TWI377105B - Optical component cleanliness and debris management in laser micromachining applications - Google Patents

Description

九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本揭示是有關於雷射式工件處理系統，並且特別是有 胃；在該等系統中所執行之雷射微加X應用裡的光學構件 清潔及碎片管理。 構件 【先前技術】 ，在半導體製帛設備内用於密封雷射光束路徑之最新技 ^伴现著以種箱式風格包封作業來包封整個光學儀器體 ^、°有些設計併有—利用某種潔淨乾燥空氣或惰性氣體的 月為系統而在微加工處理之外，其他像是積體電路錯誤 修正之雷射應用項目裡亦使用到光束管。最新近的υν光 學軌線及光束路徑設計是制覆蓋來保護料光學構件。 而在包封體積内之清洩氣體或是具清洩氣體之光束管皆尚 未運用在雷射微加工應用裡。 在雷射業界中眾去〇 UV㈣雷射光可對系，统光學構件 造成極大傷害。由UV光線之E = hv (其中h=普朗克常數， 而v=光學頻率）所給定之光子能量足以打斷在許多常見氣 載分子污染物（AMC)内的鍵結並予重構。在此稱為光聚合 作用之程序裡，會在與該雷射光束相交之光學表面上構成 出聚合物。該等聚合物會將透鏡及反射鏡模糊化，降低該 系統的光學透光度，並因此造成產生效能劣化的光束扭 曲。而在出現粒子污染物的情況亦可能發生類似問題。粒 子會被汽化而又在光學表面上聚合。此外，當出現瞬時高 1377105 ^料，或會在—粒子遭燒料 擊」波。而當此音塑衝螌 響衝 ^衝擊波傳播進入-光學構件之内時， β月匕會對光學鐘層、基板或兩者造成損壞。 目前具有酬（奈）秒、pie。秒或femt。秒脈衝寬卢之 可獲用的脈衝雷射遭遇到因入射於其光學構件上之高尖峰 功率而致生的光學劣化問題。通常，基於應用項目而定， 該雷时能會遞送過度的輸出能量而必須予以衰減。目前 可用的衷減器通常是由一半波長平板及極化器組合(或此法 則之變化方式）所組成，將此者插入在該雷射光束的路徑之 内，藉由操控其極化狀態來衰減該雷射光束。利用一半波 長平板及極化器之技術雖可提供調整該衰減程度的能力： 然該衰減器組件經常是必須放置位於該雷射輸出「下游」 處=數個光學構件的後方。原因在於該半波長平板及該極 化器在當準直或近似準直的光線入射於該等之上時可最佳 地運作。此外，在一密封雷射軌線的情況下，該半波長平 板並不會產生進入該密封部份的非常良好窗口，因為波長 平板易於污染、易碎裂並且對溫度敏感。 一雷射軌線，此者構成一雷射光學系統的一部分並封 離於外部環境，乃利用該光學系統的輸入及輸出窗口以讓 光束能夠進入與離出該雷射軌線的密封部份。此外，會希 望減少入射於所有光學構件的雷射光量，因為雷射光的強 度（按W/cm2、尖峰W/cm2、或J/cm2)是與該等光學構件的 老化程度成比例關係。因此，在一產生過度雷射功率之理 想雷射系統裡，該光學系統的第一個構件應為某種類型的 1377105 衰減器。總結而言’會希望提供運作如一輸入窗口及一衰 減器的相同（複數個）光學元件。 雷射光學系統含有可劃成兩種不同類別的雷射快門。 這些包含調變、曝光及脈衝閘控快門，以及安全互鎖與處 理控制快門。該安全互鎖快門為本文所關注者，此者可藉 ·.由一種對於雷射波長為不透明之材料，並令其選擇性地移 • 入及移出該雷射光束傳播線，以間歇性地阻檔該雷射光 束。而阻檔的雷射光束則被反射到一雷射光束「阻障器」 或「棄置器」之内或之上，此等用以吸收並衰減阻擋的光 • 束β快門致動裝置包含然不限於電子機械式（螺線管）、電 子式及磁性裝置。 ^ 一運作如一安全（而非一調變）裝置之快門是按一低頻 ';(Ηζ)的重複操作以開啟並關閉。該開啟及關閉位置 被感測且饋送返回該操作系統。一適當設計之雷射快門可 阻擋雷射發射，^會使得其反射回到該雷射腔内。快門 鲁建構材料應該不用可能污染到光學系統的構件。 【發明内容】 i月/曳氣體埠口、雷射光束衰減輸入窗口及雷射快門之 =佳具體實施例組成一 υν雷射光學系統的子系統，其中 举束：住被元全地包封，以減少該等光學系統構件的污 所、'月及氣體疋透過一光束管組件内多個（例如九個）位置 左入，以確保對於污染敏感的光學構件表面位 氣體的流動路栌肉 丄 % 仏内》由於在半導體裝置製程設備内易 1377105 355 nm操作波長處不會構成臭 得壓縮氣體’並且在較佳 氧 目而偏好/月潔、乾燥空氣而勝於惰性清浅氣體。

所有的光束管组件的構件最好是由錢鎳的铭、不鏽鋼、黃 銅及鐵弗龍"材料所構成，此乃基於其出氣性質。該清浅氣 體的流動程度是由兩項關鍵因素所決定：⑴將氣流最大 二^不會在該卫件表面上之光束點内產生擾流以及⑺ 提供每】時最低的空氣體積交換量。對於所描述之具體實 施例來說，選擇每小時五倍空氣體積交換作為—最小值。 在/月冷氣體;主人點使用多孔擴散器卩降低因擾流引入的 " 動相較於一光束管組件並未配備有清洩氣體流 者，在一含有該雷射光束路徑之受控環境内的清錢體流 可讓該雷射軌線能夠維持較久。 運作如一固疋程度衰減器之輸入窗口是由一透明光 學材料所構成，例如包含然不限於具有對⑨s極化入射雷 射光束為45度指向之平形平形（plan〇 pian〇)表面的熱熔 氧石夕&於該光學構件是作為伸入一密封光學組件的輸 =窗口組# ’因此希望具有—種架置系統，此者可抗防因 在=該光學系統（在本例中為該覆蓋）之機械構件所造成而 可月b會k成潛在的雷射光束偏歪之擾流。從而較佳的架置 硬體可抗^^於任何由覆蓋所造成的應力，因為此者可將光 束衰減並防止損害。最後’由於該者看到最高& W/Cm2， MM出於外部環境’因此該輸入窗口具有因外部污染 物聚合或是燒灼於外部表面上而導致的最高損壞機率。因 此，該輸入窗口會略為位移離於該雷射光束的中心線，並 1377105 且具有足夠大小’從而若是出現燒灼，可將該輸入窗口旋 轉至該光學表面的—個冑「乾淨」部份。當回應於對該外 部光學表面的損壞而旋轉該輸人窗口肖’無須進行額外的 光束導向。當安裝覆蓋以密封該光學組件時，$會因將該 覆盍配入該光學·機械組件上之應力而需要額外的光 向。 一雷射快門含有—氣動式圓柱物，此者可從該雷射光 束路徑向外及向内而回縮及延展以定位一金屬快門片。一 磁簧切換器可感測該圓柱物的位置，並且將—位置信號饋

送回到-系統控制電腦。在阻擋狀態下，胃快門片：該J 射光束反射至一結構性角板之特區内，藉以安全地衰減該 光束。該快門機制乃部分地被該雷射光學組件之隔板所覆 蓋’並與其共享一潔淨空氣清泡來源。三項雷射快門設計 特性包含：（1)該機制受曝於一雷射光之部份是由非出氣性 材料所構成’以限制光學污染；（2)該氣動式圓柱物將一移 動力度傳授至該快門片’此者並不含有可能會污染光學構 件的材料，並且不會產生熱，藉以確保能夠將因熱產生作 用而導致的光束導向保持在最低度；以及（3)將含有並衰減 所反射/阻擋光束之特性整合於該組件内，而無須外部構 件0 該快門在該雷射輻射自該雷射頭的輸出窗口散發後即 直接地予以阻擋。這會在當該雷射安全互鎖電路中斷時， 或是透過該系統控制電腦的人工命令，而自動地進行。可 藉由使用本裝置以消除由該快門致動器所產生之廢熱並 且不會出現已知造成光學構件污染問題的材料。 可自後文中的本揭示較佳具體實施例詳細說明而顯知 進二相關之額外目的及優點，此說明係參照於隨附圖式所 - 【實施方式】 ./ ®卜以及2B裡顯示—其中含有前文概述之三項子 統的較佳具體實施例之雷射光學系統。圖】係一雷射光 學系統1〇的平面圖，而其覆蓋係已移除。® 2A及2B為 ® 1雷射光學系統10之相對侧的等角透視圖，分別顯示 其中設置有-雷射頭及—空間過濾器。圖】、Μ及2B裡 顯示出該雷射軌線组件，而無密封整個雷射光學系統1〇 • 料部覆蓋。所有的光束管組18皆可於此三張圖式中觀 見’並且在圖1中特定地加以識別。 參照於圖1、2A及2B，一雷射頭12 (裝載於一個別覆 魯蓋内）的輸出光束係沿一概為「s」形狀之光束路徑並穿 過該雷射光學系統10之-離出窗口 16而傳播。該輸出光 .束經過多個光束管組18的内部範圍，而往返傳播於沿該 • 雷射光束路徑所放置的包封光學構件。該光束管組件將該 雷射光束限制在該雷射光學系統1〇内的氣氛受控環境裡。 該雷射頭12的輸出光束穿過一雷射快門2〇而傳播至 一光束衰減輸入窗口 24及其相關支撐組件或隔板26。底 下將進一步詳細描述該雷射快門2〇及該光束衰減輪入窗 口 24為兩個子系統。該衰減雷射光束經過一預擴大組件 10 ^77105 而傳播至一第一迴轉反射鏡組件34及一贫 久 第二迴轉反射鏡 組件38。該等迴轉反射鏡組件34及38 π人仏 ^ ^ 8了合作以反轉該雷 射光束路徑的方向。該雷射光束反射離 ^认 開該第二迴轉反射 鏡、.且件3 8的迴轉反射鏡，並且經過—笛 乐一人工衰減器44 及-聲光調變器(AOM) 46而傳播至一第三迴轉反射鏡组件 5〇及一第四迴轉反射鏡組件54。該等迴轉反射鏡組件5〇 及54可合作以將該雷射光束路徑反轉 1W至其原始的傳播方 向。該雷射光束反射離開該迴轉反射鏡組件54的迴轉反 射鏡，並且傳播經過一空間過濾器58 (承裝於一分離覆蓋 内）、一第二人工衰減器60以及一可變光束擴大器組件64 而離開該窗口 I 6。 該等迴轉反射鏡組件34、38、50及54 ;該等人工衰 減器44及60;以及該光束衰減輸入窗口 24的輸入與輸2 各者皆配備以一氣體清洩埠口 68，以供經由該光束管組件 將清洩氣體流注入。（該雷射頭12亦含有一氣體清洩埠口， 而此者未圖示。）一整合於該包封雷射光束管組件之結構内 的清茂氣體注入係一子系統，而底下將對此進一步詳細說 明。 圖3A、3B、3C及3D分別為對於一第一迴轉反射鏡 組件34之一光學構件或反射鏡架置組件72的側視圖、俯 視圖 '側視截面圖及俯視截面圖。（該迴轉反射鏡組件34 係藉範例方式所使用；可將該反射鏡架置組件72運用在 任何其他的迴轉反射鏡組件38、5〇及54。）圖3C顯示該 反射鏡架置組件7 2的整合式清洩特性，其中放置一清洩 1377105 面的所需之處。在一荣刼 畏故道， 、…、7月洩的組件裡，殘餘污染物 袁〜導致光學表面的劣彳卜P爿 铁。