WO2010021457A3 - 변조도핑층을 갖는 발광 다이오드 - Google Patents
변조도핑층을 갖는 발광 다이오드 Download PDFInfo
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Abstract
변조도핑층을 갖는 발광 다이오드가 개시된다. 이 발광 다이오드는 n형 콘택층, p형 콘택층, InGaN 우물층을 포함하는 다중양자우물 구조의 활성영역을 포함한다. 여기서, n형 콘택층은, n형 불순물 도핑된 InGaN층과 언도프 InGaN층이 교대로 적층된 제1 변조도핑층과, n형 불순물 도핑된 InGaN층과 언도프 InGaN층이 교대로 적층된 제2 변조도핑층을 포함한다. 또한, 제1 변조도핑층의 InGaN층들은 서로 조성이 동일하고, 제2 변조도핑층의 InGaN층들은 서로 조성이 동일하다. 더욱이, 제2 변조도핑층은 제1 변조도핑층과 활성영역 사이에 위치하고, n-전극은 상기 제1 변조도핑층에 접촉한다. 제1 변조도핑층 및 제2 변조도핑층을 채택함으로써, 공정시간이 길어지는 것을 방지하면서 다중양자우물 구조 내에 유발되는 스트레인을 완화시킬 수 있다.
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