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TWI498603B - 防眩膜及防眩性偏光板 - Google Patents

防眩膜及防眩性偏光板 Download PDF

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TWI498603B
TWI498603B TW100107512A TW100107512A TWI498603B TW I498603 B TWI498603 B TW I498603B TW 100107512 A TW100107512 A TW 100107512A TW 100107512 A TW100107512 A TW 100107512A TW I498603 B TWI498603 B TW I498603B
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glare
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TW201137409A (en
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Tsutomu Furuya
Takashi Fujii
Sho Kanzaki
Toru Jinno
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co
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Description

防眩膜及防眩性偏光板
本發明係關於防眩(防眩光；antiglare)膜及使用該防眩膜之防眩性偏光板。
液晶顯示器、電漿顯示面板、映像管(陰極射線管：CRT(Cathode Ray Tube))顯示器、有機電致發光(EL：Electroluminescence)顯示器等圖像顯示裝置，當外光映射至該顯示面時，會顯著地損及觀看性。為了防止此般外光的映射，在重視畫質之電視和個人電腦、於外光較強的室外所用之攝影機及數位照相機、以及利用反射光來進行顯示之行動電話等中，以往即已在圖像顯示裝置的表面設置有用以防止外光的映射之防眩膜。
例如，在日本特開2006-053371號公報中，係記載有對於經研磨的模具基材施以噴砂加工後，施以無電解鍍鎳，藉此製造出表面具有細微凹凸之模具，然後一邊將形成於三乙酸纖維素(TAC：Triacetyl Cellulose)上之光硬化性樹脂層按壓於該模具的凹凸面一邊進行硬化，藉此得到於光硬化性樹脂層的表面轉印有該模具的凹凸面之防眩膜。
對於防眩膜，除了要求防眩性外，亦期望當配置在圖像顯示裝置的表面時可顯現高對比，當配置在圖像顯示裝置的表面時，可抑制因散射光使顯示面全體變白而產生顯示濁化之所謂「泛白」的產生，以及當配置在圖像顯示裝置的表面時，可抑制因圖像顯示裝置的像素與防眩膜的表面凹凸形狀產生干涉導致亮度分布的產生而難以觀看之所謂「閃斑」的產生。然而，上述日本特開2006-053371號公報所記載之防眩膜，由於使用以噴砂加工來形成凹凸形狀之模具來進行製作者，故形成於防眩膜之凹凸形狀的精度不足，尤其可能會製作出具有50μm以上的周期之相對較大的凹凸形狀，故存在有容易產生「閃斑」的問題。
此外，同一文獻所記載之防眩膜，容易產生損傷，就機械強度之觀點來看並不必然充分。再者，同一文獻所記載之防眩膜，耐濕性不足，當將該防眩膜貼合於偏光膜來使用時，可能使該偏光膜因吸濕而劣化。
因此，本發明之目的係以提供一種防眩膜，能夠顯示較佳的防眩性並顯現良好的對比，並且可防止因「泛白」及「閃斑」的產生所導致之觀看性的降低，並且機械強度及耐濕性佳，以及一種防眩性偏光板，其為由該防眩膜與偏光膜之積層體所構成之防眩性偏光板，可有效地抑制該偏光膜的劣化之。
本發明係提供一種防眩膜，具備：基材膜、以及積層於該基材膜上並具有凹凸表面之防眩層，其中，該基材膜係含有丙烯酸系樹脂；空間頻率0.01μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 ，係位於3至20的範圍內；空間頻率0.1μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 ，為0.1以下；並且該凹凸表面含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面。基材膜的厚度較佳為20μm以上100μm以下。
此外，本發明係提供一種防眩性偏光板，係具備有：上述防眩膜、以及積層於基材膜之與防眩層為相反側的面之偏光膜。
本發明之防眩膜，能夠顯示較佳的防眩性並顯現良好的對比，可有效地防止因「泛白」及「閃斑」的產生所導致之觀看性的降低。此外，本發明之防眩膜，該機械強度及耐濕性佳。使用該防眩膜之本發明之防眩性偏光板中，可有效地抑制因吸濕所導致之偏光膜的劣化。
＜防眩膜＞
第1圖係示意性顯示本發明之防眩膜的一例之剖面圖。本發明之防眩膜，如第1圖所示之例子，係具備：含有丙烯酸系樹脂之基材膜101、以及積層於基材膜101上之防眩層102。防眩層102之與基材膜101為相反側的表面，係由細微的凹凸表面(細微凹凸表面103)所構成。以下更詳細的說明本發明之防眩膜。
(防眩層)
本發明之防眩膜所具備的防眩層102中，空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面103之標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面103之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 ，係位於3至20的範圍內，空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面103之標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面103之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 ，為0.1以下。
以往，對於防眩膜之細微凹凸表面的週期，係以JIS B 0601所記載之粗糙度曲線要素的平均長度RSm、剖面曲線要素的平均長度PSm、以及彎曲曲線要素的平均長度WSm等來進行評估。然而，在此般以往的評估方法中，無法正確地評估細微凹凸表面中所含之複數個週期。因此，對於閃斑與細微凹凸表面之相關性以及防眩性與細微凹凸表面之相關性，亦無法正確地評估，就以RSm、PSm、WSm等之值的控制下，係難以製作出可兼具閃斑的抑制與充分的防眩性能之防眩膜。
本發明者們係發現到，在將具有細微凹凸表面之防眩層積層於含有丙烯酸系樹脂之基材膜上之防眩膜中，該細微凹凸表面顯示出使用「細微凹凸表面之標高的能譜」所規定之特定的空間頻率分布，亦即標高的能譜比H1 2 /H2 2 位於3至20的範圍內，且H3 2 /H2 2 為0.1以下之防眩膜，可顯現出較佳的防眩性能並防止因泛白的產生所造成之觀看性的降低，即使當運用在高精細的圖像顯示裝置時，亦不會產生閃斑而能夠顯現高對比。
首先說明防眩膜所具有之細微凹凸表面之標高的能譜。第2圖係示意性顯示本發明之防眩膜的表面之透視圖。如第2圖所示，本發明之防眩膜1係具備具有由細微凹凸2所構成之細微凹凸表面的防眩層。在此，本發明中所謂「細微凹凸表面的標高」，係意味著在防眩膜1表面的任意點P中之細微凹凸表面的最低點的高度中，從具有該高度之虛擬平面(標高係以0μm為基準)之防眩膜的主法線方向5(上述虛擬平面之法線方向)之直線距離。如第2圖所示，當以(x,y)來表示防眩膜面內的正交座標時，細微凹凸表面的標高可由座標(x,y)的二維函數h(x,y)來表示。第2圖中，係以投影面3來表示防眩膜全體的面。
細微凹凸表面的標高，可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM：Atomic Force Microscope)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊中求取。測定機所要求的水平分解能，至少為5μm以下，較佳為2μm以下，此外，垂直分解能至少為0.1μm以下，較佳為0.01μm以下。適合於此測定之非接觸式三維表面形狀‧粗糙度測定機，可列舉出New View 5000系列(Zygo Corporation公司製、在日本可從Zygo有限公司來取得)、三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar公司製)等。關於測定面積，由於標高之能譜的分解能必須為0.01μm-1 以下，所以較佳至少為200μm×200μm以上，尤佳為500μm×500μm以上。
接著說明從二維函數h(x,y)來求取標高的能譜之方法。首先，係從二維函數h(x,y)中，藉由下列式(1)所定義之二維傅利葉轉換來求取二維函數H(fx ,fy )。
在此，fx 及fy 分別為x方向及y方向的空間頻率，係具有長度之倒數的維度。此外，式(1)中的π為圓周率，i為虛數單位。藉由將所得之二維函數H(fx ,fy )進行平方運算，可求取標高的能譜H2 (fx ,fy )。此能譜H2 (fx ,fy )係表示防眩膜之細微凹凸表面的空間頻率分布。
