WO1988008437A1

WO1988008437A1 - Film en polyester et support d'enregistrement magnetique

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Publication number: WO1988008437A1
Application number: PCT/JP1988/000444
Authority: WO
Inventors: Masaaki Ono; Takao Izasa; Kazuo Okabe
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1987-05-01
Filing date: 1988-05-02
Publication date: 1988-11-03
Anticipated expiration: 1989-11-01
Also published as: KR890701665A; DE3884549T2; EP0312616A1; US5047278A; JP2792068B2; DE3884549D1; EP0312616A4; EP0312616B1; KR950014234B1

Description

明細ポリエステルフィルム及び磁気記録媒体技術分野

本発明は、ポリエステルフィルム、特に易滑性ポリエステルフイルムに関する。このポリエステルフィルムは、磁気テープ等、特に強磁性体薄胶を記録層とする磁気記録媒体用のベ一スフィル厶に好適である。背景技術

磁気記録媒体用に、特に、強磁性体薄胶用のベースフィルムとしては、

( 1 ) 平滑な熱可塑性フィルムと微粒子含有熱可塑性フィルムとの積層体の微粒子含冇フィルム層の外表面に滑剤主体の被覆層が形成された複合フィルム（例えば、特開昭 58 - 1 53639 号公報） '、

( 2 ) 滑剤が分散された塗胶がー面に形成されて易滑化されており、他面が平滑なポリエステルフィルム（例えば、特開昭 57— 162123号公報）、

( 3 ) 固有粘度の異なるポリエチレンテレフタレートからなる 2つのフイルムが積！？された複合ポリエステルフイルムであり、強磁性体金厲薄膜が固有粘度の低い層の表面に設けることを特徴としたもの（例えば、'特開昭 57— 200932号公報）、

( ) 微細突起が形成された平滑な二軸配向、ポリエステルフィルムであって、その表面粗さ、縱方向ャング率、横方向熱収縮率が限定されるとともに、片面に滑剤含有塗膜が形成されたもの（例えば、特開昭 62-32048号公報）、

( 5 ) 平滑なポリエステルフィルムの片面に粒状の突起が形成されたもの（例えば、特開昭 54-94574号公報）、

( 6 ) 平滑なポリエステルフィルムの両面にミミズ状皮膜構造が形成されたもの（例えば、特開昭 56- 1(U55号公報）、

( 7 ) 少なくとも片面に厚さ 5 0 nm以下の水溶性高分子を主体とする不連続皮膜が設けられたポリエステルフィルム（例えば、特閜昭 58-62826号公報）、

( 8 ) 少なくとも片面に厚さ 5 0 nm以下の水溶性高分子及びシランカップリング剤を主体とする不連続皮膜が設けられたポリエステルフィルム（例えば、特開昭 58- 65658 ¾公報）、

( 9 ) 少なくとも片面に、易接着性樹脂含有のポリマ —ブレンドと粒径 5 〜 5 0 nmの微細粒子を主体とすさ 5 ϋ nm¾ 下の不連続皮胶が設けられたポリエステルフィルム（例えば、特開昭 60— 180839号公報）、

( 10 ) 高さ 10〜 200nm で 1 画 ² 当り平均万〜 100万個の突起を有するポリエステルフィルム（例えば、特開昭 58— 100221 号公報）、

( 11) 高さ 5 〜 6 0 nmで 1 随 ² 当り平均 1 x 10⁵ 〜： I x 10 ^s 個の突起を有するポリエステルフイルム（例えば、特開昭 60 - 93636号公報）、

( 12 ) 徴粒子含有のポリエステルフィルムであつ、その微粒子により表面突起が形成され、かつ -面には、さらに ¾而突起より高さの低い有極性高分子主体の不連続皮膜が形成されていることを特徵とするポリエステルフィルム（例えば、特開昭 62— 130848号公報）、

( 13) 平滑な熱可塑性フィルムと微粒子含有熱可塑性フィルムとの積層体の平滑フィルム^の外表面に不連続皮膜が形成され、かつ微粒子含有フィルム層の外表面に滑剤主体の被覆層が形成された複合フィルム（例えば、特開昭 58— 153640号公報）、等が知られている。 '

また、一般的磁気テープ用べ一スフイルムとしては、 ( 14) 固有粘度、密度、およびフィルム平面に垂直方向の屈折率 nが規定された、特に Γ1 < 1. 491 であるポリエステルフイルム（例えば、特開昭 53 _ 138477号）、 '

( 15) 長手 ¾τ向より幅方向が高度に延伸配向された二軸延伸ポリエステルフィルムであり、厚さ方向の屈折率 η _ζ と、長手方向の屈折率と幅方向の屈折率との差 Δ _η 、ポリエステルフイルムの固有粘度〔 7?〕との間に一定の関係が成立することを特徴とするもの（例えば、特開昭 57— 162126号）等が知られている。

また、透明ポリエステルフィルムとしては、

( 16) ゲルマニウム化合物を触媒の一部として用い重縮合した厚み 25〜 500 のポリエステルフィルム（例えば、特開昭 60- 85925号）、

( 17) ゲルマニウ厶を主要触媒として用いて重合したポ.リエステル.フィルムの少なくとも片面に無機粒子含有塗膜を塗設したことを特徴とするポリエステルフィルム（例えば、特閗昭 60 - 83334号）等が知られている。

上記（ 1 ) , ( 2 ) 及び（ 5 ) のフィルムは、平滑な熱可塑性フィルム表面に金属薄膜層を設けることにより、他面の易滑被覆層の特性を活かし、走行性の満足された高密度磁気記錄媒 ^が^られる。

上記（ 3 ) のフィルムは、強磁性体金属薄膜によるカール防止が図られた平面性の良い高密度磁気記録媒体が得られる _c 上記（ 4 ) のフィルムに強磁性金属薄膜暦を設けると、走行時の耐久性に優れ、かつ S ZN比のすぐれた高密度磁気記録媒体が得られる。

上記（ 6 ) のいずれかのミミズ状皮胶構造形成面に強磁性体薄膜を形成させたものはへッドとの走行性にれた高密度磁気記録層となる。

上記（ 7 ) > ( 8 ) の不連続皮膜形成面に強磁性体薄膜を形成させた金属薄膜層もへッドとの走行性に優れた高密度磁気記録層となる。 .

上記（ 9 ) > (10) ， (11) の不連続皮膜または、突起形成面に強磁性体薄膜を形成させた金属薄膜の耐久性は非常に高く、極めて多数回の繰り返し録画 *再生を施した場合においても、蒸着磁性薄膜がはく離したり、れおちることはない。：

上記（12) のフィルムに強磁性体金属薄胶を形成させた磁気記録媒体のへッド目詰り防止効果は優れている。

上記（13) のフィルムは、不連続皮胶形成フィルム表面に金属薄膜層を設けることにより、へッドとの走行性に優れ、かつ他面に積層された滑剤主体の被覆層が形成された微粒子含有の熱可塑性フィルムの効果により、非磁性層の走行性も満足された、高密度磁気記録媒休が得られる。

上記（14) のフィルムは、オリゴマー析出防止性能に優れたポリエチレンテレフタレ一トフイルムを与えるが、粗さの規定がなく、またベース内異物の存在により、フィルムに強磁性金属薄膜層を設けても、 S Z N比のすぐれたド口ップアゥ卜の少ない高密度磁気記録媒体とはならない。

上記（15 ) のフィルムは、磁性体を塗設又は蒸着したフィルムのスリット性を改良させる力、上記（14 ) のフィル厶と同様に、 S Z N比のすぐれたドロップアウトの少ない高密度磁気記録媒休は得られない。

上記（1 6 ) のフィルムは、透明でベース内異物の少ないポリエステルフィルムを与える力、厚みが大きく、磁気テープ用ベースフィルムとはならない。また、厚みを薄くして磁気テープ用ベースとして強磁性体薄膜を形成させても、上記

( 1 ) から（13 ) のフィルムと同様に、強磁性体金属薄胶による磁気へッドの損傷、金属薄膜表面のすり傷発生という Πϋ 題がある。

上記（17 ) のフィルムも透叨、易滑フィルムを与えるカ、強磁性休金属薄膜を形成させても、上記（17) と同様の磁気へッドの损傷、金属薄膜表面のすり傷発生という問題がある。

しかし、安定した記錄、再生特性を得るため、 'ビデオテープレコ一ゲー内でのテープ強磁性層金属薄胶と磁気へッドとを均一接触走行させようとする場合、強磁性体金厲薄膜は全てヤング率が非常に高く、硬いため、磁気へッドとの接触によって磁気へッドの慣傷、金属薄膜表面のすり傷発生という問題を生じる。

上述のような従来技術の欠点に鑑み、本発明の S的は、ポリエステルフィルム表面上に設けた強磁性体金属薄膜層がしなやかさを有し、磁気へッドとの機 m的接触によって金属薄膜に傷が発生したり磁気へッドが擾傷することもない、強磁性体金属薄膜形成磁気記録媒体甩ポリエステルフィルムを提拱するにある。

10

発明の開示

本発明は、その一面において、ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造されたポリエステルからなり、長手方向' のャング率 E _{M D}及び幅方向のャング率 E _{T D}が、

Vmra ⁴

率 n _{Z D}が、片側表面の最大粗さ R _t が、る強磁性体金属薄膜形成磁気記録ム（以下「ポリエステルフイルム。

いて、それぞれ、ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造されたポリエステルからなる層 Aと層 Bとの積層体からなり、この積層体は長手方向のャング率 E M D 幅方向のャング率 E T Dおよび厚さ方向の屈折率 n _ZDが上記要件を満足するとともに、層 B中に微細粒子が含有され、層 Λの外表面の最大粗さが R _t ≤100ηιτι ¾ 足し、層 Bの外表面の最大羾さ R _t が 30〜； L50nm であることを特徴とする強磁性体金属薄膜形成磁気記録媒体用ポリエステルフイルム（以下、「複合ポリエステルフィル d ₈ 」という。）を提供する。

本発明は、さらに他の一而において、上述のようなポリエステルフイルム a , または複合ポリエステルフイルム a ₈ の少くとも一面に鉄、コバルト、ニッケルおよびこ†Xらの合金の中から選ばれた少くとも一種の強磁性体を含む薄胶'が形成されていることを特徴とする強磁性体金属薄胶形成磁気記録媒体を提供する。発叨を実施するための最良の形態

本発叨のポリエステルフィルムのャング率は、長手方向ャング率 E _MD、幅方向のヤング率 E _TDのいずれも各々 350 mm² 以上であり、かつその積が 250000kg²/iMi ⁴ 以上である。

E_Mnと E 1~。の¾が 280000kg²/mni⁴ 以上であるとより好ましい。一般に、 E M。および E _τ„は約 lGOOkgノ關 ² までの tをとり得る。ポリエステルフィルムのヤング率が前記条件を満たさないと、そのポリエステルフィルムに強磁性体金属薄胶を設けて磁気記: S媒体としたときの撥械特性が不十分であり、例えば磁気テープとした場合は、テープのいわゆる腰がなくなり、ビデオテープレコーダ一中でのテープとへッドとの均一接触が不可能となる。

なお、ポリエステルフィルムのヤング率は、引張試験测定により得られる応力一ひずみ曲線におけるスタート点の立上がり勾配から ASTM D- 882- 67 に準じて求める。

本発叨のポリエステルフィルムの厚さ方向の屈折率 II _ζπは

1.480 以上 1.492 以下である。 Ti _ZDは、好ましくは 1.480 以上 1.491 以下である。厚さ方向の屈折率 n _ZDは厚さ方向の硬度に関係する。 T が 1.480 以上 1.492 以下であると、その表面上に設けた金属薄膜の見掛けの硬度が最適化され、ビデォテープレコーダーへッドとの機械的接触による金属薄胶の傷発生が防止できるし、磁気へッドの損傷が防止できる。

n _ZDが 1. 80 未満であると厚さ方向の硬度の大幅低下により金属薄膜の見掛け硬度の低下が著しく、金属薄膜と磁気へッドとの接触不良がおこり、磁気テープの電磁変換特性が低下する。 π _ZDが 1.492 を越えると、逆に金属薄胶の見掛け硬度が大幅に増大し、磁気へッドにより金属薄膜が容易に傷つきやすくなる。また、磁気へッド掼傷も大きくなり好ましくない。

なお、屈折率は、アッベの屈折計を用いて 2 5 でにて Na-D 線に対して測定せる値である。

本発明のポリエステルフィルム a ₍ の少なくとも片側表而の最大粗さ R _t は、 lOOnm 以下である。 R _t は、好ましくは 5 nm以上 lOQnm以下、より好-ましくは 6 nm以上 6 0 nm以下である。このポリエステルフィルムの片側表面に強磁性体金属薄膜を設けて磁気記録媒体とする場合は、最大粗さ R _t が lOO nm以下である表面に強磁性^金属薄膜を設けるが、強磁性薄膜の厚さは通常 0. 05〜； L 0 程度で非常に薄いため、ベ - スフィルム表而形状がそのまま強磁性薄膜表面形状となる ₍ R t 値が lOOntnを超えると、その表面が粗となり、電磁変換特性が顕著に劣化し、実用 i生能に劣る。 ' ·· · なお、最大粗さ R _t は、高精度の触針式表面粗さ計（例えば、英国ランクテーラ一ホブソン社製タリステツプ）にて実測されるものであり、カットォフ値 0. 08mmで測定長 500卿の粗さ曲線における最大の山の高さと最深の谷の深さ間の距離である。少なくとも 5回以上の測定を行ない、その平均値を R _t とする。

本発明のポリェステルフイルム a _t を構成するポリエステルは、ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造され、ヤング率が前記要件を満たし、厚さ方向の屈折率が 1. 480 以上、 1. 492 以下となるものであれば、特に限定されるものではない。ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造されたポリエステルでなければ、ポリエステル中に触媒残查が残存し、異物となり、フィルムに製膜後のフィルム表面粗大欠陥が増大し、強磁性体薄膜形成後の磁気テープのド口ップアゥトが増大する。ポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリー 1 , 4 — シクロへキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン一 2 , 6 —ナフタリンジカルボキシレ一ト、ポリエチレン一 p —ォキシベンゾ'エート、ポリブチレンテレフタレ一ト等を例示することができる。

また、上記のボリエステルは、ホモポリエステル、コポリエステル又はブレンド体のいずれでもよい。コポリエステルの場合、共重合する成分としては、例えば、ジエチレングリコ一 jレ、プロピレングリコ一ル、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、 p —キシリレングリコ一ル、 1 , 4ーシクロへキサンジメタノ一ルなどのジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル鲛、イソフタル酸、 2 ' 6—ナフダリンジカルボン酸、 5 —ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン酸成分、トリメリット餒、ピロメリット酸などの多官能ジカルボン酸成分、 p —ォキシエトキシ安息香酸などが挙げられる。なお、共重合の場合、共重合する成分は 2 0 モル％下が好ましい。

さらに、上記 ©ポリエステルには、他のポリエステルと非反応性のスルホン羧のアル力リ金属塩誘導钵、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコールなどを、本発明の作用効果を摄わない範囲で、例えば 5重量％を越えない範囲で混合してもよい。

上記ポリエステルは、直重法および D M T法のいれによつてもよいが、 D M T法のときはエステル交換触媒として酢酸カルシウムを用いることが好ましい。また、重合段階ではゲルマニウム化合物を重触媒として用いる。ゲルマニウム触媒としては、特公昭 48- 37759 , 48-35954 , 48- 37760に示されている様に、 (ィ）無定形酸化ゲルマニウム、

(π ) 6 以下の結晶性酸化ゲルマニウム、

(ハ）酸化ゲルマニウムをアル力リ金属又はアル力リ土類金属もしくはそれらの化合物の存在下にグリコ一ルに溶解した溶液、および

(ニ）酸化ゲルマニウムを水に溶解し、これにグリコールを加え水を留去して調整した酸化ゲルマニウムのグリコ一ル溶液

等が用いられる。

本発明のポリエステルフィルム a , は、上記のポリエステルをフィル厶に成形したもの、例えば上記のポリエステルを溶融してシート又は円简状に押出しこれを二軸方向に延伸して形成したものであり、フィルムの厚さは、特に限定さ 3' . るものではないが、通常 4 〜 2 5 卿、好ましくは 4 〜 2 1 のものである。

上記のポリエステルフィルム a , を基材暦とし、該基材層 O片側表面に、有極性高分子、有機滑剤及び無機微泣子を含有する被覆層を設けると、フィルムのすベり姓が改善され、ロール状巻き取りでのしわの発生が防止され、かつ加工プロセスでのハンドリング性が改善されるので好ましい。ここで、基材層の両側表面が同質のときは、即ちいずれの表面も R , ≤ 100 n m を満足しているときは、該被覆層は基材層のいずれの表面に設けてもよいが、基材層の両側表面が異贾のとき、すなわち、いずれか一方の表面のみが R L ≤100 nm を満足し、他方の表面が R _t ≤ l O O n m を満足していないときは、該被稷層は R t ≤ 100nm を満足していない方の表面に設ける。

即ち、木発明に係る一つの被覆ポリエステルフィルムは、ポリエステルフィルム a , を基材層とし、該基材層の両側表面のいずれもが R _t ≤100nm を満足しているときはそのいずれかの表面に、該基材層の片側表面のみが R _t ≤ 100nm を満足しているときは R _t ≤ 100nm を満足していない表面に、有性高分子、有機滑剤及び無機微拉子を含有する被覆層が設けられた被覆ポリエステルフィルム（以下、「被覆ポリエステルフィルム a ₂ 」という） 1である。

2

被覆ポリエステルフィルム a ₂ に設けられた被覆層は、有機滑剤及び無機微粒子の両方を含むものである。有機滑剤としては、シリコーン、ろう、フッ素化合物、脂肪族エステル、脂肪酸エステル、脂肪族了ミド等が用いられる。無機微粒子としては、粒径が 10〜2Q0nm 、好ましくは 15〜： LOOnm のものが用いられる。無機微粒子の例としては、 Mg , la . Ca > 13a , , Si , Tiおよび Mnなどの酸化物、炭酸塩および硫酸塩が挙げられ、具例としては MgO , ZnO , MgC0₃ , CaC0₃ > BaSQ₄ , A£ ₂Q₃ , SiG₂および Ti0₂がある。 _ 有機滑剤及び無機微粒子を含む被覆層は、基材層に密着するために、有極性高分子をマトリックス榭脂として含む。有極性高分子としては、ポリビニル了ルコール、トラガントゴ厶、カゼイン、ゼラチン、セルロース誘導体、水溶性ポリェステル、水溶性ポリエステルエーテル、共重合体、ポウレタン-、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ァクリル脂等が使用でき、これらのブレンド体も適用できる。被覆層中の有機滑剤および無機微粒子の量は、有機性髙分子 100重量部に対し、有機滑剤 2 〜 1 5重量％、無機微粒子 4〜 3 0重量％であることが好ましい。

該被覆層表面の金属（ S U S ) との動摩擦係数が 2. 0以下. フィルムの被覆層表面と非被覆面との静摩擦係数が 3. 0以下. 動摩擦係数が 2. 0以下であることが好ましい。金属との動摩擦係数が 2. 0を上まわると、特に加工工程でのハンドリング性が不良となる。フィルム Zフィルム間の静および動摩擦係数がそれぞれ 3. 0および 2. 0を上まわると、特にフィルムに

3

しわが入り、フィルムを変形なく巻き上げることができなくなる。

基材層（ポリエステルフィルム a ) の表而粗さは非常に低いので、被覆層は有機滑剤及び無機微粒子の両方を含めることにより初めて上記摩擦係数を満足せしめることができる。被履は、摩擦係数を満足させると共に、粗さもある程度細かくないといけない。被覆層表面の力ットォフ値 0. 08mmでの最大粗さ R _t 値は、奵-ましくは 30〜150 n m 、より好ましくは 50〜； L 20 n m である。 R _t 値が 150 nmを上まわると、フィルムを巻いた状態で、微細突起のピーク部分が被覆層非形成表面に転写し、強磁性薄膜形成面の表面に変形を及ぼし、好ましくない。また、真空蒸着により強磁性金属薄膜を形成する際、ベースフィルムは冷却キャンに沿わせ、蒸着金属の潜熱を奪い、ベースフィルム基板の温度上昇、熱負けを防止させる。 R t 値が 1 50 を上まわると、被覆層の冷却キヤンとの接触が不良となり充分な冷却効朵がられなくなる。 R L 値が 3 0 ntnを下まわると、被覆層のすべり性が低下する。

被覆層の具体例としては、シリコーン [A] 、シリカ（Si0₂) 粒子 [ B ] 、水溶性ポリエステル [ C ] 、セルロース誘導体 [D] 、シランカップリング剂 [ E ] からなり、 [ Λ ] ：

[B] ： [C] ： [D] ： [E] = 5 20： 10 0： 100： 40〜： L00 ： 8 14の混合割合（重量比）で、不連続皮胰形を有したものを例示することができる。

ここで [Λ] , [B] が上記下限を下まわると、すべり性が不足する。 [Λ] が上限を上まわると、滑剤が逆面に ¾写し、蒸著不良をおこす。「B] が、上記上限を越えると、 {¾ 粒子が脱落しやすくなる。 [C1 が上記下限を下まわると、シリカ粒子の保持が困難となり、上限を越えると、不連^状皮膜構造とならず、すべり性が^化する。 [D〗は不速続状皮膜構造形成のために用いられる。「 E ] は微細粒子保持のためにいられ、上記下限を下まわると、保持能力が低下し、上限を越えると、被覆履が硬くなりすぎ、削れやすくなる。

本発明のポリエステルフイルム a トにおいて、フィルムのすべり性の改善、口ール状巻き取りでのしわの発生の防止及び加工プロセスでのハンドリング性を改善するためにポリエステルフィルム a _t を、.共にポリエステルからなる暦 Λ及び層 8の¾暦体で構成し、層 B中に徴細拉子を含有せしめ、層 B側表面の最大粗さ： R L を 30 150nm とすることができる。

E ち、本発明に係るもう一つのポリエステルフィルムは、共にゲルマニウム化合救を M合触媒として用い製造されたポリエステルからなる)^ A及び層 Bの積 ¾ 体からなり、 B中に微細粒子が含有され、積層休の良手方向のャング率 E _MD及び幅方向のヤング率 E _TDが、各々 350kgZmm² 以上であり、かつその積（ E _MDx E _TD) が 250000kg ²/咖 ⁴ であり、厚さ方向の屈折率 n _ZDが 1.480 〜 1.492 であり、 ]®Aの外表面が R t ≤ lOOnm を満足し、層 Bの外表面の最大粗さ R _t が 30〜 150nm であることを特徴とするポリエステルフィルム（以下「複合ポリエステルフイルム a ₈ 」という）である。

複合ポリエステルフ.イルム a ₈ において、層 A及び^ Bを構成するポリエステルには、既 - !i 5述のポリエステルフイルム a , を構成するポリエステルと同種のものが使用できる。層 Aを構成するポリエステルと暦 Bを構成するポリエステルは- 必ずしも同一のものを使用する必要はないが、同一のものを使用するのが好ましい。 '

複合ポリエステルフィル厶 a 8 の層 B中に含有せしめる微細拉子は、ポリエステル^脂重合触媒残澄により形成されたものでも、外部添加粒子でもよく、それらの併/]]であってもよい。ポリエステル ½ί脂重合触媒残こより形成された微細粒子としては、例えば Ca , Si , Mn - Mg . Sb , Ge , P , Li , K Na等を含む触媒残?杏で構成されるポリマー不溶解組成物を例示することができ、また、外部添加粒子としては、酸化アルミニゥム、酸化ケィ素、硫酸バリゥム、炭酸カルシゥム等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

層 B中に含有せしめる微細粒子の粒径は、特に限定するものではないが、好ましくは 0. 5 〜 5. 0 、よつ好ましくは 1. 0 〜 3. 0 である。また、微細粒子の添加量は、特に限定するものではないが、好ましくは 0. 01〜； L 0重量％、より好ましくは 0. 02〜 (λ 5重量％である。徴粒子粒径および添加量が、前記値を下まわると Β層の滑り性が低下し、しわの発生、ハンドリング性の不良をもたらす。微粒子粒径および添加量が前記値を上まわると Β層が粗面化しすぎ、フィルムを巻いた状態で微細突起のピーク部分が他面層に転写され、強磁性薄膜形成面の表面に変形を及ぼし、好ましくない。また、真空蒸着の際、冷却キヤンとの接触が不良となり充分な冷却效果が得られなくなる。

該複合ポリエステルフィ '、 a ₈ の層 Bの外表面の最大粗さ R _t は 30〜： L50nm であり、好ましくは 50〜 120nm である。 R _t 値が上記道を上まわると、フィルムを巻いた状態で、粗さのピーク部分が他面層に転写され、強磁性薄膜形成面の表面に変形を及ぼし好ましくない。また、真空蒸着の際、冷却キヤンとの接触が不良となり充分な冷却効果が得られなくなる。 R _t 値が上記値を下まわると、 B層の滑り性が低下し、しわの発生、ハンドリング性の不良をもたらす。

被覆ポリエステルフィルム a ₂ の基材層中に微細粒子を含有せしめ、基材層表面の最大粗さ R _t を 5〜： LOOnm とすると、フィルムに金属薄膜を設けたあとの強磁性薄膜表面が適度に粗面化し、磁気へッドに対する金属薄膜の削れ耐久性が向上する。

また、同様に、複合 'ポリエステルフィルム a ₈ の層 A中に微細粒子を含有せしめ、層 Aの外表面の最大粗さ R _t を 5〜 lOOnm とすることが同様に好ましい。被覆ポリエステルフィルム a ₂ の基材層又は複合ポリエステルフィル厶 a ₈ の層 Aに含有せしめる微細粒子は、ポリェステルに添加前の粒径が 10~300π!ΐι 、好ましくは 30〜200nm のもので、具 ί木的には、 MgO , ZnO , MgC0₃ . CaC0₃ ,

BaS04 - Si0₂ - k!l ₂0₃ > T i G ₂等の無機拉子等が用いられるが、これに限定されるものではない。微細粒子の合有量は 0.003 〜： L 0重量％であり、微細粒子によりポリエステルフイルム表面上に形成される微細表面突起の高さは 5〜； LOOnm であり、個数は 10³ 〜10⁷ ケ Zmm² であるのが好ましい。より望ましくは高さ 6〜 6 0 nm、個数 10³ 〜10^s ケ Znrni² の範囲にあるのが好ましい。 i

上記微細表面突起の高さは後記瘤状突起の高さと同様な方法によって測定される。微細表面突起の ¾さが 5 ηιτιを下まわると、また上記個欽を下まわると、ベ一スノイルム表而上に設けた強磁性体金厲薄胶 ¾面が平滑となりすぎ、磁気へッドにより容易に金属薄膜が削りとられてしまう。表面突起の高さが lOOnmをこえると、また個数が 1 0 ⁷ ケ關² を上まわると、その上に設けられる金属薄膜表面が粗となり、電磁変換特性が劣化し、実用性能が発揮できなくなる。

被覆ポリエステルフィルム a ₂ の基材層の外表而（有極性高分子、有機滑剤及び無機微粒子を含有する被覆層が設けられていない表面）に、水溶性高分子を主休とする高さ 3 0 nm 以下の不連続皮膜を形成せしめると、不連続皮胶により 3¾材層表面はテープ化工程においてすり傺が発生しにくくなり、この面に磁性薄膜を形成させた薄胶形成而もより易滑で、ビデォテープレコーダ一内での実際走行において回転へッドドラムと接触してはりつけ現象をおこしたり、すり傷が発生したりすることがより少なくなる。

また、同様に、複合ボリエステルフィルム a ₈ の層 Aの外表面に永溶性高分子を主体とする高さ 3 0 nm以下の不連読皮膜を形成せしめると、同様に好ましい。

本発明において、不連続皮膜とは、フィルム表面に網状に又は Z及び点在した形状で存在する皮膜をいい、電子顕微鏡写真（倍率 500倍〜 10万倍）で観察した場合にフィルム表面を部分的に覆った皮膜をいう。なお、不連続皮膜がフィルム面上に占める割合は 10〜90%が好ましく、 30〜80%がより好:よしい。

この不連続皮膜を：ポリエステルフィルムが阜層構造の場合には有極性高分子、有機滑剤及び無機微粒子を含有する被覆層が設けられた表面とは反対側の表面に、ポリエステルフィルムが層 Aと層 Bの積層構造の場合には層 Aの外表面に、設けることにより、テープ化工程におけるすり傷発生防止効果、磁性薄膜形成後の薄膜形成面の易滑性、ビデオテープレコーダ一内の実際走行においての回転ドラ厶との接触によるはりつけ現象防止効果、すり傷発生防止効果が改良される。

この不連続皮膜は、水溶性高分子を主体にしたのから形成される。不速続皮膜を構成する水溶性高分子としては、水酸基、エーテル基、エステル基、アミド基、メトキシ基、ヒドロキシプロポキシ基等の極性基を持ち、分十量が 1万〜 200万、好ましくは 10万〜 100万のものが使用される。分子量が 1万を下まわると、皮胶が柔らかくなり、描造保持が難しくなり、耐久性が悪くなる。分子量 200万を上まわると皮膜がかたくなりすぎ、もろくなり、やはり耐久性が悪くなる _: かかる水溶性高分子の具体例としては、ポリビニルアルコール、トラ力'ントゴム、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、メチノレセレロース、ヒドロキシェチレセリレロース、レ刀、 ^ / - メチルセル口ース、水溶性ポリエステルエーテル共重合体等が適甩でき、これらのブレンド体も適用できる。水溶性高分子の極性のために、強磁性薄膜の付着強度が上昇する。

この不連続皮膜を微細粒子が実質的に含有されていないポリエステルフィルムの表面に設ける場合には、その不連続皮膜に無機微細粒子を含有させることが好ましい。無機微細粒子を含有させることにより、さらに極めて過酷な使用環境下

(例えば高温高湿条件下など）での蒸着膜の耐久性を付与させることができる。なお、微細粒子を含有するポリエステルフィルムの表面にこの不連続皮膜を設ける場合には、その不連続皮膜に必ずしも無機微細粒子を含有せしめる必要はない不連続皮膜に含有させる無機微細粒子の種類は、特に限定するものではない力く、例えば、 Mg， Zn , Ca , Ba > A ， Si , Ti， Mnなどの酸化物、炭酸塩および硫酸塩が挙げられる。具体例としては、 MgO , ZnO , MgC0₃. CaC0₃ · BaS0₄ - ki ₂0₃ , Si0₂ , Ti0₂などが挙げられる。これらの無機微細粒子は単独で使用してもよいし、複数種を併用してもよい。

不連続皮膜に合有させる無機微細粒子の平均粒径は 3〜 5 0 nmが好ましく、好ましくは 5〜 4 0 nmがより好ましい。ここでいう平均粒径とは、いわゆる顕微鏡法により測定される平均粒径をいう。即ち、電子顕微鏡の視野に置かれた個々の粒子について、任意な一定方向の 2平行線で挟んだ距離を測定し、その距離の算術平均值を求めたものである。測定する粒子数は通常 200個以上とする。この顕微鏡法による粒径の測定方法は、例えば大山義人氏著「化学工学 Π』（岩波全書 254 、阀岩波書店、 197G年 3 "月 30日発行）第 15〜16頁に記載されている。平均粒径が小さすぎると、この不連続皮膜上に磁性体を蒸着してなる蒸着薄膜 ώίの走行性は向上せず、逆に平均粒径が大きすぎると該磁性面の電磁変璨待性が悪化する。微細粒子の形状は、特に限定されるものではなぐ、形、楕円球形、長方体形、立方体形などいずれであってもよい。

不連続皮膜中に無機微細粒子含有させる場合、その含量は水溶性高分子 1Q0重量部（後記のように、不連続皮膜中にシラン力ップリング剤又はチタンカップリング剂を含有させるときは、永溶性高分子と該カップリング剤の合計量 10Q 重量部）に対し 5〜 5 0重量部が好ましく、 10〜40重量部がより好ましい。無機微細粒子の含有量がこの範囲にあると、無機微細粒子の不連続皮膜からの脱落がなく、また電磁変換特控も向上する。

不連続皮膜に含有させた無機微細粒子は、不連続皮膜の中および不連続皮膜の表面に存在するものであるが、表面の : 在 ΐϋ数は】 0⁴ 〜；^ ^假 !!!!!! ² であることが好ましい。表而の存在個数が 1 0 u個 Z mm ² を越えると、該磁性而の^子変換特性のうち、特に S Z N比が悪化する。また、微細粒子が脱落しやすくなり、好ましくない。なお、この表面の存在個数は電子顕微鏡で観察することにより求めることができる。

この不連続皮膜の高さは、微細粒子が実質的に含冇されていないポリエステルフィル厶の表面にこの不速続皮胶を設ける場合には、 3 0 以下、好ましくは 3〜 1 0 n mとする。一方、微細粒子を含有するポリエステルフィルムの表面にこの不連続皮^を設ける場合にも、その不連続皮胶の高さは 3 0 nm以下、より好ましくは 3〜 1 0 n mとし、ポリエステルフィルム中に含有された微細粒子によりフィルム表面に形成された微細表面突起の高さより低くする。いずれの場合も、不連続皮胶の高さが高すぎると、金厲薄膜を設けたあとの磁気記錄媒体の電磁変換特性、特に S Z N比を惡化させる。微細粒子を含有するポリエステルフィルムの表面にこの不連続皮膜を設ける場合において、その不連続皮胶の高さをポリエステルフィルム中に含有された微細粒子によりフィルム表而に形成された徵細表面突起の高さよりくすると、微細表面突起によるへッド目詰り防止効果が発現されない。

なお、この不連続皮胶の高さは、触針式表面粗さ計により得られる断面曲線において、平均的な山の平均的高さと谷の平均的さとの問隔を求めて得られる値である。

なお、本発明における不連続皮胶には、シランカップリング剤又はチタンカツプリング剂を含むのが好ましい。シラン力ップリング剂又はチタンカップリング剂を含^させることにより、不連続皮膜とポリ -丁- ステルフィルムとの接着性、さらに、不連続皮胶巾に微細粒子が在する¾合には微細 ¾子の ί呆持カを一段と増大することができる。

シランカップリング剤とは、その分子中に 2個以上の異なつた反応基をもつ有機ケィ素単量体であり、反応 Sの一つはメトキシ基、エトキシ基、シラノール基などであり、もう一つの反応基は、ビニル基、エポキシ基、メタ了クリル漦、了ミノ酸、メルカプト基などである。反応基はポリマ一ブレンド構造^の側鎖、末端基およびポリエステルと結合するものを選ぶが、シランカップリング剤としてビニルトリクロルシラン、ビニレトリエトキシシラン、ビニゾレトリス（一メトキシェトキシ）シラン、 —グリシドキシプロピ Jレトリメトキシシラン、 Γ —メタァクリロキシプロビルトリメ广キシシラン、 N— j5 (了ミノェチレ） 7" —ァミノプロピルメチルジメトキシシラン、 r —クロ口フ。口ピレトリメトキシシラン、丁 —メルカプトプロピルトリメ" ^キシシラン、 Γ 一ァミノプロビルトリエトキシシラン等が適用できる。

不連続皮膜に含有させるシランカップリング剤又はチタンカツプリング剤の量は、水溶性高分子 10Q重量^ 対し、 5 0重量部以下が好ましく、 1〜 4 0重量部がより好ましい ₍ この範囲でシランカップリング剤またはチタンカップリング剤を加えると、不連読皮膜とポリエステルフィルムとの接着性、不連続皮膜内微細粒子の保持力が向上するばかりでなく . 蒸着膜の付着強度が向上し、皮膜のもろさも改善される。

不連続皮膜は、基材層中に微細粒子を含有せしめた被覆ボリエステルフイルム a ₂ の基材曆表面に形成してもよい。また、層 A中に徴鎺粒子を含有せしめた複合ポリエステルフィルム a ₈ の層八の外表面に形成してもよい。これらの場合は不連続皮膜中に、無機微細粒子を含有せしめる必要はなく、高さ.は 3 0 n m以下が了-ましい。即ち、被覆ポリエステルフィルム a ₂ の基材層中に微細粒子を含有せしめ、かつ該基材層の外表面に水溶性高分子を主体とする高さ 3 0 n m以下の不連続皮膜を形成せしめると、また、複合ポリエステルフィルム a 8 の層 A中に微細粒子を含有せしめ、かつ層 Aの外表面に水溶性高分子を主休とする高さ 3 0 n _m以下の不連続皮胶を形成せしめると、不連続皮胶により、この表面はテープ化工程におい Tすり傷が発生しにくくなり、この面に磁性薄胶を形成させた薄膜形成面もより易滑で、ビデオテープレコーダー内での実際走行において回転ッドドラムと接触してはりつけ現象をおこしたり、すり傷が発生したりすることを防止する効果がさらに改善'される。

不連続皮胶に代えて、瘤状突起を、被覆ポリエステルフィルム _{a 2} の基材層の外表面（有極性高分子、有機沿剤及び無機¾粒子を含有する被覆層が設けられていない表面）に、又は複合ポリエステルフイルム a ₈ の層 Λの外表面に、形成せしめてもよい。

この瘤状突起を、ポリエステルフィルムが単]!構造の場合には有極性高分子、有機滑剂及び無機微粒子を舍有する被覆層が設けられた表面とは反対側の表面に、ポリエステルフィルムが層 Λと層 Bの ¾¾屘構造の場合には層 Aの外表 Sに、設けることにより、この表面側に設けた強磁性金厲薄胶の磁気へッドに対する走行性が向上し、高温高湿条件下でのテープ走行控能が改良される。

瘤抆突起の高さは 3 0 rim以下であり、好ましくは 5〜 3 0 nmである。高さが大きすぎると、この表面側に設けた強磁性金属薄膜が粗くなり磁気記録媒体の電磁変換特性が悪化する _c 瘤状突起の直径（底面の直径）は、特に限定するものではないが、 0.05〜； L 0 が好ましく、 0.1〜 0.7 Aonがより好ましい。廇扰突起の高さ Hと直径 Dの寸法比 HZDは 0.G1〜 0.1が好ましく、 0.02〜 1がより好ましい。瘤状突起の個数は 1(Γ 〜10^B Xmm² が妤ましく、 10^s ~1Q⁷ 個 Zmm² がより好ましい。瘤状突起の高さ若しくは直径が小さすぎると、又はその値数が少なすぎると、この表面側に設けた金属薄膜面の磁気へッドに対する走行性が悪化し、高温高温条件下でのテープ走行性能を満足させ得ない。逆に、瘤状突起の高さ若しくは直径が大きすぎると、又はその個数が多すぎると. この表面側に設けた強磁性金属薄膜が粗くなり磁気記 £ 体の電磁変換特性が悪化する。高さ Hと直径 Dの寸法比 HZD が 1より大きいと、瘤状突起がフィルム加工の際に各種ェ程ロールでけずられやすくなり、また、フィルム上に記録層を形成し、テ一ヅ化した後のテープ表面に形成された突起も削られやすくなり好ましくない。逆に HZDが 0.01を下回ると、テープ化した後テープ表面に形成された突起がなめらかになりすぎ、強磁性体金厲薄膜の走行性能が低下し、髙温高湿条件下のテ—プ走行性能を満足させない。

瘤^突起の高さは、高精度の触針式表面粗さ計を .fflい、横倍率を 1000倍以上-、銳倍率を 100万倍以上にしてられる断面曲線から求める。断面 ϊ¾ が形成する谷一 ώ一谷からなる回凸の瘤突起の各形状に対応する靳面曲諒の一つの凹凸において、山頂からその山に隣接する両谷底の平均深さまでの距離を^突起の高さとする。このようにして、 2 0個の凹凸について高さを測定し、その平均 f直を瘤状突起の高さとする, 瘤状突起の直径、個数は、微分干渉式光学顕微鏡又は電子顕微鏡で観測できるが、拡大倍率 50 Q 0涪以上の電子顕¾鏡観測により測定するのが好ましい。直径は、瘤状突起を 1 0個以上観察し、平均値を求め、個 2

5数は上記観測において顕微鏡写真をとり、写真中の個数から 1 mm ² 当たりに換算して求めることができる。

瘤状突起は上記形状を満足するものであれば、特に材質は限定しないか、有機化合物が好ましく、例えばポリスチレン. ポリエチレン、ポリエステル、ポリアクリル酸エステル、ポ

、、 _J

リメチルメタ ^一ト、ポリェポキシ榭脂、ポリ酢酸ビニルァクリル -スチレン共重合体、ァクリル系共重合体、各種変成ァクリル系榭脂、スチレンーブタジェン共重合体、各種変スチレン一ブタジエン共重合物等が用いられる。特に、了ルコール基、カルボン酸基、エステル基等を有機化合物中に有し、極性があるものが好ましい。極性基が金属薄膜との密着性を増大させる役割を有する。また、有機化合物のガラス転移温度は 9 0 °C以下であるのが好ましい。

瘤状突起とポリエステルフィルムとの密着性を増すために. シランカップリング剤又はチタンカップリング剤を瘤状突起とポリエステルフイルムとの問に介在させるのが好ましい。カツプリング剤の使用量は、瘤状突起の量 100重量部に対し 2 0重量部以下、好ましくは 1 〜 1 0重量部である。力ップリング剂の使 Ώ量がこの範囲を越えると、カップリンク剤が瘤状突起の表面に存在しすぎるようになり瘤状突起が跪くなる傾向にある。

本発明の複合ポエステルフィルム a ₃ の層 Bの外表而に、さらに有極性高分子、有機滑剤及び無機徴粒子を含有する被覆層を設けてもよい。この被覆層を設けると、さらにフィルムのすべり性が改善され、ロール状巻き取りでのしわの究生が防止され、かつ加工プロセスでのハンドリング性が改さる o

次に、本発^のポリエステルフィルムの製造方法について説明する。

ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造されたポリエステル原料に、必要に応じて、所定の徴粒子を所:^ ^添力 uし、通常の製膜機により溶融出しし、.冷却 ίϋ化後、？ο〜

110 °Cで 3 〜 5倍に一軸延 ίΦし、次いで直 ¾方向に 90〜： 130 の温度で 3 〜 5倍の延伸を行ない、更に前記一方向に 1. 1 〜 2- 0倍の再延伸を施し、 150〜 250 での温度で熱処理するか、熱処理と^時に、あるいは熱処理後に 1. 05〜 2. 0倍の直角延伸を行なうことにより、所定のャング率及び最大粗さ R t を満足するポリエステルフィルムが得られるが、このすベてが厚み方向の屈折率 n _{Z D}の条件を満たすわけではなく、製膜機の条件とポリエステル原料に基づく条件を適宜選択することにより本発明の要件を満たす必 :がある。例えば、ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造された钦化点が

254〜 260 。Cのポリエチレンテレフタレートを原料として使用し、前記延伸条件において最初の延伸倍率を 3. 0〜3. 5倍. 次の S角延伸倍率を 3. 3〜 4. 0倍とし、更に前記一方向に

1. 4 〜 2. 0倍の再延伸を施し、 180〜210 での温度で熱処 ¾ するか、前記直角延伸後の温度 180〜210 °Cでの熱処理時、あるいは熱処理後に 1. 05〜 2. 0倍の直角延伸を行なうことにより、 η _{ζ π}が 1. 480 以上、 1 92 以下の件を満たすことができる。

ポリエ'ステルフィルムを層 Λ及び層 Bの稂層構造にするには、いわゆる共押出し技術を用いればよい。即ち、前述の製造方法中において、層 Λ用のポリエステル原料と所定の微細粒子を含有する層 B用のポリヱステル原料とを、溶融し、共押出しする。

有極性《分子、有機 ^剂及び無機微粒子を含 ¾"する被覆^ を設ける場合には、前述の製造方法中において、最初の一軸延伸の後、次の「ώ—½方向への延仲の前に、一軸延仲した縱延伸フィルムの片面（¾ ^覆層を設けようとする面）に、有極性高分子、有機滑剂及び無機微粒子を含有する塗液を塗布し、 100〜12 G °Cで乾燥する工程を付加すればよい。

水溶¾ 分子を主休とする不連続皮膜を形成させるためには、 ― 述の製造方法中において、最初の一軸延伸の後、次の直角方向への延伸の前に、一軸延伸した縦延伸フィルムの片 SIに、所定の水溶性 ¾分子を含んだ溶液を含む塗液を塗^し、 100〜12 Q °Cで乾燥する工程を付加すればよい。塗液屮には、必要に応じて、所定の無機微細粒子又は Z及びシランカツプリング剤を含有させる。

瘤状突起を形成させるためには、前述の製造方法中において、最初の一軸延伸の後、次の直角方向への延伸の前に、一軸延伸した縦延伸フィルムの片面に、廇状突起となる粒状化合物を含む塗液を塗布し、 100〜120 °Cで乾燥するェ Sを付加すればよい。

瘤状突起となる粒状化合物を含む塗液としては、前記説明の有機化合物のェマルジョンに增粘剤を加えたもの、あるいは界面活性剤を加えた水分散液等が用いられる。塗液中には, 必要に応じて、ァミノシラン系等のシラン力ップリング剂、チタンカップリング剤等のカップリング剤を含ませる。冇機化合物のガラス転移温度は 9 0 °C以下であるのが好ましく、 ' ガラス耘移温度以上の温度で延伸を行ない、 15G °C以上の熱処理を行なうことにより、前記のなだらかな瘤状突起が^ら

Π α

なお原料、製膜条件は、任意に選択されるものであり、上記に特に限定されるものではない。

本発明のポリエステルフィルム及び複合ポリエステルフィルムは、その少なくとも片側表 Sに強磁性体金属薄膜を設けて磁気記玆媒体をつくるのに、好適に使用できる。強磁性体金属薄膜を設ける表面は、ポリエステルフィルム a _t の場合は R t ≤ lOO nm を満足する表面である。ポリエステルフィル ^ a , の雨表面がいずれも R _t ≤100nm を満足する場合は両側表面に強磁性体金属薄胶を設けてもよい。被覆ポリェ 7 テルフィルム a ₂ の場合は、有極性高分子、有機滑剤及び無機微粒子を含有する被覆層を形成したのとは反対側表面に強磁性体金^薄^を設ける。複合ポリエステルフィルム a ₈ の場合は、層 A側表面に強磁性体金属薄胶を設ける。被覆ポリエステルフイルム a ₂ 又は複合ポリエステルフイルム a ₈ の表面に不連続皮膜又は瘤状突起を形成したときは、不連続皮膜又は瘤状突起を形成した表面に強磁性体金属薄膜を設ける。

強磁性体薄胶が設けられる面の最大粗さは、カツトオフ値

0.08nunの R _t 値で lOOnm以下、好ましくは、 5 以上、 lOOnm 以下、より好ましくは 6 以上、 6 0 nm以下である。

強磁性体金厲薄胶としては、公知のものが使用でき、特に限定されないが、鉄、コバルトもしくはニッケル乂はそれらの合金の強磁性休からなるものが好ましい。強磁性体金厲薄胶は、真空蒸着により、ベ一スフイルムに、直接、又はべ一スフイルム上に微細粒子を更に設けた上に、又はァルミ二ゥム、チタン、クロム等の下地薄胶を介して、常法に従って形成させることができる。

