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WO2002018221A1 - Emballage souple ayant une couche protectrice - Google Patents

Emballage souple ayant une couche protectrice Download PDF

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Publication number
WO2002018221A1
WO2002018221A1 PCT/CH2000/000458 CH0000458W WO0218221A1 WO 2002018221 A1 WO2002018221 A1 WO 2002018221A1 CH 0000458 W CH0000458 W CH 0000458W WO 0218221 A1 WO0218221 A1 WO 0218221A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
tube
diffusion layer
layer
head
skirt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/CH2000/000458
Other languages
English (en)
Inventor
Hugues-Vincent Roy
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aisapack Holding SA
Original Assignee
Aisapack Holding SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aisapack Holding SA filed Critical Aisapack Holding SA
Priority to EP00952831A priority Critical patent/EP1313648A1/fr
Priority to PCT/CH2000/000458 priority patent/WO2002018221A1/fr
Priority to AU2000265526A priority patent/AU2000265526A1/en
Publication of WO2002018221A1 publication Critical patent/WO2002018221A1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D35/00—Pliable tubular containers adapted to be permanently or temporarily deformed to expel contents, e.g. collapsible tubes for toothpaste or other plastic or semi-liquid material; Holders therefor
    • B65D35/02—Body construction
    • B65D35/12—Connections between body and closure-receiving bush

Definitions

  • the present invention relates to a component for flexible packaging of essentially tubular shape comprising a narrow neck at one of its ends and a flat closure at the other of its ends, said packaging being intended to contain a consumable product, such as a toothpaste, which comes out under the pressure of the fingers.
  • It relates more precisely to a packaging component which comprises an anti-diffusion layer intended in particular to protect the consumable product from its environment.
  • the present invention also relates to methods of placing said anti-diffusion layer.
  • any hollow longitudinal object not necessarily rectilinear, resembling approximately a cylinder but whose section can be variable over the length of the cylinder and have any shape, for circular, oval or polygonal example.
  • tube will be used subsequently to mention the packaging defined above.
  • a tube according to the invention can comprise a plurality of compartments.
  • a tube can include one or more components. Most often, there is a skirt, a head and a cap.
  • the head has substantially the shape of a hollow truncated cone on which is located a cylinder forming the narrow neck and the external face of which can be threaded in order to receive a plug which is screwed into it. Alternatively, the outer face of the narrow neck is not threaded, the plug being fixed by simple pressure.
  • the skirt has a substantially tubular shape. It can be manufactured either by extrusion or by winding a laminated film.
  • the head and the skirt are made integral with one another by welding.
  • Another possibility is to form the head by molding and fix it simultaneously to the skirt.
  • a third method consists in making the tube in a single operation from a preform.
  • anti-diffusion layers also called barrier layers. Due to their presence, the migration phenomenon can be greatly reduced, or even completely.
  • barrier layers are described in Patent documents DE-C-19617349, FR-A-2784657, US 5372863, EP-A-496704 or WO 97/27120.
  • the anti-diffusion layers are never in direct contact with the content, there is always a non-barrier layer between the anti-diffusion layer and the content, therefore a non-negligible migration in this non-barrier layer.
  • the anti-diffusion layers ⁇ have relatively large thicknesses, hence a relatively high cost of material and corresponding recycling problems.
  • the present invention has the particular merit of remedying the problems described above. It relates to a component for flexible packaging of essentially tubular shape comprising a narrow neck at one of its ends and a flat closure at the other of its ends, said packaging being intended to contain a consumable product which leaves under pressure. fingers, said component comprising an anti-diffusion layer intended to protect the consumable product from its environment, said anti-diffusion layer having a thickness of less than 150 ⁇ m.
  • the anti-diffusion layer has a thickness of between 20 and 80 nm. This achieves an optimum anti-diffusion properties.
  • the anti-diffusion layer according to the invention may consist of a plurality of layers of various compositions, such a configuration in particular makes it possible to obtain layers more resistant to abrasion or having better adhesion, this also allows to modify the optical properties of the tube.
