DE19616679C1 - Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben - Google Patents
Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselbenInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 title description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 84
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 claims abstract description 12
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N Arsenious Acid Chemical compound O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 30
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 20
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 14
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 9
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 8
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 4
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000760 Hardened steel Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072033 potash Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Substances [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 210000004127 vitreous body Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
- C03C3/112—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Description
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines chemisch vorge
spannten Glases mit hoher Bruchfestigkeit und mit hoher chemischer Beständigkeit
sowie die Verwendung dieses Glases.
Glas ist für die Verwendung als Substrat für Datenträger (Festplatten) gegenüber
Metallen wie Aluminium oder Metallegierungen von Vorteil u. a. wegen seiner gerin
gen Oberflächenrauhigkeit und seiner Ebenheit. Solche Substratgläser müssen bei
der Festplattenfertigung und bei der Verwendung erhöhten chemischen, thermi
schen und mechanischen Belastungen standhalten. So erfahren sie während der
Beschichtung (beispielsweise durch Kathodenzerstäubung) hohe Temperaturen mit
kurzen Abkühlraten. Bei der Verwendung als Festplatten treten hohe mechanische
Belastungen, z. B. Umdrehungszahlen von 3500 bis 10000 U/min sowie Klemm
spannungen auf der Drehachse von bis zu 300 N/mm² auf.
Nicht vorgespannte Gläser sind gegenüber Zugspannungen sehr bruchanfällig. Den
genannten Belastungen können vor allem 0,25 bis 3,00 mm dünne Gläser nur wi
derstehen, wenn sie vorgespannt sind.
Im Vergleich zu nicht vorgespannten Gläsern weisen vorgespannte Gläser bei ge
gebener Last eine geringere Bruchwahrscheinlichkeit auf bzw. ist die Bruchwahr
scheinlichkeit erst bei einer höheren Last gleich groß.
Da die Erhöhung der mechanischen Belastbarkeit durch thermisches Vorspannen
erst bei einer Mindestdicke von 3 mm möglich ist, ist hier das chemische Vorspan
nen durch Ionenaustausch im Salzbad die Methode der Wahl.
Beim chemischen Vorspannen unterhalb der Transformationstemperatur Tg des
Glases werden Alkalimetallionen mit kleinem Ionendurchmesser aus dem Glas ge
gen Alkalimetallionen größeren Durchmessers aus dem Salzbad ausgetauscht, z. B.
Li⁺ gegen Na⁺, Na⁺ gegen K⁺. So lassen sich mit Druckspannungszonen mit einer
Dicke von etwa 14 bis 230 µm, was etwa 2/3 der Ionenaustauschtiefe entspricht,
Biegefestigkeiten von 350 bis 900 N/mm² aufbauen.
Wesentlich für eine erfolgreiche Erzeugung von Druckspannungsschichten ist auch
die Zusammensetzung des Glases. Das Vorhandensein von Li-Ionen im Glas er
schwert die Durchführung des Ionenaustauschprozesses, weil zwei Ionensorten
ausgetauscht werden, nämlich Li⁺ gegen Na⁺ und Na⁺ gegen K⁺ und weil während
des Austauschprozesses i.a. ein spezielles Mischungsverhältnis von Na- und K-Salzen
und enge Temperaturgrenzen eingehalten werden müssen.
Die Glaskomponente Fluorid bildet zusammen mit Sauerstoffionen das Anionen
netzwerk des Glases, in dem große Ionen leicht diffundieren können. Dadurch ist ein
Spannungsabbau begünstigt.
Eine chemische Vorspannung ist, wenn das Substratglas größere Mengen an Flu
orid enthält, gewöhnlich nur für eine kurze Zeit erreichbar oder geht z. B. bei der
Temperaturbelastung durch die Beschichtung überwiegend verloren.
Für die genannte Verwendung ist auch die Qualität des Glases bezüglich Zahl und
Größe von Fehlern wie festen Einschlüssen und Blasen von Bedeutung. Blasen an
der Oberfläche des Substrats verursachen nämlich, wenn sie anpoliert werden, Lö
cher, was zu unerlaubten Unebenheiten der Oberfläche führt.
In der Offenlegungsschrift DE 42 06 268 A1 wird für die Verwendung als Festplatten-Substratglas
ein lithiumhaltiges Aluminosilicatglas beschrieben. Durch das Vorhan
densein von Li₂O wird zwar die Läuterbarkeit verbessert, jedoch das chemische Vor
spannen erschwert.
Eine sehr große Bedeutung für die Funktionsfähigkeit einer Festplatte hat neben der
Oberflächenebenheit die chemische Beständigkeit des Substratglases: Der Lese-
Schreibe-Kopf eines Rechners steht in der geringen Entfernung von ca. 50 nm zur
schnell drehenden Festplatte. Dieser Abstand muß für eine einwandfreie Funktion
exakt gewahrt bleiben. Er wird jedoch verringert, wenn die Oberfläche des Festplat
ten-Substrats unbeständig gegen Atmosphäreneinfluß ist und schon vor der Be
schichtung ein chemischer Angriff die Oberfläche rauh macht (z. B. durch Ausblü
hungen) oder wenn die Oberfläche durch Atmosphäreneinfluß ihre Haftfestigkeit zur
aufgebrachten Schichtenfolge verliert und diese sich von ihr löst.
Problematisch ist, daß üblicherweise die Beständigkeit einer Glasoberfläche gegen
über dem Angriff von Wasser, Lauge oder Säure durch das chemische Vorspannen,
also die Erhöhung der Konzentration größerer Alkaliionen, herabgesetzt wird.