以下更具體地說明求取防眩膜所具有之細微凹凸表面之標高的能譜之方法。藉由上述共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡等所實際測定之表面形狀的三維資訊，一般可作為離散值、亦即對應於多數個測定點之標高而獲得。第3圖係顯示離散地獲得表示標高之函數h(x,y)之狀態的模式圖。如第3圖所示，當以(x,y)表示防眩膜面內的正交座標，並以虛線來表示防眩膜的投影面3上之x軸方向上以每Δx所分割的線以及y軸方向上以每Δy所分割的線時，在實際的測定中，細微凹凸表面的標高，可作為防眩膜的投影面3上之各虛線的每個交叉點之離散的標高值而獲得。
所得之標高值的數目，是由測定範圍與Δx及Δy所決定，如第3圖所示，當以x軸方向的測定範圍為X=MΔx，以y軸方向的測定範圍為Y=NΔy時，所得之標高值的數目為(M+1)×(N+1)個。
如第3圖所示，當將防眩膜的投影面3上之著眼點A的座標設為(jΔx,kΔy)(在此，j為0以上M以下，k為0以上N以下)時，對應於著眼點A之防眩膜表面上之點P的標高可表示為h(jΔx,kΔy)。
在此，測定間隔Δx及Δy係與測定機器的水平分解能相依，為了精度佳地評估細微凹凸表面，如上述般，Δx及Δy較佳均為5μm以下，尤佳均為2μm以下。此外，測定範圍X及Y如上述般，較佳均為200μm以上，尤佳均為500μm以上。
如此，在實際的測定中，表示細微凹凸表面的標高之函數，可作為具有(M+1)×(N+1)個值之離散函數h(x,y)而獲得。因此，係藉由以測定所獲得之離散函數h(x,y)與下列式(2)所定義之離散傅利葉轉換，來求取離散函數H(fx ,fy )，並藉由將離散函數H(fx ,fy )進行平方運算，可求取能譜的離散函數H2 (fx ,fy )。式(2)中的1為-(M+1)/2以上(M+1)/2以下之整數，m為-(N+1)/2以上(N+1)/2以下之整數。此外，Δfx 及Δfy 分別為x方向及y方向的空間頻率間隔，並由式(3)及式(4)所分別定義。Δfx 及Δfy 相當於標高之能譜的水平分解能。
第4圖係以二維離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面的標高之圖的一例。第4圖中，標高係以白與黑的階度來表示。第4圖所示之離散函數h(x,y)係具有512×512個值，水平分解能Δx及Δy為1.66μm。
此外，第5圖係以白與黑的階度來表示將第4圖所示之二維函數h(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之標高的能譜H2 (fx ,fy )之圖。第5圖所示之標高的能譜H2 (fx ,fy )亦為具有512×512個值之離散函數，標高之能譜的水平分解能Δfx 及Δfy 為0.0012μm-1 。
如第4圖所示之例子般，由於本發明之防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面係由隨機地形成之凹凸所構成，所以標高的能譜H2 係如第5圖所示，以原點為中心呈對稱。因此，可從通過屬於二維函數之能譜H2 (fx ,fy )的原點之剖面，來求取空間頻率0.01μm-1 中之標高的能譜H1 2 、空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 及空間頻率0.1μm-1 中之標高的能譜H3 2 。第6圖係顯示第5圖所示之能譜H2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。從第6圖中可得知，空間頻率0.01μm-1 中之標高的能譜H1 2 為4.4，空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 為0.35，空間頻率0.1μm-1 中之標高的能譜H3 2 為0.00076，比H1 2 /H2 2 為14，比H3 2 /H2 2 為0.0022。
如上述般，本發明之防眩膜中，空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 被設定在3至20的範圍內。標高的能譜之比H1 2 /H2 2 低於3者，係顯示防眩層的細微凹凸表面中所含之100μm以上的長週期之凹凸形狀較少，未達25μm的短週期之凹凸形狀較多者。此時無法有效地防止外光的映射，而無法獲得充分的防眩性能。此外，相對於此，標高的能譜之比H1 2 /H2 2 高於20者，係顯示細微凹凸表面中所含之100μm以上的長週期之凹凸形狀較多，未達25μm的短週期之凹凸形狀較少者。此時，當將防眩膜配置在高精細的圖像顯示裝置時，有產生閃斑之傾向。為了顯示出更佳的防眩性能並更有效地抑制閃斑，標高的能譜之比H1 2 /H2 2 較佳為5至18的範圍內，更佳為8至15的範圍內。
此外，本發明之防眩膜中，空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 被設定在0.1以下，較佳設為0.01以下。比H3 2 /H2 2 為0.1以下者，係顯示可充分地降低細微凹凸表面中所含之未達10μm的短週期成分，藉此可有效地抑制泛白的產生。細微凹凸表面中所含之未達10μm的短週期成分，不僅未有效地賦予防眩性，更會使入射於細微凹凸表面之光散射而成為泛白之原因。
上述日本特開2006-053371號公報等所記載之以往所知的防眩膜中，由於該空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 較本申請案更大，所以有容易產生閃斑之問題。因此，為了將比H1 2 /H2 2 設定在3至20的範圍內，必須降低空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 。如此，具有使空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 被降低之細微凹凸表面之防眩膜，如後述般，可藉由使用顯示出在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案，而理想地製作出。在此，所謂「圖案」，典型上係意味著用來形成防眩膜的細微凹凸表面所用之藉由計算機所製作之由2階調(例如經二值化為白與黑之圖像資料)或3階調以上的階度所構成之圖像資料，但亦可含有可單一意義地轉換為該圖像資料之資料(行列資料等)。可單一意義地轉換為圖像資料之資料，例如有各像素的座標以及僅保存階調之資料等。
如此，藉由使用顯示出在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案來形成防眩膜的細微凹凸表面，可有效地降低空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 ，而將比H1 2 /H2 2 設定在3至20的範圍內。
再者，為了獲得具有空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 為0.1以下之細微凹凸表面之防眩膜，前述圖案的能譜，較佳係在空間頻率較0.04μm-1 大且未達0.1μm-1 之範圍內具有極大值。藉由使用具有此般能譜之圖案來形成防眩膜的細微凹凸表面，可有效地增大空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H2 2 ，而將比H3 2 /H2 2 設定在0.1以下。
使用此般圖案來形成防眩膜的細微凹凸表面之方法，較佳為使用該圖案來製作具有凹凸面之模具，並將該模具的凹凸面轉印至基材膜上所形成之樹脂層的表面之方法(壓花法)。
本發明者們更發現到，防眩層的細微凹凸表面顯示出特定的傾斜角度分布者，可顯示較佳的防眩性能，且更能夠有效地防止泛白。亦即，本發明之防眩膜中，防眩層的細微凹凸表面係含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面。當細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例低於95%時，凹凸表面的傾斜角度變陡，會將來自周圍的光予以聚光，而容易產生顯示面全體變白之泛白現象。為了抑制此聚光效果以防止泛白，細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例愈高者愈佳，較佳為97%以上，尤佳為99%以上。
在此，本發明中所謂「細微凹凸表面的傾斜角度」，是指參照第2圖，在防眩膜1表面的任意點P中，相對於防眩膜的主法線方向5，在將該處之凹凸進行加權後之局部的法線6所成之角度(表面傾斜角度)ψ。關於細微凹凸表面的傾斜角度，與標高相同，可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊中求取。
