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TWI848165B - 加工液循環裝置 - Google Patents

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TWI848165B
TWI848165B TW109127369A TW109127369A TWI848165B TW I848165 B TWI848165 B TW I848165B TW 109127369 A TW109127369 A TW 109127369A TW 109127369 A TW109127369 A TW 109127369A TW I848165 B TWI848165 B TW I848165B
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斎藤淳
吉田幹
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日商迪思科股份有限公司
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Abstract

[課題]防止積存在停止狀態的加工液循環裝置的槽等之加工廢液的雜菌繁殖。[解決手段]提供一種加工液循環裝置，其包含：紫外線照射單元；以及清洗單元，其清洗從廢液槽至清水泵為止的通水路徑。紫外線照射單元具有：紫外線燈；石英玻璃管，其圍繞燈外側而形成能導入或排出氣體的第一空間；以及框體，其圍繞玻璃管外側而形成能導入或排出清水的第二空間。清洗單元具有：氧投入手段，其將氧置入第一空間；第一配管，其連通第二空間與清水槽；以及第二配管，其連通紫外線照射單元與廢液槽。將使紫外線照射已置入第一空間的氧而生成之臭氧與清水槽之清水進行混合，並將所得之臭氧水導入廢液槽，使其在從廢液槽至清水泵為止的通水路徑中循環而進行清洗。

Description

加工液循環裝置
本發明係關於對加工裝置供給純水等加工液之加工液循環裝置。
例如，如專利文獻1或專利文獻2所揭示般的加工液循環裝置，其將從加工裝置送來之包含加工屑的加工廢液積存在槽中，將利用泵從槽抽取的加工廢液通過過濾器而去除加工屑，藉此產生已去除加工屑的清水。其後，加工液循環裝置使紫外線照射於所得之清水以將清水中的有機物進行離子化，並將清水通過離子交換樹脂，藉此使離子交換樹脂吸附有機物離子及無機物離子，將清水再生作為純水。此純水被送出至加工裝置。 [習知技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-190128號公報 [專利文獻2]日本特開2008-037695號公報
[發明所欲解決的課題] 在已去除加工屑的清水中，在直到從上述的槽流至照射紫外線的紫外線照射單元之前，會存在有機物。因此，在加工液循環裝置停止時，會導致雜菌藉由有機物而繁殖。若使加工液循環裝置停止的期間長，則此雜菌變得更容易繁殖，無法藉由紫外線照射而消滅雜菌，有所謂殺菌處理變得不充分之問題。又，若雜菌會在槽的水中繁殖，則必須捨棄此水並從自來水精製純水。因從自來水精製純水耗時，故產生所謂要使加工裝置待機之問題。再者，亦有所謂不將已去除加工屑的清水捨棄而欲再利用作為純水的需求。
因此，本發明之目的係提供一種加工液循環裝置，其在使加工液循環裝置長期間停止時，亦即，在長期間不將用於供給至加工裝置的純水送出至加工裝置時，可防止積存在槽及使槽與過濾器等連通的配管中之加工廢液及清水中的雜菌繁殖。
[解決課題的技術手段] 根據本發明的一態樣，提供一種加工液循環裝置，其包含：廢液槽，其積存從加工裝置所排出之包含加工屑的加工廢液，所述加工裝置加工被加工物；廢液泵，其從該廢液槽抽取加工廢液；過濾器單元，其去除由該廢液泵所抽取之加工廢液的加工屑而精製清水；清水槽，其積存該清水；清水泵，其從該清水槽抽取清水；紫外線照射單元，其對該清水照射紫外線；離子交換樹脂單元，其使經照射紫外線的該清水通過離子交換樹脂而精製純水；以及清洗單元，其清洗從該廢液槽至該清水泵為止的通水路徑，該紫外線照射單元具有：紫外線燈；石英玻璃管，其圍繞該紫外線燈的外側而形成第一空間；框體，其圍繞該石英玻璃管的外側而形成第二空間；氣體入口，其將氣體導入該第一空間；氣體出口，其將氣體從該第一空間排出；水入口，其將清水導入該第二空間；以及水出口，其使清水從該第二空間排出，該清洗單元具有：氧投入手段，其將包含氧的氣體置入該第一空間；第一配管，其連通該氣體出口與該清水槽；以及第二配管，其連通該水出口與該廢液槽，將使紫外線照射已置入該第一空間之包含氧的氣體而生成之包含臭氧的氣體與該清水槽的清水混合，並將所生成之臭氧水導入該廢液槽，藉此使其依序在該廢液泵、該過濾器單元、該清水槽、該清水泵、該紫外線照射單元、該第二配管、該廢液槽中循環而進行清洗。
在本發明的一態樣中，該過濾器單元具有：過濾器，其構成為在中央具有投入加工廢液的投入口之筒狀，且使清水從側面排出；托盤，其載置該過濾器；以及過濾器盒，其收納該過濾器與該托盤，該清洗單元有時更具有：氣體投入手段，其吸引該過濾器盒內的氣體並投入該第一空間，且吸引該廢液槽內的氣體並投入該第一空間，且吸引該清水槽內的氣體並投入該第一空間。
在本發明的一態樣中，該加工液循環裝置有時更包含：惰性氣體投入手段，其將惰性氣體投入該第一空間，在將清水從該紫外線照射單元送至該離子交換樹脂單元之際，使惰性氣體充滿該第一空間。
[發明功效] 根據本發明的一態樣之加工液循環裝置，在使加工液循環裝置長期間停止時，亦即，在長期間不將用於供給至加工裝置的純水送出至加工裝置時，能防止廢液泵、過濾器單元、清水槽、清水泵、紫外線照射單元、第二配管、廢液槽內的雜菌的繁殖。又，藉此，在再次將純水從加工液循環裝置送出至加工裝置之情形中，可不將加工液循環裝置內的清水進行排水而再使用。
過濾器單元具有：過濾器，其構成為在中央具有投入加工廢液的投入口之筒狀，且使清水從側面排出；托盤，其載置過濾器；以及過濾器盒，其收納過濾器與托盤，在清洗單元更具有氣體投入手段且所述氣體投入手段係吸引過濾器盒內的氣體並投入第一空間，且吸引廢液槽內的氣體並投入第一空間，且吸引清水槽內的氣體並投入第一空間之情形中，在使第一空間內產生之包含臭氧的臭氧水在廢液槽、過濾器單元及清水槽中進行循環之際，可將在各部氣化的臭氧再次集合在第一空間內，可防止臭氧從各部漏出至加工液循環裝置的外部，例如，可使操作者不會吸到臭氧。
加工液循環裝置更包含：惰性氣體投入手段，其將惰性氣體投入第一空間，在將清水從紫外線照射單元送至離子交換樹脂單元之際（例如，從長期間未送出用於供給至加工裝置的純水之加工液循環裝置，再次對加工裝置送出純水之際），在使第一空間充滿惰性氣體之情形中，紫外線燈所發出的紫外線不會在第一空間內衰減，能穿透石英玻璃管而照射第二空間內的清水。而且，藉由利用未衰減的紫外線將第二空間內的清水充分地殺菌以分解有機物而成為純水，可將高純度的純水送出至加工裝置。
圖1所示之加工裝置A係用於半導體元件的製造過程，例如，一邊供給加工液（純水）一邊利用旋轉的研削磨石研削被加工物（例如，矽晶圓等）而進行薄化之研削裝置，或一邊供給加工液一邊對於被保持在卡盤台的被加工物切入旋轉的切割刀片而裁切被加工物之切割裝置等。
在加工裝置A中，連接有本發明之加工液循環裝置1。加工液循環裝置1至少具備：廢液槽20，其積存從加工裝置A所排出之包含加工屑的加工廢液，所述加工裝置A係一邊供給加工液一邊加工被加工物；廢液泵22，其從廢液槽20抽取加工廢液；過濾器單元3，其去除由廢液泵22所抽取之加工廢液的加工屑而精製清水；清水槽40，其積存清水；清水泵42，其從清水槽40抽取清水；紫外線照射單元5，其對清水照射紫外線；離子交換樹脂單元6，其使經照射紫外線的清水通過離子交換樹脂而精製純水；以及清洗單元7，其清洗從廢液槽20至清水泵42為止的通水路徑。
從加工裝置A所排出之包含加工屑（例如，矽屑）的加工廢液係通過由金屬配管或具可撓性的管子等所構成之加工廢液流入管23，而從加工裝置A流入廢液槽20。
連接廢液槽20的廢液泵22係藉由本身產生的負壓而抽取廢液槽20內的加工廢液，並送出至其一端所連接的過濾器單元導入管24。 過濾器單元導入管24的另一端側係與過濾器單元3連通。又，例如，在過濾器單元導入管24內配設有壓力計249，藉由壓力計249，變得能監視廢液泵22所送出之加工廢液的量是否成為超出過濾器單元3的處理能力的量。
在本實施方式中，去除由廢液泵22所抽取之加工廢液所含的加工屑而精製清水的過濾器單元3，例如係由迪思科股份有限公司製的產品名CC過濾器所構成的單元。過濾器單元3，例如，如圖1所示具備第一過濾器31與第二過濾器32，在過濾器單元導入管24中流動的加工廢液會被導入第一過濾器31或第二過濾器32。
筒狀的第一過濾器31（第二過濾器32），例如具備：筒體311（筒體321），其在側面具備多個未圖示的開口；投入口312（投入口322），其形成於筒體311（筒體321）的上表面中央且投入加工廢液；以及未圖示的筒狀的濾紙，其被配設在筒體311（筒體321）內。在第一過濾器31（第二過濾器32）中，從投入口312（投入口322）置入筒狀的濾紙內之加工廢液會在被筒狀的濾紙過濾後，從筒體311（筒體321）的側面的多個開口排出至外部。
如此所構成之第一過濾器31與第二過濾器32係在桶狀的托盤34上並排配設。藉由第一過濾器31或第二過濾器32而已去除加工屑之已完成過濾的清水被排出至托盤34上。托盤34上的桶內係連通配管340的上游側，配管340的下游側則與清水槽40連通。
第一過濾器31、第二過濾器32及托盤34係被收納在箱狀的過濾器盒35內。過濾器盒35可將氣體密封在其內部。
如圖1所示，過濾器單元導入管24的另一端側為分歧，在第一過濾器31的投入口312中，連通過濾器單元導入管24分歧而成之第一過濾器單元導入管241，在第二過濾器32的投入口322中，連通過濾器單元導入管24分歧而成之第二過濾器單元導入管242。
在第一過濾器單元導入管241內，配設有第一電磁閥241a。又，在第二過濾器單元導入管242內，配設有第二電磁閥242a。第一電磁閥241a（第二電磁閥242a）係切換第一過濾器單元導入管241（第二過濾器單元導入管242）與第一過濾器31（第二過濾器32）之連通狀態和不連通狀態。
例如，若持續實施僅利用第一過濾器31的加工廢液的處理，則在第一過濾器31的未圖示的濾紙的內側會堆積加工屑，加工廢液會變得難以通過未圖示的濾紙，而喪失作為過濾器的功能。其結果，壓力計249會測量到過濾器單元導入管24內的壓力變高且超過容許値。然後，進行將第一電磁閥241a設為閉狀態的控制，阻斷第一過濾器單元導入管241與第一過濾器31的連通。更進一步，進行將第二電磁閥242a設為開狀態的控制，將第二過濾器單元導入管242與第二過濾器32連通。又，若壓力計249測量到過濾器單元導入管24內的壓力變高且超過容許値，則未圖示的警報手段會通知／畫面顯示讓操作者知道第一過濾器31的功能喪失而需要進行更換。
其結果，被廢液泵22送出的加工廢液會流入第二過濾器32，並利用第二過濾器32而與第一過濾器31同樣地進行處理。又，第一過濾器31因成為能更換濾紙等的狀態，故操作者可進行第一過濾器31的濾紙更換。亦即，在加工液循環裝置1中，即使在更換第一過濾器31之際，因係利用第二過濾器32進行加工廢液處理，故亦不需要使裝置停止。
從托盤34透過配管340流下並儲存在清水槽40的清水，係藉由圖1所示之清水泵42而被抽取，並通過一端與清水泵42連接的紫外線照射單元導入管422，而被送至紫外線照射單元5。
在圖2中顯示縱剖面構造的紫外線照射單元5，具備：紫外線燈50；石英玻璃管52，其圍繞紫外線燈50的外側而形成第一空間521；框體54，其圍繞石英玻璃管52的外側而形成第二空間542；氣體入口55，其將氣體導入第一空間521；氣體出口56，其將氣體從第一空間521排出；水入口57，其將清水導入第二空間542；以及水出口58，其使清水從第二空間542排出。
紫外線燈50係例如將約185nm及約254nm的短波長作為主波長而有效率地將紫外線放射至側面的低壓水銀燈，但不限於此。例如，紫外線燈50係成為在上下方向（Z軸方向）延伸的柱狀，且例如在安裝於其上端及下端的連接端子500連接有電源59。
例如由SUS等所構成之框體54係被形成為圓柱狀，且具備：底板541；天板543，其與底板541相對；以及側壁544，其連結天板543與底板541。
相較於一般玻璃，具有非常高的純度且使紫外線良好地透射的石英玻璃管52，例如具備圓筒形狀，其上端與下端被固定在框體54的天板543與底板541。在圖2所示之例子中，將氣體導入第一空間521之氣體入口55係在厚度方向貫通天板543而形成，將氣體從第一空間521排出之氣體出口56係在厚度方向貫通底板541而形成。
在圖2所示之例子中，將清水導入第二空間542之水入口57係在厚度方向貫通天板543而形成，在水入口57係與紫外線照射單元導入管422的另一端連接。 使清水從第二空間542排出之水出口58係在厚度方向貫通底板541而形成。
圖1、2所示之清洗從廢液槽20至清水泵42為止的通水路徑之清洗單元7，至少具備：氧投入手段70，其將包含氧的氣體（空氣）置入第一空間521；第一配管71，其連通氣體出口56與清水槽40；以及第二配管72，其連通紫外線照射單元5的水出口58與廢液槽20。再者，本實施方式中之清洗單元7，具備：氣體投入手段79，其吸引過濾器單元3的過濾器盒35內的氣體並投入第一空間521，且吸引廢液槽20內的氣體並投入第一空間521，且吸引清水槽40內的氣體並投入第一空間521。
如圖2所示，在將氣體導入紫外線照射單元5的第一空間521之氣體入口55中，連接有主配管550。 氧投入手段70，例如具備：空氣源（氧源）700，其係壓縮機或鼓風機等；空氣投入管701，其連通主配管550與空氣源700；以及空氣源開閉閥702，其配設在空氣投入管701內。
圖1、2所示之氣體投入手段79，例如具備：廢液槽內氣體吸引管790，其一端連通廢液槽20；盒內氣體吸引管791，其一端連通過濾器單元3的過濾器盒35；以及清水槽內氣體吸引管792，其一端連通清水槽40。而且，廢液槽內氣體吸引管790的另一端、盒內氣體吸引管791的另一端及清水槽內氣體吸引管792的另一端，係透過吸引風扇794而分別連通與氣體入口55連接的主配管550。
在本實施方式中，連通氣體出口56與清水槽40之第一配管71，例如，如圖1、2所示般亦連通清水泵42。又，在第一配管71內，配設有第一配管開閉閥711。
連接離子交換樹脂單元6的離子交換導入管583係從第二配管72分歧。在離子交換導入管583內，配設有導入管開閉閥583a，又，在第二配管72中，配設有第二配管開閉閥72a。
本實施方式的加工液循環裝置1具備：惰性氣體投入手段16，其將惰性氣體投入圖2所示的紫外線照射單元5的第一空間521。惰性氣體投入手段16，例如具備：惰性氣體源160，其儲存氮氣；空氣投入管161，其連通主配管550與惰性氣體源160；以及氣體源開閉閥162，其配設在氣體投入管161內。此外，惰性氣體源160亦可儲存氬氣以取代氮氣。
如圖1所示，紫外線照射單元5係例如能裝卸地配設在圖1所示之支撐台14上。在該支撐台14，隔板140以在Z軸方向延伸之方式立設於其上，紫外線照射單元5位於支撐台14上之隔板140的後側（＋Y方向側）。又，在支撐台14中之隔板140的後側（＋Y方向側），精密過濾器17係能裝卸地配設在紫外線照射單元5的旁邊。
本實施方式中之圖1所示之離子交換樹脂單元6，例如具備：第一離子交換手段61及第二離子交換手段62，第一離子交換手段61及第二離子交換手段62係能裝卸地並排配設在支撐台14中之隔板140的前側（－Y方向側）。
在紫外線照射單元5中已進行藉由紫外線照射之殺菌處理、有機物的離子化且從第二空間542（參照圖2）通過水出口58而排出之清水，係通過離子交換導入管583而分流，變得能導入第一離子交換手段61及第二離子交換手段62。
例如，在離子交換導入管583已分歧的流路內，分別配設有第一電磁開閉閥581及第二電磁開閉閥582。若第一電磁開閉閥581成為開狀態，則經紫外線殺菌處理的清水會被導入第一離子交換手段61，若第二電磁開閉閥582成為開狀態，則經紫外線殺菌處理的清水會被導入第二離子交換手段62。被導入第一離子交換手段61或第二離子交換手段62的清水，其離子會被交換而被精製成純水。例如，在更換第一離子交換手段61之情形中，第一電磁開閉閥581被關閉，清水變得暫時僅能導入第二離子交換手段62。
在如此進行而將清水進行離子交換所精製之純水中，有時會混入構成第一離子交換手段61及第二離子交換手段62之離子交換樹脂的樹脂屑等細微物質。因此，將藉由圖1所示之第一離子交換手段61、第二離子交換手段62而將清水進行離子交換所精製之純水，透過配管171導入精密過濾器17，藉由此精密過濾器17捕捉混入純水之離子交換樹脂的樹脂屑等細微物質。
例如，如圖1所示，在上述配管171中配設有壓力計173，所述壓力計173係測量從第一離子交換手段61及第二離子交換手段62送出至精密過濾器17的純水的壓力，此壓力計173若測量的配管171內的壓力達到預定壓力値以上，則判斷樹脂屑等細微物質堆積在精密過濾器17而喪失作為過濾器的功能，並通知／顯示應更換精密過濾器17的警告。 又，在上述配管171中亦可配設有電阻儀175，所述電阻儀175係用於檢測從第一離子交換手段61或第二離子交換手段62送出至精密過濾器17的純水的電阻。
通過上述精密過濾器17的純水會透過配管180而被送至純水溫度調整手段18。被送至純水溫度調整手段18的純水，會在此被調溫成預定溫度並被供給至圖1所示之加工裝置A內的未圖示的加工液供給手段。
以下，針對在圖1所示之加工液循環裝置1中，在使裝置長期間停止，亦即，在長期間未將用於供給至加工裝置A的純水送出時，防止積存在廢液槽20、廢液泵22、過濾器單元3、清水槽40、清水泵42、紫外線照射單元5、及使上述各構成連通的各種配管等中的加工廢液及清水中的雜菌繁殖之情形中的加工液循環裝置1的各構成的動作進行說明。
首先，如圖2所示，在空氣源開閉閥702為打開的狀態下，空氣源700將預定量的空氣（氧）供給至空氣投入管701。該空氣係通過主配管550而從氣體入口55流入紫外線照射單元5的第一空間521。
又，從電源59對紫外線燈50供給電力，從紫外線燈50將波長約185nm的紫外線與波長約254nm的紫外線同時照射至已投入第一空間521之包含氧的空氣（氣體）。其結果，已置入第一空間521的空氣中的氧分子會吸收波長約185nm的紫外線，並分解成氧原子。亦即，紫外線係在包含氧的空氣中衰減。再者，所生成之氧原子會與周圍的氧分子結合而產生臭氧。亦即，已置入第一空間521的空氣具備由所生成的臭氧（活性氧）所致之殺菌力。
在第一空間521內所生成之臭氧（氣體）係從氣體出口56排出，通過第一配管開閉閥711為打開狀態的第一配管71，流入清水槽40及／或清水泵42。而且，在積存於清水槽40及／或清水泵42內的清水中混合臭氧，清水會成為臭氧水。
在清水槽40及／或清水泵42所生成之臭氧水會被清水泵42抽取，通過圖1所示之紫外線照射單元導入管422而被送出至紫外線照射單元5。而且，從圖2所示之紫外線照射單元5的水入口57流入第二空間542內。
已流入第二空間542內的臭氧水會被從水出口58排出，通過第二配管開閉閥72a為打開狀態的第二配管72，流入廢液槽20。此外，成為從第二配管72分歧的離子交換導入管583內的導入管開閉閥583a被關閉的狀態，臭氧水不會流往離子交換樹脂單元6。
藉此，積存於廢液槽20內的預定量（例如，約60L）的加工廢液會被臭氧水清洗。亦即，進行加工廢液中所含之雜菌的殺菌。其後，臭氧水被廢液泵22抽取，進行廢液泵22內的加工廢液的清洗，又，一邊進行過濾器單元導入管24的管內清洗一邊在其中流動。
在過濾器單元導入管24中流動的臭氧水會流入過濾器單元3的第一過濾器31與第二過濾器32，進一步通過兩過濾器而去除加工屑並流出至托盤34上。其後，臭氧水會通過配管340而流往清水槽40。藉此，過濾器單元3成為經臭氧水殺菌清洗的狀態。 再者，利用清水泵42從清水槽40抽取的臭氧水會從紫外線照射單元5的水入口57流入第二空間542內，並在與上述同樣的路線進行循環。
如上述，本發明之加工液循環裝置1包含：紫外線照射單元5；以及清洗單元7，其清洗從廢液槽20至清水泵42為止的通水路徑，紫外線照射單元5具有：紫外線燈50；石英玻璃管52，其圍繞紫外線燈50的外側而形成第一空間521；框體54，其圍繞石英玻璃管52的外側而形成第二空間542；氣體入口55，其將氣體導入第一空間521；氣體出口56，其將氣體從第一空間521排出；水入口57，其將清水導入第二空間542；以及水出口58，其使清水從第二空間542排出，清洗單元7具有：氧投入手段70，其將包含氧的氣體投入第一空間521；第一配管71，其連通氣體出口56與清水槽40；以及第二配管72，其連通水出口58與廢液槽20，藉由將使紫外線照射已置入第一空間521之包含氧的氣體而生成之包含臭氧的氣體與清水槽40的清水進行混合，並將所生成之臭氧水導入廢液槽20，使其依序在廢液泵22、過濾器單元3、清水槽40、清水泵42、紫外線照射單元5、第二配管72、廢液槽20中循環，清洗（殺菌）積存於各處的加工廢液及清水，藉此在使加工液循環裝置1長期間停止時，亦即，在長期間不將用於供給至加工裝置A的純水從加工液循環裝置1送出時，能防止廢液泵22、過濾器單元3、清水槽40、清水泵42、紫外線照射單元5、第二配管72、廢液槽20內的雜菌的繁殖。又，藉此，在再次將純水從加工液循環裝置1送出至加工裝置A之情形中，可不將加工液循環裝置1內的清水進行排水（捨棄）而再使用。
本實施方式之加工液循環裝置1的清洗單元7具備圖1、2所示之氣體投入手段79，若開始上述加工液循環裝置1內之臭氧水的循環，則氣體投入手段79會運作。 首先，藉由將臭氧水導入圖1所示之廢液槽20內，臭氧會從廢液槽20內的臭氧水部分氣化，並積存在廢液槽20內的上方。氣體投入手段79的吸引風扇794運作，透過廢液槽內氣體吸引管790吸引在廢液槽20內從臭氧水釋放的臭氧，進一步通過主配管550及氣體入口55（參照圖2），將臭氧投入紫外線照射單元5的第一空間521。
又，藉由將臭氧水導入清水槽40，臭氧會從清水槽40內的臭氧水部分氣化，並積存在清水槽40內的上方。藉由吸引風扇794，透過清水槽內氣體吸引管792吸引在清水槽40內從臭氧水釋放的臭氧，進一步通過主配管550及氣體入口55，投入紫外線照射單元5的第一空間521。
又，藉由將臭氧水導入第一過濾器31或第二過濾器32，從過濾器被排出至托盤34的臭氧水中的臭氧會部分氣化，並積存在過濾器盒35內的上方。藉由吸引風扇794，透過盒內氣體吸引管791吸引在過濾器盒35內從臭氧水釋放的臭氧，進一步通過主配管550及氣體入口55，將臭氧投入紫外線照射單元5的第一空間521。
如上述，本實施方式之加工液循環裝置1具備氣體投入手段79，藉此在使第一空間521內產生之包含臭氧的臭氧水在廢液槽20、過濾器單元3及清水槽40中進行循環之際，可將在各部氣化的臭氧再次集合在第一空間521內，防止臭氧從該各部漏出至加工液循環裝置1的外部，例如，可使操作者不會吸到臭氧。
以下，針對將清水從圖1、3所示之紫外線照射單元5送至離子交換樹脂單元6之際，亦即，例如將純水從如上述般長期間未將用於供給至加工裝置A的純水送出之加工液循環裝置1再次送出至加工裝置A之情形進行說明。
首先，如圖3所示，關閉清洗單元7的氧投入手段70的空氣源開閉閥702，停止對紫外線照射單元5的第一空間521投入氧。例如，在框體54的底板541中，形成有透過開閉閥731而與臭氧回收導管73連通的臭氧排氣孔730，該開閉閥731打開而從臭氧排氣孔730排出殘存在第一空間521內的臭氧。此外，亦可不將臭氧從臭氧排氣孔730排出至臭氧回收導管73，而在氧的投入停止後，等待臭氧進行自我分解。
接著，因該開閉閥731關閉，惰性氣體（例如，氮氣）會從惰性氣體投入手段16的惰性氣體源160通過呈打開狀態的氣體源開閉閥162、氣體投入管161、主配管550及氣體入口55，而被投入至紫外線照射單元5的第一空間521，惰性氣體會充滿第一空間521。此外，藉由關閉第一配管開閉閥711，惰性氣體不會流至清水槽40側。
從紫外線燈50同時照射波長約185nm的紫外線與波長約254nm的紫外線，兩波長的紫外線不會被惰性氣體衰減地穿透石英玻璃管52，並到達第二空間542內的清水。然後，該清水中的雜菌被殺菌，又，清水中的有機物被分解（離子化）。 此外，在從圖1、3所示之清水槽40送至紫外線照射單元5的第二空間542之清水中，因未導入新的臭氧，故殘存在清水中的臭氧會自我分解而消失。
再者，第二空間542內的清水會被從水出口58排出，通過導入管開閉閥583a為打開狀態的離子交換導入管583內，流入離子交換樹脂單元6。此外，第二配管開閉閥72a關閉，清水不會流往廢液槽20。
清水係藉由離子交換樹脂單元6而被離子交換並成為純水，進一步通過精密過濾器17而被捕捉離子交換樹脂的樹脂屑等細微物質後，利用純水溫度調整手段18調整成預定溫度，被供給至圖1所示之加工裝置A內的未圖示的加工液供給手段。
本發明之加工液循環裝置1具備：惰性氣體投入手段16，其將惰性氣體投入紫外線照射單元5的第一空間521，在將清水從紫外線照射單元5送至離子交換樹脂單元6之際，亦即，例如將純水從長期間未將用於供給至加工裝置A的純水送出的加工液循環裝置1再次送出至加工裝置A之際，藉由使惰性氣體充滿第一空間521，第一空間521中會無氧，因此紫外線燈50所發出的紫外線的照射能量不會在第一空間521內衰減，而能穿透石英玻璃管52並照射第二空間542內的清水。然後，利用未衰減的紫外線進行第二空間542內的清水之雜菌的殺菌，又，分解有機物而使有機物離子化，藉此可利用第一離子交換手段61、第二離子交換手段62吸附有機物離子，將所生成之高純度的純水送出至加工裝置A。又，如上述，在再次將純水從加工液循環裝置1送出至加工裝置A之情形中，可不將加工液循環裝置1內的清水進行排水而再使用。
此外，本發明之加工液循環裝置1不受限於上述實施方式，又，關於附圖所圖示之各構成等亦不受限於此，在可發揮本發明功效的範圍內能適當變更。
A:加工裝置 1:加工液循環裝置 20:廢液槽 22:廢液泵 23:加工廢液流入管 24:過濾器單元導入管 241:第一過濾器單元導入管 241a:第一電磁閥 242:第二過濾器單元導入管 242a:第二電磁閥 249:壓力計 3:過濾器單元 31:第一過濾器 311:筒體 312:投入口 32:第二過濾器 321:筒體 322:投入口 34:托盤 340:配管 35:過濾器盒 40:清水槽 42:清水泵 5:紫外線照射單元 50:紫外線燈 500:連接端子 59:電源 52:石英玻璃管 521:第一空間 54:框體 542:第二空間 541:底板 543:天板 544:側壁 55:氣體入口 550:主配管 56:氣體出口 57:水入口 58:水出口 6:離子交換樹脂單元 61:第一離子交換手段 62:第二離子交換手段 7:清洗單元 70:氧投入手段 700:空氣源 701:空氣投入管 702:空氣源開閉閥 71:第一配管 72:第二配管 72a:第二配管開閉閥 73:臭氧回收導管 730:排氣孔 731:開閉閥 79:氣體投入手段 794:吸引風扇 16:惰性氣體投入手段 160:惰性氣體源 161:氣體投入管 162:氣體源開閉閥 14:支撐台 140:隔板 17:精密過濾器 175:電阻儀 18:純水溫度調整手段
圖1係示意地表示加工液循環裝置的構造的一例之立體圖。 圖2係表示紫外線照射單元的構造、以及在使臭氧水循環的狀態下的紫外線照射單元、清洗單元、惰性氣體投入手段、清水槽、清水泵及廢液槽的連通關係的一例之說明圖。 圖3係說明將清水從紫外線照射單元送至離子交換樹脂單元的情形之說明圖。
A:加工裝置
1:加工液循環裝置
14:支撐台
140:隔板
16:惰性氣體投入手段
160:惰性氣體源
161:氣體投入管
162:氣體源開閉閥
17:精密過濾器
171:配管
173:壓力計
175:電阻儀
18:純水溫度調整手段
180:配管
20:廢液槽
22:廢液泵
23:加工廢液流入管
24:過濾器單元導入管
241:第一過濾器單元導入管
241a:第一電磁閥
242:第二過濾器單元導入管
242a:第二電磁閥
249:壓力計
3:過濾器單元
31:第一過濾器
311:筒體
312:投入口
32:第二過濾器
321:筒體
322:投入口
34:托盤
340:配管
35:過濾器盒
40:清水槽
42:清水泵
422:紫外線照射單元導入管
5:紫外線照射單元
550:主配管
581:第一電磁開閉閥
582:第二電磁開閉閥
583:離子交換導入管
583a:導入管開閉閥
6:離子交換樹脂單元
61:第一離子交換手段
62:第二離子交換手段
70:氧投入手段
700:空氣源
701:空氣投入管
702:空氣源開閉閥
71:第一配管
711:第一配管開閉閥
72:第二配管
72a:第二配管開閉閥
73:臭氧回收導管
731:開閉閥
79:氣體投入手段
790:廢液槽內氣體吸引管
791:氣體吸引管
792:清水槽內氣體吸引管
794:吸引風扇

Claims (2)

  1. 一種加工液循環裝置，其包含：廢液槽，其積存從加工裝置所排出之包含加工屑的加工廢液，所述加工裝置加工被加工物；廢液泵，其從該廢液槽抽取加工廢液；過濾器單元，其去除由該廢液泵所抽取之加工廢液的加工屑而精製清水；清水槽，其積存該清水；清水泵，其從該清水槽抽取清水；紫外線照射單元，其對該清水照射紫外線；離子交換樹脂單元，其使經照射紫外線的該清水通過離子交換樹脂而精製純水；以及清洗單元，其清洗從該廢液槽至該清水泵為止的通水路徑，該紫外線照射單元具有：紫外線燈；石英玻璃管，其圍繞該紫外線燈的外側而形成第一空間；框體，其圍繞該石英玻璃管的外側而形成第二空間；氣體入口，其將氣體導入該第一空間；氣體出口，其將氣體從該第一空間排出；水入口，其將清水導入該第二空間；以及水出口，其使清水從該第二空間排出，該清洗單元具有：氧投入手段，其將包含氧的氣體置入該第一空間；第一配管，其連通該氣體出口與該清水槽；以及第二配管，其連通該水出口與該廢液槽，該過濾器單元具有：過濾器，其構成為在中央具有投入加工廢液的投入口之筒狀，且使清水從側面排出；托盤，其載置該過濾器；以及過濾器盒，其收納該過濾器與該托盤，該清洗單元更具有：氣體投入手段，其吸引該過濾器盒內的氣體並投入該第一空間，且吸引該廢液槽內的氣體並投入該第一空間，且吸引該清水槽內的氣體並投入該第一空間，將使紫外線照射已置入該第一空間之包含氧的氣體而生成之包含臭氧的氣體與該清水槽的清水混合，並將所生成之臭氧水導入該廢液槽，藉此使其依序在該廢液泵、該過濾器單元、該清水槽、該清水泵、該紫外線照射單元、該第二配管、該廢液槽中循環而進行清洗。
  2. 如請求項1之加工液循環裝置，其更包含：惰性氣體投入手段，其將惰性氣體投入該第一空間，在將清水從該紫外線照射單元送至該離子交換樹脂單元之際，使惰性氣體充滿該第一空間。
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