Die chemische Beständigkeit nimmt nämlich nicht nur mit steigender Alkalikonzen
tration ab, sondern die genannten Angriffe sind um so effektiver, je größer die Alkali
ionen sind.
Aufgabe der Erfindung ist es nun, ein Verfahren zur Herstellung eines chemisch
vorgespannten Glases anzugeben, welches nicht nur eine hohe Biegefestigkeit,
sondern auch eine hohe chemische Beständigkeit besitzt.
Diese Aufgabe wird durch das in Patentanspruch 1 beschriebene Verfahren gelöst.
Eine Voraussetzung, um der im Vorspannverfahren zu erzeugenden Druckspan
nungszone die gewünschten Eigenschaften zu geben, ist die Zusammensetzung des
Glases.
In den erfindungsgemäß verwendeten Aluminosilicatgläsern darf der SiO₂-Anteil
67,5 Mol-% nicht überschreiten, da sonst die Schmelztemperaturen zu sehr anstei
gen. Andererseits darf 63,0 Mol-% SiO₂ nicht unterschritten werden, da sich sonst
die chemische Beständigkeit zu sehr verschlechtert. Aus den gleichen Gründen darf
der Al₂O₃-Anteil 12,0 Mol-% nicht über- und 9,5 Mol-% nicht unterschreiten. Um so
wohl eine gute Säurebeständigkeit als auch eine gute Ionenaustauschbarkeit zu ge
währleisten, müssen SiO₂ und Al₂O₃ in einem ausgewogenen Verhältnis zueinander
vorliegen. So soll das Mol-Verhältnis SiO₂/Al₂O₃ zwischen 5,3 und 6,85 betragen.
Wesentlicher Bestandteil der Gläser sind die Alkalioxide. Auf das Vorhandensein
von Li₂O kann aufgrund der weiter unten beschriebenen wirkungsvollen Kombination
von Läutermitteln völlig verzichtet werden, wodurch es ermöglicht wird, die ge
wünschten Eigenschaften bzgl. Oberflächenqualität und chemischer Vorspannung
gleichzeitig in einem Glas zu realisieren.
Der Gehalt an Na₂O soll zwischen 8,5 und 15,5 Mol-% liegen. Ist er höher als 15,5
Mol-%, verschlechtert sich die chemische Beständigkeit, ist er geringer als 8,5 Mol-%,
wird zum einen das Glas schlechter schmelzbar und zum anderen die Erhöhung
der Festigkeit durch einen Na⁺-K⁺-Ionenaustausch nur noch eingeschränkt mög
lich.
Ein Bestandteil von besonderer und überraschender Wirkung ist K₂O. Es soll zu 2,5
bis 4,0 Mol-% vorhanden sein. So wird die Schmelzbarkeit des Glases weiter ver
bessert und ein Ionenaustauschprozeß des Na-Ion im Glas gegen das K-Ion im
Salzbad beschleunigt. Außerdem wird die Homogenisierung erleichtert, was eine
Verbesserung bzgl. der gewünschten Blasenfreiheit bedeutet. Durch K₂O wird die
Basizität des Glases nämlich stärker erhöht als durch die gleiche Molzahl an Na₂O,
und so wird die Läuterung erleichtert, ohne die hohe chemische Beständigkeit oder
die chemische Vorspannbarkeit zu beeinträchtigen. Nur im angegebenen Bereich ist
die erleichterte Glasherstellung von Glas hoher Blasenqualität bei gleichbleibenden
chemischen und mechanischen Eigenschaften gewährleistet. Ist der K₂O-Gehalt
geringer als 2,5 Mol-% und ist das Verhältnis Al₂O₃/K₂O kleiner als 2,8, nehmen
Blasendichte und Blasengröße zu, ist der K₂O-Gehalt höher als 4,0 Mol-% und ist
das Verhältnis Al₂O₃/K₂O größer als 3,6, kann die Festigkeit der Gläser beim Vor
spannen nicht genügend erhöht werden.
Auch die beiden Alkalioxide müssen in einem ausgewogenen Verhältnis zueinander
vorliegen. So soll das Mol-Verhältnis von Na₂O zu K₂O zwischen 3,0 und 5,6 liegen.
Ein weiterer notwendiger Bestandteil ist MgO. Es soll in einer Mindestmenge von 3,0
Mol-% MgO vorhanden sein. Es erhöht nämlich die Basizität der Gläser und fördert
so die Homogenisierung. Es hemmt aber auch den Ionenaustauschprozeß, da in
Aluminosilicatgläsern bei Anwesenheit zweiwertiger Ionen die Na-Ionen stärker in
der Glasstruktur gebunden sind. Aus diesem Grund soll ein Höchstgehalt von 9,0
Mol-% MgO nicht überschritten werden. Die gleichen Wirkungen haben auch die
anderen Erdalkalioxide sowie ZnO. Daher können auch CaO, SrO, BaO und ZnO im
Glas enthalten sein, und zwar zu 0-2,5 Mol-% Σ CaO + SrO + BaO + ZnO. Bevorzugt
ist das Vorhandensein von 0,1 bis 2,5 Mol-% Σ CaO + SrO + BaO + ZnO. Die Bevorzu
gung des MgO gegenüber den anderen Erdalkalioxiden und ZnO ist begründet in
der Tatsache, daß MgO ähnlich wie BaO und CaO die Schmelzbarkeit verbessert,
aber weit weniger als diese die chemische Beständigkeit vermindert.
