WO2001092604A3 - Cellule d'electrolyse permettant de retablir la concentration en ions metal dans des processus de deposition electrolytique - Google Patents
Cellule d'electrolyse permettant de retablir la concentration en ions metal dans des processus de deposition electrolytique Download PDFInfo
- Publication number
- WO2001092604A3 WO2001092604A3 PCT/EP2001/006161 EP0106161W WO0192604A3 WO 2001092604 A3 WO2001092604 A3 WO 2001092604A3 EP 0106161 W EP0106161 W EP 0106161W WO 0192604 A3 WO0192604 A3 WO 0192604A3
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- cell
- electroplating
- metals
- restoring
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
- C25D21/14—Controlled addition of electrolyte components
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
L'invention concerne une cellule d'électrolyse pour la dissolution anodique de métaux, en particulier de métaux à potentiel d'oxydation relativement élevé, tels que le cuivre, ou de métaux à surpotentiel en hydrogène élevé, en vue de rétablir la concentration en ions métal dans des bains galvaniques dans des processus de déposition électrolytique à anode insoluble. La cellule selon l'invention comprend un compartiment anodique, dans lequel le métal qui se dissout agit comme électrode consommable, et un compartiment cathodique, contenant une cathode pour le dégagement d'hydrogène, séparée par une membrane échangeuse d'anions. Le couplage de la cellule selon l'invention avec une cellule d'électrodéposition permet une simplification importante de l'ensemble du processus et une réduction sensible du coût de ce processus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AU2001262326A AU2001262326A1 (en) | 2000-05-31 | 2001-05-30 | Electrolysis cell for restoring the concentration of metal ions in processes of electroplating |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ITMI2000A001207 | 2000-05-31 | ||
| IT2000MI001207A IT1318545B1 (it) | 2000-05-31 | 2000-05-31 | Cella di elettrolisi per il ripristino della concentrazione di ionimetallici in processi di elettrodeposizione. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2001092604A2 WO2001092604A2 (fr) | 2001-12-06 |
| WO2001092604A3 true WO2001092604A3 (fr) | 2002-04-25 |
Family
ID=11445158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2001/006161 Ceased WO2001092604A2 (fr) | 2000-05-31 | 2001-05-30 | Cellule d'electrolyse permettant de retablir la concentration en ions metal dans des processus de deposition electrolytique |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| AU (1) | AU2001262326A1 (fr) |
| IT (1) | IT1318545B1 (fr) |
| WO (1) | WO2001092604A2 (fr) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ITMI20011374A1 (it) * | 2001-06-29 | 2002-12-29 | De Nora Elettrodi Spa | Cella di elettrolisi per il ripristino della concentrazione di ioni metallici in processi di elettrodeposizione |
| DE102010044551A1 (de) * | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Coventya Gmbh | Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad |
| CN104894633A (zh) * | 2015-05-22 | 2015-09-09 | 北京中冶设备研究设计总院有限公司 | 一种连续电镀镍溶液供给装置 |
| CN104947173A (zh) * | 2015-05-22 | 2015-09-30 | 北京中冶设备研究设计总院有限公司 | 一种提高连续电镀镍镀液pH值的装置与方法 |
| US9920448B2 (en) * | 2015-11-18 | 2018-03-20 | Applied Materials, Inc. | Inert anode electroplating processor and replenisher with anionic membranes |
| CN112714803B (zh) * | 2018-08-27 | 2022-11-08 | 叶涛 | 不溶性阳极酸性电镀铜的镀液生产和再生工艺及装置 |
| US11339483B1 (en) | 2021-04-05 | 2022-05-24 | Alchemr, Inc. | Water electrolyzers employing anion exchange membranes |
| CN113463156B (zh) * | 2021-07-23 | 2022-09-20 | 中国科学院青海盐湖研究所 | 一种氢氧化镁膜层及其制备方法与系统 |
| WO2024078627A1 (fr) * | 2022-10-14 | 2024-04-18 | 叶涛 | Procédé et appareil d'optimisation de processus de placage de cuivre anodique insoluble intégré à la dissolution de cuivre électrolytique |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2479856A1 (fr) * | 1980-04-04 | 1981-10-09 | Electricite De France | Installation de traitement de surface par depot metallique et procede de regeneration des bains de depot metallique par voie electrolytique |
| JPH01316499A (ja) * | 1988-06-16 | 1989-12-21 | Deitsupusoole Kk | アルカリ型のニッケル又はニッケル合金メッキにおけるニッケルイオンの供給方法 |
| JPH0270087A (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-08 | Nippon Kinzoku Co Ltd | 錫めっき方法および装置 |
| JPH02254200A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-12 | Electroplating Eng Of Japan Co | メッキ装置及びメッキ金属の補給方法 |
| EP0494434A2 (fr) * | 1991-01-09 | 1992-07-15 | Eltech Systems Corporation | Procédé de régénération des métaux dans les solutions aqueuses d'électrolyte |
| EP0508212A1 (fr) * | 1991-04-08 | 1992-10-14 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Procédé pour appliquer une couche de cuivre sur un fil d'acier |
| JPH04362199A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-15 | Nec Corp | 電気めっき装置 |
| JPH05302199A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-16 | Bridgestone Bekaert Steel Code Kk | 不溶性陽極を用いた銅めっき法における銅めっき浴の組成制御方法 |
| JPH06158397A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-07 | Asahi Glass Co Ltd | 金属の電気メッキ方法 |
| WO2000014308A1 (fr) * | 1998-09-08 | 2000-03-16 | Ebara Corporation | Dispositif de plaquage de substrats |
-
2000
- 2000-05-31 IT IT2000MI001207A patent/IT1318545B1/it active
-
2001
- 2001-05-30 AU AU2001262326A patent/AU2001262326A1/en not_active Abandoned