金厲^胶 17さは、 ϋ.ΟΓ)から 0.25^、好ましくは 0.10から

0.20 が望ましい。 0.05 を下まわると磁気層しての機能が低下する。 0.25 ^を上まわると高域の電磁変換 '特性が低下する。

次に、施例に基づき、木発明を説明する。

なお、実施例において； |jいた評価方法及び測定法は次のとおりである。

( 1 ) 本発フィルム被覆！?形成 ¾面の金^との勋擦係数は、 S U S固定ガイド棒にフィルムをテープ状にして 180° の角度で走行させ、求めた。

( 2 ) 本発明フイルムのフィルム Zフィルムの摩擦係数は、

ASTM D - 1894-63に準じた方法で求めた。

( 3 ) 本発明フィルムに強磁性体薄胶を設けた磁気記録媒休、すなわち、テープの特性は、市販の 8 ミリビデオテープレコ —グーをい測定した。電磁変換特性としてビデオ S Z N比、ドロップアウト（D O ) を求めた。 S Z N比、ドロップァゥトの測定には、 T V試験信号 3発 o生器から信号を供給し、ビデォノイズメーター、ドロップアウトカウンターを /Πいた。ビデォ S Z N比は市販の 8 ミリビデオテープを零デジベル（dB) として比铰測定した。ドロップアウトは、再生信号の減； Sが ― 1 6 dB以上、長さが 1 5マイク口秒以上のものを求めた。 S Z N比、ドロップアゥトは常温常湿（25 : , 60% RH) で、テープ製造後の初期特性を最初に調べた。ビデオ録画、再生を 100回躁返して行ない、テープの S Z N比、ド π ップァゥトを調べた。また、その時のテープ表面、磁気へッドも観察して、すり傷特性、磁気へッド損傷特性もみた。

実施例 1

酢酸マグネシウムを触媒として用いジメチルテレフタレ一トとエチレングリコ一 jレよりビスヒドロキシメチリレテレフタレ一トを得た。ビスヒドロキシメチルテレフタレー卜の重合を酸化ゲルマニウム触媒を用いて実施し、重合触媒残查等に基づき形成される微細粒子、即ち内部粒子をできる限り含まない実質的に無配向、非結品の钦化点 258 ° (：のポリェチレンテレフタレ一トを得た。このポリエチレンテレフタレートに粒径 4 5 nmの Si0₂粒子を 0.04H'量％合有させた原料を約 2 0 °Cに維持された回転ドラム上に溶融押出し、次に 9 0 。で 3. 0倍の機搣方向への延伸を施し、その後、下記水性塗液を固形分濃皮で 2 0 mgZm'片面塗布した。

* ポリジメチルシロキサンエマルジョン（固形分濃皮 2 5. 重量： 0.05重量％

• 平均粒径 2 5 nmの極微細シリ力： 0.06軍燈％

• 水溶性ポリエステル共重合 3

- 1体（テレフタル酸 4 0モル％ . イジフタル酸 3 3モル¾ 、アジピン酸 2 0モル％及び 5

—ナトリウムスルホイソフタル酸 7モル％の酸成分と、ジエチレングリコール 4 0モル％及びエチレングリコール 6 0モル％のグリコール成分との 1 ： 1 の共 21·合休）

0.35重遣％

' メチルセルロース： 0.25重

- シランカツプリング剤 N - β (アミノエチル） r 了ミノプロピルメチルジメトキシシラン：

0.03 重量％その後、ステンタ一を通し、 115°Cで乾燥、予熱、横延伸した。横延伸倍率は 3. 8倍とした。次に 200°Cの熱処理を施しながら、更に横方向に 1. Π倍の横延伸を施した。

平均高さ 2 0 の微細表面突が 3. 0 X 1 0 ⁵ 個 Zmm² 形成され、 R L が 3 G nm、 ^さ方の S 7·率（ n _ZD) が ί.489 であり、片面にシリコーンとシリ力！¾細粒子を含む R , が 8 6 nmの、金厲との動摩擦係致が 0.70の被 52 ：'が形成された厚さ 1 0 の縱方向のヤング率が 420kg Z匪² 、横方向のャング率が 750kg /籠² を有し、フィルム表面と S而間の静 Z 動摩擦係数が 0. 9 Z 0. 6であるポリエチレンテレフタレートフィルムを得た o

このポリエステルフィルムの被覆層非形成表面に ¾空蒸若によりコバルト一二ッケル合金薄膜を 150nrnの膜厚で形した。続いて、ェポキシ樹脂、シリコーン、シラン力ップリング剤とからなる保護膜層をコバルト一二ッケル合金薄胶表而上に 0. 1 Α-Π.の胶厚で設け逆面 3の 2層 B面に、カーボンブラックを含むエポキシ樹脂、シリコーン及びシランカップリング剂とからなるバックコ一ト層を 1 厚で設けた後、所定の幅に長手方向に切し、磁気テープとしチこ。

得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

実施例 2

実施例 1 のフィルム製造において、 200 °Cの熱処理前に、温度 11 G °Cで、機械方向に 1. 5倍の再延伸を施した。熱処理と同時の横方向の延伸は実施することなく、他は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフィルムを得た。このフィルムにおいては、平均高さ 1 9 nmの微細表而突起が 2. 5 X I 0 ^s 個/難² 形成され、 R _t が 2 9 nm、 n _z ^f が 1. 488 であり、片面にシリコーンとシリカ微細粒子を含み R _t が 8 3 ntn、金属との動摩擦係数が 0. 75の被覆層が形成されており、フィルムの縱方向のヤング率は 630k'g / tnirs ² 、横方向のヤング率は 450kgZ隱 ² 、フィルム片面 Z他面問の^ Z動摩擦係数は 0. ？であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを^た。 ^られた磁気テープの特性を第 1 表に示した。

実施例 3

実施例 1 のフィルム製造において、 200°Cの熱処理前に、温度 110°Cで、機搣方向に 1. 4倍の再延伸を施した。熱処理時の横延伸倍率を 1.10倍とした。他は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフイルムを得た。このフィル厶においては、平均高さ 1 9 nmの {¾細表面突起が 2. 4 x 1 0 ⁵ 個 /mm² 形成され、 R _t 力 ¾im、 n _ZDが 1.484 であり、片面にシリコーンとシリカ微細粒子を含み R _t が 82 π(τι、金属との動摩擦係数が 0.77の被覆層が形成されており、フィルムの縱方向のヤング率は 580kg/mm² 、横方向のヤング率は 600kg/ 2 、フィルム表面と裏面間の静 Z動摩擦係数は 1. 0 Z 0. 8 であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た _c 得られた磁気テープの特性を第 1表に示した _c 実施例 4 - 実施例 3のフィルム製造において、 200 °Cの熱処理前の機械方向への延伸倍率を 1. 2倍に、熱処理と同時の横延伸倍率を 1.08倍とした。他は実施例 3 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフイルムを得た。このフィルムにおいては、平均高さ 2 0 nmの^細表面突起が 3. 0 X 1 0 ⁵ 個 Z随 ² 形成され、 R _t が 3 0 π;π、 n _ZDが 1.492 であり、片面にシリコーンとシリ力微細粒子を含み R _t が 8 3 nm、金属との動摩擦係数が 0.75の被覆層が形成されており、フィルムの縦方向のャング. 率は 500k_gZrnni² 、横方向のヤング率は 5301 / mm² 、フィルム表面と裏面間の静 Z動摩擦係数は 0. 9 Z0.7であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを^ た。得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

実施例 5

実施例 1のフィルム製造において、原料に添加される Si[)₂ 粒子の粒径を 200ππ]のものに変更した。泡は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフィル Aを得た。このフィルムにおいては、平均高さ 4 5 nmの微細表而突が 4. 0 X 1 0 ⁴ 假/ mm² 形成され、 R _t が 5 0 nm、 n _ZDが 1.489 であり、片面にシコーンシリ力微細粒子を合み R _t が 8 6 nm、金属との動摩擦係数が 0.75の被覆)！が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZmm² 、横方向のヤング率は 750kgZ關 ² 、フィルム表面と裏面問の静 Z動麼擦係数は 0.8 Z0. 6であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た。得られた磁テープの特性を 1

¾ に不し/こ。

実施例 6

実施例 1 のフィルム製造において、塗液塗布量を 4 w,/ m²と変更した。池は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 mのポリエステルフィルムを得た。このフイルムにおいては、平均高さ 2 0 rimの微 S表面突起が 3. 0 x 1 0⁵ 個 mm² 形成され、 R _t 力 3 0 ntn、 n ₂。が1.489 であり、片面にシリコーンとシリカ微細粒子を含み R _t が 110nm、金^との動摩擦係数が 0.6Qの被覆層が形成されており、フィルムの縦方向のャング率は 420kg nim² 、方向のヤング率は 750kg/mm² 、フィルム表面と裏面問の^ Z動摩擦係数は 0.7 κο.4であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た。得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

実施例 7

実施例 1 のフィルム製造において、 200での熱処理と同に施こす横延伸を倍率を 1.12βとした。他は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフイルムを得た。このフィルムにおいては、平均高さ 2 1 nmの微細表面突起が 3. 0 X

3

1 0 ⁵ 個 Z m² 形成され、 R _t oが 3 0 nm、 n _ZDが 1.490 であり、片商にシリコーンとシリカ微細粒子を含み R が 8 6 nm. 金属との動摩擦係数が 0.70の被覆阛が形されており、フィルムの ¾¾· .',]のヤング率は 410kg Z mm ² 、横方向のヤング率は 640kgZnim² 、フィルム表面と S面問の静 Z動)^擦係数は 0. 9 0. 6であった。このフィルムを用い、実施例 1 と様にして磁気テープを^た。 ^られた磁気テープの特 :を^ 】

•d に

し。

実施例 8 '

実施例 1 のフィルム製造において、原料に添加される Si0₂ 粒子の粒¾を 9 O nmとし、添加量を 0. 8重量％とした。他は実施例 1 と同様にしてさ】 0 のポリエステルフィルムを得.た。このフィルムにおいては、平均高さ 3 3 n mの微細 ¾而突起が 8. 0 X 1 0 ⁶ 個/ mm² 形成され、 R t が 4 0 nm、 n _zn が 1. 89 であり、片面にシリコーンとシリ力微細粒了-を含み R _t が 4 0 nm. 金属との動^擦係数が 0.70の被覆層が形成されており、フイルムの縦方向のヤング率は 420kg Z mm ² 、 ϊ 方向のヤング率は 750kgZtnni² 、フィルム表面と裏面間の静 /動摩擦係数は 0- 7 Z0- 5であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同 ¾にして磁気テープを得た。得られたフィルム及びそのフィルムを用いた磁気テープの特性を第 1表に示し実施例 9

実施例 5のフィルム製造において、粒 S 200nmの SiO^i子添加量を Q.006重量％とした。他は実施例 5 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフイルムを得た。このフィルムにおいては、平均高さ 4 5 runの徵細表面突起が 5. 0 x 1 0 ³ 假 Z mm² 形成ざれ、 R _t が 4 9 nm、 n _ZDが 1.489 であり、片面にシリコ一ンとシリカ it細粒子を含み R _t が 8 6 nm、金属との動摩擦係数が 0.70の被覆層が ¾成されており、フィルムの縱方向のヤング率は 42GkgZmtn² 、横方向のヤング率は 750k'g /mm² . フィルム表面と裏面 ίΐϋの静 Z動摩擦係数は 0. 9 Z

0.？であった。このフィルムを用い、実施例 5 と同様にして磁気テ一プを得た。得られたフィルム及びそのフィルムを用いた磁気テープの特性を第 1表に示した。 -. 実施例 ί 0

実施例 1 のフィルム製造において粒径 4 5 nmの Si0₂泣子の添加を施さず、実施例 1 の水性塗液塗布面と逆面側に、メチルセルロース 0.20重量％、シランカップリング剂 N— （ァミノェチル） rーァミノプロビルメチルジメトキシシラン 0.05重％水溶液を固形分濃度で 2 0 mg m²塗布した。

他は突施例 1 と同様にして、平均さが 2 3 π(πの不^^皮膜が片面に形成され、かつが 3 0 nm、厚さ方向の屈祈率 n _ZDが 1. 89 であり、他面にシリコーンとシリ力微細粒子を含む厚さ】 0 のポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。このフィルムには、 R _t が 8 6 nm、金厲との動麽擦係数が 0.70の被覆)！が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZmm² 、横方向のヤング率は 750kg/mm² 、フィルム表面と裏面問の静 Z動糜擦係数は 0. 7 /0. 5であった。

このポリエステルフィルムの不連続皮膜形成面表面に実施例 1 と同様のコバルトーニッケル合金薄膜を 150nmの胶厚で形成した。その後同様にして磁気テープとした。得られた磁気テープの特性を^ 1 表に示した。

実施例 1 1

実施例 1 0のフイルム製造において、メチルセルロース Z シラン力ップリング剂水溶液の代りに、

· 7_k溶性ボリエステル共重合体（テレフタル酸 4 0モル％、ィソ .フタル酸 3 3モル％、了ジピン酸 2 0モル％及び 5 -ナトリゥ 'ムスルホイソフタル酸 7モル％の酸成分と、ジエチレングリコール 1 0モル％及びェチレングリ二' - ル 6 ()モル％のグリコール成分との 1 ： 1 の共重合休）：

♦ メチルセルロース： 0.25重量％

• 平均粒径 2 0 nmの極微 Ιίίシリカ： 0. 量％

の混合水溶筏を塗布した。

性は実^ ' 1 0 と同様にして、微細粒を含みそれによる突起が^ する i¾さ〗 8 nmの不連続皮^が片面に形成され、かつ R _t が 2 3 nra、厚さ方向の屈折率 n _ZDが 1.489 であり、他面にシリコーンとシリ力微細泣子を含む厚さ 1 ϋ のポリェチレンテレフタレ一トフイルムを得-た。このフィルムには、 R t が 8 6 nrn、金属との動摩擦係数が 0.7Gの被覆層が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZmm² 、横方向のヤング率は 750kgZrMi² 、フィルム表面と裏面の静 Z動摩擦係数は 0. 5 Z0. 4であった。

このポリエステルフィルムの微細泣子を含む不連続皮膜形成面表面に実施例 1 0 と同様のコバルトーニッケル合金薄膜を形成し、磁気テープとした。得られた磁気テープの特性を

14¾ 1 [ 不し。

実施例 1 2 '

実施例 1 0 のフィルム製造において、メチルセル口一ス/ シランカップリング剤水溶液の代りに、

· ノニォン系界面活性剤： 0.2 ^%

' ポリアクリル酸エステルエマルジヨン（平均粒径 0.2 、固形分濃度 4 0重量％) ： . 0. 5重量％

• シランカップリング剂 N— （アミノエチル） τ—了ノプロピルメチルジメトキシシラン： 0.035重量％からなる水性エマルジョンを塗布した。 - 他は実施例 1 0 と同様にして、平均怪 0.30A™、高さ 2 0 nm. 高さ Z径の比が 0.066の瘤状微細突起が 2 X 1 0 ⁵ 個 Zmm² 片面に形成され、かつ R _t が 2 5 nm、さ方向の屈折率 n _{z D} が 1. 8 であり、他面にシリコーンとシリカ微細粒子を含む厚さ 1 0卿のポリエチレンテレフタレートフイルムを :た。つ. Q

このフィルムには R _t が 8 6 nm、金]!との動摩擦係数が 0.70 の被覆層が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 420kg mm² 、横方向のヤング率は YSOkg/mm² 、フィルム表面と裏面問の静 Z動摩擦係数は 0. 5 Z 0. 4であった。

このポリエステルフィルムの瘤状突起形成面表面に芙施例

1 0 と同様のコバルト一ニッケル合金薄胶を形成し、磁気テ —プとした。得られたフィルム及び磁気テープのお:性を第 1 に Jくした 0

実施例 1 3

実施例 1 のフィルム製造において、使用 Si0₂粒子の粒径を llOnmとし、かつ荬施例 1 の水性塗液^布面と逆面側に、メチルセル π —ス 0.1511量％、シラン力ップリング剂 N—；9 (アミノエチル） —ァミノ'プ n ピルメチルジメトキシシラン 0.05重量％の水溶液を固形分'濃度で 2 0 π¾;Ζπ/塗布した。他は実施例 1 と同様にして、平均高さが 8 nmの不連続皮が片面に形成され、かつ高さが i トの微細突起が 2 X 1 ( 個 Zm ² の¾合で存在し、 R _t が 2 5 nm、さ方向の屈折率 n _{2 D}が 1. 8 であり、他面にシリコーンとシリ力微細粒子を含む厚さ 1 0卿のポリエチレンテレフタレートフイルムを得た。このフイルムには、 R <_ 力く 8 6 nm、金属との動麼擦係数が 0.？ 0の被覆が形成されており、フィルムの縱方向のャング率は 420kgZ ² 、横方向のヤング率は 750kg Z mm ² 、フイルム表面との^ Z動摩擦係数は 0. 6 Z 0. 5であった„ このポリエステルフィルムの平均高さ 8 n の不連続皮胶肜成面 ¾Sに実施例 1 と同様のコバルト -- ニッケル合金^胶を形成し、磁気テープとした。得られたフィルム及び磁気テープの特性を第 1表に示した。

実施例〖 4

歷 Λ/πとして、重合触媒残查等に基づき形成される微細粒子、 SPち内部^子をできる限り合まない実質的に無配向、非結 Sの钦化点 258 °Cのポリエチレンテレフタレート原料、及び層 13用として、層 Λ用原料に平均粒径 300nmの Si0₂粒子を 0. 2重量％ ^むポリエチレンテレフタレート原料を、み比 9 ： 1 の割合で、約 2 0 t:に 4維 o持された回転ドラム上に溶融押出し、次に 9 0 °Cで 3. 0倍の鏺核方向への延 ;を施し、その後、下記水性塗液を層 Λί 表面に固形分濃度で 1 5 n¾Zm² 塗布した。

- 水溶性ポリエステル共重合体（テレフタル酸 4 0モル％、イソフタル酸 3 3モル％、了ジピン酸 2 0 モル％及び 5 —ナトリウムスルホィソフタル酸 7 モル％の酸成分と、ジエチレングリコール 4 0モル％及びエチレングリコール 6 0モル％のグリコール成分との 1 ： 1 の ¾重合休）：

0.35重量％

- メチルセルロース 0.25重量％

· 平均粒径 2 0 nmの極微細シリカ 0.15重量％

その後、ステンターを通し、 115でで乾燥、予熱、横延伸した。横延伸倍率は 3. 8倍とした。次に 200°Cの熱^ ¾を施しながら、更に横方向に ί. Π倍の橫延伸を施した。

微細; 子を^み、それによる突起が存在する高さ 1 8 πίϋの不連^皮^が形成され、かつ : L が 2 3 nm、厚さ方向の屈折率（ n _{Z D}) が 1. 489 である八面が、また暦 Bの外面は R _t が ΙΙΟπβである Β面が形成された厚さ 1 0 ΑΤΠのポリエチレンテレフタレ一トフイルムをた。このフィル厶においては、 13 面の R _t は 110nm、 B而の金厲との動^擦係数は 0.55であり . フィルムの^方向のヤング率は 420!_gZmm² 、横方向のヤング率は？50k_gZmm² 、フィルム表面と裏面 i]の静動摩擦係数は ΰ. 5 Ζ 0. 4であった。

この？ J2合ポリエステルフィルムの Α面に实施例 1 と同 ί¾にのコバルトーニッケル合金薄胶を形成し、気テープとした ₍ 得られた磁気テープの特性を^ 1 表に示した。

実施例 1 5

実施例 1 4のポエステル複合フイルム製造において、使用水性塗液を下記処方の水性ェマルジンに変えた。

• ノニォン系界面活性剤： 0.20重量％

' ポリアクリル酸ェステルェマルジョン（平均粒径 0. 2 ，固形分濃度 4 0重量％) ： 0. 5 . .%

• シランカツプリング剤 — β (アミノエチル） r - -アミノプロピルメチルジメトキシシラン： 0. 量％他は実施例 i 4 と同様にして、平均径 0.30^、高さ 2 0 nm、高さ Z径の比が 0.066 の瘤状^細突起が 2 x 1 0 ^s 個 Zmm² 片面に形成され、かつ R t が 2 5 nm、厚さ方向の屈折率 n ₂₀ が 1. 489 である /、面が、また層 Bの外面はが llOnmである B面が形成された]?:さ i 0 卿のポリエステル複合フィル厶を得た。このフイルムの B而の R _t は 110nm、金厲との動糜擦計数は 0.55であり、フィルムの縱方向のヤング率は 420k mm² 、撗方向のヤング率は 750kgZmm² 、フィルム表面と裏面間の静 Z動摩擦係数は 0.4 / 0.3であった。

この複合ボリエステルフィルムの頹^突起が形成された八面表面に実施例 1 0 と同様のコバルトーニッケル合金薄膜を形成し、磁気テープとした。得られた磁気テープの特迮を第 1 に不した。

実施例 1 6

実施例 1 のポリ：&ステル複合フィルム製造において、 3.0倍の機鎵方向への延伸後の水性塗液塗布後に、その塗布面の逆の面、すなわち層 Bの外面に、実施例 1 と同様の永性塗液を、固形分濃度で 2 0 mgZm²さらに塗布した。

他は実施例 1 4と同様 .して、徴細泣子を含み、それによる突起が存在する高さ 1 8 nmの不連続皮膜が片面に形成され . かつ R _t が 2 3 nm、厚さ方向の屈折率 n _ZDが 1.489 である A 面が、また層 Bの外面は R _t が 120nmであり、シリコーンとシリ力微細粒子を含む被覆層が形成された B面が形成された厚さ丄 0 のポリエステル複合フィルムを得た。このフィルムの B面の金属との動摩擦係数は 0.50であり、フィルムの鋭方向のヤング率は 4201_gZmm² 、模方向のヤング率は 750 kg /mm² 、フィルム表面と裏面間の静 Z動摩擦係数は 0.3 Z 0.2であった。

この複合ポリエステルフィル厶の A面に実施例 1 0 と同様のコバルトーニッケル合金薄膜を形成し、磁気テープとした, 得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。実施例 1 7

実施例 1 5のポリエステル複合フィルム製造において、 3. 0 ：の機械方向への延伸後の永性ェマルジョン塗布後に、その塗布而の逆の而、すなわち展 Bの外面に、実施例〗と同様の水性塗液を、固形分度で 2 ϋ m_gZn さらに塗布した。

他は実施例 1 5 と同様にして、平均径 0.30 -m、高さ 2 0 nm- 高さ Z径の比が 0.066 の瘤状微細突起が 2 X 1 0 ⁶ 個 Zmin² 片面に形成され、かつ R _t が 2 5 nm、 ^さ方向の屈折率 n _z„ が 1.489 である A面が、また S 4 Bの外而はが 12()nmであり、シコーンとシリカ微細粒子を含む被覆層が形成された B面が形成された厚さ 1 0 のポリエステル複合フィルムを得た。このフィルムの B面の金^との動!^擦係数は 0.50であり、フィルムの縦方向のヤング率は OteZtnm.² 、横方向のヤング率は 750kg/随 ² 、フィルム表面と裏面 ¾1の静

擦係数は 0. 3 Z 0. 2であつた。

この浚合ポリエステルフィルムの Λϊδίに実施例 1 0 と同様のコバルト一ニッケル合金薄膜を形成し、磁気テープとした。得られた磁気テープの特†生を 1 表に示した。

実施例 1 8

実施例 1 4において、層 A用として、実施例 1 のポリェチレンテレフタレート原料、及び IS B用として、層 Λ用原料に粒径 400 の CaCO 粒子を 0. 2 含むポリエチレンテレフタレート原料を使用し、永性塗液の塗布を実施せず、他は実施例 i 4 と同様にして、平均?:;；さ 2 0 nmの微細表面突起が 3. 0 X 1 0 ⁵ li5/mm² され、かつ R ,. 力 3 0 nm、 J :さ力向の屈折率 n _{Z D}が 1. 489 である八面が、また層 Bの外面は R _t が 140nmである B面が形成された 15さ 1 0 のポリエステル複合フィルムをた。このフィルムの B Siの金属との動摩擦係数は 0- 45であり、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZ mm ² 、潢方向のヤング率は 7 0kgXmm ² 、フィルム表面と ¾ 面間の静 Z動摩擦係数は 0. 3 Z 0. 15であった。

この複合ポリエステルフィルムの A面に実施例 1 0 と同様のコバルト一ニッケル合金薄膜を形成し、磁気テープとした _c 得られた磁気テープの特性を 4笫 4 1表に示した。 ― 実施例 1 9 '

実施例 1 8のポリエステル浚合フィルム製造において、 3. 0锆の機裰方向への延仲後、層 B側外面に、実施例 1 と同様の永性塗液を固形分濃度で 2 Q mg Z n さらに塗布した。

¾は実施例 1 8 と同様にして、平均高さ 2 0 nmの微細衷而突起が 3. 0 X 1 0 ⁵ il /' mm ² 形成され、かつ R _t が 3 0 nm. 厚さ方向の屈折率 Ti _{Z D}が 1. 489 である八面が、また層 βの外 ¾は R _t 14Gnmであり、シリコーンとシリカ微細粒子を含む被覆暦が形成された 3面が形成された厚さ 1 0 のポリェステル複合フィルムを得た。このフイルムの B面の被覆層の金属との動摩擦係数は 0. 45であり、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZnim ² 、横方向のヤング率は 750 /匪² 、フィルム表面と ¾而間の静 Z勤摩擦係数は 0. 3 Z 0. 15であった < この複合ポ '厂エステルフイルムの A面に実施例 1 0 と同様のコバルト—ニッゲル合金薄^を形成し、磁気テープとした, 得られた磁気テープの特性を^ 1 ¾に示した実 i例 2 0

実施例 1 4において、層 Λのポリエチレンテレフタレ一卜原料として実施例 1 3のポリエチレンテレフタレート原料を ^いた。屑 Α側表面への水性塗液を実施例 1 3のメチルセルロース、シランカップリング剤水溶液に変更した。層 A側塗布の後、その塗布面の逆の靣、すなわち磨 Bの外面に、実施例 1 と同様の水性塗液を、固形分濃度で 2 0

さらに塗ィ U した。

他は実施例 1 4 と同様にして 4 、平均高さ 8 nmの不連続皮膜が片面に形成され、かつ高さが 1 4 ππιの微細突起が 2 X 1 0 個 Zni ² の割合で存在し、 R _t が 2 5 nm、厚さ方向の屈折率 n _ZDが 1.4 である八面が、また) SBの外— は R _t 120nm であり、シリコーンとシリ力微細拉子を^む被覆層が形成された B面が形成された厚さ 1 0 のポリエステル複合フィルムを得た。 B面の金厲との動麼擦係数は 0.50であり、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZmm² 、横方向のヤング率は T Ok Xmm² 、フィルム表而と裏 ISiSの静 Z動摩擦係数は 0.3 /0.2であった。 -.

この複合ポリエステルフィル厶の Λ Siに：¾施例 1 0 と同様のコバルトーニッケル合金薄を形成し、磁気テープとした c 得られた磁気テープの ·½を 51 に示した。

実施例 2 〗

重合触媒残杏等に基づき形成される微細粒子、即ち内 ¾粒子をできる限り ^まない ¾f【的に無 Ε向、非結品の軟化点

258 °Cのポリ -チレンテレフタレートに粒 ί圣 200nmの S i ί] -Λ' 子を 0.08重量％含有させた原料を約 2 0 °Cに維持された回ドラム上に溶融押出し、次に 9 0 °Cで 3 0倍の機械方向への延仲を施し、その後、ステンターを通し、 115。Cで？熱、横延伸した。横延伸倍率は 3.8倍とした。次に 2G0°Cの熱処理を施しながら、更に横方向に 1. ]?倍の横延伸を施した。

平均高さ 9 0 nmの傲細表面突起が 3. 0 X 1 0 ⁴ Xmm² 形成され、 R L が 9 5 nm、厚さ方向の屈折率（ n _ZD)'が 1.489 であり、金属との動摩擦係数が 0. ?0、縱方向のヤング率が

420kg mm² 、横方向のヤング率が 750icg/mm² 、フィルム表而の静 Z動摩擦係数が 0.9 X0.7である厚さ 1 0卿のボリエチレンテレフタレートフイルムを^た。

このポリエステルフィルム表面に真空蒸着によりコバルト一ニッケル合金薄胶を 150nmの) ^厚で形成した。続いてェポキシ澍脂、シリコーン、シランカップリング剤とからなる保護^^をコバルト一ニッケル合金 ^^表^上に ϋ. 1 ^の^ で設け逆面の層 BSiに、カーボンブラックを含むエポキシ ί 脂、シリコーン及びシラン力ップリング剂とからなるバックコ一ト層を 1 ^厚で設けた後、所定の蝠に手方向に切断し、磁気テープとした。

磁気テープ O特性を筠 1表に示した。

比较偶 1

突施^ 1のフィルム ¾造において、 200での熱処理と同時に旖す横延俾の ίίϊ率を 1.08倍とした。 ^は実施傍 1 と同様にして厚さ i 0 のポリエステルフィルムを^た。このフィルムにおいては、平均高さ 2 1 龍の釵 ^表面¾起が 3. 0 X 1 0 ⁵ I 個 Zmtn² 形成され、 R t が 3 2 ηίη n _ZDが 1.4S3 であり、片面にシリコーンとシリ力微細粒子を含み R _t が 8 7 nm、金属との勁摩擦係数が 0.68の被が形成されており、フィルムの ^方向のャング率は 420ks / mm ² 、横方向のヤング率は 530ks/mm² 、フィルム表面と Si ^の静ノ動摩擦係数は 0. 9 Z 0. 5であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た。 ^られた磁気テープの特性を第 1

¾.

し 7

比較例 2

実施例 2のフィルム製造において、 20G°Cの熱処理前に、温度 110°cで、機械方向に 1. 2佶の再延伸を施した。他は实施例 2 と同様）こして厚さ 1 0 のポリエステルフィルムを得た。このフィルムを用い、 ^施例 2 と同様にして磁気テープを得た。このフィルムにおいては、平均高さ 2 0 nmの微細表面突起が 3. ϋ X 1 0 ⁵ 個 Ζ ² 形成され、 R _t が 3 0 nm n _ZDが 1.493 であり、片而にシリコーンとシリカ微細粒子を含み R _t が 8' 4 nn、金属との動糜擦係数が 0.69の被覆！:'が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 500kg Z m ² 横方向のヤング率は 420kgZmm² 、フィルム表面と裏而問の静 Z動摩擦係数は 0. 9 X 0. 5であつた。得られた磁気テープの特性を^ 1 表に示した。

比較例 3

实施例 3のフィルム製造において、熱処理温度を 23()°Cに増大させた。 1 は実施例 1 と同様にして厚さ ' '1 0 卿のポリエステルフィル - を^た。こ Λフィル厶にお .、ては、平均 jさ 1 9 nmの微細表面突起が 2.4 X 1 0 ⁵ 個 ² 形成され、 R _t が 2 9 nm、 n _znが 1.503 であり、片面にシリコーンとシリカ微細泣子を含み R _t が 2 9 nm. 金属との動麼擦係数が

G. ?7の被覆層が形成されており、フィルムの緵方向のヤング率は 5751g:Zmm² 、横方向のヤング率は 595kg/mnt² 、フィルム表面と S面 Rljの静 Z動摩擦係数は 1. 0 Z0.8であつた。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テニプを得た。得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

比铰例 4

実施例 1 のフィルム製造において、熱処理温度を 225。Cに変更した。他は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフィルムを得た。このフィルムにおいては、平均 ¾さ 1 9 nmの微細表面突起が 2.4 X 1 0 ⁵ 個 Zmm² 形成され、 R t が 2 9 ntn. n _ZDが 1.4B8 であり、片面にシリコーンとシリカ微細粒子を含み R _t が 8 2 nm、金属との ¾摩擦係数が

0.77の被覆が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 'UOkgZsim² 、横方向のヤング率は 740 /" mm² 、フィルム表面と裏面の静 Z動摩擦係数は 1.0 /C.8であった。このフィルムを用い、実施^ 1 と同様にしてテープを得た。得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

iヒ¹ 5

実施例 1 のフィルム製造において、使用原料のポリェチレンテレフタレートの欧化点を 2 と変更した。 iiliは実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフィル厶を得た。このフィル厶においては、平均高さ 2 0 nmの ί数細面荧^が 3. 0 x ί 0 ^s 個關² 形成され、 R t ¾、 n _ZDが 1.475 であり、片面にシリコ一ンとシリ力微細拉子を含み R _t が 80 nm、金属との動摩擦係数が 0.70の被覆層が形成されており、フイルムの縱方向のヤング率は 420k mm ² 、横方向のヤング率、'.' 750kgZmm² 、フィルム表面と裏面 Πϋの静 Z動摩擦係数は 0. 9 Ζ 0. 6であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た。得られた磁気テープの特性をヌ 1 刁した。

比較例 6

実施例 1 のフィルム製造において、 200 °Cの使用原料として、軟化点 258でのポリエチレンテレフタレートと、軟化点

250 °Cのポリエチレンテレフタレ一卜の 1対 1 プレン'ドを用いた。他は実施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフィル厶を得た。このフィル厶においは、平均高さ 2 0 παι の微細表面突起が 3. 0 X 1 0 ⁵ 個 Zmm² 形成され、 R t 力 (ΐι、 n _ZDが 1. 78 であり、片面にシリコーンとシリ.力徴細粒子を含み R _t が 8 7 nm、金属との動摩擦係数が 0.70の被覆'層が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 420kgZmm² 、 - 撗方向のヤング率は 750kgZmm² 、フィルム表面と裏面間の静 Z動摩擦係数は 0. 9 Z0. 6であった。このフィルムを用い、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た。得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

比較例 7

実施例 1 のフィルム製造において、 200°Cの使用 Si0₂粒子の粒径を 330nmのものに変更した。池は突施例 1 と同様にして厚さ 1 0 のポリエステルフイルムをた。このフィルムにおいては、平均高さ lOOnmの微細表面突起が 3. 0 x 1 0 ³ 個 Zmm² 形成され、 R _t が 120nni、 n _ZDが i.489 であり、片面にシリコーンとシリ力微細拉子を含み R _t が 8 6 nm、金属との動摩擦係数が 0.70の被覆層が形成されており、フイルムの縱方向のヤング率は 420kg/mtn² 、横方' のヤング率は

750kgZ匪² 、フィルム表面と褢面間の静 Z動摩擦係数は

0. 9 Z0. 6であった。このフィルムをい、実施例 1 と同様にして磁気テープを得た。得られたフィル厶及びそのフィルムを用いた磁気テープの特性を第 1表に示した。

比較例 8

実施例 2のフィル厶製造において、 200°Cの熱処理前こ施す篛據方向の再延伸倍率を 1. 7倍とし、 2G0°Cの熱処理時の横延伸は実施しなかった。他は実施例 1 と同様にして厚さ

1 0卿のポリエステレフイルムを ί た。このフィルムにおいては、平均高さ 2 5 ntnの i ffi表面突起が 3. 5 x 1 0 ⁵ 倔 Zmm² ¾成され、 R _t が 3 5 n 、 n _ZDが 1.4δ8 であり、片面にシリコーンとシリ力微細粒子を合み R t が 9 0 ππι、金厲との動摩擦係数が 0.66の被覆層が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は？ 80kg:Zmm² 、撗方向のヤング率は 310kgZ mm² 、フィルム表面と裏面間の静 Z動摩擦係数は 0. 8 Z 0- 4 であった。このフィル厶を用い、実施例 1 と同様にして磁気 'テープを得た。得られた磁気テープの特性を第 1表に示した。

比較例 9 '

実施例 1 のフィルム製造において、最初の機械方向への延伸倍率を 2. 5倍とした。他は実施例 1 と同！ ¾にして厚さ 1 0 のポリエステルフィルムを --た。このフイルムにおいては平均さ 2 3 nmの微細表面突起が/ 0 X 1 0 ⁵ 個 Zmm² 形成され、 R _t が 3 5 nm、 n _znが 1. 85 であり、片面にシリコ一ンとシリカ微細粒子を^み R _t が 8 5 關、金属との動摩擦係数が 0.68の被覆層が形成されており、フィル厶の縦方^のャング率は SSSkgZtnm² 、横方向のヤング率は 79GkgZmm² 、フィム表面と裘面問の静 Z動^擦係数は 0. 8 X 0. であつた。このフィルムを用い、実施 D

- 1例 1 と同様にして磁気テープを得た。'得られた磁テープの特性を^ 1 表に示した。

比較例 1 0

¾施例 1 のフィル厶製造において、ポリエチレンテレフタレート重合触媒として使用した酸化ゲルマ二ゥ人のかわりに - 酸化了ンチモンを使用して、軟化点 262°Cのポリエチレンテレフタレ一トを得た。このポリエチレンテレフタレートを川い、他は実施例 1 と同様にして、 ^さ 1 0 A™ のポリエチレンテレフタレ一トフイルムを ί -た。このフイルムにおいては、平均^さ 2 0 關の微細 ¾面突 Sが 3. 0 X 1 0 ⁵ 個 /mm² 形成され、 R , が 3 0 nm、厚さ方向の屈折率（ n _z ) が 1. 433 であり、片面にシリコーンとシリ力微細拉子を舍み R _t が 8 S nm、金属との動摩擦係数が 0.70の被覆層が形成されており、フィルムの縦方向のヤング率は 420kg/ ² 、横方向のヤング率は 750kgZmm² 、フィルム表面と裏面間の^ Z動^擦係数は 0. 9 Z 0. 6であった。このフィルムを用い、突施例 1 と同^にして磁気テープを¾た。得られた ¾ ^テープの特性を第 1表に示した。

第 1 表

注 * 1 テープ磁性面すり傷発生状況

A ：すりの傷の発生は全くみられなかった B ：すりの傷の発生は殆どみられなかった

C ：すり傷の発生がみられた

D ：すり傷が著しく発生したテープ

* 2 テープ走行 100回後のへッド外観

A'：損傷はみられなかった

C ：損傷がみられた産業上の利用可能性

本発明のポリエステルフィル厶及び複合ポリエステルフィルムは、磁気記録媒体の基材フィルムとして有用である。フィルムの表'面に強磁性体金属薄膜を真空蒸着により設けて磁気記録媒体とした場合に、加工性が良く、また、その磁気記録媒钵はドロップアゥトが少なく、磁気へッドと均一接触をして、しかも耐すり傷性が良く、磁気へッド損傷性もなく、電磁変換特性も良好であるという優れた効果を発揮する。

本発明のポリエステルフイルムの特長を、さらに詳しく説明すると、長手方向、幅方向のヤング率が 350kg Z mm ² 以上その積が 250000kg mm 以上、厚み方向の屈折率が 1. 480 以上、 1. 492 以下、 R t が lOOnm以下であるので、 ―.の表面上に設けた強磁性体金属薄膜履はしなやかさを冇し、機械的接触に対して衝擊が低くなり、機械的接触による金属薄胶の傷発生が防止されると共に、磁気へッドに対するも防止される。全体としての機械特性もヤング率が 350te Z mtT 以上あるので、ビデオテープレコーダ一内で、伸びたり、折れたりすることがない。また、長手方向、幅方向のヤング率のが 250000 kg ² mm ^ 以上であるので、ビデオテープレコーダ一中でテープと磁気へッドの均一接触が図られる。

さらに、本発明のポリエステルフイルムの片而に、有極性高分子、有機滑剤及び無機微粒子を含有する被覆層を設けると、すべり性が良く、フィルムを巻き取る段階でしわの発生もなく、強磁性体金属薄膜形成加工プ u セスにおいてもハンドリング性が良好である。

また、' ポリエステルフィルムを、共にポリエステルからなる層 A及び層 Bの積層体とし、層 B中に微細粒子を含有せしめ、層 Bの外表而の R _t を 30〜； I 50 n m とすると、同様に、すベり性が良く、フィルムを巻き取る段階でしわの発生もなく、強磁性体金厲薄胶形成加工プロセスにおいてもハンドリング性が良好である。

さらに、被覆ポリエステルフィルム a ₂ の基材暦中に微細 ¾子を含有せしめ、又は複合ポリエステルフィルムの a ₈ の層 Α Φに微細粒子を合冇せしめると、該微細粒子により、基材層表面又は^ Λの外表而に徵細突起が形成され、この微細突起により、金属薄膜を設けたあとのへッド目詰り防止効果が得られる。

さらに、本発明のポリエステルフイルムの片面（強磁性体金厲薄胶を設ける面）に、無機微細粒子を含んだ水溶性 ¾分子を主体とする高さ 3 0 n m以下の不連続皮^を形成すると、この不連^皮胶により、強磁性 ½金属^胶を設けたあとのテーフへッドタツチ、ヘッド走行性の改良が図られる。

さらに、本発叨のポリエステルフィルムの片面（強磁性休金厲薄胶を設ける靣〉に、高さ 3 G n tn以下の瘤状究起を形成すると、この瘤状突起形成面に、金属薄胶を設け磁気記録媒体とした場合、その媒体は、磁気へッドに対するすべりが高温高湿下でも良好で、へッド目詰まり ¾象を起さない。また突起形状はなめらかであるので、金属薄膜が磁気へッドによりられることはない。

5

6

丄

Claims

請求の範 ΕΘ

1. ゲルマニウム化合物を重合触媒として用い製造されたボリエステルからなり、手方向のヤング率 Ε _ΜΙ)及び輻カ向 δ のヤング率 E _TDが、

E MD≥ 350kg mm²

E TD≥ 350kg/mm²

E MD X E T n≥ 250000kg² /mm⁴

を満足し、厚さ方向の屈折率 n _ZDが、

0 l.480≤ n _ZD≤ 1. 92

を満足し、かつ少なくとも片側表面の最大粗さ R _t が、

R t_t ≤ lOOnm

を満足することを特徵とする強磁性体金厲形成磁気記録媒体用ポリエステルフイルム。

2. 該ポリエステルフィルムを基材層とし、該 S材層の両側表面のいずれもが R _t ≤ lOOnm を満足しているときはそのいずれかの表面に、その片側表而のみが R _t ≤ lOOnm を満足しているときは R _t ≤ lOCnm を満足していない表面に、有極- 性高分子、有機滑剤及び無微粒子を含有する被覆が設けられている請求の範 El SI 1 項記載のポリエステルフィルム。 ·

3. 該被覆暦が設けられていない表面に、水溶性高分子から形成されたさ 3 0 nm 下の不連続皮膜を有する請求の範囲項記載のポリエステルフィルム。 '

4. 該不. 続皮膜が無機細粒子を含む請求の範囲第 3 記載ポリエステルフイルム。

5. 該被覆層が設けられていない衷面に-、高さ 3 O nm以下の瘤状突起が形成されている請求の ϋΙΙΗ^ 2 ¾ ^載のポリェステレフィ Jレム。

6. 基材層中に敏細泣子が合有され、 S材層外表面の大 Sさ R _t が 5〜100nm である請求の範 1®^ 項記載のポリェステレフィ Jレ厶。

7. 基材層中の餒細粒子の拉径か '1'；]〜 3QGnm 、含有量が

0.003〜 1. 0重 3%であり、該微細粒子により基材屐表面に高さ 5〜100ηιη の徴^表面突 5起 8が 1G³ 〜10⁷ 個 Zmm² 形成されている請求の範囲第 6項記載のポリエステルフィル厶。

8. 該被覆層が設けられていない表面に、水溶性高分子から形成された高さ 3 0 nm以下の不連続皮膜を有する請求の範囲第 6項記載のボリエステルフィルム。

9. それぞれ、ゲ "'マニウム化合物を重合触媒として用い製造されたポリエステルからなる暦 Λと暦 Bとの積層钵からなり、該積層体はその長手方向のャング率 E_MD及ぴ蝠方向のヤング率 E TDが、 .

E MD JoOkg/ mm²

Ε τη≥ 350kg/ mm²

E MD E TD≥ 250000kg ² /mm⁴

を満足し、厚さ方向の屈折率 n _znが、

i.480≤ n z ≤ l.492

を満足するとともに、愿 B中に徴細拉子が含有され、歴 Λの外表面の最大粗さ R が .

R t ≤ ΐΟΟ謹を満足し、屐 13の外表面の S大粗さ R _t が 3ϋ〜150πίτι であることを特徴とする強磁性体金厲薄胶形成磁気記 S媒休用ポリエステレフィリレム。

10. ポリエステルフィルムの) 1Λの外表面に、無機微細粒子を含み、水溶性高分子から形成された高さ 3 O nm以下の不連続皮胶を^する諳求の範函^ 9項記載のポリエステルフィルム o

11. ポリエステルフィルムの!' 3 Λの外表面に、高さ 0 nm 下の瘤状突起が形成されている請求の範函 9項記載のポリエステ'ルフイルム。

12. ポリェステルの]^ Λ中に微細粒子が含有され、函 Aの外表面の最大粗さ R _t が 5〜： lOOnm である請求の範第 S项記載のポリエステルフイルム。

13. ポリエステルの^ Λ中の微細粒子の粒径が 10〜300nm 、含有量が 0.003〜 1. 0 であり、該微細粒子により層 Λ の外表面に高さ 5〜ιοοπιτι の微表面突起が 10³ 〜IG⁷ / mm² ¾成されている求の範! 7ϋ第 1 2項記載のポリエステルフィルム。

14. ポリヱステルの層 Βの外表面に、有極性高分子、有機滑剤及び無機微粒子を含有する被覆層が設けられている請求の範 Si第 1 0項記載のポリエステルフイルム。

15. ポリエステルの暦 Bの外表面に、有極性高分子、有機滑剤及び無機微粒子を含有する被覆層が設けられている求の範面第 1 1項記載のポリエステルフィル ' 。

16. ポリエステルの層 Bの外表面に、有極性高分子、有機滑剤及び無 SI徴拉子を含 ¾ "する被覆層が ¾けられている猜求の範面第 1 2項記 ISのポリエステルフィルム。

17. ポリエステルの層 Aの外表面に、永溶性高分子から形成された高さ 3 G nm以下の不連続皮跤を有する；; -求の^！ Si^

5 1 6項記載のポリエステルフイルム。

18. ポリエステルフィルムの少くとも一表面に鉄、コバルト、ニッケルおよびそれらの合金の中から選ばれた少くとも一種の強磁性体金属を含む薄膜が形成されている磁気記録媒体において、該ポリエステル 6フ oィルムが、ゲルマ二ゥ厶化合

10 物を重合触媒として甩ぃ -造されたポリエステルからなり、長手方向のャング率 E _MD及び輻方向のャング率 E _TDが、

L MD^ 350kg/ mm"

E TD≥ 3o0ks mm"

E MD E TD≥ 250000kg ² /mm⁴ ' 15 を満足し、厚さ方向の屈折率 n _ZDが、

1.480≤ n ZD≤ 1. 92

を満足し、かつ少なとも片側表面の S大: SIさ R _t が、

R L ≤ lOOnm

を満足することを特徴とする強磁性体金属薄胶形成磁気記録

19. ポリエステルフイルムの少くとも一表面に鉄、コバルト、ニッケルおよびそれらの合金の中から選ばれた少くとも一? の強磁性体金を含む薄膜が形成されている磁気記綠媒

, において、該ボリエステルフィルムが、それぞれ、ゲルマ

25 ニゥム化合物を重合触媒として用い製造されたポリエス /-ルからなる八と S Bとの稻層体からなり、該積暦体はその手方向のャング率 E _MD及び幅方向のャング率 E _TDが、

E MD≥ 350kg/ mm"

E TD≥ J 50 kg / mm²

E MD X E T D≥ 250000kg² /mm⁴

を満足し、厚さ方向の屈折率 n _znが、

1. 480≤ n _{2 D}≤ 1.492

を満足するとともに、層 B中に微細拉子が含有され、層 Λの外表面の最大粗さ R t が、 6

R _t ≤ lOOnm

を満足し、 JS Bの外表而の最大羾さ R _t が 30〜： L50nm であることを特徴とする強磁性体金厲薄胶形成磁気記録媒。