TiO₂ ist eine weitere notwendige Komponente des Glases. Es soll zu mindestens 0,5
Mol-% vorliegen, ein Gehalt von 1,5 Mol-% soll jedoch nicht überschritten werden
da ansonsten Schwierigkeiten beim Aufschmelzen des Gemenges auftreten.
Auch die weiteren Komponenten, Läutermittel und Läuterhilfen, müssen in einer
ausgewogenen Kombination vorhanden sein, um beste Ergebnisse bzgl. Blasen
qualität zu erzielen. CeO₂ soll in Mengen zwischen 0,02 und 0,5 Mol-% im Glas ent
halten sein. Es hat nicht nur Läuterfunktion, sondern verleiht dem Glas zusätzlich
eine ausreichend hohe Absorption der medizinisch bedenklichen UV-Strahlung, was
auch einen Einsatz des Glases in der Beleuchtungsindustrie ermöglicht. Es hat sich
gezeigt, daß die Menge an Läutermitteln, die notwendig ist, von der vorhandenen
Menge an Al₂O₃ abhängt. Je mehr Al₂O₃ im Glas vorliegt, desto mehr Läutermittel
sind nötig. Speziell soll ein Mol-Verhältnis von Al₂O₃/(CeO₂ + TiO₂) zwischen 7,6
und 18,5 eingehalten werden.
Als weitere Läutermittel können As₂O₃ in Mengen bis zu 0,35 Mol-% und SnO₂ mit
bis zu 1,0 Mol-% sinnvoll sein. Vorzugsweise ist von diesen beiden Komponenten
mindestens eine mit mindestens 0,02 Mol-% vorhanden. Um eine ganz besonders
hohe Qualität bzgl. geringer Blasenzahl und -größe zu erzielen, sollte das verwende
te Glas As₂O₃ im Bereich zwischen 0,02 und 0,35 Mol-% enthalten.
Weiter muß das Glas F₂ im Bereich zwischen 0,05 und 2,6 Mol-% enthalten. Die
Untergrenze ergibt sich aus den Anforderungen an die Blasenqualität, die Ober
grenze folgt aus der oben schon beschriebenen Wirkung des Fluorids im Glasnetz
werk. Bevorzugt ist bei arsenhaltigen Gläsern der Bereich 0,05-0,7 Mol-% F₂ und
bei arsenfreien Gläsern der Bereich <0,5-2,6 Mol-% F₂.
Überraschenderweise läßt sich in diesen Gläsern auf einfache Weise durch chemi
sches Vorspannen eine tiefe Druckspannungszone mit lang anhaltender Druckspan
nung aufbauen, ohne daß die gute chemische Beständigkeit sich verschlechtert. Die
Glaskörper werden in Salzbädern, die aus 100 bis mehr als 90 Gew.-% Kaliumsal
zen bestehen bei Badtemperaturen zwischen 350 und 550°C 0,5 bis 20 h belassen.
Durch eine solche Behandlung werden etwa 14 µm bis über 230 µm dicke Druck
spannungszonen erreicht, wobei niedrigere Temperaturen höhere Verweilzeiten er
forderlich machen. Für das Salzbad können alle gängigen Kaliumsalze verwendet
werden, deren Anionen im angegebenen Temperaturbereich stabil sind. Das Salz
bad (in der Regel mit 100% Kaliumsalz beginnend) wird dann erneuert, wenn durch
den Austausch der Kali-Gehalt soweit abgesunken ist, daß die gewünschte Aus
tauschtiefe nicht mehr erreicht wird. Das ist in der Regel bei 90 Gew.-% Kaliumsal
zen der Fall. Man kann auch von Beginn an bis zu <10 Gew.-% an anderen Salzen,
die den Schmelzpunkt des Bades erniedrigen, verwenden. Dies bedeutet natürlich,
daß die Austauschfähigkeit des Bades dann entsprechend früher erschöpft ist.
Das chemische Vorspannen der Gläser durch Ionenaustausch kann u. U. zu uner
wünschten Rauhigkeiten auf der Oberfläche führen. In einer vorteilhaften Ausfüh
rungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die Gläser im Anschluß an
das Vorspannen poliert. Diese sich vom Stand der Technik unterscheidende Reihen
folge der Prozeßschritte wird hier ohne Verlust der hohen Bruchfestigkeit durch die
Dicke der entstandenen Druckspannungsschicht ermöglicht. Die Schicht sollte vor
teilhaft <25 µm dick sein; dies wird beispielsweise durch einen etwa 1 h währenden
Ionenaustausch bei einer Temperatur von 450°C bewirkt, kann aber auch mit ande
ren Zeiten und Temperaturen entsprechend Tabelle 2 erreicht werden. Durch Polie
ren nach dem Vorspannen können die bei der chemischen Vorspannung aufgetrete
nen mechanischen Veränderungen der Oberfläche wieder entfernt werden, und man
erhält Gläser von hervorragender Oberflächenqualität. Die gute chemische Bestän
digkeit bleibt außerdem erhalten. Neben der Verbesserung der Oberflächenqualität
bedeutet die hier beschriebene Vorgehensweise auch noch eine Vereinfachung des
Herstellungsprozesses, da weniger Reinigungsschritte nötig sind. Die Gläser werden
mit Ceroxid auf eine Restrauhigkeit entsprechend einem RMS (root mean square) -
Wert <1 nm poliert.
