[go: up one dir, main page]

WO2016132401A1 - 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 - Google Patents

転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 Download PDF

Info

Publication number
WO2016132401A1
WO2016132401A1 PCT/JP2015/000824 JP2015000824W WO2016132401A1 WO 2016132401 A1 WO2016132401 A1 WO 2016132401A1 JP 2015000824 W JP2015000824 W JP 2015000824W WO 2016132401 A1 WO2016132401 A1 WO 2016132401A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
refractive index
high refractive
resin layer
photosensitive resin
transfer type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2015/000824
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
真弓 佐藤
忠広 木村
吉田　英樹
攻治 安部
匠 渡邊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to PCT/JP2015/000824 priority Critical patent/WO2016132401A1/ja
Priority to CN201580078953.2A priority patent/CN107850846A/zh
Priority to US15/552,020 priority patent/US20180074405A1/en
Priority to JP2017500476A priority patent/JPWO2016132401A1/ja
Priority to KR1020177023298A priority patent/KR20170117433A/ko
Publication of WO2016132401A1 publication Critical patent/WO2016132401A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
    • G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present invention relates to a transfer type photosensitive refractive index adjusting film, a method for forming a refractive index adjusting pattern, and an electronic component. More specifically, the present invention relates to a transfer type photosensitive refractive index adjusting film capable of easily forming a cured film having both functions of a protective film of a transparent electrode and invisibility of a transparent electrode pattern or improved visibility of a touch screen.
  • Liquid crystal display elements and touch panels are used in large electronic devices such as personal computers and televisions, small electronic devices such as car navigation systems, mobile phones and electronic dictionaries, and display devices such as OA / FA devices. These liquid crystal display elements and touch panels are provided with electrodes made of a transparent electrode material.
  • ITO Indium-Tin-Oxide
  • indium oxide Indium oxide
  • tin oxide mainly used because of high visible light transmittance.
  • a plurality of X electrodes and a plurality of Y electrodes orthogonal to the X electrodes have a two-layer structure pattern in order to express two-dimensional coordinates by the X axis and the Y axis. Is forming.
  • the use of conductive fibers typified by Ag nanowires and carbon nanotubes has been studied as these electrodes, but ITO is still the mainstream.
  • the frame area of the touch panel is an area where the touch position cannot be detected, reducing the area of the frame area is an important factor for improving the product value.
  • metal wiring is required to transmit a touch position detection signal, but in order to reduce the frame area, it is necessary to reduce the width of the metal wiring. From the viewpoint of conductivity, the metal wiring is generally made of copper.
  • a projected capacitive touch panel in which an insulating layer is formed on metal is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • a silicon dioxide layer is formed on a metal by a plasma chemical vapor deposition method (plasma CVD method) to prevent corrosion of the metal.
  • plasma CVD method plasma chemical vapor deposition method
  • this method has problems such as a high temperature treatment is required and the base material is limited or the manufacturing cost is increased.
  • the present inventors have provided a photosensitive resin layer formed from a specific photosensitive resin composition on a transparent substrate, and exposed and developed this photosensitive resin layer to develop a metal wiring on the transparent substrate.
  • a photosensitive resin layer formed from a specific photosensitive resin composition on a transparent substrate, and exposed and developed this photosensitive resin layer to develop a metal wiring on the transparent substrate.
  • Patent Document 2 has been proposed (for example, Patent Document 2).
  • a plurality of X electrodes made of a transparent electrode material and a plurality of Y electrodes perpendicular to the X electrodes are formed on a base material.
  • the color difference increases due to optical reflection between the portion where the transparent electrode pattern is formed and the portion where it is not formed, and the transparent conductive pattern is reflected on the screen when modularized.
  • the transparent electrode pattern There is a problem of so-called “bone appearance phenomenon”.
  • OCA Optical Clear Adhesive
  • JP 2011-28594 A International Publication No. 2013/084873 JP-A-8-240800 International Publication No. 2014/084112
  • a high refractive index is expressed by mixing and coating a zirconium oxide dispersion liquid, which is metal oxide ultrafine particles, with a binder resin, but the ultrafine particle dispersion system forms a uniform film. There is room for improvement from the viewpoint of environmental and adaptability.
  • the present invention can easily form a cured film that simultaneously suppresses the bone-visible phenomenon of the transparent electrode pattern, suppresses the decrease in transmittance of the screen and protects the sensor metal wiring, and is excellent in developability when forming the refractive index adjustment pattern.
  • An object of the present invention is to provide a refractive index adjusting film.
  • the present inventors have intensively studied, and as a result, formed a thin IM layer on a transparent conductive pattern by a transfer type photosensitive refractive index adjusting film composed of a photosensitive resin layer and a high refractive index layer. It has been found that it is possible to suppress the increase in color difference, and to improve the visibility of the touch screen by suppressing the bone appearance phenomenon and the decrease in the transmittance of the screen, and suppressing the corrosion of the metal wiring. Further, the present inventors have found that developability can be improved by forming the photosensitive resin layer and the high refractive index layer mainly from an organic material, and have completed the present invention.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to 1, wherein the photosensitive resin layer and the high refractive index layer do not substantially contain a metal oxide. 4). 4.
  • the photosensitive resin layer contains a binder polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator contains an oxime ester compound.
  • the binder polymer has a carboxyl group.
  • the binder polymer is (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, styrene, (meth) acrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid butyl
  • the transfer type photosensitivity according to any one of 10 to 12 which is a binder polymer containing a structural unit derived from at least one compound selected from the group consisting of an ester and (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl ester Refractive index adjustment film.
  • 14 The transfer type photosensitive refractive index adjusting film according to any one of 10 to 13, wherein the photosensitive resin layer contains a phosphate ester compound.
  • a transfer type photosensitive refractive index adjusting film capable of easily forming a cured film having both functions of a protective film for a transparent electrode and invisibility of a transparent electrode pattern or improved visibility of a touch screen.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention is excellent in developability when forming a refractive index adjusting pattern.
  • (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid
  • (meth) acrylate means acrylate or a corresponding methacrylate
  • (Poly) oxyethylene chain means oxyethylene group or polyoxyethylene group
  • (poly) oxypropylene chain” means oxypropylene group or polyoxypropylene group.
  • “A or B” only needs to include one of A and B, or may include both.
  • process is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term “process” is used as long as the intended action of the process is achieved. included.
  • the numerical range indicated by using “to” indicates a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
  • each component in the composition is the sum of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. Means quantity.
  • the exemplary materials may be used alone or in combination of two or more unless otherwise specified.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention includes a support film, a photosensitive resin layer provided on the support film, and a high refractive index layer provided on the photosensitive resin layer.
  • the photosensitive resin layer and the photosensitive resin layer are mainly made of an organic material.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film 1 shown in FIG. 1 includes a support film 10, a photosensitive resin layer 20 provided on the support film, and a high refractive index layer provided on the photosensitive resin layer. 30.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film may include a protective film 40 provided on the opposite side of the high refractive index layer 30 to the photosensitive resin layer 20 as shown in FIG.
  • the boundary between the high refractive index layer and the photosensitive resin layer is not necessarily clear, and the high refractive index layer may be mixed with the photosensitive resin layer.
  • a cured film satisfying both functions of protecting metal wiring and transparent electrodes on the frame of the touch panel and invisibility of the transparent electrode pattern or improving the visibility of the touch screen. can be formed collectively.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment in which the transfer type photosensitive refractive index adjusting film of the present invention is used for a substrate with a transparent conductive pattern.
  • a high refractive index layer 30 is provided on a substrate 50 with a transparent electrode pattern 50a such as ITO so as to cover the pattern 50a, a photosensitive resin layer 20 is provided thereon, and the laminate 100 is formed. It is configured.
  • the support film, the photosensitive resin layer, the high refractive index layer, and the protective film will be described.
  • a polymer film As the support film 10, a polymer film can be used.
  • the polymer film include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyether sulfone, and cycloolefin polymer.
  • the thickness of the support film 10 is preferably 5 to 100 ⁇ m from the viewpoint of ensuring the covering property of the photosensitive resin layer and suppressing the decrease in resolution when irradiating active light through the support film 10. It is more preferably from ⁇ 70 ⁇ m, further preferably from 15 to 40 ⁇ m, particularly preferably from 15 to 35 ⁇ m.
  • the photosensitive resin layer 20 is mainly made of an organic material.
  • the photosensitive resin layer mainly composed of an organic substance means that the organic substance content in the entire material forming the photosensitive resin layer is 90% by mass or more (preferably 95% by mass or more, more preferably 99% by mass). This means that It is more preferable that the photosensitive resin layer 20 is substantially made of only an organic substance.
  • the phrase “substantially consisting only of organic substances” specifically means that the content of inorganic substances in the entire material forming the photosensitive resin layer is less than 0.1% by mass.
  • the photosensitive resin layer 20 does not substantially contain a metal oxide.
  • the term “substantially free of metal oxide” means that the inorganic content in the entire material forming the photosensitive resin layer is less than 0.01% by mass.
  • the organic substance is generally classified into inorganic substances from a group of compounds containing carbon C (for example, carbonates of metal elements such as calcium carbonate and sodium hydrogen carbonate, oxides such as carbon monoxide and carbon dioxide, cyanides) And the like).
  • carbon C for example, carbonates of metal elements such as calcium carbonate and sodium hydrogen carbonate, oxides such as carbon monoxide and carbon dioxide, cyanides
  • organosiloxane is an organic substance
  • metal oxide is an inorganic substance.
