DE1667060B2 - Vorrichtung zur durchfuehrung von chemischen und physikalisch-chemischen prozessen in duennen schichten - Google Patents
Vorrichtung zur durchfuehrung von chemischen und physikalisch-chemischen prozessen in duennen schichtenInfo
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Description
Die Erfindung betriift eine Vorrichtung zur Durchführung
von chemischen oder physikalisch-chemischen Prozessen in dünnen Schichten, vorzugsweise
zur Durchführung von schnell ablaufenden cxothei inen Reaktionen in flüssiger Phase. Solche Vorrichtungen
werden meist in der Chemie- und Nahrungsmittelindustrie sowie bei der Ar/neimittelproduktion
verwendet.
Gegenstand des Hauptpatents 1 667 057 ist ein Dünnschichtverdampfer, bestehend aus einem vertikal
angeordneten Gehäuse mit einem äußeren Mantelraum für den kontinuierlichen indirekten Wärmeaustausch
und einer mit öffnungen ausgestatteten, um die Gehäusclängsachsc rotierbar angebrachten Hohltrommel,
deren Innenraum über eine Zuleitung mit einem Verteiler für das flüssige Ausgangsmaterial in
Verbindung steht und das Gehäuse im oberen Bereich eine Dampfableitung und am Boden eine Ableitung
für das flüssige Reaktionsprodukt aufweist, mit dem Kennzeichen, daß die Hohltrommel in Längsrichtung
verlaufende Wellungen besitzt, wobei die öffnungen der Hohltrommel an den Bergen dieser Wellungen
liegen und daß im oberen Teil der Hohltrommel ein
ίο Ring angeordnet ist, dessen äußerer Durchmesser mit
dem Innendurchmesser der Trommel übereinstimmt. Bei dem Dünnschichtverdampfer des Hauptpatents
soll die Wärme bzw. Stoffübergangszahl der Vorrichtung erhöht werden, die Intensität des Wärmeaustau-
sches nur minimal von der Belastung mit Flüssigkeit abhängen; vom verfahrenstechnischen Standpunkt
gesehen soll die Vorrichtung einfach und billig in der Herstellung sein und die Möglichkeit bieten, einen
Verdampfer mit größerer Wärmeaustauschfläche und
so besserer Wirkung im Vergleich zu den bekannten
Verdampfern zu erhalten. Der Dünnschichtverdamp fer nach dem Hauptpatent kann zur Verdampfung.
Destillation und Anreicherung von thermisch unbeständigen, stark schaumbildenden oder sehr zätKü
Stoffe;, verwendet werden. Die Verweilzeit des zu be
arbeitenden Produkts im Dünnschichtverdampfer K trägt nur Sekunden und unter nur unwesentlichen
konstruktiven Veränderungen kann der Dünnschichi verdampfer nach dem Hauptpatent auch als Reaktor
dienen.
In der Zeitschrift »Chemische Technik« Band 15. Nr. 11, 1963, Seiten 649 und 650 ist eine Dünnschichtvorrichtung
zur Durchführung von chemischen und physikalisch-chemischen Vorgängen beschrie-
ben, bei der die Flüssigkeit über vertikale Wärmeaustauschoberi'i
hen des Gehäuses durch einen im Inneren
desselben auf einer Vertikalwelle rotierenden Läufer verteilt wird. Die Mischung der Reaktionskomponenten wird einem Verteiler zugeführt, der im
Oberteil der Vorrichtung auf der rotierenden Welk angeordnet ist. Die Mischung wird durch die Fliehkräfte
aus dem Verteiler auf die Wärmeaustauschoberfläche geschleudert und läuft als dünnt.
Schicht ab.
Bei den bekannten Vorrichtungen dieser Art ist e; nicht möglich, die Reaktionskomponenten der War
meaustauschoberfläche gesondert zuzuführen, wodurch nicht vermieden werden kann, daß die Komponenten
unerwünschterweise auch außerhalb dei Überfläche aufeinander einwirken.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zu gründe, eine Dünnschichtvorrichtung zur Durchführung
von chemischen und physikalisch-chemischer Vorgängen zu entwickeln, bei der die oben genannter
Nachteile behoben sind und die es gestattet, die Reak tionskomponentcn gleichmäßig und gesondert in ge
wünschten bzw. erforderlichen Verhältnissen zuzuführen, bei der die Vermischung der Komponentei
unmittelbar auf der gesamten abzukühlenden Ober fläche der Vorrichtung erfolgen kann und bei der dar
überhinaus die Möglichkeit besteht, den Ablauf de Prozesses durch zusätzliche Einführung von Kompo
nenten in einen beliebigen Abschnitt der Vorrichtuni genau zu regeln.
Zur Lösung dieser Aufgabe dient eine Abänderuni des Dünnschichtverdampfers gemäß Hauptpatent, dh
im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 angegeben is und die dort angegebenen kennzeichnenden Merk
male aufweist. Eine bevorzugte Ausführungsform der Vorrichtung ist im Anspruch 2 angegeben.
Im weiteren soil die Erfindung anhano eines Ausführungsbeispiels
der Vorrichtung, insbesondere des Reaktors und anhand der beiliegenden Zeichnungen näher
erläutert werden. Es zeigt:
F i g. 1 im Längsschnitt die Dünnschichtvorrichtung zur Durchführung von chemischen und physika-Hsch-chenÄschen
Vorgängen;
F i g. 2 einen der Abschnitte (Sektionen) der Vorrichtung, ebenfalls im Längsschnitt;
F i g. 3 einen Schnitt längs der Linie III-III der
Fig. 2.
Die in F i g. 1 dargestellte erfindungsgemäße Vorrichtung ist ais vertikales Zylindergehäuse 1 ausgef-ihrt,
das die Wärmeaustauschoberfläche 2 sowie eine Reihe von gleichen Abschnitten (Sektionen) 3
aufweist. Die Anzahl der Sektionen hängt von den besonderen
Verhältnissen des jeweils durchzuführenden chemischen Prozesses ab.
Jede der Sektionen 3 ist mit einem Mantel 4 zur
W'j'rmeab- bzw. zuleitung versehen. Durch die gesamte Sektionen der Vorrichtung hindurch und
gleichachsig mit denselben verläuft die Welle 5 de·- Läufers 6. Auf dem Läufer 6 sind Verteilungsvorriel
tungen 7 zum getrennten Auswurf der Komponenten auf die Wärmeaustauschoberfläche 2 des Gehäuses 1
sowie /.um diauffolgendcn Vermischen dieser Komponenten
auf derselben angebracht. Jeder Sektion 3 entspricht eine solche Verteilungsvorrichtung 7
(F i g. 2), die eine gewellte, auf der Welle 5 konzentrisch befestigte Trommel 8 und gleichfalls auf dei
Welle 5 konzentrisch befestigte Ringscheiben 9 bzw. 10 aufweist. Die Anzahl der Ringscheiben entspricht
der Anzahl der Komponenten. Im vorliegenden Beispiel ;ind zwei Ringscheiben vorgesehen. Die
Ringscheiben 9 und 10 sind untereinander angeordnet und auf der Welle 5 befestigt.
Die Trommel 8 ist vertikal gewellt, d. h. sie besitzt Vertikalwellen. 11, an deren Vorsprüngen in abstcigender
Schraubenlinie öffnungen 12 angeordnet sind, die zum getrennten Auswurf der Bestandteile auf
die Wärmeaustauschoberfläche 2 des Gehäuses 1 bestimmt sind. Der an die Vertiefungen der Wellen 11
gezeichnete Kreis (F i g. 3) fällt mit den äußeren Umfangen der Scheiben 9 und 10 zusammen.
Zum Aufgeben einer Komponente auf die ihr entsprechende Ringscheibe 9 oder 10 ist der Verteiler 13
(F i g. 2) vorgesehen.
Zum Auswurf der Bestandteile auf die Innenoberfläche der Trommeln 8 ohne Vorvermischung von
verschiedenen Bestandteilen miteinander sind die Ringscheiben 9 und 10 mit öffnungen 14 und 15 in
den Vertikalborden 16 und 17 versehen, welche an den äußeren Umfangen der Ringscheiben 9 und K)
angeordnet sind.
Um die aus den Öffnungen 14 und 15 ausgeworfenen Komponenten ohne Vorvermischung auf die
Wärmeaustauschoberfläche 2 zu bringen, sind die öffnungen 14 im Bord 16 der Ringscheibe 9 in Bezug
auf die öffnungen 15 im Bord 17 der Ringseheibe 10 derart gegeneinander versetzt angeordnet, daß sich
jede der Öffnungen 14 und 15 gegenüber einer entsprechenden Welle 11 befindet.
