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TWI856267B - 遮光部件及其製造方法 - Google Patents

遮光部件及其製造方法 Download PDF

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TWI856267B
TWI856267B TW110132019A TW110132019A TWI856267B TW I856267 B TWI856267 B TW I856267B TW 110132019 A TW110132019 A TW 110132019A TW 110132019 A TW110132019 A TW 110132019A TW I856267 B TWI856267 B TW I856267B
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Inventor
坂爪直樹
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日商索馬龍股份有限公司
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Abstract

提供一種不依存於遮光層的膜厚而具有低光澤性以及高光學濃度的遮光部件。製作遮光部件，該遮光部件具備：基材膜；以及遮光層，形成於基材膜的至少一個面。將形成了遮光層的面的表面的基於JIS B0601：2001測出的最大高度Rz設為1微米以上且5微米以下，並將輪廓曲線要素的長度的平均Rsm設為40微米以下。較佳為，遮光層包含粒徑係2微米至6微米的粒子群以及粒徑係0.06微米至0.4微米的粒子群。

Description

遮光部件及其製造方法
本發明涉及一種遮光部件，更詳細地，涉及一種能夠適用於包括智慧型手機在內的行動電話等的照相機單元等光學設備的遮光部件。
通常，在照相機的透鏡光圈、快門以及透鏡間隔件中，使用遮光部件。
作為這樣的遮光部件，已知一種黑色膜，其在含有碳黑等的黑色聚酯基材等的表面形成了規定的凹凸形狀。作為形成上述凹凸之方法，可舉出在基材表面塗覆包含消光劑的遮光層之方法、經由噴砂等方式對基材表面進行粗面化處理之方法。
專利文獻1中記載了：使用上述方法等，能夠製作表面的基於JIS B0601：2001測出的算術平均粗糙度Ra係0.5微米以上，並且最大峰高度Rp與最大谷深度Rv之差(Rp-Rv)不滿3的遮光部件。並且，專利文獻1的遮光部件顯示了即使係薄型化也具有優異的防反射性能，高硬度且遮光層與膜基材之間的密合性也優異，因而能夠長期保持優異的防反射性能。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第WO2018/052044號公報
近年來，搭載於智慧型手機上的照相機單元存在進一步小型化、所裝配的透鏡的片數增加之傾向。因此，要求即使較薄也能夠實現低光澤以及高光學濃度的遮光部件。然而，在如先前技術那樣藉由將表面粗糙度設定為規定值以上從而減少光澤度的結構中，薄型化存在有侷限性。
本發明係鑒於上述情況而完成的，目的在於提供一種能夠不依存於遮光層的厚度而實現低光澤性以及高光學濃度的遮光部件。在本發明中，另一目的在於提供一種不依存於遮光層的厚度而具有低反射率且高黑色度的遮光部件。
鑒於上述課題，本發明的發明人進行了深入研究，結果發現，在具備基材膜、以及形成於基材膜的至少一個面的具有凹凸形狀的遮光層的遮光部件中，藉由將上述凹凸形狀的基於JIS B0601：2001測出的最大高度Rz(以下，也僅稱為「Rz」)以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm(以下，也僅稱為「Rsm」)控制在規定範圍內，能夠解決上述課題，從而想到了本發明。
即，本發明的遮光部件具備基材膜、以及形成於上述基材膜的至少一個面的遮光層，其特徵在於，形成了上述遮光層的 面的最表面的基於JIS B0601：2001測出的最大高度Rz係1微米以上且5微米以下，並且輪廓曲線要素的長度的平均Rsm係40微米以下。
較佳為，上述遮光層含有粒徑不同的多種粒子群。
較佳為，上述粒子群包含粒徑係2微米至6微米的粒子群以及粒徑係0.06微米至0.4微米的粒子群。
另外，這裡的粒徑不限於平均粒徑，藉由使用顯微鏡等觀察遮光層，從而明確了存在上述範圍的粒子的情況，也包含於上述規定的範圍。
較佳為，上述粒子群之中具有最大粒徑的粒子群係包含無機系粒子的無機系粒子群。
較佳為，上述無機系粒子係二氧化矽。
較佳為，上述遮光部件的形成了遮光層的面針對入射角度係60°的入射光的光澤度不滿2%，並且光學濃度係1.5以上。
較佳為，上述遮光部件的形成了遮光層的面的L值係22以下。
較佳為，上述遮光部件的形成了遮光層的面針對波長係550奈米的光的反射率係4%以下。
較佳為，上述遮光層的平均膜厚係2微米以上且20微米以下。
由於本發明的遮光部件具有低光澤以及高光學濃度，因此能夠有效地防止由光的漫反射導致的重影/光斑現象，並且能夠實現優異的遮光性。尤其如本發明的遮光層，即使進行薄膜化 也能夠實現比現有的厚膜的遮光層更加優異的低光澤性，因此還能夠適應照相機單元的小型化/高性能化。此外，在本發明的遮光部件中，藉由降低反射率，能夠更有效地防止重影/光斑現象。進一步地，藉由提高本發明的遮光部件的黑色度，使黑色顯眼，從而能夠提高設計性，適合用作智慧型手機等行動電話的照相機單元。
圖1(a)係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光澤度進行評價而得的結果的圖。
圖1(b)係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光學濃度進行評價而得的結果的圖。
圖1(c)係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光澤度以及光學濃度進行評價而得的結果的圖。
圖1(d)係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的反射率進行評價而得的結果的圖。
圖1(e)係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的黑色度進行評價而得的結果的圖。
圖1(f)係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光澤度、光學濃度、反射率以及黑色度進行評價而得的結果的圖。
以下，對本發明的實施態樣進行詳細說明。
另外，在本說明書中，表示數值範圍的「至」表示包含作為其上限值以及下限值而分別記載的數值的範圍。此外，在數值範圍中，僅對上限值記載了單位的情況係指下限值的單位也與上限值相同。
在本說明書中階段性記載的數值範圍中，以某一數值範圍記載的上限值或者下限值也可以替換為其它階段性記載的數值範圍的上限值或者下限值。
此外，在本說明書中記載的數值範圍中，以某一數值範圍記載的上限值或者下限值也可以替換為實施例中示出的值。
在本說明書中，關於組合物中的各成分的含有率或者含量，在組合物中存在相當於各成分的多種物質的情況下，只要沒有特別說明，就係指組合物中存在的該多種物質的總含有率或者總含量。
本發明的遮光部件具備基材膜、以及形成於上述基材膜的至少一個面的遮光層，其特徵在於，形成了上述遮光層的面的最表面的基於JIS B0601：2001測出的最大高度Rz係1微米以上且5微米以下，並且輪廓曲線要素的長度的平均Rsm係40微米以下。
如上述那樣，在先前技術中，藉由控制遮光部件表面的凹凸形狀的深度方向的性狀，實現了低光澤。亦即，藉由控制形成於遮光部件表面的凹凸形狀的峰高度以及谷深度，從而降低了遮光部件的光澤度。這樣的結構在具有規定以上的遮光層厚度的遮光部件中係有效的，但係難以應對遮光層以及遮光部件的進一 步的薄型化。
因此，本發明的發明人進行了深入研究，結果發現，藉由控制遮光部件表面的凹凸形狀的深度方向以及水平方向的性狀，能夠不依存於遮光層的膜厚而實現低光澤性以及高光學濃度，從而完成了本發明。即，本發明的發明人明確了：藉由將遮光部件表面的凹凸形狀的(深度方向的)粗糙度設為規定範圍，並且將上述凹凸形狀的在水平方向上相鄰的峰與峰之間的距離以及谷與谷之間的距離調整為規定值以下，從而得到了不依存於遮光層的膜厚而具有低光澤性以及高光學濃度的遮光部件。在本發明中確認了即使在與現有的遮光部件相比進一步對遮光層進行薄膜化的情況下，能夠實現比現有的遮光部件更低的光澤度。此外，在本發明的遮光部件中，能夠實現低反射率以及高黑色度。
圖1(a)示出了利用後述之方法對藉由各種方法製得的、遮光層的膜厚不滿6微米並且Rz以及Rsm不同的遮光部件針對入射角度係60°的入射光的光澤度進行評價而得的結果。另外，光澤度的評價基準如下。
(光澤度的評價基準)
◎：不滿1%(非常優異)
○：1%以上且不滿2%(優異)
×：2%以上(不滿足本發明的要求特性)
此外，圖1(b)示出了利用後述之方法對同樣地製得的、遮光層的膜厚不滿6微米且Rz以及Rsm不同的遮光部件的光學濃度進行評價而得的結果。另外，光學濃度的評價基準如 下。
(光學濃度的評價基準)
◎：2以上(優異)
○：1.5以上且不滿2(良好)
×：不滿1.5(不滿足本發明的要求特性)
圖1(c)示出了經由以下的基準對上述光澤度以及光學濃度進行綜合評價而得的結果。
◎：光澤度的評價基準以及光學濃度的評價基準均係◎
○：光澤度的評價基準以及光學濃度的評價基準中的至少一方係○且均不係×
×：光澤度的評價基準以及光學濃度的評價基準中的至少一方係×
圖1(d)示出了利用後述之方法，對同樣地製得的、遮光層的膜厚不滿6微米且Rz以及Rsm不同的遮光部件針對波長係550奈米的光的反射率進行評價而得的結果。另外，反射率的評價基準如下。
(反射率的評價基準)
◎：3%以下(優異)
○：大於3%且4%以下(良好)
×：大於4%(不滿足本發明的要求特性)
圖1(e)示出了利用後述之方法，對同樣地製得的、遮光層的膜厚不滿6微米且Rz以及Rsm不同的遮光部件的黑色 度(L值)進行評價而得的結果。另外，黑色度的評價基準如下。
(黑色度的評價基準)
◎：18以下(非常優異)
○：大於18且係22以下(優異)
×：大於22(不滿足本發明的要求特性)
此外，圖1(f)示出了如以下基準對上述光澤度、光學濃度、反射率以及黑色度進行綜合評價而得的結果。
◎：光澤度的評價基準、光學濃度的評價基準、反射率的評價基準以及黑色度的評價基準均係◎
○：光澤度的評價基準、光學濃度的評價基準、反射率的評價基準以及黑色度的評價基準中的至少一個係○且均不係×
×：光澤度的評價基準、光學濃度的評價基準、反射率的評價基準以及黑色度的評價基準中的至少一個係×
由圖1(a)可知，在Rz係1微米以上且5微米以下，並且Rsm係40微米以下的範圍內，光澤度不滿2(實測值不滿1.5)，獲得了低光澤性。
此外，由圖1(b)可知，在上述範圍內還獲得了良好的光學濃度。由圖1(c)可知，在Rz係1微米以上且5微米以下，並且Rsm係40微米以下的範圍內，即使係膜厚不滿6微米的遮光層也能夠實現低光澤性以及高光學濃度。
此外，由圖1(d)可知，在上述範圍內獲得了低反射率。進一步地，由圖1(e)可知，在上述範圍內獲得了高黑色 度。由圖1(f)確認了在Rz係1微米以上且5微米以下，並且Rsm係40微米以下的範圍內，即使係膜厚不滿6微米的遮光層也能夠實現低光澤性、高光學濃度、低反射率以及高黑色度。
本發明的遮光部件，其特徵在於，將遮光層表面的凹凸的粗糙度設定得較小，並且將相鄰的峰與峰之間的距離以及谷與谷之間的距離設定得較短。這樣，透過峰與峰之間的距離以及谷與谷之間的距離較短的結構的凹凸形狀，所入射的光反覆反射的次數變多，容易經由凹凸表面吸收光。因此，認為經由本發明的遮光部件，能夠實現低光澤性以及高光學濃度，進而實現低反射率以及高黑色度。
本發明的發明人發現，藉由使遮光層含有大小不同的多種粒子群，從而容易將Rz以及Rsm設定為上述範圍，能夠實現低光澤性以及高光學濃度，進而實現低反射率以及高黑色性。
以下，對本發明的遮光部件的較佳的結構進行說明。
通常，遮光部件具有如下結構：在基材膜的表面塗覆了含有基質部以及粒子的遮光層。在以往的遮光部件中，將凹凸形狀的粗糙度控制為規定以上而實現低光澤性，因此將比較粗的粒子分散於基質部。
與此相對地，在本發明的遮光部件中，較佳使用粒徑較大的粒子群以及粒徑較小的粒子群。在上述結構中，粒徑較小的粒子進入粒徑較大的粒子之間，在遮光層表面容易形成較淺且槽間的距離較短的凹凸形狀，能夠將遮光部件的遮光層表面的Rz以及Rsm適當地控制在本發明的規定範圍內。這樣，在峰與峰之間的距離以及谷與谷之間的距離較短的本發明的遮光層的表面，所 入射的光的反射次數變多，經由遮光層表面吸收光，因此實現低光澤以及高光學濃度，進而還容易獲得低反射率以及高黑色度。
此外，在本發明的上述結構中，在遮光層表面的凹凸形狀的表面，存在有大量粒徑較小的粒子。因此，認為藉由使入射至遮光層表面的峰斜面、谷部分(凹部)的光在粒徑較小的粒子表面擴散反射並向各種方向改變行進方向，進而到達其它粒徑較小的粒子的表面，反覆進行擴散反射，吸收光，從而能夠實現優異的低光澤性。並且，由於粒徑較小的粒子從凹凸形狀的表面突出，遮光層表面成為更複雜的凹凸形狀，因此經由擴散反射能夠進一步降低光澤度，實現在先前技術中難以達到的水準的低光澤性。
關於添加至本發明的遮光層中的粒子的詳細將在後文描述。
遮光部件的表面的Rz值以及Rsm值可以藉由對所組合的粒子群的粒徑、粒度分佈、含量以及遮光層的膜厚等進行調整從而進行控制。此外，還可以藉由對製作塗布液時的溶劑的種類、固體成分濃度、塗布至基材膜的量進行調整從而進行控制。進一步地，還可以藉由塗布液的塗布方法、乾燥溫度、時間以及乾燥時的風量等塗膜製造條件進行控制。
以下，對本發明的遮光部件的具體的材料結構進行描述。
(1)基材膜
對於在本發明中使用的基材膜沒有特別限定，可以係透明的，也可以係不透明的。作為本發明的基材膜材料，可以使用樹脂製、金屬製以及玻璃製等。
作為樹脂製基材膜，可舉出例如：聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯與碳原子數係4以上的α-烯烴的共聚物等聚烯烴；聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯；尼龍等聚醯胺；乙烯-乙酸乙酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯等其它通用塑膠膜；聚碳酸酯、聚醯亞胺等工程塑料膜。
此外，作為金屬製基材膜，可舉出：使用了金、銀、銅、鋁、鈦、鋅、鈹、鎳、錫等金屬的金屬片；使用了磷青銅、銅鎳、銅鈹、不鏽鋼、黃銅、硬鋁等合金的合金片。
作為玻璃製基材膜，沒有特別限定，但可以使用例如超薄板玻璃(G-Leaf(註冊商標)，日本電氣硝子股份有限公司製造)等。
這些原材料之中，從強度較高、經濟性、通用性高的觀點出發，較佳為雙軸壓延而得的聚對苯二甲酸乙二酯；從具有耐熱性的觀點出發，較佳為聚醯亞胺膜；從具有更高的耐熱性的觀點出發，較佳為包含銅的金屬片。在使用樹脂製基材膜的情況下，預先煉入如碳黑、苯胺黑那樣的黑色著色劑並將光學濃度設為2以上、較佳係4以上的高遮光性，從而能夠獲得更優異的遮光效果。
對於基材膜的厚度沒有特別限定，但在使用樹脂製基材膜的情況下，較佳係1至250微米，更佳係3至100微米，進一步地，最佳係5至50微米。本發明的遮光部件即使進行薄膜化也能夠實現低光澤以及高光學濃度，因而還能夠適用於特別小型、薄型的光學部件。例如，在被用於行動電話等的照相機單元等光學設備的情況下，基材膜的厚度較佳係3至50微米，進一步佳係5至20微米。
此外，在使用金屬製基材膜的情況下，厚度較佳係6至30微米，尤其，在被用於行動電話等的照相機單元等光學設備的情況下，較佳設為10至20微米。
關於基材膜，可以使用平坦的基材膜，也可以對基材膜的表面實施消光加工而形成凹凸(粗面化部)。經由消光加工，能夠控制遮光層塗覆後的遮光部件表面的Rz值以及Rsm值，還能夠提高基材膜與遮光層之間的密合性。對於消光加工方法沒有特別限定，可以使用習知之方法。
例如，在基材膜為樹脂製基材膜的情況下，可以使用化學蝕刻法、噴砂法、壓花法、壓延法、電暈放電法、電漿放電法、利用了樹脂和粗面化形成劑的化學消光法等。此外，使基材膜直接含有消光劑，也能夠在樹脂製基材膜的表面形成凹凸。在上述加工方法中，從形狀控制的容易度、經濟性、操作性等觀點出發，較佳使用噴砂法，特別佳使用噴砂法。
在噴砂法中，可以藉由所使用的研磨劑的粒徑、噴射壓力等，控制表面的性狀。此外，在壓花法中，可以藉由調整壓花輥形狀、壓力，控制表面的性狀。
另一方面，在基材膜為金屬製基材膜的情況下，可以藉由黑化處理、噴砂處理、蝕刻處理等，在表面形成凹凸。
(2)錨定層
在上述基材膜的至少一個面設置遮光層之前，為了提高基材膜與遮光層之間的黏接性，還可以設置錨定層。作為錨定層，可以使用尿素樹脂層、三聚氰胺樹脂層、聚氨酯樹脂層、聚酯樹脂等。例如，聚氨酯樹脂層可以藉由將含有二胺、二醇等含活性 氫的化合物以及聚異氰酸酯的溶液塗布於基材膜表面並進行固化而得到。此外，在應用尿素樹脂、三聚氰胺樹脂的情況下，可以藉由將含有水溶性尿素樹脂或者水溶性三聚氰胺樹脂的溶液塗布於基材表面並進行固化而得到。聚酯樹脂可以藉由將利用有機溶劑(甲乙酮、甲苯等)溶解或者稀釋而得的溶液塗布於基材表面，並進行乾燥而得到。
(3)遮光層
本發明的遮光部件，其特徵在於，具有形成於基材膜的至少一個面的遮光層。並且，形成了遮光層的面的表面的Rz係1微米以上且5微米以下，並且Rsm係40微米以下。這裡，如果係遮光層從最表面露出的結構，則遮光層表面的Rz以及Rsm係上述範圍即可，在遮光層上塗覆了樹脂製薄膜層、黑色化層等的情況下，這些層的表面即遮光部件的最表面的Rz以及Rsm係上述範圍即可。以下，將這些表面統稱係「遮光層最表面」。
如上所述，本發明的遮光部件，其特徵在於，遮光層最表面的Rz係1微米以上且5微米以下，且Rsm係40微米以下。藉由將遮光層最表面的Rz以及Rsm控制為上述範圍，從而能夠不依存於遮光層的膜厚而實現低光澤性以及高光學濃度。尤其，在本發明中，即使在將遮光層設為6微米以下的薄膜之情況下，也具有顯著的效果，即能夠實現比現有的厚膜的遮光層更好的低光澤性。進一步，藉由使用本發明的遮光層，還能夠實現低反射率以及高黑色度。
Rz的下限值較佳設為2微米以上。藉由將Rz的下限值設為上述值，從而更容易調整低光澤性、低反射率以及高光學 濃度。
Rz的上限值較佳設為5微米以下且4微米以下。藉由將Rz的上限值設為上述值，從而能夠不依存於遮光層的膜厚而進一步實現低光澤性、高光學濃度、低反射率以及高黑色性。
對於Rsm的下限值沒有特別限定，但較佳設為10微米以上。經由上述範圍，能夠獲得在基材與遮光層之間更優異的密合性。
此外，遮光層最表面的基於JIS B0601：2001測出的算術平均粗糙度Ra較佳係0.6微米以下，更佳係0.55微米以下，進一步佳係0.5微米以下。
作為遮光層的構成成分，可以包含樹脂成分、粒子以及著色劑/導電劑。
樹脂成分成為粒子以及著色劑/導電劑的黏結劑。對於樹脂成分的材料沒有特別限定，也可以使用熱塑性樹脂以及熱固性樹脂中的任一種。作為具體的熱固性樹脂，可舉出丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、不飽和聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂等。此外，作為熱塑性樹脂，可舉出聚丙烯酸酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、丁醛樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物樹脂等。從耐熱性、耐濕性、耐溶劑性以及表面硬度的觀點出發，較佳使用熱固性樹脂。作為熱固性樹脂，若考慮柔軟性以及覆膜的強韌性，則特別佳為丙烯酸樹脂。
藉由添加固化劑作為遮光層的構成成分，從而能夠促進樹脂成分的交聯。作為固化劑，可以使用具有官能團的尿素化合物、三聚氰胺化合物、異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮雜環丙 烷化合物、惡唑啉化合物等。其中，特別佳為異氰酸酯化合物。固化劑的混配比例係較佳相對於樹脂成分100質量%而為10至50質量%。藉由以上述範圍添加固化劑，從而能夠獲得硬度更合適的遮光層，即使在與其它部件發生滑動的情況下，也能夠長期保持遮光層的表面性狀，保持低光澤性、高光學濃度、低反射率以及高黑色度。
在使用固化劑的情況下，為了促進該反應，還可以同時使用反應催化劑。作為反應催化劑，可舉出氨、氯化銨等。反應催化劑的混配比例係較佳相對於固化劑100質量%而為0.1至10質量%之範圍。
可以使本發明的遮光層含有粒子以及著色劑/導電劑。本發明的發明人發現，藉由使用粒徑以及粒度分佈不同的二種以上的粒子群作為粒子以及著色劑/導電劑，從而能夠將遮光層最表面的Rz以及Rsm適當地控制在本發明的規定範圍內。
例如，在使用大小不同的二種粒子群的情況下，較佳為，較大的粒子群的粒徑為較小的粒子群的粒徑的10倍至40倍。另外，在使用三種以上的粒子群的情況下，進行調整使得最大的粒子群的粒徑與最小的粒子群的粒徑成為上述關係即可。
以下，將較大的粒子群設為大粒子1，將較小的粒子群設為小粒子2進行說明。
在本發明中，作為粒子群，較佳包含平均粒徑為2微米至6微米的大粒子1以及平均粒徑為0.06微米至0.4微米的小粒子2。大粒子1的平均粒徑更佳為3微米至5微米，進一步佳為3微米至4微米。小粒子2的平均粒徑較佳為0.06微米至0.4微 米，更佳為0.1微米至0.3微米。
藉由組合這樣的粒徑的大粒子1和小粒子2，從而能夠將小粒子2埋入凹部的大粒子1之間，將Rz以及Rsm的值更適當地控制在本發明的規定範圍內。
粒子的含量係由粒子群的平均粒徑、粒度分佈以及遮光層的膜厚、基材的表面形狀決定，但較佳相對於遮光層整體100體積%而為20體積%至50體積%。此外，關於大粒子1與小粒子2的混合比，只要能夠將Rz以及Rsm的值調整為上述範圍就沒有特別限定，但較佳為1.5：1至3.5：1(大粒子1所佔的體積：小粒子2所佔的體積)。
另外，遮光層中的粒子的體積含有率(體積佔有率)可以換算為面積佔有率而求出，該面積佔有率係如遮光層的剖面照片而經由圖像分析等計算出的。
作為大粒子1，還可以使用樹脂系粒子以及無機系粒子中的任一種。作為樹脂系粒子，可舉出例如三聚氰胺樹脂、苯并胍胺樹脂、苯并胍胺/三聚氰胺/福馬林縮合物、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂、矽樹脂等。另一方面，作為無機系粒子，可舉出二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、二氧化鈦、碳等。這些可以單獨，也可以二種以上組合使用。
為了獲得更優異的特性，大粒子1較佳使用無機粒子。藉由使用無機系粒子作為大粒子1，能夠獲得更低的光澤且高光學濃度的遮光部件。作為用作大粒子1的無機系粒子，較佳為二氧化矽。對於大粒子1的形狀沒有特別限定，但為了將Rz以及Rsm控制為上述範圍，較佳使用粒度分佈尖銳的粒子群。藉由使 用這樣的粒子群，能夠使粒子間的接觸變多，降低Rz以及Rsm的值。
此外，為了進一步降低光澤度，較佳使用無定形的粒子群。其中，特別佳為多孔質的無定形二氧化矽粒子。藉由使用這樣的粒子群，從而能夠使光在大粒子1的表面以及內部反覆折射，從而能夠進一步降低光澤度。
為了抑制光的反射，還可以透過有機系或者無機系著色劑將大粒子1著色為黑色。作為以這種方式著色的材料，可舉出複合二氧化矽、導電性二氧化矽、黑色二氧化矽等。
作為複合二氧化矽，可舉出例如以奈米水準合成並複合碳黑和二氧化矽而得的複合二氧化矽，作為導電性二氧化矽，可舉出例如在二氧化矽粒子上塗布了碳黑等導電性粒子而得的導電性二氧化矽，作為黑色二氧化矽，可舉出例如矽石中含有石墨的天然礦石。
另一方面，對於小粒子2的材質也沒有特別限定，還可以使用樹脂系粒子以及無機系粒子中的任一種。作為樹脂系粒子，可舉出例如三聚氰胺樹脂、苯并胍胺樹脂、苯并胍胺/三聚氰胺/福馬林縮合物、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂、矽樹脂等。另一方面，作為無機系粒子，可舉出二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、二氧化鈦、碳等。這些可以單獨使用，也可以二種以上組合使用。
作為小粒子2，還可以使用例如作為著色劑/導電劑而添加的碳黑等。作為小粒子2，藉由使用碳黑，從而對遮光層進行著色，因此能夠進一步提高防反射效果，並且獲得良好的抗靜電 效果。
在本發明中，作為遮光層的構成成分，如需要，還可以進一步添加流平劑、增稠劑、pH調節劑、潤滑劑、分散劑、消泡劑等。
藉由在有機溶劑或者水中添加上述結構成分，並混合攪拌，從而製備均勻的塗布液。作為有機溶劑，可以使用例如甲乙酮、甲苯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等。
藉由將所獲得的塗布液直接塗布在基材膜表面上，或者塗布在預先形成的錨定層上，並進行乾燥，從而形成遮光層。對於塗布方法沒有特別限定，可以使用輥塗法、刮刀法、模塗法、棒塗法、浸漬塗布法、接觸塗布法、噴塗法、旋塗法等。
對於本發明的遮光部件的遮光層的厚度沒有特別限定，但較佳為，平均膜厚為2微米以上且20微米以下。此外，本發明的遮光部件的遮光層的平均膜厚的上限更佳為15微米，進一步佳為10微米。在本發明中，即使將遮光層的厚度設為5微米以下，也能夠獲得低光澤性、高光學濃度、低反射率且黑色度高的遮光部件。
另外，遮光層的平均膜厚係指，包含從膜基材表面起至遮光層的由於大粒子1以及小粒子2而突出的部分的高度。上述遮光層的平均膜厚可以基於JIS K7130而測量。
以下，對本發明的遮光部件的特性進行描述。
(1)光澤度
本發明的遮光部件的形成了遮光層的面針對入射角 度為60°的入射光的光澤度較佳為不滿2%，更佳為不滿1.5%，進一步佳為不滿1%。藉由將本發明的遮光部件針對入射角度為60°的入射光的光澤度調整為上述範圍，從而能夠有效地防止由光的漫反射導致的重影/光斑現象。
上述光澤度係依據JIS Z8741，測量相對於入射角60°的鏡面光澤度而獲得。
(2)光學濃度
本發明的遮光部件的形成了遮光層的面的光學濃度較佳為1.5以上，更佳為2以上，進一步佳為2.5以上。藉由將本發明的遮光部件的光學濃度調整為上述範圍，從而能夠進一步提高遮光性。
上述光學濃度係使用X-rite 361T(正交濾波器)光學濃度計進行測量。
(3)反射率
本發明的遮光部件的形成了遮光層的面針對波長為550奈米的光的反射率較佳為4%以下，更佳為3%以下，進一步佳為2.5%以下。藉由將本發明的遮光部件的反射率調整為上述範圍，能夠進一步有效地防止由光的漫反射導致的重影/光斑現象。
上述反射率係使用柯尼卡美能達股份有限公司製造、分光測色計CM-5進行測量。
(4)黑色度
本發明的遮光部件的形成了遮光層的面的L值較佳為22以下，更佳為20以下，進一步佳為18以下。藉由將本發明的遮光部件的L值調整為上述範圍，從而使黑色性高、黑色顯眼、 設計性優異，因而能夠適合用作智慧型手機等行動電話的照相機單元。
L值係指基於JIS Z8781-4而估算的L*a*b*色空間之中表示明度的L*值。
實施例
經由以下的實施例進一步對本發明進行詳細說明，但本發明不限於這些實施例。另外，在實施例中，在沒有特別記載的情況下，「%」以及「份」表示質量%以及質量份。
〈遮光部件的結構〉
(1)基材膜
(1-1)聚醯亞胺膜：KAPTON 50MBC(厚度：12微米)，東麗杜邦公司製造
(2)遮光層
(a)粒子1
(a1)複合二氧化矽：BECSIA ID(平均粒徑：3微米)，富士西裡西亞化學股份有限公司製造
(a2)透明二氧化矽：ACEMATT R972無機材料(平均粒徑：58奈米)，EVONIK公司製造
(a3)透明二氧化矽：SYLYSIA 430(平均粒徑：4.1微米)，富士西裡西亞化學股份有限公司製造
(a4)透明二氧化矽：ACEMATT OK412(平均粒徑：6.3微米)，EVONIK公司製造
(a5)透明丙烯酸珠：UNI-POWDER NMB-0320C(平均粒徑：3微米)，JX日礦日石能源股份有限公司製造
(a6)黑色丙烯酸珠：RUBCOULEUR224SMD黑(平均粒徑：3微米)，大日精化工業股份有限公司製造
(b)粒子2
(b1)MHI黑_#273_(平均粒徑：150奈米)，御國色素股份有限公司製造
(c)固化劑
(c1)苯二亞甲基二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物：TAKENATE D110N，三井化學股份有限公司製造
(d)樹脂
(d1)丙烯酸樹脂：Acrydic A801，DIC股份有限公司製造
(e)溶劑
(e1)乙酸丁酯
(實施例1至17、比較例1至5)
以表1至3所示的固體成分比將遮光層的各成分加入乙酸丁酯中使得總固體成分成為約25質量%，攪拌混合得到塗布液。使用聚醯亞胺的基材膜，在一個面上塗布各種組成的塗布液，然後，在100℃下乾燥2分鐘，形成了遮光層。
表1、2以及3示出了：經由上述之方法對各試樣的遮光層的平均膜厚、遮光層表面的Rz值、Rsm值、針對入射角度為60°的入射光的光澤度、光學濃度、L值以及針對波長為550奈米的光的反射率進行測量而得的結果；以及以上述評價基準表示的光澤度、光學濃度、L值以及針對波長為550奈米的光的反射率的結果。
表1示出了將粒子2設為平均粒徑為150奈米的碳 黑，並將添加量固定為15質量份，使用平均粒徑不同的二氧化矽粒子作為粒子1而形成遮光層進行評價得到的結果。在實施例1、實施例2以及實施例3中，均使用了平均粒徑為3微米的複合二氧化矽作為粒子1，但控制塗膜條件並改變了遮光層的膜厚。實施例1、實施例2以及實施例3的遮光層的Rz分別為3.35微米、2.98微米以及2.92微米，Rsm分別為34.99微米、32.99微米以及36.52微米。
由此確認了在實施例1、實施例2以及實施例3中，60°下的光澤度非常低，均為0.5%，光學濃度大於2，能夠獲得低光澤性以及高光學濃度。進一步可知，實施例1、實施例2以及實施例3的L值較低，均為17左右，反射率為3%以下，具備高黑色度和低反射率。由上述結果確認了在將遮光層的Rz設為1微米以上且5微米以下，並將Rsm設為40微米以下的本發明的遮光部件中，即使將遮光層的平均膜厚薄膜化為3至5微米，也能夠實現低光澤性、高光學濃度、低反射率以及優異的黑色度。
表1
　 實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2 實施例4 比較例3 參考例1 參考例2 參考例3
組成 粒子1 (a1)複合二氧化矽（3微米） 40 40 40 － － － － － － －
(a2)透明二氧化矽（58奈米） － － － 40 50 － － － － －
(a3)透明二氧化矽（4.1微米） － － － － － 40 － － － －
(a4)透明二氧化矽（6.3微米） － － － － － ー 40 － － －
粒子2 (b1)碳黑（150奈米） 15 15 15 15 15 15 15 － － －
黏結劑成分 (c)異氰酸酯固化劑 32 32 32 32 32 32 32 － － －
(d)樹脂 68 68 68 68 68 68 68 － － －
合計 155 155 155 155 165 155 155 － － －
粒子/遮光層（體積%） 35.48 35.48 35.48 35.48 40.88 35.48 35.48 － － －
評價結果 平均膜厚（微米） 3.3 4.5 4.8 3.5 4.3 5.0 5.1 9 9 9
Rz（微米） 3.35 2.98 2.92 0.63 0.66 4.57 7.23 4.05 4.05 4.61
Rsm（微米） 34.99 32.99 36.52 59.98 81.64 34.71 45.20 68.66 67.74 66.02
實測值 光澤度60°（%） 0.5 0.5 0.5 19.8 18.5 0.3 0.3 2.7 2.2 3
光學濃度 2.15 2.77 3.08 3.48 3.27 1.60 1.45 3.6 3.6 5.04
L* 17.27 17.39 17.43 20.51 20.51 17.61 21.3 24.11 24.39 23.93
反射率（550奈米）（%） 2.35 2.37 2.38 3.15 3.15 2.42 3.34 5.11 4.90 4.84
評價基準 光澤度60°評價 ◎ ◎ ◎ × × ◎ ◎ × × ×
光學濃度評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 × ◎ ◎ ◎
黑色度評價 ◎ ◎ ◎ 〇 〇 ◎ 〇 × × ×
反射率（550奈米）評價 ◎ ◎ ◎ 〇 〇 ◎ 〇 × × ×
評價基準 光澤度60°　◎：不滿1%、〇：1%以上且不滿2%、 ×：2%以上 光學濃度　　◎：2以上、〇：1.5以上且不滿2%、×：不滿1.5 黒色度　　　◎：18以下、〇：大於18且在22以下、×：大於22 反射率　　　◎：3%以下、〇：大於3%且在4%以下、×：大於4%
除了使用平均粒徑為58奈米的透明二氧化矽作為粒子1之外，與實施例1至3同樣地製備塗布液並形成了遮光層，設為比較例1。所獲得的遮光層的Rz較小，為0.63微米，Rsm為59.98微米。由此確認了在比較例1中，光澤度非常高，為19.8%，藉由該結構不能夠獲得低光澤性。
在比較例2中，除了將粒子1的組成比從40質量份變更為50質量份之外，與比較例1同樣地製備塗布液並形成了遮光層。在比較例2中，所獲得的遮光層的Rz也較小，為0.66微米，Rsm為81.64微米，顯示出與比較例1相比更大的值。並且，由此確認了在比較例2中，光澤度也較高，為18.5%，不能夠獲得低光澤性。
由此可知，在使用了平均粒徑4.1微米的透明二氧化矽作為粒子1的實施例4中，Rsm為與實施例1至實施例3相同程度的34.71微米，但Rz為4.57微米，大於4微米。在實施例4中，光澤度、反射率以及黑色度顯示出與實施例1至實施例3同等或者以上的性能，但光學濃度為1.60，低於實施例1至3。
由此確認了在使用了平均粒徑6.3微米的透明二氧化矽作為粒子1的比較例3中，Rz為7.23微米，大於5微米，Rsm為45.20微米。由此可知，比較例3的光澤度為0.3%，獲得了低光澤性，但係光學濃度較低，為1.45，不能夠獲得高光學濃度。此外，在比較例3中，雖然滿足本發明的要求值，但L值以及反射率均高於實施例1至3。
參考例1、2以及3分別為在基材膜上具有遮光層的現有的遮光部件。參考例1、2以及3的Rz分別為4.05微米、4.05微米以及4.61微米，Rsm分別為68.66微米、67.74微米以及66.02微米。由此可知，在參考例1、2以及3中，遮光層的膜厚均為9微米，但光澤度分別為2.7%、2.2%以及3.0%，不滿足本發明的要求值。此外，L值分別為24.11、24.39以及23.93，反射率分別為5.11、4.90以及4.84，黑色度以及反射率均不滿足本發明的要求值。
由以上結果確認了在將遮光層表面的Rz設為1微米以上且5微米以下，並將Rsm設為40微米以下而製備的本發明的遮光部件中，即使設為比現有的遮光層更加薄膜，也能夠實現比現有的遮光部件更低的光澤且更高的光學濃度。此外，還確認了在本發明中，即使為薄膜，也能夠實現比現有的遮光部件更低的反射率且更高的黑色度。Rz較佳為4微米以下。
進一步確認了為了獲得具有上述表面的結構的本發明的遮光部件，有效的係使遮光層中組合含有大粒子和小粒子。認為將大粒子1的粒徑設為小粒子2的粒徑的10至40倍左右係有效的。
表2示出了經由上述之方法對使用平均粒徑為3微米的複合二氧化矽、丙烯酸珠或者黑色丙烯酸珠作為粒子1並透過各種條件形成的遮光層表面的Rz、Rsm、入射角60°下的光澤度、光學濃度、L值以及針對波長為550奈米的光的反射率進行測量而得的結果。也同樣地示出了實施例1、實施例2以及實施例3的結果。
對在各種條件下塗布了塗布液而形成的遮光層進行評價，這些塗布液係添加30質量份（實施例5、6以及7）、40質量份（實施例1、2以及3）以及50質量份（實施例8、9以及10）的平均粒徑3微米的複合二氧化矽作為粒子1而製備的。由這些結果確認了在所有的實施例中，Rz為1微米以上且5微米以下，並且Rsm為40微米以下。並且，確認了在具有平均膜厚為3微米至5微米的薄膜的遮光層的全部實施例中，獲得了低光澤性、高光學濃度、低反射率以及高黑色度。此外，觀察到了藉由增加粒子1的添加量，光澤度、反射率以及L值進一步降低，光學濃度上升的傾向。
表2
　 實施例5 實施例6 實施例7 實施例1 實施例2 實施例3 實施例8 實施例9 實施例10 比較例4 實施例11 實施例12 實施例13 比較例5 實施例14
組成 粒子1 (a1)複合二氧化矽（3微米） 30 30 30 40 40 40 50 50 50 － － － － － －
(a5)丙烯酸珠（3微米） － － － － － － － － － 40 40 50 50 － －
(a6)黑色丙烯酸珠（3微米） － － － － － － － － － － － － － 40 90
粒子2 (b1)碳黑（150奈米） 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15
黏結劑成分 (c)異氰酸酯固化劑 32 32 32 32 32 32 32 32 32 32 32 32 32 68 68
(d)樹脂 68 68 68 68 68 68 68 68 68 68 68 68 68 32 32
合計 145 145 145 155 155 155 165 165 165 155 155 165 165 155 205
粒子/遮光層（體積%） 30.97 30.97 30.97 35.48 35.48 35.48 39.39 39.39 39.39 35.49 35.49 39.39 39.39 42.31 51.22
評價結果 平均膜厚（微米） 3.5 4.2 4.7 3.3 4.5 4.8 4.1 4.9 5.1 4.3 4.8 5.0 5.7 4.4 5.9
Rz （微米） 3.34 3.46 3.13 3.35 2.98 2.92 3.28 2.92 2.88 3.26 2.83 2.90 3.25 3.25 3.87
Rsm（微米） 35.62 35.12 35.72 34.99 32.99 36.52 34.11 32.51 37.08 45.79 38.46 25.35 34.22 52.74 40.00
實測值 光澤度60°（%） 0.9 0.8 0.8 0.5 0.5 0.5 0.4 0.5 0.5 2.2 1.9 1.5 1.5 6.5 1.3
光學濃度 2.01 2.55 2.87 2.15 2.77 3.08 2.36 2.91 3.35 1.75 2.11 2.03 2.29 2.67 3.08
L* 18.91 18.83 18.51 17.27 17.39 17.43 17.19 17.11 16.97 22.00 21.99 20.66 20.62 23.53 23.85
反射率（550奈米）（%） 2.68 2.64 2.59 2.35 2.37 2.38 2.29 2.28 2.32 3.49 3.46 3.15 3.13 3.96 3.98
評價基準 光澤度60°評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ × 〇 〇 〇 × 〇
光學濃度評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 ◎ 〇 ◎ ◎ ◎
黑色度評價 〇 〇 〇 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 〇 〇 〇 × ×
反射率（550奈米）評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇 〇 〇 〇 〇 〇
評價基準 光澤度60°　◎：不滿1%、〇：1%以上且不滿2%、 ×：2%以上 光學濃度　　◎：2以上、〇：1.5以上且不滿2%、×：不滿1.5 黒色度　　　◎：18以下、〇：大於18且在22以下、×：大於22 反射率　　　◎：3%以下、〇：大於3%且在4%以下、×：大於4%
確認了在使用了平均粒徑為3微米的丙烯酸珠的比較例4中，Rz為3.26微米，但Rsm為45.79微米，大於40微米。在比較例4中，光澤度為2.2%，不能夠獲得本發明所要求的低光澤性。
與此相對地，在使用與比較例4相同的塗布液並改變了塗布條件的實施例11中，Rz為2.83微米，Rsm為38.46微米，光澤度為1.9%，獲得了低光澤性。由此確認了在Rz為1微米以上且5微米以下，並且Rsm為40微米以下的範圍內，即使改變粒子的種類也能夠實現低光澤性以及高光學濃度。確認了在實施例11中，反射率以及黑色度均滿足本發明的要求值，也能夠獲得低反射率以及高黑色度。
在實施例12以及13中，將丙烯酸珠的添加量增加至50質量份，製備塗布液，並改變塗布條件而形成了遮光層。實施例12以及13的Rz為2.90微米以及3.25微米，Rsm為25.35微米以及34.22微米。並且，確認了在實施例12以及13中均能夠獲得低光澤性、高光學濃度、低反射率以及高黑色度。
在添加了40質量%的平均粒徑為3微米的黑色丙烯酸珠的比較例5中，Rz為3.25微米，但Rsm為52.74微米。在比較例5中，光澤度為6.5%，不能夠獲得低光澤性。
與此相對地，在將黑色丙烯酸珠的添加量增加至90質量份的實施例14中，Rz為3.87微米，Rsm為40.00微米。確認了在實施例14中，光澤度為1.3%，光學濃度為3.08，藉由將Rz以及Rsm控制在本發明的規定範圍內，即使使用黑色丙烯酸珠作為粒子1，也能夠實現低光澤性以及高光學濃度。另外，可知在實施例14中，雖然為低反射率，但L值為23.85，黑色度不滿足本發明的要求值。
由上述結果可知，即使將粒子1的材質設為丙烯酸樹脂，藉由控制遮光層表面的Rz以及Rsm，即使為薄膜的遮光層也能夠實現低光澤性以及高光學濃度。然而，在相同程度的膜厚、Rz以及Rsm中，觀察到了與使用了丙烯酸珠或者黑色丙烯酸珠的實施例相比，使用了複合二氧化矽的實施例的光澤度低的傾向。進一步可知，在使用了複合二氧化矽的實施例中，容易獲得低反射率且高黑色度的遮光部件。由此認為，粒子1較佳為二氧化矽。
表3示出了對從塗布液獲得的遮光層進行評價而得的結果，該塗布液係使用平均粒徑3微米的複合二氧化矽作為粒子1，將添加量固定為40質量份，並改變粒子2（平均粒徑150奈米的碳黑）的添加量而製備的。同樣地還示出了實施例1、實施例2以及實施例3的結果。實施例15、實施例1至3、實施例16以及實施例17各自的粒子2的添加量設為6質量份、15質量份、24質量份以及48.5質量份。
確認了在全部實施例中遮光層表面的Rz均為1微米以上且5微米以下，並且Rsm為40微米以下，遮光層的膜厚為3微米至6微米的範圍，實現了低光澤性、高光學濃度、低反射率且高黑色度。
此外，觀察到了若增加粒子2的添加量，則Rz以及Rsm均減少的傾向。認為這係因為藉由增加粒子2，從而形成於大粒子間的谷部被小粒子填埋，谷部的深度變淺，谷部間的距離變短。
此外，確認了藉由增加粒子2，從而光澤度、光學濃度、L值以及反射率均上升。
在本發明中，透過遮光層中的粒子群的含量、大粒子群和小粒子群的粒徑、添加比例等，能夠控制Rz以及Rsm，調整光澤度、光學濃度、反射率以及黑色度，因此，能夠適當地提供所需的性能的遮光部件。
表3
　 實施例15 實施例1 實施例2 實施例3 實施例16 實施例17
組成 粒子1 (a1)複合二氧化矽（3微米） 40 40 40 40 40 40
粒子2 (b1)碳黑（150（奈米） 6 15 15 15 24 48.5
黏結劑 成分 (c)異氰酸酯固化劑 32 32 32 32 32 32
(d)樹脂 68 68 68 68 68 68
合計 146 155 155 155 164 189
粒子/遮光層（體積%） 31.50 35.48 35.48 35.48 39.02 46.95
評價結果 平均膜厚（微米） 5.8 3.3 4.5 4.8 4.8 4.5
Rz（微米） 3.63 3.35 2.98 2.92 2.52 1.30
Rsm（微米） 35.10 34.99 32.99 36.52 33.05 21.50
實測值 光澤度60°（%） 0.3 0.5 0.5 0.5 0.8 1.7
光學濃度 2.12 2.15 2.77 3.08 3.45 4.26
L* 17.66 17.27 17.39 17.43 17.88 18.67
反射率（550奈米）（%） 2.44 2.35 2.37 2.38 2.44 2.76
評價基準 光澤度60°評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇
光學濃度評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
黑色度評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 〇
反射率（550奈米）評價 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
評價基準 光澤度60°　◎：不滿1%、〇：1%以上且不滿2%、 ×：2%以上 光學濃度　　◎：2以上、〇：1.5以上且不滿2%、×：不滿1.5 黒色度　　　◎：18以下、〇：大於18且在22以下、×：大於22 反射率　　　◎：3%以下、〇：大於3%且在4%以下、×：大於4%
圖1（a）係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光澤度進行評價而得的結果的圖。 圖1（b）係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光學濃度進行評價而得的結果的圖。 圖1（c）係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光澤度以及光學濃度進行評價而得的結果的圖。 圖1（d）係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的反射率進行評價而得的結果的圖。 圖1（e）係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的黑色度進行評價而得的結果的圖。 圖1（f）係表示對最大高度Rz以及輪廓曲線要素的長度的平均Rsm不同的各種遮光部件的光澤度、光學濃度、反射率以及黑色度進行評價而得的結果的圖。

Claims (9)

  1. 一種遮光部件，具備：基材膜；以及遮光層，該遮光層形成於該基材膜的至少一個面，其中，形成了該遮光層的面的最表面的基於JIS B0601：2001測出的最大高度Rz係1微米以上且5微米以下，並且輪廓曲線要素的長度的平均Rsm係10微米以上且40微米以下，該遮光層的平均膜厚為2微米以上且20微米以下，以該遮光層全體為100體積%計，該遮光層含有20體積%至50體積%的粒子。
  2. 如請求項1所述的遮光部件，其中，該遮光層含有粒徑不同的多種粒子群。
  3. 如請求項2所述的遮光部件，其中，該粒子群包含粒徑係2微米至6微米的粒子群以及粒徑係0.06微米至0.4微米的粒子群。
  4. 如請求項2或3所述的遮光部件，其中，該粒子群之中具有最大粒徑的粒子群係包含無機系粒子的無機系粒子群。
  5. 如請求項4所述的遮光部件，其中， 該無機系粒子係二氧化矽。
  6. 如請求項1至3中任一項所述的遮光部件，其中，該遮光部件的形成了遮光層的面針對入射角度係60°的入射光的光澤度小於2%，並且光學濃度係1.5以上。
  7. 如請求項1至3中任一項所述的遮光部件，其中，該遮光部件的形成了遮光層的面的L值係22以下。
  8. 如請求項1至3中任一項所述的遮光部件，其中，該遮光部件的形成了遮光層的面針對波長550奈米的光之反射率係4%以下。
  9. 一種遮光部件的製造方法，其中該遮光部件包含基材膜及遮光層，該遮光層直接形成於該基材膜的至少一個面或隔著錨定層而形成於該基材膜的至少一個面，該製造方法包含：調製含有粒徑不同的多種粒子群的塗布液的步驟；以及將該塗布液直接塗布於基材膜上或隔著膜定層而塗布於基材膜上的步驟，其中形成了該遮光層的面的最表面的基於JIS B0601：2001測出的最大高度Rz係1微米以上且5微米以下，並且輪廓曲線要素的長度的平均Rsm係10微米以上且40微米以下。
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