  • the photosensitive resin layer 20 includes a binder polymer (hereinafter also referred to as (A) component), a photopolymerizable compound (hereinafter also referred to as (B) component), and a photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as (C) component). It is preferable to form from the photosensitive resin composition containing these.
  • A binder polymer
  • B photopolymerizable compound
  • C photopolymerization initiator
  • a binder polymer having a carboxyl group is preferably used from the viewpoint of enabling patterning by alkali development.
  • the (A) component is preferably a copolymer containing structural units derived from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid alkyl ester.
  • the copolymer may contain other monomers that can be copolymerized with the (meth) acrylic acid and the (meth) acrylic acid alkyl ester as constituent units. Specific examples include (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester, and styrene.
  • Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include (meth) acrylic acid methyl ester, (meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid butyl ester, (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl ester, (meth) acrylic And acid hydroxyl ethyl ester.
  • the weight average molecular weight of the component (A) is preferably 10,000 to 200,000, more preferably 15,000 to 150,000, and more preferably 30,000 to 150,000 from the viewpoint of resolution. More preferably, it is particularly preferably 30,000 to 100,000, and most preferably 40,000 to 100,000.
  • the weight average molecular weight can be measured by a gel permeation chromatography method with reference to the examples of the present specification.
  • the acid value of the component (A) is preferably 75 mgKOH / g or more from the viewpoint of easily forming a protective film having a desired shape by alkali development. Further, from the viewpoint of achieving both controllability of the shape of the protective film and rust prevention of the protective film, it is preferably 75 to 200 mgKOH / g, more preferably 75 to 150 mgKOH / g, and 75 to 120 mgKOH. / G is more preferable, and 78 mg to 120 mg KOH / g is particularly preferable.
  • an acid value can be measured with reference to the Example of this-application specification.
  • the hydroxyl value of the component (A) is preferably 50 mgKOH / g or less, more preferably 45 mgKOH / g or less, from the viewpoint of further improving rust prevention.
  • the hydroxyl value can be measured with reference to the examples in the present specification.
  • the component (B) is preferably a photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated group.
  • the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated group include a monofunctional vinyl monomer, a bifunctional vinyl monomer, or a polyfunctional vinyl monomer having at least three polymerizable ethylenically unsaturated groups.
  • Examples of the monofunctional vinyl monomer include those exemplified as monomers used for the synthesis of a copolymer which is a suitable example of the component (A).
  • bifunctional vinyl monomer examples include polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxypolypropoxy Phenyl) propane, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, and the like.
  • (Meth) acrylate compounds having a skeleton derived from trimethylolpropane, such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate; tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylol, from the viewpoint of corrosion inhibition of metal wiring and transparent electrodes and developability (Meth) acrylate compounds having a skeleton derived from tetramethylolmethane such as methanetetra (meth) acrylate; (meth) acrylates having a skeleton derived from pentaerythritol such as pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate Compound; (Meth) acrylate compound having a skeleton derived from dipenta
  • a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from pentaerythritol, a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from dipentaerythritol, a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from trimethylolpropane, or ditrimethylolpropane It is preferable to include a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from, and a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from dipentaerythritol, a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from trimethylolpropane, or a skeleton derived from ditrimethylolpropane It is more preferable that a (meth) acrylate compound having a skeleton is included, and it is further preferable that a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from ditrimethylolpropan
  • (meth) acrylate compound having a skeleton derived from will be described by taking a (meth) acrylate compound having a skeleton derived from ditrimethylolpropane as an example.
  • (Meth) acrylate having a skeleton derived from ditrimethylolpropane means an esterified product of ditrimethylolpropane and (meth) acrylic acid, and the esterified product includes a compound modified with an alkyleneoxy group.
  • the esterified product preferably has a maximum number of 4 ester bonds in one molecule, but a compound having 1 to 3 ester bonds may be mixed.
  • the proportion of the photopolymerizable compound contained in the photosensitive resin composition is 30 parts by mass. Is preferably 100 to 100 parts by mass, more preferably 50 to 100 parts by mass, and even more preferably 75 to 100 parts by mass.
  • the content of the component (A) and the component (B) is preferably 35 to 85 parts by mass of the component (A) with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B).
  • the amount is more preferably 80 parts by mass, further preferably 50 to 70 parts by mass, and particularly preferably 55 to 65 parts by mass.
  • the component (A) is 35 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) in terms of maintaining pattern formability and transparency of the protective film. 40 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more, and particularly preferably 55 parts by mass or more.
  • the component (C) conventionally known components can be used without any particular limitation.
  • the oxime is capable of forming a refractive index adjustment pattern with sufficient resolution even on a thin film having a thickness of 10 ⁇ m or less on a substrate. It is preferable that an ester compound is included.
  • the oxime ester compound is preferably a compound represented by the following formula (1), a compound represented by the following formula (2), or a compound represented by the following formula (3).
  • R 11 and R 12 each represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a tolyl group.
  • Preferred are an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a tolyl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 6 carbon atoms, phenyl It is more preferably a group or a tolyl group, and further preferably a methyl group, a cyclopentyl group, a phenyl group or a tolyl group.
  • R 13 represents —H, —OH, —COOH, —O (CH 2 ) OH, —O (CH 2 ) 2 OH, —COO (CH 2 ) OH or —COO (CH 2 ) 2 OH. It is preferably —H, —O (CH 2 ) OH, —O (CH 2 ) 2 OH, —COO (CH 2 ) OH, or —COO (CH 2 ) 2 OH, —H, —O (CH 2 ) 2 OH or —COO (CH 2 ) 2 OH is more preferable.
  • each of the plurality of R 14 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and is preferably a propyl group, and the plurality of R 14 may be the same or different.
  • R 15 represents —NO 2 or —ArCO (wherein Ar represents a substituted or unsubstituted aryl group), and Ar is preferably a tolyl group.
  • Examples of the substituent in the case of having a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • R 16 and R 17 each represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group, or a tolyl group, and is preferably a methyl group, a phenyl group, or a tolyl group.
  • R 18 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and is preferably an ethyl group.
  • R 19 is an organic group having an acetal bond, and is preferably a substituent corresponding to R 19 in a compound represented by the formula (3-1) described later.
  • R 20 and R 21 each represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group or a tolyl group, preferably a methyl group, a phenyl group or a tolyl group, and more preferably a methyl group.
  • R 22 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 4. If R 22 is plural, or different plural R 22 are each identical.
  • Examples of the compound represented by the above formula (1) include a compound represented by the following formula (1-1) and a compound represented by the following formula (1-2).
  • the compound represented by the following formula (1-1) is available as IRGACURE OXE-01 (manufactured by BASF Japan Ltd., product name).
  • Examples of the compound represented by the above formula (2) include a compound represented by the following formula (2-1).
  • the compound represented by the following formula (2-1) is available as DFI-091 (product name, manufactured by Daito Chemix Co., Ltd.).
  • Examples of the compound represented by the above formula (3) include a compound represented by the following formula (3-1).
  • a compound represented by the following formula (3-1) is available as Adekaoptomer N-1919 (manufactured by ADEKA, product name).
  • the compound represented by the formula (1-1) is very preferable. Whether the compound represented by the above formula (1-1) is contained in the cured film is determined by detecting heptanonitrile and benzoic acid when pyrolysis gas chromatography / mass spectrometry of the cured film is performed. Can be used as an indicator. In particular, when the cured film was not subjected to a high-temperature heating step, the compound represented by the above formula (1-1) was contained in the cured film by detecting heptanonitrile and benzoic acid. Recognize. The detection peak area of benzoic acid in pyrolysis gas chromatography mass spectrometry of the cured film is detected in the range of 1 to 10% with respect to the detection peak area of heptanionitrile.
  • the pyrolysis gas chromatograph mass spectrometry of the cured film is preferably performed by gas chromatograph mass spectrometry on the gas generated by heating the measurement sample from 140 ° C.
  • the heating time of the measurement sample may be in the range of 1 to 60 minutes, but is preferably 30 minutes.
  • An example of measurement conditions for pyrolysis gas chromatograph mass spectrometry is shown below.
  • the content of the component (C) is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B) in terms of excellent photosensitivity and resolution. It is more preferably from 5 to 5 parts by mass, further preferably from 1 to 3 parts by mass, and particularly preferably from 1 to 2 parts by mass.
  • the photosensitive resin composition according to the present embodiment has a triazole compound having a mercapto group, a tetrazole compound having a mercapto group, a thiadiazole compound having a mercapto group, and an amino group from the viewpoint of further improving the rust prevention property of the protective film. It is preferable to further contain a triazole compound or a tetrazole compound having an amino group (hereinafter also referred to as component (D)).
  • the triazole compound having a mercapto group include 3-mercapto-triazole (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product name “3MT”).
  • Examples of the thiadiazole compound having a mercapto group include 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole (product name “ATT” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
  • triazole compound having an amino group examples include benzotriazole, 1H-benzotriazole-1-acetonitrile, benzotriazole-5-carboxylic acid, 1H-benzotriazole-1-methanol, carboxybenzotriazole, etc. , 3-mercaptotriazole, 5-mercaptotriazole, and other triazole compounds containing a mercapto group are substituted with amino groups.
  • tetrazole compounds having an amino group examples include 5-amino-1H-tetrazole, 1-methyl-5-amino-tetrazole, 1-methyl-5-mercapto-1H-tetrazole, and 1-carboxymethyl-5-amino-tetrazole.
  • Etc. These tetrazole compounds may be water-soluble salts thereof. Specific examples include alkali metal salts of 1-methyl-5-amino-tetrazole such as sodium, potassium and lithium.
  • the content thereof is preferably 0.05 to 5.0 parts by weight, and preferably 0.1 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the components (A) and (B) Part by mass is more preferable, 0.2 to 1.0 part by mass is further preferable, and 0.3 to 0.8 part by mass is particularly preferable.
