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WO2011047875A3 - Procédé de dépôt pulsé galvanique induit par la lumière pour la production d'une couche de germination destinée à un contact métallique d'une cellule solaire et pour le renforcement consécutif de cette couche de germination ou de ce contact métallique et dispositif pour la mise en oeuvre du procédé - Google Patents

Procédé de dépôt pulsé galvanique induit par la lumière pour la production d'une couche de germination destinée à un contact métallique d'une cellule solaire et pour le renforcement consécutif de cette couche de germination ou de ce contact métallique et dispositif pour la mise en oeuvre du procédé Download PDF

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light
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Valentin Radtke
Norbert Bay
Monica Aleman
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Albert Ludwigs Universitaet Freiburg
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
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Albert Ludwigs Universitaet Freiburg
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
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Abstract

L'invention concerne un procédé de dépôt galvanique induit par la lumière consistant à faire varier en fonction du temps la différence de potentiel entre un premier contact métallique et une électrode auxiliaire selon une caractéristique tension-temps prédéfinie, et à faire varier en fonction du temps une incidence de lumière sur une cellule solaire selon une caractéristique irradiation de lumière-temps.
PCT/EP2010/006468 2009-10-23 2010-10-22 Procédé de dépôt pulsé galvanique induit par la lumière pour la production d'une couche de germination destinée à un contact métallique d'une cellule solaire et pour le renforcement consécutif de cette couche de germination ou de ce contact métallique et dispositif pour la mise en oeuvre du procédé Ceased WO2011047875A2 (fr)

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