  • PVD Physical Vapor Deposition
  • An anti-diffusion layer according to the invention can be obtained in different ways.
  • We can cite among other things the physical vapor deposition process (PVD Physical Vapor Deposition) which consists of thermal evaporation, resistive or using an electron gun, or a cathode or laser sputtering.
  • CVD Chemical Vapor Deposition
  • a process particularly suited to the present invention is PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) which consists of a chemical deposition in the vapor phase assisted by plasma.
  • the plasma can be generated remotely (remote plasma) from the area to be covered.
  • the PECVD remote is particularly well suited, especially when it comes to leaving weld zones without an anti-diffusion layer.
  • Another advantage offered by the present invention lies in the fact that, in particular with the PECVD process, it becomes possible to produce an anti-diffusion layer based on silicon oxide obtained from a precursor such as HMDSO.
  • This material has the particularity of being inert, that is to say not to encourage the migration of compounds to or from the consumable product. It also offers an effective barrier effect compared to agents external to the tube such as oxygen or humidity.
  • Figure 1 Presentation of a tube according to the invention.
  • Figure 2 A tube head according to the invention.
  • FIG. 3 A device 1 according to the invention for coating an anti-diffusion layer on the tube heads.
  • Figure 4 A 2nd coating device according to the invention of an anti-diffusion layer on the tube heads.
  • Figure 5 Device according to the invention for coating an anti-diffusion layer on tubes.
  • Figure 6 Device of Figure 5 in another position.
  • the tube (1) illustrated in Figure 1 consists of a skirt (2), a head (3) and a plug (4); a flat closure (6) being formed towards the end of the tube (1) which is opposite to that where the plug (4) is located.
  • the head (3) mainly consists of a frustoconical shape (28) on which a cylindrical shape (7) is extended, the external surface (9) of which is threaded so as to allow the plug (4) to be screwed.
  • An anti-diffusion layer (8) is placed over the entire interior surface of the tube (1).
  • the thickness of the layer (8) which is obtained according to the PECVD process is of the order of 50 nm. It has in fact been found that this value is particularly suitable for obtaining an effective anti-diffusion effect.
  • the thickness of the layer (8) is not greater than 150 nm.
  • the thickness of the anti-diffusion layer (8) should not be less than 5 nm.
  • anti-diffusion materials will be developed and that the thickness of the corresponding layer (8) will be less than 5 nm while retaining an optimal barrier effect.
  • the anti-diffusion layer (8) extends over the entire interior surface of the head (3) which is in contact with the consumable product (5) .
  • the tube portion (1) shown in Figure 2 is characterized in particular by a seamless zone (10) where the skirt (2) covers part of the head (3).
  • the seamless zone (10) has substantially the shape of a cylinder whose axis merges with that of the tube (1).
  • the weld zone (11) between the skirt (2) and the head (3) is located on the frustoconical surface (28) of the head (3).
  • FIG. 3 illustrates a deposition apparatus 1, an anti-diffusion layer on the tube heads (3) which are placed on a sample holder (16), the whole being contained in a vacuum chamber (14).
  • This device is particularly well suited when it is sought to also cover part of the external surface of the head (3).
  • a plasma (13) is formed at a distance (remote plasma) relative to the deposition zone.
  • the plasma source (12) chosen in the example illustrated here is a CYRANNUS device ⁇ a description of which can be found in patent application EP-A-872164.
  • the process for manufacturing anti-diffusion layers, in this example, is characterized by the following steps:
  • a gas mixture (shown diagrammatically by reference 17) comprising a precursor between the plasma source (12) and the samples to be treated.
  • a precursor can be an organosilicon such as hexamethyldisiloxane (HMDSO).
  • HMDSO hexamethyldisiloxane
  • This precursor can be mixed with a carrier gas such as helium or argon which prevents the formation of powder.
  • FIG. 4 shows a second device for depositing an anti-diffusion layer on tube heads (3).