  • the photosensitive resin composition according to the present embodiment preferably contains a phosphate ester compound (hereinafter also referred to as (E) component) from the viewpoint of preventing the occurrence of development residue, and the phosphate ester compound is photopolymerizable. More preferably, it contains an unsaturated bond.
  • a phosphate ester compound shall not be included in the photopolymerizable compound of (B) component.
  • the phosphoric acid ester compound as the component (E) includes a phosphor series (Phosmer-M, Phosmer-CL, Phosmer-PE, Phosmer-, from the viewpoint of achieving both high levels of rust prevention and developability of the protective film to be formed.
  • a phosphor series Phosmer-M, Phosmer-CL, Phosmer-PE, Phosmer-, from the viewpoint of achieving both high levels of rust prevention and developability of the protective film to be formed.
  • KAYAMER series PM21, PM-2, etc., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name
  • the content thereof is preferably 0.05 to 5.0 parts by mass, preferably 0.1 to 2.0 parts per 100 parts by mass of the total amount of the components (A) and (B). Mass parts are more preferred, 0.2 to 1.0 parts by mass are more preferred, and 0.2 to 0.6 parts by mass are particularly preferred.
  • the high refractive index layer is a layer having a refractive index higher than that of the photosensitive resin layer.
  • the refractive index of the photosensitive resin layer at a wavelength of 633 nm is usually 1.40 to 1.49.
  • the high refractive index layer 30 is mainly made of an organic material, like the photosensitive resin layer. Thereby, developability improves.
  • the high refractive index layer 30 is preferably substantially made of only an organic material.
  • the definitions of “mainly composed of organic matter”, “substantially composed only of organic matter”, “organic matter” and “substantially free of metal oxide” are the same as those of the above-described photosensitive resin layer.
  • the high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.50 to 1.90, more preferably 1.53 to 1.85, and more preferably 1.55 to 1.75 in light having a wavelength of 633 nm. More preferably. Since the refractive index at 633 nm of the high refractive index layer is 1.50 to 1.90, the laminate shown in FIG. 2 is used on the transparent electrode pattern 50a such as ITO and the photosensitive resin layer 20.
  • the refractive index of various members for example, OCA that bonds a cover glass and a transparent electrode pattern used when modularizing
  • a transparent electrode pattern such as ITO
  • the refractive index of a transparent electrode such as ITO is preferably 1.80 to 2.10, more preferably 1.85 to 2.05, and even more preferably 1.90 to 2.00.
  • the refractive index of a member such as OCA is preferably 1.45 to 1.55, more preferably 1.47 to 1.53, and further preferably 1.48 to 1.51. .
  • the film thickness of the high refractive index layer is preferably 50 to 1000 nm, more preferably 50 to 500 nm, more preferably 60 to 300 nm, still more preferably 70 to 250 nm, and 80 It is particularly preferable that the thickness is ⁇ 200 nm. When the film thickness is 50 to 1000 nm, the reflected light intensity of the entire screen can be further reduced.
  • the high refractive index composition constituting the high refractive index layer is composed of a compound having a triazine ring, a compound having an isocyanuric acid skeleton, a compound having a fluorene skeleton, and biphenyl from the viewpoints of refractive index, developability, environmental applicability, and versatility. It is preferable to include a compound having a skeleton or a compound having a naphthalene skeleton (hereinafter also referred to as component (F)). It is more preferable to include a compound having a triazine ring or a compound having an isocyanuric acid skeleton, because it is excellent in developability and uniformity during thin film formation while maintaining a high refractive index. Thereby, the refractive index at a wavelength of 633 nm can be improved.
  • Ar represents a divalent group containing at least one selected from an aromatic ring (having 6 to 20 carbon atoms) and a heterocyclic ring (having 5 to 20 atoms).
  • X represents NR 1 respectively.
  • R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group (carbon number is, for example, 1 to 20), an alkoxy group (carbon number is, for example, 1 to 20), an aryl group (carbon number is, for example, 6 to 20), or an aralkyl group (carbon number is For example, 7-20).
  • a plurality of X may be the same or different.
  • a hyperbranched polymer having a triazine ring is preferable, and is commercially available as, for example, HYPERTECH UR-101 (product name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
  • This hyperbranched polymer is polymerized by, for example, dropping a 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine dimethylacetamide solution into a dimethylacetamide solution of m-phenyldiamine to give 2-aminopropanol Furthermore, it is made to react by dripping and making it precipitate in aqueous ammonia solution.
  • the obtained hyperbranched polymer having a triazine ring can be modified with phthalic acid or succinic acid to contain an acid value.
  • the “isocyanuric acid skeleton” of the compound having an isocyanuric acid skeleton refers to a group obtained by removing three hydrogen atoms from isocyanuric acid, and examples of the compound having an isocyanuric acid skeleton include compounds represented by the following formula (7). It is done. Specifically, triallyl isocyanurate is preferred.
  • each R independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, —R 2 OH (wherein R 2 is alkylene having 1 to 6 carbon atoms), or an allyl group, and an allyl group is preferable.
  • the halogen atom a chlorine atom is preferable.
  • -R 2 OH is preferably a methylol group or a hydroxyethyl group.
  • the high refractive index composition constituting the high refractive index layer is composed of a compound having a triazine ring or a compound having an isocyanuric acid skeleton and a compound having a fluorene skeleton from the viewpoints of refractive index, developability, patternability, and transparency. It is preferable to use a compound having a biphenyl skeleton or a compound having a naphthalene skeleton in combination.
  • a compound having a fluorene skeleton a compound having a 9,9-bis [4-2 (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene skeleton is preferable.
  • the compound may be modified with (poly) oxyethylene or (poly) oxypropylene. These are commercially available, for example, as EA-200 (product name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.). Further, it may be epoxy-modified with epoxy acrylate. These are commercially available, for example, as GA5000 and EG200 (product name, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.).
  • the compound having a biphenyl skeleton a compound having o-phenylphenol acrylate is preferable, and an epoxy acrylate compound having a biphenyl skeleton is more preferable.
  • the compound may be modified with (poly) oxyethylene or (poly) oxypropylene. These include, for example, A-LEN-10 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name), M-106 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., product name), KAYARAD OPP-1, HRM-3000H (Nippon Kayaku Co., Ltd.) (Company, product name) is commercially available.
  • KAYARAD BNP-1 Nippon Kayaku Co., Ltd., product name
  • KAYARAD BNP-1 Nippon Kayaku Co., Ltd., product name
  • the content of the component (F) in the high refractive index composition is preferably in the following range in order to adjust the refractive index of light having a wavelength of 633 nm of the high refractive index layer to be in the range of 1.5 to 1.9.
  • the compound having a fluorene skeleton is included, it is preferably included in an amount of 10 to 100 parts by weight, more preferably 20 to 90 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the component (F) in the high refractive index composition. It is more preferable to include 30 to 90 parts by mass, and it is particularly preferable to include 70 to 90 parts by mass.
  • a compound having a triazine ring When a compound having a triazine ring is included, it is preferably included in an amount of 10 to 100 parts by weight, more preferably 10 to 50 parts by weight, and more preferably 10 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of component (F). Is more preferable, and 10 to 30 parts by mass is particularly preferable.
  • the compound having an isocyanuric acid skeleton is included, it is preferably included in an amount of 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, and more preferably 30 to 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the component (F). More preferably.
  • a compound having a biphenyl skeleton or a compound having a naphthalene skeleton is included, it is preferably included in an amount of 5 to 70 parts by mass, more preferably 5 to 65 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (F). More preferably, it is contained at 60 parts by mass.
  • said "photosensitive resin composition” and “high refractive index composition” mean the composition of the state which does not contain a solvent, and the content rate of each component is a content rate with respect to the total amount of components other than a solvent.
  • the high refractive index composition may substantially consist of at least one of the above-described component (F). That is, the high refractive index layer in the present invention may consist essentially of the component (F).
  • substantially means that 95% by mass or more and 100% by mass or less (preferably 98% by mass or more and 100% by mass or less) of the components constituting the composition or the layer are the above components.
  • the high refractive index composition constituting the high refractive index layer may contain any one or more of the components (A) to (E) described in the photosensitive resin layer as necessary.
  • additives may be used as necessary.
  • the additive include organosiloxanes such as octamethylcyclotetrasiloxane and polymerization inhibitors such as 2,2'-methylene-bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol).
  • the photosensitive resin layer and the high refractive index layer are mainly composed of an organic substance.
  • the photosensitive resin layer and the high refractive index layer are made of a metal oxide. It is preferable not to contain substantially. “Substantially no metal oxide” means that the content of the metal oxide is 0 to 1% by mass with respect to the total mass of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer.
  • the content of the metal oxide is preferably 0 to 0.5% by mass, more preferably 0 to 0.01% by mass, further preferably 0 to 0.001% by mass, and 0% by mass. % Is particularly preferred.
  • the metal oxide should not be used as a raw material of the composition for forming the photosensitive resin layer and the high refractive index layer.
  • the metal oxide content can be measured with an atomic absorption photometer (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, product name “Z-5010”).
  • metal oxide examples include zirconium oxide, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium tin oxide, indium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, and glass.
  • the minimum value of the visible light transmittance at 400 to 700 nm of the laminate of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer is preferably 90.00% or more. It is more preferably 90.50% or more, and further preferably 90.70% or more. If the minimum value of transmittance in a general visible light wavelength range of 400 to 700 nm is 90.00% or more, an image in the sensing area can be used to protect the transparent electrode in the sensing area of the touch panel (touch sensor). It can suppress sufficiently that display quality, a hue, and a brightness
  • the maximum visible light transmittance is usually 100% or less. The visible light transmittance can be measured with reference to the examples in the present specification.
  • a coating liquid containing a photosensitive resin composition and a high refractive index composition is prepared, and each of these is applied to the support film 10. It can be formed by coating on the protective film 40, drying and bonding. Further, a coating liquid containing a photosensitive resin composition is applied on the support film 10 and dried, and then a coating liquid containing a high refractive index composition is applied and dried on the photosensitive resin layer 20, and the protective film 40. It can also be formed by pasting.
  • the coating solution can be obtained by uniformly dissolving or dispersing each component constituting the above-described photosensitive resin composition and high refractive index composition in a solvent.
  • the solvent used as the coating solution is not particularly limited, and known ones can be used. Specifically, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, methanol, ethanol, propanol, butanol, methylene glycol, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether , Diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, chloroform, methylene chloride and the like.
  • Application methods include doctor blade coating method, Mayer bar coating method, roll coating method, screen coating method, spinner coating method, inkjet coating method, spray coating method, dip coating method, gravure coating method, curtain coating method, and die coating method. Etc.
  • the drying conditions are not particularly limited, but the drying temperature is preferably 60 to 130 ° C., and the drying time is preferably 0.5 to 30 minutes.
  • the total thickness of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer is preferably 30 ⁇ m or less, and preferably 20 ⁇ m or less from the viewpoint of improving the followability during lamination. Is more preferably 10 ⁇ m or less. Furthermore, from the viewpoint of suppressing the occurrence of pinholes due to the protrusions of the base material, the thickness is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 2 ⁇ m or more, and further preferably 3 ⁇ m or more. If it is 3 micrometers or more, it will become easy to suppress the influence by the protrusion of a base material as much as possible, and to maintain rust prevention property.
  • the viscosity of the photosensitive refractive index adjusting layer is a viewpoint that suppresses the resin composition from exuding from the end face of the transfer type photosensitive refractive index adjusting film when the transfer type photosensitive refractive index adjusting film is stored in a roll. From the viewpoint of preventing the photosensitive refractive index adjusting layer from becoming too hard when cutting the transfer-type photosensitive refractive index adjusting film, so that it breaks up and adheres to the substrate, at 30 ° C., 15 to 100 mPa ⁇ s. It is preferably 20 to 90 mPa ⁇ s, more preferably 25 to 80 mPa ⁇ s.
  • Examples of the protective film 40 include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene-vinyl acetate copolymer, a laminated film of polyethylene-vinyl acetate copolymer and polyethylene, and the like.
  • the thickness of the protective film 40 is preferably 5 to 100 ⁇ m, but is preferably 70 ⁇ m or less, more preferably 60 ⁇ m or less, and even more preferably 50 ⁇ m or less from the viewpoint of storing in a roll. 40 ⁇ m or less is particularly preferable.
  • the high refractive index layer 30 is adhered to the surface of the substrate 50 (substrate with a transparent conductive pattern).
  • the high refractive index layer and the photosensitive resin layer are laminated (transferred).
  • the pressing means include a pressing roll.
  • the pressure roll may be provided with a heating means so that it can be heat-pressure bonded.
  • the heating temperature in the case of thermocompression bonding is such that the adhesiveness between the high refractive index layer 30 and the substrate 50 and the constituent components of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer are not easily cured or thermally decomposed.
  • the temperature is preferably 10 to 160 ° C, more preferably 20 to 150 ° C, and further preferably 30 to 150 ° C.
  • the pressure during thermocompression bonding is 50 to 1 ⁇ 10 5 N in terms of linear pressure from the viewpoint of suppressing deformation of the base material 50 while ensuring sufficient adhesion between the high refractive index layer 30 and the base material 50.
  • / M preferably 2.5 ⁇ 10 2 to 5 ⁇ 10 4 N / m, more preferably 5 ⁇ 10 2 to 4 ⁇ 10 4 N / m.
  • the transfer-type photosensitive refractive index adjusting film is thermocompression bonded as described above, pre-heat treatment of the base material before lamination is not necessarily required, but the adhesion between the high refractive index layer 30 and the base material 50 is further improved.
  • the substrate 50 may be preheated.
  • the treatment temperature at this time is preferably 30 to 150 ° C.
  • the substrate examples include substrates such as glass plates, plastic plates, and ceramic plates used for touch panels (touch sensors).
  • an electrode to be a target for forming a cured film is provided on this base material.
  • the electrode examples include electrodes such as ITO, Cu, Al, and Mo.
  • an insulating layer may be provided on the base material between the base material and the electrode.
  • a predetermined portion of the photosensitive refractive index adjusting layer after the transfer is irradiated with actinic rays in a pattern form through a photomask.
  • actinic light if the support film 10 on the photosensitive refractive index adjusting layer is transparent, the actinic light can be irradiated as it is, and if it is opaque, the actinic light is irradiated after removal.
  • a known active light source can be used as the active light source.
  • the irradiation amount of actinic rays is 1 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 4 J / m 2 , and heating can be accompanied during irradiation. If the irradiation amount of this actinic ray is 1 ⁇ 10 2 J / m 2 or more, photocuring can sufficiently proceed, and if it is 1 ⁇ 10 4 J / m 2 or less, the photosensitive refractive index is adjusted. There exists a tendency which can suppress that a layer discolors.
  • the unexposed portions of the photosensitive resin layer and the high refractive index layer after irradiation with actinic rays are removed with a developer to form a refractive index adjustment pattern that covers part or all of the transparent electrode.
  • the image development process is performed.
  • the development step can be performed by a known method such as spraying, showering, rocking dipping, brushing, scraping, or the like using a known developer such as an alkaline aqueous solution, an aqueous developer, or an organic solvent.
  • spray development is preferably performed using an alkaline aqueous solution from the viewpoint of environment and safety.
  • the development temperature and time can be adjusted within a conventionally known range.
  • the electronic component according to the present embodiment includes a refractive index adjustment pattern formed using a transfer type photosensitive refractive index adjustment film.
  • Examples of the electronic component include a touch panel, a liquid crystal display, an organic electroluminescence, a solar cell module, a printed wiring board, and electronic paper.
  • FIG. 3 is a schematic top view showing an example of a capacitive touch panel.
  • the touch panel shown in FIG. 3 has a touch screen 102 for detecting a touch position coordinate on one side of a transparent base material 101, and is based on a transparent electrode 103 and a transparent electrode 104 for detecting a capacitance change in this region. It is provided on the material 101.
  • the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104 detect the X position coordinate and the Y position coordinate of the touch position, respectively.
  • a lead-out wiring 105 for transmitting a touch position detection signal from the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104 to an external circuit is provided.
  • the lead-out wiring 105 is connected to the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104 by a connection electrode 106 provided on the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104.
  • a connection terminal 107 for connecting to an external circuit is provided at the end of the lead-out wiring 105 opposite to the connection portion between the transparent electrode 103 and the transparent electrode 104.
  • the refractive index adjustment pattern 123 As shown in FIG. 3, by forming the refractive index adjustment pattern 123, the transparent electrode 103, the transparent electrode 104, the lead-out wiring 105, the connection electrode 106, the function of the protective film of the connection terminal 107, and the transparent electrode pattern are formed.
  • the refractive index adjustment function of the sensing area is simultaneously performed.
  • the weight average molecular weight (Mw) was measured by gel permeation chromatography (GPC), and was derived by conversion using a standard polystyrene calibration curve.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Acid value 10 ⁇ Vf ⁇ 56.1 / (Wp ⁇ I)
  • Vf represents the titration amount (mL) of the KOH aqueous solution
  • Wp represents the mass (g) of the measured resin solution
  • I represents the proportion (mass%) of the non-volatile content in the measured resin solution.
  • hydroxyl value (A ⁇ B) ⁇ f ⁇ 28.05 / sample (g) + acid value
  • A represents the amount (mL) of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the blank test
  • B represents the amount (mL) of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for titration
  • f represents a factor.
  • T-1420 Ditrimethylolpropane tetraacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., product name)
  • Antage W-500 2,2'-methylene-bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) (product name, manufactured by Kawaguchi Chemical Co., Ltd.)
  • SH-30 Octamethylcyclotetrasiloxane (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name) Methyl ethyl ketone (manufactured by Tonen Chemical Co., Ltd.)
  • the protective film having the high refractive index layer prepared above and the support film having the photosensitive resin layer prepared above are used for high refraction.
  • the transfer type photosensitive refractive index adjusting film was prepared by bonding at 23 ° C. so that the refractive index layer and the photosensitive resin layer were in close contact with each other.
  • the refractive index of the single refractive index layer in the form of the transfer type photosensitive refractive index adjusting film is the value of the outermost surface layer on the support film side of the high refractive index layer.
  • the visible light transmittance and haze of the obtained transmittance measurement sample were measured in a wavelength range of 400 to 700 nm using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name “NDH 7000”).
  • a haze meter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name “NDH 7000”.
  • the measured values of the glass substrate alone are shown in Table 4.
  • roll temperature is 120 ° C.
  • substrate feed speed is 1 m / min
  • pressure (cylinder pressure) is 4 ⁇ 10 5 Pa (thickness is 125 ⁇ m) Since a substrate of 10 cm in length and 10 cm in width was used, the linear pressure at this time was laminated under the condition of 9.8 ⁇ 10 3 N / m), and a high refractive index layer, a photosensitive resin layer, and A laminate in which a support film was laminated was produced.
  • the Y value (this is referred to as reflectance R) is measured for the obtained hue (reflection R) measurement sample using a spectrocolorimeter (manufactured by Konica Minolta, product name “CM-5”). Then, normalization was performed using the following formula.
  • R normalization actual reflectance value / reflectance actual value of measurement sample (Comparative Example 7) in which only the photosensitive resin layer is laminated ⁇ 100
  • the measured values of the transparent conductive film alone are shown in Table 4.
  • compositions of the components listed in Tables 2 to 4 are parts by mass. As shown in Tables 2 to 4, in the examples, the value of reflection R normalization is 90% or less, and the reflectance is sufficiently reduced. Further, there was no development residue and the developability was sufficient. Comparative Example 7 is a result when only the photosensitive resin layer was provided.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が主に有機物からなる転写形感光性屈折率調整フィルム。

