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WO2000043360A1 - Method for isolation of n-protected s-phenylcysteine - Google Patents

Method for isolation of n-protected s-phenylcysteine Download PDF

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WO2000043360A1
WO2000043360A1 PCT/JP2000/000274 JP0000274W WO0043360A1 WO 2000043360 A1 WO2000043360 A1 WO 2000043360A1 JP 0000274 W JP0000274 W JP 0000274W WO 0043360 A1 WO0043360 A1 WO 0043360A1
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WO
WIPO (PCT)
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salt
protected
phenylcysteine
group
base
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2000/000274
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuyoshi Ueda
Hiroshi Murao
Koki Yamashita
Koichi Kinoshita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Priority claimed from JP11013388A external-priority patent/JP2000186069A/ja
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
Priority to AU30753/00A priority Critical patent/AU3075300A/en
Priority to EP00900854A priority patent/EP1067119A4/en
Priority to US09/646,702 priority patent/US6320072B1/en
Publication of WO2000043360A1 publication Critical patent/WO2000043360A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/26Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C319/28Separation; Purification
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to N-protected-S-phenylcysteine represented by the following formula (1) [hereinafter, also referred to as N-protected-S-phenylcysteine (1). ] Is isolated.
  • N-protected S-phenylcysteine for example, N-benzyloxycarbonyl-S-phenyiL-cysteine, is described in W096 / 23756, EP604185A1, etc. As described, it is an important compound as a raw material for the production of HIV-protease inhibitors.
  • R 1 represents a protecting group for an amino group.
  • R 2 represents a hydrogen atom, or independently or together with R 1 , represents a protecting group for an amino group.
  • N-protected mono-S-phenylcysteine (1) can be prepared under the basic conditions, for example, by the formula (2) as described in Japanese Patent Application No. 10-26497.
  • R 1 and R 2 represent the same groups as described above.
  • X represents a leaving group.
  • N-protected-S-phenylcysteine (1) thus obtained can be prepared, for example, by adding an acid to a basic aqueous solution of N-protected-S-phenylcysteine to give N-protected-S-phenylcysteine.
  • Phenyl cysteine can be crystallized as a free acid and recovered. As such a method, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • 10-29773 discloses, for example, adding hydrochloric acid to an aqueous solution of N-benzyloxycarbonyl-1-S-phenylcysteine in sodium hydroxide to give N- A method for crystallizing benzyloxycarbonyl-S-phenylcysteine as a free acid is described.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method for easily and efficiently isolating N-protected mono-S-phenylcystine (1) with high yield and high quality.
  • the N-protected-S-phenylcysteine (1) when isolating N-protected-S-phenylcysteine (1), the N-protected-S-phenylcysteine is converted into a salt with a base in the presence of water. And isolating the N-protected-S-phenylcysteine.
  • salt with a salt group means that the hydrogen ion of the carboxylic acid portion of N-protected-S-phenylcysteine is a metal ion or ammonium. Means those substituted with cations such as pumion.
  • free or “free acid” as used in connection with N-protected S-phenylcysteine is used when N-protected S-phenylcysteine is bound to another basic compound.
  • a cation such as a metal ion or an ammonium ion present in a salt of an N-protected mono-S-phenylcysteine and a base is replaced with a hydrogen ion.
  • salting out refers to an aqueous solution of the salt of N-protected mono-S-phenylcystine with a base, and others. Means that the salt of the N-protected mono-S-phenylcysteine and the base is separated from the solution by coexisting the above substance (mainly an inorganic salt).
  • R 1 represents a protecting group for an amino group.
  • R 2 represents a hydrogen atom, or independently of or together with R 1 , represents an amino-protecting group.
  • the presence of an amino-protecting group in S-phenylcystine is an essential condition.
  • the protective group for the amino group is not particularly limited. Examples thereof include an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, and the like, and a protective 'groups' in' organic synthesis second edition (P ROTECT I VE GROUPS IN ORG ANIC SYNTHES IS 2nd Ed.) And John 'Willy & Sons (John Wi Ley & Sons), published (1991).
  • urethane-type protecting groups and acyl-type protecting groups capable of shielding the basicity of an amino group are preferably used.
  • protecting groups include benzyloxycarbo Examples include varnish groups, ethoxycarbonyl groups, methoxycarbonyl groups, tert-butoxycarbonyl groups, acetyl groups, tosyl groups, benzoyl groups, phthaloyl groups, and the like.
  • a 3-hydroxy-2-methylbenzoyl group which may be protected with a hydroxyl group or a hydroxy group, is also within the scope of selection.
  • a urethane-type protecting group is more preferred, and an aralkyloxycarbonyl group and a lower alkoxycarbonyl group are still more preferred.
  • a benzyloxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, and an ethoxycarbonyl group are preferable, and among them, a benzyloxycarbonyl group is more preferable.
  • N-protected S-phenylcysteine (1) is disclosed in WO 9263756, EP 604 185 As described in A1 and the like, it is an important compound as a raw material of an intermediate for producing an HIV-protease inhibitor.
  • N-protected S-phenyl cysteine (1) may be of an optically active form.
  • salting out can be carried out without using optically active substances, even if optically active substances are used.
  • the salt of N-protected S-phenylcysteine (1) with a base is not particularly limited, and examples thereof include lithium salt, sodium salt and potassium salt of N-protected S-phenylcysteine (1).
  • Metal salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts; and ammonium salts. Of these, metal salts are preferred, alkali metal salts are more preferred, and sodium salts are even more preferred.
  • the base used to convert N-protected S-funyurcystin (1) into a salt with a base is not particularly limited, and examples thereof include alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal bicarbonates. , Alkaline earth metal hydroxides, alkaline earth metal carbonates, ammonia and the like. Preferred are alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal bicarbonates. Specific examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, and the like. More preferably, it is sodium hydroxide.
  • N-protected S-phenylcysteine (1) To make a salt with a base, neutral to salt It is preferable to react N-protected mono-S-phenylcystine (1) with the above base under basic conditions.
  • the pH is specified, it is pH 7 or more, preferably pH 8 or more, more preferably pH 9 or more in consideration of the stability of the amino group-protecting group.
  • the reaction can be suitably carried out at around pH 9 to l1. If the pH is less than 7, conversion of the salt of N-protected-S-phenylcysteine with a base to free N-protected-S-phenylcysteine is not preferred.
  • the protecting group for the amino group is a protecting group such as a trifluoroacetyl group which has difficulty in stability under basic conditions, strong basic conditions, for example, conditions of pH HI 2 or more should be avoided. I like it.
  • the salting out is performed in the presence of water. Generally, it is carried out in an aqueous solution of N-protected-S-phenylcysteine (1). At this time, it is preferable to carry out the reaction under basic conditions in order to allow N-protected-S-phenylcystine (1) to exist as a salt with a base.
  • the aqueous solution may contain an organic solvent or the like as long as it has no adverse effect.
  • the organic solvent is not particularly restricted but includes, for example, acetates such as ethyl acetate and isopropyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene; aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane; methyl tert-butyl ether; Ethers such as di-n-butyl ether and tetrahydrofuran; alcohols such as methanol; ketones such as acetone and 2-butanone.
  • the presence of such an organic solvent makes it easy to dissolve and remove coexisting fat-soluble impurities.
  • the organic solvent may be present at the time of salting out, or may be added after the salting out has sufficiently proceeded.
  • inorganic salts are preferred.
  • the inorganic salt is not particularly limited, and includes, for example, alkali metal salts such as sodium chloride, sodium chloride, sodium sulfate and potassium sulfate; ammonium sulfate, ammonium chloride, calcium chloride and the like. Alkali metal salts are preferred for ease of use, and sodium chloride and sodium sulfate are more preferred.
  • the salt may be added to the system, or may be formed in the system by utilizing a neutralization reaction between an acid and a base.
  • the cation of the salt used for the salting-out is preferably the same as the cation in the salt of the N-protected mono-S-phenylcysteine and the base to be salted out.
  • the salts used for salting out are sodium chloride and sulfuric acid.
  • a sodium salt such as sodium is used, most preferably sodium chloride.
  • the amount of the salt used for the salting out depends on the kind of the salt used for the salting out, the kind of the salt of N-protected S-phenylcysteine and the base and the amount of the salt present, etc. Although not specified, it is preferable to use an amount sufficient for salting out with good yield. Specifically, it is preferable that the inorganic salt be present in an amount of about 5% by weight or more relative to water. The upper limit is generally the saturation concentration. For example, in the case of sodium chloride, usually, salting out can be suitably performed at about 5% by weight to a saturated concentration.
  • the concentration of the salt between N-protected S-fuunilcystin (1) and the base during salting out is not particularly limited, and is usually about 30% by weight or less based on water, and preferably about 5% by weight. -20% by weight.
  • a salt of N-protected S-phenylcysteine with a base and a salt used for salting out are used. However, it is preferable that both are operated so as to be present in an effective amount (an amount sufficient for salting) in the system. In this case, the salting out
  • the temperature at the time of salting out is not particularly limited.
  • the solidification temperature of the system to about 100. C, preferably in the range of about 0-60 ° C.
  • it can be suitably carried out in the range of about 10 to about 50 ° C.
  • a seed crystal may be added.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-29773 discloses a basic compound containing a salt (ie, sodium salt) of N-benzyloxycarbonyl-S-phenylcysteine with a base (that is, a sodium salt).
  • a salt ie, sodium salt
  • To 11 is acidified with hydrochloric acid to crystallize N-benzyloxycarbonyl-S-phenylcysteine as a free acid.
  • the concentration of sodium chloride in the basic aqueous solution is as low as less than 3% by weight, which is not sufficient as a condition for salting out.
  • the salt of N-benzyloxycarbonyl-S-phenylcysteine with a base ie, a salt of base
  • inorganic salt sodium chloride
  • Sodium salt is converted to the free acid, so that the salt of N-benzyloxycarbonyl-S-fuunilcysteine with the base is not salted out.
  • the method of the present invention may be used for the purpose of purifying free N-protected 1-S-phenylcysteine or a salt of N-protected 1-S-phenylcysteine with a base, It can be used as a salt for the purpose of separation from the reaction mixture and the like.
  • the salt of N-protected-S-phenylcysteine with a base is prepared under basic conditions and in an aqueous medium in which a sufficient amount of inorganic salt is present for salting out.
  • the salt of the N-protected mono-S-phenylcysteine and the base formed can be salted.
  • the coexistence of a seed crystal enables the formation of a salt of N-protected-S-phenylcysteine and a base and the rapid progress of salting out simultaneously.
  • a salt of N-protected mono-S-phenylcysteine and a base can be salted out from a reaction mixture containing impurities such as structurally similar compounds capable of forming a salt with a base. Impurities can be very efficiently removed to the aqueous phase and purified.
  • formula (2) Specifically, under basic conditions and in an aqueous medium in which an inorganic salt is present in an amount sufficient to cause salting, formula (2):
  • N-protected-S-phenylcystine is salted out from the reaction mixture as a salt with a base.
  • the N-protected S-phenylcysteine is driven out of the reaction field in the form of a salt with a base.
  • N-protected S-phenylcysteine which is not always stable under basic conditions, is protected from degradation, racemization, etc., and high-quality N-protected S-phenylcysteine is obtained in high yield.
  • the base, basic conditions, inorganic salts and the like used here are the same as those described above.
  • the leaving group representing X is not particularly limited, and may be, for example, a halogen atom such as chlorine, a C1-10 alkylsulfonyloxy group such as a mesyloxy group, or a C6-carbon atom such as a tosyloxy group.
  • a halogen atom such as chlorine
  • a C1-10 alkylsulfonyloxy group such as a mesyloxy group
  • a C6-carbon atom such as a tosyloxy group.
  • Examples thereof include an arylsulfonyloxy group having 10 carbon atoms, an aralkylsulfonyloxy group having 7 to 10 carbon atoms, an acetyloxy group, a trihaloacetyloxy group, and a phosphoryl group.
  • organic solvents eg, acetates such as ethyl acetate and isopropyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene; aliphatic solvents such as hexane and heptane) Hydrocarbons; ethers such as methyl tert-butyl ether, di-n-butyl ether, and tetrahydrofuran; methanol , Etc .; ketones such as acetone, 2-butanone, etc.
  • the organic solvent may be present at the time of salting out, or may be added after the salting out has sufficiently proceeded.
  • the salt of N-protected 1-S: r-nilcysteine and the base salted out by the method of the present invention can be recovered by a separation operation such as filtration.
  • the salt of the recovered N-protected-S-phenylcysteine and the base may be water [for example, preferably cold water or water containing a salt used for salting out (for example, aqueous sodium chloride solution)] or the organic solvent described above. It can be washed using an agent, and if necessary, a solvent such as water can be removed under normal pressure or reduced pressure.
  • the yield at the time of salting out is usually 80% or more, preferably 90% or more, and more preferably about 100%.
  • the thus obtained salt of N-protected 1-phenylcysteine and a base is neutralized with an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid to obtain free N-protected 1-phenylcysteine. be able to.
  • an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid
  • the organic solvent is not particularly restricted but includes, for example, acetates such as ethyl acetate and isopropyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene; ethers such as methyl tert-butyl ether, di-n-butyl ether and tetrahydrofuran. And the like. Needless to say, the neutralization with the acid can be carried out in the presence of the organic solvent. The resulting mixture of organic solvent and free N-protected-S-phenylcysteine (for example, a mixture of toluene and free N-protected-S-phenylcysteine) is further derivatized. (For example, an esterification reaction using an alcohol). BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
  • Figure 1 shows the obtained infrared absorption spectrum (KBr tablet) of the sodium salt of N-pentinoleoxy / reponii-S-feni / lei-L-cysteine obtained.
  • Figure 2 shows the free N-benzy / reoxycanoleponinole S-phenylamine L-cystine It is an infrared absorption spectrum (KBr tablet) of the product.
  • FIG. 3 shows the time-dependent changes in the sodium salt retention of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl_L-cysteine at 40 ° C.
  • FIG. 4 shows the solubility of the sodium salt of N ⁇ -benzyloxycarbonyl-l-S-phenyl-l-cysteine with respect to the concentration of sodium chloride.
  • Example 2 After dissolving 30.0 g of the wet crystals of the sodium salt of N-benzyloxycarbone-l-S-phenyl-l-cysteine obtained in Example 1 in 700 ml of water, the solution was dissolved at about 50 ° C. Water was distilled off under reduced pressure, and the mixture was concentrated to a liquid volume of 69.5 g to precipitate crystals. The precipitated crystals were separated by suction filtration and washed with 10 Om1 of water to obtain 208 g of wet crystals.
  • the entire amount of the obtained wet crystals is dissolved in water 6 O Oml, and water is distilled off under reduced pressure at about 50 ° C. Then, 1,000 ml of acetone was added to the oily substance obtained by concentrating the liquid to 209.5 g, and crystallization was carried out. The precipitated crystals were separated by suction filtration, and washed with acetone 2 O Oml to obtain 88.8 g of wet crystals.
  • Fig. 1 shows the infrared absorption spectrum (KBr tablet) of the obtained sodium salt of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-2-L-cysteine.
  • Fig. 2 shows the infrared absorption spectrum (KBr tablet) of free N-benzyloxycarbonyl S-phenylu L-cysteine.
  • FIG. 3 shows the change over time of the sodium salt residual ratio of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-2-L-cysteine at 40 ° C.
  • Table 1 summarizes the concentration of sodium chloride in water and the yield of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine.
  • the reaction solution slurry obtained in the same manner as in Example 3 was added to 14.22 g (containing 18.41 g as N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine) at about 25 ° C. C. With stirring and under a nitrogen atmosphere, add 17.44 g of concentrated hydrochloric acid (3.0 times the molar amount of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine) over 5 hours. It was added dropwise and adjusted to pH3. After stirring at the same temperature for 3 hours to sufficiently crystallize, the crystals were separated by suction filtration and washed with water to obtain 26.1 lg of wet crystals.
  • the crystals contained 18.19 g (crystallization yield: 99%) of N-benzyl xycarboninole S-phenyno-L-cysteine, and the apparent purity of HP LC was 74.8 area. %Met.
  • Example 3 To 45.34 g of the reaction solution slurry obtained in Example 3 (containing 18.73 g as N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine) was added 65 ml of tonolene to add tl, After stirring at about 40 ° C under a nitrogen atmosphere for 1 hour, crystals were separated by suction filtration. The obtained wet crystals were sequentially washed with toluene and a saturated aqueous solution of sodium chloride, and then dried under reduced pressure (1 to 3 OmmHg, 20 to 40 ° C, 20 hours) to obtain 21.96 g of crystals.
  • the crystals contained 9.67 g of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine sodium salt (crystallization yield: 99%), and the apparent purity of HP LC was 99. O area. 0 /. Met. Compared with the case where N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-l-cysteine was crystallized as a free acid (Comparative Example 1), the amount of impurities detected by HP LC was very small, and N-benzyl It can be seen that high-quality carbonyl-S-phenyl-L-cysteine can be obtained as a salt with a base.
  • sodium hydroxide 8.04 g (1.0% for N-benzyloxycarbonyl-S-phenylene L-cysteine)
  • To 90.89 g (pH HI 0.8) of the aqueous solution prepared above a part of the solution was sampled while adding sodium chloride, and the precipitated crystals were separated by filtration.
  • the weight% concentration (solubility) of the sodium salt of benzyloxycarbonyl S-phenylu L-cysteine was measured.
  • Figure 4 shows the solubility of the sodium salt of N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine with respect to the concentration of sodium chloride.
  • Aqueous solution prepared from 5.04 g of N-benzyl / le-S-phenylcysteine and 2.38 g of sodium hydroxide (1.0 times the molar amount of N-benzyl-S-phenylcysteine) 45.
  • To 52 g (pH 0.8) 9.71 g of sodium chloride (24% by weight to water) was added, and the mixture was stirred for 1 hour to precipitate crystals.
  • N-carbobenzyloxy S-phenyl-1-L-cysteine (N-benzyloxycarbonyl-S-phenyl-L-cysteine) produced during the reaction precipitates as a sodium salt, and the reaction system becomes a slurry.
  • About 20 g of concentrated hydrochloric acid was slowly added dropwise to the obtained slurry under a nitrogen atmosphere with vigorous stirring over 3 hours to adjust the pH of the slurry to 3.
  • the precipitated N-carbo-benzyloxy-S-phenyl-L-cysteine crystals were filtered under reduced pressure, washed twice with 100 ml of water, and sufficiently dehydrated to give N-carbobenzyloxy-S-phenyl.
  • the present invention has the above-mentioned constitution, it is possible to easily and efficiently isolate high-quality N-protected-S-phenylcysteine with high yield.

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Description

明 細 書
N—保護一 S—フユニルシスティンの単離方法 技術分野
本発明は、 下記式 (1) で表される N—保護一 S—フエニルシスティン [以下, N—保護一 S—フエニルシスティン (1) ともいう。 ] を単離する方法に関する。 N—保護一 S—フエニルシスティン、 例えば、 N—べンジルォキシカルボ二ノレ一 S—フエ二ルー L—システィンは、 W096/23 756号公報、 E P 604 1 85 A 1号公報等に記載されているように、 H I V—プロテアーゼ阻害剤の製造 中間体の原料として重要な化合物である。
Figure imgf000003_0001
式中、 R1は、 ァミノ基の保護基を表す。 R2は、 水素原子を表すか、 又は、 上 記 R1から独立して若しくは一緒になつてァミノ基の保護基を表す。 背景技術
N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) は、 例えば、 特願平 1 0— 2643 97号に記載されているように、 塩基性条件下、 式 (2) ;
Figure imgf000003_0002
(式中、 R1及び R2は、 上記と同じ基を表す。 Xは、 脱離基を表す。 )
で表される化合物をチォフユノールで処理する方法を用いて合成することができ る。 例えば、 N—ペンジノレオキシカ^^ボニ^^一 S—フエニノレシスティンは、 ァノレ カリ水溶液中で、 N—ベンジルォキシカルボ二ルー ]3—クロロアラニンをチオフ ェノールで処理することにより合成することができる。
このようにして得られた N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) は、 例えば, N—保護一 S—フエニルシスティンの塩基性水溶液に酸を添加することにより、 N—保護一 S—フエニルシスティンを遊離の酸として晶析させ回収することがで きる。 このような方法としては、 特開平 1 0— 2 9 9 7 3号公報に、 例えば、 N 一ベンジルォキシカルポニル一 S—フエニルシスティンの水酸化ナトリゥム水溶 液に塩酸を添加して、 N—べンジルォキシカルボ二ルー S—フエニルシスティン を遊離の酸として晶析させる方法が記載されている。 この方法は、 水に易溶な N 一べンジルォキシカルボニル一 S—フヱニルシスティンと塩基との塩 (この場合、 N—ペンジノレオキシカルボ二ルー S—フエ二ノレシスティンのナトリウム塩) を酸 性化することにより、 水に難溶な遊離の N—べンジルォキシカルボニル一 S—フ ェニルシスティンに変換するものである。 しかしながら、 同公報に記載されてい るように、 晶析時に遊離の N—べンジルォキシカルボニル一 S一フエニルシステ インがゲル化したり、 良好に結晶が成長しない等の問題があり、 また、 不純物と して共存する類縁化合物を精製除去しにくい等といった問題もあった。 このよう に、 N—保護一 S—フユニルシスティン (1 ) を遊離の酸として晶析させる既存 の方法は、 必ずしも有効な単離方法ではなかつた。 発明の要約
本発明は、 上記現状に鑑み、 N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) を、 簡 便且つ効率的に収量良く高品質で単離する方法を提供することを目的とするもの である。
すなわち、 本発明は、 N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) を単離するに 際して、 水の存在下で、 上記 N—保護一 S—フエニルシスティンを塩基との塩と して塩析させることからなる、 上記 N—保護一 S—フエニルシスティンの単離方 法である。
水に易溶である N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) と塩基との塩が、 水 の存在下で、 簡便且つ効率的に収量良く高品質で塩析できることは、 本発明者ら により初めて見いだされたものである。 以下、 本発明を詳述する。 発明の詳細な開示
本明細書において、 N—保護一 S—フエニルシスティンに関して使用する 「塩 基との塩」 なる語は、 N—保護一 S—フエニルシスティンのカルボン酸部分の水 素イオンが金属イオンやアンモニゥムイオンなどの陽イオンで置換されたものを 意味する。 また、 N—保護一 S—フヱニルシスティンに関して使用する 「遊離」 又は 「遊離の酸」 なる語は、 N—保護一 S—フエニルシスティンが他の塩基性化 合物と結合しておらず、 従って、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との 塩において存在する金属ィオンやアンモニゥムィオン等の陽ィオンが水素ィオン で置換された状態又はものを意味する。
本明細書において、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩に関して 使用する 「塩析」 なる語は、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩の 水性溶液に、 他の物質 (主として無機塩) を共存させることにより、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩を当該溶液から分離させることを意味する。 上記式 (1) において、 R1は、 ァミノ基の保護基を表す。 R2は、 水素原子 を表すか、 又は、 上記 R1から独立して若しくは一緒になつてアミノ基の保護基 を表す。
本発明の方法においては、 S—フエニルシスティンにァミノ基の保護基の存在 が必須条件である。
上記アミノ基の保護基としては特に限定されず、 例えば、 アルキル基、 ァラル キル基、 ァリール基等のほか、 プロテクティブ 'グループス 'イン 'オーガニッ ク ·シンセシス第 2版 (P ROTECT I VE GROUPS I N ORG A N I C SYNTHES I S 2 n d E d. ) 、 ジョン ' ウィリー .アンド ' サンズ (J OHN WI LEY&SONS) 出版 (1 99 1年) に記載されてい る保護基のなかから選ぶことができる。
N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) の更なる誘導化を考慮した場合には、 一般に、 ァミノ基の塩基性を遮蔽できるウレタン型保護基及びァシル型保護基が 好適に用いられる。 このような保護基の具体例としては、 ベンジルォキシカルボ ニスレ基、 エトキシカルボニル基、 メ トキシカルボニル基、 t e r t—ブトキシカ ルポニル基、 ァセチル基、 トシル基、 ベンゾィル基、 フタロイル基等を挙げるこ とができ、 さらに、 (3 S ) —テトラヒ ドロフラニルォキシカルボニル基、 ヒ ド 口キシル基が保護されていても良い 3—ヒ ドロキシー 2—メチルベンゾィル基等 も選択の範囲である。 なかでも、 ウレタン型保護基がより好ましく、 ァラルキル ォキシカルボ二ル基、 低級アルコキシカルボニル基が更に好ましい。 特に、 ベン ジルォキシカルボニル基、 t e r t—ブトキシカルボニル基、 メ トキシカルボ二 ル基、 エトキシカルボニル基が好ましく、 なかでも、 ベンジルォキシカルボニル 基がより好ましい。 なお、 ァミノ基の保護基がベンジルォキシカルボニル基であ る場合、 N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) は、 WO 9 6 2 3 7 5 6号 公報、 E P 6 0 4 1 8 5 A 1号公報等に記載されているように、 H I V—プロテ ァーゼ阻害剤の製造中間体の原料として重要な化合物である。
N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) は、 光学活性体のものであってもよ レ、。 本発明においては、 光学活性体を用いても光学純度の低下を伴うことなく塩 析を行うことができる。
N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) と塩基との塩としては特に限定され ず、 例えば、 N—保護一 S—フエニルシスティン (1 ) のリチウム塩、 ナトリウ ム塩、 カリウム塩等のアルカリ金属塩、 アルカリ土類金属塩等の金属塩;アンモ 二ゥム塩等を挙げることができる。 なかでも、 金属塩が好ましく、 アルカリ金属 塩がより好ましく、 ナトリウム塩が更に好ましい。
N—保護一 S—フユニルシスティン (1 ) を塩基との塩とするために使用する 塩基としては特に限定されず、 例えば、 アルカリ金属水酸化物、 アルカリ金属炭 酸塩、 アルカリ金属炭酸水素塩、 アルカリ土類金属水酸化物、 アルカリ土類金属 炭酸塩、 アンモニア等を挙げることができる。 好ましくは、 アルカリ金属水酸化 物、 アルカリ金属炭酸塩、 アルカリ金属炭酸水素塩である。 具体的には、 水酸化 ナトリウム、 水酸化カリウム、 水酸化リチウム、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム、 炭酸リチウム、 炭酸水素ナトリウム、 炭酸水素カリウム等を挙げることができる。 より好ましくは、 水酸化ナトリウムである。
N—保護一 S—フエニルシスティン ( 1 ) を塩基との塩とするには、 中性〜塩 基性条件下で、 N—保護一 S—フエニルシスティン ( 1 ) と上記塩基とを反応さ せることが好ましい。 p Hで規定すると、 アミノ基保護基の安定性を考慮して、 p H 7以上であり、 好ましくは p H 8以上、 より好ましくは p H 9以上である。 一般には p H 9〜l 1付近で好適に反応を行わせることができる。 p Hが 7未満 であると、 N—保護一 S—フエエルシスティンと塩基との塩から、 遊離の N—保 護一 S—フエニルシスティンへの変換が生じるので好ましくない。 また、 ァミノ 基保護基がトリフルォロアセチル基等の、 塩基性条件下で安定性に難がある保護 基の場合には、 強塩基性条件、 例えば、 p H I 2以上の条件を避けることが好ま しい。
本発明において、 塩析は、 水の存在下で行われる。 一般には、 N—保護— S— フエニルシスティン (1 ) の水溶液において行われる。 この際、 N—保護— S— フエニルシスティン (1 ) を塩基との塩として存在させるために、 塩基性条件下 で実施することが好ましい。
上記水溶液には、 悪影響のない範囲で有機溶剤等を含ませてもよい。 この有機 溶剤としては特に限定されず、 例えば、 酢酸ヱチル、 酢酸イソプロピル等の酢酸 エステル類; トルエン等の芳香族炭化水素類;へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭 化水素類; メチル t e r t—ブチルエーテル、 ジ n—ブチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン等のェ一テル類;メタノール等のアルコール類;ァセトン、 2—ブタ ノン等のケトン類等を挙げることができる。 このような有機溶剤を存在させるこ とにより、 共存する脂溶性不純物を溶解除去しやすくすることができる。 上記有 機溶剤は、 塩析時に存在させてもよいし、 塩析が充分進行した後に添加してもよ い。
N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩を塩析させるためには、 別途、 他の塩を存在させる必要がある。 このような塩としては無機塩が好ましレ、。 無機 塩としては特に限定されず、 例えば、 塩化ナトリゥム、 塩化力リゥム、 硫酸ナト リウム、 硫酸カリウム等のアルカリ金属塩;硫酸アンモニゥム、 塩化アンモ-ゥ ム、 塩化カルシウム等を挙げることができる。 使用の容易さから、 アルカリ金属 塩が好ましく、 塩化ナトリウム、 硫酸ナトリウムがより好ましい。 なかでも、 安 価であること、 取り扱い易さ、 廃水処理の容易さ、 N—保護一 S—フエニルシス ティンと塩基との塩の塩析効果、 得られる塩の性状等の観点から、 塩化ナトリウ ムが最も好適に用いられる。 上記塩は、 系中に添加しても良く、 また、 酸と塩基 の中和反応を利用して、 系中で形成させても良い。
また、 上記塩析のために用いる塩の陽イオンは、 塩析する N—保護一 S—フエ ニルシスティンと塩基との塩における陽イオンと同種のものであることが好まし レ、。 例えば、 N—べンジノレォキシカノレボニノレー S—フエ二ノレシスティンを用いる 場合、 ナトリウム塩として塩祈させることが好ましいが、 この場合、 塩析のため に用いる塩は、 塩化ナトリゥム、 硫酸ナトリゥム等のナトリゥム塩を用いるのが 好ましく、 塩化ナトリウムを用いるのが最も好ましい。
上記塩析のために用いる塩の使用量としては、 塩析に用いる塩の種類、 N—保 護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩の種類やその存在量等に依存するため 一律に規定できないが、 収量良く塩析させるに充分な量を用いることが好ましい。 具体的には、 水に対する無機塩濃度として、 約 5重量%以上存在させるのが好ま しい。 上限は、 一般に、 飽和濃度である。 例えば、 塩化ナトリウムの場合、 通常、 約 5重量%〜飽和濃度で好適に塩析を行うことができる。
塩析時の N—保護一 S—フユニルシスティン (1 ) と塩基との塩の濃度として は特に限定されず、 通常、 水に対して約 3 0重量%以下であり、 好ましくは、 約 5〜2 0重量%の範囲である。
N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩を簡便且つ効率的に塩析させ るためには、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩及び塩析のために 用いる塩が、 共に、 有効量 (塩祈させるに充分な量) 系中に存在するように操作 するのが好ましい。 この場合、 塩析は、
i ) 上記無機塩の存在量を維持しつつ、 上記 N—保護— S—フエニルシスティン と塩基との塩の存在量を高める、
i i ) 上記 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩の存在量を維持しつ つ、 上記無機塩の存在量を高める、 又は
i i i ) 上記無機塩の存在量を高めるとともに、 上記 N—保護一 S—フエニルシ スティンと塩基との塩の存在量も高める
ことにより行われることが好ましい。 また、 塩析時の温度として特に限定されず、 例えば、 系の固化温度〜約 1 0 0 。Cであり、 好ましくは、 約 0〜6 0 °Cの範囲である。 特に、 約 1 0〜約 5 0 °Cの 範囲で好適に実施することができる。
また、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩がスムーズに塩析され にくい場合は、 種晶を共存させてもよい。
上述したように、 特開平 1 0— 2 9 9 7 3号公報には、 N—ベンジルォキシカ ルボニルー S—フエニルシスティンと塩基との塩 (即ち、 ナトリウム塩) を含有 する塩基性 (p H l 0〜1 1 ) の水溶液を塩酸で酸性化して、 N—ベンジルォキ シカルボ二ルー S—フエニルシスティンを遊離の酸として晶析させることが開示 されている。 しかしながら、 上記塩基性水溶液中の塩化ナトリウム濃度は 3重量 %に満たない程低く、 塩析させるための条件として充分ではない。 また、 酸性化 時においては、 その中和反応によって無機塩 (塩化ナトリウム) の存在量が高ま る以前に、 N—べンジルォキシカルボニル一 S—フエニルシスティンと塩基との 塩 (即ち、 ナトリウム塩) は遊離の酸に変換されるために、 N—ベンジルォキシ カルボ二ルー S—フユニルシスティンと塩基との塩が塩析されることはない。 本発明の方法は、 遊離の N—保護一 S—フエニルシスティン又は N—保護一 S 一フエニルシスティンと塩基との塩を精製する目的や、 N—保護一 S—フエニル システィンを塩基との塩として反応混合物から分離する目的等に使用することが できる。
このようなことを目的として、 例えば、 塩基性条件下でかつ塩析させるに充分 な量の無機塩が存在する水性媒体中で、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩 基との塩を形成させると同時に、 形成された N—保護一 S—フエニルシスティン と塩基との塩を塩祈させることができる。 この場合も、 種晶を共存させることに より、 N—保護— S—フエニルシスティンと塩基との塩の形成と同時進行の速や かな塩析が可能になる。
また、 塩基性条件下の反応で N—保護一 S—フエニルシスティンを合成すると 同時に、 得られた N—保護一 S—フエニルシスティンを塩基との塩として反応混 合物から塩析させることができる。 この方法は、 塩基性条件下で必ずしも安定で はない N—保護— S—フエニルシスティンの分解、 ラセミ化等を防護できるので、 N—保護一 S—フエニルシスティンの収率及び 又は品質の向上に資することが できる。 更には、 塩基との塩を形成し得る構造類似化合物等の不純物を含有する 反応混合物から、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩のみを塩析さ せることもできるので、 上記の不純物を非常に効率良く水相に除去し、 精製する ことができる。
具体的には、 塩基性条件下でかつ塩祈させるに充分な量の無機塩が存在する水 性媒体中で、 式 (2 ) ;
Figure imgf000010_0001
(式中、 1^及び1¾ 2は、 上記と同じ基を表す。 Xは脱離基を表す。 )
で表される化合物をチォフエノールで処理して N—保護一 S—フエニルシスティ ンを得ると同時に、 得られた N—保護一 S—フエニルシスティンを塩基との塩と して反応混合物から塩析させる (即ち、 N—保護一 S—フエニルシスティンを塩 基との塩の状態で反応場から追い出す) ことができる。 これにより、 塩基性条件 下で必ずしも安定ではない N—保護— S—フエニルシスティンは分解、 ラセミ化 等から防護され、 高品質の N—保護— S—フエニルシスティンが高収率で得られ る。 なお、 言うまでもなく、 ここで使用する塩基、 塩基性条件、 無機塩等は、 上 述したものと同様である。
ここで、 Xを表す脱離基としては特に限定されず、 例えば、 塩素等のハロゲン 原子、 メシルォキシ基等の炭素数 1〜 1 0のアルキルスルホニルォキシ基、 トシ ルォキシ基等の炭素数 6〜 1 0のァリールスルホニルォキシ基、 炭素数 7〜1 0 のァラルキルスルホニルォキシ基、 ァセチルォキシ基、 トリハロアセチルォキシ 基、 ホスホリル基等を挙げることができる。
品質向上を目的とする塩析に際しては、 上述したように、 有機溶剤 (例えば、 酢酸ェチル、 酢酸ィソプロピル等の酢酸エステル類; トルエン等の芳香族炭化水 素類;へキサン、 ヘプタン等の脂肪族炭化水素類; メチル t e r t—ブチルエー テル、 ジ n—ブチルェ一テル、 テトラヒ ドロフラン等のエーテル類; メタノール 等のアルコール類;アセトン、 2—ブタノン等のケトン類等) を存在させること により、 共存する脂溶性不純物を溶解除去することができる。 特に、 反応晶析等 の反応混合物からの塩折の場合に有効である。 上記有機溶剤は、 塩析時に存在さ せてもよいし、 塩析が充分進行した後に添加してもよい。
本発明の方法により塩析した N—保護一 S—フ: rニルシスティンと塩基との塩 は、 例えば、 濾過等の分離操作により回収することができる。 回収した N—保護 —S—フエニルシスティンと塩基との塩は、 水 [例えば、 冷水や、 塩析に利用し た塩を含有する水 (例えば、 塩化ナトリウム水溶液) が好ましい] や上記有機溶 剤を用いて洗浄することができ、 更に必要に応じて、 常圧下又は減圧下で水等の 溶剤を除去することができる。 塩析時の収量は、 通常 8 0 %以上であり、 好まし くは 9 0 %以上、 より好ましくはほぼ 1 0 0 %が期待できる。
このようにして得られた N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩は、 塩酸や硫酸等の酸を用いて中和することにより、 遊離の N—保護一 S—フエニル システィンを得ることができる。 この遊離の N—保護一 S—フエニルシスティン を有機溶剤と混合することにより、 有機溶剤と遊離の N—保護一 S—フエニルシ スティンとの混合物を得ることができる。 上記有機溶剤としては特に限定されず、 例えば、 酢酸ェチル、 酢酸イソプロピル等の酢酸エステル類; トルエン等の芳香 族炭化水素類; メチル t e r t一ブチルエーテル、 ジ n—ブチルェ一テル、 テト ラヒ ドロフラン等のエーテル類等を挙げることができる。 言うまでもなく、 上記 酸による中和は上記有機溶剤の共存下に実施することもできる。 このようにして 得られる有機溶剤と遊離の N—保護一 S—フエニルシスティンとの混合物 (例え ば、 トルエンと遊離の N—保護一 S—フエニルシスティンとの混合物等) は、 更 なる誘導化 (例えば、 アルコールを用いるエステル化反応等) に使用することが できる。 図面の簡単な説明
図 1は、 得られた N—ペンジノレオキシ力/レポ二 — S—フエ二/レー L一システ インのナトリウム塩の赤外線吸収スペク トル (K B r錠剤) である。
図 2は、 遊離の N—ベンジ/レオキシカノレポニノレー S一フエ二ノレ一 L—システィ ンの赤外線吸収スぺク トル (KB r錠剤) である。
図 3は、 40°Cにおける、 N—べンジルォキシカルボ二ルー S—フエニル _ L —システィンのナトリゥム塩残存率の経時変化を示したものである。
図 4は、 塩化ナトリゥム濃度に対する N ^ンジルォキシカルボニル一 S—フ ェニル一L—システィンのナトリゥム塩の溶解度を示したものである。 発明を実施するための最良の形態
以下に実施例、 比較例、 参考例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、 本発 明はこれらのみに限定されるものではない。 なお、 以下の実施例等における S— フエニルシスティン誘導体の定量は、 UV検出器を備えた HP LCを用いて行つ た。
実施例 1
N—ペンジノレオキシカノレボニノレ一 S—フエニノレー L—システィン 13 7. 8 g に、 水 300mし 30重量0 /0水酸化ナトリウム水溶液 56. 4 g (N—べンジ ノレォキシカルボニル一 S—フエ二ルー L—システィンに対して 1. 0倍モル) を 加え、 ρΗ Ι Ο. 2に調整した。 この溶液を約 40°Cに加温下、 1時間攪拌して 澄明な溶液とした後、 塩化ナトリウム 73. 5 g (水に対して 22重量 °/o) を投 入し、 1時間攪拌を継続したところ、 結晶が析出した。 析出した結晶を吸引濾過 により濾別して、 N—べンジルォキシカルボニル一 S—フエ二ルー L—システィ ンのナトリウム塩の湿結晶 3 1 2. 2 gを得た。 HP LC分析した結果、 晶析収 率は 1 00 %であった。
参考例 1
実施例 1で得られた、 N—ベンジルォキシカルポ二ルー S—フエニル一L—シ スティンのナトリウム塩の湿結晶 3 1 0. 0 gを、 水 700m 1に溶解後、 約 5 0°C、 減圧下に水を留去し、 液量 6 1 9. 5 gまで濃縮し、 結晶を析出させた。 析出晶を吸引濾過により分離し、 水 1 0 Om 1で洗浄して、 湿結晶 208 gを得 た。
得られた湿結晶全量を、 水 6 O Om lに溶解し、 約 50°C、 減圧下に水を留去 し、 液量 209. 5 gまで濃縮して得られた油状物に、 アセ トン 1 000m lを 添加して晶析した。 析出した結晶を吸引濾過により分離し、 アセ トン 2 O Om l で洗浄して、 湿結晶 88. 8 gを得た。
更に、 水 40 Om 1に溶解後、 アセトン 2800m lを添加して晶析した。 析 出した結晶を吸引濾過により分離し、 アセトン 1 30 Om 1で洗浄した後、 減圧 乾燥 (l〜30mmHg、 20〜40°C、 20時間) して、 結晶 44. 5 gを得 た。 この結晶は、 N—ベンジルォキシカルボニル一 S—フエ二ルー L—システィ ンのナトリウム塩 43. 8 gを含有し、 純度は 98. 4重量% (遊離の N—ベン ジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L—システィンを基準と して HP LCに て定量し、 ナトリウム塩に換算) であった。
得られた N—ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L—システィンのナ トリウム塩の 40 OMH z核磁気共鳴スペク トル [重水、 3— (トリメチルシリ ル) —プロパンスルホン酸ナトリウム内部標準] は、 δ (p p m) : 3. 1 9 ( 1 H、 d d、 J = 8. 1、 1 3. 9 H z ) 、 3. 5 1 (1 H、 d d、 J = 3. 4、 1 3. 9 H z ) 、 4. 1 5 (1 H、 d d、 J = 3. 4、 8. 1 H z ) 、 4. 89 -5. 0 1 (2H、 AB q、 J = 1 2. 4Hz) 、 7. 2- 7. 4 (10H、 m ) であった。
得られた N—ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L—システィンのナ トリウム塩の赤外線吸収スペク トル (KB r錠剤) を、 図 1に示す。 対照として、 遊離の N—べンジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L—システィンの赤外線 吸収スぺク トル (KB r錠剤) を、 図 2に示す。 実施例 2
参考例 1で調製した、 N—ベンジルォキシカルボニル一 S—フエニル一 L—シ スティンのナトリウム塩の結晶 3 gを用い、 A:水 3 Om 1に溶解させたもの、 B : 20重量%塩化ナトリウム水溶液 30 m 1に懸濁させたもの、 にそれぞれ 3 重量%水酸化ナトリウム水溶液を添加して pH 9. 7に調整し、 40°C下で攪拌 した。 溶液の一部をサンプリングし、 HP LCにより N—ベンジルォキシカルボ 二ルー S—フエニル— L—システィンのナトリゥム塩濃度を測定し、 N—べンジ ルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L—システィンのナトリゥム塩の残存率を 追跡した。
図 3に、 40°Cにおける、 N—ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L —システィンのナトリゥム塩残存率の経時変化を示す。
この結果から、 塩基性条件下で不安定な N—ベンジルォキシカルボ二ルー S— フエ二ルー L—システィンのナトリゥム塩が、 塩析により安定化されることが判 る。 実施例 3
—クロロアラニン 7. 47 gを含有する水溶液 86. 1 98に、 約5°じ、 攪 拌下、 3◦%水酸化ナトリウム水溶液により p H 9. 7に保ちながら、 ベンジル ォキシカルボユルクロリ ド 1 1. 35 g (/3—クロロアラニンに対して 1. 1倍 モル) を 1時間かけて滴下して反応させた。 更に 3時間反応させて得られた反応 液をトルエン 5 Om 1で洗浄した。 洗浄後の反応液 89. 53 gは、 N—べンジ ルォキシカルボ二ルー 3—クロロアラニン 1 5. 52 g (収率 1 00%) を含有 していた。
この反応液 88. 27 g (N—べンジルォキシカルボ二ルー j3—クロロアラニ ン 1 5. 30 g含有) に塩化ナトリウム 1 3. 95 g (25重量%対水) を添加 し、 約 40°C、 攪拌、 窒素雰囲気下、 30%水酸化ナトリウム水溶液により p H 1 0付近に保ちながら、 チォフエノール 9 · 82 g (N—ベンジルォキシカルボ ニル一 ]3—クロロアラニンに対して 1. 5倍モル) を 1時間かけて滴下して反応 させた。 反応の進行と共に、 生成した N—ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエ 二ルー L一システィンがナトリゥム塩として析出し、 反応系はスラリーとなった。 20時間反応させて得られた反応液スラリー 148. 97 gは、 N—ベンジルォ キシカルボ二ルー S—フエ二ルー L一システィンとして 1 9. 21 g (反応収率 98%) を含有していた。 実施例 4
精製した N—ベンジルォキシカルボニル一 —クロロアラニン 5. 0 gに水 3 2 gを添加し、 A: 0 · 0 g (無添加) 、 B : 8. 0 g (濃度 25重量%対水) , の塩化ナトリウムをそれぞれ添加し、 約 40°C、 攪拌、 窒素雰囲気下、 30%水 酸化ナトリウム水溶液により pH 1 0付近に保ちながら、 チォフエノール 3. 2 g (N—ベンジルォキシカルボ二ルー ]3—クロロアラニンに対して 1. 5倍モル ) を 1時間かけて滴下して反応させた。 更に、 20時間反応させて得られた反応 液中の N—^ ンジ/レオキシカルボ二ルー S—フエニル一 L—システィン含量を定 量し、 収率を算出した。
表 1に、 水に対する塩化ナトリウムの濃度、 N—べンジルォキシカルボ二ルー S—フエニル一 L一システィンの収率をまとめる。
Figure imgf000015_0001
なお、 塩化ナトリウム無添加の場合 (A) では、 反応液はスラリー化せず、 塩 化ナトリウムを添加した場合 (B) では、 反応液はスラリー化した。
この結果から、 塩化ナトリウムを添加することにより、 生成した N—べンジル ォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L一システィンのナトリゥム塩の塩析を促進 して反応場から追い出し、 分解反応から効果的に防護できることが判る。 比較例 1
実施例 3と同様にして得られた反応液スラリー 1 4 1. 22 g (N—べンジル ォキシカルボニル一 S—フエ二ルー L一システィンとして 1 8. 4 1 g含有) に、 約 25°C、 攪拌、 窒素雰囲気下、 濃塩酸 1 7. 44 g (N—ベンジルォキシカル ボニルー S—フエニル— L—システィンに対して 3. 0倍モル) を 5時間かけて 滴下し、 pH3に調整した。 更に同温度で 3時間攪拌して充分に晶析を行った後 に、 吸引濾過により結晶を分離し、 水で洗浄して、 湿結晶 26. 1 l gを得た。 この結晶は、 N—べンジル才キシカルボニノレー S一フエ二ノレ一 L—システィン 1 8. 1 9 g (晶析収率 99%) を含有し、 HP L Cの見かけ純度は 74. 8 a r e a %であった。 実施例 5
実施例 3で得られた反応液スラリー 1 45. 34 g (N—ベンジルォキシカル ボニル一 S—フエニル一 L—システィンとして 1 8. 73 g含有) にトノレェン 6 5m lを添力 tlし、 約 40°C、 窒素雰囲気下、 1時間攪拌した後に、 吸引濾過によ り結晶を分離した。 得られた湿結晶をトルエン、 飽和塩化ナトリゥム水溶液で順 次洗浄した後、 減圧乾燥 (1〜3 OmmHg、 20〜40°C、 20時間) して、 結晶 2 1. 96 gを得た。 この結晶は、 N—べンジルォキシカルボ二ルー S—フ ェニルー L一システィンのナトリウム塩 1 9. 67 g (晶析収率 99%) を含有 し、 HP LCの見かけ純度は 99. O a r e a0 /。であった。 N—ベンジルォキシ カルボ二ルー S—フエニル一 L一システィンを遊離の酸として晶析した場合 (比 較例 1) と比較して、 HP LCで検出される不純物は極少量であり、 N—べンジ ルォキシカルボニル一 S—フエニル一 L—システィンを塩基との塩として高品質 で取得できることが判る。 実施例 6
N—べンジルォキシカルボニル一 S—フエニル一 L—システィン 20. 04 g、 水酸化ナトリウム 8. 04 g (N—ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L—システィンに対して 1. 0倍モル) より調製した水溶液 1 90. 89 g (p HI 0. 8) に、 塩化ナトリウムを添加しながら、 溶液の一部をサンプリングし、 析出した結晶を濾別して得られた濾液中の、 N—ベンジルォキシカルボ二ルー S —フエ二ルー L—システィンのナトリウム塩の重量%濃度 (溶解度) を測定した。 塩化ナトリゥム濃度に対する N—べンジルォキシカルボニル一 S—フエニル— L —システィンのナトリウム塩の溶解度を、 図 4に示す。 実施例 7
N—べンジノレ才キシカノレボニノレー S—フエ二/レー L—システィン 2. 05 g、 水酸化リチウム一水和物 0. 26 g (N—ベンジ /レオキシカ^^ボニ^^— S—フエ 二ルー L一システィンに対して 1. 0倍モル) を水 20m lに溶解した。 この溶 液に、 塩化リチウム 7. 08 g (35重量%対水) を添加して 1 0分間振とうし たところ、 結晶が析出した。 実施例 8
水 20 m 1に N—ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエニル一 L一システィン 2. 02 gを懸濁し、 完全に溶解するまで 28重量%アンモニア水溶液を添加し て、 p H9. 2の水溶液 21. 93 gを調整した。 この溶液に、 塩化アンモニゥ ム 1. O l g (5重量%対水) を添加して 10分間振とうしたところ、 結晶が析 出した。 実施例 9
N—べンジ /レー S—フエニルシスティン 5. 04 g、 水酸化ナトリウム 2. 3 8 g (N—ベンジル— S—フヱニルシスティンに対して 1. 0倍モル) より調製 した水溶液 45. 52 g (pHl 0. 8) に、 塩化ナトリゥム 9. 71 g (24 重量%対水) を添加して 1時間攪拌したところ、 結晶が析出した。 比較例 2
S—フエニル一 L一システィン 5. 1 2 g、 水酸化ナトリウム 3 · 55 g (S —フエニル一 L—システィンに対して 1. 0倍モル) より調製した水溶液 46. 85 g (p H 10. 8) に、 塩化ナトリウム 1 2. 29 g (30重量0 /0対水) を 添加したが、 S—フエニル一 L—システィンのナトリ ウム塩は塩析されず、 液性 状に変化は認められなかった。
以上の結果から、 本発明においては、 ァミノ基の保護基の存在が必須条件であ ることが判る。 比較例 3
S—フエニル一 L一システィン 4. 55 gを含有する水溶液 62. 3 1 gに、 約 25°C、 攪拌下、 30%水酸化ナトリウム水溶液により p H 1 1に保ちながら、 ベンジルォキシカルボユルクロリ ド 3. 94 g (S—フエニル一 L—システィン に対して 0倍モル) を 1時間かけて滴下し、 更に 1 2時間反応させた。 得ら れた反応液 67. 1 9 gは、 ρΗΙ Ο. 9であり、 N—ベンジルォキシカルポ二 ルー S—フエニル一 L—システィン 7. 1 2 g (濃度 1 0. 6重量0 /0、 収率 93 %) を含有していた。 反応液中の塩化ナトリウム濃度は 2. 7重量% (対水) で あった。 この反応液においては、 N—べンジルォキシカルボニル— S—フエニル — L—システィンのナトリゥム塩は塩析されなかった。 実施例 1 0
実施例 5で得られた、 N—ペンジノレオキシカルボ二ルー S—フエニル一 Lーシ スティンのナトリウム塩結晶 14. 98 g (純分 1 3. 42 g) に水 50mし トルエン 260m lを添加し、 約 40°C、 攪拌下、 濃塩酸にて p H 1. 8に調整 した。 分液により水層を除去し、 トルエン溶液 236. 65 gを得た。 このトル ェン溶液は、 N—ベンジルォキシカルボニル一 S—フエ二ルー L—システィン 1 2. 54 g (回収率 100%) を含有していた。
このトルエン溶液 235. 14 g (N—ベンジ /レオキシカルボ二ルー S—フエ二 ノレ一 L—システィン 1 2. 46 g含有) に p— トルエンスルホン酸 '一水和物 0. 66 gを添加し、 総量としてメタノール 25. 99 gを用いて、 還留下で水を共 沸脱水により系外に除去しながら 20時間反応させた後、 約 30°Cまで冷却して、 反応液 9 1. 99 gを得た。 この反応液は、 N—ベンジルォキシカルボ二ルー S 一フエニル一 L—システィンメチルエステル 1 2. 50 gを含有し、 収率 96% であった。 実施例 1 1
—クロ口一 L—ァラニン塩酸塩 1 5. 7 g (98. 1 mm o 1 ) を水 1 60 m lに加えて溶解させた。 内温を 0〜5°Cに冷却し、 強攪拌下、 30w t /o水酸 化ナトリウム水溶液約 36 gを滴下して p Hを 1 0に調整した。 内温を 0〜5°C に維持しながら、 強攪拌下、 クロロギ酸べンジル 20. 5 g (1 20. 0 mmo 1 ) を 1時間かけて滴下した後、 引き続き 4時間攪拌を続けた。 この間、 30w t %水酸化ナトリウム水溶液約 1 6 gを滴下して、 反応液の p Hを 9. 5〜10. 5に維持した。 得られた反応液中の N—カルボべンジロキシ一 |3—クロロー L— ァラニンの量を HP L Cで定量した結果、 25. 1 g (97. 5mmo l ) であ つた。
得られた反応液に窒素雰囲気下、 強攪拌下にチォフエノール 22. 0 g (20 0. 0 mm o 1 ) を滴下した。 この間、 30 w t %水酸化ナトリウム水溶液約 2 6 gを滴下して、 反応液の pHを 9. 7〜10. 3に維持した。 窒素雰囲気下、 内温を 50°Cに昇温し、 3. 5時間反応させた。 この間、 30w t %水酸化ナト リウム水溶液約 1 gを滴下して、 反応液の pHを 9. 7〜1 0. 3に維持した。 反応中生成した N—カルボべンジロキシー S—フエニル一 L一システィン (N— ベンジルォキシカルボ二ルー S—フエ二ルー L一システィン) がナトリ ウム塩と して析出し、 反応系はスラリーとなった。 得られたスラリーに窒素雰囲気下、 強 攪拌下に濃塩酸約 20 gを 3時間かけてゆつく り滴下し、 スラリーの pHを 3に 調整した。 析出した N—カ^^ボベンジロキシ一 S—フエ二ルー L—システィンの 結晶を減圧濾過し、 水 1 00m 1で 2回洗浄して充分に脱液し、 N—カルボベン ジロキシ一 S—フエ二ルー L—システィンの湿結晶 [N—カルボべンジロキシー S—フエ二ノレ一 L一システィンの純分量 29. 8 g (89. 9mmo l ) ] を得 た。 得られた N—カルボべンジロキシ— S—フエ二ルー L—システィンの光学純 度は、 99. 9 % e . e . であつた。 産業上の利用可能性
本発明は、 上述の構成からなるので、 簡便且つ効率的に収量良く高品質の N— 保護一 S—フエニルシスティンを単離することができる。

Claims

請 求 の 範 囲 下記式 (1 ) ;
Figure imgf000020_0001
(式中、 R 1は、 ァミノ基の保護基を表す。 R 2は、 水素原子を表すか、 又は、 前記 R 1から独立して若しくは一緒になつてアミノ基の保護基を表す。 ) で表される N—保護一 S—フエニルシスティンを単離するに際して、 水の存在下 で、 前記 N—保護一 S—フエニルシスティンを塩基との塩として塩析させること を特徴とする、 前記 N—保護一 S—フユニルシスティンの単離方法。
2 . 塩析は、 塩基性条件下に行われるものである請求項 1記載の単離方法。
3 . 塩析のために用いる塩が、 無機塩である請求項 1又は 2記載の単離方法。
4 . 無機塩は、 アルカリ金属塩である請求項 3記載の単離方法。
5 . 無機塩は、 塩化ナトリウム又は硫酸ナトリウムである請求項 4記載の単離 方法。
6 . 塩析のために用いる塩の陽イオンは、 塩析する N—保護一 S—フエニルシ スティンと塩基との塩における陽イオンと同種のものである請求項 1 2 3
4又は 5記載の単離方法。
7 . 無機塩は、 塩析させるに充分な量が用いられる請求項 3 4 5又は 6記 載の単離方法。
8 . 無機塩は、 水に対して 5重量。 /o以上の濃度で用いられる請求項 7記載の単 離方法。
9 . 無機塩の存在下における N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩 の塩析は、
i ) 前記無機塩の存在量を維持しつつ、 前記 N—保護一 S—フエニルシスティン と塩基との塩の存在量を高める、
i i ) 前記 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩の存在量を維持しつ つ、 前記無機塩の存在量を高める、 又は
i i i ) 前記無機塩の存在量を高めるとともに、 前記 N—保護一 S—フユニルシ スティンと塩基との塩の存在量も高める
ことにより行われるものである請求項 3、 4、 5、 6、 7又は 8記載の単離方法。
1 0 . 塩基性条件下でかつ塩祈させるに充分な量の無機塩が存在する水性媒体 中で、 N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩を形成させると同時に、 形成された N—保護一 S—フユニルシスティンと塩基との塩を塩析させる請求項 7、 8又は 9記載の単離方法。
1 1 . 塩基性条件下でかつ塩祈させるに充分な量の無機塩が存在する水性媒体 中で、 式 (2 ) ;
R2 0
、X
(式中、 R 1は、 ァミノ基の保護基を表す。 R 2は、 水素原子を表すか、 又は、 前記 R 1から独立して若しくは一緒になつてアミノ基の保護基を表す。 Xは、 脱 離基を表す。 )
で表される化合物をチオフェノールで処理して N—保護— S—フエニルシスティ ンを得ると同時に、 得られた N—保護一 S—フエニルシスティンを塩基との塩と して反応混合物から塩析させる請求項 1 0記載の単離方法。
1 2. 塩析は、 種晶を共存させて行われるものである請求項 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 1 0又は 1 1記載の単離方法。
13. 塩析時又は塩析後に有機溶剤を存在させて、 共存する脂溶性不純物を溶 解除去する請求項 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 10、 1 1又は 1 2記 載の単離方法。
14. 請求項 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 10、 1 1、 1 2又は 1 3記載の単離方法により取得した N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との 塩を酸で中和することにより、 遊離の N—保護一 S—フエニルシスティンを得、 次いで、 当該遊離の N—保護— S—フエニルシスティンを有機溶剤と混合するこ とを特徴とする、 有機溶剤と遊離の N—保護一 S—フエニルシスティンとの混合 物を取得する方法。
1 5. N—保護一 S—フエニルシスティンと塩基との塩は、 N—保護— S—フ ェニルシスティンの金属塩である請求項 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 10、 1 1、 1 2、 1 3又は 14記載の方法。
16. N—保護一 S—フエニルシスティンの金属塩は、 N—保護一 S—フエ- ルシスティンのアルカリ金属塩である請求項 1 5記載の方法。
1 7. N—保護— S—フエニルシスティンのアルカリ金属塩は、 N—保護一 S —フエニルシスティンのナトリゥム塩である請求項 1 6記載の方法。
18. ァミノ基の保護基は、 ウレタン型保護基である請求項 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 1 0、 1 1、 1 2、 1 3、 14、 1 5、 1 6又は 1 7記载 の方法。
1 9. ァミノ基の保護基は、 ァラルキルォキシカルボニル基又は低級アルコキ シカルボニル基である請求項 1 8記載の方法。
20. ァミノ基の保護基は、 ベンジルォキシカルボニル基、 t e r t—ブトキ シカルボニル基、 メ トキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基である請求項 1 9記載の方法。
2 1. ァミノ基の保護基は、 ベンジルォキシカルボニル基である請求項 20記 載の方法。
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