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WO2004006235A1 - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント Download PDF

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Publication number
WO2004006235A1
WO2004006235A1 PCT/JP2003/008558 JP0308558W WO2004006235A1 WO 2004006235 A1 WO2004006235 A1 WO 2004006235A1 JP 0308558 W JP0308558 W JP 0308558W WO 2004006235 A1 WO2004006235 A1 WO 2004006235A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
polymer
ethylenically unsaturated
unsaturated bond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2003/008558
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroko Miyoshi
Akio Nakano
Katsunori Tsuchiya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to US10/519,987 priority Critical patent/US20060051698A1/en
Priority to JP2004519277A priority patent/JPWO2004006235A1/ja
Priority to KR10-2004-7017051A priority patent/KR20050005458A/ko
Priority to EP03741210A priority patent/EP1569213A1/en
Priority to AU2003281404A priority patent/AU2003281404A1/en
Publication of WO2004006235A1 publication Critical patent/WO2004006235A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
    • G11B7/24035—Recording layers
    • G11B7/24038—Multiple laminated recording layers

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition and a photosensitive element using the same.
  • a recording medium having a high recording density is required, and a digital versatile disk (DVD) is receiving attention as a high-density recording medium.
  • DVDs the recording capacity (4.7 GB) of about 7 times that of CD-ROM has been achieved by shortening the wavelength of the light source and increasing the aperture of the objective lens. It is thought that the recording density can be further improved with the practical use of laser.
  • a multilayer optical disc in which a recording layer in which pits and groups carrying information are formed and a spacer made of transparent resin are alternately stacked. Is being promoted.
  • optical discs in particular, multilayer optical discs (which have multiple recording layers) have a problem that they deteriorate over time. That is, when the optical disk was subjected to an environmental acceleration test (for example, a test in which the optical disk was held at a temperature of 80 ° C and a humidity of 85% RH for 96 hours), the recording layer was deteriorated. In some cases, poor adhesion between the optical disk substrate and the spacer layer may occur.
  • an environmental acceleration test for example, a test in which the optical disk was held at a temperature of 80 ° C and a humidity of 85% RH for 96 hours
  • the present inventors aimed at solving the above problems by ascertaining whether the deterioration of the recording layer was due to oxidation of the recording layer or using a material for forming the recording layer.
  • the factors of deterioration were examined from the viewpoint of the chemical change of the recording layer, such as whether it was caused by contamination of the recording layer, unexpectedly, the deterioration was caused by the deformation of the recording layer (physical Change).
  • the factors of the poor adhesion between the optical disk substrate and the spacer layer were examined, it was found that the poor adhesion was caused by the molecular structure of the resin for forming the spacer layer.
  • the present invention has been made based on such knowledge, and is a composition for forming a spacer layer of an optical disk, and has transparency and film thickness to a reading laser. It is possible to suppress the deformation of the recording layer due to thermal expansion and the poor adhesion between the optical disk substrate and the spacer layer while maintaining the usual required characteristics required for the spacer layer, such as the uniformity of the recording layer. It is intended to provide a composition.
  • the present inventors have conducted intensive studies based on the above findings, and as a result, have used a cured product of a photosensitive resin composition having a predetermined composition as a spacer layer of an optical disc.
  • the present inventors have found that the above object can be achieved by setting the glass transition temperature of the cured product within a predetermined range, or by setting the crosslinking density of the cured product within a predetermined range, and completed the present invention. .
  • the present invention provides an optical disk comprising: two transparent substrates disposed to face each other; and a recording layer and a spacer layer disposed between the facing surfaces of the transparent substrates.
  • the photosensitive resin composition of the present invention has the above composition, and has a glass transition temperature (hereinafter, referred to as "Tg") of the cured photosensitive resin composition of 100 to 100. Since the temperature is 180 ° C., the thermal expansion of the cured photosensitive resin composition is suppressed even when the optical disk manufactured using the optical disk is held at a high temperature and / or high humidity for a long time. As a result, the deformation of the recording layer of the optical disc is suppressed, so that the In addition, the problem of deterioration of the multilayer optical disc does not occur.
  • Tg glass transition temperature
  • the present invention also provides an optical disc comprising: two transparent substrates disposed so as to face each other; and a recording layer and a spacer layer provided between opposing surfaces of the transparent substrates.
  • a photosensitive resin composition comprising: a cross-linking density after curing, calculated by the following formula (1), of 1, lO Ommo 1 ZL or more.
  • T is the temperature at which the loss tangent when the dynamic viscoelasticity is measured by changing the temperature is 40 ° C
  • E ' is the storage at T
  • the photosensitive resin composition of the present invention can suppress poor adhesion between the optical disk substrate and one of the spacers by adopting the above configuration. Hardly deteriorates.
  • the present invention provides a photosensitive element comprising: a support; and a photosensitive resin composition layer formed on the support, the photosensitive resin composition comprising the photosensitive resin composition.
  • a photosensitive element is provided with a photosensitive resin composition layer comprising the photosensitive resin composition of the present invention, and a cured product of the layer can be used as a spacer layer of an optical disc, so Not only does the problem of serious deterioration of the recording layer not occur, but it is also possible to improve the characteristics required for a spacer such as transparency and uniformity of the film thickness for the reading laser.
  • FIG. 1 is a sectional view showing a first mode of the optical disc.
  • FIG. 2 is a sectional view showing a second mode of the optical disc.
  • FIG. 3 is a sectional view showing a third mode of the optical disc.
  • FIG. 4 is a sectional view showing a fourth mode of the optical disc.
  • Figure 5 A-E are , sectional view conceptually illustrating a method of manufacturing a multilayer optical disc ⁇
  • FIG. 6 is a diagram showing an example of a change in infrared absorption spectrum of an acryl group contained in the photopolymerizable compound in the photosensitive resin composition layer before and after ultraviolet irradiation.
  • FIG. 7 is a view showing an example of the measurement results of the dynamic viscoelasticity of the cured photosensitive resin composition.
  • the photosensitive resin composition of the present invention comprises: two transparent substrates disposed to face each other; a recording layer disposed between the opposing surfaces of the transparent substrates; An optical disc including a spacer layer and a spacer layer is used to form the spacer layer.
  • FIGS. 1, 2, 3 and 4 are cross-sectional views showing optical discs to which the photosensitive resin composition of the present invention can be applied.
  • the optical disk 1 (single-layer optical disk) shown in FIG. 1 has a recording layer 12 and a spacer layer 14 formed on a transparent substrate 10 in this order.
  • a transparent substrate 10 is provided.
  • the optical disc 1 (multi-layer optical disc) shown in FIG. 2 has one recording layer 12 between the spacer layer 14 and the transparent substrate 10 in FIG.
  • the optical disc 1 (multi-layer optical disc) shown in FIG. 3 has a recording layer 12 and a spacer layer 14 alternately formed in two layers on a transparent substrate 10 in this order.
  • a transparent substrate 10 is provided on the layer 14.
  • the optical disc 1 (multi-layer optical disc) shown in FIG. 4 has one recording layer 12 between the spacer layer 14 and the transparent substrate 10 in FIG.
  • the recording layer 12 made of a metal thin film is formed on the pit surface of the transparent substrate 10 having a pit (FIG. 5A) (FIG. 5B).
  • the stamper 16 is brought into contact with the spacer layer 14 (see FIG. 5C), pits are formed in spacer layer 14 (Fig. 5D).
  • a recording layer 12 made of a metal thin film is formed on the spacer layer 1.4 by vacuum evaporation or sputtering (FIG. 5E).
  • the layers are multiplied by repeating B to E in FIG.
  • the spacer layer 14 may be formed by laminating the photosensitive resin composition layer on the recording layer 12 or by stamping the photosensitive resin composition layer laminated on the recording layer 12. Are contacted to form pits, and then photocured (and may be accompanied by thermal curing) by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays.
  • the Tg of the photosensitive resin composition after curing is from 10 ° C to 180 ° C.
  • “curing” means that the amount of ultraviolet light exposure is in units of 100 mJ.
  • the curing degree after the increase compared to the curing degree before the increase, if the change within 2-3% of the ultraviolet light of the exposure before the increase Irradiation is performed.
  • the “curing degree” is a characteristic absorption of an out-of-plane bending vibration of an acryl group contained in a photopolymerizable compound in a photosensitive resin yarn layer using an infrared spectrometer.
  • T g means a temperature at which a loss tangent at the time of measuring dynamic viscoelasticity described below shows a maximum value.
  • Tg when TMA is used means that the cured film cured as described above is cut into 4 mm X 2 O mra, and TMA (TM A-120, manufactured by Seiko Denshi Co., Ltd.) in a temperature range of 0 to 200 ° C and a heating rate of 5 ° C / min.
  • TMA is a method of measuring the deformation of a substance as a function of temperature by applying a non-oscillating load while changing the temperature of the substance according to a regulated program. Since the slope corresponds to the magnitude of the coefficient of thermal expansion, T g can be determined from the change in the slope.
  • the Tg of the photosensitive resin composition after curing is less than 100 ° C, thermal expansion of the cured product is observed under a high temperature condition, or a local rise occurs due to a temperature rise by a reading laser beam. Problems such as thermal expansion of the cured product are observed. If the T g exceeds 180 ° C, the cured product will have insufficient flexibility and poor adhesion to the transparent substrate and other layers of the optical disc.
  • the Tg of the photosensitive resin composition layer after curing is preferably from 110 to 170 ° C, more preferably from 120 to 160 ° C.
  • Examples of a method for adjusting the Tg after curing of the photosensitive resin composition to the above-described preferable range include the following methods.
  • crosslink density after curing of the photosensitive resin composition is 1,100 mmo1 ZL or more.
  • crosslink density refers to the literature (Ogata et al., J. Appl. Polym. Sci., 48, 583 (1993)), which is calculated using the following formula (1).
  • Equation (1) above is called the rubber state equation.
  • ⁇ is the cross-linking density
  • ⁇ is the temperature obtained by adding 40 ° C to the temperature at which the loss tangent when the dynamic viscoelasticity is measured by changing the temperature
  • E ′ is In the above T, the storage elastic modulus
  • ⁇ is the front coefficient
  • R is the gas constant.
  • the storage elastic modulus is defined by the following conditions and the distance between chucks using a dynamic viscoelasticity analyzer (DMA (Dynamic Mechanical Analysis) RSA-II viscoelasticity analyzer, manufactured by Rhomotorics). 20 mm, test frequency 1 Hz, temperature range 0 to 200 ° C, heating rate 5 ° CZ, measured in tensile mode.
  • DMA Dynamic Mechanical Analysis
  • RSA-II viscoelasticity analyzer manufactured by Rhomotorics
  • T and E ′ are obtained from the above measurement results, and these values are substituted into the above equation (1) to calculate the crosslinking density.
  • a high pressure mercury lamp large UV irradiation machine having a lamp (Oak Co., QRM- 2 3 1 7-F- 00) with ultraviolet photosensitive resin composition layer 2 jZcm 2 Irradiate and use the cured film cut to 6 ⁇ x 35 ram.
  • the crosslink density of the photosensitive resin composition after curing is less than 1,10 Ommol / L, a problem occurs when the adhesion to the optical disk substrate is poor. If the crosslink density exceeds 8,000 mmol / L, the curing shrinkage of the photosensitive resin composition may increase, and the optical disc substrate may be distorted.
  • the crosslinking density of the photosensitive resin composition after curing is preferably from 1,100 to 8,000 Ommo 1 L, more preferably from 2,000 to 750 Ommo 1 / L, and from 2,500 to 7, More preferably, it is 00 Ommo 1 ZL, particularly preferably 3,000 to 6,000 Ommo 1 ZL.
  • Examples of a method for setting the crosslink density after curing of the photosensitive resin composition to the above-described preferable range include the following methods.
  • the photosensitive resin composition of the present invention has a cured product having a Tg of 100 to 180 ° C after curing and a crosslink density after curing of at least 1,10 Ommo 1 / L.
  • the thermal expansion of the optical disk is suppressed, and the deterioration of the recording layer over time can be prevented, and the adhesion between the optical disk substrate and the spacer layer can be improved.
  • binder polymer Particularly preferred as the binder polymer (hereinafter sometimes referred to as "component (A)") are aromatic polycarbonates and polymers having a double bond in a side chain, which may be used alone or in combination. Can be used.
  • the binder polymer should be selected so that the Tg of the photosensitive resin composition after curing is 100 to 180 ° C and / or the crosslink density after curing is 1,10 Ommo1 / L or more. Is preferred.
  • the binder polymer can further include a resin such as an acrylic resin, a styrene resin, an epoxy resin, an amide resin, an amide epoxy resin, an alkyd resin, and a phenol resin. Also in this case, it is desirable to adjust the Tg and Z or the crosslink density within the above range.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer is preferably at least 10,000, more preferably from 10,000 to 300,000, and even more preferably from 20,000 to 100,000. Preferably, 40,000-60
  • the weight average molecular weight is less than 10,000, the film-forming properties tend to be poor, and if it exceeds 300,000, the solubility and compatibility with solvents and monomers are reduced, and handling tends to be difficult.
  • the binder polymer is an aromatic polycarbonate
  • the weight average molecular weight is desirably within the above-mentioned preferred range.
  • the weight-average molecular weight refers to a calibration using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). It means the weight average molecular weight converted by a line.
  • the aromatic polycarbonate as the binder polymer is preferably a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1).
  • X represents a divalent group represented by the following formula (2), a divalent group represented by the following formula (3) or a divalent group represented by the following formula (4).
  • Aromatic polycarbonate which is particularly suitable as a binder ⁇ "polymer because it is a compound called Z is bisphenol A-based polycarbonate, bisphenol F-based polycarbonate, bisphenol Z-based polycarbonate.
  • -It is a ponate.
  • the repeating unit represented by the above general formula (1) preferably contains 40 to 150 units in the molecule.
  • the aromatic polycarbonate may contain other repeating units as long as it contains the above general formula (1), and may contain a divalent group represented by the above formulas (2) to (4). You only need to have at least one.
  • a repeating unit other than the repeating unit represented by the general formula (1) is further included, or when a plurality of types of the repeating unit represented by the general formula (1) are included, these repeating units are It may constitute a random chain or a block chain (a polymer having a double bond in the side chain)
  • a polymer having an ethylenically unsaturated bond in a side chain which is a binder polymer
  • At least one monomer selected from the group consisting of a hydroxyl monomer having an ethylenically unsaturated bond and a hydroxyl group and a glycidyl monomer having an ethylenically unsaturated bond and a glycidyl group is added to a polymer having a carboxyl group.
  • Polymer 1 having an ethylenically unsaturated bond Polymer 1 having an ethylenically unsaturated bond
  • At least one monomer selected from the group consisting of a glycidyl monomer having an ethylenically unsaturated bond and a glycidyl group and an isocyanate monomer having an ethylenically unsaturated bond and an isocyanate group is added to the polymer having a hydroxyl group.
  • a polymer obtained by the reaction hereinafter referred to as “polymer 2 having an ethylenically unsaturated bond”.
  • the polymer 1 having an ethylenically unsaturated bond is formed by a reaction between a carboxyl group of a polymer having a propyloxyl group, a hydroxyl group of a hydroxyl monomer, and a glycidyl group of a hydroxy or glycidyl monomer.
  • Polymer T JP2003 / 008558 is a polymer having an ethylenically unsaturated bond introduced into a side chain via an ester bond and a z or ether bond.
  • the polymer 2 having an ethylenically unsaturated bond is formed by a reaction between a hydroxyl group of a polymer having a hydroxyl group, a glycidinole group of a glycidinole monomer, and an isocyanate group of Z or isocyanate monomer. And a polymer in which an ethylenically unsaturated bond is introduced into a side chain via an ether bond and a no or urethane bond.
  • the polymer having an olepoxyl group used in the synthesis of the polymer 1 having an ethylenically unsaturated bond includes:
  • a copolymer of a carboxyl monomer having a carboxyl group and a copolymerizable monomer copolymerizable with the carboxyl monomer hereinafter referred to as “carpoxyl polymer 1”;
  • a polymer obtained by condensing a phenoxy resin with a polybasic acid compound hereinafter referred to as “carboxyl polymer 2”
  • a polymer obtained by condensing a hydroxyl polymer containing a hydroxyl group monomer as a monomer unit with a polybasic acid compound hereinafter referred to as “carboxyl polymer 3”.
  • the polymer having a hydroxyl group used for the synthesis of the polymer 2 having an ethylenically unsaturated bond includes a copolymer of a hydroxynole monomer and a copolymerizable monomer copolymerizable with the hydroxyl monomer. It is preferably a polymer and / or a phenoxy resin.
  • the carboxyl monomers used in the synthesis of the carboxyl polymer 1 include, for example, (meth) acrylic acid, ⁇ -bromo (meth) acrylic acid, a-chloro (meth) acrylic acid,
  • (meth) acryl means acryl or methacrylate
  • (meth) acrylate refers to acrylate or (meth) acrylate.
  • a (meth) acrylic acid ester represented by the following general formula (5) may be mentioned.
  • it is at least one (meth) acrylate selected from the group consisting of alkyl (meth) acrylate, cycloalkyl (meth) acrylate and cycloalkyl (meth) acrylate.
  • R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 22 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 22 may have a linear structure, a branched structure, or a cyclic structure.
  • Alkyl (meth) acrylates include, for example, methyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate Esters, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate
  • the cycloalkyl (meth) acrylate include isoborninole (meth) acrylate. These can be used alone or in combination of two or more.
  • (meth) acrylic acid It is preferable to use a combination of an alkyl ester and a cycloalkyl (meth) acrylate.
  • the phenoxy resin used in the synthesis of the carboxy polymer 2 or the polymer 12 having an ethylenically unsaturated bond includes, for example, polyhydroxypolyether obtained by polymerization of bisphenol A and epichlorohydrin. Can be The weight average molecular weight of the phenoxy resin is preferably from 10,000 to 100,000. In addition, each repeating unit of the bisphenol A unit and the epichlorohydrin unit in the polyhydroxy polyether may form a random chain or a block chain.
  • the hydroxyl monomer used for the synthesis of the polymer 1 or 2 having an ethylenically unsaturated bond includes a hydroxyalkyl (meth) acrylate resin, and such a compound is, for example, Can be represented by the following general formula (6)
  • H 2 C C-COO-R 32 -OH '( 6 )
  • R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 32 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. Note that R 32 may have a linear structure, a branched structure, or a cyclic structure. R 32 is preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • hydroxyyl monomer 2-hydroxyxetinole (meth) acrylate is particularly preferred.
  • the above-mentioned hydroxyl Monomers can be used as one unit of monomer.
  • the hydroxyl polymer or the polymer having a hydroxyl group include a hydroxyl monomer and a (meth) acrylic acid.
  • Copolymers withizic esters are exemplified.
  • the repeating unit constituting the copolymer may be a random chain or a block chain.
  • the polybasic acid compound used in the synthesis of the carboxy polymer 2 or 3 includes a polybasic acid or an acid anhydride thereof.
  • the polybasic acid include a dicarboxylic acid compound, a tricarboxylic acid compound, and a tetracarboxylic acid compound, and a dicarboxylic acid compound represented by the following general formula (7) is preferable.
  • Examples of the acid anhydride of the polybasic acid include acid anhydrides corresponding to the above polybasic acids, and the acid anhydride of the dicarboxylic acid compound represented by the above general formula (7) is preferable.
  • the carboxyl polymer 2 is formed by condensation of a phenoxy resin with a polybasic acid, and Z or by ring-opening condensation of the phenoxy resin with an acid anhydride of a polybasic acid.
  • Polymer Such a polymer has an ester bond based on the above reaction and an ether bond based on the phenoxy resin.
  • the carboxyl polymer 3 means a polymer formed by condensation of a hydroxyl polymer and a polybasic acid, and / or a polymer formed by ring-opening condensation of a hydroxyl polymer and an acid anhydride of a polybasic acid. .
  • Such a polymer has an ester bond based on the above reaction.
  • R 6 1 represents a linear or branched ⁇ alkylene group of from 1 to 1-8 carbon atoms, straight-chain or branched alkylene group having a carbon number of 2 to 1 0 Are preferable, and a linear or branched alkylene group having 2 to 6 carbon atoms is more preferable.
  • alkylene group examples include methylene, ethylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, heptamethylene, octamethylene, nonamethylene, decamethylene, dimethinolemethylene, ethynolemethylene, propylene, methylethylene, ethynoleethylene, and propylene / ethylene. And isopropynoleethylene, methinolepentaethylene, ethyl / lehexamethylene, dimethylinoethylene, methinoletriethylene, dimethyltrimethylene, octadecylmethylene and the like.
  • the glycidyl monomer used in the synthesis of the polymer 1 or 2 having an ethylenically unsaturated bond includes, for example, glycidyl (meth) atalylate,] 3-methyldali.cydyl methacrylate, aryl glycidyl ether and the like.
  • Aliphatic epoxy group-containing unsaturated compounds, and alicyclic epoxy group-containing unsaturated compounds such as 1,2-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate.
  • grisidinole (meth) acrylate Is preferred.
  • the isocyanate monomer used for the synthesis of the polymer 2 having an ethylenically unsaturated bond includes, for example, an aliphatic isocyanate unsaturated compound such as isocyanate alkyl (meth) acrylate.
  • an aliphatic isocyanate unsaturated compound such as isocyanate alkyl (meth) acrylate.
  • examples of the isocyanate alkyl (meth) acrylate include isocyanate ethyl (meth) acrylate, isocyanate methyl (meth) acrylate, and isocyanate propyl.
  • Examples thereof include (meth) acrylate and, among them, isocyanateethyl (meth) acrylate.
  • the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter, simply referred to as “photopolymerizable compound” or “component (B)”) in the photosensitive resin composition may be used alone or in combination with a plurality of lights. It is composed of a polymerizable compound.
  • the photopolymerizable compound preferably contains a bisphenol A-based (meth) atalylate compound, and the bisphenol A-based (meth) atalylate compound is represented by the following general formula (8).
  • the compound is
  • R 51 ⁇ Pi R 52 are each independently a hydrogen atom or a methyl group.
  • X and Y each independently represent an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, but each is preferably independently an ethylene group or a propylene group, and both are preferably ethylene groups.
  • the aromatic ring in the general formula (8) may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon atom.
  • alkylcarbonyl group having 0 to 10 carbon atoms an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an N-alkylcarbamoyl group having 2 to 10 carbon atoms, a group containing a heterocyclic ring, and an aryl group substituted with these substituents.
  • the above substituents may form a condensed ring, and a hydrogen atom in these substituents may be substituted with the above substituent such as a halogen atom.
  • the number of substituents is 2 or more, the two or more substituents may be the same or different.
  • the compound represented by the general formula (8) for example, 2,2-bis (4-1 ((meth) atalyloxypolyethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- ((Meth) ataryloxypolypropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- ((meth) acryloxypolybutoxy) phenyl) propane, 2, 2-bis (4-1 ((meta) Acryloxypolyethoxypolypropoxy), fuel) propane, etc., which can be used alone or in combination of two or more.
  • BPE-500 product name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • BPE-1300 product name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • Examples of 2,2-bis (4-((meth) atalyloxypolypropoxy) phenyl) propane include, for example, 2,2-bis (4-((meth) atalyloxydipropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meta) atalioxyxitolipropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-(((meth) atalyloxytetrapropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4— ( (Meth) Atari mouth Xypentapropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acryloxyhexapropoxy) phenyl) propane, 2, 2-bis (4-((meta) Chryroxyheptapropoxy) feninole) Propane, 2,2-bis (4-1 ((meth) acrylic acid xyloctapropoxy) phenyl) Propane, 2,2-bis (4-1-((meta) ataryloxy Nonapropoxy)
  • 2,2-bis (4-((meth) atalyloxypolyethoxypolypropoxy) phenyl) propane examples include, for example, 2,2-bis (4-(((meth) a) acryloxyjetoxypropoxy). ) Phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) acrylic oxytetraethoxytetrapropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-1 ((meth) atari xyhexethoxyhexapropoxy) ) Phenyl) propane and the like.
  • the bisphenol A-based (meth) acrylate compound a derivative thereof can also be used.
  • a derivative include a compound obtained by adding acrylic acid to bisphenol A-diepoxy (DGEBA). , Screw coat :) ⁇
  • the photopolymerizable compound that can be used as the photopolymerizable compound other than the bisphenol A-based (meth) atalylate compound includes, for example, tricyclodecane dimethanol di (meth) atalylate; neopentyl glycol-modified Limethylolpropane di (meth) atalylate; a compound obtained by reacting an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid with a polyhydric alcohol; a compound obtained by reacting a ⁇ -unsaturated carboxylic acid with a glycidyl group-containing compound Compounds; urethane monomers such as (meth) acrylate compounds having a urethane bond in the molecule; nonylphenyldioxylylene (meth) acrylate; —chloro-1] 3-hydroxypropyl-1 ′-(meta) atano
  • tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate is suitable for increasing the Tg of the photosensitive resin composition after curing.
  • Compounds obtained by reacting polyunsaturated alcohols with [3] -unsaturated carboxylic acids include, for example, polyethylene diol glycol (meth) atali- ties having 2 to 14 ethylene groups.
  • Atarilate trimethylolpropanediethoxytri (meta) Atarilate, trimethylolpropanetriethoxytri (meta) Atarilate, trimethylolpropanetetraethoxytri (meta) atalilate, trimethylolpropanepentaethoxytri (meta) Acrylate, Tetrameti Methane tri (meth) acrylate, tetramethylol methane tetra (meth)
  • the photopolymerizable compound is preferably used in combination of two or more of the above photopolymerizable compounds.
  • a combination of the photopolymerizable compounds a combination of a trifunctional or higher functional photopolymerizable compound and a monofunctional or bifunctional photopolymerizable compound is preferable.
  • the Tg of the cured photosensitive tree composition can be kept in a favorable range (100 to 180 ° C).
  • the photopolymerizable compound preferably contains an atalylate-based photopolymerizable compound.
  • the photopolymerization initiator (hereinafter, sometimes referred to as “component (C)”) in the photosensitive resin composition may be any as long as it can polymerize the above photopolymerizable compound, and is not particularly limited. Photoinitiators that generate free radicals by ultraviolet or visible light are preferred.
  • photopolymerization initiators examples include benzoin methyl ether, benzoin ethino oleate / benzo, benzoin propino oleate, benzoin sobutino oleate, and benzoin phenol.
  • Benzoin ethers such as oleatenole, benzophenone, N, N'-tetramethyl-1,4,4'-diaminobenzophenone (michlaketone), N, ⁇ '-tetraethinole-1, A 'diaminobenzophene
  • Benzonoresones such as benzophenones such as nonone, benzylinoresmethinoleketanore (Circa 'Specialty' Chemicals Co., Ltd., irgacure 651), benzylketals such as benzylethylethyl ketal, and 2,2-dimethoxy-12-phenylacetophenone Xanthos of acetophenones such as tert-ptinoresichloroacetophenone and p-dimethylaminoacetophenone Or hydroxycyclohexynolepheninoleketone (Circa Specialty Co., Ltd.,
  • 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylugetone is preferable because of its excellent compatibility and low yellowing, and such a compound is preferably IRGACURE 184 (Ciba Specialty Chemicals). It is commercially available as (product name).
  • composition of photosensitive resin composition The components (A), (B) and (C) are preferably contained so as to have the following composition. That is, the amount of the component (A) is preferably 30 to 90 parts by weight, more preferably 45 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). More preferred. If the compounding amount of the component (A) is less than 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B), the cured product becomes brittle, and the coating properties when forming the photosensitive element are reduced. Tend to be worse. When the amount exceeds 90 parts by weight, the light sensitivity tends to decrease.
  • the blending amount of the component (B) is preferably 10 to 70 parts by weight, and more preferably 30 to 55 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). Is more preferable. If the blending amount of the component (B) is less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B), the photosensitivity tends to decrease, and if it exceeds 70 parts by weight. However, the cured product becomes brittle, and the coating properties when forming the photosensitive element tend to deteriorate.
  • the compounding amount of the component (C) is preferably from 0.1 to 20 parts by weight, more preferably from 0.2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). Is more preferable.
  • the blending amount of the component (C) is less than 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B)
  • the light sensitivity tends to decrease, and exceeds 20 parts by weight.
  • absorption at the surface of the composition at the time of exposure increases, and the internal light curing tends to be insufficient.
  • a photopolymerizable compound (oxetane compound or the like) having at least one cationically polymerizable cyclic ether group in the molecule, Cationic polymerization initiators, dyes such as malachite green, photochromic agents such as tripromophenyl sulfone and leuco crystal violet, thermal color inhibitors, plasticizers such as p-toluenesulfonamide, pigments, fillers, and dyes Foaming agents, flame retardants, stabilizers, adhesion promoters, leveling agents, release accelerators, antioxidants, A fragrance, an imaging agent, a thermal crosslinking agent and the like can be contained in an amount of about 0.01 to 20 parts by weight, respectively, based on 100 parts by weight of the total of the components (A) and (B). These can be used alone or in combination of two or more.
  • the photosensitive element of the present invention comprises: a support; and a photosensitive resin composition layer formed of the above-described photosensitive resin composition of the present invention formed on the support.
  • a protective film for covering the photosensitive resin composition layer may be further provided on the photosensitive resin composition layer.
  • the photosensitive resin composition layer may be formed by adding the above-mentioned photosensitive resin composition to methanol, ethanol, acetone, methylethyl ketone, methinoreserosonol, ethylse mouth solve, if necessary. After dissolving in a solvent such as toluene, N, N-dimethinolefo / remamide, propylene glycol monomethyl ether or a mixed solvent thereof to obtain a solution having a solid content of about 25 to 70% by weight, the solution is roll-coated with a comma coater. It can be formed by coating on a support by a known method such as a coater, a gravure coater, an air knife coater, a die coater, a bar coater and the like, followed by drying.
  • Drying can be carried out at 70 to 15 O ° C for about 5 to 30 minutes, and the amount of the residual organic solvent in the photosensitive resin composition layer is determined later. From the viewpoint of preventing the diffusion of the organic solvent in the step, the content is preferably 2% by weight or less.
  • the photosensitive element is provided with a protective film, it is preferable to cover the formed photosensitive resin composition layer with the protective film after drying the organic solvent solution.
  • a polymer film having heat resistance and solvent resistance such as polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polyester, or polyimide
  • the protective film polyethylene, polypropylene, or the like can be used.
  • a polymer film having heat resistance and solvent resistance can be used.
  • the thickness of these polymer films is preferably from 1 to 100 m.
  • the protective film preferably has a smaller adhesive strength between the photosensitive resin composition layer and the protective film than the adhesive strength between the photosensitive resin composition layer and the support. It is preferably a film.
  • the thickness of the photosensitive resin composition layer in the photosensitive element is preferably about 1 to 100 ⁇ after drying.
  • the film thickness accuracy at this time is preferably ⁇ 2/2 m, more preferably ⁇ 1.0 ⁇ , based on the film thickness of the photosensitive resin composition layer after drying. It is particularly preferred that it is ⁇ 0.5 ⁇ . If the film thickness accuracy is out of the range of ⁇ 2 ⁇ , the photosensitive resin composition layer will not be uniformly laminated on the substrate, and the thickness of the spacer layer on the optical disk will not be uniform, resulting in information from the optical disk. The reading accuracy tends to decrease, and the production yield of optical discs tends to decrease.
  • the film thickness accuracy refers to the difference between the film thickness of the photosensitive resin composition layer after curing and the film thickness direction.
  • the film thickness accuracy is 1 mm at intervals of 20 mm in the film width direction (340 mm). It is the average of seven measurements.
  • the water absorption of the photosensitive resin composition layer after curing is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less, and even more preferably 1% or less. . If the water absorption exceeds 2%, the photosensitive resin composition layer may expand thermally under high-temperature conditions, which may cause deformation of the recording layer when used for an optical disc.
  • the water absorption means that the cured photosensitive element is cut into a size of 5 cm ⁇ 5 cm, and after removing the support or further the protective film, 24 ⁇ 2 ° C. in purified water at 23 ⁇ 2 ° C. It is obtained from the difference between the weight of the cured film after immersion in water for one hour and the weight of the cured film before immersion in water by the formula (M 2 — M / M, X 100 (%)).
  • the light transmittance of the photosensitive resin composition layer after curing is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and more preferably 95% or more with respect to light having a wavelength of 405 nm. Is more preferable. When the light transmittance is less than 85%, the reading accuracy of the information on the recording layer by the laser decreases when used for an optical disc. Tend to.
  • the light transmittance refers to a substrate obtained by pressing a photosensitive resin composition layer on a Tatsumei substrate to cure a photosensitive resin composition layer (thickness: 20 ⁇ ), and a photosensitive resin. It is determined from the difference between the substrate having no composition layer and the light transmittance (light wavelength: 405 nm) of the substrate.
  • the refractive index of the photosensitive resin composition layer after curing is preferably the same as that of the transparent base material constituting the optical disc, and the value is preferably about 1.5. Good.
  • the above-mentioned refractive index means a refractive index of the above-mentioned cured product obtained with respect to light of a wavelength of 633 nm using a glass substrate provided with a cured product of the photosensitive resin composition layer as a sample.
  • the birefringence of the photosensitive resin composition layer after curing is preferably 30 nm or less, and more preferably 20 nm or less with respect to light having a wavelength of 633.3 nm. Is more preferable, and more preferably 15 nm or less.
  • the birefringence exceeds 30 ⁇ , there is a tendency that the amount of light is reduced by changing the circular polarization of the reproduction light to elliptically polarized light, and the reading accuracy of the optical disk tends to decrease.
  • the photosensitive element can be stored, for example, in a sheet shape or with a protective film interposed therebetween and wound up in a roll shape around a cylindrical core.
  • the core include plastics such as polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, and ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer).
  • plastics such as polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, and ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer).
  • an end face separator on the end face of the photosensitive element wound up in a roll shape from the viewpoint of protection of the end face, and it is preferable to install a moisture-proof end face separator from the viewpoint of edge fusion resistance.
  • a packing method it is preferable to wrap in a black sheet having low moisture permeability.
  • the protective film is removed and the photosensitive resin composition layer is heated to about 20 to 130 ° C. , 0 1 ⁇ ; LMP a degree. (1 ⁇ : L 0 kgf Z c ⁇ 2 about) pressure bonding to the transparent substrate (polycarbonate Ya polymethyl methacrylate, etc.) of the (crimped via a support
  • the photosensitive resin composition layer is laminated on the transparent substrate.
  • Lamination can be performed under reduced pressure, and the surface to be laminated is not particularly limited.
  • the mold (stamper) in which the pits and grooves have been cut is placed on the photosensitive resin composition layer on which lamination has been completed by about 0.1 to 1 MPa ( Crimping with a pressure of about 1 to 10 kgf Z cm 2 ). At this time, it is also possible to perform pressure bonding under reduced pressure.
  • a cured product of the photosensitive resin composition layer having a pit groove is formed.
  • a light source for the actinic ray a known light source, for example, a carbon arc lamp, a mercury vapor arc lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or the like that emits ultraviolet light or visible light is used.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is useful not only as a spacer layer in an optical disc but also as a protective layer for other types requiring transparency.
  • Examples of these uses include a protective film for an optical disk, a protective film attached to the front and back surfaces of an adherend such as a solar cell, and the like.
  • the light transmittance for light having a wavelength of 800 nm is 85% or more. It is more preferably at least 0%, particularly preferably at least 95%.
  • Preparation example Preparation example Preparation example Preparation example Preparation example 1 1 12 13 14 1 5 Methacryl Methacryl JUI ⁇ tyl, iso 7f3 ⁇ 4
  • Example 4 and 19 and Comparative Examples 1 and 1 12 [0992]
  • the components shown in Table 4 were dissolved in the solutions 1 to 5 obtained in Preparation Examples 1 to 5, to obtain a solution of the photosensitive resin composition.
  • the components shown in Table 5 were dissolved in the solutions 11 to 15 obtained in Preparation Examples 11 to 15 to obtain a solution of the photosensitive resin composition.
  • the components shown in Table 6 were dissolved in the solutions 16 to 21 obtained in Preparation Examples 16 to 21 to obtain a solution of the photosensitive resin composition.
  • R 51 and R 52 in the general formula (8) represent a methyl group
  • X and Y represent an ethylene group
  • p + q 10 (average value) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) )
  • R 51 and R 52 represent a methyl group
  • X and Y represent an ethylene group.
  • p + q 4 (average value) (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • PET film polyethylene terephthalate film
  • protective film made of polyethylene (tensile strength in the longitudinal direction of the film: 16 MPa, tensile strength in the width direction of the film: 12 MPa, product name) : NF-15, Tamapoli (shares)
  • the dried film thickness of the photosensitive resin composition layer was 20 ⁇ .
  • the solutions using the solutions of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 correspond to Examples 5 to 8 and Comparative Example 2, respectively. Further, those using the solutions of Examples 11 to 19 and Comparative Examples 11 to 12 correspond to Examples 20 to 28 and Comparative Examples 13 to 14, respectively.
  • the photosensitive elements of the above Examples and Comparative Examples were evaluated for the degree of curing, light transmittance, glass transition temperature, water absorption, refractive index, birefringence, and film thickness accuracy as follows.
  • an environmental acceleration test was performed as follows.
  • the laminate has a roll outer diameter of 87.5 mm ⁇ , a cylinder inner diameter of 40 mm ⁇ , and a silicone rubber (3 mm thick) with a hardness of 70 ° existing outside the roll. One trough was used.
  • FIG. 6 shows an example of a change in infrared absorption spectrum before and after irradiation with ultraviolet light.
  • the degree of hardening before and after the increase was determined, and the degree of hardening after the increase was 2-3 times smaller than the degree of hardening before the increase.
  • the portion where the change is within% is regarded as the saturated state of photocuring, and the exposure before increase in this case was set as the optimal value for obtaining a cured product.
  • the photosensitive resin composition layer was brought into contact with the polycarbonate (PC) substrate, and a 0.5 MP heat roulette was used. Lamination was performed at the pressure of a and at a speed of 0.2 mZ to form a three-layer structure including a PC substrate, a photosensitive resin composition layer, and a PET film in this order.
  • the photosensitive resin composition was irradiated with ultraviolet light from a PET film side using a large UV irradiator with a high-pressure mercury lamp (QRM-231-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.). The sample for evaluation was obtained by curing the layer. The light transmittance was measured using 60 minutes after light curing.
  • the Tg was measured using TMA as follows. Using a large UV irradiator with a high-pressure mercury lamp (QR M-231-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.), the photosensitive resin composition layer of the photosensitive element is irradiated with ultraviolet light and cured. The film cut into a size of 4 mm ⁇ 2 Omm was used as a Tg measurement sample, and the Tg after photocuring of the photosensitive resin composition layer was measured using TMA120 (manufactured by Seiko Denshi). Measurement conditions are in the temperature range 0-2 The temperature was set to 00 ° C, the rate of temperature rise was 5 ° C / min, the load was 3 g, and the tensile mode was set.
  • TMA120 manufactured by Seiko Denshi
  • Tg was measured using DMA as follows. Using a large UV irradiator equipped with a high-pressure mercury lamp (QRM-213-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.), the photosensitive resin composition layer of the photosensitive element is irradiated with ultraviolet light to cure the cured film. was cut into a size of 6 mm X 35 mm as a sample for T g measurement, and the following conditions and temperature range of 0 to 200 ° C were measured using an RSA-II viscoelastic analyzer (Rhoraotorics). The dynamic viscoelasticity was measured at a temperature rate of 5 ° C / min and in a tensile mode, and the Tg of the photosensitive resin composition layer after photocuring was determined.
  • QRM-213-F-00 high-pressure mercury lamp
  • UV irradiation was performed using a large UV irradiator with a high-pressure mercury lamp (QRM-2 3 17-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.), and the cured film was 5 cm X 5 cm in size.
  • the cutout was used as a sample for measuring water absorption, and the water absorption of the photosensitive resin composition layer after photocuring was measured by the method according to JIS-7209 as follows. First, were weighed. The obtained sample, the value was defined as M t. Next, it was immersed in purified water at 23 ⁇ 2 ° C. for 24 ⁇ 1 hour. After immersion, the sample was taken out of the purified water, the water droplet was wiped off and weighed, and this value was defined as M 2 . The water absorption was determined by the formula (M 2 — / i y XI 00 (%).
  • the photosensitive resin composition layer was brought into contact with the glass substrate (4 cm X 4 cm) using a 50 ° C heat roll. Laminate at a pressure of 5 MPa and a speed of 0.2 minutes
  • the photosensitive resin composition layer was irradiated with ultraviolet light using a large UV irradiator (QRM-2317-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.) having a high-pressure mercury lamp, and was used as a sample for refractive index measurement.
  • the refractive index of the photosensitive resin composition layer after photo-curing was measured at a wavelength of 633 nm using a Prism Power Bra (2010, manufactured by Metricon Co., Ltd.). The measurement was performed in both the TE mode and the TM mode, and the average of both was used as the measured value.
  • the photosensitive resin composition layer was brought into contact with the glass substrate (4 cm x 4 cm), and the heat was applied using a heat roll at 50 MPa. Laminate at pressure and at a speed of 0.2 m / min, and apply it to the photosensitive resin composition layer using a large UV irradiator (QRM-2317-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.) having a high-pressure mercury lamp.
  • a large UV irradiator QRM-2317-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.
  • the sample irradiated with ultraviolet light was used as a sample for measuring the birefringence, and the birefringence of the photosensitive resin composition layer after photocuring was measured at a wavelength of 633 nm using ADR-100XY (manufactured by Oak Co., Ltd.). did. The measurement was performed at 9 points on the sample, and the average of the 9 points was used as the measured value.
  • the photosensitive resin composition layer was brought into contact with the glass substrate (4 cm x 4 cm), and the heat roll at 23 was used.
  • UV irradiation on the photosensitive resin composition layer using a large UV irradiator (QRM-231 7-F-00, manufactured by Oak Co., Ltd.) with a high-pressure mercury lamp
  • the resulting film was used as a sample for measuring film thickness accuracy, and the cured film thickness of the photosensitive resin composition layer was measured using a contact-type film thickness measuring device (manufactured by Nikon Corporation) MS-5C. The difference from 20 m was regarded as the film thickness accuracy.
  • the measurement was performed at intervals of 20 mm in the film width direction (340 mm), and the average of 17 measurements was measured ⁇ (straight).
  • the diameter 1 Laminate at a pressure of 0.5 MPa and a speed of 0.2 m / min using a heat roll at 50 ° C so that the photosensitive resin composition layer is in contact with the 2 cm PC substrate.
  • a laminate having a substrate, a photosensitive resin composition layer, and a PET film in this order was obtained.
  • a stamper was brought into contact with the photosensitive resin composition layer, and a pressure of 0.5 MPa and a pressure of 0.5 MPa were applied using a heat roll at 50 ° C.
  • Lamination was performed at a speed of 05 mZ, and pits were transferred to the photosensitive resin composition layer. After transferring the pits, the stamper was peeled off to obtain a disc comprising a PC substrate and a photosensitive resin composition layer having pits formed thereon.
  • the photosensitive resin composition layer of the obtained disk was irradiated with ultraviolet rays at 2 J / cm 2 using a large UV irradiator (QRM-2317 — F_00, manufactured by Oak Co., Ltd.) having a high-pressure mercury lamp. These were used as samples for the environmental acceleration test.
  • FIG. 7 is a diagram showing the measurement results of the dynamic viscoelasticity of the photosensitive element of Example 20.
  • the temperature at which the loss tangent reached the maximum value was 115.7 ° C.
  • E ' is the storage viscoelastic modulus at 155.7 ° C, which is obtained by adding 40 ° C to 115.7 ° C, and T is the absolute temperature (428.7 K) at 155.7 ° C.
  • ⁇ is 1.
  • the value of ⁇ calculated by substituting these values into the above equation (1) is 3039 mmol /
  • Table 7 shows the obtained results.
  • Table 8 shows the results of evaluation of the light transmittance, T g, water absorption, refractive index, birefringence, film thickness accuracy, crosslink density, and adhesion of Examples 20 to 23 and Comparative Example 13.
  • Table 9 shows the evaluation results of the light transmittance, the glass transition temperature, the water absorption rate, the refractive index, the birefringence, the film thickness accuracy, the crosslink density, and the adhesion of Examples 24 to 28 and Comparative Example 14.
  • Example 5 Example 6 Example F Example 8 Comparative Example 2 Light transmittance (%) 95 96 98 9 F 62
  • the light transmittance of the photosensitive resin compositions of Example 58, Example 220, and Example 248 after curing was measured with respect to light having a wavelength of 800 nm. 90% or more, confirming that it is useful as a protective film for solar cells with excellent environmental resistance while suppressing the deterioration of energy efficiency.
  • a composition for forming a spacer layer of an optical disc which has transparency to a reading laser, uniformity of film thickness, and the like.
  • a composition that has the usual required characteristics required for a single layer of a spacer, and that can further suppress deformation of the recording layer due to thermal expansion and poor adhesion between the optical disk substrate and the single layer of the spacer. It becomes possible to do.

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

互いに対向して配置された２枚の透明基板と、該透明基板の対向面間に配置された記録層及びスペーサー層と、を備える光ディスクにおける、前記スペーサー層を形成するための感光性樹脂組成物であって、前記感光性樹脂組成物は、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、硬化後のガラス転移温度が１００～１８０℃であることを特徴とする感光性樹脂組成物。

Description

明糸田書
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
技術分野
' 【0 0 0 1】 本発明は、 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント に関する。
背景技術
【0 0 0 2】 近年のコンピューター装置技術、 ソフトウェア技術、 通信技術等 をはじめとする情報技術の発展により、 より多くの情報を高速に伝達することが 可能となってきている。
【0 0 0 3】 このような分野においては記録密度の高い記録媒体が必要とされ ており、 D V D (デジタルバーサタイルディスク） が高密度記録媒体として注目 されている。 D V Dについては、 光源の短波長化や対物レンズの高開口化等によ り C D— R OMの約 7倍の記録容量 （4 . 7 Gバイト） が達成されているが、 今 後は青色半導体レーザーの実用化に伴って更に記録密度を向上させ得るものと考 えられている。 また、 D V D等の光ディスクの更なる高密度化を図るために、 情 報を担持するピットやグループが形成された記録層と透明樹脂からなるスぺーサ 一層が交互に積層された多層光ディスクの開発が進められている。
発明の開示
【0 0 0 4】 し力 しながら、 従来の光ディスク、 特に、 多層光ディスク （記録 層が複数層のものをいう。） においては、 経時的に劣化してしまう問題があった。 すなわち、 光ディスクに対して環境加速試験 （例えば、 温度 8 0 °C、 湿度 8 5 % R Hで 9 6時間保持する試験） を行うと、 記録層が劣化するという不具合が生じ ていた。 また、 光ディスク基板とスぺーサ一層との密着不良が生ずる場合もあつ た。
【0 0 0 5】 本発明者らは上記問題を解決することを目的として、 記録層の劣 化が記録層の酸化によるものなのか、 あるいは記録層を形成させるための材枓へ の不純物の混入によるものなのか等、 記録層の化学的変化の観点から劣化の要因 を検討したところ、 意外にも、 劣化は、 スぺーサ一層の熱膨張に伴う記録層の変 形 （物理的変化） によるものであることを見出した。 また、 光ディスク基板とス ぺーサ一層との密着不良の要因を検討したところ、 密着不良は、 スぺーサ一層を 形成するための樹脂の分子構造に起因することを見出した。
【0 0 0 6】 本発明は、 かかる知見に基づいてなされたものであり、 光デイス クのスぺーサ一層を形成するための組成物であって、 読取り用レーザに対する透 明性や膜厚の均一性等、 スぺーサ一層に求められる通常の要求特性を具備しつつ 、 更に、 熱膨張による記録層の変形や光ディスク基板とスぺーサ一層との密着不 良を抑制することが可能な組成物を提供することを目的とする。
【0 0 0 7】 本発明者らは、 上記知見に基づいて鋭意研究を重ねた結果、 所定 の組成を有した感光性樹脂組成物の硬化物を光ディスクのスぺーサ一層として用 い、 当該硬化物のガラス転移温度を所定の範囲内にすること、 又は、 当該硬化物 の架橋密度を所定の範囲内にすることにより、 上記目的が達成可能であることを 見出し、 本発明を完成させた。
【0 0 0 8】 すなわち、 本発明は、 互いに対向して配置された 2枚の透明基板 と、 該透明基板の対向面間に配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光 ディスクにおける、 前記スぺーサ一層を形成するための感光性樹脂組成物であつ て、 前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有 する光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、 硬化後のガラス転移温度が 1 0 0 〜 1 8 0 °Cであることを特徴とする感光性樹脂組成物を提供するものである。
【0 0 0 9】 本発明の感光性樹脂組成物は、 上記組成を有しており、 硬化後の 感光性樹脂組成物のガラス転移温度 （以下「T g」 という。） が 1 0 0〜1 8 0 °C であることから、 これを用いて作製した光ディスクを、 高温及び/又は高湿度下 で長時間保持した場合でも硬化後の感光性樹脂組成物の熱膨張が抑制'される。 こ の結果、 光ディスクの記録層の変形が抑制されるため、 経時的な光ディスク、 特 に、 多層光ディスクの劣化という問題が生じない。
【0 01 0】 本発明はまた、 互いに対向して配置された 2枚の透明基板と、 該 透明基板の対向.面間に配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光ディス クにおける、 前記スぺーサ一層を形成するための感光性樹脂組成物であって、 前 記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有する光 重合性化合物及び光重合開始剤を含んでおり、 下記数式 （1) により算出される 、 硬化後の架橋密度が 1 , l O Ommo 1 ZL以上であることを特徴とする感光 性樹脂組成物。
p =Ε'/3 φ RT ■■■ (1)
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 40°Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
【001 1】 本発明の感光性樹脂組成物は、 上記構成を採用したことにより、 光ディスク基板とスぺーサ一層との密着不良を抑制することができるため、 経時 的な光ディスク、 特に、 多層光ディスクの劣化が生じ難い。
【001 2】 またさらに、 本発明は、 支持体と、 該支持体上に形成された上記 感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、 を備えることを特徴とする感 光性エレメントを提供する。 かかる感光性エレメントは、 上記本発明の感光性樹 脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を備えており、 該層の硬化物を光ディスク のスぺーサ一層として用いることができることから、 経時的な記録層の劣化とい う問題が発生しないのみならず、 読取り用レーザに対する透明性や膜厚の均一性 といったスぺーサ一層に求められる要求特性の向上を図ることもできる。
図面の簡単な説明
【00 1 3】 図 1は、 光ディスクの第 1の態様を示す断面図である。
【001 4】 図 2は、 光ディスクの第 2の態様を示す断面図である。
【00 1 5】 図 3は、 光ディスクの第 3の態様を示す断面図である。 【0 0 1 6】 図 4は、 光ディスクの第 4の態様を示す断面図である。
【0 0 1 7】 図 5 A〜Eは、 多層光ディスクの製造方法を概念的に示す断面図 、、ある α
【0 0 1 8】 図 6は、 感光性樹脂組成物層中の光重合性化合物に含まれるァク リル基の紫外線照射前後における赤外吸収スぺク トル変化の一例を示す図である
【0 0 1 9】 図 7は、 硬化後の感光性樹脂組成物の動的粘弾性の測定結果の一 例を示す図である。
発明を実施するための最良の形態
【0 0 2 0】 以下、 本発明の実施の形態について説明する。
(感光性樹脂組成物）
【0 0 2 1】 上述のように、 本発明の感光性樹脂組成物は、 互いに対向して配 置された 2枚の透明基板と、 該透明基板の対向面間に配置された記録層及びスぺ ーサ一層と、 を備える光ディスクにおける、 前記スぺーサ一層を形成するために 用いるものである。
【0 0 2 2】 図 1、 2、 3及び 4は、 本発明の感光性樹脂組成物を適用可能な 光ディスクを示す断面図である。 図 1に示す光ディスク 1 (単層光ディスク） は 、 透明基板 1 0上に記録層 1 2とスぺーサ一層 1 4とがこの順に各一層形成され ており、 スぺーサ一層 1 4上には透明基板 1 0を備えている。 図 2に示す光ディ スク 1 (多層光ディスク） は図 1におけるスぺーサ一層 1 4と透明基板 1 0との 間に記録層 1 2を 1層備えている。 そして、 図 3に示す光ディスク 1 (多層光デ イスク） は、 透明基板 1 0上に記録層 1 2とスぺーサ一層 1 4とがこの順に交互 に各二層形成されており、 スぺーサ一層 1 4上には透明基板 1 0を備えている。 また、 図 4に示す光ディスク 1 (多層光ディスク） は、 図 3におけるスぺーサー 層 1 4と透明基板 1 0との間に記録層 1 2を 1層備えている。
【0 0 2 3】 本発明の感光性樹脂組成物を用いた多層光ディスクの製造方法の 具体例としては、 図 5 A〜Eに示す方法が挙げられる。
【0 0 2 4】 すなわち、 ピッ トを有する透明基板 1 0 (図 5 A) におけるピッ ト面に、金属薄膜からなる記録層 1 2を形成する （図 5 B )。 次に、記録層 1 2上 に、 本発明の感光性樹脂組成物からなるスぺーサ一層 1 4を形成させた後に、 ス タンパ 1 6をスぺーサ一層 1 4に接触させることで（図 5 C)、スぺーサ一層 1 4 にピットを形成させる （図 5 D )。次いで、真空蒸着やスパッタリング等によりス ぺーサ一層 1 .4上に金属薄膜からなる記録層 1 2を形成させる （図 5 E )。そして
、 図 5における B ~ Eを繰り返すことで多層化させる。 なお、 スぺーサ一層 1 4 の形成は、 記録層 1 2上に感光性樹脂組成物層を積層した後、 又は、 記録層 1 2 上に積層された感光性樹脂組成物層にスタンパ 1 6を接触させピットを形成した 後、 紫外線等の活性光線の照射により光硬化 （更に熱硬化を伴っていてもよい。 ) させる。
【0 0 2 5】 感光性樹脂組成物の硬化後の T gは 1 0◦〜 1 8 0 °Cであるが、 本発明において 「硬化」 は、 紫外線露光量を 1 0 0 m J単位で増加させるときの 、 増加前と増加後の硬化度をそれぞれ求めて、 増加前の硬化度と比べて増加後の 硬化度が 2〜 3 %以内の変化となる場合における増加前の露光量の紫外線を照射 することによって行う。 ここで、 「硬化度」 とは、 赤外分光計を用いて、感光性樹 脂糸且成物層中の光重合性化合物に含まれるァクリル基の面外変角振動の特性吸収 である 8 1 2 c m—1のピーク高さを、 紫外線照射前及び後の感光性ェレメントに ついて求め、 この高さの比から算出したものをいう。 また、 本発明において 「T g」 とは、 後述の動的粘弾性を測定した時の損失正接が極大値を示す温度をいう
【0 0 2 6】 なお、 上記 T gは、 DMA (Dynamic Mechanical Analysis) を用 いて測定したものであるが、 TMA (Thermoraechanical Analysis) を用いて測 定した場合の T gは 8 0〜1 6 0 °Cになる。 TMAを用いた場合の 「T g」 とは 、 上記のようにして硬化させた硬化膜を 4 mm X 2 O mraに切り取り、 TMA ( TM A— 1 20、 セイコー電子製） を用いて、 温度領域 0〜200°C、 昇温速度 5°C /分の条件で、荷重 3 g、 引張りモードにより測定したものをいう。 「TMA」 と は、 物質の温度を調節されたプログラムに従って変化させながら、 非振動的な荷 重を加えてその物質の変形を温度の関数として測定する方法であり、 TMAで得 られた曲線の傾きは、 熱膨張率の大小に対応するため、 その傾きの変化から T g を求めることができる。
【0027】 感光性榭脂組成物の硬化後の T gが、 100 °C未満である場合は 、 高温条件下において硬化物の熱膨張がみられたり、 読取りレーザ光による温度 上昇で局所的な硬化物の熱膨張がみられる等の不具合を生じる。 T gが 180°C を超す場合は、 硬化物の柔軟性が不充分となり、 光ディスクの透明基板や他の層 との密着性が劣る。 感光性樹脂組成物層の硬化後の T gは 1 10〜1 70°Cであ ることが好ましく、 1 20〜1 60°Cであることがより好ましい。
【0028】 感光性樹脂組成物の硬化後の T gを上記好適範囲とする方法とし ては、 例えば、 以下の方法が挙げられる。
(i) バインダーポリマーを構成するモノマー単位として、 （メタ） アクリル酸シ ク口アルキルエステル等の脂環基を有する化合物を使用する方法。
(ii) 感光性樹脂組成物の架橋密度を高める方法。
【0029】 また、 感光性樹脂組成物の硬化後の架橋密度は 1， 100 mm o 1 ZL以上であるが、 本発明において 「架橋密度」 とは、 文献 （Ogata et al., J . Appl. Polym. Sci. , 48, 583 (1993) ) に記載の下記数式（ 1 ) を用いて算出したもの をレヽう。
P =Ε' /3 RT ··· (1)
上記 （1) 式はゴム状態式と呼ばれるものである。 上記 （1) 式中、 ρは架橋密 度、 Τは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正接が極大値を示す温 度に 40°Cを加えた温度、 E' は上記 Tお.ける貯蔵弾性率、 φはフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。 なお、 上記 （1) 式中の Ε'、 φ及び Tの定義は 、 文献 (Murayama. et al. , J. Polyra. Sci.， A - 2, 8， 437 (1970) ) の記載に基づいてお り、 フロント係数 φは 1である。
【 0030】 .ここで、 貯蔵弾性率とは、 動的粘弾性測定機 （DMA (Dynamic Mechanical Analysis) R S A— II粘弾性アナライザ、 Rhomotorics社製） を用い て、 以下に示す条件及ぴチヤック間距離 20 mm, 試験周波数 1 H z、 温度領域 0〜200°C、 昇温速度 5°CZ分、 引張りモードの条件で測定したものをいう。 Options： Auto Tension Adjustment
Mode： Static Force Tracking Dynamic Force
Auto Tension Direction： rension
Initial Static Force： 70g
そして、 上記測定結果から T及び E' を求めて、 これらの値を上記 (1) 式に代 入することにより、 架橋密度が算出される。 なお、 測定用サンプ としては、 高 圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射機 (オーク社製、 QRM- 2 3 1 7-F- 00) を用いて、 感光性樹脂組成物層に 2 jZcm2の紫外線照射を行い、 硬化 膜を 6瞧 x3 5ramに切り取つたものを用いる。
【0031】 感光性樹脂組成物の硬化後の架橋密度が 1， l O Ommo l /L 未満である場合には、 光ディスク基板との密着不良をもたらすといつた不具合を 生ずる。 架橋密度が 8, O 00mmo l/Lを越す場合には、 感光性樹脂組成物 の硬化収縮が大きくなり光ディスク基板が歪むといった不具合を生ずることがあ る。 感光性樹脂組成物の硬化後の架橋密度は、 1， 100〜8， 00 Ommo 1 ノ Lであることが好ましく、 2000〜 750 Ommo 1 /Lであることがより 好ましく、 2， 500〜7, 00 Ommo 1 ZLであることが更に好ましく、 3 , 000〜6， 00 Ommo 1 ZLであることが特に好ましい。
【0032】 感光性樹脂組成物の硬化後の架橋密度を上記好適範囲とする方法 としては、 例えば、 以下の方法が挙げられる。
(i) 感光性樹脂組成物中のェチレン性不飽和結合の割合を高める方法。 (ii) エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物として、 分子量の小さな化 合物を使用する方法。
(iii) 側鎖に二重結合を有するポリマーを使用する方法。
【0033】 本発明の感光性樹脂組成物は、 硬化後の T gが 100〜1 80°C であり、 かつ、 硬化後の架橋密度が 1， 10 Ommo 1/L以上であると、 硬化 物の熱膨張が抑制されて経時での記録層の劣化を防止できるとともに、 光デイス ク基板とスぺーサ一層との密着性が優れるようになる。
(バインダーポリマー）
【0034】 バインダーポリマー （以下 「（A) 成分」 という場合がある。） と して特に好適なものは、 芳香族ポリカーボネート、 側鎖に二重結合を有するポリ マーであり、 これらは単独又は組み合わせて用いることができる。 また、 感光性 樹脂組成物の硬化後の T gが 100〜 1 80°C、 及び/又は、 硬化後の架橋密度 が 1, 10 Ommo 1 /L以上になるように、 バインダーポリマーを選択するこ とが好ましい。 バインダーポリマーは、 更に、 アクリル系樹脂、 スチレン系樹脂 、 エポキシ系樹脂、 アミド系樹脂、 アミ ドエポキシ系樹脂、 アルキド系樹脂、 フ 工ノール系樹脂等の樹脂を含むことができる。 この場合においても、 T g及び Z 又は架橋密度が上記範囲内になるように調製することが望ましい。
【0035】 バインダーポリマーの重量平均分子量は、 1 0, 000以上であ ることが好ましく、 1 0， 000〜 300， 000であることがより好ましく、 20， 000〜100， 000であることが更に好ましく、 40， 000〜 60
, 000であることが特に好ましい。 重量平均分子量が、 1 0， 000未満では 成膜性に劣る傾向があり、 300， 000を越えると溶剤及びモノマーへの溶解 性及び相溶性が低下し取り扱いが困難になる傾向がある。 特に、 バインダーポリ マーが芳香族ポリカーボネートである場合には、 重量平均分子量を上記好適範囲 とすることが望ましい。 なお、 本発明において重量平均分子量とは、 ゲルパーミ エーシヨンクロマトグラフィー （GPC) による標準ポリスチレンを用いた検量 線により換算した重量平均分子量をいう。
(芳香族ポリカーボネート）
【0036】 バインダーポリマーたる芳香族ポリカーボネートは、 下記一般式 (1) で表される繰り返し単位を有するポリマーであることが好ましい。
【化 5】
0
-0——X ~~ 0— C一 (1)
[式中、 Xは、 下記式 （2) で表される二価基、 下記式 （3) で表される二価基又 は下記式 （4) で表される二価基を示す。 ]
【化 6】
Figure imgf000010_0001
【化 7】
Figure imgf000010_0002
【化 8】
Figure imgf000010_0003
【0037】 上記式 （2)、 (3) 及び （4) で表される二価基のそれぞれに、 2つのヒ ドロキシル基が結合した化合物は、 それぞれ、 ビスフエノール A、 ビス フエノール F及びビスフエノール Zと呼ばれる化合物であるため、 バインダ ^"ポ リマーとして特に好適な芳香族ポリカーボネートは、 ビスフエノール A系ポリ力 ーボネート、 ビスフエノール F系ポリカーボネート、 ビスフエノール Z系ポリ力 ーポネートである。
【0 0 3 8】 上記一般式 （1 ) で表される繰り返し単位は、 分子中に 4 0〜1 5 0 0単位含まれることが好ましい。 芳香族ポリカーボネートは、 上記一般式 （ 1 ) を含むものであれば、 これ以外の繰り返し単位を含んでいてもよく、 また、 上記式 （2 ) 〜 （4·) で表される二価基の少なくとも 1つを有していればよい。 なお、 一般式 （1 ) で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を更に含む場合 や、 一般式 （1 ) で表される繰り返し単位を複数種類含む場合には、 これらの操 り返し単位は、 ランダム鎖を構成していても、 ブロック鎖を構成していてもよい (側鎖に二重結合を有するポリマー）
【0 0 3 9】 バインダーポリマーたる、 側鎖にエチレン性不飽和結合を有する ポリマーは、
カルボキシル基を有するポリマーに、 エチレン性不飽結合とヒ ドロキシル基とを 有するヒ ドロキシルモノマー及びェチレン性不飽和結合とグリシジル基とを有す るグリシジルモノマーからなる群より選ばれる少なくとも一つのモノマーを、 反 応させてなるポリマー （以下 「エチレン性不飽和結合を有するポリマー 1」 とい う。）、
-及び/又は
ヒドロキシル基を有するポリマーに、 エチレン性不飽和結合とグリシジル基とを 有するグリシジルモノマー及びエチレン性不飽結合とイソシァネート基とを有す るィソシァネートモノマーからなる群より選ばれる少なくとも一つのモノマーを 、 反応させてなるポリマー （以下 「エチレン性不飽和結合を有するポリマー 2」 という。）、 であることが好ましい。
【0 0 4 0】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 1は、 力ルポキシル基を 有するポリマーのカルボキシル基と、 ヒ ドロキシルモノマーのヒ ドロキシル基及 びノ又はグリシジルモノマーのグリシジル基との反応により生じたポリマーであ T JP2003/008558 り、 エチレン性不飽和結合がエステル結合及び z又はエーテル結合を介して側鎖 に導入されたポリマーである。
【0 0 4 1】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 2は、 ヒドロキシル基を 有するポリマーのヒ ドロキシル基と、 グリシジノレモノマーのグリシジノレ基及び Z 又はイソシァネートモノマーのイソシァネート基との反応により生じたポリマー であり、 エチレン性不飽和結合がエーテル結合及びノ又はウレタン結合を介して 側鎖に導入されたポリマーである。
【0 0 4 2】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 1の合成に用いられる力 ルポキシル基を有するポリマーとしては、
カルボキシル基を有するカルボキシルモノマーと、 該カルボキシルモノマーと共 重合可能な共重合モノマーとの共重合体 （以下 「カルポキシルポリマー 1」 とい う。）、
フエノキシ樹脂と多塩基酸化合物とを縮合させたポリマー （以下 「カルボキシル ポリマー 2」 という。）、 及び
ヒドロキシノレモノマーをモノマー単位として含むヒドロキシルポリマーと、 多塩 基酸化合物とを縮合させたポリマー （以下 「カルボキシルポリマー 3」 という。）
、 からなる群より選ばれる少なくとも一つのポリマーであることが好ましい。 【0 0 4 3】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 2の合成に用いられるヒ ドロキシル基を有するポリマーとしては、 ヒ ドロキシノレモノマーと該ヒ ドロキシ ルモノマーと共重合可能な共重合モノマーとの共重合体及び/又はフエノキシ樹 脂であることが好ましい。
【0 0 4 4】 カルポキシルポリマー 1の合成に用いられるカルボキシルモノマ 一としては、 例えば、 （メタ） アクリル酸、 α—ブロモ （メタ） アクリル酸、 a— クロル （メタ） アクリル酸、 |3—フリル （メタ） アクリル酸、 ι3—スチリノレ （メ タ） アクリル酸、 マレイン酸、 マレイン酸無水物、 マレイン酸モノメチル、 マレ ィン酸モノェチノレ、 マレイン酸モノィソプロピノレ等のマレイン酸モノエステノレ、 フマノレ酸、 ケィ皮酸、 α—シァノケィ皮酸、 ィタコン酸、 クロ トン酸、 プロピオ ール酸などが挙げられる。 これらのなかでは、 （メタ）アクリル酸が特に好ましい 。 上記カルボキシルモノマーは単独で又は 2種類以上を組み合わせて使用するこ とができる。 なお、 本発明において （メタ） アクリルとはアクリル又はメタクリ ノレを意味し、 これと同様に （メタ） アタリレートとはアタリレート又は (メタ） アタリ レートを意味する。
【 0 0 4 5】 カルボキシルポリマーポリマー 1又はエチレン性不飽和結合を有 するポリマー 2の合成に用いられる共重合モノマーとしては、 下記一般式 （5 ) で表される（メタ）ァクリル酸エステルが挙げられ、 （メタ）ァクリル酸アルキルェ ステル、 （メタ） アクリル酸シクロアルキルエステル及び （メタ） アクリル酸シク ロアルケ-ルエステルからなる群より選ばれる少なくとも一つの （メタ） アタリ ル酸エステルであることが好ましい。
【化 9】
R21
H2C=C- COO - R22 ' ( 5 )
式中、 R21は水素原子又はメチル基を示し、 R22は炭素数 1〜1 2のアルキル基を 示す。 R22は直鎖状の構造でもよく、 枝分かれ構造でもよく、 環状構造を有して いてもよレヽ。
[ 0 0 4 6 ] (メタ） ァクリル酸アルキルエステルと しては、 例えば、 (メタ） アクリル酸メチルエステル、 （メタ） アクリル酸 チルエステル、 （メタ） アタリ ル酸プロピルエステル、 （メタ） アクリル酸ブチルエステル、 （メタ） アクリル酸 ペンチルエステル、 （メタ） アクリル酸へキシルエステル、 （メタ） アクリル酸へ プチルエステル、 （メタ） アクリル酸ォクチルエステル、 （メタ） アクリル酸 2— ェチルへキシルエステルが挙げられる。 （メタ）ァクリル酸シクロアルキルエステ ルとしては、 イソボル二ノレ （メタ） アタリレートが例示できる。 これらは単独で 又は 2種類以上を組み合わせて使用することができる。特に、 （メタ） ァクリル酸 アルキルエステルと （メタ） アクリル酸シクロアルキルエステルとを組み合わせ て使用することが好ましい。
【0 0 4 7】 カルボキシポリマー 2又はエチレン性不飽和結合を有するポリマ 一 2の合成に用いられるフエノキシ樹脂としては、 例えば、 ビスフエノール Aと ェピクロロヒ ドリンとの重合により得られるポリヒドロキシポリエーテルが挙げ られる。 フエノキシ樹脂の重量平均分子量は、 1 0， 0 0 0〜 1 0 0 , 0 0 0が 好ましい。 なお、 ポリヒ ドロキシポリエーテルにおけるビスフエノール A単位と ェピクロロヒ ドリン単位のそれぞれの繰り返し単位は、 ランダム鎖を構成してい ても、 ブロック鎖を構成していてもよい。
【0 0 4 8】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 1又は 2の合成に用いら れるヒ ドロキシルモノマーとしては、 （メタ）ァクリノレ酸ヒ ドロキシアルキルエス テルが挙げられ、 係る化合物は、 例えば、 下記一般式 （6 ) で表すことができる
【化 1 0】
R31
H2C=C-COO-R32-OH ' · · ( 6 )
式中、 R31は水素原子又はメチル基を示し、 R32は炭素数 1〜1 2のアルキレン基 を示す。 なお、 R32は直鎖状の構造でもよく、 枝分かれ構造でもよく、 環状構造 を有していてもよい。 R32 としては、 炭素数 1〜 6のアルキレン基が好ましい。 ヒ ドロキシルモノマーとしては、 2—ヒ ドロキシェチノレ （メタ） アタリ レートが 特に好ましい。
【0 0 4 9】 また、 カノレポキシルポリマー 3の合成に用いられるヒ ドロキシル ポリマー、 又はエチレン性不飽和結合を有するポリマー 2の合成に用いられるヒ ドロキシル基を有するポリマーにおいては、 上記ヒ ドロキシルモノマーをモノマ 一単位として用いることができる。 上記ヒ ドロキシルポリマー又はヒドロキシル 基を有するポリマーとしては、 例えば、 ヒ ドロキシルモノマーと （メタ） ァクリ ル酸エステルとの共重合体が挙げられる。 なお、 共重合体を構成する繰り返し単 位は、 ランダム鎖であってもプロック鎖であってもよい。
【0 0 5 0】 カルボキシポリマー 2又は 3の合成に用いられる多塩基酸化合物 としては、 多塩基酸又はその酸無水物が挙げられる。 多塩基酸としては、 例えば 、 ジカルボン酸化合物、 トリカルボン酸化合物、 テトラカルボン酸化合物が挙げ られ、 下記一般式 ( 7 ) で表されるジカルボン酸化合物が好ましい。
H O O C— R 6 1— C O O H ··· ( 7 )
多塩基酸の酸無水物としては、 上記多塩基酸に対応する酸無水物が挙げられ、 上 記一般式 （7 ) で表されるジカルボン酸化合物の酸無水物が好ましい。
【0 0 5 1】 したがって、 カルボキシルポリマー 2は、 フエノキシ樹脂と多塩 基酸との縮合で生じたポリマー、 及び Z又は、 フエノキシ樹脂と多塩基酸の酸無 水物との開環縮合で生じたポリマーを意味する。 かかるポリマーは、 上記反応に 基づくエステル結合と、 フエノキシ樹脂に基づくエーテル結合を有する。 また、 カルボキシルポリマー 3は、 ヒドロキシルポリマーと多塩基酸との縮合で生じた ポリマー、 及び/又は、 ヒ ドロキシルポリマーと多塩基酸の酸無水物との開環縮 合で生じたポリマーを意味する。 かかるポリマーは、 上記反応に基づくエステル 結合を有する。
【0 0 5 2】 上記一般式 （ 7 ) 中、 R 6 1は炭素数 1〜 1 8の直鎖又は分岐のァ ルキレン基を示し、 炭素数 2〜1 0の直鎖又は分岐のアルキレン基が好ましく、 炭素数 2〜 6の直鎖又は分岐のアルキレン基がより好ましい。 かかるアルキレン 基としては、 メチレン、 エチレン、 トリメチレン、 テトラメチレン、 ペンタメチ レン、 へキサメチレン、 ヘプタメチレン、 ォクタメチレン、 ノナメチレン、 デカ メチレン、 ジメチノレメチレン、 ジェチノレメチレン、 プロピレン、 メチルエチレン 、 ェチノレエチレン、 プロピ /レエチレン、 イソプロピノレエチレン、 メチノレペンタエ チレン、 ェチ /レへキサメチレン、 ジメチノレエチレン、 メチノレトリエチレン、 ジメ チルトリメチレン、 ォクタデシルメチレン等が挙げられる。 【 0 0 5 3】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 1又は 2の合成に用いら れるグリシジルモノマーとしては、 例えば、 グリシジル （メタ） アタリレート、 ]3—メチルダリ .シジルメタクリレート、 ァリルグリシジルエーテル等の脂肪族ェ ポキシ基含有不飽和化合物、 1 , 2—エポキシシクロへキシルメチル （メタ） ァ クリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物等が例示でき、 なかでも、 グ リシジノレ （メタ） アタリレートが好ましい。
【0 0 5 4】 エチレン性不飽和結合を有するポリマー 2の合成に用いられるィ ソシァネートモノマーとしては、 例えば、 イソシァネートアルキル （メタ） ァク リ レート等の脂肪族ィソシァネート不飽和化合物が挙げられる。 イソシァネート アルキル （メタ） アタリレートとしては、 イソシァネートェチル （メタ） アタリ レート、 イソシァネートメチル （メタ） アタリ レート、 イソシァネートプロピル
(メタ） アタリレート等が例示でき、 なかでも、 イソシァネートェチル （メタ） アタリレートが好ましい。
(光重合性化合物）
【0 0 5 5】 感光性樹脂組成物におけるエチレン性不飽和結合を有する光重合 性化合物 （以下、 単に 「光重合性化合物」 又は 「（B ) 成分」 という。） は、 単独 又は複数の光重合性化合物から構成される。
【0 0 5 6】 光重合性化合物は、 ビスフエノール A系 （メタ） アタリレート化 合物を含むことが好ましく、 ビスフエノール A系 （メタ） アタリレート化合物は 、 下記一般式 （8 ) で表される化合物であることが好ましい。
【化 1 1】
Figure imgf000017_0001
【0 0 5 7】 上記一般式 （8 ) 中、 R51及ぴ R52は、 それぞれ独立に水素原子又 はメチル基を示す。 また、 X及び Yはそれぞれ独立に炭素数 2〜6のアルキレン 基を示すが、 それぞれ独立にエチレン基又はプロピレン基であることが好ましく 、 いずれもエチレン基であることが好ましい。
【0 0 5 8】 上記一般式 （ 8 ) 中、 p及び qは p + q = 4〜4 0となるように 選ばれる正の整数であり、 6〜 3 4であることが好ましく、 8〜3 0であること がより好ましく、 8〜2 8であることが更に好ましく、 8〜2 0であることが特 に好ましく、 8〜1 6であることが極めて好ましく、 8〜 1 2であることが最も 好ましい。 p + qが 4未満では、 バインダーポリマー （（A) 成分） との相溶性が 低下する傾向があり、 p + qが 4 0を超えると親水性が増加し硬化膜の吸水率が 高くなる傾向がある。
【0 0 5 9】 なお、 一般式 （8 ) 中の芳香環は置換基を有していてもよく、 置 換基としては、 例えば、 ハロゲン原子、 炭素数 1 ~ 2 0のアルキル基、 炭素数 3 〜 1 0のシクロアグレキノレ基、 炭素数 6〜1 8のァリール基、 フエナシノレ基、 アミ ノ基、 炭素数 1〜 1 0のアルキルァミノ基、 炭素数 2〜 2 0のジアルキルァミノ 基、 ニトロ基、 シァノ基、 カルボニル基、 メルカプト基、 炭素数 1〜 1 0のアル キルメルカプト基、 ァリル基、 水酸基、 炭素数 1〜2 0のヒ ドロキシアルキル基 、 カルボキシル.基、 炭素数が 2〜1 1のカルボキシアルキル基、 炭素数が 2〜1 1のァシル基、 炭素数 1〜 2 0のアルコキシ基、 炭素数 1〜 2 0のアルコキシ力 ルポ二ル基、 炭素数 2〜 1 0のアルキルカルボニル基、 炭素数 2〜1 0のァルケ ニル基、 炭素数 2〜1 0の N—アルキル力ルバモイル基、 複素環を含む基、 これ らの置換基で置換されたァリール基等が挙げられる。 上記置換基は、 縮合環を形 成していてもよく、 また、 これらの置換基中の水素原子がハロゲン原子等の上記 置換基などに置換されていてもよい。 また、 置換基の数がそれぞれ 2以上の場合 、 2以上の置換基はそれぞれ同一でも相違していてもよい。
【0 0 6 0】 一般式 （8 ) で表される化合物としては、 例えば、 2 , 2—ビス ( 4一 （（メタ） アタリロキシポリエトキシ） フエニル) プロパン、 2， 2—ビス ( 4— ( (メタ） アタリロキシポリプロポキシ） フエニル） プロパン、 2， 2—ビ ス （4— ( (メタ） ァクリロキシポリブトキシ） フエニル） プロパン、 2， 2—ビ ス （4一 （（メタ） ァクリロキシポリエトキシポリプロボキシ） フエュル） プロパ ン等が挙げられ、 これらは単独で、 又は 2種以上を組み合わせて用いることがで さる。
【0 0 6 1】 2 , 2—ビス （4— ( (メタ） アタリロキシポリエトキシ） フエ二 ノレ） プロパンとしては、 例えば、 2， 2—ビス （4一 （（メタ） アタリロキシジェ トキシ） フエニル） プロパン、 2 , 2—ビス （4一 （（メタ） アタリ口キシトリエ トキシ） フエニル） プロパン、 2 , 2—ビス （4一 （（メタ） アタリ口キシテトラ エトキシ） フエエル） プロパン、 2 , 2—ビス （4— ( (メタ） アタリ ロキシペン タエトキシ） フエ-ル） プロパン、 2， 2—ビス （4一 （（メタ） アタリ口キシへ キサエトキシ） フエニル） プロパン、 2， 2—ビス （4— ( (メタ） アタリロキシ ヘプタエトキシ） フエニル） プロパン、 2 , 2—ビス （4一 （（メタ） アタリロキ シォクタエトキシ） フエニル） プロパン、 2 , 2—ビス （4— ( (メタ） アタリ口 キシノナェトキシ) フエエル） プロパン、 2, 2—ビス (4- ((メタ) アタリ口 キシデ力エトキシ） フエニル） プロパン、 2， 2—ビス (4- ((メタ） アタリ口 キシゥンデカェ小キシ） フエニル) プロパン、 2, 2一ビス (4一 （（メタ） ァク リロキシドデカエトキシ) フエニル） プロパン、 2, 2一ビス (4 - ((メタ） ァ クリロキシトリデカエトキシ） フエニル） プロパン、 2, 2—ビス (4 - ((メタ ) アタリ口キシテトラデカエトキシ） フエニル) プロパン、 2, 2一ビス (4- ((メタ） ァクリロキシペンタデカェトキシ) フエニル） プロパン、 2, 2一ビス (4 - ((メタ） アタリ口キシへキサデ力エトキシ） フェニル) プロパン等が挙げ られる。
[0062] 2, 2—ビス （ 4一 (メタクリ ロキシペンタエトキシ） フエ二ノレ
) プロパンは、 BPE— 500 (新中村化学工業 （株） 製、 製品名） として商業 的に入手可能であり、 2， 2一ビス (4- (メタクリロキシペンタデカエトキシ ) フ ニル） プロパンは、 BPE— 1 300 (新中村化学工業 （株） 製、 製品名 ) として商業的に入手可能である。
[0063] 2, 2—ビス （4一 （（メタ） アタリロキシポリプロポキシ) フエ ニル） プロパンとしては、 例えば、 2, 2—ビス (4- ((メタ） アタリ口キシジ プロポキシ) フエニル） プロパン、 2, 2—ビス (4- ((メタ） アタリ口キシト リプロポキシ) フエニル) プロパン、 2， 2 -ビス (4一 （（メタ） アタリロキシ テトラプロポキシ) フエニル) プロパン、 2， 2 -ビス (4— ((メタ） アタリ口 キシペンタプロボキシ） フエニル) プロパン、 2, 2 -ビス (4— ((メタ） ァク リロキシへキサプロポキシ) フエニル) プロパン、 2， 2—ビス (4 - ((メタ） ァクリロキシヘプタプロボキシ) フエ二ノレ） プロパン、 2, 2—ビス (4一 (( メタ） ァクリ口キシォクタプロボキシ) フエニル） プロパン、 2, 2—ビス (4 一 （（メタ） アタリロキシノナプロポキシ） フエニル） プロパン、 2, 2 -ビス ( 4一 ((メタ） アタリ口キシデ力プロポキシ） フエニル) プロパン、 2, 2—ビス
(4— ((メタ） ァクリ口キシゥンデカプロポキシ) フエニル) プロパン、 2, 2 一ビス (4- ((メタ） アタリロキシドデカプロポキシ) フエ二ノレ） プロパン、 2 ， 2 -ビス (4- ((メタ） アタリロキシトリデカプロボキシ) フエ二ノレ） プロパ ン、 2， 2—ビス (4- ((メタ） ァクリロキシテトラデカプロポキシ） フエニル ) プロパン、 2, 2一ビス (4 - ((メタ） ァクリロキシペンタデカプロポキシ) フエニル) プロパン、 2, 2一ビス (4- ((メタ） ァクリロキシへキサデ力プロ ポキシ) フエニル) プロパン等が挙げられる。
【0064】 2， 2—ビス （4一 （（メタ） アタリロキシポリエトキシポリプロ ポキシ） フエニル) プロパンとしては、 例えば、 2, 2一ビス (4— ((メタ） ァ クリロキシジェトキシォクタプロポキシ) フエニル) プロパン、 2, 2—ビス （ 4— ((メタ） ァクリ口キシテトラエトキシテトラプロポキシ) フエニル) プロパ ン、 2, 2—ビス （4一 （（メタ) アタリ口キシへキサェトキシへキサプロポキシ ) フエニル) プロパン等が挙げられる。
[006 5] ビスフエノール A系 (メタ） アタリレート化合物としては、 その 誘導体も使用でき、 かかる誘導体としては、 ビスフエノール A—ジエポキシ （D GEBA) にアクリル酸を付加させた化合物が挙げられ、 例えば、 ビスコート:) φ
540 (大阪有機化学工業 （株） 製、 製品名） として商業的に入手可能である。 【006 6】 光重合性化合物として用いることができる、 ビスフヱノール A系 (メタ) アタリレート化合物以外の光重合性化合物としては、 例えば、 トリシク ロデカンジメタノールジ （メタ） アタリレート ；ネオペンチルグリコール変性ト リメチロールプロパンジ （メタ） アタリレート ；多価アルコールに α， βー不飽 和カルボン酸を反応させて得られる化合物；グリシジル基含有化合物にひ、 β— 不飽和カルボン酸を反応させで得られる化合物；分子内にウレタン結合を有する (メタ） ァクリレ一ト化合物等のウレタンモノマ一； ノニルフエ二ルジォキシレ ン （メタ） ァクリレート ； —クロロ一 ]3—ヒドロキシプロピル一 ' 一 （メタ ) アタリ口イノレオキシェチノレー ο _フタレート、 /3—ヒ ドロキシェチノレー/^ 一
(メタ） ァクリロイルォキシェチル一 ο—フタレート、 /3—ヒ ドロキシプロピノレ — β , — (メタ） アタリロイルォキシェチル一 Ο —フタレート、 (メタ） アクリル 酸アルキルエステル、 Ε〇変性ノニルフエニル (メタ） アタリレート等が挙げら れる。 なお、 トリシクロデカンジメタノールジ (メタ） アタリレートは、 感光性 · 樹脂組成物の硬化後の高 T g化に好適である。
【0 0 6 7】 多価アルコールに ひ， ]3—不飽和カルボン酸を反応させて得られ る化合物としては、 例えば、 エチレン基の数が 2〜1 4であるポリエチレンダリ コールジ （メタ） アタリレート、 プロピレン基の数が 2〜 1 4であるポリプロピ レングリコールジ (メタ） アタリレート、 トリメチロールプロパンジ （メタ） ァ タリレート、 トリメチロールプロパントリ （メタ） アタリレート、 トリメチロー ルプロパンエトキシトリ （メタ） アタリレート、 トリメチロールプロパンジエト キシトリ (メタ) アタリレート、 トリメチロールプロパントリエトキシトリ (メ タ） アタリレート、 トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ (メタ） アタリ レート、 トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ （メタ） ァクリレート、 テ トラメチロールメタントリ (メタ） アタリレート、 テトラメチロールメタンテト ラ （メタ） アタリレート、 プロピレン基の数が 2〜 1 4であるポリプロピレング リコールジ （メタ） アタリレート、 ジペンタエリスリ トールペンタ (メタ） ァク リレート、 ジペンタエリスリ トールへキサ (メタ） .ァクリレート等が挙げられる
【0 0 6 8】 本発明の感光性樹脂組成物においては、 光重合性化合物には、 上 記した光重合性化合物を 2種類以上組み合わせて用いることが好ましい。 光重合 性化合物の組み合わせとしては、 3官能以上の光重合性化合物と 1又は 2官能の 光重合性化合物との組み合わせが好ましい。 3官能以上の光重合性化合物を含有 させることにより、 硬化後の感光性樹組成物の T gが良好な範囲 （ 1 0 0〜 1 8 0 °C) にすることができる。 また、 硬化後の収縮率の観点からは、 光重合性化合 物には、 アタリレート系の光重合性化合物を含むことが好ましい。
(光重合開始剤） 【006 9】 感光性樹脂組成物における光重合開始剤 （以下 「（C) 成分」 とい う場合がある。）は上記光重合性化合物を重合可能なものであればよく、特に制限 されないが、 紫外線又は可視光線により遊離ラジカルを生成する光開始剤が好ま しい。
【00 70】 かかる光重合開始剤としては、 ベンゾィンメチルエーテル、 ベン ゾィンェチノレエーテ/レ、 ベンゾィンプロピノレエーテノレ、 ベンゾィンィソブチノレエ ーテ/レ、 ベンゾインフエ二/レエーテノレ等のベンゾインエーテノレ類、 ベンゾフエノ ン、 N, N' —テトラメチル一 4, 4' —ジァミノべンゾフエノン （ミヒラーケ トン）、 N, Ν' —テトラェチノレ一 4, A' ージァミノベンゾフエノン等のベンゾ フエノン類、 ベンジノレジメチノレケターノレ (チバ 'スペシャルティ 'ケミカルズ社 製、 ィルガキュア 6 5 1)、 ベンジルジェチルケタール等のベンジルケタール類、 2 , 2—ジメ トキシ一 2—フエ二ルァセトフエノン、 - t e r t一プチノレジク ロロァセトフエノン、 p—ジメチルァミノァセトフエノン等のァセトフエノン類 のキサントン類、 あるいはヒ ドロキシシクロへキシノレフエニノレケトン (チバ ·ス ぺシャルティ 'ケミカルズ社製、 ィルガキュア 1 84)、 1— (4一イソプロピル フエニル） 一 2—ビトロキシー 2—メチルプロパン一 1一オン (メルク社製、 ダ 口キュア 1 1 1 6)、 2—ヒ ドロキシー 2—メチノレ一 1—フエニルプロパン一 1一 オン （メルク社製、 ダロキュア 1 1 7 3)、 2, 2—ジメ トキシー 1, 2—ジフエ ニルェタン一 1一オン等が挙げられ、 これらは単独で又は 2種以上を組み合わせ て用いることができる。
【007 1】 光重合開始剤としては、 相溶性に優れ低黄変性であることから、 1ーヒドロキシーシク口へキシル—フエ二ルーゲトンが好ましく、 かかる化合物 は、 I RGACURE 1 84 (チバスペシャルティケミカルズ （株） 製、 製品名 ) として商業的に入手可能である。
(感光性樹脂組成物の組成） 【0072】 （A)、 (B) 及び （C) 成分は以下の配合となるように含有させ ることが好ましい。 すなわち、 （A) 成分の配合量は、 （A) 成分及び （B) 成分 の総量 1 00重量部に対して、 30〜 90重量部とすることが好ましく、 45〜 70重量部とすることがより好ましい。 （A) 成分の配合量が （A) 成分及び（B ) 成分の総量 100重量部に対して 30重量部未満であると、 硬化物が脆くなり 、 感光性エレメントを形成する際の塗膜性が悪くなる傾向がある。 また、 90重 量部を超えると、 光感度が低下する傾向がある。
【0073】 （B) 成分の配合量は、 （A) 成分及び （B) 成分の総量 100重 量部に対して、 10〜70重量部とすることが好ましく、 30~55重量部とす ることがより好ましい。 （B) 成分の配合量が （A) 成分及び （B) 成分の総量 1 00重量部に対して 10重量部未満であると、 光感度が低下する傾向があり、 7 0重量部を超えると、 硬化物が脆くなり、 感光性エレメントを形成する際の塗膜 性が悪くなる傾向がある。
【0074】 （C) 成分の配合量は、 （A) 成分及び （B) 成分の総量 100重 量部に対して 0. 1〜20重量部であることが好ましく、 0. 2〜 10重量部で あることがより好ましい。 （C) 成分の配合量が （A) 成分及び （B) 成分の総量 1 00重量部に対して 0. 1重量部未満であると、 光感度が低下する傾向があり 、 20重量部を超えると、 露光の際に組成物の表面での吸収が増大して、 内部の 光硬化が不充分となる傾向がある。
(その他添加成分)
【0075】 （A)、 (B) 及び （C) 成分以外の成分として、 必要に応じて、 分子内に少なくとも 1つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性 化合物（ォキセタン化合物等）、 カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染 料、 トリプロモフエニルスルホン、 ロイコクリスタルバイオレツ ト等の光発色剤 、 熱発色防止剤、 p—トルエンスルホンアミ ド等の可塑剤、 顔料、 充填剤、 消泡 剤、 難燃剤、 安定剤、 密着性付与剤、 レべリング剤、 剥離促進剤、 酸化防止剤、 香料、 イメージング剤、 熱架橋剤等を、 （A) 成分及び （B ) 成分の総量 1 0 0重 量部に対して各々 0 . 0 1〜2 0重量部程度含有することができる。 これらは単 独で又は 2種類以上を組み合わせて使用することができる。
(感光性エレメント）
【0 0 7 6】 本発明の感光性エレメントは、 支持体と、 該支持体上に形成され た上記本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、 を備えること を特徴とするものであり、 感光性樹脂組成物層上には、 該層を被覆する保護フィ ルムを更に備えていてもよい。
【0 0 7 7】 感光性樹脂組成物層は、 上述した感光性樹脂組成物を、 必要に応 じてメタノーノレ、 エタノール、 アセトン、 メチルェチルケトン、 メチノレセロソノレ ブ、 ェチルセ口ソルブ、 トルエン、 N, N—ジメチノレホ /レムアミ ド、 プロピレン グリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して固形分 2 5〜7 0重量％程度の溶液とした後に、 かかる溶液をロールコータ、 コンマコ ータ、 グラビアコータ、 エアーナイフコータ、 ダイコータ、 バーコータ等の公知 の方法で、 支持体上に塗布した後に、 乾燥することにより形成させることができ る。
【0 0 7 8】 乾燥は、 7 0〜1 5 O °C、 5〜 3 0分程度で行うことができ、 ま た、 感光性樹脂且成物層中の残存有機溶剤量は、 後の工程での有機溶剤の拡散を 防止する観点から、 2重量％以下とすることが好ましい。 なお、 感光性エレメン トが保護フィルムを備える場合、 上記有機溶剤溶液の乾燥後に、 形成された感光 性樹脂組成物層上に保護フィルムを被覆することが好ましい。
【0 0 7 9】 支持体としては、 ポリエチレンテレフタレート、 ポリプロピレン 、 ポリエチレン、 ポリエステル、 ポリイミド等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重 合体フィルムを用いることができ、 保護フィルムとしては、 ポリエチレン、 ポリ プロピレン等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができ る。 これらの重合体フィルムの厚さは、 1〜1 0 0 mとすることが好ましい。 保護フィルムとしては、 感光性樹脂組成物層と支持体との接着力よりも、 感光性 樹脂組成物層と保護フィルムとの接着力が小さいものであることが好ましく、 ま た、 低フィッシュアイのフィルムであることが好ましい。
【0080】 感光性ェレメントにおける感光性樹脂組成物層の厚さは、 乾燥後 の厚さで 1〜100 μπι程度であることが好ましい。 このときの膜厚精度として は、 乾燥後の感光性樹脂組成物層の膜厚を基準として、 ± 2 /2 mであることが好 ましく、 ± 1. 0 μπιであることがより好ましく、 ± 0. 5 μπιであることが特 に好ましい。 膜厚精度が ± 2 μπιの範囲外であると、 基板上に均一に感光性樹脂 組成物層が積層されず、 光ディスクにおけるスぺーサ一層の膜厚が均一でなくな り、 光ディスクからの情報読み出しの精度が低下し、 また、 光ディスクの製造歩 留まりが低くなる傾向がある。 なお、 本発明において、 膜厚精度とは、 感光性樹 脂組成物層の硬化後の膜厚を基準としてその差をとつたものであり、 フィルム幅 方向 （340mm) に、 20 mm間隔で 1 7点測定を行った平均をいう。
【008 1】 感光性樹脂組成物層の、 硬化後の吸水率は、 2 %以下であること が好ましく、 1. 5%以下であることがより好ましく、 1%以下であることが更 に好ましい。 吸水率が 2%を超えると、 高温条件下で感光性樹脂組成物層が熱膨 張する場合があり、 光ディスクに用いた際に記録層の変形を引き起こす可能性が ある。 なお、 本発明において吸水率とは、 硬化させた感光性エレメントを 5 cm X 5 cmのサイズに切り取り、 支持体或いは更に保護フィルムを除去した後、 2 3 ± 2°Cの精製水に 24± 1時間浸水させた後の硬化膜の重量と、 浸水させる前 の硬化膜の重量との差から式 （M2— M /M, X 100 (%) によって求められ るものである。
【0082】 また、 感光性樹脂組成物層の硬化後の光透過率は、 波長 405 n mの光に対して 85%以上であることが好ましく、 90%以上であることがより 好ましく、 95 %以上であることが更に好ましい。 光透過率が 85 %未満である と、 光ディスクに用いた際、 レーザーによる記録層の情報の読み出し精度が低下 する傾向がある。 なお、 本発明において光透過率とは、 達明基板に感光性樹脂組 成物層を圧着して感光性樹脂組成物層 （厚さ 2 0 μ πι) を硬化させた基板と、 感 光性樹脂組成物層を備えていない基板と、 の光透過率 （光の波長 4 0 5 n m) の 差から求められるものである。
【0 0 8 3】 更に、 感光性樹脂組成物層の硬化後の屈折率は、 光ディスクを構 成する透明基材と同様の屈折率であることが好ましく、 その値は 1 . 5程度が好 ましい。 なお、 上記屈折率は、 感光性樹脂組成物層の硬化物を備えたガラス基板 をサンプルとして、 波長 6 3 3 n mの光に対して得られた上記硬化物の屈折率を 意味する。
〖0 0 8 4】 また、 感光性樹脂組成物層の硬化後の複屈折率は、 波長 6 3 3 n mの光に対して 3 0 n m以下であることが好ましく、 2 0 n m以下であることが より好ましく、 1 5 n m以下であることが更に好ましい。 複屈折率が 3 0 η παを 超える場合、 再生光の円偏光を楕円偏光にして光量を低下させ、 光ディスクの読 み出し精度が低下する傾向がある。
【0 0 8 5】 感光性エレメントは、 例えば、 シート状、 又は保護フィルムを介 在させた上で円筒状の巻芯にロール状に卷き取って保管することができる。 卷芯 としては、 例えば、 ポリエチレン樹脂、 ポリプロピレン樹脂、 ポリスチレン樹脂 、 ポリ塩化ビニル樹脂、 A B S樹脂 （アクリロニトリル一ブタジエン一スチレン 共重合体） 等のプラスチックなどが挙げられる。 ロール状に卷き取る際、 支持体 が外側になるように卷き取ることが好ましい。 更に、 ロール状に卷き取った感光 性ェレメントの端面には、 端面保護の見地から端面セパレータを設置することが 好ましく、 耐ェッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置すること が好ましい。 また、 梱包方法としては、 透湿性の小さいブラックシートに包んで 包装することが好ましい。
【0 0 8 6】 ' 光ディスクを製造するために、 感光性エレメントを透明基板 （光 基板） あるいは記録層上に積層する方法としては以下の方法が挙げられ る。
【0 0 8 7】 先ず、 感光性エレメントに保護フィルムが存在している場合には 、 保護フィルムを除去して、 感光性樹脂組成物層を 2 0〜 1 3 0 °C程度に加熱し ながら、 0 . 1〜； L M P a程度 （ 1〜： L 0 k g f Z c πι2程度） の圧力で透明基板 (ポリカーボネートゃポリメタクリル酸メチル等） に圧着 （支持体を介して圧着
) して、 感光性樹脂組成物層を透明基板上に積層する。 積層は、 減圧下で行うこ とも可能であり、 積層される表面は特に制限はない。
【0 0 8 8】 支持体を除去した後、 積層が完了した感光性樹脂組成物層に対し て、 ピットや溝が切られている金型 （スタンパ） を 0 . l〜l M P a程度 （1〜 1 0 k g f Z c m2程度）の圧力で圧着する。 このとき減圧下で圧着することも可 能である。 金型圧着後、 活性光線を感光性樹脂組成物層に照射することで、 ピッ トゃ溝を有する感光性樹脂組成物層の硬化物が形成される。 活性光線の光源とし ては、 公知の光源、 例えば、 カーボンアーク灯、 水銀蒸気アーク灯、 高圧水銀灯 、 キセノンランプ等の紫外線、 可視光などを放射するものが用いられる。
【0 0 8 9】 また、 本努明の感光性樹脂組成物は光ディスクにおけるスぺーサ 一層だけでなく、 その他の透明性が必要とされる保護 H莫ゃスぺーサ一層としても 有用である。 これらの用途としては、 例えば、 光ディスク用の保護膜、 太陽電池 セル等の被着体の表面ノ裏面に貼り合わせる保護膜等が例示できる。 太陽電池の エネルギー効率の悪化を抑えつつ環境耐性に優れる感光性樹脂組成物を提供する ためには、 波長 8 0 0 n mの光に対する光透過率が 8 5 %以上であることが好ま しく、 9 0 %以上であることがより好ましく、 9 5 %以上であることが特に好ま しい。
[実施例]
【0 0 9 0】 以下、 本発明の好適な実施例について更に詳細に説明するが、 本 発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[感光性樹脂組成物の調製] (調製例 1〜 5及び調製例 1 1〜 21 )
【009 1】 表 1に示す成分を混合し溶液を得た。 なお調製例 1〜 5で得られ た溶液をそれぞれ溶液 1〜 5とする。 また、 表 2及び 3に示す成分を混合し溶液 を得た。 なお調製例 1 1〜2 1で得られた溶液をそれぞれ溶液 1 1〜21とする
【表 1】
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(実施例 4及び 1 9並びに比較例 1及び 1 1 2) 【 0 0 9 2】 調製例 1〜 5で得られた溶液 1〜 5に、 表 4に示す成分を溶解さ せ、 感光性樹脂組成物の溶液を得た。 また、 調製例 1 1〜1 5で得られた溶液 1 1〜1 5に、 表.5に示す成分を溶解させ、 感光性樹脂組成物の溶液を得た。 更に 、 調製例 1 6〜 2 1で得られた溶液 1 6〜 2 1に、 表 6に示す成分を溶解させ、 感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【表 4】
組成 実施例 1 実施例 2 実施例 3 実施例 4 比較例 1 調製例で得られた溶液 溶液 1 溶液 2 溶液 3 溶液 4 溶液 5
HD-N * 1 1 6 1 6 1 6 2 5
DPHA*2 1 2 1 2 1 2
(B)成分 ATMPT*3 2 5
(単位: g) ビスコート #540* 4 1 2 1 2
BPE-10*5 1 2 2 0
TMCH-5*6 3 5
【表 5】
実施例 実施例 実施例 実施例 比較例 組成
1 1 1 2 1 3 1 4 1 1 溶液 溶液 溶液 溶液 溶液 調製例で得られた溶液
1 1 1 2 1 3 1 4 1 5
HD-N * 1 1 6 1 6 1 6 1 6
DPHA*2 1 2 1 2 1 2 1 2
(B)成分 ATMPT*3
(単位: g) ビスコート #540* 4 1 2 1 2 1 2 1 2
BPE-10*5 2 0
TMCH-5*6 3 5 【表 6】
Figure imgf000032_0001
【0 0 9 3】 なお、 表中 * 1〜* 8は以下のとおりである。
* 1 ：へキサンジオールジメタクリレート (新中村化学工業 (株) 製）、
* 2 ：ジペンタエリスリ トールへキサアタリレート (日本化薬 (株) 製）、
* 3 ： トリメチロールプロパントリアタリレート (新中村化学工業 (株) 製）、
* 4 ： ビスフエノール A—ジエポキシ一アクリル酸付加物 (繰り返し単位 n = 1 . 2 ) (大阪有機化学工業 （株） 製)、
* 5 ：一般式 （8 ) において、 R51及び R52がメチル基、 X及び Yがエチレン基を 示し、 p + q = 1 0 (平均値） である化合物 （新中村化学工業 （株） 製)、
* 6 ： トリメチ^/へキサメチレンジイソシア^ "一ト系ウレタンジアタリレート （ 日立化成工業 （株） 製サンプル名）、
* 7 ：一般式 （8 ) において、 R51及び R52がメチル基、 X及び Yがエチレン基を 示し、 p + q = 4 (平均値） である化合物 （新中村化学工業 （株） 製)、
* 8 ： トリシクロデカンジメタノールジァクリレート (新中村化学工業 (株) 製
[感光性エレメントの作製]
(実施例 5〜 8及び 20〜 28並びに比較例 2及ぴ 1 3〜 14 )
【0094】 次いで、 得られた上記実施例及び比較例の溶液を、 19 μ m厚の ポリエチレンテレフタレートフイルム （PETフィルム） （商品名 G 2—1 9、帝 人 （株） 製） 上に均一に塗布し、 100°Cの熱風対流式乾燥機で 10分間乾燥し た後、 ポリエチレン製保護フィルム （フィルム長手方向の引張強さ ： 1 6Mp a 、 フィルム幅方向の引張強さ ： 12Mp a、 商品名 ： NF— 1 5、 タマポリ （株
) 製） で保護し、 感光性エレメントを得た。 感光性樹脂組成物層の乾燥後の膜厚 は、 20 μπιであった。 なお、 実施例 1〜 4及び比較例 1の溶液を用いたものが 、 それぞれ実施例 5〜 8及び比較例 2に該当する。 また、 実施例 1 1 ~ 1 9及び 比較例 1 1〜 1 2の溶液を用いたものが、 それぞれ実施例 20〜 28及び比較例 1 3〜14に該当する。
【0095】 次いで上記実施例及び比較例の感光性エレメントについて、 硬化 度、 光透過率、 ガラス転移温度、 吸水率、 屈折率、 複屈折率及び膜厚精度を以下 のようにして評価した。 また、 実施例 5〜 8及び比較例 2の感光性 レメントに おいては、 環境加速試験を以下のようにして行った。 なお、 以下の実施において 、 ラミネートには、 ロール外径 87. 5 mm φ , シリンダー内径 40 mm ψ であ り、 硬度 70° のシリコンゴム （3 mm厚） がロールの外側に存在する形態のヒ 一トローノレを用いた。
[硬化度の測定]
【0096】 赤外分光計 （HOR I BA FT_200、 堀場製作所 （株） 製 ) を用いて、 感光性樹脂組成物層中の光重合性化合物に含まれるアクリル基の面 外変角振動の特性吸収である 8 1 2 cm—1のピーク高さを、 紫外線照射前及び後 の感光性エレメントについて求め、 この高さの比から感光性樹脂組成物層の硬化 度を求めた。 図 6は、 紫外線照射前後の赤外吸収スペク トル変化の一例を示す。 また、 紫外線露光量を 1 0 Om J単位で増加させるときの、 増加前と増加後の硬 化度をそれぞれ求めて、 増加前の硬化度と比べて、 増加後の硬化度が、 2〜3 % 以内の変化となる部分を光硬化の飽和状態とみなし、 この場合における増加前の 露光量を硬化物を得るための最適値とした。
[光透過率の測定]
【0 0 9 7】 まず、 感光性エレメントにおける保護フィルムを剥がしながら、 ポリカーボネート （P C) 基板に感光性樹脂組成物層が接触するようにして、 5 0°Cのヒートローノレを用い、 0. 5 MP aの圧力及び 0. 2 mZ分の速度でラミ ネートして、 P C基板、 感光性樹脂組成物層及び P E Tフィルムをこの順に備え る三層構造とした。 次に、 P ETフィルム側から高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射機 (QRM- 2 3 1 7— F— 0 0、 オーク （株） 製） を用いて紫外線照 射を行い、 感光性樹脂組成物層を硬化させることによって、 評価用サンプルを得 た。 光透過率は、 光硬化後 6 0分後のものを用いて測定した。
【 0 0 9 8】 そして、 U V分光計 （(株） 日立製作所製 2 2 8 A型 Wビーム分光 光度計） の測定側に上記方法によって得られた評価用サンプルを置き、 リファレ ンス側に P C基板を置き、 T。/。モードにより 9 0 0〜 1 9 0 μ mまでを連続測定 し、 40 5 nmの値を読み取ることにより光透過度の差を測定した。.
[ガラス転移温度 （T g) の測定]
【 0 0 9 9】 実施例 5〜 8及び比較例 2においては、 TMAを用いて以下のよ うにして T gの測定を行った。 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射機 （QR M- 2 3 1 7— F— 0 0、 オーク (株） 製) を用いて、 感光性エレメントの感光 性樹脂組成物層に紫外線照射を行い、 硬化膜をサイズ 4mmX 2 Ommに切り取 つたものを T g測定用サンプルとし、 TMA 1 2 0 (セイコー電子製） を用いて 感光性樹脂組成物層の光硬化後の T gを測定した。 測定条件は、 温度領域 0〜2 00°C、 昇温速度 5°C/分、 荷重 3 g、 引っ張りモードとした。
【0 1 0 0】 実施例 20〜 28及び比較例 1 3〜 1 4においては、 DMAを用 いて以下のよう.にして T gの測定を行った。 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV 照射機 （QRM— 2 3 1 7— F— 00、 オーク （株） 製） を用いて、 感光性エレ メントの感光性樹脂組成物層に紫外線照射を行い、 硬化膜をサイズ 6mm X 3 5 mmに切り取つたものを T g測定用サンプルとし、 R S A— II粘弾性アナライザ (Rhoraotorics 社製） を用いて、 以下に示す条件及び温度領域 0〜 2 0 0 °C、 昇 温速度 5 °C /分、 引張りモードの条件で動的粘弾性を測定し感光性樹脂組成物層 の光硬化後の T gを求めた。
Options： Auto Tension Adjustment
Mode： Static Force Tracking Dynamic Force
Auto Tension Direction： Tension
Initial Static Force： 70g
[吸水率の測定]
【0 1 0 1】 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射機 （QRM— 2 3 1 7— F— 00、 オーク （株） 製） を用いて紫外線照射を行い、 硬化膜をサイズ 5 cm X 5 cmに切り取つたものを吸水率測定用サンプルとし、 J I S - 7 2 0 9 に準じた方法で、 以下の通りにして感光性樹脂組成物層の光硬化後の吸水率を測 定した。 まず、.得られたサンプルを秤量し、 この値を Mtとした。 次に、 2 3 ± 2 °Cの精製水に 24 ± 1時間浸水させた。 浸水後、 サンプルを精製水から取りだし 、 水滴を拭き取った後秤量し、 この値を M2とした。 吸水率は （M2— / iy X I 0 0 (%) の式により求めた。
[屈折率の測定]
【0 1 0 2】 感光性エレメントにおける保護フィルムを剥がしながら、 ガラス 基板 （ 4 c m X 4 c m) に感光性樹脂組成物層が接触するようにして、 5 0 °Cの ヒートロールを用い、 0. 5 MP aの圧力及ぴ 0. 2 分の速度でラミネート し、 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射機 （QRM— 23 17— F— 00、 オーク （株） 製） を用いて感光性樹脂組成物層に紫外線照射を行ったものを屈折 率測定用サンプルとし、 2010プリズム力ブラ （メトリコン （株） 製） を用い て波長 633 nmで感光性樹脂組成物層の光硬化後の屈折率を測定した。 測定は 、 TEモードと TMモードの両方で行い、 両者の平均を測定値とした。
[複屈折率の測定]
【0103】 感光性エレメントにおける保護フィルムを剥がしながら、 ガラス 基板 （4 c m X 4 c m) に感光性樹脂組成物層が接触するようにして、 50での ヒートロールを用い、 0. 5 MP aの圧力及び 0. 2 m/分の速度でラミネート し、 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射機 （QRM— 23 1 7— F— 00、 オーク （株） 製） を用いて感光性樹脂組成物層に紫外線照射を行ったものを複屈 折率測定用サンプルとし、 ADR— 100XY (オーク （株） 製） を用いて波長 6 33 nmで感光性樹脂組成物層の光硬化後の複屈折率を測定した。 測定は、 サ ンプル上 9点を測定し、 9点の平均を測定値とした。
[膜厚精度の測定]
【0 104】 感光性エレメントにおける保護フィルムを剥がしながら、 ガラス 基板 （ 4 c m X 4 c m) に感光性樹脂組成物層が接触するようにして、 23での ヒートロールを用い、 0. 4 MP aの圧力及び IraZ分の速度でラミネートし、 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射器 (QRM-231 7— F— 00、 ォー ク （株） 製） を用いて感光性樹脂組成物層に紫外線照射を行ったものを膜厚精度 測定用サンプルとし、 接触式膜厚測定機 (N i k o n (株） 製） MS— 5 Cを用 いて感光性樹脂組成物層の硬化後の膜厚を測定し、 20 mとの差を膜厚精度と した。 測定方法は、 フィルム幅方向 （340mm) に 20 mm間隔で測定を行い 、 1 7回分の平均を測定^ (直とした。
[環境加速試験]
【0105】 感光性エレメントにおける保護フィルムを剥がしながら、 直径 1 2 c mの P C基板に感光性樹脂組成物層が接触するようにして、 50 °Cのヒート ロールを用い、 0. 5 MP aの圧力及び 0. 2 m/分の速度でラミネートして、 P C基板、 感光性樹脂組成物層及び P E Tフィルムをこの順に備える積層体を得 た。 得られた積層体の PETフィルムを剥がした後、 感光性樹脂組成物層にスタ ンパを接触させ、 50°Cのヒートロールを用いて、 0. 5MP aの圧力及び 0.
05 mZ分の速度でラミネートして、 感光性樹脂組成物層にピットの転写を行つ た。 ピッ トの転写を行った後、 スタンパを剥離して、 PC基板とピットが形成さ れた感光性樹脂組成物層とからなるディスクを得た。 得られたディスクの感光性 樹脂組成物層に、 高圧水銀灯ランプを有する大型 UV照射器 （QRM— 2317 — F_00、 オーク （株） 製） を用いて、 2 J /cm2で紫外線照射を行ったもの を環境加速試験用サンプルとした。
【0106】 得られた環境加速試験用サンプルを、 温度 70 °C、 湿度 90 %R
Hの恒温恒湿槽中に 314時間放置した。 それぞれのサンプルについて、 走査型 電子顕微鏡 （S— 4500 ((株） 日立製作所製)） で試験前及び後のピット形状 を観察した。
[架橋密度の測定]
【0107】 上記動的粘弾性測定における貯蔵粘弾性率の測定結果に基づき、 下記数式 （1) を用いて感光性樹脂組成物の硬化後の架橋密度を算出した。
p =E， / 3 φ R T … （1)
架橋密度の算出方法の一例を以下に説明する。 図 7は、 実施例 20の感光性エレ メントの動的粘弾性の測定結果を示す図である。 実施例 20の感光性樹脂組成物 の硬化膜においては、 損失正接が極大値を示す温度は 1 15. 7°Cであった。 E ' は 115. 7 °Cに 40 °Cを加えた 155. 7 °Cおける貯蔵粘弾性率であり、 T は 1 55. 7°Cにおける絶対温度 （428. 7 K) である。 また、 φは 1である 。 これらの値を上記 （1) 式に代入して算出した ρの値は、 3039mmo l/
Lであった。 実施例 21〜28及び比較例 13〜14においても、 同様の方法に より上記 (1) 式を用いて硬化後の感光性樹脂組成物の架橋密度を算出した。
[密着性試験]
【0108】 実施例 20〜 28及び比較例 1 3〜 14の感光性エレメントにつ いて、 光ディスク基板としてのポリカーボネート （PC) フィルムとの密着性を 試験した。 .
【0109】 まず、 感光性エレメントにおける保護フィルムを剥がしながら、 P Cフィルム （膜厚： 7 Ο〜1 Ο 0μπι) に感光性樹脂組成物層が接触するように して、 1 10°Cのヒートロールを用い、 0. 5MP a程度 （ 5 k g f Zc m2程 度） の圧力及び 0. 2 mZ分の速度でラミネートした。 これにより、 PCフィ/レ ム、 感光性樹脂組成物層及び PETフィルムの 3層構造が得られる。 次に、 PE Tフィルム側から高圧水銀灯ランプを有する大型 W照射機（QRM— 231 7- F— 00、 オーク （株） 製） を用いて感光性樹脂組成物層に紫外線照射を行なつ た後、 PETフィルムを剥離したものを密着性試験用サンプルとした。 密着性試 験は、 J I S K— 5400— 8. 5. 3に準拠した方法により、 以下のように して行った。
【01 10】 新しい刃に交換したカッターを用いて、 試験用サンプルの中央に 互いに 30度の角度で交わり P Cフィルムに達する長さ 4 Ommの切傷を付けた 。 次に、 交差する 2本の切傷の上から接着部分の長さが 5 Ommになるようにセ ロハンテープを貼り付け、 消しゴムで気泡を追い出すようにこすり硬化膜に完全 に付着させた。 そのまま 1分間静置して、 セロハンテープの一方の端を持ち垂直 方向に一気に剥がした。 セロハンテープを剥がしたときの Xカット部の剥れの状 態を目視により観察し、 以下の基準で評価した。
〇：剥れがない、
X ：全てが剥れる。
【0 1 1 1】 以上、 実施例 5〜 8及び比較例 2の光透過率、 ガラス転移温度 （ T g)、吸水率、屈折率、複屈折率及び膜厚精度の評価結果並びに環境加速試験で 得られた結果を表 7に示す。 また、 実施例 20〜 23及び比較例 1 3の光透過率 、 T g、 吸水率、 屈折率、 複屈折率、 膜厚精度、 架橋密度及び密着性の評価結果 を表 8に示す。 .さらに、 実施例 24〜 28及び比較例 14の光透過率、 ガラス転 移温度、 吸水率、 屈折率、 複屈折率、 膜厚精度、 架橋密度及び密着性の評価結果 を表 9に示す。
【表 7】
実施例 5 実施例 6 実施例フ 実施例 8 比較例 2 光透過率 （％) 95 96 98 9フ 62
Tg (°C) 91 1 01 1 00 1 1 6 65 吸水率 （％) 0. 36 1 1 0. 43 1. 6 屈折率 1. 52 1. 5 1. 51 1. 56 1. 51 複屈折率 （nm) 0. 1 4 0. 1 0. 1 0. 33 0. 05 膜厚精度 ±0. 5 ±0. 5 ±0. 5 ±0. 5 ±0. 5 環境加速試験 ピット形状の ピット形状の ピット形状の ピット形状の ピット形状の 変形なし 変形なし 変形なし 変形なし 変形あり
【表 8】
実施例 実施例 実施例 実施例 比較例
20 21 22 23 13 光透過率 （％) 98 96 98 97 62
Tg (。c) 91 96 97 8フ 83 吸水率 （％) 0. 85 0. 86 1. 07 0. 90 1. 6 屈折率 1. 52 1. 51 1. 51 1. 51 1. 51 複屈折率 (nm) 0. 1 4 0. 08 0. 1 0. 33 0. 05 膜厚精度 ±0. 5 ±0. 5 ±0. 5 ±0. 5 ±0. 5
3039 2577 281 0 1 321 1 027
(mmo 1 /し)
密着性 〇 〇 〇 O X 【表 9】
Figure imgf000040_0001
【0 1 1 2】· また、 実施例 5 8、 実施例 2 0 2 3及び実施例 2 4 2 8の 感光性樹脂組成物の硬化後の光透過率は波長 8 0 0 n mの光に対して 9 0 %以上 であり、 エネルギー効率の悪化を抑えつつ環境耐性に優れる太陽電池セルの保護 膜として有用であることが確認された。
産業上の利用可能性
【0 1 1 3】 以上説明したように、 本発明によれば、 光ディスクのスぺーサー 層を形成するための組成物であって、 読取り用レーザに対する透明性や膜厚の均 一性等、 スぺーサ一層に求められる通常の要求特性を具備しつつ、 更に、 熱膨張 による記録層の変形や光ディスク基板とスぺーサ一層との^着不良を抑制するこ とが可能な組成物を提供することが可能になる。

Claims

請求の範囲
1 . 互いに対向して配置された 2枚の透明基板と、 該透明基板の対向面間に 配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光ディスクにおける、 前記スぺ ーサ一層を形成するための感光性樹脂 »成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、 硬化後のガラス転移温度が 1 0 0〜 1 8 0 °Cであることを特徴とする感光性樹脂組成物。
2 . 互いに対向して配置された 2枚の透明基板と、 該透明基板の対向面間に 配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光ディスクにおける、 前記スぺ ーサ一層を形成するための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含んでおり、
下記数式 （1 ) により算出される、 硬化後の架橋密度が 1 , 1 0 O mm o \ / L以上であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
p = Ε'/ 3 φ R T … （1 )
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 4 0 °Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
3 . 互いに対向して配置された 2枚の透明基板と、 該透明基板の対向面間に 配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光ディスクにおける、 前記スぺ ーサ一層を形成するための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含んでおり、
硬化後のガラス転移温度が 1 0 0〜 1 8 0 °Cであり、
下記数式 （1 ) により算出される、 硬化後の架橋密度が 1， 1 0 O mm o 1 /
L以上であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 p =E'/ 3 φ RT ■·· ( 1 )
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 4 0°Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
4. 互いに対向して配置された 2枚の透明基板と、 該透明基板の対向面間に 配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光ディスクにおける、 前記スぺ ーサ一層を形成するための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、
前記バインダーポリマーが、 芳香族ポリカーボネートを含むことを特徴とする 感光性樹脂組成物。
5. 前記感光性樹脂組成物の硬化後のガラス転移温度が、 1 0 0〜1 8 0°C であることを特徴とする請求項 4記載の感光性樹脂組成物。
6. 下記数式 （1) により算出される、 前記感光性樹脂組成物の硬化後の架 橋密度が、 1， 1 0 Omm o 1 ZL以上であることを特徴とする請求項 4記載の 感光性樹脂組成物。
P =Ε，Ζ3 RT … （1 )
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 4 0°Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
7. 前記芳香族ポリカーボネートが、 下記一般式 （1 ) で表される操り返し 単位を有するポリマーであることを特徴とする請求項 4記載の感光性樹脂組成物
【化 1】
Figure imgf000043_0001
[式中、 Xは、 下記式 （2 ) で表される二価基、 下記式 （3 ) で表される二価基又 は下記式 （4 ) で表される二価基を示す。 ]
【化 2】
Figure imgf000043_0002
【化 3】
( 3 )
Figure imgf000043_0003
【化 4】
Figure imgf000043_0004
8 . 前記芳香族ポリカーボネートの重量平均分子量が、 1 0， 0 0 0以上で あることを特徴とする請求項 4記載の感光性樹脂糸且成物。
9 . 互いに対向して配置された 2枚の透明基板と、 該透明基板の対向面間に 配置された記録層及びスぺーサ一層と、 を備える光ディスクにおける、 前記スぺ ーサ一層を形成するための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性榭脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、
前記バィンダーポリマーが、 側鎖にェチレン性不飽和結合を有するポリマーを 含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
1 0 . 前記感光性樹脂組成物の硬化後のガラス転移温度が、 1 0 0〜 1 8 0 °Cであることを特徴とする請求項 9記載の感光性樹脂組成物。
1 1. 下記数式 （1) により算出される、 前記感光性樹脂組成物の硬化後の 架橋密度が、 1, 10 Ommo 1/L以上であることを特徴とする請求項 9記载 の感光性樹脂且成物。
p =Ε'/3 RT ··■ (1)
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 40°Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
1 2. 側鎖にエチレン性不飽和結合を有する前記ポリマーが、
カルボキシル基を有するポリマーに、
エチレン性不飽結合とヒ ドロキシル基とを有するヒ ドロキシルモノマー及びェチ レン性不飽和結合とグリシジル基とを有するグリシジルモノマーからなる群より 選ばれる少なくとも一つのモノマーを、 反応させてなるポリマーであることを特 徴とする請求項 9記載の感光性樹脂組成物。
1 3. 前記力ルポキシル基を有するポリマーが、
カルボキシル基を有するカルポキシルモノマーと、 該カルボキシルモノマーと 共重合可能な共重合モノマーとの共重合体であることを特徴とする請求項 12記 载の感光性樹脂組成物。
14. 前記カルボキシル基を有するポリマーが、
フヱノキシ榭脂と多塩基酸化合物とを縮合させたポリマーであることを特徴と する請求項 1 2記載の感光性樹脂組成物。
1 5. 前記カルボキシル基を有するポリマーが、
エチレン性不飽結合及びヒドロキシル基を有するヒドロキシルモノマーをモノ マー単位として含むヒドロキシルポリマーと、 多塩基酸化合物とを縮合させたポ リマーであることを特徴とする請求項 1 2記載の感光性樹脂組成物。
16. 側鎖にエチレン性不飽和結合を有する前記ポリマーが、 ヒ ドロキシル基を有するポリマーに、
ェチレン性不飽和結合とグリシジル基とを有するグリシジルモノマー及びェチレ ン性不飽結合とイソシァネート基とを有するィソシァネートモノマーからなる群 より選ばれる少なくとも一つのモノマーを、 反応させてなるポリマーであること を特徴とする請求項 9記載の感光性樹脂組成物。
1 7 . 前記ヒ ドロキシル基を有するポリマーが、 フエノキシ樹脂であること を特徴とする請求項 1 6記載の感光性樹脂組成物。
1 8 . 前記ヒ ドロキシル基を有するポリマーが、 エチレン性不飽結合及びヒ ドロキシル基を有するヒ ドロキシルモノマーと、 該ヒ ドロキシルモノマーと共重 合可能な共重合モノマーとの共重合体であることを特徴とする請求項 1 6記載の 感光性樹脂組成物。
1 9 . 前記カルボキシルモノマーが、 (メタ） ァクリル酸であることを特徴と する請求項 1 3記載の感光性樹脂組成物
2 0 . 前記共重合モノマーが、 （メタ）アクリル酸エステルであることを特徴 とする請求項 1 3又は 1 8記載の感光性樹脂組成物。
2 1 . 前記（メタ）アクリル酸エステルが、 (メタ） ァクリル酸アルキルエステ ル、 （メタ） ァクリル酸シクロアルキルエステル及び (メタ) アクリル酸シクロア ルケニルエステルからなる群より選ばれる少なくとも一つの （メタ） アクリル酸 エステルであることを特徴とする請求項 2 0記載の感光性樹脂組成物。
2 2 . 前記ヒ ドロキシルモノマーが、 （メタ） アクリル酸ヒ ドロキシアルキノレ エステルであることを特徴とする請求項 1 2、 1 5又は 1 8記載の感光性樹脂組 成物。
2 3 . 前記グリシジルモノマーが、 グリシジル （メタ） アタリレートである ことを特徴とする請求項 1 2又は 1 6記載の感光性樹脂組成物。
2 4 . 前記イソシァネートモノマーが、 イソシァネートアルキル （メタ） ァ タリレートであることを特徴とする請求項 1 6記載の感光性樹脂組成物。
2 5 . 前記バインダーポリマー 3 0〜 9 0重量部と、 前記光重合性化合物 Ί 0〜1 0重量部との合計 1 0 0重量部に対する前記光重合開始剤の配合量が、 0 . 1〜2 0重量部であることを特徴とする請求項 1、 2、 3、 4又は 9のいずれ か一項に記載の感光性樹脂組成物。
2 6 . 支持体と、 該支持体上に形成された請求項 1、 2、 3、 4又は 9のい ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、 を備える ことを特徴とする感光性ェレメント。
2 7 . 前記感光性樹脂組成物層の硬化後の吸水率が、 2 %以下であることを 特徴とする請求項 2 6記載の感光性ェレメント。
2 8 . 前記感光性樹脂組成物層の硬化後の光透過率が、 8 5 %以上であるこ とを特徴とする請求項 2 6項記載の感光性ェレメント。
2 9 . 前記感光性樹脂組成物層の膜厚精度が、 土 2 μ πιであることを特徴と する請求項 2 6項記載の感光性エレメント。
3 0 . 透明性保護膜又はスぺーサ一層を形成するために用いられる感光性樹 脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、 硬化後のガラス転移温度が 1 0 0〜 1 8 0 °Cであることを特徴とする感光性樹脂組成物。
3 1 . 透明性保護膜又はスぺーサ一層を形成するために用いられる感光性樹 脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含んでおり、
下記数式 （1 ) により算出される、 硬化後の架橋密度が 1 , l O O mm o l / L以上であることを特徴とする感光性樹脂糸且成物。
p = Eゾ 3 φ R T … （ 1 )
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 40°Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
32. 透明性保護膜又はスぺーサ一層を形成するために用いられる感光性樹 脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含んでおり、
硬化後のガラス転移温度が 1 00〜 1 8 0。Cであり、
下記数式 （1) により算出される、 硬化後の架橋密度が 1， l O Ommo l / L以上であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
p =Ε，/3 φ RT … （1)
[式中、 pは架橋密度、 Tは温度を変化させて動的粘弾性を測定した時の損失正 接が極大値を示す温度に 40°Cを加えた温度、 E'は前記 Tおける貯蔵弾性率、 φ はフロント係数、 Rは気体定数、 をそれぞれ示す。]
3 3. 透明性保護膜又はスぺーサ一層を形成するために用いられる感光性樹 脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、
前記バインダーポリマーが、 芳香族ポリカーボネートを含むことを特徴とする 感光性樹脂組成物。
34. 透明性保護膜又はスぺーサ一層を形成するために用いられる感光性樹 脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、 バインダーポリマー、 エチレン性不飽和結合を有す る光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、
前記バインダーポリマーが、 側鎖にエチレン性不飽和結合を有するポリマーを 含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006294177A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Bridgestone Corp 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
JP2007284534A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Toto Kasei Co Ltd 側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂、その製造方法及びその樹脂組成物
JP2009032380A (ja) * 2007-03-05 2009-02-12 Rohm & Haas Co 硬化性組成物
JP2015183108A (ja) * 2014-03-25 2015-10-22 富士フイルム株式会社 組成物、アンダーフィル用積層体、積層体、半導体デバイスの製造方法、および、半導体デバイス
WO2023228544A1 (ja) * 2022-05-24 2023-11-30 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 化合物、記録媒体、情報の記録方法及び情報の読出方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050068883A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Pioneer Corporation Optical recording medium and method for production of optical recording medium
KR100741297B1 (ko) * 2005-09-30 2007-07-20 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
KR100776721B1 (ko) * 2005-10-05 2007-11-28 주식회사 두산 액정표시소자용 실란트 조성물 및 이를 이용한 씰제
TWI417687B (zh) * 2006-05-16 2013-12-01 Mitsubishi Gas Chemical Co Electrophotographic photoreceptor
CN102645840B (zh) 2008-08-22 2015-01-14 日立化成株式会社 导电图形的形成方法以及导电膜基板
JP2010218605A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Toshiba Corp パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法
JP4543117B1 (ja) * 2009-03-13 2010-09-15 株式会社東芝 パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法
JP2010218597A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Toshiba Corp パターン転写用樹脂スタンパ、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法
JP4729114B2 (ja) * 2009-03-18 2011-07-20 株式会社東芝 磁気記録媒体の製造方法
CN105607424A (zh) * 2010-06-07 2016-05-25 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、分隔壁的形成方法、图像显示装置及制造方法和应用
WO2012004961A1 (ja) * 2010-07-07 2012-01-12 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 太陽電池裏面保護シート用易接着剤、及び太陽電池裏面保護シート、ならびに太陽電池モジュール
WO2013084284A1 (ja) * 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
KR102271843B1 (ko) * 2017-12-18 2021-07-01 주식회사 엘지화학 봉지 필름

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6352344A (ja) * 1986-08-20 1988-03-05 Seiko Epson Corp 光記録媒体
JPS63200335A (ja) * 1987-02-13 1988-08-18 Tdk Corp 光記録媒体
JPH04101884A (ja) * 1990-08-22 1992-04-03 Teijin Ltd 書換え可能な有機光記録媒体
JPH0554432A (ja) * 1991-08-20 1993-03-05 Pioneer Electron Corp 光記録媒体
JPH0744913A (ja) * 1993-07-26 1995-02-14 Canon Inc 光記録媒体用保護粘着シートおよびそれを用いた光記録媒体
JPH08160379A (ja) * 1994-12-02 1996-06-21 Fuji Xerox Co Ltd 光学素子
JPH09293271A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Victor Co Of Japan Ltd 両面光ディスク及びその初期化方法
JPH10106035A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 記録担体
JPH11191240A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Sony Corp 光記録媒体及びその製造方法
JP2000109544A (ja) * 2000-02-14 2000-04-18 Sekisui Chem Co Ltd 光硬化性組成物、光硬化性組成物の製造方法、光硬化型粘接着シート、光硬化型粘接着シートの製造方法及び接合方法
JP2000273128A (ja) * 1999-03-24 2000-10-03 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物
JP2001167478A (ja) * 1999-12-08 2001-06-22 Dainippon Ink & Chem Inc 光ディスク及び光ディスク用紫外線硬化型組成物
JP2001290269A (ja) * 2000-04-06 2001-10-19 Nichigo Morton Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いてなる感光性フィルム
JP2002501556A (ja) * 1998-02-12 2002-01-15 ディーエスエム エヌ．ブイ． 光硬化性樹脂組成物
JP2002025110A (ja) * 2000-07-13 2002-01-25 Bridgestone Corp 記録媒体

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6352344A (ja) * 1986-08-20 1988-03-05 Seiko Epson Corp 光記録媒体
JPS63200335A (ja) * 1987-02-13 1988-08-18 Tdk Corp 光記録媒体
JPH04101884A (ja) * 1990-08-22 1992-04-03 Teijin Ltd 書換え可能な有機光記録媒体
JPH0554432A (ja) * 1991-08-20 1993-03-05 Pioneer Electron Corp 光記録媒体
JPH0744913A (ja) * 1993-07-26 1995-02-14 Canon Inc 光記録媒体用保護粘着シートおよびそれを用いた光記録媒体
JPH08160379A (ja) * 1994-12-02 1996-06-21 Fuji Xerox Co Ltd 光学素子
JPH09293271A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Victor Co Of Japan Ltd 両面光ディスク及びその初期化方法
JPH10106035A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 記録担体
JPH11191240A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Sony Corp 光記録媒体及びその製造方法
JP2002501556A (ja) * 1998-02-12 2002-01-15 ディーエスエム エヌ．ブイ． 光硬化性樹脂組成物
JP2000273128A (ja) * 1999-03-24 2000-10-03 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物
JP2001167478A (ja) * 1999-12-08 2001-06-22 Dainippon Ink & Chem Inc 光ディスク及び光ディスク用紫外線硬化型組成物
JP2000109544A (ja) * 2000-02-14 2000-04-18 Sekisui Chem Co Ltd 光硬化性組成物、光硬化性組成物の製造方法、光硬化型粘接着シート、光硬化型粘接着シートの製造方法及び接合方法
JP2001290269A (ja) * 2000-04-06 2001-10-19 Nichigo Morton Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いてなる感光性フィルム
JP2002025110A (ja) * 2000-07-13 2002-01-25 Bridgestone Corp 記録媒体

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006294177A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Bridgestone Corp 光硬化性転写シート、これを用いた光情報記録媒体の製造方法、及び光情報記録媒体
JP2007284534A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Toto Kasei Co Ltd 側鎖にアリル基を有するポリヒドロキシエーテル樹脂、その製造方法及びその樹脂組成物
JP2009032380A (ja) * 2007-03-05 2009-02-12 Rohm & Haas Co 硬化性組成物
JP2015183108A (ja) * 2014-03-25 2015-10-22 富士フイルム株式会社 組成物、アンダーフィル用積層体、積層体、半導体デバイスの製造方法、および、半導体デバイス
WO2023228544A1 (ja) * 2022-05-24 2023-11-30 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 化合物、記録媒体、情報の記録方法及び情報の読出方法

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