Description

転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
　本発明は、転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品に関する。詳しくは透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムに関する。
　パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明電極材料からなる電極が設けられている。透明電極材料としては、高い可視光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ－Ｔｉｎ－Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが主流になっている。
　タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。そのため、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。
　一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造パターンを形成している。これらの電極として、近年、Ａｇナノワイヤ、カーボンナノチューブ等に代表される導電性繊維の利用が検討されているが、ＩＴＯが未だに主流である。
　ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。導電性の観点から、一般的に金属配線は銅により形成されている。
　タッチパネルは指先に接触される際に水分や塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがある。
　金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した投影型静電容量方式のタッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法は高温処理が必要となり基材が限定されたり、製造コストが高くなったりする等、問題があった。
　そこで、本発明者らは、透明基材上に特定の感光性樹脂組成物から形成される感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層を露光、現像することで透明基材上の金属配線を保護する方法を提案している（例えば、特許文献２）。
　ところで、上述したように投影型静電容量方式のタッチパネルでは、基材上に透明電極材料による複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造の透明電極パターンを形成しているが、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分とでの光学的な反射により色差が大きくなり、モジュール化した際に透明導電パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し画面の透過率を低下させるという問題もある。
　骨見え現象や透過率の低下を防ぐために、基材と透明電極パターンとの間にＩＭ層（光学調整層、インデックスマッチング層ともいう）を設けることで、色差を抑制し、骨見え現象と、画面の透過率低下を防ぐ透明導電膜が開示されている（例えば、特許文献３）。
　しかしながら、特許文献３の手法では、骨見え現象と、透過率低下の抑制効果は充分ではなく、更なる改善の余地がある。また、上記手法では、ＩＭ層を構築するために、スパッタ又はスピンコーター等の塗布が必要であるが、この工程に加え、タッチパネルの額縁領域にある金属配線の腐食抑制を別工程で行う必要が生じ、工程数が増えるという課題があった。
　また、工程数は増えるが、特許文献３の手法に特許文献２の手法を組み合わせようと、基材上にＩＭ層を設け、該ＩＭ層上に透明電極パターンを形成後、さらに該透明電極パターン上にＩＭ層を作成しようと試みても、透明電極パターンの形成されている表面に凹凸があるため、ＩＭ層を均一に形成できないという課題があった。
　透明電極パターンが視認されることを防ぐ手法として、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを有する転写フィルムが開示されている（特許文献４参照）。
特開２０１１－２８５９４号公報 国際公開第２０１３／０８４８７３号 特開平８－２４０８００号公報 国際公開第２０１４／０８４１１２号
　しかしながら、特許文献４の手法では、所定の硬化膜を形成する際、現像性が充分ではなく、画面の透過率低下抑制とセンサー金属配線の保護を両立させる硬化膜を形成する観点では改善の余地がある。また、具体的な転写フィルムの構成として、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／第一の硬化性透明樹脂層／第二の硬化性透明樹脂層／保護フィルムからなる６層フィルムを開示しているが、多層フィルムの生産性の観点からも改善の余地がある。
　さらに、特許文献４の手法では、金属酸化物超微粒子である酸化ジルコニウム分散液をバインダー樹脂と混合し塗布することで高屈折率を発現しているが、超微粒子分散系は均一な膜を形成する観点や環境適応性の観点において改善の余地がある。
　本発明は、透明電極パターンの骨見え現象抑制、画面の透過率低下抑制とセンサー金属配線の保護を両立させる硬化膜を簡便に形成でき、屈折率調整パターン形成時の現像性に優れる転写形感光性屈折率調整フィルムを提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、感光性樹脂層と高屈折率層から構成される転写形感光性屈折率調整フィルムにより、透明導電パターン上にＩＭ層を薄膜形成することが可能となり、色差が大きくなることを抑制し、骨見え現象の抑制及び画面の透過率低下の抑制によるタッチ画面の視認性向上と、金属配線の腐食抑制とを両立できることを見出した。また、感光性樹脂層と高屈折率層を、主に有機物で形成することにより、現像性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　本発明の具体的態様を以下に示す。
１．支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、
　前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が主に有機物からなる転写形感光性屈折率調整フィルム。
２．前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が実質的に有機物のみからなる１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
３．前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が金属酸化物を実質的に含まない１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
４．前記高屈折率層がトリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む１～３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
５．前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含む１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
６．前記高屈折率層がビフェニル骨格を有する化合物を含む１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
７．前記高屈折率層がナフタレン骨格を有する化合物を含む１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
８．前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０である１～７のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
９．前記高屈折率層の膜厚が５０～１０００ｎｍである１～８のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１０．前記感光性樹脂層がバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む１～９のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１１．前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物を含む１０に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１２．前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する１０又は１１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１３．前記バインダーポリマーが（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーである１０～１２のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１４．前記感光性樹脂層がリン酸エステル化合物を含む１０～１３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１５．前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層の、波長４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０．００％以上である１～１４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１６．前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である１～１５のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
１７．上記１～１６のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
　前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、を備える屈折率調整パターンの形成方法。
１８．上記１７に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
　本発明によれば、透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムを提供することができる。また、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムは、屈折率調整パターンの形成時の現像性に優れている。
本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。 本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式平面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「（ポリ）オキシエチレン鎖」はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、「（ポリ）オキシプロピレン鎖」はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
　また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
　さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（転写形感光性屈折率調整フィルム）
　本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムは、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備える。そして、感光性樹脂層及び感光性樹脂層が主に有機物からなることを特徴とする。
　図１は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される転写形感光性屈折率調整フィルム１は、支持フィルム１０と、上記支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層２０と、上記感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層３０とを備える。なお、転写形感光性屈折率調整フィルムは、図１に示すように高屈折率層３０の感光性樹脂層２０とは反対側に設けられた保護フィルム４０を含んでもよい。
　なお、本明細書において、高屈折率層と感光性樹脂層との境界は必ずしも明確になっている必要はなく、高屈折率層に感光性樹脂層が混じり合った態様であってもよい。
　上記転写形感光性屈折率調整フィルムを用いることで、例えばタッチパネルの額縁にある金属配線や透明電極の保護機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を一括で形成することができる。
　図２は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。図２において、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａ付き基材５０上に、パターン５０ａを覆うように高屈折率層３０が設けられ、その上に感光性樹脂層２０が設けられて、積層体１００が構成されている。
　以下、支持フィルム、感光性樹脂層、高屈折率層及び保護フィルムについて説明する。
（支持フィルム）
　支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。
　支持フィルム１０の厚さは、感光性樹脂層の被覆性確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５～１００μｍであることが好ましく、１０～７０μｍであることがより好ましく、１５～４０μｍであることがさらに好ましく、１５～３５μｍであることが特に好ましい。
（感光性樹脂層）
　本発明において感光性樹脂層２０は、主に有機物からなる。これにより、現像性が向上する。なお、本願において感光性樹脂層が主に有機物からなるとは、感光性樹脂層を形成する材料全体に占める有機物の含有率が９０質量％以上（好ましくは９５質量％以上、より好ましくは９９質量％以上）であることを意味する。感光性樹脂層２０は、実質的に有機物のみからなることがさらに好ましい。実質的に有機物のみからなるとは、具体的には、感光性樹脂層を形成する材料全体に占める無機物の含有率が０．１質量％未満である。また、感光性樹脂層２０は、金属酸化物を実質的に含まないことが特に好ましい。金属酸化物を実質的に含まないとは、具体的には、感光性樹脂層を形成する材料全体に占める無機物の含有率が０．０１質量％未満である。
　また、有機物とは炭素Ｃを含む化合物群から、一般に無機物に分類されるもの（例えば、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム等の金属元素の炭酸塩、一酸化炭素、二酸化炭素等の酸化物、シアン化物など）を除いた化合物を意味する。例えば、オルガノシロキサンは有機物であり、金属酸化物は無機物である。
　感光性樹脂層２０は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）とを含む感光性樹脂組成物から形成されることが好ましい。
　（Ａ）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するバインダーポリマーを用いることが好ましい。
　（Ａ）成分は、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含む共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。
　上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
　これらの中でも、アルカリ現像性（特に無機アルカリ水溶液に対する）、パターニング性、透明性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルエステルから選択される化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーが好ましい。
　（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００～２００，０００であることが好ましく、１５，０００～１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００～１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００～１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００～１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本願明細書の実施例を参考にゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
　（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する保護膜をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、保護膜形状の制御容易性と保護膜の防錆性との両立を図る観点から、７５～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、７８ｍｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。なお、酸価は本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　（Ａ）成分の水酸基価は、防錆性をより向上させる観点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　（Ｂ）成分は、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることが好ましい。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
　上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示したものが挙げられる。
　上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線や透明電極の腐食抑制及び現像性の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。
　より具体的には、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがさらに好ましい。
　ここで、「～由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物」について、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を例にとり説明する。ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記エステル化物は、一分子中におけるエステル結合数が最大数の４であることが好ましいが、エステル結合の数が１～３の化合物が混合していてもよい。
　分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーと、一官能ビニルモノマーや二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限は無いが、光硬化性及び電極腐食を抑制する観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０～１００質量部であることが好ましく、５０～１００質量部であることがより好ましく、７５～１００質量部であることがさらに好ましい。
　（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が３５～８５質量部であることが好ましく、４０～８０質量部であることがより好ましく、５０～７０質量部であることがさらに好ましく、５５～６５質量部であることが特に好ましい。特に、パターン形成性や保護膜の透明性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることがさらに好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい
　（Ｃ）成分としては、従来公知のものを特に制限無く用いることができるが、基材上に厚みが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で屈折率調整パターンを形成する点では、オキシムエステル化合物を含むことが好ましい。
　オキシムエステル化合物としては、下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、又は下記式（３）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。炭素数１～８のアルキル基、炭素数４～６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基、炭素数４～６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。Ｒ１３は、－Ｈ、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、－Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、－ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又は－ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。－Ｈ、－Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、－Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、－ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又は－ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、－Ｈ、－Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又は－ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（２）中、複数のＲ１４は、それぞれ炭素数１～６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましく、複数のＲ１４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ１５は、－ＮＯ２又は－ＡｒＣＯ（ここで、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。置換基を有する場合の置換基としては、炭素数１～６のアルキル基が挙げられる。
　Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（３）中、Ｒ１８は、炭素数１～６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。
　Ｒ１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（３－１）に示す化合物が有するＲ１９に対応する置換基であることが好ましい。
　Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ炭素数１～１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
　Ｒ２２は、炭素数１～６のアルキル基を示す。ｎは０～４の整数を示す。Ｒ２２が複数の場合、複数のＲ２２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
　上記式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１－１）で表される化合物及び下記式（１－２）で表される化合物が挙げられる。下記式（１－１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２－１）で表される化合物が挙げられる。下記式（２－１）で表される化合物は、ＤＦＩ－０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３－１）で表される化合物が挙げられる。下記式（３－１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ－１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（４）で表される化合物、下記式（５）で表される化合物を用いることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記の中でも、上記式（１－１）で表される化合物が極めて好ましい。なお、上記式（１－１）で表される化合物が硬化膜に含まれているかどうかは、硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析を行ったときに、ヘプタノニトリル及び安息香酸が検出されるかどうかを指標にできる。特に、硬化膜が高温の加熱工程を受けていない場合は、ヘプタノニトリル及び安息香酸が検出されることで硬化膜に上記式（１－１）で表される化合物が含まれていたことがわかる。
　硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析における安息香酸の検出ピーク面積は、ヘプタノニトリルの検出ピーク面積に対して、１～１０％の範囲で検出される。
　硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析は、測定サンプルを１４０℃から加熱して発生したガスについてガスクロマトグラフ質量分析を行うことが好ましい。上記の測定サンプルの加熱時間は、１～６０分の範囲であればよいが、３０分であることが好ましい。熱分解ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件の一例を以下に示す。
（熱分解ガスクロマトグラフ質量分析の測定条件）
測定装置：ＧＣ／ＭＳ　ＱＰ－２０１０（株式会社島津製作所製、製品名）
カラム：ＨＰ－５ＭＳ（アジレント・テクノロジー株式会社製、製品名）Ｏｖｅｎ　Ｔｅｍｐ：４０℃で５分間加熱後、１５℃／ｍｉｎの割合で３００℃まで昇温
キャリアーガス：ヘリウム、１．０ｍＬ／ｍｉｎ
インターフェイス温度：２８０℃
イオンソース温度：２５０℃
サンプル注入量：０．１ｍＬ
　（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１～１０質量部であることが好ましく、１～５質量部であることがより好ましく、１～３質量部であることがさらに好ましく、１～２質量部であることが特に好ましい。
　本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物又はアミノ基を有するテトラゾール化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）をさらに含むことが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３－メルカプト－トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名「３ＭＴ」）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２－アミノ－５－メルカプト－１，３，４－チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名「ＡＴＴ」）が挙げられる。
　上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－アセトニトリル、ベンゾトリアゾール－５－カルボン酸、１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３－メルカプトトリアゾール、５－メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
　上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５－アミノ－１Ｈ－テトラゾール、１－メチル－５－アミノ－テトラゾール、１－メチル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール、１－カルボキシメチル－５－アミノ－テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１－メチル－５－アミノ－テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
　（Ｄ）成分を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５～５．０質量部が好ましく、０．１～２．０質量部がより好ましく、０．２～１．０質量部がさらに好ましく、０．３～０．８質量部が特に好ましい。
　本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、現像残りの発生を防ぐ観点から、リン酸エステル化合物（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含むことが好ましく、該リン酸エステル化合物が光重合性不飽和結合を含むことがより好ましい。なお、本明細書において、リン酸エステル化合物は、（Ｂ）成分の光重合性化合物には含めないものとする。
　（Ｅ）成分であるリン酸エステル化合物としては、形成する保護膜の防錆性と現像性を高水準で両立する観点から、Ｐｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ－ＰＰ等、ユニケミカル株式会社製、製品名）、又はＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ－２等、日本化薬株式会社製、製品名）が好ましい。
　（Ｅ）成分を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５～５．０質量部が好ましく、０．１～２．０質量部がより好ましく、０．２～１．０質量部がさらに好ましく、０．２～０．６質量部が特に好ましい。
（高屈折率層）
　高屈折率層は、上記の感光性樹脂層よりも屈折率が高い層である。なお、感光性樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、通常、１．４０～１．４９である。
　本発明において高屈折率層３０は、感光性樹脂層と同様に主に有機物からなる。これにより、現像性が向上する。高屈折率層３０は、実質的に有機物のみからなることが好ましい。なお、「主に有機物からなる」、「実質的に有機物のみからなる」、「有機物」及び「金属酸化物を実質的に含まない」の定義は、上述した感光性樹脂層と同様である。
　高屈折率層は、波長６３３ｎｍの光における屈折率が１．５０～１．９０であることが好ましく、１．５３～１．８５であることがより好ましく、１．５５～１．７５であることがさらに好ましい。高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０であることにより、図２に示す積層体とした場合、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａと、感光性樹脂層２０の上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ）との屈折率の中間値となりやすく、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を抑制できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を抑制することが可能となる。なお、屈折率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０～２．１０であることが好ましく、１．８５～２．０５であることがより好ましく、１．９０～２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５～１．５５であることが好ましく、１．４７～１．５３であることがより好ましく、１．４８～１．５１であることがさらに好ましい。
　上記高屈折率層の膜厚は、５０～１０００ｎｍであることが好ましく、５０～５００ｎｍであることがさらに好ましく、６０～３００ｎｍであることがより好ましく、７０～２５０ｎｍであることがさらに好ましく、８０～２００ｎｍであることが特に好ましい。膜厚が、５０～１０００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
　高屈折率層を構成する高屈折率組成物は、屈折率、現像性、環境適用性、汎用性の観点から、トリアジン環を有する化合物、イソシアヌル酸骨格を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物、ビフェニル骨格を有する化合物又はナフタレン骨格を有する化合物（以下、（Ｆ）成分とも呼ぶ）を含むことが好ましい。高い屈折率を維持しつつ、現像性及び薄膜形成時の均一性に優れることから、トリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物を含むことがより好ましい。これにより、波長６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることが可能となる。
　トリアジン環を有する化合物としては、構造単位中にトリアジン環を有するポリマーが挙げられ、下記式（６）で表される構造単位を有する化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式中、Ａｒは、芳香環（炭素数は例えば６～２０）及び複素環（原子数は例えば５～２０）から選択される少なくとも１つを含む２価の基を示す。Ｘは、それぞれＮＲ１を示す。Ｒ１は、それぞれ水素原子、アルキル基（炭素数は例えば１～２０）、アルコキシ基（炭素数は例えば１～２０）、アリール基（炭素数は例えば６～２０）又はアラルキル基（炭素数は例えば７～２０）を示す。複数のＸはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
　具体的には、トリアジン環を有するハイパーブランチポリマーが好ましく、例えば、ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ　ＵＲ－１０１（日産化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　このハイパーブランチポリマーは、例えば、ｍ－フェニルジアミンのジメチルアセトアミド溶液に２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジンのジメチルアセトアミド溶液を滴下させて重合を開始し、２－アミノプロパノールをさらに滴下して反応させ、アンモニア水溶液に沈殿させることで得られる。
　得られたトリアジン環を有するハイパーブランチポリマーを、フタル酸やコハク酸等で変性することにより酸価を含有させることも可能である。
　イソシアヌル酸骨格を有する化合物の「イソシアヌル酸骨格」とは、イソシアヌル酸から３つの水素原子を除いた基を言い、イソシアヌル酸骨格を有する化合物としては、下記式（７）で表される化合物が挙げられる。
　具体的には、イソシアヌル酸トリアリルが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　式中、Ｒはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒ２ＯＨ（Ｒ２は炭素数１～６のアルキレンである）、又はアリル基を示し、アリル基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　－Ｒ２ＯＨとしては、メチロール基、ヒドロキシエチル基が好ましい。
　高屈折率層を構成する高屈折率組成物は、屈折率と現像性、パターニング性、さらには透明性の観点から、トリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物と、フルオレン骨格を有する化合物、ビフェニル骨格を有する化合物又はナフタレン骨格を有する化合物を併用することが好ましい。
　フルオレン骨格を有する化合物としては、９，９－ビス［４－２－（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、ＥＡ－２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。さらに、エポキシアクリレートでエポキシ変性されていてもよい。これらは、例えば、ＧＡ５０００、ＥＧ２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
　ビフェニル骨格を有する化合物としては、ｏ－フェニルフェノールアクリレートを有する化合物が好ましく、ビフェニル骨格を有するエポキシアクリレート化合物がより好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、Ａ－ＬＥＮ－１０（新中村化学工業株式会社製、製品名）、Ｍ―１０６（東亞合成株式会社製、製品名）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＯＰＰ－１、ＨＲＭ―３０００Ｈ（日本化薬株式会社、製品名）として商業的に入手可能である。
　ナフタレン骨格を有する化合物としては、例えば、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＢＮＰ－１（日本化薬株式会社、製品名）として商業的に入手可能である。
　高屈折率組成物における（Ｆ）成分の含有量は、高屈折率層の波長６３３ｎｍの光における屈折率を１．５～１．９の範囲に調整するため、以下の範囲が好ましい。
　フルオレン骨格を有する化合物を含む場合、高屈折率組成物中の（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～１００質量部含むことが好ましく、２０～９０質量部含むことがより好ましく、３０～９０質量部含むことがさらに好ましく、７０～９０質量部含むことが特に好ましい。
　トリアジン環を有する化合物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～１００質量部含むことが好ましく、１０～５０質量部含むことがより好ましく、１０～４０質量部含むことがさらに好ましく、１０～３０質量部含むことが特に好ましい。
　イソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、１０～９０質量部含むことが好ましく、２０～８０質量部含むことがより好ましく、３０～７０質量部含むことがさらに好ましい。
　ビフェニル骨格を有する化合物又はナフタレン骨格を有する化合物を含む場合、（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対し、５～７０質量部含むことが好ましく、５～６５質量部含むことがより好ましく、５～６０質量部含むことがさらに好ましい。
　なお、上記の「感光性樹脂組成物」及び「高屈折率組成物」とは溶媒を含まない状態の組成物をいい、各成分の含有割合は、溶媒以外の成分全量に対する含有割合である。
　また、上記の高屈折率組成物は、実質的に上述した（Ｆ）成分の少なくとも１つのみからなってもよい。即ち、本発明における高屈折率層は、実質的に（Ｆ）成分のみからなっていてもよい。
　ここで「実質的」とは、組成物又は層を構成する成分の９５質量％以上１００質量％以下（好ましくは９８質量％以上１００質量％以下）が上記成分であることを意味する。
　高屈折率層を構成する高屈折率組成物は、必要に応じて感光性樹脂層で説明した（Ａ）成分～（Ｅ）成分のいずれか１成分以上を含んでもよい。
　本発明の感光性樹脂層及び高屈折率層を形成する組成物には、それぞれ、必要に応じて公知の添加剤を使用してもよい。添加剤としては、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン等のオルガノシロキサン、２，２’－メチレン－ビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）等の重合禁止剤などが挙げられる。
　本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムでは、上述したとおり、感光性樹脂層及び高屈折率層は主に有機物からなるが、特に、感光性樹脂層及び高屈折率層が金属酸化物を実質的に含有しないことが好ましい。金属酸化物を実質的に含有しないとは、感光性樹脂層及び高屈折率層の合計質量に対して、金属酸化物の含有率が０～１質量％であることを意味する。金属酸化物の含有率は０～０．５質量％であることが好ましく、０～０．０１質量％であることがより好ましく、０～０．００１質量％であることがさらに好ましく、０質量％であることが特に好ましい。金属酸化物の含有率を０質量％とするには、感光性樹脂層及び高屈折率層を形成する組成物の原料に金属酸化物を使用しなければよい。
　なお、金属酸化物の含有率は、原子吸光光度計（日立ハイテクノロジー株式会社製、製品名「Ｚ－５０１０」）で測定することができる。
　金属酸化物としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化ケイ素、ガラス等が挙げられる。
　本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムにおいて、感光性樹脂層と高屈折率層の積層体の、４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値は９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である４００～７００ｎｍにおける透過率の最小値が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。可視光透過率の最大値は、通常１００％以下である。なお、可視光透過率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
　転写形感光性屈折率調整フィルムの感光性樹脂層２０及び高屈折率層３０は、例えば、感光性樹脂組成物、及び高屈折率組成物を含む塗布液を調製し、これを各々支持フィルム１０、保護フィルム４０上に塗布、乾燥し、貼り合わせることにより形成できる。また、支持フィルム１０上に感光性樹脂組成物を含む塗布液を塗布、乾燥し、その後、感光性樹脂層２０上に、高屈折率組成物を含む塗布液を塗布、乾燥し、保護フィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。
　塗布液は、上述した感光性樹脂組成物、高屈折率組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
　塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
　塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
　乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０～１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５～３０分間とすることが好ましい。
　感光性樹脂層と高屈折率層の合計（以下、感光性屈折率調整層ともいう）の厚みは、ラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、基材の突起物によりピンホールが発生することを抑制する観点から、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがさらに好ましい。３μｍ以上であれば、基材の突起物による影響を極力抑え防錆性を保つことが容易となる。
　感光性屈折率調整層の粘度は、転写形感光性屈折率調整フィルムをロール状に保管した場合に、転写形感光性屈折率調整フィルムの端面から樹脂組成物がしみ出すことを抑制する観点及び転写形感光性屈折率調整フィルムを切断する際に感光性屈折率調整層が硬くなり過ぎた結果、破片化し基材に付着することを抑制する観点から、３０℃において、１５～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２０～９０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、２５～８０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
（保護フィルム）
　保護フィルム４０としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン－酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
　保護フィルム４０の厚さは、５～１００μｍが好ましいが、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
　次に、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いた透明電極の保護機能と、電極パターンの骨見え現象の抑制又はタッチ画面の視認性向上機能の両機能を満たす硬化膜を形成する方法について説明する。
　まず、転写形感光性屈折率調整フィルム１の保護フィルム４０を除去した後、転写形感光性屈折率調整フィルムを基材５０（透明導電パターン付き基材）の表面に高屈折率層３０が密着するように高屈折率層及び感光性樹脂層をラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
　加熱圧着する場合の加熱温度は、高屈折率層３０と基材５０との密着性と、感光性樹脂層や高屈折率層の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、１０～１６０℃とすることが好ましく、２０～１５０℃とすることがより好ましく、３０～１５０℃とすることがさらに好ましい。
　また、加熱圧着時の圧着圧力は、高屈折率層３０と基材５０との密着性を充分確保しながら、基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０～１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２～５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２～４×１０４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。
　転写形感光性屈折率調整フィルムを上記のように加熱圧着すれば、ラミネート前の基材の予熱処理は必ずしも必要ではないが、高屈折率層３０と基材５０との密着性をさらに向上させる点から、基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０～１５０℃とすることが好ましい。
　基材としては、タッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基材などが挙げられる。この基材上には、硬化膜を形成する対象となる電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極が挙げられる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
　次に、転写後の感光性屈折率調整層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、感光性屈折率調整層上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。
　活性光線の照射量は、１×１０２～１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば感光性屈折率調整層が変色することを抑制できる傾向がある。
　続いて、活性光線照射後の感光性樹脂層及び高屈折率層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する屈折率調整パターンを形成する。なお、活性光線の照射後、感光性屈折率調整層に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
　現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度や時間は従来公知の範囲で調整することができる。
　本実施形態に係る電子部品は、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した屈折率調整パターンを備えている。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
　図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が基材１０１上に設けられている。
　透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
　透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
　図３に示すように、屈折率調整パターン１２３を形成することによって、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜の機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面１０２）の屈折率調整機能を同時に奏する。
実施例
　以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
　［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
　撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［重量平均分子量の測定方法］
　重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ－６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ－３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
［酸価の測定方法］
　バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
　　酸価＝１０×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ）
　式中、ＶｆはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
［水酸基価の測定方法］
　バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名「ＣＯＭ－１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
　　水酸基価＝（Ａ－Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
　式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
（実施例１～１９、比較例１～７）
［感光性樹脂層を形成する塗布液の作製］
　表２～４の「感光性樹脂層」に示す組成物を、撹拌器を用いて１５分間混合し感光性樹脂層を形成するための塗布液を作製した。
　表２～４中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ａ）成分
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６０℃
（Ｂ）成分
Ｔ－１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
（Ｃ）成分
ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１：１，２－オクタンジオン，１－［（４－フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）
（Ｄ）成分
ＨＡＴ：５－アミノ－１Ｈ－テトラゾール（東洋紡績株式会社製、製品名）
（Ｅ）成分
ＰＭ－２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル化合物（日本化薬株式会社製、製品名）
・その他の成分
Ａｎｔａｇｅ　Ｗ－５００：２，２’－メチレン－ビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、製品名）
ＳＨ－３０：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング
株式会社製、製品名）
メチルエチルケトン（東燃化学株式会社製）
［高屈折率層を形成する塗布液の作製］
　表２～４の「高屈折率層」に示す成分を、撹拌機を用いて１５分間混合し高屈折率層を形成するための塗布液を作製した。
　表２～４中の成分の記号は以下の意味を示す。
（Ｄ）成分
３ＭＴ：３－メルカプト－トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名）
（Ｅ）成分
Ｐｈｏｓｍｅｒ－Ｍ：りん酸２－(メタクリロイルオキシ)エチル（ユニケミカル株式会社製、製品名）
（Ｆ）成分
ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ：トリアジン骨格を有するポリマー（日産化学工業株式会社製、商標名）
ＥＡ－２００：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ－Ｆ５５０３：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート／ベンジルアクリレート／９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン骨格化合物の混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ－ＨＣ９３１：ポリオキシエチレン変性９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート他混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＯＰＰ－１：下記式で表されるジフェニル骨格を有するモノマー（日本化薬株式会社製、製品名「ＯＰＰ－１」）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 ＢＮＰ－１：下記式で表されるナフタレン骨格を有するモノマー（日本化薬株式会社製、製品名「ＢＮＰ－１」）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 ＨＲＭ－３０００Ｈ：ビフェニル骨格を有するエポキシアクリレート化合物（日本化薬株式会社、製品名）
ＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名「ナノユースＯＺ－Ｓ４０Ｋ－ＡＣ」）
・その他の成分
Ｌ－７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
［転写形感光性屈折率調整フィルムの作製］
　保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名「Ｅ－２０１Ｆ」）を使用し、上記で作製した高屈折率層を形成するための塗布液を保護フィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。
　支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名「ＦＢ４０」）を使用し、上記で作製した感光性樹脂層を形成する塗布液を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、８μｍ厚の感光性樹脂層を形成した。
　上記で作製した高屈折率層を有する保護フィルムと、上記で作製した感光性樹脂層を有する支持フィルムをラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、高屈折率層と感光性樹脂層が密着するように２３℃で貼り合わせて転写形感光性屈折率調整フィルムを作製した。
　転写形感光性屈折率調整フィルム又は各構成層について、下記の項目を評価した。結果を表２～４に示す。
［高屈折率層の屈折率の測定］
　高屈折率層を形成するための塗布液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。
　次いで、上記で得られた高屈折率層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射した後、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番「ＮＶ５０－ＣＡ」）内に３０分間静置し、高屈折率層を有する屈折率測定用試料を得た。なお、高屈折率層に（Ｃ）成分が含まれていない実施例及び比較例では露光工程を省略した。
　次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ－ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖ　ＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
　なお、転写形感光性屈折率調整フィルムの形態における屈折率層単層の屈折率は、高屈折率層の支持フィルム側の最表面層の値とする。
［高屈折率層と感光性樹脂層の膜厚測定］
　高屈折率層を有する保護フィルムと、感光性樹脂層を有する支持フィルムを貼り合わせる前の試料で測定した。上記で作製した高屈折率層を有する保護フィルムの高屈折率層をＦ２０（ＦＩＬＭＥＴＲＩＣＳ株式会社製、製品名）で測定することにより高屈折率層の膜厚を測定した。また、上記で作製した感光性樹脂層を有する支持フィルムを、デジタルシックネスゲージ（ニコン株式会社製、製品名「ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤ　ＭＳ－５Ｃ」）で測定することにより感光性樹脂層の膜厚を測定した。
［硬化膜の透過率（％）、ヘーズの測定］
　上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番「ＮＶ５０－ＣＡ」）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得た。
　次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名「ＮＤＨ　７０００」）を使用して、波長域４００～７００ｎｍで可視光線透過率、ヘーズを測定した。
　なお、参考としてガラス基材単体の測定値を表４に示す。
［現像残渣試験］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、易接着層付ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、製品名「Ａ４３００　」、１２５μｍ厚）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１２５μｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、この時の線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、Ａ４３００上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　上記で得られた積層体を作製後、温度２３℃、湿度６０％の条件で３０分間保管した後、感光性樹脂層上に積層されている支持フィルムを除去し、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、高屈折率層、感光性樹脂層を除去した。得られた基材表面状態を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って現像残渣を評価した。
Ａ　：　現像残渣が発生しない。
Ｂ　：　現像残渣がわずかに発生するが、その後の工程への影響はない。
Ｃ　：　現像残渣が発生する。
Ｄ　：　現像残渣が多く発生する。
［色相（反射Ｒ）の測定］
　得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、透明導電性フィルム（東洋紡株式会社製、製品名「３００Ｒ」）上に、高屈折率層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名「ＨＬＭ－３０００型」）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基材を用いたため、このときの線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、透明導電性フィルム上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
　次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、製品名「ＥＸＭ１２０１」）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィ
ムを除去し、硬化膜を有する色相（反射Ｒ）測定用試料を得た。
　次いで、得られた色相（反射Ｒ）測定用試料を分光測色計（コニカミノルタ株式会社製、製品名「ＣＭ－５」）を使用してＹ値（これを反射率Ｒとする）を測定し、下記式を用いて規格化を実施した。
　Ｒ規格化＝反射率実測値／感光性樹脂層のみ積層した測定試料（比較例７）の反射率実測値×１００
　なお、参考として透明導電性フィルム単体の測定値を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　なお、表２～４に記載の成分の組成は質量部である。
　表２～４に示すように、実施例では反射Ｒ規格化の値が９０％以下となり、反射率を充分に低減している。また、現像残渣がなく現像性が充分であった。なお、比較例７は感光性樹脂層のみを設けた場合の結果である。
　上記に本発明の実施形態及び／又は実施例を幾つか詳細に説明したが、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施形態及び／又は実施例に多くの変更を加えることが容易である。従って、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。
　この明細書に記載の文献の内容を全てここに援用する。
符号の説明
１…転写形感光性屈折率調整フィルム、１０…支持フィルム、２０…感光性樹脂層、３０…高屈折率層、４０…保護フィルム、５０…透明電極パターン付き基材、５０ａ…透明電極パターン、１００…積層体、１０１…透明基材、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…屈折率調整パターン。

