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WO1994018127A1 - Procede de production d'eau pure - Google Patents

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WO1994018127A1
WO1994018127A1 PCT/JP1994/000152 JP9400152W WO9418127A1 WO 1994018127 A1 WO1994018127 A1 WO 1994018127A1 JP 9400152 W JP9400152 W JP 9400152W WO 9418127 A1 WO9418127 A1 WO 9418127A1
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WO
WIPO (PCT)
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water
tower
raw water
pure water
treatment
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP1994/000152
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshinobu Obata
Nobuhiro Orita
Hiroshi Kurobe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
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Publication date
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Priority to US08/302,806 priority patent/US5571419A/en
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Priority to DE69415736T priority patent/DE69415736T2/de
Priority to EP94905834A priority patent/EP0634364B1/en
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing pure water (including ultrapure water), and in particular, it is possible to significantly reduce T 0 C (total organic carbon) in pure water to be produced from the present level. On the method of producing ultrapure water.
  • ultrapure water production equipment that produces ultrapure water from raw water such as city water, groundwater, industrial water, etc. basically consists of pretreatment equipment, primary pure water production equipment, and secondary pure water. It is composed of manufacturing equipment.
  • the pretreatment device is constituted by a coagulation, pressure flotation, and filtration device.
  • the primary pure water production system consists of two reverse osmosis membrane separators and a mixed-bed ion exchanger, or an ion-exchange pure water reactor and a reverse osmosis membrane separator.
  • the pure water production device is composed of a low-pressure ultraviolet oxidation device, an ion exchange device, and an ultrafiltration membrane separation device.
  • Rin aggregation, pressure flotation, filtration equipment—first reverse osmosis membrane separator—second reverse osmosis membrane separator—mixed bed ion exchanger—primary pure water storage tank—low-pressure ultraviolet oxidation equipment Ion exchange equipment-ultrafiltration membrane separation equipment-ultrapure water
  • the ion exchange device is an anion exchange tower or a mixed bed type ion exchange tower, or an anion exchange tower and a mixed bed type ion exchange tower are arranged in series. It is a thing.
  • those that reduce the T0C component in the raw water by means such as separation, adsorption, and decomposition include reverse osmosis membrane separators, ion-exchange pure water units, and low-pressure units. It is a UV oxidation device.
  • the T 0 C reduction mechanism in each device is as follows.
  • Reverse osmosis membrane separator A filtration method using a reverse osmosis membrane, which removes ionizable and colloidal T ⁇ C.
  • Low pressure UV oxidation device emitted from low pressure UV lamp
  • the 1 8 5 nm of organic acid is found to by Ri T 0 C to ultraviolet decomposes C 0 2 or.
  • the decomposed organic matter is removed by the subsequent ion exchange resin. In particular, it is used for the decomposition of volatile organic substances.
  • raw water contains a urea component as one of the TOC components, but since this urea component is nonionic, it is removed by ion exchange treatment.
  • the urea removal rate by the reverse osmosis membrane separation device is low.
  • a high exclusion type reverse osmosis membrane separator generally used as two reverse osmosis membrane separators installed in a primary pure water production apparatus has an urea removal rate of about 60%.
  • urea cannot be decomposed by a low-pressure ultraviolet oxidizer.
  • tap water in Atsugi City, Kanagawa Prefecture, Japan contains about 30 PPb of urea, and two reverse osmosis membrane separators are installed as primary water purification equipment.
  • two reverse osmosis membrane separators are installed as primary water purification equipment.
  • This urea amount is about 1.5 ppb when converted to TOC, which accounts for about 50% of the TOC component of ultrapure water with 3 ppb of TOC.
  • Semiconductor cleaning wastewater is treated to produce ultrapure water, which is reused as semiconductor cleaning water.
  • the water quality of semiconductor cleaning wastewater is as follows. PH 2 to 4 Acid, Alkaline component Hydrochloric acid, Nitric acid, Sulfuric acid, Hydrofluoric acid ammonia
  • the first activated carbon adsorption treatment (removal of H 2 0 2 and a surfactant)
  • UV irradiation decomposition of T ⁇ C components
  • This process has the following disadvantages.
  • T0C TOC2 to 3 ppm
  • slime is generated in the first activated carbon when H202 in the raw water is removed.
  • the slime generated by the first activated carbon is carried into the reverse osmosis membrane treatment unit, causing slime contamination of the reverse osmosis membrane treatment unit, and stabilizing the reverse osmosis membrane treatment unit. Driving becomes difficult.
  • PA membrane which has a high rejection rate for alcohol, especially isopropyl alcohol, as the membrane (replacement membrane) of the reverse osmosis membrane treatment device (R0 device) ),
  • the PA membrane is not resistant to free chlorine, so oxidizing agents such as NaC0 are injected into the water supply to reduce slime contamination. It cannot be prevented.
  • the water recovery rate of the entire system is poor. In other words, since the maximum water recovery rate of the reverse osmosis membrane treatment device is 90%, the water recovery ratio of the entire device is 90% or less, and the openings of 10% or more are generated. .
  • the present invention solves the above-mentioned conventional problems, and efficiently removes the urea component in raw water, which has been difficult to remove in the past, to thereby purify pure water with significantly reduced T 0 C.
  • the purpose is to provide a method for producing pure water that can be produced.
  • Another object of the present invention is to provide a method for producing pure water having a remarkably low dissolved oxygen concentration.
  • the present inventor has proposed a urea-containing water An experiment was conducted in which sulfuric acid and an oxidizing agent were added to the mixture, and the mixture was heated to decompose urea.
  • Urea-containing water Water added to tap water in Atsugi City, Kanagawa Prefecture, Japan, so that the urea concentration of the urea is 500 ppb.
  • the types and amounts of P H and the oxidizing agent after addition of the acid are as follows.
  • Figure 9 shows the urea concentration after heating No. 4 PH4.5 and H202 with 10 ppm of calo.
  • the method for producing pure water of the present invention has been invented based on this experiment and other various experiments, and the raw water has a pH of 4.5 or less (preferably PH 2 to pH 3). ) In the presence of an oxidizing agent in the presence of an oxidizing agent. It is characterized by deionizing T ⁇ C components and then deionizing.
  • the acid ij is a persulfate (Na 2 S 208,
  • the heat decomposition treatment condition is 110 ° C or more, and it is preferable that the temperature is 120 to 170 ° C for 2 to 5 minutes.
  • it may be allowed to come into contact with the oxidation catalyst, but if a catalyst is not used, it is more preferable to keep the temperature at 130 to 150 ° C. Yes.
  • platinum is preferably supported on a carrier.
  • the T ⁇ C component in the obtained ultrapure water is high.
  • the urea in raw water which accounts for a large proportion, can be easily and efficiently thermally decomposed, and the ions generated by the decomposition can be more effectively removed by deionization. .
  • the raw water contains hydrofluoric acid, it is preferred to contact it with a weakly basic anion exchange resin to remove the hydrofluoric acid
  • FIG. 1 is a system diagram showing an embodiment of a method for producing primary pure water of the present invention.
  • FIG. 3 is a system diagram showing a method for producing ultrapure water according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a system diagram showing one embodiment of a method for producing primary pure water of the present invention.
  • FIG. 1 is a system diagram showing an embodiment of a method for producing primary pure water of the present invention.
  • FIG. 2 is a system diagram showing a method of producing a low T 0 C water according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a system diagram showing a method of producing ultrapure water according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a system diagram showing an embodiment of a method for producing ultrapure water according to the present invention.
  • Fig. 8 is a system diagram showing an embodiment of a method for producing ultrapure water according to the present invention.
  • FIG. 2 is a system diagram of an apparatus used in the method of the present invention.
  • FIG. 1 is a system diagram illustrating an embodiment of the method for producing primary purified water of the present invention.
  • Fig. 1 The method shown in Fig. 1 is an example in which the method of the present invention is applied to the processing method of the above-mentioned method (ii) out of the conventional methods, and the two-bed three-column method of the method (ii) is used.
  • the thermal decomposition treatment according to the present invention is employed between the treatment by the cation exchange column and the treatment by the decarbonation column of the ion exchange device.
  • the raw water is introduced from the pipe 11 into the flocculation / pressure flotation / filtration device 1 for treatment, and then introduced into the cationic exchange column 2 through the pipe 12. Then, the cation is exchanged, and then stored in the acid soft water tank 3 through the pipe 13.
  • the pH of the obtained acidic soft water is 3.0, and an oxidizing agent is added from the pipe 14 A to the water in the process of being introduced into the heat exchanger 4 via the pipe 14.
  • the mixture is further heated by a heater 5 equipped with a boiler 5A, and introduced into the reaction tower 6 via a pipe 15. In the reaction tower 6, the contained urea and other T0C components are reduced.
  • the effluent from the reaction tower 6 is cooled by exchanging heat in the heat exchanger 4 via the pipe 16 and then passing through the decarbonation tower 7, the pipe 17, the anion exchange tower 8, and the pipe 18. After that, it is introduced into the reverse osmosis membrane separation device 9 c to produce primary pure water. Furthermore, the primary purified water is sent to the secondary purified water production equipment, where ions and other components generated by the decomposition are highly removed.
  • the thermal decomposition of urine and the like is carried out in the presence of an oxidizing agent in the presence of an oxidizing agent under an acidic condition of pH 4.5 or lower. If it is higher, the decomposition efficiency decreases. Even if the PH value is excessively low, the post-processing load increases, so it is usually preferable to set the PH value to about 2 to 3 o.
  • H 2 0 2 hydrogen peroxide
  • Pas one O key senior sulfate mosquito Li U beam K 2 S 2 0 8 persulfates such as is the use and ⁇ Ru this the Wear .
  • the addition amount of the oxidizing agent for H202 varies depending on the T0C of raw water and the power Q thermal decomposition temperature, but it is 10 to 20 mg / l of TOC lmg Zl of raw water. l is preferred.
  • persulfate As an oxidizing agent, and the amount of persulfate added is equivalent to T0 Clmg Zl of raw water. It is preferable to use about TO mg Zl.
  • the higher the thermal decomposition temperature the higher the decomposition efficiency may be.
  • it is preferable to set the operating temperature to 120 to 170 ° C, particularly to 130 to 150 ° C.
  • the thermal cracking is preferably carried out by catalytic cracking using a catalyst.
  • the catalyst to be used is a platinum-supported catalyst or a platinum plating catalyst. Platinum-based materials are preferred.
  • the method shown in FIG. 1 is an example in which the thermal decomposition step according to the present invention is employed in the method (ii), but the method of the present invention can also be employed in the method (i). .
  • the thermal decomposition process according to the present invention is installed before the two-stage reverse osmosis membrane treatment, and an acid such as sulfuric acid is added to the treated water of the coagulation / pressure flotation / filtration device [1. After adjusting the pH to 4.5 or less, adding an oxidizing agent and heating, decompose it by catalytic heating, recovering the treated water, cooling it to room temperature, and subjecting it to two-stage reverse osmosis membrane treatment. .
  • the thermal decomposition step according to the present invention is preferably provided in a primary pure water production apparatus.
  • FIG. 2 is a system diagram showing another preferred embodiment of the present invention.
  • Tap water of which the raw water to N a HS 0 3 of which the reducing agent ⁇ to remove residual chlorine, after mosquito thio-exchange process (2), and H 2 ⁇ 2 of which oxidizing agent is added The mixture is heated by the heat exchanger 4 and the heater 5 and introduced into the reaction tower 6.
  • the TOC component is decomposed.
  • the water from the reaction tower 6 is subjected to anion exchange treatment (8), decarboxylation treatment (7), and cation exchange treatment.
  • the acid is added to the water. It doesn't have to be.
  • Example 1 An example of operation of the apparatus shown in Fig. 2 is shown below as Example 1.
  • the tap water in Atsugi City was treated by the following treatment method using the equipment shown in Fig. 2, and the T0C of the ultrapure water obtained is shown in Table 1.
  • Example 1 The water removed from the cation exchange column (H-type resin-filled) had a pH of 3.0, so the acid did not add. ⁇ D of H 2 0 2 is 2 0 ppm, the thermal decomposition temperature that by the catalyst was 1 7 0. As the catalyst, a platinum-supported catalyst was used. 4 The specifications of each device used in Example 1 are as follows:
  • Anion exchange towers 8 and 9 b are identical to Anion exchange towers 8 and 9 b:
  • Reverse osmosis membrane separation device 9c Reverse osmosis membrane separation device 9c:
  • Low pressure UV oxidation device 9d SOW lamp (manufactured by PHOTO SCIENCE CO., LTD.), 1 ion exchange unit 9e:
  • Atsugi city tap water (TOC 590 ppb) was treated by the following treatment method, and the resulting ultrapure water T 0 C is shown in Table 1.
  • Vessels and elements are the same as in the first reverse osmosis membrane separator.
  • Example 1 As is clear from Table 1, in the method of Example 1 according to the present invention, not only the urea component in the raw water but also the components other than the urea component were used.
  • the T ⁇ C component is also efficiently decomposed and removed, and ultrapure water with remarkably low TOC is obtained.
  • Figure 3 is a system diagram of a primary pure water production system for treating semiconductor cleaning wastewater and reusing it as semiconductor cleaning water.
  • the semiconductor washing wastewater contains hydrofluoric acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, etc. in the wastewater in the weak anion exchange tower 22. Removed. In the next doctor, N a 2 S 2 0 8 ⁇ beauty H 2 S 0 4 force ⁇ !] Have been followed, pressurized Heat Te to the first heat exchanger 2 3 and the second heat exchanger 2 4 And stays in the reaction tower 29 (without catalyst) for 2 to 5 minutes. . 'This decomposes and removes the TOC component in the semiconductor cleaning wastewater.
  • the second heat exchanger 24 uses a steam heater 24a as a heating source.
  • the first heat exchanger 23 uses a hot water heater 23 a through which hot treated water extracted from the second heat exchanger 24 flows. It is.
  • the water to be treated taken out of the second heat exchanger 24 passes through the hot water heater 23a, is introduced into the tank 25, and is then passed to the tank 25.
  • Water is passed through the weak anion exchange tower 26, the strong thion exchange tower 27, and the strong anion exchange tower 28 to remove anions and cations. For example, N a 2 S 0, H 2 S 0, C 0, etc. unreacted N a 2 S 2 0 8 is removed.
  • the weak anion exchange tower 16 may be omitted, and the water from the tank 25 may be led directly to the strong ion exchange tower 27.
  • the system of Fig. 3 has the following advantages.
  • the water recovery rate is about 97%, about 8% higher than the conventional method of about 89%.
  • complete heat sterilization can be achieved by performing a heat treatment at 120 ° C. or higher in the second heat exchanger 14.
  • Example 2 An example of operation of the system in Fig. 3 is shown below as Example 2 and Examples 3 to 6.
  • the specifications of each device in these operation examples are as follows.
  • the processing was performed in the same manner as in Example 2.
  • the T ⁇ C concentration of the treated water is as follows.
  • T 0 C was significantly reduced by heating the treated water to 120 ° C or more after adding Na 2 S 208. It is clear what can be done.
  • FIG. 4 is a system diagram of the system of FIG. 3 in which the activated carbon tower and the first weak anion exchange tower 22 are omitted from the system of FIG.
  • the weak anion exchange tower 26 is installed in order to improve the efficiency of the regeneration using the ion exchange tower regenerated chemical (Na0H), but may be omitted.
  • a reverse osmosis membrane treatment device may be used instead of the ion exchange towers 26, 27, and 28.
  • Example 7 shows an operation example of the system in Fig. 4.
  • the specifications of each device used in the operation example are the same as those in the second embodiment.
  • the TOC of the water introduced into tank 25 was 3 ppb.
  • Fig. 5 shows a mixture of tap water and semiconductor cleaning wastewater treated with mP water.
  • P is a system diagram of a system for producing low T 0 C water.
  • An oxidizing agent (persulfate) is added to the mixed water, and the first heat exchange
  • FIG. 6 shows a system for producing ultrapure water by further processing the treated water obtained by the apparatus of FIG.
  • the treated water extracted from the reaction tower 33 is used for the first heat exchange. Heat is exchanged in the heater 31a of the heater 31 and cooled to near normal temperature.
  • This treated water passes through a reverse osmosis membrane separation device (R ⁇ ) 34 a and an ion exchange device 34 b to become primary purified water, and is stored in a tank 34 c. Then, the water is passed through the low-pressure ultraviolet oxidation device (UV) 35, the mixed-bed ion exchange tower 36, and the ultrafiltration membrane separation device (UF) 37 in this order to become ultrapure water.
  • the ion exchanger 34b is a mixed-bed ion exchanger or a two-column type (a strong thione exchanger and a strong anion exchanger installed in series). ) Is preferred.
  • a non-regenerative ion exchanger is suitable.
  • Example 8 shows an operation example of the system in FIG.
  • the specifications of the equipment used in this operation example are as follows.
  • Reverse osmosis membrane separator 34a Reverse osmosis membrane separator 34a:
  • Ion exchanger 3 4 b
  • FIG. 7 is a system diagram of a system in which T0C is decomposed by heating and dissolved oxygen is absent. The same reference numerals are given to the same parts as those in FIG.
  • a thermal exchange unit 3 1, 3 2 1 2 0 ⁇ 1 5 0 ° C The heat is heated to about 130 ° C, preferably, and the organic matter is decomposed in the reaction tower 33.
  • the water is degassed at a high temperature in a degassing tower 38 and then cooled in a heat exchanger 31.
  • This water is treated in a reverse osmosis membrane separator (preferably equipped with a PA membrane) 34a and then in a mixed-bed ion exchange tower 34b. And it becomes primary pure water.
  • This primary purified water is stored in a tank 34c, and then converted to a low-pressure ultraviolet oxidation unit 35, a mixed-bed non-regenerated ion exchange tower 36 and an ultrafiltration separator 37. It becomes ultrapure water when treated with.
  • T0C component is sufficiently decomposed by thermal decomposition, pure water of T0C2ppb or less can be obtained.
  • organic matter contamination of the membrane of the reverse osmosis membrane treatment apparatus is significantly reduced.
  • Example 9 shows an operation example of the system in Fig. 7.
  • the specifications of each device used in the ninth embodiment are as follows.
  • Reverse osmosis membrane separator 3 4 a Reverse osmosis membrane separator 3 4 a:
  • Second stage Permeate volume 20 liters / hour
  • the degree of vacuum in the tower is 24 mm H gabs (25 ° C) .
  • This primary purified water is treated with non-regenerated ion exchange resin and UF membrane after UV oxidation as in Example 8, and ultrapure water is Manufactured.
  • Table 4 shows the quality of the primary and ultrapure water. Table 4 shows that Example 9 produces pure water with remarkably low T 0 C and dissolved oxygen. Table 4
  • FIG. 8 is a system diagram showing a preferred system of the present invention. Water such as tap water or industrial water is supplied from the piping 41 to the raw water tank
  • semiconductor cleaning wastewater is supplied from a pipe 42 to a raw water tank 43.
  • the raw water in the raw water tank 43 is introduced into the first heat exchanger 46 via the raw water pump 44 and the pipe 45 and is heated.
  • the heated raw water is supplied to a second heat exchanger 48 via a pipe 47 and is further heated.
  • the raw water heated by the heat exchanger 48 is introduced into a third heat exchanger 50 via a pipe 49.
  • This third heat exchanger
  • the raw water is heated to 130 ° C.
  • reaction tower 52 is an empty tower, it may be filled with a catalyst such as a platinum-supported catalyst as needed. In reaction tower 52 As a result, the organic substances contained in the raw water are sufficiently decomposed. This decomposed water is introduced into the high-temperature degassing tower 55 via a pipe 53 and a pressure control valve 54.
  • a condensed water recovery unit 58 is connected to the upper part of the high-temperature degassing tower 55 via pipes 56 and 57. Nao, plumbing
  • Numeral 56 is connected to the heat source fluid side pipe of the first heat exchanger 46, and the gas extracted from the high temperature degassing tower 55 is supplied to the first heat exchanger 46. Flow through the heat source fluid side pipe and exchange heat with the raw water introduced from the pipe 45. The gas that has undergone heat exchange is condensed, collected by a condensed water recovery unit 58 through a pipe 57, and returned to the raw water tank 43.
  • the water degassed in the high-temperature degassing tower 55 is drawn out from the bottom cap of the degassing tower 55 via a pipe 62 and a pump 63, and The heat exchanger 48 is introduced to the piping on the heat source fluid side. After the heat exchange, the tank is connected via the pipe 64.
  • the water in this tank 65 is introduced into a reverse osmosis membrane separation device 68 via a pump 66 and a pipe 67 to be subjected to a reverse osmosis membrane separation treatment.
  • the concentrated water of the device 68 is taken out by a pipe 69 and discarded.
  • the permeated water of the device 68 is introduced into the tank 71 via the pipe 70, and further mixed via the pump 72 and the pipe 73. Introduced in 74.
  • the ion-exchanged water is introduced into a loose reverse osmosis membrane separation device (or ultrafiltration device) 76 via a pipe 75. .
  • a loose reverse osmosis membrane separation device is provided with a reverse osmosis membrane having a low salt rejection ratio of, for example, about 30 to 50%.
  • the concentrated water of this loose reverse osmosis membrane separation device 76 is
  • the permeated water of the device 76 is primary pure water, and is introduced into a primary pure water tank 79 via a pipe 78.
  • the primary pure water is introduced into a low-pressure ultraviolet irradiation device 82 via a pump 80 and a pipe 81 and subjected to ultraviolet irradiation.
  • This water is supplied to the non-renewable ion exchange tower via pipe 83.
  • the permeated water of the device 86 is supplied as ultrapure water to the use point via the piping 87.
  • the excess ultrapure water is returned from the device 86 to the primary pure water tank 79.
  • the concentrated water in the device 86 is discharged to the device via a pipe 88.
  • the mixed-bed ion exchange column 74 may be used as a reverse osmosis membrane separation device.
  • the reverse osmosis membrane separation device 68 and the mixed-bed ion exchange column 74 may be replaced.
  • a two-column system in which a cation exchange tower and an anion exchange tower are connected in series instead of the mixed-bed ion exchange tower 74 is used. May be used.
  • semiconductor cleaning wastewater is introduced into the raw water tank 43 together with tap water or industrial water. Only industrial water) and semiconductor cleaning wastewater may be introduced.
  • the tap water contains hardness components such as calcium and magnesium, and the semiconductor cleaning wastewater contains fluoride ion.
  • C a F-insoluble compound such as 2 that Ji life and the tap water and semiconductor cleaning wastewater you or or mixtures of it. Therefore, when mixing the tap water with the semiconductor washing wastewater, the tap water is brought into contact with a strongly acidic cation exchange resin in advance to remove the hardness, or the semiconductor washing wastewater is annealed. It is preferable to carry out deionized ion treatment by contacting with an ion exchange resin (for example, a weakly basic anion exchange resin having high regeneration efficiency). Of course, it is good to carry out the preliminary treatment for both sides. In addition, without performing such a pretreatment, after mixing the tap water and the semiconductor cleaning wastewater, the generated insoluble matter should be removed by filtration. May be good.
  • reaction tower 52 was not filled with the catalyst and the inside of the reaction tower was emptied, but the catalyst may be filled.
  • the pure water obtained from producing city water, groundwater, and industrial water as raw water can be obtained. This greatly reduces the T ⁇ C contained in the water and makes it possible to produce ultrapure water with extremely high purity. According to the present invention, dissolved oxygen in pure water can be reduced. According to the present invention, the system is simplified.

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Description

明 細 書
純 水 の 製 造 方 法
技術分野
本発明 は純水 (超純水を含む。 ) の製造方法に係 り 、 特に製造 さ れる純水中の T 0 C (全有機体炭素) を現状 よ り 大幅に低減化する こ と がで き る超純水の製造方法に 関す る 。
背景技術
I . 従来、 市水、 地下水、 工業用水等の原水か ら超純 水 を製造す る 超純水製造装置は 、 基本的 に 、 前処理装 置、 一次純水製造'装置及び二次純水製造装置か ら構成さ れる 。 こ の う ち、 前処理装置は、 凝集、 加圧浮上、 濾過 装置で構成 さ れる。 一次純水製造装置は、 2 基の逆浸透 膜分離装置及び混床式イ オ ン交換装置、 或いは、 イ オ ン 交換純水装置及び逆浸透膜分離装置で構成さ れ、 ま た、 二次純水製造装置は、 低圧紫外線酸化装置、 イ オ ン交換 装置及び限外濾過膜分離装置で構成さ れる 。
具体 的 に は 、 次の方式 i 又 は方式 i iが採用 さ れて い る 。
( i ) : 厘 —凝集 · 加圧浮上 · 濾過装置—第 1 逆浸透膜 分離装置—第 2 逆浸透膜分離装置—混床式ィ オ ン 交換装置—一次純水貯槽—低圧紫外線酸化装置一 ィ ォ ン交換装置—限外濾過膜分離装置—超純水
( i i ) : 原水—凝集 · 加圧浮上 · 濾過装置— ィ オ ン交換純 水装置 [ 2 床 3 塔式 ( カ チオ ン交換塔—真空脱気 塔又は脱炭酸塔—ァニオ ン交換塔) 又は 4 床 5 塔 式 (第 1 カ チオ ン交換塔—第 2 ァ ニオ ン交換塔— 真空脱気塔又は脱炭酸塔—第 2 カ チオ ン交換塔— 第 2 ァニオ ン交換塔) ]—逆浸透膜分離装置一一次 . 純水貯槽—低圧紫外線酸化装置—ィ ォ ン交換装置 —限外濾過膜分離装置—超純水
な お 、 上記において、 イ オ ン交換装置 と は 、 ァ ニオ ン 交換塔又は混床式イ オ ン交換塔、 或いは 、 ァ ニオ ン交換 塔 と 混床式イ オ ン交換塔 と を直列配置 し た も の である 。
こ れ ら の各装置単位にお いて、 原水中の T 0 C 成分を 分離、 吸着、 分解等の手段で低減化する も のは、 逆浸透 膜分離装置、 イ オ ン交換純水装置、 低圧紫外線酸化装置 である 。
各装置単位にお ける T 0 C低減化機構は次の通 り であ る 。
逆浸透膜分離装置 : 逆浸透膜を用 いた濾過法であ り 、 イ オ ン性、 コ ロ イ ド性の T 〇 C を除去する 。
低圧紫外線酸化装置 : 低圧紫外線ラ ン プ よ り 出 さ れる
1 8 5 n m の 紫外線 に よ り T 0 C を 有 機 酸 さ ら に は C 0 2 ま で分解する 。 分解された有機物は後段のイ オ ン 交換樹脂で除去する。 特に、 揮発性有機物の分解に用 い られる 。
し か し なが ら 、 上記従来の超純水製造装置に よ り 製造 さ れた超純水中 には、 T O C がなお 3 〜 5 p p b 程度存 在す る 。
こ の超純水中の T O C を更に低減する た めの方法 と し て、 逆浸透膜分離装置の多段設置、 低圧紫外線酸化装置 の紫外線照射量の増大 と い っ た手段が考え られる が、 本 発明者 ら の研究に よ り 、 以下の理由 に よ り 、 こ の よ う な 手段では得 られる超純水中の T 0 C を更 に低減す る こ と は で き な い こ と が確認さ れた。
即 ち 、 原水中 には T O C成分の 1 種 と し て、 尿素成分 が含有 さ れて いるが、 こ の尿素成分は非ィ オ ン性である た め 、 イ オ ン交換処理で は 除去す る こ と がで き な い上 に 、 逆浸透膜分離装置に よ る尿素の除去率 も低い。 例え ば、 一次純水製造装置において 2 基設置さ れる逆浸透膜 分離装置 と し て一般に使用 さ れる高排除型逆浸透膜分離 装置の尿素除去率は約 6 0 %程度である 。 し か も 、 尿素 は低圧紫外線酸化装置では分解で き な い。
こ の よ う に従来の超純水製造装置では尿素の除去が困 難で あ る が、 原水中 には少なか ら ぬ尿素が含有 さ れてお り 、 こ れが得 られる超純水中の T 0 C低減を阻む原因 と なる こ と 力 > ら 、 従来にお いては、 T 0 C の よ り 一層の低 減は図れなカゝつ た。
因 み に 、 日 本 国神奈川 県厚木市の水道水 に は約 3 0 P P b の尿素が含有さ れてお り 、 一次純水製造装置 と し て、 2 基の逆浸透膜分離装置を設ける前記方式 IIに よ り 処理を行な っ た場合であ っ て も 、 従来の超純水製造装置 では得 ら れる超純水中には約 8 p p b の尿素が検出 さ れ る 。 こ の尿素量は T O C に換算する と約 1 . 5 p p b と な り 、 T O C 3 p p b の超純水の T O C 成分の約 5 0 % を 占め る こ と と なる 。
II . 半導体洗浄排水を処理 し て超純水を製造 し 、 再び 半導体洗浄用水 と し て利用 する こ と が行なわれて いる 。
半導体洗浄排水の水質は次の通 り である 。 P H 2 〜 4 酸、 ア ル カ リ 成分 塩酸、 硝酸、 硫酸、 フ ッ 酸 ア ン モ ニ ア
T 0 C 3 p p m
T 0 C成分 イ ソ プ ロ ピ ル ア ル コ ー ル 、 メ タ
ノ ー ル 、 ア セ ト ン 、 界面活性剤 J
H 2 0 2 約 2 0 p p m
かかる半導体洗浄排水を処理する ため に、 次の フ ロ ー か ら な る処理が行なわれている 。
第 1 の活性炭吸着処理 ( H 202及び界面活性剤の除去)
1
弱 ァニォ ン交換樹脂に よ る処理
1
強力 チ オ ン交換樹脂に よ る処理
強ァ ニォ ン交換樹脂に よ る処理
i
逆浸透処理 ( T O C成分の分離) i
酸化剤 ( H 202 ) 添加
1
高圧紫外線 ( U V ) 照射 ( T 〇 C成分の分解
第 2 の活性炭吸着処理 (未反応 H202の除去)
強ァ ニオ ン交換樹脂に よ る処理
丄 処 理 水 こ の 処理 に よ り 、 T O C 成分の約 9 0 % を 除去 で き る
こ の処理 には次の短所がある。 @ 原水の T 0 C が高い ( T O C 2 〜 3 p p m ) の で、 原水中の H 2 0 2 が除去さ れる と 、 第 1 の活性炭 で ス ラ イ ム が発生する 。 ® 第 1 の活性炭で発生 し たス ラ イ ムが逆浸透膜処理装 置 に持ち込 まれ、 逆浸透膜処理装置のス ラ イ ム汚染を 引 き 起 こ し 、 逆浸透膜処理装置の安定運転が困難に な る 。
◎ 逆浸透膜処理装置 ( R 0 装置) の膜 ( メ ン プ レ ン ) と し て ア ル コ ール特にィ ソ ブロ ピルアル コ ールの排除 率が高いポ リ ア ミ ド膜 ( P A膜) を使用 し た場合、 こ の P A膜が遊離塩素に対 し て耐性を有 し な いの で、 給 水 に N a C 0 等の酸化剤を注入 し てス ラ イ ム 汚染を 防止す る こ と がで き ない。 '
@ 逆浸透膜処理装置の膜 と し て、 遊離塩素に対 し て耐 性の あ る C A膜 (酢酸セルロ ール膜) を用 い る と 、 ァ ル コ ー ルの排除率が低いため、 後設の U V 酸化装置の 負荷が大 き く な り 、 コ ス ト 高 と なる。
© 装置全体の水回収率が悪い。 即ち、 逆浸透膜処理装 置の水回収率が最大で も 9 0 % である た め、 装置全体 の水回収率は 9 0 %以下 と な り 、 1 0 %以上の 口.スが 生 じ る 。
Φ 設計時の水質よ り 原水水質が悪化 ( T 0 C の增大) し た場合に対応で き ない。
原水水質が悪化 し た場合、 高圧 U V ラ ン プ及び U V 酸化槽を増設する しか方法がない。 し カゝ し 、 高圧 U V ラ ン ブの増設には時間がかかる ため、 即応で き な い。 ⑧ 回収 シス テムが複雑である ため、 メ ン テナ ンス に多 犬な労力を要する 。
発明の開示
本発明 は上記従来の問題点を解決 し、 従来除去困難で あ っ た 原水中 の尿素成分を効率的 に除去す る こ と に よ り 、 T 0 C が著 し く 低減された純水を製造する こ と がで き る純水の製造方法を提供する こ と を 目 的 と す る 。
ま た 、 本発明は、 溶存酸素濃度が著 し く 低い純水の製 造方法を提供する こ と を 目 的 と す る。
こ の 目 的を達成する ために、 本発明者は 、 尿素含有水 に硫酸及び酸化剤を添加 し 、 加熱 し て尿素を分解す る実 験を行な っ た。
実験結果は次の通 り である。
尿素含有水 日本国神奈川県厚木市の水道水に尿素 を尿素濃度 5 0 0 p p b と な る よ う に 添力 D し た水。
加 熱 温 度 1 3 5 °C及び 1 5 5 °C
酸添加後の P H 、 酸化剤の種類及び量は次の通 り であ る 。
No. 1 P H 5 . 5 , K 2 S 2 0 8 を 2 0 p p m カロ
No. 2 P H 4 . 5 , K 2 S 2 0 8 を 2 0 P P m添カロ
No. 3 P H 5 . 5 , H 2 0 2 を 1 0 p p m添カロ
No. 4 P H 4 . 5 , H 2 0 2 を 1 0 p p m添カロ 加熱後の尿素濃度を図 9 に示す。
図 9 よ り 次の こ と 力 明 らかである。
即ち 、 P H 5 . 5 に調整 し た N 0 . 1 , 3 と P H 4 5 に調整 し た N o . 2 , 4 と の比較か ら 、 P H は 4 . 5 以下 に調整す る こ と に よ り 、 熱分解効率が向上する こ と がわ かる 。 更 に 、 いずれの場合において も温度は高い程、 熱 分解効率が高い こ と がわかる。
本発明の純水の製造方法は、 こ の実験や 、 その他の種 々 の実験に基づいて発明 さ れた も のであ り 、 原水を p H 4 . 5 以下 (好ま し く は P H 2 〜 3 ) の酸性下、 かつ、 酸化剤存在下で加熱分解処理 し て原水中の尿素及び他の T 〇 C 成分 を分解 し た後、 脱イ オ ン処理す る こ と を特徴 と す る 。
酸 ィヒ 斉 ij と し て は 、 過 硫 酸 塩 ( N a 2 S 2 0 8 ,
K 2 S 2 0 8 な ど ) や 、 過酸化水素が使 用 で き る が 、
N a 2 S 2 0 8 、 K 2 S 2 0 8 な どの過硫酸塩が好適で あ る 。
加熱分解処理条件は 1 1 0 °C以上で あ っ て 、 1 2 0 〜 1 7 0 °C で 2 ~ 5 分 と す る のが好 ま し い。 加熱分解処理 を行 な う と き に 、 酸化触媒 に接触 さ せて も 良 いが、 触媒 を 用 い な い場合は 1 3 0 〜 1 5 0 °C に保持す る のが よ り 好 ま し い。 触媒 と し て は 白金を担体 に担持 さ せ た も のが 好適 で あ る 。
本発 明 の方法 に よ れば、 従来の超純水製造装置で は 除 去 困 難 で あ り 、 従 来 に お い て 、 得 ら れ る 超 純 水 中 の T 〇 C 成分中 で高い割合を 占 める原水中の尿素を容易か つ効率的 に加熱分解 し 、 分解 に よ り 生成 し た イ オ ン を脱 イ オ ン処理 に よ り 効果的 に除去す る こ と がで き る 。
こ の た め 、 T 0 C 濃度が著 し く 低減 さ れ た超純水 を得 る こ と 力 s '可能 と さ れる 。
原水が フ ッ 化水素酸を含む場合、 弱塩基性ァ ニオ ン交 換樹脂 と 接触 さ せて フ ッ 化水素酸を除去す る のが好 ま し い
こ れ は 、 フ ッ 化水素酸 に よ る熱交換器の損傷 を 防 ぐ た め で あ る 。 上記の加熱分解処理後に高温脱気を行な う と 、' 純水中 の溶存酸素濃度を著 し く 低 く する こ と がで き る 。
図面の簡単な説明
図 1
本発明の一次純水の製造方法の一実施例方法を示す系 統図で ある 。
図 2
本発明の超純水の製造方法の一実施例方法を示す系統 図で あ る 。
図 3
本発明の一次純水の製造方法の一実施例方法を示す系 統図 で あ る 。
図 4
本発明の一次純水の製造方法の一実施例方法を示す系 統図で ある 。
図 5
本発明の低 T 0 C水の製造方法の一実施例方法を示す 系統図 で ある 。
図 6
本発明の超純水の製造方法の一実施例方法を示す系統 図である 。
図 7
本発明の超純水の製造方法の一実施例方法を示す系統 図であ る 。 図 8
本発明方法に用 い られる装置の系統図である 。
図 9
実験結果を示す グラ フ である 。
発明 を実施する ための最良の形態
以下に図面を参照 し て本発明の実施例 について詳細に 説明す る 。
図 1 は本発明の一次純水の製造方法の一実施例方法を 説明 する 系統図である。
'図 1 に 示 す方法は 、 従来の方法の う ち 、 前述の方式 ( i i )の処理方式に本発明の方法を適用 し た例であ り 、 方 式 (i i )の 2 床 3 塔式イ オ ン交換装置の カ チオ ン交換塔に よ る処理 と 脱炭酸塔に よ る処理 と の間 に 、 本発明 に お け る加熱分解処理を採用 し た も のである。
即ち、 本実施例の方法にお いては、 原水を配管 1 1 よ り 凝集 · 加圧浮上 · 濾過装置 1 に導入 し て処理 し た後、 配管 1 2 よ り カ チオ ン交換塔 2 に導入 し て カ チ オ ン交換 処理 し 、 次いで配管 1 3 よ り 酸性軟水槽 3 に貯留す る 。 得 られた酸性軟水の P H は 3 . 0 であ り 、 こ の水 に更に 配管 1 4 を経て熱交換器 4 に導入する過程で配管 1 4 A よ り 酸化剤を添加 し 、 熱交換器 4 にて、 後述の反応塔 6 の処理水 と 熱交換 し た後、 更にボイ ラ 5 A を備え る加熱 器 5 で加熱 し 、 配管 1 5 を経て反応塔 6 に導入す る 。 反 応塔 6 では 、 含有される尿素及びその他の T 0 C 成分が 効率的 に接触加熱分解 さ れる 。 反応塔 6 の 流出水 は 、 配 管 1 6 を経て熱交換器 4 に て熱交換 し て冷却 さ れた後、 脱炭酸塔 7 、 配管 1 7 、 ァ ニオ ン交換塔 8 、 配管 1 8 を 経て逆浸透膜分離装置 9 c に導入 さ れ、 一次純水が製造 さ れ る 。 更 に 、 一次純水 は 二次純水製造装置 に 送給 さ れ、 分解 に よ り 生成 し た イ オ ン 、 その他の成分が高度 に 除去 さ れ る 。
本 発 明 の 方 法 に お い て 、 尿 素 等 の 加 熱 分 解 は p H 4 . 5 以下の酸性下、 酸化剤の存在下で行 な われる が、 こ の P H 値力 s 4 . 5 よ り 高 い と 分解効 率が低下 す る 。 P H値 は過度 に低 く て も 後処理の負荷が高 く な る こ と か ら 、 通 常 の 場合 、 P H 2 〜 3 程度 で行 な う の が好 ま し い o
酸化剤 と し て は 、 過酸化水素 ( H 2 0 2 ) 、 パ 一 ォ キ シニ硫酸 カ リ ウ ム ( K 2 S 2 0 8 ) 等の過硫酸塩等 を 用 しヽ る こ と がで き る 。 H 2 0 2 の酸化剤の添加量は 、 原水 の T 0 C や 力 Q熱分解温度 に よ っ て も 異 な る が 、 原水の T O C l m g Z l 当 た り 、 1 0〜 2 0 m g / l 程度 と す る のが好 ま し い。
P H を 3 以下 と す る場合 に は 、 酸化剤 と し て過硫酸塩 を 用 い る の が好 ま し く 、 過硫 酸塩 の 添加量 は 、 原水 の T 0 C l m g Z l 当 た り T O m g Z l 程度 と す る のが好 ま し い 。
ま た 、 加熱分解温度は高い程分解効率 を高 め る こ と が で き 、 ま た、 酸化剤の使用量を低減で き る が、 1 2 0 〜 1 7 0 °C特に 1 3 0 〜 1 5 0 °C と するのが操作上好 ま し い
本発明 にお いて、 こ の加熱分解は、 触媒を用 い る接触 分解 と す る のが好ま し く 、 こ の場合、 用 いる触媒 と し て は、 白金担持触媒又は 白金メ ッ キ触媒等の 白金系の も の が好適で ある 。
図 1 に示す方法は、 本発明 に よ る加熱分解工程を前記 方式 ( i i ) に採用 し た例であるが、 本発明の方法は 、 前記 方式 (i ) に採用する こ と も で き る。 こ の場合 に は、 本発 明 に よ る 加熱分解工程を 2 段逆浸透膜処理の前段 に設 け、 凝集 · 加圧浮上 · 濾過装置の処理水に硫酸等の酸を 添力 [1 し て P H を 4 . 5 以下に調整 し 、 酸化剤 を添加 し て 加熱 し た後、 接触加熱分解 し 、 その処理水を熱回収 し て 常温 に冷却 し た後、 2 段逆浸透膜処理に供す る 。
いずれの方式において も 、 本発明に よ る加熱分解工程 は一次純水製造装置に設けるのが好ま し い。
図 2 は本発明の別の好適例を示す系統図である 。 水道 水な どの原水に N a H S 0 3 な どの還元剤を添力□ し て残 留塩素を除去 し、 カ チオ ン交換処理 ( 2 ) 後、 H 22 な どの酸化剤を添加 し 、 熱交換器 4 及び加熱器 5 で加熱 し 、 反応塔 6 へ導入する。 こ の反応塔 6 にお いて T O C 成分が分解 さ れる。 反応塔 6 からの水は、 ァ ニオ ン交換 処 理 ( 8 ) 、 脱炭 酸処理 ( 7 ) 、 カ チ オ ン 交 換 処 理 ( 9 a ) 、 ァ ニオ ン交換処理 ( 9 b ) 、 逆浸透膜分離装 置 ( 9 c ) 、 有機物分解の た め の 低圧紫外線照射装置.
( 9 d ) 、 分解 に よ り 生 じ た有機物イ オ ン を 除去す る た めの非再生型イ オ ン交換器 (混床式イ オ ン交換樹脂塔 ) 9 e に よ る処理及びイ オ ン交換器 9 e カゝ ら 流出 す る ィ ォ ン 交 換 樹脂 の微粒子 な ど を 分離 す る た め の 限外 濾過 器 9 f に よ る 処理を受け る 。
な お 、 カ チ オ ン交換塔 2 か ら取 り 出 さ れる 水は 、 カ チ オ ン 交換処理 に よ り p H 力 s 4 . 5 以下に な っ て い る の で 、 酸 を添加 す る に は及ばな い。
図 2 の装置の運転例 を実施例 1 と し て次 に示 す 。
実施例 1
厚木市の水道水を 図 2 の装置を 用 い、 下記処理方法 に よ り 処理 し 、 得 ら れた超純水の T 0 C を表 1 に示 し た 。
水道水 —還元剤 ( N a H S 0 3 ) 添加 — カ チ オ ン交換 塔 —反応塔— ァ ニ オ ン交換塔—脱炭酸塔— カ チ オ ン交 換塔 — ァ ニ オ ン交換塔—逆浸透膜分離装置—低圧紫外 線酸化装置— ィ オ ン交換装置—限外濾過膜分離装置— 超純水
な お 、 カ チ オ ン交換塔 ( H形樹脂充填) か ら 取 り 出 さ れ た 水 は P H 3 . 0 に な っ て い た の で 、 酸 は 添力□ し な カ つ た 。 H 2 0 2 の添力 D量は 2 0 p p m、 触媒 に よ る 熱 分解温度 は 1 7 0 と し た。 触媒 と し て は 白 金担持触媒 を 用 い た 。 4 こ の実施例 1 で用 い た各装置の仕様は次の通 り で あ る
カ チ オ ン交換塔 2 , 9 a :
直径 5 0 m m x 高さ 1 0 0 0 m m
三菱化成㈱製 「ダイ ヤイ オ ン S K N - 1 」
1 . 2 5 リ ッ ト ル充填
流量 2 5 リ ッ ト ル Z時間
ァ ニ オ ン交換塔 8 , 9 b :
直径 5 0 m m x 高さ 1 0 0 0 m m
三菱化成㈱製 「ダイ ヤイ オ ン S A N - 1 」
1 . 2 5 リ ッ ト ル充填
流量 2 5 リ ッ ト ル Z時間
脱炭酸塔 7 :
直径 5 0 m m x 高さ 2 5 0 0 m m
下部水槽容量 1 0 0 リ ッ ト ル
清浄空気送風機付
逆浸透膜分離装置 9 c :
ベ ッ セル 直径 5 0 m m x 長さ 1 2 0 0 m m
1 本
エ レ メ ン ト 日東電工㈱製
「 N T R 7 2 9 H F S 2 」 1 本 水回収率 8 0 %
透過水量 2 0 リ ッ ト ル 時間
低圧紫外線酸化装置 9 d : S O W ラ ン プ ( 日 本フ ォ ト サイ エ ン ス㈱製), 1 本 イ オ ン交換装置 9 e :
直径 5 0 m m x 高 さ 8 0 0 m m
ゲ ル型 カ チ オ ン 交 換樹脂 0 . 1 5 リ ッ ト ル及 び ゲル型ァニオ ン交換樹脂 0 . 3 5 リ ッ ト ルを混合 .充填
流量 2 0 リ ッ ト ル 時間
限外濾過膜分離装置 9 f :
ベ ッ セ ル 直径 2 5 m m x 長 さ 5 0 0 m m ,
1 本
エ レ メ ン ト 外圧型中空糸、 分画分子量 8 万,
1 本
水回収率 9 5 %
透過水量 1 9 リ ッ ト ル /時間
比較例 1
厚木市の水道水 ( T O C 5 9 0 p p b ) を下記処理方 法に よ り 処理 し 、 得 られた超純水の T 0 C を表 1 に示 し た。
水道水—限外濾過膜分離装置—第 1 逆浸透膜分離装置 —第 2 逆浸透膜分離装置— イ オ ン交換装置—低圧紫外 線酸化装置—ィ オ ン交換装置—限外瀘過膜分離装置— 超純水
こ の比較例 1 で用 い た各装置の仕様 は次の通 り で あ
O α 6 限外濾過膜分離装置 :
ポ リ スルホ ン平膜を波形支持板で ら せん状に巻い たモ ジ ュ ールを内蔵 し た除濁装置
第 1 逆浸透膜分離装置 :
ベ ッ セル 直径 5 0 m m x 長さ 1 2 0 0 m m ,
1 本
エ レ メ ン ト 日東電工㈱製
「 N T R 7 2 9 H F S 2 」 1 本 水回収率 8 0 %
透過水量 2 1 リ ッ ト ル Z時間
第 2 逆浸透膜分離装置 :
ベ ッ セ ル , エ レ メ ン ト は第 1 逆浸透膜分離装置 と 同 じ
水回収率 9 5 %
透過水量 2 0 リ ッ ト ル 時間
イ オ ン交換装置 :
直径 5 0 m m x 高さ 8 0 0 m m
ゲ ル型 カ チ オ ン交換樹脂 0 . 1 5 リ ッ ト ル及 び ゲル型ァニオ ン交換樹脂 0 . 3 5 リ ッ ト ルを混合 充填
流量 2 0 リ ッ ト ル 時間
低圧紫外線酸化装置 :
8 0 Wラ ンプ ( 日本フ ォ ト サイ エ ン ス㈱製), 1 本 限外濾過膜分離装置 : ベ ッ セ ル 直径 2 5 m m x 長さ 5 0 O m m
1 本
エ レ メ ン ト 外圧型中空糸、 分画分子量 8 万
1 本
水回収率 9 5 %
透過水量 1 9 リ ッ ト ル /時間
表 1
Figure imgf000019_0001
表 1 よ り 明 らかな よ う に、 本発明 に よ る実施例 1 の方 法では、 原水中の尿素成分のみな ら ず、 尿素成分以外の
T 〇 C 成分 も効率的 に分解除去さ れ、 著 し く T O C の低 い超純水が得 られる 。
図 3 は半導体洗浄排水を処理 し て半導体洗浄用水 と し て再利用 す る ための一次純水製造シ ス テ ム の系統図であ る 。
半導体洗浄排水は、 活性炭吸着塔 2 1 に て H 2 0 2 と 界面活性剤が除去された後、 弱ァニオ ン交換塔 2 2 にて 排水中の フ ッ 酸、 塩酸、 硝酸、 硫酸な どが除去さ れる 。 次 い で 、 N a 2 S 2 0 8 及 び H 2 S 0 4 力 添力!] さ れ た 後、 第 1 の熱交換器 2 3 及び第 2 の熱交換器 2 4 に て加 熱 さ れ 、 反応塔 2 9 (触媒 な し ) に て 2 〜 5 分滞留 す る 。 ' こ れ に よ り 、 半導体洗浄排水中の T 0 C 成分が分解 し 除去 さ れる 。 なお、 第 2 の熱交換器 2 4 は ス チ ー ム ヒ 一 夕 2 4 a を加熱源 と す る も の で あ る 。 第 1 の 熱交換器 2 3 は 、 第 2 の熱交換器 2 4 か ら取 り 出 さ れ る 熱い被処 理水が通水 さ れる 温水 ヒ ー タ 2 3 a を加熱源 と す る も の で あ る 。 第 2 の熱交換器 2 4 か ら取 り 出 さ れ た被処理水 は 、 こ の温水 ヒ ー タ 2 3 a を通 っ た後、 タ ン ク 2 5 に導 入 さ れ、 次 い で弱 ァ ニオ ン交換塔 2 6 、 強 力 チ オ ン交換 塔 2 7 及び強 ァ ニオ ン交換塔 2 8 に通水 さ れ、 ァ ニ オ ン 及 び カ チ オ ン が除去 さ れ る 。 例 え ば 、 N a 2 S 0 , H 2 S 0 , C 0 , 未反応 N a 2 S 2 0 8 な どが除去 さ れる 。 な お 、 弱 ァ ニ オ ン交換塔 1 6 を省略 し 、 タ ン ク 2 5 か ら の水を直接 に強力 チ オ ン交換塔 2 7 に導 い て も 良 い。
こ の 図 3 の シス テ ム に は次の長所力 あ る 。
① 水 回収率が高い。
水回収率約 9 7 % で あ り 、 従来法の約 8 9 % よ り 約 8 %高 レ、。
② 原 水 の 水 質 悪 化 ( T 0 C の 増 大 ) に 即 応 で き る 。
なぜな ら ば、 原水の水質が悪化 し た時 に は 、 酸化剤 の添加量を多 く す る こ と に よ り T O C の分解量を 多 く す る こ と がで き る 。 9
③ 生菌繁殖に よ る系内のス ラ イ ム汚染に よ る運転 ト ラ ブル な しヽ。
特に 、 第 2 の熱交換器 1 4 にお いて 1 2 0 °C以上に 加熱処理す る こ と に よ り 、 完全殺菌で き る 。
図 3 の シス テ ムの運転例を実施例 2 及び実施例 3 〜 6 と し て次に示す。 なお、 こ れ ら の運転例に お け る各装置 の仕様は次の通 り である。
活性炭塔 2 1 :
直径 5 0 m m x 高さ 1 5 0 0 m m
ク ラ レ ケ ミ カ ル㈱製 「 ク ラ レ コ ー ル G W 40/24」
2 リ ッ ト ル充填
流量 2 0 リ ッ ト ル Z時間
弱 ァ ニオ ン交換塔 2 2 :
直径 5 0 m m x 高さ 1 O O O m m
三菱化成㈱製 「 ダイ ヤイ オ ン W A 3 0 」
1 リ ッ ト ル充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
反応塔 2 9 :
直径 5 0 m m x 高さ 9 0 0 m m
空塔, 酸化触媒な し
滞留時間 5 分 (流量 2 0 リ ッ ト ルノ時間) 弱ァ ニオ ン交換塔 2 6 :
直径 5 O m m x 高さ 5 0 O m m
三菱化成㈱製 「 ダイ ヤ イ オ ン W A 3 0 J 0 . 7 リ ッ ト ル充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
強力 チオ ン交換塔 2 7 :
直径 5 O m m x 高さ 5 0 O m m
三菱化成㈱製 「 ダイ ヤイ オ ン S K N — 1 」
0 . 7 リ ッ ト ル充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
強ァ ニオ ン交換塔 2 8 :
直径 5 0 m m x 高さ 5 0 0 m m
三菱化成眯製 「ダイ ヤイ オ ン S A N - 1 」
0 . 7 リ ッ ト ル充填
流量 2 0 リ ッ ト ル 時間
実施例 2
原水の性状
P H 9 . 3
T 0 C 2 p p m
( イ ソ プロ ピルア ル コ ー ル 1 p p m , ア セ ト ン 0 . 5 p p m ,
メ タ ノ ール 0 . 5 p p m )
H F 2 p m
第 2 の熱交換器内の被処理水の温度 1 3 0 °C 第 2 の熱交換器内の被処理水の滞留時間 2 分
N a 2 S 2 0 e 添カ卩量 1 3 4 p p m (添加後の水中の N a 2 S 2 0 8 濃度)
H 2 S 0 4 添力!]量 2 0 p p m 2
(添加後の P H 4 . 5 )
こ の結果、 表 2 に も示す通 り 、 T O C 濃度力 s' 9 p p b の処理水が得 られた。
実施例 3 〜 6
第 2 の熱交換器 2 4 内 の被処理水の温度 を そ れぞれ 1 1 0 °C , 1 3 0 °C , 1 4 0 °C , 1 5 0 °C と し た こ と 以外は実施例 2 と 同様に し て処理を行な っ た。 処理水の T 〇 C 濃度は次の通 り である 。
表 2
Figure imgf000023_0001
表 2 カゝ ら 明 らかな通 り 、 N a 2 S 2 0 8 添加後、 被処 理水を 1 2 0 °C以上に加熱する こ と に よ り 、 T 0 C を著 し く 低下で き る こ と が明 らかである。
図 4 は 、 図 3 の シ ス テ ム において、 活性炭塔及び第 1 の弱 ァ ニ オ ン交換塔 2 2 を省略 し た場合の シ ス テ ム の系 統図で あ る 。
こ の シス テ ムでは、 原水 に レヽ き な り N a 2 S z 0 8 を 添加 し て いる 。 その他は図 3 と 同一である 。 弱 ァ ニ オ ン 交 換塔 2 6 は 、 イ オ ン 交換塔再生薬 品 ( N a 0 H ) に よ る再生の効率化を図る場合 に設置さ れ る が、 省略 し て も良い。
イ オ ン交換塔 2 6 , 2 7 , 2 8 の代わ り に逆浸透膜処 理装置を用 いて も良い。
こ の 図 4 の シス テ ム の長所は次の通 り で あ る 。
① ス ラ イ ム の発生、 ス ラ イ ム 汚染 を完全 に 防止 で き る 。
② 処理 フ ロ ー力' シ ン プル に な り 、 メ ン テ ナ ン スが容易 に な る 。
③ 装置全体の水回収率が約 9 7 %程度 と 極めて高い も の と なる 。 なお、 イ オ ン交換再生用水に約 3 % ロ ス す る 。
④ 原水の水質変動 ( T O C変動) に対 し て 、 酸化剤の 注入量を変える のみで対応で き る 。 なお 、 酸化剤の注 入量変更 に よ る イ オ ン量の増減は、 イ オ ン交換装置の 採水時間の変更に よ り 対応でき る。
実施例 7
図 4 の シ ス テ ム の運転例を実施例 7 に示す。 な 、 し の運転例 にお いて用 いた各装置の仕様は実施例 2 と 同 じ で ある 。
原水の性状
P H 3
T 0 C 3 p p m ( ィ ソ プロ ピルァ
ア セ ト ン 0 . 2
メ タ ノ ール 0 .
界面活性剤 1 P
H 2 0 2 2 0 p p m 反応塔 内 の被処理水の温度 1 3 0 °C 反応塔 内 の被処理水の滞留時間 5 分
N a 2 S 2 0 8 添力□量 1 8 〇 p p m
( 添加後の水中の N a 2 S 2 0 8 濃度 ) こ の 結 果 、 T 〇 C 濃 度 力≤ 2 P P b 、 比 抵 抗 1 3 M Ω c m の処理水が得 られた 。 なお 、 反応塔
ル p 25 2 9 力ゝ ら タ m π P 5
ン ク 2 5 に導入 さ れる 水の T O C は 3 p p b で あ っ た 。
) p P
図 5 は水道水 と 半導体洗浄排水 と の混合ル m P 水 を処理 し て
m, 1
低 T 0 C 水 を製造す る シス テ ム の系統図 で あ る P 。
P
混合水 に 酸化剤 (過硫酸塩) が添力 Q さ れ、 第 1 の熱交
m 換器 3 1 及び第 2 の熱交換器 3 2 に て加熱 さ れ た後 、 触 媒を充填 し な い反応塔 3 3 に通水 さ れる 。 第 2 の熱交換 器 3 2 は ス チ ー ム ヒ ー 夕 3 2 a を加熱源 と し 、 第 1 の熱 交換器 3 1 は反応塔 3 3 か ら取 り 出 さ れる 高温の被処理 水 が 通 水 さ れ る 温 水 ヒ ー タ 3 1 a を 力□ 熱 源 と し て い る 。 図 6 は 、 図 5 の装置で得 ら れる処理水 に対 し 、 さ ら に 処理 を施 し て超純水を製造す る た めの シ ス テ ム を示 し て い る 。 反応塔 3 3 か ら 取 り 出 さ れる 処理水は 、 第 1 の熱交換 器 3 1 の ヒ ー 夕 3 1 a で熱交換さ れて常温近 く ま で冷却 さ れ る 。 こ の 処 理 水 は 、 逆 浸 透 膜 分 離 装 置 ( R 〇 ) 3 4 a 、 イ オ ン交換装置 3 4 b を経て一次純水 と な り 、 タ ン ク 3 4 c に 貯留 さ れ 、 さ ら に 低圧紫外線 酸化装置 ( U V ) 3 5 、 混床式イ オ ン交換塔 3 6 及 び限外濾過膜 分離装置 ( U F ) 3 7 の順に通水 さ れて超純水 と な る 。 イ オ ン交換装置 3 4 b は、 混床式イ オ ン交換塔や 、 2 塔 式の も の ( 強 力 チ オ ン交換塔 と 強 ァ ニ オ ン 交換塔 を 直列 に設置 し た も の ) が好 ま し い。
混床式イ オ ン交換塔 3 6 と し て は 、 非再生型イ オ ン交 換器が好適で あ る 。
実施例 8
図 6 の シ ス テ ム の運転例 を 実施例 8 に 示 す 。 な お 、 こ の 運 転 例 に お い て 用 い た 装置 の 仕様 は 次 の 通 り で あ る 。
反応塔 3 3 :
直径 5 O m m x 高さ 9 0 O m m
空塔 , 酸化触媒な し
滞留時間 4 分 (流量 2 5 リ ッ ト ルノ時間 ) 逆浸透膜分離装置 3 4 a :
べ ッ セ リレ 直径 5 0 m m x 長 さ 1 2 0 0 m m ,
1 本
エ レ メ ン ト 日 東電工㈱製
「 N T R 7 2 9 H F S 2 」 1 本 水 回収率 8 0 %
透過水量 2 0 リ ッ ト ル /時間
イ オ ン 交換装置 3 4 b :
混床式 イ オ ン交換塔
直径 5 0 m m x 高 さ 1 0 0 0 m m
ゲ ル型 カ チ オ ン 交 換樹 脂 0 . 3 5 リ ッ ト ル 及 び ゲ ル型 ァ ニオ ン交換樹脂 0 . 6 5 リ ッ ト ル を混合 充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
低圧紫外線酸化装置 3 5 :
8 0 W ラ ン プ ( 日 本 フ ォ 卜 サ イ エ ン ス㈱製 ) 混床式 イ オ ン 交換塔 3 6 :
直径 2 5 m m x 高 さ 8 0 O m m
ゲ ル型 カ チ オ ン 交換樹脂 0 . 1 5 リ ッ ト ル及 び ゲル型 ァ ニオ ン交換樹脂 0 . 3 5 リ ッ ト ル を 混合 充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
限外濾過膜分離装置 3 7 :
ベ ッ セ ル 直径 5 0 m m x 長 さ 5 0 0 m m ,
1 本
エ レ メ ン ト 外圧型中空糸 、 分画分子量 8 万 ,
1 本
透過水量 1 9 リ ッ ト ル Z時間
被処理原水の性状 ( 曰 本国神奈川県厚木市の水道水 と半導体洗浄排水 と を : 1 の割合で混合 し た水) P H 5
T 0 C 1 . 5 p p m
( 内訳 : イ ソ プロ ピ ル ア ル コ ー ル 4 0 % 界面活性剤 1 0 % ア セ ト ン 1 0 % メ タ ノ ー ル 1 0 % 水道水中の有機物 3 0 % 運 転 条 件 反応塔内の水温 1 3 0 °C 反応塔内の滞留時間 4 分 酸化剤 K 2 S 28 酸化剤添加量 1 3 0 p p m
(添加後の水中の K 2 S 2 0 8 濃度) 硫酸添加量 3 8 p p m
(添加後の P H 3 ) 処理さ れた水の水質は次の通 り である 表 3
Figure imgf000028_0001
表 3 よ り 、 図 6 の装置に よ る と 、 T O C 濃度が著 し く い処理水が得 られる こ と が明 らかであ る 。 図 7 は加熱 に よ る T 0 C の分解 と 溶存酸素の 睡去を行 な う よ う に し た シス テ ム の系統図 で あ る 。 な お 、 図 S と 同一部分 に 同一符号が付さ れて い る 。
原 水 は 砂 濾過 器 3 0 で濾過 さ れ た 後 、 硫 酸 が添加 さ れ 、 p H = 2 〜 4 、 好 ま し く は 約 p H = 3 に 調節 さ れ る 。 次 い で 、 過硫 酸塩 ( 好 ま し く は N a 2 S 2 0 8 ) が 添 力 Π さ れ た 後 、 熱 交 換 器 3 1 , 3 2 で 1 2 0 〜 1 5 0 °C 、 好 ま し く は 約 1 3 0 °C に 力□ 熱 さ れ 、 反 応塔 3 3 に て 有 機 物 が 分 解 さ れ る 。 次 い で 、 こ の 水 は 脱 気塔 3 8 に て高温脱気 さ れた後、 熱交換器 3 1 で冷却 さ れ る 。 次 に 、 未 反 応 の 過 硫 酸 塩 を 分 解 す る た め に 、 N a H S 0 3 な どの還元剤が添加 さ れた後 、 N a 0 H な どの苛性 ア ル カ リ が添力 Π さ れ、 p H = 4 ~ 6 、 好 ま し く は 約 5 . 5 に p H 調整 さ れる 。 こ の水は 、 逆浸透膜分離 装置 ( P A 膜を備 え た も のが好 ま し い。 ) 3 4 a で処理 さ れ た後 、 混床式イ オ ン交換塔 3 4 b で処理 さ れ、 1 次 純水 と な る 。 こ の 1 次純水は、 タ ン ク 3 4 c に貯留 さ れ た後 、 低圧紫外線酸化装置 3 5 、 混床式の非再生 イ オ ン 交換塔 3 6 及 び限外濾過分離装置 3 7 で処理 さ れる と 超 純水 と な る 。
図 7 の シス テ ム の長所は次の通 り で あ る 。
① 原水 を砂濾過 し て い る 。 こ れは 、 凝集加圧浮上濾過 に比べ簡素で あ る 。
② 加 熱 分解 し た 処理水 を 続 い て 脱 気塔 で 脱 気 す る た め、 脱気の ために別途加熱する こ と な く 、 高温脱気す る こ と がで き 、 溶存酸素が 1 P P b以下の純水が得 ら れる 。
③ 有機物を熱分解する ため、 逆浸透膜処理装置 3 4 a は 1 段だ け設置すれば足 り る。
④ 熱 分 解 に よ り T 0 C 成 分 が十分 に 分 解 さ れ る た め 、 T 0 C 2 p p b 以下の純水が得 ら れ る 。 ま た 、 逆浸透膜処理装置の膜の有機物汚染が著 し く 減少 す る 。
実施例 9
図 7 の シス テ ム の運転例を実施例 9 に示す。 なお、 実 施例 9 で用 いた各装置の仕様は次の通 り である 。
砂濾過器 3 0 :
直径 2 5 m m x 高さ 3 0 0 0 m m
流量 2 5 リ ッ ト ルノ時間
反応塔 3 3 :
直径 5 O m m x高さ 9 0 O m m
酸化触媒な し
滞留時間 4 分 ' 流量 2 5 リ ッ ト ル /時間
脱気塔 3 8 :
直径 5 O m m X 高さ 5 0 0 0 m m
逆浸透膜分離装置 3 4 a :
ベ ッ セ ル 直径 5 0 m m x 長さ 1 2 0 0 m m , 1 本
エ レ メ ン ト 日東電工㈱製
「 N T R 7 2 9 H F S 2 」 1 本 水回収率 8 0 %
透過水量 2 0 リ ッ ト リレノ時間
混床 ^イ オ ン交換塔 3 4 b :
直径 5 0 m m x 高さ 1 0 0 0 m m
ゲ ル型 カ チ オ ン 交換樹脂 0 . 3 5 リ ッ ト ル及 び ゲル型ァニオ ン交換樹脂 0 . 6 5 リ ッ ト ルを混合 充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
低圧紫外線酸化装置 3 5 :
8 0 W ラ ン プ ( 日 本 フ ォ ト サ イ エ ン ス㈱製 ) イ オ ン交換塔 3 6 :
直径 2 5 m m x 高さ 8 0 0 m m
ゲ ル型 カ チ オ ン 交換樹脂 0 . 1 5 リ ッ ト ル及 び ゲル型ァニオ ン交換樹脂 0 . 6 5 リ ッ ト ルを混合 充填
流量 2 0 リ ッ ト ル /時間
限外濾過膜分離装置 3 7 :
ベ ッ セ ル 直径 5 0 m m x 長 さ 5 0 0 m m ,
1 本
エ レ メ ン ト 外圧型中空糸、 分画分子量 8 万 ,
1 本 透過水量 1 9 リ ッ ト ル /時間 実施例 9 運転条件は次の通 り である。 原水 厚木市の水道水
( T 0 C 8 0 O ppb,電気電導度 1 9 0 S/cm, 遊離塩素 C £ 2 と し て 0 . 7 ppm ) 硫酸添加後の P H 3
. 1 2 3 2 0 8 添カ[]量 6 0 p p m
(添加後の水中の K 2 S 2 0 8 濃度) 加熱温度 1 3 0 °C 脱気温度 1 3 0 °C 処理水の水質は表 4 の通 り である 。 比較例 2 比較の ため に、 上記の厚木'市の水道水を活性炭処理 し た後、 硫酸を添加 し て P H 5 . 5 と し 、 2 段の逆浸透膜 分離装置に通水 し 、 混床式イ オ ン交換 し た後、 真空脱気 し 、 1 次純水 と し た。 なお 、 使用 し た各装置の仕様は、 次の通 り である 。 活性炭塔 :
直径 5 0 m m x高さ 1 0 0 0 m m ク ラ レケ ミ カ ル㈱製 「 ク ラ レ コ ール G W 40/24」 1 . 2 リ ッ ト ル充填 流量 2 4 リ ッ ト ル /時間 二段の逆浸透膜分離装置 : ベ ッ セ ル 直径 5 0 m m x 長 さ 1 2 0 G m m ,
2 本
流エ レ メ ン ト 日 東電工㈱製
「 N T R 7 2 9 H F S 2 」 2 本 直列 に連結
二段 目 透過水量 2 0 リ ッ ト ル /時間
混床式 イ オ ン交換塔 :
直径 5 0 m m x 高 さ 1 0 0 0 m m
ゲ ル 型 カ チ オ ン 交 換 樹脂 0 · 3 5 リ ッ ト ル 及 び ゲ ル型 ァ ニ オ ン交換樹脂 0 . 6 5 リ ト ル を 混合 充填
2 0 V ト ル /時間
真空脱気塔 :
直径 5 O m m x 高 さ 1 3 m
塔 内真空度 2 4 m m H g a b s ( 2 5 °C ) こ の 1 次純水 を実施例 8 と 同 じ く U V 酸化後非再生ィ オ ン 交換樹脂 と U F膜で処理 し 、 超純水 を製造 し た 。
こ の 1 次純水 と 超純水の水質を表 4 に併せ て示す 。 表 4 よ り 、 実施例 9 に よ る と T 0 C 及 び溶存酸素が著 し く 低 い純水が製造 さ れる こ と が明 ら かで あ る 。 表 4
Figure imgf000034_0001
図 8 は 本発明 の好適な シス テ ム を示す系統図 で あ る 。 水 道 水 或 い は 工業 用 水等 の 水が配管 4 1 か ら 原 水槽
4 3 に供給 さ れる 。 ま た 、 半導体洗浄排水が配管 4 2 か ら 原水槽 4 3 に供給 さ れる 。
こ の原水槽 4 3 内の原水は 、 原水ポ ン プ 4 4 及 び配管 4 5 を介 し て 第 1 の熱交換器 4 6 に導入 さ れ、 加熱 さ れ る 。 加熱 さ れた原水は 、 配管 4 7 を介 し て第 2 の熱交換 器 4 8 に供給 さ れ、 さ ら に加熱 さ れる 。
熱交換器 4 8 で加熱 さ れた原水は 、 配管 4 9 を介 し て 第 3 の熱交換器 5 0 に導入 さ れる 。 こ の第 3 の熱交換器
5 0 は 、 ス チ ー ム を 熱 源 と す る も の で あ り 、 原 水 は 1 3 0 °C ま で加熱 さ れる 。
こ の力□熱 さ れた原水 に対 し 、 H 2 S 0 4 と N a 2 S 2 0 8 が 添加 さ れ 、 配管 5 1 を介 し て反応塔 5 2 に導入 さ れ る 。 こ の反応塔 5 2 は空塔であ る が、 必要 に応 じ 白 金担持触 媒 な ど の 触媒 を 充填 し て も よ い 。 反応塔 5 2 内 に お い て 、 原水 中 に含 ま れる有機物が十分 に分解 さ れ る 。 こ の 分解処理 さ れた水は 、 配管 5 3 及び圧力 コ ン .ト ロ ー ル弁 5 4 を介 し て高温脱気塔 5 5 に導入 さ れ る 。
こ の高温脱気塔 5 5 の上部 に は 、 配管 5 6 , 5 7 を介 し て 凝 縮水 回 収器 5 8 が接続 さ れ て い る 。 な お 、 配管
5 6 は 前記第 1 の熱交換器 4 6 の熱源流体側配管 に接続 さ れて お り 、 高温脱気塔 5 5 か ら 抽気 さ れ た ガス は 、 こ の第 1 の熱交換器 4 6 の熱源流体側配管内 を 流通 さ れ、 配管 4 5 か ら 導入 さ れる 原水 と 熱交換す る 。 熱交換 し た ガス は 、 凝縮 し 、 配管 5 7 を介 し て凝縮水 回収器 5 8 に 回収 さ れ、 前記原水槽 4 3 に戻 さ れる 。
高温脱気塔 5 5 で脱気処理 さ れた水は 、 該脱気塔 5 5 の底部カゝ ら 配管 6 2 、 ポ ン プ 6 3 を介 し て抜 き 出 さ れ、 前記第 2 の熱交換器 4 8 の熱源流体側の配管 に導入 さ れ る 。 そ し て 、 熱交換 し た 後 、 配管 6 4 を 介 し て タ ン ク
6 5 に導入 さ れ、 一時貯留 さ れる 。
こ の タ ン ク 6 5 内の水は 、 ポ ン プ 6 6 及 び配管 6 7 を 介 し て逆浸透膜分離装置 6 8 に導入 さ れ、 逆浸透膜分離 処理 さ れ る 。 該装置 6 8 の濃縮水は 、 配管 6 9 で取 り 出 さ れ、 廃棄処理 さ れる 。 装置 6 8 の透過水は 、 配管 7 0 を 介 し て タ ン ク 7 1 に導入 さ れ、 さ ら に ポ ン プ 7 2 、 配 管 7 3 を介 し て混床式 イ オ ン交換塔 7 4 に導入 さ れ る 。 イ オ ン交換処理 さ れた水は 、 配管 7 5 を介 し て ルー ズ逆 浸 透 膜 分離装置 ( 又 は 限外濾過装置 ) 7 6 に 導 入 さ れ る 。 ルー ズ逆浸透膜分離装置 と は、 食塩排除率が例 え ば 3 0 〜 5 0 %程度の低い値の逆浸透膜を備 え た も の で あ る 。 こ の ルー ズ逆浸透膜分離装置 7 6 の濃縮水 は 、 配管
7 7 を 介 し て 前言己 タ ン ク 6 5 に戻 さ れる 。
装置 7 6 の透過水は 1 次純水で あ り 、 配管 7 8 を 介 し て 1 次純水 タ ン ク 7 9 に導入 さ れる 。
こ の 1 次純水は 、 ポ ン プ 8 0 及び配管 8 1 を介 し て低 圧紫外線照射装置 8 2 に導入 さ れ、 紫外線照射処理 さ れ る 。 こ の 水 は 、 配管 8 3 を介 し て非再生型 イ オ ン 交換塔
8 4 に導入 さ れ、 さ ら に配管 8 5 を介 し て限外濾過膜分 離装置 8 6 に導入 さ れる 。 装置 8 6 の透過水が超純水 と し て 配 管 8 7 に よ り ユ ー ス ボ イ ン 卜 に 供給 さ れ る 。 な お 、 過剰 な超純水は 、 装置 8 6 か ら 1 次純水 '夕 ン ク 7 9 に返送 さ れる 。 装置 8 6 の濃縮水は、 配管 8 8 に よ り 装 置タ に排 出 さ れる 。
図 8 の シ ス テ ム にお い て 、 混床式イ オ ン交換塔 7 4 を 逆浸透膜分離装置 と し て も 良い。 ま た 、 逆浸透膜分離装 置 6 8 と 混床式 イ オ ン 交換塔 7 4 と を置 き 換 え て も 良 い
図 8 の シ ス テ ム に お い て 、 混床式イ オ ン交換塔 7 4 の 代 り に カ チ オ ン交換塔 と ァ ニオ ン交換塔を 直列 に連結 し た 2 塔式の も のを用 いて も よ い。
上記の説明 では 、 原水槽 4 3 に水道水又 は工業用 水 と 共 に半導体洗浄排水が導入 さ れる と し たが、 水道水 ( 又 は工業 用 水 ) と 半導体洗浄排水 と の う ち の 一方 だ け が導 入 さ れ る よ う に し て も 良 い。
こ の 水道水 に は 、 カ ル シ ウ ム 、 マ グネ シ ウ ム な どの硬 度成分が含 ま れてお り 、 半導体洗浄排水 に は フ ッ 化物 ィ オ ン が含 ま れて い る 。 そ の た め 、 水道水 と 半導体洗浄排 水 と を そ の ま ま 混合す る と C a F 2 等の不溶性化合物が 生 じ る 。 そ こ で、 水道水 と 半導体洗浄排水 と を 混合 す る 場合 に は 、 予め水道水 を 強酸性 カ チ オ ン 交換樹脂 と 接触 さ せ て脱硬度処理す る か、 又は半導体洗浄排水 を ァ ニ ォ ン交換樹脂 (例 え ば再生効率の良 い弱塩基性 ァ ニ ォ ン交 換樹脂 ) と 接触 さ せて脱 フ ツ イヒ物 イ オ ン 処理 を行 な う こ と が好 ま し い 。 も ち ろ ん、 双方の予備処理 を行 な っ て も 良 い。 な お 、 こ の よ う な予備処理を行な う こ と な く 、 水 道水 と 半導体洗浄排水 と を混合 し た後、 生成 し た不溶物 を濾過 に よ り 除去す る よ う に し て も 良 い。
上記説 明 で は 、 反応塔 5 2 に は触媒を充填せ ず、 反応 塔 内 を空 と し たが、 触媒を充填 し て も よ い 。
産業上の利用 可能性
以上詳述 し た 通 り 、 本発 明 の 純水 の 製造方法 に よ れ ば、 市水 、 地下水、 工業用 水を原水 と し て純水 を製造す る に 当 り 、 得 ら れる純水 に含 ま れる T 〇 C を著 し く 低減 し 、 極め て純度の高 い超純水 を製造す る こ と が可能 と さ れ る 。 本 発 明 に よ れ ば 、 純水 中 の 溶存酸素 を 低減 で き る 。 本発明 に よ れば シ ス テ ム が簡素化 さ れ る 。

Claims

請求の範囲
1 . 原水 を p H 4 . 5 以下の酸性下、 かつ酸化剤存在 下で加熱処理 し て原水中の T 0 C 成分を分解 し た後 、 脱 ィ オ ン処理す る こ と を特徴 と す る純水の製造方法。
2 . 請求項 1 に お いて 、 原水は フ ツ イヒ水素酸を含んで お り 、 該原水 を加熱分解処理す る に先立 っ て 、 該原水 と 弱塩基性 ァ ニ オ ン交換樹脂 と 接触 さ せて フ ッ 化物 イ オ ン を 除去す る こ と を特徴 と す る純水の製造方法。
3 . 請求項 1 又は 2 にお いて 、 原水は過酸化水素 を含 ん でお り 、 該原水 に過硫酸塩を添加 し た後、 加熱処理す る こ と を特徴 と す る純水の製造方法。
4 . 請求項 1 な し、 し 3 の いずれ力 1 項 に お い て 、 前記 加熱処理後、 高温脱気 し 、 その後、 前記脱イ オ ン処理を 行 な う よ う に し た こ と を特徴 と す る純水の製造方法。
5 . 請求項 1 な い し 4 の いずれ力 > 1 項 に お い て 、 カロ熱 処理 を 1 1 0 〜 1 7 0 °C で 2 〜 5 分間行 な う こ と を特徴 と す る 純水の製造方法。
6 . 請求項 5 に お いて、 加熱分解処理温度 を 1 3 0 〜 1 5 0 °C と す る こ と を特徴 と す る純水の製造方法。
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