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WO1988001070A3 - Procede de fabrication d'un miroir quadrille de precision - Google Patents

Procede de fabrication d'un miroir quadrille de precision Download PDF

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Publication number
WO1988001070A3
WO1988001070A3 PCT/US1987/001742 US8701742W WO8801070A3 WO 1988001070 A3 WO1988001070 A3 WO 1988001070A3 US 8701742 W US8701742 W US 8701742W WO 8801070 A3 WO8801070 A3 WO 8801070A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
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mirror
photoresist
photomask
resist
created
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/US1987/001742
Other languages
English (en)
Other versions
WO1988001070A2 (fr
Inventor
Albert L Schmidt
Edward E Kovach
Gary W Sherwin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Westinghouse Electric Corp
Original Assignee
Westinghouse Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Westinghouse Electric Corp filed Critical Westinghouse Electric Corp
Publication of WO1988001070A2 publication Critical patent/WO1988001070A2/fr
Publication of WO1988001070A3 publication Critical patent/WO1988001070A3/fr
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Ceased legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
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Abstract

Un miroir quadrillé de précision peut être obtenu avec une résolution de dessins aussi élevée que 5 microns en utilisant un masque de photoréserve attaquable. Le miroir est créé en produisant un photomasque de haute résolution à l'aide de techniques de production d'un photomasque standard. Une photoréserve est déposée sous la forme d'un revêtement sur un flanc de miroir qui comprend des couches réfléchissantes sur un substrat de verre. Le photomasque est utilisé pour imprimer par contact ou exposer la photoréserve. La réserve est ensuite développée et les parties exposées sont enlevées en utilisant des techniques de développement de photoréserve standard. Le miroir est ensuite soumis à une attaque ionique pour enlever les parties exposées de la couche réfléchissante. La réserve est ensuite complètement enlevée au moyen d'un procédé d'attaque au plasma à sec pour obtenir un miroir fini.
PCT/US1987/001742 1986-08-06 1987-07-17 Procede de fabrication d'un miroir quadrille de precision Ceased WO1988001070A2 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US89375986A 1986-08-06 1986-08-06
US893,759 1986-08-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO1988001070A2 WO1988001070A2 (fr) 1988-02-11
WO1988001070A3 true WO1988001070A3 (fr) 1988-03-24

Family

ID=25402038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/US1987/001742 Ceased WO1988001070A2 (fr) 1986-08-06 1987-07-17 Procede de fabrication d'un miroir quadrille de precision

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