  • a plasma (22) is formed directly in contact with the deposition area. This process is also carried out under partial vacuum in a vacuum enclosure (23) using a pumping system (19).
  • a plasma can be ignited and maintained with electromagnetic waves in the radio frequency or high frequency range between the electrode (21) and the sample holder (20) acting as a counter electrode.
  • good anti-diffusion layers of silicon oxide are obtained by directly using a mixture of gases containing oxygen and a precursor of the organo-silicon type such as HMDSO. It can also be joined to a rare gas of the helium or argon type to prevent the formation of powder.
  • the injector (18) of the gas mixture is directly on the vacuum chamber (23).
  • Figures 5 and 6 illustrate a device similar to that of Figure 3 but which differs in that it is designed to allow the deposition of anti-diffusion layers on tubes (1) including the head (3) and the skirt (2) have been fixed together beforehand; the flat closure (6) being formed after the deposition and filling of the tube (1) carried out.
  • FIG. 5 presents the case of a remote plasma where the deposition is carried out outside the plasma source.
  • the plasma flow and the precursor gas (17) penetrate through the tube (1) through the end opposite the narrow neck (7) and exit there through the narrow neck (7).
  • the precursor gas is introduced (17) at the level of the guides (26) of active species.
  • FIG. 6 presents the case of a direct plasma where the plasma is restricted inside the tubes.
  • batches of tubes (27) are introduced into the plasma source (12) by means of an elevator (24).
  • the oxygen as well as the precursor, for example HMDSO, are introduced directly into the tubes (1) by one of their ends, for example the end opposite the narrow neck (7), and exit through the opposite end.
  • the plasma is generated only inside the tubes (1 ).
  • the anti-diffusion layer is not limited to a specific material but to any type of material constituting a layer less than 150 nm which has anti-diffusion properties.
  • the invention is not limited to the coating devices described in the embodiments described above.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

La présente invention se rapporte à un composant (2, 3) pour emballage souple (1) de forme essentiellement tubulaire comprenant un col étroit (7, 28) à l'une de ses extrémités une fermeture plate (6) à l'autre de ses extrémités, ledit emballage étant destiné à contenir un produit consommable (5), tel qu'une pâte dentifrice, qui sort sous la pression des doigts. Elle se rapporte plus précisément à un composant d'emballage qui comprend une couche anti-diffusion (8) destinée notamment à protéger le produit consommable de son environnement.

Description

EMBALLAGE SOUPLE AYANT UNE COUCHE PROTECTRICE
La présente invention se rapporte à un composant pour emballage souple de forme essentiellement tubulaire comprenant un col étroit à l'une de ses extrémités une fermeture plate à l'autre de ses extrémités, ledit emballage étant destiné à contenir un produit consommable, tel qu'une pâte dentifrice, qui sort sous la pression des doigts.
Elle se rapporte plus précisément à un composant d'emballage qui comprend une couche anti-diffusion destinée notamment à protéger le produit consommable de son environnement.
La présente invention concerne également des procédés de mise en place de ladite couche anti-diffusion.
Dans le présent texte, par " forme essentiellement tubulaire ", il faut comprendre tout objet longitudinal creux, pas nécessairement rectiligne, ressemblant approximativement à un cylindre mais dont la section peut être variable sur la longueur du cylindre et avoir n'importe quelle forme, par exemple circulaire, ovale ou polygonale.
Dans un souci de simplification, on utilisera par la suite le terme " tube " pour mentionner l'emballage défini précédemment.
11 convient de relever qu'un tube selon l'invention peut comprendre une pluralité de compartiments. A titre d'exemple non-limitatif, on peut citer les tubes à double compartiments, chaque compartiment contenant un produit différent, les deux produits entrant seulement en contact lors de leur expulsion hors du tube.
Un tube peut comprendre un ou plusieurs composants. Le plus souvent, on distingue une jupe, une tête et un bouchon. La tête a sensiblement la forme d'un tronc de cône creux sur lequel se situe un cylindre formant le col étroit et dont la face externe peut être filetée afin de recevoir un bouchon qui vient s'y visser. Alternativement, la face externe du col étroit n'est pas filetée, le bouchon venant se fixer par simple pression.
La jupe a une forme sensiblement tubulaire. Elle peut être fabriquée soit par extrusion, soit par enroulement d'un film laminé.
Dans le cas où la tête est préfabriquée, généralement par injection, la tête et la jupe sont rendus solidaires l'une de l'autre par soudure.
Une autre possibilité consiste à former la tête par moulage et la fixer simultanément à la jupe.
Une troisième méthode consiste à réaliser le tube en une seule opération à partir d'une préforme.
Les procédés décrits plus haut imposent un choix de matériaux particuliers, des plastiques en général, dont les propriétés physico-chimiques doivent convenir à la mise en œuvre choisie.
Ces matériaux présentent cependant certains inconvénients, entre autres le fait qu'ils ne permettent pas d'empêcher la diffusion de composés à travers la jupe et/ou la tête en provenance de ou vers l'environnement du produit consommable contenu dans le tube. Ce phénomène de migration peut avoir lieu entre le produit consommable et l'extérieur du tube ou entre le produit consommable et le matériau qui compose la jupe et/ou la tête.
Afin de confiner et conserver l'arôme ou les substances actives à l'intérieur du tube, des couches anti-diffusion, appelées également couches barrières, ont été développées. De par leur présence, le phénomène de migration peut être fortement réduit, voire totalement. De telles couches sont décrites dans les documents brevets DE-C-19617349, FR-A-2784657, US 5372863, EP-A-496704 ou WO 97/27120.
Il existe également des couches anti-diffusion qui ont été développées spécifiquement pour les têtes de tube. Elles sont notamment décrites dans les documents brevets DE-A-3215171 , DE-C-4404970, US 3565293, US 4021524, US 4185757, US 5656346, FR-A-2679527, FR-A-2681006, EP-A-130239, EP-A- 524897, WO 97/27120 et WO 00/23340.
Pour obtenir des résultats satisfaisants avec les couches anti-diffusion de l'état de la technique, il importe de leur conférer une certaine épaisseur, typiquement au moins de l'ordre de quelques microns. Cette épaisseur est d'autant plus importante au niveau de la tête où elle peut parfois atteindre 1 mm.
Cette nécessité de recourir à une épaisseur minimale résulte en plusieurs inconvénients. A titre non-exhaustif, on peut citer le fait que les propriétés mécaniques des tubes sont modifiées à cause de la couche anti-diffusion.
De même, à cause de la rigidité du tube au niveau de la tête, rigidité particulièrement importante lorsque l'on utilise des inserts, il n'est pas possible de faire sortir du tube l'intégralité du produit consommable qui y est contenue, il subsiste toujours un volume mort de produit consommable, inaccessible au consommateur.
D'autres défauts liés aux tubes de l'état de la technique peuvent être relevés
• propriété anti-diffusion fréquemment insuffisantes.
• présence de zones intérieures qui ne sont pas recouvertes par la couche anti- diffusion.
• les couches anti-diffusion ne sont jamais en contact direct avec le contenu, il y a toujours une couche non-barrière entre la couche anti-diffusion et le contenu, donc une migration non-négligeable dans cette couche non-barrière. • Les couches anti-diffusion βnt des épaisseurs relativement larges, d'où un coût de matériau relativement élevé et des problèmes de recyclage correspondants.
La présente invention a notamment le mérite de remédier aux problèmes décrits précédemment. Elle se rapporte à un composant pour emballage souple de forme essentiellement tubulaire comprenant un col étroit à l'une de ses extrémités et une fermeture plate à l'autre de ses extrémités, ledit emballage étant destiné à contenir un produit consommable qui sort sous la pression des doigts, ledit composant comprenant une couche anti-diffusion destinée à protéger le produit consommable de son environnement, ladite couche anti-diffusion ayant une épaisseur inférieure à 150 πm.
De préférence, la couche anti-diffusion a une épaisseur se situant entre 20 et 80 nm. On réalise de la sorte un optimum des propriétés anti-diffusion.
Il a en outre été constaté qu'une configuration particulièrement performante des composants de tube pouvait être obtenue lorsque le rapport entre Pépaisseur de la paroi de la tête et l'épaisseur de la couche anti-diffusion était supérieur à 5000 et/ou que le rapport entre l'épaisseur de la paroi de la jupe et l'épaisseur de la couche anti-diffusion était supérieur à 600.
A noter par ailleurs que la couche anti-diffusion selon l'invention peut être constituée d'une pluralité de couches de compositions diverses, une telle configuration permet notamment d'obtenir des couches plus résistantes à l'abrasion ou ayant une meilleure adhésion, cela permet aussi de modifier les propriétés optiques du tube.
D'autres avantages résultant de la présente invention peuvent être mentionnés.
Avec une couche de faible épaisseur, il est possible de réaliser des tubes transparents au niveau de la jupe et de la tête. Par ailleurs, le fait d'utiliser une couche de faible épaisseur réduit la quantité de matériau nécessaire pour la fabrication de la couche, d'où une baisse des coûts de production et une amélioration du respect de l'environnement.
Une couche anti-diffusion selon l'invention peut être obtenue de différentes manières. On peut citer entre autres le procédé de déposition physique en phase gazeuse (PVD = Physical Vapor Déposition) qui consiste en une évaporation thermique, résistive ou à l'aide d'un canon à électrons, ou en une pulvérisation cathodique ou laser.
II est également possible d'utiliser procédé de déposition chimique en phase vapeur (CVD = Chemical Vapor Déposition).
Un procédé particulièrement adapté à la présente invention est le PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Déposition) qui consiste en une déposition chimique en phase vapeur assistée par plasma. Le plasma peut être généré à distance (remote plasma) de la zone à recouvrir.
L'utilisation d'un procédé CVD ou PECVD, outre le fait d'obtenir une faible épaisseur, permet de placer la couche anti-diffusion en des zones du tube qui ne peuvent pas être recouvertes, voire difficilement, avec les couches de l'état de la technique. Cette relative inaccessibilité étant particulièrement remarquée au niveau de la tête.
Outre la possibilité de recouvrir des zones difficilement atteignables, les procédés précités permettent de cibler très précisément les zones à recouvrir. Dans ce but, le remote PECVD s'avère particulièrement bien adapté, notamment lorsqu'il s'agit de laisser des zones de soudure sans couche anti-diffusion.
Un autre avantage offert par la présente invention réside dans le fait qu'avec notamment le procédé PECVD, il devient possible de réaliser une couche anti- diffusion à base d'oxyde de silicium obtenu à partir d'un précurseur tel que le HMDSO. Ce matériau présente en effet la particularité d'être inerte, c'est-à-dire de ne pas favoriser la migration de composés vers ou en provenance de le produit consommable. Il offre en outre un effet barrière efficace par rapport à des agents externes au tube tels que l'oxygène ou l'humidité.
Quelques exemples de réalisation de l'invention seront décrits ci-après au moyen des figures suivantes :
Figure 1 Présentation d'un tube selon l'invention. Figure 2 Une tête de tube selon l'invention.
Figure 3 Un 1er dispositif selon l'invention de revêtement d'une couche anti- diffusion sur des têtes de tube.
Figure 4 Un 2e dispositif selon l'invention de revêtement d'une couche antidiffusion sur des têtes de tube. Figure 5 Dispositif selon l'invention de revêtement d'une couche antidiffusion sur des tubes. Figure 6 Dispositif de la figure 5 dans une autre position.
Le tube (1) illustré sur la figure 1 se compose d'une jupe (2), d'une tête (3) et d'un bouchon (4); une fermeture plate (6) étant formée vers l'extrémité du tube (1 ) qui est opposée à celle où se situe le bouchon (4).
