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WO2010001036A3 - Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique - Google Patents

Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique Download PDF

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WO2010001036A3
WO2010001036A3 PCT/FR2009/051104 FR2009051104W WO2010001036A3 WO 2010001036 A3 WO2010001036 A3 WO 2010001036A3 FR 2009051104 W FR2009051104 W FR 2009051104W WO 2010001036 A3 WO2010001036 A3 WO 2010001036A3
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WO
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magnetic field
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PCT/FR2009/051104
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Jean-Yves Pacquet
Gabriel Gaubert
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Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
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Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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    • H—ELECTRICITY
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Abstract

L'invention concerne un générateur (1 ) d'ions RCE comportant une chambre étan- che (2) sous vide à symétrie axiale suivant un axe longitudinal (AA'), des moyens (3, 4, 5, 6) pour engendrer un champ magnétique possédant une symétrie de révo¬ lution par rapport à l'axe (AA') et des moyens de propagation d'une onde haute- fréquence. La chambre (2) comporte un premier étage d'ionisation (7) au niveau d'une extrémité de la chambre (2) comportant une zone d'ionisation (10) dans la¬ quelle sont générés des ions, le champ magnétique étant sensiblement parallèle à l'axe (AA') dans la zone (10) et un deuxième étage de confinement magnétique (8) des ions générés utilisant une première onde haute-fréquence issue des moyens de propagation. Le champ magnétique est sensiblement parallèle à l'axe (AA') en¬ tre la zone (10) et le deuxième étage (8) de sorte que les ions générés dans la zone (10) migrent vers le deuxième étage (8) et que les premier et deuxième étage (7, 8) comportent un même plasma continu.
PCT/FR2009/051104 2008-07-02 2009-06-11 Dispositif générateur d'ions à résonance cyclotronique électronique Ceased WO2010001036A2 (fr)

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2969372B1 (fr) * 2010-12-21 2015-04-17 Commissariat Energie Atomique Dispositif d’ionisation a la resonance cyclotron electronique
FR2985292B1 (fr) * 2011-12-29 2014-01-24 Onera (Off Nat Aerospatiale) Propulseur plasmique et procede de generation d'une poussee propulsive plasmique

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0344969A1 (fr) * 1988-06-03 1989-12-06 Eaton Corporation Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
US4933650A (en) * 1988-02-24 1990-06-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma production apparatus
EP0514255A1 (fr) * 1991-05-14 1992-11-19 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59194407A (ja) * 1983-04-19 1984-11-05 Ulvac Corp 電子サイクロトロン共鳴形イオン源用磁石装置
FR2595868B1 (fr) * 1986-03-13 1988-05-13 Commissariat Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique electronique a injection coaxiale d'ondes electromagnetiques
JP3010059B2 (ja) * 1990-09-20 2000-02-14 日本真空技術株式会社 イオン源
FR2668642B1 (fr) * 1990-10-25 1993-11-05 Commissariat A Energie Atomique Source d'ions fortement charges a sonde polarisable et a resonance cyclotronique electronique.
JPH04262349A (ja) * 1991-02-15 1992-09-17 Kobe Steel Ltd 多価重イオン源および１価重イオン源
JPH069041U (ja) * 1992-07-07 1994-02-04 日新電機株式会社 イオン源
JP2644958B2 (ja) * 1993-04-02 1997-08-25 株式会社日立製作所 イオン源装置およびそのイオン源装置を備えたイオン打ち込み装置
FR2718568B1 (fr) * 1994-04-06 1996-07-05 France Telecom Procédé d'implantation haute énergie à partir d'un implanteur de type faible ou moyen courant et dispositifs correspondants.
FR2757310B1 (fr) 1996-12-18 2006-06-02 Commissariat Energie Atomique Systeme magnetique, en particulier pour les sources ecr, permettant la creation de surfaces fermees d'equimodule b de forme et de dimensions quelconques
JP4249826B2 (ja) * 1998-12-02 2009-04-08 株式会社 Ｓｅｎ−Ｓｈｉ・アクセリス カンパニー Ｅｃｒ用多極永久磁石装置
FR2815954B1 (fr) * 2000-10-27 2003-02-21 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de depot par plasma a la resonance cyclotron electronique de nanotubes de carbone monoparois et nanotubes ainsi obtenus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4933650A (en) * 1988-02-24 1990-06-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma production apparatus
EP0344969A1 (fr) * 1988-06-03 1989-12-06 Eaton Corporation Source d'ions à résonance cyclotronique électronique
EP0514255A1 (fr) * 1991-05-14 1992-11-19 Commissariat A L'energie Atomique Source d'ions à résonance cyclotronique électronique

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ALTON G D: "Broadband frequency ECR ion source concepts with large resonant plasma volumes", NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH, SECTION - A:ACCELERATORS, SPECTROMETERS, DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT, ELSEVIER, AMSTERDAM, NL, vol. 382, no. 1, 11 November 1996 (1996-11-11), pages 276 - 282, XP004015864, ISSN: 0168-9002 *

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