Jeder Verteiler 13 weist gleichachsig angeordnete und mit der Welle 5 gemeinsam rotierende Hülsen 18
und 19 und ebenso gleichachsig angeordnete Zylinder 20 und 21 auf.
Die Hülsen 18 und 19 besitzen verschiedene Durchmesser, wobei die kleinere Hülse 18 im Innern
der gsößeren Hülse 19 angeordnet ist, aber der Boden
derselben tiefer als der Boden der Hülse 19 untergebracht ist. Die Anzahl der Hülsen und Zylinder richtet
sich nach der Anzahl der Komponenten. Zum Auswurf der Bestandteile auf die Innenoberflächen der
Zylinder 20 und 21 weisen die Hülsen 18 und 19 Öffnungen 22 und 23 auf. Die Zylinder 20 und 21 besitzen
ebenso verschiedene Durchmesser und sind ihrer
Höhe nach gegeneinander verschoben.
Höhe nach gegeneinander verschoben.
Zwischen zwei benachbarten Trommeln 8 sind im Gehäuse 1 Ringsammler 24 mit Rinnen 25 untergebracht,
die in Richtung auf die Geräteachse geneigt sind. Die Rinnen 25 dienen zum Aufgeben der Flüssigkeit
auf die Ringscheibe 10 der tiefer befindlichen Trommel 8. Oberhalb der Rinnen 25 sind gleichmäßig
über den äußeren Umfang des Gehäuses 1 verteilt Rinnen 26 angeordnet, die zum zusätzlichen Zuführen
einer der Komponenten in die Vorrichtung dienen.
Im folgenden wird die Arbeitsweise der Vorrichtung erläutert:
Über Einführungsleitungen 27 und 28 (F i g. 1) werden der Vorrichtung getrennt die miteinander umzusetzenden
Komponenten zugeführt, die in die Hülsen 18 und 19 (F i g. 2) gelangen und durch die Öffnungen
22 und 23 auf die Innenoberfläche der feststehenden Zylinder 20 und 21 ausgeworfen werden.
Im weiteren fließen die Komponenten unter Wirkung der Schwerkraft auf die rotierenden Ringscheiben 9
und 10. Unter Wirkung der Fliehkräfte werden die Komponenten durch die Öffnungen 14 und 15 als einzelne
Strahlen in die Wellen 11 geschleudert und laufen in diesen Wellen unter Wirkung der Schwerkraft
ab. bis die öffnungen 12 erreicht werden, aus denen die Komponenten als Strahlen auf die Wärmeaustauschoberfläche
2 (Fig. 3) des Gehäuses 1 gelangen. Die Vermischung der Komponenten erfolgt somit
unmittelbar auf der Wärmeaustauschoberfläche 2, wodurch sogar die geringste Möglichkeit der
Überhitzung bei exothermen Reaktionen ausgeschlossen werden kann. Die chemische Flüssigkeitsphasenreaktion
erfolgt in der Dünnschicht an der Wandung des Gehäuses. Die Dicke der Dünnschicht
wird ausschließlich durch die Gesamtmenge der zugeführten Komponenten sowie der resultierenden Viskosität
der Mischung bestimmt. Die der Reihe nach zunächst durch die erste Sektion 3 (F i g. 1) durchgelaufene
Flüssigkeit sammelt sich im Ringsammler 14. aus welchem sie über die Rinnen 25 auf die Scheibe
10 der darunter befindlichen Trommel 8 aufgegeben und ebenso wie in der ersten Sektion wieder über
die Wärmeaustauschoberfläche 2 des Gehäuses 1 verteilt wird. In der zweiten Sektion wie auch in eine der
darauffolgenden kann zusätzlich eine der Komponenten
der Reaktion über die Rinne 26 aufgegeben werden. Die Zwischenzuführung einer beliebigen Komponente
ist zur Regelung der Reaktionsgeschwindigkeit bestimmt. Die flüssigen Produkte der Reaktion
werden aus dem Unterteil der Vorrichtung durch den Stutzen 29 herausgeführt.
Dir vorgeschlagene Vorrichtung gestattet somit die Durchführung chemischer Flüssigphasenreaktionen
in abfließender Dünnschicht mit der Möglichkeit der genauen Steuerung der Temperatur sowohl bei exothermen
als auch bei endothermen Reaktionen. Darüber hinaus kann sich der Reaktionsablauf stufenwei-
>e, d. h. bei sich ändernden Temperaturen steigern,
was in einzelnen Fällen zur Erzielung maximaler Ausbeuten an Endprodukten der Reaktion beiträgt.
Die Wärmeabnahme ebenso wie auch die Wärmezufuhr durch die Wandung des Gehäuses erfolgen wegen
des hohen Grades der Turbulisierung der flüssigen Dünnschicht durch die aus den Trommelöffnungen
hinausgeschleuderten Flüssigkeitsstrahlen sehr intensiv.
Die Ausnutzung des Prinzips der Flüssigkeitsverteilung
auf die Wärmeaustauschoberfläche der Vorrichtung durch Fliehkräfte erlaubt es, einen genügend
großen Zwischenraum zwischen der Trommel des Läufer« und der Innenwandung des Gehäuses vorzusehen.
Dadurch wird ermöglicht, das Gehäuse der Vorrichtung aus Blechmetall oder Rohren ohne jegliche
mechanische Bearbeitung herzustellen und die Montage bzw. Demontage der Vorrichtung erheblich
zu vereinfachen.
Es wurde bei Versuchen festgestellt, daß der Gleichmäßigkeitsgrad der Verteilung der Flüssigkeit
über die Warn leaustauschoberfläche nicht von den Schwankungen beim Aufgeben der Komponenten der
Mischung, der Änderung der Verhältnisse bei Wärmeübergang usw. abhängt.
Der Vorgang der Wärmeabgabe durch die Wandung der Vorrichtung erweist sich in erheblichen
Maße dadurch intensiviert, daß die über die Wärmeaustauschoberfl.äche verteilten Flüssigkeilsstrahlen
die Flüssigdünrischicht turbulisieren.
Dies führt zur Steigerung der Geschwindigkeit des Wärmeübergangs von der Flüssigkeit zur Wandung.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Abänderung eines Dünnschichtenverdampfers, bestehend aus einem vertikal angeordneten
Gehäuse mit einem äußeren Mantel für den indirekten Wärmeaustausch und einer mit öffnungen
ausgestatteten, um die Gehäuselängsachse rotiebar angebrachten Hohltrommel, deren Innenraum
über eine Zuleitung mit einem Verteiler für das flüssige Ausgangsmaterial in Verbindung steht,
wobei das Gehäuse am Boden eine Ableitung für das flüssige Reaktionsprodukt aufweist und die
Hohltrommel in Längsrichtung verlaufende Wellungen besitzt, wobei die Öffnungen der Hohltrommel
an den Bergen dieser Wellungen liegen und im oberen Teil der Hohltrommel ein Ring angeordnet
ist, dessen äußerer Durchmesser mit dem Innendurchmesser der Trommel übereinstimmt,
nach Patent 1667057. dadurch gekennzeichnet,
daß in der Hohltrommel (8) unterhalb des Rings (10) ein konzentrischer Ring (9)
angeordnet ist und beide Ringe scheibenförmig ausgebildet sind, daß jedem Ring (9, 10) ein gesonderter
Verteiler (13) zum getrennten Aufgeben der Komponenten des Ausgangsmaterials zugeordnet
ist und daß jeder Ring(9,10) mit einem öord (16,17) mit Öffnungen \ 14. 15) versehen
ist, wobei die Öffnungen (14) gegen die öffnungen (15) gegeneinander versetzt sind, so daß die
Komponenten des Ausgangsmaterials in verschiedene Wellungen der Hohltrommel (8) verteilbar
sind.
2.Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verteiler(13) in Form gleichachsig angeordneter und mit der Welle rotierender
Hülsen (18,19) mit feststehender, gleichachsig angeordneter Zylinder (20, 21) ausgebildet
sind, wobei die Hülsen (18, 19) mit feststehender, gleichachsig angeordneter Zylinder (20, 21) ausgebildet
sind, wobei die Hülsen (18,19) öffnungen (22, 23) zum Ausschleudern der Komponenten
auf die Innenoberfläche der Zylinder (20, 21) aufweisen, und daß die Anzahl der Hülsen
bzw. Zylinder der Anzahl der Komponenten entspricht.
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