La tête (3) est principalement constituée d'une forme tronconique (28) sur laquelle se prolonge une forme cylindrique (7) dont la surface externe (9) est filetée de façon à permettre le vissage du bouchon (4). Une couche anti-diffusion (8) est placée sur toute la surface intérieure du tube (1). L'épaisseur de la couche (8) qui est obtenue selon le procédé PECVD est de l'ordre de 50 nm. On a en effet constaté que cette valeur était particulièrement adaptée pour obtenir un effet anti- diffusion performant.
Il est également possible d'obtenir un effet encore satisfaisant pour autant que l'épaisseur de la couche (8) ne soit pas supérieure à 150 nm. Inversement, avec les matériaux actuellement connus qui sont utilisés pour fabriquer la couche antidiffusion (8), par exemple l'oxyde de silicium, on a remarqué que l'épaisseur de la couche anti-diffusion (8) ne devait pas être inférieure à 5 nm. Cependant, on peut imaginer que dans le futur, des matériaux anti-diffusion soient développés et que l'épaisseur de la couche (8) correspondante soit inférieure à 5 nm tout en conservant un effet barrière optimal.
Sur la tête de tube (3) illustrée à la figure 2, la couche anti-diffusion (8) s'étend sur l'ensemble de la surface intérieure de la tête (3) qui est en contact avec le produit consommable (5).
La portion de tube (1 ) représentée à la figure 2 est caractérisée notamment par une zone sans soudure (10) où la jupe (2) recouvre une partie de la tête (3). La zone sans soudure (10) a sensiblement la forme d'un cylindre dont l'axe se confond avec celui du tube (1 ). La zone de soudure (11 ) entre la jupe (2) et la tête (3) se situe sur la surface tronconique (28) de la tête (3).
Lors du remplissage du tube (1) avec le produit consommable (5) ou lors de l'expulsion de celui-ci hors du tube (1 ), une certaine quantité de produit consommable (5) peut venir se loger dans la zone sans soudure (10) précitée, d'où l'intérêt, comme on peut le constater sur la figure 2, de recouvrir une partie de la surface externe de la tête (3).
La figure 3 illustre un 1er dispositif de déposition d'une couche anti-diffusion sur des têtes de tubes (3) qui sont placées sur un porte-échantillons (16), le tout étant confiné dans une chambre à vide (14). Ce dispositif est particulièrement bien adapté lorsque l'on cherche à recouvrir également une partie de la surface externe de la tête (3).
Un plasma (13) est formé à distance (remote plasma) par rapport à la zone de déposition. La source de plasma (12) choisie dans l'exemple illustré ici est un dispositif CYRANNUS → dont on peut trouver une description dans la demande de brevet EP-A-872164. Le procédé de fabrication des couches anti-diffusion, dans cet exemple, se caractérise par les étapes suivantes :
- Introduction des têtes de tubes (3) à traiter dans la chambre à vide (14).
- Instauration d'un vide partiel par l'intermédiaire d'un système de pompage (15). Il a été remarqué qu'une pression entre 1 et 1000 mbar est particulièrement appropriée.
- Introduction (schématisée par la référence 25) de gaz ou d'un mélange de gaz qui va générer le plasma directement dans la chambre de plasma (13). Dans le cas de déposition d'oxyde de silicium, il est préférable d'utiliser de l'oxygène pur. Il est à relever qu'il est aussi possible d'utiliser de l'air provenant de l'atmosphère ambiante.
- Génération d'un plasma (13) dans la source de plasma CYRANNUS→ (12) à l'aide d'ondes électromagnétiques dans le domaine micro-onde. Pour obtenir une déposition par remote plasma il s'agit de générer un flux des particules actives en direction de la zone de déposition. Ce flux est contrôlé par le débit du gaz et la capacité de pompage ainsi que par des conduites appropriées (26) servant à diriger les particules actives à proximité des têtes de tubes (3). On a remarqué qu'une puissance de génération et de sustentation du plasma située entre 0.1 et 10 W/cm2 était particulièrement avantageuse.
- Introduction d'un mélange de gaz (schématisé par la référence 17) comprenant un précurseur entre la source de plasma (12) et les échantillons à traiter. Ce moyen permet d'éviter la déposition sur les parois de la source plasma (12) et de minimiser les quantités de précurseur. Dans le cas de déposition d'oxyde de silicium, le précurseur peut être un organo- silicium tel que l'hexaméthyldisiloxane (HMDSO). On peut mélanger ce précurseur avec un gaz porteur tel que l'hélium ou l'argon qui prévient la formation de poudre.
La figure 4 présente un deuxième dispositif de déposition de couche anti-diffusion sur des têtes de tubes (3). Un plasma (22) est formé directement en contact avec la zone de déposition. Ce procédé est aussi effectué sous un vide partiel dans une enceinte à vide (23) à l'aide d'un système de pompage (19). Typiquement, un tel plasma peut être allumé et entretenu avec des ondes électromagnétiques dans le domaine radio-fréquence ou haute-fréquence entre l'électrode (21) et le porte- échantillons (20) agissant comme une contre-électrode. Dans ce cas, on obtient de bonnes couches anti-diffusion d'oxyde de silicium en utilisant directement un mélange de gaz contenant de l'oxygène et un précurseur du type organo-silicium tel que du HMDSO. On peut aussi y joindre un gaz rare du type hélium ou argon pour prévenir la formation de poudre. L'injecteur (18) du mélange de gaz est directement sur la chambre à vide (23).
Les figures 5 et 6 illustrent un dispositif similaire à celui de la figure 3 mais qui diffère cependant en ce qu'il est conçu pour permettre le dépôt de couches anti- diffusion sur des tubes (1) dont la tête (3) et la jupe (2) ont été fixées préalablement l'une à l'autre; la fermeture plate (6) étant formée une fois la déposition et le remplissage du tube (1) effectués.
La figure 5 présente le cas d'un remote plasma où la déposition est réalisée à l'extérieur de la source de plasma. Le flux de plasma et le gaz précurseur (17) pénètrent par dans le tube (1) par l'extrémité opposée au col étroit (7) et y sort par le col étroit (7). Le gaz précurseur est introduit (17) au niveau des guides (26) d'espèces actives.
La figure 6 présente le cas d'un plasma direct où le plasma est restreint à l'intérieur des tubes. Dans cet exemple, des lots de tubes (27) sont introduits dans la source plasma (12) au moyen d'un élévateur (24).
L'oxygène ainsi que le précurseur, du HMDSO par exemple, sont introduits directement dans les tubes (1 ) par une de leurs extrémités, par exemple l'extrémité opposée au col étroit (7), et sortent par l'extrémité opposée. Par un contrôle approprié des pressions à l'intérieur et à l'extérieur des tubes (1), grâce à la maîtrise des flux de gaz et des vitesses de pompage des orifices, le plasma est engendré uniquement à l'intérieur des tubes (1). II va sans dire que l'invention ne se limite pas aux exemples cités précédemment. A relever notamment que la couche anti-diffusion ne se limite pas à un matériau déterminé mais à tout type de matériau constituant une couche inférieure à 150 nm qui possède des propriétés anti-diffusion.
De même, l'invention ne se limite pas aux dispositifs de revêtement décrits dans les modes de réalisation décrits précédemment. A titre d'exemple faisant également partie du domaine de l'invention, on peut citer les dispositifs de revêtement de jupes de tubes qui sont traitées isolément.

Claims

Revendications
1. Composant (2,3) pour emballage souple (1) de forme essentiellement tubulaire comprenant un col étroit (7,28) à l'une de ses extrémités et une fermeture plate (6) à l'autre de ses extrémités, ledit emballage (1) étant destiné à contenir un produit consommable (5) qui sort sous la pression des doigts, ledit composant (2,3) comprenant une couche antidiffusion (8) destinée à protéger le produit consommable (5) de son environnement, caractérisé par le fait que ladite couche anti-diffusion (8) a une épaisseur inférieure à 150 nm.