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens sind folgende:
Die nach diesem Verfahren hergestellten vorgespannten Gläser weisen gleichzeitig die folgenden, in dieser Kombination einmaligen, Eigenschaften auf:
Die nach diesem Verfahren hergestellten vorgespannten Gläser weisen gleichzeitig die folgenden, in dieser Kombination einmaligen, Eigenschaften auf:
- - eine hohe Biegefestigkeit,
- - eine tiefe Druckspannungszone,
- - praktisch keine Relaxation der erzeugten Druckspannung
- - eine gute Oberflächenqualität,
- - eine hohe chemische Beständigkeit.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten vorgespannten Gläser
sind aufgrund ihrer besonderen Eigenschaften hervorragend geeignet für die Ver
wendung als Substratgläser für Festplatten.
In Tabelle 1 sind Beispiele von vorgespannten Gläsern angegeben, die nach dem
erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurden. Die Tabelle enthält deren Zu
sammensetzung, Angaben zu den Bedingungen des Ionenaustausches in einem
KNO₃-Bad sowie relevante Eigenschaften bzgl. chemischer Beständigkeit sowie
Festigkeit.
Die Gläser wurden im 4-l-Platintiegel aus herkömmlichen Rohstoffen erschmolzen.
Die Rohstoffe wurden über einen Zeitraum von 8 h bei Schmelztemperaturen von
1580°C eingelegt. Das Glas wurde anschließend 14 h lang auf dieser Temperatur
gehalten, dann unter Rühren innerhalb von 8 h auf 1400°C abgekühlt und in eine
auf 500°C vorgeheizte Graphitform gegossen. Der entstandene Gußblock wird zur
optischen Vorkontrolle zu einem Quader mit polierten Oberflächen verarbeitet.
Aus diesem Gußblock wurden auf herkömmliche Weise runde Glasscheiben herge
stellt, die die Form und die Abmessungen von Festplatten-Substraten besitzen, d. h.
einen Außendurchmesser von 65,0 mm und eine Dicke von 0,635 mm aufweisen
sowie ein konzentrisches Innenloch mit einem Durchmesser von 20,00 mm besitzen.
Die feingeschliffenen und polierten Glasscheiben wurden dann in einem KNO₃-Bad
unter den jeweiligen in der Tabelle genannten Bedingungen chemisch vorgespannt.
Zur Bestimmung der in der Tabelle genannten Eigenschaften und Größen wurden
folgende physikalischen Untersuchungsmethoden angewandt:
Die Biegefestigkeit wird nach folgender Methode bestimmt, die in der Glasindustrie üblich ist und die sich an den Beanspruchungen in der Praxis orientiert:
Im sogenannten Doppelringtest wird die chemisch vorgespannte Glasscheibe mit der Form und den Abmessungen eines Festplatten-Substrats zentriert auf einen Metall trägerring mit einer ringförmigen Schneide aus gehärtetem Stahl gelegt die einen Durchmesser von 60 mm besitzt, also etwas kleiner als die zu testende Scheibe (⌀ = 65 mm) ist. Von oben liegt ebenfalls zentriert ein weiterer Metallträgerring mit Stahlschneide auf der Glasscheibe. Diese Schneide ist mit einem Durchmesser von 25 mm etwas größer als die innere Bohrung (⌀ = 20 mm) des Festplatten-Substrats. Dieser obere Ring drückt nun mit seiner Schneide mit einer Geschwindigkeit von 2 mm/min auf die auf der Schneide des unteren Ringes liegende Glasscheibe und übt so eine ständig wachsende Kraft auf das Festplatten-Substrat aus. Die Last, bei der das Substrat bricht, wird als Biegefestigkeit [N/mm²] angegeben. Der Test gilt als bestanden, wenn der Bruch erst bei einer Last <100 N eintritt.
Die Biegefestigkeit wird nach folgender Methode bestimmt, die in der Glasindustrie üblich ist und die sich an den Beanspruchungen in der Praxis orientiert:
Im sogenannten Doppelringtest wird die chemisch vorgespannte Glasscheibe mit der Form und den Abmessungen eines Festplatten-Substrats zentriert auf einen Metall trägerring mit einer ringförmigen Schneide aus gehärtetem Stahl gelegt die einen Durchmesser von 60 mm besitzt, also etwas kleiner als die zu testende Scheibe (⌀ = 65 mm) ist. Von oben liegt ebenfalls zentriert ein weiterer Metallträgerring mit Stahlschneide auf der Glasscheibe. Diese Schneide ist mit einem Durchmesser von 25 mm etwas größer als die innere Bohrung (⌀ = 20 mm) des Festplatten-Substrats. Dieser obere Ring drückt nun mit seiner Schneide mit einer Geschwindigkeit von 2 mm/min auf die auf der Schneide des unteren Ringes liegende Glasscheibe und übt so eine ständig wachsende Kraft auf das Festplatten-Substrat aus. Die Last, bei der das Substrat bricht, wird als Biegefestigkeit [N/mm²] angegeben. Der Test gilt als bestanden, wenn der Bruch erst bei einer Last <100 N eintritt.
Die Druckspannung wird spannungsoptisch gemessen: Wird die Glasplatte unter
Druckspannung gesetzt, ändern sich die Brechzahlen parallel und senkrecht zur
Richtung der Spannung, und die Glasplatte wird doppelbrechend. Die Doppelbre
chung, die Differenz dieser Brechzahlen, ist über die spannungsoptische Konstante
des betreffenden Glases der angelegten Spannung proportional und wird aus dem
Gangunterschied zwischen senkrecht und parallel polarisiertem Licht nach Reflexion
an der Glasoberfläche bestimmt.
