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WO2013031547A1 - ガラス板、およびガラス板の製造方法 - Google Patents

ガラス板、およびガラス板の製造方法 Download PDF

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WO2013031547A1
WO2013031547A1 PCT/JP2012/070825 JP2012070825W WO2013031547A1 WO 2013031547 A1 WO2013031547 A1 WO 2013031547A1 JP 2012070825 W JP2012070825 W JP 2012070825W WO 2013031547 A1 WO2013031547 A1 WO 2013031547A1
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WO
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glass plate
glass
plate
main planes
producing
Prior art date
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PCT/JP2012/070825
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English (en)
French (fr)
Inventor
出 鹿島
裕介 小林
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • G—PHYSICS
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    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24488—Differential nonuniformity at margin

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate and a method for producing the glass plate.
  • the glass plate is used, for example, as a glass substrate on which a functional layer such as a thin film transistor (TFT) or a color filter (CF) is formed, or as a cover glass that enhances the aesthetics and protection of the display.
  • TFT thin film transistor
  • CF color filter
  • a chemical strengthening method has been developed as a method for strengthening a glass plate.
  • a chemical strengthening layer (compressive stress layer) is formed on the surface of a glass plate at a predetermined depth from the surface using a treatment liquid for ion exchange.
  • a tensile stress layer is formed inside the chemically strengthened glass plate for stress balance.
  • Patent Document 1 proposes a glass substrate having a protruding valley portion depth Rvk on a chamfered surface of 0.95 ⁇ m or less.
  • Latent scratches are fine scratches that are difficult to visually recognize and cause a reduction in bending strength. Since the latent scratch can be formed inside the glass plate, it cannot be accurately evaluated by the above Rv and Rvk.
  • This invention is made
  • a glass plate according to an embodiment of the present invention is: In a glass plate having two main planes and a side surface adjacent to the two main planes, the side surface having a chamfered portion at least at one end in the plate thickness direction, When the predetermined part of the side surface is etched 10 ⁇ m deep, there is no pit having a depth of 1 ⁇ m or more on the etched surface, The predetermined portion is a portion of the side surface whose distance in the plate thickness direction from the main plane adjacent to the chamfered portion is within 1/5 of the plate thickness.
  • the manufacturing method of the glass plate by other embodiment of this invention In a method for producing a glass plate having two main planes and a side surface adjacent to the two main planes, the side surface having a chamfered portion at least at one end in the plate thickness direction, A laminating process for producing a laminate by interposing a plate-like spacer between the glass plates; Polishing the outer edge of the laminate with a brush to form the chamfer, The spacer is disposed on the inner side of the outer edge of the glass plate when viewed in the stacking direction, forms a gap between the glass plates, and the width of the gap is not less than 1.25 times the maximum diameter of the brush hair. .
  • the manufacturing method of the glass plate by further another embodiment of this invention In a method for producing a glass plate having two main planes and a side surface adjacent to the two main planes, the side surface having a chamfered portion at least at one end in the plate thickness direction, A step of forming the chamfered portion with a sheet containing abrasive grains having a grain size of # 6000 or more.
  • a glass plate having a chamfered portion and excellent bending strength, and a method for producing the glass plate are provided.
  • Explanatory drawing (3) of the manufacturing method of the glass plate by the 3rd Embodiment of this invention Explanatory drawing (1) of the manufacturing method of the glass plate by the 4th Embodiment of this invention.
  • Explanatory drawing (2) of the manufacturing method of the glass plate by the 4th Embodiment of this invention is
  • the present embodiment relates to a glass plate having a chamfered portion.
  • the glass plate manufacturing method will be described in the second to fourth embodiments.
  • FIG. 1 is a side view of a glass plate according to a first embodiment of the present invention.
  • the X direction represents the thickness direction of a glass plate.
  • the glass plate 10 is a glass substrate or cover glass for an image display device.
  • the image display device includes a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an organic EL display, and the like, and includes a touch panel.
  • LCD liquid crystal display
  • PDP plasma display
  • organic EL display organic EL display
  • the glass type of the glass plate 10 is set according to the application.
  • aluminoborosilicate glass or alkali aluminosilicate glass can be used in the case of a glass substrate.
  • soda lime glass or alkali aluminosilicate glass can be used.
  • the glass plate 10 of this embodiment is an object for image display apparatuses, for example, it may be an object for solar cells and a thin film secondary battery, and the use is not particularly limited.
  • the thickness E of the glass plate 10 is set according to the application.
  • the plate thickness E of the glass plate 10 is 0.2 to 3 mm.
  • the thickness E of the glass plate 10 is 0.5 to 3 mm, but is not limited to the above thickness.
  • the glass plate 10 is formed by a float method, a fusion down draw method, a redraw method, a press method, or the like, and the forming method is not particularly limited.
  • the glass plate 10 has two main planes 11 and 12 and side surfaces 13 adjacent to the two main planes 11 and 12.
  • the two main planes 11 and 12 are flat surfaces parallel to each other.
  • the main planes 11 and 12 are formed in a rectangular shape, for example.
  • the “rectangular shape” means a square shape or a rectangular shape, and includes a shape in which a corner portion is rounded.
  • polygonal shape such as a triangular shape, may be sufficient, and circular shape, elliptical shape, etc. may be sufficient.
  • the side surface 13 includes a flat portion 14 perpendicular to the two main planes 11 and 12 and chamfered portions 15 and 16 formed between the main planes 11 and 12 and the flat portion 14.
  • the chamfered portion 15 is adjacent to the main plane 11 and the flat portion 14.
  • the chamfered portion 16 is adjacent to the main plane 12 and the flat portion 14.
  • the flat portion 14 may be a cut surface obtained by cutting a plate glass having a larger area than the glass plate 10 or may be a processed surface obtained by processing the cut surface.
  • chamfered portions 15 and 16 may be provided corresponding to four sides of the rectangular main planes 11 and 12, or only one, and the number of chamfered portions 15 and 16 is not particularly limited.
  • the chamfered portions 15 and 16 are formed by removing the corners of the cut surface and the main plane.
  • the chamfered portions 15 and 16 are, for example, flat surfaces or curved surfaces having an angle of more than 0 ° and less than 90 ° with respect to the main planes 11 and 12.
  • the chamfered portions 15 and 16 typically have the same dimensional shape, but may have different dimensional shapes.
  • the chamfered portions 15 and 16 of the present embodiment shown in FIG. 1 are flat surfaces that are inclined with respect to the main planes 11 and 12, but from the main planes 11 and 12 in the plate thickness direction view (X direction view). It may be a surface that gradually protrudes outward toward the flat portion 14 and may be a curved surface (curved surface).
  • the chamfered portions 15 and 16 are curved surfaces (curved surfaces)
  • the chamfered portions 15 and 16 may be connected to each other without the flat portion 14, and the chamfered portions 15 and 16 may have substantially the same radius of curvature. .
  • the glass plate 10 may have chemical strengthening layers (compressive stress layers) 21 and 22 formed at a predetermined depth from the main planes 11 and 12 on both main planes 11 and 12.
  • the compressive stress layer is formed by immersing glass in a treatment liquid for ion exchange.
  • a small ion radius ion (for example, Li ion, Na ion) contained in the glass surface is replaced with a large ion radius ion (for example, K ion), and the compression stress layer 21 at a predetermined depth from the surface on the glass surface, 22 is formed.
  • a tensile stress layer 23 is formed inside the glass.
  • the glass plate 10 having the compressive stress layers 21 and 22 is obtained by, for example, chemically strengthening a plate glass having a larger area than the glass plate 10 and then cutting and taking a plurality of sheets.
  • the outer peripheral edge of at least one of the main planes can be chamfered.
  • the cutting method of the chemically strengthened plate glass may be a common one, and for example, a scribe / break method, a laser cutting method, or the like is used.
  • the scribing / breaking method is a method in which a scribing cutter is pressed against the surface of the plate glass and moved to form a scribe line (groove line), and then the plate glass is bent and folded.
  • the laser cutting method is a method of irradiating the surface of a plate glass with laser light, moving the irradiation position on the plate glass, and cleaving the plate glass with thermal stress.
  • a heat source for applying thermal stress to the plate glass a discharge electrode may be used instead of the laser light source. When a heat source is used, a cut surface with almost no latent scratch is obtained.
  • residual region 24 of tensile stress may exist in the flat portion 14 and the chamfered portions 15 and 16 as shown in FIG. 1, or may exist only in the flat portion 14.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing the distribution in the thickness direction of the residual stress of a chemically strengthened glass plate.
  • the residual compressive stress of the compressive stress layers 21 and 22 tends to gradually decrease from both main planes 11 and 12 toward the center in the thickness direction.
  • the residual tensile stress of the tensile stress layer 23 is substantially constant.
  • S1 and S2 are residual compressive stresses (hereinafter referred to as “surface compressive stress”) on the main planes 11 and 12
  • D1 and D2 are thicknesses of the compressive stress layers 21 and 22
  • E is a plate of the glass plate 10.
  • Thickness and T represent the average value of residual tensile stress of the tensile stress layer 23 (hereinafter referred to as “average tensile stress”).
  • T (S1 ⁇ D1 / 2 + S2 ⁇ D2 / 2) / (E ⁇ D1 ⁇ D2) (1) E is measured with a micro gauge or the like, and the relationship E> D1 + D2 is established.
  • the two compressive stress layers 21 and 22 of the present embodiment have the same surface compressive stress and the same thickness, but may have different surface compressive stresses and different thicknesses.
  • the surface compressive stresses S1 and S2 are appropriately set according to the use of the glass plate 10, and at least one of them is, for example, 500 MPa or more in order to obtain good strength and scratch resistance.
  • Each of the surface compressive stresses S1 and S2 may be 900 MPa or less from the viewpoint of the processing efficiency of chemical strengthening.
  • the surface compressive stresses S1 and S2 are each preferably 550 to 850 MPa, more preferably 600 to 800 MPa.
  • the thicknesses D1 and D2 are appropriately set according to the use of the glass plate 10, and at least one of them is, for example, 10 ⁇ m or more.
  • the thicknesses D1 and D2 may each be 60 ⁇ m or less from the viewpoint of the processing efficiency of chemical strengthening.
  • the thicknesses D1 and D2 are each preferably 15 to 50 ⁇ m, more preferably 20 to 40 ⁇ m.
  • FIG. 3 is a schematic view showing a state after etching a glass plate according to an embodiment of the present invention.
  • the state after the etching of the glass plate 10 is indicated by a solid line
  • the state before the etching of the glass plate 10 is indicated by a two-dot chain line.
  • FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG. 3 and shows the relationship between the etching surface 17, the pits 18 formed on the etching surface 17, and the ideal surface 19 of the etching surface 17.
  • the etching surface 17 has a depth of 1 ⁇ m or more (preferably a depth of 0.8 ⁇ m or more, more preferably a depth of 0.6 ⁇ m or more).
  • the predetermined portions 13a and 13b have a distance H in the plate thickness direction from the main planes 11 and 12 adjacent to the chamfered portions 15 and 16 of the side surface 13 within 1/5 of the plate thickness E (H ⁇ 1/5 ⁇ E). ) Part.
  • “Etching” is performed at room temperature (25 ° C.) by immersing the entire glass plate 10 in an etching solution.
  • an etchant an aqueous solution containing 5% by mass hydrofluoric acid (HF) and 95% by mass pure water is used.
  • HF hydrofluoric acid
  • the etching solution penetrates into the latent scratch formed on the surface or inside of the glass plate 10 and spreads the latent scratch to clarify it.
  • Etching amount is controlled by immersion time. Specifically, after performing etching for a predetermined time using glass having the same composition in advance to calculate an etching rate, etching is performed by adjusting the immersion time so that a desired etching amount is obtained. Depending on the type of glass, the hydrofluoric acid concentration may be changed to adjust the etching rate.
  • the depth P of the pit 18 is obtained based on the measurement method of the protruding valley depth Rvk defined in JIS B0671-2: 2002.
  • the target for examining the presence or absence of the pits 18 having a depth of 1 ⁇ m or more is limited to the portions 13a and 13b of the side surface 13 when the minute scratches are present in the portions 13a and 13b. This is because the glass plate 10 may be damaged.
  • the bending strength of the glass plate 10 can be improved.
  • the glass plate 10 is chemically strengthened, the bending strength is further improved.
  • the glass plate 10 When the glass plate 10 is obtained by cutting after chemical strengthening, a residual region 24 of tensile stress is exposed on the side surface 13 of the glass plate 10. Although the tensile stress causes a decrease in bending strength, in the present embodiment, since there is no deep latent flaw that becomes a starting point of breakage in the portions 13a and 13b, a decrease in bending strength is suppressed. This effect is remarkable when the residual region 24 of the tensile stress and the portions 13a and 13b of the side surface 13 partially overlap. In this case, the glass plate 10 having a bending strength of 300 MPa or more is obtained.
  • the glass plate 10 of this embodiment is obtained by chemically strengthening a plate glass, then cutting and subsequently chamfering
  • the present invention is not limited to this.
  • it may be produced by cutting an unstrengthened plate glass, chamfering, and then chemically strengthening.
  • the entire glass plate is covered with the chemically strengthened layer, a glass plate with high bending strength can be obtained.
  • the glass plate does not need to have a chemical strengthening layer.
  • the present embodiment relates to a method for manufacturing a glass plate having a chamfered portion.
  • FIG. 5 to FIG. 7 are explanatory diagrams of a glass plate manufacturing method according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 shows a laminated body 130 including a glass plate 110 that is a base plate (original), and a brush 140 that polishes an outer edge portion of the laminated body 130.
  • FIG. 6 shows an enlarged view of the state in which the outer edge portion of the laminated body 130 is polished with the brush 140.
  • FIG. 7 shows the glass plate 110A after brush polishing by a solid line, and shows the glass plate 110 before brush polishing by a two-dot chain line.
  • the manufacturing method of a glass plate has a lamination process which produces the laminated body 130 by interposing the spacer 120 between glass plates 110, and a grinding
  • FIG. The glass plate manufacturing method further includes a separation step of separating the glass plate 110 ⁇ / b> A obtained by polishing the glass plate 110 with the brush 140 and the spacer 120.
  • the laminated body 130 includes a plurality of glass plates 110 and a plate-like spacer 120 interposed between the glass plates 110.
  • the glass plates 110 and the spacers 120 are alternately stacked and then fixed by being sandwiched by a jig such as a clamp.
  • a protective sheet for preventing damage to the glass plate 110 may be disposed between the glass plate 110 and the spacer 120.
  • the protective sheet is made of resin or the like.
  • the fixing method is not specifically limited.
  • the fixing method may be a method of bonding the glass plate 110 and the spacer 120.
  • the adhesive one that can be removed in the separation step after the polishing step is used, and for example, a heat-softening resin is used.
  • the spacer 120 itself may be used as the adhesive layer.
  • Each glass plate 110 may be cut into a plurality of pieces, for example, after chemically strengthening a plate glass having a larger area than the glass plate 110.
  • Each glass plate 110 has two main planes 111 and 112 and side surfaces 113 adjacent to the two main planes 111 and 112, as shown in FIG.
  • the two main planes 111 and 112 are flat surfaces parallel to each other.
  • the side surface 113 is a cut surface and is a flat surface perpendicular to the main planes 111 and 112.
  • Each glass plate 110 has a compressive stress layer formed at a predetermined depth from each main plane 111, 112 on both main planes 111, 112, similarly to the glass plate 10 shown in FIG.
  • a tensile stress layer is formed between the compressive stress layers for balance of stress.
  • each glass plate 110 has the area
  • each glass plate 110 has substantially the same size and shape, and is laminated so that the outer edges overlap each other when viewed in the lamination direction (in the direction of arrow X in the figure). Therefore, the outer edge portion of each glass plate 110 is evenly polished.
  • Each spacer 120 is made of a material softer than a glass plate, and is made of, for example, polypropylene resin or urethane foam resin.
  • Each spacer 120 has substantially the same size and shape. Each spacer 120 is disposed on the inner side of the outer edge of the glass plate 110 when viewed in the stacking direction (viewed in the direction of arrow X in the figure), and forms a groove-like gap 160 between the glass plates 110.
  • the brush 140 is a roll brush as shown in FIG. 5, and includes a rotating shaft 141 parallel to the stacking direction of the stacked body 130, brush hair 142 held substantially perpendicular to the rotating shaft 141, and the like.
  • the brush 140 is relatively moved along the outer edge of the laminated body 130 while being rotated around the rotation shaft 141, and discharges slurry containing an abrasive toward the outer edge of the laminated body 130. Brush the outer edge.
  • the particle size (D50) of the abrasive is, for example, 5 ⁇ m or less, preferably 2 ⁇ m or less.
  • the brush 140 is a channel brush, and is formed by winding a long member (channel) in which a plurality of brush bristles 142 are implanted in a spiral shape around a rotation shaft 141.
  • the brush bristles 142 are mainly composed of a resin such as polyamide, and may include an abrasive such as alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), or diamond.
  • the brush hair 142 may be formed in a linear shape and have a tapered tip portion.
  • the width W1 of the gap 160 is 1.25 times or more the maximum diameter A of the bristle 142 (W1 ⁇ 1.25 ⁇ A). Therefore, as shown in FIG. 6, the brush bristle 142 is smoothly inserted into the gap 160, and the corners between the main planes 111 and 112 and the side surface 113 of the glass plate 110 are chamfered to a curved surface by the brush bristle 142.
  • the width W1 of the gap 160 is preferably 1.33 ⁇ A or more, more preferably 1.5 ⁇ A or more.
  • the width W1 of the gap 160 may be smaller than the plate thickness E of the glass plate 110 in order to improve brush polishing efficiency.
  • the glass plate 110A polished by the brush 140 has two main planes 111A and 112A and side surfaces 113A adjacent to the two main planes 111A and 112A, as indicated by solid lines in FIG.
  • the two main planes 111A and 112A are flat surfaces parallel to each other.
  • the side surface 113A includes a flat portion 114A perpendicular to the main planes 111A and 112A, and chamfered portions 115A and 116A formed between the main planes 111A and 112A and the flat portion 114A.
  • the chamfered portions 115A and 116A are curved surfaces that gradually protrude outward from the main planes 111A and 112A to the flat portion 114A in the thickness direction view (X direction view).
  • the flat portion 114A is formed by polishing the side surface of the glass plate 110 shown by a two-dot chain line in FIG.
  • the chamfered portions 115 ⁇ / b> A and 116 ⁇ / b> A are formed by polishing the corner portion between the main plane and the side surface of the glass plate 110 indicated by a two-dot chain line in FIG.
  • the side surface 113A of the glass plate 110A is polished with a slurry containing an abrasive having a particle size of 5 ⁇ m or less by inserting brush bristles 142 into the gap adjusted by the spacer 120.
  • etching is performed with a thickness of 10 ⁇ m, there is no pit having a depth of 1 ⁇ m or more on the etched surface.
  • the predetermined portion is a portion of the side surface 113A whose distance in the plate thickness direction from the main planes 111A and 112A adjacent to the chamfered portions 115A and 116A is within 1/5 of the plate thickness. Therefore, the glass plate 110A excellent in bending strength similar to the first embodiment is obtained.
  • the present embodiment relates to a method for manufacturing a glass plate having a chamfered portion. This embodiment further includes a step of grinding the outer edge of the glass plate before producing the laminate.
  • FIG. 8 to 10 are explanatory views of a glass plate manufacturing method according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 shows a glass plate 110 which is a base plate (original) and a rotating grindstone 240 for grinding an outer edge portion of the glass plate 110.
  • FIG. 9 is an enlarged view showing a state in which the outer edge portion of the laminated body 130B including the glass plate 110B ground by the rotating grindstone 240 is polished by the brush 140 (see FIG. 5).
  • FIG. 10 shows the glass plate 110C after brush polishing by a solid line, and the glass plate 110B before brush polishing by a two-dot chain line.
  • the manufacturing method of a glass plate interposes the spacer 120 between the grinding process which grinds the outer edge part of the glass plate 110 with the disk shaped rotary grindstone 240, and the glass plates 110B obtained by grinding the glass plate 110, It has the lamination process which produces laminated body 130B, and the grinding
  • FIG. The glass plate manufacturing method further includes a separation step of separating the glass plate 110 ⁇ / b> C obtained by polishing the glass plate 110 ⁇ / b> B with the brush 140 and the spacer 120.
  • An annular grinding groove 242 extending in the circumferential direction is formed on the outer peripheral surface 241 of the rotating grindstone 240.
  • the wall surface of the grinding groove 242 includes abrasive grains such as alumina, silicon carbide, and diamond.
  • the grain size (JIS R6001) of the abrasive grains is, for example, # 300 to # 2000.
  • the particle size is measured based on JIS R6002. The smaller the particle size, the larger the particle size and the better the grinding efficiency.
  • the rotating grindstone 240 is relatively moved along the outer edge of the glass plate 110 while being rotated around the center line of the rotating grindstone 240, and the outer edge portion of the glass plate 110 is ground by the wall surface of the grinding groove 242.
  • a coolant such as water may be used during grinding.
  • the glass plate 110B ground with the rotating grindstone 240 has two main planes 111B and 112B and side surfaces 113B adjacent to the two main planes 111B and 112B.
  • the side surface 113B is a ground surface ground by the rotating grindstone 240, and is a flat portion 114B perpendicular to the main planes 111B and 112B, and a chamfer formed between the main planes 111B and 112B and the flat portion 114B.
  • the chamfered portions 115B and 116B are flat surfaces that are inclined with respect to the main planes 111B and 112B, for example.
  • the chamfered portions 115B and 116B of the present embodiment are flat surfaces that are inclined with respect to the main planes 111B and 112B. However, the chamfered portions 115B and 116B are outside from the main planes 111B and 112B to the flat portions 114B when viewed in the plate thickness direction (viewed in the X direction). Any surface may be used as long as the surface gradually protrudes in the direction, or a curved surface. In this case, the chamfered portions 115B and 116B may be connected to each other without the flat portion 114B, and the chamfered portions 115B and 116B may have substantially the same radius of curvature.
  • the laminated body 130B includes a plurality of glass plates 110B ground by the rotating grindstone 240 and a plate-like spacer 120 interposed between the glass plates 110B.
  • the glass plates 110 ⁇ / b> B and the spacers 120 are alternately stacked and then fixed by being sandwiched by a jig such as a clamp.
  • a protective sheet for preventing damage to the glass plate 110 ⁇ / b> B may be disposed between the glass plate 110 ⁇ / b> B and the spacer 120.
  • the protective sheet is made of resin or the like.
  • As a method for fixing the glass plate 110B and the spacer 120 another fixing method may be used as in the second embodiment.
  • Each glass plate 110B ground by the rotating grindstone 240 has substantially the same size and shape, and is laminated so that the outer edges overlap each other when viewed in the lamination direction (in the direction of arrow X in the figure). Therefore, the outer edge portion of each glass plate 110B is evenly polished.
  • a cooling liquid such as water may be used during polishing.
  • Each spacer 120 has substantially the same size and shape, and is arranged on the inner side of the grinding surface (flat portion 114B and chamfered portions 115B and 116B) of each glass plate 110B in the stacking direction view (in the direction of arrow X in the drawing).
  • the gap 160B is formed between the glass plates 110B.
  • the width W2 of the gap 160B is not less than 1.25 times the maximum diameter A of the bristles 142 (W2 ⁇ 1.25 ⁇ A). Therefore, as shown in FIG. 9, the brush bristle 142 is smoothly inserted into the gap 160 ⁇ / b> B, and the boundary between the main planes 111 ⁇ / b> B and 112 ⁇ / b> B of the glass plate 110 ⁇ / b> B and the chamfered parts 115 ⁇ / b> B and 116 ⁇ / b> B is chamfered into a curved surface by the brush bristle 142.
  • the boundary portion between the chamfered portions 115 ⁇ / b> B and 116 ⁇ / b> B and the flat portion 114 ⁇ / b> B is also chamfered to a curved surface by the brush hair 142.
  • the width W2 of the gap 160B is preferably 1.33 ⁇ A or more, more preferably 1.5 ⁇ A or more.
  • the width W2 of the gap 160B may be smaller than the plate thickness E of the glass plate 110B in order to improve the efficiency of brush polishing.
  • the glass plate 110C polished with the brush 140 has two main planes 111C and 112C and side surfaces 113C adjacent to the two main planes 111C and 112C, as indicated by solid lines in FIG.
  • the two main planes 111C and 112C are flat surfaces parallel to each other.
  • the side surface 113C includes a flat portion 114C perpendicular to the main planes 111C and 112C, and chamfered portions 115C and 116C formed between the main planes 111C and 112C and the flat portion 114C.
  • the chamfered portions 115C and 116C are surfaces that gradually protrude outward from the main planes 111C and 112C to the flat portion 114C in the thickness direction view (X direction view).
  • a predetermined portion of the side surface 113C has a depth of 10 ⁇ m. When etched, there is no pit with a depth of 1 ⁇ m or more on the etched surface.
  • the predetermined portion is a portion of the side surface 113C whose distance in the plate thickness direction from the main planes 111C and 112C adjacent to the chamfered portions 115C and 116C is within 1/5 of the plate thickness. Therefore, the glass plate 110C excellent in bending strength similar to the first embodiment is obtained.
  • the present embodiment relates to a method for manufacturing a glass plate having a chamfered portion.
  • This embodiment has the process of grind
  • FIGS. 11 to 12 are explanatory views of a glass plate manufacturing method according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 shows a glass plate 110 that is a base plate (original) and a sheet 340 that polishes the glass plate 110.
  • FIG. 12 shows the glass plate 110D after sheet polishing by a solid line, and shows the glass plate 110 before sheet polishing by a two-dot chain line.
  • the manufacturing method of a glass plate has a grinding
  • the sheet 340 is formed by uniformly bonding abrasive grains on a sheet base material made of resin, paper, or the like, or the abrasive grains are embedded in a resin sheet base material so that a part of the abrasive grains is exposed. The one configured in the above is used.
  • the sheet 340 is fixed to the fixed surface 351 of the base 350 and has a shape along the fixed surface 351.
  • the fixed surface 351 may be a flat surface as shown in FIG. 11, for example, or may be a curved surface.
  • the sheet 340 includes abrasive grains on the surface opposite to the fixed surface 351.
  • the glass plate 110 is grind
  • a lubricating liquid such as water may be used during polishing.
  • the sheet 340 of the present embodiment is fixed on the base 350 and is slid by pressing the glass plate 110 against the surface including the abrasive grains of the sheet 340, but includes the abrasive grains of the sheet 340 in a tensioned state.
  • the surface may be pressed against the glass plate 110 and slid.
  • abrasive grains of the sheet 340 for example, alumina, silicon carbide or diamond powder is used, and abrasive grains having a grain size of 6000 or more (JIS R6001) are used. The larger the particle size, the smaller the particle size.
  • the grain size of the abrasive grains is measured based on JIS R6002.
  • the grain size of the abrasive is preferably # 8000 or more, more preferably # 10000 or more.
  • the polished glass plate 110D has two main planes 111D and 112D and side surfaces 113D adjacent to the two main planes 111D and 112D, as indicated by solid lines in FIG.
  • the two main planes 111D and 112D are flat surfaces parallel to each other.
  • the side surface 113D includes a flat portion 114D perpendicular to the main planes 111D and 112D and chamfered portions 115D and 116D formed between the main planes 111D and 112D and the flat portion 114D.
  • the chamfered portions 115D and 116D are surfaces that gradually protrude outward from the main planes 111D and 112D to the flat portion 114D in the plate thickness direction view (X direction view), and are flat surfaces that are oblique to the main planes 111D and 112D. It is.
  • the flat portion 114D Since the flat portion 114D remains a cut surface, no latent scratch is formed. Note that the flat portion 114D may be polished by the sheet 340.
  • the chamfered portions 115D and 116D are polished with a sheet 340 containing abrasive grains having a larger grain size (smaller grain size) than conventional ones.
  • the side surface 113D of the glass plate 110D is polished by a sheet 340 containing abrasive grains having a larger particle size (smaller particle size) than the conventional one, when a predetermined portion of the side surface 113D is etched to a depth of 10 ⁇ m, the side surface 113D is deeper than the etched surface. There are no pits of 1 ⁇ m or more.
  • the predetermined portion is a portion of the side surface 113D whose distance in the plate thickness direction from the main planes 111D and 112D adjacent to the chamfered portions 115D and 116D is within 1/5 of the plate thickness. Therefore, the glass plate 110D excellent in bending strength similar to the first embodiment is obtained.
  • Example 1 In Example 1, the plate glass was chemically strengthened and then cut, and the glass plate obtained by the cutting was chamfered by the method described in the second embodiment, and predetermined dimensions (length 60 mm, width 40 mm, thickness 0. 8 mm) glass plate was produced.
  • a flat glass having a thickness of 0.8 mm was prepared as a plate glass for chemical strengthening.
  • This flat glass is expressed in mol%, SiO 2 : 64.2%, Al 2 O 3 : 8.0%, MgO: 10.5%, Na 2 O: 12.5%, K 2 O: 4. It contained 0%, ZrO 2 : 0.5%, CaO: 0.1%, SrO: 0.1%, BaO: 0.1%.
  • the prepared flat glass was chemically strengthened by being immersed in KNO 3 molten salt and subjected to ion exchange treatment, and then cooled to near room temperature.
  • the temperature of the KNO 3 molten salt was 435 ° C., and the immersion time was 4 hours.
  • the surface compressive stress and thickness of the chemically strengthened layer were measured with a surface stress meter (FSM-6000LE, manufactured by Orihara Seisakusho). Further, the average tensile stress of the tensile stress layer was calculated by substituting the measurement result of the surface stress meter into the above formula (1).
  • the thickness of the compressive stress layer is 45/800 (about 1/18) of the plate thickness of the glass plate, and the distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is pulled within 1/5 of the plate thickness. There was part of the stress layer.
  • the average tensile stress of the tensile stress layer was 48 MPa.
  • the plate glass obtained by chemical strengthening was cut by a laser cutting method.
  • a fiber laser (wavelength band: 1075 to 1095 nm) was used as the laser light source.
  • the laser light emitted from the laser light source formed a spot light having a diameter of 0.3 mm on the glass surface, and the spot light was relatively moved along the planned cutting line on the glass surface at a speed of 10 mm / sec.
  • An initial crack as a starting point of cutting was previously formed with a file at the starting point of the planned cutting line.
  • the glass plates obtained by cutting were alternately stacked with spacers, and then sandwiched and fixed with a jig to obtain a laminate.
  • the width of the gap formed between the glass plates by the spacer is 0.5 mm
  • the maximum diameter of the polyamide brush hair is 0.3 mm
  • the width of the gap is 1.7 times the maximum diameter of the brush hair. It was.
  • the jig is released and the corners of both main planes and side surfaces are rounded. A glass plate chamfered in a tinged shape was obtained.
  • the glass plate obtained by chamfering has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes.
  • Each side surface includes a flat portion perpendicular to both main planes and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion.
  • a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Bending strength was measured at room temperature by a four-point bending test (JIS R1601). The distance between the two support points was 40 mm, and the distance between the two load points was 10 mm. As the bending strength, an average value of 10 test pieces was taken.
  • Etching was performed by immersing the test piece after the 4-point bending strength test in an etching solution containing 5% by mass hydrofluoric acid and 95% by mass pure water at room temperature for 2 minutes.
  • the etching amount becomes 10 ⁇ m by the immersion time of 2 minutes.
  • the depth of the pits on the etched surface was measured using an Olympus Nano Search Microscope (OLS3500), and it was examined whether or not there was a pit having a depth of 1 ⁇ m or more at a predetermined portion of the side surface.
  • the predetermined portion is a portion of the side surface whose distance in the plate thickness direction from both main planes is within 1/5 of the plate thickness.
  • the predetermined portion included a region where tensile stress due to chemical strengthening remained.
  • Example 2 instead of the method described in the second embodiment as a chamfering method, a glass plate having a predetermined size was prepared in the same manner as in Example 1 except that the method described in the third embodiment was used. Produced. Specifically, the glass plate obtained by cutting was ground with a rotating grindstone before brush polishing. The conditions for brush polishing are the same as in Example 1.
  • a grind groove wall containing diamond abrasive grains having a particle size of # 400 was used as the rotating whetstone.
  • the glass plates ground with a rotating grindstone were alternately stacked with spacers, and then sandwiched and fixed with a jig to form a laminate.
  • the spacer was arrange
  • the width of the gap formed between the glass plates by the spacer was 0.5 mm
  • a slurry containing cerium oxide having an average particle diameter (D50) of 2 ⁇ m the outer edge of the laminate was polished with a brush, and then fixed with a jig was released to obtain a chamfered glass plate.
  • the glass plate obtained by chamfering has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes.
  • Each side surface has a flat portion perpendicular to both main planes, and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion.
  • a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Example 1 The same evaluation as Example 1 was performed about the glass plate obtained by chamfering. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 3 As a chamfering method, instead of the method described in the second embodiment, a glass plate having a predetermined size was prepared in the same manner as in Example 1 except that the method described in the fourth embodiment was used. Produced. Specifically, the glass plate obtained by cutting was ground with a sheet containing abrasive grains.
  • the sheet one containing silicon carbide abrasive grains having a particle size of # 8000 (Sumitomo 3M 3M wrapping film sheet 1 ⁇ m (# 8000)) was used.
  • the glass plate obtained by chamfering has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes.
  • Each side surface has a flat portion perpendicular to both main planes, and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion.
  • a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Example 1 The same evaluation as Example 1 was performed about the glass plate obtained by chamfering. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 4 a glass plate having a predetermined size was produced in the same manner as in Example 2 except that a rotating grindstone without a grinding groove was used instead of the rotating grindstone with a grinding groove.
  • a diamond grind having # 700 on the outer peripheral surface was used as the rotating grindstone.
  • the side surface of the glass plate ground with this rotating grindstone was a surface perpendicular to the main plane.
  • a glass plate having substantially the same shape as the base plate 110 indicated by a two-dot chain line in FIG. 7 was obtained, and by subsequent brush polishing, a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110A indicated by a solid line in FIG. 7 was obtained.
  • the glass plate obtained by chamfering has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes.
  • Each side surface has a flat portion perpendicular to both main planes, and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion.
  • a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Example 1 The same evaluation as Example 1 was performed about the glass plate obtained by chamfering. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 5 In Example 4, a glass plate having a predetermined size was produced in the same manner as in Example 2 except that a sheet containing silicon carbide abrasive grains having a particle size of # 1000 was used instead of the rotating grindstone with grinding grooves.
  • a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110B indicated by a two-dot chain line in FIG. 10 was obtained by sheet polishing, and a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110C indicated by a solid line in FIG. 10 was obtained by subsequent brush polishing. .
  • the glass plate obtained by chamfering has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes.
  • Each side surface has a flat portion perpendicular to both main planes, and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion.
  • a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Example 1 The same evaluation as Example 1 was performed about the glass plate obtained by chamfering. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 6 a glass plate having a predetermined size was produced in the same manner as in Example 5 except that the outer edge of the glass plate was ground with a rotating grindstone without a grinding groove before polishing with the sheet.
  • a diamond grind having # 700 on the outer peripheral surface was used as the rotating grindstone.
  • the side surface of the glass plate ground with this rotary grindstone was a surface perpendicular to the main plane, and a glass plate having substantially the same shape as the base plate 110 indicated by a two-dot chain line in FIG. 7 was obtained by grinding.
  • Subsequent sheet polishing yields a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110B indicated by a two-dot chain line in FIG. 10
  • further brush polishing produces a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110C indicated by the solid line in FIG. Obtained.