2. Composant selon la revendication 1 , caractérisé par le fait que l'épaisseur de la couche anti-diffusion (8) se situe entre 20 et 80 nm.
3. Composant selon la revendication 1 ou 2, caractérisé par le fait que la couche anti-diffusion (8) est constituée d'une pluralité de couches de compositions diverses.
4. Composant selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la couche anti-diffusion (8) se situe du côté de la face qui est en contact avec le produit consommable (5).
5. Composant selon la revendication précédente, caractérisé par le fait que la couche anti-diffusion (8) est placée de façon à entrer en contact direct avec le produit consommable (5).
6. Tête de tube (3) comprenant une couche (8) selon l'une quelconque des revendications précédentes.
7. Tête de tube selon la revendication précédente, caractérisée par le fait que la couche anti-diffusion (8) s'étend sur l'ensemble de la surface intérieure de la tête (3) qui est en contact avec le produit consommable
(5).
8. Tête de tube selon la revendication 6 ou 7, caractérisée par le fait qu'une partie de la surface externe de la tête (3) est recouverte par la couche anti-diffusion (8).
9. Tête de tube selon la revendication 6, 7 ou 8, caractérisée par le fait que le rapport entre l'épaisseur de la paroi de la tête et l'épaisseur de la couche anti-diffusion est supérieur à 5000.
10. Jupe de tube (2) comprenant une couche (8) selon l'une quelconque des revendications précédentes.
11. Jupe de tube selon la revendication précédente, caractérisée par le fait que le rapport entre l'épaisseur de la paroi de la jupe et l'épaisseur de la couche anti-diffusion est supérieur à 600.
12. Tube (1 ) caractérisé par le fait qu'il comprend une couche (8) selon l'une quelconque des revendications précédentes, ladite couche s'étalant sur toute la surface intérieure du tube.
13. Composant selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la couche anti-diffusion (8) est obtenue par un procédé de déposition physique en phase gazeuse (PVD).
14. Composant selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisé par le fait que la couche anti-diffusion (8) est obtenue par un procédé de déposition chimique en phase vapeur (CVD).
15. Composant selon la revendication précédente, caractérisé par le fait que le procédé s'effectue par déposition chimique en phase vapeur assistée par plasma (PECVD).
16. Composant selon la revendication précédente, caractérisé par le fait que le plasma (13) est généré à distance (remote plasma) par rapport à la zone où la couche (8) doit être déposée.
17. Composant selon la revendication 15 ou 16, caractérisé par le fait que le plasma est généré sous une pression se situant entre 1 et 1000 mbar et à une puissance se situant entre 0.1 et 10 W/cm2.
18. Procédé de fabrication d'un tube (1 ), caractérisé par le fait que premièrement, on met en place la couche (8) selon l'une quelconque des revendications 1 à 11 ou 13 à 17 sur un ou plusieurs composants de tube (2,3) pris isolément et que deuxièmement, les composants (2,3) sont fixés entre eux.
19. Procédé de fabrication d'un tube (1 ) constitué d'une tête (3) et d'une jupe (2), caractérisé par le fait que les deux composants (2,3) sont d'abord fixés entre eux, la fermeture plate (6) n'étant pas encore formée à ce stade, la couche (8) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5 ou 12 à 15 étant ensuite placée à l'intérieur de l'ensemble formé par les deux composants (2,3), puis le produit consommable (5) est introduit du côté de la jupe (2) qui est opposé à la tête (3), la fermeture plate (6) étant finalement formée.
20. Procédé selon la revendication précédente, caractérisée par le fait que la couche (8) est mise en place selon le procédé de l'une quelconque des revendications 16 ou 17 et que le flux de plasma entre par un orifice de l'ensemble tête-jupe et sort par le deuxième orifice de ce même ensemble.
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