第7圖係用以說明細微凹凸表面之傾斜角度的測定方法之模式圖。說明具體的傾斜角度決定方法時，如第7圖所示，首先決定出以虛線所示之虛擬平面FGHI上的著眼點A，在通過該處之x軸上的著眼點A附近，取相對於點A幾乎呈對稱之點B及D，且在通過點A之y軸上的著眼點A附近，取相對於點A幾乎呈對稱之點C及E，決定出對應於此等點B、C、D、E之防眩膜面上的點Q、R、S、T。第7圖中，以(x,y)表示防眩膜面內的正交座標，以z來表示防眩膜厚度方向的座標。平面FGHI，為分別由通過y軸上的點C之平行於x軸的直線、以及同樣通過y軸上的點E之平行於x軸的直線、通過x軸上的點B之平行於y軸的直線、以及同樣通過x軸上的點D之平行於y軸的直線與各交叉點F、G、H、I所形成之面。此外，第7圖中，係以實際之防眩膜面的位置相對於平面FGHI往上方之方式來描繪，但當然可因著眼點A的取點位置之不同，使實際之防眩膜面的位置往平面FGHI的上方或下方。
關於傾斜角度，可藉由從所測得之表面形狀的三維資訊中，求取將對應於著眼點A之實際防眩膜面上的點P、與對應於在著眼點A附近所取點之4點B、C、D、E之實際防眩膜面上的點Q、R、S、T的合計5點所構成之多邊形的4個平面、亦即四個三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法線向量6a、6b、6c、6d進行平均所得之平均法線向量(平均法線向量係與第2圖所示之將凹凸進行加權後之局部的法線6同義)之相對於防眩膜的主法線方向之極角而獲得。對各測定點求取傾斜角度後，計算出直方圖。
第8圖係顯示防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖的一例之圖表。第8圖所示之圖表中，橫軸為傾斜角度，且以0.5°為刻度來分割。例如最左邊的直柱，係表示傾斜角度位於0至0.5°的範圍之集合的分布，之後隨著往右方移動，角度每次增加0.5°。第8圖中，係表示出橫軸的每2個刻度之值的下限值，例如，橫軸中「1」的部分，表示傾斜角度位於1至1.5°的範圍之集合的分布。此外，縱軸表示傾斜角度的分布，是合計為1(100%)之值。此例中，傾斜角度為5°以下之面的比例大致為100%。
為了製作出防眩層的細微凹凸表面含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面之防眩膜，較佳仍是採取使用圖案來製作具有凹凸面之模具，並將該模具的凹凸面轉印至基材膜上所形成之樹脂層的表面之方法(壓花法)。此般壓花法中，防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度，是由具有凹凸面之模具的製造條件來決定。具體而言，可藉由改變後述模具的製造方法中之蝕刻工序的蝕刻量來進行控制。亦即，藉由減少第1蝕刻工序之蝕刻量，可減少所形成之第1表面凹凸形狀的高低差，而增加傾斜角度為5°以下的面之比率。為了製得具備含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，第1蝕刻工序之蝕刻量較佳為2至8μm。當蝕刻量未達2μm時，金屬表面幾乎無法形成凹凸形狀而成為幾乎平坦之模具，使用此模具所製作之防眩膜，無法顯示出充分的防眩性。此外，當蝕刻量超過8μm時，形成於金屬表面之凹凸形狀的高低差增大，可能使傾斜角度為5°以下的面未達95%。使用此模具所製作之防眩膜，會有產生泛白之疑慮。
此外，亦可藉由第2蝕刻工序之蝕刻量，來控制防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度。藉由增加第2蝕刻工序之蝕刻量，可有效地將第1表面凹凸形狀之表面傾斜較陡的部分予以鈍化，而增加傾斜角度為5°以下的面之比率。為了製得具備含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，第2蝕刻工序之蝕刻量較佳設為4至20μm之範圍內。當蝕刻量較小時，將藉由第1蝕刻工序所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，轉印該凹凸形狀所製得之防眩膜的光學特性並不佳。另一方面，當蝕刻量太大時，凹凸形狀幾乎消失而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示出防眩性。
本發明中，防眩層可由光硬化型樹脂等之硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂等所構成，當中較佳是由光硬化型樹脂的硬化物所構成。防眩層中，亦可分散有與硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂具有不同折射率之微粒。藉由使微粒分散，更可有效地抑制閃斑。
當使上述微粒分散於防眩層時，微粒的平均粒徑較佳為5μm以上，尤佳為6μm以上。此外，微粒的平均粒徑可設為10μm以下左右，較佳為8μm以下。當平均粒徑低於5μm時，微粒所造成之廣角側的散射光強度上升，當運用在圖像顯示裝置時，有使對比降低之傾向。
此外，微粒的折射率nb 與硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂的折射率nr 之折射率比nb /nr ，較佳為0.93以上0.98以下或1.01以上1.04以下，尤佳為0.97以上0.98以下或1.01以上1.03以下。當折射率比nb /nr 低於0.93或高於1.04時，硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂與微粒之界面的反射率增大，結果使後方散射上升，而有總透光率降低之傾向。總透光率的降低會使防眩膜的霧度增大，運用在圖像顯示裝置時會產生對比的降低。此外，當折射率比nb /nr 超過0.98且未達1.01時，由於微粒所形成之內部散射效果較小，為了將預定的散射特性賦予至防眩層以獲得由微粒所致之閃斑抑制效果時，可能必須增加微粒的添加量。
微粒的含量，相對於硬化型樹脂或熱可塑性樹脂100重量份而言，通常為50重量份以下，較佳為40重量份以下。此外，微粒的含量，較佳為10重量份以上，尤佳為15重量份以上。當微粒的含量未達10重量份時，微粒所形成之閃斑抑制效果可能會不足。
構成微粒之材料，較佳為滿足上述較佳折射率比者。如後述般，本發明中，防眩層的形成較佳係使用UV壓花法，UV壓花法中，較佳為使用紫外線硬化型樹脂。此時，由於紫外線硬化型樹脂的硬化物較多係顯示出1.50左右的折射率，所以可配合防眩膜的設計，從折射率為1.40至1.60左右者中適當地選擇作為微粒。微粒較佳係使用樹脂珠粒且為幾乎呈球狀者。該較佳的樹脂珠粒之例，有下列所揭示者。
三聚氰胺珠粒(折射率1.57)、聚甲基丙烯酸甲酯珠粒(折射率1.49)、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹脂珠粒(折射率1.50至1.59)、聚碳酸酯珠粒(折射率1.55)、聚乙烯珠粒(折射率1.53)、聚苯乙烯珠粒(折射率1.6)、聚氯乙烯珠粒(折射率1.46)、聚矽氧烷樹脂珠粒(折射率1.46)等。
(基材膜)
本發明之防眩膜中所使用之基材膜，是以透明性、耐濕性、耐候性佳，且機械強度亦佳之丙烯酸系樹脂為主成分，或是由丙烯酸系樹脂所構成。在此，本發明中所謂丙烯酸系樹脂，係意味著將甲基丙烯酸樹脂及因應必要所添加之添加劑等予以混合，並進行熔融摻混而得之材料。
所謂上述甲基丙烯酸樹脂，為以甲基丙烯酸酯為主體之聚合物。甲基丙烯酸樹脂可為1種甲基丙烯酸酯的單聚物，或是甲基丙烯酸酯與其他甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯等之共聚物。甲基丙烯酸酯可列舉出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等之甲基丙烯酸烷酯，該烷基的碳數通常約為1至4左右。此外，可與甲基丙烯酸酯共聚合之丙烯酸酯，較佳為丙烯酸烷酯，例如可列舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等，該烷基的碳數通常約為1至8左右。此等之外，亦可於共聚物中，含有在分子內具有至少1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物之如苯乙烯的芳香族乙烯化合物、或是如丙烯腈之乙烯氰化合物等。
就基材膜的耐衝擊性和製膜性之觀點來看，丙烯酸樹脂較佳為含有丙烯酸橡膠粒子。可含有於丙烯酸樹脂之丙烯酸橡膠粒子的量，較佳為5重量%以上，尤佳為10重量%以上。丙烯酸橡膠粒子量的上限並無臨限，但當丙烯酸橡膠粒子量過多時，基材膜的表面硬度會降低，此外，對基材膜施以表面處理時，會使相對於表面處理劑中的有機溶劑之耐溶劑性降低。因此，可含有於丙烯酸樹脂之丙烯酸橡膠粒子的量，較佳為80重量%以下，尤佳為60重量%以下。
上述丙烯酸橡膠粒子，為將以丙烯酸酯為主體之彈性聚合體用作為必要成分之粒子，可為實質上僅由該彈性聚合體所構成之單層構造，或是將該彈性聚合體構成為1層之多層構造。具體而言，該彈性聚合體較佳為使用藉由下列單體組成物的聚合所得之交聯彈性共聚物，該單體組成物是由：丙烯酸烷酯50至99.99重量%、至少1種之可與該丙烯酸烷酯共聚合之其他乙烯系單體0至49.9重量%、以及共聚合性的交聯性單體0.1至10重量%所構成。