Die Messung der Dicke der Druckspannungszone wird folgendermaßen durchge
führt:
Eine Glasprobe wird unter einem Polarisationsmikroskop bei der Wellenlänge 546 nm beobachtet. Die durch Ionenaustausch behandelte Probe steht an der gesamten Oberfläche unter Druckspannung und im Inneren aus Gleichgewichtsgründen unter Zugspannung. Zur Messung der Spannung wird die Probe zwischen 2 gekreuzte Polarisatoren gebracht. Die in die Probe eingebrachte Spannung verursacht durch Spannungsdoppelbrechung im Strahlengang des Mikroskops eine Aufhellung. Der Übergang von Zug- auf Druckspannung (neutrale Zone 0-ter Ordnung) ist als ein breiter dunkler Streifen unter dem Mikroskop zu erkennen. Der Abstand der 0-ten Ordnung zum Rand der Probe ist ein Maß für die Dicke der Druckspannungszone.
Eine Glasprobe wird unter einem Polarisationsmikroskop bei der Wellenlänge 546 nm beobachtet. Die durch Ionenaustausch behandelte Probe steht an der gesamten Oberfläche unter Druckspannung und im Inneren aus Gleichgewichtsgründen unter Zugspannung. Zur Messung der Spannung wird die Probe zwischen 2 gekreuzte Polarisatoren gebracht. Die in die Probe eingebrachte Spannung verursacht durch Spannungsdoppelbrechung im Strahlengang des Mikroskops eine Aufhellung. Der Übergang von Zug- auf Druckspannung (neutrale Zone 0-ter Ordnung) ist als ein breiter dunkler Streifen unter dem Mikroskop zu erkennen. Der Abstand der 0-ten Ordnung zum Rand der Probe ist ein Maß für die Dicke der Druckspannungszone.
Die oben beschriebenen Glasscheiben sind für diese Messung zu dünn. Daher wer
den Glasplättchen mit den Abmessungen 6 mm × 50 mm mit einer Dicke von 2 mm
verwendet, die jeweils nach denselben Bedingungen hergestellt und gehärtet wur
den wie die Glasscheiben.
Die Knoop-Härte wird nach DIN 52 333 bestimmt.
Zur Überprüfung der chemischen Beständigkeit ist ein schnelles, einfaches und mit
geringem Apparateaufwand durchzuführendes Prüfverfahren zweckmäßig. Ein stan
dardisiertes Prüfungsverfahren speziell für Datenträger aus Glas gibt es bisher noch
nicht. In der Glasindustrie sind für Glaserzeugnisse verschiedene Prüfverfahren für
die chemische Beständigkeit bekannt, die aus verschiedenen Gründen für die Be
stimmung der chemischen Beständigkeit von Festplatten-Substraten ungeeignet
sind.
Die sogenannte Alkali-Auslaugung der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
hergestellten Scheibe, wird nach einem neuen Verfahren bestimmt, das sich durch
Einfachheit in der Durchführung und hohe Aussagekraft der Ergebnisse auszeich
net. Unter dem Begriff Alkali-Auslaugung ist dabei die Summe der Alkaliionen zu
verstehen, die bei folgendem Test unter folgenden Bedingungen aus dem Probe
stück gelöst werden: Das Probestück ist eine vorgespannte, runde Glasscheibe mit
Form und Abmessungen wie oben beschrieben: mit einem Außendurchmesser von
65,0 mm, mit einem konzentrischen Innenloch mit einem Durchmesser von 20,00
mm und einer Dicke von 0,635 mm, dessen Kanten feingeschliffen und facettiert
sind und dessen Oberflächen mit Ceroxid auf eine RMS-Rauhigkeit von <1 nm po
liert sind. Das Probestück wird nach dem Vorspannen bzw. in der bevorzugten Aus
führungsform nach Vorspannen und Politur in einem letzten Reinigungsschritt ¼ h in
einem Ultraschallbad bei Raumtemperatur in deionisiertem Wasser gewaschen,
noch feucht in 25 ml 80°C heißes, deionisiertes Wasser gelegt und 24 h dort belas
sen. Die Menge der ausgelaugten Alkaliionen wird mittels Atom-Absorptions-Spektrometrie
gemessen.
Die angegebene Alkali-Auslaugung in µg bezieht sich auf jeweils ein Probestück.
Unter Alkali-Auslaugung wird die Summe der Alkali-Ionen, angegeben in µg, ver
standen, die im oben beschriebenen Test unter den genannten Bedingungen pro
Festplatten-Substrat ausgelaugt wird.
In der Zeile "Spannungsrelaxation [h]" wird die Lagerzeit in Stunden bei konstanter
Lagertemperatur (300°C) angegeben, bei der ein meßbarer Abbau der Dicke der
Druckspannungszone einsetzt, wobei Dickenänderungen ab 4 µm meßtechnisch
erfaßbar sind. Die angewandte optische Methode wurde bereits erläutert. Ein sol
cher Abbau der Dicke der Druckspannungszone geht mit einem Druckspannungsab
bau einher und ist leichter meßbar als der Druckspannungsabbau selbst.
An einem Glas gemäß der Zusammensetzung von Beispiel 3 aus Tabelle 1 wurden
bei der chemischen Härtung im KNO₃-Bad die Austauschzeit zwischen ½ h und 15 h
und die Badtemperatur zwischen 350°C und 550°C variiert. Die dabei erzielten
Dicken der Druckspannungszonen in µm sind in Tabelle 2 zusammengestellt. Es
werden Dicken der Druckspannungszonen zwischen 14 und 230 µm erzeugt wobei,
wie es auch zu erwarten ist, niedrigere Temperaturen höhere Verweilzeiten erforder
lich machen.
