WO2007046440A1 - Herbicide composition - Google Patents
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- C07D413/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
Definitions
- the present invention relates to a herbicide composition and a herbicidal method with reduced phytotoxicity to crops, particularly paddy rice.
- Compound (A) is patent-pending as a herbicide for paddy rice, has an extremely low dosage and exhibits an effect on many weeds, and has high safety against paddy rice under normal planting conditions. Under shallow planting and leakage conditions, it may cause phytotoxicity to paddy rice.
- Daimlon, dimethylpiperate, and esprocalp are compounds that have been put to practical use as herbicides for paddy rice, but have been reported so far to reduce the phytotoxicity of compound (A) on paddy rice. ,.
- Patent Document 1 discloses that pyrazole sulfonylureas having a dioxazine ring bonded to a pyrazole ring have herbicidal activity. However, Patent Document 1 does not specifically disclose pyrazole sulfonylureas such as compound (A) in which a substituent is bonded to the dioxazine ring on the virazole ring.
- Patent Document 1 JP-A-7-118269
- the present inventors have found that a mixture of the compound (A) and Daimlone, dimethylpiperate or esprocarp has an effect of reducing phytotoxicity exceeding expectations. They found that when compound (A) was mixed with certain herbicides, they complemented each other's herbicidal spectrum without antagonizing each other, thereby completing the present invention.
- the present invention relates to a herbicide composition described in the following [1] and [2] (hereinafter referred to as the present composition), and a herbicidal method described in [3] and [4] (hereinafter referred to as the present invention). It is called a method.)
- R 1 is a C alkyl group, a C haloalkyl group, a C alkoxy C alkyl group, a
- 1-3 1-3 1-3 1-3 represents a phenyl group or a pyridyl group
- R 2 is a hydrogen atom, C alkyl group, C haloalkyl group, C alkoxy group or halo.
- a force representing a 1-3 group or a C haloalkyl group, or R 3 and R 4 together represent CH;
- X and Y are each independently a C alkyl group, C haloalkyl group, C alkoxy group,
- 1-3 1-3 1-3 represents a Si group, a C haloalkoxy group, a halogen atom or a di (C alkyl) amino group,
- z represents a nitrogen atom or a methine group.
- a herbicidal composition for paddy rice containing the compound (A) and at least one compound selected from among the mainstays of Daimlon, Dimepiperate, and Esprocalp.
- a paddy field weeding method wherein the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarp are applied simultaneously or with a time difference.
- B (generic name), etobenzanid (generic name), cuminoluron (cumyluron. Common name), benzobicyclon / -common name, pyriftalide (pyriftalid / -common name), bispyribac / -common name, pyrachlor (pyraclonilZ--common name), anilofos /- (Generic name), OK—701 (study name), penoxsulam Z (generic name), AVH—301 (study name), KUH-021 (study name;), TH-547 (study name), Bentazone (BentazoneZ) (Generic name), 2, 4— PA (—generic name), metamihop (generic name), flucetosulfuron (generic name), HOK—201 (—generic name), mesotrione (mesotrioneZ—generic name), properties ( PropanilZ (common name), quinoclam
- a paddy rice herbicide composition comprising the compound (A) and at least one compound selected from the group B.
- [7] A herbicidal method in which the compound (A) and the at least one compound selected from group B power are applied simultaneously or with a time difference.
- [8] A method for weeding paddy fields, wherein the compound (A) and the at least one compound selected from the group B force are applied simultaneously or at a time difference.
- the phytotoxicity to crops, particularly paddy rice, caused by the compound (A) which is an active ingredient of the herbicide is reduced by Daimlon, dimethylpiperate and esprocalp, and the herbicidal effect on various weeds Does not drop.
- Mixtures of compound (A) with certain herbicides complement each other in the herbicidal spectrum without antagonism. For these reasons, the utility in an actual application scene according to the present invention is extremely high.
- Ph in the formula represents a phenol group
- Me represents a methyl group
- Bu represents a butyl group
- Compound (A) can be produced by the method shown in the following reaction formulas 1 to 3.
- Reaction Formula 1 is 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) in the presence or absence of a base, 2-phenoxycarbo-laminopyrimidine (or triazine). ) A method for producing compound (1) by reacting with (3) is shown.
- (3) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 or 1.1-fold mol based on (2).
- Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] 7undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide can be mentioned.
- the base is usually used in an amount of 0 to 10-fold mol, preferably 0 to 2-fold mol based on (2).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl And mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Reaction formula 2 is 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl carnomate (4) in the presence or absence of a base and 2-aminopyrimidine (or Triazine)
- a method for producing compound (1) by reacting with (5) is shown.
- (5) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 or 1.1-fold mol with respect to (4).
- Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] 7undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide can be mentioned.
- the base is usually used in an amount of 0 to 10-fold mol, preferably 0 to 2-fold mol based on (4).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloro Halogenated hydrocarbons such as loetane, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoleketone and methylisobutylketone, and tolyl such as acetonitrile and propio-tolyl And mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Reaction scheme 3 is 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfol isocyanate (6) in the presence or absence of a base in the presence of 2 aminopyrimidine ( Alternatively, a method for producing compound (1) by reacting with triazine (5) is shown.
- (5) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 or 1.1-fold mol based on (6).
- Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] 7undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide can be mentioned.
- the base is usually 0 to 10 times mol, preferably 0, relative to (3). 2 times mole used.
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl And mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5 sulfonamide (2) used in the method shown in Reaction Formula 1 is the method shown in Reaction Formulas 4 and 6. Can be manufactured. Also, 4- (5H, 6H-1, 4, 2, dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfolcarbamate (4) and 4 (5H, 6H-1) , 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfol isocyanate (6) is made from 4- (5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) It can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-59-219281 and JP-A-55-13266.
- Reaction Scheme 4 is a method of reacting 5-chlorocap 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole (7) with sodium hydrosulfide.
- 6H- 1, 4, 2—dioxazine 3-yl) pyrazole (8) (step A), (8) is reacted with chlorine or sodium hypochlorite and other chlorinated agents to give 4- (5H , 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfourel chloride (9) (step B), (9) is reacted with aqueous ammonia or ammonium carbonate (step C).
- sodium sulfate is usually used in an amount of 1.0 to 10-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol based on (7).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl , N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl
- Examples include amides such as rho-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Step B chlorine or sodium hypochlorite is usually used in an amount of 1 V, 100 times mol, preferably 2! And 10 times mol of (8).
- This reaction can use a solvent as needed.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, black mouth form and 1,2-dichloro mouth ethane, water, and a mixed solvent thereof may be used. Can be mentioned.
- the reaction temperature is usually -90! And 100 ° C, preferably -10! And 50 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- ammonia or ammonium carbonate is usually 1.
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-amides such as 2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and mixed solvents thereof It is done.
- ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran
- ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone
- -tolyls such as acetonitrile and propio-to
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Reaction formula 5 is a reaction of 5 benzyl mercapto-4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (10) with a chlorinating agent such as chlorine or sodium hypochlorite.
- chlorine or sodium hypochlorite is usually 1 to 1 relative to (10).
- This reaction can use a solvent as needed.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, black mouth form and 1,2-dichloro mouth ethane, water, and a mixed solvent thereof may be used. Can be mentioned.
- the reaction temperature is usually -90! And 100 ° C, preferably -10! And 50 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- (9) can be derived into 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) by the step C in Reaction Scheme 4. Further, (1) can be produced by reacting (9) and (5) with reference to the method described in JP-A-7-118267.
- n-butyllithium or lithium diisopropylamide is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (11).
- This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene
- ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran are used. And mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually 120 ° C and 100 ° C, preferably 78 ° C and 10 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- disulfur diacid is usually used in an amount of 1.0 to 100 times mol, preferably 1 to 10 times mol, relative to (11).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene
- ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran are used.
- jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran are used.
- these mixed solvents I can get lost.
- the reaction temperature is usually 120 ° C and 100 ° C, preferably 78 ° C and 10 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- N-chlorosuccinimide is usually used in an amount of 1.0 to 100 times mol, preferably 1 to 10 times mol to (12).
- the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane, water, and These mixed solvents are mentioned.
- the reaction temperature is usually -90! And 100 ° C, preferably -10! And 50 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- [0020] (9) can be derived from 4 step 5 of Reaction Scheme 4 to 4 (5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole-5 sulfonamide (2).
- 01 [0021] 5-Chromium used in the methods shown in Reaction Formulas 4 to 6 — 4— (5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole (7), 5 Benzyl mercapto-4— (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3 yl) pyrazole (10) and 4- (5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine-3 yl) pyrazole (11) are It can be manufactured by the method shown in 15.
- (14) is usually used in an amount of 1.0 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol, relative to (13).
- Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, Triethylamine, N, N dimethyldiamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4.
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and mixed solvents thereof .
- ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran
- ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone
- -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. (Reaction formula 8)
- R 4 , R 5 , R 6 and L have the same meaning as described above, and X 2 represents a halogen atom, a C alkylsulfo-oxy group or a C haloalkyl sulfo-oxy group.
- pyrazole 4 carboxylic acid chloride (15) is reacted with alkoxyamine (16) to give pyrazole 4 hydroxamic acid ester (17) (step F), and (17) is reacted with a base (step G), 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (7), (10) or (11) is produced.
- (16) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 5 times mol to (15).
- Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylamino. Pyridine, triethylamine, N, N dimethyladiline, 1,8 diazabicyclo [5. 4.
- octane and other organic bases n-butyllithium and sec Examples include organolithiums such as butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol for (15).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as, jetyl ether, diisopropyl ether, Ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetate Amides and amides such as N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof can be mentioned.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Bases used in the reaction in Step G include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N , N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5. 4.
- inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N , N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5. 4.
- octane and other organic bases n-butyllithium and sec—
- organic lithiums such as butyl lithium
- organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide
- metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol of (17).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- X 1 and L represent the same meaning as described above, and R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a C alkyl group. ]
- pyrazole 4 carboxylic acid chloride (15) is reacted with aryloxyamine (16a) to give pyrazole 4 hydroxamic acid ester (17a) (steps H) and (17a) as halogen or N— 4 (5-Haloalkyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7a), (10a) or (11a) by reacting with halogenated succinimide (Step 1), (7a) , (10a) or (11a) is reduced ( ⁇ ) and 4- (5 alkyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7b), (10b) or ( l Shows how to produce ib).
- (16a) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 5 times mol to (15).
- Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, Triethylamine, N, N Dimethyla Diphosphorus, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabicyclic mouth [2.2.2] octane and other organic bases, n butyl lithium and sec butyl lithium, etc.
- Examples thereof include organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol for (15).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- halogen or N-halogenosuccinimide is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (17a).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl , Carboxylic acid esters such as methyl acetate or ethyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone , Water, and mixed solvents thereof
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- the reducing agent and reduction system used in the reaction of @J include alkali metal such as metallic sodium Z liquid ammonia, metallic lithium Z liquid ammonia and metallic sodium Zt-butyl alcohol-tetrahydrofuran mixed solvent, zinc Z acetic acid Zinc Z Hydroxide Potassium Z System using zinc metal such as Z water, triphenyltin hydride, diphenyltin hydride, tri-n-butyltin hydride, di-n-butyltin hydride, hydrogen Systems using organotin hydrides such as triethyltin and trimethyltin hydride, systems combining the above organotin compounds with free radical initiators such as azobisisobutyl thiol, silanes such as chlorosilane, triethylsilane and trimethylsilane , Lithium aluminum hydride, aluminum hydride sodium , Systems using metal hydr
- the reducing agent is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol for (7a), (10a) or (11a).
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to each of the above reduction systems.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1
- Halogenated hydrocarbons such as 2-dichloroethane, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and-such as acetonitrile and propiotolyl Tolyls
- carboxylic esters such as methyl acetate or ethyl acetate
- alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol
- amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N
- the reaction temperature is usually -90! And 200 ° C, preferably -78! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Reaction scheme 10 is 4- (5-haloalkyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7c), (10c) or (11c) in the presence or absence of a base, Dehydrohalogenated to the corresponding 4 (5 alkylidene-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (7d), (10d) or (l id) (step K), ( 7d), (10d) or (l id) is reduced (Step L), and the corresponding 4 (5 alkyl 5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7e), (10e ) Or (l ie) is shown.
- Bases used in the reaction of Step K include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate and sodium hydride, pyridine, 4- Organic bases such as dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5.4.0] -7 undecene and 1,4 diazabicyclo [2.2.2] octane, n —Organic lithiums such as butyllithium and sec-butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. Can be mentioned.
- the base is usually 0 to 100 times mol, preferably 0 to 5 times mol for (7c), (10c) or (11c). used.
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Examples of the reducing agent and reducing system used in the reaction in Step L include metallic sodium Z liquid ammonia, metallic lithium Z liquid ammonia, metallic lithium Z ethylamine and other alkali metal systems, aluminum mercury Z jetyl ether monohydrate and aluminum.
- Metal hydride complexes such as lithium aluminum hydride, sodium aluminum hydride, sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, sodium borohydride and sodium cyanoborohydride Systems using compounds, systems using borane derivatives such as diborane, trimethylamine borane and pyridine borane, hydrazine hydrate Z air, hydrazine hydrate Z potassium hexocyano (in) and hydroxylamine o-sulfonic acid Z Systems using diimides generated in reaction systems such as sodium hydroxide and sodium, heterogeneous catalytic reduction systems such as hydrogen Z palladium carbon and hydrogen Z Raney nickel, and hydrogen Z chlorotri
- Solvent is above
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1, 2- Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl, Carboxylic acid esters such as methyl acetate or ethyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N
- the reaction temperature is usually -90! And 200 ° C, preferably -78! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Reaction scheme 11 is a reaction of pyrazole 4 hydroxamic acid ester (17a) or (17b) with acid (H +) to give 4- (5-alkyl-511, 6H—1, 4, 2 dioxazine 3yl) pyrazole ( A method for producing 7b), (10b) or (1 lb) is indicated.
- acids used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid.
- the acid is usually used in an amount of 0.01- to 100-fold mol, preferably 0.05 to 10-fold mol based on (17a) or (17b).
- This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Scheme 12 shows the reaction of pyrazole 4 hydroxamic acid (13) with halogenaryl (18) in the presence or absence of a base to form pyrazol 4 hydroxamic acid ester (17a ) Is shown.
- (18) is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5- fold mol based on (13).
- Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylamino. Pyridine, triethylamine, N, N dimethyladiline, 1,8 diazabicyclo [5. 4.
- octane and other organic bases n-butyllithium and sec Butylliciu And organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0 !, 100 times mol, preferably 0 !, and 5 times mol with respect to (13).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- Scheme 13 shows the reaction of pyrazol 4 hydroxamic acid (13) in the presence or absence of a base with rholine, rhohydrin (19) or oxilan (20) to form a pyrazo 1-luo 4 hydroxamic acid ester used in Scheme 11
- the method of manufacturing (17b) is shown.
- (19) or (20) is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol with respect to (13).
- Bases used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, Inorganic bases such as sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylaniline, 1,8 diazabicyclo [5.
- Organic bases such as octane, organic lithiums such as n-butyllithium and sec-butyllithium, lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide
- organic lithium amides examples include organic lithium amides, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium t-butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0 !, 100 times mol, preferably 0 !, and 5 times mol with respect to (13).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- (21) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol, of (13).
- Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate and sodium hydride.
- Organic bases pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylaniline, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabicycline [2.2.2] octane N, organic lithiums such as butyl lithium and sec butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t -Metal alkoxides such as butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0 !, 100 times mol, preferably 0 !, and 5 times mol with respect to (13).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- Acids or bases used in the reaction of Step M include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and P-toluenesulfonic acid, water Inorganic bases such as sodium oxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1 , 8 Diazabicyclo [5. 4.
- inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid
- organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and P-toluenesulfonic acid
- water Inorganic bases such as sodium oxide, potassium hydroxide, potassium
- Organic bases such as 7-undecene and 1,4-Diazabicyclo [2.2.2] octane, Organolithiums such as n-butyllithium and sec-butyllithium, Lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide And sodium methoxide, and metal alkoxides such as sodium Umuetokishido and potassium t- butoxide.
- the acid or base is usually used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (17c). Used.
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- the halogenating agent or alkyl sulfonating agent is usually 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol of (7f), (10 f) or (l lf). Used in moles.
- halogenating agent used in this reaction examples include hydrohalic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide, phosphorus halides such as phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride and phosphorus tribromide. , Phosphonic acid triphenyl z benzil chloride and triphenylphosphine Z tetrasalt-carbon, etc., methanesulfonyl chloride and halogenated sulfone such as P-toluenesulphonyl, and thiol chloride And thionyl halides such as thiol bromide.
- hydrohalic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide
- phosphorus halides such as phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride and phosphorus tribromide.
- alkyl sulfonating agent used in this reaction examples include halogenated sulfones such as methane chloride chloride and p-toluene chloride.
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as: ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; ketones such as acetone, methinoretinoleketone and methylisobutylketone;-such as acetonitrile and propio-tolyl Examples include tolyls, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- hydroxylamine is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (15).
- Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylamino. Pyridine, triethylamine, N, N dimethyladiline, 1,8 diazabicyclo [5. 4.
- octane and other organic bases n-butyllithium and sec Examples include organolithiums such as butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.
- the base is usually used in an amount of 0! And 100 times mol, preferably 0! And 5 times mol of (15).
- the reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary.
- the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
- hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane.
- Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, acetone, methinoretinoleketone And ketones such as methyl isobutyl ketone, -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and these The mixed solvent is mentioned.
- the reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
- the reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
- the target product obtained by the above reaction can be isolated and purified by operations such as filtration, extraction, washing, column chromatography, recrystallization and distillation.
- the raw material is 3 black mouth 4— (5,5 dimethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) -1-methylbiazole-5-sulfonamide (0.47 g, 1.5 mmol)
- the target product (0.42 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point 189-191 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value ⁇ (ppm) (in CDCl) 1.41 (s, 6H), 3.78 (s, 2H), 3.97 (s
- the aqueous layer was extracted with methylene chloride.
- the obtained methylene chloride solutions were combined, washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and dried over anhydrous sodium sulfate.
- Triethylamine (2.9 g, 29 mmol) was added at 0 ° C to a suspension of allyloximine hydrochloride (2.3 g, 21 mmol) in tetrahydrofuran (20 ml) and stirred at room temperature for 5 minutes.
- Benzylthio-3 chloro-1-methylpyrazole-4 A solution of rubonic acid chloride (2. lg, 7. Ommol) in tetrahydrofuran (10 ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, water (100 ml) was added and extracted with ethyl acetate.
- the target product (1.5 g) was obtained in the same manner as (1) of Reference Example 1 using 5 benzylthio-1,3 dimethylbirazole 4 force ruponic acid chloride (1.6 g, 5.7 mmol) as a raw material. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value ⁇ (ppm) (in CDCl) 2.50 (s, 3H), 3.34
- the starting material (0.74 g) was used in the same manner as (2) in Reference Example 1, using (5-benzylthio-1,3 dimethylbiazole-4-yl) -N allyloxycarboxylate (0.92 g, 2.9 mmol) as the raw material.
- Got. Melting point 79-81 ° C.
- Lithium aluminum hydride (0.090 g, 2.4 mmol) in a suspension of jetyl ether (20 ml) with stirring at 5 ° C, 2— (1,3 dimethyl-5-benzylthiopyrazole-4-yl) Carbo-laminooxy) ethyl ester of propanoate (0.88 g, 2.3 mmol)
- 1 tel 5 ml
- the reaction mixture was poured into ice water (20 ml), adjusted to pH 1 with 10% hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate.
- N-aryloxy 3,5 dichloro 1-methylbiazole 4 carboxylic acid amide (20 Og, 80. Ommol) solution in acetonitrile (200 ml) [this, N bromoconoxyimide (1 7. lg, 96. Ommol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. Sodium hydrogen sulfite saturated aqueous solution (100 ml) was added, and acetonitrile was distilled off. Next, extraction with ethyl acetate was performed, and the resulting ethyl acetate solution was washed successively with water and a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off.
- hydroxynoreamine hydrochloride (13.3 g, 191 mmol) in water (40 ml) at 5 or 15 ° C in 85% potassium hydroxide (12.6 g, 191 mmol) in water (40 ml) was stirred and stirred at room temperature for 15 minutes.
- the tetrahydrofuran solution was added dropwise at 3 to 15 ° C. over 0.25 hours.
- 35% hydrochloric acid (20 ml) was added to adjust the pH to 3 or 4, and the mixture was extracted with ethyl acetate.
- the target product (0.45 g) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 using 5-benzylthio 1 (pyridyl-2-yl) pyrazole 4 carboxylic acid chloride (3.63 g, 11. Ommol) as a raw material. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value ⁇ (ppm) (in CDC1) 1.43 (d, J
- the ethyl acetate layer was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to an oil. was gotten.
- Compound (A) and at least one compound selected from the power of Daimlon, Dimepiperate and Esprocarb Combinations include Compound 1Z Daimlone, Compound 1Z Dimepiperate, Compound 1Z Esprocarp, Compound 2Z Daimlon
- the compounds listed in Table 2 as compounds of the group IV can be mentioned. Further, when applying at least one kind of compound (ii) and at least one kind of compound selected from Daimron, Dimepiperate and Esprocarp at the same time, the compounds listed in Table 2 can be applied simultaneously.
- each compound may be applied individually or as a mixed composition in application.
- each When each is applied individually, it can be applied at the same time, or can be processed separately as long as they are close in time.
- the application rate of compound ( ⁇ ) is usually lg-10 kgZha, preferably 10 g-lkgZha. Daimlon, dimethylpiperate and esprocarp medium strength
- the application rate of at least one compound selected is usually lg—10 kgZha, preferably 10 g—3 kgZha.
- composition of the present invention is usually mixed with an appropriate solid carrier or liquid carrier, and if desired, a surface active agent, a penetrating agent, a spreading agent, a thickening agent, an antifreezing agent, a binder, an anti-caking agent, a disintegration.
- any dosage form such as dustable powder, granule and gel.
- the preparations of any of the above dosage forms can be enclosed in a water-soluble package. If necessary, it can be mixed with other herbicides, insecticides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers, etc. during formulation or spraying.
- solid carrier examples include quartz, kaolinite, neurophyllite, sericite, talc, bentonite, acid clay, attapulgite, zeolite, and diatomaceous earth, calcium carbonate, ammonium sulfate, sodium sulfate and salt.
- Inorganic salts such as potassium, synthetic silicic acid and synthetic silicate.
- liquid carrier examples include alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and isopropanol, aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and alkylnaphthalene, ethers such as butylcetosolve, ketones such as cyclohexanone, —Esters such as butaguchi ratataton, acid amides such as N-methylpyrrolidone and N-octylpyrrolidone, vegetable oils such as soybean oil, rapeseed oil, cottonseed oil and castor oil, and water.
- alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and isopropanol
- aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and alkylnaphthalene
- ethers such as butylcetosolve
- ketones such as cyclohexanone
- Esters such as butaguchi ratataton
- acid amides such as N
- These solid and liquid carriers may be used alone or in combination of two or more.
- surfactant examples include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene styryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer, polyoxyethylene fatty acid ether.
- Nonionic surfactants such as stealth, sorbitan fatty acid esters and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, alkyl sulfates, alkylbenzene sulfonates, lignin sulfonates, alkyl sulfosuccinates, naphthalene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates , Formalin condensate salt of naphthalene sulfonic acid, salt of formalin condensate of alkyl naphthalene sulfonic acid, polyoxyethylene alkyl aryl ether sulfate and phosphate, polyoxyethylene styryl ether ether sulfate and phosphate, poly Carboxylic acid surfactants such as carboxylates and polystyrene sulfonates, cationic surfactants such as alkylamine salts and alkyl quaternary ammonium
- the content of these surfactants is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.05 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the preparation of the present invention. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.
- a plurality of other herbicides, insecticides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers and the like can be used in combination.
- the herbicidal spectrum can be expanded, and the effects of the present invention can be made more stable.
- the present composition 0.1 to 80 parts
- anti-caking agents include anti-caking agents and decomposition inhibitors.
- composition of the present invention 0.1-30 parts
- composition of the present invention 0.1-70 parts
- antifreezing agents include antifreezing agents and thickeners.
- composition of the present invention 0.1-90 parts
- Other examples include a binder and a decomposition inhibitor.
- composition of the present invention 0.01-70 parts
- antifreezing agents include antifreezing agents and spreading agents.
- the present composition 0.01 to 80 parts
- Other examples include a binder and a decomposition inhibitor.
- composition of the present invention 0.01-30 parts
- Other examples include a drift inhibitor and a decomposition inhibitor.
- the above preparation is diluted with water 1 to: LOOOO times or not diluted, and the active ingredient strength is 0.001 to 50 kg per hectare (ha), preferably ⁇ or 0.001 to LOkg. Scatter.
- the above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.
- Nonionic surfactant Kao Co., Ltd. trade name
- Example 6 dustable powder
- the above is uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.
- the above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.
- Nonionic surfactant Kao Co., Ltd. trade name
- the above is uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.
- the above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.
- Nonionic surfactant Kao Co., Ltd. trade name
- the above is uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.
- composition of the present invention as a herbicide will be specifically described in the following test examples.
- [0138] phytotoxicity test under standing seedlings and leakage conditions
- the seedling condition was 4 cm submersion conditions after alluvial soil was put into a 1Z10000 are plastic pot and water was mixed.
- a 2.5-leaf rice seedling was fixed on the rice pad with the roots exposed.
- water leakage conditions were the same as in Test Example 1, and 2.5-leaf rice seedlings were transplanted.
- a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped with a wettable powder prepared according to the formulation example on the 6th day after transplantation.
- the phytotoxicity of rice was investigated according to the above criteria.
- all of Compound (A) + Dimron, Compound (A) + Dimepiperate, and Compound (A) + Esprocalp showed a phytotoxicity-reducing effect on rice compared to Compound (A) alone. It was.
- composition of the present invention is useful, for example, as a herbicide for paddy fields.
Landscapes
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Abstract
Description
除草剤組成物 Herbicidal composition
技術分野 Technical field
[0001] 本発明は作物、特に水稲に対する薬害が軽減された除草剤組成物および除草方 法に関するものである。 [0001] The present invention relates to a herbicide composition and a herbicidal method with reduced phytotoxicity to crops, particularly paddy rice.
背景技術 Background art
[0002] 化合物 (A)は水稲用除草剤として特許出願中であり、極めて低薬量で多くの雑草 に効果を発現し、通常の植付け条件では水稲に対して高い安全性を有するが、極端 な浅植えや漏水条件では水稲に対して薬害を生じる場合がある。 [0002] Compound (A) is patent-pending as a herbicide for paddy rice, has an extremely low dosage and exhibits an effect on many weeds, and has high safety against paddy rice under normal planting conditions. Under shallow planting and leakage conditions, it may cause phytotoxicity to paddy rice.
ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプは、水稲用除草剤として実用化され て 、る化合物であるが、化合物 (A)の水稲に対する薬害を軽減する効果につ!、ては これまで報告されて ヽな 、。 Daimlon, dimethylpiperate, and esprocalp are compounds that have been put to practical use as herbicides for paddy rice, but have been reported so far to reduce the phytotoxicity of compound (A) on paddy rice. ,.
ピラゾール環上にジォキサジン環が結合したピラゾールスルホニルゥレア類が除草 活性を有することは特許文献 1に開示されている。し力しながら、特許文献 1にはビラ ゾール環上のジォキサジン環に置換基が結合した、化合物 (A)のようなピラゾールス ルホニルゥレア類に関する具体的な開示はない。 Patent Document 1 discloses that pyrazole sulfonylureas having a dioxazine ring bonded to a pyrazole ring have herbicidal activity. However, Patent Document 1 does not specifically disclose pyrazole sulfonylureas such as compound (A) in which a substituent is bonded to the dioxazine ring on the virazole ring.
特許文献 1 :特開平 7—118269号公報 Patent Document 1: JP-A-7-118269
発明の開示 Disclosure of the invention
発明が解決しょうとする課題 Problems to be solved by the invention
[0003] 現在、水稲用除草剤として数多くの化合物が実用化されているが、既存の薬剤は 水稲に薬害を及ぼすことなぐ対象雑草のみを選択的に防除するという要求を必ずし も完全に満たすものではな 、。 [0003] Currently, many compounds have been put to practical use as herbicides for paddy rice, but existing drugs always satisfy the requirement to selectively control only target weeds that do not cause phytotoxicity to paddy rice. It ’s not something.
課題を解決するための手段 Means for solving the problem
[0004] 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、化合物 (A)とダイム ロン、ジメピぺレートまたはエスプロカルプとの混合剤が予想を上回る薬害軽減効果 を奏することと、化合物 (A)をある種の除草剤と混合すると、相互に拮抗することなく 、お互いの殺草スペクトラムを補完することを見いだし、本発明を完成させた。すなわ ち、本発明は、下記〔1〕および〔2〕記載の除草剤組成物(以下、本発明組成物と称 する。)、並びに〔3〕および〔4〕記載の除草方法 (以下、本発明方法と称する。)に関 するものである。 [0004] As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have found that a mixture of the compound (A) and Daimlone, dimethylpiperate or esprocarp has an effect of reducing phytotoxicity exceeding expectations. They found that when compound (A) was mixed with certain herbicides, they complemented each other's herbicidal spectrum without antagonizing each other, thereby completing the present invention. Snow That is, the present invention relates to a herbicide composition described in the following [1] and [2] (hereinafter referred to as the present composition), and a herbicidal method described in [3] and [4] (hereinafter referred to as the present invention). It is called a method.)
〔1〕式 (1) : (1) Equation (1):
[化 1] [Chemical 1]
〔式中、 R1は C アルキル基、 C ハロアルキル基、 C アルコキシ C アルキル基、フ [Wherein R 1 is a C alkyl group, a C haloalkyl group, a C alkoxy C alkyl group, a
1-3 1-3 1-3 1-3 ェニル基またはピリジル基を表し、 1-3 1-3 1-3 1-3 represents a phenyl group or a pyridyl group,
R2は水素原子、 C アルキル基、 C ハロアルキル基、 C アルコキシ基またはハロ R 2 is a hydrogen atom, C alkyl group, C haloalkyl group, C alkoxy group or halo.
1-3 1-3 1-3 1-3 1-3 1-3
ゲン原子を表し、 Represents a gen atom,
ロ B
アルキル基を表し、但し、 R3、 R4、 R5および R6のうち、少なくともひとつは C アルキル Represents an alkyl group, provided that at least one of R 3 , R 4 , R 5 and R 6 is C alkyl
1-3 基または C ハロアルキル基を表す力、又は R3と R4とが一緒になつて =CHを表し、 A force representing a 1-3 group or a C haloalkyl group, or R 3 and R 4 together represent = CH;
1-3 2 1-3 2
Xおよび Yはそれぞれ独立して C アルキル基、 C ハロアルキル基、 C アルコキ X and Y are each independently a C alkyl group, C haloalkyl group, C alkoxy group,
1-3 1-3 1-3 シ基、 C ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ(C アルキル)アミノ基を表し、 1-3 1-3 1-3 represents a Si group, a C haloalkoxy group, a halogen atom or a di (C alkyl) amino group,
1-3 1-3 1-3 1-3
zは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホ -ルゥレア化合 物 (A)と、 z represents a nitrogen atom or a methine group. And a pyrazole sulfo-lurea compound (A) represented by
ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力 選ばれる少なくとも 1種の化 合物とを含有する除草剤組成物。 A herbicidal composition containing at least one compound selected from the medium strengths of Daimlon, Dimepiperate and Esprocalp.
〔2〕前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力 選 ばれる少なくとも 1種の化合物とを含有する水稲用除草剤組成物。 [2] A herbicidal composition for paddy rice containing the compound (A) and at least one compound selected from among the mainstays of Daimlon, Dimepiperate, and Esprocalp.
〔3〕前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力 選 ばれる少なくとも 1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する除草方法 [3] Middle selection of the compound (A) and Daimlon, Dimepiperate, and Esprocalp Herbicidal method for applying at least one kind of compound simultaneously or with a time difference
〔4〕前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力 選 ばれる少なくとも 1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する水田の除 草方法。 [4] A paddy field weeding method, wherein the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarp are applied simultaneously or with a time difference.
〔5〕前記化合物(A)と、 B群(但し、 B群は、ビラゾスルフロンェチル (pyrazosulfur on— ethylZ一般名)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron— methylZ一般名)、 シノスルフロン(cinosulfuronZ一般名)、イマゾスルフロン(imazosulfuronZ一般 名)、アジムスルフロン(azimsulfuronZ一般名)、ハロスルフロンメチル(halosulfur [5] Compound (A) and Group B (where B is a general name of pyrazosulfuron-ethylZ), bensulfuron-methylZ (generic name of bensulfuron-methylZ), synosulfuronZ (generic name of cinosulfuronZ) , ImazosulfuronZ (generic name), azimsulfuronZ (generic name), halosulfuron methyl (halosulfurmethyl)
011—11161;1^17ー般名)、シクロスルファムロン(。7。105111£&11111]:0117ー般名)、ェトキ シスルフロン(ethoxysu uronZ一般名)、ピラゾレート(pyrazolate 一般名)、ピ ラゾキシフェン(pyrazoxyf en/—般名 )、ベンゾフエナップ(benzofenap/—般名 ) 、ブロモブチド(bromobutideZ一般名)、ナプロア-リド(naproanilideZ一般名) 、プレチラクロール(pretilachlorZ—般名)、ブタクロール(butachlor 一般名)、 テュルクロール(thenylchlorZ一般名 )、 CNP (一般名 )、クロメトキシニル (chlome thoxynilZ一般名)、ビフヱノックス(bifenoxZ—般名)、ォキサジァゾン(oxadiazo n/—般名)、ォキサジアルギル(oxadiargylZ一般名)、ペントキサゾン(pentoxaz oneZ一般名)、カフエンストロール(cafenstroleZ一般名)、ォキサジクロメホン(ox aziclomefoneZ—般名)、インダノフアン (indanofanZ一般名)、ピリミノパックメチ ノレ(pyriminobac— methylZ—般名)、シハロホップブチル(cyhalofop—butyl 一般名)、フェントラザミド(fentrazamide 一般名)、メフエナセット(mefenacetZ 一般名)、ブテナクロール (butenachlorZ一般名)、ジチォピル(dithiopylZ—般 名)、ベンフレセート(benfuresate 一般名)、ピリブチカルプ(pyributicarbZ一 般名)、ベンチォカーブ(benthiocarbZ一般名)、モリネート(molinate ー般名) 、ブタミフォス(butamifos/—般名)、キンク口ラック(quinclorac/—般名)、シンメ スリン(cinmethylinZ一般名)、シメトリン(simetrynZ一般名)、ベンスリド(bensul ide/—般名)、ジメタメトリン (dimethametrynZ一般名)、 MCPA (—般名)、 MCP011—11161; 1 ^ 17-common name), cyclosulfamuron (.7.105111 £ & 11111]: 0117-common name), etoxysulfuron (common name of ethoxysu uronZ), pyrazolate (generic name of pyrazolate), pyrazoxifene ( pyrazoxyf en / —common name), benzofenap / —common name, bromobutide (common name), naproanilideZ (generic name), pretilachlorZ (common name), butachlor (generic name), Thulchlor (generic name), CNP (generic name), chloromethoxynyl (chlome thoxynilZ generic name), bifenoxZ (common name), oxadiazon / (generic name), oxadiargylZ (generic name), pentoxaz (pentoxaz) oneZ generic name), caffeenstrol (cafenstroleZ generic name), ox aziclomefoneZ (common name), indanofan (inda nofanZ (generic name), pyriminobac-methylZ (common name), cyhalofop-butyl (common name), fentrazamide (general name), mefenacet (generic name), butenachlorZ (generic name) ), DithiopylZ (generic name), benfresate (generic name), piributicalp (generic name), beniocarbZ (generic name), molinate (generic name), butamifos / (generic name), kink Mouth rack (quinclorac / generic name), cinmesin (generic name of cinmethylinZ), cimetrin (simetrynZ generic name), bensulide (generic name), dimethametryn (common name), MCPA (generic name), MCP
B (一般名 )、エトベンザ-ド(etobenzanidZ一般名 )、クミノレロン (cumyluron. 般名)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon/—般名)、ピリフタリド(pyriftalid/—般 名),ビスピリバック (bispyribac/—般名)、ピラクロ-ル (pyraclonilZ—般名)、ァ -ロホス(anilofos/—般名)、 OK— 701 (試験名)、ぺノキススラム(penoxsulam Z—般名 )、 AVH— 301 (試験名 )、 KUH -021 (試験名;)、 TH— 547 (試験名 )、 ベンタゾン (BentazoneZ一般名)、 2, 4— PA (—般名)、メタミホップ(一般名)、フ ルセトスルフロン (flucetosulfuronZ一般名)、 HOK— 201 (—般名)、メソトリオン( mesotrioneZ—般名)、プロパ-ル(propanilZ—般名)、キノクラミン(quinoclami neZ—般名 )およびクロメプロップ (clomeprop)力もなる。 )力 選ばれる少なくとも 1 種の化合物を含有することを特徴とする除草剤組成物。 B (generic name), etobenzanid (generic name), cuminoluron (cumyluron. Common name), benzobicyclon / -common name, pyriftalide (pyriftalid / -common name), bispyribac / -common name, pyrachlor (pyraclonilZ--common name), anilofos /- (Generic name), OK—701 (study name), penoxsulam Z (generic name), AVH—301 (study name), KUH-021 (study name;), TH-547 (study name), Bentazone (BentazoneZ) (Generic name), 2, 4— PA (—generic name), metamihop (generic name), flucetosulfuron (generic name), HOK—201 (—generic name), mesotrione (mesotrioneZ—generic name), properties ( PropanilZ (common name), quinoclaminne (common name) and clomeprop force. ) Strength A herbicidal composition comprising at least one selected compound.
〔6〕前記化合物 (A)と、前記 B群から選ばれる少なくとも 1種の化合物とを含有する 水稲用除草剤組成物。 [6] A paddy rice herbicide composition comprising the compound (A) and at least one compound selected from the group B.
〔7〕前記化合物 (A)と、前記 B群力 選ばれる少なくとも 1種の化合物とを同時に、 または時間差を設けて施用する除草方法。 [7] A herbicidal method in which the compound (A) and the at least one compound selected from group B power are applied simultaneously or with a time difference.
〔8〕前記化合物 (A)と、前記 B群力 選ばれる少なくとも 1種の化合物とを同時に、 または時間差で施用する水田の除草方法。 [8] A method for weeding paddy fields, wherein the compound (A) and the at least one compound selected from the group B force are applied simultaneously or at a time difference.
発明の効果 The invention's effect
[0005] 本発明によれば、除草剤の有効成分である化合物 (A)に起因する作物、特に水稲 への薬害が、ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプにより軽減され、かつ各 種雑草に対する除草効果が低下しない。また、化合物 (A)とある種の除草剤との混 合物は、拮抗することなぐ殺草スペクトラムをお互いに補完し合う。これらのため、本 発明に従う実際の施用場面での有用性は極めて高い。 [0005] According to the present invention, the phytotoxicity to crops, particularly paddy rice, caused by the compound (A) which is an active ingredient of the herbicide is reduced by Daimlon, dimethylpiperate and esprocalp, and the herbicidal effect on various weeds Does not drop. Mixtures of compound (A) with certain herbicides complement each other in the herbicidal spectrum without antagonism. For these reasons, the utility in an actual application scene according to the present invention is extremely high.
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0006] 本明細書において、式中の記号 Phはフエ-ル基を表し、 Meはメチル基を表し、 Bu はブチル基を表す。 In the present specification, the symbol Ph in the formula represents a phenol group, Me represents a methyl group, and Bu represents a butyl group.
化合物 (A)は下記の反応式 1ないし 3に示す方法により製造できる。 Compound (A) can be produced by the method shown in the following reaction formulas 1 to 3.
〔反応式 1〕 (Reaction formula 1)
[化 2] [Chemical 2]
(2) (3) (twenty three)
〔式中、 X、 Yおよび zは前記と同様の意味を表す。〕 反応式 1は 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—ス ルホンアミド(2)を塩基存在下または非存在下、 2—フエノキシカルボ-ルァミノピリミ ジン (またはトリァジン) (3)と反応させて化合物(1)を製造する方法を示す。 [Where, X, Y, and z represent the same meaning as described above. Reaction Formula 1 is 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) in the presence or absence of a base, 2-phenoxycarbo-laminopyrimidine (or triazine). ) A method for producing compound (1) by reacting with (3) is shown.
本反応において、(3)は(2)に対して通常 0. 5ないし 10倍モル、好ましくは 0. 9な いし 1. 1倍モル使用される。 In this reaction, (3) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 or 1.1-fold mol based on (2).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノ ピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ-リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0] 7 ゥンデセンおよび 1, 4ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロ ピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並び にナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウム t—ブトキシド等の金属アル コキシド類が挙げられる。塩基は(2)に対して通常 0ないし 10倍モル、好ましくは 0な いし 2倍モル使用される。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] 7undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide can be mentioned. The base is usually used in an amount of 0 to 10-fold mol, preferably 0 to 2-fold mol based on (2).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 反応温度は通常一 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 120°Cである。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl And mixed solvents thereof. The reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
〔反応式 2〕 (Reaction formula 2)
[化 3] [Chemical 3]
〔式中、 X、 Yおよび zは前記と同様の意味を表す。〕 反応式 2は 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—ス ルホニルカーノメート (4)を塩基存在下または非存在下、 2 アミノビリミジン (または トリァジン) (5)と反応させて化合物(1)を製造する方法を示す。 [Where, X, Y, and z represent the same meaning as described above. Reaction formula 2 is 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl carnomate (4) in the presence or absence of a base and 2-aminopyrimidine (or Triazine) A method for producing compound (1) by reacting with (5) is shown.
本反応において、(5)は(4)に対して通常 0. 5ないし 10倍モル、好ましくは 0. 9な いし 1. 1倍モル使用される。 In this reaction, (5) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 or 1.1-fold mol with respect to (4).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノ ピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ-リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0] 7 ゥンデセンおよび 1, 4ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロ ピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並び にナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウム t—ブトキシド等の金属アル コキシド類が挙げられる。塩基は (4)に対して通常 0ないし 10倍モル、好ましくは 0な いし 2倍モル使用される。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] 7undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide can be mentioned. The base is usually used in an amount of 0 to 10-fold mol, preferably 0 to 2-fold mol based on (4).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloro Halogenated hydrocarbons such as loetane, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoleketone and methylisobutylketone, and tolyl such as acetonitrile and propio-tolyl And mixed solvents thereof.
反応温度は通常一 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 120°Cである。 The reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
〔反応式 3〕 (Reaction formula 3)
[化 4] [Chemical 4]
〔式中、 X、 Yおよび zは前記と同様の意味を表す。〕 反応式 3は 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—ス ルホ-ルイソシアナート(6)を塩基存在下または非存在下、 2 アミノビリミジン (また はトリァジン) (5)と反応させて化合物(1)を製造する方法を示す。 [Where, X, Y, and z represent the same meaning as described above. Reaction scheme 3 is 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfol isocyanate (6) in the presence or absence of a base in the presence of 2 aminopyrimidine ( Alternatively, a method for producing compound (1) by reacting with triazine (5) is shown.
本反応において、(5)は(6)に対して通常 0. 5ないし 10倍モル、好ましくは 0. 9な いし 1. 1倍モル使用される。 In this reaction, (5) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 or 1.1-fold mol based on (6).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノ ピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ-リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0] 7 ゥンデセンおよび 1, 4ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロ ピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並び にナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウム t—ブトキシド等の金属アル コキシド類が挙げられる。塩基は(3)に対して通常 0ないし 10倍モル、好ましくは 0な いし 2倍モル使用される。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] 7undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide can be mentioned. The base is usually 0 to 10 times mol, preferably 0, relative to (3). 2 times mole used.
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl And mixed solvents thereof.
反応温度は通常一 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 120°Cである。 The reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0009] 反応式 1で示す方法で用いられる 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィ ル)ピラゾール— 5 スルホンアミド(2)は反応式 4な 、し 6に示す方法で製造できる。 また、反応式 2ないし 3で示す方法で用いられる 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサ ジンー3—ィル)ピラゾールー 5—スルホ-ルカーバメート(4)および 4 (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5—スルホ-ルイソシアナート(6)は 4- (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド( 2)を原料として、特開昭 59— 219281号公報および特開昭 55— 13266号公報に 記載されて ヽる方法を参考にして合成できる。 [0009] 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5 sulfonamide (2) used in the method shown in Reaction Formula 1 is the method shown in Reaction Formulas 4 and 6. Can be manufactured. Also, 4- (5H, 6H-1, 4, 2, dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfolcarbamate (4) and 4 (5H, 6H-1) , 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfol isocyanate (6) is made from 4- (5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) It can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-59-219281 and JP-A-55-13266.
[0010] 〔反応式 4〕 [0010] [Reaction Formula 4]
[化 5] [Chemical 5]
I I
(7) (8) (7) (8)
(9) (2) (9) (2)
〔式中、 R4、 R5および R6は前記と同様の意味を表す。〕 [Where, R 4 , R 5 and R 6 represent the same meaning as described above. ]
反応式 4は、 5 クロ口一 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン一 3—ィル)ピラゾ ール(7)を水硫化ナトリウムと反応させて 5—メルカプト— 4— (5H, 6H- 1, 4, 2— ジォキサジン 3—ィル)ピラゾール (8)とし(工程 A)、 (8)を塩素または次亜塩素酸 ナトリウム等の塩素ィ匕剤と反応させて 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィ ル)ピラゾール一 5—スルホユルクロリド(9)とし(工程 B)、 (9)をアンモニア水または 炭酸アンモ-ゥムと反応させて(工程 C)、 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3 ィル)ピラゾールー 5 スルホンアミド(2)を製造する方法を示す。 Reaction Scheme 4 is a method of reacting 5-chlorocap 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole (7) with sodium hydrosulfide. , 6H- 1, 4, 2—dioxazine 3-yl) pyrazole (8) (step A), (8) is reacted with chlorine or sodium hypochlorite and other chlorinated agents to give 4- (5H , 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfourel chloride (9) (step B), (9) is reacted with aqueous ammonia or ammonium carbonate (step C). ), 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5 sulfonamide (2).
工程 Aの反応において、水硫ィ匕ナトリウムは(7)に対して通常 1. 0ないし 10倍モル 、好ましくは 2ないし 5倍モル使用される。 In the reaction of Step A, sodium sulfate is usually used in an amount of 1.0 to 10-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol based on (7).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄 極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl , N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl Examples include amides such as rho-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常一 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 120°Cである。 The reaction temperature is usually 90 ° C and 200 ° C, preferably 0 ° C and 120 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0012] 工程 Bの反応において、塩素または次亜塩素酸ナトリウムは(8)に対して通常 1な V、し 100倍モル、好ましくは 2な!、し 10倍モル使用される。 [0012] In the reaction of Step B, chlorine or sodium hypochlorite is usually used in an amount of 1 V, 100 times mol, preferably 2! And 10 times mol of (8).
本反応は、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば 特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ口エタン 等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction can use a solvent as needed. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, black mouth form and 1,2-dichloro mouth ethane, water, and a mixed solvent thereof may be used. Can be mentioned.
反応温度は通常— 90な!、し 100°C、好ましくは― 10な!、し 50°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually -90! And 100 ° C, preferably -10! And 50 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0013] 工程 Cの反応において、アンモニアまたは炭酸アンモ-ゥムは(9)に対して通常 1. [0013] In the reaction of Step C, ammonia or ammonium carbonate is usually 1.
0な!、し 100倍モル、好ましくは 2な!、し 5倍モル使用される。 It is 0 !, then 100 times mole, preferably 2 !, and 5 times mole.
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄 極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-amides such as 2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and mixed solvents thereof It is done.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0014] 〔反応式 5〕 [Scheme 5]
[化 6] Cl2または [Chemical 6] Cl 2 or
NaOCI I HCI NaOCI I HCI
〔式中、 および R6は前記と同様の意味を表す。〕 [Where, And R 6 represents the same meaning as described above. ]
反応式 5は、 5 ベンジルメルカプト— 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3 ィル)ピラゾール(10)を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させ Reaction formula 5 is a reaction of 5 benzyl mercapto-4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (10) with a chlorinating agent such as chlorine or sodium hypochlorite.
、4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホユルク ロリド (9)を製造する方法を示す。 , 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfoyl chloride (9) is shown.
本反応において、塩素または次亜塩素酸ナトリウムは(10)に対して通常 1ないし 1 In this reaction, chlorine or sodium hypochlorite is usually 1 to 1 relative to (10).
00倍モル、好ましくは 2ないし 10倍モル使用される。 00 times mole, preferably 2 to 10 times mole is used.
本反応は、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば 特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ口エタン 等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction can use a solvent as needed. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, black mouth form and 1,2-dichloro mouth ethane, water, and a mixed solvent thereof may be used. Can be mentioned.
反応温度は通常— 90な!、し 100°C、好ましくは― 10な!、し 50°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually -90! And 100 ° C, preferably -10! And 50 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0015] (9)は反応式 4の工程 Cにより、 4—(5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル) ピラゾール— 5—スルホンアミド(2)に誘導できる。また、特開平 7— 118267号公報 に記載されて 、る方法を参考にし、 (9)と(5)とを反応させることにより(1)を製造する ことができる。 [0015] (9) can be derived into 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) by the step C in Reaction Scheme 4. Further, (1) can be produced by reacting (9) and (5) with reference to the method described in JP-A-7-118267.
[0016] 〔反応式 6〕 [Reaction formula 6]
[化 7] [Chemical 7]
(1 1 ) (12) (1 1) (12)
〔式中、 R5および R6は前記と同様の意味を表す。〕 [Where, R 5 and R 6 represent the same meaning as described above. ]
反応式 6は、 4—(5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾール(11)の ピラゾール環上 5位を n—ブチルリチウム(n BuLi)またはリチウムジイソプロピルァ ミド (LDA)等によりリチオイ匕後、二酸化硫黄と反応させて 4— (5H, 6H- 1, 4, 2— ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールー 5—スルフィン酸リチウム(12)とし(工程 D)、 ( 12)を N クロロコハク酸イミドと反応させて(工程 E)、 4— (5H, 6H- 1, 4, 2 ジォ キサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホユルクロリド(9)を製造する方法を示す。 In Reaction Scheme 6, 4-position of 5- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (11) on the pyrazole ring is n-butyllithium (n BuLi) or lithium diisopropylamide (LDA), etc. And then react with sulfur dioxide to give 4- (5H, 6H-1, 4, 2-dioxazine 3-yl) pyrazole-5-sulfinic acid lithium (12) (Step D) and (12) as N chlorosuccinate. A method for producing 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfourel chloride (9) by reacting with acid imide (Step E) is shown.
[0017] 工程 Dの 1)の反応において、 n—ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミド は(11)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 1ないし 5倍モル使用される。 本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、並びにこれらの混合溶媒が挙 げられる。 [0017] In the reaction of step D 1), n-butyllithium or lithium diisopropylamide is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (11). This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran are used. And mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 120な!、し 100°C、好ましくは— 78な!、し 10°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually 120 ° C and 100 ° C, preferably 78 ° C and 10 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0018] 工程 Dの 2)の反応において、二酸ィ匕硫黄は(11)に対して通常 1. 0ないし 100倍 モル、好ましくは 1ないし 10倍モル使用される。 [0018] In the reaction of step D 2), disulfur diacid is usually used in an amount of 1.0 to 100 times mol, preferably 1 to 10 times mol, relative to (11).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、並びにこれらの混合溶媒が挙 げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran are used. As well as these mixed solvents I can get lost.
反応温度は通常— 120な!、し 100°C、好ましくは— 78な!、し 10°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually 120 ° C and 100 ° C, preferably 78 ° C and 10 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0019] 工程 Eの反応において、 N—クロロコハク酸イミドは(12)に対して通常 1. 0ないし 1 00倍モル、好ましくは 1ないし 10倍モル使用される。 [0019] In the reaction of Step E, N-chlorosuccinimide is usually used in an amount of 1.0 to 100 times mol, preferably 1 to 10 times mol to (12).
本反応に使用される溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例え ば、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロロェタン等のハロゲン系炭化水素 類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.For example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane, water, and These mixed solvents are mentioned.
反応温度は通常— 90な!、し 100°C、好ましくは― 10な!、し 50°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually -90! And 100 ° C, preferably -10! And 50 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0020] (9)は反応式 4の工程ひこより、 4 (5H, 6H—1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル) ピラゾール— 5 スルホンアミド(2)に誘導できる。 01 [0021] 反応式 4ないし 6に示す方法で用いられる 5 クロ口— 4— (5H, 6H— 1, 4, 2 ジ ォキサジンー3 ィル)ピラゾール(7)、 5 べンジルメルカプト—4—(5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾール(10)および 4—(5H, 6H—1, 4, 2 ジ ォキサジン— 3 ィル)ピラゾール(11)は反応式 7な 、し 15に示す方法で製造でき る。 [0020] (9) can be derived from 4 step 5 of Reaction Scheme 4 to 4 (5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole-5 sulfonamide (2). 01 [0021] 5-Chromium used in the methods shown in Reaction Formulas 4 to 6 — 4— (5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole (7), 5 Benzyl mercapto-4— (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3 yl) pyrazole (10) and 4- (5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine-3 yl) pyrazole (11) are It can be manufactured by the method shown in 15.
〔反応式 7〕 (Reaction formula 7)
[化 8] [Chemical 8]
(13) (14) _=CI (13) (14) _ = CI
_=SCH2Ph _ = SCH 2 Ph
_=H _ = H
〔式中、 R5および R6は前記と同様の意味を表し、 X1はハロゲン原子 を表し、 Lは塩素原子、ベンジルチオ基または水素原子を表す。〕 反応式 7は、ピラゾール 4 ヒドロキサム酸( 13)を隣接ジハロゲンィ匕アルキル(14 )と反応させて 4—(5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾール(7)、 ( 10)または(11)を製造する方法を示す。 [Where, R 5 and R 6 represent the same meaning as described above, X 1 represents a halogen atom, and L represents a chlorine atom, a benzylthio group or a hydrogen atom. ] Scheme 7 shows that 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (7), (10) or pyrazole 4 hydroxamic acid (13) is reacted with the adjacent dihalogen alkyl (14). A method for producing (11) will be described.
本反応において、(14)は(13)に対して通常 1. 0ないし 100倍モル、好ましくは 1な いし 5倍モル使用される。 In this reaction, (14) is usually used in an amount of 1.0 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol, relative to (13).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対し て通常 0な ヽし 10倍モル、好ましくは 0な ヽし 2倍モル使用される。 Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, Triethylamine, N, N dimethyldiamine, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabicyclic [2.2.2] Octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium And organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol of (13).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄 極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and mixed solvents thereof .
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 〔反応式 8〕 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. (Reaction formula 8)
[化 9] [Chemical 9]
〔式中、 R4、 R5、 R6および Lは前記と同様の意味を表し、 X2はハロゲン原 子、 C アルキルスルホ -ルォキシ基または C ハロアルキルスルホ -ルォキシ基を[Where, R 4 , R 5 , R 6 and L have the same meaning as described above, and X 2 represents a halogen atom, a C alkylsulfo-oxy group or a C haloalkyl sulfo-oxy group.
1-3 1-3 1-3 1-3
表す。〕 To express. ]
反応式 8は、ピラゾール 4 カルボン酸クロリド(15)をアルコキシァミン( 16)と反 応させてピラゾール 4 ヒドロキサム酸エステル( 17)とし(工程 F)、 (17)を塩基と 反応させて(工程 G)、4—(5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾール (7)、 (10)または(11)を製造する方法を示す。 In Reaction Scheme 8, pyrazole 4 carboxylic acid chloride (15) is reacted with alkoxyamine (16) to give pyrazole 4 hydroxamic acid ester (17) (step F), and (17) is reacted with a base (step G), 4- (5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (7), (10) or (11) is produced.
工程 Fの反応において、(16)は(15)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 2な 、し 5倍モル使用される。 In the reaction of Step F, (16) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 5 times mol to (15).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(15)に対し て通常 0な ヽし 10倍モル、好ましくは 0な ヽし 2倍モル使用される。 Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylamino. Pyridine, triethylamine, N, N dimethyladiline, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabisic mouth [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec Examples include organolithiums such as butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol for (15).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as, jetyl ether, diisopropyl ether, Ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetate Amides and amides such as N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof can be mentioned.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0024] 工程 Gの反応において使用される塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム 、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、 4 —ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N—ジメチルァニリン、 1, 8—ジァザ ビシクロ [5. 4. 0]—7—ゥンデセンおよび 1, 4ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン等 の有機塩基類、 n—ブチルリチウムおよび sec—ブチルリチウム等の有機リチウム類、 リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウ ムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウム t—ブトキシ ド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(17)に対して通常 0ないし 10倍モ ル、好ましくは 0ないし 2倍モル使用される。 [0024] Bases used in the reaction in Step G include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N , N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5. 4. 0] —7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec— Examples include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol of (17).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0025] 〔反応式 9〕 [Reaction Formula 9]
[化 10] [Chemical 10]
(16a) 17a (16a) 17a
(7a) : し =CI (7b) : し =CI (7a): Shi = CI (7b): Shi = CI
(10a): L=SCH2Ph (10b): L=SCH2Ph (10a): L = SCH 2 Ph (10b): L = SCH 2 Ph
(1 1 a): L=H (1 1 b): L=H (1 1 a): L = H (1 1 b): L = H
〔式中、 X1および Lは前記と同様の意味を表し、 R7および R8はそ れぞれ独立して水素原子または C アルキル基を表す。〕 [Where, X 1 and L represent the same meaning as described above, and R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a C alkyl group. ]
1-3 1-3
反応式 9は、ピラゾール 4 カルボン酸クロリド(15)をァリルォキシァミン( 16a)と 反応させてピラゾール 4 ヒドロキサム酸エステル( 17a)とし(工程 H) , (17a)をハ ロゲンまたは N—ハロゲン化コハク酸イミドと反応させて 4 (5—ハロアルキル—5H , 6H- 1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾール(7a)、(10a)または(11a)とし (工程 1)、 (7a) , (10a)または(11a)を還元して (ェ衙)、4— (5 アルキル— 5H, 6 H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾール(7b)、(10b)または(l ib)を製造 する方法を示す。 In Reaction Scheme 9, pyrazole 4 carboxylic acid chloride (15) is reacted with aryloxyamine (16a) to give pyrazole 4 hydroxamic acid ester (17a) (steps H) and (17a) as halogen or N— 4 (5-Haloalkyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7a), (10a) or (11a) by reacting with halogenated succinimide (Step 1), (7a) , (10a) or (11a) is reduced (衙) and 4- (5 alkyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7b), (10b) or ( l Shows how to produce ib).
工程 Hの反応において、(16a)は(15)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましく は 2な ヽし 5倍モル使用される。 In the reaction of Step H, (16a) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 5 times mol to (15).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(15)に対し て通常 0な ヽし 10倍モル、好ましくは 0な ヽし 2倍モル使用される。 Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, Triethylamine, N, N Dimethyla Diphosphorus, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabicyclic mouth [2.2.2] octane and other organic bases, n butyl lithium and sec butyl lithium, etc. Examples thereof include organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 to 10 times mol, preferably 0 to 2 times mol for (15).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 工程 Iの反応において、ハロゲンまたは N ハロゲノコハク酸イミドは(17a)に対して 通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 1ないし 5倍モル使用される。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. In the reaction of Step I, halogen or N-halogenosuccinimide is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (17a).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、酢酸メチルまたは酢酸ェチル等のカルボン酸エステル類、メタノール、エタ ノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N , N ジメチルァセトアミドおよび N—メチルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びに これらの混合溶媒が挙げられる。 反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl , Carboxylic acid esters such as methyl acetate or ethyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone , Water, and mixed solvents thereof The The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 ェ @Jの反応において用いられる還元剤および還元系としては、金属ナトリウム Z液 体アンモニア、金属リチウム Z液体アンモニアおよび金属ナトリウム Zt—ブチルアル コールーテトラヒドロフラン混合溶媒等のアルカリ金属を用いる系、亜鉛 Z酢酸およ び亜鉛 Z水酸ィ匕カリウム Z水等の金属亜鉛を用いる系、水素化トリフエ-ルスズ、水 素化ジフヱ-ルスズ、水素化トリ n—ブチルスズ、水素化ジ n—ブチルスズ、水素ィ匕トリ ェチルスズおよび水素化トリメチルスズ等の有機スズ水素化物を用いる系、前記有機 スズィ匕合物とァゾビスイソプチ口-トリル等の遊離基開始剤を組み合わせた系、トリク ロロシラン、トリェチルシランおよびトリメチルシラン等のシラン類を用いる系、水素化 アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ビス(2—メトキシェトキシ )アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化シァノホウ素ナトリウム 等の金属水素錯化合物を用いる系、ジボラン、トリメチルァミン ボランおよびピリジ ンーボラン等のボラン誘導体を用いる系、並びに、水素 Zパラジウム 炭素および水 素 Zラネーニッケル等の接触還元系が挙げられる。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. The reducing agent and reduction system used in the reaction of @J include alkali metal such as metallic sodium Z liquid ammonia, metallic lithium Z liquid ammonia and metallic sodium Zt-butyl alcohol-tetrahydrofuran mixed solvent, zinc Z acetic acid Zinc Z Hydroxide Potassium Z System using zinc metal such as Z water, triphenyltin hydride, diphenyltin hydride, tri-n-butyltin hydride, di-n-butyltin hydride, hydrogen Systems using organotin hydrides such as triethyltin and trimethyltin hydride, systems combining the above organotin compounds with free radical initiators such as azobisisobutyl thiol, silanes such as chlorosilane, triethylsilane and trimethylsilane , Lithium aluminum hydride, aluminum hydride sodium , Systems using metal hydride complexes such as sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, sodium borohydride and sodium cyanoborohydride, and borane derivatives such as diborane, trimethylamine borane and pyridin-borane And catalytic reduction systems such as hydrogen Z palladium carbon and hydrogen Z Raney nickel.
還元剤は、 (7a) , (10a)または(11a)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 1ないし 5倍モル使用される。 The reducing agent is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol for (7a), (10a) or (11a).
本還元反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は上 記各還元系に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロ へキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよ び 1, 2—ジクロロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロ ピルエーテル、ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチル ェチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピ ォ-トリル等の-トリル類、酢酸メチルまたは酢酸ェチル等のカルボン酸エステル類、 メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、 N, N ジメチル ホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチル—2—ピロリドン等のアミド 類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reduction reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used as necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to each of the above reduction systems. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1 , Halogenated hydrocarbons such as 2-dichloroethane, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and-such as acetonitrile and propiotolyl Tolyls, carboxylic esters such as methyl acetate or ethyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone , Water, and mixed solvents thereof It is.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは― 78な!、し 100°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually -90! And 200 ° C, preferably -78! And 100 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0029] 〔反応式 10〕 [0029] [Reaction Scheme 10]
[化 11] [Chemical 11]
(7d) L=CI (7e) L=CI (7d) L = CI (7e) L = CI
(7c) : L=C1 (7c): L = C1
(10d) し =SCH2Ph (10e) L=SCH2P (10c): L=SCH2Ph (10d) then = SCH 2 Ph (10e) L = SCH 2 P (10c): L = SCH 2 Ph
(11d) L=H (11e) L=H (11d) L = H (11e) L = H
(11 c): L=H (11 c): L = H
〔式中、 X2および Lは前記と同様の意味を表す。〕 反応式 10は、 4— (5—ハロアルキル— 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィ ル)ピラゾール(7c)、(10c)または(11c)を塩基存在下または非存在下、脱ハロゲン 化水素化して、各々対応する 4 (5 アルキリデン—5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサ ジン 3 ィル)ピラゾール(7d)、(10d)または(l id)とし(工程 K)、(7d)、(10d)ま たは(l id)を還元して(工程 L)、各々対応する 4 (5 アルキル 5H, 6H—1, 4 , 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾール(7e)、(10e)または(l ie)を製造する方法 を示す。 [Where, X 2 and L have the same meaning as described above. Reaction scheme 10 is 4- (5-haloalkyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7c), (10c) or (11c) in the presence or absence of a base, Dehydrohalogenated to the corresponding 4 (5 alkylidene-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (7d), (10d) or (l id) (step K), ( 7d), (10d) or (l id) is reduced (Step L), and the corresponding 4 (5 alkyl 5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole (7e), (10e ) Or (l ie) is shown.
[0030] 工程 Kの反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸力 リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム 等の無機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメ チルァ-リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザ ビシクロ [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n—ブチルリチウムおよび sec ブチル リチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチ ルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムェトキ シドおよびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(7c) 、 (10c)または(11c)に対して通常 0ないし 100倍モル、好ましくは 0ないし 5倍モル 使用される。 [0030] Bases used in the reaction of Step K include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate and sodium hydride, pyridine, 4- Organic bases such as dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethylamine, 1,8 diazabicyclo [5.4.0] -7 undecene and 1,4 diazabicyclo [2.2.2] octane, n —Organic lithiums such as butyllithium and sec-butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. Can be mentioned. The base is usually 0 to 100 times mol, preferably 0 to 5 times mol for (7c), (10c) or (11c). used.
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 工程 Lの反応において用いられる還元剤および還元系としては、金属ナトリウム Z 液体アンモニア、金属リチウム Z液体アンモニアおよび金属リチウム Zェチルァミン 等のアルカリ金属を用いる系、アルミニウム 水銀 Zジェチルエーテル一水およびァ ルミ-ゥムーニッケル z水酸ィ匕ナトリウム Z水等の金属アルミニウムを用いる系、水素 化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム化合物を用いる系、トリェチルシ ラン トリフルォロ酢酸およびポリメチルヒドロシロキサン Zパラジウム 炭素等のヒド ロシラン類を用いる系、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、 水素化ビス(2—メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムおよ び水素化シァノホウ素ナトリウム等の金属水素錯ィ匕合物を用いる系、ジボラン、トリメ チルァミン ボランおよびピリジン ボラン等のボラン誘導体を用いる系、抱水ヒドラ ジン Z空気、抱水ヒドラジン Zへキサシァノ鉄(in)酸カリウムおよびヒドロキシルァミン o—スルホン酸 Z水酸ィ匕ナトリウム等の反応系内に発生させたジイミドを用いる系 、水素 Zパラジウム 炭素および水素 Zラネーニッケル等の不均一系接触還元系、 並びに、水素 Zクロロトリス(トリフエ-ルホスフィン)ロジウム(1)、水素 Zヒドリドカルボ ニルトリス(トリフエニルホスフィン)ロジウム(I)、水素 Z酢酸ロジウム(Π)および水素 Z 酢酸ルテニウム (π)等均一系接触還元系が挙げられる。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. Examples of the reducing agent and reducing system used in the reaction in Step L include metallic sodium Z liquid ammonia, metallic lithium Z liquid ammonia, metallic lithium Z ethylamine and other alkali metal systems, aluminum mercury Z jetyl ether monohydrate and aluminum. -Moun nickel z Sodium hydroxide Z System using metal aluminum such as water, System using aluminum hydride compounds such as diisobutylaluminum hydride, Hydrosilanes such as triethylsilane trifluoroacetic acid and polymethylhydrosiloxane Z palladium carbon Metal hydride complexes such as lithium aluminum hydride, sodium aluminum hydride, sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, sodium borohydride and sodium cyanoborohydride Systems using compounds, systems using borane derivatives such as diborane, trimethylamine borane and pyridine borane, hydrazine hydrate Z air, hydrazine hydrate Z potassium hexocyano (in) and hydroxylamine o-sulfonic acid Z Systems using diimides generated in reaction systems such as sodium hydroxide and sodium, heterogeneous catalytic reduction systems such as hydrogen Z palladium carbon and hydrogen Z Raney nickel, and hydrogen Z chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (1 ), Hydrogen Z hydridocarbonyl tris (triphenylphosphine) rhodium (I), hydrogen Z rhodium acetate (Π) and hydrogen Z ruthenium acetate (π).
本還元反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は上 記各還元系に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロ へキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよ び 1, 2—ジクロロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロ ピルエーテル、ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチル ェチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピ ォ-トリル等の-トリル類、酢酸メチルまたは酢酸ェチル等のカルボン酸エステル類、 メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、 N, N ジメチル ホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチル—2—ピロリドン等のアミド 類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reduction reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used as necessary. Solvent is above There is no particular limitation as long as it is inert to each reduction system. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1, 2- Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl, Carboxylic acid esters such as methyl acetate or ethyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water And mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは― 78な!、し 100°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually -90! And 200 ° C, preferably -78! And 100 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0032] 〔反応式 11〕 [Scheme 11]
[化 12] [Chemical 12]
〔式中、 R8および Lは前記と同様の意味を表す。〕 反応式 11は、ピラゾール 4 ヒドロキサム酸エステル( 17a)または( 17b)を酸 (H + )と反応させて 4ー(5—ァルキルー511, 6H—1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル) ピラゾール(7b)、 (10b)または(1 lb)を製造する方法を示す。 [Where, R 8 and L have the same meaning as described above. Reaction scheme 11 is a reaction of pyrazole 4 hydroxamic acid ester (17a) or (17b) with acid (H +) to give 4- (5-alkyl-511, 6H—1, 4, 2 dioxazine 3yl) pyrazole ( A method for producing 7b), (10b) or (1 lb) is indicated.
[0033] 本反応に使用される酸としては塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸類、酢酸、トリフ ルォロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルォロメタンスルホン酸または p—トルエンスルホ ン酸等の有機酸類が挙げられる。酸は(17a)または(17b)に対して通常 0. 01ない し 100倍モル、好ましくは 0. 05ないし 10倍モル使用される。 本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 [0033] Examples of acids used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid. Can be mentioned. The acid is usually used in an amount of 0.01- to 100-fold mol, preferably 0.05 to 10-fold mol based on (17a) or (17b). This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0034] 〔反応式 12〕 [Reaction Formula 12]
[化 13] [Chemical 13]
(18) (18)
〔式中、 R8および X2は前記と同様の意味を表す。〕 [Where, R 8 and X 2 represent the same meaning as described above. ]
反応式 12は、ピラゾール 4 ヒドロキサム酸( 13)を塩基存在下または非存在下、 ハロゲンィ匕ァリル(18)と反応させて、反応式 9および反応式 11で用いられるピラゾー ルー 4 ヒドロキサム酸エステル ( 17a)を製造する方法を示す。 Scheme 12 shows the reaction of pyrazole 4 hydroxamic acid (13) with halogenaryl (18) in the presence or absence of a base to form pyrazol 4 hydroxamic acid ester (17a ) Is shown.
[0035] 本反応において、(18)は(13)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 1ない し5倍モル使用される。 [0035] In this reaction, (18) is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5- fold mol based on (13).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対し て通常 0な!、し 100倍モル、好ましくは 0な!、し 5倍モル使用される。 Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylamino. Pyridine, triethylamine, N, N dimethyladiline, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabisic mouth [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec Butylliciu And organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 !, 100 times mol, preferably 0 !, and 5 times mol with respect to (13).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0036] 〔反応式 13〕 [Scheme 13]
[化 14] [Chemical 14]
(19) (20) (19) (20)
〔式中、 R8および X2は前記と同様の意味を表す。〕 [Where, R 8 and X 2 represent the same meaning as described above. ]
反応式 13は、ピラゾール 4 ヒドロキサム酸( 13)を塩基存在下または非存在下、 ノ、ロヒドリン(19)またはォキシラン(20)と反応させて、反応式 11で用いられるピラゾ 一ルー 4 ヒドロキサム酸エステル (17b)を製造する方法を示す。 Scheme 13 shows the reaction of pyrazol 4 hydroxamic acid (13) in the presence or absence of a base with rholine, rhohydrin (19) or oxilan (20) to form a pyrazo 1-luo 4 hydroxamic acid ester used in Scheme 11 The method of manufacturing (17b) is shown.
[0037] 本反応において、(19)または(20)は(13)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ま しくは 2な ヽし 5倍モル使用される。 [0037] In this reaction, (19) or (20) is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol with respect to (13).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対し て通常 0な!、し 100倍モル、好ましくは 0な!、し 5倍モル使用される。 Bases used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, Inorganic bases such as sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylaniline, 1,8 diazabicyclo [5. 4.0] —7 Wundecene and 1,4 diazabisic mouth [2.2.2] Organic bases such as octane, organic lithiums such as n-butyllithium and sec-butyllithium, lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide Examples include organic lithium amides, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 !, 100 times mol, preferably 0 !, and 5 times mol with respect to (13).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 〔反応式 14〕 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. (Reaction formula 14)
[化 15] [Chemical 15]
(7f) : L=CI (7f): L = CI
(10f): L=SCH2Ph (10f): L = SCH 2 Ph
(11f): L=H (11f): L = H
〔式中、 R8および Lは前記と同様の意味を表す。〕 反応式 14は、ピラゾール 4 ヒドロキサム酸( 13)を塩基存在下または非存在下、 ェピハロヒドリン(21)と反応させて、ピラゾールー 4ーヒドロキサム酸エステル(17c)と し(工程 L)、(17c)を酸または塩基で処理して、 4— (5 ヒドロキシアルキル— 5H, 6 H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾール(7f)、(10f)または(l lf)とし(ェ 程 M)、次に、(7f)、(10f)または(l lf)をハロゲン化またはアルキルスルホニル化す る(工程 N)ことにより、各々対応する、 4一(5—ハロアルキル(またはアルキルスルホ -ルォキシアルキル) 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾール(7 c)、(10c)または(11c)を製造する方法を示す。(7c)、(10c)または(11c)は反応 式 10で使用される。 [Where, R 8 and L have the same meaning as described above. In the reaction scheme 14, pyrazole 4-hydroxamic acid (13) is reacted with epihalohydrin (21) in the presence or absence of a base to form pyrazole 4-hydroxamic acid ester (17c) (steps L) and (17c). Treatment with acid or base to give 4- (5 hydroxyalkyl-5H, 6 H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (7f), (10f) or (l lf) (step M); Next, (7f), (10f) or (l lf) is halogenated or alkylsulfonylated (step N) to give the corresponding 4- (5-haloalkyl (or alkylsulfo-alkyloxyalkyl) 5H, 6H -1, 4, 2 Dioxazine 3 yl) Pyrazole (7c), (10c) or (11c) is produced. (7c), (10c) or (11c) is used in Reaction Scheme 10.
工程 Lの反応において、(21)は(13)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 1ないし 5倍モル使用される。 In the reaction of Step L, (21) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol, of (13).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対し て通常 0な!、し 100倍モル、好ましくは 0な!、し 5倍モル使用される。 Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate and sodium hydride. Organic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylaniline, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabicycline [2.2.2] octane N, organic lithiums such as butyl lithium and sec butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t -Metal alkoxides such as butoxide. The base is usually used in an amount of 0 !, 100 times mol, preferably 0 !, and 5 times mol with respect to (13).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl 2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 工程 Mの反応において使用される酸または塩基としては、塩酸、硫酸およびリン酸 等の無機酸類、酢酸、トリフルォロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルォロメタンスルホン 酸および P トルエンスルホン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、 炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナ トリウム等の無機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ-リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]— 7 ゥンデセンおよび 1, 4 ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n—ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビ ス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリ ゥムエトキシドおよびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。酸 または塩基は(17c)に対して通常 0ないし 100倍モル、好ましくは 0ないし 5倍モル使 用される。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. Acids or bases used in the reaction of Step M include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and P-toluenesulfonic acid, water Inorganic bases such as sodium oxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N dimethylamine, 1 , 8 Diazabicyclo [5. 4. 0] —Organic bases such as 7-undecene and 1,4-Diazabicyclo [2.2.2] octane, Organolithiums such as n-butyllithium and sec-butyllithium, Lithium diisopropylamide and Organic lithium amides such as lithium bis (trimethylsilyl) amide And sodium methoxide, and metal alkoxides such as sodium Umuetokishido and potassium t- butoxide. The acid or base is usually used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (17c). Used.
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methinoretinoketone and methylisobutylketone, and -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 工程 Nの反応にお!、て、ハロゲン化剤またはアルキルスルホ -ル化剤は(7f)、 (10 f)または(l lf)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ましくは 1ないし 5倍モル使用さ れる。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours. In the reaction of Step N, the halogenating agent or alkyl sulfonating agent is usually 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol of (7f), (10 f) or (l lf). Used in moles.
本反応に使用されるハロゲン化剤としては、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素 等のハロゲン化水素酸、三塩化リン、五塩化リン、ォキシ塩化リンおよび三臭化リン等 のハロゲン化リン、ホスホン酸トリフエ-ル z塩化べンジルおよびトリフエ-ルホスフィ ン Z四塩ィ匕炭素等の系、塩化メタンスルホニルおよび塩化 P—トルエンスルホ -ル等 のハロゲン化スルホ-ゥム、並びに塩化チォ -ルおよび臭化チォ-ル等のハロゲン 化チォニルが挙げられる。 Examples of the halogenating agent used in this reaction include hydrohalic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide, phosphorus halides such as phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride and phosphorus tribromide. , Phosphonic acid triphenyl z benzil chloride and triphenylphosphine Z tetrasalt-carbon, etc., methanesulfonyl chloride and halogenated sulfone such as P-toluenesulphonyl, and thiol chloride And thionyl halides such as thiol bromide.
本反応に使用されるアルキルスルホ -ル化剤としては、塩化メタンスルホ-ルおよ び塩化 p—トルエンスルホ-ル等のハロゲン化スルホ -ゥムが挙げられる。 Examples of the alkyl sulfonating agent used in this reaction include halogenated sulfones such as methane chloride chloride and p-toluene chloride.
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as: ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran; ketones such as acetone, methinoretinoleketone and methylisobutylketone;-such as acetonitrile and propio-tolyl Examples include tolyls, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C. The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0042] 〔反応式 15〕 [Scheme 15]
[化 16] [Chemical 16]
NH2OH NH 2 OH
(15) ^ (13) (15) ^ (13)
C塩基) 反応式 15は、ピラゾールー 4一力ルボン酸クロリド(15)を塩基存在下または非存在 下、ヒドロキシァミンと反応させて、反応式 7、反応式 12ないし 14で用いられるピラゾ 一ルー 4ーヒドロキサム酸( 13)を製造する方法を示す。 (C base) In Reaction Scheme 15, Pyrazole-4 is a reaction of hydroxyamine with or without a base in the presence or absence of a base. A method for producing 4-hydroxamic acid (13) is shown.
[0043] 本反応において、ヒドロキシルァミンは(15)に対して通常 1ないし 100倍モル、好ま しくは 1な!ヽし 5倍モル使用される。 [0043] In this reaction, hydroxylamine is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (15).
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸カリウム、 炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無 機塩基類、ピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン、トリェチルァミン、 N, N ジメチルァ 二リン、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセンおよび 1, 4 ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン等の有機塩基類、 n ブチルリチウムおよび sec ブチルリチウ ム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリ ル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドお よびカリウム t—ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(15)に対し て通常 0な!、し 100倍モル、好ましくは 0な!、し 5倍モル使用される。 Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylamino. Pyridine, triethylamine, N, N dimethyladiline, 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene and 1,4 diazabisic mouth [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec Examples include organolithiums such as butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0! And 100 times mol, preferably 0! And 5 times mol of (15).
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に 不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、へキサン、シクロへキサン、ベン ゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロ口ホルムおよび 1, 2—ジクロ ロェタン等のハロゲン系炭化水素類、ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジォキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチノレエチノレケトンお よびメチルイソブチルケトン等のケトン類、ァセトニトリルおよびプロピオ-トリル等の- トリル類、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミドおよび N—メチ ルー 2—ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。 This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, carbon tetrachloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane. Halogenated hydrocarbons such as ether, ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, acetone, methinoretinoleketone And ketones such as methyl isobutyl ketone, -tolyls such as acetonitrile and propio-tolyl, amides such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and these The mixed solvent is mentioned.
反応温度は通常— 90な!、し 200°C、好ましくは 0な!、し 100°Cである。 The reaction temperature is usually -90! And then 200 ° C, preferably 0! And 100 ° C.
反応時間は通常 0. 05ないし 100時間、好ましくは 0. 5ないし 10時間である。 The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
[0044] 以上の反応によって得られる目的物は、反応終了後、濾取、抽出、洗浄、カラムク 口マトグラフィー、再結晶および蒸留等の操作により、単離および精製することができ る。 [0044] After completion of the reaction, the target product obtained by the above reaction can be isolated and purified by operations such as filtration, extraction, washing, column chromatography, recrystallization and distillation.
[0045] 以下に化合物の合成例を具体的に述べる力 本発明はこれらによって限定される ものではない。 [0045] The ability to specifically describe synthesis examples of compounds below The present invention is not limited by these.
[0046] 〔合成例 1〕 [Synthesis Example 1]
N— ( (4, 6—ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3—クロ口一 1—メ チルー 4 (5ーメチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No. 1)の合成 N— ((4, 6-Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbole) 3—Black mouth 1-Methyl- 4 ( 5- methyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine 3-yl) pyrazole 5— Synthesis of sulfonamide (Compound No. 1)
[化 17] [Chemical 17]
ァセトニトリル(8ml)に 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(0. 64g、 2. 2mmol)と N— (4, 6 ジメトキシピリミジン— 2—ィル)力ルバミン酸フエ-ル(0. 59g、 2. lmm ol)を溶解し、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]— 7 ゥンデセン(0. 33g、 2. 2mmol )を加え、室温で 1時間撹拌した。水(8ml)をカ卩えた後、ジェチルエーテルで抽出し た。得られた水層に 12%塩酸をカ卩えて pHlに調整し、ジェチルエーテルで再度抽 出した。得られたジェチルエーテル溶液を水および塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液で順 次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣を n—へキサン で洗浄、乾燥して目的物(0.40g)を得た。融点 177— 179°C。プロトン核磁気共鳴 ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.38(d, J = 6.6Hz, 3H), 3.69— 3.72 ( 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.664 g, 2.2 mmol) and N in acetonitrile (8 ml) — Dissolve (4, 6 dimethoxypyrimidine-2-yl) strength rubamate (0.59 g, 2. lmm ol), and add 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] — 7 undecene (0. 33 g, 2.2 mmol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. Water (8 ml) was added and extracted with jetyl ether. Add 12% hydrochloric acid to the aqueous layer, adjust to pHl, and extract again with jetyl ether. I put it out. The obtained jetyl ether solution was washed successively with water and a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was washed with n-hexane and dried to obtain the desired product (0.40 g). Melting point 177-179 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.38 (d, J = 6.6Hz, 3H), 3.69— 3.72 (
3 Three
m, IH), 3.96 (s, 6H), 4.13—4.18(m, IH), 4.30 (s, 3H), 4.49—4.63 (m, IH), 5.77 (s, IH), 7.67(brs, IH), 12.91(brs, 1H)。 m, IH), 3.96 (s, 6H), 4.13—4.18 (m, IH), 4.30 (s, 3H), 4.49—4.63 (m, IH), 5.77 (s, IH), 7.67 (brs, IH) , 12.91 (brs, 1H).
〔合成例 2〕 (Synthesis Example 2)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 4— ( 5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)—1—メチルピラゾ 一ルー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.2)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbole) 3 Black mouth 4— (5 Yodomethyl— 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) — 1-Methylpyrazo 1 Synthesis of Luo 5-sulfonamide (Compound No. 2)
[化 18] [Chemical 18]
原料に 3 クロロー 4 (5 ョードメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジンー3 —ィル)—1—メチルビラゾール— 5—スルホンアミド(0.090g、0.21mmol)を用い 、合成例 1と同様にして目的物(0. 10g)を得た。融点 91— 94°C 3 Chloro-4 (5 odomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazin-3-yl) -1-methylbiazole-5-sulfonamide (0.090 g, 0.21 mmol) was used as the raw material in the same manner as in Synthesis Example 1. To obtain the desired product (0.10 g). Melting point 91—94 ° C
。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 3.28— 3.42 (m, 2H) . Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 3.28—3.42 (m, 2H)
3 Three
, 3.89-4.05 (m, 7Η), 4.04—4.12(m, IH), 4.31 (s, 3H), 4.56—4.6 0(m, IH), 5.79 (s, IH), 7.43(brs, IH), 12.93 (s, 1H)。 , 3.89-4.05 (m, 7Η), 4.04—4.12 (m, IH), 4.31 (s, 3H), 4.56—4.6 0 (m, IH), 5.79 (s, IH), 7.43 (brs, IH), 12.93 (s, 1H).
〔合成例 3〕 (Synthesis Example 3)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 4— ( 5, 5 ジメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)—1—メチルピラゾ 一ルー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.3)の合成 [化 19] N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbol) 3 Black mouth 4— (5, 5 Dimethyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) -1-methylpyrazo Synthesis of 5-Lusulfonamide (Compound No. 3) [Chemical 19]
原料に 3 クロ口— 4— (5, 5 ジメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3 —ィル)—1—メチルビラゾールー 5—スルホンアミド(0.47g、 1.5mmol)を用い、 合成例 1と同様にして目的物(0.42g)を得た。融点 189— 191°C。プロトン核磁気 共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.41 (s, 6H), 3.78 (s, 2H), 3.97 (s The raw material is 3 black mouth 4— (5,5 dimethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) -1-methylbiazole-5-sulfonamide (0.47 g, 1.5 mmol) The target product (0.42 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point 189-191 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.41 (s, 6H), 3.78 (s, 2H), 3.97 (s
3 Three
, 6H), 4.30 (s, 3H), 5.78 (s, IH), 7.58(brs, IH), 12.92(brs, 1H)。 〔合成例 4〕 , 6H), 4.30 (s, 3H), 5.78 (s, IH), 7.58 (brs, IH), 12.92 (brs, 1H). (Synthesis Example 4)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 4— ( 5 ョードメチル— 5—メチル—5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)—1— メチルビラゾールー 5—スルホンアミド(化合物 No.4)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-yl) aminocarbole) 3 Black mouth 4— (5-methyl-5-methyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) — Synthesis of 1-methyl bilazole-5-sulfonamide (Compound No. 4)
[化 20] [Chemical 20]
原料に 3 クロロー 4 (5 ョードメチルー 5—メチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォ キサジン— 3—ィル)—1—メチルビラゾールー 5—スルホンアミド(0.21g、0.48m mol)を用い、合成例 1と同様にして目的物(0.14g)を得た。融点 90— 93°C。プロト ン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.55(s, 3H), 3.30— 3.49 ( 3 Chloro-4 (5 odomethyl-5-methyl-5H, 6H-1, 4,2 dioxazine-3-yl) -1-methylvirazole-5-sulfonamide (0.21 g, 0.48 mmol) was used as a raw material. The target product (0.14 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point 90-93 ° C. Proto Nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.55 (s, 3H), 3.30— 3.49 (
3 Three
m, 2H), 3.81-3.84 (m, IH), 3.97(s, 6H), 4.23—4.30 (m, 4H), 5.8 0(s, IH), 7.29(brs, IH), 12.93(s, 1H)。 m, 2H), 3.81-3.84 (m, IH), 3.97 (s, 6H), 4.23-4.30 (m, 4H), 5.8 0 (s, IH), 7.29 (brs, IH), 12.93 (s, 1H ).
〔合成例 5〕 (Synthesis Example 5)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン— 2—ィル)ァミノカルボ-ル)— 1, 3 ジメチルー 4— (5—メチル 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—ス ルホンアミド(ィ匕合物 No.5)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine-2-yl) aminocarbole) — 1, 3 Dimethyl 4-— (5-Methyl 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole 5- Synthesis of Luhonamide (I Compound No.5)
[化 21] [Chemical 21]
原料に 1, 3 ジメチルー 4— (5—メチル—5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3 —ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(0.070g、0.26mmol)を用い、合成例 1と 同様にして目的物(0.090g)を得た。融点 180— 182°C。プロトン核磁気共鳴ケミカ ルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.36(d, J = 6.6Hz, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.62 1,3 Dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.070 g, 0.26 mmol) was used as a raw material in the same manner as in Synthesis Example 1. To obtain the desired product (0.090 g). Melting point 180—182 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.36 (d, J = 6.6Hz, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.62
3 Three
-3.69 (m, IH), 3.97(s, 6H), 4.11—4.16 (m, IH), 4.27 (s, 3H), 4.4 9-4.54 (m, IH), 5.78 (s, IH), 7.23(brs, IH), 12.74(brs, 1H)。 -3.69 (m, IH), 3.97 (s, 6H), 4.11—4.16 (m, IH), 4.27 (s, 3H), 4.4 9-4.54 (m, IH), 5.78 (s, IH), 7.23 ( brs, IH), 12.74 (brs, 1H).
〔合成例 6〕 (Synthesis Example 6)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 4— ( 5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)—1—メチルピラゾ 一ルー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.6)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbol) 3 Black mouth 4— (5 odomethyl— 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) — 1-methylpyrazo 1 Lu 5—Synthesis of sulfonamide (Compound No. 6)
[化 22] [Chemical 22]
原料に 4 (5 ョードメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジンー3—ィル) 1, 3 ジメチルビラゾールー 5—スルホンアミド(0.53g、 1.3mmol)を用い、合成例 1 と同様にして目的物(0.34g)を得た。融点 66— 69°C。プロトン核磁気共鳴ケミカル シフト値 δ (ppm) (CDCl中) 2.34 (s, 3H), 3.36 (m, 2H), 3.92—4. 19 (m, Using 4 (5 odomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazin-3-yl) 1,3 dimethylvirazole-5-sulfonamide (0.53 g, 1.3 mmol) as the starting material Product (0.34 g) was obtained. Melting point 66—69 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 2.34 (s, 3H), 3.36 (m, 2H), 3.92—4. 19 (m,
3 Three
8H), 4.23 (s, 3H), 4.54—4.59 (m, 1H), 5.78 (s, 1H), 7.41(brs, 1H), 12.64(brs, 1H)。 8H), 4.23 (s, 3H), 4.54-4.59 (m, 1H), 5.78 (s, 1H), 7.41 (brs, 1H), 12.64 (brs, 1H).
〔合成例 7〕 (Synthesis Example 7)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル)一 4— (5, 5 ジメ チルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジンー3—ィル) 1, 3 ジメチルビラゾールー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.7)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbol) 1 4— (5, 5 Dimethyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) 1, 3 Dimethylvirazole Synthesis of 5-sulfonamide (Compound No. 7)
[化 23] [Chemical 23]
原料に 4ー(5, 5 ジメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジンー3—ィル) 1, 3 ジメチルビラゾールー 5—スルホンアミド(0.13g、0.45mmol)を用い、合成例 1 と同様にして目的物(0.12g)を得た。融点 199— 201°C。プロトン核磁気共鳴ケミカ ルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.39 (s, 6H), 2.27 (s, 3H), 3.75 (s, 2H), 3. Same as Synthesis Example 1 using 4- (5,5 dimethyl-5H, 6H-1, 4,2 dioxazine-3-yl) 1,3 dimethylbiazole-5-sulfonamide (0.13 g, 0.45 mmol) as raw material In this way, the desired product (0.12 g) was obtained. Melting point 199-201 ° C. Proton Nuclear Magnetic Resonance Chemica Shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.39 (s, 6H), 2.27 (s, 3H), 3.75 (s, 2H), 3.
3 Three
97 (s, 6H), 4.27 (s, 3H), 5.78 (s, IH), 7.22(brs, IH), 12.75 (s, 1H)。 〔合成例 8〕 97 (s, 6H), 4.27 (s, 3H), 5.78 (s, IH), 7.22 (brs, IH), 12.75 (s, 1H). (Synthesis Example 8)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 4— (5 ョードメ チルー 5—メチルー 5H, 6H—1, 4, 2 ジォキサジンー3—ィル) 1, 3 ジメチル ピラゾールー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.8)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbol) 4— (5 pseudomethyl 5-methyl-5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine-3-yl) 1, 3 dimethyl pyrazole 5- Synthesis of Sulfonamide (Compound No.8)
[化 24] [Chemical 24]
原料に 4— (5 ョードメチル— 5—メチル—5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3 —ィル)— 1, 3 ジメチルビラゾール— 5—スルホンアミド(0.080g、0. 19mmol)を 用い、合成例 1と同様にして目的物(0.050g)を得た。融点 133— 135°C。プロトン 核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.63 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 3 4— (5-methyl-5-methyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) — 1,3 dimethylbiazole-5-sulfonamide (0.080 g, 0.19 mmol) was used as a raw material. The target product (0.050 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point 133-135 ° C. Proton Nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.63 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 3
3 Three
.31-3.46 (m, 2H), 3.78— 3.82 (m, IH), 3.97(s, 6H), 4.17—4.27 ( m, 4H), 5.79 (s, IH), 7.40(brs, IH), 12.76(brs, 1H)。 .31-3.46 (m, 2H), 3.78—3.82 (m, IH), 3.97 (s, 6H), 4.17—4.27 (m, 4H), 5.79 (s, IH), 7.40 (brs, IH), 12.76 (brs, 1H).
〔合成例 9〕 (Synthesis Example 9)
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン— 2—ィル)ァミノカルボ-ル)— 1, 3 ジメチルー 4— (6—メチル 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—ス ルホンアミド(ィ匕合物 No.9)の合成 N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine-2-yl) aminocarbole) — 1, 3 Dimethyl 4-— (6-Methyl 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole 5- Synthesis of Luhonamide (I Compound No.9)
[化 25] [Chemical 25]
原料に 1, 3 ジメチルー 4— (6—メチル—5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3 —ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(0. 14g、0.51mmol)を用い、合成例 1と同 様にして目的物(0.17g)を得た。融点 187— 189°C。プロトン核磁気共鳴ケミカル シフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1.28(d, J = 8. OHz, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.96 (s 1, 3 Dimethyl-4- (6-methyl-5H, 6H-1,4,2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.14 g, 0.51 mmol) was used as the raw material, the same as in Synthesis Example 1. In this way, the desired product (0.17 g) was obtained. Melting point 187-189 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1.28 (d, J = 8. OHz, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.96 (s
3 Three
, 6H), 3.99-4.04 (m, 2H), 4.27(s, 3H), 4.29—4.33 (m, 1H), 5.78 ( s, 1H), 7.26(brs, 1H), 12.70(brs, 1H)。 , 6H), 3.99-4.04 (m, 2H), 4.27 (s, 3H), 4.29—4.33 (m, 1H), 5.78 (s, 1H), 7.26 (brs, 1H), 12.70 (brs, 1H).
[0055] 〔合成例 10〕 [Synthesis Example 10]
N-((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 1—メ チルー 4 (5ーメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.1)の合成(その 2) N-((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-yl) aminocarbol) 3 Black mouth 1-Methyl- 4 ( 5- methyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine 3yl) pyrazole 5-sulfonamide (Compound No.1) (Part 2)
トルエン(100ml)に N—メトキシカルボ-ルー 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メ チルー 5H, 6H—1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド (20.3g、 57.5mmol)と 2 ァミノ— 4, 6 ジメトキシピリミジン(9.40g、 60.6mm ol)を加え、減圧下(700mmHg)、副生してくるメタノールを留去しながら 4時間加熱 還流した。同温度でトルエンを 15ml留去した後、撹拌しながら室温まで冷却した。析 出した固体を濾取、トルエンで洗浄、乾燥して目的物(24. lg)を得た。融点 177— 1 79。C。 Toluene (100 ml) with N-methoxycarbo-lu 3 1-methyl 4- (5-methyl-5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (20.3 g, 57.5 mmol ) And 2-amino-4,6 dimethoxypyrimidine (9.40 g, 60.6 mmol) were added, and the mixture was heated to reflux for 4 hours while distilling off the by-produced methanol under reduced pressure (700 mmHg). After 15 ml of toluene was distilled off at the same temperature, it was cooled to room temperature with stirring. The precipitated solid was collected by filtration, washed with toluene, and dried to obtain the desired product (24. lg). Melting point 177—79. C.
[0056] 〔合成例 11〕 [Synthesis Example 11]
N— ((4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 1—メ チルー 4 (5ーメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No.1)の合成(その 3) N— ((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1-yl) aminocarbole) 3 Black mouth 1-Methyl- 4 ( 5- methyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine 3-yl) pyrazole 5-sulfonamide (Compound No.1) (Part 3)
2 ァミノ一 4, 6 ジメトキシピリミジン(0.46g、 3. Ommol)のァセトニトリル(3ml) 溶液に 3 クロ口 1—メチル—4— (5—メチル—5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン —3—ィル)ピラゾールー 5—スルホ-ルイソシアナート(1. Og、 3. lmmol)のトルェ ン(5ml)溶液を加え、室温で 3時間撹拌した。析出した固体を濾取、トルエンで洗浄 、乾燥して目的物( 1. 2g)を得た。融点 177— 179°C。 2 Amino 1,4,6 Dimethoxypyrimidine (0.46g, 3. Ommol) Acetonitrile (3ml) 1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfol isocyanate (1. Og, 3. lmmol) Toluene (5 ml) solution was added and stirred at room temperature for 3 hours. The precipitated solid was collected by filtration, washed with toluene, and dried to obtain the desired product (1.2 g). Melting point 177-179 ° C.
[0057] 〔合成例 12〕 [Synthesis Example 12]
N— ( (4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 1—メ チルー 4 (5ーメチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(ィ匕合物 No. 1)の合成(その 4) N— ((4, 6 Dimethoxypyrimidine 1- 2-yl) aminocarbole) 3 Black mouth 1-Methyl- 4 ( 5- methyl-5H, 6H- 1, 4, 2 Dioxazine 3-yl) pyrazole 5-sulfonamide (Compound No. 1) (Part 4)
2 アミノー 4, 6 ジメトキシピリミジン(1. 55g、 10. Ommol)のァセトニトリノレ(15 ml)溶液にピリジン(0. 16g、 2. Omol)とシアン酸ナトリウム(0. 72g、 l lmmol)をカロ え、撹拌下、 40°Cにて 3 クロロー 1ーメチノレー 4一(5—メチノレー 5H, 6H- 1, 4, 2 ージォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5 スルホユルクロリド(3. 45g、 11. Ommo 1)を 1時間かけて分割投入した。 40°Cにて、さらに 1. 5時間撹拌した。室温まで冷却 後、水(60ml)をカ卩え、 35%塩酸で pHlに調整し、析出した固体を濾取した。得られ た固体をメタノールで洗浄、乾燥して目的物 (4. 70g)を得た。融点 177— 179°C。 2 To a solution of amino-4,6 dimethoxypyrimidine (1.55 g, 10. Ommol) in acetonitrile (15 ml) was charged with pyridine (0.16 g, 2. Omol) and sodium cyanate (0.72 g, l mmol). 3 Chloro 1-methylolene 4 (5-methinoleyl 5H, 6H-1, 4, 2-dioxazine-3 yl) pyrazole-5 sulfosulfuryl chloride (3.45 g, 11. Ommo 1) for 1 hour at 40 ° C with stirring Over time, it was divided and introduced. The mixture was further stirred at 40 ° C for 1.5 hours. After cooling to room temperature, water (60 ml) was added, pH was adjusted to 35 with 35% hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by filtration. The obtained solid was washed with methanol and dried to obtain the desired product (4.70 g). Melting point 177-179 ° C.
[0058] 〔合成例 13〕 [Synthesis Example 13]
N— ( (4, 6 ジメトキシピリミジン— 2—ィル)ァミノカルボ-ル)— 1—メチル—4— ( 5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホ ンアミド (化合物 No. 10)の合成 N— ((4, 6 Dimethoxypyrimidine-2-yl) aminocarbol) — 1-Methyl-4— (5-Methyl-5H, 6H- 1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfo Synthesis of Namide (Compound No. 10)
[化 26] [Chemical 26]
原料に 1ーメチルー 4ー(5—メチルー511, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジンー3—ィル )ピラゾールー 5—スルホンアミド(0. 20g、 0. 77mmol)を用い、合成例 1と同様にし て目的物(0. 25g)を得た。融点 154— 157°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 35 (d, J = 6. 3Hz, 3H) , 3. 56— 3. 64 (m, 1H) , 4. 03 1-methyl-4- (5-methyl-511, 6H- 1, 4, 2 dioxazine-3-yl ) Pyrazole-5-sulfonamide (0.20 g, 0.777 mmol) was used in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain the desired product (0.25 g). Melting point 154—157 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 35 (d, J = 6. 3Hz, 3H), 3. 56— 3. 64 (m, 1H), 4.03
3 Three
—4. 13 (m, 7H) , 4. 34 (s, 3H) , 4. 44—4. 50 (m, 1H) , 5. 78 (s, 1H) , 7. 4 5 (brs, 1H) , 7. 72 (s, 1H) , 12. 66Hz (brs, 1H)。 —4. 13 (m, 7H), 4. 34 (s, 3H), 4. 44—4. 4. 50 (m, 1H), 5. 78 (s, 1H), 7. 4 5 (brs, 1H) , 7. 72 (s, 1H), 12. 66Hz (brs, 1H).
[0059] 〔合成例 14〕 [Synthesis Example 14]
(化合物 No. 1)の合成 (その 2) Synthesis of (Compound No. 1) (Part 2)
ァセトニトリル(4ml)に 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5 スルホユルクロリド(0. 32g、 1. Ommo 1)を溶解し、シアン酸ナトリウム(0. 07g、 1. lmmol)、 2 アミノー 4, 6 ジメトキシ ピリミジン(0. 16g、 1. Ommol)を加え 40。Cで 10分間撹拌した。ピリジン(0. 04g、 0 . 5mmol)を 3分間で滴下し、 40°Cで 1時間撹拌した。氷冷下塩化メチレン(5ml)を 加え 12%塩酸をカ卩えて pH 1に調整した後分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。 得られた塩化メチレン溶液を合わせ、塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸 ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ 一(展開液: n—へキサン Z酢酸ェチル = 1Z2)で精製し、 目的物 0. 37gを得た。融 点 177— 179。C。 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine-3 yl) pyrazole-5 sulfosulfuryl chloride (0.32 g, 1. Ommo 1) is dissolved in acetonitrile (4 ml). Add sodium cyanate (0.07 g, 1. 1 mmol), 2 amino-4,6 dimethoxypyrimidine (0.16 g, 1. Ommol) 40. Stir at C for 10 min. Pyridine (0.04 g, 0.5 mmol) was added dropwise over 3 minutes and stirred at 40 ° C for 1 hour. Under ice-cooling, methylene chloride (5 ml) was added, 12% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, and the phases were separated. The aqueous layer was extracted with methylene chloride. The obtained methylene chloride solutions were combined, washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (developing solution: n-hexane Z ethyl acetate = 1Z2) to obtain 0.37 g of the desired product. Melting point 177-179. C.
[0060] 〔合成例 15〕 [Synthesis Example 15]
N— ( (4, 6—ジメトキシピリミジン一 2—ィル)ァミノカルボ-ル) 3—クロ口一 1—メ チル一 4— (5—メチレン一 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン一 3—ィル)ピラゾール —5—スルホンアミド(ィ匕合物 No. 21)の合成 N— ((4, 6-Dimethoxypyrimidine 1-2-yl) aminocarbole) 3—Black 1-Methyl 4 -— (5-Methylene 1 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine 1— Yl) pyrazole —5-sulfonamide (Compound No. 21)
[化 27] [Chemical 27]
ァセトニトリル(6ml)に 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチレン一 5H, 6H— 1, 4 , 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(0. 13g、 0. 44mmol )と N— (4, 6 ジメトキシピリミジン一 2—ィル)力ルバミン酸フエ-ル(0. 13g、 0. 47 mmol)を溶解し、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセン(0. 07g、 0. 46 mmol)を加え、室温で 1時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、 2規定塩酸を加えた 後、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥 後、減圧下濃縮すると油状物が得られた。この油状物にトルエンとへキサンの混合溶 媒を加え、析出した固体を濾取し、少量のトルエンで洗浄後、減圧乾燥することにより 、 目的物(0. 10g)を得た。白色固体。融点 164— 167°C。プロトン核磁気共鳴ケミカ ルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 3. 95 (s, 6H) , 4. 32 (s, 3H) , 4. 35 (s, 2H) , 4. 1-methyl 4- (5-methylene-l 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.13 g, 0.44 mmol) with acetonitrile (6 ml) Dissolve N- (4, 6 dimethoxypyrimidine 1- 2-yl) force rubamate (0.13 g, 0.47 mmol) and add 1,8 diazabicyclo [5. 4. 0] —7 undecene (0 07 g, 0.46 mmol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. The solvent was evaporated under reduced pressure, 2N hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was dried over anhydrous sodium sulfate and then concentrated under reduced pressure to obtain an oil. To this oily substance, a mixed solvent of toluene and hexane was added, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with a small amount of toluene, and dried under reduced pressure to obtain the desired product (0.10 g). White solid. Melting point 164-167 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 3. 95 (s, 6H), 4. 32 (s, 3H), 4. 35 (s, 2H), 4.
3 Three
42 (d, J = 2. 7Hz、 1H) , 4. 78 (d, J = 2. 7Hz、 1H) , 5. 80 (s, 1H) , 7. 32 (brs , 1H) , 11. 98 (brs, 1H)。 42 (d, J = 2.7Hz, 1H), 4.78 (d, J = 2.7Hz, 1H), 5.80 (s, 1H), 7.32 (brs, 1H), 11.98 ( brs, 1H).
〔参考例 1〕 (Reference Example 1)
(1) (5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 1—メチルビラゾールー 4—ィル) N ァリル ォキシカルボン酸アミドの合成 (1) (5 Benzylthio-1, 3, 1-Methylvirazole-4-yl) Synthesis of N-aryloxycarboxylic amide
[化 28] [Chemical 28]
ァリルォキシァミン塩酸塩(2. 3g、 21mmol)のテトラヒドロフラン(20ml)懸濁液に 、 0°Cでトリエチルァミン(2. 9g、 29mmol)を加え、室温で 5分間撹拌後、 5 ベンジ ルチオー3 クロロー 1ーメチルピラゾールー 4一力ルボン酸クロリド(2. lg、 7. Omm ol)のテトラヒドロフラン(10ml)溶液を滴下した。室温で 1時間撹拌後、水(100ml)を 加え、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶 液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(2. 4g)を得た。油状物 質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 3. 45 (s, 3H) , 4. 11 (s, 2H), 4.53(d, J = 6.3Hz, 2H), 5.34— 5.45 (m, 2H), 6.00— 6.13 (m , 1H), 7.03-7.06 (m, 2H), 7.24— 7.28 (m, 3H), 9.14(brs, 1H)。 Triethylamine (2.9 g, 29 mmol) was added at 0 ° C to a suspension of allyloximine hydrochloride (2.3 g, 21 mmol) in tetrahydrofuran (20 ml) and stirred at room temperature for 5 minutes. Benzylthio-3 chloro-1-methylpyrazole-4 A solution of rubonic acid chloride (2. lg, 7. Ommol) in tetrahydrofuran (10 ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, water (100 ml) was added and extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (2.4 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 3. 45 (s, 3H), 4.11 (s, 2H), 4.53 (d, J = 6.3Hz, 2H), 5.34— 5.45 (m, 2H), 6.00— 6.13 (m, 1H), 7.03-7.06 (m, 2H), 7.24— 7.28 (m , 3H), 9.14 (brs, 1H).
[0062] (2)5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H— 1, 4, 2 ジ ォキサジン 3 ィル) 1ーメチルビラゾールの合成 [0062] (2) Synthesis of 5 benzylthio 1 3 black mouth 4— (5 odomethyl 1 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3 yl) 1-methyl virazole
[化 29] [Chemical 29]
( 5 -ベンジルチオ 3 クロ口一 1—メチルピラゾール 4 ィル) - N—ァリルォ キシカルボン酸アミド(2.2g、6.5mmol)のァセトニトリル(70ml)溶液に、 0°Cでヨウ 素(5.0g、 20mmol)をカ卩えた。室温で 6時間撹拌後、水(150ml)をカ卩え、酢酸ェチ ルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液をチォ硫酸ナトリウム飽和水溶液、炭酸水 素ナトリウム飽和水溶液、塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫 酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物 (3. Og)を得た。油状物質。プロトン核磁気 共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 3.25 (s, 3H), 3.34— 3.42 (m, 2H) (5 -Benzylthio 3 1-methylpyrazole 4-yl)-N-aryloxycarboxylic acid amide (2.2 g, 6.5 mmol) in acetonitrile (70 ml) at 0 ° C with iodine (5.0 g, 20 mmol) I got After stirring at room temperature for 6 hours, water (150 ml) was added and extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium thiosulfate, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to remove the target product (3. Og) was obtained. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 3.25 (s, 3H), 3.34— 3.42 (m, 2H)
3 Three
, 4.04-4. ll(m, 3H)4.32—4.40 (m, 1H), 4.58—4.65 (m, 1H), 7.00 -7.08 (m, 2H), 7.21— 7.27 (m, 3H)。 Ll, 4.04-4. Ll (m, 3H) 4.32—4.40 (m, 1H), 4.58—4.65 (m, 1H), 7.00—7.08 (m, 2H), 7.21—7.27 (m, 3H).
[0063] (3)5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールの合成 [0063] (3) Synthesis of 5-benzylthio 1-chloro 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole
[化 30] [Chemical 30]
5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォ キサジン— 3—ィル)—1—メチルピラゾール(2. 9g、 6. 3mmol)のジメチルスルホキ シド(40ml)溶液に、水素化ホウ素ナトリウム(0. 47g、 12mmol)を加えた。 60°Cで 0 . 5時間撹拌後、 6%塩酸(200ml)を加え、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェ チル溶液を塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで 乾燥、溶媒留去して目的物(2. Og)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカル シフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 44 (d, J = 6. 6Hz, 3H) , 3. 24 (s, 3H) , 3. 74— 5 Benzylthio 1 3 Black Mouth 4— (5 Yodomethyl 1 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) —1-Methylpyrazole (2.9 g, 6.3 mmol) in dimethyl sulfoxide To the (40 ml) solution was added sodium borohydride (0.47 g, 12 mmol). After stirring at 60 ° C for 0.5 hr, 6% hydrochloric acid (200 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with saturated aqueous sodium chloride and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to give the desired product (2. Og). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 44 (d, J = 6. 6Hz, 3H), 3. 24 (s, 3H), 3. 74—
3 Three
3. 85 (m, 1H) , 4. 04 (s, 2H) , 4. 22—4. 29 (m, 1H) , 4. 56—4. 65 (m, 1H) , 6. 97- 7. 06 (m, 2H) , 7. 19— 7. 21 (m, 3H)。 3. 85 (m, 1H), 4.04 (s, 2H), 4.22—4.29 (m, 1H), 4.56—4.65 (m, 1H), 6. 97-7 06 (m, 2H), 7. 19—7.21 (m, 3H).
(4) 3—クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン一 3 ィル)ピラゾールー 5 スルホンアミドの合成(その 1) (4) Synthesis of 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 1-3yl) pyrazole-5 sulfonamide (Part 1)
[化 31] [Chemical 31]
5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ージォキサジン 3 ィル)ピラゾール(1. 9g、 5. 6mmol)の塩化メチレン(30ml) 溶液に、水(30ml)と 35%塩酸(2. 3g、 22mmol)を加え、激しく撹拌しながら 8%次 亜塩素酸ナトリウム水溶液(20. 5g、 22. Ommol)を 5°Cにてカ卩え、 0. 5時間撹拌し た。窒素を導入して過剰の塩素を追い出した後、水(50ml)をカ卩え、塩化メチレンで 抽出した。得られた塩化メチレン溶液を減圧下濃縮後、残渣をテトラヒドロフラン (8ml )に溶解し、 0°Cにて 28%アンモニア水(5ml)をカ卩え、室温で 0. 25時間撹拌した。 水(20ml)をカ卩え、ジェチルエーテルで抽出し、ジェチルエーテル層を廃棄した。得 られた水層に 35%塩酸をカ卩えて、 pHlに調整後、再びジェチルエーテルで抽出し た。得られたジェチルエーテル溶液を塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫 酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(0.64g)を得た。融点 120— 122°C。プロ トン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1.43(d, J=6.3Hz, 3H), 3 5 Benzylthio 1 3 Black 1-Methyl 4- (5-Methyl 5H, 6H- 1, 4, 2-dioxazine 3 yl) pyrazole (1.9 g, 5.6 mmol) in methylene chloride (30 ml) and water (30 ml) and 35% hydrochloric acid (2.3 g, 22 mmol) were added, and 8% aqueous sodium hypochlorite solution (20.5 g, 22. Ommol) was added at 5 ° C with vigorous stirring. Stir for 5 hours. After introducing nitrogen to drive off excess chlorine, water (50 ml) was added and extracted with methylene chloride. The obtained methylene chloride solution was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in tetrahydrofuran (8 ml), 28% aqueous ammonia (5 ml) was added at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 0.25 hr. Water (20 ml) was added and extracted with jetyl ether, and the jetyl ether layer was discarded. 35% hydrochloric acid was added to the resulting aqueous layer, adjusted to pH 1 and extracted again with jetyl ether. The resulting jetyl ether solution was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and anhydrous sulfur Drying with sodium acid and evaporation of the solvent gave the desired product (0.64 g). Melting point 120-122 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1.43 (d, J = 6.3Hz, 3H), 3
3 Three
.74-3.80 (m, 1H), 4. 13(s, 3H), 4.21—4.26 (m, 1H), 4.57—4.67( m, 1H), 6.12(brs, 2H)。 .74-3.80 (m, 1H), 4.13 (s, 3H), 4.21—4.26 (m, 1H), 4.57—4.67 (m, 1H), 6.12 (brs, 2H).
〔参考例 2〕 (Reference Example 2)
3 クロ口— 4— (5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル) 1ーメチルピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 3 Black Mouth— 4— (5 Yodomethyl— 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine— 3-yl) Synthesis of 1-methylpyrazole-5-sulfonamide
[化 32] [Chemical 32]
原料に 5 ベンジルチオ— 3 クロ口— 4— (5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 —ジォキサジン一 3—ィル) 1—メチルビラゾール(0.24g、0.52mmol)を用い、 参考例 1の (4)と同様にして目的物 (0.090g)を得た。固体。 5 Benzylthio-3-chloro- 4— (5 odomethyl-5H, 6H-1, 4, 2-dioxazine-3-yl) 1-methylvirazole (0.24 g, 0.52 mmol) as the raw material, Reference Example 1 In the same manner as in (4), the desired product (0.090 g) was obtained. solid.
〔参考例 3〕 (Reference Example 3)
(1) (5 べンジルチオー3 クロロー 1ーメチルピラゾールー 4 ィル) N— (2—メ チルー 2—プロべ-ルォキシ)カルボン酸アミドの合成 (1) (5 Benzylthio-3 Chloro-1-methylpyrazole-4-yl) Synthesis of N— (2-methyl-2-propyloxy) carboxylic acid amide
[化 33] [Chemical 33]
原料に 2—メチルー 2—プロべ-ルォキシァミン塩酸塩(1.2g、 9.7mmol)を用い 、参考例 1の(1)と同様にして目的物(1.8g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴 ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.88 (s, 3H), 3.36 (s, 3H), 4.11 (s, 2H Using 2-methyl-2-probeoxyamine hydrochloride (1.2 g, 9.7 mmol) as a raw material, the target product (1.8 g) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 (1). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance Chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.88 (s, 3H), 3.36 (s, 3H), 4.11 (s, 2H
3 Three
), 4.45 (s, 2H), 5.08(d, J = 9.9Hz, 2H), 7.01— 7.06 (m, 2H), 7.22— 7.28 (m, 3H), 9.15(brs, 1H)。 ), 4.45 (s, 2H), 5.08 (d, J = 9.9Hz, 2H), 7.01—7.06 (m, 2H), 7.22—7.28 (m, 3H), 9.15 (brs, 1H).
(2)5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 4— (5 ョードメチル一 5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン 3—ィル) 1ーメチルビラゾールの合成 (2) 5 Benzylthio 1 3 Black Mouth 4— (5 Yodomethyl 1 5-Methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazine 3-yl) Synthesis of 1-Methylvirazole
[化 34] [Chemical 34]
原料に(5 べンジルチオー3 クロロー 1ーメチルビラゾールー 4 ィル) N— (2 ーメチルー 2—プロべ-ルォキシ)カルボン酸アミド(1.7g、4.8mmol)を用い、参 考例 1の(2)と同様にして目的物(2.3g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミ カルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.61 (s, 3H), 3.23 (s, 3H), 3.39— 3.55 ( The raw material was (5 benzylthio-3 chloro-1-methylvirazole-4-yl) N— (2-methyl-2-pro-loxy) carboxylic acid amide (1.7 g, 4.8 mmol), and (2) of Reference Example 1 ) To give the desired product (2.3 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.61 (s, 3H), 3.23 (s, 3H), 3.39—3.55 (
3 Three
m, 2H), 3.91— 3.95 (m, 1H), 4. ll(s, 2H), 4.25—4.29 (m, 1H), 6.9 8— 7.06 (m, 2H), 7.21— 7.28 (m, 3H)。 m, 2H), 3.91— 3.95 (m, 1H), 4. ll (s, 2H), 4.25—4.29 (m, 1H), 6.9 8— 7.06 (m, 2H), 7.21— 7.28 (m, 3H) .
(3)5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 1—メチル 4— (5, 5 ジメチルー 5H, 6H— 1 , 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールの合成 (3) Synthesis of 5 Benzylthio 1 3 Black Mouth 1-Methyl 4— (5,5 Dimethyl-5H, 6H— 1, 4, 2, Dioxazine 3 yl) pyrazole
[化 35] [Chemical 35]
原料に(5—ベンジルチオ— 3—クロ口— 4— (5—ョードメチル— 5—メチル—5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン一 3—ィル) 1—メチルビラゾール(1.7g、 3.6mmol )を用い、参考例 1の(3)と同様にして目的物(1. 3g)を得た。油状物質。プロトン核 磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1. 48 (s, 6H) , 3. 23 (s, 3H) , 3. Raw material (5-Benzylthio-3—Black mouth— 4— (5-Modomethyl-5-methyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine 1-yl) 1-Methylvirazole (1.7 g, 3.6 mmol ) Was used in the same manner as (3) in Reference Example 1 to obtain the desired product (1.3 g). Oily substance. Proton nucleus Magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1. 48 (s, 6H), 3. 23 (s, 3H), 3.
3 Three
88 (s, 2H) , 4. 05 (s, 2H) , 6. 99— 7. 06 (m, 2H) , 7. 21— 7. 28 (m, 3H)。 (4) 3 クロ口一 1—メチル 4— (5, 5 ジメチル一 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジ ン 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 88 (s, 2H), 4.05 (s, 2H), 6.99—7.06 (m, 2H), 7.21—7.28 (m, 3H). (4) Synthesis of 1-methyl 4- (5-, 5-dimethyl-5H, 6H—1,4,2 dioxazin 3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
[化 36] [Chemical 36]
原料に 5—ベンジルチオ— 3—クロ口— 1—メチル—4— (5, 5—ジメチルー 5H, 6 H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾール(1. 2g、 3. 4mmol)を用い、参考 例 1の (4)と同様にして目的物 (0. 47g)を得た。固体。 5-Benzylthio-3-chloro- 1-methyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6 H-1, 4, 2 dioxazine 3 yl) pyrazole (1.2 g, 3.4 mmol) was used as a raw material The target product (0.47 g) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 (4). solid.
〔参考例 4〕 (Reference Example 4)
3 クロ口一 4— (5 ョードメチル一 5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン - 3 ィル) - 1—メチルビラゾールー 5 スルホンアミドの合成 3 Black Mouth 4— (5 Yodomethyl 1 5-Methyl 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3 yl)-1-Methylvirazole-5 Sulfonamide
[化 37] [Chemical 37]
原料に 5—ベンジルチオ一 3—クロ口一 4— (5—ョードメチル一 5—メチル 5H, 6 H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3—ィル) 1ーメチルビラゾール(0. 50g、 1. Ommol )を用い、参考例 1の (4)と同様にして目的物 (0. 21g)を得た。固体。 5—Benzylthio-1, 3-chloromethyl 4- (5-methyl-5-methyl-5H, 6 H- 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) 1-methylvirazole (0.50 g, 1. Ommol) ) Was used in the same manner as (4) in Reference Example 1 to obtain the desired product (0.21 g). solid.
〔参考例 5〕 ジメチルビラゾ (Reference Example 5) Dimethyl vilazo
原料に 5 ベンジルチオ—1, 3 ジメチルビラゾール 4 力ルポン酸クロリド( 1. 6g、 5.7mmol)を用い、参考例 1の(1)と同様にして目的物(1.5g)を得た。油状物 質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 2.50 (s, 3H), 3.34 The target product (1.5 g) was obtained in the same manner as (1) of Reference Example 1 using 5 benzylthio-1,3 dimethylbirazole 4 force ruponic acid chloride (1.6 g, 5.7 mmol) as a raw material. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 2.50 (s, 3H), 3.34
3 Three
(s, 3H), 3.92(s, 2H), 4.48—4.51 (m, 2H), 5.32— 5.43 (m, 2H), 6.0 2-6.11 (m, 1H), 6.96— 7.00 (m, 2H), 7.23— 7.30 (m, 3H), 9.77(s, 1H)。 (s, 3H), 3.92 (s, 2H), 4.48—4.51 (m, 2H), 5.32— 5.43 (m, 2H), 6.0 2-6.11 (m, 1H), 6.96— 7.00 (m, 2H), 7.23—7.30 (m, 3H), 9.77 (s, 1H).
(2)5 ベンジルチオ— 4— (5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3 ィル) 1 , 3 ジメチルビラゾールの合成 (2) Synthesis of 5 benzylthio-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2 dioxazine-3 yl) 1,3 dimethylvirazole
[化 39] [Chemical 39]
原料に(5 べンジルチオ 1, 3 ジメチルビラゾールー 4 ィル)—N ァリルォ キシカルボン酸アミド (0.92g、 2.9mmol)を用い、参考例 1の(2)と同様にして目的 物(0.74g)を得た。融点 79— 81°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 2.37(s, 3H), 3.29 (s, 3H), 3.36— 3.40 (m, 2H), 3.97—4.0 The starting material (0.74 g) was used in the same manner as (2) in Reference Example 1, using (5-benzylthio-1,3 dimethylbiazole-4-yl) -N allyloxycarboxylate (0.92 g, 2.9 mmol) as the raw material. Got. Melting point 79-81 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 2.37 (s, 3H), 3.29 (s, 3H), 3.36— 3.40 (m, 2H), 3.97—4.0
3 Three
4(m, 3H), 4.29-4.34 (m, 1H), 4.53—4.60 (m, 1H), 7.00— 7.06 (m, 2H) , 7. 20- 7. 28 (m, 3H)。 4 (m, 3H), 4.29-4.34 (m, 1H), 4.53—4.60 (m, 1H), 7.00—7.06 (m, 2H), 7.20-7.28 (m, 3H).
(3) 5 ベンジルチオ— 1, 3 ジメチルー 4— (5—メチル—5H, 6H— 1, 4, 2— ジォキサジン 3—ィル)ピラゾールの合成 (3) Synthesis of 5 benzylthio-1,3 dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H—1,4,2-dioxazine 3-yl) pyrazole
[化 40] [Chemical 40]
原料に 5 べンジルチオー4 (5 ョードメチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサ ジンー3—ィル)ー1, 3 ジメチルビラゾール(0. 71g、 1. 6mmol)を用い、参考例 1 の(3)と同様にして目的物 (0. 19g)を得た。油状物質。 5 Benzylthio-4 (5 odomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazin-3-yl) -1,3 dimethylvirazole (0.71 g, 1.6 mmol) was used as a raw material. ) To give the desired product (0.19 g). Oily substance.
(4) 1, 3 ジメチル— 4— (5—メチル—5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィ ル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 (4) 1,3 Dimethyl— 4— (5-Methyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide synthesis
[化 41] [Chemical 41]
原料に 5 べンジルチオ 1, 3 ジメチルー 4 (5—メチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ージォキサジンー3 ィル)ピラゾール(0. 19g、 0. 6mmol)を用い、参考例 1の(4) と同様にして目的物(0. 070g)を得た。固体。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1. 42 (s, 3H) , 2. 33 (s, 3H) , 3. 71— 3. 78 (m, IH) , 4. Using 5 benzylthio 1,3 dimethyl-4 (5-methyl-5H, 6H- 1,4,2-dioxazine-3-yl) pyrazole (0.19 g, 0.6 mmol) as the raw material, the same as (4) in Reference Example 1 To obtain the desired product (0.070 g). solid. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1. 42 (s, 3H), 2. 33 (s, 3H), 3. 71— 3. 78 (m, IH), 4.
3 Three
10 (s, 3H) , 4. 21 -4. 25 (m, IH) , 4. 60 (m, IH) , 6. 15 (s, 2H)。 10 (s, 3H), 4.21-4.25 (m, IH), 4.60 (m, IH), 6.15 (s, 2H).
〔参考例 6〕 4— (5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル) 1, 3 ジ メチルピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 (Reference Example 6) 4— (5 Yodomethyl— 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) 1, 3 Dimethylpyrazole-5-sulfonamide synthesis
[化 42] [Chemical 42]
原料に 5 べンジルチオー4 (5 ョードメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサ ジンー3—ィル)ー1, 3 ジメチルビラゾール(0.70g、 1.6mmol)を用い、参考例 1 の (4)と同様にして目的物 (0.53g)を得た。固体。 5 Benzylthio-4 (5 odomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazin-3-yl) -1,3 dimethylvirazole (0.70 g, 1.6 mmol) was used as a raw material, and (4) of Reference Example 1 In the same manner, the desired product (0.53 g) was obtained. solid.
〔参考例 7〕 (Reference Example 7)
(1) (5-ベンジルチオ—1, 3 ジメチルビラゾール 4 ィル) N—( 2 メチル 2 プロべ-ルォキシ)カルボン酸アミドの合成 (1) Synthesis of (5-benzylthio-1,3 dimethylbiazole 4 yl) N— (2 methyl 2-propyloxy) carboxylic acid amide
[化 43] [Chemical 43]
原料に 5 ベンジルチオ—1, 3 ジメチルビラゾール 4 カルボン酸クロリド( 1. 10g、 3.9mmol)と 2—メチル—2—プロべ-ルォキシァミン塩酸塩(1.30g、 10.5 mmol)を用い、参考例 1の(1)と同様にして目的物(1.15g)を得た。油状物質。プ 口トン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 1.89 (s, 3H), 2.51 (s, 3 Using 5 benzylthio-1,3 dimethylbiazole 4 carboxylic acid chloride (1.10 g, 3.9 mmol) and 2-methyl-2-propyloxyamine hydrochloride (1.30 g, 10.5 mmol) as raw materials, The target product (1.15 g) was obtained in the same manner as (1). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 1.89 (s, 3H), 2.51 (s, 3
3 Three
H), 3.33 (s, 3H), 3.91 (s, 2H), 4.42(s, 2H), 5.06 (d, J=ll.3Hz, 2H) , 6.95— 7.01 (m, 2H), 7.24— 7.29 (m, 3H), 9.77(brs, 1H)。 H), 3.33 (s, 3H), 3.91 (s, 2H), 4.42 (s, 2H), 5.06 (d, J = ll.3Hz, 2H), 6.95— 7.01 (m, 2H), 7.24— 7.29 ( m, 3H), 9.77 (brs, 1H).
(2)5 ベンジルチオ一 4— (5 ョードメチル一 5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2— サジン— 3 ィル)—1, 3 ジメチルビラゾールの合成 (2) 5 Benzylthio 4- (5-methyl 5-5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2— Sajin-3yl) -1,3 Synthesis of dimethylvirazole
[化 44] [Chemical 44]
原料に( 5 ベンジルチオ—1, 3 ジメチルビラゾール 4 ィル) N—( 2—メチ ルー 2—プロべ-ルォキシ)カルボン酸アミド(0.60g、 1.8mmol)を用い、参考例 1 の(2)と同様にして目的物 (0.78g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカル シフト値 δ (ppm)l.60 (s, 3H), 2.37(s, 3H), 3.27(s, 3H), 3.39— 3.52( m, 2H), 3.88— 3.93 (m, 1H), 4.00 (s, 2H), 4.19—4.24 (m, 1H), 7.0 0— 7.05 (m, 2H), 7.20— 7.24 (m, 3H)。 Using (5 benzylthio-1,3 dimethylbiazole 4-yl) N- (2-methyl-2-propyloxy) carboxylic acid amide (0.60 g, 1.8 mmol) as the starting material, (2) of Reference Example 1 In the same manner as described above, the desired product (0.78 g) was obtained. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) l.60 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.27 (s, 3H), 3.39—3.52 (m, 2H), 3.88— 3.93 (m, 1H ), 4.00 (s, 2H), 4.19—4.24 (m, 1H), 7.0 0—7.05 (m, 2H), 7.20—7.24 (m, 3H).
(3)5 ベンジルチオ— 1, 3 ジメチルー 4— (5, 5 ジメチルー 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾールの合成 (3) Synthesis of 5 benzylthio-1,3 dimethyl-4- (5,5 dimethyl-5H, 6H—1,4,2 dioxazine 3 yl) pyrazole
[化 45] [Chemical 45]
原料に 5 べンジルチオー4 (5 ョードメチルー 5—メチルー 5H, 6H—1, 4, 2 ージォキサジンー3—ィル)ー1, 3 ジメチルビラゾール(0.54g、 1.2mmol)を用 い、参考例 1の(3)と同様にして目的物 (0.38g)を得た。油状物質。プロトン核磁気 共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm)l.47(s, 6H), 2.34 (s, 3H), 3.26 (s, 3H), 3. 86 (s, 2H), 4.00 (s, 2H), 6.98— 7.05 (m, 2H), 7.21— 7.25 (m, 3H)。 5 Benzylthio-4 (5 odomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazine-3-yl) -1,3 dimethylvirazole (0.54 g, 1.2 mmol) was used as a raw material. The target product (0.38 g) was obtained in the same manner as 3). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) l.47 (s, 6H), 2.34 (s, 3H), 3.26 (s, 3H), 3.86 (s, 2H), 4.00 (s, 2H), 6.98— 7.05 (m, 2H), 7.21— 7.25 (m, 3H).
(4)1, 3 ジメチル— 4— (5, 5 ジメチル— 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 (4) 1, 3 Dimethyl— 4— (5, 5 Dimethyl— 5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazine— Synthesis of 3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
[化 46] [Chem 46]
原料に 5 べンジルチオ 1, 3 ジメチルー 4 (5, 5 ジメチルー 5H, 6H—1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピラゾール(0. 34g、 1. Ommol)を用い、参考例 1 の (4)と同様にして目的物 (0. 13g)を得た。固体。 Using 5 benzylthio 1,3 dimethyl-4 (5,5 dimethyl-5H, 6H—1,4,2 dioxazine 3 yl) pyrazole (0.34 g, 1. Ommol) as the raw material, In the same manner, the desired product (0.13 g) was obtained. solid.
〔参考例 8〕 (Reference Example 8)
4 (5 ョードメチルー 5—メチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル) 1, 3 ジメチルビラゾールー 5—スルホンアミドの合成 4 (5 odomethyl-5-methyl-5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine 3 yl) 1,3 Dimethylvirazole-5-sulfonamide synthesis
[化 47] [Chemical 47]
原料に 5 べンジルチオー4 (5 ョードメチルー 5—メチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ージォキサジンー3—ィル)ー1, 3 ジメチルビラゾール(0. 20g、0. 44mmol)を用 い、参考例 1の(4)と同様にして目的物(0. 080g)を得た。固体。 5 Benzylthio-4 (5 odomethyl-5-methyl-5H, 6H-1, 4, 2-dioxazin-3-yl) -1,3 dimethylvirazole (0.20 g, 0.44 mmol) was used as a raw material, and Reference Example 1 In the same manner as in (4), the target product (0.080 g) was obtained. solid.
〔参考例 9〕 (Reference Example 9)
( 1 ) 2— ( 1 , 3 ジメチル 5 ベンジルチオピラゾール 4 ィル)カルボ-ルァミノ ォキシ)プロパン酸ェチルの合成 (1) 2— Synthesis of (1, 3 dimethyl 5 benzylthiopyrazole 4 yl) carbo-laminooxy) ethyl propanoate
[化 48] [Chemical 48]
5 ベンジルチオ一 3 クロ口一 1—メチルピラゾールー 4—カルボン酸(1. 0g、 3. 8mmol)の塩化メチレン(20ml)溶液に、 2 ァミノォキシプロパン酸ェチル(0. 58g 、 4. 4mmol)と N ェチル N, - (3 ジメチルァミノプロピル)カルボジイミド塩酸 塩 (0. 83g、 4. 3mmol)を加え、室温で 12時間撹拌した。減圧下、溶媒留去後、水 (50ml)を加え、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を塩ィ匕ナトリウム 飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィー(展開液: n—へキサン Z酢酸ェチル = 1Z1)で精製 し、 目的物 0. 88gを得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 30 (t, J = 8Hz, 3H) , 1. 57 (d, J= 10Hz, 3H) , 2. 47 (s, 3H) ),5 Benzylthio 1 3 Black mouth 1-Methylpyrazole-4-Carboxylic acid (1.0 g, 3.8 mmol) in methylene chloride (20 ml) was added 2 ethyl amoxypropanoate (0.58 g, 4.4 mmol). ) And Nethyl N,-(3 dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (0.83 g, 4.3 mmol) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, water (50 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (developing solution: n-hexane Z ethyl acetate = 1Z1) to obtain 0.88 g of the desired product. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 30 (t, J = 8Hz, 3H), 1. 57 (d, J = 10Hz, 3H), 2. 47 (s, 3H)) ,
3 Three
3. 28 (s, 3H) , 3. 40 (q, J = 8Hz, 2H) , 4. 18—4. 32 (m, 2H) , 4. 62—4. 71 (m, 1H) , 6. 91 - 7. 07 (m, 2H) , 7. 15— 7. 31 (m, 3H) , 10. 40 (s, 1H)。 (2) (1, 3 ジメチルー 5 べンジルチオピラゾールー 4 ィル) N— (2 ヒドロキ シイソプロボキシ)カルボン酸アミドの合成 3.28 (s, 3H), 3.40 (q, J = 8Hz, 2H), 4.18—4.32 (m, 2H), 4.62—4.71 (m, 1H), 6. 91-7. 07 (m, 2H), 7. 15—7.31 (m, 3H), 10. 40 (s, 1H). (2) Synthesis of (1, 3 dimethyl-5 benzylthiopyrazole-4 yl) N— (2 hydroxyisopropoxy) carboxylic acid amide
[化 49] [Chemical 49]
水素化リチウムアルミニウム(0. 090g、 2. 4mmol)のジェチルエーテル(20ml)懸 濁液に、撹拌下、 5°Cで、 2— (1, 3 ジメチルー 5 べンジルチオピラゾールー 4 ィル)カルボ-ルアミノォキシ)プロパン酸ェチル(0. 88g、 2. 3mmol)のジェチルェ 一テル(5ml)溶液を滴下した。同温度で 2.5時間撹拌後、反応液を氷水(20ml)に あけ、 10%塩酸を加えて pHlに調整し、酢酸ェチルで抽出した。酢酸ェチル溶液を 水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物 (0.70g)を得た。油状物質。 プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1.29(d, J = 8Hz, 3H), Lithium aluminum hydride (0.090 g, 2.4 mmol) in a suspension of jetyl ether (20 ml) with stirring at 5 ° C, 2— (1,3 dimethyl-5-benzylthiopyrazole-4-yl) Carbo-laminooxy) ethyl ester of propanoate (0.88 g, 2.3 mmol) A solution of 1 tel (5 ml) was added dropwise. After stirring at the same temperature for 2.5 hours, the reaction mixture was poured into ice water (20 ml), adjusted to pH 1 with 10% hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (0.70 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1.29 (d, J = 8Hz, 3H),
3 Three
2.74 (s, 3H), 3.26-3.50 (m, 1H), 3.42 (s, 3H), 3.59— 3.72 (m, 1H) , 3.94 (s, 2H), 3.96-4.03 (m, 1H), 4.72(brs, 1H), 6.91— 7.02 (m, 2 H), 7.20-7.32 (m, 3H), 9.60(brs, 1H)。 2.74 (s, 3H), 3.26-3.50 (m, 1H), 3.42 (s, 3H), 3.59— 3.72 (m, 1H), 3.94 (s, 2H), 3.96-4.03 (m, 1H), 4.72 ( brs, 1H), 6.91— 7.02 (m, 2 H), 7.20-7.32 (m, 3H), 9.60 (brs, 1H).
[0083] (3) 5 べンジルチオ 1, 3 ジメチルー 4 (6—メチルー 5H, 6H—1, 4, 2 ジ ォキサジン 3—ィル)ピラゾールの合成 [0083] (3) Synthesis of 5 benzylthio 1,3 dimethyl-4 (6-methyl-5H, 6H-1,4,2 dioxazine 3-yl) pyrazole
[化 50] [Chemical 50]
(1, 3 ジメチル 5 ベンジルチオピラゾール 4 ィル) N— ( 2 ヒドロキシィ ソプロボキシ)カルボン酸アミド(0.70g、 2. lmmol)の塩化メチレン(5ml)溶液に、 塩ィ匕チォニル (0.34ml、4.6mmol)を加え、 1.5時間還流後、溶媒留去した。得ら れた残渣を N, N ジメチルホルムアミド(10ml)に溶解し、 5°Cにて、 55%水素化ナ トリウム(0.10g、 2.3mmol)を加え、さらに同温度で 1時間撹拌した。水(20ml)を 加え、酢酸ェチルで抽出し、得られた酢酸ェチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液 で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲル薄 層クロマトグラフィー(展開液: n—へキサン Z酢酸ェチル = 1/1)で精製して目的物 (0.32g)を得た。固体。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1 (1, 3 Dimethyl 5 benzylthiopyrazole 4 yl) N— (2 Hydroxysopropoxy) carboxylic acid amide (0.70 g, 2. lmmol) in methylene chloride (5 ml) was added to the salt of thionyl chloride (0.34 ml, 4.6 mmol) was added and refluxed for 1.5 hours, after which the solvent was distilled off. The obtained residue was dissolved in N, N dimethylformamide (10 ml), 55% sodium hydride (0.10 g, 2.3 mmol) was added at 5 ° C., and the mixture was further stirred at the same temperature for 1 hour. Water (20 ml) was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel thin layer chromatography (developing solution: n-hexane Z ethyl acetate = 1/1) to obtain the desired product (0.32 g). solid. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1
3 Three
.37(d, J = 8Hz, 3H), 2.33 (s, 3H), 3.28 (s, 3H), 3.95—4.05 (m, 2H), 4.08-4.13 (m, 1H), 4.44—4.51 (m, 1H), 6.99— 7.06 (m, 2H), 7.09 -7. 15 (m, 3H)。 .37 (d, J = 8Hz, 3H), 2.33 (s, 3H), 3.28 (s, 3H), 3.95—4.05 (m, 2H), 4.08-4.13 (m, 1H), 4.44—4.51 (m, 1H), 6.99—7.06 (m, 2H), 7.09 -7.15 (m, 3H).
[0084] (4)1, 3 ジメチル— 4— (6—メチル—5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィ ル)ピラゾール 5—スルホンアミドの合成 [0084] (4) 1, 3 Dimethyl— 4— (6-Methyl-5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazine-3— L) Synthesis of pyrazole 5-sulfonamide
[化 51] [Chemical 51]
原料に 5 べンジルチオ 1, 3 ジメチルー 4 (6—メチルー 5H, 6H- 1, 4, 2 ージォキサジンー3 ィル)ピラゾール(0. 32g、 1. Ommol)を用い、参考例 1の(4) と同様にして目的物 (0. 14g)を得た。固体。 Using 5 benzylthio 1,3 dimethyl-4 (6-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazine-3 yl) pyrazole (0.32 g, 1. Ommol) as raw material, same as (4) of Reference Example 1 In this way, the desired product (0.14 g) was obtained. solid.
〔参考例 10〕 (Reference Example 10)
(1) 3, 5 ジクロロー 1ーメチルビラゾールー 4 カルボヒドロキサム酸の合成 (1) Synthesis of 3, 5 dichloro-1-methylbilazole-4 carbohydroxamic acid
[化 52] [Chemical 52]
ヒドロキシノレアミン塩酸塩(106. 9g、 1. 538mol)の水(200ml)溶液【こ、 5な! /、し 1 5°Cにて 85%水酸化カリウム(101. 5g、 1. 538mol)の水(200ml)溶液をカ卩え、室 温で 5分間撹拌した。次に、 3ないし 8°Cにて 3, 5 ジクロロー 1ーメチルビラゾール —4—カルボン酸クロリド(100. 0g、 0. 5128mol)のテ卜ラヒドロフラン(170ml)溶液 を 2時間で滴下した。さらに 5°Cで 0. 5時間撹拌後、 35%塩酸をカ卩ぇ pH3ないし 4に 調整した。析出した固体を濾取、水洗、乾燥して目的物(94. 9g)を得た。融点 200 202°C (分解)。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (ジメチルスルホキシ ドー d中) 3. 79 (s, 3H) , 9. 24 (brs, 1H) , 10. 83 (brs, 1H)。 Hydroxyloleamine hydrochloride (106.9 g, 1.538 mol) in water (200 ml) solution [5,5! /, 15 at 85 ° C. with 85% potassium hydroxide (101.5 g, 1.538 mol) A water (200 ml) solution was added and stirred at room temperature for 5 minutes. Next, a tetrahydrofuran solution (170 ml) of 3,5 dichloro-1-methylbiazole-4-carboxylic acid chloride (100.0 g, 0.5128 mol) at 3 to 8 ° C. was added dropwise over 2 hours. Further, after stirring at 5 ° C for 0.5 hour, 35% hydrochloric acid was adjusted to a pH of 3 to 4. The precipitated solid was collected by filtration, washed with water, and dried to obtain the desired product (94.9 g). Melting point 200 202 ° C (decomposition). Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in dimethylsulfoxide d) 3.79 (s, 3H), 9.24 (brs, 1H), 10.83 (brs, 1H).
6 6
(2) N—ァリルォキシ 3, 5 ジクロロ一 1—メチルビラゾールー 4—カルボン酸アミ ドの合成 [化 53] (2) Synthesis of N-aryloxy 3,5 dichloro 1-methylbiazole-4-carboxylic acid amide [Chemical 53]
炭酸カリウム(15. 8g、 114mmol)の水(60ml)溶液に、 3, 5 ジクロロー 1ーメチ ルビラゾールー 4 カルボヒドロキサム酸(20. Og、 95. 2mmol)と臭化ァリル(13. 8 g、 114mmol)のトルエン(60ml)溶液をカロえ、 50°Cにて 3時間撹拌した。室温まで 冷却後、 35%塩酸をカ卩えて pHlに調整し、析出した固体を濾取、水およびトルエン で順次洗浄後、乾燥して目的物(17. 2g)を得た。融点 96— 97°C。プロトン核磁気 共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 3. 84 (s, 3H) , 4. 51 (d, J = 6. 3Hz, 2 To a solution of potassium carbonate (15.8 g, 114 mmol) in water (60 ml) was added 3,5 dichloro-1-methylbilazole-4 carbohydroxamic acid (20. Og, 95.2 mmol) and allyl bromide (13.8 g, 114 mmol). Toluene (60 ml) solution was prepared and stirred at 50 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 35% hydrochloric acid was added to adjust the pH to 1. The precipitated solid was collected by filtration, washed successively with water and toluene, and dried to obtain the desired product (17.2 g). Melting point 96—97 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 3. 84 (s, 3H), 4. 51 (d, J = 6.3 Hz, 2
3 Three
H) , 5. 30- 5. 46 (m, 2H) , 5. 94— 6. 13 (m, 1H) , 8. 80 (brs, 1H)。 H), 5.30- 5.46 (m, 2H), 5.94—6.13 (m, 1H), 8.80 (brs, 1H).
(3) 3, 5 ジクロロ一 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン一 3 ィル) 1ーメチルピラゾールの合成 (3) 3,5 dichloro 1- (5 odomethyl 1 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 1 3 yl) Synthesis of 1-methylpyrazole
[化 54] [Chemical 54]
N—ァリルォキシ 3, 5 ジクロロ一 1—メチルビラゾール 4 カルボン酸アミド( 40. Og、 160mmol)のァセ卜-トリル(200ml)溶液に、ヨウ素(122g、 481mmol)を 加え、室温にて 4. 5時間撹拌した。チォ硫酸ナトリウム飽和水溶液(150ml)を加え、 酢酸ェチルで抽出し、得られた酢酸ェチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、 塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒 留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液: n—へキサン Z酢酸ェチル = 5Z2)で精製して目的物(54. Og)を得た。油状物質。プロトン核磁 気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 3.37(d, J = 6.9Hz, 2H), 3.83 (s To a solution of N-aryloxy 3,5 dichloro 1-methylbiazole 4 carboxylic acid amide (40. Og, 160 mmol) in aceto-tolyl (200 ml), iodine (122 g, 481 mmol) was added and at room temperature 4. Stir for 5 hours. Saturated aqueous sodium thiosulfate solution (150 ml) was added, extracted with ethyl acetate, and the resulting ethyl acetate solution was washed successively with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, saturated aqueous sodium chloride solution and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, solvent Distilled off. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: n-hexane). Purification with Z ethyl acetate = 5Z2) gave the desired product (54. Og). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 3.37 (d, J = 6.9Hz, 2H), 3.83 (s
3 Three
, 3H), 3.99-4.06 (m, 1H), 4.32—4.38 (m, 1H), 4.54—4.62 (m, 1H) , 3H), 3.99-4.06 (m, 1H), 4.32—4.38 (m, 1H), 4.54—4.62 (m, 1H)
[0088] (4)3, 5 ジクロロ一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサ ジン 3 ィル)ピラゾールの合成(その 1) [0088] (4) Synthesis of 3,5 dichloro 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole (Part 1)
[化 55] [Chemical 55]
水素化ホウ素ナトリウム(0.30g、 7.9mmol)の N, N ジメチルホルムアミド(15m 1)溶液に、 3, 5 ジクロロー 4 (5 ョードメチルー 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジ ン— 3—ィル)—1—メチルビラゾール(2.0g、 5.3mmol)を加え、 60。Cで 0.5時間 撹拌した。室温まで冷却後、水(10ml)をカ卩え、さらに 35%塩酸をカ卩えて pHlに調 整し、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水 溶液、塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥 、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液: n—へ キサン Z酢酸ェチル =5Z2)で精製して目的物(1. lg)を得た。融点 50— 51°C、 沸点 142°C/0.3mmHg。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中 To a solution of sodium borohydride (0.30 g, 7.9 mmol) in N, N dimethylformamide (15 ml), 3, 5 dichloro-4 (5 odomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 dioxazin-3-yl) — Add 1-methylvirazole (2.0 g, 5.3 mmol), 60. Stir at C for 0.5 h. After cooling to room temperature, water (10 ml) was added, and 35% hydrochloric acid was added to adjust to pHl, followed by extraction with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 5Z2) to obtain the desired product (1. lg). Melting point 50-51 ° C, boiling point 142 ° C / 0.3mmHg. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl
3 Three
)1.41(d, J = 6.3Hz, 3H), 3.69— 3.76 (m, 1H), 3.82(s, 3H), 4.20—4 .26 (m, 1H), 4.52—4.61 (m, 1H)。 ) 1.41 (d, J = 6.3Hz, 3H), 3.69—3.76 (m, 1H), 3.82 (s, 3H), 4.20—4.26 (m, 1H), 4.52—4.61 (m, 1H).
[0089] (5)3 クロ口一 5—メルカプト一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ージォキサジン 3—ィル)ピラゾールの合成 [0089] (5) Synthesis of 3-chromato 5-mercapto 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2-dioxazine 3-yl) pyrazole
70%水硫化ナトリウム(4. 3g、 54mmol)の N, N ジメチルホルムアミド(38ml)懸 濁液に、 3, 5 ジクロロ 1—メチル—4— (5—メチル—5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキ サジン— 3—ィル)ピラゾール(3. 8g、 15mmol)をカ卩え、 80°Cで 5. 5時間撹拌した。 室温まで冷却後、水(50ml)をカ卩え、不溶物を濾別した。ろ液に 35%塩酸をカ卩えて p HIに調整し、析出した固体を濾取、水洗、乾燥して目的物(2. 55g)を得た。融点 6 0— 64。C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 48 (d, J = 6 To a suspension of 70% sodium hydrosulfide (4.3 g, 54 mmol) in N, N dimethylformamide (38 ml), 3, 5 dichloro 1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H- 1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole (3.8 g, 15 mmol) was added and stirred at 80 ° C. for 5.5 hours. After cooling to room temperature, water (50 ml) was added and insolubles were filtered off. 35% hydrochloric acid was added to the filtrate to adjust to pHI, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (2.55 g). Melting point 6 0—64. C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 48 (d, J = 6
3 Three
. 3Hz, 3H) , 3. 75 (s, 3H) , 3. 79— 3. 85 (m, 1H) , 4. 28—4. 32 (m, 1H) , 4 . 64-4. 74 (m, 1H)。 3Hz, 3H), 3.75 (s, 3H), 3.79— 3.85 (m, 1H), 4.28—4.32 (m, 1H), 4. 64-4.74 (m , 1H).
(6) 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホ-ルクロリドの合成 (6) Synthesis of 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole-5-sulfo chloride
[化 57] [Chemical 57]
3 クロ口一 5—メルカプト一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジ ォキサジン一 3—ィル)ピラゾール(2. 5g、 lOmmol)の 1, 2 ジクロロェタン(50ml) 溶液に水(20ml)を加え、氷冷下、激しく撹拌しながら塩素(2. lg、 30mmol)を導 入した。この間反応温度は 20°Cまで上昇した。窒素を導入して過剰の塩素を除去し た後、 1, 2—ジクロロエタン層を分離した。得られた 1, 2—ジクロロェタン溶液を亜硫 酸水素ナトリウム飽和水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留 去し、 目的物(3. lg)を得た。融点 63— 68°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 41 (d, J = 6. 3Hz, 3H) , 3. 75— 3. 81 (m, 1H) , 4. 20 ( 3 Black mouth 5-Mercapto 1-Methyl 4- (5-Methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 Dioxazine 1-yl) Pyrazole (2.5 g, lOmmol) 1,2 Dichloroethane (50 ml) Water (20 ml) was added to the solution, and chlorine (2. lg, 30 mmol) was introduced with vigorous stirring under ice cooling. During this time, the reaction temperature rose to 20 ° C. After introducing nitrogen and removing excess chlorine, the 1,2-dichloroethane layer was separated. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite and water, dried over anhydrous sodium sulfate, To obtain the target product (3. lg). Melting point 63-68 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 41 (d, J = 6. 3Hz, 3H), 3. 75— 3. 81 (m, 1H), 4. 20 (
3 Three
s, 3H) , 4. 23-4. 28 (m, 1H) , 4. 54—4. 64 (m, 1H)。 s, 3H), 4.23-4.28 (m, 1H), 4.54—4.64 (m, 1H).
[0091] (7) 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン [0091] (7) 3 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine
- 3 ィル)ピラゾールー 5 スルホンアミドの合成(その 2) -3 yl) Synthesis of pyrazole-5 sulfonamide (Part 2)
3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン一 3 —ィル)ピラゾールー 5—スルホユルクロリド(3. lg, 9. 9mmol)の 1, 2 ジクロロェ タン(30ml)溶液に、氷冷下、激しく撹拌しながら 28%アンモニア水(1. 5g、 24. 7m mol)を滴下した。室温で 0. 5時間撹拌後、水(20ml)と 35%塩酸(5. 2g、 50mmol )を加え、 1, 2—ジクロロェタンで抽出した。得られた 1, 2—ジクロロェタン溶液を水 洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し、 目的物(2. 8g)を得た。融点 120— 1 22。C。 3 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine 1-yl) pyrazole-5-sulfoyl chloride (3. lg, 9.9 mmol) 1, 2 dichloroethane To the (30 ml) solution, 28% aqueous ammonia (1.5 g, 24.7 mmol) was added dropwise with ice-cooling and vigorous stirring. After stirring at room temperature for 0.5 hour, water (20 ml) and 35% hydrochloric acid (5.2 g, 50 mmol) were added, and the mixture was extracted with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (2.8 g). Melting point 120—1-22. C.
[0092] (8) N—メトキシカルボ-ルー 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H —1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 [0092] (8) Synthesis of 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H —1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
[化 58] [Chemical 58]
3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン一 3 —ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(3. Og、 lOmmol)のァセトニトリル(15ml)溶 液に、無水炭酸カリウム(1. 8g、 13mmol)とクロロギ酸メチル(0. 96g、 lOmmol)を 加え、 1時間加熱還流した。減圧下、溶媒留去して得られた残渣を水(20ml)に溶解 し、不要物を濾別後、 1, 2 ジクロロェタンで抽出した。得られた水層に 35%塩酸を 加え、 pHlに調整し、析出した固体を濾取、水洗、乾燥し、 目的物(2. 4g)を得た。 融点 133— 134°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 43 (d, J = 6.6Hz, 3H), 3.72(s, 3H), 3.74— 3.81 (m, 1H), 4.21—4.30 (m , 1H), 4.25 (s, 3H), 4.56—4.66 (m, 1H), 8.83(brs, 1H)。 3 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine 1-yl) pyrazole-5-sulfonamide (3. Og, lOmmol) in acetonitrile (15 ml) Anhydrous potassium carbonate (1.8 g, 13 mmol) and methyl chloroformate (0.96 g, 10 mmol) were added, and the mixture was heated to reflux for 1 hour. The residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was dissolved in water (20 ml), and unnecessary substances were filtered off and extracted with 1,2 dichloroethane. 35% hydrochloric acid was added to the obtained aqueous layer to adjust to pH 1 and the precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (2.4 g). Melting point 133-134 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 43 (d, J = 6.6Hz, 3H), 3.72 (s, 3H), 3.74— 3.81 (m, 1H), 4.21—4.30 (m, 1H), 4.25 (s, 3H), 4.56—4.66 (m, 1H ), 8.83 (brs, 1H).
[0093] 〔参考例 11〕 [0093] [Reference Example 11]
(1)3, 5 ジクロロ一 1—メチル 4— (5—メチレン一 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサ ジン 3—ィル)ピラゾールの合成 (1) Synthesis of 3,5 dichloro 1-methyl 4- (5-methylene 1 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole
[化 59] [Chemical 59]
3, 5 ジクロロ一 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン一 3— ィル) 1—メチルビラゾール(1.5g、4. Ommol)のテトラヒドロフラン(10ml)溶液に 、カリウム t—ブトキシド(0.52g、 4.6mmol)を加え、室温で 0.25時間撹拌した。飽 和塩ィ匕アンモ-ゥム水溶液(20ml)をカ卩え、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェ チル溶液を水および塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで 乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液: n —へキサン Z酢酸ヱチル =1Z1)で精製して目的物(0.88g)を得た。融点 68— 70 °C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 3.84 (s, 3H), 4.42 3,5-Dichloro-4- (5-Hodomethyl-1-5H, 6H-1,4,2-Dioxazine-1-3-yl) 1-Methylbiazole (1.5 g, 4. Ommol) in tetrahydrofuran (10 ml) in potassium t -Butoxide (0.52 g, 4.6 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 0.25 hour. A saturated aqueous solution of ammonium salt (20 ml) was added and extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z acetyl acetate = 1Z1) to obtain the desired product (0.88 g). Melting point 68—70 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 3.84 (s, 3H), 4.42
3 Three
(s, 2H), 4.45 (d, J=l.8Hz, 1H), 4.85 (d, J=l.8Hz, 1H)。 (s, 2H), 4.45 (d, J = l.8Hz, 1H), 4.85 (d, J = l.8Hz, 1H).
[0094] (2)3, 5 ジクロロ一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジ ン 3 ィル)ピラゾールの合成(その 2) [0094] (2) Synthesis of 3,5 dichloro 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazin 3yl) pyrazole (Part 2)
[0095] 3, 5 ジクロロ一 1—メチル 4— (5—メチレン一 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジ ンー 3 ィル)ピラゾール(2.8g、 llmmol)の酢酸ェチル(56ml)溶液に、 5%パラ ジゥム—炭素(0.56g)を加え、水素(1気圧)雰囲気下、室温で 17時間撹拌した。 5 %パラジウム—炭素 (0.05g)を追加し、上記条件下さらに 1時間撹拌し、触媒を濾 別した。ろ液力も溶媒を留去し、得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー (溶 離液:クロ口ホルム)で精製し、 目的物(2. 6g)を得た。融点 50— 51°C。 [0095] 3,5 Dichloro 1-methyl 4- (5-Methylene 1 5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazin-3-yl) pyrazole (2.8 g, llmmol) in a solution of ethyl acetate (56 ml) % Palladium-carbon (0.56 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 17 hours under a hydrogen (1 atm) atmosphere. 5% Palladium-carbon (0.05 g) was added, and the mixture was further stirred for 1 hour under the above conditions, and the catalyst was filtered off. The solvent is also distilled off, and the resulting residue is subjected to alumina column chromatography (solution The resulting product (2.6 g) was obtained by purification with liquid separation (Korokuholm). Melting point 50—51 ° C.
[0096] 〔参考例 12〕 [0096] [Reference Example 12]
3, 5 ジクロロ一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン 3—ィル)ピラゾールの合成(その 3) Synthesis of 3, 5 dichloro 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole (Part 3)
[0097] N—ァリルォキシ 3, 5 ジクロロー 1ーメチルビラゾールー 4一力ルボン酸アミド( 0. 50g、 2. Ommol)のトルエン(5ml)溶液に、トリフルォロメタンスルホン酸(0. 10g 、 1. Ommol)をカ卩え、 20時間還流した。得られたトルエン溶液を炭酸カリウム飽和水 溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残 渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液: n—へキサン Z酢酸ェチル = 1/1) で精製して目的物(0. 08g)を得た。融点 50— 51°C。 [0097] N-aryloxy 3,5 dichloro- 1-methylbirazole-4 To a solution of rubonic acid amide (0.50 g, 2. Ommol) in toluene (5 ml), trifluoromethanesulfonic acid (0.10 g, 1 Ommol) was added and refluxed for 20 hours. The obtained toluene solution was washed successively with saturated aqueous potassium carbonate solution and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 1/1) to obtain the desired product (0.08 g). Melting point 50—51 ° C.
[0098] 〔参考例 13〕 [0098] [Reference Example 13]
(1) N- (n—ブチルァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチルー 5H, 6H—1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 [化 60] (1) Synthesis of N- (n-Butylaminocarbol) 3 1-methyl 4— (5-Methyl-5H, 6H—1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide [ Chemicalization 60]
3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン一 3 —ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミド(5. 31g、 18. Ommol)の 1, 2 ジクロロエタ ン(30ml)溶液に、無水炭酸カリウム(3. 76g、 27. Ommol)と n—ブチルイソシアナ ート(2. 14g、 21. 6mmol)を加え、 1時間加熱還流した。室温まで冷却後、水(25m 1)を加え、激しく撹拌した。有機層を分離し、得られた水層に 35%塩酸を加え、 pHl に調整し、 1, 2—ジクロロェタンで抽出した。得られた 1, 2—ジクロロェタン溶液を水 洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣に少量のジイソプロ ピルエーテルを加え、析出した固体を據取、水洗、乾燥し、 目的物(3. 53g)を得た。 融点 130— 133°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 0.89 3 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine 1-yl) pyrazole-5-sulfonamide (5.31 g, 18. Ommol) 1,2-dichloroethane ( 30 ml) solution was added anhydrous potassium carbonate (3.76 g, 27. Ommol) and n-butyl isocyanate (2.14 g, 21.6 mmol), and the mixture was heated to reflux for 1 hour. After cooling to room temperature, water (25 ml) was added and stirred vigorously. The organic layer was separated, and 35% hydrochloric acid was added to the resulting aqueous layer to adjust to pH 1 and extracted with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. A small amount of diisopropyl ether was added to the resulting residue, and the precipitated solid was collected, washed with water, and dried to obtain the desired product (3.53 g). Melting point 130-133 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 0.89
3 Three
(t, J = 7.2Hz, 3H), 1.20-1.50 (m, 7H), 3. 10— 3.19 (m, 2H), 3.36— 3.83 (m, 1H), 4.16(s, 3H), 4.15—4.29 (m, 1H), 4.56—4.67 (m, 1H) , 6.56 (t, 1H), 9.50-9.92(brs, 1H)。 (t, J = 7.2Hz, 3H), 1.20-1.50 (m, 7H), 3.10— 3.19 (m, 2H), 3.36— 3.83 (m, 1H), 4.16 (s, 3H), 4.15—4.29 (m, 1H), 4.56-4.67 (m, 1H), 6.56 (t, 1H), 9.50-9.92 (brs, 1H).
(2)3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン - 3—ィル)ピラゾールー 5—スルホ-ルイソシアナートの合成 (2) 3 Black mouth 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-sulfol isocyanate
[化 61] [Chemical 61]
トルエン(15ml)に N— (n—ブチルァミノカルボ-ル) 3 クロ口一 1—メチル 4 — (5—メチル 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)ピラゾールー 5—スル ホンアミド(5.0g、 13mmol)、ビストリクロロメチルカーボネート(9.4g, 32mmol)お よびトリェチルァミン (0.1ml)をカ卩え、 8時間加熱還流した。溶媒留去して目的物 (4 . Og)を得た。油状物質。 Toluene (15 ml) with N— (n-Butylaminocarbol) 3 Black mouth 1-Methyl 4 — (5-Methyl 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole-5-Sulfur Honamide (5.0 g, 13 mmol), bistrichloromethyl carbonate (9.4 g, 32 mmol) and triethylamine (0.1 ml) were added and heated to reflux for 8 hours. The solvent was distilled off to obtain the desired product (4. Og). Oily substance.
〔参考例 14〕 (Reference Example 14)
(1)ビス(3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサ ジン 3—ィル)ピラゾールー 5—ィル)ジスルフイドの合成 (1) Synthesis of bis (3-chloro 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H-1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole-5-yl) disulfide
[化 62] [Chemical 62]
3 クロ口一 5—メルカプト一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジ ォキサジン— 3—ィル)ピラゾール(1. 0g、 4. Ommol)の N, N ジメチルホルムアミ ド(10ml)溶液に、室温で撹拌しながら、 3. 5時間にわたり空気を吹き込んだ。析出 した固体を濾取、水洗、乾燥して目的物(0. 49g)を得た。融点 165— 167°C。プロト ン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1. 36 (d, J = 6. 3Hz, 3H) , 3 3 Black mouth 5-Mercapto 1-Methyl 4- (5-Methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole (1.0 g, 4. Ommol) in N, N dimethylform Air was bubbled into the amide (10 ml) solution for 3.5 hours with stirring at room temperature. The precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (0.49 g). Melting point 165-167 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1. 36 (d, J = 6. 3Hz, 3H), 3
3 Three
. 49- 3. 64 (m, 1H) , 3. 89 (s, 3H) , 4. 04—4. 18 (m, 1H) , 4. 32—4. 48 ( m, 1H)。 49- 3.64 (m, 1H), 3.89 (s, 3H), 4. 04—4. 18 (m, 1H), 4. 32—4. 48 (m, 1H).
[0101] (2) 3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン [0101] (2) 3 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 Dioxazine
- 3 ィル)ピラゾールー 5 スルホユルク口リドの合成(その 2) -3yl) pyrazole-5 sulphoyluclide (part 2)
ビス(3 クロ口一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン —3—ィル)ピラゾールー 5—ィル)ジスルフイド(2. 5g、 5. lmmol)の 1, 2 ジクロロ ェタン(50ml)溶液に水(20ml)を加え、氷冷下、激しく撹拌しながら塩素(2. lg、 3 Ommol)を導入した。この間反応温度は 20°Cまで上昇した。窒素を導入して過剰の 塩素を除去した後、 1, 2—ジクロロエタン層を分離した。得られた 1, 2—ジクロロエタ ン溶液を亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで 乾燥、溶媒留去し、 目的物(3. Og)を得た。融点 63— 68°C。 1,2-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H- 1, 4, 2 dioxazine-3-yl) pyrazole-5-yl) disulfide (2.5 g, 5. lmmol) 1, Water (20 ml) was added to a solution of 2 dichloroethane (50 ml), and chlorine (2.lg, 3 Ommol) was introduced with vigorous stirring under ice cooling. During this time, the reaction temperature rose to 20 ° C. After introducing nitrogen to remove excess chlorine, the 1,2-dichloroethane layer was separated. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to give the desired product (3. Og). Melting point 63-68 ° C.
[0102] 〔参考例 15〕 [0102] [Reference Example 15]
3, 5 ジクロロ一 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン一 3— ィル) 1ーメチルピラゾールの合成(その 2) 3, 5 Dichloro 1- (5-Hodomethyl 1 5H, 6H- 1, 4, 2 Dioxazine 3- 3-yl) Synthesis of 1-methylpyrazole (Part 2)
N—ァリルォキシ 3, 5 ジクロロ一 1—メチルビラゾール 4 カルボン酸アミド( 0. 50gゝ 2. Ommol)のァセトニトリル(5ml)溶液に、 N—ョードコハク酸イミド(0. 67 g、 3. Ommol)をカ卩え、室温で 15時間撹拌した。亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液( 10ml)をカ卩え、酢酸ェチルで抽出し、得られた酢酸ェチル溶液を炭酸水素ナトリウム 飽和水溶液、塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム で乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液: n—へキサン Z酢酸ェチル =3Zl)で精製して目的物(0. 60g)を得た。油状物質。 To a solution of N-aryloxy 3,5 dichloro 1-methylbiazole 4 carboxylic acid amide (0.50 g ァ 2. Ommol) in acetonitrile (5 ml), add N-odosuccinimide (0.67 g, 3. Ommol). The mixture was stirred and stirred at room temperature for 15 hours. Obtain a saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite (10 ml), extract with ethyl acetate, wash the resulting ethyl acetate solution with saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, saturated aqueous solution of sodium chloride and water, and then dry over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 3 Zl) to obtain the desired product (0.60 g). Oily substance.
[0103] 〔参考例 16〕 [0103] [Reference Example 16]
(1) 4— (5 ブロモメチル—5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)—3, 5— メチルピラゾールの合成 (1) 4— (5 Bromomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) —3, 5— Synthesis of methylpyrazole
N—ァリルォキシ 3, 5 ジクロロ一 1—メチルビラゾール 4 カルボン酸アミド( 20. Og、 80. Ommol)のァセ卜ニ卜リノレ(200ml)溶液【こ、 N ブロモコノヽク酸イミド(1 7. lg、 96. Ommol)をカ卩え、室温にて 1時間撹拌した。亜硫酸水素ナトリウム飽和水 溶液(100ml)をカ卩え、ァセトニトリルを留去した。次に、酢酸ェチルで抽出し、得られ た酢酸ェチル溶液を水および塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液で順次洗净後、無水硫酸ナ トリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶 離液: n—へキサン Z酢酸ェチル =3Zl)で精製して目的物(18. 4g)を得た。融点 53— 54。C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 3. 57— 3. 6 N-aryloxy 3,5 dichloro 1-methylbiazole 4 carboxylic acid amide (20 Og, 80. Ommol) solution in acetonitrile (200 ml) [this, N bromoconoxyimide (1 7. lg, 96. Ommol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. Sodium hydrogen sulfite saturated aqueous solution (100 ml) was added, and acetonitrile was distilled off. Next, extraction with ethyl acetate was performed, and the resulting ethyl acetate solution was washed successively with water and a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 3 Zl) to obtain the desired product (18.4 g). Melting point 53-54. C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 3. 57— 3.6
3 Three
l (d, J = 6. 9Hz, 2H) , 3. 83 (s, 3H) , 4. 06—4. 11 (m, 1H) , 4. 29—4. 33 ( m, 1H) , 4. 65-4. 72 (m, 1H)。 l (d, J = 6.9Hz, 2H), 3.83 (s, 3H), 4.06—4.11 (m, 1H), 4.29—4.33 (m, 1H), 4. 65-4. 72 (m, 1H).
(2) 3, 5 ジクロロ一 1—メチル 4— (5—メチル 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサ ジン 3—ィル)ピラゾールの合成(その 3) (2) Synthesis of 3, 5 dichloro 1-methyl 4- (5-methyl 5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole (part 3)
4— (5 ブロモメチル—5H, 6H- 1, 4, 2 ジォキサジン— 3—ィル)—3, 5 ジ クロ口一 1—メチルピラゾール(0. 50g、 1. 5mmol)の N—メチル 2 ピロリドン(5 ml)溶液に水素化ホウ素ナトリウム(0. l lg、 3. Ommol)をカ卩え、 60°Cで 1時間撹拌 した。室温まで冷却後、水(5ml)をカ卩え、さらに 35%塩酸をカ卩えて pHlに調整し、酢 酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、 塩ィ匕ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒 留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液: n—へキサン Z酢酸ェチル =5Z2)で精製して目的物(0. 31g)を得た。融点 50— 51°C。 [0105] 〔参考例 17〕 4— (5 Bromomethyl-5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) —3,5 Dichloro 1-methylpyrazole (0.50 g, 1.5 mmol) of N-methyl 2 pyrrolidone ( 5 ml) solution was charged with sodium borohydride (0.1 lg, 3. Ommol) and stirred at 60 ° C for 1 hour. After cooling to room temperature, water (5 ml) was added, and 35% hydrochloric acid was added to adjust to pHl, followed by extraction with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 5Z2) to obtain the desired product (0.31 g). Melting point 50—51 ° C. [0105] [Reference Example 17]
(1) 5 べンジルチオ 1ーメチルビラゾールー 4 カルボヒドロキサム酸の合成 (1) Synthesis of 5-Benzylthio 1-methylvirazole-4 Carbohydroxamic acid
[化 64] [Chemical 64]
5 ベンジルチオ— 1—メチルピラゾールー 4—カルボン酸(15. 9g、 64. Ommol) のトルエン(100ml)懸濁液に、塩化チォ -ル(11. 4g、 95. 8mmol)と N, N—ジメ チルホルムアミド (0. lg)を加え、 4時間、加熱還流した。溶媒留去して得られた残渣 をテトラヒドロフラン (40ml)に溶解した。 5 To a suspension of benzylthio-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid (15.9 g, 64. Ommol) in toluene (100 ml) was added thiol chloride (11.4 g, 95.8 mmol) and N, N-dimethyl. Tylformamide (0. lg) was added and heated to reflux for 4 hours. The residue obtained by distilling off the solvent was dissolved in tetrahydrofuran (40 ml).
另 IJ途、ヒドロキシノレアミン塩酸塩(13. 3g、 191mmol)の水(40ml)溶液に、 5ない し 15°Cにて 85%水酸化カリウム(12. 6g、 191mmol)の水(40ml)溶液をカ卩え、室 温で 15分間撹拌した。次に、 3ないし 15°Cにて、上記テトラヒドロフラン溶液を 0. 25 時間で滴下した。さらに 3°Cで 1. 5時間撹拌後、 35%塩酸(20ml)を加え、 pH3ない し 4に調整し、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を水洗後、無水硫 酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ 一 (溶離液: n—へキサン Z酢酸ェチル = 1/1)で精製して目的物(10. 3g)を得た 。榭脂状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 3. 42 (s, 3 Further IJ, hydroxynoreamine hydrochloride (13.3 g, 191 mmol) in water (40 ml) at 5 or 15 ° C in 85% potassium hydroxide (12.6 g, 191 mmol) in water (40 ml) Was stirred and stirred at room temperature for 15 minutes. Next, the tetrahydrofuran solution was added dropwise at 3 to 15 ° C. over 0.25 hours. After further stirring at 3 ° C for 1.5 hours, 35% hydrochloric acid (20 ml) was added to adjust the pH to 3 or 4, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 1/1). The target product (10.3 g) was obtained. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 3. 42 (s, 3
3 Three
H) , 3. 95 (s, 2H) , 6. 93— 7. 01 (m, 2H) , 7. 20— 7. 28 (m, 3H) , 8. 04 (s, 1H) , 9. 76 (brs, 1H)。 H), 3. 95 (s, 2H), 6. 93— 7. 01 (m, 2H), 7. 20— 7.28 (m, 3H), 8. 04 (s, 1H), 9. 76 (brs, 1H).
[0106] (2) N-ァリルォキシ 5 ベンジルチオ 1 メチルビラゾール 4 カルボン酸ァ ミドの合成 [0106] (2) Synthesis of N-aryloxy-5 benzylthio 1 methylbiazole 4 carboxylic acid amide
[化 65] [Chemical 65]
炭酸カリウム(1. 3g、 9. 4mmol)の水(10ml)溶液に、 5 べンジルチオー1ーメ チルピラゾールー 4 カルボヒドロキサム酸(2. 0g、 7. 6mmol)と臭化ァリル(1. lg 、 9. lmmol)のトルエン(10ml)溶液を加え、 50°Cにて 4時間撹拌した。室温まで冷 却後、 35%塩酸を加えて pHlに調整し、酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチ ル溶液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去して目的物(1. 9g)を得た 。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDCl中) 3. 42 (s, 3H A solution of potassium carbonate (1.3 g, 9.4 mmol) in water (10 ml) was added to 5 benzylthio-1-methylpyrazole-4 carbohydroxamic acid (2.0 g, 7.6 mmol) and allyl bromide (1.lg, 9. lmmol) in toluene (10ml) was added and stirred at 50 ° C for 4 hours. After cooling to room temperature, 35% hydrochloric acid was added to adjust to pHl, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (1.9 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl) 3. 42 (s, 3H
3 Three
) , 3. 95 (s, 2H) , 4. 49 (d, J = 6. 3Hz, 2H) , 5. 33— 5. 43 (m, 2H) , 6. 00— 6. 16 (m, 1H) , 6. 93— 7. 00 (m, 2H) , 7. 21— 7. 30 (m, 3H) , 8. 06 (s, 1H) , 9. 68 (brs, 1H)。 ), 3.95 (s, 2H), 4.49 (d, J = 6.3Hz, 2H), 5.33—5.43 (m, 2H), 6.00—6.16 (m, 1H ), 6.93—7.00 (m, 2H), 7.21— 7.30 (m, 3H), 8.06 (s, 1H), 9.68 (brs, 1H).
