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WO1994014303A1 - Procede et appareil pour traitement au plasma a decharge luminescente a la pression atmospherique - Google Patents

Procede et appareil pour traitement au plasma a decharge luminescente a la pression atmospherique Download PDF

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WO1994014303A1
WO1994014303A1 PCT/JP1992/001607 JP9201607W WO9414303A1 WO 1994014303 A1 WO1994014303 A1 WO 1994014303A1 JP 9201607 W JP9201607 W JP 9201607W WO 9414303 A1 WO9414303 A1 WO 9414303A1
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WO
WIPO (PCT)
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gas
tube
plasma processing
atmospheric pressure
processing apparatus
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP1992/001607
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Satiko Okazaki
Masuhiro Ogoma
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Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to PCT/JP1992/001607 priority Critical patent/WO1994014303A1/ja
Publication of WO1994014303A1 publication Critical patent/WO1994014303A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/513Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using plasma jets
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/30Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Definitions

  • the present invention relates to an atmospheric pressure glow discharge plasma processing apparatus.
  • the present invention provides an atmospheric pressure glow discharge plasma capable of performing a surface treatment of various substances or materials under atmospheric pressure, or a reaction such as synthesis or decomposition. It is related to processing equipment.
  • plasma CVD a method using a glow discharge plasma generated under so-called high vacuum conditions
  • ion plating or the like. It is important for plasma, plasma etching, and plasma surface treatment.
  • the inventor of the present invention has established a glow discharge plasma technique under atmospheric pressure as an alternative to the conventional glow discharge plasma technique as a low-pressure method, and has discussed its application. Has also been diligently examining. As a result, this atmospheric pressure glow discharge plasma does not require a complicated vacuum system as in the past, and enables high-efficiency, high-quality surface treatment and thin film formation. And find that Practical application in various fields has been attempted. Since then, this atmospheric pressure glow discharge plasma has been further developed as being useful for so-called waste gas treatment and gas phase synthesis reaction.
  • the inventors of the present invention use a rare gas as a diluent gas mainly with He ', dilute the reactive gas to a large extent, maintain the total pressure under atmospheric pressure, and perform a glow discharge.
  • the atmospheric pressure glow discharge plasma treatment method to be generated has already been proposed.This method can generate a stable glow discharge under the atmospheric pressure, so the vacuum evacuation system is omitted. This makes it possible to significantly reduce the cost of the processing equipment.
  • the inner surface of the insulator tube such as a cylindrical tube is It is not suitable for the treatment and for obtaining a gaseous reaction product flowing through the inside of the tube, and various improvements were also required in this regard.
  • An object of the present invention is to provide a new atmospheric pressure glow discharge plasma processing apparatus capable of realizing a large amount of discharge processing by a simple apparatus.
  • the present invention solves the above-mentioned problems by using a metal cylinder having a tip at the end of the outlet port as an electrode, and supplying rare gas and gas through the outlet port of the electrode metal pipe.
  • Atmospheric pressure plasma processing characterized by blowing out an inert gas or air or a mixed gas of these and a reactive gas and applying a voltage to generate discharge plasma under atmospheric pressure.
  • the present invention provides a plurality of ring-shaped electrode pairs in the length direction of the outer peripheral portion, and a reactive gas and a rare gas are supplied from one end of an insulator tube in which each of the pair of multi-electrodes is connected in parallel or in series.
  • a gas mixture with a gas is introduced, and a glow discharge plasma is generated inside the tube under atmospheric pressure, and the inner surface of the tube or the inside of the tube becomes static.
  • an in-pipe atmospheric pressure glow discharge plasma processing apparatus characterized by stopping, moving, or processing a flowing material.
  • FIGS. 1 to 9 of the attached drawings are configuration diagrams each showing a blow-off type plasma processing apparatus of the present invention.
  • FIG. 10 is a configuration diagram illustrating an in-tube plasma processing apparatus. The symbols in the figure indicate the following: 1 Insulation tube
  • FIG. 11 is a spectrum diagram of wavelength and absorption.
  • FIG. 12 is a correlation diagram between the discharge power and the concentration in the waste gas.
  • the blow-off type plasma processing apparatus may be configured such that metal electrodes having variously shaped protruding portions are used as electrodes, and the metal pipes may be cylindrical, rectangular, or cylindrical. Alternatively, it may have any of a variety of shapes, such as a flat cylindrical body, and a structure of a single cylinder or multiple cylinders.
  • the tip may be formed by a notched inclined surface at the edge, or the peripheral edge may be a tooth-like or needle-like body, or a plurality of loop-like wires. It may also be formed by disposing of the components.
  • the plasma reaction is also possible, such as formation of a thin film on the surface of the substrate facing the outlet, processing such as surface modification, synthesis of gas compounds, gas decomposition, etc.
  • the device of the present invention is applied to an object. This device realizes highly efficient plasma reaction at extremely low cost. For this reason, for example, there is no need for an expensive device for keeping the gap mm uniform with a long cylinder in a conventional ozonizer. It is advantageously applied to various synthesis and decomposition reactions.
  • a metal tube is used as an electrode for glow discharge.
  • the metal pipe () can be formed with a slope with the edge (3) of the outlet (2) cut out to form a tip.
  • a voltage is applied to the electrode of the metal tube (1) by a power supply (4), and a voltage is applied to the conduit of the metal tube (1).
  • the surface of (7) is treated, and film formation or surface modification is performed.
  • the metal tube (1) may be carbon as long as it is conductive, but the type is not particularly limited, but it is heat-resistant such as stainless steel, tungsten, and molybdenum. However, when the outside of the pipe is cooled by a water cooling jacket or the like, a copper pipe or the like can be used.
  • the inner and outer diameters are not limited, and may be a large-diameter metal tube having an inner diameter exceeding 10 cm or a thin tube having a diameter of 0.1 mm or less.
  • the distance (I) between the metal tube (1) as the electrode and the substrate (7) can be appropriately determined depending on the type of gas, the blowing speed thereof, the state of the green plasma, and the like. For example, it can be set to about 0.1 mm to 100 mm or more. Further, in order to prevent external creeping discharge of the metal tube '(1), as shown in FIG. 2, the peripheral surface thereof may be covered with an insulator (8).
  • the power supply (4) connected to such a metal tube (1), and a low frequency of several KHz to a high frequency of several 10 KHz or 13.56 MHz. It can be done.
  • the discharge occurs with respect to the arc pole, that is, the stray capacitance between the counter electrode and the high-voltage pole.
  • it is effective to place the substrate (7) on a dielectric.
  • arcing can be prevented by adding a small capacitor in series between the high-voltage electrode and the power supply.
  • inorganic gas such as oxygen and ammonia is used.
  • Compounds and fluorine chemicals such as C 2 F 4 and C 3 F 6,
  • Fluorinated paraffinic hydrocarbons such as CF4 ⁇ and C2F6, or chain hydrocarbons with side chains containing fluorine atoms, or fluorinated aromatic hydrocarbons any organic compound such as hydrocarbon having functional groups, does not have also rather like, the are al N 0 x, S 0, ⁇ you can in this transgression using waste gas, etc. containing.
  • Such reactive gases are rare gases such as He and Ar.
  • an inert gas such as N 2 or air
  • the total pressure of the gas (5) should be around 1 atm.
  • ketones and meta- It is also advantageous to mix hydrocarbon compounds such as ethane and ethane.
  • the mixing ratio is from the order of ppm to several percent.
  • Glow plasma can be generated stably and, depending on the selection of conditions, can be used effectively as other types of discharge.
  • the substrate (7) when used, it can be made of rubber plastic, glass, ceramics, or any other appropriate type and in various shapes, such as bulk, plate, It can be a fibrous body, powder, film or the like. It is not necessary to use such a substrate (7) for waste gas treatment or gas phase synthesis.
  • a further example of a metal cylinder as an electrode is:
  • the metal pipe (1) may have an inclined surface on the inner periphery of the edge (3), or may have an inclined surface as shown in FIG. 4 and FIG.
  • a tooth-like body (9) or a needle-like body (10) may be provided on the peripheral edge.
  • the electric field is concentrated on these protruding parts, that is, the parts having a small radius of curvature.
  • the preferred range of the radius of curvature is determined by the type of gas.
  • a plurality of loop-shaped wires may be provided at the edge (3).
  • a suitable thickness is determined depending on the gas to be used. Therefore, the discharge can be controlled by the thickness of the wire (11). For example, in the case of argon (Ar), about 0.3 mm and N 2 are considered, and in the case of air, about 0.025 mm is considered.
  • a wire of the same thickness can be filled into the pipe leading to the outlet at a constant bulk density.
  • a metal wire coated with an insulating material may be filled in a dielectric solid cylinder such as a glass. These coating wires constitute the tip of the present invention.
  • the coating wire (110) is placed inside a tube made of a metal tube (111) with an insulating coat (112) such as glass. It may be arranged at a location.
  • the coating wire (110) is coated, even if it comes into contact with the metal tube (111), the entire length thereof effectively functions as an electrode.
  • Such a variety of protruding portions can be employed in a case where a single metal cylinder is used or in a multi-layer structure as illustrated in FIG.
  • a gas (A) that is difficult to discharge is blown out to the center, and a gas (B) that is easy to discharge is blown out, so that the gas that is difficult to discharge is discharged. Therefore, the discharge efficiency can be further improved.
  • FIG. 8 For fine processing such as surface etching of the base (7), an apparatus as shown in FIG. 8 may be used.
  • waste gas treatment and gas phase synthesis as shown in Fig. 9,
  • the electrode metal tube (14) may be made to face the lower tube (13) covered or uncoated by (12).
  • the outer peripheral portion of an insulator tube (1) such as a cylindrical tube is provided.
  • a pair of rig-shaped electrodes (2) and (3) are provided. So A plurality of combinations of lever electrodes (2) and (3) are provided in the pipe length direction.
  • the material of the insulating tube (1) For example, general-purpose plastics such as glass and vinyl tubes, as well as PTFT, FEP, PET, PPS.PEEK, ABS, silicone tubes, etc. Any general-purpose plastic material for industrial use, ceramics, etc. can be used.
  • the thickness of the insulating tube (1) is not particularly limited, and the diameter is 10 mm. Large-diameter pipe exceeding cm ⁇ Can be made of any material such as ultra-fine pipe of 0.1 mm ⁇ or less.
  • the cross-sectional shape can be circular or polygonal.
  • a foil-shaped electrode is used as a pair of the ring-shaped electrodes (2) and (3), and this can be attached to the outer peripheral surface of the insulator tube (1).
  • the insulator tube can be moved in the axial direction of the electrodes (2) and (3), so that a long object can be continuously connected. Processing becomes possible.
  • various conductive materials such as copper, silver, nigel, anolymium, stainless steel, and carbon can be arbitrarily used. .
  • the distance (L) between the electrodes of such ring-shaped electrodes (2) and (3) can be up to about 25 mm. Preferably from 5 mm 20 mm.
  • the width (m) is preferably from 0.1 mm to about 20 mm. In addition, it can correspond to the diameter of the insulating tube (1). Further, in order to prevent external creeping discharge, the entire outer peripheral surface can be covered with an insulating adhesive such as epoxy or silicone adhesive.
  • a pair of electrodes can be connected in parallel or in series, for example, as illustrated in FIG.
  • connection direction between the above-mentioned electrodes it is preferable to make them parallel in order to reduce the applied voltage.
  • the frequency can be as low as K Hz and several ⁇ ⁇ ⁇ or as high as 13.56 MHz.
  • the reactive gas of the mixed gas (5) introduced from one end of the insulator tube (1) may be an inorganic monomer such as oxygen or ammonia, or C 2 F 4 or C 3 F 6.
  • a reactive gas is greatly diluted with a diluent gas mainly composed of He to obtain a mixed gas (5).
  • the mixing ratio of He is large, but an inert gas such as Ar or N2 can be mixed if necessary.
  • the mixing ratio of Ar to He can be about 90%. This makes it possible to reduce the amount of expensive He used and reduce the cost.
  • the total pressure of the mixed gas (5) should be around 1 atm.
  • the generated glow discharge plasma can cause various chemical treatments such as various surface treatments, thin film formation, synthesis, decomposition, etc., and the efficiency can be significantly improved.
  • Targets include the inner surface of the insulator tube (1), as well as objects placed inside the insulator tube (1) or moving body surfaces such as powders that are suspended or vibrated and carried inside the tube. Arbitrarily, such as a circulated material, a liquid surface partially leaving a gas phase. There are no particular restrictions on the surfaces that can be treated, including untreated surfaces. As such, any surface formed or treated with cellulose, biomaterial, or the like can be used.
  • the tip of a stainless steel cylinder with an outer diameter of 3 mm and an inner diameter of 2 mm is sharply polished as shown in Fig. 1 to form a discharge tube.
  • a stainless steel plate with a thickness of 5 mm was used as the lower electrode, on which a soft film and a polyethylene film with a thickness of 40 mm were attached as a sample.
  • the gap between the tip of the discharge tube and the lower electrode was 20 mm.
  • the area around the discharge tube is open to the atmosphere.
  • the surface of the sample polyethylene placed at the tip of the jet stream is exposed to the stream of excited argon atoms generated in the plasma, causing a chemical change.
  • the gas in the jet stream Since the temperature remains low, even low-melting soft polyethylene does not melt.
  • Table 1 shows the contact angles of water droplets on the polyethylene surface treated by the above method.
  • Example 1 The lower electrode in Example 1 is removed, and only the polyethylene film is supported by an insulator support rod and stretched perpendicular to the blowout electrode. A plasma jet was sprayed on the surface of the sample film at a distance of 20 from the discharge tube tip.
  • Table 2 shows the contact angles of water droplets on the treated sample surface.
  • Example 2 In both Example 1 and Example 2, the contact angle on the surface was extremely reduced within a very short time of several seconds to 10 seconds.
  • Polyethylene surface which originally has high water-based and water-based properties and thus lacks the ability to bond with various adhesives, has been easily converted to hydrophilic, that is, an active surface that can be bonded by the above method. become.
  • the discharge tube can be moved left, right, up and down, or the discharge tube having a different diameter can be used. This shows that surface treatment can be performed with any shape and size regardless of the size and shape of the object to be processed or the presence or absence of the lower electrode, which is an extremely useful method.
  • the opposite electrode is the earth potential located at infinity, and it goes without saying that the discharge is caused through the stray capacitance of the discharge tube.
  • the surface to be treated is discolored to a whitish color over a long period of time of 20 seconds or more, indicating a chemical change such as oxidation.
  • a r Metastable excited atoms that are in a high electron energy state are generated in the plasma and sprayed on the surface, cutting high molecular chains on the surface, resulting in cross-link bonds inside and peroxide on the surface It is considered that a hydrophilic reactive group such as a product was generated.
  • Example 3 ′ Since the metastable atom is in a highly excited state only in the electronic state and the gas temperature is around room temperature, it does not cause phenomena such as melting of the surface to be processed, which is likely to occur in high-temperature plasma jet processing.
  • Example 3 ′ Since the metastable atom is in a highly excited state only in the electronic state and the gas temperature is around room temperature, it does not cause phenomena such as melting of the surface to be processed, which is likely to occur in high-temperature plasma jet processing.
  • the gas to be polymerized was mixed with a carrier gas such as Ar and blown out, dissociated in the carrier gas plasma jet, and placed on the partner electrode. It was formed as a polymer thin film on a substrate.
  • a mirror-polished 0.5 mm thick silicon wafer was used as a sample substrate mounted on a stainless steel electrode.
  • Fig. 11 shows the transmitted infrared spectrum of this powder.
  • the mixed gas containing PP m is mixed into N 2 carrier gas, blown out together with N 2 plasma, decomposed, and sampled with a glass tube with a diameter of 10 mm downstream of the plasma. Analysis was performed by the chromatographic method. The experimental conditions are described below.
  • one electrode width (m) is set to the outside of a Pyrex glass tube with an outer diameter of 15 mm, a thickness of 2 mm, and a length of 500 mm. mm, the distance between the poles (L) was 20 mm, a plurality of electrode pairs were arranged, and the total length of the electrode group was 310 mm.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the electrode material was a copper plate.
  • the discharge conditions were as follows.
  • Example 5 In the same manner as in Example 5, a mixed gas of He and C 2 F 4 (tetrafluoroethylene, TFE) was introduced at 1 atm to generate a discharge. A polyimid film was inserted into the glass tube, but a transparent film was formed on the inner surface.
  • C 2 F 4 tetrafluoroethylene
  • PT'FE polytetrafluoroethylene
  • the present invention is not limited by the above examples. It goes without saying that various modes are possible for details such as the form and material of the electrode, the type of reactive gas and rare gas to be introduced, and the applied voltage and its frequency.
  • a highly efficient and stable plasma reaction is realized with a simple structure. Stationary or moving inside or inside an insulator tube such as a cylindrical tube made of glass, plastic, ceramics, etc. Alternatively, it becomes possible to perform plasma treatment on the flowable material under atmospheric pressure.

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Description

明 細 書 大気圧グロ一放電プラズマ処理装置及び処理方法 技術分野
この発明は、 大気圧グロ一放電プラズマ処理装置に関 する ものである。
さ らに詳し く は、 この発明は、 各種の物質も し く は素 材を大気圧下で表面処理'し、 あるいは合成、 分解等の反 応をさせる とのでき る大気圧グロ一放電プラズマ処理装 置に関する ものである。
背景技術
従来よ り、 半導体、 電子デバイ ス等のエレク ト ロニク ス材料や、 バイオマテ リ アル、 新機能ポ リ マー等の材料 の表面処理や、 新材料創製のための薄膜の形成、 あるい は廃ガスの分解処理、 気相合成反応などの各種の分野に おいて放電によ って生成させたプラズマを利用する こ と が検討されてきており 、 すでにい く つかの分野において は実用的な基盤技術と しての地位を確立している。
そ して、 これらのプラズマ処理技術のう ち、 いわゆる 高真空条件下において生成させたグロ一放電プラズマを 利用する方法が、 プラズマ C V D、 イオンプレーティ ン グ、 プラ ズマエ ッ チ ング、 プラ ズマ表面処理法等と して 重要な ものとなっている。
しかしながら、 これらの低圧グロ一放電プラズマ技術 の場合には、 比較的品質の良い加工表面や薄膜の形成を 可能とする ものと してその特徴が認められているが、 い わゆる低圧条件を採用 しているために、 真空系設備の設 置とそのメ ンテナンスが必要になり、 かつ、 連続化が困 難であ り 、 装置の気密性を保っためのコス トが膨大にな る等の欠点があった。 '
それと言うのも、 従来の技術的知見によれば、 グロ一 放電プラズマの生成のためには、 通常、 数 To r r以下の低 圧条件が必須とされていたからである。 これは圧力を上 昇させてい く と 1 0 0 To r r前後から放電が一点に集中 し 始め、 大気圧付近では火花やアーム放電に移行し、 被処 理対象物の均一な処理が不可能となるからである。
そこで、 この発明の発明者は、 これら従来の低圧法と してのグロ一放電プラズマ技術に代わる ものと して、 大 気圧の条件下でのグロ一放電プラズマ技術を確立し、 そ の応用についても鋭意検討を行ってきた。 その結果、 こ の大気圧グロ一放電プラズマは、 従来のよ う な面倒な真 空系を必要とする こ とがな く 、 高効率で、 かつ、 高品質 な表面処理や薄膜形成等が可能である こ とを見出 し、 各 種の分野への実用化を図ってきた。 その後、 この大気圧 グロ一放電プラズマは、 いわゆる廃ガス処理、 気相合成 反応にも有用な ものと してさ らに新しい発展が図られて いる。
すなわち、 この発明の発明者らは、 H e 'を主体と して 希ガスを希釈ガスと して用い、 反応性ガスを大希釈し、 全圧を大気圧下に保持してグロ一放電を発生させる大気 圧グロ一放電プラ ズマ処理方法をすでに提案してもいる , この方法では、 大気圧下'に安定なグロ一放電を発生させ る こ とができ るため、 真空排気システムを省略する こ と ができ、 処理装置のコス トを極めて低減させる こ とを可 能と している。
しかしながら、 発明者らがすでに提案している大気圧 グロ一プラズマ処理方法においては、 針状電極または、 絶縁体被覆の平板電極を併用 している こ とから、 この処 理方法の利用形態には限界があり、 制御の容易性の点で も改良の余地が残されていた。 そ して、 被処理部の大き さや形状が制約され、 任意の位置での物品等の表面処理 等が必ずし も容易でないという問題があつた。
また、 従来の方法の場合には、 装置の大きさの割に、 ェネルギー効率が悪い等の問題があった。
しかも、 従来の方法では、 円筒管等の絶縁体管内面の 処理、 また、 管内部を流通する気体の反応生成物を得る ためには不向であって、 この点でも種々の改良を必要と していた。
この発明は、 以上の通りの事情に鑑みてなされたもの であり 、 従来法の欠点を解消 し、 多様な形態での利用を 可能とする こ とができ、 高効率な放電の安定な利用を図 り 、 大量の放電処理を簡便な装置によって実現する こ と ができ る新しい大気圧グロ一放電プラズマ処理装置を提 供する こ とを目的と している。
発明の開示
この発明は、 以上の通りの課題を解決する ものと して 吹き出 し口端縁に突先部を設けた金属筒を電極と し、 こ の電極金属管路の吹出 し口よ り希ガス、 不活性ガスまた は空気、 も し く はこれらと反応性ガスとの混合ガスを吹 き出 して電圧を印加し、 大気圧下で放電プラズマを生成 させる こ とを特徴とする大気圧プラズマ処理装置を提供 する。
また、 この発明は、 外周部の長さ方向に一対の リ ング 状電極対を複数設け、 この各々一対の多電極を並列また は直列に結線した絶縁体管の一端部から反応性ガスと希 ガスとの混合ガスを導入し、 大気圧下で管内部にグロ一 放電プラズマを発生させて、 管内面、 または管内部の静 止、 移動あるいは流通物を処理する こ とを特徴とする管 内大気圧グロ一放電プラズマ処理装置をも提供する。 図面の簡単な説明
添付した図面の第 1 図〜第 9 図は、 各々 、 この発明の 吹出 し型プラズマ処理装置を示 した構成図である。
図中の符号は次の ものを示している。
1 金属管
2 吹き出 し口
3 端縁
4
5 ガス
6 大気圧グロ一プラズマ
7 基体
8 絶縁体
9 困状体
1 0 針状体 ·
1 1 ワイ ヤ
1 2 誘電体
1 3 下部筒
1 電極金属筒
また 第 1 0 図は 、 管内プラズマ処理装置を例示した 構成図である。 図中の符号は次の ものを示している 1 絶縁体管
2 電 極
3 電 極
4 電 源
5 混合ガス
第 1 1 図は、 波長と吸収とのスぺク トル図である。 第 1 2 図は、 放電電力と廃ガス中濃度との相関図であ る。
発明を実現するための最良の形態
この発明の吹出 し型のプラズマ処理装置については、 各種の形状の突先部を有する金属筒を電極とする ものが 可能であって、 この金属筒と しては、 円筒状、 角筒状、 も し く は平板筒状体等の様々 な形状と、 単一筒も し く は 多重筒のいずれの構造と してもよい。
また、 突先部も、 端縁の切欠き傾斜面によ って形成し たものであってもよい し、 周端縁を歯状体あるいは針状 体、 さ らには複数のループ状ワイヤの配設等によって形 成してもよい。
そ してプラズマ反応の適用 も様々 に可能であ り 、 吹き 出 し口に対向する基体表面への薄膜の生成、 その表面の 改質等の加工、 ガス化合物の合成、 ガス分解等の適宜な 対象にこの発明の装置は適用される。 この装置によ って、 極めて低コス トで、 高効率なブラ ズマ反応が実現される。 このため、 たとえば、 従来のォ ゾナイザにおける長尺円筒で空隙 mmを均一に保つよ う な高価な装置も全く 必要がない。 各種の合成、 分解反応 に有利に適用される。
図面に沿ってさ らに説明する と、 たとえば第 1 図に例 示したよ う に、 グロ一放電のための電極と して金属管
( 1 ) を用い、 この金属管 ( 】 ) の吹出 し口 ( 2 ) の端 縁 ( 3 ) を切欠いた状態で傾斜面を形成し、 突先部とす る こ とができ る。
大気圧吹き出 し型のグロ一プラズマ放電のためには、 たとえばこの金属管 ( 1 ) の電極には電源 ( 4 ) によつ て電圧印加し、 また、 金属管 ( 1 ) の管路には、 ガス
( 5 ) を導入し、 吹出 し口 ( 2 ) よ り吹き出す。 そ して この吹出 し と同時に管路の外部にジエ ツ ト状の大気圧グ 口一プラズマ ( 6 ) を生成する。
この大気圧グロ一プラズマ ( 6 ) によって被処理基体
( 7 ) の表面が処理され、 膜付け、 あるいは表面改質等 が行われる こ とになる。
もちろん金属管 ( 1 ) と しては、 導電性であればカー ボンでもよいが、 その種類に特に限定はない ものの、 ス テンレス、 タ ングステン、 モ リ ブデン等の耐熱性の もの が好適であるが、 管外部を水冷ジャ ケ ッ ト等によって冷 却する場合には銅パイプ等も使用でき る。 その内径およ び外径にも制限はな く 、 内径が直径 1 0 cmを越える大径 金属管や、 0 . 1 mm径以下の細管であってもよい。
この電極と しての金属管 ( 1 ) と基体 ( 7 ) の距離 ( I ) についても、 ガスの種類やその吹き出 し速度、 グ ロ ープラズマの状態等によ って適宜とする こ とができ、 たとえば 0 . 1 mm程度から 1 0 0 mm以上とする こ と もで き る。 また、 この金属管'( 1 ) の外部沿面放電を防止す るため、 第 2 図に示したよ う に、 絶縁体 ( 8 ) によって その周面をカバー しておいてもよい。
このよ う な金属管 ( 1 ) に接続する電源 ( 4 ) につい ても特別に制限はな く 、 数 K H z のの低周波から数 1 0 K H z あるいは 1 3 . 5 6 M H z までの高周波とする こ とができ る。 なお、 放電は、 アーク極相当、 つま り対極 と高電圧極との間の浮遊容量に対して発生する。 アーク の生成を防ぐには、 前記基体 ( 7 ) を誘電体にのせるの も有効である。 また、 高電圧極と電源との間に小さな容 量のコ ンデンサを直列に加える こ とでアークの生成を防 ぐこ と もでき る。
また、 金属管 ( 1 ) の導入するガス ( 5 ) と して反応 性ガスを用いる場合には、 酸素、 ア ンモニア等の無機化 合物や C 2 F 4 , C 3 F 6 等のフ ッ化工チ レ ン系、
C F 4■ , C 2 F 6 等のフ ッ素化パラ フ ィ ン系炭化水素、 またはフ ッ素原子を含む側鎖のついた鎖状炭化水素、 あ るいはフ ッ素化芳香族炭化水素などの官能基を有する、 も し く は有さない炭化水素等の任意の有機化合物、 さ ら には N 0 x , S 0 , 等含有の廃ガス等を用いる こ とがで き る。 このよ う な反応性ガスは、 H e, A r等の希ガス
N 2 等の不活性ガス、 あるいは空気で希釈し、 混合ガス とする。 いずれの場合も反応性ガスは過剰希釈するのが 好ま し く 、 そ してガス ( 5 ) の全圧は 1 気圧付近とする なお、 プラズマの安定化の点では、 ケ ト ン類、 メ タ ン、 エタ ン等の炭化水素化合物を混入する こ と も有利である , この場合の混入比は、 p p mオーダーから数%程度とす る。 グロ一プラズマが安定に生成する と と もに、 条件の 選択によっては他種の放電と して有効に利用する こ と も でき る。 もちろん、 基体 ( 7 ) を使用する場合にはゴム プラスチ ッ ク、 ガラス、 セラ ミ ッ ク ス、 その他の適宜な 種類と多様な形状の ものとする こ とができ、 バルク体、 板状体、 繊維状体、 粉体、 フ ィ ルム等とする こ とができ る。 廃ガス処理、 あるいは気相合成にはこのよ う な基体 ( 7 ) を使用する必要はない。
電極と しての金属筒についてさ らに例示する と、 この 発明の装置においては、 第 3 図に例示したよ う に、 金属 管 ( 1 ) の端縁 ( 3 ) の内周に傾斜面を有してもよい し 第 4 図および第 5 図に例示したよ う に、 周端縁に、 歯状 体 ( 9 ) や針状体 (10) を配設してもよい。 いずれの場 合にも、 これらの突先部、 すなわち曲率半径の小さな部 位に電場が集中するよ う にする。 この曲率半径について は、 ガスの種類によって好適範囲が決められる。
また、 第 6 図 ( a ) に例示したよ う に、 端縁 ( 3 ) に 複数のループ状ワイ ヤ ('11) を配設してもよい。 この場 合には、 使用するガスによ って好適な太さが決められる , このため、 ワイヤ ( 11) の太さによって放電を制御する こ と もでき る。 たとえば、 アルゴン ( A r ) の場合には 約 0 . 3 mm、 N 2 、 空気の場合には約 0. 0 2 5 mm程度 が考慮される。 また、 第 6 図 ( b ) に示したよ う に、 同 じ太さのワイヤを吹き出 し口に至る管内に一定かさ密度 で充塡する こ と もできる。,さ らにまた、 ガラ ス等の誘電 固体円筒内に絶縁物コー トを施した金属ワイ ヤを充塡す るよ う に してもよい。 これらのコーティ ングワイ ヤがこ の発明の突先部を構成する こ とになる。
この時の高電圧電源からのエネルギー供給のため、 第
6 図 ( c ) のよ う に、 コーティ ングワ イ ヤ(110) を、 金 属筒(111) をガラス等の絶縁物コー ト (112) した筒の中 に配置するよ う に してもよい。 コーティ ングワイ ヤ
(110) 太さについては前述と同様である。
このコーティ ングワイヤ(110) は、 コーティ ングされ ているので、 金属筒(111) と接触しても、 その全長が電 極と して有効に働く こ とになる。
このよ う な各種の突先部については、 金属筒が単一の 場.合、 あるいは第 7 図に例示したよ う に多重構造のいず れにも採用でき る。 多重構造を用いる こ とで、 たとえば 放電しに く いガス ( A ) を中心部に吹き出 し、 外側によ り放電しやすいガス ( B ) を吹き出すこ とによ り、 放電 しに く いガスに対しても放電効率をよ り向上する こ とが でき る。
基体 ( 7 ) の表面エッ チング等の微細加工には、 第 8 図のよ う な装置と してもよい。 また、 廃ガス処理や気相 合成においては、 第 9 図に例示したよ う に、 誘電体
( 12) によって被覆した、 も し く は被覆していない下部 筒 ( 13) に、 電極金属筒 ( 14) を対向させるよ う に して もよい。
また、 この発明の管内大気圧グロ一放電プラズマ処理 装置については、 たとえば第 1 0 図に示したよ う に、 こ の発明の方法においては、 円筒管等の絶縁体管 ( 1 ) の 外周部に一対の リ グ状の電極 ( 2 ) ( 3 ) 設ける。 そ し てこの電極 ( 2 ) ( 3 ) の組合わせを、 管長方向に複数 設ける。 絶縁体管 ( 1 ) の材質と しては特に制限はな く たとえばガラス、 ビニルチューブ等の汎用プラ スチ ッ ク の他、 P T F T, F E P , P E T , P P S . P E E K , A B S , シ リ コ ンチューブ等の工業用汎用プラ スチ ッ ク 材料、 セラ ミ ッ ク ス等の任意のものとする こ とができ る また、 絶縁体管 ( 1 ) の太さ についても格別の限定はな く 、 直径 1 0 cmを越える大口径管ゃ 0 . 1 mm ø以下の極 細管などの任意のものとする こ とができ る。 その断面形 状も円形の他、 多角形などとする こ と もでき る。
リ ング状電極 ( 2 ) ( 3 ) 対と しては、 たとえば箔状 の電極を用い、 これを絶縁体管 ( 1 ) の外周面に張り付 ける こ とができ る。 この他、 短冊状の板状電極、 あるい は 1 mm ø以上の太さで自立でき る コイル等を用いる こ と もでき る。 また、 電極 ( 2 ) ( 3 ) は被処理面から離す こ とができ るため、 絶縁体管を電極 ( 2 ) ( 3 ) の軸方 向に移動させる こ とができ、 長尺物の連続処理が可能と なる。 電極 ( 2 ) ( 3 ) の材質と しては、 銅、 銀、 ニ ッ ゲル、 ァノレ ミ ニゥ ム、 ステ ン レス、 力 一ボン等の種々 の 導電性材料を任意に用いる こ とができ る。 このよ う な リ ング状電極 ( 2 ) ( 3 ) の電極間距離 ( L ) は、 最長約 2 5 mm程度とする こ とができ る。 好ま し く は 5 mmから 2 0 mmである。 また、 第 1 図に例示 したよ う な箔状も し く は板状の電極対の場合には、 その幅 ( m ) を 0 . 1 mm から 2 0 mm程度までとする こ とが好ま し く 、 '絶縁体管 ( 1 ) の直径に対応させる こ とができ る。 さ らに、 外部 沿面放電を防止するために、 エポキシまたはシ リ コ ン接 着剤等の絶縁性接着剤で外周面全面をカバーする こ と も でき る。
このよ う な リ ング状電極 ( 2 ) ( 3 ) に接続について は、 各々一対の電極を並'列または直列に、 たとえば第 1 図に例示したよ う に結線する こ とができ る。
このよ うな電極 ( 2 ) ( 3 ) の組合わせの管長方向へ の複数の配列と、 その結線とによって、 これまでは長距 離放電が困難であった大気圧下でも、 充分安定に、 かつ、 均一なグロ ープラズマが得られる。
上記の電極間の結線方向については、 印加電圧を減ら すという観点からは並列とする こ とが好ま しい。
また、 電源 ( 4 ) についても特に制限はな く 、 数
K H z の低周波数から数 Ι Ο Κ Η ζ あるいは 1 3 . 5 6 M H z までの高周波とするこ とができ る。
また、 絶縁体管 ( 1 ) の一端部から導入する混合ガス ( 5 ) の反応性ガスと しては、 酸素、 ア ンモニア等の無 機モノ マーや C 2 F 4 , C 3 F 6 等のフ ッ化工チ レ ン系、 C F 4 , C 2 F 5 等のフ ッ素パラ フ ィ ン炭化水素、 また はフ ッ素原子を含む側鎖のついた鎖状炭化水素、 あるい はフ ッ素化芳香族炭化水素などの官能基を有する、 も し く は有さない炭化水素等の任意の有櫸モ ノ マ一を用いる こ とができ る。 このよ うな反応性ガスを H e を主体とす る希釈ガスで大希釈し、 混合ガス ( 5 ) とする。 グロ一 放電の安定化のためには H e の混合割合が大きいほど好 ま しいが、 必要に応じて A r, N 2 等の不活性ガスを混 入する こ と もでき る。 たとえば H e に対する A r の混合 割合を 9 0 %程度とする こ とができ る。 これによ り 、 高 価な H e の使用量を低減させ、 コス トを安価とする こ と が可能となる。 いずれの場合も混合ガス ( 5 ) の全圧は 1 気圧付近とする。
発生する グロ一放電プラズマにより種々 の表面処理や 薄膜形成、 合成、 分解等の任意の化学反応を生起させる こ とができ、 その効率を著し く 向上させる こ とができ る , 処理または反応の対象と しては、 絶縁体管 ( 1 ) の内 面の他、 絶縁体管 ( 1 ) 内部に設置される物体または管 内を浮遊あるいは振動して運ばれる粉体等の移動体表面 気体等の流通物、 一部に気相を残した液体表面などの任 意の ものとする こ とができ る。 表面処理する こ とのでき る表面についても、 特に制限はな く 、 未処理面をは じめ と して、 セルロ ース、 生体材料等で形成された、 または 表面処理された表面の任意の ものとする こ とができ る。
以下、 実施例を示し、 さ らに詳し く この発明の装置に ついて説明する。
実施例 1
高分子フ ィ ルム表面処理
外径 3 mm、 内径 2 mmのステ ン レス製円筒の先端部を図 1 のごと く 鋭く 研磨したものを放電管とする。 下部電極 と して厚み 5 mmのステ ン レス板を用い、 その上に試料と して 4 0 〃 m厚の軟質ポ,リ エチ レ ンフ ィ ルムを張りつけ た。 放電管先端と下部電極の間隙は 2 0 mmと した。 放電 管の周囲は大気に開放してある。
放電管内に上端からアルゴンを 1 0 0 0 cm— 1 m i n - 1 の流速で流し、 周波数 3 K H z の高周波高電圧を印加す る と、 先端のノ ズルから鋭い炎状のプラズマジヱ ッ ト力く 吹き出す。
これは曲率半径の極端に,小さい先端部分でまず放電破 壊が起こ り、 生成 A r イオンおよび励起 A r原子が種に なって A r気流に沿って大気圧グロ ー放電が起こ るため である。
ジヱ ッ 卜流の先端部に置かれた試料ポ リ エチ レ ンの表 面はプラズマ中で生成された励起アルゴン原子の気流に 晒され、 化学変化を起こす。 但し、 ジエ ツ ト流中のガス 温度はあ く までも低温のままであるため、 融点の低い軟 質ポ リ エチ レンでも融解する こ とはない。
以上の方法で処理されたポ リ エチ レ ン表面の水滴接触 角を表 1 に示した。
表 1 '
Figure imgf000018_0001
実施例 2
高分子フ ィ ルムの表面処理
実施例 1 中の下部電極を取り去り 、 ポ リ エチ レ ンフ ィ ルムのみを絶縁体支持棒でさ さえて、 吹き出 し電極に対 して垂直に張る。 試料フ ィ ルム表面から放電管先端を 2 0 離してプラズマジヱ ッ 卜を表面に吹き付けた。
表 2 に処理した試料表面の水滴接触角を示した。
放電時間
0 5 10 20 30 (秒) (未処理) 水滴接触角
90 10 5 4. 5 4. 5
( ° ) 実施例 1 、 実施例 2 と と もに数秒から 1 0秒といった 極めて短時間の内に、 表面の接触角が極端に低下してい る。 本来、 高い水性潑水性を持ち、 そのため各種接着材 との接着能力に欠けたポ リ エチ レ ン表面が、 以上の方法 で容易に親水性、 すなわち接着可能な活性表面に改質さ れたこ とになる。 また、 実施例 2 において、 相手極な し に低温プラズマジヱ ッ トを放出させる こ とができ る こ と から、 放電管を左右上下に移動したり 、 口径の違う放電 管の使用によ り、 被処理物体の大きさ、 形状または下部 電極の有無にかかわらず、 任意の形状と広さを持って表 面処理でき る こ とを示しており、 極めて有用な方法であ る。 もちろんこの場合の相手極は、 無限遠に置かれたァ —ス電位であ り 、 放電管の浮遊容量を通じての放電であ る こ と は言う までもない。
この際 2 0秒以上の長時間処理では被処理表面は白つ ぽく 変色し、 酸化等の化学変化を示唆している。 A r の 高い電子エネルギー状態である準安定励起原子がブラズ マ中で生成し、 表面に吹き付け られる こ とで、 表面の高 分子鎖を切断した結果、 内部にク ロ ス リ ン ク結合、 表面 に過酸化物等の親水性反応基が生じたと思われる。
準安定原子は電子状態のみが高励起状態なのであ って 気体温度は常温付近なので、 高温のプラズマジュ ッ ト処 理の場合に生じやすい、 被処理表面の融解等の現象を起 こすこ と無しに化学変化のみを起こ させる こ とができ る , 実施例 3 '
薄膜形成法
実施例 1 と同様の装置を用い、 重合すべき気体を A r 等のキ ャ リ アガスに混合して吹き出 し、 キ ャ リ アガスの プラズマジ ッ 卜中で解離させ、 相手極上に置かれた試 料基板上に重合薄膜と して生成させた。
試料基板と して鏡面研磨した厚み 0 . 5 mmの シ リ コ ン ウェハをステ ン レス電極上に載せて用いた。
重合性の気体と して C 2 F 4 を用い、 実験条件を下記 の通り と した。
A r流量 : 2 0 0 0 cm 2 m i n 一 1
C 2 F 4 流量 : 1 0 cm 2 m i n _ I
放電出力 1 0 W、 周波数 3 0 0 0 H z
極間距離 1 0 mm 放電時間 1 0 分
その結果、 プラズマジヱ ッ 卜の吹き付け られた試料基 板表面部分は、 約直径 7 mm、 厚さ 1 の円盤状の透明 な薄膜によ って被われた。 この部粉の透過赤外線スぺク トルを図 1 1 に示した。
この図 1 1 よ り 、 シ リ コ ン基板表面に明らかにポ リ テ ト ラ フルォロエチ レン類似の重合膜が生成している こ と がわかる。 また、 この膜は、 いかなる溶媒にも不活性で あつたので、 ク ロス リ ンク結合の進んだ 3 次元構造の膜 であろ う と思われる。
実施例 4
燃焼廃棄ガス分解処理
モデル廃ガスと して N 0 2 と N Oを各々 1 0 0 0
P P m含んだ混合気体を N 2 キヤ リ ァガスの中に混合し て N 2 プラズマと共に吹き出 し、 分解させた後、 プラズ マ下流にて直径 1 0 mmの硝子管にてサンプリ ングを行い . ガスク ロマ ト法で分析した。 実験条件を下に記した。
N 2 流速 : 1 0 0 0 cm 2 m i n 一1
合成廃ガス流速 : 5 0 cm 2 m i n 一1
放電電力最大 5 0 W、 周波数 5 0 K H z
その結果、 図 1 2 に示した放電電力と各気体の濃度の 相関が得られた。 なお、 これはキャ リ アガスを除いた廃 ガスと して換算した値である。
この図で判るよ う に 4 0 W以上の出力では、 あ らかじ め混入した N 0 2 も N 0 も共に始 の濃度の 1 / 1 0 0 にも低下しており 、 ブラズマ中でほぼ完全に分解して、 N 2 と 0 2 になって しま っている。 このこ と力、らわかる よ う に、 燃焼廃ガスの処理法と して極めて有効な方法で ある。
実施例 5
管内ブラズマ処理 '
図 1 0 に示した構成において、 外径 1 5 mm、 厚さ 2 mm、 長さ 5 0 0 mmのパイ レ ツ ク ス製ガラ ス管の外側に 1 個の 電極幅 ( m ) を 1 0 mm、 各極間距離 ( L ) を 2 0 mmと し て、 複数の電極対を配置し、 電極群全体の長さを 3 1 0 mmと した。
ガラ ス管の内部には被処理試料と して厚さ 0 . 1 mm , 長さ 4 0 0 mmの P E T (ポ リ エチ レ ンテ レフ タ レー ト) フ ィ ルムを管の内周に沿って貼付けた。
なお、 電極材質は銅板と した。
放電条件は以下の通り と した。
• 放電電源周波数 : 1 3 . 5 6 M H z
• 出 力 : 2 0 W
• 使用気体 : H e Z 0 2 ( 9 0 / 1 0 ) · '流 速 : l O O s c c m
• 全 圧 : 1 気圧
• 処理時間 : 1 0 分間
以上の条件でガラ ス管の一端部よ り管内に H e と 02 との混合ガスを導入し、 グロ一放電を発生させた。
放電後、 ガラス管の内側に貼付けた P E Tフ ィ ルムを 抜き取り、 放電前後のフ ィ ルムの置かれた場所毎の表面 の水滴接触角を評価した。 その結果を示 したものが表 3 である。 '
表 3
Figure imgf000023_0001
放電前のフ ィ ルムの接触角は 7 0 度であった。 表 3 力、 ら も明らかなよ う に、 相当長距離にわたって放電によ り 親水化される こ とが確認された。 このよ う な表面処理効 果は、 フ ィ ルムをガラ ス管の内径よ り小さ い幅で切断し、 短冊状に してガラス管内に挿入した時にも確認された。 さ らに各種形状の固体試料、 粉末についても同様の作用 が確認された。 実施例 6
管内ブラズマ処理
実施例 5 と同様に して、 H e と C 2 F 4 (テ ト ラ フ ル ォロエチ レ ン, T F E ) との混合気体を 1 気圧下で導入 し放電を発生させた。 ガラ ス管内にはポ リ イ ミ ドフ ィ ル ムを挿入しておいたが、 その内表面に透明な膜が形成し た。
基板と して用いたポ リ イ ミ ドフ ィ ルム上にポ リ テ ト ラ フ ルォロエチ レ ン ( P T 'F E ) 類似膜が生成したこ とが 確認された。 このプラズマ重合膜の水滴接触角を測定し たと ころ、 およそ 1 1 0度から 1 1 5 度であった。 テフ 口 ンに も匹敵する強い疎水性も示した。
もちろんこの発明は、 以上の例によって限定される も のではない。 電極の形態および材質、 導入する反応性気 体および希ガスの種類、 印加電圧とその周波数等の細部 については様々 な態様が可能である こ とはいう までもな い。
産業上の利用可能性 '
この発明によ って、 以上詳し く 説明した通り 、 簡便な 構造で、 高効率な、 かつ、 安定したプラズマ反応が実現 される。 ガラス、 プラ スチ ッ ク、 セラ ミ ッ ク ス等からな る円筒管等の絶縁体管の内面、 または内部の静止、 移動 . あるいは流通物へのプラズマ処理を大気圧下で行う こ と が可能となる。

Claims

1 . 吹き出 し口端縁に突先部を設けた金属筒を電極と し この電極金属筒の吹き出 し口よ り希ガス、 不活性ガスま たは空気、 も し く unaはこれらと反応性ガスとの混合ガスを 吹き出 して電圧を印加し、 大気圧下で放電プラズマを生 成.させる こ とを特徴とする大気圧グロ一放電プラズマ処 の
理装置。
2 . 希ガス、 不活性ガスまたは空気と と もに含酸素化合 囲
物、 その他の反応性ガスを混入してなる請求項 1 のブラ ズマ処理装置。
3 . 吹き出 し口に対向 して被処理基体も し く は筒状体を 配置 してなる請求項 1 のプラズマ処理装置。
4 . 電極金属筒が円筒状体、 角筒状体、 も し く は平†反筒 状体からなる請求項 1 のプラズマ処理装置。
5 . 電極金属筒が多重構造からなる請求項 1 のプラズマ 処理装置。
6 . 突先部が端縁の切欠き傾斜面によって形成してなる 請求項 1 のプラズマ処理装置。
7 . 突先部を周端縁の歯状体も し く は針状体によって形 成してなる請求項 1 5 のプラズマ処理装置。
8 . 突先部を周端縁への複数のループ状ワイ ヤの配設に よって形成してなる請求項 1 のプラズマ処理装置。
9 . 外周部の長さ方向に一対の リ ング状電極対を複数設 け、 この各々一対の多電極を並列または直列に結線した 絶縁体管の一端部から反応性ガスと希ガスとの混合ガス を導入し、 大気圧下で管内部にグロ一放電プラズマを発 生させて、 管内面、 または管内部の静止、 移動あるいは 流通物を処理する こ とを特徴とする管内大気圧グロ一放 電プラズマ処理方法。
10. 多電極の相互極間距離を最長約 2 5 mm以下と してな る請求項 9 のプラズマ処理方法。
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