TWI445995B - Anti-glare film, anti-glare polarizing plate and portrait display device - Google Patents

Description

防眩薄膜、防眩性偏光板及畫像顯示裝置

本發明，係為相關於在展現優良之防眩性能的同時霧度亦為低的防眩(Anti－Glare)薄膜，以及具備有該防眩薄膜之畫像顯示裝置者。

本發明，係為相關於在展現優良之防眩性能的同時，亦不會泛白，而在適用於畫像顯示裝置時，不會產生刺眼的情況，而實現高對比度，並給予良好的視認性之防眩(Anti－Glare)薄膜，與具備有該防眩薄膜之防眩性偏光板以及畫像顯示裝置者。

液晶顯示器或是電漿顯示器面板、布朗管(陰極線管：CRT)顯示器、有機電激發光(EL)顯示器等之畫像顯示裝置，若是於其顯示面被映入有外光，則其視認性係顯著地受損。為了防止此種外光之映入，在重視畫質之電視或是個人電腦、在外光強烈之屋外所使用的視訊攝像機或是數位相機、利用反射光而進行顯示之行動電話等之中，係於先前起，便在畫像顯示裝置之表面處，設置有防止外光之映入的薄膜層。此薄膜層，係可大致區分為利用有光學多層膜之干涉的由被施加有無反射處理之薄膜所成者、和藉由於表面形成細微之凹凸而使射入光擴散並使映入之像模糊的被施加有防眩處理之薄膜所成者。其中，前者之無反射薄膜，由於係有必要形成均勻之光學膜厚的多層膜 ，因此，成本係變高。相對於此，後者之防眩薄膜，由於係可較為低價的製造，因此，係被廣泛使用在大型的個人電腦或是螢幕等的用途中。

此種防眩薄膜，於先前技術中，例如係以將分散有填充物之樹脂溶液塗布在基材薄片上，並藉由對塗布膜厚作調整而使填充物從塗布膜表面露出，來在薄片上形成隨機凹凸的方法等而製造。然而，此種藉由將填充物分散所製造的防眩薄膜，由於會隨著樹脂溶液中之填充物的分散狀態或塗布狀態等而對凹凸之配置或是形狀造成影響，因此，係難以得到所預想之狀態的凹凸，在霧度低者中，係無法得到充分的防眩效果。進而，當將此種先前技術之防眩薄膜配置於畫像顯示裝置之表面時，經由擴散光，會有使得顯示面全體偏白，而使顯示成為混濁的顏色，亦即是產生所謂泛白的情況。

又，伴隨著最近的畫像顯示裝置之高精細化，畫像顯示裝置之像素與防眩薄膜的表面凹凸形狀係會互相干涉，其結果，會產生亮度分佈，而變得難以視認，也就是會容易產生所謂的刺眼現象。為了解除刺眼現象，雖係嘗試有在黏結樹脂與分散填充物之間設置折射率差而使光擴散，但是，當將此種防眩薄膜適用於畫像顯示裝置中時，由於擴散光，在黑顯示時之亮度係提昇，其結果，對比係降低，而視認性係顯著的降低。

另一方面，亦嘗試有並不使其含有填充物，而僅藉由在透明樹脂層之表面處所形成的細微之凹凸來實現防眩性 。例如，在日本特開2002－189106號公報(專利文獻1)中，係揭示有：在押花鑄模與透明樹脂薄膜之間，挾持電離放射線硬化性樹脂，並在此狀態下，使該當電離放射線硬化性樹脂硬化，藉由此，而形成3維10點平均粗度以及在3維粗度基準面上之相鄰接的凸部彼此間的平均距離均分別滿足特定值的細微之凹凸，再將被形成有該凹凸之電離放射線硬化性樹脂層設置在前述透明樹脂薄膜上，而得到防眩薄膜。在此文獻中，係記載有：較理想，係使用在鐵的表面上進行有鉻電鍍之滾筒，並藉由噴砂法或是噴珠法來形成壓花用之凹凸型面。進而，亦記載有：在如此這般之被形成有凹凸的型面上，為了提昇使用時之耐久性，係以先施加鉻電鍍等後再作使用為理想，藉由此，能夠達成硬膜化以及腐蝕之防止。

在此種壓花滾筒的製作法中，由於係在硬度高之鉻電鍍上進行噴砂或是噴珠，因此，凹凸係難以形成，且係難以對所形成之凹凸的形狀作精密的控制。又，如同在日本特開2004－29672號公報(專利文獻2)中亦有所記載一般，鉻電鍍，多會依存於成為基底之材質以及其形狀，而使得表面成為粗糙，而在藉由噴砂所形成之凹凸上，產生由於鉻電鍍所造成的細小之碎裂，因此，在設計上，係難以得知會作成何種的凹凸。進而，由於存在有因為鉻電鍍所造成之細小的碎裂，因此，最終所得到之防眩薄膜，其擴散特性亦會有朝向並不理想的方向而變化的情形。

作為揭示有被使用於在表面具備有凹凸之薄膜的製作 中之滾筒的製作方法之其他文獻，例如，係有日本特開2004－29240號公報(專利文獻3)或是日本特開2004－90187號公報(專利文獻4)。在前者之文獻中，係揭示有經由噴珠法來製作壓花滾筒的方法，而在後者的文獻中，則係揭示有：經過在押花滾筒之表面上形成金屬電鍍層之工程、對金屬電鍍層之表面施加鏡面研磨之工程、在進行了鏡面研磨後之金屬電鍍表面處，使用陶瓷珠來施加噴砂處理之工程、並更進而因應於需要而進行珠擊(peening)處理之工程，而製作壓花滾筒之方法。

在此種於壓花滾筒之表面施加了噴砂處理的狀態下，起因於噴砂粒子之粒徑分布，會產生凹凸徑之分布，同時，對於藉由噴砂所得到之凹坑的深度作控制一事係為困難，而有著難以以良好再現性來得到防眩功能優良之凹凸形狀的課題。

又，在本申請人之申請案的日本特開2006－53371號公報(專利文獻5)中，係揭示有：在被研磨後之金屬的表面處投射微粒子而形成凹凸，並對其施加無電場鎳電鍍而作成模具，再藉由將該模具之凹凸面轉印至透明樹脂薄膜上，來製造出低霧度且防眩性能為優良之防眩薄膜。

進而，作為對防眩薄膜之透過擴散光強度作規定的文獻，係存在有日本特開2003－248101號公報(專利文獻6)或是日本特開2004－126495號公報(專利文獻7)。在前者之文獻中，係揭示有：一種防眩性反射防止薄膜，係為於透明支持體上具備有防眩性硬塗覆層之薄膜，當從透 明支持體側射入光時，相對於所透過之光中的直進光量(I₀ )而擴散於傾斜了5∘的方向處之光量(I₅ )的比例(I₅ /I₀ )，係為3.5%以上，且相對於所透過之光中的直進光量(I₀ )而擴散於傾斜了20∘的方向處之光量(I₂₀ )的比例(I₂₀ /I₀ )，係為0.1%以下。在後者之文獻中，係揭示有：出現擴散光強度之極大值的擴散角係為0.1~10∘,而全光線透過率係為70~100%的防眩性薄膜。就算是藉由在此些之文獻中所揭示之防眩薄膜，特別在適用於高精細之畫像顯示裝置中的情況時，係亦難以維持高對比度。

本發明，係以提供一種：在展現優良之防眩性能的同時，亦防止因泛白所致之視認性的降低，而在配置於高精細之畫像顯示裝置的表面時，不會產生刺眼的情況，而實現高對比度之防眩薄膜，並進而提供一種適用有該防眩薄膜之防眩性偏光板以及畫像顯示裝置為課題。

本發明者們，係為了解決上述課題，而努力進行研究，其結果，發現了：若是於在透明支持體上被形成有具備細微之凹凸表面的防眩層之防眩薄膜中，當光從透明支持體側而以入射角20∘射入時，使在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(20)成為特定之值，並當光從透明支持體側而以入射角30∘射入時，使在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(30)成為特定之值，則除了能夠充分地防止刺眼之外，當適用於畫像顯示裝置中時，對比亦成為幾乎不會降低。進而，亦發現了：在此防眩薄膜中，當光從防眩層側而以入射角30射入時，若是使反射角30∘ 之反射率R(30)、反射角40∘之反射率R(40)以及反射角50∘之反射率R(50)分別成為特定之值，則在展示優良之防眩性並有效的防止泛白的效果上，係更為有效。本發明，係根據此些之知識，並進而追加各種之檢討而完成者。

亦即是，本發明所致之防眩薄膜，係為在透明支持體上，被形成有具備細微之凹凸表面的防眩層，其特徵為：當光從透明支持體側而以入射角20∘射入時，在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(20)，係為0.0001%以上0.0005%以下，當光從透明支持體側而以入射角30∘射入時，在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(30)，係為0.00004%以上0.00025%以下。

在此防眩薄膜中，係以下述一般為理想：當光從防眩層側而以入射角30∘射入時，反射角30∘之反射率R(30)係為0.05%以上2%以下，反射角40∘之反射率R(40)係為0.0001%以上0.005%以下，反射角50∘之反射率R(50)係為0.00001%以上0.0005%以下。

又，係以下述一般為理想：當對此防眩薄膜中垂直射入光時，其表面霧度，係為0.1%以上5%以下，而全霧度係為5%以上25%以下。

此防眩薄膜，係可設為：當使用暗部與明部之寬幅為0.5mm、1.0mm以及2.0mm之3種類的光梳而於光之入射 角45∘所測定的反射鮮明度之和，係為＿40%以下。

進而，此防眩薄膜，係以下述一般為理想：在構成防眩層之凹凸表面的剖面曲線處，其算術平均高度Pa係為0.05μm以上0.2μm以下，其最大剖面高度Pt係為0.2μm以上lμm以下，其平均長度PSm係為15μm以上30μm以下。

又，以如同下述一般為理想：構成防眩層之凹凸表面，係在200μm×200μm之區域內，具備有50個以上100個以下之凸部，又，當將凸部頂點作為母點，並對該表面作莫洛諾依分割(Voronoi tessellation)時，所形成之多角形的平均面積，係為100μm² 以上1000μm² 以下。

在此防眩薄膜中之防眩層，係以經由具備有凹凸面之模具來作轉印以形成表面凹凸為理想。而，此防眩層，係以下述一般為理想：相對於黏結樹脂100重量部，係包含有平均粒徑5μm以上15μm以下，且其與黏結樹脂間之折射率差係為0.01以上0.06以下的微粒子10~100重量部，進而，此微粒子係被完全埋沒於防眩層中而微粒子對表面之凹凸形狀係並不會造成影響。

在此防眩薄膜中，係可於防眩層之凹凸表面處，形成低反射膜。

本發明之防眩薄膜，係可與由聚乙烯醇系樹脂所成的偏光元件作組合而設為防眩性偏光板。此防眩性偏光板，具體而言，係成為將前述防眩薄膜之透明支持體側貼合於偏光元件的構造。

又，本發明之防眩薄膜又或是防眩性偏光板，係可與液晶顯示元件或是電漿顯示面板等之畫像顯示元件作組合，而設為畫像顯示裝置。於此，本發明所致之畫像顯示裝置，係具備有前述之防眩薄膜又或是防眩性偏光板、與畫像顯示手段，該防眩薄膜又或是防眩性偏光板，係為被配置於畫像顯示元件之視認側者。

接下來，針對本發明之適合的實施形態作詳細說明。本發明之防眩薄膜，係為在透明支持體上，被形成有具備細微之凹凸表面的防眩層者，其特徵為：當光從透明支持體側而以入射角20∘射入時，在防眩層側法線方向處所觀測之相對擴散光強度T(20)，係為0.0001%以上0.0005%以下之值，當光從透明支持體側而以入射角30∘射入時，在防眩層側法線方向處所觀測之相對擴散光強度T(30)，係為0.00004%以上0.00025%以下之值。

又，為了在展現優良之防眩性能的同時，亦有效果地抑制泛白，係以下述一般為理想：當光從防眩層側而以入射角30∘射入時，反射角30∘之反射率R(30)係為0.05%以上2%以下，反射角40∘之反射率R(40)係為0.0001%以上0.005%以下，反射角50∘之反射率R(50)係為0.00001%以上0.0005%以下。

〔相對擴散光強度〕 首先，針對當從透明支持體側而以入射角20∘來射入光的情況時、以及以入射角30∘來射入光的情況時，在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(20)以及T(30)作說明。

圖1，係為在對從透明支持體側(與凹凸面為相反側)而射入光，並對在防眩層側法線方向處之擴散光強度作測定時，將光的射入方向與透過擴散光強度測定方向作模式性展示的立體圖。參考此圖，對於在防眩薄膜11之透明支持體側處從法線12而離開有某角度(稱為入射角)所射入之光13，測定於防眩層側之法線方向12處所透過之擴散光14的強度，並將該透過擴散光強度除以光源之光強度，而將該值設為相對擴散光強度T()。亦即是，當在防眩薄膜11之透明支持體側，以離開法線20∘之角度而射入入射光13時，將在防眩層側法線方向12處所觀測到之射出光14的強度除以光源之光強度後的值，係為T(20)，而當在防眩薄膜11之透明支持體側，以離開法線30∘之角度而射入入射光13時，將在防眩層側法線方向12處所觀測到之射出光14的強度除以光源之光強度後的值，係為T(30)。

當在20∘射入時之相對擴散光強度T(20)超過了0.0005%的情況時，在將此防眩薄膜適用於畫像顯示裝置時，由於擴散光，會使得黑顯示時之亮度上升，而使對比降低，故並不理想。又，當在20∘射入時之相對擴散光強度T(20)為低於0.0001%的情況時，其擴散效果係為低 ，當適用於高精細之畫像顯示裝置時，會產生刺眼，故亦為不理想。同樣的，當在30∘射入時之相對擴散光強度T(30)超過了0.00025%的情況時，在將此防眩薄膜適用於畫像顯示裝置時，亦會由於擴散光而使得黑顯示時之亮度上升，而使對比降低，故並不理想。又，當在30∘射入時之相對擴散光強度T(30)為低於0.00004%的情況時，其擴散效果係亦為低，當適用於高精細之畫像顯示裝置時，會產生刺眼，故亦為不理想。特別是，當將防眩薄膜適用於非為自發光型之液晶顯示器中時，由於起因於黑顯示時之漏光而產生的擴散所致的亮度上升效果係為大，因此，若是相對擴散光強度T(20)以及T(30)超過了本發明之規定值，則對比係顯著地降低，而成為有損視認性之結果。

作為至今為止之針對透過擴散光強度而有所言及的文獻，例如，係有前述之專利文獻6(日本特開2003－248101號公報)或是專利文獻7(日本特開2004－126495號公報)等，但是，在兩者之文獻中，均係與在本發明中所規定之擴散特性相異，當適用於畫像顯示裝置時，並不能說是能夠充分達成高對比且抑制刺眼者。

圖2，係為將在圖1中之從防眩薄膜11的透明支持體側所射入之入射角作改變所測定之相對擴散光強度(對數刻度)，相對於入射角而作描畫的圖表之其中一例。亦有將此種表示入射角與相對擴散光強度間之關係的圖表，又或是可從其中所讀取之每一入射角處的相對擴散 光強度，稱為透過散亂分佈的情形。如同此圖表所示一般，相對擴散光強度，係在入射角0∘處展示有峰值，而若是射入光13之從法線方向起的角度越為偏移，則擴散光強度越降低的傾向。另外，入射角之正(＋)與負(－)，係為以法線方向(0∘)為中心，並經由在包含有射入光之方向13與法線12的面19內之射入光的傾斜所訂定者。故而，透過擴散分佈，通常係以入射角0∘為中心，並呈現左右對稱。在圖2所示之透過擴散分佈的例中，在0∘入射時之相對擴散光強度T(0)，係為約30%而展示有峰值，而當20∘入射時之相對擴散光強度T(20)，係為約0.0002%，當30∘入射時之相對擴散光強度T(30)則係成為約0.00004%。

在測定防眩薄膜之相對擴散光強度時，係有必要將0.001%以下之相對擴散光強度以良好精確度來作測定。於此，係以使用動態範圍為廣之檢測器為有效。作為此種檢測器，例如，係可使用市販之光功率計等，而可以在此光功率計之檢測器前設置光孔(Aperture)，並使用使望入防眩薄膜之角度成為20∘的可變角度光度計來進行測定。

於射入光，係可使用380~780mm之可視光，作為測定光源，係可使用將從鹵素燈等之光源所發出之光作了準直(collimate)後者，亦可使用雷射等之單色光源而平行度為高者。又，為了防止薄膜之彎曲，係以使用光學性為透明之黏著劑，並以使凹凸面成為表面的方式來將其貼合於玻璃基板上，再進行測定為理想。

〔30∘射入時之反射率〕 接下來，針對從防眩層側而以入射角30∘來將光射入時之於每一角度處的反射率作說明。圖3，係為將求取反射率之對於防眩薄膜的從防眩層側而來之光的射入方向與反射方向作模式性展示的立體圖。參考此圖，相對於由防眩薄膜11之防眩層側而從離法線1230∘之角度所射入的射入光15，將反射角30∘之方向、亦即是對正反射方向16之反射光的反射率(亦即是正反射率)，設為R(30)。又，將在任意之反射角θ處的反射光以符號17來作表示，在測定反射率時之反射光的方向16、17，係設為位在包含有射入光之方向15與法線12的面19內。而，將朝向反射角40∘的方向之反射率設為R(40)，將朝向反射角50∘的方向之反射率設為R(50)。

在本發明之防眩薄膜中，相對於入射角30∘之射入光，反射角30∘之方向的反射率、亦即是正反射率R(30)，係以設為0.05%以上2%以下為理想。又，反射角40∘的方向之反射率R(40)，係以0.0001%以上0.005%以下為理想；反射角50∘的方向之反射率設為R(50)，係以0.00001%以上0.0005%以下為理想。

若是正反射率R(30)超過了2%，則無法得到充分之防眩功能，而視認性會降低。另一方面，若是正反射率R(30)過小，則會出現有產生泛白的傾向，故而，係以0.05%以上為理想。正反射率R(30)，係以設為1.5%以 下、特別是設為0.7%以下為更理想。又，若是R(40)超過0.005%、R(50)超過0.0005%，則在防眩薄膜處會產生泛白，而成為使視認性降低。亦即是，例如，就算是在將防眩薄膜設置於顯示裝置之最前面的狀態下，使顯示面作黑顯示，從周圍而來之光亦會被拾取，而有使顯示面之全體變白之泛白狀態產生的傾向。故而，R(40)以及R(50)係以不要變得過大為理想。另一方面，在此些之角度處的反射率若是過小，則無法展現充分之防眩性，因此，R(40)一般而言係以0.0001%以上為理想，而R(50)一般而言係以0.00001%以上為理想。R(50)更理想係為0.0001%以下。

圖4，係為將相對於在圖3中之從防眩薄膜11之防眩層側而以離法線30∘之角度所射入的射入光15之反射光17的反射角與反射率(反射率係為對數刻度)作描畫之圖表的其中一例。亦有將此種表示反射角與反射率間之關係的圖表，又或是可從其中所讀取之每一反射角處的反射率，稱為反射分佈的情形。如同此圖表所示一般，正反射率R(30)，係為相對於以30∘所射入之射入光15的反射率之峰值，並有著若是從正反射方向起而角度越為偏移，則反射率越降低的傾向。在圖4所示之反射分佈的例中，正反射率R(30)係為約0.2%，R(40)係為約0.0004%，R(50)係為約0.00005%。

若依據本發明者們所作之調查，則現在於市場上所出現之防眩薄膜的大部分，均係為分散有填充物的類型，在 該種防眩薄膜中，於20∘射入時，相對擴散光強度T(20)係為0.0001%以上0.0005%以下，當30∘射入時，相對擴散光強度T(30)，係為0.00004%以上0.00025%以下者，係並不存在。又，除了此種透過擴散特性之外，正反射率R(30)係為0.05%以上2%以下，反射角40∘之反射率R(40)係為0.0001%以上0.005%以下，反射角50∘之反射率R(50)係為0.00001%以上0.0005%以下者，亦並不存在。其結果，不會產生刺眼、且展現有高對比，並在展現充分之防眩性能的同時亦不會產生泛白的防眩薄膜，係並不存在。相對於此，可以得知，藉由本發明所規定之防眩薄膜，係在展現有充分之防眩性能的同時，亦對泛白有所抑制，而為具有優良性能者。

在測定防眩薄膜之反射率時，係與相對擴散光強度同樣的，有必要將0.001%以下之反射率以良好精確度來作測定。於此，係以使用動態範圍為廣之檢測器為有效。作為此種檢測器，例如，係可使用市販之光功率計等，而可以在此光功率計之檢測器前設置光孔(Aperture)，並使用使望入防眩薄膜之角度成為20∘的可變角度光度計來進行測定。於射入光，係可使用380~780mm之可視光，作為測定用光源，係可使用將從鹵素燈等之光源所發出之光作了準直(collimate)後者，亦可使用雷射等之單色光源而平行度為高者。在背面係為平滑且為透明之防眩薄膜的情況時，由於從防眩薄膜之背面而來的反射，係會對測定值造成影響，因此，例如，係以藉由在黑色之丙烯樹脂板 上，以黏著劑又或是水或者是甘油等的液體來使其光學性密著，而成為能夠僅對防眩薄膜之最表面的反射率作測定為理想。

〔霧度〕 又，本發明之防眩薄膜，為了防止泛白並對適用於高精細之畫像顯示裝置時的刺眼有效果地作抑制，係以下述一般為理想：對於垂直射入光之表面霧度，係為0.1%以上5%以下，全霧度係為5%以上25%以下。防眩薄膜之全霧度，係可準據於在JIS K 7136中所示之方法而作測定。表面霧度與內部霧度之區分，係只要在測定了全體之霧度後，於該凹凸表面處將霧度近似於0之透明薄膜藉由甘油來作貼附，以測定內部霧度，再藉由下式來求取出表面霧度即可。

表面霧度＝全體霧度－內部霧度

在防眩薄膜之凹凸表面處貼附霧度近似於0之透明薄膜，並在此狀態下所測定之霧度值，由於起因於原本之凹凸的表面霧度係幾乎全部被抵銷，因此，事實上係可將其視為代表內部霧度。作為霧度近似於0之透明薄膜，只要是霧度為小者，則並不作特別限制，例如，係可使用三醋酸纖維薄膜等。

當表面霧度超過5%的情況時，發生泛白的傾向係為 強，當低於0.1%的情況時，則並無法展現充分之防眩性，故並不理想。又，若是全霧度係為5%以上，則由於係能夠有效地解除刺眼現象，故為理想。然而，若是全霧度超過25%，則當適用於畫像顯示裝置時，其結果會造成畫面變暗，並損及視認性，故並不理想。