  • the glass plate obtained by chamfering has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes.
  • Each side surface has a flat portion perpendicular to both main planes, and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion.
  • a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Example 1 The same evaluation as Example 1 was performed about the glass plate obtained by chamfering. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 7 As a chamfering method, a glass plate having a predetermined size was prepared in the same manner as in Example 2 except that the glass plate obtained by cutting was ground with a rotating grindstone and not polished with a brush.
  • This glass plate has two substantially rectangular main planes parallel to each other and four side surfaces adjacent to the two main planes. Each side surface has a flat portion perpendicular to both main planes, and a chamfered portion formed between each main plane and the flat portion. Of each side surface, a portion whose distance in the plate thickness direction from the main plane of the glass plate is within 1/5 of the plate thickness and a residual region of tensile stress partially overlap.
  • Example 1 The same evaluation as Example 1 was performed about the glass plate obtained by chamfering. The evaluation results are shown in Table 1.
  • the grinding groove is formed on the outer peripheral surface of the rotating grindstone of the third embodiment, it may not be formed.
  • the side surface of the glass plate ground on the outer peripheral surface of the rotating grindstone is a surface perpendicular to the main plane. Therefore, when there is no grinding groove, a glass plate having substantially the same shape as that of the base plate 110 shown by a two-dot chain line in FIG. 7 is obtained by grinding, and by brush polishing thereafter, the glass plate 110A shown by a solid line in FIG. A glass plate is obtained.
  • corners of the glass plate may be polished with a sheet.
  • a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110B indicated by a two-dot chain line in FIG. 10 is obtained by sheet polishing, and a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110C indicated by a solid line in FIG. 10 is obtained by subsequent brush polishing.
  • the grain size of the abrasive grains contained in the sheet in this case may be # 1000 or more.
  • the corners of the ground glass plate may be polished with a sheet.
  • a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110B indicated by a two-dot chain line in FIG. 10 is obtained by sheet polishing, and a glass plate having substantially the same shape as the glass plate 110C indicated by a solid line in FIG. 10 is obtained by subsequent brush polishing.
  • the grain size of the abrasive grains contained in the sheet in this case may be # 1000 or more.

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Abstract

【解決手段】２つの主平面１１、１２と、２つの主平面１１、１２に隣接する側面１３とを有し、側面１３が少なくとも板厚方向一端部に面取り部１５、１６を有するガラス板において、側面１３の所定部分１３ａ、１３ｂを深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面１７に深さ１μｍ以上のピット１８がなく、所定部分１３ａ、１３ｂは、側面１３のうち、面取り部１５、１６に隣接する主平面１１、１２からの板厚方向における距離Ｈが板厚Ｅの１／５以内（Ｈ≦１／５×Ｅ）の部分である。

Description

ガラス板、およびガラス板の製造方法
　本発明は、ガラス板、およびガラス板の製造方法に関する。
　近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの画像表示装置向けにガラス板が量産されている。ガラス板は、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）などの機能層が形成されるガラス基板、またはディスプレイの美観や保護を高めるカバーガラスとして用いられる。
　また、ガラス板を強化する方法として、化学強化法が開発されている。化学強化法は、イオン交換用の処理液を用いて、ガラス板の表面に、表面から所定の深さで化学強化層（圧縮応力層）を形成する。化学強化されたガラス板の内部には、応力の釣り合いのため、引張応力層が形成される。
　ところで、ガラス板が撓むとき、凹面となる主平面には圧縮応力が生じ、凸面となる主平面には引張応力が生じる。このとき、凸面となる主平面と、該主平面と隣接する端面との境界部に微小傷があると、それを起点としてガラス板が破損しやすい。
　そこで、境界部に面取り面が形成され、面取り面における最大谷深さＲｖが２μｍ以下のガラス基板が提案されている（例えば、特許文献１参照）。Ｒｖが２μｍ以下であると、谷部を引き裂くような応力集中が抑制され、ガラス基板の破損が抑制されるとしている。特許文献１には、面取り面における突出谷部深さＲｖｋが０．９５μｍ以下のガラス基板も提案されている。
国際公開第１０／１０４０３９号パンフレット
　回転砥石などを用いてガラス板の端面を研削加工すると前記端面に潜傷が形成されることがある。潜傷は、視認困難な微細な傷であり、曲げ強度を低下させる原因となる。潜傷は、ガラス板の内部に形成されうるので、上記のＲｖやＲｖｋで正確に評価できない。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、面取り部を有し、曲げ強度に優れたガラス板、およびガラス板の製造方法の提供を目的とする。
　上記課題を解決するため、本発明の一実施形態によるガラス板は、
　２つの主平面と、該２つの主平面に隣接する側面とを有し、該側面が少なくとも板厚方向一端部に面取り部を有するガラス板において、
　前記側面の所定部分を深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面に深さ１μｍ以上のピットがなく、
　前記所定部分は、前記側面のうち、前記面取り部に隣接する主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分である。
　また、本発明の他の実施形態によるガラス板の製造方法は、
　２つの主平面と、該２つの主平面に隣接する側面とを有し、該側面が少なくとも板厚方向一端部に面取り部を有するガラス板の製造方法において、
　ガラス板同士の間に板状のスペーサを介在させて、積層体を作製する積層工程と、
　前記積層体の外縁部をブラシで研磨して前記面取り部を形成する研磨工程とを有し、
　前記スペーサは、積層方向視において前記ガラス板の外縁よりも内側に配置され、前記ガラス板同士の間に隙間を形成し、該隙間の幅がブラシ毛の最大直径の１．２５倍以上である。
　さらに、本発明のさらに他の実施形態によるガラス板の製造方法は、
　２つの主平面と、該２つの主平面に隣接する側面とを有し、該側面が少なくとも板厚方向一端部に面取り部を有するガラス板の製造方法において、
　粒度が＃６０００以上の砥粒を含むシートで前記面取り部を形成する工程を有する。
　本発明によれば、面取り部を有し、曲げ強度に優れたガラス板、およびガラス板の製造方法が提供される。
本発明の第１の実施形態によるガラス板の側面図 化学強化されたガラス板の残留応力の板厚方向分布を示す模式図 本発明の一実施形態によるガラス板のエッチング後の状態を示す概略図 図３の一部拡大図 本発明の第２の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（１） 本発明の第２の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（２） 本発明の第２の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（３） 本発明の第３の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（１） 本発明の第３の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（２） 本発明の第３の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（３） 本発明の第４の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（１） 本発明の第４の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図（２）
　以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。以下の図面において、同一のまたは対応する構成には、同一のまたは対応する符号を付して、説明を省略する。
　［第１の実施形態］
　本実施形態は、面取り部を有するガラス板に関する。このガラス板の製造方法については、第２～第４の実施形態で説明する。
　図１は、本発明の第１の実施形態によるガラス板の側面図である。図１などにおいて、Ｘ方向はガラス板の板厚方向を表す。
　ガラス板１０は、画像表示装置用のガラス基板またはカバーガラスである。画像表示装置は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機ＥＬディスプレイなどを含み、タッチパネルを含む。
　ガラス板１０のガラスの種類は、用途に応じて設定される。例えば、ガラス基板用の場合、アルミノボロシリケートガラスやアルカリアルミノシリケートガラスを用いることができる。カバーガラスの場合、ソーダライムガラスやアルカリアルミノシリケートガラスが用いることができる。
　なお、本実施形態のガラス板１０は画像表示装置用であるが、例えば太陽電池用、薄膜２次電池用などであってよく、用途は特に限定されない。
　ガラス板１０の板厚Ｅは、用途に応じて設定される。例えば画像表示装置用のガラス基板の場合、ガラス板１０の板厚Ｅは０．２～３ｍｍである。また、画像表示装置用のカバーガラスの場合、ガラス板１０の板厚Ｅは０．５～３ｍｍであるが、上記の板厚に限定されるものではない。
　ガラス板１０は、フロート法、フュージョンダウンドロー法、リドロー法、プレス法などで成形され、その成形方法は特に限定されない。
　ガラス板１０は、２つの主平面１１、１２と、２つの主平面１１、１２に隣接する側面１３とを有する。２つの主平面１１、１２は互いに平行な平坦面である。
　主平面１１、１２は、例えば、矩形状に形成されている。ここで、「矩形状」とは、正方形状や長方形状をいい、コーナ部分が丸みを帯びた形状を含む。なお、主平面１１、１２の形状に制限はなく、例えば三角形状などの多角形状であってもよいし、円形状や楕円形状などであってもよい。
　側面１３は、２つの主平面１１、１２に対して垂直な平坦部１４と、各主平面１１、１２と平坦部１４との間に形成される面取り部１５、１６とで構成される。面取り部１５は、主平面１１及び平坦部１４に隣接する。同様に、面取り部１６は、主平面１２及び平坦部１４に隣接する。
　平坦部１４は、ガラス板１０よりも大面積の板ガラスを切断して得られる切断面のままでもよいし、切断面を加工して得られる加工面でもよい。
　面取り部１５、１６は、例えば矩形状の主平面１１、１２の４辺に対応して４つ設けられてもよいし、１つのみ設けられてもよく、その設置数は特に限定されない。
　面取り部１５、１６は、切断面と主平面の角部を除去してなる。面取り部１５、１６は、例えば主平面１１、１２に対して０°超、９０°未満の角度を有する平坦面または曲面である。面取り部１５、１６は、典型的には同じ寸法形状を有するが、異なる寸法形状を有してもよい。
　なお、図１に示した本実施形態の面取り部１５、１６は、主平面１１、１２に対して斜めの平坦面であるが、板厚方向視（Ｘ方向視）において主平面１１、１２から平坦部１４にかけて外方に徐々に突出する面であればよく、曲面（湾曲面）であってもよい。面取り部１５、１６が曲面（湾曲面）である場合、平坦部１４がなく、面取り部１５、１６同士がつながっていてもよく、面取り部１５、１６は略同じ曲率半径を有してもよい。
　ガラス板１０は、両主平面１１、１２に各主平面１１、１２から所定の深さで形成される化学強化層（圧縮応力層）２１、２２を有してよい。圧縮応力層は、ガラスをイオン交換用の処理液に浸漬して形成される。ガラス表面に含まれる小さなイオン半径のイオン（例えば、Ｌｉイオン、Ｎａイオン）が大きなイオン半径のイオン（例えば、Ｋイオン）に置換され、ガラス表面に表面から所定の深さで圧縮応力層２１、２２が形成される。応力の釣り合いのため、引張応力層２３がガラスの内部に形成される。
　圧縮応力層２１、２２を有するガラス板１０は、生産効率の観点から、例えばガラス板１０よりも大面積の板ガラスを化学強化した後、切断して複数枚取りされ、切断により得られたガラス板の少なくとも一方の主平面の外周縁を面取りして作製することができる。
　化学強化された板ガラスの切断方法は、一般的なものであってよく、例えば、スクライブ・ブレイク法、レーザ切断法などが用いられる。スクライブ・ブレイク法は、板ガラスの表面にスクライブカッターを押し付けながら移動させて、スクライブ線（溝線）を形成した後、板ガラスを曲げて折る方法である。レーザ切断法は、板ガラスの表面にレーザ光を照射し、照射位置を板ガラス上で移動させて、熱応力で板ガラスを割断する方法である。板ガラスに熱応力を与える熱源として、レーザ光源の代わりに、放電電極を用いても良い。熱源を用いる場合、潜傷のほとんどない切断面が得られる。
　化学強化された板ガラスを切断した場合、ガラス板１０の側面１３に引張応力層２３が露出する。従って、ガラス板１０の側面１３に、化学強化による引張応力が残留する領域２４（以下、「引張応力の残留領域２４」という）が存在する。引張応力の残留領域２４は、図１に示すように平坦部１４および面取り部１５、１６に存在してもよいし、平坦部１４のみに存在してもよい。
　図２は、化学強化されたガラス板の残留応力の板厚方向分布を示す模式図である。図２に示すように、圧縮応力層２１、２２（図１参照）の残留圧縮応力は、両主平面１１、１２から板厚方向中央部に向けて徐々に小さくなる傾向にある。また、引張応力層２３（図１参照）の残留引張応力は略一定である。
　図２において、Ｓ１、Ｓ２は主平面１１、１２での残留圧縮応力（以下、「表面圧縮応力」という）、Ｄ１、Ｄ２は圧縮応力層２１、２２の厚さ、Ｅはガラス板１０の板厚、Ｔは引張応力層２３の残留引張応力の平均値（以下、「平均引張応力」という）をそれぞれ示す。Ｓ１、Ｓ２（Ｓ２＝Ｓ１）、Ｄ１、Ｄ２（Ｄ２＝Ｄ１）、Ｔは、イオン交換用の処理液の濃度や温度、浸漬時間などで調節可能である。また、Ｓ１、Ｓ２、Ｄ１、Ｄ２は、ガラス板を室温まで冷却した状態で市販の表面応力計などで測定され、その測定結果およびＥを下記の式（１）に代入して、Ｔは算出される。
Ｔ＝（Ｓ１×Ｄ１／２＋Ｓ２×Ｄ２／２）／（Ｅ－Ｄ１－Ｄ２）・・・（１）
Ｅはマイクロゲージなどで測定され、Ｅ＞Ｄ１＋Ｄ２の関係が成立する。
　なお、本実施形態の２つの圧縮応力層２１、２２は、同じ表面圧縮応力、および同じ厚さを有するが、異なる表面圧縮応力、異なる厚さを有してもよい。
　表面圧縮応力Ｓ１、Ｓ２は、ガラス板１０の用途などに応じて適宜設定され、良好な強度と耐擦傷性を得るため、例えば少なくとも一方が５００ＭＰａ以上である。表面圧縮応力Ｓ１、Ｓ２は、それぞれ、化学強化の処理効率の観点から、９００ＭＰａ以下であってよい。表面圧縮応力Ｓ１、Ｓ２は、それぞれ、好ましくは５５０～８５０ＭＰａ、より好ましくは６００～８００ＭＰａである。
　厚さＤ１、Ｄ２は、ガラス板１０の用途などに応じて適宜設定され、例えば少なくとも一方が１０μｍ以上である。厚さＤ１、Ｄ２は、それぞれ、化学強化の処理効率の観点から、６０μｍ以下であってよい。厚さＤ１、Ｄ２は、それぞれ、好ましくは１５～５０μｍ、より好ましくは２０～４０μｍである。
　図３は、本発明の一実施形態によるガラス板のエッチング後の状態を示す概略図である。図３において、ガラス板１０のエッチング後の状態を実線で示し、ガラス板１０のエッチング前の状態を２点鎖線で示す。図４は、図３の一部拡大図であって、エッチング面１７と、エッチング面１７に形成されるピット１８と、エッチング面１７の理想面１９との関係を示す。
　本実施形態では、側面１３の所定部分１３ａ、１３ｂを深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面１７に深さ１μｍ以上（好ましくは深さ０．８μｍ以上、より好ましくは深さ０．６μｍ以上）のピット１８がない。所定部分１３ａ、１３ｂは、側面１３のうち、面取り部１５、１６に隣接する主平面１１、１２からの板厚方向における距離Ｈが板厚Ｅの１／５以内（Ｈ≦１／５×Ｅ）の部分のことである。
　「エッチング」は、ガラス板１０の全体をエッチング液に浸漬して室温（２５℃）で行われる。エッチング液としては、５質量％のフッ酸（ＨＦ）と、９５質量％の純水を含む水溶液が用いられる。エッチング液はガラス板１０の表面や内部に形成される潜傷に浸入し、潜傷を拡げて明瞭化する。
　エッチング量（エッチングの深さ）は、浸漬時間で制御される。具体的には、あらかじめ同一組成のガラスを用いて所定時間エッチングを行ってエッチングレートを算出した後、所望のエッチング量となるように浸漬時間を調整してエッチングを行う。なお、ガラスの種類によっては、前記エッチングレートを調整するためにフッ酸濃度を変更することがある。
　ピット１８の深さＰは、ＪＩＳ　Ｂ０６７１－２：２００２に定められる突出谷部深さＲｖｋの測定法に基づいて求める。
　ここで、深さ１μｍ以上のピット１８の有無を調べる対象を、側面１３の上記部分１３ａ、１３ｂに限定したのは、上記部分１３ａ、１３ｂに微小傷が存在した場合、該微小傷を基点としてガラス板１０が破損することがあるからである。
　本実施形態では、上記部分１３ａ、１３ｂを深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面１７に深さ１μｍ以上のピット１８がない。そのため、破断の起点となる深い潜傷がないので、ガラス板１０の曲げ強度を向上することができる。ガラス板１０が化学強化されている場合、曲げ強度はさらに向上する。
　ガラス板１０は、化学強化後に切断して得られたものである場合、ガラス板１０の側面１３に引張応力の残留領域２４が露出する。引張応力は曲げ強度の低下を招くが、本実施形態では、上記部分１３ａ、１３ｂに破断の起点となる深い潜傷がないので、曲げ強度の低下が抑制される。この効果は、引張応力の残留領域２４と側面１３の上記部分１３ａ、１３ｂとが一部重なる場合に顕著であり、この場合に曲げ強度が３００ＭＰａ以上のガラス板１０が得られる。
　なお、本実施形態のガラス板１０は、板ガラスを化学強化した後、切断し、続いて面取りして得られるが、本発明はこれに限定されない。例えば、未強化の板ガラスを切断した後、面取りし、続いて化学強化して作製されてもよい。この場合、化学強化層でガラス板の全体が覆われるので、曲げ強度の高いガラス板が得られる。また、ガラス板は、化学強化層を有さなくてもよい。
　［第２の実施形態］
　本実施形態は、面取り部を有するガラス板の製造方法に関する。
　図５～図７は、本発明の第２の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図である。図５は、素板（もといた）であるガラス板１１０を含む積層体１３０と、積層体１３０の外縁部を研磨するブラシ１４０とを示す。図６は、積層体１３０の外縁部をブラシ１４０で研磨している状態を拡大して示す。図７はブラシ研磨後のガラス板１１０Ａを実線で示し、ブラシ研磨前のガラス板１１０を２点鎖線で示す。
　ガラス板の製造方法は、ガラス板１１０同士の間にスペーサ１２０を介在させて、積層体１３０を作製する積層工程と、積層体１３０の外縁部をブラシ１４０で研磨する研磨工程とを有する。また、ガラス板の製造方法は、ガラス板１１０をブラシ１４０で研磨して得られるガラス板１１０Ａとスペーサ１２０とを分離する分離工程をさらに有する。
　積層体１３０は、図５に示すように、複数のガラス板１１０と、ガラス板１１０同士の間に介在される板状のスペーサ１２０とを有する。ガラス板１１０と、スペーサ１２０とは交互に重ねられたうえで、クランプなどの治具で挟んで固定される。ガラス板１１０とスペーサ１２０との間に、ガラス板１１０の損傷を防止するための保護シートが配設されてもよい。保護シートは、樹脂などで構成される。
　なお、本実施形態のガラス板１１０とスペーサ１２０とは治具で固定されるとしたが、固定方法は特に限定されない。例えば、固定方法はガラス板１１０とスペーサ１２０とを接着する方法であってもよい。接着剤としては、研磨工程後の分離工程において除去可能なものが用いられ、例えば熱軟化性の樹脂が用いられる。ガラス板１１０とスペーサ１２０の間に接着剤層を形成する代わりに、スペーサ１２０自体を接着剤層として用いてもよい。
　各ガラス板１１０は、例えばガラス板１１０よりも大面積の板ガラスを化学強化した後、切断して複数枚取りされることがある。板ガラスの種類、化学強化方法、切断方法については、第１の実施形態と同様であるので説明を省略する。
　各ガラス板１１０は、図６に示すように、２つの主平面１１１、１１２と、２つの主平面１１１、１１２に隣接する側面１１３とを有する。２つの主平面１１１、１１２は、互いに平行な平坦面である。側面１１３は切断面であって、主平面１１１、１１２と垂直な平坦面である。
　各ガラス板１１０は、図１に示すガラス板１０と同様に、両主平面１１１、１１２に各主平面１１１、１１２から所定の深さで形成される圧縮応力層を有する。圧縮応力層の間には、応力の釣り合いのため、引張応力層が形成される。また、各ガラス板１１０は、図１に示すガラス板１０と同様に、側面１１３に、化学強化による引張応力が残留する領域が存在する。
　各ガラス板１１０は、図５に示すように、略同じ寸法形状を有し、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向）において互いに外縁が重なるように積層されている。よって、各ガラス板１１０の外縁部が均等に研磨される。
　各スペーサ１２０は、ガラス板よりも軟質の材料が用いられ、例えば、ポリプロピレン樹脂や発泡ウレタン樹脂などで構成される。
　各スペーサ１２０は、略同じ寸法形状を有する。各スペーサ１２０は、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向視）においてガラス板１１０の外縁よりも内側に配置され、ガラス板１１０同士の間に溝状の隙間１６０を形成する。
　ブラシ１４０は、図５に示すようにロールブラシであって、積層体１３０の積層方向と平行な回転軸１４１、回転軸１４１に対して略垂直に保持されるブラシ毛１４２などで構成される。ブラシ１４０は、回転軸１４１を中心に回転されながら、積層体１３０の外縁に沿って相対的に移動され、積層体１３０の外縁に向かって研磨材を含有するスラリーを吐出し、積層体１３０の外縁部をブラシ研磨する。研磨材としては、酸化セリウム、ジルコニアなどが用いられる。研磨材の粒径（Ｄ５０）は、例えば５μｍ以下であり、好ましくは２μｍ以下である。
　ブラシ１４０は、チャンネルブラシであって、複数のブラシ毛１４２が植毛された長尺の部材（チャンネル）を回転軸１４１に螺旋状に巻き付けてなる。
　ブラシ毛１４２は、ポリアミドなどの樹脂で主に構成され、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化ケイ素（ＳｉＣ）、ダイヤモンドなどの研磨材を含んでもよい。ブラシ毛１４２は、線状に形成され、先細り状の先端部を有してもよい。
　本実施形態では、隙間１６０の幅Ｗ１が、ブラシ毛１４２の最大直径Ａの１．２５倍以上（Ｗ１≧１．２５×Ａ）である。そのため、図６に示すように、ブラシ毛１４２が隙間１６０内に滑らかに挿入され、ガラス板１１０の主平面１１１、１１２と側面１１３との角部がブラシ毛１４２で曲面に面取りされる。
　隙間１６０の幅Ｗ１は、好ましくは１．３３×Ａ以上、さらに好ましくは１．５×Ａ以上である。隙間１６０の幅Ｗ１は、ブラシ研磨の効率を向上するため、ガラス板１１０の板厚Ｅよりも小さくてよい。
　ブラシ１４０で研磨されたガラス板１１０Ａは、図７に実線で示すように、２つの主平面１１１Ａ、１１２Ａと、２つの主平面１１１Ａ、１１２Ａに隣接する側面１１３Ａとを有する。２つの主平面１１１Ａ、１１２Ａは互いに平行な平坦面である。側面１１３Ａは、主平面１１１Ａ、１１２Ａに対して垂直な平坦部１１４Ａと、各主平面１１１Ａ、１１２Ａと平坦部１１４Ａとの間に形成される面取り部１１５Ａ、１１６Ａとで構成される。面取り部１１５Ａ、１１６Ａは、板厚方向視（Ｘ方向視）において主平面１１１Ａ、１１２Ａから平坦部１１４Ａにかけて外方に徐々に突出する曲面である。
　平坦部１１４Ａは、図７に２点鎖線で示すガラス板１１０の側面を柔らかいブラシ毛１４２で研磨してなる。面取り部１１５Ａ、１１６Ａは、図７に２点鎖線で示すガラス板１１０の主平面と側面との角部をブラシ毛１４２の外周面で研磨してなる。
　ガラス板１１０Ａの側面１１３Ａは、スペーサ１２０によって調整された隙間にブラシ毛１４２を挿入し、粒径が５μｍ以下の研磨材を含むスラリーを用いて研磨されているので、側面１１３Ａの所定部分を深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面に深さ１μｍ以上のピットがない。所定部分は、側面１１３Ａのうち、面取り部１１５Ａ、１１６Ａに隣接する主平面１１１Ａ、１１２Ａからの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分のことである。よって、第１の実施形態と同様の曲げ強度に優れたガラス板１１０Ａが得られる。
　［第３の実施形態］
　本実施形態は、面取り部を有するガラス板の製造方法に関する。本実施形態は、積層体を作製する前に、ガラス板の外縁部を研削する工程をさらに有する。
　図８～図１０は、本発明の第３の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図である。図８は、素板（もといた）であるガラス板１１０およびガラス板１１０の外縁部を研削する回転砥石２４０を示す。図９は、回転砥石２４０で研削されたガラス板１１０Ｂを含む積層体１３０Ｂの外縁部をブラシ１４０（図５参照）で研磨している状態を拡大して示す。図１０は、ブラシ研磨後のガラス板１１０Ｃを実線で示し、ブラシ研磨前のガラス板１１０Ｂを２点鎖線で示す。
　ガラス板の製造方法は、ガラス板１１０の外縁部を円盤状の回転砥石２４０で研削する研削工程と、ガラス板１１０を研削して得られるガラス板１１０Ｂ同士の間にスペーサ１２０を介在させて、積層体１３０Ｂを作製する積層工程と、積層体１３０Ｂの外縁部をブラシ１４０で研磨する研磨工程とを有する。また、ガラス板の製造方法は、ガラス板１１０Ｂをブラシ１４０で研磨して得られるガラス板１１０Ｃとスペーサ１２０とを分離する分離工程をさらに有する。
　回転砥石２４０の外周面２４１には、周方向に延びる環状の研削溝２４２が形成されている。研削溝２４２の壁面は、アルミナや炭化ケイ素、ダイヤモンドなどの砥粒を含む。砥粒の粒度（ＪＩＳ　Ｒ６００１）は、例えば＃３００～＃２０００である。粒度はＪＩＳ　Ｒ６００２に基づいて測定される。粒度が小さくなるほど、粒径が大きくなるので、研削効率がよい。
　回転砥石２４０は、回転砥石２４０の中心線を中心に回転されながら、ガラス板１１０の外縁に沿って相対的に移動され、ガラス板１１０の外縁部を研削溝２４２の壁面で研削する。研削時に水などの冷却液が用いられてよい。
　回転砥石２４０で研削されたガラス板１１０Ｂは、図９に示すように、２つの主平面１１１Ｂ、１１２Ｂと、２つの主平面１１１Ｂ、１１２Ｂに隣接する側面１１３Ｂとを有する。側面１１３Ｂは、回転砥石２４０で研削された研削面であって、主平面１１１Ｂ、１１２Ｂに対して垂直な平坦部１１４Ｂと、各主平面１１１Ｂ、１１２Ｂと平坦部１１４Ｂとの間に形成される面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂとで構成される。面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂは、例えば主平面１１１Ｂ、１１２Ｂに対して斜めの平坦面である。
　なお、本実施形態の面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂは、主平面１１１Ｂ、１１２Ｂに対して斜めの平坦面であるが、板厚方向視（Ｘ方向視）において主平面１１１Ｂ、１１２Ｂから平坦部１１４Ｂにかけて外方に徐々に突出する面であればよく、湾曲面であってもよい。この場合、平坦部１１４Ｂがなく、面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂ同士がつながっていてもよく、面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂは略同じ曲率半径を有してもよい。
　積層体１３０Ｂは、回転砥石２４０で研削された複数のガラス板１１０Ｂと、ガラス板１１０Ｂ同士の間に介在される板状のスペーサ１２０とを有する。ガラス板１１０Ｂと、スペーサ１２０とは、交互に重ねられたうえで、クランプなどの治具で挟んで固定される。ガラス板１１０Ｂとスペーサ１２０との間に、ガラス板１１０Ｂの損傷を防止するための保護シートが配設されてもよい。保護シートは、樹脂などで構成される。なお、ガラス板１１０Ｂとスペーサ１２０とを固定する方法として、第２の実施形態と同様に、別の固定方法が用いられてもよい。
　回転砥石２４０で研削された各ガラス板１１０Ｂは、略同じ寸法形状を有し、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向）において互いに外縁が重なるように積層されている。よって、各ガラス板１１０Ｂの外縁部が均等に研磨される。研磨時に水などの冷却液が用いられてよい。
　各スペーサ１２０は、略同じ寸法形状を有し、積層方向視（図中、矢印Ｘ方向視）において、各ガラス板１１０Ｂの研削面（平坦部１１４Ｂおよび面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂ）よりも内側に配置され、ガラス板１１０Ｂ同士の間に隙間１６０Ｂを形成する。
　本実施形態では、第２の実施形態と同様に、隙間１６０Ｂの幅Ｗ２がブラシ毛１４２の最大直径Ａの１．２５倍以上（Ｗ２≧１．２５×Ａ）である。そのため、図９に示すように、ブラシ毛１４２が隙間１６０Ｂ内に滑らかに挿入され、ガラス板１１０Ｂの主平面１１１Ｂ、１１２Ｂと面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂとの境界部がブラシ毛１４２で曲面に面取りされる。このとき、面取り部１１５Ｂ、１１６Ｂと平坦部１１４Ｂとの境界部もブラシ毛１４２で曲面に面取りされる。
　隙間１６０Ｂの幅Ｗ２は、好ましくは１．３３×Ａ以上、さらに好ましくは１．５×Ａ以上である。隙間１６０Ｂの幅Ｗ２は、ブラシ研磨の効率を向上するため、ガラス板１１０Ｂの板厚Ｅよりも小さくてよい。
　ブラシ１４０（図５参照）で研磨されたガラス板１１０Ｃは、図１０に実線で示すように、２つの主平面１１１Ｃ、１１２Ｃと、２つの主平面１１１Ｃ、１１２Ｃに隣接する側面１１３Ｃとを有する。２つの主平面１１１Ｃ、１１２Ｃは互いに平行な平坦面である。側面１１３Ｃは、主平面１１１Ｃ、１１２Ｃに対して垂直な平坦部１１４Ｃと、各主平面１１１Ｃ、１１２Ｃと平坦部１１４Ｃとの間に形成される面取り部１１５Ｃ、１１６Ｃとで構成される。面取り部１１５Ｃ、１１６Ｃは、板厚方向視（Ｘ方向視）において主平面１１１Ｃ、１１２Ｃから平坦部１１４Ｃにかけて外方に徐々に突出する面である。
　ガラス板１１０Ｃの側面１１３Ｃは、スペーサ１２０によって調整された隙間にブラシ毛を挿入し、粒径５μｍ以下の研磨材を含むスラリーを用いて研磨されているので、側面１１３Ｃの所定部分を深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面に深さ１μｍ以上のピットがない。所定部分は、側面１１３Ｃのうち、面取り部１１５Ｃ、１１６Ｃに隣接する主平面１１１Ｃ、１１２Ｃからの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分のことである。よって、第１の実施形態と同様の曲げ強度に優れたガラス板１１０Ｃが得られる。
　［第４の実施形態］
　本実施形態は、面取り部を有するガラス板の製造方法に関する。本実施形態は、ブラシでガラス板を研磨する工程の代わりに、砥粒付きのシートでガラス板を研磨する工程を有する。
　図１１～図１２は、本発明の第４の実施形態によるガラス板の製造方法の説明図である。図１１は、素板（もといた）であるガラス板１１０と、ガラス板１１０を研磨するシート３４０とを示す。図１２は、シート研磨後のガラス板１１０Ｄを実線で示し、シート研磨前のガラス板１１０を２点鎖線で示す。
　ガラス板の製造方法は、砥粒を含むシート３４０で、ガラス板１１０の外縁部を研磨する研磨工程を有する。シート３４０は、樹脂や紙などからなるシート基材上に、砥粒を均一に接着したものや、樹脂製のシート基材中に砥粒が埋設され、該砥粒の一部が露出するように構成したものが用いられる。
　シート３４０は、基台３５０の固定面３５１に固定され、固定面３５１に沿った形状となる。固定面３５１は、例えば図１１に示すように平坦面であってもよいし、湾曲面であってもよい。
　シート３４０は、固定面３５１と反対側の面に砥粒を含む。この砥粒を含む面にガラス板１１０を押し付けて摺動させることで、ガラス板１１０が研磨される。研磨時に水などの潤滑液が用いられてよい。
　なお、本実施形態のシート３４０は基台３５０上に固定され、シート３４０の砥粒を含む面にガラス板１１０を押し付けて摺動させるが、テンションをかけた状態のシート３４０の砥粒を含む面をガラス板１１０に押し付けて摺動させてもよい。
　シート３４０の砥粒としては、例えばアルミナや炭化ケイ素、ダイヤモンドの粉末が用いられ、＃６０００以上の粒度（ＪＩＳ　Ｒ６００１）の砥粒が用いられる。粒度が大きくなるほど、粒径が小さくなる。砥粒の粒度はＪＩＳ　Ｒ６００２に基づいて測定される。砥粒の粒度は好ましくは＃８０００以上、より好ましくは＃１００００以上である。
　研磨されたガラス板１１０Ｄは、図１２に実線で示すように、２つの主平面１１１Ｄ、１１２Ｄと、２つの主平面１１１Ｄ、１１２Ｄに隣接する側面１１３Ｄとを有する。２つの主平面１１１Ｄ、１１２Ｄは互いに平行な平坦面である。側面１１３Ｄは、主平面１１１Ｄ、１１２Ｄに対して垂直な平坦部１１４Ｄと、各主平面１１１Ｄ、１１２Ｄと平坦部１１４Ｄとの間に形成される面取り部１１５Ｄ、１１６Ｄとで構成される。面取り部１１５Ｄ、１１６Ｄは、板厚方向視（Ｘ方向視）において主平面１１１Ｄ、１１２Ｄから平坦部１１４Ｄにかけて外方に徐々に突出する面であり、主平面１１１Ｄ、１１２Ｄに対して斜めの平坦面である。
　平坦部１１４Ｄは、切断面のままであるので、潜傷が形成されない。なお、平坦部１１４Ｄはシート３４０で研磨してなるものであってもよい。
　面取り部１１５Ｄ、１１６Ｄは、従来よりも粒度の大きい（粒径の小さい）砥粒を含むシート３４０で研磨してなる。
　ガラス板１１０Ｄの側面１１３Ｄは、従来よりも粒度の大きい（粒径の小さい）砥粒を含むシート３４０で研磨されているので、側面１１３Ｄの所定部分を深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面に深さ１μｍ以上のピットがない。所定部分は、側面１１３Ｄのうち、面取り部１１５Ｄ、１１６Ｄに隣接する主平面１１１Ｄ、１１２Ｄからの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分のことである。よって、第１の実施形態と同様の曲げ強度に優れたガラス板１１０Ｄが得られる。
　［例１］
　例１では、板ガラスを化学強化した後、切断し、切断により得られたガラス板を第２の実施形態に記載の方法で面取りし、所定の寸法（長さ６０ｍｍ、幅４０ｍｍ、厚さ０．８ｍｍ）のガラス板を作製した。
　（化学強化）
　化学強化用の板ガラスとして、厚さ０．８ｍｍの平板ガラスを用意した。この平板ガラスは、モル％表示で、ＳｉＯ２：６４．２％、Ａｌ２Ｏ３：８．０％、ＭｇＯ：１０．５％、Ｎａ２Ｏ：１２．５％、Ｋ２Ｏ：４．０％、ＺｒＯ２：０．５％、ＣａＯ：０．１％、ＳｒＯ：０．１％、ＢａＯ：０．１％を含有していた。
　用意した平板ガラスは、ＫＮＯ３溶融塩に浸漬してイオン交換処理した後、室温付近まで冷却することにより化学強化した。ＫＮＯ３溶融塩の温度は４３５℃とし、浸漬時間は４時間とした。
　化学強化層の表面圧縮応力および厚さは、表面応力計（折原製作所製、ＦＳＭ－６０００ＬＥ）によって測定した。また、引張応力層の平均引張応力は、表面応力計の測定結果などを上記の式（１）に代入して算出した。
　測定の結果、２つの圧縮応力層は、同じ表面圧縮応力（Ｓ１＝Ｓ２＝７５０ＭＰａ）、同じ厚さ（Ｄ１＝Ｄ２＝４５μｍ）を有していた。圧縮応力層の厚さは、ガラス板の板厚の４５／８００（約１／１８）であり、ガラス板の主平面との間の板厚方向における距離が板厚の１／５以内に引張応力層の一部があった。引張応力層の平均引張応力は、４８ＭＰａであった。
　（切断）
　化学強化により得られた板ガラスは、レーザ切断法で切断した。レーザ光源としてはファイバーレーザ（波長帯：１０７５～１０９５ｎｍ）を用いた。レーザ光源から出射されたレーザ光はガラス表面に直径０．３ｍｍのスポット光を形成し、スポット光はガラス表面の切断予定線に沿って１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で相対的に移動させた。切断予定線の始点には、切断の起点となる初期クラックをヤスリで予め形成した。
　（面取り）
　切断により得られたガラス板は、スペーサと交互に重ねたうえで、治具で挟み込んで固定し、積層体とした。スペーサによってガラス板同士の間に形成される隙間の幅は０．５ｍｍ、ポリアミド製のブラシ毛の最大直径は０．３ｍｍであり、隙間の幅はブラシ毛の最大直径の１．７倍であった。平均粒径（Ｄ５０）２μｍの酸化セリウムを含むスラリーを用いて、積層体の外縁部をブラシで研磨した後、治具による固定を解除して、両主平面と側面との角部が丸みを帯びた形状に面取りされたガラス板を得た。
　面取りにより得られたガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とで構成される。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　（評価）
　面取りにより得られたガラス板について下記の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
　曲げ強度は、４点曲げ試験（ＪＩＳ　Ｒ１６０１）により室温で測定した。２つの支持点の間隔は４０ｍｍ、２つの荷重点の間隔は１０ｍｍとした。曲げ強度としては、１０個の試験片の平均値を採った。
　エッチングは、４点曲げ強度試験後の試験片を、５質量％のフッ酸および９５質量％の純水を含むエッチング液に室温で２分間浸漬して行った。２分間の浸漬時間によって、エッチング量が１０μｍとなる。
　エッチング面におけるピットの深さは、オリンパス社製ナノサーチ顕微鏡（ＯＬＳ３５００）を用いて測定し、側面の所定部分に深さ１μｍ以上のピットが有るか否かを調べた。所定部分は、側面のうち、両主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分のことである。所定部分は、化学強化による引張応力が残留する領域を含んでいた。
　［例２］
　例２では、面取り方法として、第２の実施形態に記載の方法の代わりに、第３の実施形態に記載の方法を用いた以外は、例１と同様にして、所定の寸法のガラス板を作製した。具体的には、切断により得られたガラス板を、ブラシ研磨する前に、回転砥石で研削した。なお、ブラシ研磨の条件は例１と同様である。
　回転砥石としては、研削溝の壁面に＃４００の粒度のダイヤモンド砥粒を含むものを用いた。回転砥石で研削されたガラス板は、スペーサと交互に重ねたうえで、治具で挟み込んで固定し、積層体とした。スペーサは、積層方向視でガラス板の研削面よりも内側に配置した。スペーサによってガラス板同士の間に形成される隙間の幅は０．５ｍｍ、ポリアミド製のブラシ毛の最大直径は０．３ｍｍあり、隙間の幅はブラシ毛の最大直径の１．７倍であった。平均粒径（Ｄ５０）２μｍの酸化セリウムを含むスラリーを用いて、積層体の外縁部をブラシで研磨した後、治具による固定を解除して、面取りされたガラス板を得た。
　面取りにより得られたガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とを有する。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　面取りにより得られたガラス板について、例１と同様の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
　［例３］
　例３では、面取り方法として、第２の実施形態に記載の方法の代わりに、第４の実施形態に記載の方法を用いた以外は、例１と同様にして、所定の寸法のガラス板を作製した。具体的には、切断により得られたガラス板を、砥粒を含むシートで研削した。
　シートとしては、粒度が＃８０００の炭化ケイ素の砥粒を片面に含むもの（住友スリーエム社製３Ｍラッピングフィルムシート１μｍ（＃８０００））を用いた。
　面取りにより得られたガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とを有する。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　面取りにより得られたガラス板について、例１と同様の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
　［例４］
　例４では、研削溝付きの回転砥石の代わりに、研削溝のない回転砥石を用いた以外は、例２と同様にして、所定の寸法のガラス板を作製した。
　回転砥石としては、粒度が＃７００のダイヤモンド砥粒を外周面に含むものを用いた。この回転砥石で研削されたガラス板の側面は主平面に対し垂直な面であった。研削によって図７に２点鎖線で示す素板１１０と略同じ形状のガラス板が得られ、その後のブラシ研磨で図７に実線で示すガラス板１１０Ａと略同じ形状のガラス板が得られた。
　面取りにより得られたガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とを有する。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　面取りにより得られたガラス板について、例１と同様の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
　［例５］
　例４では、研削溝付きの回転砥石の代わりに、粒度が＃１０００の炭化ケイ素砥粒を含むシートを用いた以外は、例２と同様にして、所定の寸法のガラス板を作製した。
　シート研磨によって図１０に２点鎖線で示すガラス板１１０Ｂと略同じ形状のガラス板が得られ、その後のブラシ研磨によって図１０に実線で示すガラス板１１０Ｃと略同じ形状のガラス板が得られた。
　面取りにより得られたガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とを有する。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　面取りにより得られたガラス板について、例１と同様の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
　［例６］
　例６では、シートで研磨する前に、研削溝のない回転砥石でガラス板の外縁部を研削した以外は、例５と同様にして、所定の寸法のガラス板を作製した。
　回転砥石としては、粒度が＃７００のダイヤモンド砥粒を外周面に含むものを用いた。この回転砥石で研削されたガラス板の側面は主平面に対し垂直な面であり、研削によって図７に２点鎖線で示す素板１１０と略同じ形状のガラス板が得られた。その後のシート研磨によって図１０に２点鎖線で示すガラス板１１０Ｂと略同じ形状のガラス板が得られ、さらにその後のブラシ研磨によって図１０に実線で示すガラス板１１０Ｃと略同じ形状のガラス板が得られた。
　面取りにより得られたガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とを有する。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　面取りにより得られたガラス板について、例１と同様の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
　［例７］
　例７では、面取り方法として、切断により得られたガラス板を回転砥石で研削した後、ブラシで研磨しなかった以外は、例２と同様にして、所定の寸法のガラス板を作製した。このガラス板は、互いに平行な２つの略矩形状の主平面と、２つの主平面に隣接する４つの側面とを有する。各側面は、両主平面に対して垂直な平坦部と、各主平面と平坦部との間に形成される面取り部とを有する。各側面のうち、ガラス板の主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分と、引張応力の残留領域とが一部重なっている。
　面取りにより得られたガラス板について、例１と同様の評価を行った。評価の結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001

　表１から、次のことが明らかである。ガラス板の側面のうち所定部分を深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面に深さ１μｍ以上のピットがない試験片は、高い曲げ強度を有する。
　以上、ガラス板およびガラス板の製造方法の実施形態等を説明したが、本発明は上記の実施形態等に限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形や改良が可能である。
　例えば、第３の実施形態の回転砥石の外周面には、研削溝が形成されているが、形成されてなくてもよい。研削溝がない場合、回転砥石の外周面で研削されたガラス板の側面は主平面に垂直な面となる。そのため、研削溝がない場合、研削によって図７に２点鎖線で示す素板１１０と略同じ形状のガラス板が得られ、その後のブラシ研磨で図７に実線で示すガラス板１１０Ａと略同じ形状のガラス板が得られる。
　また、第３の実施形態において、研削溝のある回転砥石で研削する代わりに、ガラス板の角部をシートで研磨してもよい。シート研磨によって図１０に２点鎖線で示すガラス板１１０Ｂと略同じ形状のガラス板が得られ、その後のブラシ研磨によって図１０に実線で示すガラス板１１０Ｃと略同じ形状のガラス板が得られる。この場合のシートに含まれる砥粒の粒度は、第４の実施形態と異なり＃１０００以上であればよい。
　また、第３の実施形態において、研削溝のある回転砥石で研削する代わりに、研削溝のない回転砥石で研削した後に、研削されたガラス板の角部をシートで研磨してもよい。シート研磨によって図１０に２点鎖線で示すガラス板１１０Ｂと略同じ形状のガラス板が得られ、その後のブラシ研磨によって図１０に実線で示すガラス板１１０Ｃと略同じ形状のガラス板が得られる。この場合のシートに含まれる砥粒の粒度は、第４の実施形態と異なり＃１０００以上であればよい。
　本出願は、２０１１年８月２９日に日本国特許庁に出願された特願２０１１－１８６４６０号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１１－１８６４６０号の全内容を本国際出願に援用する。
１０　ガラス板
１１、１２　主平面
１３　側面
１３ａ、１３ｂ　側面の所定部分
１５、１６　面取り部
１７　エッチング面
１８　ピット
２１、２２　化学強化層（圧縮応力層）
２３　引張応力層
２４　化学強化による引張応力が残留する領域
１１０　ガラス板
１２０　スペーサ
１３０　積層体
１４０　ブラシ
１４２　ブラシ毛
２４０　回転砥石
３４０　シート

Claims (12)

  1. 　２つの主平面と、該２つの主平面に隣接する側面とを有し、該側面が少なくとも板厚方向一端部に面取り部を有するガラス板において、
    　前記側面の所定部分を深さ１０μｍエッチングしたとき、エッチング面に深さ１μｍ以上のピットがなく、
    　前記所定部分は、前記側面のうち、前記面取り部に隣接する主平面からの板厚方向における距離が板厚の１／５以内の部分であるガラス板。
  2. 　化学強化層を有する請求項１に記載のガラス板。
  3. 　化学強化による引張応力が残留する領域が前記側面に存在する請求項２に記載のガラス板。
  4. 　化学強化による引張応力が残留する領域と前記側面の前記所定部分とが一部重なる請求項３に記載のガラス板。
  5. 　曲げ強度が３００ＭＰａ以上である請求項４に記載のガラス板。
  6. 　２つの主平面と、該２つの主平面に隣接する側面とを有し、該側面が少なくとも板厚方向一端部に面取り部を有するガラス板の製造方法において、
    　ガラス板同士の間に板状のスペーサを介在させて、積層体を作製する積層工程と、
    　前記積層体の外縁部をブラシで研磨して前記面取り部を形成する研磨工程とを有し、
    　前記スペーサは、積層方向視において前記ガラス板の外縁よりも内側に配置され、前記ガラス板同士の間に隙間を形成し、該隙間の幅がブラシ毛の最大直径の１．２５倍以上であり、
    　前記研磨工程において、平均粒径が５μｍ以下の研磨材を含むスラリーが前記積層体の外縁部に供給されるガラス板の製造方法。
  7. 　前記積層体を作製する工程の前に、前記ガラス板の外縁部を円盤状の回転砥石で研削する工程をさらに有し、
    　前記スペーサは、積層方向視において、前記回転砥石で研削されたガラス板の研削面よりも内側に配置される請求項６に記載のガラス板の製造方法。
  8. 　前記回転砥石の外周面には研削溝が形成されており、前記研削溝の壁面で前記ガラス板の外縁部が研削され、面取りされる請求項７に記載のガラス板の製造方法。
  9. 　前記回転砥石の外周面には研削溝が形成されておらず、前記回転砥石の外周面で研削されたガラス板の側面は主平面に対して垂直な面である請求項７に記載のガラス板の製造方法。
  10. 　前記積層体を作製する工程の前に、粒度が＃１０００以上の砥粒を含むシートで前記ガラス板を研磨して面取りする工程をさらに有する請求項６に記載のガラス板の製造方法。
  11. 　前記シートで前記ガラス板を研磨する前に、前記ガラス板の外縁部を円盤状の回転砥石で研削する工程をさらに有し、
    　前記回転砥石の外周面には研削溝が形成されておらず、前記回転砥石の外周面で研削されたガラス板の側面は主平面に対して垂直な面である請求項１０に記載のガラス板の製造方法。
  12. 　２つの主平面と、該２つの主平面に隣接する側面とを有し、該側面が少なくとも板厚方向一端部に面取り部を有するガラス板の製造方法において、
    　粒度が＃６０００以上の砥粒を含むシートで前記面取り部を形成する工程を有するガラス板の製造方法。
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