Die Dicke der Druckspannungszone ist also deutlich sowohl von der Austauschzeit
(bei konstanter Austauschtemperatur) als auch von der Austauschtemperatur (bei
konstanter Austauschzeit) abhängig.
Tabelle 3 verdeutlicht, daß diese Abhängigkeit praktisch nicht für die Druckspan
nung an der Oberfläche, jedoch wohl für die Biegefestigkeit gilt. Wieder wurde als
Beispielglas das Glas der Zusammensetzung von Beispiel 3 aus Tabelle 1 gewählt.
Mit diesen sehr guten Biegefestigkeiten ist ein nach dem erfindungsgemäßen Ver
fahren hergestelltes vorgespanntes Glas hervorragend geeignet, den mechanischen
Belastungen, denen Festplatten ausgesetzt sind bzw. sein werden (steigende Um
drehungszahlen bei zukünftigen Festplatten), standzuhalten.
Die Temperaturabhängigkeit der bereits in Tabelle 1 erwähnten Spannungsrelaxati
on stellt Tabelle 4 dar. Hierzu wurde ein Festplatten-Substrat aus einem Glas der
Zusammensetzung von Beispiel 7 aus Tabelle 1 20 h bei 520°C in KNO₃-Bad gehär
tet. Dabei bildete sich eine 220 µm dicke Druckspannungszone mit einer Drucks
pannung von 800 N/mm². Tabelle 3 zeigt bei unterschiedlichen Lagertemperaturen
die jeweilige Lagerzeit, bis ein Abbau der Dicke der Druckspannungszone festge
stellt wird.
Mittels Extrapolation läßt sich für eine Lagertemperatur von 200°C eine Lagerzeit
von mehr als 50 000 h, bevor ein Spannungsabbau einsetzt, errechnen. Für deutlich
geringere Temperaturen, beispielsweise eine Lagerung bei <60°C, kann also von
einem praktisch unbeschränkten Bestand der Druckspannung und damit der Festig
keitseigenschaften gesprochen werden.
Neben der hohen Biegefestigkeit ist die geringe Alkali-Auslaugung, also die hohe
chemische Beständigkeit, bezeichnend für nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
hergestellte Gläser. Zur Verdeutlichung dieser Eigenschaft wurden wiederum an ei
nem Glas gemäß Beispiel 3 aus Tabelle 1 bei der chemischen Vorspannung im
KNO₃-Bad Vorspannzeiten und -temperaturen variiert und die jeweilige Alkali-Auslaugung
bestimmt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 (Variation der Aus
tauschzeit) und in Tabelle 6 (Variation der Austauschtemperatur) zusammengestellt.
Je 3 Proben wurden ausgelaugt und jeweils deren Auslaugung bestimmt, wobei die
angegebenen Ergebnisse reproduziert wurden.
Mit einer Vorspannzeit von 0 h ist in der ersten Zeile das ungespannte Glas als
Vergleich aufgeführt. Die unterschiedliche Verteilung der ausgelaugten Ionen ergibt
sich aus der unterschiedlichen Elementverteilung an der Oberfläche von gespannten
und nichtgespannten Gläsern. Auffallend und bedeutend ist jedoch, daß die Summe
der ausgelaugten Alkaliionen bei den vorgespannten Gläsern genauso gering wie im
Fall des nicht chemisch vorgespannten Glases ist. Die gute chemische Beständig
keit bleibt also auch nach dem Vorspannen erhalten. Überraschenderweise nimmt
die Alkali-Auslaugung mit steigender Vorspanndauer praktisch nicht zu; bei langen
Austauschzeiten wird sie sogar geringer!
Die Alkali-Auslaugung wird von der Vorspanntemperatur praktisch nicht beeinflußt.
Daß Gläser der beschriebenen Zusammensetzung, die unter den genannten Bedin
gungen chemisch vorgespannt worden sind, in der Dicke erheblich abgetragen, z. B.
poliert werden können, ohne daß sich ihre Alkali-Auslaugung, also ihre chemische
Beständigkeit wesentlich ändert, verdeutlicht Tabelle 7. In ihr ist für zwei verschie
dene Vorspannzeiten die Alkali-Auslaugung eines Festplatten-Substrates der Zu
sammensetzung gemäß Beispiel 3 aus Tabelle 1 dargestellt, das nicht vor, sondern
nach dem Vorspannen beidseitig mit Ceroxid bis zu einem Dickenabtrag von je 10
µm poliert wurde. Die Restrauhigkeit betrug <1 nm. Die Dicke der Druckspannungs
zone hatte vor dem Abtragen 33 µm (Vorspannzeit 2,5 h) bzw. 40 µm (Vorspannzeit
3,0 h) betragen. Wieder sind die angegebenen Werte durch dreifache Bestimmung
abgesichert.
Hierdurch wird der Vorteil der Vorgehensweise in der beschriebenen speziellen
Ausführungsform der Erfindung, nämlich das Polieren erst nach dem Vorspannen
durchzuführen, deutlich: Die gute chemische Beständigkeit bleibt erhalten, und die
Oberflächenqualität, die durch den Ionenaustausch u. U. beeinträchtigt wurde, wird
durch diese späte Politur bleibend verbessert.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung eines chemisch vorgespannten Glases mit hoher
Bruchfestigkeit und mit hoher chemischer Beständigkeit,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Glas der Zusammensetzung (in Mol-% auf Oxidbasis):
in einem zu mehr als 90 Gew.-% aus Kaliumsalzen bestehenden Ionenaus
tauschbad bei einer Temperatur zwischen 350 und 550°C und bei einer Ver
weilzeit zwischen 0,5 und 20 h chemisch vorgespannt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß im verwendeten Glas mindestens eine Komponente aus der Gruppe As₂O₃
und SnO₂ mit mindestens 0,02 Mol-% vorhanden ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2
dadurch gekennzeichnet,
daß das verwendete Glas 0,02-0,35 Mol-% As₂O₃ enthält.
4. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Glas nach dem chemischen Vorspannen poliert wird.
5. Verwendung des nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 4 hergestellten
Glases als Substratglas für Festplatten.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19616679A DE19616679C1 (de) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben |
| MYPI97001562A MY119174A (en) | 1996-04-26 | 1997-04-10 | Process for the production of chemically prestressed glass, and the use thereof |
| US08/842,431 US5846280A (en) | 1996-04-26 | 1997-04-24 | Process for production of chemically prestressed glass |
| JP12487297A JP4213232B2 (ja) | 1996-04-26 | 1997-04-28 | 化学強化処理されたガラスの製造方法及びその使用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19616679A DE19616679C1 (de) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19616679C1 true DE19616679C1 (de) | 1997-05-07 |
Family
ID=7792507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19616679A Expired - Lifetime DE19616679C1 (de) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5846280A (de) |
| JP (1) | JP4213232B2 (de) |
| DE (1) | DE19616679C1 (de) |
| MY (1) | MY119174A (de) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999015471A1 (en) * | 1997-09-23 | 1999-04-01 | Glaverbel | Thermal dimensional stability treatment of vitreous sheet material by contacting with a molten alkali metal salt |
| DE10112859A1 (de) * | 2001-03-16 | 2002-10-02 | Hero Glas Veredelungs Gmbh | Verbund-Sicherheitsglas und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE102009050987B3 (de) * | 2009-05-12 | 2010-10-07 | Schott Ag | Dünnschichtsolarzelle und Verfahren zur Herstellung einer Dünnschichtsolarzelle |
| DE102009050988B3 (de) * | 2009-05-12 | 2010-11-04 | Schott Ag | Dünnschichtsolarzelle |
| DE102010009584A1 (de) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | Schott Ag | Chemisch vorgespanntes Glas |
| DE102012105900A1 (de) * | 2012-07-03 | 2014-01-09 | Schott Ag | Durchschusshemmendes Verbundglas |
| DE112010004720B4 (de) * | 2009-12-11 | 2018-08-02 | Schott Ag | Aluminosilikatglas für einen Touchscreen |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2335423A (en) * | 1998-03-20 | 1999-09-22 | Pilkington Plc | Chemically toughenable glass |
| US7179551B2 (en) | 1999-02-12 | 2007-02-20 | General Electric Company | Poly(arylene ether) data storage media |
| JP2002536778A (ja) | 1999-02-12 | 2002-10-29 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | データ記憶媒体 |
| SG84584A1 (en) | 1999-03-31 | 2001-11-20 | Hoya Corp | Method of manufacturing glass substrate for use in information recording medium, and method of manufacturing information recording medium |
| US6458018B1 (en) | 1999-04-23 | 2002-10-01 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article suitable for abrading glass and glass ceramic workpieces |
| JP2001294442A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-10-23 | Sony Corp | 陰極線管用ガラスパネルおよびこれを用いた陰極線管ならびに陰極線管の製造方法 |
| SG99350A1 (en) * | 2000-02-17 | 2003-10-27 | Hoya Corp | Glass for cathode-ray tube, strengthened glass, method for the production thereof and use thereof |
| WO2003102928A1 (en) * | 2002-06-03 | 2003-12-11 | Hoya Corporation | Substrate for information recording medium, information recording medium and process for producing the same |
| US8025808B2 (en) * | 2003-04-25 | 2011-09-27 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Methods for machine ceramics |
| US8959953B2 (en) * | 2005-09-12 | 2015-02-24 | Saxon Glass Technologies, Inc. | Method for making strengthened glass |
| US20070111042A1 (en) * | 2005-11-16 | 2007-05-17 | Seagate Technology Llc | Alkali-depleted glass & glass-based substrates for magnetic & magneto-optical recording media |
| JP5336387B2 (ja) * | 2006-12-20 | 2013-11-06 | サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド | 無機、非金属ワークピースを機械加工するための方法 |
| JP2008247732A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-10-16 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化板ガラスとその製造方法 |
| CN101328026B (zh) * | 2007-06-20 | 2010-05-26 | 中国南玻集团股份有限公司 | 用于玻璃化学钢化的熔盐及采用该熔盐的化学钢化方法 |
| JP5467490B2 (ja) | 2007-08-03 | 2014-04-09 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板 |
| JP5743125B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2015-07-01 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス及び強化ガラス基板 |
| CN101939266A (zh) * | 2008-02-05 | 2011-01-05 | 康宁股份有限公司 | 用作电子装置中的盖板的耐破损玻璃制品 |
| KR20100120683A (ko) * | 2008-02-08 | 2010-11-16 | 코닝 인코포레이티드 | 내손상성, 화학적으로-강화된 보호 커버 유리 |
| DE202009018699U1 (de) | 2008-02-26 | 2012-11-20 | Corning Incorporated | Läutermittel für Silikatgläser |
| JP5867953B2 (ja) * | 2008-06-27 | 2016-02-24 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラスおよび強化用ガラス |
| WO2010005578A1 (en) * | 2008-07-11 | 2010-01-14 | Corning Incorporated | Glass with compressive surface for consumer applications |
| KR20180015272A (ko) | 2008-08-08 | 2018-02-12 | 코닝 인코포레이티드 | 강화 유리 제품 및 제조방법 |
| WO2011037001A1 (ja) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 |
| CN102108011B (zh) * | 2009-12-24 | 2013-05-29 | 比亚迪股份有限公司 | 一种玻璃元件的强化方法 |
| JP2012214356A (ja) * | 2010-12-29 | 2012-11-08 | Avanstrate Inc | カバーガラス及びその製造方法 |
| CN103459337B (zh) * | 2011-03-31 | 2015-11-25 | 日本板硝子株式会社 | 适于化学钢化的玻璃组合物、及化学钢化玻璃物品 |
| TWI591039B (zh) * | 2011-07-01 | 2017-07-11 | 康寧公司 | 具高壓縮應力的離子可交換玻璃 |
| JP2013043795A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラス及びその製造方法 |
| CN103764585A (zh) * | 2011-08-29 | 2014-04-30 | 旭硝子株式会社 | 玻璃板及玻璃板的制造方法 |
| DE102012215864A1 (de) * | 2012-09-07 | 2014-03-13 | Schott Ag | Transparentes durchschusshemmendes Laminat |
| US11352287B2 (en) | 2012-11-28 | 2022-06-07 | Vitro Flat Glass Llc | High strain point glass |
| JP5413817B2 (ja) * | 2013-05-08 | 2014-02-12 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法 |
| US10442730B2 (en) | 2013-11-25 | 2019-10-15 | Corning Incorporated | Method for achieving a stress profile in a glass |
| KR102325873B1 (ko) * | 2016-04-29 | 2021-11-12 | 쇼오트 글라스 테크놀로지스 (쑤저우) 코퍼레이션 리미티드. | 고강도 초박형 유리 및 이의 제조 방법 |
| US11028007B2 (en) * | 2017-06-22 | 2021-06-08 | Corning Incorporated | Automotive glass compositions, articles and hybrid laminates |
| CN117430329A (zh) * | 2023-10-19 | 2024-01-23 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 玻璃原片、强化玻璃及其制备方法和车用夹层玻璃 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4206268A1 (de) * | 1991-05-20 | 1992-11-26 | Hoya Corp | Chemisch verstaerkbare glaszusammensetzung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2171990B (en) * | 1985-03-08 | 1988-12-07 | Central Glass Co Ltd | Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article |
| US4897371A (en) * | 1987-02-03 | 1990-01-30 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass article protected from coloring by electron rays and method of using |
| US5279851A (en) * | 1991-04-03 | 1994-01-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing a conductive glass with high strength and wear resistance |
| JP2799544B2 (ja) * | 1994-04-28 | 1998-09-17 | 株式会社オハラ | 情報記録ディスク用結晶化ガラス |
-
1996
- 1996-04-26 DE DE19616679A patent/DE19616679C1/de not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-04-10 MY MYPI97001562A patent/MY119174A/en unknown
- 1997-04-24 US US08/842,431 patent/US5846280A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-28 JP JP12487297A patent/JP4213232B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4206268A1 (de) * | 1991-05-20 | 1992-11-26 | Hoya Corp | Chemisch verstaerkbare glaszusammensetzung |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999015471A1 (en) * | 1997-09-23 | 1999-04-01 | Glaverbel | Thermal dimensional stability treatment of vitreous sheet material by contacting with a molten alkali metal salt |
| DE10112859A1 (de) * | 2001-03-16 | 2002-10-02 | Hero Glas Veredelungs Gmbh | Verbund-Sicherheitsglas und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE102009050987B3 (de) * | 2009-05-12 | 2010-10-07 | Schott Ag | Dünnschichtsolarzelle und Verfahren zur Herstellung einer Dünnschichtsolarzelle |
| DE102009050988B3 (de) * | 2009-05-12 | 2010-11-04 | Schott Ag | Dünnschichtsolarzelle |
| DE112010004720B4 (de) * | 2009-12-11 | 2018-08-02 | Schott Ag | Aluminosilikatglas für einen Touchscreen |
| DE102010009584A1 (de) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | Schott Ag | Chemisch vorgespanntes Glas |
| WO2011104035A2 (de) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | Schott Ag | Chemisch vorgespanntes glas |
| DE102010009584B4 (de) * | 2010-02-26 | 2015-01-08 | Schott Ag | Chemisch vorgespanntes Glas, Verfahren zu seiner Herstellung sowie Verwendung desselben |
| US10351471B2 (en) | 2010-02-26 | 2019-07-16 | Schott Ag | Chemically tempered glass |
| US12017952B2 (en) | 2010-02-26 | 2024-06-25 | Schott Ag | Chemically tempered glass |
| DE102012105900A1 (de) * | 2012-07-03 | 2014-01-09 | Schott Ag | Durchschusshemmendes Verbundglas |
| US9789666B2 (en) | 2012-07-03 | 2017-10-17 | Schott Ag | Bullet resistant laminated glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4213232B2 (ja) | 2009-01-21 |
| JPH1067537A (ja) | 1998-03-10 |
| MY119174A (en) | 2005-04-30 |
| US5846280A (en) | 1998-12-08 |
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|---|---|---|---|
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| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
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