(3) 5 ベンジルチオ一 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル) 1ーメチルピラゾールの合成 (3) Synthesis of 5-benzylthio 4- (5-iodomethyl 5-H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) 1-methylpyrazole
[化 66] [Chemical 66]
N—ァリルォキシ 5 ベンジルチオ 1 メチルビラゾール 4 カルボン酸アミ ド(1. 8g、 5. 9mmol)のァセトニトリル(10ml)溶液に、ヨウ素(4. 5g、 18mmol)を 加え、室温にて 8時間撹拌した。チォ硫酸ナトリウム飽和水溶液(30ml)を加え、酢酸 ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩 化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留 去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液: n—へキサン Z 酢酸ェチル =3Zl)で精製して目的物(1.7g)を得た。榭脂状物質。プロトン核磁 気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 3.36— 3.42 (m, 5H), 3.98—4.0 Iodine (4.5 g, 18 mmol) was added to a solution of N-aryloxy-5 benzylthio 1 methylbiazole 4 carboxylic acid amide (1.8 g, 5.9 mmol) in acetonitrile (10 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. A saturated aqueous sodium thiosulfate solution (30 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was mixed with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, salt The organic layer was washed successively with a saturated aqueous sodium chloride solution and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane Z ethyl acetate = 3 Zl) to obtain the desired product (1.7 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 3.36—3.42 (m, 5H), 3.98—4.0
3 Three
5(m, 3H), 4.31-4.38 (m, 1H), 4.54—4.59 (m, 1H), 6.97— 7.02 (m, 2H), 7.20-7.24 (m, 3H), 7.79 (s, 1H)。 5 (m, 3H), 4.31-4.38 (m, 1H), 4.54—4.59 (m, 1H), 6.97—7.02 (m, 2H), 7.20-7.24 (m, 3H), 7.79 (s, 1H).
[0108] (4)5 ベンジルチオ— 1—メチル—4— (5—メチル—5H, 6H— 1, 4, 2 ジォキ サジン 3—ィル)ピラゾールの合成 [0108] (4) 5 Synthesis of benzylthio-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H— 1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole
[化 67] [Chemical 67]
5 ベンジルチオ— 4— (5 ョードメチル— 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン— 3 —ィル)—1—メチルピラゾール(1.6g、 3.7mmol)の N, N ジメチルホルムアミド( 8ml)溶液に、 50°Cにて、水素化ホウ素ナトリウム(0.21g、 5.6mmol)の N, N—ジ メチルホルムアミド(5ml)溶液を 0.3時間かけて滴下し、さらに、 50°Cで 1時間撹拌 した。室温まで冷却後、水(20ml)をカ卩え、さらに 35%塩酸をカ卩えて pHlに調整し、 酢酸ェチルで抽出した。得られた酢酸ェチル溶液を 6%塩酸および水で順次洗浄後 、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(1. lg)を得た。榭脂状物質。プ 口トン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1.43(d, J = 6.3Hz, 3H) 5 Benzylthio-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2 dioxazine-3-yl) -1-methylpyrazole (1.6 g, 3.7 mmol) in N, N dimethylformamide (8 ml) A solution of sodium borohydride (0.21 g, 5.6 mmol) in N, N-dimethylformamide (5 ml) was added dropwise at 0.3 ° C. over 0.3 hours, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, water (20 ml) was added, 35% hydrochloric acid was added to adjust to pHl, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with 6% hydrochloric acid and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to obtain the desired product (1. lg). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1.43 (d, J = 6.3Hz, 3H)
3 Three
, 3.36 (s, 3H), 3.69-3.77 (m, 1H), 4.04(q, J=12.6Hz, 2H), 4.21— 4.27 (m, 1H), 4.55—4.61 (m, 1H), 6.98— 7.03 (m, 2H), 7.19— 7.24 (m, 3H), 7.76 (s, 1H)。 , 3.36 (s, 3H), 3.69-3.77 (m, 1H), 4.04 (q, J = 12.6Hz, 2H), 4.21— 4.27 (m, 1H), 4.55—4.61 (m, 1H), 6.98— 7.03 (m, 2H), 7.19— 7.24 (m, 3H), 7.76 (s, 1H).
[0109] (5)1—メチルー 4— (5—メチルー 5H, 6H—1, 4, 2 ジォキサジン 3 ィル)ピ ラゾール 5—スルホンアミドの合成 [化 68] [0109] (5) Synthesis of 1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H—1, 4, 2 dioxazine 3-yl) pyrazole 5-sulfonamide [Chemical 68]
5—べンジルチオー1ーメチルー 4ー(5—メチルー 5H, 6H- 1, 4, 2—ジォキサジ ン一 3—ィル)ピラゾール(1. lg、3. 5mmol)の 1, 2—ジクロロェタン(10ml)溶液に 、水(10ml)と 35%塩酸 (0. lg)を加え、激しく撹拌しながら塩素(2. 5g、 35mmol) を 5°Cにて導入した。この間、反応液は 19°Cまで発熱した。窒素を導入して過剰の塩 素を追い出した後、水(20ml)をカロえ、 1, 2—ジクロロェタンで抽出した。得られた 1, 2—ジクロロェタン溶液を減圧下 8mほで濃縮した。この溶液を、別途用意した 28% アンモニア水(lml)を加えた 1, 2—ジクロロエタン(8ml)溶液に、 5°Cにて、激しく撹 拌しながら滴下し、さらに、室温で 0. 5時間撹拌した。 35%塩酸をカ卩えて、 pHlに調 整後、 1, 2—ジクロロェタンで抽出した。得られた 1, 2—ジクロロェタン溶液を無水硫 酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去して得られた残渣をトルエンで再結晶して目的物(0 . 43g)を得た。融点 97— 99°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CD CI中) 1. 43 (d, J = 6. 3Hz, 3H) , 3. 70— 3. 77 (m, 1H) , 4. 19—4. 26 (m, 45-Benzylthio-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-1-yl) pyrazole (1. lg, 3.5 mmol) in 1,2-dichloroethane (10 ml) Water (10 ml) and 35% hydrochloric acid (0. lg) were added thereto, and chlorine (2.5 g, 35 mmol) was introduced at 5 ° C. with vigorous stirring. During this time, the reaction solution exothermed to 19 ° C. After introducing nitrogen to drive out excess chlorine, water (20 ml) was removed and extracted with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was concentrated at about 8 m under reduced pressure. This solution was added dropwise to a separately prepared 1,2-dichloroethane (8 ml) solution containing 28% aqueous ammonia (l ml) at 5 ° C with vigorous stirring, and further at room temperature for 0.5 hours. Stir. 35% hydrochloric acid was added, adjusted to pH 1 and extracted with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off, and the resulting residue was recrystallized from toluene to obtain the desired product (0.43 g). Melting point 97—99 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CD CI) 1. 43 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3. 70— 3. 77 (m, 1H), 4. 19—4. 26 (m, 4
3 Three
H) , 4. 55-4. 62 (m, 1H) , 6. 49 (brs, 2H) , 7. 75 (s, 1H)。 H), 4. 55-4. 62 (m, 1H), 6.49 (brs, 2H), 7.75 (s, 1H).
〔参考例 18〕 (Reference Example 18)
4— (5—メチル— 5H, 6H- 1, 4, 2—ジォキサジン— 3—ィル)—1— (ピリジル— 2—ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 4— (5-Methyl— 5H, 6H- 1, 4, 2-Dioxazine-3-yl) —1— (Pyridyl-2-yl) pyrazole-5-sulfonamide synthesis
[化 69] [Chem 69]
原料に 5 -ベンジルチオ 1 (ピリジル -2-ィル)ピラゾール 4 カルボン酸ク ロリド(3.63g、 11. Ommol)を用い、参考例 1と同様にして目的物(0.45g)を得た。 榭脂状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC1中) 1.43 (d, J The target product (0.45 g) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 using 5-benzylthio 1 (pyridyl-2-yl) pyrazole 4 carboxylic acid chloride (3.63 g, 11. Ommol) as a raw material. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC1) 1.43 (d, J
3 Three
=6.3Hz, 3H), 3.77-3.83 (m, 1H), 4.22—4.26 (m, 1H), 4.58—4.6 3(m, 1H), 6.41(brs, 2H), 7.42— 7.44 (m, 1H), 7.78— 7.80 (m, 1H), 7.87(s, 1H)7.93-7.98 (m, 1H), 8.48— 8.50 (m, 1H)。 = 6.3Hz, 3H), 3.77-3.83 (m, 1H), 4.22—4.26 (m, 1H), 4.58—4.6 3 (m, 1H), 6.41 (brs, 2H), 7.42—7.44 (m, 1H) 7.78—7.80 (m, 1H), 7.87 (s, 1H) 7.93-7.98 (m, 1H), 8.48—8.50 (m, 1H).
〔参考例 19〕 (Reference Example 19)
3 クロロー 1ーメチノレー 4 (5—メチレン 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジンー3 ィル)ピラゾールー 5—スルホンアミドの合成 3 Chloro 1-methynole 4 (5-Methylene 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) pyrazole 5-Synthesis of sulfonamides
[化 70] [Chemical 70]
3 クロ口一 1—メチル 4— (5 ョードメチル一 5H, 6H-1, 4, 2 ジォキサジン —3—ィル)ピラゾール一 5—スルホンアミド(0.55g、 1.3mmol)を 1, 2 ジメトキシ ェタン(10ml)に溶解し氷冷下撹拌した。次いで 28%ナトリウムメトキシドのメタノール 溶液 (0.6g、 3. lmmol)を 0°Cでゆっくり加えた後、 1時間撹拌した。 2規定塩酸を 加え反応を停止し、酢酸ェチルで抽出した。酢酸ェチル層を水および塩ィ匕ナトリウム 飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去したところ油状物 が得られた。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶離液; n キ サン Z酢酸ェチル =1Z1)で精製し、 目的物(0.36g)を得た。無色固体。融点 116 — 119°C。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値 δ (ppm) (CDC13中) 4.15(s, 3H) , 4.52(s, 2H), 4.53(d, J = 2.8Hz, 1H)、4.93(d, J = 2.8Hz, 1H)6.03 (b rs, 2H)0 3 Black mouth 1-Methyl 4- (5 HODOMETHYL 5H, 6H-1, 4, 2 Dioxazine-3-yl) Pyrazole-5-sulfonamide (0.55g, 1.3mmol) in 1,2 dimethoxyethane (10ml ) And stirred under ice cooling. Next, 28% sodium methoxide in methanol (0.6 g, 3. 1 mmol) was slowly added at 0 ° C., followed by stirring for 1 hour. The reaction was stopped by adding 2N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to an oil. was gotten. The obtained oily substance was purified by silica gel column chromatography (eluent; nxan Z ethyl acetate = 1Z1) to obtain the desired product (0.36 g). Colorless solid. Melting point 116 — 119 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDC13) 4.15 (s, 3H), 4.52 (s, 2H), 4.53 (d, J = 2.8Hz, 1H), 4.93 (d, J = 2.8Hz, 1H) 6.03 (b rs, 2H) 0
[0112] 前記合成例および参考例と同様の方法を用いることにより合成されたィ匕合物 (A)の 構造式と物性値を、前記合成例および参考例に記載された化合物とともに第 1表に 示す。 [0112] The structural formulas and physical properties of the compound (A) synthesized by using the same method as in the synthesis examples and reference examples are shown in Table 1 together with the compounds described in the synthesis examples and reference examples. Shown in
[0113] [化 71] [0113] [Chemical 71]
[表 1] [table 1]
〔第 1表〕 (Table 1)
N o . R1 R2 R3 R4 R5 Rfi X Y 物性値 (融点。 N o. R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R fi XY Physical properties (melting point.
1 M e C 1 Me H H H Me ! O Me O CH 1 7 7- 1 79 1 Me C 1 Me H H H Me! O Me O CH 1 7 7- 1 79
2 Me C 1 I CH2 H H H Mt O Me : O CH 9 1 - 942 Me C 1 I CH 2 HHH Mt O Me: O CH 9 1-94
3 Me C 1 M e M e H H Me : o Me o CH 1 8 9 - 1 9 13 Me C 1 Me Me H H Me: o Me o CH 1 8 9-1 9 1
4 Me C 1 Me I CH H H M( o Me : o CH 90-934 Me C 1 Me I CH H H M (o Me: o CH 90-93
5 Me Me Me H H H Me : o Me o CH 1 80- 1 825 Me Me Me H H H Me: o Me o CH 1 80- 1 82
6 Me Me I CH2 H H H M( O Me o CH 66 - 696 Me Me I CH 2 HHHM (O Me o CH 66-69
7 Me Me M e M e H H Me : o Me o CH 1 9 9- 20 17 Me Me Me Me H H Me: o Me o CH 1 9 9-20 1
8 Me Me Me I CH H H Me o Me o CH 1 3 3 - 1 3 58 Me Me Me I CH H H Me o Me o CH 1 3 3-1 3 5
9 Me Me H H Me H Me ; o Me o CH 1 8 7— 1 899 Me Me H H Me H Me; o Me o CH 1 8 7— 1 89
1 0 Me H Me H H H Me : o Me o CH 1 54- 1 571 0 Me H Me H H H Me: o Me o CH 1 54-1 57
1 1 Me C 1 Me H H H Mi o Me CH 1 8 1 - 1 821 1 Me C 1 Me H H H Mi o Me CH 1 8 1-1 82
1 2 Me C 1 Me H H H Me Me CH 1 76 - 1 7 71 2 Me C 1 Me H H H Me Me CH 1 76-1 7 7
1 3 Me C 1 Me H H H Me ; o Me o N 1 50- 1 5 11 3 Me C 1 Me H H H Me; o Me o N 1 50- 1 5 1
1 4 Me C 1 Me H H H Me ;〇 Me N 1 9 1 - 1 9 31 4 Me C 1 Me H H H Me 〇 Me N 1 9 1-1 9 3
1 5 Me C 1 Me H H H Me Me N 1 5 Me C 1 Me H H H Me Me N
1 6 Me C 1 E t H H H M« o Me 〇 CH 1 6 Me C 1 E t H H H M «o Me ○ CH
1 7 Me Me E t H H H Mc ; o Me o CH 1 7 Me Me Et H H H Mc ; o Me o CH
1 8 Me H E t H H H M« o Me o CH 1 8 Me H E t H H H M «o Me o CH
1 9 2— P y H Me H H H Mi o Me : o CH 100—101 1 9 2— P y H Me H H H Mi o Me: o CH 100—101
2 0 Me C 1 Me H H H Mf o C 1 CH 157-1582 0 Me C 1 Me H H H Mf o C 1 CH 157-158
2 1 Me C 1 = CH2 H H Me o Me o CH 1 64- 1 67 化合物 (A)と、これと同時に施用するダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカル ブの中力 選ばれる少なくとも 1種の化合物との組み合わせとしては、化合物 1Zダイ ムロン、化合物 1Zジメピぺレート、化合物 1Zエスプロカルプ、化合物 2Zダイムロン2 1 Me C 1 = CH 2 HH Me o Me o CH 1 64- 1 67 Compound (A) and at least one compound selected from the power of Daimlon, Dimepiperate and Esprocarb Combinations include Compound 1Z Daimlone, Compound 1Z Dimepiperate, Compound 1Z Esprocarp, Compound 2Z Daimlon
、化合物 2Zジメピぺレート、化合物 2Zエスプロカルプ、化合物 3Zダイムロン、化合 物 3Zジメピぺレート、化合物 3Zエスプロカルプ、化合物 4Zダイムロン、化合物 4Z ジメピぺレート、化合物 4Zエスプロカルプ、化合物 5Zダイムロン、化合物 5Zジメピ ぺレート、化合物 5Zエスプロカルプ、化合物 6Zダイムロン、化合物 6Zジメピペレ ート、化合物 6Zエスプロカルプ、化合物 7Zダイムロン、化合物 7Zジメピぺレート、 化合物 7Zエスプロカルプ、化合物 8Zダイムロン、化合物 8Zジメピぺレート、化合 物 8Zエスプロカルプ、化合物 9Zダイムロン、化合物 9Zジメピぺレート、化合物 9Z エスプロカルプ、化合物 10Zダイムロン、化合物 10Zジメピぺレート、化合物 10Z エスプロカルプ、化合物 lizダイムロン、化合物 liZジメピぺレート、化合物 liZ エスプロカルプ、化合物 12Zダイムロン、化合物 12Zジメピぺレート、化合物 12Z エスプロカルブ、化合物 13Zダイムロン、化合物 13; zジメピぺレート、化合物 13Z エスプロカルブ、化合物 14Zダイムロン、化合物 14 zジメピぺレート、化合物 14Z エスプロカルブ、化合物 15Zダイムロン、化合物 15 ジメピぺレート、化合物 15Z エスプロカルブ、化合物 16Zダイムロン、化合物 16 'Zジメピぺレート、化合物 16Z エスプロカルブ、化合物 17Zダイムロン、化合物 17 ζジメピぺレート、化合物 17Z エスプロカルブ、化合物 18Zダイムロン、化合物 18 ; ζジメピぺレート、化合物 18Z エスプロカルブ、化合物 19Zダイムロン、化合物 19 'Zジメピぺレート、化合物 19Z エスプロカルブ、化合物 20Zダイムロン、化合物 2G ιΖジメピぺレート、化合物 20Ζ エスプロカルブ、化合物 21Zダイムロン、化合物 21 ζジメピぺレート、化合物 21Z エスプロカルプが挙げられる。また化合物 (Α)と、これと同時に施用できる除草剤とし てはダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力 選ばれる少なくとも 1種の 化合物以外にも、 Β群の化合物として第 2表記載の化合物が挙げられる。さらに化合 物(Α)並びにダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力も選ばれる少なく とも 1種の化合物を同時に施用するに際して、第 2表に記載の化合物を同時に施用 することちでさる。 , Compound 2Z dimepiperate, compound 2Z esprocarp, compound 3Z dimelolone, compound 3Z dimepiperate, compound 3Z esprocalp, compound 4Z dimemron, compound 4Z dimepiperate, compound 4Z esprocarp, compound 5Z dimprolone, compound 5Z dimepiperate, Compound 5Z Esprocalp, Compound 6Z Daimlone, Compound 6Z Dimepiperate, Compound 6Z Esprocalp, Compound 7Z Daimlon, Compound 7Z Dimepiperate, Compound 7Z Esprocalp, Compound 8Z Dimelon, Compound 8Z Dimepiperate, Compound 8Z Esprocarp, Compound 9Z Diimron , Compound 9Z Dimepiperate, Compound 9Z Esprocarp, Compound 10Z Dimelon, Compound 10Z Dimepiperate, Compound 10Z Esprocarp, Compound liz Daimlon, Compound liZ Dimepiperate, Compound liZ Esproca Flop, Compound 12Z dymron, compound 12Z Jimepi Bae rate, compound 12Z Esprocarb, Compound 13Z Daimlone, Compound 13; z Dimepiperate, Compound 13Z Esprocarb, Compound 14Z Daimlone, Compound 14 z Dimepiperate, Compound 14Z Esprocarb, Compound 15Z Daimlon, Compound 15 Dimepiperate, Compound 15Z Esprocarb, Compound 16Z Daimlone , Compound 16 'Z Dimepiperate, Compound 16Z Esprocarb, Compound 17Z Daimlone, Compound 17 ζ Dimepiperate, Compound 17Z Esprocarb, Compound 18Z Daimlone, Compound 18; ζ Dimepiperate, Compound 18Z Esprocarb, Compound 19Z Didimlon, Compound 19 'Z dimethylpiperate, compound 19Z esprocarb, compound 20Z dimprolone, compound 2G ι メ dimepiperate, compound 20Ζ esprocarb, compound 21Z dimepilone, compound 21 ζ dimepiperate, compound 21Z esprocarb And the like. In addition to the compound (ii) and at least one compound selected from among Daimlon, dimethylpiperate and esprocarp as herbicides that can be applied at the same time, the compounds listed in Table 2 as compounds of the group IV Can be mentioned. Further, when applying at least one kind of compound (ii) and at least one kind of compound selected from Daimron, Dimepiperate and Esprocarp at the same time, the compounds listed in Table 2 can be applied simultaneously.
本発明において、施用にあたっては、各化合物を個別に施用しても、混合組成物と して施用しても良い。各々個別に施用する場合は、全く同時に施用しても、時間的に 近接していれば別々に処理しても良ぐいずれの場合も本発明方法に含まれる。 In the present invention, each compound may be applied individually or as a mixed composition in application. When each is applied individually, it can be applied at the same time, or can be processed separately as long as they are close in time.
[表 2] [Table 2]
〔第 2表〕 化 合 物 例 ビラゾスノレフ口ンェチノレ (p y r a z o s u l f u r o n— e t h y l Z—般名) 、 ベンス レフロンメチ b e n s u l f u r o n— m e t h y l /一般名) 、 シノ レフロン ( c i n o s u l f u r o n/一般名) 、 ィマゾスノレフロン ( i ma z o s u l f u r o n /一 般名) 、 アジムスノレフロン (a z i m s u l f u r o n/—般名) 、 ノ、ロスノレフ口ンメチノレ (h a 1 o s u l f u r o n— m e t h y l /—般名 、 シク ロスノレフアムロン ( e y e 1 o s u 1 f a mu r o n /一 Jl 名) 、 ェ トキシスノレフロン (e t h o x y s u l f u r o n /一般名) 、 ピラゾレート (p y r a z o 1 a t e/—般名) 、 ビラゾキシフェン (p y r a z o x y f e n/—般名) 、 ベンゾフエナップ (b e n z o f e n a p/—般名) 、 プロ モブチド (b r omo b u t i d eZ—般名) 、 ナプロァニリ ド (n a p r o a n i l i d eZ—般名) 、 プレチラクロール (p r e t i l a c h l o r /—般名) 、 ブタクロール ( b u t a c h l o r Z—般名) 、 テュルクロール ( t h e n y l c h l o r /—般名) 、 C NP (—般名) 、 クロメ トキシニル (c h l om c t h o x y n i l /—般名) 、 ビフエノ ックス (b i f e n o x/—般名) 、 ォキサジァゾン (o x a d i a z o n/—般名) 、 ォ キサジアルギノレ (o x a d i a r g y l /—般名) 、 ペントキサゾン (p e n t o x a z o n eZ—般名) 、 カフエンス トロール (c a f e n s t r o 1 e_ /—般名) 、 ォキサジクロ メホン ( o a z i c 1 o m e f o n e /一般名 ) 、 インタ、 'ノファン ( i n d a n o f a n /一般名) 、 ピリ ミノバックメチル (p y r i m i n o b a c—me t h y l /—般名) 、 シハロホップブチル ( c y h a l o f o p— b u t y l /—般名) 、 フェントラザミ ド ( f e n t r a z a m i d e /一般名) 、 メフエナセッ ト (m e f e n a c e t /—般名) 、 ブ テナクロール (b u t e n a c h l o r Z—般名) 、 ジチォピル ( d i t h i o p y 1 Z— 般名) 、 ベンフレセート (b e n f u r e s a t e Z—般名) 、 ピリブチカルブ ( p y r i b u t i c a r b/—般名) 、 ベンチォカーブ (b e n t h i o c a r bZ—般名) 、 モリ ネ一ト (m o 1 i n a t e /一般名) 、 ブタミフォス ( b u t a m i f o s /一般名) 、 キ ンクロラック (q u i n c l o r a c / 般名) 、 シンメスリン ( c i nm e t h y l i n /一般名) 、 シメ ト リ ン ( s i m c t r y n/—般名) 、 ベンスリ ド (b e n s u l i d e [Table 2] Compound examples: virazosulefon-ethyl Z (generic name), benzreflonmethy bensulfuron-methyl (generic name), sinoleflon (cynosulfuron / generic name), imazosnoreflon (i ma zosulfuron / (Common name), azimsulfuron (azimsulfuron / —common name), ros, rosnolev mouth methylenole (ha 1 osulfuron—methyl / —common name, cyclosnorefumron (eye 1 osu 1 fa mu ron / 1 Jl name) , Ethoxysulfuron (generic name), pyrazolate (pyrazo 1 ate / generic name), birazoxyfen (pyrazoxyfen / generic name), benzofenap / (generic name), promobutide (br omo butid eZ —Common name, naproanilid eZ—common name , Pretilachlor (common name), butachlor (butachlor Z—common name), turchlor (thenylchlor / —common name), C NP (—common name), chrometoxynil (chl om cthoxynil / —common name), bifueno (Bifenox / -common name), oxadiazon / (common name), oxadiaarginole (oxadiargyl / -common name), pentoxazone (pentoxazon eZ--common name), caffeentrole (cafenstro 1 e _ /-common name), oxadiclo Mehon (oazic 1 omefone / generic name), Inta, 'Nophan (indanofan / generic name), Pyriminobac-me thyl (generic name), Cyhalofop-butyl (generic name), Fentrazamide (fentrazamide / generic name) Mefenacet (generic name), butenachlor (butenachlor Z—common name), dithiopyr (dithiopy 1 Z—common name), benfuresate Z (common name), pilibuticarb / (generic name), bento curve ( benthiocar bZ—common name), morinet (common name), butamifos (common name), quinclorac (common name), cinmethrin (ci nm ethylin / common name), symtrime (Simctryn / -common name), Bensulide (bensulide)
[表 3] /一般名) 、 ジメタメ トリ ン (d i m e t h a m e t r y n/-—般名) 、 MC P A (—般名 ) 、 MC P B (—般名) 、 ェ トベンザ二 ド (e t o b e n z a n i d/—般名) 、 クミノレ口 ン ( c u m y 1 u r ο η/—般名) 、 ベンゾビシクロン (b e n z o b i c y c l o n /— - 般名) 、 ピリフタ リ ド (p y r i f t a l i d /—般名) , ビスピリバック ( b i s p y r i b a c /一般名) 、 ピラク口 -ノレ (p y r a c 1 o n i 1 /一般名) 、 ァニロホス ( a n i 1 o f o s /一般名) 、 OK— 7 0 1 (試験名) 、 ぺノキススラム (p e n o x s u[Table 3] / Generic name), dimethametryn /-common name, MC PA (—common name), MC PB (—common name), etbenzanid (—common name), cuminoles (cumy) 1 ur ο η / —common name), benzobicyclon (—-common name), pyriftalide (pyriftalid / —common name), bispyribac (common name), pirac mouth-nore (pyrac 1 oni 1 / Generic name), anilofos (ani 1 ofos / generic name), OK—700 (test name), penoxsuram (penoxsu)
1 a m/—般名) 、 AVH_ 3 0 1 (試験名) 、 KUH— 0 2 1 (試験名) 、 TH— 5 4 7 (試験名) 、 ベンタゾン (B e n t a z o n e /—般名) 、 2 , 4— P A (--般名) 、 メタミホップ (一般名) 、 フルセ トスノレフロン(f l u c e t o s u l f u r o n/—般名 )、 HO K— 2 0 1 (—般名) 、 メ ソ トリオン (me s o t r i o n eノ一般名) 、 プロパ ニル ( p r o p a n i 1 /一般名)、 キノクラミン (q u i n o c l a m i n e Z—般名) およびクロメプロップ ( c 1 o me p r o p) 1 am / —common name), AVH_ 3 0 1 (study name), KUH— 0 2 1 (study name), TH— 5 4 7 (study name), bentazone (Bentazone / —common name), 2, 4 — PA (--generic name), metamihop (common name), flucetosulfuron / (common name), HO K— 2 0 1 (—common name), mesotrione (common name), propanil (Propani 1 / common name), quinoclamin (quinoclamine Z—common name) and chrome prop (c 1 o me prop)
化合物 (A)と同時に施用できる第 2表記載の化合物との具体的な組み合わせを第 3表に示す。 Specific combinations with the compounds listed in Table 2 that can be applied simultaneously with Compound (A) are shown in Table 3.
〔第 3表〕 同時に施用できる化合物の組み合わせ例 化合物 1Zビラゾスルフロンェチル、化合物 1Zベンスルフロンメチル、化合物 1Zシ ノスルフロン、化合物 1Zイマゾスルフロン、化合物 1Zアジムスルフロン、化合物 1Z ハロスルフロンメチル、化合物 1Zシクロスルファムロン、化合物 1Zェトキシスルフロ ン、化合物 1Zピラゾレート、化合物 1Zビラゾキシフェン、化合物 1Zベンゾフエナツ プ、化合物 1Zブロモブチド、化合物 1Zナプロア二リド、化合物 1Zプレチラクロール 、化合物 1Zブタクロール、化合物 1Zテニルクロール、化合物 IZCNP、化合物 iZ クロメトキシニル、化合物 iZビフヱノックス、化合物 iZォキサジァゾン、化合物 iZ ォキサジアルギル、化合物 iZペントキサゾン、化合物 iZカフエンストロール、化合 物 iZォキサジクロメホン、化合物 iZインダノフアン、化合物 iZピリミノバックメチル 、化合物 iZシハロホップブチル、化合物 iZフェントラザミド、化合物 iZメフエナセ ット、化合物 iZブテナクロール、化合物 1Zジチォピル、化合物 1Zベンフレセート、 化合物 1Zピリプチカルプ、化合物 iZベンチォカーブ、化合物 iZモリネート、化合 物 iZブタミフォス、化合物 iZキンク口ラック、化合物 iZシンメスリン、化合物 iZシ メトリン、化合物 iZベンスリド、化合物 iZジメタメトリン、化合物 IZMCPA、化合物[Table 3] Examples of combinations of compounds that can be applied simultaneously Compound 1Z virazosulfuronethyl, compound 1Z bensulfuron methyl, compound 1Z cinnosulfuron, compound 1Z imazosulfuron, compound 1Z azimusulfuron, compound 1Z halosulfuron methyl, compound 1Z cyclosulfur Famron, Compound 1Z Ethoxysulfuron, Compound 1Z Pyrazolate, Compound 1Z Birazoxifene, Compound 1Z Benzophenap, Compound 1Z Bromobutide, Compound 1Z Naproanilide, Compound 1Z Pretilachlor, Compound 1Z Butachlor, Compound 1Z Tenenylchlor, Compound IZCNP, Compound iZ Compound iZ Bifnox, Compound iZ Oxadiazone, Compound iZ Oxadialgyl, Compound iZ Pentoxazone, Compound iZ Caffentrol, Compound iZ Oxadichromone, Compound iZ Indanofuan compound iZ pyriminobac-methyl, compound iZ cyhalofop-butyl, compound iZ fentrazamide, compound iZ Mefuenase , Compound iZ Butenachlor, Compound 1Z Dithiopyr, Compound 1Z Benfresate, Compound 1Z Piritypical, Compound iZ Benchocurve, Compound iZ Molinate, Compound iZ Butamifos, Compound iZ Kink Mouth Rack, Compound iZ Simmesrin, Compound iZ Cimethrin, Compound iZ Benthuride , Compound iZ Dimetamethrin, Compound IZMCPA, Compound
1/MCPB,化合物 1Zエトベンザ-ド、化合物 1Zクミルロン、化合物 1Zベンゾビ シクロン、化合物 iZピリフタリド、化合物 iZビスピリバック、化合物 iZピラクロ-ル、 化合物 1Zァニロホス、化合物 1ZOK— 701、化合物 1Zぺノキススラム、化合物 1 ZAVH— 301、化合物 1ZKUH— 021、化合物 ΐΖΤΗ— 547、化合物 lZベンタ ゾン、化合物 1Z2, 4— PA、化合物 lZメタミホップ、化合物 1Zフルセトスルフロン、 化合物 1ZHOK— 201、化合物 1Zメソトリオン、化合物 1Zプロパニル、化合物 1Z キノクラミン、ィ匕合物 1/クロメプロップ、 1 / MCPB, Compound 1Z Etobenzad, Compound 1Z Cumyluron, Compound 1Z Benzobicyclone, Compound iZ Pyriphthalide, Compound iZ Bispyribac, Compound iZ Pyracol, Compound 1Z Anilophos, Compound 1ZOK—701, Compound 1Z Penoxsulam, Compound 1 ZAVH — 301, Compound 1ZKUH— 021, Compound ΐΖΤΗ— 547, Compound lZ Ventazone, Compound 1Z2, 4-— PA, Compound lZ Metamihop, Compound 1Z Flucetosulfuron, Compound 1ZHOK—201, Compound 1Z Mesotrione, Compound 1Z Propanil, Compound 1Z Kinoclamine, y compound 1 / chromeprop,
化合物 2Zビラゾスルフロンェチル、化合物 2Zベンスルフロンメチル、化合物 2Zシ ノスルフロン、化合物 2Zイマゾスルフロン、化合物 2Zアジムスルフロン、化合物 2Z ハロスルフロンメチル、化合物 2Zシクロスルファムロン、化合物 2Zエトキシスルフロ ン、化合物 2Zピラゾレート、化合物 2Zビラゾキシフェン、化合物 2Zベンゾフエナツ プ、化合物 2Zブロモブチド、化合物 2Zナプロア二リド、化合物 2Zプレチラクロール 、化合物 2Zブタクロール、化合物 2Zテニルクロール、化合物 2ZCNP、化合物 2Z クロメトキシニル、化合物 2Zビフヱノックス、化合物 2Zォキサジァゾン、化合物 2Z ォキサジアルギル、化合物 2Zペントキサゾン、化合物 2Zカフエンストロール、化合 物 2Zォキサジクロメホン、化合物 2Zインダノフアン、化合物 2Zピリミノバックメチル 、化合物 2Zシハロホップブチル、化合物 2Zフェントラザミド、化合物 2Zメフエナセ ット、化合物 2Zブテナクロール、化合物 2Zジチォピル、化合物 2Zベンフレセート、 化合物 2Zピリプチカルプ、化合物 2Zベンチォカーブ、化合物 2Zモリネート、化合 物 2Zブタミフォス、化合物 2Zキンク口ラック、化合物 2Zシンメスリン、化合物 2Zシ メトリン、化合物 2Zベンスリド、化合物 2Zジメタメトリン、化合物 2ZMCPA、化合物 2/MCPB,化合物 2Zエトベンザ-ド、化合物 2Zクミルロン、化合物 2Zベンゾビ シクロン、化合物 2Zピリフタリド、化合物 2Zビスピリバック、化合物 2Zピラクロ-ル、 化合物 2Zァニロホス、化合物 2ZOK— 701、化合物 2Zぺノキススラム、化合物 2 ZAVH— 301、化合物 2ZKUH— 021、化合物 2ZTH— 547、化合物 2Ζベンタ ゾン、化合物 2Ζ2, 4— ΡΑ、化合物 2Ζメタミホップ、化合物 2Ζフルセトスルフロン、 化合物 2ΖΗΟΚ— 201、化合物 2Ζメソトリオン、化合物 2Ζプロパニル、化合物 2Ζ キノクラミン、ィ匕合物 2/クロメプロップ、 Compound 2Z Virazosulfuronethyl, Compound 2Z Bensulfuron methyl, Compound 2Z Cynosulfuron, Compound 2Z Imazosulfuron, Compound 2Z Azimusulfuron, Compound 2Z Halosulfuron methyl, Compound 2Z Cyclosulfamlone, Compound 2Z Ethoxysulfuron, Compound 2Z Pyrazolate, Compound 2Z Birazoxifen, Compound 2Z Benzophenap, Compound 2Z Bromobutide, Compound 2Z Naproanilide, Compound 2Z Pretilachlor, Compound 2Z Butachlor, Compound 2Z Tenenylchlor, Compound 2ZCNP, Compound 2Z Clomethoxynil, Compound 2Z Bif ヱ nox, Compound 2Z Oxadizone Oxadialgyl, Compound 2Z Pentoxazone, Compound 2Z Caffentrol, Compound 2Z Oxadiclomephone, Compound 2Z Indanophane, Compound 2Z Pyriminobacmethy , Compound 2Z Cihalohop Butyl, Compound 2Z Fentolazamide, Compound 2Z Mefenacet, Compound 2Z Butenachlor, Compound 2Z Dithiopyr, Compound 2Z Benfrate, Compound 2Z Pipripipalp, Compound 2Z Bencho curve, Compound 2Z Molinate, Compound 2Z Butamiphos, Compound 2Z Kink Mouth rack, Compound 2Z Simmesrin, Compound 2Z Cymethrin, Compound 2Z Benthuride, Compound 2Z Dimetamethrin, Compound 2ZMCPA, Compound 2 / MCPB, Compound 2Z Etobenzazade, Compound 2Z Cumylron, Compound 2Z Benzobicyclone, Compound 2Z Pyriphthalide, Compound 2Z Bispyribac , Compound 2Z pyrachlor, Compound 2Z Anilophos, Compound 2ZOK—701, Compound 2Z Penoxsulam, Compound 2 ZAVH—301, Compound 2ZKUH—021, Compound 2ZTH—547, Compound 2ΖBentazone, Compound 2Ζ2, 4—ΡΑ, Compound 2ΖMetamihop, Compound 2ΖFurcetosulfuron, Compound 2ΖΗΟΚ—201, Compound 2ΖMesotrione, Compound 2Ζpropanyl, Compound 2Ζ Kinoclamine, 匕 Compound 2 / Chromprop,
化合物 3Ζビラゾスルフロンェチル、化合物 3Ζベンスルフロンメチル、化合物 3Ζシ ノスルフロン、化合物 3Ζイマゾスルフロン、化合物 3Ζアジムスルフロン、化合物 3Ζ ハロスルフロンメチル、化合物 3Ζシクロスルファムロン、化合物 3Ζエトキシスルフロ ン、化合物 3Ζピラゾレート、化合物 3Ζビラゾキシフェン、化合物 3Ζベンゾフエナツ プ、化合物 3Ζブロモブチド、化合物 3Ζナプロア二リド、化合物 3Ζプレチラクロール 、化合物 3Ζブタクロール、化合物 3Ζテニルクロール、化合物 3ZCNP、化合物 3Z クロメトキシニル、化合物 3Zビフヱノックス、化合物 3Zォキサジァゾン、化合物 3Z ォキサジアルギル、化合物 3Zペントキサゾン、化合物 3Zカフエンストロール、化合 物 3Zォキサジクロメホン、化合物 3Zインダノフアン、化合物 3Zピリミノバックメチル 、化合物 3Zシハロホップブチル、化合物 3Zフェントラザミド、化合物 3Zメフエナセ ット、化合物 3Zブテナクロール、化合物 3Zジチォピル、化合物 3Zベンフレセート、 化合物 3Zピリプチカルプ、化合物 3Zベンチォカーブ、化合物 3Zモリネート、化合 物 3Zブタミフォス、化合物 3Zキンク口ラック、化合物 3Zシンメスリン、化合物 3Zシ メトリン、化合物 3Zベンスリド、化合物 3Zジメタメトリン、化合物 3ZMCPA、化合物 3/MCPB,化合物 3Zエトベンザ-ド、化合物 3Zクミルロン、化合物 3Zベンゾビ シクロン、化合物 3Zピリフタリド、化合物 3Zビスピリバック、化合物 3Zピラクロ-ル、 化合物 3Zァニロホス、化合物 3ZOK— 701、化合物 3Zぺノキススラム、化合物 3 ZAVH— 301、化合物 3ZKUH— 021、化合物 3ZTH— 547、化合物 3Zベンタ ゾン、化合物 3Z2, 4— PA、化合物 3Zメタミホップ、化合物 3Zフルセトスルフロン、 化合物 3ZHOK— 201、化合物 3Zメソトリオン、化合物 3Zプロパニル、化合物 3Z キノクラミン、ィ匕合物 3/クロメプロップ、 Compound 3ΖVilazosulfuronethyl, Compound 3ΖBensulfuron methyl, Compound 3ΖSinosulfuron, Compound 3ΖImazosulfuron, Compound 3ΖAzimusulfuron, Compound 3ΖHalosulfuron methyl, Compound 3ΖCyclosulfamlone, Compound 3ΖEthoxysulfuron, Compound 3Ζ Pyrazolate, Compound 3ΖBrazoxifene, Compound 3ΖBenzophenap, Compound 3ΖBromobutide, Compound 3ΖNaproanilide, Compound 3ΖPretilachlor, Compound 3ΖButachlor, Compound 3ΖTenylchlor, Compound 3ZCNP, Compound 3Z Clomethoxynil, Compound 3Z Bif ヱ noxone, Compound 3Z Oxadizone Oxadialgyl, Compound 3Z Pentoxazone, Compound 3Z Caffentrol, Compound 3Z Oxadichlormephone, Compound 3Z Indanophane, Compound 3Z Pyrimino Cicmethyl, Compound 3Z Cihalohop Butyl, Compound 3Z Fentrazamide, Compound 3Z Mefenacet, Compound 3Z Butenachlor, Compound 3Z Dithiopyr, Compound 3Z Benfrate, Compound 3Z Pipipipalp, Compound 3Z Benchocarb, Compound 3Z Molinate, Compound 3Z Butamiphos, Compound 3Z Kink Mouth Rack, Compound 3Z Simmesrin, Compound 3Z Cymethrin, Compound 3Z Benthuride, Compound 3Z Dimetamethrin, Compound 3ZMCPA, Compound 3 / MCPB, Compound 3Z Etobenzazade, Compound 3Z Cumylron, Compound 3Z Benzobicyclone, Compound 3Z Pyriphthalide, Compound 3Z Bispyribac, compound 3Z pyrachlor, compound 3Z anilophos, compound 3ZOK—701, compound 3Z penoxsulam, compound 3 ZAVH—301, compound 3ZKUH—021, compound 3ZTH—547, compound 3Z bentazone, compound 3Z2, 4— PA, compound 3Z metamihop, compound 3Z flucetosulfuron, compound 3ZHOK—201, compound 3Z mesotrione, compound 3Z propanil, compound 3Z quinocuramin, compound 3 / chromeprop,
化合物 4Zビラゾスルフロンェチル、化合物 4Zベンスルフロンメチル、化合物 4Zシ ノスルフロン、化合物 4Zイマゾスルフロン、化合物 4Zアジムスルフロン、化合物 4Z ハロスルフロンメチル、化合物 4Zシクロスルファムロン、化合物 4Zエトキシスルフロ ン、化合物 4Zピラゾレート、化合物 4Zビラゾキシフェン、化合物 4Zベンゾフエナツ プ、化合物 4Zブロモブチド、化合物 4Zナプロア二リド、化合物 4Zプレチラクロール 、化合物 4Zブタクロール、化合物 4Zテニルクロール、化合物 4ZCNP、化合物 4Z クロメトキシュル、化合物 4Zビフヱノックス、化合物 4Zォキサジァゾン、化合物 4Z ォキサジアルギル、化合物 4Zペントキサゾン、化合物 4Zカフエンストロール、化合 物 4Zォキサジクロメホン、化合物 4Zインダノフアン、化合物 4Zピリミノバックメチル 、化合物 4Zシハロホップブチル、化合物 4Zフェントラザミド、化合物 4Zメフエナセ ット、化合物 4Zブテナクロール、化合物 4Zジチォピル、化合物 4Zベンフレセート、 化合物 4Zピリプチカルプ、化合物 4Zベンチォカーブ、化合物 4Zモリネート、化合 物 4Zブタミフォス、化合物 4Zキンク口ラック、化合物 4Zシンメスリン、化合物 4Zシ メトリン、化合物 4Zベンスリド、化合物 4Zジメタメトリン、化合物 4ZMCPA、化合物 4/MCPB,化合物 4Zエトベンザ-ド、化合物 4Zクミルロン、化合物 4Zベンゾビ シクロン、化合物 4Zピリフタリド、化合物 4Zビスピリバック、化合物 4Zピラクロ-ル、 化合物 4Zァニロホス、化合物 4ZOK— 701、化合物 4Zぺノキススラム、化合物 4 ZAVH— 301、化合物 4ZKUH— 021、化合物 4ZTH— 547、化合物 4Zベンタ ゾン、化合物 4Z2, 4— PA、化合物 4Zメタミホップ、化合物 4Zフルセトスルフロン、 化合物 4ZHOK— 201、化合物 4Zメソトリオン、化合物 4Zプロパニル、化合物 4Z キノクラミン、ィ匕合物 4/クロメプロップ、 Compound 4Z Virazosulfuronethyl, Compound 4Z Bensulfuron methyl, Compound 4Z Synosulfuron, Compound 4Z Imazosulfuron, Compound 4Z Azimusulfuron, Compound 4Z Halosulfuron methyl, Compound 4Z cyclosulfamuron, Compound 4Z ethoxysulfuron , Compound 4Z pyrazolate, compound 4Z birazoxifen, compound 4Z benzophenap, compound 4Z bromobutide, compound 4Z naproanilide, compound 4Z pretilachlor, compound 4Z butachlor, compound 4Z tenenyl chlor, compound 4ZCNP, compound 4Z cromethoxyl, compound 4Z bifunox, Compound 4Z Oxadiazone, Compound 4Z Oxadialgyl, Compound 4Z Pentoxazone, Compound 4Z Caffentrol, Compound 4Z Oxadiclomephone, Compound 4Z Indanophane, Compound 4Z Pyriminobacmethyl, Compound 4Z Cihalohop Butyl, Compound 4Z Fentrazamide, Compound 4Z mefenacet, compound 4Z butenachlor, compound 4Z dithiopyr, compound 4Z benfrecetate, compound 4Z piritypcarp, compound 4Z bencho curve, compound 4Z molinate, compound 4Z Butamiphos, Compound 4Z Kink Mouth Rack, Compound 4Z Simmesrin, Compound 4Z Cymethrin, Compound 4Z Benthuride, Compound 4Z Dimetamethrin, Compound 4ZMCPA, Compound 4 / MCPB, Compound 4Z Etobenzad, Compound 4Z Cumylron, Compound 4Z Benzobicyclone, Compound 4Z Pyriphthalide, Compound 4Z Bispyribac, Compound 4Z Pyracol, Compound 4Z Anilophos, Compound 4ZOK—701, Compound 4Z Penoxsulam, Compound 4 ZAVH—301, Compound 4ZKUH—021, Compound 4ZTH—547, Compound 4Z Ventazone, Compound 4Z2 , 4—PA, compound 4Z metamihop, compound 4Z flucetosulfuron, compound 4ZHOK—201, compound 4Z mesotrione, compound 4Z propanyl, compound 4Z quinoclamin, compound 4 / chromeprop,
化合物 5Zビラゾスルフロンェチル、化合物 5Zベンスルフロンメチル、化合物 5Zシ ノスルフロン、化合物 5Zイマゾスルフロン、化合物 5Zアジムスルフロン、化合物 5Z ハロスルフロンメチル、化合物 5Zシクロスルファムロン、化合物 5Zエトキシスルフロ ン、化合物 5Zピラゾレート、化合物 5Zビラゾキシフェン、化合物 5Zベンゾフエナツ プ、化合物 5Zブロモブチド、化合物 5Zナプロア二リド、化合物 5Zプレチラクロール 、化合物 5Zブタクロール、化合物 5Zテニルクロール、化合物 5ZCNP、化合物 5Z クロメトキシュル、化合物 5Zビフヱノックス、化合物 5Zォキサジァゾン、化合物 5Z ォキサジアルギル、化合物 5Zペントキサゾン、化合物 5Zカフエンストロール、化合 物 5Zォキサジクロメホン、化合物 5Zインダノフアン、化合物 5Zピリミノバックメチル 、化合物 5Zシハロホップブチル、化合物 5Zフェントラザミド、化合物 5Zメフエナセ ット、化合物 5Zブテナクロール、化合物 5Zジチォピル、化合物 5Zベンフレセート、 化合物 5Zピリプチカルプ、化合物 5Zベンチォカーブ、化合物 5Zモリネート、化合 物 5Zブタミフォス、化合物 5Zキンク口ラック、化合物 5Zシンメスリン、化合物 5Zシ メトリン、化合物 5Zベンスリド、化合物 5Zジメタメトリン、化合物 5ZMCPA、化合物 5/MCPB,化合物 5Zエトベンザ-ド、化合物 5Zクミルロン、化合物 5Zベンゾビ シクロン、化合物 5Zピリフタリド、化合物 5Zビスピリバック、化合物 5Zピラクロ-ル、 化合物 5Zァニロホス、化合物 5ZOK— 701、化合物 5Zぺノキススラム、化合物 5 ZAVH— 301、化合物 5ZKUH— 021、化合物 5ZTH— 547、化合物 5Zベンタ ゾン、化合物 5Z2, 4— PA、化合物 5Zメタミホップ、化合物 5Zフルセトスルフロン、 化合物 5ZHOK— 201、化合物 5Zメソトリオン、化合物 5Zプロパニル、化合物 5Z キノクラミン、ィ匕合物 5/クロメプロップ、 Compound 5Z Virazosulfuronethyl, Compound 5Z Bensulfuron methyl, Compound 5Z Cynosulfuron, Compound 5Z Imazosulfuron, Compound 5Z Azimusulfuron, Compound 5Z Halosulfuron methyl, Compound 5Z Cyclosulfamlone, Compound 5Z Ethoxysulfuron, Compound 5Z Pyrazolate, Compound 5Z Birazoxifene, Compound 5Z Benzophenap, Compound 5Z Bromobutide, Compound 5Z Naproanilide, Compound 5Z Pretilachlor, Compound 5Z Butachlor, Compound 5Z Tenenylchlor, Compound 5ZCNP, Compound 5Z Chromethoxyl, Compound 5Z Bif ヱ noxone, Compound 5Z Oxadizone Compound 5Z Oxadialgyl, Compound 5Z Pentoxazone, Compound 5Z Caffentrol, Compound 5Z Oxadichrome Mephon, Compound 5Z Indanophane, Compound 5Z Pyriminobackmethy Compound 5Z cyhalofop-butyl, compound 5Z fentrazamide, compound 5Z Mefuenase , Compound 5Z butenachlor, compound 5Z dithiopyr, compound 5Z benfrecetate, compound 5Z piritypcarp, compound 5Z beni curve, compound 5Z molinate, compound 5Z butamifos, compound 5Z kink mouth rack, compound 5Z symmethrin, compound 5Z simethrin, compound 5Z benzulide , Compound 5Z Dimetamethrin, Compound 5ZMCPA, Compound 5 / MCPB, Compound 5Z Etobenzad, Compound 5Z Cumylron, Compound 5Z Benzobicyclone, Compound 5Z Pyriphthalide, Compound 5Z Bispyribac, Compound 5Z Pyracol, Compound 5Z Anilophos, Compound 5ZOK—701 , Compound 5Z Penoxsulam, Compound 5 ZAVH—301, Compound 5ZKUH—021, Compound 5ZTH—547, Compound 5Z Ventazone, Compound 5Z2, 4-—PA, Compound 5Z Metamihop, Compound 5Z Fulcetosulfuron, Compound 5ZHOK—201, Compound 5Z Mesoto One, Compound 5Z propanil, compound 5Z quinoclamine, I 匕合 was 5 / clomeprop,
化合物 6Zビラゾスルフロンェチル、化合物 6Zベンスルフロンメチル、化合物 6Zシ ノスルフロン、化合物 6Zイマゾスルフロン、化合物 6Zアジムスルフロン、化合物 6Z ハロスルフロンメチル、化合物 6Zシクロスルファムロン、化合物 6Zエトキシスルフロ ン、化合物 6Zピラゾレート、化合物 6Zビラゾキシフェン、化合物 6Zベンゾフエナツ プ、化合物 6Zブロモブチド、化合物 6Zナプロア二リド、化合物 6Zプレチラクロール 、化合物 6Zブタクロール、化合物 6Zテニルクロール、化合物 6ZCNP、化合物 6Z クロメトキシュル、化合物 6Zビフヱノックス、化合物 6Zォキサジァゾン、化合物 6Z ォキサジアルギル、化合物 6Zペントキサゾン、化合物 6Zカフエンストロール、化合 物 6Zォキサジクロメホン、化合物 6Zインダノフアン、化合物 6Zピリミノバックメチル 、化合物 6Zシハロホップブチル、化合物 6Zフェントラザミド、化合物 6Zメフエナセ ット、化合物 6Zブテナクロール、化合物 6Zジチォピル、化合物 6Zベンフレセート、 化合物 6Zピリプチカルプ、化合物 6Zベンチォカーブ、化合物 6Zモリネート、化合 物 6Zブタミフォス、化合物 6Zキンク口ラック、化合物 6Zシンメスリン、化合物 6Zシ メトリン、化合物 6Zベンスリド、化合物 6Zジメタメトリン、化合物 6ZMCPA、化合物 6/MCPB,化合物 6Zエトベンザ-ド、化合物 6Zクミルロン、化合物 6Zベンゾビ シクロン、化合物 6Zピリフタリド、化合物 6Zビスピリバック、化合物 6Zピラクロ-ル、 化合物 6Zァニロホス、化合物 6ZOK— 701、化合物 6Zぺノキススラム、化合物 6 ZAVH— 301、化合物 6ZKUH— 021、化合物 6ZTH— 547、化合物 6Ζベンタ ゾン、化合物 6Ζ2, 4— ΡΑ、化合物 6Ζメタミホップ、化合物 6Ζフルセトスルフロン、 化合物 6ΖΗΟΚ— 201、化合物 6Ζメソトリオン、化合物 6Ζプロパニル、化合物 6Ζ キノクラミン、ィ匕合物 6/クロメプロップ、 Compound 6Z Virazosulfuronethyl, Compound 6Z Bensulfuron methyl, Compound 6Z Cynosulfuron, Compound 6Z Imazosulfuron, Compound 6Z Azimusulfuron, Compound 6Z Halosulfuron methyl, Compound 6Z Cyclosulfamlone, Compound 6Z Ethoxysulfuron, Compound 6Z Pyrazolate, Compound 6Z Birazoxifen, Compound 6Z Benzophenap, Compound 6Z Bromobutide, Compound 6Z Naproanilide, Compound 6Z Pretilachlor, Compound 6Z Butachlor, Compound 6Z Tenenylchlor, Compound 6ZCNP, Compound 6Z Chromethoxyl, Compound 6Z Bifoxane, Compound 6Z Oxadizone Compound 6Z Oxadialgyl, Compound 6Z Pentoxazone, Compound 6Z Caffenstrol, Compound 6Z Oxadiclomephone, Compound 6Z Indanophane, Compound 6Z Pyriminobackmethy , Compound 6Z Cihalohop Butyl, Compound 6Z Fentolazamide, Compound 6Z Mefenacet, Compound 6Z Butenachlor, Compound 6Z Dithiopyr, Compound 6Z Benfrate, Compound 6Z Pipripipalp, Compound 6Z Benchocarb, Compound 6Z Molinate, Compound 6Z Butamiphos, Compound 6Z Kink Mouth rack, compound 6Z simmesrin, compound 6Z cymetrine, compound 6Z benzulide, compound 6Z dimetamethrin, compound 6ZMCPA, compound 6 / MCPB, compound 6Z etozanzad, compound 6Z cumylron, compound 6Z benzobicyclone, compound 6Z pyriftalide, compound 6Z bispyribak , Compound 6Z pyrachlor, Compound 6Z Anilophos, Compound 6ZOK—701, Compound 6Z Penoxsulam, Compound 6 ZAVH—301, Compound 6ZKUH—021, Compound 6ZTH—547, Compound 6ΖVentazone, Compound 6Ζ2, 4—ΡΑ, Compound 6ΖMetamihop, Compound 6ΖFrucetosulfuron, Compound 6ΖΗΟΚ201, Compound 6ΖMesotrione, Compound 6Ζpropanyl, Compound 6Ζ Kinoclamine, y compound 6 / chromeprop,
化合物 7Ζビラゾスルフロンェチル、化合物 7Ζベンスルフロンメチル、化合物 7Ζシ ノスルフロン、化合物 7Ζイマゾスルフロン、化合物 7Ζアジムスルフロン、化合物 7Ζ ハロスルフロンメチル、化合物 7Ζシクロスルファムロン、化合物 7Ζエトキシスルフロ ン、化合物 7Ζピラゾレート、化合物 7Ζビラゾキシフェン、化合物 7Ζベンゾフエナツ プ、化合物 7Ζブロモブチド、化合物 7Ζナプロア二リド、化合物 7Ζプレチラクロール 、化合物 7Ζブタクロール、化合物 7Ζテニルクロール、化合物 7ZCNP、化合物 7Z クロメトキシニル、化合物 7Zビフヱノックス、化合物 7Zォキサジァゾン、化合物 7Z ォキサジアルギル、化合物 7Zペントキサゾン、化合物 7Zカフエンストロール、化合 物 7Zォキサジクロメホン、化合物 7Zインダノフアン、化合物 7Zピリミノバックメチル 、化合物 7Zシハロホップブチル、化合物 7Zフェントラザミド、化合物 7Zメフエナセ ット、化合物 7Zブテナクロール、化合物 7Zジチォピル、化合物 7Zベンフレセート、 化合物 7Zピリプチカルプ、化合物 7Zベンチォカーブ、化合物 7Zモリネート、化合 物 7Zブタミフォス、化合物 7Zキンク口ラック、化合物 7Zシンメスリン、化合物 7Zシ メトリン、化合物 7Zベンスリド、化合物 7Zジメタメトリン、化合物 7ZMCPA、化合物 7/MCPB,化合物 7Zエトベンザ-ド、化合物 7Zクミルロン、化合物 7Zベンゾビ シクロン、化合物 7Zピリフタリド、化合物 7Zビスピリバック、化合物 7Zピラクロ-ル、 化合物 7Zァニロホス、化合物 7ZOK— 701、化合物 7Zぺノキススラム、化合物 7 ZAVH— 301、化合物 7ZKUH— 021、化合物 7ZTH— 547、化合物 7Zベンタ ゾン、化合物 7Z2, 4— PA、化合物 7Zメタミホップ、化合物 7Zフルセトスルフロン、 化合物 7ZHOK— 201、化合物 7Zメソトリオン、化合物 7Zプロパニル、化合物 7Z キノクラミン、ィ匕合物 7/クロメプロップ、 Compound 7ΖVilazosulfuronethyl, Compound 7ΖBensulfuron methyl, Compound 7ΖSinosulfuron, Compound 7ΖImazosulfuron, Compound 7ΖAzimusulfuron, Compound 7ΖHalosulfuron methyl, Compound 7ΖCyclosulfamlone, Compound 7ΖEthoxysulfuron, Compound 7Ζ Pyrazolate, Compound 7ΖBrazoxifene, Compound 7ΖBenzophenap, Compound 7ΖBromobutide, Compound 7ΖNaproanilide, Compound 7ΖPretilachlor, Compound 7ΖButachlor, Compound 7ΖTenylchlor, Compound 7ZCNP, Compound 7Z Clomethoxynil, Compound 7Z Bif ヱ nox, Compound 7Z Oxadizone Oxadialgyl, Compound 7Z Pentoxazone, Compound 7Z Caffentrol, Compound 7Z Oxadichromemephone, Compound 7Z Indanophane, Compound 7Z Pyrimino Cicmethyl, Compound 7Z Cihalohop Butyl, Compound 7Z Fentrazamide, Compound 7Z Mefenacet, Compound 7Z Butenachlor, Compound 7Z Dithiopyr, Compound 7Z Benfrate, Compound 7Z Pipipipalp, Compound 7Z Benchocarb, Compound 7Z Molinate, Compound 7Z Butamiphos, Compound 7Z Kink Mouth Rack, Compound 7Z Simmesrin, Compound 7Z Cymethrin, Compound 7Z Benthuride, Compound 7Z Dimetamethrin, Compound 7ZMCPA, Compound 7 / MCPB, Compound 7Z Etobenzazade, Compound 7Z Cumylron, Compound 7Z Benzobicyclone, Compound 7Z Pyriphthalide, Compound 7Z Bispyribac, Compound 7Z pyrachlor, Compound 7Z Anilophos, Compound 7ZOK—701, Compound 7Z Penoxsulam, Compound 7 ZAVH—301, Compound 7ZKUH—021, Compound 7ZTH—547, Compound 7Z Ventazone, Compound 7Z2, 4— PA, compound 7Z metamihop, compound 7Z flucetosulfuron, compound 7ZHOK—201, compound 7Z mesotrione, compound 7Z propanyl, compound 7Z quinocuramin, compound 7 / chromeprop,
化合物 8Zビラゾスルフロンェチル、化合物 8Zベンスルフロンメチル、化合物 8Zシ ノスルフロン、化合物 8Zイマゾスルフロン、化合物 8Zアジムスルフロン、化合物 8Z ハロスルフロンメチル、化合物 8Zシクロスルファムロン、化合物 8Zエトキシスルフロ ン、化合物 8Zピラゾレート、化合物 8Zビラゾキシフェン、化合物 8Zベンゾフエナツ プ、化合物 8Zブロモブチド、化合物 8Zナプロア二リド、化合物 8Zプレチラクロール 、化合物 8Zブタクロール、化合物 8Zテニルクロール、化合物 8ZCNP、化合物 8Z クロメトキシュル、化合物 8Zビフヱノックス、化合物 8Zォキサジァゾン、化合物 8Z ォキサジアルギル、化合物 8Zペントキサゾン、化合物 8Zカフエンストロール、化合 物 8Zォキサジクロメホン、化合物 8Zインダノフアン、化合物 8Zピリミノバックメチル 、化合物 8Zシハロホップブチル、化合物 8Zフェントラザミド、化合物 8Zメフエナセ ット、化合物 8Zブテナクロール、化合物 8Zジチォピル、化合物 8Zベンフレセート、 化合物 8Zピリプチカルプ、化合物 8Zベンチォカーブ、化合物 8Zモリネート、化合 物 8Zブタミフォス、化合物 8Zキンク口ラック、化合物 8Zシンメスリン、化合物 8Zシ メトリン、化合物 8Zベンスリド、化合物 8Zジメタメトリン、化合物 8ZMCPA、化合物 8/MCPB,化合物 8Zエトベンザ-ド、化合物 8Zクミルロン、化合物 8Zベンゾビ シクロン、化合物 8Zピリフタリド、化合物 8Zビスピリバック、化合物 8Zピラクロ-ル、 化合物 8Zァニロホス、化合物 8ZOK— 701、化合物 8Zぺノキススラム、化合物 8 ZAVH— 301、化合物 8ZKUH— 021、化合物 8ZTH— 547、化合物 8Zベンタ ゾン、化合物 8Z2, 4— PA、化合物 8Zメタミホップ、化合物 8Zフルセトスルフロン、 化合物 8ZHOK— 201、化合物 8Zメソトリオン、化合物 8Zプロパニル、化合物 8Z キノクラミン、ィ匕合物 8/クロメプロップ、 Compound 8Z Virazosulfuronethyl, Compound 8Z Bensulfuron methyl, Compound 8Z Sinosulfuron, Compound 8Z Imazosulfuron, Compound 8Z Azimusulfuron, Compound 8Z Halosulfuron methyl, Compound 8Z Cyclosulfamlone, Compound 8Z Ethoxysulfuron , Compound 8Z Pyrazolate, Compound 8Z Birazoxifene, Compound 8Z Benzophenap, Compound 8Z Bromobutide, Compound 8Z Naproanilide, Compound 8Z Pretilachlor, Compound 8Z Butachlor, Compound 8Z Tenenylchlor, Compound 8ZCNP, Compound 8Z Chromethoxyl, Compound 8Z Biphenolox, Compound 8Z Oxadiazone, Compound 8Z Oxadialgyl, Compound 8Z Pentoxazone, Compound 8Z Cafenstrol, Compound 8Z Oxadiclomephone, Compound 8Z Indanophane, Compound 8Z Pyriminobacmethyl, Compound 8Z Cihalohop Butyl, Compound 8Z Fentrazamide, Compound 8Z Mefenacet, Compound 8Z Butenachlor, Compound 8Z Dithiopyr, Compound 8Z Benfresate, Compound 8Z Pirtipalp, Compound 8Z Bengiocurve, Compound 8Z Molinate, Compound 8Z Butamiphos, Compound 8Z Kink Mouth Rack, Compound 8Z Simmesrin, Compound 8Z Cymethrin, Compound 8Z Benthlide, Compound 8Z Dimetamethrin, Compound 8ZMCPA, Compound 8 / MCPB, Compound 8Z Etobenzad, Compound 8Z Cumylron, Compound 8Z Benzobicyclone, Compound 8Z Pyriphthalide, Compound 8Z Bispyribac, Compound 8Z Pyracol, Compound 8Z Anilophos, Compound 8ZOK—701, Compound 8Z Penoxsulam, Compound 8 ZAVH—301, Compound 8ZKUH—021, Compound 8ZTH—547, Compound 8Z Ventazone, Compound 8Z2 , 4—PA, compound 8Z metamihop, compound 8Z flucetosulfuron, compound 8ZHOK—201, compound 8Z mesotrione, compound 8Z propanyl, compound 8Z quinoclamine, compound 8 / chromeprop,
化合物 9Zビラゾスルフロンェチル、化合物 9Zベンスルフロンメチル、化合物 9Zシ ノスルフロン、化合物 9Zイマゾスルフロン、化合物 9Zアジムスルフロン、化合物 9Z ハロスルフロンメチル、化合物 9Zシクロスルファムロン、化合物 9Zエトキシスルフロ ン、化合物 9Zピラゾレート、化合物 9Zビラゾキシフェン、化合物 9Zベンゾフエナツ プ、化合物 9Zブロモブチド、化合物 9Zナプロア二リド、化合物 9Zプレチラクロール 、化合物 9Zブタクロール、化合物 9Zテニルクロール、化合物 9ZCNP、化合物 9Z クロメトキシュル、化合物 9Zビフヱノックス、化合物 9Zォキサジァゾン、化合物 9Z ォキサジアルギル、化合物 9Zペントキサゾン、化合物 9Zカフエンストロール、化合 物 9Zォキサジクロメホン、化合物 9Zインダノフアン、化合物 9Zピリミノバックメチル 、化合物 9Zシハロホップブチル、化合物 9Zフェントラザミド、化合物 9Zメフエナセ ット、化合物 9Zブテナクロール、化合物 9Zジチォピル、化合物 9Zベンフレセート、 化合物 9Zピリプチカルプ、化合物 9Zベンチォカーブ、化合物 9Zモリネート、化合 物 9Zブタミフォス、化合物 9Zキンク口ラック、化合物 9Zシンメスリン、化合物 9Zシ メトリン、化合物 9Zベンスリド、化合物 9Zジメタメトリン、化合物 9ZMCPA、化合物 9/MCPB,化合物 9Zエトベンザ-ド、化合物 9Zクミルロン、化合物 9Zベンゾビ シクロン、化合物 9Zピリフタリド、化合物 9Zビスピリバック、化合物 9Zピラクロ-ル、 化合物 9Zァニロホス、化合物 9ZOK— 701、化合物 9Zぺノキススラム、化合物 9 ZAVH— 301、化合物 9ZKUH— 021、化合物 9ZTH— 547、化合物 9Zベンタ ゾン、化合物 9Z2, 4— PA、化合物 9Zメタミホップ、化合物 9Zフルセトスルフロン、 化合物 9ZHOK— 201、化合物 9Zメソトリオン、化合物 9Zプロパニル、化合物 9Z キノクラミン、ィ匕合物 9/クロメプロップ、 Compound 9Z Virazosulfuronethyl, Compound 9Z Bensulfuron methyl, Compound 9Z Cynosulfuron, Compound 9Z Imazosulfuron, Compound 9Z Azimusulfuron, Compound 9Z Halosulfuron methyl, Compound 9Z cyclosulfamuron, Compound 9Z ethoxysulfuron, Compound 9Z Pyrazolate, Compound 9Z Birazoxifene, Compound 9Z Benzophenap, Compound 9Z Bromobutide, Compound 9Z Naproanilide, Compound 9Z Pretilachlor, Compound 9Z Butachlor, Compound 9Z Tenenylchlor, Compound 9ZCNP, Compound 9Z Chromethoxyur, Compound 9Z Bifoxane, Compound 9Z Oxadizone Compound 9Z Oxadialgyl, Compound 9Z Pentoxazone, Compound 9Z Caffentrol, Compound 9Z Oxadichromeme, Compound 9Z Indanophane, Compound 9Z Pyriminobackmethy Compound 9Z cyhalofop-butyl, compound 9Z fentrazamide, compound 9Z Mefuenase , Compound 9Z butenachlor, compound 9Z dithiopyr, compound 9Z benfresate, compound 9Z piripycarp, compound 9Z beni curve, compound 9Z molinate, compound 9Z butamifos, compound 9Z kink mouth rack, compound 9Z cinmethrin, compound 9Z simethrin, compound 9Z benzulide , Compound 9Z Dimetamethrin, Compound 9ZMCPA, Compound 9 / MCPB, Compound 9Z Etobenzad, Compound 9Z Cumyluron, Compound 9Z Benzobicyclone, Compound 9Z Pyriphthalide, Compound 9Z Bispyribac, Compound 9Z Pyrochlor, Compound 9Z Anilophos, Compound 9ZOK—701 , Compound 9Z Penoxsulam, Compound 9 ZAVH—301, Compound 9ZKUH—021, Compound 9ZTH—547, Compound 9Z Ventazone, Compound 9Z2, 4-—PA, Compound 9Z Metamihop, Compound 9Z flucetosulfuron, Compound 9ZHOK—201, Compound 9Z Mesoto On compound 9Z propanil, compound 9Z quinoclamine, it 匕合 compound 9 / clomeprop,
化合物 10Zビラゾスルフロンェチル、化合物 10Zベンスルフロンメチル、化合物 10Compound 10Z Virazosulfuronethyl, Compound 10Z Bensulfuron methyl, Compound 10
Zシノスルフロン、化合物 10Zイマゾスルフロン、化合物 10Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 10Zハロスルフロンメチル、化合物 10Zシクロスルファムロン、化合物 10Zエト キシスルフロン、化合物 10Zピラゾレート、化合物 10Zビラゾキシフェン、化合物 10 Zベンゾフエナップ、化合物 10Zブロモブチド、化合物 10Zナプロア-リド、化合物 10Zプレチラクロール、化合物 10Zブタクロール、化合物 10Zテュルクロール、ィ匕 合物 10ZCNP、化合物 ΙΟΖクロメトキシェル、化合物 10Zビフ ノックス、化合物 1 οΖォキサジァゾン、化合物 ιοΖォキサジアルギル、化合物 ιοΖペントキサゾン、化 合物 10Zカフエンストロール、化合物 10Zォキサジクロメホン、化合物 10Zインダノ ファン、化合物 ιοΖピリミノバックメチル、化合物 ιοΖシハロホップブチル、化合物 1 οΖフェントラザミド、化合物 ιοΖメフヱナセット、化合物 ιοΖブテナクロール、化合 物 ιοΖジチォピル、化合物 ιοΖベンフレセート、化合物 ιοΖピリブチカルプ、化合 物 ιοΖベンチォカーブ、化合物 ιοΖモリネート、化合物 ιοΖブタミフォス、化合物 1 οΖキンク口ラック、化合物 ιοΖシンメスリン、化合物 ιοΖシメトリン、化合物 ιοΖベ ンスリド、化合物 ιοΖジメタメトリン、化合物 IOZMCPA、化合物 IOZMCPB、化合 物 lozエトベンザ-ド、化合物 10Zクミルロン、化合物 10Zベンゾビシクロン、化合 物 ιοΖピリフタリド、化合物 ιοΖビスピリバック、化合物 ιοΖピラクロ-ル、化合物 1 OZァ-ロホス、化合物 10ΖΟΚ— 701、化合物 10Zぺノキススラム、化合物 10ZA VH— 301、化合物 10ZKUH— 021、化合物 ΙθΖΤΗ— 547、化合物 ΙθΖベンタ ゾン、化合物 10Z2, 4— PA、化合物 10Zメタミホップ、化合物 10Zフルセトスルフ ロン、化合物 10ZHOK— 201、化合物 10Zメソトリオン、化合物 10Zプロパエル、 化合物 10Zキノクラミン、化合物 10Zクロメプロップ、 Z Sinosulfuron, Compound 10Z Imazosulfuron, Compound 10Z Azimusulfuron, Compound 10Z Halosulfuron methyl, Compound 10Z Cyclosulfamlone, Compound 10Z Ethoxysulfuron, Compound 10Z Pyrazolate, Compound 10Z Birazoxifen, Compound 10 Z Benzophenap, Compound 10Z Bromobutide, Compound 10Z Napro-Alide, Compound 10Z Pretilachlor, Compound 10Z Butachlor, Compound 10Z Turculol, Compound 10ZCNP, Compound ΙΟΖChromethoxyl, Compound 10Z Bif Knox, Compound 1 οΖoxadiazone, Compound ιοΖoxadialgyl, Compound ιοΖ , Compound 10Z Caffentrol, Compound 10Z Oxadiclomephone, Compound 10Z Indanophan, Compound ιοΖPyriminobacmethyl, Compound ιοΖCihalohopbutyl, Compound 1 οΖ Fentrazamide, Compound ιοΖ Mefnaset, Compound ιοΖ Butenachlor, Compound ιοΖ Dithiopyr, Compound ιοΖ Benfrecetate, Compound ιοΖ Pyributicalp, Compound ιοΖ Benchabure, Compound ιοΖ Molinate, Compound ιοΖ Butamiphos, Compound ιοΖ Butamiphos, Compound 1 , Compound ιοΖ Bensuride, Compound ιοΖ Dimetamethrin, Compound IOZMCPA, Compound IOZMCPB, Compound loz Etobenzad, Compound 10Z Cumyllon, Compound 10Z Benzobicyclone, Compound OZ-Lofos, Compound 10ΖΟΚ-701, Compound 10Z Penoxsulam, Compound 10ZA VH—301, Compound 10ZKUH—021, Compound ΙθΖΤΗ-547, Compound ΙθΖBentazone, Compound 10Z2, 4-PA, Compound 10Z Metamihop, Compound 10Z Flucetosulf Ron, Compound 10ZHOK—201, Compound 10Z Mesotrione, Compound 10Z Propaer, Compound 10Z Quinocamine, Compound 10Z Chromepprop,
化合物 11 Zビラゾスルフロンェチル、化合物 liZベンスルフロンメチル、化合物 11 Zシノスルフロン、化合物 liZイマゾスルフロン、化合物 liZアジムスルフロン、ィ匕 合物 11 Zハロスルフロンメチル、化合物 liZシクロスルファムロン、化合物 liZエト キシスルフロン、化合物 liZピラゾレート、化合物 11 Zビラゾキシフェン、化合物 11 Zベンゾフエナップ、化合物 liZブロモブチド、化合物 liZナプロア-リド、化合物 liZプレチラクロール、化合物 liZブタクロール、化合物 liZテュルクロール、ィ匕 合物 IIZCNP、化合物 liZクロメトキシェル、化合物 liZビフ ノックス、化合物 1 1Zォキサジァゾン、化合物 11 Zォキサジアルギル、化合物 liZペントキサゾン、化 合物 liZカフエンストロール、化合物 liZォキサジクロメホン、化合物 liZインダノ ファン、化合物 liZピリミノバックメチル、化合物 liZシハロホップブチル、化合物 1 1Zフェントラザミド、化合物 liZメフヱナセット、化合物 liZブテナクロール、化合 物 liZジチォピル、化合物 liZベンフレセート、化合物 liZピリブチカルプ、化合 物 liZベンチォカーブ、化合物 liZモリネート、化合物 liZブタミフォス、化合物 1 1Zキンク口ラック、化合物 liZシンメスリン、化合物 liZシメトリン、化合物 liZベ ンスリド、化合物 liZジメタメトリン、化合物 IIZMCPA、化合物 IIZMCPB、化合 物 liZエトベンザ-ド、化合物 liZクミルロン、化合物 liZベンゾビシクロン、化合 物 liZピリフタリド、化合物 liZビスピリバック、化合物 liZピラクロ-ル、化合物 1Compound 11 Z virazosulfuronethyl, compound liZ bensulfuron methyl, compound 11 Z cinnosulfuron, compound liZ imazosulfuron, compound liZ azimylsulfuron, compound 11 Z halosulfuron methyl, compound liZ cyclosulfamuron, compound liZ etoxysulfuron , Compound liZ Pyrazolate, Compound 11 Z Birazoxifen, Compound 11 Z Benzofenap, Compound liZ Bromobutide, Compound liZ Naproa-Lide, Compound liZ Pretilachlor, Compound liZ Butachlor, Compound liZ Turculol, Compound IIZCNP, Compound liZ Chrometoxy Shell, Compound liZ Bif Knox, Compound 1 1Z Oxadiazone, Compound 11 Z Oxadialgyl, Compound liZ Pentoxazone, Compound liZ Caffentrol, Compound liZ Oxadichromemephone, Compound liZ Indanophan, Compound liZ pyriminobacmethyl, compound liZ cyhalohop butyl, compound 1 1Z fentolazamide, compound liZ mefnaset, compound liZ butenachlor, compound liZ dithiopyr, compound liZ benferate, compound liZ pyributicalp, compound liZ bench curve, compound liZ molinate, compound liZ Butamifos, Compound 1 1Z Kink Mouth Rack, Compound liZ Simmesrin, Compound liZ Cymethrin, Compound liZ Benslide, Compound liZ Dimetamethrin, Compound IIZMCPA, Compound IIZMCPB, Compound liZ Etobenzazade, Compound liZ Cumylron, Compound liZ benzobicyclon, Compound Compound liZ pyriftalide, compound liZ bispyribac, compound liZ pyrachlor, compound 1
1Zァ-ロホス、化合物 11ΖΟΚ—701、化合物 llZぺノキススラム、化合物 11ZA VH— 301、化合物 11ZKUH— 021、化合物 llZTH— 547、化合物 llZベンタ ゾン、化合物 11Z2, 4— PA、化合物 llZメタミホップ、化合物 11Zフルセトスルフ ロン、化合物 11ZHOK— 201、化合物 11Zメソトリオン、化合物 11Zプロパエル、 化合物 11 Zキノクラミン、化合物 11Zクロメプロップ、 1Z-lophos, Compound 11ΖΟΚ-701, Compound llZ Penoxsulam, Compound 11ZA VH—301, Compound 11ZKUH—021, Compound llZTH—547, Compound llZ Ventazone, Compound 11Z2, 4—PA, Compound llZ Metamihop, Compound 11Z Furcetosulf Ron, Compound 11ZHOK—201, Compound 11Z Mesotrione, Compound 11Z Propael, Compound 11 Z Quinocamine, Compound 11Z Chromepprop,
化合物 12Zビラゾスルフロンェチル、化合物 12Zベンスルフロンメチル、化合物 12 Zシノスルフロン、化合物 12Zイマゾスルフロン、化合物 12Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 12Zハロスルフロンメチル、化合物 12Zシクロスルファムロン、化合物 12Zエト キシスルフロン、化合物 12Zピラゾレート、化合物 12Zビラゾキシフェン、化合物 12 Zベンゾフエナップ、化合物 12Zブロモブチド、化合物 12Zナプロア-リド、化合物 12Zプレチラクロール、化合物 12Zブタクロール、化合物 12Zテュルクロール、ィ匕 合物 12ZCNP、化合物 12Zクロメトキシェル、化合物 12Zビフ ノックス、化合物 1 2Zォキサジァゾン、化合物 12Zォキサジアルギル、化合物 12Zペントキサゾン、化 合物 12Zカフエンストロール、化合物 12Zォキサジクロメホン、化合物 12Zインダノ ファン、化合物 12Zピリミノバックメチル、化合物 12Zシハロホップブチル、化合物 1 2Zフェントラザミド、化合物 12Zメフヱナセット、化合物 12Zブテナクロール、化合 物 12Zジチォピル、化合物 12Zベンフレセート、化合物 12Zピリブチカルプ、化合 物 12Zベンチォカーブ、化合物 12Zモリネート、化合物 12Zブタミフォス、化合物 1 2Zキンク口ラック、化合物 12Zシンメスリン、化合物 12Zシメトリン、化合物 12Zベ ンスリド、化合物 12Zジメタメトリン、化合物 12ZMCPA、化合物 12ZMCPB、化合 物 12Zエトベンザ-ド、化合物 12Zクミルロン、化合物 12Zベンゾビシクロン、化合 物 12Zピリフタリド、化合物 12Zビスピリバック、化合物 12Zピラクロ-ル、化合物 1 2Zァ-ロホス、化合物 12ZOK— 701、化合物 12Zぺノキススラム、化合物 12ZA VH— 301、ィ匕合物 12ZKUH— 021、化合物 12ZTH— 547、化合物 12Zベンタ ゾン、化合物 12Z2, 4— ΡΑ、化合物 12Zメタミホップ、化合物 12Zフルセトスルフ ロン、化合物 12ZHOK— 201、化合物 12Zメソトリオン、化合物 12Zプロパエル、 化合物 12Ζキノクラミン、化合物 12Ζクロメプロップ、 Compound 12Z Vilasulfuronethyl, Compound 12Z Bensulfuron methyl, Compound 12 Z Sinosulfuron, Compound 12Z Imazosulfuron, Compound 12Z Azimusulfuron, Compound 12Z Halosulfuron methyl, Compound 12Z Cyclosulfamlone, Compound 12Z Ethoxysulfuron, Compound 12Z Pyrazolate, Compound 12Z Birazoxifen, Compound 12 Z Benzophenap, Compound 12Z Bromobutide, Compound 12Z Naproalide, Compound 12Z Pretilachlor, Compound 12Z Butachlor, Compound 12Z Turchlor, Compound 12ZCNP, Compound 12Z Clomethoxyl, Compound 12Z Bifunox, Compound 1 2Z Oxadiazone, Compound 12Z Oxadialgyl, Compound 12Z Pentoxazone , Compound 12Z Caffentrol, Compound 12Z Oxadichromemephone, Compound 12Z Indanophan, Compound 12Z Pyriminobacmethyl, Compound 12Z Cihalohopbutyl, Compound 1 2Z Fentraza Compound, 12Z Mefnaset, Compound 12Z Butenachlor, Compound 12Z Dithiopyr, Compound 12Z Benfresate, Compound 12Z Pyributicalp, Compound 12Z Benchacurve, Compound 12Z Molinate, Compound 12Z Butamifos, Compound 1 2Z Kink Luck, Compound 12Z Synmethrin, Compound 12Z Cymethrin , Compound 12Z Bensulide, Compound 12Z Dimetamethrin, Compound 12ZMCPA, Compound 12ZMCPB, Compound 12Z Etobenzad, Compound 12Z Cumyllon, Compound 12Z Benzobicyclone, Compound 12Z Pyriphthalide, Compound 12Z Bispyribac, Compound 12Z Pyracol, Compound 1 2Zarophos, Compound 12ZOK—701, Compound 12Z Penoxsulam, Compound 12ZA VH—301, Compound 12ZKUH—021, Compound 12ZTH—547, Compound 12Z Ventazone, Compound 12Z2, 4——, Compound 12Z Metamihop, Compound 12Z full Cetosulfuron, Compound 12ZHOK—201, Compound 12Z Mesotrione, Compound 12Z Propael, Compound 12ΖQuinoclamine, Compound 12ΖChromepprop,
化合物 13Zビラゾスルフロンェチル、化合物 13Zベンスルフロンメチル、化合物 13 Ζシノスルフロン、化合物 13Zイマゾスルフロン、化合物 13Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 13Zハロスルフロンメチル、化合物 13Zシクロスルファムロン、化合物 13Zエト キシスルフロン、化合物 13Zピラゾレート、化合物 13Zビラゾキシフェン、化合物 13 Ζベンゾフエナップ、化合物 13Zブロモブチド、化合物 13Zナプロア-リド、化合物 13Zプレチラクロール、化合物 13Zブタクロール、化合物 13Zテュルクロール、ィ匕 合物 13ZCNP、化合物 13Zクロメトキシェル、化合物 13Zビフ ノックス、化合物 1 3Zォキサジァゾン、化合物 13Zォキサジアルギル、化合物 13Zペントキサゾン、化 合物 13Zカフエンストロール、化合物 13Zォキサジクロメホン、化合物 13Zインダノ ファン、化合物 13Zピリミノバックメチル、化合物 13Zシハロホップブチル、化合物 1 3Zフェントラザミド、化合物 13Zメフヱナセット、化合物 13Zブテナクロール、化合 物 13Zジチォピル、化合物 13Zベンフレセート、化合物 13Zピリブチカルプ、化合 物 13Zベンチォカーブ、化合物 13Zモリネート、化合物 13Zブタミフォス、化合物 1 3Zキンク口ラック、化合物 13Zシンメスリン、化合物 13Zシメトリン、化合物 13Zベ ンスリド、化合物 13Zジメタメトリン、化合物 13ZMCPA、化合物 13ZMCPB、化合 物 13Zエトベンザ-ド、化合物 13Zクミルロン、化合物 13Zベンゾビシクロン、化合 物 13Zピリフタリド、化合物 13Zビスピリバック、化合物 13Zピラクロ-ル、化合物 1 3Zァ-ロホス、化合物 13ZOK— 701、化合物 13Zぺノキススラム、化合物 13ZA VH— 301、ィ匕合物 13ZKUH— 021、化合物 13ZTH— 547、化合物 13Zベンタ ゾン、化合物 13Z2, 4— ΡΑ、化合物 13Zメタミホップ、化合物 13Zフルセトスルフ ロン、化合物 13ZHOK— 201、化合物 13Zメソトリオン、化合物 13Zプロパエル、 化合物 13Zキノクラミン、化合物 13Zクロメプロップ、化合物 14Zビラゾスルフロンェ チル、化合物 14Zベンスルフロンメチル、化合物 14Zシノスルフロン、化合物 14Z イマゾスルフロン、化合物 14Zアジムスルフロン、化合物 14Zハロスルフロンメチル、 化合物 14Zシクロスルファムロン、化合物 14Zェトキシスルフロン、化合物 14Zビラ ゾレート、化合物 14Zビラゾキシフェン、化合物 14Zベンゾフヱナップ、化合物 14Z ブロモブチド、化合物 14Zナプロア-リド、化合物 14Zプレチラクロール、化合物 14 Ζブタクロール、化合物 14Zテュルクロール、化合物 14ZCNP、化合物 14Zクロメ トキシェル、化合物 14Zビフヱノックス、化合物 14Zォキサジァゾン、化合物 14Zォ キサジアルギル、化合物 14Zペントキサゾン、化合物 14Zカフエンストロール、化合 物 14Zォキサジクロメホン、化合物 14Zインダノフアン、化合物 14Zピリミノバックメ チル、化合物 14Zシハロホップブチル、化合物 14Zフェントラザミド、化合物 14Zメ フエナセット、化合物 14Zブテナクロール、化合物 14Zジチォピル、化合物 14Zベ ンフレセート、化合物 14Zピリブチカルプ、化合物 14Zベンチォカーブ、化合物 14 Zモリネート、化合物 14Zブタミフォス、化合物 14Zキンク口ラック、化合物 14Zシン メスリン、化合物 14Zシメトリン、化合物 14Zベンスリド、化合物 14Zジメタメトリン、 化合物 14ZMCPA、化合物 14ZMCPB、化合物 14Zエトベンザニド、化合物 14 Zクミルロン、化合物 14Zベンゾビシクロン、化合物 14Zピリフタリド、化合物 14Zビ スピリバック、化合物 14Zピラクロ-ル、化合物 14Zァ-ロホス、化合物 14ZOK— 701、化合物 14Zぺノキススラム、化合物 14ZAVH— 301、化合物 14ZKUH— 0 21、化合物 14ZTH— 547、化合物 14Zベンタゾン、化合物 14Z2, 4— PA、化合 物 14Zメタミホップ、化合物 14Zフルセトスルフロン、化合物 14ZHOK— 201、ィ匕 合物 14Zメソトリオン、化合物 14Zプロパニル、化合物 14Zキノクラミン、化合物 14 /クロメプロップ、 Compound 13Z Vilasulfuronethyl, Compound 13Z Bensulfuron methyl, Compound 13 ΖSinosulfuron, Compound 13Z Imazosulfuron, Compound 13Z Azimusulfuron, Compound 13Z Halosulfuron methyl, Compound 13Z Cyclosulfamlone, Compound 13Z Etoxysulfuron, Compound 13Z pyrazolate, compound 13Z birazoxifene, compound 13 Ζ benzophenap, compound 13Z bromobutide, compound 13Z naproalide, compound 13Z pretilachlor, compound 13Z butachlor, compound 13Z turcurol, compound 13ZCNP, compound 13Z cromethoxyl, compound 13Z Bif Knox, Compound 1 3Z Oxadiazone, Compound 13Z Oxadialgyl, Compound 13Z Pentoxazone, Compound 13Z Caffentrol, Compound 13Z Oxadiclomephone, Compound 13Z Indanophan, Compound 13Z Pyriminobacmethyl, Compound 13Z Cihalohop Butyl, Compound 1 3Z Fentrazamide , Compound 13Z mefnaset, Compound 13Z butenachlor, Compound 13Z Dithiopyr, Compound 13Z Benfresate, Compound 13Z Pyributicalp, Compound 13Z Benchacarb, Compound 13Z Molinate, Compound 13Z Butamifos, Compound 1 3Z Kinkucklak, Compound 13Z Cymmethrin, Compound 13Z Cymethrin Compound 13Z Benslide, Compound 13Z Dimetamethrin, Compound 13ZMCPA, Compound 13ZMCPB, Compound 13Z Etobenzad, Compound 13Z Cumyllon, Compound 13Z Benzobicyclone, Compound 13Z Pyriphthalide, Compound Compound 13Z Bispyribac, Compound 13Z Pyrochlor, Compound 1 3Z-arophos, Compound 13ZOK—701, Compound 13Z Penoxsulam, Compound 13ZA VH—301, Compound 13ZKUH—021, Compound 13ZTH—547, Compound 13Z Ventazone , Compound 13Z2, 4—ΡΑ, Compound 13Z Metamihop, Compound 13Z Flucetosulfuron, Compound 13ZHOK—201, Compound 13Z Mesotrione, Compound 13Z Propael, Compound 13Z Quinocamine, Compound 13Z Chlomeprop, Compound 14Z Virazosulfuronethyl, Compound 14Z Bensulfuron Methyl, Compound 14Z Sinosulfuron, Compound 14Z Imazosulfuron, Compound 14Z Azimusulfuron, Compound 14Z Halosulfuron Methyl, Compound 14Z Cyclosulfamlone, Compound 14Z Ethoxysulfuron, Compound 14Z Villa zolate, Compound 14Z Birazoxifen, Compound 14Z Benzophenap , Compound 14Z Bromobutide, Compound 14Z Naproa-Lide, Compound 14Z Pretilachlor, Compound 14 Ζ Butachlor, Compound 14Z Turculol, Compound 14ZCNP, Compound 14Z Chrometoxichel, Compound 14Z Bif ヱ nox, Compound 14Z Oxadiazone, Compound 14Z Oxadialgyl, Compound 14Z Pentoxazone Compound 14Z Caffentrol, Compound 14Z Oxadichromemephone, Compound 14Z Indanophane, Compound 14Z Pyriminobacmethyl, Compound 14Z Cyhalohop Butyl, Compound 14Z Fentrazamide, Compound 14Z Mefenacet, Compound 14Z Butenachlor, Compound 14Z Dithiopyr, Compound 14Z Benfrate, Compound 14Z Pyributicalp, Compound 14Z Benchocurve, Compound 14Z Molinate, Compound 14Z Butamiphos, Compound 14Z Kink Mouth Rack, Compound 14Z Thin Mesulin, Compound 14Z Cimetrine, Compound 14Z Benthuride, Compound 14Z Dimetamethrin, Compound 14ZMCPA, Compound 14ZMCPB, Compound 14Z Etobenzanide, Compound 14 Z Cumyluron, Compound 14Z Benzobicyclone, Compound 14Z Pyriphthalide, Compound 14Z Bispiriback, Compound 14Z Pyracrole , Compound 14Zarofos, Compound 14ZOK—701, Compound 14Z Penoxsulam, Compound 14ZAVH—301, Compound 14ZKUH—021, Compound 14ZTH—547, Compound 14Z Ventazone, Compound 14Z2, 4—PA, Compound 14Z Metamihop, Compound 14Z flucetosulfuron, compound 14ZHOK—201, compound 14Z mesotrione, compound 14Z propanyl, compound 14Z quinoclamine, compound 14 / chromepprop,
化合物 15Zビラゾスルフロンェチル、化合物 15Zベンスルフロンメチル、化合物 15 Zシノスルフロン、化合物 15Zイマゾスルフロン、化合物 15Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 15Zハロスルフロンメチル、化合物 15Zシクロスルファムロン、化合物 15Zエト キシスルフロン、化合物 15Zピラゾレート、化合物 15Zビラゾキシフェン、化合物 15 Zベンゾフエナップ、化合物 15Zブロモブチド、化合物 15Zナプロア-リド、化合物 15Zプレチラクロール、化合物 15Zブタクロール、化合物 15Zテュルクロール、ィ匕 合物 15ZCNP、化合物 15Zクロメトキシェル、化合物 15Zビフ ノックス、化合物 1 5Zォキサジァゾン、化合物 15Zォキサジアルギル、化合物 15Zペントキサゾン、化 合物 15Zカフエンストロール、化合物 15Zォキサジクロメホン、化合物 15Zインダノ ファン、化合物 15Zピリミノバックメチル、化合物 15Zシハロホップブチル、化合物 1 5Zフェントラザミド、化合物 15Zメフヱナセット、化合物 15Zブテナクロール、化合 物 15Zジチォピル、化合物 15Zベンフレセート、化合物 15Zピリブチカルプ、化合 物 15Zベンチォカーブ、化合物 15Zモリネート、化合物 15Zブタミフォス、化合物 1 5Zキンク口ラック、化合物 15Zシンメスリン、化合物 15Zシメトリン、化合物 15Zベ ンスリド、化合物 15Zジメタメトリン、化合物 15ZMCPA、化合物 15ZMCPB、化合 物 15Zエトベンザ-ド、化合物 15Zクミルロン、化合物 15Zベンゾビシクロン、化合 物 15Zピリフタリド、化合物 15Zビスピリバック、化合物 15Zピラクロ-ル、化合物 1 5Zァ-ロホス、化合物 15ZOK— 701、化合物 15Zぺノキススラム、化合物 15ZA VH— 301、ィ匕合物 15ZKUH— 021、化合物 15ZTH— 547、化合物 15Zベンタ ゾン、化合物 15Z2, 4 -PA,化合物 15Zメタミホップ、化合物 15Zフルセトスルフ ロン、化合物 15ZHOK— 201、化合物 15Zメソトリオン、化合物 15Zプロパエル、 化合物 15Zキノクラミン、化合物 15Zクロメプロップ、 Compound 15Z Vilasulfuronethyl, Compound 15Z Bensulfuron methyl, Compound 15 Z Cinosulfuron, Compound 15Z Imazosulfuron, Compound 15Z Azimusulfuron, Compound 15Z Halosulfuron methyl, Compound 15Z Cyclosulfamlone, Compound 15Z Ethoxysulfuron, Compound 15Z pyrazolate, compound 15Z birazoxifene, compound 15Z benzofenap, compound 15Z bromobutide, compound 15Z naproa-lide, compound 15Z pretilachlor, compound 15Z butachlor, compound 15Z turcrol, compound 15ZCNP, compound 15Z cromethoxyl, compound 15Z bifunox, Compound 1 5Z Oxadiazone, Compound 15Z Oxadialgyl, Compound 15Z Pentoxazone, Compound 15Z Caffentrol, Compound 15Z Oxadiclomephone, Compound 15Z Indanophan, Compound 15Z Liminobacmethyl, Compound 15Z Cihalohop Butyl, Compound 1 5Z Fentrazamide, Compound 15Z Mefenaset, Compound 15Z Butenachlor, Compound 15Z Dithiopyr, Compound 15Z Benfresate, Compound 15Z Pyributicalp, Compound 15Z Benchocurve, Compound 15Z Molinate, Compound 15Z Butamifos, Compound 1 5Z Kink Mouth Rack, Compound 15Z Simmesrin, Compound 15Z Cymetrine, Compound 15Z Bensulide, Compound 15Z Dimetamethrin, Compound 15ZMCPA, Compound 15ZMCPB, Compound 15Z Etobenzad, Compound 15Z Cumyllon, Compound 15Z Benzobicyclone, Compound 15Z Pyriphthalide, Compound 15Z Bispyribac, Compound 15Z Pyrochlor, Compound 15 5Zarophos, Compound 15ZOK—701, Compound 15Z Penoxsulam, Compound 15ZA VH—301, Compound 15ZKUH—021, Compound 15ZTH—547 Things 15Z Venta Zon, Compound 15Z2, 4-PA, Compound 15Z Metamihop, Compound 15Z Flucetosulfuron, Compound 15ZHOK-201, Compound 15Z Mesotrione, Compound 15Z Propael, Compound 15Z Quinocuramin, Compound 15Z Chromepprop,
化合物 16Zビラゾスルフロンェチル、化合物 16Zベンスルフロンメチル、化合物 16 Zシノスルフロン、化合物 16Zイマゾスルフロン、化合物 16Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 16Zハロスルフロンメチル、化合物 16Zシクロスルファムロン、化合物 16Zエト キシスルフロン、化合物 16Zピラゾレート、化合物 16Zビラゾキシフェン、化合物 16 Zベンゾフエナップ、化合物 16Zブロモブチド、化合物 16Zナプロア-リド、化合物 16Zプレチラクロール、化合物 16Zブタクロール、化合物 16Zテュルクロール、ィ匕 合物 16ZCNP、化合物 16Zクロメトキシェル、化合物 16Zビフ ノックス、化合物 1 6Zォキサジァゾン、化合物 16Zォキサジアルギル、化合物 16Zペントキサゾン、化 合物 16Zカフエンストロール、化合物 16Zォキサジクロメホン、化合物 16Zインダノ ファン、化合物 16Zピリミノバックメチル、化合物 16Zシハロホップブチル、化合物 1 6Zフェントラザミド、化合物 16Zメフヱナセット、化合物 16Zブテナクロール、化合 物 16Zジチォピル、化合物 16Zベンフレセート、化合物 16Zピリブチカルプ、化合 物 16Zベンチォカーブ、化合物 16Zモリネート、化合物 16Zブタミフォス、化合物 1 6Zキンク口ラック、化合物 16Zシンメスリン、化合物 16Zシメトリン、化合物 16Zベ ンスリド、化合物 16Zジメタメトリン、化合物 16ZMCPA、化合物 16ZMCPB、化合 物 16Zエトベンザ-ド、化合物 16Zクミルロン、化合物 16Zベンゾビシクロン、化合 物 16Zピリフタリド、化合物 16Zビスピリバック、化合物 16Zピラクロ-ル、化合物 1 6Zァ-ロホス、化合物 16ZOK— 701、化合物 16Zぺノキススラム、化合物 16ZA VH— 301、化合物 16ZKUH— 021、化合物 16ZTH— 547、化合物 16Zベンタ ゾン、化合物 16Z2, 4— PA、化合物 16Zメタミホップ、化合物 16Zフルセトスルフ ロン、化合物 16ZHOK— 201、化合物 16Zメソトリオン、化合物 16Zプロパエル、 化合物 16Zキノクラミン、化合物 16Zクロメプロップ、 Compound 16Z Virazosulfuronethyl, Compound 16Z Bensulfuronmethyl, Compound 16Z Cinosulfuron, Compound 16Z Imazosulfuron, Compound 16Z Azimusulfuron, Compound 16Z Halosulfuronmethyl, Compound 16Z Cyclosulfamlone, Compound 16Z Ethoxysulfuron, Compound 16Z pyrazolate, compound 16Z birazoxifene, compound 16Z benzofenap, compound 16Z bromobutide, compound 16Z naproalide, compound 16Z pretilachlor, compound 16Z butachlor, compound 16Z turcurol, compound 16ZCNP, compound 16Z cromethoxyl, compound 16Z bifnox, Compound 1 6Z Oxadiazone, Compound 16Z Oxadialgyl, Compound 16Z Pentoxazone, Compound 16Z Caffentrol, Compound 16Z Oxadiclomephone, Compound 16Z Indanophan, Compound 16Z Liminobacmethyl, Compound 16Z Cihalohop Butyl, Compound 1 6Z Fentrazamide, Compound 16Z Mefnaset, Compound 16Z Butenachlor, Compound 16Z Dithiopyr, Compound 16Z Benflate, Compound 16Z Pyributicalp, Compound 16Z Benchocurve, Compound 16Z Molinate, Compound 16Z Butamifos, Compound 1 6Z Kink Mouth Rack, Compound 16Z Simmesrin, Compound 16Z Cymetrine, Compound 16Z Bensulide, Compound 16Z Dimetamethrin, Compound 16ZMCPA, Compound 16ZMCPB, Compound 16Z Etobenzad, Compound 16Z Cumyllon, Compound 16Z Benzobicyclone, Compound 16Z Pyriphthalide, Compound 16Z Bispyribac, Compound 16Z Pyralchlor, Compound 1 6Zarophos, Compound 16ZOK—701, Compound 16Z Penoxsulam, Compound 16ZA VH—301, Compound 16ZKUH—021, Compound 16ZTH—547, Compound 16Z preventor Zon, compounds 16Z2, 4- PA, compound 16Z metamifop, compound 16Z Furusetosurufu Ron, compounds 16ZHOK- 201, Compound 16Z mesotrione, compound 16Z Puropaeru compound 16Z quinoclamine, compound 16Z clomeprop,
化合物 17Zビラゾスルフロンェチル、化合物 17Zベンスルフロンメチル、化合物 17 Zシノスルフロン、化合物 17Zイマゾスルフロン、化合物 17Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 17Zハロスルフロンメチル、化合物 17Zシクロスルファムロン、化合物 17Zエト キシスルフロン、化合物 17Zピラゾレート、化合物 17Zビラゾキシフェン、化合物 17 Zベンゾフエナップ、化合物 17Zブロモブチド、化合物 17Zナプロア-リド、化合物 17Zプレチラクロール、化合物 17Zブタクロール、化合物 17Zテュルクロール、ィ匕 合物 17ZCNP、化合物 17Zクロメトキシェル、化合物 17Zビフ ノックス、化合物 1 7Zォキサジァゾン、化合物 17Zォキサジアルギル、化合物 17Zペントキサゾン、化 合物 17Zカフエンストロール、化合物 17Zォキサジクロメホン、化合物 17Zインダノ ファン、化合物 17Zピリミノバックメチル、化合物 17Zシハロホップブチル、化合物 1 7Zフェントラザミド、化合物 17Zメフヱナセット、化合物 17Zブテナクロール、化合 物 17Zジチォピル、化合物 17Zベンフレセート、化合物 17Zピリブチカルプ、化合 物 17Zベンチォカーブ、化合物 17Zモリネート、化合物 17Zブタミフォス、化合物 1 7Zキンク口ラック、化合物 17Zシンメスリン、化合物 17Zシメトリン、化合物 17Zベ ンスリド、化合物 17Zジメタメトリン、化合物 17ZMCPA、化合物 17ZMCPB、化合 物 17Zエトベンザ-ド、化合物 17Zクミルロン、化合物 17Zベンゾビシクロン、化合 物 17Zピリフタリド、化合物 17Zビスピリバック、化合物 17Zピラクロ-ル、化合物 1 7Zァ-ロホス、化合物 17ZOK— 701、化合物 17Zぺノキススラム、化合物 17ZA VH— 301、ィ匕合物 17ZKUH— 021、化合物 17ZTH— 547、化合物 17Zベンタ ゾン、化合物 17Z2, 4— ΡΑ、化合物 17Zメタミホップ、化合物 17Zフルセトスルフ ロン、化合物 17ZHOK— 201、化合物 17Zメソトリオン、化合物 17Zプロパエル、 化合物 17Ζキノクラミン、化合物 17Ζクロメプロップ、 Compound 17Z Virazosulfuronethyl, Compound 17Z Bensulfuronmethyl, Compound 17Z Cinosulfuron, Compound 17Z Imazosulfuron, Compound 17Z Azimusulfuron, Compound 17Z Halosulfuronmethyl, Compound 17Z Cyclosulfamuron, Compound 17Z Et Xylsulfuron, compound 17Z pyrazolate, compound 17Z birazoxifene, compound 17Z benzofenap, compound 17Z bromobutide, compound 17Z naproa-lide, compound 17Z pretilachlor, compound 17Z butachlor, compound 17Z turcurol, compound 17ZCNP, compound 17Z chrometox Shell, Compound 17Z Bifnox, Compound 1 7Z Oxadiazone, Compound 17Z Oxadialgyl, Compound 17Z Pentoxazone, Compound 17Z Caffentrol, Compound 17Z Oxadichromemephone, Compound 17Z Indanophan, Compound 17Z Pyriminobacmethyl, Compound 17Z Cihalohop Butyl, Compound 1 7Z Fentrazamide, Compound 17Z Mefnaset, Compound 17Z Butenachlor, Compound 17Z Dithiopyr, Compound 17Z Benfresate, Compound 17Z Pyributicalp, Compound 17Z Benchocar , Compound 17Z Molinate, Compound 17Z Butamiphos, Compound 1 7Z Kink Mouth Rack, Compound 17Z Simmesrin, Compound 17Z Cymetrine, Compound 17Z Benslide, Compound 17Z Dimetamethrin, Compound 17ZMCPA, Compound 17ZMCPB, Compound 17Z Etobenzad, Compound 17Z Cumylron, Compound 17Z Benzobicyclone, Compound 17Z Pyriphthalide, Compound 17Z Bispyribac, Compound 17Z Pyracol, Compound 1 7Z-Lofos, Compound 17ZOK—701, Compound 17Z Penoxsulam, Compound 17ZA VH-301, Compound 17ZKUH— 021, Compound 17ZTH—547, Compound 17Z Ventazone, Compound 17Z2, 4-—ΡΑ, Compound 17Z Metamihop, Compound 17Z Flucetosulfuron, Compound 17ZHOK—201, Compound 17Z Mesotrione, Compound 17Z Propaer, Compound 17ΖQuinoclamine, Compound 17ΖCromepprop,
化合物 18Zビラゾスルフロンェチル、化合物 18Zベンスルフロンメチル、化合物 18 Ζシノスルフロン、化合物 18Zイマゾスルフロン、化合物 18Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 18Zハロスルフロンメチル、化合物 18Zシクロスルファムロン、化合物 18Zエト キシスルフロン、化合物 18Zピラゾレート、化合物 18Zビラゾキシフェン、化合物 18 Ζベンゾフエナップ、化合物 18Zブロモブチド、化合物 18Zナプロア-リド、化合物 18Zプレチラクロール、化合物 18Zブタクロール、化合物 18Zテュルクロール、ィ匕 合物 18ZCNP、化合物 18Zクロメトキシェル、化合物 18Zビフ ノックス、化合物 1 8Zォキサジァゾン、化合物 18Zォキサジアルギル、化合物 18Zペントキサゾン、化 合物 18Zカフエンストロール、化合物 18Zォキサジクロメホン、化合物 18Zインダノ ファン、化合物 18Zピリミノバックメチル、化合物 18Zシハロホップブチル、化合物 1 8Zフェントラザミド、化合物 18Zメフヱナセット、化合物 18Zブテナクロール、化合 物 18Zジチォピル、化合物 18Zベンフレセート、化合物 18Zピリブチカルプ、化合 物 18Zベンチォカーブ、化合物 18Zモリネート、化合物 18Zブタミフォス、化合物 1 8Zキンク口ラック、化合物 18Zシンメスリン、化合物 18Zシメトリン、化合物 18Zベ ンスリド、化合物 18Zジメタメトリン、化合物 18ZMCPA、化合物 18ZMCPB、化合 物 18Zエトベンザ-ド、化合物 18Zクミルロン、化合物 18Zベンゾビシクロン、化合 物 18Zピリフタリド、化合物 18Zビスピリバック、化合物 18Zピラクロ-ル、化合物 1 8Zァ-ロホス、化合物 18ZOK— 701、化合物 18Zぺノキススラム、化合物 18ZA VH— 301、化合物 18ZKUH— 021、化合物 18ZTH— 547、化合物 18Zベンタ ゾン、化合物 18Z2, 4— PA、化合物 18Zメタミホップ、化合物 18Zフルセトスルフ ロン、化合物 18ZHOK— 201、化合物 18Zメソトリオン、化合物 18Zプロパエル、 化合物 18Zキノクラミン、化合物 18Zクロメプロップ、 Compound 18Z Virazosulfuronethyl, Compound 18Z Bensulfuron methyl, Compound 18 ΖSinosulfuron, Compound 18Z Imazosulfuron, Compound 18Z Azimusulfuron, Compound 18Z Halosulfuron methyl, Compound 18Z Cyclosulfamlone, Compound 18Z Ethoxysulfuron, Compound 18Z pyrazolate, compound 18Z birazoxifene, compound 18 Ζ benzofenap, compound 18Z bromobutide, compound 18Z naproalide, compound 18Z pretilachlor, compound 18Z butachlor, compound 18Z turcrol, compound 18ZCNP, compound 18Z cromethoxyl, compound 18Z bifnox, Compound 1 8Z Oxadiazone, Compound 18Z Oxadialgyl, Compound 18Z Pentoxazone, Compound 18Z Caffentrol, Compound 18Z Oxadiclomephone, Compound 18Z Indano Fan, Compound 18Z Pyriminobacmethyl, Compound 18Z Cihalohop Butyl, Compound 1 8Z Fentrazamide, Compound 18Z Mefenaset, Compound 18Z Butenachlor, Compound 18Z Dithiopyr, Compound 18Z Benfresate, Compound 18Z Pyributicalp, Compound 18Z Benchocurve, Compound 18Z Molinate , Compound 18Z Butamiphos, Compound 1 8Z Kink Mouth Rack, Compound 18Z Simmesrin, Compound 18Z Cymetrine, Compound 18Z Benslide, Compound 18Z Dimetamethrin, Compound 18ZMCPA, Compound 18ZMCPB, Compound 18Z Etobenzazade, Compound 18Z Cumylron, Compound 18Z Benzobicyclo Compound 18Z Pyriphthalide, Compound 18Z Bispyribac, Compound 18Z Pyracol, Compound 1 8Z-Lolophos, Compound 18ZOK—701, Compound 18Z Penoxsulam, Compound 18ZA VH—301, Compound 18ZKUH—021, Compound 18ZTH- 547, Compound 18Z preventor Zon, compounds 18Z2, 4- PA, compound 18Z metamifop, compound 18Z Furusetosurufu Ron, compounds 18ZHOK- 201, Compound 18Z mesotrione, compound 18Z Puropaeru compound 18Z quinoclamine, compound 18Z clomeprop,
化合物 19Zビラゾスルフロンェチル、化合物 19Zベンスルフロンメチル、化合物 19 Zシノスルフロン、化合物 19Zイマゾスルフロン、化合物 19Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 19Zハロスルフロンメチル、化合物 19Zシクロスルファムロン、化合物 19Zエト キシスルフロン、化合物 19Zピラゾレート、化合物 19Zビラゾキシフェン、化合物 19 Zベンゾフエナップ、化合物 19Zブロモブチド、化合物 19Zナプロア-リド、化合物 19Zプレチラクロール、化合物 19Zブタクロール、化合物 19Zテュルクロール、ィ匕 合物 19ZCNP、化合物 19Zクロメトキシェル、化合物 19Zビフ ノックス、化合物 1 9Zォキサジァゾン、化合物 19Zォキサジアルギル、化合物 19Zペントキサゾン、化 合物 19Zカフエンストロール、化合物 19Zォキサジクロメホン、化合物 19Zインダノ ファン、化合物 19Zピリミノバックメチル、化合物 19Zシハロホップブチル、化合物 1 9Zフェントラザミド、化合物 19Zメフヱナセット、化合物 19Zブテナクロール、化合 物 19Zジチォピル、化合物 19Zベンフレセート、化合物 19Zピリブチカルプ、化合 物 19Zベンチォカーブ、化合物 19Zモリネート、化合物 19Zブタミフォス、化合物 1 9Zキンク口ラック、化合物 19Zシンメスリン、化合物 19Zシメトリン、化合物 19Zベ ンスリド、化合物 19Zジメタメトリン、化合物 19ZMCPA、化合物 19ZMCPB、化合 物 19Zエトベンザ-ド、化合物 19Zクミルロン、化合物 19Zベンゾビシクロン、化合 物 19Zピリフタリド、化合物 19Zビスピリバック、化合物 19Zピラクロ-ル、化合物 1 9Zァ-ロホス、化合物 19ZOK— 701、化合物 19Zぺノキススラム、化合物 19ZA VH— 301、ィ匕合物 19ZKUH— 021、化合物 19ZTH— 547、化合物 19Zベンタ ゾン、化合物 19Z2, 4— ΡΑ、化合物 19Zメタミホップ、化合物 19Zフルセトスルフ ロン、化合物 19ZHOK— 201、化合物 19Zメソトリオン、化合物 19Zプロパエル、 化合物 19Ζキノクラミン、化合物 19Ζクロメプロップ、 Compound 19Z Virazosulfuronethyl, Compound 19Z Bensulfuron methyl, Compound 19 Z Cinosulfuron, Compound 19Z Imazosulfuron, Compound 19Z Azimusulfuron, Compound 19Z Halosulfuron methyl, Compound 19Z Cyclosulfamuron, Compound 19Z Ethoxysulfuron, Compound 19Z pyrazolate, compound 19Z birazoxifene, compound 19Z benzofenap, compound 19Z bromobutide, compound 19Z naproalide, compound 19Z pretilachlor, compound 19Z butachlor, compound 19Z turcurol, compound 19ZCNP, compound 19Z cromethoxyl, compound 19Z bifunox, Compound 1 9Z Oxadiazone, Compound 19Z Oxadialgyl, Compound 19Z Pentoxazone, Compound 19Z Caffentrol, Compound 19Z Oxadiclomephone, Compound 19Z Indanophan, Compound 19Z Liminobacmethyl, Compound 19Z Cihalohop Butyl, Compound 1 9Z Fentrazamide, Compound 19Z Mefnaset, Compound 19Z Butenachlor, Compound 19Z Dithiopyr, Compound 19Z Benfresate, Compound 19Z Pyributicalp, Compound 19Z Benchocarb, Compound 19Z Molinate, Compound 19Z Butamifos, Compound 1 9Z Kink Mouth Rack, Compound 19Z Simmesrin, Compound 19Z Cymetrine, Compound 19Z Benslide, Compound 19Z Dimetamethrin, Compound 19ZMCPA, Compound 19ZMCPB, Compound Compound 19Z etozanzade, compound 19Z cumyluron, compound 19Z benzobicyclone, compound 19Z pyriftalide, compound 19Z bispyrivac, compound 19Z pyrachlor, compound 1 9Z-arophos, compound 19ZOK-701, compound 19Z penoxsulam, compound 19ZA VH—301, Compound 19ZKUH—021, Compound 19ZTH—547, Compound 19Z Ventazone, Compound 19Z2, 4—ΡΑ, Compound 19Z Metamihop, Compound 19Z Flucetosulfuron, Compound 19ZHOK—201, Compound 19Z Mesotrione, Compound 19Z Propaer , Compound 19Ζ quinoclamine, Compound 19Ζ Chromepprop,
化合物 20Ζビラゾスルフロンェチル、化合物 20Ζベンスルフロンメチル、化合物 20 Ζシノスルフロン、化合物 20Ζイマゾスルフロン、化合物 20Ζアジムスルフロン、ィ匕 合物 20Ζハロスルフロンメチル、化合物 20Ζシクロスルファムロン、化合物 20Ζエト キシスルフロン、化合物 20Ζピラゾレート、化合物 20Ζビラゾキシフェン、化合物 20 Ζベンゾフエナップ、化合物 20Ζブロモブチド、化合物 20Ζナプロア-リド、化合物 20Ζプレチラクロール、化合物 20Ζブタクロール、化合物 20Ζテュルクロール、ィ匕 合物 20ZCNP、化合物 20Zクロメトキシェル、化合物 20Zビフ ノックス、化合物 2 0Zォキサジァゾン、化合物 20Ζォキサジアルギル、化合物 20Ζペントキサゾン、化 合物 20Ζカフエンストロール、化合物 20Ζォキサジクロメホン、化合物 20Ζインダノ ファン、化合物 20Ζピリミノバックメチル、化合物 20Ζシハロホップブチル、化合物 2 0Ζフェントラザミド、化合物 20Ζメフエナセット、化合物 20Ζブテナクロール、化合 物 20Ζジチォピル、化合物 20Ζベンフレセート、化合物 20Ζピリブチカルプ、化合 物 20Ζベンチォカーブ、化合物 20Ζモリネート、化合物 20Ζブタミフォス、化合物 2 0Ζキンク口ラック、化合物 20Ζシンメスリン、ィ匕合物 20Ζシメトリン、化合物 20Ζベ ンスリド、化合物 20Ζジメタメトリン、化合物 20ZMCPA、化合物 20ZMCPB、化合 物 Z20Zエトベンザ-ド、化合物 20Zクミルロン、化合物 20Zベンゾビシクロン、ィ匕 合物 20Zピリフタリド、化合物 20Zビスピリバック、化合物 20Zピラクロ-ル、化合物 20Zァ-ロホス、化合物 20ZOK— 701、化合物 20Zぺノキススラム、化合物 20Z AVH— 301、ィ匕合物 20ZKUH— 021、化合物 2θΖΤΗ— 547、化合物 20Ζベン タゾン、化合物 20Ζ2, 4— ΡΑ、化合物 20Ζメタミホップ、化合物 20Ζフルセトスル フロン、化合物 20ΖΗΟΚ— 201、化合物 20Ζメソトリオン、化合物 20Ζプロパ-ル 、化合物 20Zキノクラミン、化合物 20Ζクロメプロップ Compound 20ΖVirazosulfuronethyl, Compound 20ΖBensulfuron methyl, Compound 20ΖSinosulfuron, Compound 20ΖImazosulfuron, Compound 20ΖAzimusulfuron, Compound 20ΖHalosulfuron methyl, Compound 20ΖCyclosulfamlone, Compound 20ΖEthoxysulfuron, Compound 20 Pyrazolate, Compound 20 Birazoxifene, Compound 20 Benzofenap, Compound 20 Bromobutide, Compound 20 Naproalide, Compound 20 Pretilachlor, Compound 20 Butachlor, Compound 20 Turculol, Compound 20ZCNP, Compound 20Z Chlomethoxyl, Compound 20Z bifnox, Compound 20 0Z Oxadiazone, Compound 20 Oxadialgyl, Compound 20 Pentoxazone, Compound 20 Kafuentrol, Compound 20 Oxadiclomephone, Compound 20 O Indanov Compound 20 化合物 Pyriminobacmethyl, Compound 20ΖCyhalohopbutyl, Compound 20ΖFentrazamide, Compound 20ΖMefenacet, Compound 20ΖButenachlor, Compound 20ΖDithiopyr, Compound 20ΖBenfrecate, Compound 20ΖPyributicalp, Compound 20ΖBenchocurve, Compound 20ΖMolinate , Compound 20-Buta mifos, Compound 20 Kink mouth rack, Compound 20 Cymmesrin, Compound 20-Cymethrin, Compound 20-Benslide, Compound 20 Dimetamethrin, Compound 20ZMCPA, Compound 20ZMCPB, Compound Z20Z Etobenzad, Compound 20Z Cumylron, Compound 20Z benzobicyclone, compound 20Z pyriftalide, compound 20Z bispyribak, compound 20Z pyrachlor, compound 20Zarophos, compound 20ZOK—701, compound 20Z penoxsulam, compound 20Z AVH—301, compound 20Z KUH—021, Compound 2θΖΤΗ-547, Compound 20ΖVentazone, Compound 20Ζ2, 4—ΡΑ, Compound 20ΖMetamihop, Compound 20ΖFurcetosulfuron, Compound 20ΖΗΟΚ201, Compound 20ΖMesotrione, Compound 20Ζproperol , Compound 20Z Kinoclamine, Compound 20Ζ Chromepprop
化合物 21Zビラゾスルフロンェチル、化合物 21Zベンスルフロンメチル、化合物 21 Ζシノスルフロン、化合物 21Zイマゾスルフロン、化合物 21Zアジムスルフロン、ィ匕 合物 21Zハロスルフロンメチル、化合物 21Zシクロスルファムロン、化合物 21Zエト キシスルフロン、化合物 21Zピラゾレート、化合物 21Zビラゾキシフェン、化合物 21 Ζベンゾフエナップ、化合物 21Zブロモブチド、化合物 21Zナプロア-リド、化合物 21Zプレチラクロール、化合物 21Zブタクロール、化合物 21Zテュルクロール、ィ匕 合物 2lZCNP、化合物 21Zクロメトキシェル、化合物 21Zビフ ノックス、化合物 2 1Zォキサジァゾン、化合物 21 Zォキサジアルギル、化合物 21 Zペントキサゾン、化 合物 21Zカフエンストロール、化合物 21Zォキサジクロメホン、化合物 21Zインダノ ファン、化合物 21Zピリミノバックメチル、化合物 21Zシハロホップブチル、化合物 2 1Zフェントラザミド、化合物 21Zメフヱナセット、化合物 21Zブテナクロール、化合 物 21Zジチォピル、化合物 21Zベンフレセート、化合物 21Zピリブチカルプ、化合 物 21Zベンチォカーブ、化合物 21Zモリネート、化合物 21Zブタミフォス、化合物 2 1Zキンク口ラック、化合物 21Zシンメスリン、化合物 21Zシメトリン、化合物 21Zベ ンスリド、化合物 21Zジメタメトリン、化合物 2lZMCPA、化合物 2lZMCPB、化合 物 21Zエトベンザ-ド、化合物 21Zクミルロン、化合物 21Zベンゾビシクロン、化合 物 21Zピリフタリド、化合物 21Zビスピリバック、化合物 21Zピラクロ-ル、化合物 2 1Zァ-ロホス、化合物 21ZOK— 701、化合物 21Zぺノキススラム、化合物 21ZA VH— 301、化合物 21ZKUH— 021、化合物 21ZTH— 547、化合物 21Ζベンタ ゾン、化合物 21Z2, 4— ΡΑ、化合物 21Zメタミホップ、化合物 21Zフルセトスルフ ロン、化合物 21ZHOK— 201、化合物 21Zメソトリオン、化合物 21Ζプロパエル、 化合物 21Zキノクラミン、化合物 21Zクロメプロップ 本発明では、化合物 (A) 1質量部当たり、ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロ力 ルブの中力 選ばれる少なくとも 1種の化合物を通常 0. 001— 100質量部、好ましく は 0. 01— 30質量部施用する。 Compound 21Z Virazosulfuronethyl, Compound 21Z Bensulfuronmethyl, Compound 21 ΖSinosulfuron, Compound 21Z Imazosulfuron, Compound 21Z Azimusulfuron, Compound 21Z Halosulfuronmethyl, Compound 21Z Cyclosulfamlone, Compound 21Z Ethoxysulfuron, Compound 21Z pyrazolate, compound 21Z birazoxifene, compound 21 Ζ benzophenap, compound 21Z bromobutide, compound 21Z naproalide, compound 21Z pretilachlor, compound 21Z butachlor, compound 21Z turcrol, compound 2lZCNP, compound 21Z cromethoxyl, compound 21Z Bifnox, Compound 2 1Z Oxadiazone, Compound 21 Z Oxadialgyl, Compound 21 Z Pentoxazone, Compound 21Z Caffentrol, Compound 21Z Oxadiclomephone, Compound 21Z Indanophan, Compound 21Z Pyriminobacmethyl, Compound 21Z Cihalohop Butyl, Compound 2 1Z Fentrazamide, Compound 21Z Mefenaset, Compound 21Z Butenachlor, Compound 21Z Dithiopyr, Compound 21Z Benfresate, Compound 21Z Pyributicalp, Compound 21Z Benchocurve, Compound 21Z Molinate Butamifos, Compound 2 1Z Kink Mouth Rack, Compound 21Z Simmesrin, Compound 21Z Cymetrine, Compound 21Z Bensulide, Compound 21Z Dimetamethrin, Compound 2lZMCPA, Compound 2lZMCPB, Compound 21Z Etobenzazade, Compound 21Z Cumylron, Compound 21Z Benzobicyclone, Compound Compound 21Z pyriftalide, compound 21Z bispyribak, compound 21Z pyrachlor, compound 2 1Z-arophos, compound 21ZOK—701, compound 21Z penoxsulam, compound 21ZA VH—301, compound 21ZKUH—021, compound 21ZTH—547, Compound 21Z Bentazone, Compound 21Z2, 4-— ΡΑ, Compound 21Z Metamihop, Compound 21Z Flucetosulfuron, Compound 21ZHOK— 201, Compound 21Z Mesotrione, Compound 21Z Propael, Compound 21Z Quinoclamine, Compound 21Z Chromepprop In the present invention, Compound (A) 1 At least one compound selected from Daimron, Dimepiperate, and Espelo force Lube is usually applied in an amount of 0.001 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 30 parts by weight per part by weight.
化合物 (Α)の施用量は、通常 lg— 10kgZha、好ましくは 10g— lkgZhaである。 ダイムロン、ジメピぺレート及びエスプロカルプの中力 選ばれる少なくとも 1種の化 合物の施用量は、通常 lg— 10kgZha、好ましくは 10g— 3kgZhaである。 The application rate of compound (Α) is usually lg-10 kgZha, preferably 10 g-lkgZha. Daimlon, dimethylpiperate and esprocarp medium strength The application rate of at least one compound selected is usually lg—10 kgZha, preferably 10 g—3 kgZha.
本発明組成物は、通常適当な固体担体又は液体担体と混合し、更に所望により界 面活性剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防止剤、結合剤、固結防止剤、崩壊剤、 消泡剤、防腐剤および分解防止剤等を添加して、液剤(soluble concentrate)、 乳剤 (.emulsifiable concentrate)、水和剤 (wettable powder)、水溶剤 (water soluble powder)、顆粒水和剤 (water dispersible granule)、顆粒水溶剤 (w ater soluole granule)、懸淘剤 (suspension concentrate)、乳淘剤 (concent rated emulsion)、サスポエマノレジョン (suspoemulsion)、マイクロエマルジヨン (m icroemulsion)、粉剤 (dustable powder)、粒剤 (granule)およびゲル剤 (gel)等 任意の剤型の製剤にて実用に供することができる。また、省力化および安全性向上 の観点から、上記任意の剤型の製剤を水溶性包装体に封入して供することもできる。 なお必要に応じて、製剤または散布時に複数の他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、植物 生長調整剤、肥料等と混合使用することも可能である。 The composition of the present invention is usually mixed with an appropriate solid carrier or liquid carrier, and if desired, a surface active agent, a penetrating agent, a spreading agent, a thickening agent, an antifreezing agent, a binder, an anti-caking agent, a disintegration. Agent, antifoaming agent, antiseptic and anti-degradation agent, etc., added, soluble concentrate, emulsion (.emulsifiable concentrate), wettable powder, water soluble powder, granule hydration Water dispersible granule, water soluole granule, suspension concentrate, concentrate rated emulsion, suspoemulsion, microemulsion (m icroemulsion), It can be put to practical use in preparations of any dosage form such as dustable powder, granule and gel. In addition, from the viewpoint of labor saving and safety improvement, the preparations of any of the above dosage forms can be enclosed in a water-soluble package. If necessary, it can be mixed with other herbicides, insecticides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers, etc. during formulation or spraying.
固体担体としては、例えば石英、カオリナイト、ノ イロフィライト、セリサイト、タルク、 ベントナイト、酸性白土、ァタパルジャイト、ゼォライトおよび珪藻土等の天然鉱物質 類、炭酸カルシウム、硫酸アンモ-ゥム、硫酸ナトリウムおよび塩ィ匕カリウム等の無機 塩類、合成珪酸ならびに合成珪酸塩が挙げられる。 Examples of the solid carrier include quartz, kaolinite, neurophyllite, sericite, talc, bentonite, acid clay, attapulgite, zeolite, and diatomaceous earth, calcium carbonate, ammonium sulfate, sodium sulfate and salt. Inorganic salts such as potassium, synthetic silicic acid and synthetic silicate.
液体担体としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコールおよびイソプロ パノール等のアルコール類、キシレン、アルキルベンゼンおよびアルキルナフタレン 等の芳香族炭化水素類、ブチルセ口ソルブ等のエーテル類、シクロへキサノン等の ケトン類、 Ύ—ブチ口ラタトン等のエステル類、 N—メチルピロリドンおよび N—ォクチ ルピロリドン等の酸アミド類、大豆油、ナタネ油、綿実油およびヒマシ油等の植物油な らびに水が挙げられる。 Examples of the liquid carrier include alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and isopropanol, aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, and alkylnaphthalene, ethers such as butylcetosolve, ketones such as cyclohexanone, —Esters such as butaguchi ratataton, acid amides such as N-methylpyrrolidone and N-octylpyrrolidone, vegetable oils such as soybean oil, rapeseed oil, cottonseed oil and castor oil, and water.
これら固体および液体担体は、単独で用いても 2種以上を併用してもよ ヽ。 These solid and liquid carriers may be used alone or in combination of two or more.
界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシェチ レンアルキルァリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフエニルエーテル、ポリ ォキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレン脂肪酸ェ ステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステ ル等のノニオン性界面活性剤、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リ グニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキル ナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナ フタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルァリールェ 一テル硫酸および燐酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフエ-ルエーテル硫酸および 燐酸塩、ポリカルボン酸塩およびポリスチレンスルホン酸塩等のァ-オン性界面活性 剤、アルキルアミン塩およびアルキル 4級アンモ-ゥム塩等のカチオン性界面活性剤 ならびにアミノ酸型およびべタイン型等の両性界面活性剤が挙げられる。 Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene styryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer, polyoxyethylene fatty acid ether. Nonionic surfactants such as stealth, sorbitan fatty acid esters and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, alkyl sulfates, alkylbenzene sulfonates, lignin sulfonates, alkyl sulfosuccinates, naphthalene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates , Formalin condensate salt of naphthalene sulfonic acid, salt of formalin condensate of alkyl naphthalene sulfonic acid, polyoxyethylene alkyl aryl ether sulfate and phosphate, polyoxyethylene styryl ether ether sulfate and phosphate, poly Carboxylic acid surfactants such as carboxylates and polystyrene sulfonates, cationic surfactants such as alkylamine salts and alkyl quaternary ammonium salts, and amphoteric surfactants such as amino acids and betaines Agents.
これら界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではないが、本発明の製剤 10 0質量部に対し、通常 0. 05〜20質量部の範囲が望ましい。また、これら界面活性剤 は、単独で用いても 2種以上を併用してもよい。 The content of these surfactants is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.05 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the preparation of the present invention. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.
この際、同時に複数の他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調整剤および肥料 等と混合使用することも可能である。特に他の除草剤の 1種以上を配合することにより 、殺草スペクトラムを広げることが可能となり、本発明の効果をより安定なものとするこ とがでさる。 At this time, a plurality of other herbicides, insecticides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers and the like can be used in combination. In particular, when one or more other herbicides are added, the herbicidal spectrum can be expanded, and the effects of the present invention can be made more stable.
次に本発明組成物を用いる場合の製剤の配合例を示す。但し本発明の配合例は 、これらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は質量 部を意味する。 Next, formulation examples of preparations when using the composition of the present invention are shown. However, the blending examples of the present invention are not limited to these. In the following formulation examples, “parts” means parts by mass.
〔水和剤 (wettable powder)〕 (Wettable powder)
本発明組成物 0. 1〜80部 The present composition 0.1 to 80 parts
固体担体 5〜98. 9部 Solid carrier 5-98.9 parts
界面活性剤 1〜10部 1-10 parts of surfactant
その他 0〜 5部 Other 0-5
その他として、例えば固結防止剤、分解防止剤等が挙げられる。 Other examples include anti-caking agents and decomposition inhibitors.
〔孚 L 剤、 emmsifiable concentrate) J (孚 L agent, emmsifiable concentrate) J
本発明組成物 0. 1〜30部 Composition of the present invention 0.1-30 parts
液体担体 45〜95部 界面活性剤 4. 9〜15部 その他 0〜10部 45-95 parts of liquid carrier Surfactant 4. 9-15 parts Others 0-10 parts
その他として、例えば展着剤、分解防止剤等が挙げられる。 Other examples include spreading agents and decomposition inhibitors.