形成彈性聚合體之上述丙烯酸烷酯，例如可列舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等，該烷基的碳數通常約為1至8左右。此外，可與上述丙烯酸烷酯共聚合之其他乙烯系單體，可列舉出在分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物，更具體而言，可列舉出如甲基丙烯酸甲酯的甲基丙烯酸酯、如苯乙烯的芳香族乙烯化合物、如丙烯腈之乙烯氰化合物等。此外，上述共聚合性的交聯性單體，可列舉出在分子內具有至少2個聚合性碳-碳雙鍵之交聯性的化合物，具體而言，可列舉出如二(甲基)丙烯酸乙二醇酯和二(甲基)丙烯酸丁二醇酯之多元醇的(甲基)丙烯酸酯、如(甲基)丙烯酸烯丙酯和(甲基)丙烯酸甲基烯丙酯之(甲基)丙烯酸的烯酯、二乙烯苯等。本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，是指甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯，所謂(甲基)丙烯酸，是指甲基丙烯酸或丙烯酸。
丙烯酸系樹脂中，除了上述丙烯酸橡膠粒子外，亦可含有通常的添加劑，例如有紫外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、防帶電劑、界面活性劑等。當中就提高耐候性來看，可較佳地使用紫外線吸收劑。紫外線吸收劑的例子，可列舉出如2,2’-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)酚]、2-(5-甲基-2-羥苯基)-2H-苯并三唑、2-[2-羥基-3,5-雙(α,α-二甲基苯甲基)苯基-2H-苯并三唑、2-(3,5-二-三級丁基-2-羥苯基)-2H-苯并三唑、2-(3-三級丁基-5-甲基-2-羥苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(3,5-二-三級丁基-2-羥苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(3,5-二-三級戊基-2-羥苯基)-2H-苯并三唑、2-(2’-羥基-5’-三級辛基苯基)-2H-苯并三唑之苯并三唑系紫外線吸收劑；如2-羥基-4-甲氧二苯基酮、2-羥基-4-辛氧二苯基酮、2,4-二羥基二苯基酮、2-羥基-4-甲氧-4’-氯二苯基酮、2,2’-二羥基-4-甲氧二苯基酮、2,2’-二羥基-4,4’-二甲氧二苯基酮之2-羥基二苯基酮系紫外線吸收劑；如柳酸對三級丁基苯酯、柳酸對辛基苯酯之柳酸苯酯系紫外線吸收劑等，可因應必要使用此等的2種以上。當丙烯酸系樹脂中含有紫外線吸收劑時，該量通常為0.1重量%以上，較佳為0.3重量%以上，此外，較佳為2重量%以下。
基材膜的厚度，就機械強度及處理性之觀點，並且就防眩層形成時防止膜片的捲曲之觀點來看，較佳為20μm以上，此外，就圖像顯示裝置的薄型化及成本等觀點來看，較佳為100μm以下。基材膜的厚度，尤佳為40μm以上80μm以下。
本發明之防眩膜中所使用之基材膜的製造方法，例如可使用熔融擠壓成形等一般所知的種種方法。當中，就可製得表面性狀良好的膜片之觀點來看，較佳為從T模中進行熔融擠壓成形，並將所得之熔融狀膜片的至少單面接觸於輥表面或皮帶表面來製膜之方法。尤其就提升基材膜的表面平滑性及表面光澤性之觀點來看，較佳為使上述溶融擠壓成形所得之熔融狀膜片的雙面接觸於輥表面或皮帶表面來製膜之方法。此時所使用之輥或皮帶中，與丙烯酸樹脂的熔融狀膜片接觸之輥表面或皮帶表面，為了對基材膜表面賦予平滑性，較佳為鏡面。
基材膜可由多層構造所構成，此般多層構造可列舉出含有丙烯酸橡膠粒子之層與不含有丙烯酸橡膠粒子之層之積層構造。具有多層構造之基材膜，例如可藉由採用有分流器(feed block)或多歧管鑄模等之多層熔融擠壓成形來適當地製作出。藉由將基材膜構成為多層構造，可將相反的特性賦予至基材膜。例如，於中間層具備含有丙烯酸橡膠粒子之層，且於表層的最表面具備不含有丙烯酸橡膠粒子之層之多層構造的基材膜，可藉由含有丙烯酸橡膠粒子之中間層而具有高耐衝擊性，並且藉由不含有丙烯酸橡膠粒子之表層而具有高表面硬度。
此外，本發明之防眩膜中所使用之基材膜，亦可為對由上述所得的丙烯酸系樹脂所構成之膜片施以拉伸處理後者。藉由拉伸處理，可賦予更強的耐衝擊性。拉伸方法可為任意方法，並無特別限定，可列舉出在玻璃轉移溫度以上的溫度，以拉幅機進行橫向拉伸後施以熱固定處理之方法，或是在玻璃轉移溫度以上的溫度，以拉幅機進行縱向拉伸後施以熱固定處理，然後再進行橫向拉伸後施以熱固定處理之方法。
＜防眩膜的製造方法＞
上述本發明之防眩膜，較佳係藉由含有下列工序(A)及工序(B)之方法來製造出。
(A)根據顯示出在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案，來製作出具有凹凸面之模具之工序；以及
(B)將模具的凹凸面，轉印至形成於基材膜上並含有光硬化性樹脂等硬化性樹脂或熱可塑性樹脂等之樹脂層的表面之工序。
藉由使用在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案，能夠精度佳地形成具有上述特定的空間頻率分布之細微凹凸表面。此外，藉由根據該圖案製作出具有凹凸面之模具，並將該模具的凹凸面轉印至形成於基材膜上之樹脂層的表面之方法(壓花法)，能夠精度佳且重現性良好地製得具有細微凹凸表面之防眩層。在此，所謂「圖案」，典型上係意味著用來形成防眩膜的細微凹凸表面所用之藉由計算機所製作之由2階調(例如經二值化為白與黑之圖像資料)或3階調以上的階度所構成之圖像資料，但亦可含有可單一意義地轉換為該圖像資料之資料(行列資料等)。可單一意義地轉換為圖像資料之資料，例如有各像素的座標以及僅保存階調之資料等。
上述工序(A)所用之圖案的能譜，例如若為圖像資料時，可藉由在將圖像資料轉換為2階調的二值化圖像資料後，以二維函數g(x,y)來表示圖像資料的階調，並將所得之二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換而計算出二維函數G(fx ,fy )，然後將所得之二維函數G(fx ,fy )進行平方運算而求取。在此，x及y係表示圖像資料面內的正交座標，fx 及fy 分別表示x方向的空間頻率及y方向的空間頻率。
與求取細微凹凸表面的標高之能譜相同，關於求取圖案的能譜時，階調的二維函數g(x,y)，一般是作為離散函數而獲得。此時，與求取細微凹凸表面的標高之能譜相同，可藉由離散傅利葉轉換來計算出能譜。具體而言，藉由以式(5)所定義之離散傅利葉轉換來計算出離散函數G(fx ,fy )，然後將所得之離散函數G(fx ,fy )進行平方運算而求取能譜G2 (fx ,fy )。在此，式(5)中的π為圓周率，i為虛數單位。此外，M為x方向的像素數，N為y方向的像素數，1為-M/2以上M/2以下之整數，m為-N/2以上N/2以下之整數。再者，Δfx 及Δfy 分別為x方向及y方向的空間頻率間隔，並分別由式(6)及式(7)所定義。式(6)及式(7)中之Δx及Δy分別為x軸方向及y軸方向的水平分解能。當圖案為圖像資料時，Δx及Δy分別與1個像素之x軸方向的長度及y軸方向的長度相等。亦即，當將圖案製作為6400dpi的圖像資料時，Δx=Δy=4μm，當將圖案製作為12800dpi的圖像資料時，Δx=Δy=2μm。
第9圖係顯示可用以製作本發明之防眩膜所使用之圖案的圖像資料的一部分之圖，為以階調的二維離散函數g(x,y)來表示者。第9圖所示之圖案的圖像資料為2mm×2mm的大小，且以12800dpi來製作。
第10圖係以白與黑的階度來表示將第9圖所示之階調的二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之能譜G2 (fx ,fy )之圖。由於第9圖所示之圖案係隨機地配置點者，因此，該能譜G2 (fx ,fy )如第10圖所示，係以原點為中心呈對稱。因此，可從通過能譜的原點之剖面，來求取圖案之顯示能譜G2 (fx ,fy )的極大值的空間頻率。第11圖係顯示第10圖所示之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。從該圖中可得知，第9圖所示之圖案在空間頻率0.045μm-1 中具有極大值，但在較0μm-1 還大且為0.04μm-1 以下時不具有極大值。
當用以製作防眩膜之圖案的能譜G2 (fx ,fy )，在較0μm-1 還大且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內具有極大值時，所得之防眩膜的細微凹凸表面並未顯示出上述特定的空間頻率分布，所以無法同時達成閃斑的消除以及充分的防眩性。
能譜G2 (fx ,fy )在較0μm-1 還大且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內不具有極大值之圖案，例如第9圖所示之圖案般，可藉由隨機且均一地配置多數個點而製作出。隨機地配置之點徑可為1種或複數種。此外，隨機地配置多數個點所製作之圖案中，能譜係在屬於點間的平均距離的倒數之空間頻率上顯示出第一極大值(空間頻率較0μm-1 還大之最小的空間頻率中的極大值)。因此，為了製作出能譜在較0μm-1 還大且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內不具有極大值之圖案，只需以使點間的平均距離未達25μm之方式製作圖案即可。此外，為了將防眩膜之空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 設為0.1以下，圖案的能譜較佳係在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 的範圍內具有極大值。此般圖案，可藉由以使點間的平均距離位於較10μm還大且未達25μm之範圍內之方式製得。
