FR2440014B1 (en) | 1983-11-18 |
| ES485429A1 (en) | 1980-05-16 |
| CA1135881A (en) | 1982-11-16 |
| NL7907806A (en) | 1980-05-01 |
| FR2440014A1 (en) | 1980-05-23 |
| IT1125599B (en) | 1986-05-14 |
| GB2035769B (en) | 1983-07-27 |
| GB2035769A (en) | 1980-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2847011A1 (en) | Aperture arrangement for parallel lying radiation sources | |
| DE10157523C1 (en) | Collimator and program for controlling the collimator | |
| DE602004012080T2 (en) | IDENTIFYING IONIZING RADIATION TO DUAL ENERGY SCANNING BASIS | |
| DE69931502T2 (en) | COLLIMATOR FOR RADIATION THERAPY DEVICE | |
| DE112008004206T5 (en) | Particle beam therapy system | |
| EP1322143A2 (en) | Method and apparatus for exposure of radiographs | |
| DE102008050571A1 (en) | Tomosynthesis apparatus and method for operating a tomosynthesis apparatus | |
| DE2056620B2 (en) | ADJUSTMENT DEVICE FOR A DEVICE FOR IRRADIATING A WORKPIECE IN THE FORM OF A PATTERN | |
| DE102004063710A1 (en) | Collimator, x-ray radiator and x-ray device | |
| EP0037008A1 (en) | Radiodiagnostic apparatus | |
| DE10313934B4 (en) | Verification of radiation and light field congruence in radiation treatments | |
| DE2702009A1 (en) | RADIOGRAPHIC DEVICE | |
| EP0133488B1 (en) | Computerized tomograph | |
| DE2548531C2 (en) | ||
| EP0285223A2 (en) | Radiography apparatus | |
| AT392160B (en) | Diaphragm arrangement for the low-scatter, single-sided, linear limitation of an X-ray beam | |
| DE2901406A1 (en) | METHOD FOR DETERMINING THE BODY BORDER FOR RECONSTRUCTING THE ABSORPTION OF RADIATION IN A PLANE AREA OF A BODY | |
| EP0184695A1 (en) | Diaphragm for primary radiation in an X-ray examination apparatus | |
| CH631574A5 (en) | Electron beam device for pattern projection | |
| DE3543598C2 (en) | ||
| DE3416196C2 (en) | ||
| DE3121324A1 (en) | TOMOSYNTHESIS DEVICE | |
| DE3109100A1 (en) | X-ray instrument | |
| DE2940005A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR SHOWING A THREE-DIMENSIONAL OBJECT | |
| DE102007018288B4 (en) | Apparatus for irradiation field control in radiological radiotherapy devices |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03X / |
|
| 8126 | Change of the secondary classification |
Ipc: G03B 41/16 |
|
| AF | Is addition to no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2728998 Format of ref document f/p: P |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8340 | Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent |