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WO2003031455A1 - Optically active dihydroxycyclohexane compounds and process for producing optically active hydroxyethylenedihydroxycycohexane compound - Google Patents

Optically active dihydroxycyclohexane compounds and process for producing optically active hydroxyethylenedihydroxycycohexane compound Download PDF

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Publication number
WO2003031455A1
WO2003031455A1 PCT/JP2002/010216 JP0210216W WO03031455A1 WO 2003031455 A1 WO2003031455 A1 WO 2003031455A1 JP 0210216 W JP0210216 W JP 0210216W WO 03031455 A1 WO03031455 A1 WO 03031455A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
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group
compound
optically active
reaction
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2002/010216
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Fumie Sato
Sentaro Okamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP2003534437A priority Critical patent/JP4126555B2/en
Publication of WO2003031455A1 publication Critical patent/WO2003031455A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C401/00Irradiation products of cholesterol or its derivatives; Vitamin D derivatives, 9,10-seco cyclopenta[a]phenanthrene or analogues obtained by chemical preparation without irradiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02Boron compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/22Tin compounds
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to an optically active dioxycyclohexane compound, and the use of the compound.
  • the present invention relates to a method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound which is an important intermediate in the synthesis of 19-nor-monoactive vitamin D derivatives.
  • activated vitamin D 3 (1, 2 5- dihydroxy cholecalciferol sheet Hue port one Le) is calcium transport capacity in the small intestine, strong physiological activity such as bone mineral mobilization ability, important physiological functions of the human for its It is known to play a role.
  • T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • Bn represents a benzyl group
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group
  • MPM represents a p-methoxyphenylmethyl group
  • TBDPS represents a t-butyldiphenylsilyl group.
  • any of the production methods described in the above scheme 1 has problems such as a long number of steps from the starting material and a low total yield of all the steps, and thus a more practical production method.
  • the development of is desired.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a key intermediate that can be efficiently converted to an A-ring partial precursor, which is an important intermediate when producing a 19-nor-monoactive vitamin D derivative.
  • An object of the present invention is to provide an optically active dioxycyclohexane compound and a method for efficiently producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound which is an A-ring partial precursor using the compound.
  • the present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, the optically active dioxycyclohexane compounds represented by the general formulas (1) and (2) 9 In addition to finding that it can be an important key intermediate for the A-ring partial precursor in the production of 1-nor monoactive vitamin D derivatives, hydroxymethylation of this compound leads to the optically active hydroxyethylenediamine, the A-ring partial precursor.
  • the present inventors have found that an oxycyclohexane compound can be efficiently produced, and have completed the present invention.
  • R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group or a substituted tin group.
  • X and ⁇ represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.
  • R 'and R ⁇ independently represent a substituted alkyl group, a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group or a substituted tin group.
  • X and Y represent a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group or Represents a solid phase having a protecting group at the terminal.
  • R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group, or a substituted tin group.
  • X and Y represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.
  • X and ⁇ represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.
  • a method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound comprising obtaining a compound represented by
  • the substituent R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted hydrogen group or a substituted tin group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the substituted silyl group include a trisubstituted silyl group substituted by three groups selected from an alkyl group and a phenyl group (the phenyl group may be substituted with an alkoxy group). Specifically, trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, acetylethylsilyl, dimethylisopropylsilyl, t-butyldimethylsilyl, texyldimethylsilyl, diphenylmethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, t-butyl Examples thereof include dimethoxyphenylsilyl and triphenylsilyl.
  • substituted boron group examples include a dialkylboron group (for example, dimethylboron, methylboron, di-n-butylboron, etc.), a diarylboron group (for example, diphenylboron, etc.), dialkoxy And a boron group (for example, diisopropoxyboron, ethylenedioxyboron, tetramethylethylenedioxyboron, etc.).
  • dialkylboron group for example, dimethylboron, methylboron, di-n-butylboron, etc.
  • diarylboron group for example, diphenylboron, etc.
  • dialkoxy And a boron group for example, diisopropoxyboron, ethylenedioxyboron, tetramethylethylenedioxyboron, etc.
  • substituted tin group examples include a trialkyltin group (for example, trimethyltin, triethyltin, tri_n-propyltin, tri-n-butyltin, tri-c-hexyltin, etc.), a triaryltin group (for example, , Trifenyltin, etc.).
  • a trialkyltin group for example, trimethyltin, triethyltin, tri_n-propyltin, tri-n-butyltin, tri-c-hexyltin, etc.
  • a triaryltin group for example, Trifenyltin, etc.
  • a halogen atom trimethylsilyl, tetramethylethylenedioxyboron, or tri-n-butyltin is preferably used, more preferably a halogen atom, particularly a bromine atom.
  • the substituents R ′ and R ⁇ independently represent a substituted alkyl group, a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group, or a substituted tin group, wherein a halogen atom, a substituted silyl group, As the group, the substituted boron group, and the substituted tin group, those similar to the above can be used.
  • Examples of the substituted alkyl group include a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group (the alkyl group may be optionally substituted with a halogen atom).
  • the alkyl group may be optionally substituted with a halogen atom.
  • the substituents R ′ and R ⁇ it is preferable to use both a halogen atom, one of which is methyl and the other is a halogen atom, one of which is ethyl, the other is a halogen atom, one is n-butyl and the other is a halogen atom, More preferably, both have a halogen atom, and particularly, both have a bromine atom.
  • the substituents X and Y represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.
  • hydroxyl-protecting group examples include, for example, Cl to 7-acyl groups (for example, formyl, acetyl, fluoroacetyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, propionyl, vivalyl, tigloyl)
  • An arylcarbonyl group for example, benzoyl, benzoylformyl, benzoylpropionyl, phenylpropionyl and the like
  • a C1-4 alkoxyl group for example, methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, n_propoxyl-proponyl, i-propoxyl-lponyl, n-butoxycarbonyl, i-butoxyl-carponyl, t-butoxyl-carponyl, t-amyloxycarbonyl, vinyloxyl-loxyl-pon
  • a C1-4 alkylaminocarboyl group for example, methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, n-propylcaprolumyl and the like), an arylaminocarboxyl group (for example, phenylcarbamoyl and the like)
  • Trialkylsilyl groups for example, trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, getylisopropylsilyl, dimethylisopropylsilyl, di-t-butylmethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, tert-butylsilyl) Dimethylsilyl, texyldimethylsilyl, etc.
  • trialkylarylsilyl group for example, diphenylmethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, t-butyldimethoxyphenylsilyl, triphenyl
  • Examples of the solid phase having a hydroxyl-protecting group at the terminal include a liponyl group resin terminal, a liponyloxy group resin terminal, a liponylamino group resin terminal, and a silyl group resin terminal.
  • Examples of the resin used include polystyrene resin, PEG-polystyrene resin, PGA resin and the like. Among these, it is preferable to use, as the substituents X and Y, a Cl to 7 acyl group, a Cl to 4 alkoxycarbonyl group, a trialkylsilyl group, a trialkylarylsilyl group, a silyl group resin terminal, and the like. Preferred are a trialkylsilyl group, a trialkylarylsilyl group, and a silyl group resin terminal.
  • the substituents X and Y may be the same or different from each other.
  • T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • the optically active cyclohexenone compound which is the starting material, is epoxidized to form a cyclohexenoxide compound A, and then a bromethylene conversion reaction is performed on the ketone to form a bromomethylenecyclohexenoxide compound, and finally the epoxide is reduced. It can be produced by silylating the resulting hydroxyl group.
  • the oxidizing agent for the first epoxidation reaction is not particularly limited, and includes, for example, peracids such as peracetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, hydrogen peroxide, oxygen and the like. Preferably, it is hydrogen peroxide.
  • the amount of the oxidizing agent to be used is usually in the range of 0.8 to 50 times by mole, and particularly preferably in the range of 1.0 to 20 times by mole, relative to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it is stable under the reaction conditions, and is inert and does not hinder the reaction.
  • the following solvents can be used.
  • water e.g., water, alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, butanol, octanol, etc.), cellosolves (eg, methoxyethanol, ethoxyethanol, etc.), aprotic polar organic solvents (eg, For example, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, tetramethylperyl, sulfolane, N-methylpyrrolidone, N, N_dimethylimidazolidinone, etc., ethers (eg, getyl ether, diisopropyl ether, t Butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), aliphatic hydrocarbons (for example, pentane, hexane, c-hexane, octane, decane, decalin, petroleum ether, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, Black mouth
  • the reaction temperature can usually be from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 150 ° C. to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • a reaction for introducing bromethylene into a ketone for example, a Wittig reaction using bromomethyl triphenylphosphonium bromide, or a Homon-Emmons reaction using, for example, diisopropyl bromomethyl phosphonate
  • a Wittig reaction using bromomethyltriphenylphosphonium bromide for example, a Wittig reaction using bromomethyltriphenylphosphonium bromide.
  • the amount of bromomethyltriphenylphosphonium bromide to be used is usually in the range of 0.8 to 20 mol times, especially 1.0 to 5.0 mol times, relative to the substrate. preferable.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than ketone solvents can be used.
  • the reaction temperature can be generally from —100 ° C. to the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of —50 to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • the reducing agent for the epoxide is not particularly limited, and examples thereof include diisobutylaluminum hydride, sodium borohydride, aluminum hydride, bismethoxyethoxyaluminum hydride, and the like. Or diisobutylaluminum hydride.
  • the amount of the reducing agent to be used is generally in the range of 0.5 to 20 times by mole, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 times by mole, relative to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, ketones and esters can be used.
  • the reaction temperature can usually be from ⁇ 100 to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 180 to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • a pure hydroxyl compound can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • the protective agent for protecting the hydroxyl group of the hydroxyl compound obtained as described above is not particularly limited, and examples thereof include an acylating agent, an oxypropylating agent, an aminocarbonylating agent, and a silylating agent. And the like, and preferably a silylating agent.
  • Such a silylating agent is not particularly limited, and includes, for example, trimethylsilyl chloride, t-butyldimethylsilyl chloride, diphenylt-butylsilyl chloride and the like.
  • the amount of the silylating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mol times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mol times with respect to the substrate.
  • a base may be allowed to coexist in the reaction system.
  • a base include getylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, DBU, and N-methylmorpholine.
  • Amines such as N, N-N-dimethylaniline, pyridines such as pyridine, methylethylpyridine, lutidine, pyridines such as 4-N, N-dimethylaminopyridine, imidazole and pyrazole, and preferably imidazole. It is one le.
  • the amount of the base to be used is generally in the range of 0.5 to 20 mol times, preferably in the range of 1.0 to 10 mol times, based on the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water and alcohols can be used.
  • the reaction temperature can usually be from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 150 ° C. to 50 ° C.
  • reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.
  • T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • Et represents an ethyl group.
  • 3 represents a solid support.
  • T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • the compound can be produced by using the compound obtained above as a raw material, lithifying the compound, and then treating the compound with a borating agent.
  • lithiation agent include n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium and the like.
  • the amount of the lithiating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mole times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mole times with respect to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, alcohols, ketones, and esters can be used.
  • the reaction temperature can be generally from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably from 180 ° C. to 0 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • the lithiated compound is not isolated, but a boron compound is directly added to the reaction system to obtain a boron compound. Further, the compound I can be synthesized by treating the obtained boron compound with pinacol.
  • the boronating agent is not particularly limited, and includes, for example, trimethoxypolan, triethoxypolan, triisopropoxypolan and the like.
  • the amount of the boronating agent used is usually in the range of 0.5 to 20 mole times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mole times with respect to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the solvent used for lithiation can be used as it is.
  • the reaction temperature can be usually from —100 ° C. to the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of —80 to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • pure compound ⁇ can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group
  • Me represents a methyl group.
  • Examples of the lithiating agent include the same reagents as described above.
  • the amount of the lithiating agent used is usually in the range of 0.5 to 20 moles per mole of the substrate.
  • a range of 1.0 to 10 mole times is preferable.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, alcohols, ketones, and esters can be used.
  • the reaction temperature can usually be from ⁇ 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of ⁇ 80 to 0 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • the lithiated compound is not isolated but is silylated by adding a silylating agent to the reaction system.
  • the silylating agent is not particularly restricted but includes, for example, chlorotrimethylsilane, chlorotri-n-butylsilane, bromotri-n-butylethylsilane, chlorotri-n-octylsilane, bromotri-n-octylsilane, chlorotriphenylsilane, bromotriphenylsilane, etc. Is mentioned.
  • the amount of the silylating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mol times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mol times with respect to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the solvent used for lithiation can be used as it is.
  • the reaction temperature can be usually from 110 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of ⁇ 80 to 50.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • pure compound A can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • optically active cyclohexenone compound used as a starting material for producing the optically active dioxycyclohexane compound represented by the general formula (1) is, as shown in Scheme 5, Tetrahedron Letters, 38, 8299 (1997) , J. Am. Chem. Soc., 121,
  • T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • the optically active chlorohydrin ester is iodinated to give an eodohydrin form 10, and then the hydroxyl group is silylated to give a siloxy form 11, and further reacted with a vinyl Grignard reagent to form a homoallyl ether form 12. And finally by cyclization with Ti.
  • T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • the optically active cyclohexenone compound which is the starting material, is epoxidized to give a cyclohexenonoxide A, and then the ketone is subjected to dibromomethylene conversion reaction to give a dibromomethylenecyclohexenoxide 13. It can be produced by reducing epoxides and silylating hydroxyl groups.
  • the same oxidizing agent as the compound represented by the general formula (1) can be used.
  • the amount of the oxidizing agent to be used is usually in the range of 0.850 times by mole, particularly preferably in the range of 1.020 times by mole relative to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the above-mentioned solvents can be used.
  • the reaction temperature can be generally from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 150 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1100 hours.
  • pure cyclohexenonoxide A can be isolated by purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • the reaction for introducing dibromomethylene into a ketone is not particularly limited, and examples thereof include a Wittig reaction using carbon tetrachloride and triphenylphosphine.
  • the amount of carbon tetrachloride to be used is usually in the range of 0.8 to 20 times by mole, particularly preferably in the range of 1.0 to 5.0 times by mole, relative to the substrate.
  • the amount of triphenylphosphine used is usually in the range of 0.8 to 20 mole times, particularly preferably in the range of 1.0 to 5.0 mole times, relative to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than ketones can be used.
  • the reaction temperature can be usually from 110 Ot to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of -50 to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • pure dibromomethylenecyclohexenoxide 13 can be isolated by purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • Compound 14 is obtained by reducing the compound and silylating the hydroxyl group.
  • examples of the epoxide reducing agent include the same ones as described above, and it is particularly preferable to use diisobutylaluminum hydride.
  • the amount of the reducing agent to be used is generally in the range of 0.5 to 20 mol times, preferably in the range of 1.0 to 10 mol times, relative to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, ketones and esters can be used.
  • the reaction temperature can be generally from 10 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of ⁇ 80 ° C. to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.
  • a pure hydroxyl form can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel gel chromatography.
  • Examples of the protecting agent for protecting the hydroxyl group include the same as described above, but it is preferable to use a silylating agent.
  • the type and amount of the silylating agent, the type and amount of the base used as the reaction accelerator, and the reaction conditions are the same as described above.
  • the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.
  • pure compound 14 can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • the compound can be produced by subjecting the optically active dioxycyclohexane compound represented by the general formula (1) obtained above to a hydroxymethylation reaction.
  • lithiation agents include n-butyllithium and s Monobutyl lithium, t-butyl lithium and the like.
  • the amount of the lithiating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mol times, particularly preferably in the range of 1.0 to 0 mol times, relative to the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, alcohols, ketones, and esters can be used.
  • the reaction temperature can be generally from —100 to the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of 180 to 0 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • the lithiated compound is not isolated, and formaldehyde is added to the reaction system as it is, followed by hydroxymethyl irrigation.
  • the amount of formaldehyde to be used is usually in the range of 0.5 to 20 moles, preferably 1.0 to 10 moles per mole of the substrate.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the solvent used for lithiation can be used as it is.
  • the reaction temperature can usually be from -10 to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 180 to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.
  • purification can be performed by a conventional method such as silica gel column chromatography.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • reaction solution was concentrated under reduced pressure, and ethyl ether (2 mL) and hexane (40 mL) were added to the obtained residue, and the precipitated crystals were filtered through celite.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • TBS represents a t_butyldimethylsilyl group.
  • Triisopropoxypolane (2.0 MZ Jetyl ether solution, 0.6 mL, 1.2 mmo 1) was added at —78 ° C, and the reaction solution was warmed to room temperature over 4 hours, and then saturated An aqueous ammonia solution (8 mL) and ethyl acetate (8 mL) were added. Subsequently, the mixture was extracted twice with ethyl acetate (6 mL), and the organic layer was concentrated under reduced pressure.
  • chlorotrimethylsilane (76 L, 0.6 mmo 1) was added at ⁇ 78 ° C., the reaction solution was heated to room temperature over 3 hours, and a saturated aqueous solution of ammonium chloride (4 mL) was added.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • reaction solution was diluted with hexane (30 mL) and filtered through celite.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • diisobutylaluminum hydride (0.96MZ) was added to a solution of the crude product of 1-dibromomethylene-15-siloxy-2,3-epoxycycline hexane obtained in Example 6 in hexane (5 mL). Hexane solution, 2.08 mL, 2.0 mm o 1) was added, and the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour. Water (0.36 mL) was carefully added to the reaction solution at 0 ° C., followed by stirring for 30 minutes. Sodium fluoride (lg) and celite (lg) were added, and the mixture was filtered through celite.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • Bu represents an n_butyl group.
  • chlorotri-n-butyltin (0.434 mL, 1.2 mmo 1) was added at _78 ° C, and the reaction solution was heated to room temperature over 3 hours.
  • TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.
  • Et represents an ethyl group. 3 indicates a solid support
  • the reaction solution was filtered under argon, and the obtained resin was washed three times with methylene chloride (2 OmL) and further three times with THF (2 OmL), and then dried under reduced pressure.
  • Loading of the obtained resin was determined to be 0.738 mmolZg by decomposing the resin with monopyridine hydrofluorate and then analyzing the resulting alcohol form by 1 HNMR.
  • the bromomethylenecyclohexanediol was 0.1063 mmol, and the loading of the resin was calculated to be 0.738 mmolZg.
  • a compound By using a compound, it can be produced relatively easily and efficiently.

