[go: up one dir, main page]

WO2002059050A8 - Procede et dispositif de mesure dans un processus de fabrication de revetement de verre plat - Google Patents

Procede et dispositif de mesure dans un processus de fabrication de revetement de verre plat

Info

Publication number
WO2002059050A8
WO2002059050A8 PCT/FI2002/000012 FI0200012W WO02059050A8 WO 2002059050 A8 WO2002059050 A8 WO 2002059050A8 FI 0200012 W FI0200012 W FI 0200012W WO 02059050 A8 WO02059050 A8 WO 02059050A8
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
aerosol particles
substrate
measurement
planar glass
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/FI2002/000012
Other languages
English (en)
Other versions
WO2002059050A1 (fr
Inventor
Juha Tikkanen
Jorma Keskinen
Markku Rajala
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Liekki Oy
Original Assignee
Liekki Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Liekki Oy filed Critical Liekki Oy
Publication of WO2002059050A1 publication Critical patent/WO2002059050A1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Publication of WO2002059050A8 publication Critical patent/WO2002059050A8/fr
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/132Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415Reactant delivery systems
    • C03B19/1423Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/30For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
    • C03B2207/34Liquid, e.g. mist or aerosol
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/46Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

L'invention concerne un procédé et un dispositif de mesure, destinés à être mis en oeuvre dans le cadre d'un processus de fabrication d'un revêtement de verre plan. Dans ce processus de fabrication, un réacteur thermique (10), par exemple à flamme ou à plasma, est utilisé pour produire des particules d'aérosol (13) à partir de réactants (12), ces particules d'aérosol (13) étant guidées sur la surface d'un substrat (14) pour former un revêtement. Selon l'invention, la charge électrique acheminée sur le substrat (14) par la pénétration des particules d'aérosol (13) est mesurée au moyen d'un dispositif de mesure de courant (17) pendant ledit processus, afin de surveiller le processus d'enduction. Ce dispositif de mesure de courant (17) est disposé de façon à communiquer avec une unité (18) de commande de processus, en vue d'adapter les conditions du processus conformément à une valeur seuil prédéterminée. Dans un mode de réalisation, la mesure est basée sur la charge électrique atteinte de manière intrinsèque par les particules d'aérosol (13) pendant leur formation. Il est également possible, le cas échéant, d'utiliser un chargeur séparé (23), par exemple un chargeur dit chargeur corona, pour charger les particules d'aérosol (13).
PCT/FI2002/000012 2001-01-09 2002-01-08 Procede et dispositif de mesure dans un processus de fabrication de revetement de verre plat Ceased WO2002059050A1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20010036 2001-01-09
FI20010036A FI112648B (fi) 2001-01-09 2001-01-09 Mittausmenetelmä ja -laitteisto tasomaisen lasipinnoitteen valmistusprosessissa

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2002059050A1 WO2002059050A1 (fr) 2002-08-01
WO2002059050A8 true WO2002059050A8 (fr) 2003-10-30

Family

ID=8559921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/FI2002/000012 Ceased WO2002059050A1 (fr) 2001-01-09 2002-01-08 Procede et dispositif de mesure dans un processus de fabrication de revetement de verre plat

Country Status (2)

Country Link
FI (1) FI112648B (fr)
WO (1) WO2002059050A1 (fr)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009030234A1 (de) * 2009-06-23 2010-12-30 J-Plasma Gmbh Verfahren zur Herstellung von Glas insbesondere Glaspreform und Smoker zu dessen Herstellung

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5844361A (ja) * 1981-09-11 1983-03-15 Toshiba Corp 粉体の帯電量測定装置
EP0157003B1 (fr) * 1984-02-10 1988-11-23 Präzisions-Werkzeuge AG Procédé de mesure de la quantité de poudre de revêtement sur un corps métallique à revêtir avec ladite poudre de revêtement, appareil pour mettre en exécution le procédé et application du procédé
US5296255A (en) * 1992-02-14 1994-03-22 The Regents Of The University Of Michigan In-situ monitoring, and growth of thin films by means of selected area CVD

Also Published As

Publication number Publication date
FI20010036A0 (fi) 2001-01-09
FI20010036L (fi) 2002-07-10
FI112648B (fi) 2003-12-31
WO2002059050A1 (fr) 2002-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW366417B (en) Integrated high-performance gas sensor and the manufacturing method
WO2003047312A1 (fr) Dispositif chauffant en ceramique
WO2002031219A8 (fr) Anneau de bordure fixe par electrostatique pour le traitement au plasma
TW200509291A (en) MEMS based multi-polar electrostatic chuck
WO2001024581A8 (fr) Plaques de chauffage multizone a resistance
WO2003006976A3 (fr) Detecteur servant a la detection de particules, et procede de reglage de son fonctionnement
WO2003053398A8 (fr) Oxyde de zinc a surface modifiee, servant a la production de dispersions nanoparticulaires
TW201539607A (zh) 電漿處理設備及該設備之具有決定其溫度之光纖的元件
EP1114994A3 (fr) Capteur thermoconductive
CA2244886A1 (fr) Dispositif capacitif de mesure d'espacements
US20070258187A1 (en) Electrostatic chuck
CN101359580B (zh) 具有感测单元的衬底处理设备
PL1675971T3 (pl) Metoda powlekania powierzchni przedmiotów przy użyciu strumienia plazmy
AU2003244126A1 (en) Coating separator, process for producing the same and electrical and electronic parts including the separator
KR20080008324A (ko) 에칭 플라즈마 처리 설비에서의 플라즈마 상태를모니터링하는 방법 및 장치
WO2004109772A3 (fr) Procede et systeme de gravure d'une matiere dielectrique a k eleve
TW350094B (en) Process for producing semiconductor substrate
WO2004097063A3 (fr) Procede pour produire un film d'oxyde de silicium et procede pour produire un film optique multicouche
WO2003076921A3 (fr) Capteur de gaz a microstructures avec commande des proprietes de sensibilite aux gaz par application d'un champ electrique
WO2002059050A8 (fr) Procede et dispositif de mesure dans un processus de fabrication de revetement de verre plat
HK1047521A1 (zh) 電子加熱元件及其生產方法
EP1005065A3 (fr) Procede pour fabriquer une configuration de conducteurs
CN109315021A (zh) 发热部件
CN104291266B (zh) 通过形成碳化硅层来减小微机电系统的粘滞
WO2003068671A3 (fr) Procede de production d'un systeme de detecteur et d'actionneur et systeme de detecteur ou d'actionneur

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NO NZ OM PH PL PT RO RU SD SE SG SI SK SL TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
CFP Corrected version of a pamphlet front page
CR1 Correction of entry in section i

Free format text: IN PCT GAZETTE 31/2002 DUE TO A TECHNICAL PROBLEM AT THE TIME OF INTERNATIONAL PUBLICATION, SOME INFORMATION WAS MISSING (81). THE MISSING INFORMATION NOW APPEARS IN THE CORRECTED VERSION.

Free format text: IN PCT GAZETTE 31/2002 DUE TO A TECHNICAL PROBLEM AT THE TIME OF INTERNATIONAL PUBLICATION, SOME INFORMATION WAS MISSING (81). THE MISSING INFORMATION NOW APPEARS IN THE CORRECTED VERSION.

REG Reference to national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: 8642

122 Ep: pct application non-entry in european phase
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: JP