〔懸淘剤 (suspension concentrate)〕 (Suspension concentrate)
本発明組成物 0. 1〜70部 The composition of the present invention 0.1-70 parts
液体担体 15〜98. 89部 Liquid carrier 15-98.89 parts
界面活性剤 1〜12部 1 to 12 parts surfactant
その他 0. 01〜30部 Others 0.01-30
その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等が挙げられる。 Other examples include antifreezing agents and thickeners.
〔顆 水禾ロ剤 (water dispersible granule) ] [Water dispersible granule]
本発明組成物 0. 1〜90部 The composition of the present invention 0.1-90 parts
固体担体 0〜98. 9部 Solid carrier 0 ~ 98.9 9 parts
界面活性剤 1〜20部 1-20 parts of surfactant
その他 0〜 10部 Other 0-10 copies
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。 Other examples include a binder and a decomposition inhibitor.
〔揿 剤 (soluble concentrate) ] [Soluble concentrate]
本発明組成物 0. 01〜70部 The composition of the present invention 0.01-70 parts
液体担体 20〜99. 99部 Liquid carrier 20-99.99 parts
その他 0〜 10部 Other 0-10 copies
その他として、例えば凍結防止剤、展着剤等が挙げられる。 Other examples include antifreezing agents and spreading agents.
〔粒 剤 (granule) ] [Granule]
本発明組成物 0. 01〜80部 The present composition 0.01 to 80 parts
固体担体 10〜99. 99部 Solid carrier 10-99.99 parts
その他 0〜10部 Other 0-10 copies
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。 Other examples include a binder and a decomposition inhibitor.
〔粉 剤(dustable powder) ] [Dustable powder]
本発明組成物 0. 01〜30部 Composition of the present invention 0.01-30 parts
固体担体 65〜99. 99部 その他 0〜5部 Solid carrier 65-99.99 parts Other 0-5 parts
その他として、例えばドリフト防止剤、分解防止剤等が挙げられる。 Other examples include a drift inhibitor and a decomposition inhibitor.
使用に際しては上記製剤を水で 1〜: LOOOO倍に希釈してまたは希釈せずに、有効 成分力 ヘクターノレ(ha)当たり 0. 001〜50kg、好ましく ίま 0. 01〜: LOkgになるよう に散布する。 In use, the above preparation is diluted with water 1 to: LOOOO times or not diluted, and the active ingredient strength is 0.001 to 50 kg per hectare (ha), preferably ί or 0.001 to LOkg. Scatter.
実施例 Example
[0119] 製剤例 [0119] Formulation examples
次に具体的に化合物を有効成分とする農薬製剤例を示すがこれらのみに限定され るものではない。なお、以下の配合例において「部」は質量部を意味する。 Next, specific examples of agrochemical formulations containing the compound as an active ingredient are shown, but the invention is not limited to these examples. In the following formulation examples, “part” means part by mass.
ほ己合例 1〕水和剤(wettable powder) Hogi Case 1] wettable powder
化合物 (A) 10部 Compound (A) 10 parts
ダイムロン 10部 Daimlon 10 parts
ノ イロフィライト 74言 Neurophylite 74 words
ソルポール 5039 4部 Solpol 5039 4 parts
(非イオン性界面活性剤とァ-オン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業 (株)商 品名) (Mixture of nonionic surfactant and ionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. product name)
カープレックス # 80D 2部 Carplex # 80D 2 parts
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。 The above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.
[0120] ほ己合例 2〕乳 剤(emulsifiable concentrate) [0120] Honomi Case 2] Emulsifiable concentrate
化合物 (A) 2部 Compound (A) 2 parts
ダイムロン 3部 Daimron 3 parts
キシレン 75部 75 parts of xylene
N—メチノレピロリドン 15部 N-Methylolpyrrolidone 15 parts
ソノレポーノレ 2680 5 Sonoreponore 2680 5
(非イオン性界面活性剤とァ-オン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業 (株)商 品名) (Mixture of nonionic surfactant and ionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. product name)
以上を均一に混合して乳剤とする。 [0121] ほ己合例 3〕懸濁剤(suspension concentrate) The above is uniformly mixed to obtain an emulsion. [0121] Hogi Case 3] Suspension concentrate
化合物 (A) 15部 Compound (A) 15 parts
ダイムロン 10部 Daimlon 10 parts
ァグリゾール S - 710 10部 Agrisol S-710 10 parts
(非イオン性界面活性剤:花王 (株)商品名 ) (Nonionic surfactant: Kao Co., Ltd. trade name)
ルノックス 1000C 0. 5部 LUNOX 1000C 0.5 part
(ァニオン性界面活性剤:東邦化学工業 (株)商品名) (Anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
キサンタンガム 0. 2部 Xanthan gum 0.2 parts
水 64. 3 Water 64.3
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。 After the above is uniformly mixed, wet pulverization is performed to obtain a suspension.
[0122] ほ S合例 4〕顆粒水和剤(water dispersible granule) [0122] Ho S case 4) water dispersible granule
化合物 (A) 25部 Compound (A) 25 parts
ダイムロン 50部 Daimlon 50 parts
ハイテノール NE - 15 5部 Haitenol NE-15 5 parts
(ァニオン性界面活性剤:第一工業製薬 (株)商品名 ) (Anionic surfactant: Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name)
バニレックス N 10部 Vanillex N 10 parts
(ァ-オン性界面活性剤:日本製紙 (株)商品名) (Aon surfactant: Nippon Paper Industries Co., Ltd. trade name)
カープレックス # 80D 10部 Carplex # 80D 10 parts
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造 粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。 After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, and dried to obtain a granulated wettable powder.
[0123] ほ S合例 5〕粒 剤 (granule) [0123] Ho S Case 5) Granule
化合物 (A) 3部 Compound (A) 3 parts
ダイムロン 2部 Daimlon 2nd part
ベントナイト 50部 50 parts of bentonite
タノレク 45 Tanorek 45
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造 粒し、乾燥して粒剤とする。 [0124] ほ己合例 6〕粉 剤(dustable powder) After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, mixed with stirring, granulated with an extrusion granulator, and dried to form granules. [0124] Example 6] dustable powder
化合物 (A) 1部 Compound (A) 1 part
ダイムロン 2部 Daimlon 2nd part
カープレックス # 80D 0. 5部 Carplex # 80D 0.5
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
カオリナイト 95部 95 copies of Kaolinite
ジン酸ジイソプロピノレ 1. 5 Diisopropinole diacid 1.5
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。 The above is uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.
[0125] ほ己合例 7〕水和剤(wettable powder) [0125] Hogi Case 7] wettable powder
化合物 (A) 10部 Compound (A) 10 parts
ジメピぺレート 10部 Zimepiperate 10 copies
ノ イロフィライト 74言 Neurophylite 74 words
ソルポール 5039 4部 Solpol 5039 4 parts
(非イオン性界面活性剤とァ-オン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業 (株)商 品名) (Mixture of nonionic surfactant and ionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. product name)
カープレックス # 80D 2部 Carplex # 80D 2 parts
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。 The above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.
[0126] ほ己合例 8〕乳 剤(emulsifiable concentrate) [0126] Honomi Case 8] Emulsifiable concentrate
化合物 (A) 2部 Compound (A) 2 parts
ジメピぺレート 3部 Zimepiperate 3 parts
キシレン 75部 75 parts of xylene
N—メチノレピロリドン 15部 N-Methylolpyrrolidone 15 parts
ソノレポーノレ 2680 5 Sonoreponore 2680 5
(非イオン性界面活性剤とァ-オン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業 (株)商 品名) (Mixture of nonionic surfactant and ionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. product name)
以上を均一に混合して乳剤とする。 The above is uniformly mixed to obtain an emulsion.
[0127] ほ己合例 9〕懸濁剤(suspension concentrate) 化合物 (A) 15部 [0127] Hojigo 9) Suspension concentrate Compound (A) 15 parts
ジメピぺレート 10部 Zimepiperate 10 copies
ァグリゾール S - 710 10部 Agrisol S-710 10 parts
(非イオン性界面活性剤:花王 (株)商品名 ) (Nonionic surfactant: Kao Co., Ltd. trade name)
ルノックス 1000C 0. 5部 LUNOX 1000C 0.5 part
(ァニオン性界面活性剤:東邦化学工業 (株)商品名) (Anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
キサンタンガム 0. 2部 Xanthan gum 0.2 parts
水 64. 3 Water 64.3
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。 After the above is uniformly mixed, wet pulverization is performed to obtain a suspension.
[0128] ほ己合例 10〕顆粒水和剤(water dispersible granule) [0128] Honoki case 10] water dispersible granule
化合物 (A) 25部 Compound (A) 25 parts
ジメピぺレート 50部 Zimepiperate 50 copies
ハイテノール NE - 15 5部 Haitenol NE-15 5 parts
(ァニオン性界面活性剤:第一工業製薬 (株)商品名 ) (Anionic surfactant: Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name)
バニレックス N 10部 Vanillex N 10 parts
(ァ-オン性界面活性剤:日本製紙 (株)商品名) (Aon surfactant: Nippon Paper Industries Co., Ltd. trade name)
カープレックス # 80D 40部 Carplex # 80D 40 parts
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造 粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。 After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, and dried to obtain a granulated wettable powder.
[0129] ほ己合例 11〕粒 剤(granule) [0129] Self Example 11] Granule
化合物 (A) 3部 Compound (A) 3 parts
ジメピぺレート 2部 Zimepiperate 2 parts
ベントナイト 50部 50 parts of bentonite
タノレク 45 Tanorek 45
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造 粒し、乾燥して粒剤とする。 After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, mixed with stirring, granulated with an extrusion granulator, and dried to form granules.
[0130] ほ己合例 12〕粉 剤(dustable powder) 化合物 (A) 1部 [0130] Self Example 12] dustable powder Compound (A) 1 part
ジメピぺレート 2部 Zimepiperate 2 parts
カープレックス # 80D 0. 5部 Carplex # 80D 0.5
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
カオリナイト 95部 95 copies of Kaolinite
ジン酸ジイソプロピノレ 1. 5 Diisopropinole diacid 1.5
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。 The above is uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.
[0131] ほ己合例 13〕水和剤(wettable powder) [0131] Hogi Case 13] wettable powder
化合物 (A) 10部 Compound (A) 10 parts
エスプロカノレブ 10部 Esprocanolev 10 copies
ノ イロフィライト 74言 Neurophylite 74 words
ソルポール 5039 4部 Solpol 5039 4 parts
(非イオン性界面活性剤とァ-オン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業 (株)商 品名) (Mixture of nonionic surfactant and ionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. product name)
カープレックス # 80D 2部 Carplex # 80D 2 parts
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。 The above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.
[0132] ほ己合例 14〕乳 剤(emulsifiable concentrate) [0132] Honomi Case 14] Emulsifiable concentrate
化合物 (A) 2部 Compound (A) 2 parts
エスプロカノレブ 3部 Esprocanolev 3 parts
キシレン 75部 75 parts of xylene
N—メチノレピロリドン 15部 N-Methylolpyrrolidone 15 parts
ソノレポーノレ 2680 5 Sonoreponore 2680 5
(非イオン性界面活性剤とァ-オン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業 (株)商 品名) (Mixture of nonionic surfactant and ionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. product name)
以上を均一に混合して乳剤とする。 The above is uniformly mixed to obtain an emulsion.
[0133] ほ己合例 15〕懸濁剤(suspension concentrate) [0133] Hogi Case 15] Suspension concentrate
化合物 (A) 15部 エスプロカノレブ 10部 Compound (A) 15 parts Esprocanolev 10 copies
ァグリゾール S - 710 10部 Agrisol S-710 10 parts
(非イオン性界面活性剤:花王 (株)商品名 ) (Nonionic surfactant: Kao Co., Ltd. trade name)
ルノックス 1000C 0. 5部 LUNOX 1000C 0.5 part
(ァニオン性界面活性剤:東邦化学工業 (株)商品名) (Anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
キサンタンガム 0. 2部 Xanthan gum 0.2 parts
水 64. 3 Water 64.3
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。 After the above is uniformly mixed, wet pulverization is performed to obtain a suspension.
[0134] ほ S合例 16〕顆粒水和剤(water dispersible granule) [0134] Ho S Case 16] Granule wettable powder (water dispersible granule)
化合物 (A) 25部 Compound (A) 25 parts
エスプロカノレブ 50部 Esprocanolev 50 copies
ハイテノール NE - 15 5部 Haitenol NE-15 5 parts
(ァニオン性界面活性剤:第一工業製薬 (株)商品名 ) (Anionic surfactant: Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name)
バニレックス N 10部 Vanillex N 10 parts
(ァ-オン性界面活性剤:日本製紙 (株)商品名) (Aon surfactant: Nippon Paper Industries Co., Ltd. trade name)
カープレックス # 80D 40部 Carplex # 80D 40 parts
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造 粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。 After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, and dried to obtain a granulated wettable powder.
[0135] ほ S合例 17〕粒 剤(granule) [0135] Ho S Case 17) Granule
化合物 (A) 3部 Compound (A) 3 parts
エスプロカノレブ 2部 Esprocanolev 2nd part
ベントナイト 50部 50 parts of bentonite
タノレク 45 Tanorek 45
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造 粒し、乾燥して粒剤とする。 After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, mixed with stirring, granulated with an extrusion granulator, and dried to form granules.
[0136] ほ己合例 18〕粉 剤(dustable powder) [0136] Self-regular case 18] dustable powder
化合物 (A) 1部 エスプロカノレブ 2部 Compound (A) 1 part Esprocanolev 2nd part
カープレックス # 80D 0. 5部 Carplex # 80D 0.5
(合成含水珪酸:塩野義製薬 (株)商品名 ) (Synthetic hydrous silicate: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name)
カオリナイト 95部 95 copies of Kaolinite
ジン酸ジイソプロピノレ 1. 5 Diisopropinole diacid 1.5
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。 The above is uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.
[0137] 本発明組成物の除草剤としての有用性を以下の試験例において具体的に説明す る。 [0137] The usefulness of the composition of the present invention as a herbicide will be specifically described in the following test examples.
それぞれの試験例の薬害軽減効果又は除草効果は、以下の判定基準に従!、調査 した。 The phytotoxicity reduction effect or herbicidal effect of each test example was investigated according to the following criteria!
判定基準 Judgment criteria
5 · · ·殺草率 90%以上(ほとんど完全枯死) 5 · · · Over 90% killing rate (almost completely dead)
4· · ·殺草率 70%以上 90%未満 4 .... Hericide rate 70% or more, less than 90%
3 · · ·殺草率 40%以上 70%未満 3 ...
2· · ·殺草率 20%以上 40%未満 2 ... Hericide rate 20% or more, less than 40%
1 · · ·殺草率 5%以上 20%未満 1 ...
0· · ·殺草率 5%以下(ほとんど効力なし) 0 · · · 5% or less killing rate (almost no effect)
〔試験例 1〕漏水条件における薬害試験 [Test Example 1] Chemical damage test under water leakage conditions
底に穴を開けた 1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を 入れて混和し、 4cmの湛水条件とした。上記ポットに 2. 5葉期のイネ苗を移植し、移 植後 9日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸 濁液を滴下処理した。漏水操作はプラスチック製バットにポットを入れてバット内の水 を排水することで行い、薬剤処理後 3日間連続で 2cm/日の漏水をかけた。薬剤処 理後 28日目にイネに対する薬害を上記の判定基準に従って調査した。その結果、 化合物(A) +ダイムロン、化合物(A) +ジメピぺレート、化合物(A) +エスプロカル ブのいずれも、化合物 (A)だけの場合に比べて、イネに対する薬害軽減効果を示し た。 After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot with a hole in the bottom, water was added and mixed to create a 4 cm flood condition. A 2.5-leaf rice seedling was transplanted into the above pot, and the suspension of the prescribed concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the 9th day after transplanting. . Water leakage was performed by placing a pot in a plastic vat and draining the water in the vat, and leaking water 2 cm / day for 3 consecutive days after chemical treatment. On the 28th day after drug treatment, phytotoxicity to rice was investigated according to the above criteria. As a result, Compound (A) + Daimlone, Compound (A) + Dimepiperate, and Compound (A) + Esprocarb all showed a phytotoxicity-reducing effect on rice compared to Compound (A) alone.
[0138] 〔試験例 2〕置き苗および漏水条件における薬害試験 置き苗条件は、 1Z10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水 を入れて混和し、 4cmの湛水条件とした。上記ポットに 2. 5葉期のイネ苗を、根を露 出させたまま田面に固定した。一方、漏水条件は、試験例 1と同様の条件で 2. 5葉 期のイネ苗を移植した。両条件ともに、移植後 6日目に配合例に準じて調製した水和 剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後 24日目に イネに対する薬害を上記の判定基準に従って調査した。その結果、化合物 (A) +ダ ィムロン、化合物(A) +ジメピぺレート、化合物(A) +エスプロカルプのいずれも、化 合物 (A)だけの場合に比べて、イネに対する薬害軽減効果を示した。 [0138] [Test Example 2] phytotoxicity test under standing seedlings and leakage conditions The seedling condition was 4 cm submersion conditions after alluvial soil was put into a 1Z10000 are plastic pot and water was mixed. A 2.5-leaf rice seedling was fixed on the rice pad with the roots exposed. On the other hand, water leakage conditions were the same as in Test Example 1, and 2.5-leaf rice seedlings were transplanted. Under both conditions, a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped with a wettable powder prepared according to the formulation example on the 6th day after transplantation. On the 24th day after drug treatment, the phytotoxicity of rice was investigated according to the above criteria. As a result, all of Compound (A) + Dimron, Compound (A) + Dimepiperate, and Compound (A) + Esprocalp showed a phytotoxicity-reducing effect on rice compared to Compound (A) alone. It was.
[0139] 〔試験例 3〕湛水条件における雑草発生前処理による除草効果試験 [Test Example 3] Herbicidal effect test by pretreatment of weeds in flooded condition
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し 、 4cmの湛水条件とした。ノビエ、ィヌホタルイ、コナギ、キカシグサ、ァゼナの種子を 播種し、播種後 2日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定 濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後 38日目に各種雑草に対する除草効果を 上記の判定基準に従って調査した。その結果、化合物 (A) +ダイムロン、化合物 (A ) +ジメピぺレート、化合物(A) +エスプロカルプのいずれも、化合物(A)だけの場 合に比べて、除草効果の低下が見られな力つた。 After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to create a 4 cm flood condition. The seeds of Novier, Inuhotarui, Konagi, Kakashigusa and Azena were sown, and a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the second day after sowing. On the 38th day after the chemical treatment, the herbicidal effect on various weeds was investigated according to the above criteria. As a result, all of Compound (A) + Daimlone, Compound (A) + Dimepiperate, and Compound (A) + Esprocalp have the ability to show no decrease in herbicidal effect compared to the case of Compound (A) alone. I got it.
[0140] 〔試験例 4〕湛水条件における雑草発生後処理による除草効果試験 [0140] [Test Example 4] Herbicidal effect test by post-weed weed treatment under flooded conditions
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、ィヌホタルイの種子 を播種し、水田表土で覆土した後、ノビエ、コナギ、キカシダサ、ァゼナの種子を播種 し、水を入れて 4cmの湛水条件とした。播種後 14日目に配合例に準じて調製した水 和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後 38日目 に各種雑草に対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。その結果、化 合物(A) +ダイムロン、化合物(A) +ジメピぺレート、化合物(A) +エスプロカルプ のいずれも、化合物 (A)だけの場合に比べて、除草効果の低下が見られな力つた。 After putting alluvial soil into a 1/10000 are plastic pot, seeding Inuhotarui seeds, covering with paddy field topsoil, seeding Nobies, Konagi, Kakashidasa, Azena seeds, adding water, 4 cm Water conditions were used. On the 14th day after seeding, a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a hydrating agent prepared according to the formulation example. On the 38th day after drug treatment, the herbicidal effect on various weeds was investigated according to the above criteria. As a result, the compound (A) + dimron, compound (A) + dimepiperate, and compound (A) + esprocarp showed no decrease in herbicidal effect compared to the case of compound (A) alone. I helped.
[0141] 〔試験例 5〕イネ置き苗条件における薬害試験 [0141] [Test Example 5] Chemical damage test under rice seedling conditions
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し 、 4cmの湛水条件とした。上記ポットに 2. 5葉期のイネ苗を、根を露出させたまま田 面に固定した。移植 6日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の 所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後 24日目にイネに対する薬害を上記 の判定基準に従って調査した。結果を第 4表に示す。 After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to create a 4 cm flood condition. A 2.5-leaf rice seedling was fixed on the rice pad with the roots exposed. Using the wettable powder prepared according to the formulation example on the 6th day of transplantation, A suspension having a predetermined concentration was dropped. On the 24th day after drug treatment, phytotoxicity to rice was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 4.
[表 4] [Table 4]
〔第 4表〕 化合物 処理薬量 置き苗 [Table 4] Compound treatment dose amount Seedling
(g/a) 化合物 1 1 . 5 1 (g / a) Compound 1 1 .5 1
3 3 3 3
化合物 9 1 . 5 2 Compound 9 1 .5 2
3 3 3 3
化合物 2 1 1 . 5 1 Compound 2 1 1. 5 1
3 2 3 2
化合物 1 +ダイムロン 1 . 5 + 1 0 0 Compound 1 + Daimlone 1.5 + 1 0 0
3 + 1 0 0 3 + 1 0 0
化合物 9 +ダイムロン 1 . 5 + 1 0 0 Compound 9 + Daimlone 1.5 + 1 0 0
3 + 1 0 0 3 + 1 0 0
化合物 2 1 +ダイムロン 1 . 5 + 1 0 0 Compound 2 1 + Daimlone 1.5 + 1 0 0
3 + 1 0 0 3 + 1 0 0
化合物 1 +エスプロ力ルブ 1 . 5 + 5 0 Compound 1 + Espurolube 1.5 + 5 0
3 + 5 1 3 + 5 1
化合物 9 +エスプロカルプ 1 . 5 + 5 1 Compound 9 + Esprocalp 1.5 + 5 1
3 + 5 2 3 + 5 2
化合物 2 1 +エスプロカルプ 1 . 5 + 5 0 Compound 2 1 + Esprocalp 1.5 + 5 0
3 + 5 1 3 + 5 1
化合物 1 +ジメピペレ一ト 1 . 5 + 5 0 Compound 1 + Dimepiperate 1.5 + 5 0
3 + 5 1 3 + 5 1
化合物 9 +ジメピぺレート 1 . 5 + 5 1 Compound 9 + Dimepiperate 1.5 + 5 1
3 + 5 2 3 + 5 2
化合物 2 1 +ジメピぺレート 1 . 5 + 5 0 Compound 2 1 + Dimepiperate 1.5 + 5 0
3 + 5 0 〔試験例 6〕湛水条件におけるァゼガヤ発生後処理による除草効果試験 3 + 5 0 [Test Example 6] Herbicidal effect test by post-treatment after generation of Azegaya in flooded condition
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、ァゼガヤ種子を播 種し、温室内で育成した。 20日間育成した後、湛水深が 2cmとなるよう水をカ卩え、配 合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理 した。薬剤処理後 20日目にァゼガヤに対する除草効果を上記の判定基準に従って 調査した。結果を第 5表に示す。 [0143] 〔試験例 7〕湛水条件におけるノビェ発生後処理による除草効果試験After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, seeds were seeded and grown in a greenhouse. After growing for 20 days, water was added so that the water depth was 2 cm, and a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the combination example. On the 20th day after the chemical treatment, the herbicidal effect against Azegaya was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 5. [0143] [Test Example 7] Herbicidal effect test by post-treatment of nobies in flooded condition
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、ノビエ種子を播種し 、温室内で育成した。 14日間育成した後、湛水深が 4cmとなるよう水を加え、その翌 日に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴 下処理した。薬剤処理後 21日目にノビエに対する除草効果を上記の判定基準に従 つて調査した。結果を第 5表に示す。 After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, seeds of Nobies were sown and grown in a greenhouse. After growing for 14 days, water was added so that the water depth was 4 cm, and the suspension solution with the prescribed concentration of the reagent was dropped using the wettable powder prepared according to the formulation example the next day. . On the 21st day after drug treatment, the herbicidal effect on nobies was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 5.
[0144] 〔試験例 8〕湛水条件におけるィヌホタルイ発生前処理による除草効果試験 [0144] [Test Example 8] Herbicidal effect test by pre-treatment of Inuhotarui under flooding conditions
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し 、 4cmの湛水条件とした。そのポットにィヌホタルイ種子 (秋田県本庄巿産)を播種し 、播種 1日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸 濁液を滴下処理した。薬剤処理後 21日目にノビエに対する除草効果を上記の判定 基準に従って調査した。結果を第 5表に示す。 After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to create a 4 cm flood condition. Innuhotarui seeds (from Honjo, Akita Prefecture) were sown in the pot, and a suspension with a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the first day of sowing. On the 21st day after drug treatment, the herbicidal effect on nobies was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 5.
[表 5] [Table 5]
〔第 5表〕 化合物 処理薬量 ァゼガヤ ノビエ ホタルイ [Table 5] Compound treatment dose Azegaya Nobie Firefly
( g/ a ) 化合物 1 0. 5 0 5 0 化合物 9 0. 5 0 5 0 化合物 21 0. 5 0 5 0 ピラゾスノレフ口ンェチノレ 0. 2 2 3 0 ベンスノレフロンメチル 0. 5 0 0 0 イマゾスノレフロン 0. 9 0 1 0 アジムスルフロン 0. 2 2 4 0 (g / a) Compound 1 0. 5 0 5 0 Compound 9 0. 5 0 5 0 Compound 21 0. 5 0 5 0 Pyrazos noreph nuchinol Snoreflon 0. 9 0 1 0 Azimusulfuron 0. 2 2 4 0
/ヽ Dスノレフ C3ンメチノレ 0. 6 0 0 0 シクロスノレフアムロン 0. 6 0 0 0 ェトキシス/レフロン 0. 2 1 2 0 ブロモブチド 9 0 0 5 プレチラクローノレ 4. 5 3 2 5 ブタクローノレ 7. 5 3 2 5 ォキサジァゾン 4. 5 1 2 5 ペントキサゾン 3 1 2 5 カフエンストローノレ 2. 5 5 5 5 ォキサジク口メフォン 0. 8 5 5 5 ィンダノフアン 1. 5 5 5 5 シハロホップブチル 1. 5 5 5 0 フェントラザミ ド 3 5 5 5 メフ ナセッ ト 10 5 5 5 モリネート 20 5 5 5 キンク口ラック 3 0 5 0 ジメタメ 卜 リ ン 0. 6 0 0 0/ ヽ D Snolev C3 Methinole 0. 6 0 0 0 Cyclos Nolef Amron 0. 6 0 0 0 Etoxys / Leflon 0. 2 1 2 0 Bromobutide 9 0 0 5 Pretiracronore 4.5 5 3 2 5 Butacronore 7.5 3 2 5 Oxadiazone 4. 5 1 2 5 Pentoxazone 3 1 2 5 Cuffenströnole 2.5 5 5 5 5 Oxazik mouth mephone 0. 8 5 5 5 Lindanophan 1. 5 5 5 5 Cihalohop butyl 1. 5 5 5 0 Fentrazamide 3 5 5 5 Mef Nassette 10 5 5 5 Molinate 20 5 5 5 Kink mouth rack 3 0 5 0 Dimetameline 0. 6 0 0 0
P CMB 2. 4 0 0 5 ベンゾビシクロン 2 4 4 5 ピロクラ二ノレ 1. 8 2 3 5P CMB 2. 4 0 0 5 Benzobicyclone 2 4 4 5 Piroclani nore 1. 8 2 3 5
AVH- 30 1 4 3 3 5 メソトリオン 0. 5 3 3 5 クロメプロップ 3. 5 0 0 5 化合物 1 +ピラゾスルフロンェチノレ 0 . 5 + 0. 2 2 5 0 化合物 1 +ベンスルフ口ンメチル 0 . 5 + 0. 5 0 5 0 化合物 1 +イマゾスルフ口ン 0 . 5 + 0. 9 1 5 0 化合物 1 +アジムスルフ口ン 0 . 5 + 0. 2 3 5 0 化合物 1 +ノ、ロスノレフロンメチル 0 . 5 + 0. 6 0 5 0 化合物 1 +シクロスノレフアムロン 0 . 5 + 0. 6 0 5 0 化合物 1 +ェ トキシスルフロン 0 . 5 + 0. 2 0 5 0 化合物 1 +ブロモブチド 0 . 5 + 9 0 5 5 化合物 1 +プレチラクロール 0 . 5 + 4. 5 3 5 5 化合物 1 +ブタクロール 0 . 5 + 7. 5 3 5 5 化合物 1 +ォキサジァゾン 0 . 5 + 4. 5 2 5 5 化合物 1 +ペントキサゾン 0 . 5 + 3 2 5 5 AVH- 30 1 4 3 3 5 Mesotrione 0.5 3 3 5 Chromprop 3.5 5 0 0 5 Compound 1 + Pyrazosulfuronetinore 0.5 + 0. 2 2 5 0 Compound 1 + Bensulfurn methyl + 0. 5 0 5 0 Compound 1 + Imazosulfone 0.5 0.5 + 0. 9 1 5 0 Compound 1 + Azimusulfone 0.5 0.5 + 0. 2 3 5 0 Compound 1 + Rosnoreflon methyl 0. 5 + 0. 6 0 5 0 Compound 1 + Cyclosnorefamlon 0.5 + 0. 6 0 5 0 Compound 1 + Ethoxysulfuron 0.5 + 0. 2 0 5 0 Compound 1 + Bromobutide 0.5 + 9 0 5 5 Compound 1 + Pretilachlor 0.5 + 4. 5 3 5 5 Compound 1 + Butachlor 0.5 .5 + 7. 5 3 5 5 Compound 1 + Oxadiazone 0.5 + 4.5 5 Compound 5 0. 5 + 3 2 5 5
[表 6] 匕合物 1 +カフエンス トローノレ 0 5 + 2. 5 5 5 5 匕合物 1 +ォキサジクロメフォン 0 5 + 0. 8 5 5 5 匕合物 1 +ィンダノフアン 0 5 + 1. 5 5 5 5 匕合物 1 +シハロホップブチル 0 5 + 1. 5 5 5 0[Table 6] Compound 1 + Cafence Tronore 0 5 + 2. 5 5 5 5 Compound 1 + Oxadichrome Fone 0 5 + 0. 8 5 5 5 Compound 1 + Linda Juan 0 5 + 1. 5 5 5 5 Compound 1 + Cihalohop butyl 0 5 + 1. 5 5 5 0
'匕合物 1 +フェントラザミ ド 0 5 + 3 5 5 5'Compound 1 + Fentrazamide 0 5 + 3 5 5 5
'匕合物 1 +メフヱナセット 0 5+10 5 5 5 匕合物 1 +モリネ一ト 0 5 + 20 5 5 5'Composite 1 + Mefner Set 0 5 + 10 5 5 5 Composite 1 + Molinaito 0 5 + 20 5 5 5
'匕合物 1 +キンク口ラック 0 5 + 3 0 5 0'Compound 1 + Kink mouth rack 0 5 + 3 0 5 0
'匕合物 1 +ジメタメ トリン 0 5 + 0. 6 0 5 0'Compound 1 + Dimetamethrin 0 5 + 0. 6 0 5 0
'匕合物 1 + PCMB 0 5 + 2. 4 0 5 5'Compound 1 + PCMB 0 5 + 2. 4 0 5 5
'匕合物 1 +ベンゾビシク口ン 0 5 + 2 4 5 5 匕合物 1 +ピロクラ二ノレ 0 5+ 1. 8 2 5 5 匕合物 1 + A VH- 301 0 5 + 4 3 5 5 匕合物 1 +メソトリオン 0 5 + 0. 5 3 5 5'Compound 1 + Benzovicone 0 5 + 2 4 5 5 Compound 1 + Pyrocraninore 0 5+ 1. 8 2 5 5 Compound 1 + A VH- 301 0 5 + 4 3 5 5 Compound 1 + Mesotrione 0 5 + 0. 5 3 5 5
'匕合物 1 +クロメプロップ 0 5 + 3. 5 0 5 5'Compound 1 + Chromprop 0 5 + 3. 5 0 5 5
'匕合物 9 +ピラゾスノレフ口ンェチノレ 0 5 + 0. 2 2 5 0'Composite 9 + Pyrazos Norev Neckinore 0 5 + 0. 2 2 5 0
'匕合物 9 +ベンスノレフ口ンメチノレ 0 5 + 0. 5 0 5 0'Composite 9 + Bensnoleph Michinore 0 5 + 0. 5 0 5 0
'匕合物 9 +イマゾスノレフ口ン 0 5 + 0. 9 1 5 0'Composite 9 + Imazo Snorev mouth 0 5 + 0. 9 1 5 0
'匕合物 9 +アジムスノレフロン 0 5 + 0. 2 2 5 0'Composite 9 + Azimus Noreflon 0 5 + 0. 2 2 5 0
'ヒ合物 9 +ノヽロスノレフロンメチノレ 0 5 + 0. 6 0 5 0'Hy compound 9 + Nos Roth Nore Fron Mechinole 0 5 + 0. 6 0 5 0
'匕合物 9 +シクロスノレファム口ン 0 5 + 0. 6 0 5 0'Compound 9 + Cyclos norefum mouth 0 5 + 0. 6 0 5 0
'匕合物 9 +ェトキシスノレフロン 0 5 + 0. 2 0 5 ϋ'Compound 9 + Etoxys noreflon 0 5 + 0. 2 0 5 ϋ
'匕合物 9 +ブロモブチド 0 5 + 9 0 5 5'Compound 9 + Bromobutide 0 5 + 9 0 5 5
'匕合物 9 +プレチラクロール 0 5 + 4. 5 3 5 5'Compound 9 + Pretilachlor 0 5 + 4. 5 3 5 5
'匕合物 9 +ブタクローノレ 0 5 + 7. 5 3 5 5'Composite 9 + Butacronore 0 5 + 7. 5 3 5 5
'匕合物 9 +ォキサジァゾン 0 5 + 4. 5 2 5 5'Compound 9 + Oxadiazon 0 5 + 4. 5 2 5 5
'匕合物 9 +ペントキサゾン 0 5 + 3 1 5 5'Compound 9 + pentoxazone 0 5 + 3 1 5 5
'匕合物 9 +カフエンス トロール 0 5 + 2. 5 5 5 5'Composite 9 + Caffence Troll 0 5 + 2.5 5 5 5
'匕合物 9 +ォキサジクロメフォン 0 5 + 0. 8 5 5 5'Compound 9 + Oxadichrome Mephone 0 5 + 0. 8 5 5 5
'匕合物 9 +ィンダノフアン 0 5+ 1. 5 5 5 5'Compound 9 + Lindano Juan 0 5+ 1. 5 5 5 5
'匕合物 9 +シハロホップブチル 0 5 +1. 5 5 5 0'Compound 9 + Cihalohop Butyl 0 5 +1. 5 5 5 0
'匕合物 9 +フェントラザミ ド 0 5 + 3 5 5 5'Compound 9 + Fentrazamide 0 5 + 3 5 5 5
'匕合物 9 +メフエナセット 0 5 +1 0 5 5 5'Composite 9 + Mehuena set 0 5 +1 0 5 5 5
'匕合物 9 +モリネ一ト 0 5 + 2 υ 5 5 5'Composite 9 + Moline 1 0 5 + 2 υ 5 5 5
'匕合物 9 +キンク口ラック 0 5 + 3 0 5 0'Composite 9 + Kink mouth rack 0 5 + 3 0 5 0
'ヒ合物 9 +ジメタメ トリン 0 5 + 0. 6 0 5 0'Hy compound 9 + dimetamethrin 0 5 + 0. 6 0 5 0
'匕合物 9 + P CMB 0 5 + 2. 4 0 5 5'Compound 9 + P CMB 0 5 + 2. 4 0 5 5
'匕合物 9 +ベンゾビシク口ン 0 5 + 2 4 5 5'Composite 9 + benzobisic mouth 0 5 + 2 4 5 5
:匕合物 9 +ピロクラニノレ 0 5+ 1. 8 2 5 5: Compound 9 + Pirocraninore 0 5+ 1. 8 2 5 5
'匕合物 9 +AVH- 301 0 5 + 4 3 5 5'Composite 9 + AVH- 301 0 5 + 4 3 5 5
'匕合物 9 +メソトリオン 0 5 + 0. 5 3 5 5'Compound 9 + Mesotrione 0 5 + 0. 5 3 5 5
[匕合物 9 +クロメプロップ 0 5 + 3. 5 0 5 5 ί匕合物 21 +ビラゾスルフロンェチル 0. 5 + 0. 2 2 5 0 ί匕合物 21 +ベンスルフロンメチル 0. 5 + 0. 5 0 5 0 ί匕合物 21 +イマゾスルフロン 0. 5 + 0. 9 0 5 0 ί匕合物 2 1 +アジムスルフロン 0. 5 + 0. 2 2 5 0 [匕合物 2 1 +ハロス/レフロンメチノレ 0. 5 + 0. 6 0 5 0 [匕合物 21 +シクロスルファムロン 0. 5 + 0. 6 0 5 0 ί匕合物 2 1 +ェトキシスルフロン 0. 5 + 0. 2 2 5 0 [表 7] 化合物 2 1 +ブロモプチド 0. 5 + 9 0 5 5 化合物 2 1 +プレチラクローノレ 0. 5 + 4. 5 3 5 5 化合物 2 1 +ブタクロール 0. 5 + 7. 5 3 5 5 化合物 2 1 +ォキサジァゾン 0. 5 + 4. 5 1 5 5 化合物 2 1 +ペントキサゾン 0. 5 + 3 2 5 5 化合物 2 1 +カフエンス トロ一ノレ 0. 5 + 2. 5 5 5 5 化合物 2 1 +ォキサジクロメフォン 0. 5 + 0. 8 5 5 5 化合物 2 1 +インダノフアン 0. 5 +1. 5 5 5 5 化合物 2 1 +シハロホップブチル 0. 5 +1. 5 5 5 0 化合物 2 1 +フェントラザミ ド 0. 5 + 3 5 5 5 化合物 2 1 +メフエナセット 0. 5 +1 0 5 5 5 化合物 2 1 +モリネ一ト 0. 5 + 20 5 5 5 化合物 2 1 +キンク口ラック 0. 5 + 3 0 5 0 化合物 2 1 +ジメタメ トリン 0. 5 + 0. 6 0 5 0 化合物 2 1 + P CMB 0. 5 + 2. 4 0 5 5 化合物 2 1 +ベンゾビシクロン 0. 5 + 2 4 5 5 化合物 2 1 +ピロクラ二ノレ 0. 5+1. 8 2 5 5 化合物 2 1 + AVH- 301 0. 5 + 4 3 5 5 化合物 2 1 +メ ソトリオン 0. 5 + 0. 5 3 5 5 化合物 2 1 +クロメプロップ 0. 5 + 3. 5 0 5 5 〔試験例 9〕茎葉処理による除草効果試験 [Compound 9 + Chromepprop 0 5 + 3. 5 0 5 5 Compound 21 + Virazosulfuronethyl 0.5 + 0. 2 2 5 0 Compound 21 + Bensulfuron methyl 0.5 + 0. 5 0 5 0 Compound 21 + Imazosulfuron 0.5 + 0. 9 0 5 0 Compound 2 1 + Azimusulfuron 0.5 + 0. 2 2 5 0 [Compound 2 1 + Halos / Leflon methinole 0.5 + 0. 6 0 5 0 [Compound 21 + Cyclosulfamuron 0.5 + 0. 6 0 5 0 Compound 2 1 + Ethoxysulfuron 0.5 + 0. 2 2 5 0 [Table 7] Compound 2 1 + Bromotide 0.5.5 + 9 0 5 5 Compound 2 1 + Pretilaclonorole 0.5.5 + 4. 5 3 5 5 Compound 2 1 + Butachlor 0.5.5 + 7. 5 3 5 5 Compound 2 1 + Oxadiazone 0.5 + 4. 5 1 5 5 Compound 2 1 + Pentoxazone 0.5.5 + 3 2 5 5 Compound 2 1 + Cafence Tronoreno 0.5.5 + 2. 5 5 5 5 Compound 2 1 + Oxadichromemephone 0.5 + 0. 8 5 5 5 Compound 2 1 + Indanophane 0.5 0.5 +1. 5 5 5 5 Compound 2 1 + Cyhalohop butyl 0.5 5 +1. 5 5 5 0 Compound 2 1 + Fentrazamide 0.5 + 3 5 5 5 Compound 2 1 + Mefenacet 0.5.5 +1 0 5 5 5 Compound 2 1 + Molinate 10.5 + 20 5 5 5 Compound 2 1 + Kink mouth rack 0. 5 + 3 0 5 0 Compound 2 1 + Dimetamethrin 0.5 + 0. 6 0 5 0 Compound 2 1 + P CMB 0.5 + 2. 4 0 5 5 Compound 2 1 + Benzobicyclone 0.5 + 2 4 5 5 Compound 2 1 + Pilocura Ninore 0.5 1 + 1 8 2 5 5 Compound 2 1 + AVH- 301 0.5 + 4 3 5 5 Compound 2 1 + Method ON 0.5 + 0. 5 3 5 5 Compound 2 1 + Chlomeprop 0.5 + 3.5 5 5 5 [Test Example 9] Herbicidal effect test by foliar treatment
1Z 10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し 、 4cmの湛水条件とした。そのポットにノビエ種子を播種し、さらにミズガヤッリ塊茎を 置床し、温室内で育成した。 14日間育成後、田面水を抜き取り、配合例に準じて調 製した水和剤を所定の薬量になるように水で希釈し、茎葉部へ小型スプレーで均一 に処理した。薬剤処理後 21日目に両植物に対する除草効果を上記の判定基準に 従って調査した。結果を第 6表に示す。 After alluvial soil was put into a 1Z 10000 are plastic pot, water was added and mixed to make a 4 cm flood condition. Nobies seeds were sown in the pot, and Mizugayari tubers were placed on the pot and grown in a greenhouse. After growing for 14 days, the surface water was extracted, the wettable powder prepared according to the formulation example was diluted with water to a prescribed dosage, and uniformly treated with a small spray on the foliage. On the 21st day after the chemical treatment, the herbicidal effect on both plants was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 6.
[¾8] 〔第 6表: 化合物 処理薬量 ノビエ ミズガヤッリ [¾8] [Table 6: Compound treatment dose Nobie Mizugayari
(g/a) 化合物 1 1 5 5 化合物 9 1 5 5 化合物 2 1 1 5 5 プロパニノレ 20 5 1 (g / a) Compound 1 1 5 5 Compound 9 1 5 5 Compound 2 1 1 5 5 Propaninole 20 5 1
2, 4 -PA 10 0 0 ベンタゾン 10 0 5 化合物 1 + プロパニル 1 + 20 5 5 化合物 1 + 2, 4 -P A 1 + 10 5 5 化合物 1 + ベンタゾン 1 + 10 5 5 ィ匕合物 9 + プロパニル 1 + 20 5 5 化合物 9 + 2, 4 - P A 1 + 10 5 5 化合物 9 + ベンタゾン 1 + 10 5 5 化合物 21 +プロパニル 1 + 20 5 5 化合物 21 + 2, 4 - P A 1 + 10 5 5 化合物 21 +ベンタゾン 1 + 1 0 5 5 産業上の利用可能性 2, 4 -PA 10 0 0 Bentazone 10 0 5 Compound 1 + Propanyl 1 + 20 5 5 Compound 1 + 2, 4 -PA 1 + 10 5 5 Compound 1 + Bentazone 1 + 10 5 5 Compound 9 + Propanyl 1 + 20 5 5 Compound 9 + 2, 4-PA 1 + 10 5 5 Compound 9 + Bentazone 1 + 10 5 5 Compound 21 + Propanyl 1 + 20 5 5 Compound 21 + 2, 4-PA 1 + 10 5 5 Compound 21 + Bentazone 1 + 1 0 5 5 Industrial Applicability
以上の結果から明らかなように、本発明組成物は、例えば、水田用の除草剤として 有用である。 As is clear from the above results, the composition of the present invention is useful, for example, as a herbicide for paddy fields.
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