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Abstract

Optically active dihydroxycyclohexane compounds represented by the following general formulae (1) and (2) or the enantiomers of these. (In the formulae, R represents halogeno, substituted silyl, or a substituted boron or substituted tin group; R' and R' each independently represents substituted alkyl, halogeno, substituted silyl, or a substituted boron or substituted tin group; and X and Y each represents hydrogen, a hydroxy-protecting group, or a solid phase having the protecting group at an end.)

Description

明 細 書  Specification

光学活性ジォキシシクロへキサン化合物および光学活性ヒドロキシエチレンジォ キシシク口へキサン化合物の製造方法 技術分野 Method for producing optically active dioxycyclohexane compound and optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound

本発明は、 光学活性ジォキシシクロへキサン化合物、 および該化合物を用いた The present invention relates to an optically active dioxycyclohexane compound, and the use of the compound.

1 9一ノル一活性型ビタミン D誘導体合成の重要中間体である光学活性ヒドロキ シエチレンジォキシシクロへキサン化合物の製造方法に関する。 背景技術 The present invention relates to a method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound which is an important intermediate in the synthesis of 19-nor-monoactive vitamin D derivatives. Background art

従来から、 活性型ビタミン D3 ( 1 , 2 5—ジヒドロキシコレカルシフエ口一 ル) は、 小腸におけるカルシウム輸送能、 骨塩動員能などの生理活性が強く、 そ のため人の生理機能に重要な役割を果たすことが知られている。 Conventionally, activated vitamin D 3 (1, 2 5- dihydroxy cholecalciferol sheet Hue port one Le) is calcium transport capacity in the small intestine, strong physiological activity such as bone mineral mobilization ability, important physiological functions of the human for its It is known to play a role.

また、 その 1 9—ノル—体には、 血中のカルシウムイオン濃度を増加させるこ となく、 腫瘍細胞の増殖抑制を行うという選択的な生理活性作用が報告されてお り、 腎不全による続発生副甲状腺機能亢進症に対する臨床開発がなされている ( Te trahedron Let ters, 31, 1823 (1990)、 Tetrahedron Let ters, 32, 7663 (199 1), Tetrahedron Let ters, 33, 2937 (1992)等) 。  In addition, it has been reported that the 19-nor-form has a selective bioactive effect of inhibiting the growth of tumor cells without increasing the blood calcium ion concentration. Clinical development for developmental hyperparathyroidism (Te trahedron Let ters, 31, 1823 (1990), Tetrahedron Let ters, 32, 7663 (199 1), Tetrahedron Let ters, 33, 2937 (1992), etc.) .

一般式 ( 3 ) で示される光学活性ヒドロキシエチレンジォキシシクロへキサン 化合物、 例えば、 下記化合物丄 (X = Y= t _プチルジメチルシリル基) は、 1 9一ノル一活性型ビタミン D誘導体を製造する際の最も重要な中間体の 1つであ る A環部分前駆体としてよく知られている。  An optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound represented by the general formula (3), for example, the following compound 丄 (X = Y = t_butyldimethylsilyl group) is a 19-nor-monoactive vitamin D derivative It is well known as one of the most important intermediates in production, the A-ring partial precursor.

Figure imgf000003_0001
Figure imgf000003_0001

(式中、 T B Sは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (In the formula, T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

この A環部分前,駆体の製造方法としては、 現在までのところ、 例えば、 スキー ム 1に示すように、 ①プロピオ一ル酸のアルキルエステルとホモアリリックなェ 一テルとから 1 1工程で製造する方法 (Tetrahedron Letters, 39, 3359 (1998) , Tetrahedron Letters, 39, 3363 (1998)) 、 ②ジエポキシペンタンとプロパ ルギルエーテルとから 5工程で製造する方法 (Tetrahedron Letters, 37, 7637Before the A-ring part, the method for producing the carcass so far has been as follows, for example, as shown in Scheme 1, (1) a homoallylic acid with an alkyl ester of propiolic acid. One-step production from one ter (Tetrahedron Letters, 39, 3359 (1998), Tetrahedron Letters, 39, 3363 (1998)), ② Two-step production from diepoxypentane and propargyl ether (Tetrahedron Letters, 37, 7637

(1996)) 等が知られている。 (1996)).

スキーム 1  Scheme 1

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Figure imgf000004_0001

(式中、 Bnはべンジル基、 TBSは t—プチルジメチルシリル基、 MPMは p ーメトキシフエ二ルメチル基、 TBDP Sは t一プチルジフエニルシリル基を表 す。 ) (In the formula, Bn represents a benzyl group, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group, MPM represents a p-methoxyphenylmethyl group, and TBDPS represents a t-butyldiphenylsilyl group.)

しかしながら、 上記スキーム 1に記載されている製造方法は、 いずれも出発物 質からの工程数が長く、 しかも、 全工程のトータル収率が低い等の課題を抱えて おり、 より実用的な製造方法の開発が望まれている。  However, any of the production methods described in the above scheme 1 has problems such as a long number of steps from the starting material and a low total yield of all the steps, and thus a more practical production method. The development of is desired.

そして、 現在も A環部分前駆体の効率的製造方法の確立を目指して研究が盛ん に行われているのが現状である。 発明の開示  At present, research is being actively conducted to establish an efficient method for producing the A-ring partial precursor. Disclosure of the invention

本発明は、 上記事情に鑑みなされたものであり、 19一ノル一活性型ビタミン D誘導体を製造する際の重要中間体である A環部分前駆体に効率的に変換可能な 鍵中間体となる光学活性ジォキシシクロへキサン化合物、 および該化合物を用い た A環部分前駆体である光学活性ヒドロキシエチレンジォキシシク口へキサン化 合物の効率的な製造方法を提供することを目的とする。  The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a key intermediate that can be efficiently converted to an A-ring partial precursor, which is an important intermediate when producing a 19-nor-monoactive vitamin D derivative. An object of the present invention is to provide an optically active dioxycyclohexane compound and a method for efficiently producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound which is an A-ring partial precursor using the compound.

本発明者らは、 上記目的を達成するため、 鋭意検討を重ねた結果、 一般式 (1 ) および一般式 (2) で示される光学活性ジォキシシクロへキサン化合物が、 1 9一ノル一活性型ビタミン D誘導体製造における A環部分前駆体の重要な鍵中間 体となり得ることを見いだすとともに、 該化合物をヒドロキシメチル化すること で A環部分前駆体である光学活性ヒドロキシエチレンジォキシシクロへキサン化 合物を効率的に製造できることを見いだし、 本発明を完成するに至った。 The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, the optically active dioxycyclohexane compounds represented by the general formulas (1) and (2) 9 In addition to finding that it can be an important key intermediate for the A-ring partial precursor in the production of 1-nor monoactive vitamin D derivatives, hydroxymethylation of this compound leads to the optically active hydroxyethylenediamine, the A-ring partial precursor. The present inventors have found that an oxycyclohexane compound can be efficiently produced, and have completed the present invention.

すなわち、 本発明は、  That is, the present invention

[1] 下記一般式 (1)  [1] The following general formula (1)

(1 ) (1)

xひ、、, V , xhi ,,, V,

(式中、 Rはハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホウ素基または置換スズ基を表 す。 Xおよび Υは水素原子、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する固相 を表す。 ) (In the formula, R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group or a substituted tin group. X and Υ represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.)

で表されることを特徴とする光学活性ジォキシシク口へキサン化合物またはその 鏡像体、 An optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof, which is represented by

[2] 前記 Rがハロゲン原子であることを特徴とする [1] の光学活性ジォキシ シク口へキサン化合物またはその鏡像体、  [2] The optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof according to [1], wherein R is a halogen atom.

[3] 下記一般式 (2)  [3] The following general formula (2)

(2) (2)

XO v ,OY  XO v, OY

(式中、 R' および R〃 は互いに独立して置換アルキル基、 ハロゲン原子、 置換 シリル基、 置換ホウ素基または置換スズ基を表す。 Xおよび Yは水素原子、 水酸 基の保護基または該保護基を末端に有する固相を表す。 ) (In the formula, R 'and R〃 independently represent a substituted alkyl group, a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group or a substituted tin group. X and Y represent a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group or Represents a solid phase having a protecting group at the terminal.)

で表されることを特徴とする光学活性ジォキシシク口へキサン化合物またはその 鏡像体、 An optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof, which is represented by

[4] 前記 R' および R〃 がハロゲン原子であることを特徴とする [3] の光学 活性ジォキシシクロへキサン化合物またはその鏡像体、 [ 5 ] 下記一般式 (1 ) [4] The optically active dioxycyclohexane compound of [3], wherein R ′ and R〃 are halogen atoms, or an enantiomer thereof, [5] The following general formula (1)

( 1 (1

Χ0、、、. ν ,0Υ Χ0,... Ν , 0Υ

(式中、 Rはハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホウ素基または置換スズ基を表 す。 Xおよび Yは水素原子、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する固相 を表す。 ) (In the formula, R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group, or a substituted tin group. X and Y represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.)

で表される光学活性ジォキシシクロへキサン化合物に、 ヒドロキシメチル化反応 を行い、 下記一般式 (3 ) A hydroxymethylation reaction is performed on an optically active dioxycyclohexane compound represented by the following general formula (3)

广 OH  Guang OH

(式中、 Xおよび Υは水素原子、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する 固相を表す。 ) (In the formula, X and Υ represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.)

で表される化合物を得ることを特徵とする光学活性ヒドロキシエチレンジォキシ シク口へキサン化合物の製造方法、 A method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound, comprising obtaining a compound represented by

[ 6 ] 前記 Rがハロゲン原子であることを特徴とする [ 5 ] の光学活性ヒドロキ シエチレンジォキシシクロへキサン化合物の製造方法  [6] The method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound of [5], wherein R is a halogen atom.

を提供する。 発明を実施するための最良の形態 I will provide a. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、 本発明についてさらに詳しく説明する。  Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

なお、 本明細書中において、 「η」 はノルマルを、 「 i」 はイソを、 「s」 は セカンダリーを、 「t」 は夕一シャリ一を、 「c」 はシクロを、 「o」 はオルト を、 「m」 はメタを、 「p」 はパラを意味する。  In the present specification, "η" is normal, "i" is iso, "s" is secondary, "t" is Yuri, "c" is cyclo, and "o" is cyclo. Orto means "m" means meta and "p" means para.

上記一般式 (1 ) において、 置換基 Rはハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホ ゥ素基または置換スズ基を表す。 ここで、 ハロゲン原子としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原 子が挙げられる。 In the general formula (1), the substituent R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted hydrogen group or a substituted tin group. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換シリル基としては、 例えば、 アルキル基、 およびフエニル基 (該フエニル 基は、 アルコキシ基で置換されていてもよい) から選ばれる 3個の基によって置 換された三置換シリル基が挙げられ、 具体的には、 トリメチルシリル、 トリェチ ルシリル、 トリイソプロピルシリル、 ジェチルイソプロピルシリル、 ジメチルイ ソプロピルシリル、 t一プチルジメチルシリル、 テキシルジメチルシリル、 ジフ ェニルメチルシリル、 t一プチルジフエニルシリル、 t—ブチルジメトキシフエ ニルシリル、 トリフエニルシリル等を例示できる。  Examples of the substituted silyl group include a trisubstituted silyl group substituted by three groups selected from an alkyl group and a phenyl group (the phenyl group may be substituted with an alkoxy group). Specifically, trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, acetylethylsilyl, dimethylisopropylsilyl, t-butyldimethylsilyl, texyldimethylsilyl, diphenylmethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, t-butyl Examples thereof include dimethoxyphenylsilyl and triphenylsilyl.

置換ホウ素基としては、 ジアルキルホウ素基 (例えば、 ジメチルホウ素、 ジェ チルホウ素、 ジ— n -ブチルホウ素等が挙げられる) 、 ジァリールホウ素基 (例 えば、 ジフエ二ルホウ素等が挙げられる) 、 ジアルコキシホウ素基 (例えば、 ジ イソプロポキシホウ素、 エチレンジォキシホウ素、 テトラメチルエチレンジォキ シホウ素等が挙げられる) 等が挙げられる。  Examples of the substituted boron group include a dialkylboron group (for example, dimethylboron, methylboron, di-n-butylboron, etc.), a diarylboron group (for example, diphenylboron, etc.), dialkoxy And a boron group (for example, diisopropoxyboron, ethylenedioxyboron, tetramethylethylenedioxyboron, etc.).