- 2001-05-30 WO PCT/EP2001/006161 patent/WO2001092604A2/fr not_active Ceased
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2479856A1 (fr) * | 1980-04-04 | 1981-10-09 | Electricite De France | Installation de traitement de surface par depot metallique et procede de regeneration des bains de depot metallique par voie electrolytique |
| JPH01316499A (ja) * | 1988-06-16 | 1989-12-21 | Deitsupusoole Kk | アルカリ型のニッケル又はニッケル合金メッキにおけるニッケルイオンの供給方法 |
| JPH0270087A (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-08 | Nippon Kinzoku Co Ltd | 錫めっき方法および装置 |
| JPH02254200A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-12 | Electroplating Eng Of Japan Co | メッキ装置及びメッキ金属の補給方法 |
| EP0494434A2 (fr) * | 1991-01-09 | 1992-07-15 | Eltech Systems Corporation | Procédé de régénération des métaux dans les solutions aqueuses d'électrolyte |
| EP0508212A1 (fr) * | 1991-04-08 | 1992-10-14 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Procédé pour appliquer une couche de cuivre sur un fil d'acier |
| JPH04362199A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-15 | Nec Corp | 電気めっき装置 |
| JPH05302199A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-16 | Bridgestone Bekaert Steel Code Kk | 不溶性陽極を用いた銅めっき法における銅めっき浴の組成制御方法 |
| JPH06158397A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-07 | Asahi Glass Co Ltd | 金属の電気メッキ方法 |
| WO2000014308A1 (fr) * | 1998-09-08 | 2000-03-16 | Ebara Corporation | Dispositif de plaquage de substrats |
| EP1029954A1 (fr) * | 1998-09-08 | 2000-08-23 | Ebara Corporation | Dispositif de plaquage de substrats |
Non-Patent Citations (6)
| Title |
|---|
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 014, no. 115 (C - 0696) 5 March 1990 (1990-03-05) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 014, no. 254 (C - 0724) 31 May 1990 (1990-05-31) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 014, no. 582 (C - 0792) 26 December 1990 (1990-12-26) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 017, no. 232 (C - 1056) 12 May 1993 (1993-05-12) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 018, no. 107 (C - 1169) 22 February 1994 (1994-02-22) * |
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 018, no. 490 (C - 1249) 13 September 1994 (1994-09-13) * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2001092604A2 (fr) | 2001-12-06 |
| ITMI20001207A0 (it) | 2000-05-31 |
| AU2001262326A1 (en) | 2001-12-11 |
| ITMI20001207A1 (it) | 2001-12-01 |
| IT1318545B1 (it) | 2003-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1458905B8 (fr) | Cellule d'electrolyse pour restaurer la concentration d'ions metalliques dans des procedes de galvanoplastie | |
| WO2005019501A3 (fr) | Procede thermique et electrochimique de production de metaux | |
| EP0841305A3 (fr) | Procédé et appareil pour la production d'eau électrolysée | |
| WO2007093395A3 (fr) | Procédé de production d'un désinfectant par activation électrochimique de l'eau, désinfectant ainsi produit et son utilisation | |
| Spitzer et al. | Selective electrochemical recovery of gold and silver from cyanide aqueous effluents using titanium and vitreous carbon cathodes | |
| WO2006053062A3 (fr) | Systeme d'electrodeposition d'un alliage d'etain | |
| CN201501929U (zh) | 一种氯化物体系线路版蚀刻液在线提取铜和蚀刻液回用的装置 | |
| WO2001092604A3 (fr) | Cellule d'electrolyse permettant de retablir la concentration en ions metal dans des processus de deposition electrolytique | |
| DE602007013578D1 (de) | Elektrochemisches verfahren zur rückgewinnung von metallchloridabfällen | |
| US4906340A (en) | Process for electroplating metals | |
| CA2372730A1 (fr) | Methode de phosphatation electrolytique | |
| DE59913824D1 (de) | Verfahren und Zelle zur elektrochemischen Herstellung von Alkalimetall aus Alkalimetallamalgam | |
| GB1293648A (en) | Addition of metal ions to electrolytic plating baths | |
| CN109097792A (zh) | 一种从低浓度含铜氰化贫液回收铜和氰化物的电解装置 | |
| USRE34191E (en) | Process for electroplating metals | |
| NO944446L (no) | Fremgangsmåte ved fremstilling av metall | |
| WO1995023880A1 (fr) | Traitement de solutions d'electrolytes | |
| JP2004269977A (ja) | めっき用不溶性陽極 | |
| Yoshimura et al. | Application of Packed Biopolar Cell to Electrolytic Treatment of Waste Waters,(In Japanese) | |
| USH1136H (en) | Electrolytic deposition and recovery of silver | |
| TH62987A (th) | อิเล็กโทรไลซิสเซลล์สำหรับการนำกลับคืนความเข้มข้นของโลหะไลออน ในกรรมวิธีการชุบด้วยไฟฟ้า | |
| WO2009013398A3 (fr) | Installation et procédé pour l'étamage électrolytique de bandes d'acier, mettant en oeuvre une anode insoluble | |
| Walsh | Understanding cathodes and cells | |
| Barker et al. | The Electrolytic Recovery of Nickel from Dilute Solutions | |
| Bieszczad et al. | Electrowinning of copper and lead from ammonium acetate solutions |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| AK | Designated states |
Kind code of ref document: A2 Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NO NZ PL PT RO RU SD SE SG SI SK SL TJ TM TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZW |
|
| AL | Designated countries for regional patents |
Kind code of ref document: A2 Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GW ML MR NE SN TD TG |
|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application | ||
| DFPE | Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101) | ||
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase | ||
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |