[go: up one dir, main page]

DE69415736T2 - Verfahren zur herstellung von reinem wasser - Google Patents

Verfahren zur herstellung von reinem wasser

Info

Publication number
DE69415736T2
DE69415736T2 DE69415736T DE69415736T DE69415736T2 DE 69415736 T2 DE69415736 T2 DE 69415736T2 DE 69415736 T DE69415736 T DE 69415736T DE 69415736 T DE69415736 T DE 69415736T DE 69415736 T2 DE69415736 T2 DE 69415736T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
water
raw water
column
toc
pure water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69415736T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69415736D1 (de
Inventor
Hiroshi Kurita Water Industries Ltd. Shinjuku-Ku Tokyo 160 Kurobe
Yoshinobu Kurita Water Industries Ltd. Shinjuku-Ku Tokyo 160 Obata
Nobuhiro Kurita Water Industries Ltd. Shinjuku-Ku Tokyo 160 Orita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kurita Water Industries Ltd filed Critical Kurita Water Industries Ltd
Publication of DE69415736D1 publication Critical patent/DE69415736D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69415736T2 publication Critical patent/DE69415736T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J41/00Anion exchange; Use of material as anion exchangers; Treatment of material for improving the anion exchange properties
    • B01J41/04Processes using organic exchangers
    • B01J41/07Processes using organic exchangers in the weakly basic form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/02Treatment of water, waste water, or sewage by heating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/02Treatment of water, waste water, or sewage by heating
    • C02F1/025Thermal hydrolysis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/20Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/441Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/444Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/66Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/722Oxidation by peroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/725Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/12Halogens or halogen-containing compounds
    • C02F2101/14Fluorine or fluorine-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/16Nitrogen compounds, e.g. ammonia
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/12Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from the silicate or ceramic industries, e.g. waste waters from cement or glass factories
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S210/00Liquid purification or separation
    • Y10S210/90Ultra pure water, e.g. conductivity water
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S210/00Liquid purification or separation
    • Y10S210/902Materials removed
    • Y10S210/915Fluorine containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Description

    Technisches Gebiet
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Reinwasser (entionisiertes Wasser, einschließlich Ultrareinwasser), und zwar insbesondere ein Verfahren zur Herstellung von Ultrareinwasser, das den TOC (organischer Gesamtkohlenstoff) in dem Reinwasser stärker erniedrigt als ein herkömmliches Verfahren.
  • Stand der Technik
  • 1. Eine herkömmliche Wasserreinigungsvorrichtung zur Herstellung von Ultrareinwasser aus Rohwasser wie Stadtwasser, Brunnenwasser und Industriewasser ist aus einer Vorbehandlungseinrichtung, einer Primärreinwassereinrichtung und einer Sekundärreinwassereinrichtung zusammengesetzt. Die Vorbehandlungseinrichtung ist aus Koagulations-, Flotations- und Filtrationseinheiten zusammengesetzt. Die Primärreinwassereinrichtung ist aus zwei Umkehrosmosemembraneinheiten und einer Mischbettionenaustauschereinheit oder einer Entmineralisierungseinrichtung und einer Umkehrosmosemembraneinheit zusammengesetzt. Die Sekundärreinwassereinrichtung ist aus einer Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit, einer Entmineralisierungseinrichtung und einem Ultrafilter (Ultrafiltrationsmembranabtrennvorrichtung) zusammengesetzt.
  • Angewendet wird entweder das folgende Verfahren (i) oder (ii).
  • (i) Rohwasser → Koagulations-, Flotations-, Filtrationseinheiten → erste Umkehrosmosemembraneinheit → zweite Umkehrosmosemembraneinheit → Mischbettionenaustauschereinheit → Primarreinwasserlagertank → Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit → Entmineralisierungseinrichtung → Ultrafilter → Ultrareinwasser
  • (ii) Rohwasser → Koagulations-, Flotations-, Filtrationseinheiten → Ionenaustauschereinrichtung [Zweibett-Dreikolonnen-Typ (Kationenaustauscherkolonne → Vakuumentgasungskolonne oder Entcarbonisiserungskolonne → Anionenaustauscherkolonne) oder Vierbett-Fünfkolonnen-Typ (erste Kationenaustauscherkolonne → zweite Anionenaustauscherkolonne → Vakuumentgasungskolonne oder Entcarbonisierungskolonne → zweite Kationenaustauscherkolonne → zweite Anionenaustauscherkolonne)] → Umkehrosmosemembraneinheit → Primärreinwasserlagertank → Quecksilber-Niederdruck- Ultraviolettoxidationseinheit → Mischbettionenaustauschereinheit → Ultrafilter → Ultrareinwasser.
  • Die obige Entmineralisierungseinrichtung umfaßt eine Anionenaustauschersäule, eine Mischbettionenaustauschersäule oder eine Anionenaustauschersäule und eine Mischbettionenaustauschersäule, die in Reihe geschaltet sind.
  • Von diesen Einheiten und Einrichtungen erniedrigen die Umkehrosmosemembraneinheiten, die Entmineralisierungseinrichtung und die Quecksilber-Niederdruck- Ultraviolettoxidationseinheit die TOC-Bestandteile in Rohwasser durch Abtrennung, Adsorption, Zersetzung oder dergleichen.
  • Der TOC wird mit diesen Einheiten oder Einrichtungen auf Grund der folgenden Mechanismen verringert.
  • Umkehrosmosemembraneinheit: Das Rohwasser wird durch eine Umkehrosmosemembran zur Entfernung von ionischem und kolloidalem TOC filtriert.
  • Quecksilber-Niederdruck-Oxidationseinheit: Der TOC wird durch UV-Licht von 185 nm, das von einer Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettlampe abgegeben wird, in eine organische Säure und weiter zu CO&sub2; zersetzt. Die gebildete organische Säure wird durch ein in einer sich anschließenden Stufe vorgesehenes Ionenaustauscherharz entfernt. Dieser Mechanismus wird insbesondere zur Zersetzung von flüchtiger organischer Materie verwendet.
  • Das mit der oben beschriebenen herkömmlichen Reinwasservorrichtung hergestellte Ultrareinwasser enthält jedoch immer noch etwa 3 bis 5 ppb TOC.
  • Zur weiteren Verringerung des TOC in Ultrareinwasser kann das Ultrareinwasser mit einer Vielzahl von Umkehrosmosemembraneinheiten behandelt und eine stärkere Bestrahlung in einer Quecksilber-Niederdruck-Ultravioletteinheit in Betracht gezogen werden. Die Ergebnisse von Untersuchungen der Erfinder haben jedoch bestätigt, daß dadurch der TOC in Ultrareinwasser nicht weiter verringert werden kann, nämlich wegen der folgenden Gründe.
  • Rohwasser enthält als einen der TOC-Bestandteile einen Harnstoff-Bestandteil. Da der Harnstoff-Bestandteil nicht-ionisch ist, kann der Harnstoff Bestandteil durch Ionenaustausch nicht entfernt werden. Der Harnstoff-Bestandteil wird in geringer Menge durch eine Umkehrosmosemembranabtrennung entfernt. Beispielsweise beträgt die Entfernungsrate für den Bestandteil Harnstoff einer Umkehrosmosemembraneinheit vom Hochsalz-Ausscheidungstyp, die im allgemeinen als eine der zwei Umkehrosmosemembraneinheiten in einer Primärreinwasserreinigungseinrichtung verwendet wird, etwa 60%. Außerdem kann Harnstoff durch eine Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit nicht zersetzt werden.
  • Rohwasser enthält keine geringe Menge an Harnstoff, wodurch die Verringerung des TOC in Ultrareinwasser behindert wird. Da die Entfernung von Harnstoff mit einer herkömmlichen Wasserreinigungsvorrichtung schwierig ist, unterliegt die Verringerung des TOC Beschränkungen.
  • Beispielsweise enthält das Stadtwasser von Atsugi City, Kanagawa, Japan etwa 30 ppb Harnstoff. Selbst nach der Behandlung des Stadtwassers mit dem oben erwähnten Verfahren (ii), in dem zwei Umkehrosmosemembraneinheiten als Primärreinwassereinrichtung verwendet werden, werden noch etwa 8 ppb Harnstoff in dem mit einer herkömmlichen Ultrawasservorrichtung erhaltenen Ultrareinwasser nachgewiesen. 8 ppb Harnstoff ergeben etwa 1,5 ppb bei der Berechnung als TOC. Er macht etwa 50% der TOC-Bestandteile in Ultrareinwasser aus, das 3 ppb TOC enthält.
  • II Das Abwasser eines Halbleiterspülsystems wird zur Herstellung von Ultrareinwasser behandelt und wieder als Halbleiterspülwasser verwendet.
  • Das Abwasser des Halbleiterspülsystems hat folgende Eigenschaften:
  • pH: 2 bis 4
  • Säurebestandteile: Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Fluorwasserstoffsäure
  • Alkalibestandteil: Ammoniak
  • TOC: 1 bis 3 ppm
  • [TOC-Bestandteile: Isopropylalkohol, Methanol, Aceton, Detergens]
  • H&sub2;O&sub2;: etwa 20 ppm
  • Zur Behandlung eines derartigen Halbleiterspülabwassers wird das Verfahren mit den folgenden Schritten durchgeführt.
  • Erste Adsorption an Aktivkohle (Entfernung von H&sub2;O&sub2; und Detergens)
  • Schwaches Anionenaustauscherharz
  • Starkes Kationenaustauscherharz
  • Starkes Anionenaustauscherharz
  • Umkehrosmose (Abtrennung von TOC-Bestandteilen)
  • Zugabe von Oxidationsmittel (H&sub2;O&sub2;)
  • Bestrahlung mit Quecksilber-Hochdruck-Ultraviolett (UV)strahlen (Zersetzung von TOC-Bestandteilen)
  • Zweite Adsorption an Aktivkohle (Entfernung von nicht umgesetztem H&sub2;O2)
  • Starkes Anionenaustauscherharz
  • Behandeltes Wasser
  • Durch dieses Verfahren werden etwa 90% der TOC-Bestandteile entfernt.
  • Dieses Verfahren ist jedoch mit den folgenden Nachteilen verbunden.
  • (a) Da die Menge an TOC im Rohwasser hoch ist (2 bis 3 ppm) wird auf der ersten Aktivkohle Schlamm gebildet, wenn das H&sub2;O&sub2; in dem Rohwasser entfernt wird.
  • (b) Der auf der ersten Aktivkohle gebildete Schlamm wird in die Umkehrosmosemembraneinheit eingebracht und verunreinigt die Umkehrosmosemembran, wodurch der stabile Betrieb der Umkehrosmosemembraneinrichtung schwierig wird.
  • (c) Wenn eine Polyamidmembran (PA-Membran), die hinsichtlich Alkohol, insbesondere Isopropylalkohol, hohe Entfernungsraten hat, als Membran einer Umkehrosmosemembraneinheit (RO-Einheit) verwendet wird, ist es unmöglich, da die PA-Membran gegen freies Chlor nicht beständig ist, ein Oxidationsmittel wie NaClO zu dem Einsatzwasser zu geben, um die Verunreinigung durch Schlamm zu verhindern.
  • (d) Wenn eine Celluloseacetatmembran (CA-Membran), die gegen freies Chlor beständig ist, als Membran einer Umkehrosmosemembraneinheit verwendet wird, steigt die Belastung der in einer sich anschließenden Stufe vorgesehenen UV-Oxidationseinheit, da die Alkohol-Entfernungsrate gering ist, wodurch die Kosten steigen.
  • (e) Die Wasserrückgewinnung der Vorrichtung ist insgesamt gering. Da die Wasserrückgewinnung der Umkehrosmoseeinheit maximal 90% beträgt, beträgt die Wasserrückgewinnung der Vorrichtung insgesamt nicht mehr als 90%. Mit anderen Worten beträgt der Verlust nicht weniger als 10%.
  • (f) Wenn die Qualität des Rohwassers zum Zeitpunkt der Gestaltung der Vorrichtung beeinträchtigt ist (Anstieg des TOC), kann die Vorrichtung nicht verwendet werden.
  • Wenn die Qualität des Rohwassers beeinträchtigt ist, gibt es keine Alternative, als eine Hochdruck-UV-Lampe und einen UV-Oxidationstank hinzuzufügen. Da für das Hinzufügen einer Hochdruck-UV-Lampe jedoch viel Zeit benötigt wird, ist es unmöglich, das Wasser sofort zu behandeln.
  • (g) Da das Rückgewinnungssystem kompliziert ist, ist die Instandhaltung arbeitsaufwendig.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Eine Aufgabe der Erfindung ist daher die Lösung der oben beschriebenen Probleme des Standes der Technik und die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung von Reinwasser, mit dem Reinwasser mit stark verringerter TOC-Konzentration durch wirksame Entfernung des Harnstoff-Bestandteiles in Rohwasser hergestellt werden kann.
  • Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung von Reinwasser, mit dem Reinwasser mit sehr niedriger Konzentration an gelöstem Sauerstoff hergestellt werden kann.
  • Zur Lösung dieser Aufgaben haben die Erfinder in Versuchen Schwefelsäure und ein Oxidationsmittel zu Harnstoff-haltigem Wasser gegeben und den Harnstoff durch Hitzebehandlung zersetzt.
  • Die Versuche ergaben die folgenden Ergebnisse:
  • Harnstoff-haltiges Wasser: das Stadtwasser von Atsugi City, Präfektur Kanagawa, Japan, zu dem so viel Harnstoff gegeben worden war, daß die Harnstoff-Konzentration 500 ppb betrug.
  • Heiztemperatur: 135ºC, 155ºC
  • Nach der Zugabe der Säure und des Oxidationsmitteltyps in der angegebenen Menge ergab sich folgender pH-Wert:
  • Nr. 1: pH 5,5, 20 ppm K&sub2;S&sub2;O&sub8;
  • Nr. 2: pH 4,5, 20 ppm K&sub2;S&sub2;O&sub8;
  • Nr. 3: pH 5,5, 10 ppm H&sub2;O&sub2;
  • Nr. 4: pH 4,5, 10 ppm H&sub2;O&sub2;
  • Die Harnstoff-Konzentration nach dem Erhitzen des Wassers ist in Fig. 9 angegeben.
  • Fig. 9 zeigt folgendes. Wenn der pH-Wert von Wasser auf höchstens 4,5 eingestellt wird, ist der Wirkungsgrad der Hitzezersetzung erhöht, was sich durch den Vergleich der Nummern 1 und 3 mit einem pH von 5,5 und der Nummern 2 und 4 mit einem pH von 4,5 ergibt. In jedem Fall steigt der Wirkungsgrad der Hitzezersetzung mit steigender Temperatur.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Reinwasser aus Fluorwasserstoffsäure und TOC-Bestandteile enthaltendem Rohwasser wurde auf der Grundlage dieser Versuche und verschiedener weiterer Versuche erfunden und umfaßt:
  • Kontaktieren des Rohwassers mit einem schwach basischen Anionenaustauscherharz zur Entfernung von Fluoridionen aus dem Rohwasser, Ansäuern des Rohwassers auf einen pH-Wert von höchstens 4,5 (vorzugsweise 2 bis 3) und Erhitzen in Gegenwart eines Oxidationsmittels zur Zersetzung der TOC-Bestandteile in dem Rohwasser und
  • Deionisieren des Rohwassers.
  • Die Verwendung eines schwach basischen Anionenaustauscherharzes verhindert, daß der Wärmeaustauscher durch Fluorwasserstoffsäure beschädigt wird.
  • Als Oxidationsmittel sind Persulfate (z. B. Na&sub2;S&sub2;O&sub8;, K&sub2;S&sub2;O&sub8;) und Wasserstoffperoxid verwendbar. Von diesen sind Persulfate wie Na&sub2;S&sub2;O&sub8; und K&sub2;S&sub2;O&sub8; bevorzugt.
  • Die Temperatur zur thermischen Zersetzung beträgt vorzugsweise mindestens 110ºC, noch bevorzugter 120 bis 170ºC, und die Zeit zur Zersetzung beträgt vorzugsweise 2 bis 5 Minuten. Während des Erhitzens kann ein Oxidationskatalysator verwendet werden, wenn aber kein Katalysator verwendet wird, wird das Wasser vorzugsweise bei 130 bis 150ºC gehalten. Als Katalysator ist Platin auf einem Träger bevorzugt.
  • Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, Harnstoff in Rohwasser leicht und wirksam zu zersetzen und die durch die Zersetzung gebildeten Ionen durch Entionisierung wirksam zu entfernen.
  • Nach der Erfindung ist es daher möglich, Ultrareinwasser mit einer stark verringerten TOC-Konzentration zu erhalten.
  • Wenn das Reinwasser nach der thermischen Zersetzung bei hoher Temperatur entlüftet wird, ist es möglich, die Konzentration an gelöstem Sauerstoff in dem Ultrareinwasser stark zu erniedrigen.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnungen
  • Fig. 1 ist ein Flußdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Primärreinwasser nach der Erfindung.
  • Fig. 2 ist ein Flußdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Ultrareinwasser nach der Erfindung.
  • Fig. 3 ist ein Flußdiagramm einer weiteren Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Primärreinwasser nach der Erfindung.
  • Fig. 4 ist ein Flußdiagramm einer weiteren Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Primärreinwasser nach der Erfindung.
  • Fig. 5 ist ein Flußdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Wasser mit einer niedrigen TOC-Konzentration nach der Erfindung.
  • Fig. 6 ist ein Flußdiagramm einer weiteren Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Ultrareinwasser nach der Erfindung.
  • Fig. 7 ist ein Flußdiagramm einer weiteren Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Ultrareinwasser nach der Erfindung.
  • Fig. 8 ist ein Flußdiagramm eines in der Erfindung verwendeten bevorzugten Systems und
  • Fig. 9 ist eine graphische Darstellung der Ergebnisse von Versuchen hinsichtlich des besten Weges zur Ausführung der Erfindung.
  • Die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung werden nachstehend detailliert unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert.
  • Fig. 1 ist ein Flußdiagramm einer Ausführungsform eines Verfahrens zur Herstellung von Primärreinwasser nach der Erfindung.
  • Das in Fig. 1 dargestellte Verfahren ist eine Verbesserung des oben beschriebenen Verfahrens (ii) des Standes der Technik. In dieser Ausführungsform wird zwischen der Kationenaustauscherkolonne und der Vakuumgaskolonne in der Ionenaustauschereinrichtung vom Zweibett-Dreikolonnentyp des Verfahrens (ii) ein thermischer Zersetzungsprozeß eingefügt.
  • Das Rohwasser wird zuerst durch eine Leitung 11 in Koagulations-, Flotations- und Filtrationseinheiten 1 eingeführt und behandelt, und nach der Einführung des Wassers durch eine Leitung 12 in eine Kationenaustauscherkolonne 2 zum Zwecke des Kationenaustausches wird das Wasser durch eine Leitung 13 in einen Tank für saures Weichwasser eingeführt und dort gelagert. Der pH-Wert des erhaltenen sauren Weichwassers beträgt 3,0. Bei der Einführung des Wassers in einen Wärmeaustauscher 4 durch eine Leitung 14 wird durch eine Leitung 14A ein Oxidationsmittel zu dem Wasser gegeben. Das Wasser steht im Wärmeaustausch mit dem behandelten Wasser eines später beschriebenen Reaktionsgefäßes 6, und zwar mit Hilfe eines Wärmeaustauschers 4, und wird außerdem durch einen mit einem Boiler 5A versehenen Erhitzer 5 erhitzt. Dann wird das Wasser durch eine Leitung 15 in das Reaktionsgefäß 6 eingeführt. In dem Reaktionsgefäß 6 werden der Harnstoff und andere TOC-Bestandteile, die in dem Wasser enthalten sind, durch katalytische Hitzebehandlung wirksam zersetzt. Der Abstrom aus dem Reaktionsgefäß 6 wird durch eine Leitung 16 in den Wärmeaustauscher 4 eingeführt und nach dem Wärmeaustausch und Abkühlen durch eine Entcarbonisierungskolonne 7, eine Leitung 17, eine Anionenaustauscherkolonne 8 und eine Leitung 18 in eine Umkehrosmosemembraneinheit 9C eingeführt, so daß Primärreinwasser hergestellt wird. Das Primärreinwasser wird einer Sekundärreinwasser-Herstellungseinrichtung zugeführt, so daß nahezu sämtliche Ionen und anderen Bestandteile, die durch die Zersetzung gebildet wurden, entfernt werden,
  • In dem Verfahren der Erfindung wird die thermische Zersetzung von Harnstoff und dergleichen in Gegenwart eines Oxidationsmittels in dem Wasser mit einem pH-Wert von höchstens 4,5 durchgeführt. Wenn der pH-Wert höher als 4,5 ist, nimmt der Wirkungsgrad der Zersetzung ab. Wenn der pH-Wert jedoch zu niedrig ist, steigt die Belastung der Nachbehandlung an, so daß der pH-Wert des Wassers in normalen Fällen etwa 2 bis 3 beträgt.
  • Als Oxidationsmittel sind Persulfate wie Wasserstoffperoxid (H&sub2;O&sub2;) und Kaliumperoxydisulfat (K&sub2;S&sub2;O&sub8;) und dergleichen verwendbar. Die Dosierung eines Oxidationsmittels wie H&sub2;O&sub2; variiert in Abhängigkeit vom TOC des Rohwassers und der Temperatur zur thermischen Zersetzung, liegt aber vorzugsweise bei etwa 10 bis 20 mg/l pro 1 mg/l TOC des Rohwassers.
  • Wenn der pH-Wert höchstens 3 ist, wird als Oxidationsmittel vorzugsweise ein Persulfat verwendet. Die Dosierung des Persulfats beträgt vorzugsweise etwa 70 mg/l pro 1 mg/l TOC des Rohwassers.
  • Wenn die Temperatur zur thermischen Zersetzung erhöht wird, steigt der Wirkungsgrad der Zersetzung und die Dosierung des Oxidationsmittels wird verringert. Im Hinblick auf den Betrieb beträgt die Temperatur zur thermischen Zersetzung jedoch vorzugsweise 120 bis 170ºC, noch bevorzugter 130 bis 150ºC.
  • In der Erfindung handelt es sich bei der thermischen Zersetzung vorzugsweise um eine katalytische Zersetzung unter Verwendung eines Katalysators. In diesem Fall ist als Katalysator ein Platin-Katalysator, beispielsweise Platin auf einem Träger und ein mit Platin plattierter Katalysator, bevorzugt.
  • In dem in Fig. 1 dargestellten Verfahren wird der thermische Zersetzungsprozeß auf ein Verfahren (ii) des Standes der Technik angewendet. Außerdem ist es möglich, die Erfindung auf das Verfahren (i) des Standes der Technik anzuwenden. In diesem Fall findet der thermische Zersetzungprozeß vor dem zweistufigen Umkehrosmoseverfahren statt, so daß eine Säure wie Schwefelsäure zu dem mit den Koagulations-, Flotations- und Filtrationseinheiten behandelten Wasser gegeben wird, um den pH-Wert auf höchstens 4,5 einzustellen, worauf das behandelte Wasser in Gegenwart eines Oxida tionsmittels erhitzt und dann das erhitzte Wasser der Zersetzung durch katalytische Hitzebehandlung unterzogen wird. Der Abstrom wird dem Wärmeaustausch unterzogen und auf eine normale Temperatur gekühlt, worauf das Wasser dem zweistufigen Umkehrosmosemembranverfahren zugeführt wird.
  • Bei jedem dieser Verfahren wird die Behandlung zur thermischen Zersetzung vorzugsweise in der Primärreinwasserherstellungseinrichtung durchgeführt.
  • Fig. 2 ist ein Flußdiagramm einer weiteren Ausführungsform der Erfindung. Ein Reduktionsmittel wie NaHSO&sub3; wird zu Rohwasser wie Stadtwasser gegeben, um das restliche Chlor zu entfernen, worauf die Behandlung in der Kationenaustauscherkolonne 2 durchgeführt wird. Nach der Zugabe eines Oxidationsmittels wie H&sub2;O&sub2; zu dem Wasser wird dieses in dem Wärmeaustauscher 4 und dem Erhitzer 5 erhitzt und in das Reaktionsgefäß 6 eingeführt. In dem Reaktionsgefäß 6 werden die TOC-Bestandteile zersetzt. Das Wasser aus dem Reaktionsgefäß 6 wird nacheinander mit der Anionenaustauscherkolonne 8, der Entcarbonisierungskolonne 7, einer Kationenaustauscherkolonne 9a, einer Anionenaustauscherkolonne 9b, einer Umkehrosmosemembraneinheit 9c, einer Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit 9d zur Zersetzung organischer Materie, einem Ionenaustauscher vom Nichtregenerierungstyp (Mischbett-Ionenaustauscherharzkolonne) 9e zur Entfernung von Ionen organischer Materie, die durch Zersetzung gebildet worden sind, und einer Ultrafiltrationsmembranabtrennvorrichtung 9f zur Abtrennung der feinen Teilchen aus dem Ionenaustauscherharz, die aus dem Ionenaustauscher 9e austreten, behandelt.
  • Da das aus der Kationenaustauscherkolonne 2 entnommene Wasser einen pH-Wert von höchstens 4,5 hat, nämlich auf Grund der Kationenaustauscherbehandlung, ist die Zugabe einer Säure dazu nicht erforderlich.
  • Beispiel 1 ist ein Beispiel für den Betrieb der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung.
  • Beispiel 1
  • Das Stadtwasser von Atsugi City wurde nachdem folgenden Verfahren unter Verwendung der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung behandelt.
  • Der TOC des erhaltenen Ultrareinwassers ist in Tabelle 1 angegeben.
  • Stadtwasser → Zugabe von Reduktionsmittel (NaHSO&sub3;) → Kationenaustauscherkolonne → Reaktionsgefäß → Anionenaustauscherkolonne → Entcarbonisierungskolonne → Kationenaustauscherkolonne → Anionenaustauscherkolonne → Umkehrosmosemembraneinheit → Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit → Entmineralisierungseinrichtung → Ultrafiltrationsmembranvorrichtung → Ultrareinwasser
  • Da das aus der Kationenaustauscherkolonne (mit einem Harz vom Typ H gepackt) entnommene Wasser einen pH-Wert von 3,0 hatte, wurde keine Säure dazugegeben. Die zugegebene Menge an H&sub2;O&sub2; betrug 20 ppm und die Temperatur zur katalytischen thermischen Zersetzung 170ºC. Als Katalysator wurde Platin auf einem Träger verwendet.
  • Die in Beispiel 1 verwendeten Einrichtungen hatten die folgenden Spezifikationen.
  • Kationenaustauscherkolonne 2,9a:
  • Durchmesser 50 mm · Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit 1,25 l "Diaion SKN-1", von Mitsubishi Kasei Corporation hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 25 l/h
  • Anionenaustauscherkolonne 8,9b:
  • Durchmesser 50 mm x Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit 1,25 l "Diaion SAN-1", von Mitsubishi Kasei Corporation hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 25 l/h
  • Entcarbonisierungskolonne 7:
  • Durchmesser 50 mm · Höhe 2500 mm
  • Kapazität des unteren Tanks: 100 l
  • Ausgerüstet mit einem Gebläse für Reinluft
  • Umkehrosmosemembraneinheit 9c:
  • Gefäß: ein Gefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 1200 mm
  • Element: ein "NTR 729HFS2", von Nitto Electric Industrial Co., Ltd. hergestellt
  • Wasserrückgewinnung: 80%
  • Permeatstrom: 20 l/h
  • Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit 9d:
  • Eine 80-Watt-Lampe, von Nihon Photoscience, Ltd. hergestellt
  • Entmineralisierungseinrichtung 9e:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 800 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,15 l eines Kationenaustauscherharzgels und 0,35 l eines Anionenaustauscherharzgels
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Ultrafiltrationsmembranabtrennvorrichtung 9f:
  • Gefäß: ein Gefäß mit einem Durchmesser von 25 mm und einer Länge von 500 mm
  • Element: eine Hohlfaser für äußeren Druck, Fraktioniermolekulargewicht: 8000
  • Wasserrückgewinnung: 95%
  • Permeatstrom: 19 l/h
  • Vergleichsbeispiel 1
  • Das Stadtwasser (TOC: 590 ppb) von Atsugi City wurde nach dem folgenden Verfahren behandelt. Der TOC des erhaltenen Ultrareinwassers ist in Tabelle 1 angegeben.
  • Stadtwasser → Ultrafiltrationsabtrennvorrichtung → erste Umkehrosmosemembraneinheit → zweite Umkehrosmosemembraneinheit → Entmineralisierungseinrichtung → Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit → Entmineralisierungseinrichtung → Ultrafiltrationsabtrennvorrichtung → Ultrareinwasser
  • Die in Vergleichsbeispiel 1 verwendeten Einrichtungen hatten die folgenden Spezifikationen.
  • Ultrafiltrationsabtrennvorrichtung:
  • Mit einer darin vorgesehenen Klärvorrichtung mit einem Modul mit einer flachen Polysulfonmembran, die spiralförmig um eine gewellte Trägerplatte gewunden ist
  • Erste Umkehrosmosemembraneinheit:
  • Gefäß: Ein Gefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 1200 mm
  • Element: ein "NTR 729HFS2", von Nitto Electric Industrial Co., Ltd. hergestellt
  • Wasserrückgewinnung: 80%
  • Permeatstrom: 21 l/h
  • Zweite Umkehrosmosemembraneinheit:
  • Gefäß, Element: wie bei der ersten Umkehrosmosemembraneinheit
  • Wasserrückgewinnung: 95%
  • Permeatstrom: 20 l/h
  • Entmineralisierungseinrichtung:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 800 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,15 l eines Kationenaustauscherharzes vom Gel-Typ und 0,35 l eines Anionenaustauscherharzes vom Gel-Typ
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit:
  • Eine 80-W-Lampe, von Nihon Photoscience, Ltd. hergestellt
  • Ultrafiltrationsmembranabtrennvorrichtung:
  • Gefäß: Ein Gefäß mit einem Durchmesser von 25 mm und einer Länge von 500 mm
  • Element: eine Hohlfaser für äußere Druck, Fraktioniermolekulargewicht: 80000
  • Wasserrückgewinnung 95%
  • Permeatstrom: 19 l/h
  • Tabelle 1 Beispiel TOC in Ultrareinwasser (ppb) Beispiel 1 0,5 bis 1,0 Vergleichsbeispiel 1 2,2 bis 3,0
  • Aus Tabelle 1 ergibt sich, daß andere TOC-Bestandteile als Harnstoff in dem Rohwasser und auch Harnstoff wirksam zersetzt und entfernt werden, so daß nach dem Verfahren von Beispiel 1 Ultrareinwasser, das sehr wenig TOC enthält, erhalten wird.
  • Fig. 3 ist ein Flußdiagramm eines Primärreinwasserherstellungssystems zur Behandlung von Halbleiterspülabwasser, das wieder als Halbleiterspülwasser verwendet wird.
  • Nachdem das H&sub2;O&sub2; und das Detergens aus dem Halbleiterspülabwasser mit einer Aktivkohleadsorptionssäule 21 entfernt worden sind, werden Fluorwasserstoffsäure, Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure usw. mit einer Kolonne mit einem schwachen Anionenaustauscher 22 entfernt. Nach der Zugabe von Na&sub2;S&sub2;O&sub8; und H&sub2;SO&sub4; zu dem Wasser wird dieses in einem ersten Wärmeaustauscher 23 und einem zweiten Wärmeaustauscher 24 erhitzt und 2 bis 5 Minuten in einem Reaktionsgefäß 29 (ohne Katalysator) gelassen.
  • Durch diesen Vorgang werden die TOC-Bestandteile des Halbleiterspülabwassers zersetzt und entfernt. Der zweite Wärmeaustauscher 24 weist als Heizquelle eine Dampf beheizung 24a auf, wohingegen der erste Wärmeaustauscher 23 als Heizquelle einen Heißwasserbeheizer 23a aufweist, durch den das aus dem zweiten Wärmeaustauscher 24 entnommene heiße, behandelte Wasser geführt wird. Das aus dem zweiten Wärmeaustauscher 24 entnommene heiße, behandelte Wasser wird durch den Heißwasserbeheizer 23a geführt und dann in einen Tank 25, eine Kolonne mit einem schwachen Anionenaustauscher 26, eine Kolonne mit einem starken Kationenaustauscher 27 und eine Kolonne mit einem starken Anionenaustauscher 28 zur Entfernung von Anionen und Kationen eingeführt. Beispielsweise werden Na&sub2;SO&sub4;, H&sub2;SO&sub4;, CO&sub2;, nicht umgesetztes Na&sub2;S&sub2;O&sub8; usw. entfernt. Die Kolonne mit dem schwachen Anionenaustauscher 26 kann weggelassen werden, und das Wasser aus dem Tank 25 wird direkt in die Kolonne mit dem starken Kationenaustauscher 27 eingeführt.
  • Das in Fig. 3 gezeigte System hat die folgenden Vorteile.
  • (1) Die Wasserrückgewinnung ist hoch. Die Wasserrückgewinnung beträgt etwa 97%, was etwa 8% höher ist als die Wasserrückgewinnung eines herkömmlichen Systems, die etwa 89% beträgt.
  • (2) Wenn die Qualität des Rohwassers beeinträchtigt ist (Anstieg des TOC) kann unmittelbar eingegriffen werden.
  • Dies bedeutet, daß bei einer Beeinträchtigung der Qualität des Rohwassers die Zersetzung des TOC durch Erhöhung der Dosierung des Oxidationsmittels erhöht werden kann.
  • (3) Es gibt keine Betriebsstörungen auf Grund einer Verunreinigung des Systems durch Schlamm, der durch die Vermehrung von Bakterien gebildet wird.
  • Insbesondere können Bakterien vollständig durch Erhitzen des Wassers auf eine Temperatur von mindestens 120ºC in dem zweiten Wärmeaustauscher 14 abgetötet werden.
  • Beispiel 2 und die Beispiele 3 bis 6 sind Beispiele für den Betrieb des in Fig. 3 dargestellten Vorrichtungssystems.
  • Die in den Beispielen 2 bis 6 verwendeten Einrichtungen hatten die folgenden Spezifikationen.
  • Aktivkohlesäule 21:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 1500 mm
  • Gepackt mit 2 l "Kurarecoal GW 40/24", von Kurare Chemical Ltd. hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Kolonne mit schwachem Anionenaustauscher 22:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit 1 l "Diajon WA30", von Mitsubishi Kasei Corporation hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Reaktionsgefäß 29:
  • Hohlgefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Höhe von 900 mm (ohne Oxidationskatalysator)
  • Verweilzeit: 5 Min. (Fließgeschwindigkeit: 20 l/h)
  • Kolonne mit schwachem Anionenaustauscher 26:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 500 mm
  • Gepackt mit 0,7 l "Diaion WA30", von Mitsubishi Kasei Corporation hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Kolonne mit starkem Kationenaustauscher 27:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 500 mm
  • Gepackt mit 0,7 l "Diaion SKN-1", von Mitsubishi Kasei Corporation hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Kolonne mit starkem Anionenaustauscher 28:
  • Durchmesser: 50 mm x Höhe 500 mm
  • Gepackt mit 0,7 l "Diajon SAN-1", von Mitsubishi Kasei Corporation hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Beispiel 2
  • Eigenschaften des Rohwassers
  • pH: 9,3
  • TOC: 2 ppm
  • (1 ppm Isopropylalkohol, 0,5 ppm Aceton und 0,5 ppm Methanol)
  • HF: 2 ppm
  • Temperatur des behandelten Wassers in dem zweiten Wärmeaustauscher: 130ºC
  • Verweilzeit des behandelten Wasser in dem zweiten Wärmeaustauscher: 2 Min.
  • Menge des zugegebenen Na&sub2;S&sub2;O&sub8;: 134 ppm
  • (Na&sub2;S&sub2;O&sub8;-Konzentration in dem behandelten Wasser)
  • zugegebene Menge an H&sub2;SO&sub4; : 20 ppm
  • (pH-Wert des behandelten Wassers: 4,5)
  • Durch die Reinigung wurde behandeltes Wasser mit einer TOC-Konzentration von 9 ppb erhalten, nämlich wie in Tabelle 2 angegeben.
  • Beispiele 3 bis 6
  • Halbleiterspülabwasser wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 2 behandelt, mit dem Unterschied, daß die Temperatur des behandelten Wassers in dem zweiten Wärmeaustauscher 24 auf 110ºC, 130ºC, 140ºC bzw. 150ºC geändert wurde. Die TOC-Konzentrationen des behandelten Wassers ist in Tabelle 2 angegeben. Tabelle 2
  • Tabelle 2 zeigt, daß die TOC-Konzentration stark erniedrigt werden kann, indem das behandelte Wasser nach Zugabe von Na&sub2;S&sub2;O&sub8; auf mindestens 120ºC erhitzt wird.
  • Fig. 4 ist ein Flußdiagramm des gleichen Systems wie es in Fig. 3 dargestellt ist, mit dem Unterschied, daß die Aktivkohlesäule und die erste Kolonne mit dem schwachen Anionenaustauscher 22 weggelassen wurden.
  • In diesem System wurde das Na&sub2;S&sub2;O&sub8; direkt zu dem Rohwasser gegeben, wobei aber das übrige Verfahren das gleiche war wie in dem in Fig. 3 dargestellten System.
  • Zur Erhöhung des Wirkungsgrades der Regenerierung durch ein Regeneriermittel (NaOH) in der Ionenaustauscherkolonne ist die Kolonne mit schwachem Anionenaustauscher 26 vorgesehen, kann aber weggelassen werden.
  • Eine Umkehrosmosemembraneinheit kann anstelle der Ionenaustauscherkolonnen 26, 27 und 28 verwendet werden.
  • Das in Fig. 4 dargestellte System hat die folgenden Vorteile.
  • (1) Die Bildung von Schlamm und die Verunreinigung durch Schlamm kann völlig verhindert werden.
  • (2) Der Behandlungsablauf ist einfach und die Instandhaltung leicht.
  • (3) Die Wasserrückgewinnung der Vorrichtung insgesamt beträgt bis etwa 97%. Etwa 3% Wasser gehen als Regenerierungswasser für den Ionenaustausch verloren.
  • (4) Einer Veränderung der Qualität (TOC) des Rohwassers kann lediglich durch Veränderung der Dosierung des Oxidationsmittels entgegengewirkt werden. Die Erhöhung oder Erniedrigung der Ionenmenge durch die Änderung der Dosierung an dem Oxidationsmittel wird gehandhabt, indem die Zufuhrzeit des Wasser in die Ionenaustauscherkolonnen verändert wird.
  • Beispiel 7
  • Beispiel 7 zeigt ein Beispiel für den Betrieb des in Fig. 4 dargestellten Systems. Die zum Betrieb verwendeten Einrichtungen hatten die gleichen Spezifikationen wie in Beispiel 2.
  • Eigenschaften des Rohwassers
  • pH: 3
  • TOC: 3 ppm
  • (1 ppm Isopropylalkohol, 0,25 ppm Aceton, 0,25 ppm Methanol und 1 ppm Detergens)
  • H&sub2;O&sub2;: 20 ppm
  • Temperatur des behandelten Wassers im Reaktionsgefäß: 130ºC
  • Verweilzeit des behandelten Wasser im Reaktionsgefäß: 5 Min.
  • Dosierung des Na&sub2;S&sub2;O&sub8;: 180 ppm
  • (Na&sub2;S&sub2;O&sub8;-Konzentration in dem behandelten Wasser)
  • Die Reinigung ergab ein behandeltes Wasser mit einer TOC-Konzentration von 2 ppb und einem spezifischen Widerstand von 13 MΩ cm. Die TOC-Konzentration des aus dem Reaktionsgefäß 29 in den Tank 25 eingeführten Wassers betrug 3 ppb.
  • Fig. 5 ist ein Flußdiagramm eines Systems zur Herstellung von Wasser mit einer niedrigen TOC-Konzentration durch Behandlung von gemischtem Stadtwasser und Halbleiterspülabwasser.
  • Ein Oxidationsmittel (Persulfat) wurde zu dem gemischten Wasser gegeben, und nach dem Erhitzen des gemischten Wassers in einem ersten Wärmeaustauscher 31 und einem zweiten Wärmeaustauscher 32 wurde es durch ein Reaktionsgefäß 33 ohne Katalysator geführt. Der zweite Wärmeaustauscher 32 wies einen Dampfbeheizer 32a als Heizquelle auf, während der erste Wärmeaustauscher 31 einen Heißwasserbeheizer 31a als Heizquelle hatte, durch den das aus dem Reaktionsgefäß 33 entnommene heiße, behandelte Wasser geführt wurde.
  • Fig. 6 zeigt ein System zur Herstellung von Ultrareinwasser durch weitere Reinigung des mit der in Fig. 5 dargestellten Vorrichtung behandelten Wassers.
  • Das aus einem Reaktionsgefäß 33 entnommene, behandelte Wasser wird in dem Heizer 31a des ersten Wärmeaustauschers 31 dem Wärmeaustausch unterzogen, um es ungefähr auf eine normale Temperatur abzukühlen. Dann wird das behandelte Wasser einer Umkehrosmosemembraneinheit (RO) 34a und Entmineralisierungseinrichtung 34b zum Erhalt von Primärreinwasser zugeführt, das in einem Tank 34c gelagert wird. Das Primärreinwasser wird dann in eine Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit (UV) 35, eine Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 36 und eine Ultrafiltrationsmembranvorrichtung (UF) 37 zur Herstellung von Ultrareinwasser eingeführt. Bei der Entmineralisierungsreinrichtung 34b handelt es sich vorzugsweise um eine Mischbett-Ionenaustauschkolonne oder ein Zweisäulensystem (eine Kolonne mit einem starken Kationenaustauscher und eine Kolonne mit einem starken Anionenaustauscher, die in Reihe geschaltet sind).
  • Für die Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 36 ist ein Ionenaustauscher vom Nichtregenerierungstyp bevorzugt.
  • Beispiel 8
  • Beispiel 8 ist ein Beispiel für den Betrieb des in Fig. 6 dargestellten Systems. Die zum Betrieb verwendeten Einrichtungen hatten die folgenden Spezifikationen.
  • Reaktionsgefäß 33:
  • Hohlgefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Höhe von 900 mm (ohne Oxidationskatalysator)
  • Verweilzeit: 4 Min. (Fließgeschwindigkeit: 25 l/h)
  • Umkehrosmosemembraneinheit 34a:
  • Gefäß: ein Gefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 1200 mm
  • Element: ein "NTR 729HFS2", von Nitto Electric Industrial Co., Ltd. hergestellt
  • Wasserrückgewinnung: 80%
  • Permeatfluß: 20 l/h
  • Entmineralisierungseinrichtung 34b:
  • Mischbett-Ionenaustauscherkolonne
  • Durchmesser 50 mm · Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,35 l eines Kationenaustauscherharzes vom Gel-Typ und 0,65 l eines Anionenaustauscherharzes vom Gel-Typ
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit 35:
  • 80-W-Lampe, von Nihon Photoscience, Ltd. hergestellt
  • Mischbett-Ionenaustauschsäule 36:
  • Durchmesser: 25 mm · Höhe 800 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,15 l eines Kationenaustauscherharzes vom Gel-Typ und 0,35 l eines Anionenaustauscherharzes vom Gel-Typ
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Ultrafiltrationsmembraneinheit 37:
  • Gefäß: ein Gefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 500 mm
  • Element: eine Hohlfaser für äußeren Druck, Fraktioniermolekulargewicht: 80000
  • Permeatfluß: 19 l/h
  • Eigenschaften des behandelten Wassers (Stadtwasser von Atsugi City, Kanagawa, Japan, mit Halbleiterspülabwasser im Verhältnis 1 : 1 gemischt)
  • pH: 5
  • TOC: 1,5 ppm
  • (Isopropylalkohol 40%
  • Detergens 10%
  • Aceton 10%
  • Methanol 10%
  • organische Materie im Stadtwasser 30%)
  • Betriebsbedingungen:
  • Temperatur des Wassers im Reaktionsgefäß: 130ºC
  • Verweilzeit des behandelten Wasser im Reaktionsgefäß: 4 Min.
  • Oxidationsmittel: K&sub2;S&sub2;O&sub8;
  • Dosierung des Oxidationsmittels: 130 ppm
  • (K&sub2;S&sub2;O&sub8;-Konzentration in dem behandelten Wasser)
  • Dosierung der Schwefelsäure: 38 ppm
  • (pH-Wert des behandelten Wassers: 3)
  • Die Qualität des behandelten Wassers ist in Tabelle 3 angegeben. Tabelle 3
  • Aus Tabelle 3 ist ersichtlich, daß mit der in Fig. 6 dargestellten Vorrichtung behandeltes Wasser mit einer sehr niedrigen TOC-Konzentration erhalten wird.
  • Fig. 7 ist ein Flußdiagramm eines Systems, mit dem TOC durch Erhitzen zersetzt und gelöster Sauerstoff entfernt werden kann. Für die Elemente, die den in Fig. 6 dargestellten entsprechen, werden die gleichen Bezugszeichen verwendet.
  • Das Rohwasser wird durch einen Sandfilter 30 filtriert und anschließend mit Schwefelsäure versetzt, um den pH-Wert des Wassers auf 2 bis 4, vorzugsweise etwa 3, einzustellen. Nach der Zugabe eines Sulfats (vorzugsweise Na&sub2;S&sub2;O&sub8;) wird das Wasser mit den Wärmeaustauschern 31, 32 auf 120 bis 150ºC, vorzugsweise etwa 130ºC, erhitzt und die organische Materie im Reaktionsgefäß 33 zersetzt. Danach wird das Wasser bei hoher Temperatur in einer Entgasungskolonne 38 entgast und mit dem Wärmeaustauscher 31 gekühlt. Zur Zersetzung des nicht umgesetzten Sulfats wird ein Reduktionsmittel wie NaHSO&sub3; zugegeben, und dann zur Einstellung des pH-Wertes auf 4 bis 6, vorzugsweise etwa 5,5, ein kaustisches Alkali wie NaOH. Nach der Behandlung des Wassers in der Umkehrosmosemembraneinheit (die vorzugsweise mit einer PA-Membran versehen ist) 34a wird es in einer Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 34b unter Erhalt von Primärreinwasser behandelt. Das Primärreinwasser wird in dem Tank 34c gelagert und dann in die Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit 35, die Mischbett-Ionenaustauschersäule 36 und die Ultrafiltrationsmembranvorrichtung (UF) 37 unter Erhalt von Ultrareinwasser eingeführt.
  • Das in Fig. 7 dargestellte System hat die folgenden Vorteile.
  • (1) Das Rohwasser wird durch den Sandfilter 30 filtriert, was einfacher ist als eine Koagulation, Flotation und Filtration.
  • (2) Da das durch thermische Zersetzung behandelte Wasser in der Entgasungskolonne entgast wird, ist ohne weiteres Erhitzen eine Entgasung bei hoher Temperatur möglich, so daß sich dadurch Reinwasser, das nicht mehr als 1 ppb gelösten Sauerstoff enthält, ergibt.
  • (3) Da die organische Materie thermisch zersetzt wird, reicht es aus, nur in einer Stufe die Umkehrosmosemembraneinheit 34a vorzusehen.
  • (4) Da die TOC-Bestandteile ausreichend thermisch zersetzt werden, ergibt sich Reinwasser, das nicht mehr als 2 ppb TOC enthält. Darüber hinaus ist die Verunreinigung der Membran der Umkehrosmosemembraneinheit durch organische Materie stark vermindert.
  • Beispiel 9
  • Beispiel 9 zeigt ein Beispiel für den Betrieb des in Fig. 7 dargestellten Systems. Die in Beispiel 9 verwendeten Einrichtungen hatten die folgenden Spezifikationen.
  • Sandfilter 30:
  • Durchmesser: 25 mm · Höhe 3000 mm
  • Fließgeschwindigkeit: 25 l/h
  • Reaktionsgefäß 33:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 900 mm (ohne Oxidationskatalysator)
  • Verweilzeit: 4 Min.
  • Fließgeschwindigkeit: 25 l/h
  • Entgasungskolonne 38:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 5000 mm
  • Umkehrosmosemembraneinheit 34a:
  • Gefäß: ein Gefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 1200 mm
  • Element: ein "NTR 729HFS2", von Nitto Electric Industrial Co., Ltd. hergestellt
  • Wasserrückgewinnung: 80%
  • Permeatfluß: 20 l/h
  • Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 34b:
  • Durchmesser 50 mm · Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,35 l eines Kationenaustauscherharzes vom Gel-Typ und 0,65 l eines Anionenaustauscherharzes vom Gel-Typ
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit 35:
  • 80-W-Lampe, von Nihon Photoscience, Ltd. hergestellt
  • Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 36:
  • Durchmesser: 25 mm · Höhe 800 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,15 l eines Kationenaustauscherharzes vom Gel-Typ und 0,65 l eines Anionenaustauscherharzes vom Gel-Typ
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Ultrafiltrationsmembranvorrichtung 37:
  • Gefäß: ein Gefäß mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 500 mm
  • Element: eine Hohlfaser für äußeren Druck, Fraktioniermolekulargewicht: 80000
  • Permeatfluß: 19 l/h
  • Die folgenden Betriebsbedingungen wurden angewendet.
  • Rohwasser: Stadtwasser von Atsugi City, Kanagwa (TOC 800 ppb, elektrische Leitfähigkeit 190 uS/cm, freies Chlor 0,7 ppm als Cl&sub2;)
  • pH-Wert des Wassers nach Zugabe von Schwefelsäure: 3
  • Dosierung von K&sub2;S&sub2;O&sub8;: 60 ppm
  • (K&sub2;S&sub2;O&sub8;-Konzentration in dem behandelten Wasser)
  • Heiztemperatur. 130ºC
  • Entgasungstemperatur: 130ºC
  • Die Qualität des behandelten Wassers ist in Tabelle 4 angegeben.
  • Vergleichsbeispiel 2
  • Für Vergleichszwecke wurde das Stadtwasser von Atsugi City mit Aktivkohle behandelt und mit Schwefelsäure versetzt, um den pH-Wert auf 5,5 einzustellen. Das so behandelte Wasser wurde durch eine zweistufige Umkehrosmosemembraneinrichtung und eine Mischbett-Ionenaustauscherkolonne geführt. Dann wurde das Wasser unter Erhalt von Primärreinwasser entgast.
  • Die zum Betrieb verwendeten Einrichtungen hatten die folgenden Spezifikationen.
  • Aktivkohlesäule:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit 1,2 l "Kurarecoal GW 40/24", von Kurare Chemical, Ltd. hergestellt
  • Fließgeschwindigkeit: 24 l/h
  • Zweistufige Umkehrosmosemembraneinrichtung:
  • Gefäß: zwei Gefäße mit einem Durchmesser von 50 mm und einer Länge von 1200 mm
  • Element: zwei in Reihe geschaltete "NTR 729HFS2", von Nitto Electric Industrial Co., Ltd. hergestellt
  • Permeatfluß in der zweiten Stufe: 20 l/h
  • Mischbett-Ionenaustauscherkolonne:
  • Durchmesser: 50 mm · Höhe 1000 mm
  • Gepackt mit einem Gemisch aus 0,35 l eines Kationenaustauscherharzes vom Gel-Typ und 0,65 l eines Anionenaustauscherharzes vom Gel-Typ
  • Fließgeschwindigkeit: 20 l/h
  • Vakuumentgasungskolonne:
  • Durchmesser. 50 mm · Höhe 13 m
  • Stärke des Vakuums in der Kolonne: 24 mm Hg abs. (25ºC)
  • Das Primärreinwasser wurde nach der Oxidation durch UV auf die gleiche Weise wie in Beispiel 8 mit dem Ionenaustauscherharz vom Nichtregenerierungstyp und der UF- Membranvorrichtung unter Erhalt von Ultrareinwasser behandelt.
  • Die Qualitäten des Primärreinwassers und des Ultrareinwassers sind in Tabelle 4 angegeben.
  • Aus Tabelle 4 ergibt sich, daß in Beispiel 9 die Herstellung von Reinwasser mit einer sehr niedrigen TOC-Konzentration und Konzentration an gelöstem Sauerstoff möglich ist. Tabelle 4
  • Fig. 8 ist ein Flußdiagramm eines in der Erfindung verwendeten bevorzugten Systems. Wasser wie Stadtwasser oder Industriewasser wird aus einer Leitung 41 einem Rohwassertank 43 zugeführt. Das Halbleiterspülabwasser wird durch eine Leitung 42 in den Rohwassertank 43 eingeführt. ·
  • Das Rohwasser in dem Rohwassertank 43 wird mit einer Rohwasserpumpe 44 durch eine Leitung 45 in einen ersten Wärmeaustauscher 46 eingeführt und erhitzt. Das erhitzte Wasser wird durch eine Leitung 47 zur weiteren Erhitzung in einen zweiten Wärmeaustauscher 48 eingeführt.
  • Das im Wärmeaustauscher 48 erhitzte Wasser wird dann durch eine Leitung 49 in einen dritten Wärmeaustauscher 50 eingeführt. Der dritte Wärmeaustauscher 50 verwendet einen Dampfbeheizer als Heizquelle, und das Wasser wird auf 130ºC erhitzt.
  • Dann werden H&sub2;SO&sub4; und Na&sub2;S&sub2;O&sub8; zu dem erhitzten Wasser gegeben, welches anschließend durch eine Leitung 51 in ein Reaktionsgefäß 52 eingeführt wird. Bei dem Reaktionsgefäß 52 handelt es sich um ein Hohlgefäß, das aber gegebenenfalls mit einem Katalysator gepackt sein kann. In dem Reaktionsgefäß 52 wird die in dem Rohwasser enthaltene organische Materie ausreichend zersetzt. Das durch Zersetzung behandelte Wasser wird dann durch eine Leitung 53 und ein Überdruckventil 54 in eine Hochtemperaturentgasungskolonne 55 eingeführt.
  • Mit dem oberen Teil der Hochtemperaturentgasungskolonne 55 ist über die Leitungen 56, 57 ein Kondenswassersammler 58 verbunden. Die Leitung 56 ist mit einer Leitung auf der Seite des Heizquellenfluids des ersten Wärmeaustauschers 46 verbunden, und das aus der Hochtemperaturentgasungskolonne 55 extrahierte Gas wird durch die Leitung auf der Seite des Heizquellenfluids des ersten Wärmeaustauschers 46 geführt, so daß es mit dem Rohwasser zum Wärmeaustausch kommt, das durch die Leitung 45 eingeführt wird. Das durch Wärmeaustausch behandelte Gas wird dann kondensiert, in dem Kondenswassersammler 58 gesammelt und wieder in den Rohwassertank 43 zurückgeführt.
  • Das in der Hochtemperaturentgasungskolonne 55 entgaste Wasser wird am Bodenteil der Kolonne 45 durch eine Leitung 62 und mit Hilfe einer Pumpe 63 entnommen und in eine Leitung auf der Seite des Heizquellenfluids des zweiten Wärmeaustauschers 48 eingeführt. Nachdem das Wasser dem Wärmeaustausch unterzogen worden ist, wird es durch eine Leitung 64 in einen Tank 65 eingeführt und vorübergehend darin gelagert.
  • Das Wasser in dem Tank 65 wird mit einer Pumpe 66 durch eine Leitung 67 zur Umkehrosmosebehandlung in eine Umkehrosmosemembraneinheit 68 eingeführt. Das konzentrierte Wasser aus der Einheit 68 wird durch eine Leitung 69 entnommen und entsorgt. Das permeierte Wasser aus der Einheit 68 wird durch eine Leitung 70 in einen Tank 71 eingeführt und dann mit einer Pumpe 72 durch eine Leitung 73 in eine Mischbett-Ionenaustauscherkolonne. Das entmineralisierte Wasser wird durch eine Leitung 75 in eine freie Umkehrosmosemembraneinheit (oder Ultrafiltrationsmembraneinheit) 76 eingeführt. Die freie Umkehrosmosemembraneinheit 76 ist mit einer Umkehrosmosemembran versehen, die eine niedrige Salzentfernungsrate hat, beispielsweise 30 bis 50%. Das konzentrierte Wasser aus der freien Umkehrosmosemembraneinheit 76 wird durch eine Leitung 77 in den Tank 65 zurückgeführt.
  • Das permeierte Wasser aus der Einheit 76 ist Primärreinwasser und wird durch eine Leitung 78 in einen Primärreinwassertank 79 eingeführt.
  • Das Primärreinwasser wird mit einer Pumpe 80 durch eine Leitung 81 in eine Quecksilber-Niederdruck-Ultraviolettoxidationseinheit 82 eingeführt und dort durch ultraviolette Bestrahlung behandelt. Dann wird das Wasser durch eine Leitung 83 in eine Kolonne mit einem Ionenaustauscher vom Nichtregenerierungstyp eingeführt und schließlich durch eine Leitung 85 in eine Ultrafiltrationsmembranvorrichtung 86. Das permeierte Wasser aus der Vorrichtung 86, bei dem es sich um Ultrareinwasser handelt, wird durch eine Leitung 87 zum Verbrauchsort gebracht. Überschüssiges Ultrareinwasser wird aus der Vorrichtung 86 in den Primärreinwassertank 79 zurückgeführt. Das konzentrierte Wasser aus der Vorrichtung 86 wird durch eine Leitung 88 entsorgt.
  • In dem in Fig. 8 dargestellten System kann eine Umkehrosmosemembraneinheit anstelle der Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 74 verwendet werden. Außerdem können die Umkehrosmoseeinheit 68 und die Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 74 gegeneinander ausgetauscht werden.
  • Außerdem kann eine Entmineralisierungseinrichtung mit zwei Kolonnen, die aus einer in Reihe geschalteten Kationenaustauscherkolonne und Anionenaustauscherkolonne zusammengesetzt ist, anstelle der Mischbett-Ionenaustauscherkolonne 74 verwendet werden.
  • In den obigen Beispielen wurde Halbleiterspülabwasser mit Stadtwasser oder Industriewasser in den Rohwassertank 43 eingeführt, wobei aber auch nur eines davon eingeführt werden kann.
  • Stadtwasser enthält hart machende Bestandteile wie Calcium- und Magnesiumionen, während Halbleiterspülabwasser Fluoridionen enthält. Wenn Stadtwasser und Halbleiterspülabwasser, so wie sie vorliegen, miteinander vermischt werden, werden daher unlösliche Verbindungen wie CaF&sub2; gebildet. Vorzugsweise werden deshalb die Härte verursachenden Bestandteile entfernt, indem das Wasser mit einem stark sauren Kationenaustauscherharz in Kontakt gebracht wird, oder die Fluoridionen werden entfernt, indem das Halbleiterspülabwasser in Kontakt mit einem Anionenaustauscherharz (z. B. einem schwach basischen Anionenaustauscherharz mit einem guten Regenenerungswirkungs grad) gebracht wird, bevor das Stadtwasser und das Halbleiterspülabwasser miteinander vermischt werden. Es können auch beide Vorbehandlungen durchgeführt werden. Alternativ können nach dem Vermischen des Stadtwassers mit dem Halbleiterspülabwasser ohne irgendeine Vorbehandlung die gebildeten unlöslichen Verbindungen abfiltriert werden.
  • Das Reaktionsgefäß 52 in den Beispielen ist zwar nicht mit irgendeinem Katalysator gepackt, kann aber mit einem Katalysator gepackt werden.
  • Gewerbliche Anwendbarkeit
  • Wie bereits oben beschrieben, ist mit dem Verfahren zur Herstellung von Reinwasser der Erfindung die Herstellung von Ultrareinwasser mit stark verringertem TOC und einem sehr hohen Reinheitsgrad aus Rohwasser, wie Stadtwasser, Brunnenwasser und Industriewasser, möglich. Erfindungsgemäß kann der gelöste Sauerstoff in dem Reinwasser verringert werden. Außerdem ist das erfindungsgemäße System vereinfacht.

Claims (6)

1. Verfahren zur Herstellung von Reinwasser aus Fluorwasserstoffsäure und TOC- Bestandteile enthaltendem Rohwasser, umfassend:
Kontaktieren des Rohwassers mit einem schwach basischen Anionenaustauscherharz zur Entfernung von Fluoridionen aus dem Rohwasser,
Ansäuern des Rohwassers auf einen pH-Wert von höchstens 4,5 und Erhitzen in Gegenwart eines Oxidationsmittels zur thermischen Zersetzung der TOC-Bestandteile in dem Rohwasser und
Entionisieren des Rohwassers.
2. Verfahren zur Herstellung von Reinwasser nach Anspruch 1, wobei der Schritt, in dem das Rohwasser angesäuert und in Gegenwart eines Oxidationsmittels erhitzt wird, durch Zugabe des Oxidationsmittels und einer Säure zu dem Rohwasser und Erhitzen des sich ergebenden Gemisches durchgeführt wird.
3. Verfahren zur Herstellung von Reinwasser nach einem der Ansprüche 1 und 2, wobei das Rohwasser Wasserstoffperoxid enthält und ein Persulfat vor der thermischen Zersetzung zu dem Rohwasser gegeben wird.
4. Verfahren zur Herstellung von Reinwasser nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei nach der thermischen Zersetzung das Rohwasser bei hoher Temperatur entgast und dann entionisiert wird.
5. Verfahren zur Herstellung von Reinwasser nach einem der Ansprüche 1 und 4, wobei die thermische Zersetzung der TOC-Bestandteile in dem Rohwasser bei 110 bis 170ºC 2 bis 5 Minuten lang durchgeführt wird.
6. Verfahren zur Herstellung von Reinwasser nach Anspruch 5, wobei die Temperatur zur thermischen Zersetzung 130 bis 150ºC beträgt.
DE69415736T 1993-02-03 1994-02-03 Verfahren zur herstellung von reinem wasser Expired - Lifetime DE69415736T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1628193 1993-02-03
PCT/JP1994/000152 WO1994018127A1 (fr) 1993-02-03 1994-02-03 Procede de production d'eau pure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69415736D1 DE69415736D1 (de) 1999-02-18
DE69415736T2 true DE69415736T2 (de) 1999-05-20

Family

ID=11912173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69415736T Expired - Lifetime DE69415736T2 (de) 1993-02-03 1994-02-03 Verfahren zur herstellung von reinem wasser

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5571419A (de)
EP (1) EP0634364B1 (de)
JP (1) JP3180348B2 (de)
KR (1) KR0181533B1 (de)
DE (1) DE69415736T2 (de)
WO (1) WO1994018127A1 (de)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5722442A (en) * 1994-01-07 1998-03-03 Startec Ventures, Inc. On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF for semiconductor processing
JP3259557B2 (ja) 1994-12-28 2002-02-25 栗田工業株式会社 有機物の除去方法
JPH08262699A (ja) * 1995-03-28 1996-10-11 Canon Inc レジスト組成物、レジスト処理方法及び装置
JP3518112B2 (ja) * 1995-12-06 2004-04-12 東京瓦斯株式会社 燃料電池の水処理装置
JP3742451B2 (ja) * 1996-01-17 2006-02-01 昌之 都田 洗浄方法
KR100207469B1 (ko) * 1996-03-07 1999-07-15 윤종용 반도체기판의 세정액 및 이를 사용하는 세정방법
DE19625346A1 (de) * 1996-06-25 1998-01-02 Joseph Dipl Ing Maier Verfahren zur Wasseraufbereitung in einem geschlossenen Kreislauf mit Reaktor
US20020153319A1 (en) 1997-08-12 2002-10-24 Debasish Mukhopadhyay Method and apparatus for high efficiency reverse osmosis operation
US8758720B2 (en) * 1996-08-12 2014-06-24 Debasish Mukhopadhyay High purity water produced by reverse osmosis
US6537456B2 (en) 1996-08-12 2003-03-25 Debasish Mukhopadhyay Method and apparatus for high efficiency reverse osmosis operation
US5925255A (en) * 1997-03-01 1999-07-20 Mukhopadhyay; Debasish Method and apparatus for high efficiency reverse osmosis operation
EP0832852A3 (de) * 1996-09-30 1998-07-29 Peroxid-Chemie GmbH Verfahren zum Abbau von Schadstoffen
KR100251649B1 (ko) * 1997-04-22 2000-04-15 윤종용 반도체장치제조공정용초순수의제조를위한살균조성물 및 이를이용한초순수제조장치의살균방법
AU7374098A (en) * 1997-05-16 1998-12-08 Pure Water, Inc. Water distiller system for medical applications
US6059974A (en) * 1997-06-19 2000-05-09 Applied Specialties, Inc. Water treatment process
US6398965B1 (en) * 1998-03-31 2002-06-04 United States Filter Corporation Water treatment system and process
US6328896B1 (en) * 1998-04-24 2001-12-11 United States Filter Corporation Process for removing strong oxidizing agents from liquids
EP0995803A3 (de) * 1998-10-20 2001-11-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Kit zum Probebehandeln und Verfahren zum Probebehandeln für Analyse mit einem Biosensor
US6306197B1 (en) 2000-04-19 2001-10-23 Seh America, Inc. Isopropyl alcohol scrubbing system
US6325983B1 (en) 2000-04-19 2001-12-04 Seh America, Inc. Nox scrubbing system and method
KR100689693B1 (ko) * 2000-12-19 2007-03-08 삼성전자주식회사 초순수의 제조방법
JP2002282850A (ja) * 2001-03-26 2002-10-02 Mitsubishi Electric Corp 超純水製造装置
EP1484285A4 (de) * 2002-03-11 2006-04-05 Nippon Catalytic Chem Ind Verfahren zur behandlung von abwasser
US7216702B2 (en) 2003-02-28 2007-05-15 Yates Petroleum Corporation Methods of evaluating undersaturated coalbed methane reservoirs
FR2857753B1 (fr) * 2003-07-18 2006-05-05 Millipore Corp Appareil analyseur equipe de moyens de purification d'eau
CA2552768A1 (en) * 2004-01-22 2005-08-04 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Method for treating raw water containing hardly decomposable substance
US12103874B2 (en) * 2006-06-06 2024-10-01 Evoqua Water Technologies Llc Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water
WO2007146671A2 (en) * 2006-06-06 2007-12-21 Fluid Lines Ultaviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water
US10343939B2 (en) * 2006-06-06 2019-07-09 Evoqua Water Technologies Llc Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water
US8753522B2 (en) * 2007-04-03 2014-06-17 Evoqua Water Technologies Llc System for controlling introduction of a reducing agent to a liquid stream
US8741155B2 (en) 2007-04-03 2014-06-03 Evoqua Water Technologies Llc Method and system for providing ultrapure water
US9365435B2 (en) 2007-04-03 2016-06-14 Evoqua Water Technologies Llc Actinic radiation reactor
US9365436B2 (en) 2007-04-03 2016-06-14 Evoqua Water Technologies Llc Method of irradiating a liquid
US8961798B2 (en) 2007-04-03 2015-02-24 Evoqua Water Technologies Llc Method for measuring a concentration of a compound in a liquid stream
US9725343B2 (en) 2007-04-03 2017-08-08 Evoqua Water Technologies Llc System and method for measuring and treating a liquid stream
US8486684B2 (en) * 2007-08-13 2013-07-16 Frito-Lay North America, Inc. Method for increasing asparaginase activity in a solution
US7520993B1 (en) * 2007-12-06 2009-04-21 Water & Power Technologies, Inc. Water treatment process for oilfield produced water
TW201034976A (en) * 2008-12-03 2010-10-01 Rainer Bauder Systems and methods for wastewater treatment
US8591730B2 (en) 2009-07-30 2013-11-26 Siemens Pte. Ltd. Baffle plates for an ultraviolet reactor
JP5678436B2 (ja) * 2010-03-04 2015-03-04 栗田工業株式会社 超純水製造方法及び装置
EP2527301B1 (de) 2011-05-26 2016-04-27 Evoqua Water Technologies GmbH Verfahren und Anordnung zur Wasserbehandlung
JP6533359B2 (ja) * 2013-10-07 2019-06-19 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造方法
CN106029579A (zh) * 2013-11-11 2016-10-12 菲利普.赖琴 从水去除尿素的方法
US11161762B2 (en) 2015-01-21 2021-11-02 Evoqua Water Technologies Llc Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation
US10494281B2 (en) 2015-01-21 2019-12-03 Evoqua Water Technologies Llc Advanced oxidation process for ex-situ groundwater remediation
IT201600080132A1 (it) * 2016-07-29 2018-01-29 Nigris Vitantonio De Impianto per il trattamento di acque reflue e relativo procedimento.
SMP201600255B (it) * 2016-07-29 2016-08-31 Vitantonio De Nigris Impianto per il trattamento di acque reflue e relativo procedimento
CN108569828B (zh) * 2017-09-06 2020-10-30 杭州小橙工业设计有限公司 废水净化系统

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE149799C (de) *
CA971506A (en) * 1972-04-05 1975-07-22 John R. Moyer Treatment of brines by chlorination
US3870033A (en) * 1973-11-30 1975-03-11 Aqua Media Ultra pure water process and apparatus
JPS5548876A (en) * 1978-10-05 1980-04-08 Olympus Optical Co Ltd Retrieval unit for tape cassette
DE2852475C2 (de) * 1978-12-05 1980-05-22 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt Verfahren zur automatisch steuerbaren Entgiftung von Nitritionen enthaltenden Abwässern
DD149799A1 (de) * 1980-03-10 1981-07-29 Volker Vobach Verfahren zur herstellung von organisch-chemisch ultrareinem wasser im laboratorium
DE3125452C2 (de) * 1981-06-29 1985-09-12 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zum Entgiften und zum Absenken des CSB und des BSB in kontinuierlichen Abwasserströmen mit wechselnden Gehalten verschiedener oxidierbarer Inhaltsstoffe mit Wasserstoffperoxid
JPS60212288A (ja) * 1984-04-05 1985-10-24 Mitsubishi Metal Corp アンモニウムイオンとフツ素イオンを含む廃水の処理法
US4594170A (en) * 1984-06-25 1986-06-10 Fmc Corporation Method for liquifying chloride-based heavy brine well completion fluids
US4595498A (en) * 1984-12-27 1986-06-17 Thomson Components-Mostek Corporation Water-polishing loop
JPS62193696A (ja) * 1986-02-20 1987-08-25 Nomura Micro Sci Kk 超純水の製造法
US4751005A (en) * 1986-08-22 1988-06-14 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd. Method for treatment of waste water
US4767543A (en) * 1986-11-13 1988-08-30 Universite De Sherbrooke Oxidation of wastewaters
US4792407A (en) * 1986-11-25 1988-12-20 Ultrox International Oxidation of organic compounds in water
DE3884435T2 (de) * 1987-03-25 1994-02-17 Hitachi Ltd Verfahren zur Erzeugung hochreinen Wassers und Verfahren zur Verwendung dieses Wassers.
US4990260A (en) * 1988-01-28 1991-02-05 The Water Group, Inc. Method and apparatus for removing oxidizable contaminants in water to achieve high purity water for industrial use
US4861484A (en) * 1988-03-02 1989-08-29 Synlize, Inc. Catalytic process for degradation of organic materials in aqueous and organic fluids to produce environmentally compatible products
JPH0217994A (ja) * 1988-07-07 1990-01-22 Toshiba Corp 超純水製造装置
JP2768732B2 (ja) * 1989-05-01 1998-06-25 神鋼パンテック株式会社 加熱脱気超純水装置
JPH0753276B2 (ja) * 1989-10-03 1995-06-07 栗田工業株式会社 フッ化物含有水の処理方法
US5061374A (en) * 1989-12-18 1991-10-29 Micron Technology, Inc. Reverse osmosis as final filter in ultrapure deionized water system
JPH0647105B2 (ja) * 1989-12-19 1994-06-22 株式会社荏原総合研究所 純水又は超純水の精製方法及び装置
US5232604A (en) * 1990-01-31 1993-08-03 Modar, Inc. Process for the oxidation of materials in water at supercritical temperatures utilizing reaction rate enhancers
US5106513A (en) * 1990-01-31 1992-04-21 Modar, Inc. Process for oxidation of materials in water at supercritical temperatures and subcritical pressures
JP2520317B2 (ja) * 1990-03-14 1996-07-31 日立造船株式会社 超純水製造装置および方法
JPH0790219B2 (ja) * 1990-08-01 1995-10-04 日本錬水株式会社 純水製造装置及び製造方法
US5141717A (en) * 1990-12-24 1992-08-25 Ionics, Incorporated Carbon monitor containing anion exchange resin
JPH0557300A (ja) * 1991-09-04 1993-03-09 Hitachi Ltd 超純水製造装置
JP2902511B2 (ja) * 1991-12-24 1999-06-07 三菱電機株式会社 超純水の製造装置、製造方法及び製造装置の制御方法
KR960016302B1 (ko) * 1992-05-15 1996-12-09 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 순수(純水)의 제조장치 및 순수의 제조방법
JP3468784B2 (ja) * 1992-08-25 2003-11-17 栗田工業株式会社 超純水製造装置
US5356539A (en) * 1993-03-19 1994-10-18 Air Products And Chemicals, Inc. Tandem waste stream treatment for the removal of nitroaromatics and nitrophenolics

Also Published As

Publication number Publication date
KR950700859A (ko) 1995-02-20
EP0634364B1 (de) 1999-01-07
EP0634364A4 (de) 1995-06-14
WO1994018127A1 (fr) 1994-08-18
JP3180348B2 (ja) 2001-06-25
EP0634364A1 (de) 1995-01-18
DE69415736D1 (de) 1999-02-18
US5571419A (en) 1996-11-05
KR0181533B1 (ko) 1999-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69415736T2 (de) Verfahren zur herstellung von reinem wasser
DE4125541C2 (de) Anlage zum Reinigen von Wasser
DE60106854T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Elektroentionisierung von Wasser
DE69013653T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von reinem oder ultrareinem Wasser.
EP0281940B1 (de) Verfahren zum Abbau von organischen Stoffen und/oder von Keimen in vorbehandeltem Speisewasser für Reinstwasserkreisläufe
US6398965B1 (en) Water treatment system and process
DE4233270C2 (de) Verfahren zur Entfernung von nichtionogenen Siliciumdioxidbestandteilen aus Wasser
KR100976903B1 (ko) 산성 조건하에서 역삼투에 의한 유동체 처리 방법과 장치
EP2162401B1 (de) Aufbereitung von wasser mit hypobromitlösung
JPWO1994018127A1 (ja) 純水の製造方法
US20100288308A1 (en) Method and system for producing ultrapure water, and method and system for washing electronic component members
EP1640344B1 (de) Reinwasserproduktionssystem
JP3164970B2 (ja) 一価イオンの中性塩を含む排水の処理方法
DE69004785T2 (de) Verfahren und System zum Entfernen von in Wasser gelöstem Sauerstoff.
JP5499433B2 (ja) 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置
DE4222109A1 (de) Verfahren zur Herstellung von hochreinem Wasserstoffperoxid für die Mikroelektronik
JP2002210494A (ja) 超純水製造装置
JP2001191080A (ja) 電気脱イオン装置及びそれを用いた電気脱イオン化処理方法
JP3259557B2 (ja) 有機物の除去方法
JPH10309588A (ja) 水処理方法、水処理装置及び純水製造装置
JPH09253638A (ja) 超純水製造装置
JPH0747364A (ja) 超純水製造装置
DE2851135C2 (de) Verfahren zum Regenerieren von zur Entfernung von Anionen starker Säuren aus Rohwässern verwendeten Anionenaustauschern in Hydrogenkarbonatform
JP2003245659A (ja) 排水処理方法及び装置
JP3528287B2 (ja) 純水の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition