WO1993014148A1 - Polyimide resin compositions and processes for their production - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a novel polyimide resin composition and a method for producing the same.
- Aromatic polyimides have high heat resistance and good mechanical and electrical properties, but on the other hand, they do not generally melt and are insoluble in ordinary organic solvents, which makes them difficult to mold. have.
- aromatic tetraimide dianhydride which is a raw material of aromatic polyimide, and aromatic diamine are reacted in a polar organic solvent to obtain a polyamide acid.
- a method of synthesizing a soluble intermediate such as a compound, giving a shape at this stage, and dehydrating and ring-closing under high temperature to obtain a polyimide is generally performed.
- the stability of the intermediate is poor, and the viscosity changes or becomes cloudy when left at room temperature. Since the dehydration reaction is performed after molding, defects such as voids and pinholes are likely to occur, and smooth and uniform molding is performed. The disadvantage is that it is difficult to get a body.
- the m, m 'diamino compound used has a disadvantage that it is extremely difficult to synthesize and has poor reactivity as compared with the P, p' diamino compound generally used as an aromatic diamine component. are doing.
- a method for producing a soluble polyamide using a P, P 'diamino compound a method using two or more kinds of aromatic tetracarboxylic acid components having different skeleton structures in combination is used.
- Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-28526 and 61-51033 Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-28526 and 61-51033
- it is difficult to produce the same material because the polymer structure is not uniform.
- An object of the present invention is to provide a novel organic solvent solution polyimide resin composition and a method for producing the same.
- Another object of the present invention is to provide a novel polymer which is easy to mold because it is an organic solvent solution after sufficiently exhibiting the inherent properties of aromatic polyimide such as heat resistance, mechanical properties, and electrical properties.
- Still another object of the present invention is to provide a novel organic solvent solution polyimide resin composition having excellent heat resistance, mechanical properties, electrical properties, etc., and also excellent adhesion to a substrate, It is to provide a manufacturing method.
- the present invention provides the following polyimide resin composition and a method for producing the same.
- One C-one, Y is a single bond or one 0-, one S-,
- R 1 and R 2 may be substituted with a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom It represents a lower alkyl group, which may be the same or different.
- a polyimide resin composition characterized by further adding a silane coupling agent to the composition.
- a method for producing a resin composition Reacting with an aromatic diamine represented by the formula (1) in the presence of an organic solvent to produce a polyimide, or separating the produced polyimide and then re-dissolving it in an organic solvent.
- a method for producing a resin composition Reacting with an aromatic diamine represented by the formula (1) in the presence of an organic solvent to produce a polyimide, or separating the produced polyimide and then re-dissolving it in an organic solvent.
- Diphenylsulfone-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid dihydrate alone is used as the aromatic tetracarboxylic acid component, and the above is used as the aromatic diamine component.
- Polyimides obtained using specific p, p 'diamino compounds are soluble in organic solvents and have high intrinsic viscosity (ie, high molecular weight) and high uniformity of polymer structure. Excellent heat resistance, mechanical properties, electrical properties, etc.
- an aromatic tetracarboxylic acid component other than the above for example, benzophenone-1,3,3,4,4'-tetracarboxylic dianhydride ⁇ pyromellitic dianhydride is used. However, it does not become soluble in organic solvents.
- the present invention has been completed based on these new findings.
- the polyimide resin composition of the above A can be produced by the production method of the above C. More specifically, it can be produced as follows.
- DSTA diphenylsulfone-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride
- DSTA diphenylsulfone-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride
- a p, p'-diamino compound represented by the general formula ( ⁇ ) is used as the aromatic diamine component.
- Preferred examples are 4,4'-diamino diphenyl sulfide and 2,2-bis [4- (p-amino phenoxy) phenyl] prono III.
- aromatic diamine component it is most preferable to use one of the above P, P'-diamino compounds alone from the viewpoint of homogeneity of the polymer structure, but if necessary, Terror
- the production reaction of polyimide is usually carried out by a two-step reaction of a synthesis reaction of polyamic acid, which is an intermediate, and a reaction of dehydrating and cyclizing this to form polyimide.
- the molar ratio between DSTA and the aromatic diamin is preferably about 0.7 to 1.3 in order to obtain a high molecular weight polyimide, and particularly preferably 0.95 to 1.05. Range is preferred.
- the reaction temperature is generally about 0 to 120, preferably 5 to 80. C, and the reaction time is usually about 0.5 to 50 hours, depending on the diamines, solvents and other conditions used.
- organic solvent used in this reaction it is preferable to use a non-proton-based polar solvent or a phenol-based solvent that can dissolve the polyimide to be formed later.
- organic solvents include, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N—
- Non-protonic polar solvents such as dimethyl acetate, dimethyl sulfoxide, tetramethyl urea, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, hexamethylphosphoramide;
- phenol solvents such as phenol, cresol, dimethylphenol, chlorophenol, and bromphenol.
- the reaction mixture does not gel even if some polyimide is formed in the synthesis of polyamic acid.
- the polyimide resin composition of the present invention can be directly subjected to an imidization reaction as it is, and can be directly used as the polyimide resin composition of the present invention after the imidization reaction. Very suitable.
- the polyamic acid is recovered by a conventional method, purified if necessary, then dissolved again in a non-proton polar solvent or a phenol solvent, and the imidization reaction is performed. It is desirable.
- the organic solvent solution of the polyamic acid obtained in the above polyamic acid synthesis reaction may be used as it is or after recovering boriamic acid from the organic solvent solution by a conventional method, purifying as necessary, and then re-using the above-mentioned non-protic acid. It can be used in an imidization reaction after being dissolved in a ton-based polar solvent or a phenol-based solvent.
- the organic solvent in the above polyamic acid synthesis reaction and the subsequent imidization reaction may be used alone at any stage, or may be used as a mixture of two or more.
- the imidization reaction can be suitably performed using a solution of a polyamic acid in a nonproton-based polar solvent or a phenol-based solvent.
- the reaction temperature is usually about 60 to 250 ° C, preferably 100 to 200 ° C. (: It is not possible to obtain an economical reaction rate below 60 ° C, and at 250 ° C or higher. In such a case, coloring of the reaction system and side reactions are disadvantageous.
- a solvent azeotropic with water and Z or a dehydrating agent may be added.
- solvents include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, hexane, heptane, octane, nonane, decane, cyclohexane and the like, and dehydrating agents such as pentoxide, acetic anhydride, pyridine and acetic anhydride.
- Etc. are exemplified.
- the reaction time of the imidization reaction varies depending on various conditions such as the type of polyamic acid and the solvent, but is usually about 0.5 to 50 hours. Further, the concentration of the polyamic acid in the reaction solution is usually about 1 to 50% by weight, and particularly preferably 3 to 40% by weight. If it is less than 1% by weight, it is economically disadvantageous, and if it exceeds 50% by weight, the reaction solution is not preferred because it gels or the viscosity becomes too high and the reaction becomes uneven.
- the polyimide in the present invention has a high solubility in an organic solvent by using the specific aromatic tetracarboxylic acid component and the aromatic diamine component in a selective combination.
- a polyimide having a sufficiently large intrinsic viscosity that is, a sufficiently large molecular weight
- the polymer in the present invention Do intrinsic viscosity? ? inh is 0.5 gZ1002 in solvent N-methyl-2-pyrrolidone, temperature 30 ⁇ 1. C, which is usually between 0.3 and
- the polyimide resin composition of the present invention is obtained by dissolving the above polyimide in an organic solvent.
- the organic solvent it is particularly preferable to use at least one of the non-proton-based polar solvent and the phenol-based solvent mentioned in the polyimide formation reaction, from the viewpoints of solubility, stability of solution viscosity and the like.
- the composition of the present invention can be used as it is as a reaction product.
- a non-proton-based polar solvent is used.
- the composition of the present invention can be re-dissolved in a funinol solvent or the like.
- the concentration of the polyimide in the polyimide resin composition of the present invention is usually about 1 to 50% by weight, preferably 3 to 40% by weight. Good to do. If it is less than 1% by weight, it is economically disadvantageous, and if it exceeds 50% by weight, the composition gels or the viscosity becomes too high and the workability at the time of molding is unfavorably reduced.
- the polyimide resin composition of the present invention can be obtained by further adding a silane coupling agent to the polyimide resin composition of the present invention.
- the above composition has excellent adhesion to a substrate without deteriorating heat resistance, mechanical properties, electrical properties, etc. of polyimide by adding a silane coupling agent. It is.
- the properties of polyimide are not impaired because the silane coupling agent is added after the imidization is completed, so that it is not incorporated into the polyimide molecular chain and is not affected by the generated water. it is conceivable that.
- silane coupling agent to be added examples include, for example, ⁇ -glycidoxypropyl trimethoxysilane, ⁇ - (2-aminoethyl) aminoprovir trimethoxysilane, and ⁇ - (2-amidoethyl).
- composition obtained by dissolving the polyimide of the present invention and the composition obtained by further adding a silane coupling agent are relatively low-viscosity solutions that are fluid at room temperature, and therefore, are difficult to handle and process. Extremely easy. In addition, it is highly stable in solution, and can be stored at room temperature for a long period of time without causing changes such as viscosity changes and precipitation of insolubles.
- These compositions of the present invention can be suitably used for, for example, heat-resistant varnishes, heat-resistant laminates, heat-resistant films, heat-resistant adhesives, and the like, electrical materials, electronic materials, and applied devices thereof.
- a printed wiring board a flexible wiring board, a tape carrier, a surface protective film or an interlayer insulating film of a semiconductor integrated circuit element, a covering material for an enameled electric wire, various laminated board gaskets, and the like.
- these compositions of the present invention are suitable for film use.
- the composition is relatively heated and the like.
- Organic solvents and the like can be removed at a low temperature, so that a transparent polyimide film can be easily obtained.
- This film has high mechanical strength and high flexibility.
- a film with a thickness of 30 zm can sufficiently withstand repeated bending tests.
- the thermal decomposition temperature is 50,000 or more, good heat resistance is exhibited, and chemical resistance is also good.
- the melting temperature it shows thermoplasticity and can be thermocompression-bonded or compressed.
- the composition of the present invention to which a silane coupling agent has been added can be used for various substrates, for example, metals such as glass, silicon, aluminum, copper, nickel, and iron, and oxides thereof, polyethylene, Polypropylene, Polyethylene terephthalate Good for application to plastics such as rates.
- the composition is extremely excellent in adhesiveness to the substrate, so that the polyimide film can be formed in a short time at a low temperature only by evaporating the solvent, and the substrate is heated to a high temperature.
- it is extremely advantageous for applications such as a semiconductor surface protective film, an insulating protective film for electronic component circuits, and an alignment film for a liquid crystal display element used as a plastic substrate.
- the polyimide solution thus obtained was poured into methanol, the polymer obtained by reprecipitation was dried under reduced pressure, and the infrared absorption spectrum was measured.
- Table 2 shows the intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point and other physical properties of the polyimide.
- this polyimide is composed of N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as "DMF"), N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurine, 1, 3—Dimethyl-2-imidazolidinone, m—Cresol, xylenore, 0—Curofen phenol, and p—Bromophenol
- Table 2 shows the intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point and other physical properties of the polyimide.
- the polyimide also dissolves in NMP, dimethyl acetate, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, phenol, o-cresol, 2,6-xylenol, and P-chlorophenol. Then, a polyimide resin solution having a concentration of 10% by weight was obtained.
- Table 2 shows the intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point and other physical properties of the polyimide.
- this polyimide readily dissolves in NMP, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, phenol, and xylenol.
- a polyimide resin solution having a concentration of about 10% by weight was obtained. Examples 4 to 11
- Table 3 shows the intrinsic viscosity (77 inh) of the polyimide obtained, the reaction solvent used, the viscosity of the polyimide solution after the reaction, and the thermal decomposition temperature.
- the cellotape peel test (the number peeled out of 100 pieces) was 0.
- the pyrolysis temperature was 558.
- the cellotape peel test was 60.
- Example 39 A polyimide varnish was obtained by dissolving 5 g of the polyimide obtained in Example 3 and 0.4 g of amercaptopropyl trimethoxysilane in 50 g of NMP. The adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37, and the results are shown in Table 4.
- Example 40
- Example 12- Each polyimid obtained in 25, 32-35 Polyimide varnish was prepared by dissolving 5% by weight of 7-glycidoxyprobitrimethoxysilane in various non-protonic polar solvents. Table 6 shows the solvent used, the polyimide concentration, the adhesion test measured in the same manner as in Example 37, and the thermal decomposition temperature.
- the properties of the polyimide obtained are: intrinsic viscosity 0.15 d ⁇ ⁇ Zg, thermal decomposition temperature 420, tensile strength 32 kg / in in 2 , low intrinsic viscosity (low molecular weight ), Heat resistance and mechanical properties were inferior.
- the adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37, using a phenol obtained by adding 1.lg of glycidoxyprovirt rimethoxysilane to 100 g of this polyamic acid solution. did. As a result, since the strength of the coating film was very low and not uniform, it was detached when the coating film was cut. The thermal decomposition temperature was as low as 483.
- FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of polyimide in Example 1.
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Abstract
Description
明 細 書 Specification
ポリイ ミ ド樹脂組成物及びその製造方法 Polyimide resin composition and method for producing the same
技術分野 Technical field
本発明は、 新規なポリイ ミ ド榭脂組成物及びその製造 方法に関する。 The present invention relates to a novel polyimide resin composition and a method for producing the same.
背景技術 Background art
芳香族ポリイ ミ ドは、 高耐熱性及び良好な機械的特性、 電気的特性を有するが、 その反面一般に融解せず、 かつ 通常の有機溶剤に溶けないため成形加工が困難であると いう問題点を有している。 Aromatic polyimides have high heat resistance and good mechanical and electrical properties, but on the other hand, they do not generally melt and are insoluble in ordinary organic solvents, which makes them difficult to mold. have.
従来、 かかる問題点を解決すべく、 芳香族ポリイ ミ ド の原料である芳香族テ トラカルボン酸二無水物と芳香族 ジァ ミ ンとを極性有機溶剤中で反応させてポリア ミ ック 酸等の可溶性中間体を合成し、 この段階で形状を付与し た後、 高温下で脱水閉環してポリイ ミ ドを得る方法が一 般的に実施されている。 しかし、 この方法には中間体の 安定性が悪く 、 室温で放置すると粘度が変化したり白濁 を生じる、 成形後に脱水反応を行なうためボイ ド、 ピン ホール等の欠陥を生じ易く平滑で均質な成形体を得難い いという欠点がある。 Conventionally, in order to solve this problem, aromatic tetraimide dianhydride, which is a raw material of aromatic polyimide, and aromatic diamine are reacted in a polar organic solvent to obtain a polyamide acid. In general, a method of synthesizing a soluble intermediate such as a compound, giving a shape at this stage, and dehydrating and ring-closing under high temperature to obtain a polyimide is generally performed. However, in this method, the stability of the intermediate is poor, and the viscosity changes or becomes cloudy when left at room temperature. Since the dehydration reaction is performed after molding, defects such as voids and pinholes are likely to occur, and smooth and uniform molding is performed. The disadvantage is that it is difficult to get a body.
このため、 フ ィ ルム等への成形加工が容易で上記欠点 がない有機溶剤可溶性ポリィ ミ ドの開発が望まれており これまでに種々の提案がなされている。 例えば、 芳香族 テトラカルボン酸成分として、 二無水物に比べ芳香族ジ ァミ ン成分との反応性が低いジエステル体を用い、 低重 合度のポリイ ミ ドとして溶剤可溶化する方法が提案され ている (特開昭 6 1— 8 3 2 2 9号) 。 しかし、 このポ リイ ミ ドは、 分子量が低いためポリイ ミ ド本来の特性た る耐熱性や機械的特性が低下するという欠点を有してい る o Therefore, there is a demand for the development of an organic solvent-soluble polyimide which can be easily formed into a film or the like and does not have the above-mentioned disadvantages. Various proposals have been made so far. For example, a method has been proposed in which a diester having lower reactivity with an aromatic diamine component than dianhydride is used as an aromatic tetracarboxylic acid component and the solvent is solubilized as a polyimide having a low polymerization degree. (Japanese Patent Laid-Open No. 61-83232). However, this polyimide has the drawback that its inherent heat resistance and mechanical properties, which are inherent properties of polyimide, are reduced due to its low molecular weight.o
また、 芳香族ジァミ ン成分として末端ァミ ノ基がメ夕 位に結合した多核体の m , m ' ージァミ ノ化合物を使用 してポリマー構造の対称性や反復単位の規則性を乱し、 溶剤可溶性を付与したポリイ ミ ドが公知である (特公昭 5 2— 3 0 3 1 9号) 。 しかし、 このポリイ ミ ドには、 ポリマー構造の不均一性に起因して耐熱性即ち熱分解温 度やガラス転移温度が低下する等の欠点がある。 加えて. 用いる m , m ' ージァミ ノ化合物は、 それ自体、 芳香族 ジァミ ン成分として汎用されている P , p ' ージァミノ 化合物に比べて合成が極めて困難であり、 反応性も劣る という欠点を有している。 In addition, the use of a polynuclear m, m 'diamino compound in which a terminal amino group is bonded to the amino group as an aromatic diamine component disrupts the symmetry of the polymer structure and the regularity of the repeating unit, and the solvent A polyimide provided with solubility is known (Japanese Patent Publication No. 52-31019). However, this polyimide has drawbacks such as a decrease in heat resistance, that is, a thermal decomposition temperature and a glass transition temperature due to the non-uniformity of the polymer structure. In addition, the m, m 'diamino compound used has a disadvantage that it is extremely difficult to synthesize and has poor reactivity as compared with the P, p' diamino compound generally used as an aromatic diamine component. are doing.
更に、 P , P ' ージァミ ノ化合物を使用して可溶性ポ リイ ミ ドを製造する方法として、 芳香族テトラカルボン 酸成分として骨格構造の異なる二種以上を併用する方法 も提案されているが (特開昭 6 1— 2 8 5 2 6号、 特開 昭 6 1 — 5 1 0 3 3号) 、 ポリマー構造が不均一となる ため、 同じものを作りにく く品質が不安定となつたり、 又ポリィ ミ ド本来の強靭性や電気特性等を充分には発揮 し得ないという欠点がある。 Further, as a method for producing a soluble polyamide using a P, P 'diamino compound, a method using two or more kinds of aromatic tetracarboxylic acid components having different skeleton structures in combination is used. (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-28526 and 61-51033), however, it is difficult to produce the same material because the polymer structure is not uniform. There are disadvantages in that the quality becomes unstable and that the inherent toughness and electrical properties of polyimide cannot be sufficiently exhibited.
このように、 従来公知のポリイ ミ ドの有機溶剤可溶化 方法には、 いずれも溶剤可溶性を付与することに起因し て芳香族ポリイ ミ ド本来の優れた特性を損なうという欠 点がある。 As described above, all of the conventionally known methods for solubilizing polyimide in an organic solvent have a defect that the inherent excellent properties of aromatic polyimide are impaired due to imparting solvent solubility.
発明の開示 Disclosure of the invention
本発明の目的は、 新規な有機溶剤溶液ポリイ ミ ド樹脂 組成物及びその製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a novel organic solvent solution polyimide resin composition and a method for producing the same.
本発明の他の目的は、 芳香族ポリイ ミ ド本来の特性た る耐熱性、 機械的特性、 電気的特性等を充分に発揮した 上で、 有機溶剤溶液であるため成形加工が容易な新規ポ リイ ミ ド樹脂組成物及びその製造方法を提供することに める o Another object of the present invention is to provide a novel polymer which is easy to mold because it is an organic solvent solution after sufficiently exhibiting the inherent properties of aromatic polyimide such as heat resistance, mechanical properties, and electrical properties. To provide a polyimide resin composition and a method for producing the same o
本発明の更に他の目的は、 耐熱性、 機械的特性、 電気 的特性等に優れるのに加え、 更に基材との密着性にも優 れる新規な有機溶剤溶液ポリイ ミ ド樹脂組成物及びその 製造方法を提供することにある。 Still another object of the present invention is to provide a novel organic solvent solution polyimide resin composition having excellent heat resistance, mechanical properties, electrical properties, etc., and also excellent adhesion to a substrate, It is to provide a manufacturing method.
本発明のこれら及び更に他の目的は、 以下の記載によ り明らかにされるであろう。 These and other objects of the invention are set forth below. Will be revealed.
本発明は、 以下に示すポリィ ミ ド樹脂組成物及びその 製造方法を提供するものである。 The present invention provides the following polyimide resin composition and a method for producing the same.
A 一般式 A General formula
/ Ν' ( I ) / Ν '(I)
[式中、 Zは [Where Z is
C H C H
ン X一 X X
C H3 C H3 CH 3 CH 3
を示す。 こで、 Xは一 0—、 一 S—又は Is shown. Where X is one 0-, one S- or
R 1 R 1
一 C一を、 Yは単結合又は一 0—、 一 S—、 One C-one, Y is a single bond or one 0-, one S-,
R2 R 2
R 1 R 1
- S 02 一、 一 C一 若しく は一 C 0—から選ばれ -S 0 2 1 or 1 C 1 or 1 C 0—
R2 R 2
る二 ffiの基を示す。 R1 及び R2 は、 水素原子、 ハ ロゲン原子又はハロゲン原子で置換していてもよい 低級アルキル基を示し、 同一であっても異なってい てもよい。 ] This shows the group of ffi. R 1 and R 2 may be substituted with a hydrogen atom, a halogen atom or a halogen atom It represents a lower alkyl group, which may be the same or different. ]
で表わされる反復単位を有し且つその固有粘度 n i nh が 0 . 3〜 5 . 0 d ίノ g程度であるポリ イ ミ ドの少 なく とも 1種が有機溶剤に溶解されてなることを特徴 とするポリイ ミ ド樹脂組成物。 Characterized in that at least one kind of polyimide having a repeating unit represented by the formula and having an intrinsic viscosity ni nh of about 0.3 to 5.0 dίg is dissolved in an organic solvent. Polyimide resin composition.
B 当該組成物に、 更にシランカツプリ ング剤を添加し てなることを特徵とするポリィ ミ ド樹脂組成物。 B. A polyimide resin composition characterized by further adding a silane coupling agent to the composition.
C ジフエニルスルホン一 3 , 3 ' , 4 , 4 ' ーテ トラ 力ルボン酸二無水物と一般式 C diphenylsulfone 1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and general formula
[式中、 Zは前記と同じ。 ] Wherein Z is the same as above. ]
で表わされる芳香族ジアミ ンとを、 有機溶剤存在下に 反応させてポリィ ミ ドを生成させるか、 又は該生成ポ リ ィ ミ ドを分離後有機溶剤に再溶解することを特徴と するポリイ ミ ド樹脂組成物の製造方法。 Reacting with an aromatic diamine represented by the formula (1) in the presence of an organic solvent to produce a polyimide, or separating the produced polyimide and then re-dissolving it in an organic solvent. A method for producing a resin composition.
D 上記製造方法において、 ポリイ ミ ド生成反応終了後 に更にシランカツプリ ング剤を添加することを特徴と するポリイ ミ ド樹脂組成物の製造方法。 D The method for producing a polyimide resin composition according to the above method, further comprising adding a silane coupling agent after completion of the polyimide generation reaction.
本発明者は、 前記従来技術の諸欠点を解消すべく 、 鋭 意研究を重ねた結果、 次の様な新たな事実を見出した。The inventor of the present invention has been keen to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art. As a result of repeated research, we found the following new facts.
(1) 芳香族テ トラカルボン酸成分と してジフヱニルス ルホン一 3, 3' , 4, 4' —テ トラカルボン酸二無 水物を単独で用い、 且つ芳香族ジァミ ン成分と して上 記特定の p , p ' ージァ ミ ノ化合物を使用して得られ るポリイ ミ ドが有機溶剤可溶性であり、 しかも固有粘 度が高く (即ち、 分子量が大きく) ポリマー構造の均 一性が高いことにより耐熱性、 機械的特性、 電気的特 性等に優れること。 (1) Diphenylsulfone-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid dihydrate alone is used as the aromatic tetracarboxylic acid component, and the above is used as the aromatic diamine component. Polyimides obtained using specific p, p 'diamino compounds are soluble in organic solvents and have high intrinsic viscosity (ie, high molecular weight) and high uniformity of polymer structure. Excellent heat resistance, mechanical properties, electrical properties, etc.
(2) 従って、 上記ポリィ ミ ドの有機溶剤溶液によれば. ポリイ ミ ド本来の優れた特性を充分に発揮できる成形 体を容易に成形加工できること。 (2) Therefore, according to the above-mentioned solution of polyimide in an organic solvent, it is possible to easily form a molded body which can sufficiently exhibit the excellent characteristics inherent to polyimide.
(3) この場合、 上記以外の芳香族テ トラカルボン酸成 分例えばべンゾフエノ ン一 3, 3' , 4, 4' —テ ト ラカルボン酸二無水物ゃピロメ リ ッ ト酸ニ無水物を用 いても、 有機溶剤可溶性とはならないこと。 (3) In this case, an aromatic tetracarboxylic acid component other than the above, for example, benzophenone-1,3,3,4,4'-tetracarboxylic dianhydride メ pyromellitic dianhydride is used. However, it does not become soluble in organic solvents.
(4) 上記ポリィ ミ ドの有機溶剤溶液に、 更にシランカ ップリ ング剤を添加することにより、 ポリ イ ミ ドの耐 熱性等を低下させることなく優れた基材との密着性を 付与できること。 (4) By adding a silane coupling agent to the above organic solvent solution of polyimide, excellent adhesion to the substrate can be imparted without deteriorating the heat resistance of the polyimide.
(5) 原料と して用いる上記テ トラカルボン酸二無水物 及び上記 P , p ' ージァ ミ ノ化合物は、 いずれも合成 が容易であり、 コス ト的にも有利であること。 (5) Both the above tetracarboxylic dianhydride and the above P, p 'diamino compounds used as raw materials are synthesized. It is easy and cost-effective.
前記本発明は、 かかる新規諸知見に基づいて完成され たものである。 The present invention has been completed based on these new findings.
前記 Aのポリィ ミ ド樹脂組成物は、 前記 Cの製造方法 により製造することができる。 より具体的には、 次の如 く して製造することができる。 The polyimide resin composition of the above A can be produced by the production method of the above C. More specifically, it can be produced as follows.
芳香族テ トラカルボン酸成分と しては、 ジフヱニルス ルホン一 3, 3 ' , 4, 4 ' ーテ トラカルボン酸二無水 物 (以下、 「D S T A」 という) を単独で用いるが、 原 料と して少量の遊離カルボン酸が含有されているもので も差し支えない。 また、 本発明所期の効果が得られる限 りにおいて、 他の芳香族テ トラカルボン酸成分の併用を 妨げるものではない。 As the aromatic tetracarboxylic acid component, diphenylsulfone-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as “DSTA”) is used alone, but it is used as a raw material. May contain a small amount of free carboxylic acid. In addition, as long as the intended effects of the present invention can be obtained, the use of other aromatic tetracarboxylic acid components is not prevented.
また、 芳香族ジァ ミ ン成分と しては、 一般式 (Π) で 表わされる p , p ' —ジァ ミ ノ化合物を用いる。 好ま し い具体例と しては、 4, 4 ' ージア ミ ノ ジフエニルスル フィ ド、 2, 2— ビス [4一 (p—ア ミ ノ フエノキシ) フエニル] プロノヽ。ン、 2, 2— ビス [3— (p—ァミ ノ フエノキシ) フエニル] プロパン、 2, 2— ビス [4一 ( p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) フエニル] プロパ ン、 2, 2— ビス [3— (p—ァ ミ ノフエ二ルチオエー テル) フエニル] プロ ノ、。ン、 4 , 4 ' — ビス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエニルスルホン、 3, 3' —ビス (P—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエニルスルホン、 3, 4' 一ビス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエニルスルホ ン、 4, 4 ' 一ビス (p—ア ミ ノ フヱ二ルチオエーテル) ジフエニルスルホン、 3 , 3 ' 一ビス ( p—ァ ミ ノ フエ 二ルチオエーテル) ジフエニルスルホン、 3 , 4 ' ー ビ ス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエニルスル ホン、 4, 4 ' 一ビス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエ ニルエーテル、 3, 3 ' 一ビス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエ二ルエーテル、 3, 4 ' —ビス (p—ァ ミ ノフエ ノキシ) ジフエニルエーテル、 4 , 4 ' 一ビス ( p—ァ ミ ノ フエノキシ) ジフエニルスルフィ ド、 3, 3' — ビ ス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエニルスルフ ィ ド、 3, 4 ' 一ビス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエニルスルフ ィ ド、 4, 4 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテ ル) ジフエニルスルフィ ド、 3 , 3 ' 一ビス ( p—ア ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエニルスルフィ ド、 3, 4 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエ ニルスルフィ ド、 4, 4 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエニル チォエーテル) ジフエニルエーテル、 3, 3 ' 一ビスAs the aromatic diamine component, a p, p'-diamino compound represented by the general formula (Π) is used. Preferred examples are 4,4'-diamino diphenyl sulfide and 2,2-bis [4- (p-amino phenoxy) phenyl] prono III. 2,2-bis [3- (p-aminophenol) phenyl] propane, 2,2-bis [4-1 (p-aminophenylthioether) phenyl] propane, 2,2- Bis [3- (p-aminophenylthioether) phenyl] prono. , 4, 4 '-bis (p-ami Nophenoxy) diphenylsulfone, 3,3'-bis (P-aminophenol) diphenylsulfone, 3,4'-bis (p-aminophenol) diphenylsulfone, 4,4'-bis (p —Aminophenylthioether) diphenylsulfone, 3,3′-bis (p-aminophenolthioether) diphenylsulfone, 3,4′-bis (p-aminophenol) Thioether) diphenylsulfone, 4,4'-bis (p-aminophenol) diphenylether, 3,3'-bis (p-aminophenol) diphenylether, 3,4'-bis (p-) (A-aminophenoxy) diphenyl ether, 4,4'-bis (p-aminophenol) diphenyl sulfide, 3, 3'-bis (p-aminophenol) diphenyl sulfide, 3, 4 'one screw (p Amino phenoxy) diphenyl sulfide, 4,4'-bis (p-amino phenyl thioether) diphenyl sulfide, 3,3'-bis (p-amino phenyl thioether) di Phenyl sulfide, 3,4'-bis (p-aminophenylthioether) diphenyl sulfide, 4,4'-bis (p-aminophenylthioether) diphenyl ether, 3,3 ' Screw
( pーァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエ二ルエーテ ル、 3, 4 ' 一ビス ( p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエニルエーテル、 4, 4 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエ ノキシ) ベンゾフエノ ン、 3, 3 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエノキシ) ベンゾフエノ ン、 3, 4' — ビス (p—ァ ミ ノ フヱノキシ) ベンゾフエノ ン、 4, 4 ' 一ビス (p 一ア ミ ノ フヱ二ルチオエーテル) ベンゾフエノ ン、 3, 3 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ベンゾ フエノ ン、 3, 4' — ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオェ 一テル) ベンゾフエノ ン、 4, 4 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フヱノキシ) ジフエニル、 3, 3 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエノキシ) ジフエニル、 4, 4 ' 一ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエニル、 3, 3 ' 一ビス (P—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ジフエニル、 1 , 4一ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ベンゼン、 1 , 3—ビス (p—ァ ミ ノ フエ二ルチオエーテル) ベン ゼン、 4, 4' 一 (p—フエ二レンジイ ソプロ ピリ デン) ジァニリ ン、 4, 4 ' 一 ( m—フエ二レンジイ ソプロ ピ(p-aminophenylthioether) diphenylether, 3,4'-bis (p-aminophenylthioether) Diphenyl ether, 4,4'-bis (p-aminophenol) benzophenone, 3,3'-bis (p-aminophenol) benzophenone, 3,4'-bis (p-amino) Benzophenone, benzophenone, 4,4'-bis (p-aminophenolthioether) benzophenone, 3,3'-bis (p-aminophenolthioether) benzophenone, 3, 4'-bis (p-aminophenol) benzophenone, 4,4'-bis (p-aminophenol) diphenyl, 3,3'-bis (p-aminophenol) diphenyl , 4,4'-bis (p-aminophenylthioether) diphenyl, 3,3'-bis (p-aminophenylthioether) diphenyl, 1,4-bis (p-amino Phenyl thioether) benzene, 1, 3-bis (p-a Minophenylthioether) benzene, 4,4'-one (p-phenylenediisopropylidene) dianine, 4,4'-one (m-phenylenediisopropyl)
\2,2 -ビ入^ ミ キシ)フエ-,レ〕へやサフ'レ ロフ。ロノ、。^/ \ 2,2-Bi ^^ Mixi) Hue, Le] Hehe Saffle Lerov. Lono ,. ^ /
リデ:^ ジァニリ ン を挙げることができる。 Ride: ^ Gianlin can be mentioned.
芳香族ジァ ミ ン成分と しては、 上記の P, P ' —ジァ ミ ノ化合物の 1種を単独で使用することがポリマー構造 の均一性の観点から最も好ま しいが、 必要に応じてその As the aromatic diamine component, it is most preferable to use one of the above P, P'-diamino compounds alone from the viewpoint of homogeneity of the polymer structure, but if necessary, Terror
2種以上を混合して使用することもできる。 また、 本発 明所期の効果が得られる限りにおいて、 他の芳香族ジァ ミ ン成分の併用を妨げるものではない。 Two or more kinds can be used as a mixture. As long as the effects of the present invention can be obtained, other aromatic dia It does not prevent the combination of min components.
ポリィ ミ ドの生成反応は、 通常、 中間体であるポリア ミ ッ ク酸の合成反応とこれを脱水閉環してポリイ ミ ドと する反応との二段階反応により行なわれる。 The production reaction of polyimide is usually carried out by a two-step reaction of a synthesis reaction of polyamic acid, which is an intermediate, and a reaction of dehydrating and cyclizing this to form polyimide.
即ち、 先ず D S T Aと一般式 (H) の芳香族ジァ ミ ン とを有機溶剤中で反応させてポリアミ ツク酸を合成する。 That is, first, DSTA and an aromatic diamine of the general formula (H) are reacted in an organic solvent to synthesize polyamic acid.
D S T Aと芳香族ジァ ミ ンとのモル比は、 高分子量の ポリイ ミ ドを得る上で 0. 7〜 1. 3程度であることが 好ま しく、 特に 0. 9 5〜 1. 0 5の範囲が好ま しい。 The molar ratio between DSTA and the aromatic diamin is preferably about 0.7 to 1.3 in order to obtain a high molecular weight polyimide, and particularly preferably 0.95 to 1.05. Range is preferred.
ポリア ミ ツク酸の製造において、 反応温度は一般的に は 0〜 120で程度、 好ま しく は 5〜 80。Cであり、 反 応時間は使用するジァ ミ ン類、 溶剤や他の諸条件によつ て異なるものの、 通常 0. 5〜 50時間程度である。 In the production of polyamic acid, the reaction temperature is generally about 0 to 120, preferably 5 to 80. C, and the reaction time is usually about 0.5 to 50 hours, depending on the diamines, solvents and other conditions used.
また、 この反応に用いられる有機溶剤と しては、 後に 生成するポリィ ミ ドを溶解できる非プロ ト ン系極性溶剤 又はフヱノール系溶剤を用いるのが好ま しい。 かかる有 機溶剤としては、 例えば、 N—メチルー 2—ピロ リ ドン、 N, N—ジメチルホルムア ミ ド、 N , N—ジェチルホル ムア ミ ド、 N , N—ジメ チルァセ トア ミ ド、 N , N—ジ ェチルァセ トア ミ ド、 ジメチルスルホキシ ド、 テ トラメ チル尿素、 1 , 3—ジメチルー 2—イ ミ ダゾリ ジノ ン、 へキサメチルホスホルァ ミ ド等の非プロ ト ン系極性溶剤、 フエノール、 ク レゾール、 ジメ チルフエノ ーノレ、 ク ロル フエノール、 ブロムフエノール等のフェノール系溶剤が 挙げられる。 Further, as the organic solvent used in this reaction, it is preferable to use a non-proton-based polar solvent or a phenol-based solvent that can dissolve the polyimide to be formed later. Such organic solvents include, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N— Non-protonic polar solvents such as dimethyl acetate, dimethyl sulfoxide, tetramethyl urea, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, hexamethylphosphoramide; Examples include phenol solvents such as phenol, cresol, dimethylphenol, chlorophenol, and bromphenol.
上記反応溶剤と して非プロ ト ン系極性溶剤又はフエノ ール系溶剤を用いることにより、 ポリア ミ ツ ク酸合成に おいて一部ポリィ ミ ドが生成しても反応混合物がゲル化 せず、 またポリア ミ ック酸合成後そのまま引き続いてィ ミ ド化反応に供することができ、 またイ ミ ド化反応後そ のまま本発明のポリィ ミ ド樹脂組成物とすることができ るので、 極めて好適である。 By using a non-proton polar solvent or a phenol solvent as the above reaction solvent, the reaction mixture does not gel even if some polyimide is formed in the synthesis of polyamic acid. Further, after the synthesis of the polyamic acid, the polyimide resin composition of the present invention can be directly subjected to an imidization reaction as it is, and can be directly used as the polyimide resin composition of the present invention after the imidization reaction. Very suitable.
尚、 ポリア ミ ック酸合成反応において、 上記有機溶剤 以外にも、 溶解能は劣るものの、 一般的有機溶剤である ケ ト ン類、 エステル類、 ラク ト ン類、 エーテル類、 セ口 ソルブ類、 ハロゲン化炭化水素類、 炭化水素類等を用い ることもできる。 具体的には、 例えばアセ ト ン、 メチル ェチルケ ト ン、 メチルイソプチルケ ト ン、 シク ロへキサ ノ ン、 ァセ トフエノ ン、 酢酸メチル、 酢酸ェチル、 酢酸 ブチル、 シユウ酸ジェチル、 マロン酸ジェチル、 ァ ーブ チロラク ト ン、 ジェチルエーテル、 エチレングリ コール ジメチルエーテル、 ジエチレングリ コーノレジメチルエー テル、 テ トラヒ ドロフラン、 ジグライム、 メチルセロソ ルブ、 エチレングリ コールモノメチルエーテル、 ジクロ ルメ タ ン、 1, 2 —ジク ロノレエタ ン、 1 , 4 ー ジク ロル ブタ ン、 ト リ ク ロノレエタ ン、 ク ロノレベンゼン、 ジクロノレ ベンゼン、 へキサン、 ヘプタ ン、 オク タ ン、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等も使用することができる。 但し、 この場合は、 常法によりポリア ミ ッ ク酸を回収し、 必要 に応じて精製した後、 再度非プロ ト ン系極性溶剤又はフ ノール系溶剤に溶解後イ ミ ド化反応を実施することが 望ま しい。 In addition, in the polyamic acid synthesis reaction, other than the above-mentioned organic solvents, although having poor solubility, ketones, esters, lactones, ethers, and sesquisolves which are common organic solvents are used. , Halogenated hydrocarbons, hydrocarbons and the like can also be used. Specifically, for example, acetone, methylethylketone, methylisobutylketone, cyclohexanone, acetophenone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, getyl oxalate, getyl malonate , Avetylolactone, getyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol cornole dimethyl ether, tetrahydrofuran, diglyme, methyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane Lumetane, 1,2-dichloronorethane, 1,4-dichlorobutane, trichloronorethane, chloronorbenzene, dichloronorbenzene, hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene, etc. Can be used. However, in this case, the polyamic acid is recovered by a conventional method, purified if necessary, then dissolved again in a non-proton polar solvent or a phenol solvent, and the imidization reaction is performed. It is desirable.
上記ポリアミ ツク酸合成反応で得られたポリァミ ック 酸の有機溶剤溶液は、 そのまま、 又は有機溶剤溶液から 常法によりボリアミ ツク酸を回収し、 必要に応じて精製 した後、 再度前記の非プロ トン系極性溶媒又はフエノ一 ル系溶剤に溶解してからィ ミ ド化反応に供することがで きる。 The organic solvent solution of the polyamic acid obtained in the above polyamic acid synthesis reaction may be used as it is or after recovering boriamic acid from the organic solvent solution by a conventional method, purifying as necessary, and then re-using the above-mentioned non-protic acid. It can be used in an imidization reaction after being dissolved in a ton-based polar solvent or a phenol-based solvent.
上記ポリア ミ ツク酸合成反応及びその後のィ ミ ド化反 応における有機溶剤は、 いずれの段階においても単独で 用いてもよいし、 2種以上を混合して用いてもよい。 The organic solvent in the above polyamic acid synthesis reaction and the subsequent imidization reaction may be used alone at any stage, or may be used as a mixture of two or more.
ィ ミ ド化反応は、 通常、 ポリアミ ック酸の非プロ トン 系極性溶剤又はフェノール系溶剤の溶液を用いて好適に 行なう ことができる。 反応温度は、 通常 6 0〜 2 5 0 °C 程度、 好ま しく は 1 0 0〜 2 0 0。(:で実施される。 6 0 で以下では経済的な反応速度が得られず、 2 5 0 °C以上 では反応系の着色、 副反応等が生じ不利である。 Usually, the imidization reaction can be suitably performed using a solution of a polyamic acid in a nonproton-based polar solvent or a phenol-based solvent. The reaction temperature is usually about 60 to 250 ° C, preferably 100 to 200 ° C. (: It is not possible to obtain an economical reaction rate below 60 ° C, and at 250 ° C or higher. In such a case, coloring of the reaction system and side reactions are disadvantageous.
イ ミ ド化反応中に副生する水を効率的に除去して反応 を促進する観点より、 水と共沸する溶剤及び Z又は脱水 剤を添加することもできる。 かかる溶剤と してはべンゼ ン、 トルエン、 キシレン、 ェチルベンゼン、 へキサン、 ヘプタン、 オクタン、 ノナン、 デカン、 シクロへキサン 等が、 脱水剤としては五酸化リ ン、 無水酢酸、 ピリ ジン と無水酢酸等が例示される。 From the viewpoint of efficiently removing water by-produced during the imidization reaction to promote the reaction, a solvent azeotropic with water and Z or a dehydrating agent may be added. Such solvents include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, hexane, heptane, octane, nonane, decane, cyclohexane and the like, and dehydrating agents such as pentoxide, acetic anhydride, pyridine and acetic anhydride. Etc. are exemplified.
ィ ミ ド化反応の反応時間は、 ポリア ミ ツク酸の種類、 溶剤等の諸条件によって異なるが、 通常 0 . 5〜 5 0時 間程度である。 また、 反応溶液中のポリア ミ ック酸の濃 度は、 通常 1 〜 5 0重量%程度、 特に 3〜4 0重量%が 好ま しい。 1重量%未満では経済上不利であり、 5 0重 量%を超えると反応液が、 ゲル化したり、 粘度が高く な り過ぎ反応が不均一となるので好ま しく ない。 The reaction time of the imidization reaction varies depending on various conditions such as the type of polyamic acid and the solvent, but is usually about 0.5 to 50 hours. Further, the concentration of the polyamic acid in the reaction solution is usually about 1 to 50% by weight, and particularly preferably 3 to 40% by weight. If it is less than 1% by weight, it is economically disadvantageous, and if it exceeds 50% by weight, the reaction solution is not preferred because it gels or the viscosity becomes too high and the reaction becomes uneven.
かく して、 ポリイ ミ ドが生成する。 本発明におけるポ リイ ミ ドは、 前記特定の芳香族テ トラカルボン酸成分及 び芳香族ジァ ミ ン成分を選択組合わせて用いていること により、 有機溶剤に対する溶解度が高い。 また、 有機溶 剤に対する高い溶解度を保持したまま充分に大きい固有 粘度 (即ち、 充分に大きい分子量) を有するポリ イ ミ ド とすることができる。 而して、 本発明におけるポリィ ミ ドの固有粘度?? inh は、 溶媒 N—メ チルー 2— ピロ リ ド ン中濃度 0. 5 gZ100 2で、 温度 30 ± 1。Cにおい て測定されたものであり、 その値は、 通常、 0. 3〜 Thus, a polyimide is generated. The polyimide in the present invention has a high solubility in an organic solvent by using the specific aromatic tetracarboxylic acid component and the aromatic diamine component in a selective combination. In addition, it is possible to obtain a polyimide having a sufficiently large intrinsic viscosity (that is, a sufficiently large molecular weight) while maintaining high solubility in an organic solvent. Thus, the polymer in the present invention Do intrinsic viscosity? ? inh is 0.5 gZ1002 in solvent N-methyl-2-pyrrolidone, temperature 30 ± 1. C, which is usually between 0.3 and
5. 0 d / g程度好ましく は 0. 4〜2. 0 d ^ / g である。 かかる高い固有粘度を有することやポ リ マー構 造の均一性が高いこと等により、 充分な成形能、 芳香族 ポリイ ミ ド本来の優れた諸特性が発揮される。 特に、 熱 分解温度が高く、 耐熱性に極めて優れている。 It is about 5.0 d / g, preferably 0.4 to 2.0 d ^ / g. Due to such high intrinsic viscosity and high homogeneity of the polymer structure, sufficient moldability and excellent various characteristics inherent to aromatic polyimide are exhibited. In particular, it has a high thermal decomposition temperature and is extremely excellent in heat resistance.
本発明ポリィ ミ ド樹脂組成物は、 上記ポリィ ミ ドが有 機溶剤に溶解されてなるものである。 有機溶剤としては、 前記ポリィ ミ ド生成反応で挙げた非プロ トン系極性溶剤 及びフヱノール系溶剤の少なく とも 1種を用いるのが、 溶解度、 溶液粘度の安定性等の点から特に好ましい。 The polyimide resin composition of the present invention is obtained by dissolving the above polyimide in an organic solvent. As the organic solvent, it is particularly preferable to use at least one of the non-proton-based polar solvent and the phenol-based solvent mentioned in the polyimide formation reaction, from the viewpoints of solubility, stability of solution viscosity and the like.
従って、 イ ミ ド化反応を非プロ トン系極性溶剤又はフ ェノール系溶剤の溶液で行なった場合には、 反応物をそ - のまま本発明組成物とすることができる。 また、 この場 合及び他の溶剤を混合使用した場合等に、 必要に応じて、 ィ ミ ド化反応の反応物からポリイ ミ ドを一旦分離後、 好 ま しく は非プロ ト ン系極性溶剤、 フニノール系溶剤等に 再溶解して本発明組成物とすることもできる。 Therefore, when the imidization reaction is performed with a solution of a non-proton-based polar solvent or a phenol-based solvent, the composition of the present invention can be used as it is as a reaction product. In this case and when other solvents are mixed and used, if necessary, once the polyimide is once separated from the reaction product of the imidization reaction, preferably a non-proton-based polar solvent is used. Alternatively, the composition of the present invention can be re-dissolved in a funinol solvent or the like.
本発明ポリイ ミ ド榭脂組成物中のポリイ ミ ドの濃度は、 通常 1〜 50重量%程度、 好ましく は 3〜40重量%と するのが良い。 1重量%未満では経済上不利であり、 5 0重量%を超えると組成物がゲル化したり、 粘度が高 く なり過ぎて成形時の作業性が低下するので好ま しく な い 0 The concentration of the polyimide in the polyimide resin composition of the present invention is usually about 1 to 50% by weight, preferably 3 to 40% by weight. Good to do. If it is less than 1% by weight, it is economically disadvantageous, and if it exceeds 50% by weight, the composition gels or the viscosity becomes too high and the workability at the time of molding is unfavorably reduced.
次に、 上記本発明ポリイ ミ ド樹脂組成物に、 更にシラ ンカ ップリ ング剤を添加することにより、 前記 Cの本発 明ポリイ ミ ド榭脂組成物とすることができる。 Next, the polyimide resin composition of the present invention can be obtained by further adding a silane coupling agent to the polyimide resin composition of the present invention.
上記組成物は、 シラ ンカップリ ング剤を添加したこと により、 ポリイ ミ ドの耐熱性、 機械的特性、 電気的特性 等を低下させることなく優れた基材との密着性が付与さ れているものである。 ポリイ ミ ドの特性を損なうことが ないのは、 ィ ミ ド化完了後シランカツプリ ング剤を添加 するため、 これがポリイ ミ ド分子鎖中に取り込まれない こと、 生成水による影響を受けないこと等によると考え られる。 The above composition has excellent adhesion to a substrate without deteriorating heat resistance, mechanical properties, electrical properties, etc. of polyimide by adding a silane coupling agent. It is. The properties of polyimide are not impaired because the silane coupling agent is added after the imidization is completed, so that it is not incorporated into the polyimide molecular chain and is not affected by the generated water. it is conceivable that.
添加するシランカップリ ング剤と しては、 例えばァ ー グリ シ ドキシプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン、 ァ 一 ( 2— ア ミ ノエチル) ァ ミ ノプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン、 ァ 一 ( 2 —ア ミ ノエチル) ァミ ノプロ ピルメ チルジメ トキ シシラン、 ァ 一メ タク リ ロキシプロビル ト リ メ トキシシ ラ ン、 ァ一メ ルカプ トプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン、 メ チルメ トキシシラ ン、 メ チル ト リ エ トキシシラ ン、 ビニ ル ト リ ァセ トキシシラ ン、 N — /3 — C N ' 一ビニルベン ジルァ ミ ノェチル) 一 ァ ーァ ミ ノプロ ビル ト リ メ トキシ シラ ン、 "T一ク ロ口プロ ピノレ ト リ メ トキシシラ ン、 へキ サメ チルジシラザン、 τ ーァニリ ノプロ ビル ト リ メ トキ シシラ ン、 ビニル ト リ メ トキシシラ ン、 ア ーク ロロプロ ピルメ チルジメ トキシシラ ン、 ァ 一メルカプ トプロ ピル メチルジメ トキシシラ ン、 メ チル ト リ ク ロロ シラ ン、 ジ メ チノレジク ロロシラ ン、 ト リ メ チノレク ロロ シラ ン、 ァ ー ァ ミ ノプロ ピルエ トキシシラン、 ビニル ト リ エ トキシシ ラ ン、 ビニル ト リ ク ロルンラ ン、 ビニル ト リ (yS—メ ト キシエ トキシ) シラ ン、 β — ( 3 , 4—エポキシシクロ へキシル) ェチルト リ メ トキシシラン、 Ν—フエ二ルー 3—ァ ミ ノプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン等を挙げる こと ができる。 また、 その添加量は、 ポリイミ ドに対し、 通 常 0 . 1〜 2 0重量%程度、 好ましく は 1〜: L 0重量% とするのが適当である。 Examples of the silane coupling agent to be added include, for example, α-glycidoxypropyl trimethoxysilane, α- (2-aminoethyl) aminoprovir trimethoxysilane, and α- (2-amidoethyl). Noethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, α-methacryloxypropyl trimethoxysilane, α-methylcaptopropyl trimethoxysilane, methylmethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyl Rutriacetoxysilane, N — / 3 — CN 'vinyl benzylaminoethyl) monoamine propyl trimethoxysilane, “T Xametildisilazane, τ-anilinoprovir trimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, chloropropylmethyldimethoxysilane, α-mercaptopyrylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, methyltrichlorosilane Methinoresichlorosirane, trimethinochlorosilane, aminaminopropylethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrichlororane, vinyltri (yS-methoxyethoxy) silane, β — (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl methoxysilane, Ν Examples thereof include phenyl 3-aminoprovir trimethoxysilane, etc. The amount of the additive is usually about 0.1 to 20% by weight, preferably about 1 to 20% by weight, based on polyimide. Suitably, L is 0% by weight.
本発明のポリイ ミ ドを溶解してなる組成物及び更にシ ランカップリ ング剤を添加してなる組成物は、 常温で流 動性のある比較的低粘度の溶液であるため、 取扱い及び 成形加工が極めて容易である。 その上、 溶液状態での安 定性も高く、 粘度変化や、 不溶物析出等の変質を起すこ となく常温で長期間保存することができる。 これら本発明組成物は、 例えば耐熱性ワニス、 耐熱性 積層板、 耐熱性フィ ルム、 耐熱性接着剤等、 電機材料、 電子材料、 これらの応用機器等への利用が好適にできる。 具体的には、 プリ ン ト配線基盤、 フ レキシブル配線基盤、 テープキヤ リヤー、 半導体集積回路素子の表面保護膜又 は層間絶縁膜、 エナメル電線用被覆材、 各種積層板ガス ケッ ト等に用いられる。 The composition obtained by dissolving the polyimide of the present invention and the composition obtained by further adding a silane coupling agent are relatively low-viscosity solutions that are fluid at room temperature, and therefore, are difficult to handle and process. Extremely easy. In addition, it is highly stable in solution, and can be stored at room temperature for a long period of time without causing changes such as viscosity changes and precipitation of insolubles. These compositions of the present invention can be suitably used for, for example, heat-resistant varnishes, heat-resistant laminates, heat-resistant films, heat-resistant adhesives, and the like, electrical materials, electronic materials, and applied devices thereof. Specifically, it is used for a printed wiring board, a flexible wiring board, a tape carrier, a surface protective film or an interlayer insulating film of a semiconductor integrated circuit element, a covering material for an enameled electric wire, various laminated board gaskets, and the like.
特に、 これら本発明組成物は、 フィ ルム用と して好適 であり、 例えばガラス板、 金属板等の基材の滑らかな表 面上にキャスティ ング又はスピンコーティ ングした後、 加熱等によって比較的低温で有機溶剤等を除去でき、 こ れにより容易に透明なポリイ ミ ドフィ ルムが得られる。 このフィ ルムは機械強度が高く、 可撓性にも富んでおり、 例えば 3 0 z mの厚さのフィ ルムでは繰返し折曲げ試験 にも充分耐えるものである。 また、 熱分解温度も 5 0 0 て以上で良好な耐熱性を示し、 耐薬品性も良好である。 更に、 溶融温度以上では、 熱可塑性を示し、 加熱圧着や 圧縮成型ができる。 In particular, these compositions of the present invention are suitable for film use. For example, after casting or spin-coating on a smooth surface of a substrate such as a glass plate or a metal plate, the composition is relatively heated and the like. Organic solvents and the like can be removed at a low temperature, so that a transparent polyimide film can be easily obtained. This film has high mechanical strength and high flexibility. For example, a film with a thickness of 30 zm can sufficiently withstand repeated bending tests. Also, when the thermal decomposition temperature is 50,000 or more, good heat resistance is exhibited, and chemical resistance is also good. Furthermore, above the melting temperature, it shows thermoplasticity and can be thermocompression-bonded or compressed.
また、 シランカップリ ング剤を添加した本発明組成物 は、 種々の基材、 例えばガラス、 シリ コ ン、 アルミ ニゥ ム、 銅、 ニッケル、 鉄等の金属類及びこれらの酸化物、 ポ リ エチレン、 ポ リ プロ ピレン、 ポ リ エチレンテレフタ レー ト等のプラスチック類等に適用するのに良い。 特に、 当該組成物は、 基材との密着性に極めて優れるので、 溶 剤を揮散させるのみでポリイ ミ ド塗膜を低温短時間で形 成できることと相俟って、 基材を高温に加熱しにくい場 合、 例えば半導体表面保護膜、 電子部品回路の絶緣保護 膜、 プラスチック基板とする液晶表示素子用配向膜等の 用途に対し極めて有利である。 In addition, the composition of the present invention to which a silane coupling agent has been added can be used for various substrates, for example, metals such as glass, silicon, aluminum, copper, nickel, and iron, and oxides thereof, polyethylene, Polypropylene, Polyethylene terephthalate Good for application to plastics such as rates. In particular, the composition is extremely excellent in adhesiveness to the substrate, so that the polyimide film can be formed in a short time at a low temperature only by evaporating the solvent, and the substrate is heated to a high temperature. When it is difficult to do so, it is extremely advantageous for applications such as a semiconductor surface protective film, an insulating protective film for electronic component circuits, and an alignment film for a liquid crystal display element used as a plastic substrate.
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
以下、 実施例及び比較例を挙げて、 本発明をより具体 的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.
尚、 各実施例及び各比較^におけるポリイ ミ ドの溶液 粘度、 固有粘度、 熱分解温度、 軟化点、 引張り強度及び 弾性率は、 次の方法で測定したものである。 The solution viscosity, intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point, tensile strength, and elastic modulus of polyimide in each of Examples and Comparative Examples were measured by the following methods.
( 1 ) ポリイ ミ ド溶液粘度 (p s ) (1) Polyimide solution viscosity (ps)
ポリイ ミ ド濃度 20重量%、 温度 25 で、 E型粘度 計を用いて測定した。 It was measured using an E-type viscometer at a polyimide concentration of 20% by weight and a temperature of 25.
(2) ポリイ ミ ドの固有粘度 ? inh ( d Zg) (2) Intrinsic viscosity of polyimide? Inh (d Zg)
ポリイ ミ ド 0. 5 gを Ι Ο Οτηβの N—メチルー 2—ピ 口リ ドンに溶かし、 ォス トヮルド型粘度計を用い、 温 度 3 0 ± 0. 1。Cで試料溶液の落下時間 (秒、 t とす る) 及び溶媒の落下時間 (秒、 t oとする) を測定し、 下記式により算出した。 77 inh = H n ( t / t o ) / 0. 5 0.5 g of polyimide was dissolved in N-methyl-2-piperidone of Ι Ο Οτηβ, and the temperature was 30 ± 0.1 using an Ostold viscometer. The falling time of the sample solution (seconds, t) and the falling time of the solvent (seconds, to) were measured at C and calculated by the following equation. 77 inh = H n (t / to) / 0.5
( 3) ポリイ ミ ドの熱分解温度 (°C) (3) Thermal decomposition temperature of polyimide (° C)
示差熱天秤分析装置 ( 「THERMAL ANALYZER DT - 30」 、 島津製作所 (株) 製) を用い、 空気中 1 0てノ分の速 度で昇温し、 当初の重量より 1 0重量%重量が減少し たときの温度を求めた。 Using a differential thermal balance analyzer ("THERMAL ANALYZER DT-30", manufactured by Shimadzu Corporation), the temperature was raised at a speed of 10 minutes in the air, and the weight was reduced by 10% by weight from the initial weight. Then, the temperature at that time was determined.
(4 ) ポリイ ミ ドの軟化点 (で) (4) Softening point of polyimide
示差熱天枰分析装置 ( 「THERMAL ANALYZER DT - 30」 、 島津製作所 (株) 製) を用い、 空気中 1 0てノ分の速 度で昇温し、 針入モー ドで軟化点温度を測定した。 Using a differential thermal analyzer (“THERMAL ANALYZER DT-30”, manufactured by Shimadzu Corporation), the temperature is raised in the air at a speed of 10 minutes, and the softening point temperature is measured in the penetration mode. did.
( 5) 引張り強度 (kgZfflin2 ) 、 弾性率 (kgZinm2 ) 引張り試験器 ( riNSTKON MODEL 一 1122」 、 Instron Japan Company Ltd,製) を用いた 0 幅 1 cin、 ; ¾さ 8 cm のフ ィ ルム試験片の上下各 1 cmを固定し、 荷重 5kg:、 引張り速度 1 ΟιπιπΖ分の条件で測定した。 (5) Tensile strength (kgZfflin 2 ), elastic modulus (kgZinm 2 ) Film with 0 width 1 cin using a tensile tester (riNSTKON MODEL-1122, manufactured by Instron Japan Company Ltd); The test specimen was fixed at 1 cm on each of the upper and lower sides, the load was 5 kg, and the tensile speed was measured under the conditions of 1 速度 ιπιπΖ minute.
実施例 1 Example 1
攪拌装置、 冷却管、 温度計及び窒素ガス導入管を取付 けた反応器に 4 , 4 ' 一ビス (p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフヱニルスルホ ン 4 3. 2 g ( 0. 1モル) 、 及び N —メ チルー 2— ピロ リ ドン (以下、 「NM P」 という。 ) 3 0 O gを仕込み、 窒素置換した後溶解するまで室温下 に攪拌した。 次に、 D S T A 3 5. 8 g ( 0. 1モル) を徐々に添加し、 2 5〜 3 0 °Cで 1時間反応して透明粘 稠なポリアミ ック酸溶液を得た。 この溶液を 1 6 0 ま で昇温し、 5時間反応させて、 目的とする透明粘稠なポ リィ ミ ド N M P溶液を得た。 この溶液の粘度は、 3 5ポ ィズであつた (第 1表) 。 In a reactor equipped with a stirrer, cooling pipe, thermometer and nitrogen gas inlet pipe, 43.2 g (0.1 mol) of 4,4'-bis (p-aminophenol) diphenylsulfone and N 30-Og of methyl 2-pyrrolidone (hereinafter referred to as "NMP") was charged, and the mixture was replaced with nitrogen and stirred at room temperature until dissolved. Next, DSTA 35.8 g (0.1 mol) Was gradually added and reacted at 25-30 ° C. for 1 hour to obtain a transparent viscous polyamic acid solution. This solution was heated to 160 and reacted for 5 hours to obtain a desired transparent viscous polyimide NMP solution. The viscosity of this solution was 35 poise (Table 1).
このようにして得られたポリイ ミ ド溶液をメ タノール 中に投じ、 再沈して得たポリマーを減圧乾燥し赤外吸収 スぺク トルを測定したところ、 アミ ック酸による The polyimide solution thus obtained was poured into methanol, the polymer obtained by reprecipitation was dried under reduced pressure, and the infrared absorption spectrum was measured.
1 6 7 0 cnr1の吸収は認められず、 1 7 2 0 cnr1及び 1 7 7 O cffl "1にィ ミ ド基に基づく特性吸収が認められ、 ポリイ ミ ドであることが示された。 この赤外吸収スぺク トルを第 1図に示した。 第 1図中の捕正値は、 ポリスチ レンフィ ルムによるものである。 1 6 7 0 absorption of cnr 1 is not observed, 1 7 2 0 cnr 1 and 1 7 7 O cffl "characteristic absorption based on I Mi de group 1 was observed, was shown to be Porii Mi de The infrared absorption spectrum is shown in Fig. 1. The captured values in Fig. 1 are due to the polystyrene film.
当該ポリィ ミ ドの固有粘度、 熱分解温度、 軟化点及び その他の物性を第 2表に示す。 Table 2 shows the intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point and other physical properties of the polyimide.
また、 このポリイ ミ ドは、 N , N —ジメチルホルムァ ミ ド (以下、 「D M F」 という。 ) 、 N , N —ジメチル ァセ 卜アミ ド、 ジメチルスルホキシ ド、 テトラメチル尿 素、 1 , 3 —ジメチルー 2 —イ ミ ダゾリ ジノ ン、 m —ク レゾール、 キシレノーノレ、 0 —ク ロ口フエノーノレ、 及び p —ブロムフヱノールにも容易に溶解し、 夫々、 濃度約 In addition, this polyimide is composed of N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as "DMF"), N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurine, 1, 3—Dimethyl-2-imidazolidinone, m—Cresol, xylenore, 0—Curofen phenol, and p—Bromophenol
1 0重量%のポリイ ミ ド樹脂溶液を得た。 実施例 2 A 10% by weight polyimide resin solution was obtained. Example 2
2, 2— ビス [4一 (p—ア ミ ノ フエノキシ) フエ二 ル] プロパン 41. 0 g (0. 1モル) を DMF 300 gに溶解し、 これに D S TA 35. 8 g (0. 1モル) を徐々に加えて実施例 1と同様に反応してポリア ミ ッ ク 酸溶液を得た。 次いで、 1 50 で 5時間反応させて、 目的とする透明粘稠なポリイ ミ ド DMF溶液を得た。 こ の溶液の粘度は、 40ボイズであった (第 1表) 。 Dissolve 41.0 g (0.1 mol) of 2,2-bis [4- (p-amino phenoxy) phenyl] propane in 300 g of DMF and add 35.8 g (0. (1 mol) was gradually added and reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a polyamic acid solution. Then, the mixture was reacted at 150 for 5 hours to obtain a desired transparent viscous polyimide DMF solution. The viscosity of this solution was 40 boise (Table 1).
実施例 1と同様に処理後、 赤外吸収スぺク トルを測定 したところ、 ァミ ック酸による約 167 Oenr1の吸収は 認められず、 約 172 Ocnr1及び 177 Ocnr1 にイ ミ ド 基に基づく特性吸収が認められ、 ポリイ ミ ドであること が示された。 After the treatment in the same manner as in Example 1, the infrared absorption spectrum was measured. As a result, no absorption of about 167 Oenr 1 by the acidic acid was observed, and the absorption was observed at about 172 Ocnr 1 and 177 Ocnr 1. Characteristic absorption based on the group was observed, indicating that it was a polyimide.
当該ポリイ ミ ドの固有粘度、 熱分解温度、 軟化点及び その他の物性を第 2表に示した。 また、 このポリイ ミ ド は、 NMP、 ジメ チルァセ トア ミ ド、 ジメ チルスルホキ シ ド、 へキサメチルホスホルア ミ ド、 フヱノール、 o— ク レゾール、 2, 6—キシレノール及び P —ク ロルフエ ノールにも溶解し、 夫々、 濃度 1 0重量%のポリイ ミ ド 榭脂溶液を得た。 Table 2 shows the intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point and other physical properties of the polyimide. The polyimide also dissolves in NMP, dimethyl acetate, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, phenol, o-cresol, 2,6-xylenol, and P-chlorophenol. Then, a polyimide resin solution having a concentration of 10% by weight was obtained.
実施例 3 Example 3
4 , 4 ' ージア ミ ノ ジフエニルスルフィ ド 21. 6 g (0. 1モル) を m—ク レゾ一ル 2 50 gに溶解し、 こ れに D S TA 3 5. 8 g (0. 1モル) を徐々に加えて 実施例 1と同様に反応してポリアミ ツク酸溶液を得た。 次いで、 17 CTCで 3時間反応させて、 目的とする透明 粘稠なポリイ ミ ド溶液を得た。 この溶液の粘度は、 34 ボイズであった (第 1表) 。 4,4'-diamino diphenyl sulfide 21.6 g (0.1 mol) was dissolved in 250 g of m-cresole, and 5.8 g (0.1 mol) of DSTA was gradually added thereto, followed by reaction in the same manner as in Example 1. A polyamic acid solution was obtained. Then, the mixture was reacted at 17 CTC for 3 hours to obtain a desired transparent viscous polyimide solution. The viscosity of this solution was 34 Boise (Table 1).
実施例 1と同様に処理後、 赤外吸収スべク トルを測定 したところ、 ァミ ック酸による約 1 67 0 em _1の吸収は 認められず、 約 1 720 C1"1及び 1770 cm"1にイ ミ ド 基に基づく特性吸収が認められ、 ポリイ ミ ドであること が示された。 After similarly treated as in Example 1, was measuring the infrared absorption scan base-vector, absorption of about 1 67 0 em _ 1 by § Mi-click acid was not observed, about 1 720 C1 "1 and 1770 cm " 1 showed characteristic absorption based on imido groups, indicating that it was a polyimide.
当該ポリイ ミ ドの固有粘度、 熱分解温度、 軟化点及び その他の物性を第 2表に示した。 また、 このポリイ ミ ド は NMP、 N, N—ジメ チルホルムア ミ ド、 N, N—ジ メ チルァセ トア ミ ド、 ジメ チルスルホキシ ド、 テ トラメ チル尿素、 フヱノール、 キシレノールにも容易に溶解し、 夫々、 濃度約 1 0重量%のポリィ ミ ド樹脂溶液を得た。 実施例 4〜 1 1 Table 2 shows the intrinsic viscosity, thermal decomposition temperature, softening point and other physical properties of the polyimide. In addition, this polyimide readily dissolves in NMP, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, phenol, and xylenol. A polyimide resin solution having a concentration of about 10% by weight was obtained. Examples 4 to 11
第 1表に示したような各種ジァミ ンと D S TAとを実 施例 1と同様に反応して、 相当するポリィ ミ ドを製造し た。 各実施例で得たポリイ ミ ドを実施例 1と同様に処 理後、 赤外吸収スぺク トルを測定したところ、 いずれも、 ァ ミ ッ ク酸による約 1 6 7 0 cnr1の吸収は認められず、 約 1 7 2 0 cm "1及び 1 7 7 0 cm "1 にイ ミ ド基に基づく特 性吸収が認められ、 ポリイ ミ ドであることが示された。 Various polyamides and DSTAs as shown in Table 1 were reacted in the same manner as in Example 1 to produce corresponding polyimides. After treating the polyimide obtained in each of the examples in the same manner as in Example 1, the infrared absorption spectrum was measured. Absorption of about 1 6 7 0 cnr 1 according § Mi click acid was not observed, characteristic absorption was observed based on Lee Mi de group about 1 7 2 0 cm "1 and 1 7 7 0 cm" 1, It was shown to be polyimide.
用いた溶剤及び反応後のポリィ ミ ド溶液粘度を第 1表 に、 得られたポリイ ミ ドの諸特性を第 2表に示した。 The solvent used and the viscosity of the polyimide solution after the reaction are shown in Table 1, and various properties of the obtained polyimide are shown in Table 2.
実施例 ジ ァ ミ ン 溶 剤 溶液粘度Example Dimamine solvent Solution viscosity
1 4, 4, —ビス (p—アミノフヱノキン) ジフエニルスルホン NMP 351 4, 4, —bis (p-aminophenol) diphenylsulfone NMP 35
2 2, 2-ビス [4— (p—アミノフエノキシ) フエニル] プロパン DMF 402 2, 2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] propane DMF 40
3 4, 4' ージァミノジフヱニルスルフィ ド 01-クレゾール 343 4, 4 'diaminodiphenyl sulfide 01-cresol 34
4 1, 4-ビス (p—アミノフヱ二ルチオエーテル) ベンゼン fflークレゾ一ル 324 1, 4-bis (p-aminophenyl thioether) benzene ffl- cresol 32
5 4, 4' —ビス (p—アミノフヱ二ルチオエーテル) ジフヱニルエーテル NMP 375 4, 4'-bis (p-aminophenylthioether) diphenyl ether NMP 37
6 4, 4' 一ビス (p—ァミノフエニノキシ) ジフエニルスルフィ ド NMP 366 4, 4'-bis (p-aminopheninoxy) diphenyl sulfide NMP 36
7 4, 4, 一ビス (p—アミノフヱニノキン) ベンゾフヱノン NMP 387 4, 4, Monobis (p-aminophenylinoquine) benzophenone NMP 38
8 4, 4' —ビス (p—ァミノフエ二ルチオエーテル) ジフエニルスルホン mークレゾール 328 4, 4'-Bis (p-aminophenylthioether) diphenylsulfone m- cresol 32
9 4, 4' 一ビス (p—アミノフヱニノキシ) ジフエニルエーテル DMF 419 4, 4'-bis (p-aminophenyloxy) diphenyl ether DMF 41
10 4, A' 一 (m—フエ二レンジイソプロピリデン) ジァニリン NMP 3810 4, A'-I (m-phenylenediisopropylidene) dianiline NMP 38
11 4, 4' 一 (p—フヱニレンジイソプロピリデン) ジァニリン DMF 40 11 4,4'-1 (p-phenylenediisopropylidene) dianiline DMF 40
第 2 表 雄例 固有粘度 (p s) 熱分解温度 CC) 軟 、ノ、化, w点、、ゝ C VO 引張 ¾W (kg/mm2 ) v^1i-i.-!p1\i&/ uiui ノ Table 2 Male example Intrinsic viscosity (ps) Thermal decomposition temperature CC) Soft, no, chemical, w point, ゝ C VO tensile ¾W (kg / mm 2 ) v ^ 1 ii.- ! P 1 \ i & / uiui no
1 0. 79 565 285 12 2 t 1 0.79 565 285 12 2 t
2 0. 83 535 250 11 フ 5リ R o 2 0.883 535 250 11 5 R o
3 0. 65 500 300 8 2 9 q 17 n 3 0.65 500 300 8 2 9 q 17 n
4 0. 1 531 10 6 977 4 0.1 531 10 6 977
5 0. 75 525 290 9. 1 281 t 5 0.75 525 290 9. 1 281 t
6 0. 87 530 265 8. 7 260 6 0.87 530 265 8.7 260
7 0. 81 565 260 9. 5 257 7 0.81 565 260 9.5 257
8 0. 69 560 255 8. 8 263 8 0.69 560 255 8.8 263
9 0. 81 542 262 . 10. 2 280 9 0.81 542 262. 10. 2 280
10 0. 81 541 263 11. 5 258 10 0.81 541 263 11.5 258
11 0. 79 537 288 12. 3 272 11 0.79 537 288 12.3 272
実施例 1 2〜 3 6 Example 1 2 to 3 6
第 3表に示した各種ジァミ ンと D S T Aとを実施例 1 と同様に反応して相当するポリィ ミ ドを合成した。 The corresponding polyamides were synthesized by reacting various diamines shown in Table 3 with DSTA in the same manner as in Example 1.
各実施例で得たポリイ ミ ドを実施例 1と同様に処理後、 赤外吸収スぺク トルを測定したところ、 いずれも、 ァミ ック酸による約 1 6 7 0 cm "1の吸収は認められず、 約 1 7 2 0 cm "1及び 1 7 7 0 cm "1にィ ミ ド基に基づく特性 吸収が認められ、 ポリイ ミ ドであることが示された。 After treating the polyimide obtained in each of the examples in the same manner as in Example 1, the infrared absorption spectrum was measured. In each case, the absorption of about 670 cm " 1 by the acidic acid was observed. It was not observed, about 1 7 2 0 cm "1 and 1 7 7 0 cm" 1 characteristic absorption based on I Mi de group, thus they were shown to be Porii mi de.
得られたポリイ ミ ドの固有粘度 (77 i nh ) 、 用いた反 応溶剤、 反応後のポリィ ミ ド溶液の粘度及び熱分解温度 を第 3表に示す。 Table 3 shows the intrinsic viscosity (77 inh) of the polyimide obtained, the reaction solvent used, the viscosity of the polyimide solution after the reaction, and the thermal decomposition temperature.
第 3 表 Table 3
t t
第 3 表 (続き) ン 、 尸 :、 、 Table 3 (continued)
実施例 ン 固有粘度 溶 剤 溶液粘度 熱分解温度 Example 1 Intrinsic viscosity Solvent Solution viscosity Thermal decomposition temperature
(d5 g) (P s) CC) (d5 g) (P s) CC)
21 3, —ビス (p—ァミノフエ二ルチオェ 0. 75 in-クレゾ一ル 30 520 21 3, —Bis (p-aminophenol) 0.75 in-cresol 30 520
一テル) ジフヱニルスルフィ ド 1 ter) diphenyl sulfide
22 3, y 一ビス (p—ァミノフエ二ルチオェ 0. 73 01 -クレゾール 28 522 22 3, y-bis (p-aminophenol thiol 0.73 01-cresol 28 522
—テル) ジフヱニルエーテル —Tel) diphenyl ether
23 3, 3' —ビス (p—アミノフヱ二ルチオェ 0. 55 m-クレゾール 32 530 23 3, 3'-bis (p-aminophenylthioe 0.55 m-cresol 32 530
一テル) ベンゾフエノン One ter) benzophenone
24 3, 3' —ビス (p—アミノフヱノキン) ジ 0. 61 DMF 33 585 t フエニル 24 3, 3'-bis (p-aminophenokine) di 0.61 DMF 33 585 t phenyl
25 3, 3' —ビス (p—ァミノフエ二ルチオェ 0. 62 DMF 32 585 25 3, 3'-bis (p-aminophenirthioe) 0.62 DMF 32 585
一テル) ジフヱニル One tell) diphenyl
26 3, A' —ビス (p—アミノフエノキシ) ジ 0. 83 丽 P 29 513 26 3, A'-bis (p-aminophenoxy) di 0.83 丽 P 29 513
フヱニルスルホン Phenyl sulfone
27 3, 4' 一ビス (p—アミノフヱ二ルチオェ 0. 71 薩 P 30 509 27 3, 4 'Bis (p-aminophenylthioe 0.71 Sat P 30 509
一テル) ジフエニルスルホン One ter) diphenyl sulfone
28 3, Α' —ビス (ρ—アミノフヱノキシ) ジ 0. 75 匪 P 31 515 28 3, Α'-bis (ρ-aminophenoxy) di 0.75 marauder P 31 515
フエニルスルフィ ド Phenyl sulfide
29 3, 4' —ビス (ρ—ァミノフエ二ルチオェ 0. 82 NMP 33 512 29 3, 4'-bis (ρ-aminophosphoric 0.88 NMP 33 512
一テル) ジフエニルスルフィ ド One ter) diphenyl sulfide
第 3 表 (続き) Table 3 (continued)
実施例 37 Example 37
実施例 1で得られたポリイ ミ ド 1 0 g及びァーグリ シ ドキシプロビルト リ メ トキシシラン 0. 5 gを NMP 90 sに溶解し、 ホイラーを 1 50 rpin で回転させなが らガラス板にキャス ト した。 これを減圧下で 80 °C、 次 いで 1 50て及び 20 0てで各 1時間加熱し密着性テス トに供した。 密着性テス トは、 塗膜に J I S D 10 g of the polyimide obtained in Example 1 and 0.5 g of α-glycidoxyprovir trimethoxysilane were dissolved in 90 s of NMP, and cast on a glass plate while rotating the wheeler at 150 rpm. This was heated at 80 ° C. under reduced pressure, then at 150 ° and 200 ° for 1 hour each, and subjected to an adhesion test. The adhesion test is performed on the coating film
0202に準拠して 1 mm角のマスメを 1 0 0個作り、 セロテープを張り付けて急激に剥がし、 剥がされた数で 評価するセ口テープビールテス トにより行なった。 In accordance with 0202, 100 squares of 1 mm square were made, a cellophane tape was stuck and rapidly peeled off, and the tape was peeled off and evaluated by the number of peeled tape beer test.
この結果、 セロテープピールテス ト (1 0 0個のうち 剥がれた数) は 0であった。 また、 熱分解温度は 558 でであった。 尚、 シラ ンカップリ ング剤を共存させない 場合、 セロテープピールテス トは 60であった。 As a result, the cellotape peel test (the number peeled out of 100 pieces) was 0. The pyrolysis temperature was 558. When no silane coupling agent was present, the cellotape peel test was 60.
実施例 38 Example 38
実施例 2で得られたポリイ ミ ド 1 0 g及び 7 一 (2— アミ ノエチル) ァミ ノプロビルト リ メ 卜キシシラン 10 g of the polyimide obtained in Example 2 and 70- (2-aminoethyl) aminoprobitritrimethoxysilane
0. 2 gを DMF 40 gに溶解してポリイ ミ ドワニスを 得た。 これを実施例 37と同様にガラス板にキャス ト し 加熱後、 密着性テス ト及び熱分解温度を測定した。 結果 を第 4表に示した。 0.2 g was dissolved in 40 g of DMF to obtain a polyimide varnish. This was cast on a glass plate and heated in the same manner as in Example 37, and the adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured. The results are shown in Table 4.
実施例 39 実施例 3で得られたポリイ ミ ド 5 g及びァ 一メルカプ トプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン 0. 4 gを NMP 50 g に溶解してポリィ ミ ドワニスを得た。 実施例 37と同様 にして密着テス ト及び熱分解温度を測定し、 結果を第 4 表に示し 。 実施例 40 Example 39 A polyimide varnish was obtained by dissolving 5 g of the polyimide obtained in Example 3 and 0.4 g of amercaptopropyl trimethoxysilane in 50 g of NMP. The adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37, and the results are shown in Table 4. Example 40
3 Three
1 1
実施例 4で得られたポリィ ミ ド樹脂 5 g及びア ーク口 口プロ ビル ト リ メ トキシシラ ン 0. 3 gを N , N—ジメ チルァセ トア ミ ド 50 gに溶解してポリィ ミ ドワニスを 得た。 実施例 37と同様にして密着性テス ト及び熱分解 温度を測定し、 結果を第 4表に示した。 実施例 41〜43 実施例 5〜 7で得られたポリイ ミ ド 10 g及び 7 -ァ ミ ノプロ ピル ト リエ トキシシラ ン 0. 2 gを NMP40 gに溶解し、 実施例 37と同様にして密着性テス ト及び 熱分解温度を測定し、 結果を第 4表に示した。 実施例 44〜45 実施例 8、 9で得たポリイ ミ ド 5 g及びァ ー (2 -ァ ミ ノェチル) ァ ミ ノ プロ ビル ト リ メ トキシシラ ン 5 g of the polyimide resin obtained in Example 4 and 0.3 g of Arc Mouth Probitritrimethoxysilane were dissolved in 50 g of N, N-dimethylacetamide to prepare a polyimide varnish. Obtained. The adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37, and the results are shown in Table 4. Examples 41 to 43 10 g of the polyimide obtained in Examples 5 to 7 and 0.2 g of 7-aminopropyltriethoxysilane were dissolved in 40 g of NMP, and the adhesion was obtained in the same manner as in Example 37. The test and pyrolysis temperature were measured, and the results are shown in Table 4. Examples 44 to 45 5 g of polyimide obtained in Examples 8 and 9 and ar (2-aminoethyl) aminoprovir trimethoxysilane
0. 3 gを DMF 95 gに溶解し、 実施例 37と同様に して密着性テス ト及び熱分解温度を測定し、 結果を第 4 に した。 第 4 表 0.3 g was dissolved in 95 g of DMF, and the adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37. The result was fourth. Table 4
( ) 内はシランカツプリ ング剤を共存させなかつ 口 (): The mouth does not contain the silane coupling agent.
実施例 46〜47 Examples 46-47
実施例 10及び 1 1で得られたポリイ ミ ド樹脂 5 g及 びァ ーメ ルカプ トプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン 0. 4 g を NMP l O O gに溶かし、 各ポリイ ミ ド榭脂ワニスを 得た。 実施例 37と同様にして密着性テス ト及び熱分解 温度を測定し、 第 5表に示した。 5 g of the polyimide resin obtained in Examples 10 and 11 and 0.4 g of armcaptopropyl trimethoxysilane were dissolved in NMP100 g to obtain each polyimide resin varnish. Was. The adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37, and the results are shown in Table 5.
第 5 表 Table 5
実施例 48〜65 Examples 48-65
実施例 12〜: 25、 32〜 35で得られた各ボリイ ミ ドに対し 5重量%の 7 —グリ シ ドキシプロ ビル ト リ メ ト キシシランを各種非プロ ト ン系極性溶剤に溶かし、 ポリ イ ミ ドワニスを作った。 用いた溶剤、 ポリイ ミ ド濃度及 び実施例 3 7と同様にして測定した密着性テス ト及び熱 分解温度を第 6表に示す。 Example 12-: Each polyimid obtained in 25, 32-35 Polyimide varnish was prepared by dissolving 5% by weight of 7-glycidoxyprobitrimethoxysilane in various non-protonic polar solvents. Table 6 shows the solvent used, the polyimide concentration, the adhesion test measured in the same manner as in Example 37, and the thermal decomposition temperature.
6 表 6 Table
ポリイミ セ Dテー 熱分解 溶 剤 ド« プピール ¾πυ又 Polyimidide D Pyrolysis Solvent Solvent
(MM) テスト CO (MM) Test CO
1, 3—ジメチルー 2— 10 0 528 イミダゾリジノン 1,3-Dimethyl 2--10 0 528 Imidazolidinone
1, 3—ジメチルー 2— 10 0 519 イミダゾリジノン 1,3-Dimethyl 2--10 0 519 Imidazolidinone
NMP 20 0 603 NMP 20 0 603
DMF 10 0 593DMF 10 0 593
N P 20 0 513N P 20 0 513
NMP 20 0 508NMP 20 0 508
DMF 10 0 512DMF 10 0 512
N, N—ジェチルホルム 10 0 521 アミ ド N, N—Jetilholm 10 0 521 Amide
N, N—ジェチルァセト 10 0 503 アミ ド N, N—Jetiracet 10 0 503 Amid
テトラメチル尿素 10 0 518Tetramethylurea 10 0 518
DMF 10 0 522DMF 10 0 522
D F 10 0 528D F 10 0 528
DMF 10 0 583DMF 10 0 583
DMF 10 0 579DMF 10 0 579
NMP 20 0 528NMP 20 0 528
NMP 10 0 512 匪 P 10 0 509NMP 10 0 512 Marauder P 10 0 509
NMP 10 0 513 実施例 6 6〜 6 7 NMP 10 0 513 Example 6 6 to 6 7
実施例 1又は 2で得られたポリイ ミ ド 1 0 g、 ァーァ 二リ ノプロ ビル ト リ メ トキシシラ ン 0. 2 gをフヱノー ル系溶剤 4 0 に溶解してポリィ ミ ドワニスを得た。 用 いた溶媒及び実施例 3 7と同様にして測定した密着性テ ス ト、 熱分解温度を第 7表に示す。 10 g of polyimide obtained in Example 1 or 2 and 0.2 g of ferrinoprobitritrimethoxysilane were dissolved in 40 parts of a phenol-based solvent to obtain a polyimide varnish. Table 7 shows the solvent used, the adhesion test measured in the same manner as in Example 37, and the thermal decomposition temperature.
第 7 表 Table 7
( ) 内は.シランカップリ ング剤を共存させなかつ (): No silane coupling agent coexists
* »- ^¾口' * »-^ ¾ 口 '
比較例 1 Comparative Example 1
4 , 4 ' 一ビス ( p—ア ミ ノ フエノキシ) ジフエニル スルホン 4 3. 2 g ( 0. 1モル) を N M P 3 0 0 gに 溶解し、 ベンゾフエノ ン一 3 , 3 ' , 4 , 4 ' ーテ トラ カルボン酸二無水物 (以下 「B P T A」 と略称する。 ) 3 2. 2 g ( 0. 1モル) を徐々に加えて実施例 1 と同 様に反応させ、 ポリア ミ ツク酸溶液を得た。 次に、 1 5 0。(:で 5時間反応させると、 不均一のゲル状物とな つた。 このものに更に NMP 300 gを加えて加熱攪拌 したが均一な溶液は得られなかった。 43.2 g (0.1 mol) of 4,4'-bis (p-aminophenoxy) diphenyl sulfone was dissolved in 300 g of NMP, and benzophenone-1,3,3,4,4'- Tetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as “BPTA”) 32.2 g (0.1 mol) was gradually added and reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a polyamic acid solution. Was. Next, 150. (: Reaction for 5 hours will result in non-uniform gel I got it. An additional 300 g of NMP was added to this and stirred with heating, but a uniform solution was not obtained.
比较例 2 Comparative Example 2
2, 2— ビス [4一 (p—ア ミ ノフエノキシ) フエ二 ル] プロパン 4 1. 0 g (0. 1モル) を DMF 30 0 gに溶解し、 B P TA 32. 2 g (0. 1モル) を徐々 に加えて実施例 2と同様に反応させポリアミ ック酸とし た後、 170でで 3時間反応させると、 不均一のゲル状 物となった。 このものに更に DMF 300 gを加えて加 熱攪拌したが均一な溶液は得られなかった。 2,2—bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] propane (41.0 g, 0.1 mol) was dissolved in 300 g of DMF, and 32.2 g of BPTA (0.1 mol) was dissolved. ) Was gradually added and reacted in the same manner as in Example 2 to obtain a polyamic acid, and then reacted at 170 for 3 hours to obtain a heterogeneous gel. To this solution, 300 g of DMF was further added and heated with stirring, but a uniform solution was not obtained.
比較例 3 Comparative Example 3
D S TA 35. 8 g (0. 1モル) の代わり に 3, 3' , 4, 4' ージフエニルスルホンテ トラカルボン酸 ジメ チルエステル 42. 4 g (0. 1モル) を用いた他 は、 実施例 1と同様の条件で反応させた。 Except for using 32.4 g (0.1 mol) of 3,3 ', 4,4' diphenylsulfonetetracarboxylic acid dimethyl ester instead of 35.8 g (0.1 mol) of DSTA, The reaction was carried out under the same conditions as in Example 1.
得られたポリイ ミ ドの物性は、 固有粘度が 0. 1 5 d ·β Z g、 熱分解温度が 420て、 引張り強度が 3 2 kg /in in2 で、 固有粘度が低く (分子量が低く) 、 耐熱性、 機械的物性が劣るものであつた。 The properties of the polyimide obtained are: intrinsic viscosity 0.15 d · βZg, thermal decomposition temperature 420, tensile strength 32 kg / in in 2 , low intrinsic viscosity (low molecular weight ), Heat resistance and mechanical properties were inferior.
比較例 4 Comparative Example 4
2 , 2 -ビス [4 - (4—ア ミ ノ フエノキシ) フエ二 ル〕 プロパン 4 1 g ( 0. 1モル) を N M P 4◦ 0 gに 溶解し、 これに 3, 3 ' , 4, 4' 一ベンゾフヱノ ンテ トラ力ルボン酸無水物 32. 2 g 2, 1-bis [4- (4-amino phenoxy) phenyl] propane 4 1 g (0.1 mol) to NMP 4◦0 g Dissolve and add 3,3 ', 4,4' monobenzophenone tetracarboxylic acid 32.2 g
(0. 1モル) を徐々に加え、 25〜30。Cで 2時間反 応させてポリアミ ック酸を得た。 このポリア ミ ック酸の 固有粘度は 1. 2 d j^ Zgであった。 (0.1 mole) slowly, 25-30. C was reacted for 2 hours to obtain polyamic acid. The intrinsic viscosity of this polyamic acid was 1.2 dj ^ Zg.
このポリア ミ ック酸溶液 1 00 gにァ ーグリ シ ドキシ プロビルト リメ トキシシラ ン 1. l gを加えて得たヮニ スを用い、 実施例 37と同様にして密着性テス ト及び熱 分解温度を測定した。 この結果、 塗膜強度が非常に低く 、 且つ均一でないため、 塗膜に切目を入れる際に脱離した。 また熱分解温度も 483てと低かった。 The adhesion test and the thermal decomposition temperature were measured in the same manner as in Example 37, using a phenol obtained by adding 1.lg of glycidoxyprovirt rimethoxysilane to 100 g of this polyamic acid solution. did. As a result, since the strength of the coating film was very low and not uniform, it was detached when the coating film was cut. The thermal decomposition temperature was as low as 483.
図面の簡単な説明 BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
第 1図は、 実施例 1におけるポリイ ミ ドの赤外吸収ス ぺク トノレである。 FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of polyimide in Example 1.
Claims
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/275,176 US4996293A (en) | 1987-02-13 | 1988-02-12 | Composition comprising polyimide resin from diphenyl sulfone -3,3',4,4'-tetracarboxylic acid dianhydride |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3203087 | 1987-02-13 | ||
| JP62/32030 | 1987-02-13 | ||
| JP62/179752 | 1987-07-17 | ||
| JP17975287A JPS6422963A (en) | 1987-07-17 | 1987-07-17 | Polyimide resin composition and production thereof |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO1993014148A1 true WO1993014148A1 (en) | 1993-07-22 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP1988/000145 Ceased WO1993014148A1 (en) | 1987-02-13 | 1988-02-12 | Polyimide resin compositions and processes for their production |
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|---|---|
| WO (1) | WO1993014148A1 (en) |
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