置換スズ基としては、 トリアルキルスズ基 (例えば、 トリメチルスズ、 トリェ チルスズ、 トリ _ n—プロピルスズ、 トリ— n—ブチルスズ、 トリ— c—へキシ ルスズ等が挙げられる) 、 トリァリ一ルスズ基 (例えば、 トリフエニルスズ等が 挙げられる) 等が挙げられる。  Examples of the substituted tin group include a trialkyltin group (for example, trimethyltin, triethyltin, tri_n-propyltin, tri-n-butyltin, tri-c-hexyltin, etc.), a triaryltin group (for example, , Trifenyltin, etc.).

これらの中でも、 置換基 Rとして、 ハロゲン原子、 トリメチルシリル、 テトラ メチルエチレンジォキシホウ素、 トリー n—プチルスズを用いることが好ましく 、 より好ましくはハロゲン原子、 特に臭素原子が好適である。  Among these, as the substituent R, a halogen atom, trimethylsilyl, tetramethylethylenedioxyboron, or tri-n-butyltin is preferably used, more preferably a halogen atom, particularly a bromine atom.

上記一般式 (2 ) における置換基 R ' および R〃 は、 互いに独立して置換アル キル基、 ハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホウ素基、 または置換スズ基を表す ここで、 ハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホウ素基、 および置換スズ基につ いては、 上記と同様のものを用いることができる。  In the general formula (2), the substituents R ′ and R〃 independently represent a substituted alkyl group, a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group, or a substituted tin group, wherein a halogen atom, a substituted silyl group, As the group, the substituted boron group, and the substituted tin group, those similar to the above can be used.

置換アルキル基としては、 直鎖、 分岐または環状の C 1〜6のアルキル基 (該 アルキル基は、 ハロゲン原子で任意に置換されていてもよい) が挙げられ、 例え ば、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 i—プロピル、 c一プロピル、 n—ブチル 、 iーブチル、 s—ブチル、 t—ブチル、 cーブチル、 1—メチル _ c一プロピ ル、 2—メチルー c一プロピル、 n—ペンチル、 1一メチル—n—ブチル、 2 - メチルー n—ブチル、 3—メチル—n—ブチル、 1 , 1ージメチル _ n—プロピ ル、 1, 2—ジメチルー n—プロピル、 2 , 2—ジメチル— n—プロピル、 1一 ェチル—n—プロピル、 c—ペンチル、 1ーメチルー cーブチル、 2—メチルー c一プチル、 3—メチルー c—ブチル、 1 , 2 _ジメチルー c _プロピル、 2, 3—ジメチル— c—プロピル、 1ーェチルー c—プロピル、 2—ェチルー c—プ 口ピル、 n—へキシル、 1ーメチルー n—ペンチル、 2一メチル—n—ペンチル 、 3—メチルー n—ペンチル、 4ーメチルー n—ペンチル、 1, 1—ジメチルー n—プチル、 1 , 2—ジメチルー n—ブチル、 1 , 3—ジメチルー n—ブチル、 2, 2—ジメチル— n—プチル、 2, 3—ジメチルー n—プチル、 3, 3—ジメ チルー n—ブチル、 1一ェチル _ n—ブチル、 2—ェチル—n—ブチル、 1, 1 , 2—トリメチルー n—プロピル、 1, 2, 2—トリメチル _ n—プロピル、 1 —ェチル一 1一メチル—n—プロピル、 1—ェチル— 2—メチル—n—プロピル 、 c一へキシル、 1—メチルー c一ペンチル、 2—メチル— c—ペンチル、 3— メチル _ c一ペンチル、 1一ェチル—c—ブチル、 2—ェチルー c—ブチル、 3 ーェチルー cーブチル、 1, 2—ジメチルー c—ブチル、 1 , 3—ジメチルー c —ブチル、 2, 2—ジメチル— cーブチル、 2, 3—ジメチルー cーブチル、 2 , 4—ジメチルー c—ブチル、 3, 3—ジメチル— c—ブチル、 1一 n—プロピ ル— c—プロピル、 2— n—プロピル _ c—プロピル、 1一 i 一プロピル一 c一 プロピル、 2— i—プロピル _ c—プロピル、 1 , 2, 2—トリメチル—c—プ 口ピル、 1, 2 , 3—トリメチルー c—プロピル、 2, 2 , 3 _トリメチル—c —プロピル、 1—ェチルー 2—メチル— c—プロピル、 2—ェチルー 1一メチル —c一プロピル、 2—ェチルー 2—メチル _ c—プロピル、 2—ェチルー 3—メ チル— C -プロピル等が挙げられる。 Examples of the substituted alkyl group include a linear, branched or cyclic C 1-6 alkyl group (the alkyl group may be optionally substituted with a halogen atom). For example, methyl, ethyl, n —Propyl, i-propyl, c-propyl, n-butyl , I-butyl, s-butyl, t-butyl, c-butyl, 1-methyl_c-propyl, 2-methyl-c-propyl, n-pentyl, 1-methyl-n-butyl, 2-methyl-n-butyl, 3-methyl-n-butyl, 1,1-dimethyl_n-propyl, 1,2-dimethyl-n-propyl, 2,2-dimethyl-n-propyl, 1-ethyl-n-propyl, c-pentyl, 1 -Methyl-c-butyl, 2-methyl-c-butyl, 3-methyl-c-butyl, 1,2-dimethyl-c_propyl, 2,3-dimethyl-c-propyl, 1-ethyl-c-propyl, 2-ethyl-c-butyl Pill, n-hexyl, 1-methyl-n-pentyl, 2-methyl-n-pentyl, 3-methyl-n-pentyl, 4-methyl-n-pentyl, 1,1-dimethyl-n-butyl, 1,2-dimethyl-n- Butyl, 1,3-dimethyl-n- Tyl, 2,2-dimethyl-n-butyl, 2,3-dimethyl-n-butyl, 3,3-dimethyl-n-butyl, 1-ethyl_n-butyl, 2-ethyl-n-butyl, 1, 1 , 2-trimethyl-n-propyl, 1,2,2-trimethyl_n-propyl, 1-ethyl-1 1-methyl-n-propyl, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl, c-hexyl, 1 -Methyl-c-pentyl, 2-methyl-c-pentyl, 3-methyl-c-pentyl, 1-ethyl-c-butyl, 2-ethyl-c-butyl, 3-ethyl-c-butyl, 1,2-dimethyl-c-butyl , 1,3-Dimethyl-c-butyl, 2,2-Dimethyl-c-butyl, 2,3-Dimethyl-c-butyl, 2,4-Dimethyl-c-butyl, 3,3-Dimethyl-c-butyl, 1n- Propyl-c-propyl, 2-n-propyl_c-propyl, 1- i-Propyl-c-propyl, 2-i-propyl_c-propyl, 1,2,2-trimethyl-c-propyl Mouth pill, 1,2,3-trimethyl-c-propyl, 2,2,3_trimethyl —C —propyl, 1-ethyl-2-methyl—c-propyl, 2-ethyl-1-methyl—c-propyl, 2-ethyl-2-methyl_c—propyl, 2-ethyl-3-methyl, C-propyl, etc. Is mentioned.

置換基 R ' および R〃 として、 両方ともハロゲン原子、 一方がメチルで他方が ハロゲン原子、 一方がェチルで他方がハロゲン原子、 一方が n—ブチルで他方が ハロゲン原子のものを用いることが好ましく、 より好ましくは両方ともハロゲン 原子のもの、 特に、 両方とも臭素原子のものが好適である。 上記一般式 (1 ) および一般式 (2 ) において、 置換基 Xおよび Yは水素原子 、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する固相を表す。 As the substituents R ′ and R〃, it is preferable to use both a halogen atom, one of which is methyl and the other is a halogen atom, one of which is ethyl, the other is a halogen atom, one is n-butyl and the other is a halogen atom, More preferably, both have a halogen atom, and particularly, both have a bromine atom. In the general formulas (1) and (2), the substituents X and Y represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.

水酸基の保護基としては、 例えば、 C l〜7ァシル基 (例えば、 ホルミル、 ァ セチル、 フルォロアセチル、 ジフルォロアセチル、 トリフルォロアセチル、 クロ ロアセチル、 ジクロロアセチル、 トリクロロアセチル、 プロピオニル、 ビバロイ ル、 チグロィル等が挙げられる) 、 ァリ一ルカルポニル基 (例えば、 ベンゾィル 、 ベンゾィルホルミル、 ベンゾィルプロピオニル、 フエニルプロピオニル等が挙 げられる) 、 C 1〜4アルコキシ力ルポニル基 (例えば、 メトキシカルポニル、 エトキシカルポニル、 n _プロポキシ力ルポニル、 i—プロポキシ力ルポニル、 n—ブトキシカルボニル、 i—ブトキシカルポニル、 t一ブトキシカルポニル、 tーァミルォキシカルボニル、 ビニルォキシ力ルポニル、 ァリルォキシ力ルポ二 Jk 2 - (トリメチルシリル) エトキシカルポニル、 2 , 2 , 2—トリクロロェ トキシカルポニル等が挙げられる) 、 ァリールォキシ力ルポニル基 (例えば、 ベ ンジルォキシ力ルポニル、 p—ニトロベンジルォキシカルポニル、 p—メトキシ ベンジルォキシカルポニル等が挙げられる) 、 C 1〜4アルキルアミノカルポ二 ル基 (例えば、 メチルカルバモイル、 ェチルカルバモイル、 n—プロピル力ルバ モイル等が挙げられる) 、 ァリ一ルァミノ力ルポニル基 (例えば、 フエニルカル バモイル等が挙げられる) 、 トリアルキルシリル基 (例えば、 トリメチルシリル 、 トリェチルシリル、 トリイソプロピルシリル、 ジェチルイソプロビルシリル、 ジメチルイソプロピルシリル、 ジ一 t—ブチルメチルシリル、 イソプロピルジメ チルシリル、 t一プチルジメチルシリル、 テキシルジメチルシリル等が挙げられ る) 、 トリアルキルァリールシリル基 (例えば、 ジフエニルメチルシリル、 t— ブチルジフエニルシリル、 t一プチルジメトキシフエ二ルシリル、 トリフエニル シリル等が挙げられる) 等が挙げられる。  Examples of the hydroxyl-protecting group include, for example, Cl to 7-acyl groups (for example, formyl, acetyl, fluoroacetyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, propionyl, vivalyl, tigloyl) An arylcarbonyl group (for example, benzoyl, benzoylformyl, benzoylpropionyl, phenylpropionyl and the like), a C1-4 alkoxyl group (for example, methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, n_propoxyl-proponyl, i-propoxyl-lponyl, n-butoxycarbonyl, i-butoxyl-carponyl, t-butoxyl-carponyl, t-amyloxycarbonyl, vinyloxyl-loxyl-ponyl, aryloxyl-loxyl Jp 2-( bird Methylsilyl) ethoxycarponyl, 2,2,2-trichloroethoxycarponyl, etc.), aryloxycarbonyl group (for example, benzyloxylponyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, etc.). ), A C1-4 alkylaminocarboyl group (for example, methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, n-propylcaprolumyl and the like), an arylaminocarboxyl group (for example, phenylcarbamoyl and the like) ), Trialkylsilyl groups (for example, trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, getylisopropylsilyl, dimethylisopropylsilyl, di-t-butylmethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, tert-butylsilyl) Dimethylsilyl, texyldimethylsilyl, etc.), trialkylarylsilyl group (for example, diphenylmethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, t-butyldimethoxyphenylsilyl, triphenylsilyl, etc.) And the like.

水酸基の保護基を末端に有する固相としては、 例えば、 力ルポニル基樹脂末端 、 力ルポニルォキシ基樹脂末端、 力ルポニルァミノ基樹脂末端、 シリル基樹脂末 端等が挙げられる。  Examples of the solid phase having a hydroxyl-protecting group at the terminal include a liponyl group resin terminal, a liponyloxy group resin terminal, a liponylamino group resin terminal, and a silyl group resin terminal.

用いられる樹脂としては、 ポリスチレン樹脂、 P E G—ポリスチレン樹脂、 P G A樹脂等が挙げられる。 これらの中でも、 置換基 Xおよび Yとして、 C l〜7ァシル基、 C l〜4アル コキシカルポニル基、 トリアルキルシリル基、 トリアルキルァリ一ルシリル基、 シリル基樹脂末端等を用いることが好ましく、 特に好ましくは、 トリアルキルシ リル基、 トリアルキルァリールシリル基、 シリル基樹脂末端等である。 Examples of the resin used include polystyrene resin, PEG-polystyrene resin, PGA resin and the like. Among these, it is preferable to use, as the substituents X and Y, a Cl to 7 acyl group, a Cl to 4 alkoxycarbonyl group, a trialkylsilyl group, a trialkylarylsilyl group, a silyl group resin terminal, and the like. Preferred are a trialkylsilyl group, a trialkylarylsilyl group, and a silyl group resin terminal.

なお、 置換基 Xおよび Yは、 互いに同一でもよく異なっていてもよい。  The substituents X and Y may be the same or different from each other.

次に、 上記一般式 (1 ) で示される光学活性ジォキシシクロへキサン化合物の 製造方法について説明する。  Next, a method for producing the optically active dioxycyclohexane compound represented by the general formula (1) will be described.

この化合物は従来知られていない新規な化合物であり、 例えば、 化合物 (R This compound is a novel compound that has not been known before, for example, the compound (R

=臭素原子、 X = Y= t—プチルジメチルシリル基) は下記スキーム 2に示す方 法により製造することができる。 = Bromine atom, X = Y = t-butyldimethylsilyl group) can be produced by the method shown in Scheme 2 below.

スキーム 2 Scheme 2

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Figure imgf000010_0001

(式中、 T B Sは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (In the formula, T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

すなわち、 出発原料である光学活性シクロへキセノン化合物 をエポキシ化し 、 シクロへキセノンォキシド体 Aとした後、 ケトンにブロムメチレン化導入反応 をしてブロムメチレンシクロへキセンォキシド体 とし、 最後にエポキシドを還 元し、 生じた水酸基をシリル化することにより製造することができる。  That is, the optically active cyclohexenone compound, which is the starting material, is epoxidized to form a cyclohexenoxide compound A, and then a bromethylene conversion reaction is performed on the ketone to form a bromomethylenecyclohexenoxide compound, and finally the epoxide is reduced. It can be produced by silylating the resulting hydroxyl group.

最初のエポキシ化反応の酸化剤としては、 特に限定されるものではなく、 例え ば、 過酢酸、 過安息香酸、 m—クロ口過安息香酸等の過酸類、 過酸化水素、 酸素 等が挙げられ、 好ましくは、 過酸化水素である。 酸化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 8〜 5 0モル倍の範囲であり、 特 に、 1 . 0〜 2 0モル倍の範囲が好ましい。 The oxidizing agent for the first epoxidation reaction is not particularly limited, and includes, for example, peracids such as peracetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, hydrogen peroxide, oxygen and the like. Preferably, it is hydrogen peroxide. The amount of the oxidizing agent to be used is usually in the range of 0.8 to 50 times by mole, and particularly preferably in the range of 1.0 to 20 times by mole, relative to the substrate.

反応溶媒としては、 当該反応条件下において安定であり、 かつ、 不活性で反応 を妨げないものであれば特に制限はなく、 例えば、 以下に示す溶媒を用いること ができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it is stable under the reaction conditions, and is inert and does not hinder the reaction. For example, the following solvents can be used.

具体的には、 水、 アルコール類 (例えば、 メタノール、 エタノール、 プロパノ —ル、 ブ夕ノール、 ォクタノール等) 、 セロソルブ類 (例えば、 メトキシェタノ —ル、 エトキシエタノール等) 、 非プロトン性極性有機溶媒類 (例えば、 ジメチ ルホルムアミド、 ジメチルスルホキシド、 ジメチルァセトアミド、 テトラメチル ゥレア、 スルホラン、 N—メチルピロリドン、 N, N _ジメチルイミダゾリジノ ン等) 、 エーテル類 (例えば、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 t 一プチルメチルェ一テル、 テトラヒドロフラン、 ジォキサン等) 、 脂肪族炭化水 素類 (例えば、 ペンタン、 へキサン、 c—へキサン、 オクタン、 デカン、 デカリ ン、 石油エーテル等) 、 芳香族炭化水素類 (ベンゼン、 クロ口ベンゼン、 o—ジ クロ口ベンゼン、 ニトロベンゼン、 トルエン、 キシレン、 メシチレン、 テトラリ ン等) 、 ハロゲン化炭化水素類 (例えば、 クロ口ホルム、 ジクロロメタン、 ジク ロロェタン、 四塩化炭素等) 、 ケトン類 (アセトン、 メチルェチルケトン、 メチ ルブチルケトン、 メチルイソプチルケトン等) 、 低級脂肪族酸エステル (例えば 、 酢酸メチル、 酢酸ェチル、 酢酸プチル、 プロピオン酸メチル等) 、 アルコキシ アルカン類 (例えば、 ジメトキシェタン、 ジエトキシェタン等) 、 二トリル類 ( 例えば、 ァセトニトリル、 プロピオ二トリル、 プチロニトリル等) 等の溶媒が挙 げられる。 これらの溶媒は反応の起こり易さに従って適宜選択され、 1種単独で または 2種以上混合して用いることができる。 なお、 必要に応じて適当な脱水剤 や乾燥剤をにより水分を除去し、 非水溶媒として用いてもよい。  Specifically, water, alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, butanol, octanol, etc.), cellosolves (eg, methoxyethanol, ethoxyethanol, etc.), aprotic polar organic solvents (eg, For example, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, tetramethylperyl, sulfolane, N-methylpyrrolidone, N, N_dimethylimidazolidinone, etc., ethers (eg, getyl ether, diisopropyl ether, t Butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), aliphatic hydrocarbons (for example, pentane, hexane, c-hexane, octane, decane, decalin, petroleum ether, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, Black mouth benzene, o-Dichloro mouth benzene, nitrobenzene, toluene, xylene, mesitylene, tetralin, etc., halogenated hydrocarbons (for example, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride, etc.), ketones (acetone, methyl chloride) Tyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), lower aliphatic acid esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, etc.), alkoxyalkanes (eg, dimethoxyethane, diethoxetane, etc.), Solvents such as nitriles (for example, acetonitrile, propionitrile, ptyronitrile, etc.). These solvents are appropriately selected according to the easiness of the reaction, and can be used alone or in combination of two or more. If necessary, water may be removed with a suitable dehydrating agent or desiccant to use as a non-aqueous solvent.

反応温度は、 通常、 一 1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 5 0〜 5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can usually be from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 150 ° C. to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。 さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法によ る精製を行うことで、 純粋なシクロへキセノンォキシド体 Aを単離することがで さる。 After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. In addition, using standard methods such as silica gel column chromatography By performing the purification, pure cyclohexenonoxide A can be isolated.

次に、 ケトンへのブロムメチレン化導入反応としては、 例えば、 ブロムメチル トリフエニルホスホニゥムブロマイドを用いたウィティッヒ反応、 または、 例え ばジイソプロピルブロムメチルホスホネ一トを用いたホ一ナ一 ·エモンズ反応等 が挙げられ、 好ましくは、 ブロムメチルトリフエニルホスホニゥムブロマイドを 用いたウィティッヒ反応である。  Next, as a reaction for introducing bromethylene into a ketone, for example, a Wittig reaction using bromomethyl triphenylphosphonium bromide, or a Homon-Emmons reaction using, for example, diisopropyl bromomethyl phosphonate Preferred is a Wittig reaction using bromomethyltriphenylphosphonium bromide.

この場合、 ブロムメチルトリフエニルホスホニゥムブロマイドの使用量は、 通 常、 基質に対して 0 . 8〜2 0モル倍の範囲であり、 特に、 1 . 0〜5 . 0モル 倍の範囲が好ましい。  In this case, the amount of bromomethyltriphenylphosphonium bromide to be used is usually in the range of 0.8 to 20 mol times, especially 1.0 to 5.0 mol times, relative to the substrate. preferable.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 ケトン類溶媒以外の溶媒を用いることができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than ketone solvents can be used.

反応温度は、 通常、 — 1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは— 5 0〜 5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can be generally from —100 ° C. to the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of —50 to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。 さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法によ る精製を行うことで、 純粋なブロムメチレンシクロへキセンォキシド体 Aを単離 することができる。 還元、 水酸基をシリル化することにより化合物 が得られる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Furthermore, pure bromethylenecyclohexenoxide A can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography. The compound is obtained by reduction and silylation of the hydroxyl group.

エポキシドの還元剤としては、 特に限定されるものではなく、 例えば、 水素化 ジイソブチルアルミニウム、 水素化ホウ素ナトリウム、 水素化アルミニウムリチ ゥム、 水素化ビスメトキシェトキシアルミニウムナ卜リゥム等が挙げられ、 好ま しくは、 水素化ジイソブチルアルミニウムである。  The reducing agent for the epoxide is not particularly limited, and examples thereof include diisobutylaluminum hydride, sodium borohydride, aluminum hydride, bismethoxyethoxyaluminum hydride, and the like. Or diisobutylaluminum hydride.

還元剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜 2 0モル倍の範囲であり、 特 に、 1 . 0〜 1 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the reducing agent to be used is generally in the range of 0.5 to 20 times by mole, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 times by mole, relative to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 水、 ケトン類、 エステル類溶媒以外の溶媒を用いることができる。 反応温度は、 通常、 ー1 0 0 から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 8 0〜 5 0 °Cの範囲で行うのがよい。 The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, ketones and esters can be used. The reaction temperature can usually be from −100 to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 180 to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。 さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法によ る精製を行うことで、 純粋なヒドロキシル体を単離することができる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Furthermore, a pure hydroxyl compound can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.

上記のようにして得られたヒドロキシル体の水酸基を保護する保護試剤として は、 特に限定されるものではなく、 例えば、 ァシル化剤、 ォキシ力ルポ二ル化剤 、 アミノカルポニル化剤、 シリル化剤等が挙げられ、 好ましくはシリル化剤であ る。  The protective agent for protecting the hydroxyl group of the hydroxyl compound obtained as described above is not particularly limited, and examples thereof include an acylating agent, an oxypropylating agent, an aminocarbonylating agent, and a silylating agent. And the like, and preferably a silylating agent.

このようなシリル化剤としても、 特に限定はなく、 例えば、 トリメチルシリル クロライド、 t—プチルジメチルシリルクロライド、 ジフエ二ルー t一プチルシ リルクロライド等が挙げられる。  Such a silylating agent is not particularly limited, and includes, for example, trimethylsilyl chloride, t-butyldimethylsilyl chloride, diphenylt-butylsilyl chloride and the like.

シリル化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり 、 特に、 1 . 0〜 1 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the silylating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mol times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mol times with respect to the substrate.

この場合、 反応を促進させるために、 反応系に塩基を共存させることもでき、 このような塩基としては、 ジェチルァミン、 トリェチルァミン、 トリー n—プロ ピルァミン、 トリ— n—プチルァミン、 D B U、 N—メチルモルホリン、 N, N ージメチルァニリン等のアミン類、 ピリジン、 メチルェチルピリジン、 ルチジン 、 4 - N, N―ジメチルァミノピリジン等のピリジン類、 イミダゾール、 ピラゾ ールが挙げられ、 好ましくは、 イミダゾ一ルである。  In this case, to promote the reaction, a base may be allowed to coexist in the reaction system. Examples of such a base include getylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, DBU, and N-methylmorpholine. Amines such as N, N-N-dimethylaniline, pyridines such as pyridine, methylethylpyridine, lutidine, pyridines such as 4-N, N-dimethylaminopyridine, imidazole and pyrazole, and preferably imidazole. It is one le.

塩基の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり、 特に 、 1 . 0〜1 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the base to be used is generally in the range of 0.5 to 20 mol times, preferably in the range of 1.0 to 10 mol times, based on the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 水、 アルコール類以外の溶媒を用いることができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water and alcohols can be used.

反応温度は、 通常、 一 1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 5 0〜 5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can usually be from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 150 ° C. to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。 反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。 さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法によ る精製を行うことで、 純粋な化合物 を単離することができる。 キシドを還元した後、 生じた水酸基を、 反応性シリル基を末端に持つ樹脂と反応 させることにより、 シリル基樹脂末端を持つ化合物 A (R =臭素原子、 XまたはThe reaction time is usually 0.1 to 1000 hours. After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Furthermore, a pure compound can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography. After reducing the oxide, the resulting hydroxyl group is reacted with a resin having a reactive silyl group at the terminal to obtain a compound A (R = bromine atom, X or

Yのどちらか一方 = t _プチルジメチルシリル基、 他方 =シリル基樹脂末端) を' 製造することができる。 One of Y = t_butyldimethylsilyl group and the other = silyl group resin end) can be produced.

このような化合物 Aは、 固相担持されているため、 反応系から容易に分離でき Since Compound A is supported on a solid phase, it can be easily separated from the reaction system.

、 コンビナ卜リアルケミストリ一ゃ自動合成装置による高速合成に適している。 It is suitable for high-speed synthesis by a combinatorial real chemistry automatic synthesizer.

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(式中、 T B Sは t一プチルジメチルシリル基を表わす。 (In the formula, T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.

E tは、 ェチル基を表わす。③は、 固相担体を表わす。 ) また、 上記一般式 (1 ) で示される化合物として、 例えば、 化合物丄 ( =テ トラメチルエチレンジォキシホウ素、 X = Y= t—プチルジメチルシリル基) は 下記スキーム 3に示す方法により製造することができる。  Et represents an ethyl group. ③ represents a solid support. In addition, as the compound represented by the above general formula (1), for example, a compound 丄 (= tetramethylethylenedioxyboron, X = Y = t-butyldimethylsilyl group) is produced by the method shown in the following scheme 3. can do.

スキ Love

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Figure imgf000014_0002

(式中、 T B Sは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (In the formula, T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

すなわち、 上記で得られた化合物 を原料として、 該化合物をリチォ化した後 ホウ素化剤で処理することにより製造することができる。 リチォ化剤としては、 例えば、 n—ブチルリチウム、 s—プチ Jレリチウム、 t 一ブチルリチウム等を挙げることができる。 That is, the compound can be produced by using the compound obtained above as a raw material, lithifying the compound, and then treating the compound with a borating agent. Examples of the lithiation agent include n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium and the like.

リチォ化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり 、 特に、 1 . 0〜1 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the lithiating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mole times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mole times with respect to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 水、 アルコール類、 ケトン類、 エステル類以外の溶媒を用いること ができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, alcohols, ketones, and esters can be used.

反応温度は、 通常、 一 1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 8 0〜0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can be generally from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably from 180 ° C. to 0 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

リチォ化した化合物は単離せずに、 反応系にそのままホウ素化剤を加えてホウ 素化合物とする。 さらに、 得られたホウ素化合物をピナコールで処理することに より、 化合物丄を合成することができる。  The lithiated compound is not isolated, but a boron compound is directly added to the reaction system to obtain a boron compound. Further, the compound I can be synthesized by treating the obtained boron compound with pinacol.

ここでホウ素化剤としては、 特に限定されるものではなく、 例えば、 トリメト キシポラン、 トリエトキシポラン、 トリイソプロポキシポラン等が挙げられる。 ホウ素化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり 、 特に、 1 . 0〜1 0モル倍の範囲が好ましい。  Here, the boronating agent is not particularly limited, and includes, for example, trimethoxypolan, triethoxypolan, triisopropoxypolan and the like. The amount of the boronating agent used is usually in the range of 0.5 to 20 mole times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mole times with respect to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 リチォ化 に使用した溶媒をそのまま用いることができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the solvent used for lithiation can be used as it is.

反応温度は、 通常、 _ 1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは _ 8 0〜5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can be usually from —100 ° C. to the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of —80 to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと で、 純粋な化合物丄を単離することができる。  Furthermore, pure compound 丄 can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.

また、 一般式 (1 ) で示される化合物として、 例えば、 化合物 リメ チルシリル、 X = Y= t一プチルジメチルシリル基) は下記スキーム 4に示す方 法により製造することができる。 スキーム 4 Further, as the compound represented by the general formula (1), for example, a compound rimethylsilyl, X = Y = t-butyldimethylsilyl group) can be produced by the method shown in the following scheme 4. Scheme 4

SiMec

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TBSO、、、 、OTBS SiMec
Figure imgf000016_0001
TBSO,,, OTBS

5 8  5 8

(式中、 T B Sは t—プチルジメチルシリル基、 M eはメチル基を表す。 ) すなわち、 上記で得られた化合物 を原料として、 リチォ化した後、 シリル化 剤で処理することにより製造することができる。 (In the formula, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group, and Me represents a methyl group.) That is, the compound obtained above is used as a raw material, lithiated, and then treated with a silylating agent. Can be.

リチォ化剤としては、 上記と同様の試剤を挙げることができる。  Examples of the lithiating agent include the same reagents as described above.

リチォ化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり The amount of the lithiating agent used is usually in the range of 0.5 to 20 moles per mole of the substrate.

、 特に、 1 . 0〜 1 0モル倍の範囲が好ましい。 In particular, a range of 1.0 to 10 mole times is preferable.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 水、 アルコール類、 ケトン類、 エステル類以外の溶媒を用いること ができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, alcohols, ketones, and esters can be used.

反応温度は、 通常、 ー1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは— 8 0〜0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can usually be from −100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of −80 to 0 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

リチォ化した化合物は単離せずに、 反応系にそのままシリル化剤を加えてシリ ル化する。  The lithiated compound is not isolated but is silylated by adding a silylating agent to the reaction system.

シリル化剤としては、 特に限定されるものではなく、 例えば、 クロルトリメチ ルシラン、 クロルトリ一 n—プチルシラン、 ブロムトリ一 n—プチルシラン、 ク ロルトリー n—ォクチルシラン、 ブロムトリ— n—ォクチルシラン、 クロルトリ フエニルシラン、 ブロムトリフエ二ルシラン等が挙げられる。  The silylating agent is not particularly restricted but includes, for example, chlorotrimethylsilane, chlorotri-n-butylsilane, bromotri-n-butylethylsilane, chlorotri-n-octylsilane, bromotri-n-octylsilane, chlorotriphenylsilane, bromotriphenylsilane, etc. Is mentioned.

シリル化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり 、 特に、 1 . 0〜1 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the silylating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mol times, particularly preferably in the range of 1.0 to 10 mol times with respect to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 リチォ化 に使用した溶媒をそのまま用いることができる。 反応温度は、 通常、 一 1 0 o°cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは— 8 0〜 5 0 の範囲で行うのがよい。 The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the solvent used for lithiation can be used as it is. The reaction temperature can be usually from 110 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of −80 to 50.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと で、 純粋な化合物 Aを単離することができる。  Further, pure compound A can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.

なお、 一般式 (1 ) で示される光学活性ジォキシシクロへキサン化合物を製造 する際の出発原料となる光学活性シクロへキセノン化合物 は、 スキーム 5に示 されように Tetrahedron Let ters, 38, 8299 (1997)、 J. Am. Chem. Soc. , 121, The optically active cyclohexenone compound used as a starting material for producing the optically active dioxycyclohexane compound represented by the general formula (1) is, as shown in Scheme 5, Tetrahedron Letters, 38, 8299 (1997) , J. Am. Chem. Soc., 121,

3640 (1999)に記載の方法にしたがって製造することができる。 3640 (1999).

スキーム 5  Scheme 5

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Figure imgf000017_0001

(式中、 T B Sは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (In the formula, T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

すなわち、 光学活性クロルヒドリンエステル をヨウ素化して、 ョードヒドリ ン体 1 0とし、 次いで水酸基をシリル化して、 シロキシ体 1 1とし、 さらにビニ ルグリ二ヤール試剤を反応させてホモアリルエーテル体 1 2とし、 最後に T iで 環化することにより製造することができる。  That is, the optically active chlorohydrin ester is iodinated to give an eodohydrin form 10, and then the hydroxyl group is silylated to give a siloxy form 11, and further reacted with a vinyl Grignard reagent to form a homoallyl ether form 12. And finally by cyclization with Ti.

次に、 一般式 (2 ) で示される光学活性ジォキシシクロへキサン化合物の製造 方法について説明する。  Next, a method for producing the optically active dioxycyclohexane compound represented by the general formula (2) will be described.

この化合物も従来知られていない新規な化合物であり、 例えば、 化合物 1 4 ( R ' = R" =臭素原子、 X = Y= t—プチルジメチルシリル基) は、 下記スキー ム 6に示す方法により製造することができる。 スキーム 6 This compound is also a novel compound that has not been known so far. For example, compound 14 (R ′ = R ″ = bromine atom, X = Y = t-butyldimethylsilyl group) is prepared by the method shown in Scheme 6 below. Can be manufactured. Scheme 6

Figure imgf000018_0001
Figure imgf000018_0001

3 13  3 13

Figure imgf000018_0002
Figure imgf000018_0002

14  14

(式中、 T B Sは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (In the formula, T BS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

すなわち、 出発原料である光学活性シクロへキセノン化合物 をエポキシ化し 、 シクロへキセノンォキシド体 Aとした後、 ケトンにジブロムメチレン化導入反 応をしてジブロムメチレンシクロへキセンォキシド体 1 3とし、 最後にエポキシ ドを還元、 水酸基をシリル化することにより製造することができる。  That is, the optically active cyclohexenone compound, which is the starting material, is epoxidized to give a cyclohexenonoxide A, and then the ketone is subjected to dibromomethylene conversion reaction to give a dibromomethylenecyclohexenoxide 13. It can be produced by reducing epoxides and silylating hydroxyl groups.

最初のエポキシ化反応の酸化剤としては、 一般式 (1 ) で示される化合物で示 したものと同様のものを用いることができる。  As the oxidizing agent for the first epoxidation reaction, the same oxidizing agent as the compound represented by the general formula (1) can be used.

酸化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 8 5 0モル倍の範囲であり、 特 に、 1 . 0 2 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the oxidizing agent to be used is usually in the range of 0.850 times by mole, particularly preferably in the range of 1.020 times by mole relative to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒を用いることができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the above-mentioned solvents can be used.

反応温度は、 通常、 一 1 0 0 °Cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 5 0 5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can be generally from 100 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 150 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1 1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1100 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと で、 純粋なシクロへキセノンォキシド体 Aを単離することができる。 次に、 ケトンへのジブロムメチレン化導入反応としては、 特に限定されるもの ではなく、 例えば、 四塩化炭素およびトリフエニルホスフィンを用いたウィティ ッヒ反応が挙げられる。 Further, pure cyclohexenonoxide A can be isolated by purification by a conventional method such as silica gel column chromatography. Next, the reaction for introducing dibromomethylene into a ketone is not particularly limited, and examples thereof include a Wittig reaction using carbon tetrachloride and triphenylphosphine.

四塩化炭素の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 8〜 2 0モル倍の範囲であり 、 特に、 1 . 0〜5 . 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of carbon tetrachloride to be used is usually in the range of 0.8 to 20 times by mole, particularly preferably in the range of 1.0 to 5.0 times by mole, relative to the substrate.

トリフエニルホスフィンの使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 8〜2 0モル倍 の範囲であり、 特に、 1 . 0〜5 . 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of triphenylphosphine used is usually in the range of 0.8 to 20 mole times, particularly preferably in the range of 1.0 to 5.0 mole times, relative to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 ケトン類以外の溶媒を用いることができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than ketones can be used.

反応温度は、 通常、 一 1 0 O tから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは _ 5 0〜5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can be usually from 110 Ot to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of -50 to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0 . 1〜1 0 0 0時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと で、 純粋なジブロムメチレンシクロへキセンォキシド体 1 3を単離することがで さる。 ドを還元、 水酸基をシリル化することにより化合物 1 4が得られる。  Furthermore, pure dibromomethylenecyclohexenoxide 13 can be isolated by purification by a conventional method such as silica gel column chromatography. Compound 14 is obtained by reducing the compound and silylating the hydroxyl group.

ここで、 エポキシドの還元剤としては、 前述と同様のものが挙げられるが、 特 に、 水素化ジイソブチルアルミニウムを用いることが好ましい。  Here, examples of the epoxide reducing agent include the same ones as described above, and it is particularly preferable to use diisobutylaluminum hydride.

還元剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜2 0モル倍の範囲であり、 特 に、 1 . 0〜1 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the reducing agent to be used is generally in the range of 0.5 to 20 mol times, preferably in the range of 1.0 to 10 mol times, relative to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 水、 ケトン類、 エステル類以外の溶媒を用いることができる。 反応温度は、 通常、 一 1 0 o °cから使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは— 8 0〜 5 0 °Cの範囲で行うのがよい。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, ketones and esters can be used. The reaction temperature can be generally from 10 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of −80 ° C. to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0. 1〜 1 0 0 0時間である。 反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。 The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours. After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリ力ゲル力ラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと で、 純粋なヒドロキシル体を単離することができる。  Furthermore, a pure hydroxyl form can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel gel chromatography.

水酸基を保護する保護試剤としては、 上記と同様のものが挙げられるが、 シリ ル化剤を用いることが好ましい。  Examples of the protecting agent for protecting the hydroxyl group include the same as described above, but it is preferable to use a silylating agent.

ここで、 シリル化剤の種類およびその使用量、 反応促進剤としての塩基の種類 およびその使用量、 ならび反応条件についても、 上記と同様である。  Here, the type and amount of the silylating agent, the type and amount of the base used as the reaction accelerator, and the reaction conditions are the same as described above.

シリル化反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮し て粗物を得ることができる。  After completion of the silylation reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと で、 純粋な化合物 1 4を単離することができる。  Furthermore, pure compound 14 can be isolated by performing purification by a conventional method such as silica gel column chromatography.

次に、 一般式 ( 3 ) で示される光学活性ヒドロキシエチレンジォキシシクロへ キサン化合物の製造方法について説明する。  Next, a method for producing the optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound represented by the general formula (3) will be described.

当該化合物は、 上記で得られた、 一般式 ( 1 ) で示される光学活性ジォキシシ クロへキサン化合物に、 ヒドロキシメチル化反応を行うことにより製造すること ができる。  The compound can be produced by subjecting the optically active dioxycyclohexane compound represented by the general formula (1) obtained above to a hydroxymethylation reaction.

例えば、 化合物丄 (X = Y= t—プチルジメチルシリル基) は、 上記化合物 をリチォ化後、 ホルムアルデヒドと反応させることにより製造することができる リチォ化剤としては、 例えば、 n—ブチルリチウム、 s 一ブチルリチウム、 t —プチルリチウム等が挙げられる。  For example, compound 丄 (X = Y = t-butyldimethylsilyl group) can be produced by lithiation of the above compound and then reacting with formaldehyde. Examples of lithiation agents include n-butyllithium and s Monobutyl lithium, t-butyl lithium and the like.

リチォ化剤の使用量は、 通常、 基質に対して 0 . 5〜 2 0モル倍の範囲であり 、 特に、 1 . 0〜; L 0モル倍の範囲が好ましい。  The amount of the lithiating agent to be used is usually in the range of 0.5 to 20 mol times, particularly preferably in the range of 1.0 to 0 mol times, relative to the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 上記した 溶媒のうち、 水、 アルコール類、 ケトン類、 エステル類以外の溶媒を用いること ができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and among the above-mentioned solvents, solvents other than water, alcohols, ketones, and esters can be used.

反応温度は、 通常、 _ 1 0 0 から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 8 0〜0 °Cの範囲で行うのがよい。 反応時間は、 通常、 0. 1〜1000時間である。 The reaction temperature can be generally from —100 to the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of 180 to 0 ° C. The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

リチォ化した化合物は単離せず、 反応系にそのままホルムアルデヒド 加え、 ヒドロキシメチルイ匕を行う。  The lithiated compound is not isolated, and formaldehyde is added to the reaction system as it is, followed by hydroxymethyl irrigation.

ホルムアルデヒドの使用量は、 通常、 基質に対して 0. 5〜20モル倍の範囲 であり、 特に、 1. 0〜10モル倍の範囲が好ましい。  The amount of formaldehyde to be used is usually in the range of 0.5 to 20 moles, preferably 1.0 to 10 moles per mole of the substrate.

反応溶媒としては、 反応に関与しないものであれば特に制限はなく、 リチォ化 に使用した溶媒をそのまま用いることができる。  The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the solvent used for lithiation can be used as it is.

反応温度は、 通常、 _ 10 から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、 好 ましくは一 80〜 50°Cの範囲で行うのがよい。  The reaction temperature can usually be from -10 to the boiling point of the solvent used, but is preferably in the range of 180 to 50 ° C.

反応時間は、 通常、 0. 1〜 1000時間である。  The reaction time is usually 0.1 to 1000 hours.

反応終了後は、 適当な溶媒により目的物を抽出し、 溶媒を減圧濃縮して粗物を 得ることができる。  After completion of the reaction, the desired product is extracted with an appropriate solvent, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude product.

さらに、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行うこと することができる。  Furthermore, purification can be performed by a conventional method such as silica gel column chromatography.

以下、 実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、 本発明は以下の実施 例に限定されるものではない。  Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[実施例 1 ] シク口へキセノンォキシド体 の合成 Example 1 Synthesis of Xenon Oxide Form

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Figure imgf000021_0001

(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (Wherein, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

氷冷した光学活性 5—シロキシー 2—シクロへキセノン (226mg, 1. Ommo l) と 35%過酸化水素水 (0. 8mL, 1 Ommo 1 ) との混合液に 、 メタノール (38mL) および 3モル ZL水酸化ナトリウム水溶液 (33mL , 0. lmmo l) を加えた。 混合溶液を氷冷下で 6時間攪拌した後、 飽和塩化 アンモニゥム水溶液 (3mL) を加えた。 その後、 エーテル (5mL) で 3回抽出し、 有機層を無水硫酸マグネシウムで 乾燥した。 In a mixture of ice-cooled optically active 5-siloxy-2-cyclohexenone (226mg, 1.Ommol) and 35% hydrogen peroxide solution (0.8mL, 1Ommo1), methanol (38mL) and 3mol An aqueous solution of ZL sodium hydroxide (33 mL, 0.1 lmmol) was added. After the mixed solution was stirred under ice cooling for 6 hours, a saturated aqueous solution of ammonium chloride (3 mL) was added. Then, the mixture was extracted three times with ether (5 mL), and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate.

ろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲル力ラムクロマト グラフィ一で精製し、 光学活性 5—シロキシー 2, 3—エポキシシクロへキサノ ン を収率 83% (204mg) で得た。  After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain optically active 5-siloxy-2,3-epoxycyclohexanone in a yield of 83% (204 mg). I got it.

Ή NMRおよび GC分析から立体異性体比は >95 : <5であった。  Ή The stereoisomer ratio was> 95: <5 from NMR and GC analysis.

Ή NMR (300 MHz, CDC13) (54. 2-4.33 (m, 1H, CHOSi), 3.54-3.59 (m, 1 H, CH2 CHO) , 3.26 (d, J=3.9Hz, 1H, CH) CHO), 2.77 (dd, J=3.0, 15.3Hz, 1H, one of CH2CH)), 2.39 (dd, J=4.2, 15.3Hz, 1H, one of CH2), 2.19 (dd, J =4.2, 15.3Hz, 1H, one of CH2C(=0)), 2.00 (dt, J=15.3, 3.3Hz, 1H, one of CH 2), 0.85 (s, 9H, t-Bu), 0.04 and 0.03 (2s, 6H, 2SiCH3). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) (54. 2-4.33 (m, 1H, CHOSi), 3.54-3.59 (m, 1 H, CH 2 CHO), 3.26 (d, J = 3.9Hz, 1H, CH) CHO), 2.77 (dd, J = 3.0, 15.3Hz, 1H, one of CH 2 CH)), 2.39 (dd, J = 4.2, 15.3Hz, 1H, one of CH 2 ), 2.19 (dd, J = 4.2 , 15.3Hz, 1H, one of CH 2 C (= 0)), 2.00 (dt, J = 15.3, 3.3Hz, 1H, one of CH 2 ), 0.85 (s, 9H, t-Bu), 0.04 and 0.03 (2s, 6H, 2SiCH 3) .

13 C NMR (75 MHz, CDC13) 6204.8, 67.3, 55.4, 54.7,44.9, 32.9, 25.5, 1 7.8, -5.0, -5.1. 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) 6204.8, 67.3, 55.4, 54.7,44.9, 32.9, 25.5, 1 7.8, -5.0, -5.1.

IR (neat) 2929, 2888, 2857, 1726, 1472, 1406, 1361, 1331, 1255, 1075, 10 31, 985, 935, 871, 837, 778, 715 cm"1. IR (neat) 2929, 2888, 2857, 1726, 1472, 1406, 1361, 1331, 1255, 1075, 10 31, 985, 935, 871, 837, 778, 715 cm " 1 .

[実施例 2 ] [Example 2]

Of,Of,

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Figure imgf000022_0001

(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (Wherein, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

ブロムメチルトリフエニルホスホニゥムブロマイド (567mg, 1. 3 mm o 1) のトルエン (2mL) 縣濁液に、 室温下でカリウムピストリメチルシリル アミド (0. 5 M/トルエン液, 2. 6mL, 1. 3 mm o 1 ) を加え、 そのま ま室温下で 30分撹拌した。  To a suspension of bromomethyltriphenylphosphonium bromide (567 mg, 1.3 mmo 1) in toluene (2 mL) was added potassium pistrimethylsilylamide (0.5 M / toluene solution, 2.6 mL, 1. Then, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

この混合溶液を 0°Cに冷却した後、 5—シロキシー 2, 3 _エポキシシクロへ キサノン 3 (242mg, 1. 0 mm o 1 ) のトルエン溶液を加え、 その反応液 を 30分かけて室温まで昇温した。 After cooling this mixed solution to 0 ° C, a toluene solution of 5-siloxy 2,3-epoxycyclohexanone 3 (242 mg, 1.0 mmo 1) was added, and the reaction solution was added. Was raised to room temperature over 30 minutes.

反応液を減圧下濃縮し、 得られた残渣にジェチルエーテル (2mL) とへキサ ン (40mL) とを加え、 析出した結晶をセライトでろ過した。  The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and ethyl ether (2 mL) and hexane (40 mL) were added to the obtained residue, and the precipitated crystals were filtered through celite.

ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ 一で精製し、 1一ブロムメチレン一 5—シロキシ一 2, 3—エポキシシクロへキ サン _ を収率 82% (262mg) で得た。  The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography 1 to give 1-bromomethylene-15-siloxy-1,2,3-epoxycyclohexane _ in a yield of 82% (262 mg). I got it.

Ή NMR (300 MHz, CDC13) 50.06 (s, 6H), 0.86 (s, 9H), 1.81 (ddd, J = 2 .4, 6.9, 15.0 Hz, 1H), 2.16 (ddd, J = 2.1, 8.4, 15.9 Hz, 1H), 2.27 (dd, J = 3.9, 15.0 Hz, 1H), 2.42 (br d, J = 15.9 Hz, 1H), 3.38-3.45 (m, 1H), 3 .49 (d, 4.2 Hz, 1H), 3.87- 4.02 (m, 1H), 6.48 (br s, 1H). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) 50.06 (s, 6H), 0.86 (s, 9H), 1.81 (ddd, J = 2 .4, 6.9, 15.0 Hz, 1H), 2.16 (ddd, J = 2.1, 8.4 , 15.9 Hz, 1H), 2.27 (dd, J = 3.9, 15.0 Hz, 1H), 2.42 (br d, J = 15.9 Hz, 1H), 3.38-3.45 (m, 1H), 3.49 (d, 4.2 Hz, 1H), 3.87- 4.02 (m, 1H), 6.48 (br s, 1H).

13 C NMR (75 MHz, CDC13) δ-4.7, —4.6, 18.1, 25.8, 33.9, 35.4, 54.1, 54 .7, 64.3, 109.2, 137.5. 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) δ-4.7, -4.6, 18.1, 25.8, 33.9, 35.4, 54.1, 54 .7, 64.3, 109.2, 137.5.

IR (neat) 2928, 2856, 1621, 1471, 1360, 1254, 1092, 876, 836, 777 cm一1 IR (neat) 2928, 2856, 1621, 1471, 1360, 1254, 1092, 876, 836, 777 cm one 1

[実施例 3 ] 光学活性ジォキシシク口へキサン化合物 5の合成 Example 3 Synthesis of Optically Active Dioxycycline Hexane Compound 5

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Figure imgf000023_0001

(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (In the formula, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

氷冷下、 1一ブロムメチレン— 5—シロキシ— 2, 3—エポキシシクロへキサ y (1 00 m g , 0. 313mmo 1 ) の THF (3mL) 溶液に、 水素化ジ イソブチルアルミニウム (1. 0M/へキサン液, 0. 94mL, 0. 94 mm o 1) を加え、 そのまま 0°Cで 15時間攪拌した。  Under ice-cooling, a solution of 1-bromomethylene-5-siloxy-2,3-epoxycyclohexa y (100 mg, 0.313 mmo 1) in THF (3 mL) was added with diisobutylaluminum hydride (1.0 M / Hexane solution, 0.94 mL, 0.94 mmo 1) was added, and the mixture was stirred as it was at 0 ° C for 15 hours.

反応液に、 水 (0. 18mL) 、 フッ化ナトリウム (1 g) 、 セライト (1 g ) を加えて、 その混合液をセライトでろ過した。 ろ液を減圧下濃縮して得られた 1一ブロムメチレン一 3—ヒドロキシー 5—シ 口キシシクロへキサンの粗生成物は、 そのまま次の反応に用いた。 Water (0.18 mL), sodium fluoride (1 g), and celite (1 g) were added to the reaction solution, and the mixture was filtered through celite. The crude product of 1-bromomethylene-13-hydroxy-5-cyclooxycyclohexane obtained by concentrating the filtrate under reduced pressure was directly used in the next reaction.

Ή NMR (300 MHz, CDC13 ) (50.07 and 0.09 (2s, 6H), 0.88 (s, 9H), 1.42 ( d, J = 5.1Hz, 1H, OH), 1.74 (ddd, J = 3.6, 7.2, 13.2 Hz, 1H), 1.83 (ddd, J = 3.9, 6.9, 13.2 Hz, 1H), 2.15 (dd, J - 7.5, 13.5 Hz, 1H), 2.43-2.54 (m, 2H), 4.04-4.16 (m, 2H), 6.02 (brs). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) (50.07 and 0.09 (2s, 6H), 0.88 (s, 9H), 1.42 (d, J = 5.1Hz, 1H, OH), 1.74 (ddd, J = 3.6, 7.2, 13.2 Hz, 1H), 1.83 (ddd, J = 3.9, 6.9, 13.2 Hz, 1H), 2.15 (dd, J-7.5, 13.5 Hz, 1H), 2.43-2.54 (m, 2H), 4.04-4.16 (m , 2H), 6.02 (brs).

13 C NMR (75 MHz, CDC13) 5 - 4.9, -4.7, 18.1, 25.8, 39.2, 42.5, 43.1, 66 .9 (two carbons), 101.9, 138.8. 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) 5 - 4.9, -4.7, 18.1, 25.8, 39.2, 42.5, 43.1, 66 .9 (two carbons), 101.9, 138.8.

上記で得られた 1—ブロムメチレン一 3—ヒドロキシー 5—シロキシシクロへ キサンの粗生成物とイミダゾ一ル (43mg, 0. 6 3 mm o 1 ) とのジメチル ホルムアミド (lmL) 溶液に、 0でで t—プチルジメチルシリルクロライド ( 7 lmg, 0. 47mmo 1) を加え、 室温で 1 2時間攪拌した。  The crude product of 1-bromomethylene-13-hydroxy-5-siloxycyclohexane obtained above and imidazole (43 mg, 0.63 mmol) in dimethylformamide (lmL) Then, t-butyldimethylsilyl chloride (7 lmg, 0.47 mmo 1) was added thereto, followed by stirring at room temperature for 12 hours.

飽和重曹水 (3mL) を加えた後、 へキサン (4mL) で 3回抽出した。 有機 層を乾燥 (無水硫酸マグネシウム) し、 ろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた 粗生成物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィーで精製し、 1—ブロムメチレン — 3, 5 _ジシロキシシクロへキサン を収率 6 8 % (9 3mg) で得た。  After adding saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (3 mL), the mixture was extracted three times with hexane (4 mL). The organic layer was dried (anhydrous magnesium sulfate), filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The crude product obtained was purified by silica gel column chromatography, and 1-bromomethylene-3,5-disiloxycyclohexane was obtained. Hexane was obtained in a yield of 68% (93 mg).

Ή NMR (300 MHz, CDC13) δ 0.04 (s, 6H), 0.06 and 0.09 (2s, each 3H), 0 .87 and 0.89 (2s, each 9H), 1.62-1.84 (m, 2H), 2.09 (ddd, J = 0.9, 7.5, 13.5 Hz, 1H), 2.30-2.48 (m, 3H), 4.02-4.15 (m, 2H), 5.94 (br s, 1H). 13 C NMR (75 MHz, CDC13) δ-4.86, -4.74, -4.67, -4.64, 18.16, 18.20, 25 .87, 25.90, 39.2, 43.2, 43.6, 67.1, 67.4, 101.2, 139.3. Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) δ 0.04 (s, 6H), 0.06 and 0.09 (2s, each 3H), 0 .87 and 0.89 (2s, each 9H), 1.62-1.84 (m, 2H), 2.09 ( ddd, J = 0.9, 7.5, 13.5 Hz, 1H), 2.30-2.48 (m, 3H), 4.02-4.15 (m, 2H), 5.94 (br s, 1H). 1 3 C NMR (75 MHz, CDC1 3 ) δ-4.86, -4.74, -4.67, -4.64, 18.16, 18.20, 25.87, 25.90, 39.2, 43.2, 43.6, 67.1, 67.4, 101.2, 139.3.

IR (neat) 2953, 2857, 1637, 1471, 1361, 1255, 1099, 1025, 914, 836, 775 cm—1. IR (neat) 2953, 2857, 1637, 1471, 1361, 1255, 1099, 1025, 914, 836, 775 cm- 1 .

[実施例 4 ] 光学活性ジォキシシク口へキサン化合物 7の合成 [Example 4] Synthesis of optically active dioxycyclohexane compound 7

Figure imgf000024_0001
(式中、 TBSは t _プチルジメチルシリル基を表す。 )
Figure imgf000024_0001
(In the formula, TBS represents a t_butyldimethylsilyl group.)

1一ブロムメチレン— 3, 5—ジシロキシシクロへキサン (348mg, 0 . 8 Ommo 1 ) のジェチルエーテル (3mL) 溶液に、 t一ブチルリチウム ( 1. 35M/ペンタン液, 1. 30mL, 1. 76mmo 1 ) を— 78 で加え 、 そのまま— 78°Cで 1時間撹拌した。  To a solution of 1-bromomethylene-3,5-disiloxycyclohexane (348 mg, 0.8 Ommo 1) in getyl ether (3 mL), add t-butyllithium (1.35 M / pentane solution, 1.30 mL, 1 76mmo 1) was added at -78, and the mixture was stirred as it was at -78 ° C for 1 hour.

トリイソプロポキシポラン (2. 0 MZジェチルェ一テル液, 0. 6mL, 1 . 2 mm o 1 ) を、 — 78°Cで加え、 反応液を 4時間かけて室温に昇温した後、 飽和塩化アンモニゥム水溶液 (8mL) と酢酸ェチル (8mL) とを加えた。 続いて、 酢酸ェチル (6mL) で 2回抽出し、 有機層を減圧下濃縮した。  Triisopropoxypolane (2.0 MZ Jetyl ether solution, 0.6 mL, 1.2 mmo 1) was added at —78 ° C, and the reaction solution was warmed to room temperature over 4 hours, and then saturated An aqueous ammonia solution (8 mL) and ethyl acetate (8 mL) were added. Subsequently, the mixture was extracted twice with ethyl acetate (6 mL), and the organic layer was concentrated under reduced pressure.

残渣に酢酸ェチル (3mL) を加えて溶解し、 これに、 ピナコ一ル (1 13m g, 0. 96mmo 1 ) と硫酸マグネシウム (1. 0 g) とを加えて、 室温下 1 2時間携拌した。  Ethyl acetate (3 mL) was added to the residue for dissolution, and to this was added pinacol (113 mg, 0.96 mmol 1) and magnesium sulfate (1.0 g), and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. did.

ろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト グラフィ一で精製し、 化合物 を収率 93 % (415mg) で得た。  After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to give the compound in a yield of 93% (415 mg).

Ή NMR (300 MHz, CDC13) δ 5.12 (s, 1H), 4.03-4.11 (m, 2H), 2.67 (dd, J = 3.6, 13.2 Hz, 1H), 2.54 (dd, J = 6.9,13.2, Hz, 1H), 2.36 (dd, J = 3.6 , 12.9 Hz, 1H), 2.13 (dd, J = 7.5, 12.9 Hz, 1H), 1.62-1.76 (m, 2H), 1.22 (s, 6H), 1.21 (s, 6H), 0.86 (s, 9H), 0.84 (s, 9H), 0.043, 0.036, 0.008 and 0.004 (4s, each 3H). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) δ 5.12 (s, 1H), 4.03-4.11 (m, 2H), 2.67 (dd, J = 3.6, 13.2 Hz, 1H), 2.54 (dd, J = 6.9,13.2, Hz, 1H), 2.36 (dd, J = 3.6, 12.9 Hz, 1H), 2.13 (dd, J = 7.5, 12.9 Hz, 1H), 1.62-1.76 (m, 2H), 1.22 (s, 6H), 1.21 (s, 6H), 0.86 (s, 9H), 0.84 (s, 9H), 0.043, 0.036, 0.008 and 0.004 (4s, each 3H).

13 C NMR (75 MHz, CDC13) (5160.1, 115.6 (br s), 82.5, 68.3, 67.9, 48.0, 43.1, 0.8, 25.8, 25.7, 24.9, 24.6, 18.1, 17.9, -4.9, -5.0, -5.1, -5.2. IR (neat) 2954, 2856, 1645, 1471, 1386, 1256, 1096, 1028, 837, 775 cm一 1 3 C NMR (75 MHz, CDC1 3) (5160.1, 115.6 (br s), 82.5, 68.3, 67.9, 48.0, 43.1, 0.8, 25.8, 25.7, 24.9, 24.6, 18.1, 17.9, -4.9, -5.0, -5.1, -5.2.IR (neat) 2954, 2856, 1645, 1471, 1386, 1256, 1096, 1028, 837, 775 cm

[実施例 5 ] 光学活性ジォ サン化合物 の合成 Example 5 Synthesis of Optically Active Diosane Compound

Figure imgf000025_0001
(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基、 Meはメチル基を表す。 ) 1一ブロムメチレン一 3, 5 _ジシロキシシクロへキサン (174mg, 0 . 40 mm o 1 ) のジェチルェ一テル (2mL) 溶液に、 t一ブチルリチウム ( 1. 35MZペンタン液, 0. 65mL, 0. 88mmo 1 ) を一 78 で加え 、 そのまま一 78 X:で 1時間撹拌した。
Figure imgf000025_0001
(Wherein TBS represents t-butyldimethylsilyl group and Me represents a methyl group.) Jethyl ether of 1-bromomethylene-1, 3,5-disiloxycyclohexane (174 mg, 0.40 mmo 1) ( 2mL) To the solution was added t-butyllithium (1.35MZ pentane solution, 0.65mL, 0.88mmo1) at 178, and the mixture was stirred as it was at 178X: for 1 hour.

次に、 クロルトリメチルシラン (76 L, 0. 6mmo 1 ) を、 — 78°Cで 加え、 反応液を 3時間かけて室温に昇温した後、 飽和塩化アンモニゥム水溶液 ( 4mL) を加えた。  Next, chlorotrimethylsilane (76 L, 0.6 mmo 1) was added at −78 ° C., the reaction solution was heated to room temperature over 3 hours, and a saturated aqueous solution of ammonium chloride (4 mL) was added.

続いて、 ジェチルエーテル (3mL) で 2回抽出し、 有機層を乾燥 (硫酸マグ ネシゥム) した。  Subsequently, the mixture was extracted twice with getyl ether (3 mL), and the organic layer was dried (magnesium sulfate).

ろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲル力ラムクロマト グラフィ一で精製し、 化合物 を収率 89% (1 53mg) で得た。  After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain the compound in a yield of 89% (153 mg).

Ή NMR (300 MHz, CDC13) 55.22 (s, 1H), 4.01-4.13 (m, 2H), 2.49 (dd, J = 3.6, 12.9 Hz, 1H), 2.32 (dd, J = 3.0, 13.2 Hz, 1H), 2. 08-2. 17 (m, 2 H), 1. 73—1. 83 (m, 1H), 1. 56-1. 67 (m, 1H), 0.89 and 0.86 (2s, each 9H ), 0.097 (s, 9H), 0.06 and 0.03 (2s, each 6H). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) 55.22 (s, 1H), 4.01-4.13 (m, 2H), 2.49 (dd, J = 3.6, 12.9 Hz, 1H), 2.32 (dd, J = 3.0, 13.2 Hz, 1H), 2.08-2.17 (m, 2H), 1.73—1.83 (m, 1H), 1.56-1.67 (m, 1H), 0.89 and 0.86 (2s, each 9H), 0.097 (s, 9H), 0.06 and 0.03 (2s, each 6H).

13 C NMR (75 MHz, CDC13) 5152.3, 126.0, 68.1, 67.6, 47.9, 43,1, 42.8, 26.0, 25.8, 18.3, 0.5, -4.5, -4.59, -4.62, -4.7. 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) 5152.3, 126.0, 68.1, 67.6, 47.9, 43,1, 42.8, 26.0, 25.8, 18.3, 0.5, -4.5, -4.59, -4.62, -4.7.

IR(neat) 2952, 2857, 1624, 1472, 1362, 1250, 1098, 1028, 836, 774, 691 cm"1. IR (neat) 2952, 2857, 1624, 1472, 1362, 1250, 1098, 1028, 836, 774, 691 cm " 1 .

[実施例 6 ] 'ォキシド体 1 3の合成 [Example 6] Synthesis of 'oxide 13

Figure imgf000026_0001
Figure imgf000026_0001

(式中、 TBSは t—プチルジメチルシリル基を表す。 ) 四臭化炭素 (830mg, 2. 5mmo 1 ) のジクロルメタン (3mL) 溶液 に、 0°Cでトリフエニルホスフィン (1. 31 g 5. Ommo l) を加え、 そ のまま 0°Cで 5分撹拌した。 (In the formula, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.) To a solution of carbon tetrabromide (830 mg, 2.5 mmo 1) in dichloromethane (3 mL) was added triphenylphosphine (1.31 g 5. Ommol) at 0 ° C, and the mixture was stirred at 0 ° C for 5 minutes. did.

2—メチル一2—ブテン (1. 4mL 12. 5mmo 1 ) を加え 5分撹拌し た後、 5—シロキシー 2 3—エポキシシクロへキサノン (242mg 1. Ommo l) のジクロルメタン (3mL) 溶液を 0°Cで加え、 その反応液を 30 分撹拌した。  After adding 2-methyl-1-butene (1.4 mL 12.5 mmol 1) and stirring for 5 minutes, a solution of 5-siloxy-23-epoxycyclohexanone (242 mg 1.Ommol) in dichloromethane (3 mL) was added. C. and the reaction was stirred for 30 minutes.

その後、 反応液をへキサン (30mL) で希釈し、 セライトでろ過した。  Thereafter, the reaction solution was diluted with hexane (30 mL) and filtered through celite.

ろ液を減圧下濃縮して得られた 1—ジブロムメチレン— 5—シロキシ _ 2 3 —エポキシシクロへキサンの粗生成物は、 そのまま次の反応に用いた。  The crude product of 1-dibromomethylene-5-siloxy_23-epoxycyclohexane obtained by concentrating the filtrate under reduced pressure was used for the next reaction as it was.

Ή NMR (300 MHz, CDC13) δ 3.85-3.95 (m, 2H), 3. 0-3. 4 (m, 1H), 2.52 ( dd, J = 3.6, 15.3Hz, 1H), 2.28 (dd, J = 4.5, 15.0 Hz, 1H), 2.11 (dd, J = 6.0, 15.3 Hz, 1H), 1.75 (ddd, J = 2.7,7.8, 15.0 Hz, 1H), 0.87 (s, 9H), 0.061 (s 3H), 0.05 (s, 3H). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) δ 3.85-3.95 (m, 2H), 3. 0-3. 4 (m, 1H), 2.52 (dd, J = 3.6, 15.3Hz, 1H), 2.28 (dd, J = 4.5, 15.0 Hz, 1H), 2.11 (dd, J = 6.0, 15.3 Hz, 1H), 1.75 (ddd, J = 2.7,7.8, 15.0 Hz, 1H), 0.87 (s, 9H), 0.061 (s 3H), 0.05 (s, 3H).

13 C NMR (75 MHz, CDC13 ) (5137.0, 93.6, 64.3, 54.6, 53.8, 39.2, 33.5, 2 5.8, 18.1 -4.66, -4.74. 1 3 C NMR (75 MHz, CDC1 3) (5137.0, 93.6, 64.3, 54.6, 53.8, 39.2, 33.5, 2 5.8, 18.1 -4.66, -4.74.

[実施例 7 ] 光学活性ジォキシシクロへキサン化合物 14の合成 Example 7 Synthesis of Optically Active Dioxycyclohexane Compound 14

Figure imgf000027_0001
(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基を表す。 )
Figure imgf000027_0001
(Wherein, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

氷冷下、 実施例 6で得られた 1一ジブロムメチレン一 5—シロキシ— 2, 3 - エポキシシク口へキサン粗生成物のへキサン (5mL) 溶液に、 水素化ジイソブ チルアルミニウム (0. 96MZへキサン液, 2. 08mL, 2. 0 mm o 1 ) を加え、 そのまま 0°Cで 1時間攪拌した。 反応液に、 水 (0. 36mL) を 0°Cで注意深く加えた後 30分撹拌し、 フッ 化ナトリウム (l g) とセライト (l g) とを加えて、 その混合液をセライトで ろ過した。 Under ice-cooling, diisobutylaluminum hydride (0.96MZ) was added to a solution of the crude product of 1-dibromomethylene-15-siloxy-2,3-epoxycycline hexane obtained in Example 6 in hexane (5 mL). Hexane solution, 2.08 mL, 2.0 mm o 1) was added, and the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour. Water (0.36 mL) was carefully added to the reaction solution at 0 ° C., followed by stirring for 30 minutes. Sodium fluoride (lg) and celite (lg) were added, and the mixture was filtered through celite.

ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィ 一で精製し、 1一ジブロムメチレン— 3—ヒドロキシー 5—シロキシシクロへキ サンを収率 74% (287mg) で得た。  The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain 1-dibromomethylene-3-hydroxy-5-siloxycyclohexane in a yield of 74% (287 mg). Was.

[a]24 D = +10.68 (cl.47 CHC13). [a] 24 D = +10.68 (cl.47 CHC1 3 ).

Ή NMR (300 MHz, CDC13) 54.80-4.20 (m, 2H), 2.73 (dd, J= 3.9, 13.5 Hz , 1H), 2.42-2.56 (m, 2H), 2.38 (dd, J = 7.5, 3.5 Hz, 1H), 1.68-1.86 (m, 2H), 1.58 (s, 1H), 0.88 (s, 9H), 0.081 (s, 3H), 0.064 (s, 3H) . Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) 54.80-4.20 (m, 2H), 2.73 (dd, J = 3.9, 13.5 Hz, 1H), 2.42-2.56 (m, 2H), 2.38 (dd, J = 7.5, 3.5 Hz, 1H), 1.68-1.86 (m, 2H), 1.58 (s, 1H), 0.88 (s, 9H), 0.081 (s, 3H), 0.064 (s, 3H).

13C NMR (75 MHz, CDC13 ) (5139.3, 85.8, 66.8, 66.6, 42.4, 42.2, 41.9, 2 5.7, 17.9, -5.07, -5.14. 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) (5139.3, 85.8, 66.8, 66.6, 42.4, 42.2, 41.9, 2 5.7, 17.9, -5.07, -5.14.

IR (neat) 3350, 2928, 2856, 1470, 1254, 1103, 908, 837, 776 cm—  IR (neat) 3350, 2928, 2856, 1470, 1254, 1103, 908, 837, 776 cm—

Anal. Calc. for C, 3H24Br202 Si : C, 39.01; H, 6.04. Found: C, 38.91; H, 5.94. .. Anal Calc for C, 3 H 24 Br 2 0 2 Si:. C, 39.01; H, 6.04 Found: C, 38.91; H, 5.94.

上記で得られた 1一ジブロムメチレン— 3—ヒドロキシー 5—シロキシシクロ へキサン (272mg, 0. 7mmo 1 ) とイミダゾ一ル (95mg, 1. 4m mo 1 ) とのジメチルホルムアミド (2mL) 溶液に、 0°Cで t一ブチルジメチ ルシリルクロライド (136mg, 0. 9mmo 1 ) を加え、 室温で 12時間攪 拌した。  To a solution of 1-dibromomethylene-3-hydroxy-5-siloxycyclohexane (272 mg, 0.7 mmo 1) obtained above and imidazole (95 mg, 1.4 mmol) in dimethylformamide (2 mL) At 0 ° C., t-butyldimethylsilyl chloride (136 mg, 0.9 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours.

水 (2mL) を加えた後、 ジェチルエーテル (6mL) で 3回抽出した。 有機 層を乾燥 (無水硫酸マグネシウム) し、 ろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた 粗生成物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィ一で精製し、 1一ジブロムメチレ ン— 3, 5—ジシロキシシクロへキサン 14を収率 96 % (348mg) で得た  After adding water (2 mL), the mixture was extracted three times with getyl ether (6 mL). The organic layer was dried (anhydrous magnesium sulfate), filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The crude product obtained was purified by silica gel column chromatography, and purified by 1-dibromomethylene-3,5-disiloxycyclohexane. Hexane 14 was obtained in a yield of 96% (348 mg).

[a] 30 D = +2.27 (cl.21 CHC13). [a] 30 D = +2.27 (cl.21 CHC1 3 ).

Ή NMR (300 MHz, CDC13) (54.06-4.14 (m, 2H), 2.56 (dd, J=3.3, 13.5Hz, Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) (54.06-4.14 (m, 2H), 2.56 (dd, J = 3.3, 13.5Hz,

2H), 2.37 (dd, J = 7.2, 13.8 Hz, 2H), 1.69 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 0.892 (s2H), 2.37 (dd, J = 7.2, 13.8 Hz, 2H), 1.69 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 0.892 (s

, 9H), 0.889 (s, 9H), 0.079 (s, 3H), 0.062 (s, 3H). 13 C NMR (75 MHz, CDC13 ) (5139.9, 85.1, 67.0, 42.8, 42.5, 18.0, -5.08, -5.14. , 9H), 0.889 (s, 9H), 0.079 (s, 3H), 0.062 (s, 3H). 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) (5139.9, 85.1, 67.0, 42.8, 42.5, 18.0, -5.08, -5.14.

IR (neat) 2928, 2856, 1471, 1362, 1256, 1092, 1027, 958, 838, 695 cm 1 Anal. Calc. for C19H38Br202 Si2 : C, 44.36; H, 7.44. Found: C, 44.40; H ,7.45. IR (neat) 2928, 2856, 1471, 1362, 1256, 1092, 1027, 958, 838, 695 cm 1 Anal.Calc. For C 19 H 38 Br 2 0 2 Si 2 : C, 44.36; H, 7.44. Found : C, 44.40; H, 7.45.

[実施例 8] 光学活性ヒドロキシエチレンジォキシシクロへキサン化合物丄の 合成 [Example 8] Synthesis of optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound 丄

Figure imgf000029_0001
Figure imgf000029_0001

(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基を表す。 ) (Wherein, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.)

1一ブロムメチレン一 3, 5—ジシロキシシクロへキサン (40. 3mg, 0. Immo l) のジェチルェ一テル (lmL) 溶液に、 — 78°Cで t—ブチル リチウム (1 · 7 M/ペンタン液, 0. 14mL, 0. 24mmo 1 ) を加え、 1時間かけて一 20°Cまで昇温した。  To a solution of 1-bromomethylene-1,3,5-disiloxycyclohexane (40.3 mg, 0. Immol) in getyl ether (lmL) at —78 ° C, t-butyllithium (1.7 M / pentane) The solution, 0.14 mL, 0.24 mmo 1) was added, and the temperature was raised to 120 ° C over 1 hour.

これに、 過剰量のホルムアルデヒド (ジェチルェ一テル溶液) を加えた後、 室 温に昇温した。  To this was added an excessive amount of formaldehyde (detjyl ether solution), and the temperature was raised to room temperature.

飽和塩化アンモニゥム水溶液を加えた後、 ジェチルエーテルで抽出し、 有機層 を乾燥 (無水硫酸マグネシウム) した。  After adding a saturated aqueous solution of ammonium chloride, the mixture was extracted with getyl ether, and the organic layer was dried (anhydrous magnesium sulfate).

ろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト グラフィ一で精製し、 1— (2—ヒドロキシェチリデン) 一3, 5—ジシロキシ シクロへキサン丄を収率 52% (17. 7mg) で得た。  After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to give 1- (2-hydroxyethylidene) -1,5-disiloxycyclohexane 丄 in a yield. Obtained in 52% (17.7 mg).

Ή NMR (300 MHz, CDC13 ) (55.60 (t, J = 7.2 Hz, vinylic), 3.95-4.20 (m , 4H, CH0 and CH20) , 2.25-2.40 (m, 2H), 2.18 (dd, J=3.3, 13.2Hz, 1H, al lylic), 2.05 (dd, J=8.1, 13.2Hz, 1H, allylic), 1.75- 1.86 (ra, 1H), 1.69 (br s, 1H, OH), 1.63 (dd, J=3.0, 9. OHz, 1H, C¾), 0.87 (s, 18H, t一 Bu), 0.06 (s, 6H, SiCH3), 0.05 and 0.04 (2s, each 3H, SiCH3). Ή NMR (300 MHz, CDC1 3 ) (55.60 (t, J = 7.2 Hz, vinylic), 3.95-4.20 (m, 4H, CH0 and CH 2 0), 2.25-2.40 (m, 2H), 2.18 (dd, J = 3.3, 13.2Hz, 1H, allylic), 2.05 (dd, J = 8.1, 13.2Hz, 1H, allylic), 1.75- 1.86 (ra, 1H), 1.69 (br s, 1H, OH), 1.63 (dd, J = 3.0, 9. OHz, 1H, C¾), 0.87 (s, 18H, t-Bu), 0.06 (s, 6H, SiCH 3 ), 0.05 and 0.04 (2s, each 3H, SiCH 3 ).

13 C NMR (75 MHz, CDC13) d 138.2, 125.2, 68.1, 67.9, 58.4, 45.6, 43.4, 36.6, 25.9, 18.2, -4.57, -4.66, - 4· 70, -4.74. 13 C NMR (75 MHz, CDC1 3) d 138.2, 125.2, 68.1, 67.9, 58.4, 45.6, 43.4, 36.6, 25.9, 18.2, -4.57, -4.66, - 4 · 70, -4.74.

IR (neat) 3367, 2928, 2856, 1654, 1472, 1361, 1253, 1109, 1084, 1082,83 5, 774 cm" 1. IR (neat) 3367, 2928, 2856, 1654, 1472, 1361, 1253, 1109, 1084, 1082,83 5,774 cm " 1 .

[実施例 9 ] 光学活性ジォキシシクロへキサン化合物 1 5の合成 Example 9 Synthesis of Optically Active Dioxycyclohexane Compound 15

Figure imgf000030_0001
(式中、 TBSは tーブチルジメチルシリル基を表す。 Buは、 n_ブチル基を 表す。 )
Figure imgf000030_0001
(In the formula, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group. Bu represents an n_butyl group.)

1—ブロムメチレン一 3, 5—ジシロキシシクロへキサン (348mg, 0 • 80 mm o 1 ) のジェチルエーテル (3mL) 溶液に、 t—ブチルリチウム ( 1. 35 M/ペンタン液, 1. 3 OmL, 1. 76 mm o 1 ) を— 78 °Cで加え 、 そのまま— 78 °Cで 1時間撹拌した。  To a solution of 1-bromomethylene-1,3,5-disiloxycyclohexane (348 mg, 0 • 80 mmo 1) in getyl ether (3 mL), add t-butyllithium (1.35 M / pentane solution, 1.3 OmL, 1.76 mm o 1) was added at −78 ° C., and the mixture was stirred as it was at −78 ° C. for 1 hour.

続いて、 クロルトリ— n—ブチルスズ (0. 434mL, 1. 2 mm o 1 ) を 、 _78°Cで加え、 反応液を 3時間かけて室温に昇温した。  Subsequently, chlorotri-n-butyltin (0.434 mL, 1.2 mmo 1) was added at _78 ° C, and the reaction solution was heated to room temperature over 3 hours.

飽和重曹水 (1 OmL) を加えた後、 反応液をへキサン (1 OmL) で 2回抽 出し、 有機層を乾燥 (硫酸マグネシウム) した。  After adding saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (1 OmL), the reaction solution was extracted twice with hexane (1 OmL), and the organic layer was dried (magnesium sulfate).

硫酸マグネシウムをろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた粗生成物を、 シリ 力ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、 化合物 1 5を収率 93% (48 1 mg) で得た。  After filtering off magnesium sulfate, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the obtained crude product was purified by silica gel column chromatography to obtain Compound 15 in a yield of 93% (48 1 mg).

Ή NMR (CDC13) δ 5.47 (s, 1H), 3.99-4.13 (m, 2H), 2.33-2.40 (m, 2H), 2.22 (dd, J=3.9, 13.5Hz, 1H), 2.11 (dd, J=9.6, 12.9Hz, 1H), 1.82-1.90 (m , 1H), 1.43-1.61 (m, 7H), 1.24 - 1.38 (m, 6H), 0.78-1.06 (m, 6H), 0.89 (t, 9H), 0.90 (s, 18H), 0.067 and 0.062 (2s, each 3H), 0.030 (s, 6 H); Ή NMR (CDC1 3) δ 5.47 (s, 1H), 3.99-4.13 (m, 2H), 2.33-2.40 (m, 2H), 2.22 (dd, J = 3.9, 13.5Hz, 1H), 2.11 (dd, J = 9.6, 12.9Hz, 1H), 1.82-1.90 (m, 1H), 1.43-1.61 (m, 7H), 1.24-1.38 (m, 6H), 0.78-1.06 (m, 6H), 0.89 (t, 9H), 0.90 (s, 18H), 0.067 and 0.062 (2s, each 3H), 0.030 (s, 6 H);

13 C NMR (CDC13) (5 152.1, 124.1, 68.3, 67.7, 47.1, 46.5, 43.1, 29.3, 2 7.4, 26.0, 25.8, 18.2, 18.1, 13.8, 10.3, —4.5, -4.6, -4.8; 13 C NMR (CDC1 3) ( 5 152.1, 124.1, 68.3, 67.7, 47.1, 46.5, 43.1, 29.3, 2 7.4, 26.0, 25.8, 18.2, 18.1, 13.8, 10.3, -4.5, -4.6, -4.8;

IR (neat) 2926, 2862, 1613, 1463, 1376, 1361, 1255, 1099, 836, 775, 69 IR (neat) 2926, 2862, 1613, 1463, 1376, 1361, 1255, 1099, 836, 775, 69

1; 1;

[a 325 D -14.3 (c 7.90, CHC13);. (a 3 25 D -14.3 (c 7.90, CHC1 3 ) ;.

Anal. Calcd. for C31H6602 Si2Sn: C, 57.66; H, 10.30. Found: C, 57.28; H , 10.32. Anal.Calcd. For C 31 H 66 0 2 Si 2 Sn: C, 57.66; H, 10.30. Found: C, 57.28; H, 10.32.

[実施例 l o ] 光学活性ジォキシシク口へキサン化合物 Aの合成 [Example l o] Synthesis of optically active dioxycyclohexane compound A

TBSO 、、、TBSO ,,,

Figure imgf000031_0001
Figure imgf000031_0001

(式中、 TBSは t一プチルジメチルシリル基を表わす。 (Wherein, TBS represents a t-butyldimethylsilyl group.

E tは、 ェチル基を表わす。③は、 固相担体を表わす)  Et represents an ethyl group. ③ indicates a solid support)

5 OmLシユレ一力一反応チューブ (アルドリッチ社製) に、 PS— DESレ ジン (ァルゴノート製, 0. 6〜1. Ommo lZg, 1. 00 g) を仕込み、 減圧下 30分乾燥した後、 アルゴンでパージした。 5 PS-DES resin (Argonaut, 0.6-1. OmmolZg, 1.00 g) is charged into a 5 mL OmL reaction tube (Aldrich), dried under reduced pressure for 30 minutes, and then argon. Purged.

これに、 1, 3—ジクロ口一 5, 5—ジメチルヒダン卜イン (443mg, 2 . 25 mm 01 ) の塩化メチレン (1 ImL) 溶液を加え、 室温下 2時間ゆつく り撹拌した。  To this was added a solution of 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin (443 mg, 2.25 mm 01) in methylene chloride (1 ImL), and the mixture was slowly stirred at room temperature for 2 hours.

アルゴン下で反応液をろ過し、 得られた樹脂を塩化メチレン (2 OmL) で 3 回、 さらに THF (2 OmL) で 3回洗浄した後、 減圧下乾燥した。  The reaction solution was filtered under argon, and the obtained resin was washed three times with methylene chloride (2 OmL) and further three times with THF (2 OmL), and then dried under reduced pressure.

続いて、 樹脂を入れた反応チューブに、 実施例 3で得られた 1一ブロムメチレ ン— 3—ヒドロキシー 5—シロキシシクロへキサン (723mg, 2. 25mm o 1 ) とイミダゾ一ル (18 Omg, 2. 63mmo 1 ) の塩化メチレン (25 mL) 溶液を加え、 室温下 4時間ゆっくりと撹拌した。 Subsequently, the 1-bromomethylene-3-hydroxy-5-siloxycyclohexane (723 mg, 2.25 mmo 1) obtained in Example 3 and imidazole (18 Omg, 2 63mmo 1) methylene chloride (25 mL) solution and slowly stirred at room temperature for 4 hours.

反応液をろ過し、 得られた樹脂をエーテル (18mL) で 2回洗浄した。 ろ液を水 (20mL) で 2回洗浄した後、 有機層を乾燥 (硫酸マグネシウム) し、 硫酸マグネシウムをろ過後、 ろ液を減圧下濃縮し、 得られた残渣をシリカゲ ルカラムクロマトグラフィーで処理して原料の 1 _ブロムメチレン一 3—ヒドロ キシ— 5—シロキシシクロへキサン (382mg, 1. 19 mm o 1 ) を回収し た。  The reaction solution was filtered, and the obtained resin was washed twice with ether (18 mL). After the filtrate was washed twice with water (20 mL), the organic layer was dried (magnesium sulfate), filtered through magnesium sulfate, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was treated by silica gel column chromatography. As a result, 1-bromomethylene-13-hydroxy-5-siloxycyclohexane (382 mg, 1.19 mmol) was recovered as a raw material.

樹脂は、 THF—水 (3/1 (v/v) , 12mL) で 3回、 エタノール (1 2mL) で 2回、 さらにエーテル (18mL) で 2回洗浄した後、 減圧下終夜で 乾燥し、 シリル基樹脂末端を持つ固相担持光学活性ビニリデンシクロへキサン化 合物 5を回収原料からの基準による収率 90% (1. 31 g) で得た。  The resin was washed three times with THF-water (3/1 (v / v), 12 mL), twice with ethanol (12 mL), and twice with ether (18 mL), and dried under reduced pressure overnight. An optically active vinylidenecyclohexane compound 5 having a silyl group resin terminal was obtained in a yield of 90% (1.31 g) based on the recovered raw material.

得られた樹脂のローディングは、 樹脂をフッ化水素酸一ピリジンで分解した後 、 生成したアルコール体を1 HNMRで分析することにより、 0. 738mmo lZgと決定した。 Loading of the obtained resin was determined to be 0.738 mmolZg by decomposing the resin with monopyridine hydrofluorate and then analyzing the resulting alcohol form by 1 HNMR.

すなわち、 シリンジ型の PP反応器 (EYELA RT 5 -S 100, 武田理 化製) に樹脂 (144mg) と THF (3mL) を仕込み、 これにフッ化水素酸 一ピリジン (0. lmL) を加え、 室温下 6時間撹拌した。  That is, a resin (144 mg) and THF (3 mL) were charged into a syringe type PP reactor (EYELA RT 5-S100, manufactured by Takeda Rika), and monohydropyridine hydrofluoride (0.1 mL) was added thereto. The mixture was stirred at room temperature for 6 hours.

反応液に、 内部標準物質として 1, 4—ジブロモベンゼン (25. 6mg) を 加えた後、 THF (3mL) でろ過した。  To the reaction solution, 1,4-dibromobenzene (25.6 mg) was added as an internal standard, and the mixture was filtered with THF (3 mL).

ろ液に酢酸ェチル (4mL) を加え、 飽和重曹水 (3mL) で洗浄し、 さらに 水層より酢酸ェチル (3mL) で 2回抽出した。  Ethyl acetate (4 mL) was added to the filtrate, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (3 mL), and further extracted twice from the aqueous layer with ethyl acetate (3 mL).

合わせた有機層を乾燥 (硫酸マグネシウム) し、 硫酸マグネシウムをろ過後、 ろ液を減圧下濃縮して得られた残渣を 1 H NM Rで分析した。 The combined organic layer was dried (magnesium sulfate), filtered through magnesium sulfate, and the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was analyzed by 1 H NMR.

その結果、 ブロモメチレンシクロへキサンジォ一ルは 0. 1063mmo 1で あり、 樹脂のローデイングは 0. 738mmo lZgと計算された。  As a result, the bromomethylenecyclohexanediol was 0.1063 mmol, and the loading of the resin was calculated to be 0.738 mmolZg.

本発明によれば、 19一ノル一活性型ビタミン D誘導体および活性型ビタミン D3誘導体を製造する際の重要中間体である光学活性ヒドロキシエチレンジォキ シシクロへキサン化合物を、 光学活性ジォキシシクロへキサン化合物を用いるこ とで、 比較的簡便に、 かつ、 効率的に製造することができる。 According to the present invention, 19 an-nor one active vitamin D derivatives and active vitamin D 3 derivatives hexane compound to a key intermediate optically active hydroxyethylene di O key Shishikuro in manufacturing, hexanes optically active Jiokishishikuro By using a compound, it can be produced relatively easily and efficiently.

Claims

請求 の 範 囲 The scope of the claims 1 . 下記一般式 (1 )  1. The following general formula (1)
Figure imgf000033_0001
Figure imgf000033_0001
(式中、 Rはハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホウ素基または置換スズ基を表 す。 Xおよび Yは水素原子、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する固相 を表す。 ) (In the formula, R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group, or a substituted tin group. X and Y represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.) で表されることを特徴とする光学活性ジォキシシクロへキサン化合物またはその 鏡像体。 Or an optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof.
2 . 前記 Rがハロゲン原子であることを特徴とする請求項 1記載の光学活性ジォ キシシク口へキサン化合物またはその鏡像体。  2. The optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof according to claim 1, wherein R is a halogen atom. 3 . 下記一般式 (2 ) 3. The following general formula (2)
Figure imgf000033_0002
Figure imgf000033_0002
(式中、 R ' および R〃 は互いに独立して置換アルキル基、 ハロゲン原子、 置換 シリル基、 置換ホウ素基または置換スズ基を表す。 Xおよび Yは水素原子、 水酸 基の保護基または該保護基を末端に有する固相を表す。 ) (In the formula, R ′ and R〃 independently represent a substituted alkyl group, a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group or a substituted tin group. X and Y represent a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group or Represents a solid phase having a protecting group at the terminal.) で表されることを特徴とする光学活性ジォキシシクロへキサン化合物またはその 鏡像体。 Or an optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof.
4. 前記 R ' および R〃 がハロゲン原子であることを特徴とする請求項 3記載の 光学活性ジォキシシクロへキサン化合物またはその鏡像体。  4. The optically active dioxycyclohexane compound or an enantiomer thereof according to claim 3, wherein R ′ and R〃 are a halogen atom. 5 . 下記一般式 (1 )  5. The following general formula (1) XO
Figure imgf000033_0003
(式中、 Rはハロゲン原子、 置換シリル基、 置換ホウ素基または置換スズ基を表 す。 Xおよび Yは水素原子、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する固相 を表す。 )
XO
Figure imgf000033_0003
(In the formula, R represents a halogen atom, a substituted silyl group, a substituted boron group, or a substituted tin group. X and Y represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.)
で表される光学活性ジォキシシクロへキサン化合物に、 ヒドロキシメチル化反応 を行い、 下記一般式 (3 ) A hydroxymethylation reaction is performed on an optically active dioxycyclohexane compound represented by the following general formula (3)
Figure imgf000034_0001
Figure imgf000034_0001
(式中、 Xおよび Υは水素原子、 水酸基の保護基または該保護基を末端に有する 固相を表す。 ) (In the formula, X and Υ represent a hydrogen atom, a protecting group for a hydroxyl group, or a solid phase having the protecting group at the terminal.) で表される化合物を得ることを特徴とする光学活性ヒドロキシエチレンジォキシ シクロへキサン化合物の製造方法。 A method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound, characterized by obtaining a compound represented by the formula:
6 . 前記 Rがハロゲン原子であることを特徴とする請求項 5記載の光学活性ヒド ロキシエチレンジォキシシクロへキサン化合物の製造方法。  6. The method for producing an optically active hydroxyethylenedioxycyclohexane compound according to claim 5, wherein R is a halogen atom.
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AL Designated countries for regional patents

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