Claims (18)

  1. 　支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、
    　前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が主に有機物からなる転写形感光性屈折率調整フィルム。
  2. 　前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が実質的に有機物のみからなる請求項１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  3. 　前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が金属酸化物を実質的に含まない請求項１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  4. 　前記高屈折率層がトリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む請求項１～３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  5. 　前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含む請求項１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  6. 　前記高屈折率層がビフェニル骨格を有する化合物を含む請求項１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  7. 　前記高屈折率層がナフタレン骨格を有する化合物を含む請求項１～４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  8. 　前記高屈折率層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０～１．９０である請求項１～７のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  9. 　前記高屈折率層の膜厚が５０～１０００ｎｍである請求項１～８のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  10. 　前記感光性樹脂層がバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む請求項１～９のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  11. 　前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物を含む請求項１０に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  12. 　前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する請求項１０又は１１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  13. 　前記バインダーポリマーが（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、及び（メタ）アクリル酸－２－エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーである請求項１０～１２のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  14. 　前記感光性樹脂層がリン酸エステル化合物を含む請求項１０～１３のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  15. 　前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層の、波長４００～７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が９０．００％以上である請求項１～１４のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  16. 　前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である請求項１～１５のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
  17. 　請求項１～１６のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
    　前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、を備える屈折率調整パターンの形成方法。
  18. 　請求項１７に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
PCT/JP2015/000824 2015-02-20 2015-02-20 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 Ceased WO2016132401A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2015/000824 WO2016132401A1 (ja) 2015-02-20 2015-02-20 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
CN201580078953.2A CN107850846A (zh) 2015-02-20 2015-02-20 转印型感光性折射率调整膜、折射率调整图案的形成方法及电子部件
US15/552,020 US20180074405A1 (en) 2015-02-20 2015-02-20 Transfer-type photosensitive refractive index adjustment film, method for forming refractive index adjustment pattern, and electronic component
JP2017500476A JPWO2016132401A1 (ja) 2015-02-20 2015-02-20 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
KR1020177023298A KR20170117433A (ko) 2015-02-20 2015-02-20 전사형 감광성 굴절률 조정 필름, 굴절률 조정 패턴의 형성 방법 및 전자 부품

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2015/000824 WO2016132401A1 (ja) 2015-02-20 2015-02-20 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016132401A1 true WO2016132401A1 (ja) 2016-08-25

Family

ID=56692160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/000824 Ceased WO2016132401A1 (ja) 2015-02-20 2015-02-20 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20180074405A1 (ja)
JP (1) JPWO2016132401A1 (ja)
KR (1) KR20170117433A (ja)
CN (1) CN107850846A (ja)
WO (1) WO2016132401A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019146380A1 (ja) * 2018-01-24 2019-08-01 富士フイルム株式会社 感光性転写材料及びその製造方法、樹脂パターンの製造方法、並びに、回路配線の製造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111279804B (zh) * 2017-12-20 2023-10-24 住友电气工业株式会社 制造印刷电路板和层压结构的方法
JP6796116B2 (ja) * 2018-08-28 2020-12-02 双葉電子工業株式会社 センサフィルム、タッチセンサ及び該センサの製造方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012073990A1 (ja) * 2010-11-30 2012-06-07 日東電工株式会社 表示パネル装置のための静電容量型タッチセンサ積層体
JP2013095796A (ja) * 2011-10-28 2013-05-20 Dnp Fine Chemicals Co Ltd エネルギー線硬化性樹脂組成物
WO2013084883A1 (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに、タッチパネルの製造方法
JP2013140229A (ja) * 2011-12-28 2013-07-18 Jsr Corp タッチパネル、タッチパネルの製造方法、感放射線性組成物およびタッチパネル用硬化膜
JP2013213864A (ja) * 2012-03-30 2013-10-17 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂組成物、それを用いたタッチパネルセンサ用透明膜およびタッチパネル
WO2013168788A1 (ja) * 2012-05-11 2013-11-14 日産化学工業株式会社 膜形成用組成物
WO2013175958A1 (ja) * 2012-05-21 2013-11-28 東レ株式会社 基板及びそれを用いたタッチパネル部材
JP2013238837A (ja) * 2011-11-21 2013-11-28 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性ドライフィルム、ならびにそれを用いた保護膜およびタッチパネル用絶縁膜
WO2014041880A1 (ja) * 2012-09-11 2014-03-20 富士フイルム株式会社 転写材料、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置
WO2014084112A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 富士フイルム株式会社 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置
JP2014152197A (ja) * 2013-02-05 2014-08-25 Dnp Fine Chemicals Co Ltd エネルギー線硬化性樹脂組成物

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012073990A1 (ja) * 2010-11-30 2012-06-07 日東電工株式会社 表示パネル装置のための静電容量型タッチセンサ積層体
JP2013095796A (ja) * 2011-10-28 2013-05-20 Dnp Fine Chemicals Co Ltd エネルギー線硬化性樹脂組成物
JP2013238837A (ja) * 2011-11-21 2013-11-28 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性ドライフィルム、ならびにそれを用いた保護膜およびタッチパネル用絶縁膜
WO2013084883A1 (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに、タッチパネルの製造方法
JP2013140229A (ja) * 2011-12-28 2013-07-18 Jsr Corp タッチパネル、タッチパネルの製造方法、感放射線性組成物およびタッチパネル用硬化膜
JP2013213864A (ja) * 2012-03-30 2013-10-17 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂組成物、それを用いたタッチパネルセンサ用透明膜およびタッチパネル
WO2013168788A1 (ja) * 2012-05-11 2013-11-14 日産化学工業株式会社 膜形成用組成物
WO2013175958A1 (ja) * 2012-05-21 2013-11-28 東レ株式会社 基板及びそれを用いたタッチパネル部材
WO2014041880A1 (ja) * 2012-09-11 2014-03-20 富士フイルム株式会社 転写材料、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置
WO2014084112A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 富士フイルム株式会社 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置
JP2014152197A (ja) * 2013-02-05 2014-08-25 Dnp Fine Chemicals Co Ltd エネルギー線硬化性樹脂組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019146380A1 (ja) * 2018-01-24 2019-08-01 富士フイルム株式会社 感光性転写材料及びその製造方法、樹脂パターンの製造方法、並びに、回路配線の製造方法
JPWO2019146380A1 (ja) * 2018-01-24 2020-11-19 富士フイルム株式会社 感光性転写材料及びその製造方法、樹脂パターンの製造方法、並びに、回路配線の製造方法
JP7074776B2 (ja) 2018-01-24 2022-05-24 富士フイルム株式会社 感光性転写材料及びその製造方法、樹脂パターンの製造方法、並びに、回路配線の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2016132401A1 (ja) 2017-11-30
US20180074405A1 (en) 2018-03-15
KR20170117433A (ko) 2017-10-23
CN107850846A (zh) 2018-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6589953B2 (ja) 感光性エレメント
WO2016181422A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
WO2016001955A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2017116774A (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
WO2016132401A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
JP2019175226A (ja) タッチセンサの保護膜形成用感光性フィルム、タッチセンサの保護膜形成用感光性屈折率調整フィルム、タッチセンサの保護膜の形成方法及びタッチパネル
JP2018165788A (ja) 転写型感光性フィルム、硬化樹脂パターンの形成方法及びタッチパネル
JP2017181541A (ja) 感光性フィルム、感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
JP2017201352A (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品
JPWO2017056131A1 (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルム
JP2019035801A (ja) 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
JP2019095465A (ja) 感光性屈折率調整フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品
JP2018045126A (ja) 真空ラミネート用感光性フィルム、転写型感光性屈折率調整フィルム、及び硬化樹脂パターンの形成方法
JP2019219631A (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
JP7614139B2 (ja) 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及びタッチパネル
JP2019174604A (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
JP2019215395A (ja) 転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、積層体及びタッチパネル
WO2019224887A1 (ja) 転写型感光性フィルム、樹脂硬化膜付き電極基板及びタッチパネル
WO2019186802A1 (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
JP2017009854A (ja) 転写形感光性屈折率調整フィルムとその製造方法、及びそれを用いた屈折率調整パターンの形成方法、電子部品
JP2017111245A (ja) 硬化膜付きタッチパネル用基材の製造方法、硬化膜形成剤、感光性エレメント及びタッチパネル
WO2019186781A1 (ja) 転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品
WO2018179102A1 (ja) 転写型感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法、硬化膜及びタッチパネル
JP2019207377A (ja) 感光性屈折率調整フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15882507

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017500476

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20177023298

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15552020

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15882507

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1