此外，亦可使用從隨機地配置此般多數個點所製作之圖案中，使其通過用以去除特定空間頻率以下的低空間頻率成分之高通濾波器而得之圖案。再者，亦可使用從隨機地配置此般多數個點所製作之圖案中，使其通過用以去除特定空間頻率以下的低空間頻率成分與特定空間頻率以上的高空間頻率成分之帶通濾波器而得之圖案。
如第11圖所示，隨機地配置多數個點所製作之圖案的能譜，係表示出與所配置之點的點徑與點間的平均距離相依之極大值，藉由使此般圖案通過前述高通濾波器或前述帶通濾波器，可去除不必要的成分。如此通過高通濾波器或帶通濾波器之圖案的能譜，由於藉由濾波器來去除成分，所以在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值。此外，能夠更有效率地製作出在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 的範圍內具有極大值之圖案。在此，當使用前述高通濾波器時，為了去除空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內之極大值，所去除之低空間頻率成分的上限空間頻率，較佳為0.04μm-1 以下。此外，當使用前述帶通濾波器時，為了去除空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內之極大值，且在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 的範圍內具有極大值，所去除之低空間頻率成分的上限空間頻率，較佳為0.04μm-1 以下，所去除之高空間頻率成分的下限空間頻率，較佳為0.08μm-1 以上。
當採用通過高通濾波器或帶通濾波器等之手法來製作圖案時，通過濾波器前的圖案，可使用藉由以亂數或計算機所生成之虛擬亂數來決定濃淡而具有隨機的明亮度分布之圖案。
關於根據上述方式所得之圖案來製作出模具之方法的詳細內容，將於之後詳述。
上述工序(B)，為藉由壓花法，將具有細微凹凸表面之防眩層形成於基材膜上之工序。壓花法可例示出使用光硬化性樹脂之UV壓花法、以及使用熱可塑性樹脂之熱壓花法，當中就生產性之觀點來看，較佳為UV壓花法。UV壓花法中，是將光硬化性樹脂層形成於基材膜的表面，並一邊將該光硬化性樹脂層按壓於模具的凹凸面一邊進行硬化，藉此將模具的凹凸面轉印至光硬化性樹脂層之方法。更具體而言，將含有光硬化型樹脂之塗佈液塗佈於基材膜上，在將塗佈後的光硬化型樹脂密著於模具的凹凸面之狀態下，從基材膜側照射紫外線等的光使光硬化型樹脂硬化，然後從該模具中，將形成有硬化後的光硬化型樹脂層之基材膜剝離，藉此可製得將模具的凹凸形狀轉印至硬化後的光硬化型樹脂層(防眩層)之防眩膜。
使用UV壓花法時之光硬化性樹脂，較佳為使用藉由紫外線進行硬化之紫外線硬化型樹脂，亦可將適當選擇的光起始劑組合於紫外線硬化型樹脂，而能夠使用可藉由波長較紫外線還長之可見光進行硬化之樹脂。紫外線硬化型樹脂的種類並無特別限定，可使用市售的適當品。紫外線硬化型樹脂的較佳例子，為含有三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四丙烯酸季戊四醇酯等之多官能丙烯酸酯的1種或2種以上，以及Irgacure 907(Chiba Specialty Chemicals公司製)、Irgacure 184(Chiba Specialty Chemicals公司製)、Lucirin TPO(BASF公司製)等之光聚合起始劑之樹脂組成物。可因應必要將微粒和溶劑等添加於此等紫外線硬化型樹脂中，來調製出上述塗佈液。
＜防眩膜製造用之模具的製造方法＞
以下係說明本發明之防眩膜的製造中所用之模具的製造方法。關於本發明之防眩膜的製造中所用之模具的製造方法，只要是可獲得依據上述圖案所得之特定的表面形狀之方法，則無特別限制，但為了精度佳且重現性佳地製造出細微凹凸表面，較佳係基本上含有[1]第1鍍覆工序、[2]研磨工序、[3]感光性樹脂膜形成工序、[4]曝光工序、[5]顯影工序、[6]第1蝕刻工序、[7]感光性樹脂膜剝離工序、以及[8]第2鍍覆工序。第12圖係示意性顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之圖。第13圖係示意性顯示模具的製造方法之後半部分的較佳一例之圖。第12圖及第13圖中，係示意性顯示各工序中之模具的剖面。以下參照第12圖及第13圖，詳細地說明上述各工序。
[1]第1鍍覆工序
本工序中，係對模具中所用之基材的表面施以鍍銅或鍍鎳。如此，藉由對模具用基材的表面施以鍍銅或鍍鎳，可提升之後的第2鍍覆工序中之鍍鉻的密著性與光澤性。此係由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高且平滑化作用強，可埋填模具用基材的微小凹凸或坑洞(Cavity)等而能夠形成平坦且具光澤的表面之故。藉由此等鍍銅或鍍鎳的特性，即使在後述的第2鍍覆工序中施以鍍鉻，亦可消除被視為起因於基材上所存在的微小凹凸或坑洞(Cavity)之鍍鉻表面的粗化，且由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高，而能夠減少細微龜裂的產生。
第1鍍覆工序中所用之銅或鎳，除了分別為純金屬之外，亦可為以銅為主體之合金或以鎳為主體之合金，因此，本說明書中所謂「銅」，係含有銅及銅合金之涵義，此外，「鎳」係含有鎳及鎳合金之涵義。鍍銅及鍍鎳可分別藉由電解鍍覆來進行或是無電解鍍覆來進行，一般係採用電解鍍覆。
施以鍍銅或鍍鎳時，當鍍層太薄時，無法完全排除底層表面的影響，所以該厚度較佳為50μm以上。鍍層厚度的上限並無臨限性，以成本等來看，一般較宜為500μm左右。
構成模具用基材的形成之金屬材料，就成本的觀點來看，可列舉出鋁、鐵等。此外，就處理便利性來看，尤佳為輕量的鋁。在此所謂的鋁或鐵，除了分別為純金屬之外，亦可分別為以鋁或鐵為主體之合金。
此外，模具用基材的形狀，只要是該領域中以往所採用之適當的形狀者即可，除了平板狀之外，可為圓柱狀或圓筒狀的輥。若使用輥狀的基材來製作模具，則具有能夠以連續的輥狀來製造防眩膜之優點。
[2]研磨工序
在接續的研磨工序中，係將已在上述第1鍍覆工序中施以鍍銅或鍍鎳之基材表面進行研磨。較佳係經由此工序將基材表面研磨至接近鏡面之狀態。此係由於成為基材之金屬板或金屬輥，為了達到期望精度，較多情況係施以切割或研磨等機械加工，因而在基材表面殘留加工痕跡，即使在施以鍍銅或鍍鎳之狀態下，亦可能殘留此等加工痕跡，或是在經鍍覆之狀態下，表面不見得會完全地平滑之故。亦即，即使將後述工序施於此般殘留有較深的加工痕跡之表面，加工痕跡等的凹凸亦可能較施以各工序後所形成之凹凸還深，有殘留加工痕跡的影響之可能性，當使用此般模具來製造防眩膜時，可能對光學特性產生無法預期之影響。第12圖(a)中，係示意性顯示平板狀的模具用基材7，在第1鍍覆工序中其表面被施以鍍銅或鍍鎳(該工序中所形成之鍍銅或鍍鎳的層並未顯示)，然後藉由研磨工序而具有經鏡面研磨之表面8的狀態。
關於將施以鍍銅或鍍鎳之基材表面進行研磨之方法並無特別限定，可使用機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法的任一種。機械研磨法可例示出超加工法、研光法(lapping)、流體研磨法、拋光研磨(buffing)法等。此外，可藉由使用切削工具進行鏡面切削，將模具用基材表面設為鏡面。此時所使用之切削工具的材質或形狀等並無特別限制，可使用超硬刀、CBN刀、陶瓷刀、鑽石刀等，從加工精度之觀點而言較宜使用鑽石刀。
研磨後的表面粗糙度，依據JIS B 0601的規定之中心線平均粗糙度Ra，較佳為0.1μm以下，尤佳為0.05μm以下。當研磨後的中心線平均粗糙度Ra大於0.1μm時，可能在最終形成之模具表面的凹凸形狀上殘留研磨後之表面粗糙度的影響。此外，中心線平均粗糙度Ra的下限並無特別限制，可考慮加工時間及加工成本等適當決定。
[3]感光性樹脂膜形成工序
在接續的感光性樹脂膜形成工序中，係將在溶劑中溶解有感光性樹脂之溶液，塗佈於藉由上述研磨工序施以鏡面研磨之模具用基材7之經研磨的表面8，並進行加熱、乾燥而形成感光性樹脂膜。第12圖(b)中，係示意性顯示在模具用基材7之經研磨的表面8形成有感光性樹脂膜9之狀態。
感光性樹脂可使用以往所知的感光性樹脂。例如，作為具有感光部分可硬化之性質的負型感光性樹脂，可使用於分子中具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基之丙烯酸酯的單體或預聚物、雙疊氮化物與二烯橡膠之混合物、聚乙烯肉桂酸酯系化合物等。此外，作為具有藉由顯影使感光部分溶出而僅殘留未感光部分之性質的正型感光性樹脂，可使用酚樹脂系或酚醛樹脂系等。此外，於感光性樹脂可因應必要而調配增感劑、顯影促進劑、密著性改質劑、塗佈性改質劑等各種添加劑。
當將此等感光性樹脂塗佈於模具用基材7之經研磨的表面8時，為了形成良好的塗膜，較佳係稀釋於適當的溶劑來塗佈。可使用溶纖劑系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等做為溶劑。
塗佈感光性樹脂溶液之方法，可使用凹凸塗佈、噴流塗佈、浸泡塗佈、旋轉塗佈、輥塗佈、線棒塗佈、空氣刀塗佈、刮刀塗佈、淋幕塗佈等之一般所知的方法。塗佈膜的厚度，較佳係設為乾燥後1至6μm之範圍。
[4]曝光工序
在接續的曝光工序中，係將上述能譜在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下空間頻率範圍內不具有極大值之圖案，曝光於上述感光性樹脂膜形成工序中所形成之感光性樹脂膜9上。曝光工序中所用之光源，可配合感光性樹脂的感光強度及/或感度等來適當地選擇，例如可使用高壓水銀燈的g射線(波長：436nm)、高壓水銀燈的h射線(波長：405nm)、高壓水銀燈的i射線(波長：365nm)、半導體雷射(波長：830nm、532 nm、488 nm、405 nm等)、YAG雷射(波長：1064nm)、KrF準分子雷射(波長：248nm)、ArF準分子雷射(波長：193nm)、F2準分子雷射(波長：157nm)等。
為了精度佳地形成模具的表面凹凸形狀以及防眩層的表面凹凸形狀，在曝光工序中，較佳係在精密地控制之狀態下將上述圖案曝光於感光性樹脂膜上，具體而言，係在電腦中製作圖案作為圖像資料，並依據該圖像資料，藉由從經電腦控制的雷射頭所發出之雷射光，將圖案描繪於感光性樹脂膜上。進行雷射描繪時，可使用印刷版製作用的雷射描繪裝置。此般雷射描繪裝置，可列舉出Laser Stream FX(Think Laboratory製)等。
第12圖(c)中，係示意性顯示圖案被曝光於感光性樹脂膜9之狀態。當以負型感光性樹脂來形成感光性樹脂膜時，經曝光的區域10係藉由曝光使樹脂的交聯反應進行，使相對於後述顯影液之溶解性降低。因此，顯影工序中未曝光的區域11藉由顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘留於基材表面上而成為遮罩。另一方面，當以正型感光性樹脂來形成感光性樹脂膜時，經曝光的區域10，係藉由曝光使樹脂的鍵結被切斷，使相對於後述顯影液之溶解性增加。因此，顯影工序中經曝光的區域10藉由顯影液所溶解，僅有未曝光的區域11殘留於基材表面上而成為遮罩。
[5]顯影工序
在接續的顯影工序中，當使用負型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9時，未曝光的區域11藉由顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘存於模具用基材上，並在接續的第1蝕刻工序中作用為遮罩。另一方面，當使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9時，僅有經曝光的區域10藉由顯影液所溶解，未曝光的區域11殘存於模具用基材上，並在接續的第1蝕刻工序中作用為遮罩。
顯影工序中所用之顯影液，可使用以往所知者。例如可列舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水等之無機鹼類；乙胺、正丙胺等之第一胺類；二乙胺、二正丁胺等之第二胺類；三乙胺、甲基二乙胺等之第三胺類；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等之醇胺類；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化三甲基羥乙基銨等之四級銨鹽；吡咯、哌啶等之環狀胺等的鹼性水溶液；及二甲苯、甲苯等之有機溶劑等。
顯影工序中的顯影方法並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等之方法。
第12圖(d)中，係示意性顯示使用負型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9來進行顯影處理之狀態。第12圖(c)中，未曝光的區域11藉由顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘留於基材表面上而成為遮罩12。第12圖(e)中，係示意性顯示使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9來進行顯影處理之狀態。第12圖(c)中，經曝光的區域10藉由顯影液所溶解，僅有未曝光的區域11殘留於基材表面上而成為遮罩12。
[6]第1蝕刻工序
在接續的第1蝕刻工序中，於上述顯影工序後，係將殘存於模具用基材表面之感光性樹脂膜用作為遮罩，主要對無遮罩之處的模具用基材進行蝕刻，而在經研磨後之鍍覆面上形成凹凸。第13圖(a)中，係示意性顯示藉由第1蝕刻工序，主要對無遮罩之處13的模具用基材7進行蝕刻之狀態。遮罩12下部的模具用基材7，雖未從模具用基材表面被蝕刻，但隨著蝕刻的進行，亦從無遮罩之處13被進行蝕刻。因此，在遮罩12與無遮罩之處13的交界附近，遮罩12下部的模具用基材7亦被蝕刻。以下，係將在此般遮罩12與無遮罩之處13的交界附近，遮罩12下部的模具用基材7亦被蝕刻之情形，稱為側蝕。
第1蝕刻工序之蝕刻處理，一般係使用氯化鐵(FeCl3 )液、氯化銅(CuCl2 )液、鹼蝕刻液(Cu(NH3 )4 Cl2 )等，藉由使金屬表面進行腐蝕來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等之強酸，或是藉由施加與電解鍍覆時為相反的電位來進行之反電解蝕刻。施以蝕刻處理時之形成於模具用基材之凹形狀，係因底層金屬的種類、感光性樹脂膜的種類及蝕刻手法等有所不同，無法一概而論，但當蝕刻量為10μm以下時，可從接觸於蝕刻液之金屬表面，大致等向地進行蝕刻。在此所謂蝕刻量，是指藉由蝕刻所去除之基材的厚度。
第1蝕刻工序之蝕刻量，較佳為1至50μm，尤佳為2至10μm。當蝕刻量未達1μm時，金屬表面幾乎無法形成凹凸形狀而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示出防眩性。此外，當蝕刻量超過50μm時，形成於金屬表面之凹凸形狀的高低差增大，使用所得之模具所製作之防眩膜的圖像顯示裝置中，會有產生泛白之疑慮。為了製得具備含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，第1蝕刻工序之蝕刻量尤佳為2至8μm。第1蝕刻工序之蝕刻處理，可藉由1次的蝕刻處理來進行，或是將蝕刻處理分為2次以上來進行。當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量合計，較佳係設為上述範圍內。
[7]感光性樹脂膜剝離工序
在接續的感光性樹脂膜剝離工序中，係將第1蝕刻工序中用作為遮罩所殘存之感光性樹脂膜完全地溶解而去除。感光性樹脂膜剝離工序中，係使用剝離液來溶解感光性樹脂膜。剝離液可使用與上述顯影液為相同者，藉由改變pH、溫度、濃度及浸漬時間等，當使用負型感光性樹脂時，可將曝光部的感光性樹脂膜完全地溶解，當使用正型感光性樹脂時，可將非曝光部的感光性樹脂膜完全地溶解而去除。關於感光性樹脂膜剝離工序中之剝離方法並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等之方法。
第13圖(b)中，係示意性顯示藉由感光性樹脂膜剝離工序，將第1蝕刻工序中用作為遮罩12之感光性樹脂膜完全地溶解而去除之狀態。藉由使用有由感光性樹脂膜所形成之遮罩12之蝕刻，可將第1表面凹凸形狀15形成於模具用基材表面。
[8]第2鍍覆工序
接著，係藉由對所形成之凹凸面(第1表面凹凸形狀15)施以鍍鉻，以將表面的凹凸形狀予以鈍化。第13圖(c)中，係顯示將鍍鉻層16形成於藉由第1蝕刻工序的蝕刻處理所形成之第1表面凹凸形狀15，以形成有使凹凸較第1表面凹凸形狀15更為鈍化之表面(鍍鉻表面17)之狀態。
鍍鉻較佳係採用在平板或輥等的表面上具光澤、硬度高、摩擦係數小、且可賦予良好的脫模性之鍍鉻。此般鍍鉻並無特別限制，但較佳為使用所謂光澤鍍鉻或裝飾用鍍鉻等之可顯現出良好的光澤之鍍鉻。鍍鉻一般是藉由電解來進行，其鍍覆浴可使用含有無水鉻酸(CrO3 )與少量硫酸之水溶液。藉由調節電流密度與電解時間，可控制鍍鉻的厚度。
第2鍍覆工序中，施以鍍鉻以外的鍍覆者並不佳。此係由於在鍍鉻以外的鍍覆中，由於硬度或耐磨耗性低，使模具之耐久性降低，可能在使用中使凹凸磨損或損傷模具。藉由此般模具所製得之防眩膜中，很可能難以獲得充分的防眩功能，此外，防眩膜上產生缺陷的可能性亦高。
此外，鍍覆後的表面研磨亦不佳。亦即，較佳係在第2鍍覆工序後不設置將表面進行研磨之工序，並將施以鍍鉻後的凹凸面直接用作為轉印至基材膜上的樹脂層的表面之模具的凹凸面。此係由於進行研磨會在最表面產生平坦部分，而有導致光學特性惡化之可能性，此外，會導致形狀的控制因素增加，而難以進行重現性佳之形狀控制等理由。
如此，藉由對形成有細微表面凹凸形狀之表面施以鍍鉻，可將凹凸形狀予以鈍化，並獲得其表面硬度被提高之模具。此時之凹凸的鈍化程度，因底層金屬的種類、藉由第1蝕刻工序所得之凹凸的尺寸及深度、以及鍍覆的種類及厚度等而不同，無法一概而論，但控制鈍化程度之最大因素仍是鍍覆厚度。當鍍鉻厚度較薄時，將鍍鉻加工前所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，轉印該凹凸形狀所製得之防眩膜的光學特性並不佳。另一方面，當鍍鉻厚度太厚時，除了生產性惡化外，更會產生稱為突粒之突起狀的鍍覆缺陷，故不佳。因此，鍍鉻厚度較佳為1至10μm之範圍內，尤佳為3至6μm之範圍內。
在該第2鍍覆工序中所形成之鍍鉻層，較佳係形成為維氏硬度成為800以上，尤佳形成為1000以上。此係由於當鍍鉻層的維氏硬度未達800時，除了模具使用時的耐久性降低之外，鍍鉻層的硬度降低乃因鍍覆處理時鍍覆浴組成、電解條件等產生異常之可能性高，對於缺陷的產生狀況產生較不佳的影響之可能性提高之故。
此外，用以製作本發明的防眩膜之模具的製造方法中，較佳係在上述[7]感光性樹脂膜剝離工序與[8]第2鍍覆工序之間，含有藉由蝕刻處理將由第1蝕刻工序所形成之凹凸面予以鈍化之第2蝕刻工序。第2蝕刻工序中，係藉由蝕刻處理，將由使用感光性樹脂膜作為遮罩之第1蝕刻工序所形成之第1表面凹凸形狀15予以鈍化。藉由此第2蝕刻處理，可消除由第1蝕刻工序所形成之第1表面凹凸形狀15之表面傾斜較陡的部分，使採用所得之模具所製造出之防眩膜的光學特性往較佳的方向變化。第14圖中，係示意性顯示藉由第2蝕刻處理將模具用基材7的第1表面凹凸形狀15予以鈍化，使表面傾斜較陡的部分被鈍化，而形成有具有和緩的表面傾斜之第2表面凹凸形狀18之狀態。
第2蝕刻工序之蝕刻處理，與第1蝕刻工序相同，一般係使用氯化鐵(FeCl3 )液、氯化銅(CuCl2 )液、鹼蝕刻液(Cu(NH3 )4 Cl2 )等，藉由將金屬表面進行腐蝕來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等之強酸，或是藉由施加與電解鍍覆時為相反的電位來進行之反電解蝕刻。施以蝕刻處理後之凹凸的鈍化程度，因底層金屬的種類、蝕刻手法、以及藉由第1蝕刻工序所得之凹凸的尺寸及深度等而不同，無法一概而論，但控制鈍化程度之最大因素為蝕刻量。在此所謂蝕刻量，與第1蝕刻工序相同，是指藉由蝕刻所去除之基材的厚度。當蝕刻量較小時，將藉由第1蝕刻工序所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，轉印該凹凸形狀所製得之防眩膜的光學特性並不佳。另一方面，當蝕刻量太大時，凹凸形狀幾乎消失而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示出防眩性。因此，蝕刻量較佳為1至50μm之範圍內，此外，為了製得具備含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，尤佳為4至20μm之範圍內。關於第2蝕刻工序之蝕刻處理，與第1蝕刻工序相同，可藉由1次的蝕刻處理來進行，或是將蝕刻處理分為2次以上來進行。在此，當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量合計，較佳係設為上述範圍內。
＜防眩性偏光板＞
本發明之防眩膜，由於能夠顯示較佳的防眩性並顯現良好的對比，並有效地防止因「泛白」及「閃斑」的產生所導致之觀看性的降低，所以在裝著於圖像顯示裝置時，觀看性佳。當圖像顯示裝置為液晶顯示器時，可將此防眩膜運用在偏光板。亦即，偏光板一般較多是在由吸附配向有碘或雙色性染料之聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜的至少單面上貼合有保護膜之形態，但可藉由本發明之防眩膜來構成該一方的保護膜。藉由在防眩膜的基材膜側貼合偏光膜與本發明之防眩膜，可構成防眩性偏光板。此時，偏光膜的另一面，可為未積層之狀態，或是積層有保護膜或其他光學膜之狀態，或是積層有用以貼合於液晶單元之黏著劑層。此外，於偏光膜的至少單面上貼合有保護膜之偏光板的該保護膜上，可在其基材膜側貼合本發明之防眩膜而構成防眩性偏光板。再者，偏光膜的至少單面上貼合有保護膜之偏光板中，亦可將上述基材膜作為該保護膜貼合於偏光膜後，將防眩層形成於此基材膜上而藉此構成防眩性偏光板。
例
以下係列舉出實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於此等實施例。下列例子之防眩膜及防眩膜製造用圖案之評估方法，係如以下所述。
[1]　防眩膜之表面形狀的測定
使用三維顯微鏡PLμ 2300(Sensofar公司製)來測定防眩膜的表面形狀。為了防止樣本的翹曲，係使用光學呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後，再用於測定。測定時，將物鏡的倍率設為10倍來進行測定。水平分解能Δx及Δy均為1.66μm，測定面積為850μm×850μm。
(標高的能譜之比H1 2 /H2 2 與H3 2 /H2 2 )
從以上所測得之資料中，求取防眩膜之細微凹凸表面的標高作為二維函數h(x,y)，將所得之二維函數h(x,y)進行離散傅利葉轉換而求得二維函數H(fx ,fy )。將二維函數H(fx ,fy )進行平方運算以計算出能譜的二維函數H2 (fx ,fy )，並從fx =0的剖面曲線之H2 (0,fy )中，求取空間頻率0.01μm-1 中的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中的能譜H2 2 ，並計算出能譜之比H1 2 /H2 2 。此外，求取空間頻率0.1μm-1 中的能譜H3 2 ，並計算出能譜之比H3 2 /H2 2 。
(細微凹凸表面的傾斜角度)
根據以上所測得之資料，並根據前述演算法進行計算，製作出凹凸面的傾斜角度之直方圖，從該圖中求取每個傾斜角度之分布，並計算出傾斜角度為5°以下之面的比例。
[2]防眩膜之光學特性的測定
(霧度)
防眩膜的霧度係藉由JIS K 7136所規定之方法來進行測定。具體而言，係使用依據此規格之霧度計HM-150型(村上色彩技術研究所製)來測定霧度。為了防止防眩膜的翹曲，係使用光學呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後，再供於測定。一般而言，當霧度增大時，運用在圖像顯示裝置時之圖像會變暗，結果容易使正面對比降低。因此，霧度較低者為佳。
[3]防眩膜的機械強度(鉛筆硬度)及透濕度的測定
(鉛筆硬度)
防眩膜的鉛筆硬度係藉由JIS K 5600-5-4所規定之方法來進行測定。具體而言，係使用依據此規格之電動鉛筆刮搔硬度試驗機(安田精機製作所公司製)並以荷重500g進行測定。
(透濕度)
防眩膜的透濕度係藉由JIS Z0208所規定之方法，在溫度40℃、相對濕度90%的條件下進行測定。
[4]防眩膜之防眩性能的評估
(映射、泛白的目視評估)
為了防止來自防眩膜內面之反射，係以使凹凸面成為表面之方式將防眩膜貼合於黑色丙烯酸樹脂板，在打開螢光燈之明亮室內，從凹凸面側以目視來觀察，並以目視來評估螢光燈之映射的有無、泛白的程度。映射、泛白及質感，係分別以1至3的3階段，藉由下列基準來評估。
映射1：未觀察到映射。
2：觀察到些許映射。
3：明顯地觀察到映射。
泛白1：未觀察到泛白。
2：觀察到些許泛白。
3：明顯地觀察到泛白。
(閃斑的評估)
閃斑係以下列方法來評估。亦即，從市售的液晶電視(LC-32GH3(Sharp公司製))中將表裏兩面的偏光板剝離。然後將偏光板「Sumikalan SRDB31E」(住友化學公司製)，以各自的吸收軸與原先偏光板的吸收軸一致之方式，中介黏著劑貼合於背面側與顯示面側以取代原先的偏光板，然後將下列各例所示之防眩膜，以使凹凸面成為表面之方式，中介黏著劑進一步貼合於顯示面側偏光板上。在此狀態下，從距離樣本約30cm之位置以目視進行觀察，藉此，以7階段將閃斑進行官能性評估。等級1為完全未觀察到閃斑之狀態，等級7相當於觀察到極嚴重的閃斑之狀態，等級3為觀察到些許閃斑之狀態。
[4]防眩膜製造用圖案的評估
以二維的離散函數g(x,y)來表示所製作之圖案資料的階調。離散函數g(x,y)的水平分解能Δx及Δy均為2μm。將所得之二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換而求得二維函數G(fx ,fy )。將二維函數G(fx ,fy )進行平方運算以計算出能譜的二維函數G2 (fx ,fy )，並從fx =0的剖面曲線之G2 (0,fy )中，評估在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內是否具有極大值。
＜實施例1＞
(防眩膜製造用之模具的製作)
首先製備在直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面施以銅巴拉德鍍覆者。銅巴拉德鍍覆是由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所形成者，鍍層全體的厚度係設定為大約200μm。將該鍍銅表面進行鏡面研磨，將感光性樹脂塗佈於經研磨的鍍銅表面，並進行乾燥而形成感光性樹脂膜。接著將連續地重複排列有複數個由第15圖所示之圖像資料所構成之圖案的圖案，於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光與顯影。依據雷射光所進行之曝光與顯影，係使用Laser Stream FX(Think Laboratory製)來進行。感光性樹脂膜係使用正型感光性樹脂。第15圖所示之圖案，為對於隨機地配置多數個點徑12μm的點之圖案，運用用以去除空間頻率0.04μm-1 以下的低空間頻率成分與0.1μm-1 以上的高空間頻率成分之帶通濾波器而製作出。
然後以氯化銅液進行第1蝕刻處理(蝕刻量：3μm)。第1蝕刻處理後，從輥中去除感光性樹脂膜，再次以氯化銅液進行第2蝕刻處理(蝕刻量：10μm)。然後以使鍍鉻厚度成為4μm之方式進行鍍鉻加工而製作出模具A。
(基材膜的製作)
將使30重量份的丙烯酸橡膠粒子含有於甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯=96/4(重量比)的共聚物(折射率1.49)70重量份之丙烯酸系樹脂組成物，於第1擠壓機(螺桿徑65mm、單軸、附有通氣孔(東芝機械公司製))進行熔融摻混，並供給至分流器(feed block)。此外，將使30重量份的丙烯酸橡膠粒子含有於甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯=96/4(重量比)的共聚物(折射率1.49)70重量份之丙烯酸系樹脂組成物，於第2擠壓機(螺桿徑45mm、單軸、附有通氣孔(日立造船公司製))進行熔融摻混，並供給至分流器。以使從第1擠壓機供給至分流器之樹脂成為中間層，從第2擠壓機供給至分流器之樹脂成為表層(雙面)之方式，在265℃下進行共擠壓成形，並經由被設定在85℃之輥單元，製作出厚度為80μm(中間層50μm、表層15μm×2)之3層構造的基材膜A。
(防眩層的形成)
將光硬化性樹脂組成物「GRANDIC 806T」(大日本油墨化學工業公司製)溶解於乙酸乙酯，形成50重量%濃度的溶液，然後將屬於光聚合起始劑的Lucirin TPO(BASF公司製、化學名稱：2,4,6-三甲基苯甲醯二苯基膦氧化物)，以硬化性樹脂成分每100重量份添加5重量份之方式調製出塗佈液。在基材膜A上，以使乾燥後的塗佈厚度成為6μm之方式塗佈此塗佈液，在設定為60℃之乾燥機中進行3分鐘的乾燥。將乾燥後的基材膜A，以使光硬化性樹脂組成物層成為模具側之方式，藉由橡膠輥按壓於先前所得之模具A的凹凸面並使密著。在此狀態下，從基材膜A側，以經h射線換算的光量成為200mJ/cm2 之方式，將來自強度20mW/cm2 之高壓水銀燈的光予以照射，使光硬化性樹脂組成物層硬化。然後係每個硬化樹脂將基材膜A從模具中剝離，而製作出由表面具有凹凸之硬化樹脂(防眩層)與基材膜A之積層體所構成的透明防眩膜A。
＜實施例2＞
在模具製作的曝光工序中，將連續地重複排列有複數個由第16圖所示之圖像資料所構成之圖案的圖案，於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光，以使第1蝕刻處理的蝕刻量成為5μm之方式來設定，且使第2蝕刻處理的蝕刻量成為12μm之方式來設定，除此之外，其他與實施例1相同而製作出模具B。除了使用所得之模具B之外，其他與實施例1相同而製作出防眩膜B。第16圖所示之圖案，為對於隨機地配置多數個點徑12μm的點之圖案，運用用以去除空間頻率0.035μm-1 以下的低空間頻率成分與0.135μm-1 以上的高空間頻率成分之帶通濾波器而製作出。
＜比較例1＞
除了使用厚度80μm的三乙酸纖維素(TAC)膜來取代基材膜A之外，其他與實施例1相同而製作出防眩膜C。
＜比較例2＞
首先將直徑300mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面進行鏡面研磨，並使用噴砂裝置(不二製作所公司製)，以噴砂壓力0.1MPa(計示壓)、珠粒用量8g/cm2 (輥表面積每1cm2 之用量)，將二氧化鋯珠粒TZ-SX-17(Tosoh公司製，平均粒徑：20μm)噴砂至經研磨的鋁面，於表面形成凹凸。對所得之附有凹凸的鋁輥進行無電解鍍鎳加工，而製作出模具C。此時，無電解鍍鎳厚度係設定為15μm。除了使用所得之模具C之外，其他與實施例1相同而製作出防眩膜D。
關於所得之防眩膜A至D的上述[1]至[4]的測定、評估結果，係匯總如第1表所示。此外，第17圖係顯示出從實施例1的模具A及實施例2的模具B的製作中所使用之圖案所得之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面。從第17圖中，可得知實施例1的模具A及實施例2的模具B的製作中所使用之圖案的能譜，在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內不具有極大值。
從第1表所示的結果中，可得知滿足本發明的所有要件之防眩膜A及防眩膜B，完全未產生閃斑，顯示出充分的防眩性，且亦未產生泛白。此外，由於霧度亦低，即使配置在圖像顯示裝置時，亦不會引起對比的降低。再者，鉛筆硬度高而具有強機械強度，且透濕性低而具有高耐濕性。
另一方面，未使用由丙烯酸系樹脂所構成之基材膜之防眩膜C，雖顯示出較佳的防眩性能，但鉛筆硬度及耐濕性較防眩膜A及防眩膜B更低。此外，未根據預定圖案所製作之防眩膜D，由於該能譜比H1 2 /H2 2 未滿足本發明的要件，所以產生閃斑。
1．．．防眩膜
2．．．細微凹凸
3．．．防眩膜投影面
6a、6b、6c、6d．．．法線向量
7．．．模具用基材
8．．．經研磨的表面
9．．．感光性樹脂膜
10．．．經曝光的區域
11．．．未曝光的區域
12．．．遮罩
13．．．無遮罩之處
15．．．第1表面凹凸形狀
16．．．鍍鉻層
17．．．鍍鉻表面
18．．．第2表面凹凸形狀
101．．．基材膜
102．．．防眩層
103．．．細微凹凸表面
第1圖係示意性顯示本發明之防眩膜的一例之剖面圖。
第2圖係示意性顯示本發明之防眩膜的表面之立體圖。
第3圖係顯示離散地獲得表示標高之函數h(x,y)之狀態的模式圖。
第4圖係以二維離散函數h(x,y)來表示本發明的防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面的標高之圖的一例。
第5圖係以白與黑的階度來表示將第4圖所示之二維函數h(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之標高的能譜H2 (fx ,fy )之圖。
第6圖係顯示第5圖所示之能譜H2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。
第7圖係用以說明細微凹凸表面之傾斜角度的測定方法之模式圖。
第8圖係顯示防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖的一例之圖表。
第9圖係顯示可用以製作本發明之防眩膜所使用之圖案的圖像資料的一部分之圖。
第10圖係以白與黑的階度來表示將第9圖所示之階調的二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之能譜G2 (fx ,fy )之圖。
第11圖係顯示第10圖所示之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。
第12圖(a)至(e)係示意性顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之圖。
第13圖(a)至(c)係示意性顯示模具的製造方法之後半部分的較佳一例之圖。
第14圖(a)至(b)係示意性顯示在第1蝕刻工序中所形成之凹凸面，藉由第2蝕刻工序予以鈍化之狀態的圖。
第15圖係顯示實施例1之模具製作時所使用的圖案之圖。
第16圖係顯示實施例2之模具製作時所使用的圖案之圖。
第17圖係表示第15圖及第16圖所示之圖案之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。
101．．．基材膜
102．．．防眩層
103．．．細微凹凸表面

Claims (4)

  1. 一種防眩膜，具備：基材膜、以及積層於前述基材膜上並具有凹凸表面之防眩層，該防眩膜之特徵為：前述基材膜係含有丙烯酸系樹脂；空間頻率0.01μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 ，係位於3至20的範圍內；空間頻率0.1μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 ，為0.1以下；並且前述凹凸表面含有95%以上之傾斜角度為5°以下的面。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之防眩膜，其中，前述基材膜的厚度為20μm以上100μm以下。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之防眩膜，其中，前述基材膜係含有丙烯酸橡膠粒子。
  4. 一種防眩性偏光板，具備有：如申請專利範圍第1項所述之防眩膜、以及積層於前述基材膜之與前述防眩層為相反側的面之偏光膜。
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