〔反射鮮明度〕 又，本發明之防眩薄膜，係以設為下述一般為理想：使用暗部與明部之寬幅為0.5mm、1.0mm以及2.0mm之3種類的光梳而於光之入射角45∘所測定的反射鮮明度之和，係為＿40%以下。反射鮮明度，係藉由在JIS K 7105中所規定之方法而測定。在此規格中，作為於像鮮明度之測定中所使用的光梳，係被規定有：暗部與明部之寬幅比為1：1，而其寬幅為0.125mm、0.5mm、1.0mm以及2.0mm的4種。其中，當使用有寬幅為0.125mm之光梳的情況時，在藉由本發明所規定的防眩薄膜中，由於其測定值之誤差係會變大，因此，假設為並不將使用有寬幅0.125mm之光梳的情況時之測定值加到和之中，而將使用寬幅為0.5mm、1.0mm以及2.0mm之3種類的光梳所測定的像鮮明度之和，稱為反射鮮明度。此定義所致之反射鮮明度的最大值，係為300%。此定義所致之反射鮮明度，若是超過40%，則光源等之像係成為鮮明地被映入，而使防眩性變差，故並不理想。

但是，若是反射鮮明度成為40%以下，則僅由反射鮮 明度來對防眩性之優劣作比較一事係成為困難。此係因為，當上述定義所致之反射鮮明度為40%以下的情況時，使用有寬幅為0.5mm、1.0mm以及2.0mm之3種類的光梳而測定的各別之反射鮮明度，係僅僅成為10%左右，而會使測定誤差等所致之反射鮮明度的震盪成為無法忽略之故。

於此，在本發明中，針對反射鮮明度為40%以下之防眩薄膜，係藉由對相對擴散光強度作規定，更理想，係亦更加藉由將其與30∘入射時之反射率作組合，來作為可適當地對防眩薄膜之防眩性能作評價的指標。

〔表面形狀〕 接下來，針對防眩薄膜之防眩層凹凸面處的表面形狀作說明。本發明之防眩薄膜，係為了更有效地抑制刺眼現象，並使藉由目視來對外觀作觀察時之質感成為均一，而作為凹凸表面形狀因子，以滿足有下述之一又或是複數的條件為理想。

(1)在構成防眩層之凹凸表面的剖面曲線處，其算術平均高度Pa係為0.05μm以上0.2μm以下，其最大剖面高度Pt係為0.2μm以上1μm以下，其平均長度PSm係為15μm以上30μm以下。

(2)構成防眩層之凹凸表面，在200μm×200μm之區域內，係具備有50個以上100個以下之凸部。

(3)當將構成防眩層之凹凸表面的凸部頂點作為母點，並對該表面作莫洛諾依分割(Voronoi tessellation) 時，所形成之多角形的平均面積，係為100μm² 以上1000μm² 以下。

首先，針對構成防眩層之凹凸表面的剖面曲線處的算術平均高度Pa、最大剖面高度Pt以及平均長度Psm作說明。此些之值，係為在JIS B 0601(＝ISO 4287)中所規定者，算數平均高度Pa，係與被稱為中心線平均粗度之值為相同。

當凹凸表面之剖面曲線處的算數平均高度Pa為未滿0.05μm的情況時，防眩薄膜之表面係幾乎成為平坦，而無法展現充分之防眩性能，故並不理想。又，當算數平均高度Pa為較0.2μm更大的情況時，表面形狀係變粗，而產生泛白，又，當以目視來對外觀作觀察時的質感係變粗，因此，係亦並不理想。當凹凸表面之剖面曲線處的最大剖面高度Pt為未滿0.2μm的情況時，防眩薄膜之表面係幾乎成為平坦，而無法展現充分之防眩性能，故並不理想。

又，當最大剖面高度Pt為較1μm更大的情況時，表面形狀係變粗，而產生泛白或是質感降低等的問題，因此，係亦並不理想。當凹凸表面之剖面曲線處的平均長度PSm為未滿15μm的情況時，由於係無法得到充分之防眩性，故並不理想。此係因為，若是平均長度PSm過小，則由於凹凸之峰值(該處之表面傾斜角度係可考慮為幾乎0∘)係變的接近，因此，當以目視來作觀察時，係會結像之故。又，當平均長度PSm為較20μm更大的情況時，當以 目視來對外觀作觀察時的質感係變粗，因此，係亦並不理想。

凹凸表面之剖面曲線處的算術平均高度Pa、最大剖面高度Pt以及平均長度PSm，係準據於JIS B 0601，而可使用市販之一般的接觸式表面粗度計來作測定。又，亦可藉由共軛焦點顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope：AFM)等之裝置來對表面形狀作測定，並藉由從該表面形狀之3維資訊來作計算而求取之。另外，當從3維資訊來作計算的情況時，為了確保充分之基準長度，係以對200μm×200μm以上之區域作3點以上之測定，並以該平均值作為測定值為理想。

接下來，針對於凹凸表面所觀測到之凸部的數量作說明。若是在凹凸表面處之凸部的數量為少，則當將其與高精細之畫像顯示裝置作組合並使用的情況時，由於其與像素之干涉，會產生刺眼，而使畫像變得難以辨識，且質感係變差，故並不理想。又，若是凸部之數量變得過多，則其結果，會造成表面凹凸形狀之傾斜角度變為陡峻，而容易產生泛白。於此，在凹凸表面處，係以在200μm×200μm之區域內，具備有50個以上100個以下之凸部為理想。

在求取出防眩薄膜之凹凸面處的凸部之數量時，係可藉由共軛焦點顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡等之裝置來對表面形狀作測定，並求取出防眩薄膜表面之各點的3維座標值，並藉由以下所示之機制來判定凸部，而對其個數作計數。亦即是，當注目於防眩薄膜表面之任意的點 時，當在該點之周圍，係並不存在有標高為較所注目之點更高的點，且該點之在凹凸面處的標高，係為較凹凸面之最高點的標高與最低點的標高之中間為更高時，將該點設為凸部之頂點，並對如此這般所求取出之凸部的頂點之數量作計數，而作為凸部之數量。

更具體而言，係如圖5所示一般，在注目於防眩薄膜表面之任意的點21，並以該點21為中心而描繪出與防眩薄膜基準面23平行的半徑2μm~5μm之圓時，當被包含於該圓之投影面24內的防眩薄膜表面22上之點中，並不存在有標高為較所注目之點21更高的點，且該點之在凹凸面處的標高，係為較凹凸面之最高點的標高與最低點的標高之中間為更高的情況時，判定該點21係為凸部之頂點，並求取出凸部之數量。此時，上述圓24之半徑，為了不對樣本表面之細微的凹凸作計數，又，為了使其成為不包含有複數之凸部的程度之大小，係以3μm左右為理想。在測定時，為了減少誤差，係以對200μm×200μm區域作3點以上之測定，並以該平均值作為測定值為理想。

當使用共軛焦點顯微鏡的情況時，係以將對物透鏡之倍率設為50倍左右，而降低解析度來作測定為理想。此係因為，若是以高解析度來作測定，則樣本表面之細微的凹凸亦會被測定，並對凸部之計數造成阻礙之故。另外亦存在有以下之原因：若是將對物透鏡設為低倍率，則由於高度方向之解析度係亦會降低，因五，當凹凸較少之樣本的情況時，表面形狀之測定會變得困難。在此種情況中 ，係只要在藉由高倍率之對物透鏡來進行測定之後，對所得到之資料進行低通濾波，來將空間頻率為高的成分捨去，藉由此而使在凹凸表面所被觀察到之細小的差異成為難以辨識，之後再對凸部之個數作計數即可。

接下來，針對當將凹凸表面的凸部頂點作為母點，並對該表面作莫洛諾依分割(Voronoi tessellation)時，所形成之多角形的平均面積作說明。首先，若是針對莫洛諾依分割作說明，則當在平面上被配置有數個的點(稱為母點)時，當經由判斷該平面內之任意的點係與何一母點最為接近一事來將該平面作分割時，所得到的圖，係稱為莫洛諾依圖，而該分割，係稱為莫洛諾依分割。於圖6中，係展示將防眩薄膜之表面處的凸部之頂點作為母點，而將該表面作莫洛諾依分割後的例子，四角之點26、26係為母點，而包含有1個的母點之各個的多角形27、27，係為藉由莫洛諾依分割所形成之區域，並被稱為莫洛諾依區域或是莫洛諾依多角形，但是，於以下，係稱為莫洛諾依多角形。於此圖中，關於周圍之被以淺色塗滿的部分28、28，係於後再做說明。在莫洛諾依圖中，母點之數與莫洛諾依區域之數係為一致。

如此這般，當以凸部之頂點作為母點而作了莫洛諾依分割後所形成之莫洛諾依多角形的平均面積，係以100μm² 以上1000μm² 以下為理想。當此時之平均面積為低於100μm² 的情況時，防眩薄膜表面之傾斜角度係成為陡峻，其結果，泛白係變得容易產生，而並不理想。又， 當莫洛諾依多角形之平均面積為較1000μm² 更大的情況時，凹凸之表面形狀係變粗，而成為容易產生刺眼，且質感亦會惡化，因此，係並不理想。

在求取出藉由將防眩薄膜表面之凸部頂點作為母點所進行之莫洛諾依分割而得到的莫洛諾依多角形之平均面積時，係可藉由共軛焦點顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等之裝置來對表面形狀作測定，並求取出防眩薄膜表面之各點的3維座標值，再藉由以下所示之機制來進行莫洛諾依分割，而求取出莫洛諾依多角形之平均面積。亦即是，根據先前之參考圖5所說明了的機制，而首先求取出防眩薄膜表面上之凸部的頂點，接下來，將該凸部之頂點投影於防眩薄膜之基準面。而後，將藉由表面形狀之測定所得到的所有之3維座標，全部投影於該基準面上，並經由使該些之被投影的所有點隸屬於與其最為接近之母點，來進行莫洛諾依分割，再藉由求取出經由分割所得到之多角形的面積，而求取出莫洛諾依多角形之平均面積。於測定時，為了減少誤差，對於鄰接於測定視野之邊界的莫洛諾依多角形，作為先前之凸部的數量，雖係有被計數，但是，當求取平均面積時，係並不算入。又，為了減少測定誤差，係以對200μm×200μm以上之區域作3點以上之測定，並以該平均值作為測定值為理想。

如同在先前而作了一部份的說明一般，圖6，係為展示將防眩薄膜之凸部頂點作為母點而進行了莫洛諾依分割時之例的莫洛諾依圖。多數存在之母點26、26，係為防眩 薄膜之凸部頂點，藉由莫洛諾依分割，對於1個的母點26，係被分配有1個的莫洛諾依多角形27。於此圖中，鄰接於視野之邊界，而被以淡色塗滿之莫洛諾依多角形28、28，係如前述一般，在平均面積的算出中係並不被計入。另外，在此圖中，對於一部份之母點以及莫洛諾依多角形，係附加有拉出線與符號，但是，關於母點與莫洛諾依多角形係存在有多數一事，尤以上之說明以及此圖，應可容易地理解。

〔透明支持體與防眩層〕 本發明之防眩薄膜，係為被形成有在透明支持體上具備細微之凹凸表面的防眩層者。透明支持體，係為將具備有凹凸表面之防眩層作支持者，而可藉由實質上為光學性透明之透明樹脂薄膜來構成。作為透明支持體之例，係可列舉出：由三醋酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、將降莰烯(Norbornene)系化合物作為單體之非晶性環狀聚烯烴等的熱可塑性樹脂所成的溶劑鑄型薄膜(cast film)或是押出薄膜等。

防眩層，係作為被賦予有滿足如上述所說明一般之透過擴散特性的表面凹凸之層，而被形成於透明支持體上。此種防眩薄膜，雖然亦可藉由於先前技術中所多所使用之將分散有填充物之樹脂溶液塗布在透明支持體上，並藉由對塗布膜厚作調整而使填充物從塗布膜表面露出，來在透明支持體上形成隨機凹凸的方法而製造，但是，較理想， 係為經由從具備有凹凸面之模具所進行的轉印來形成防眩層之表面凹凸。而，此防眩層，係以下述一般為理想：相對於黏結樹脂100重量部，係包含有平均粒徑5μm以上15μm以下，且其與黏結樹脂間之折射率差係為0.01以上0.06以下的微粒子10~100重量部，進而，此微粒子係被完全埋沒於防眩層中，而微粒子對表面之凹凸形狀係並不會造成影響。如此這般，藉由對表面細微凹凸形狀與防眩薄膜之內部擴散作獨立的控制，能夠對主要決定反射特性之防眩薄膜的表面凹凸形狀和主要決定透過特性之防眩層的組成分開來作控制。其結果，成為能夠容易地達成上述之光學特性。針對此種防眩層之形成，於後詳細作說明。

本發明之防眩薄膜，就算是在其最表面(亦即是凹凸面側)處並不具備有低反射膜的情況下，亦能夠發揮充分的防眩功能，但是，亦可在於最表面處附加有低反射膜的狀態下來使用。低反射膜，係可藉由在防眩層之上設置折射率為較其更低之低折射率材料的層，而形成之。作為此種低折射率材料，具體而言，係可列舉有：在丙烯系樹脂或是環氧系樹脂等之內使其含有氟化鋰(LiF)、氟化鎂(MgF₂ )、氟化鋁(AlF₃ )、冰晶石(3NaF．AlF₃ 又或是Na₃ AlF₆ )等之無機材料微粒子所成的無機系低反射材料；和氟系又或是矽系之有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化型樹脂等的有機低反射材料。

〔用以製造防眩薄膜之模具的製造方法〕 接下來，針對適合於製造本發明之防眩薄膜的方法以及用以得到該防眩薄膜之於表面被形成有凹凸的模具之製造方法作說明。本發明之防眩薄膜，係可藉由使用被形成有特定形狀之凹凸的模具，而將該模具之凹凸面轉印至透明樹脂薄膜上，再將被轉印有凹凸面之透明樹脂薄膜從模具而剝除的方法，來方便的製造。更具體而言，係藉由以下之方法來製造：在金屬之表面處，施加銅電鍍又或是鎳電鍍，並對該電鍍表面作研磨，而後，使微粒子撞擊於該研磨面，而形成凹凸，並施加使該凹凸形狀鈍化之加工，而後，於該凹凸面施加鉻電鍍，而作成模具，並將該模具之凹凸面轉印於被塗布在透明支持體上之樹脂處，接下來，將被轉印有該凹凸之樹脂，與透明支持體而一同從模具上剝離。在此方法中，為了得到具備有凹凸之模具，係在金屬之表面處施加銅電鍍又或是鎳電鍍，並對該電鍍表面作研磨，而後，使微粒子撞擊於該研磨面，而形成凹凸，並施加使該凹凸形狀鈍化之加工，而後，於該凹凸面施加鉻電鍍，而作成模具。

首先，在使微粒子撞擊而形成凹凸並進而形成有鉻電鍍層之金屬基材的表面處，係被施加有銅電鍍又或是鎳電鍍。如此這般，藉由在構成模具之金屬的表面處施加銅電鍍又或是鎳電鍍，能夠使在後面工程中之鉻電鍍的密著性或是光澤性提昇。當在鐵等之表面處施加了鉻電鍍的情況、或者是在鉻電鍍之表面處藉由噴砂法或是噴珠法來形成凹凸並再度施加鉻電鍍的情況時，係如同前面之先前技術 中所述一般，其表面係容易變得粗糙，並產生細微的碎裂，而有造成對防眩薄膜之形狀而言並不理想的影響之情況。相對於此，係發現了：藉由在表面處施加銅電鍍又或是鎳電鍍，能夠消除此種問題。此係因為，銅電鍍或是鎳電鍍，其被覆性係高，且平滑化作用亦強，因此，係將金屬基材之微小的凹凸或是凹坑等填埋，而形成平坦且富有光澤的表面之故。經由此些之銅電鍍以及鎳電鍍的特性，被推測為起因於存在於金屬基材之微小的凹凸或是凹坑所造成的表面之粗糙係被消除，又，由於銅電鍍或鎳電鍍之被覆性係為高，因此，可以想見細小之碎裂的產生係被降低。

於此，所謂的銅又或是鎳，係可設為其各別之純金屬，亦可為以銅為主體之合金又或是以鎳為主體之合金。故而，在本說明書中所指之銅，其意義係包含有銅以及銅合金，又，鎳之意義係包含有鎳以及鎳合金。銅電鍍以及鎳電鍍，係可分別以電解電鍍或是無電解電鍍來進行，但是，通常係採用電解電鍍。

作為適合用以構成模具之金屬，從成本的觀點而言係可列舉有鋁或是鐵等。進而，從處理的方便性而言，係以輕量之鋁為更理想。於此所謂之鋁或是鐵，係可為各別之純金屬，亦可為以鋁又或是鐵為主體之合金。在此種金屬基材之表面處施加銅電鍍又或是鎳電鍍，並進而對該電鍍表面作研磨，而得到更為平滑且具有光澤之表面，而後，使微粒子撞擊於該表面，而形成細微之凹凸，並施加使 該凹凸形狀鈍化之加工，而後，進而於該處施加鉻電鍍而構成模具。

在施加銅電鍍又或是鎳電鍍時，若是電鍍層過薄，基底金屬所造成之影響係無法完全被排除，因此，其厚度係以10μm以上為理想。電鍍層厚度之上限，雖並不存在有臨限值，但是，由於其係亦與成本有所關連，因此，一般而言，只要有500μm左右即已足夠。

模具之形狀，係可為平坦之金屬板，亦可為圓柱狀又或是圓筒狀之金屬滾筒。若是使用金屬滾筒而製作模具，則係可將防眩薄膜以連續之滾筒狀來製造。

圖7，係以使用有平板之情況為例，而將直到得到模具為止的工程作模式展示之剖面圖。圖7之(A)，係展示被施加有銅電鍍又或是鎳電鍍、以及施加了鏡面研磨後之基材的剖面者，在金屬基材31之表面處，係被形成有電鍍層32，該表面係成為研磨面33。藉由在此種鏡面研磨後之電鍍層32的表面處撞擊微粒子，而形成凹凸。圖7之(B)，係為使微粒子撞擊後之基材31的剖面模式圖，藉由使微粒子撞擊，而被形成有部分球面狀之細微的凹面34。

圖7之(C)，係為在藉由微粒子而被形成了凹凸的面上，施加了使凹凸形狀鈍化之加工後的基材31之剖面模式圖，(C1)係為展示藉由蝕刻處理而使其鈍化後的狀態，(C2)係為展示藉由銅電鍍而使其鈍化後的狀態。另外，在(C1)中，係將相當於藉由蝕刻而使其鈍化之前的 (B)之狀態的部分球面狀凹面之狀態，以虛線來展示在(C1)之採用蝕刻處理的例子中，於(B)中所示之凹面34與銳角狀之突起，係藉由蝕刻而被削平，並被形成有使部分球面上之銳角狀的突起鈍化後之形狀36a。另一方面，在(C2)之採用銅電鍍的例子中，於(B)中所示之凹面34上，係被形成有銅電鍍層35，藉由此，而被形成有使部分球面上之銳角狀的突起鈍化後之形狀36b。

而後，經由施加鉻電鍍，來使表面之凹凸形狀更進而鈍化。圖7之(D)，係為施加了鉻電鍍後之剖面模式圖，(D1)係為在經由於(C1)中所示之蝕刻而使其鈍化後的凹凸面36a上施加鉻電鍍後者，而(D2)係為在(C2)中所示之銅電鍍層35上施加了鉻電鍍後者。

在採用從(C1)至(D1)之蝕刻處理的例中，係在(C1)所示之藉由蝕刻而被鈍化後的狀態下之面36a上，被形成有鉻電鍍層37，該表面38，係為相較於(C1)之凹凸面36a而藉由鉻電鍍來使其更加鈍化的狀態，換言之，係成為使凹凸形狀緩和後之狀態。又，在採用從(C2)至(D2)之銅電鍍的例中，係在基材31上之被形成於銅又或是鎳電鍍層32處的細微之凹面上，被形成有銅電鍍層35，並進而於其上被形成有鉻電鍍層37，該表面38，係為相較於(C2)之凹凸面36b而更加鈍化的狀態，換言之，係成為使凹凸形狀緩和後之狀態。如此這般，在使微粒子撞擊於銅又或是鎳電鍍層32之表面處而形成凹凸後，施加使該凹凸形狀鈍化之加工，並在該表面36(36a又或 是36b)，上，施加鉻電鍍，藉由此，而能夠得到實質上不具備有平坦部之模具。又，此種模具，在用以得到展現有理想之光學特性的防眩薄膜上，係為合適。

在基材上之由銅又或是鎳所成的電鍍層處，係在表面被研磨後的狀態下，使微粒子撞擊，但是，特別是以將其研磨至接近鏡面的狀態為理想。此係因為，成為基材之金屬板或是金屬滾筒，係為了成為所期望之精確度，而多被施加有切削或研削等之機械加工，而由於此加工，在基材表面會殘留有加工痕跡之故。

就算是在施加了銅電鍍又或是鎳電鍍的狀態下，亦會有該些之加工痕跡殘留的狀況，又，在電鍍後之狀態下，表面亦並不一定會完全成為平滑。在殘留有深的加工痕跡之狀態下，就算是使微粒子撞擊而使基材表面變形，亦會有相較於藉由微粒子所形成之凹凸而加工痕跡等的凹凸成為更深的情況，而有加工痕跡等之影響殘留的可能性。

在使用此種模具而製造防眩薄膜的情況時，會有對光學特性造成無法預期的影響之事態。

在對被施加有電渡之基材表面作研磨的方法中，係並沒有特別的限制，而可使用機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法之任一者。作為機械研磨法，係可例示有：超精研磨(super finish)法、流體研磨法、擦光輪研磨法等。研磨後之表面粗度，以中心線平均粗度來作表現，係以0.5μm以下為理想，又以0.1μm以下為更理想。若是Ra變得過大，則就算是撞擊微粒子而使金屬之表面變形，亦 會有殘留有變形前之表面粗度的影響之可能性，故並不理想。又，關於Ra之下限，係並不特別限制，因為從加工時間與加工性的觀點來看，自然會有其限度，因此並沒有特別作指定的必要性。

作為對基材之被施加有電鍍的表面來撞擊微粒子之方法，係適合使用噴射加工法。在噴射加工法中，係存在有噴砂法、噴珠法、液體噴砂法等。作為在此些之加工中所使用之粒子，相較於具有銳角一般之形狀，係以接近於球型之形狀為理想，又，係以在加工中不會產生破碎並出現銳角的較硬材質之粒子為理想。作為滿足此些條件的粒子，在陶瓷系之粒子中，係適合使用球形之鋯珠、或是氧化鋁之珠。又，在金屬系之粒子中，係以鋼或是不鏽鋼製之珠為理想。進而，亦可使用在樹脂黏合劑中担持有陶瓷或金屬粒子之粒子。

作為對基材之被施加有電鍍的表面作撞擊之粒子，係以使用平均粒徑10~150μm者為理想，又特別以使用球形之微粒子為更理想，藉由此，能夠製作展現有優良之防眩特性的防眩薄膜。若是微粒子之平均粒徑為較10μm更小，則係成為難以在被施加有電鍍之表面上形成充分的凹凸，而成為難以得到充分之防眩功能。另一方面，若是微粒子之平均粒徑成為較150μm更大，則表面凹凸係變粗，而容易產生刺眼並使質感降低。於此，在使用平均粒徑為15μm以下之微粒子來進行加工時，係以採用以不使粒子由於靜電等而產生凝集的方式，來適當地將其分散於分散 媒體中並進行加工的濕式噴砂法為理想。

又，關於使微粒子撞擊時之壓力、微粒子之使用量從噴射微粒子之噴嘴起至表面為止的距離等，亦會對加工後之凹凸形狀乃至防眩薄膜之表面形狀造成影響，但是，一般而言，係只要因應於所使用之微粒子的種類或粒徑、金屬之種類、噴射微粒子之噴嘴的形狀、所期望之凹凸形狀等，而在以下之範圍中適宜作選擇即可：0.05~0.4MPa左右之表壓(gage pressure)，對於所處理之金屬的表面積每1cm² ：4~12g左右之微粒子量，從噴射微粒子之噴嘴起直到金屬表面為止的距離：200~600mm左右。

經由在基材之被施加有電鍍的表面處使微粒子作撞擊而形成的凹凸形狀，係以下述一般為理想：在剖面曲線處其算術平均高度Pa係為0.1μm以上1μm以下，而在該剖面曲線處之算數平均高度Pa與平均長度PSm之比Pa/PSm係為0.02以上0.1以下。當算數平均高度Pa為較0.1μm更小、又或是比Pa/PSm為較0.02更小的情況時，當在鉻電鍍加工前而施加使凹凸形狀鈍化的工程時，凹凸表面係幾乎成為平坦面，而難以得到所期望之表面形狀的模具。又，當算數平均高度Pa為較1μm更大、又或是比Pa/PSm為較0.1更大的情況時，當在鉻電鍍加工前而施加使凹凸形狀鈍化的工程時，係需要以較強的條件來進行，而容易使表面形狀之控制成為困難。

在如此這般而於銅電鍍又或是鎳電鍍表面形成了凹凸之基材上，施加使凹凸形狀鈍化之加工。作為使凹凸形狀 鈍化之加工，係如同先前參考圖7之(c)以及(d)所說明一般，以蝕刻處理又或是銅電鍍為理想。經由進行蝕刻處理，經由微粒子之撞擊所製作的凹凸形狀之銳利部分係消失。藉由此，在將其作為模具而使用時之，所製作之防眩薄膜的光學特性，係會朝向較理想之方向而變化。又。銅電鍍由於其平滑化作用係為強，因此，相較於鉻電鍍，使凹凸形狀鈍化之效果係為強。藉由此，在將其作為模具而使用時之，所製作之防眩薄膜的光學特性，係會朝向較理想之方向而變化。

蝕刻處理，通常係使用三氯化鐵(FeCl₃ )水溶液、二氯化銅(CuCl₂ )水溶液、鹼性蝕刻液(Cu(NH₃ )₄ Cl₂ )等，並經由使表面腐蝕而進行，但是，亦可使用鹽酸或硫酸等之強酸，而亦可使用藉由施加與電解電鍍時相異之電位所致的逆電解蝕刻。在施加蝕刻處理後之凹凸的鈍化程度，係依基底金屬之種類、藉由噴砂等的手法所得之凹凸尺寸與深度等而相異，因此，無法一概而論，但是，在可對鈍化程度作控制之因子中的最大因子，係為蝕刻量。於此，所謂的蝕刻量，係指藉由蝕刻所削去之電鍍層的厚度。若是蝕刻量為小，則使藉由噴砂等之手法所得到的凹凸表面鈍化之效果係為不充分，而將該凹凸形狀轉印至透明薄膜所得之防眩薄膜的光學特性係並不佳。另一方面，若是蝕刻量過大，則凹凸形狀係幾乎消失，而成為幾乎平坦的模具，因此會成為無法展現防眩性。於此，蝕刻量係以1μm以上20μm以下為理想，又進而以2μm以上10μm 以下為更理想。

當作為鈍化加工而採用銅電鍍的情況時，凹凸的鈍化程度，係依基底金屬之種類、藉由噴砂等的手法所得之凹凸尺寸與深度、還有電鍍之種類等而相異，因此，無法一概而論，但是，在可對鈍化程度作控制之因子中的最大因子，係為電鍍厚度。若是電鍍層之厚度為薄，則使藉由噴砂等之手法所得到的凹凸表面鈍化之效果係為不充分，而將該凹凸形狀轉印至透明薄膜所得之防眩薄膜的光學特性係並不佳。另一方面，若是電鍍厚度過厚，則除了生產性不佳之外，凹凸形狀亦係幾乎消失，因此，會成為無法展現防眩性。於此，銅電鍍之厚度係以1μm以上20μm以下為理想，又進而以4μm以上10μm以下為更理想。

如此這般，藉由在將於銅電鍍又或是鎳電鍍表面處被形成有凹凸之基材的表面形狀作了鈍化之後，進而施加鉻電鍍，使凹凸之表面更進一步鈍化，同時製作表面硬度高之金屬板。此時之凹凸的鈍化程度，亦係依基底金屬之種類、藉由噴砂等的手法所得之凹凸尺寸與深度、還有電鍍之種類或厚度等而相異，因此，無法一概而論，但是，在可對鈍化程度作控制之因子中的最大因子，仍係為電鍍厚度。

若是鉻電鍍層之厚度為薄，則使在鉻電鍍加工前所得到的凹凸表面鈍化之效果係為不充分，而將該凹凸形狀轉印至透明薄膜所得之防眩薄膜的光學特性係並不佳。另一方面，若是電鍍厚度過厚，則除了生產性不佳之外，亦會 產生被稱為結節(nodule)之突起狀的電鍍缺陷。於此鉻電鍍之厚度係以1μm以上10μm以下為理想，又進而以2μm以上6μm以下為更理想。

鉻電鍍，係具有光澤，硬度為高，且摩擦係數為小，而可賦予良好之離模性者。鉻電鍍之種類，雖並不特別作限制，但是，係以使用所謂之被稱為光澤鉻電鍍或是裝飾用鉻電鍍等的可體現良好之光澤的鉻電鍍為理想。鉻電鍍通常係藉由電解而進行，作為其電鍍浴，係使用包含有無水鉻酸(CrO₃ )與少量之硫酸的水溶液。藉由對電流密度與電解時間作調節，能夠控制鉻電鍍之厚度。

被施加有鉻電鍍之模具表面，其維氏硬度係以800以上為理想，又以1000以上為更理想。若是維氏硬度為低，則除了模具使用時之耐久性會降低之外，在鉻電鍍中硬度降低一事，係有很高的可能在電鍍處理時於電鍍浴之組成或是電解條件中係產生有異常，且關於缺陷之發生狀況，亦有很高的可能性係賦予不良之影響。

在作為先前技術所揭示之專利文獻1(日本特開2002－189106號公報)或是專利文獻4(日本特開2004－90187號公報)中，雖係揭示有在成為模具之金屬基材表面處施加鉻電鍍一事，但是，依存於模具之電鍍前的基底與鉻電鍍之種類，係多會發生有在電鍍後表面變為粗糙、或是產生有多數之因鉻電鍍所致的微小之碎裂，其結果，所製作之防眩薄膜的光學特性，係會朝向不理想的方向而變化。電鍍表面為粗糙之狀態者，係並不適合使用於防眩 薄膜用之模具。此係因為，一般而言，為了將粗糙消除，係在鉻電鍍後進行有對表面之研磨，但是，如後述所示一般，在本發明中，電鍍後之對表面的研磨係並不理想之故。在本發明中，係藉由在基底金屬處施加銅電鍍又或是鎳電鍍，來消除在鉻電鍍中所易於產生之此種問題。

當在施加鉻電鍍前而並不施加使凹凸形狀鈍化之加工的情況時，為了使藉由撞擊微粒子所製作之凹凸形狀的銳利部分充分的鈍化，係必須要將鉻電鍍設為較厚。然而，若是鉻電鍍之厚度過厚，則會成為容易產生結節，故並不理想。又，當鉻電鍍之厚度為薄的情況時，係無法將藉由撞擊微粒子所製作的凹凸形狀充分的鈍化，而無法得到所期望之表面形狀的模具，因此，使用該模具所製作之防眩薄膜亦不會展現優良的防眩性能。

在前述之專利文獻1(日本特開2002－189106號公報)中，係記載有：在對鐵之表面作了鉻電鍍後之滾筒處，藉由噴砂法或噴珠法來形成凹凸型面，而後，施加鉻電鍍，又，在專利文獻3(日本特開2004－29240號公報)以及專利文獻4(日本特開2004－90187號公報)中，係記載有：在滾筒之表面處，施加噴珠法或是噴砂處理。然而，其係並非針對在撞擊微粒子而形成凹凸行形狀後，積極地施加鈍化工程，並進而施加鉻電鍍加工而使表面凹凸形狀鈍化之方法而作了言及者，若是依據本發明者們之檢討，則若是不如上述所說明一般而積極地施加使表面形狀鈍化之加工，便無法製造展現有優良之防眩性能的防眩薄膜。

另外，對附加有凹凸之金屬表面施加鉻電鍍以外之電鍍一事，係並不理想。此係因為，鉻以外之電鍍，其硬度或耐磨耗性係為低，而作為模具之耐久性會加低，且在使用中，凹凸會因為摩擦而減損，並使模具損傷之故。在由此種模具所得到之防眩薄膜中，無法得到充分之防眩功能的可能性係為高，又，在薄膜上產生缺陷的可能性亦變高。

在鉻電鍍後，係以不對表面作研磨而直接將鉻電鍍面作為模具之凹凸面來使用為有利。在前述專利文獻4(日本特開2004－90187號公報)中，雖係記載有對電鍍後之表面作研磨一事，但是，此種之對鉻電鍍面作研磨一事，在本發明中係並不理想。其理由，係有：藉由研磨，由於在最表面處會產生平坦之部分，因此，會有導致光學特性之惡化的可能性，且，對於形狀之控制因子亦會增加，因此，再現性為優良之形狀控制係成為困難等。圖8，係展示使撞擊微粒子所得到之凹凸形狀作鈍化之加工，於此，係為展示在施加了於圖7之(C1)所示的蝕刻處理後，同樣的施加了(D1)中所示之鉻電鍍後的面作研磨的情況時，產生了平坦面之金屬板的剖面模式圖。藉由研磨，在銅又或是鎳電鍍層32之表面處所形成的鉻電鍍層37之表面凹凸38中，一部份之凸部係被削去，而產生有平坦面39。

於圖8中，雖係展示有對圖7之(D1)中所展示的蝕刻後施加有鉻電鍍之表面作研磨的情況之例子，但是，在 圖7之(D2)所示之於銅電鍍後施加了鉻電鍍的情況中亦同樣的，若是對該表面作研磨，則同樣的會成為產生有平坦面。

〔防眩薄膜之製造方法〕 接下來，針對使用如此這般所得到之模具，來製造防眩薄膜之工程作說明。藉由將以上述所說明之方法而得到的模具之形狀轉印至透明樹脂薄膜處，而得到防眩薄膜。模具形狀之對薄膜的轉印，係以藉由壓花來進行為理想。作為壓花，係可例示有使用光硬化性樹脂之UV壓花法、使用熱可塑性樹脂之熱壓花法。

在UV壓花法中，係在透明支持體之表面處形成光硬化性樹脂層，並將該光硬化性樹脂層推壓於模具之凹凸面上並使其硬化，藉由此，而將模具之凹凸面轉印至光硬化性樹脂層處。具體而言，係在透明支持體上塗布紫外線硬化型樹脂，並在使所塗布之紫外線硬化型樹脂密著於模具之凹凸面處的狀態下，從透明支持體側來照射紫外線，以使紫外線硬化型樹脂硬化，接下來，將被形成有硬化後之紫外線硬化型樹脂層的支持體從模具上剝離，藉由此來將模具之形狀轉印至紫外線硬化型樹脂處。紫外線硬化型樹脂之種類，係並不特別作限定。又，雖係以紫外線硬化型樹脂的方式來作表現，但是，藉由對光起始劑作適宜的選擇，亦可設為能夠藉由波長為較紫外線更長之可視光來硬化的樹脂。亦即是，在此之所謂的紫外線硬化型樹脂，係 為亦包含有此種可視光硬化型之樹脂者的總稱。另一方面，在熱壓花法中，係將透明之熱可塑性樹脂薄膜在加熱狀態下而推壓於模具處，並將模具之表面形狀轉印至熱可塑性樹脂薄膜處。在此些之壓花法中，從生產性的觀點來看，係以UV壓花法為理想。

在防眩薄膜之製作中所使用的透明支持體，係只要為實質上為光學性透明之樹脂薄膜即可，例如，係可使用：由三醋酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、將降莰烯(Norbornene)系化合物作為單體之非晶性環狀聚烯烴等的熱可塑性樹脂所成的溶劑鑄型薄膜(cast film)或是押出薄膜等。

作為紫外線硬化型樹脂，係可使用在市面上所販賣者。例如，係可將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等之多官能丙烯酸酯，分別單獨地或是將該些之2種以上混合地使用，並將其與“IRGACURE907”、“IRGACURE184”(以上，Ciba specialty chemicals公司製)、LucirinTPO(BASF公司製)等的光重合起始劑混合，而作為紫外線硬化型樹脂。

作為在熱壓花法中所使用的熱可塑性之透明樹脂薄膜，，係只要為實質上為透明者，則可使用任何物質，例如，係可使用：聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、三醋酸纖維素、將降莰烯(Norbornene)系化合物作為單體之非晶性環狀聚烯烴等的熱可塑性樹脂所成的溶劑鑄型薄膜(cast film)或是押出薄膜等。此些之透 明樹脂薄膜，係亦可成為當採用上述所說明之UV壓花法的情況時之透明支持體。

本發明之防眩薄膜，係以使用以特定形狀而被形成有凹凸之模具，並將該模具之凹凸面轉印至被塗布在透明支持體上之樹脂處，接下來，將被轉印有凹凸面之樹脂從模具上剝離，藉由此來形成表面細微凹凸形狀為理想，在使用於轉印之樹脂中，係以相對於黏結樹脂100重量部，而包含有平均粒徑5μm以上15μm以下，且其與黏結樹脂間之折射率差係為0.01以上0.06以下的微粒子10~100重量部為理想。

當配合於黏結樹脂中之微粒子的平均粒徑低於5μm的情況時，透過擴散分布之廣角側的值係會上升，其結果，當適用於畫像顯示裝置中時，會使對比降低，故並不理想。相反的，當其平均粒徑超過了15μm的情況時，從如同後述一般之以將粒子完全地埋沒於黏結樹脂中為理想的觀點來看，為了將粒子埋沒，會有使膜厚變厚的傾向。其結果，成為容易在樹脂塗布工程時產生捲曲或是凝集等的問題。

又，當微粒子與黏結樹脂之折射率差低於0.01的情況時，由於微粒子所致之內部擴散效果係變小，因此，為了對防眩層賦予特定之擴散特性與霧度而消除刺眼現象，係有必要將大量的微粒子添加至黏結樹脂中，從欲將微粒子完全地埋沒在黏結樹脂中之觀點來看，係並不理想。另一方面，此折射率差若是超過0.06，則由於折射率差為大 ，故在黏結樹脂與微粒子之界面處的反射率係增大，其結果，後方擴散係上升，而使全光線透過率降低，故並不理想。如同上述所示一般之紫外線硬化型樹脂，由於其硬化物係多展現有1.50左右之折射率，因此，微粒子，係可從折射率為1.40~1.60左右者來配合於防眩薄膜之設計而適當作選擇。作為微粒子，係適合使用樹脂珠，且以幾乎成球形者為佳。於以下，揭示適合之樹脂珠的例子。

三聚氫胺珠(折射率1.57)聚甲基丙烯酸甲酯珠(折射率1.49)聚甲基丙烯酸/苯乙烯共聚合體樹脂珠(折射率1.50~1.59)聚碳酸酯珠(折射率1.55)聚乙烯珠(折射率1.53)聚苯乙烯珠(折射率1.6)聚氯乙烯珠(折射率1.46)矽樹脂珠(折射率1.46)等

又，此些之微粒子，係以不會對表面之凹凸形狀造成影響，亦即是，係以將粒子完全埋沒在黏結樹脂中為理想。此係因為，當微粒子突出於表面的情況時，經由微粒子之形狀，表面凹凸形狀會變化，而對防眩薄膜之反射特性(防眩性能或是泛白等)造成影響之故。當此種微粒子突出於表面的情況時，由於除了上述之模具的表面形狀之外，亦必須將粒子之形狀、濃度、分散性等列入考慮，而進行表面形狀之設計，因此，表面形狀之設計．控制係成為 繁雜，而變得難以得到所預期之特性。因此，係以僅藉由模具來對主要影響反射特性之表面形狀作控制，並將擴散特性獨立地藉由樹脂與粒子的組合來作控制為理想。

〔防眩性偏光板〕 如同上述一般所構成之本發明的防眩薄膜，防眩效果係為優良，而能有效的防止泛白，且能夠有效的抑制刺眼之發生以及對比之降低，因此，當裝著於畫像顯示裝置時，其視認性係為優良。當畫像顯示裝置係為液晶顯示器的情況時，係可將此防眩薄膜適用於偏光板。亦即是，偏光板一般多係為在由被吸著配向有碘又或是二色性染料之聚乙烯醇系樹脂薄膜所成的偏光元件之至少一面貼合有保護薄膜的形態所構成者，但是，若是將其中一方之保護薄膜以本發明之防眩薄膜來構成，並藉由將偏光元件與本發明之防眩薄膜在該防眩薄膜之透明支持體側作貼合，則能夠作成防眩性偏光板。此時，偏光元件之另外一面，係可維持原狀，亦可層積其他之保護薄膜又或是光學薄膜，又，亦可形成用以將其貼合於液晶胞之黏著劑層。又，亦可將在偏光元件之至少一面處貼合有保護薄膜之偏光板，與本發明之防眩薄膜在其透明支持體側作貼合，而作成防眩性之偏光板。進而，亦可在被貼合有保護薄膜之偏光板處，藉由在該單面之保護薄膜的表面上賦予如同上述一般之防眩性的凹凸，而作成防眩性之偏光板。

〔畫像顯示裝置〕 本發明之畫像顯示裝置，係為將以上所說明之具備有特定表面形狀的防眩薄膜又或是防眩性偏光板與畫像顯示元件作組合者。於此，畫像顯示元件，係以具備有在上下基板間封入有液晶之液晶胞，並藉由電壓之施加而使液晶之配向狀態變化而進行畫像之顯示的液晶面板為代表，但是，除此之外，對於電漿顯示器面板、CRT顯示器、有機EL顯示器等週知的各種顯示器，亦可適用本發明之防眩薄膜。而，藉由將上述之防眩薄膜配置在較畫像顯示元件更靠視認側，而構成畫像顯示裝置。此時，係以使防眩薄膜之凹凸面、亦即是以使防眩層側成為外側(視認側)的方式而作配置。防眩薄膜，係可直接貼合於畫像顯示元件之表面，而當將液晶面板作為畫像顯示手段的情況時，例如，亦可如先前所述一般，經由偏光元件而貼合於液晶面板之表面。如此這般，具備有本發明之防眩薄膜的畫像顯示裝置，係可藉由防眩薄膜所具備之表面的凹凸，而使入射光擴散，並將映入之像變淡，而成為可給予優良之視認性。

又，就算是在將本發明之防眩薄膜適用於高精細度之畫像顯示裝置的情況時，亦不會產生在先前之防眩薄膜中所會見到的刺眼現象，而成為兼備有充分之映入防止功效、泛白狀況之防止、刺眼之抑制、對比之降低的抑制等之性能者。

實施例

以下，展示實施例以對本發明作更進一步之說明，但是，本發明，係並不被此些之例子所限定。於例中，對含有量乃至使用量作表示之「%」以及「部」，在並未作特別記載的情況下，係以重量為基準。又，在以下之例中對於模具又或是防眩薄膜之評價方法，係如下所示一般。

1、模具之維氏硬度的測定： 使用Krautkramer公司製之超音波硬度計“MIC10”，而藉由準據於JIS Z 2244之方法來測定維氏硬度。測定，係在模具本身之表面處進行。

2、防眩薄膜之光學特性的測定： (擴散分佈) 將防眩薄膜以使其之凹凸面成為表面的方式而貼合於玻璃基板處，並在其之玻璃面側，從相對於薄膜法線而傾斜了特定之角度的方向來照射從He－Ne雷射而來之平行光，並在防眩薄膜之凹凸面側，測定薄膜法線方向之透過擴散光強度。在反射率之測定中，均係使用橫河電機(股份有限公司)製之“329203光學功率感測器”以及“3292光學功率計”。

(反射分佈) 在防眩薄膜之凹凸面，從相對於薄膜法線而傾斜了30 。的方向來照射從He－Ne雷射而來之平行光，並進行了在包含有薄膜法線與照射方向之平面內的反射率之角度變化的測定。在反射率之測定中，均係使用橫河電機(股份有限公司)製之“329203光學功率感測器”以及“3292光學功率計”。

(霧度) 使用準據於JIS K 7136之(股份有限公司)村上色彩技術研究所製的霧度計“HM－150”型，而測定了防眩薄膜之霧度。為了防止樣本之彎曲，係使用光學性為透明之黏著劑，並以使凹凸面成為表面的方式來將其貼合於玻璃基板上，再於該狀態下來測定全霧度。當測定內部霧度時，係在防眩薄膜之凹凸表面處，藉由甘油而貼附上霧度幾乎為0之三醋酸纖維素薄膜，而進行之。

(反射鮮明度) 使用準據於JIS K 7105之SUGA試驗機(股份有限公司)製的影像清晰度(image clarity)測定器“HM－150”型，而測定了防眩薄膜之反射鮮明度。於此情況，亦為了防止樣本之彎曲，而使用光學性為透明之黏著劑，並以使凹凸面成為表面的方式來將其貼合於玻璃基板上，再進行測定。又。為了防止從背面之玻璃面而來的反射，係在貼合有防眩薄膜之玻璃板的玻璃板面，以水而密著貼附有2mm厚度之黑色丙烯樹脂板，並在此狀態下使光從樣本(防眩 薄膜)側射入，而進行測定。於此之測定值，係如同前述一般，為使用暗部與明部之寬幅分別為0.5mm、1.0mm以及2.0mm之3種類的光梳所測定的值之合計值。

3、防眩薄膜之表面形狀的測定： 使用Sensofar公司製之共軛焦點顯微鏡“PLμ2300”，而測定防眩薄膜之表面形狀。於此情況，亦為了防止樣本之彎曲，而使用光學性為透明之黏著劑，並以使凹凸面成為表面的方式來將其貼合於玻璃基板上，再進行測定。於測定時，係將對物透鏡之倍率設為50倍，而降低解析度來作測定。此係因為，若是以高解析度來作測定，則樣本表面之細微的凹凸亦會被測定，並對凸部之計數造成阻礙之故。

(剖面曲線處的算術平均高度Pa、最大剖面高度Pt以及平均長度PSm) 以上述所得之測定資料為基礎，藉由準據於JIS B 0601之計算，來求取出算術平均高度Pa、最大剖面高度Pt以及平均長度PSm。

(凸部之數量) 以在上述之測定中所得到之防眩薄膜表面各點的3維性座標值為基礎，並依據先前參考圖5而作了說明的機制，而求取出在200μm×200μm之區域內所存在的凸部之數 量。

(作了莫洛諾依分割後之莫洛諾依多角形的平均面積) 以在上述之測定中所得到之防眩薄膜表面各點的3維性座標值為基礎，並依據先前參考圖5以及圖6而作了說明的機制來作計算，而求取出莫洛諾依多角形之平均面積。

4、防眩薄膜之防眩性能的評價： (映入、泛白以及質感之目視評價) 為了防止從防眩薄膜之背面而來的反射，以使凹凸面成為表面的方式，而將黑色丙烯樹脂板貼合於防眩薄膜，並在照射有螢光燈之明亮的室內，從凹凸面側起以目視來作觀察，並藉由目視來對螢光燈之映入的有無、泛白之程度以及質感作評價。映入、泛白以及質感，係藉由下述之基準，而分別以1~3之3階段來作評價。

映入：1：無法觀察到映入2：觀察到些許之映入3：可明顯觀察到映入

泛白：1：無法觀察到泛白 2：觀察到些許之泛白3：可明顯觀察到泛白

質感：1：表面為細緻，質感佳2：表面略粗，質感略差3：表面明顯為粗，質感差

(刺眼之評價) 刺眼，係藉由以下之方法來作評價。亦即是，首先準備具備有如同在圖9中以平面圖所示一般之單元胞的圖案之光罩。於此圖中，單元胞40，係在透明之基板上，以線寬幅10μm而被形成有溝型之鉻遮光圖案41，而未被形成有該鉻遮光圖案41之部分，係成為開口部42。於此，單元胞之尺寸係為254μm×84μm(圖之縱×橫)，故而，係採用開口部之尺寸為244μm×74μm(圖之縱×橫)者。將圖示之單元胞縱橫排列多數，而形成光罩。

而後，如同於圖10中以模式剖面圖所示一般，使光罩43之鉻遮光圖案41成為上方，而放置於光箱(lightbox)45中，並將藉由黏著劑而將防眩薄膜11以使其凹凸面成為表面的方式來貼合於玻璃板41處後所成之樣本，放置在光罩43之上。在光箱45之中，係被配置有光源46。於此狀態下，藉由在離開樣本約30cm之位置49處來進行目視觀察，而對刺眼之程度以7階段來做官能性 之評價。等級1係為完全無法辨識出刺眼的狀態，等級7係為觀察到嚴重之刺眼的狀態，而等級3係為僅觀察到些許之刺眼的狀態。

(對比之評價) 從市面上販售之液晶電視〔夏普(股份有限公司)製之“LC－42GX1W”〕而將表背兩面之偏光板剝離。代替該些之原本的偏光板，在背面側以及表面側均將住友化學(股份有限公司)製之偏光板“Sumikalan SRDB831E”以使其各別之吸收軸與原本之偏光板的吸收軸一致的方式，來經由黏著劑而作貼合，並進而在顯示面側偏光板之上，將於以下之各例中所示的防眩薄膜以使凹凸面成為表面的方式而經由黏著劑來作貼合。將如此這般所得到之液晶電視，在黑暗室內啟動，並使用(股份有限公司)TOPCON製之亮度計“BM5A”型，來對在黑顯示狀態以及白顯示狀態下之亮度作測定，並計算出對比。於此，所謂對比，係藉由相對於黑顯示狀態之亮度的白顯示狀態之亮度的比來作表現。

〔實施例1〕

(A)壓花用模具之製作 準備在直徑200mm之鐵滾筒(JIS所致之STKM13A)表面處施加有銅巴拉德電鍍(copper ballard plating)者。銅巴拉德電鍍，係為由銅電鍍層/薄的銀電鍍層/表 面銅電鍍層所成者，電鍍層全體之厚度約為200μm。對該銅電鍍表面作鏡面研磨，並進而在該研磨面處，使用噴砂裝置((股份有限公司)不二製作所製)，而將TOSOH(股份有限公司)製之鋯珠“TZ－B53”(商品名，平均粒徑53μm)，以珠使用量8g/cm² (滾筒之單位表面積)、噴砂壓力0.15MPa(表壓)、從噴射微粒子之噴嘴起直到金屬表面之距離為450mm的條件下，進行噴砂，並在表面附加凹凸。對於所得到之附加有凹凸的銅電鍍鐵滾筒，以氯化銅水溶液來進行蝕刻。此時之蝕刻量，係設定為8μm。而後，進行鉻電鍍加工，而製作壓花用之模具。此時之鉻電鍍之厚度係設定為4μm。所得到之模具，其表面之維氏硬度係為1000。

(B)防眩薄膜之製造 在醋酸乙酯中，將以下之各成分以固體份濃度60%來作溶解，而得到硬化後展現有1.53之折射率的紫外線硬化性樹脂組成物。

(六亞甲二異氰酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯之反應生成物)調平(leveling)劑有

在此紫外線硬化性樹脂組成物中，將平均粒徑為8μm而折射率為1.565之甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚合物樹脂珠，相對於上述紫外線硬化性樹脂100部而添加25部 ，而後，以使固體份(包含樹脂珠)之濃度成為50%的方式而添加醋酸乙酯，而調製出塗布液。

在厚度80μm之三醋酸纖維素(TAC)薄膜上，將上述之塗布液以使乾燥後之塗布膜的厚度成為10μm的方式來作塗布，並在被設定為60℃之乾燥機中作3分鐘的乾燥。將乾燥後之薄膜，在藉由(A)所製作之模具的凹凸面處，以使紫外線硬化性樹脂組成物層成為模具側的方式來藉由橡膠滾筒而作推壓，並使其密著。在此狀態下，從TAC薄膜側，將從強度20mW/cm² 的高壓水銀燈而來的光以使h線換算光量成為200mJ/cm² 的方式來作照射，以使紫外線硬化性樹脂組成物層硬化。而後，將TAC薄膜與硬化樹脂一體地從模具剝離，並得到由在表面處具備有凹凸之硬化樹脂與TAC薄膜的層積體所成的透明之防眩薄膜。

(C)防眩薄膜之評價 針對所得到之防眩薄膜，藉由上述之手法而對光學特性、凹凸表面形狀以及防眩性能作評價，並將其結果，與模具之製作條件、於防眩層之製作中所使用的微粒子之種類以及量一同於表1中作展示。又，於圖11中展示透過擴散分佈之圖表，於圖12中展示反射分佈之圖表。另外，在表1中，(A)係為將模具製作時之蝕刻量與在防眩層製作中所使用的微粒子之種類以及量作了歸納者，(B)係為將防眩薄膜之光學特性作了歸納者，而(C)係為 對防眩薄膜之表面形狀與防眩性能作了歸納者。而，表1(B)中之反射鮮明度的詳細內容，係如下所示一般。

反射鮮明度0.5mm光學梳：1.4% 1.0mm光學梳：5.4% 2.0mm光學梳：9.6%合計：16.4%

〔實施例2〕

將製作模具時之蝕刻量如同表1一般的作變更，而其他條件係與實施例1相同，藉此而製作了於表面具備有凹凸之壓花用的模具。所得到之模具，其表面之維氏硬度係為1000。使用此模具，與實施例1同樣的，製作由在表面處具備有凹凸之硬化樹脂與TAC薄膜的層積體所成的透明之防眩薄膜。

〔實施例3以及4〕

在使用與實施例1相同之模具的同時，將在防眩層之製作中所使用的微粒子之種類以及/又或是相對於紫外線硬化性樹脂100重量部的添加量如同表1所示一般的作變更，並將其他條件設為與實施例1相同，藉此而製作了由在表面處具備有凹凸之硬化樹脂與TAC薄膜的層積體所成的透明之防眩薄膜。另外，在實施例3中所使用之微粒 子，係為與實施例1相同之甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚合物樹脂珠，在實施例4中所使用之微粒子，係為平均粒徑8μm而折射率1.490之聚甲基丙烯酸甲酯珠。

對於在實施例2~4中所得到之防眩薄膜，均將此些之防眩薄膜的光學特性、表面形狀以及防眩性能與實施例1之資料一同地在表1中作展示。又，此些之防眩薄膜的透過擴散分佈以及反射分佈之圖表，係與實施例1之資料一同地分別在圖11以及圖12中作展示。

〔比較例1以及2〕

在比較例1中，係使用與實施例1相同之模具，又，在比較例2中，係使用與實施例2相同之模具，且兩者均係使用不包含有樹脂珠之紫外線硬化性樹脂組成物，並將其他條件設為與實施例1相同，藉此而製作了由在表面處具備有凹凸之硬化樹脂與TAC薄膜的層積體所成的透明之防眩薄膜。將所得到之防眩薄膜的光學特性、表面形狀以及防眩性能與實施例1之資料一同地在表1中作展示。又，於圖13中展示此些之防眩薄膜的透過擴散分佈之圖表，於圖14中展示反射分佈之圖表。

如同表1所示一般，滿足本發明之要件的實施例1以及2，係展示有優良之防眩性能(低映入與良好之質感)，同時不會產生刺眼或泛白，且在適用於畫像顯示裝置時，亦展現有高對比。又，在將內部霧度增加後的實施例3以及4中，雖然對比相較於實施例1以及2係有些許的降低，但是，可以得知，係更有效果的對刺眼作了抑制。相對於此，比較例1以及2，由於表面形狀係分別與實施例1以及2為幾乎相同，因此在展現有優良的防眩性能的同時，亦不會產生泛白，且在對比處亦展現有高的值，但是，由於其之相對擴散光強度T(20)以及T(30)之至少一方係低於本發明之規定，因此，刺眼係為強，當適用於畫像顯示裝置時，視認性係成為顯著的降低。

於此，實施例1、3以及4與比較例1，係使用相同之模具而製作防眩薄膜，又，實施例2與比較例2係使用相同之模具而製作防眩薄膜。而，此些之使用相同模具所製作的防眩薄膜之反射特性係幾乎為同等，由此結果，可以得知所添加之微粒子係並未對表面形狀造成影響。

〔比較例3~5〕

在與實施例1所使用者為相同之紫外線硬化性樹脂組成物(添加樹脂珠前)中，對紫外線硬化性樹脂100部而添加平均粒徑約10μm且折射率為1.46之多孔質矽微粒子10部，進而，在比較例4以及5中，係對紫外線硬化性樹脂100部而添加如同表2中所示一般之量的平均粒徑約 3μm且折射率為1.57之多孔質矽微粒子甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚合物樹脂珠並使其分散，而後，以使固體份(包含矽微粒子以及樹脂珠)之濃度成為30%的方式而添加醋酸乙酯，而調製塗布液。

在厚度80μm之三醋酸纖維素(TAC)薄膜上，將上述之塗布液以使乾燥後之塗布膜的厚度成為4μm的方式來作塗布，並在被設定為60℃之乾燥機中作3分鐘的乾燥。從乾燥後之薄膜的光硬化性樹脂組成物層側，將從強度20mW/cm² 的高壓水銀燈而來的光以使h線換算光量成為200mJ/cm² 的方式來作照射，以使紫外線硬化性樹脂組成物層硬化，而得到由在表面處具備有凹凸之硬化樹脂與TAC薄膜的層積體所成的透明之防眩薄膜。在此防眩薄膜中，如同由矽微粒子之粒徑(約10μm)與塗膜厚度(4μm)間的關係亦可得知一般，矽微粒子係突出於防眩層表面。

針對所得到之防眩薄膜，藉由上述之手法而對光學特性、凹凸表面形狀以及防眩性能作評價，並將其結果與樹脂之組成一同於表2中作展示。在表2中，(A)係為將被配合於硬化性樹脂中之微粒子作了歸納者，(B)係為將防眩薄膜之光學特性作了歸納者，而(C)係為對防眩薄膜之表面形狀與防眩性能作了歸納者。又，於圖15中展示透過擴散分佈之圖表，於圖16中展示反射分佈之圖表。

如同表2所示一般，在比較例3中，由於相對擴散光強度T(20)以及T(30)係低於本發明之規定，因此，雖然對比係並未降低，但是刺眼係為強，當適用於畫像顯示裝置時，係會顯著的損及視認性。在比較例4中，由於20∘入射之相對擴散光強度T(20)係高於本發明之規定，因此，對比係降低至1800以下，而為會損及視認性者。

又，在表面形狀中，平均長度PSm係為大，而凸部之數量係為少，莫洛諾依多角形之平均面積係為大，全體而言，係成為較在本發明中所規定者更大之形狀，因此，就算擴散光係為強，亦無法將刺眼充分的作抑制。在比較例5中，由於相對擴散光強度T(20)以及T(30)係大幅超過本發明之規定，因此，雖然並未產生刺眼，但是對比係成為大幅的降低。又，比較例3~5，總體而言平均長度PSm係為大，而莫洛諾依多角形之平均面積係超過本發明之規定，又，凸部之數量係低於本發明之規定，其結果，質感係為粗糙，而有著一顆顆的凸起之外觀。

〔比較例6~9〕

針對將住友化學(股份有限公司)所販賣之偏光板“SUMIKALAN”作為防眩層而使用，並在紫外線硬化樹脂中分散有填充物而成的防眩薄膜“AG3”、“AG5”、“SL6”、“CV2”(分別設為比較例6~9)，藉由前述之手法而對各別之光學特性、表面形狀以及防眩性能作評價，並將其結果展示於表3。在表3中，(B)係為將防眩薄膜之光學 特性作了歸納者，而(C)係為對防眩薄膜之表面形狀與防眩性能作了歸納者。又，於圖17中展示透過擴散分佈之圖表，於圖18中展示反射分佈之圖表。

在比較例6中，由於相對擴散光強度T(20)以及T(30)係低於本發明之規定，因此，雖然對比係並未降低，但是刺眼係為強，而視認性係顯著的降低。又，由於表 面形狀之要件亦完全脫離本發明之規定，因此，質感係不佳，而有著一顆顆的凸起之外觀。在比較例7中，由於30∘入射之相對擴散光強度T(30)係低於本發明之規定，因此，係成為產生有刺眼的結果。在比較例8以及比較例9中，由於相對擴散光強度T(20)以及T(30)總體上係為大，因此，雖然並未產生刺眼，但是對比係成為大幅的降低。又，在比較例8中，由於反射率R(40)以及R(50)之值亦係超過本發明之規定，因此，畫面全體係偏白，而 產生有泛白。

由以上之結果，可以得知，將在本發明中所規定之要件平衡性佳地具備一事，對於達成作為本發明之目的的光學特性係為重要。

〔產業上之利用可能性〕

本發明之防眩薄膜，在展現優良之防眩性能的同時，亦防止因泛白所致之視認性的降低，而在配置於高精細之畫像顯示裝置的表面時，不會產生刺眼耀眼的情況，而能實現高對比度。將此防眩薄膜與偏光元件作組合後之防眩性偏光板，亦展現相同之效果。而，配置有本發明之防眩薄膜又或是防眩性偏光板的畫像顯示裝置，防眩性能係為高，而成為視認性優良者。

藉由將本發明之防眩薄膜，以使其防眩薄膜成為較畫像顯示元件而更靠視認側的方式，而配置在液晶面板、電漿顯示器面板、CRT顯示器、有機EL顯示器等的各種顯 示器，而可成為不會產生泛白以及刺眼，且能將映入之像變淡，而成為可給予優良之視認性者。

11‧‧‧防眩薄膜

12‧‧‧薄膜法線

13‧‧‧對透過擴散光強度作測定時之入射光線方向

14‧‧‧透過擴散光強度之測定方向(法線方向)

15‧‧‧對反射率作測定時之入射光線方向

16‧‧‧正反射方向

17‧‧‧任意之反射方向

19‧‧‧包含有入射光線方向與薄膜法線之面

‧‧‧對透過擴散光強度作測定時之入射角

θ‧‧‧對反射率作測定時之反射角

21‧‧‧防眩薄膜上的任意之點

22‧‧‧防眩薄膜表面

23‧‧‧薄膜基準面

24‧‧‧以防眩薄膜上的任意之點為中心的圓之對薄膜基準面的投影面

26‧‧‧凸部頂點之投影點(莫洛諾依分割之母點)

27‧‧‧莫洛諾依多邊形

28‧‧‧不被計算於平均值中之鄰接於測定視野邊界的莫洛諾依多邊形

31‧‧‧金屬基材

32‧‧‧銅又或是鎳電鍍層

33‧‧‧研磨面

34‧‧‧以微粒子作撞擊所形成之凹面

35‧‧‧銅電鍍層

36a‧‧‧將以微粒子作撞擊所形成之凹凸面藉由蝕刻來使其鈍化後的面

36b‧‧‧將以微粒子作撞擊所形成之凹凸面藉由銅電鍍來使其鈍化後的面

37‧‧‧鉻電鍍層

38‧‧‧鉻電鍍後所殘留之凹凸面

39‧‧‧對鉻電鍍後之表面作研磨後所產生之平坦面

40‧‧‧光罩之單元胞

41‧‧‧光罩之鉻遮光圖案

42‧‧‧光罩之開口部

43‧‧‧光罩

45‧‧‧照明盒

46‧‧‧光源

47‧‧‧玻璃板

49‧‧‧刺眼之觀察位置

〔圖1〕對從防眩薄膜之透明支持體側而射入光並求取出在防眩層側法線方向所觀測到之擴散光強度時，光的射入方向與透過擴散光強度測定方向作模式性展示的立體圖。

〔圖2〕對入射角作改變，並將所測定之相對擴散光強度(對數刻度)相對於入射角而作描畫的圖表之其中一例。

〔圖3〕將求取反射率之從防眩層側而來的光之入射方向與反射方向作模式性展示的立體圖。

〔圖4〕將相對於從防眩薄膜之法線而以30∘之角度所射入的光之反射光的反射角與反射率(反射率係為對數刻度)作描畫之圖表的其中一例。

〔圖5〕將防眩薄膜之凸部判定的機制作模式展示之立體圖。

〔圖6〕展示莫洛諾依分割之例的莫洛諾依圖。

〔圖7〕將用以製作本發明之防眩薄膜的模具之製造方法以各工程來作展示之剖面模式圖。

〔圖8〕展示在鉻電鍍後對表面作了研磨的狀態之剖面模式圖。

〔圖9〕展示刺眼評價用圖案之單元胞之平面圖。

〔圖10〕展示刺眼評價之狀態的剖面模式圖。

〔圖11〕展示藉由實施例1~4所得到之防眩薄膜的透過擴散分布之圖表。

〔圖12〕展示藉由實施例1~4所得到之防眩薄膜的反射分布之圖表。

〔圖13〕展示藉由比較例1以及2所得到之防眩薄膜的透過擴散分布之圖表。

〔圖14〕展示藉由比較例1以及2所得到之防眩薄膜的反射分布之圖表。

〔圖15〕展示藉由比較例3~5所得到之防眩薄膜的透過擴散分布之圖表。

〔圖16〕展示藉由比較例3~5所得到之防眩薄膜的反射分布之圖表。

〔圖17〕展示在比較例6~9中所使用之防眩薄膜的透過擴散分布之圖表。

〔圖18〕展示在比較例6~9中所使用之防眩薄膜的反射分布之圖表。

11‧‧‧防眩薄膜

12‧‧‧薄膜法線

13‧‧‧對透過擴散光強度作測定時之入射光線方向

14‧‧‧透過擴散光強度之測定方向(法線方向)

19‧‧‧包含有入射光線方向與薄膜法線之面

Claims (10)

1. 一種防眩薄膜，係為在透明支持體上，被形成有具備細微之凹凸表面的防眩層之防眩薄膜，其特徵為：當光從透明支持體側而以入射角20°射入時，在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(20)，係為0.0001%以上0.0005%以下，當光從透明支持體側而以入射角30°射入時，在防眩層側法線方向處之相對擴散光強度T(30)，係為0.00004%以上0.00025%以下，當光從防眩層側而以入射角30°射入時，反射角30°之反射率R(30)係為0.05%以上2%以下，反射角40°之反射率R(40)係為0.0001%以上0.005%以下，反射角50°之反射率R(50)係為0.00001%以上0.0005%以下，對於垂直射入光之表面霧度，係為0.1%以上5%以下，全霧度係為5%以上25%以下。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之防眩薄膜，其中，使用暗部與明部之寬幅為0.5mm、1.0mm以及2.0mm之3種類的光梳並於光之入射角45°所測定的反射鮮明度之和，係為40%以下。
3. 如申請專利範圍第1項所記載之防眩薄膜，其中，在構成防眩層之凹凸表面的剖面曲線處，其算術平均高度Pa係為0.05μm以上0.2μm以下，其最大剖面高度Pt係為0.2μm以上1μm以下，其平均長度PSm係為15μm以上30μm以下。
4. 如申請專利範圍第1項所記載之防眩薄膜，其中，構成防眩層之凹凸表面，在200μm×200μm之區域內，係具備有50個以上100個以下之凸部。
5. 如申請專利範圍第1項所記載之防眩薄膜，其中，當將構成防眩層之凹凸表面的凸部頂點作為母點，並對該表面作莫洛諾依分割(Voronoi tessellation)時，所形成之多角形的平均面積，係為100μm² 以上1000μm² 以下。
6. 如申請專利範圍第1項所記載之防眩薄膜，其中，防眩層之表面凹凸，係經由具備有凹凸面之模具的轉印而形成，且，該防眩層，相對於黏結樹脂100重量部，係包含有平均粒徑5μm以上15μm以下，且其與黏結樹脂間之折射率差係為0.01以上0.06以下的微粒子10~100重量部。
7. 如申請專利範圍第6項所記載之防眩性薄膜，其中，前述微粒子，係完全埋沒於防眩層中，而並不對表面形狀造成影響。
8. 如申請專利範圍第1項所記載之防眩薄膜，其中，於防眩層之凹凸表面，係被形成有低反射膜。
9. 一種防眩性偏光板，其特徵為：在該防眩薄膜之透明支持體側，係被貼合有偏光元件、和如申請專利範圍第1~8項中之任一項所記載之防眩薄膜。
10. 一種畫像顯示裝置，其特徵為，具備有：如申請專利範圍第1~8項中之任一項所記載之防眩 薄膜或如申請專利範圍第9項所記載之防眩性偏光板；和畫像顯示元件，該防眩性薄膜又或是防眩性偏光板，係以該防眩層側為外側，而配置在畫像顯示元件之視認側。