益丄 名化問題，即使是按極低的濃度亦 物p ^體机來持續地稀釋及移除已存在污染 物，即可大幅地降低該等污 十 采物接觸到光學表面的機會。 而右是將該清洩氣體引入一大 八！在封組件内，然無該等位 在光學表面處之細管、清洩追 月洩埠口或兩者的優點，則將不可 能控制對於個別光學構件的毫 m ^ l 僻1干的轧流。滯流區域將會出現， 污染物有機會累積。 系 配適於一襯墊82 (圖2A « + _ ( A及2B)的密封外部覆蓋（未圖 示）可提供一另增優點，即一且右科am 八有對於清洩流體之預設出氣 出口的第二阻障。該密封的外都薄 彳幻外崢覆盍有助於降低或消除在 該光學軌線外之污染物游移進入續细 π切疋八通組件而至光學表面上的 可能性。 圖4係-簡略理論圖，其中顯示一穿越_光束衰減輸 入窗口 24而傳播之光線的路徑。參照圖4 , s極化之輸入 光束100按45。角入射於一熱熔矽窗口 24的進入表面ι〇2 上。一 s極化之低強度光束104反射離開該進入表面1〇2, 而該光束100之剩餘部分進入並經過該窗口 24的内部而 傳播。一 S極化之低強度光束106反射離開一離出表面 108 ’經過該窗口 24的内部而傳播回返，並且離開該進入 表面102。一經該窗口 24折射且衰減之s極化輸出光束11〇 則疋穿過該離出表面108，沿一與該輸入光束1〇〇之光束 路徑相異的光束路徑所傳播。 可利用下列的Fresnel反射表示式，以按如角度的函 13 1377105 數來計算出光線反射： ρ·極化：λ 一加如,-θ,) Ρ S-極化：及-ϋ(θ,-θ,) 5 Sin2 +^,) 2中^為入射角而&為在玻璃内的穿透角。可按如 '定律來找出這些角度X= 其巾〜為空氣的 • 折射率’而A為玻璃内的折射率。一項對於ny.45而在1〇24 φ 奈米之熱熔矽反射損失的計算範例可如圖4給定。因此， 藉由所欲設計，該光束衰減輸入窗口 24即可引入按照一 依據上述表示式所建立之固定值的光線損失。 圖5、6及7分別為一光束衰減輸入窗口 24之實際製 物的截面圖、後視圖及爆炸圖，而此窗口係裝設於該；射 - 光學系統1 0之窗口隔板26内。 參照於圖5，該輸入光束！ 〇〇係經處理，並且構成參 照圖4所述之輸出光束11〇。低強度反射光束1〇4及 • 則傳播至一光束棄置器122，此者可吸收掉光束。一第二 光束哀減囪口 24a係放置在窗口隔板26處，藉以接收經由 • 一松封光束管18而傳播的輸出光束110。該光束衰減窗口 24a最好是由與該光束衰減輸入窗口 24相同的光學透明材 料所製成，並設定於某一角度以提供另增的衰減效果，而 一輸出光束124則是經一離出表面126且沿與該輸入光束 1 〇〇者相同的路徑所傳播。類似於個別低強度反射光束1 04 及1〇6之低強度反射光束128及13〇則傳播至該光束棄置 斋132«熟諸本項技藝之人士將可暸解在該等衰減窗口 24 1377105 及24 a内之低強度内部反射會經過該等離出表面1〇8及i26 而傳播，並且可由一設置以讓該輸出光束124通過之孔洞 (未圖示）所阻標。 參照圖ό及7’係設入該光束衰減輸入窗口 24，並且 藉由一窗口架置組件140而可釋放地耦接於該窗口隔板 - 26 ^該窗口架置組件14〇可供人工方式旋轉該衰減輸入窗 口 24以將一受損光學表面移離於該雷射光束路徑。該窗 ^ 口架置組件140含有一環形夾持器142，此者大小係經調 整以在該窗口隔板26内，按一步階開口 146之環形置肩144 的形式放置於一支撐表面上。 該環形夾持器142含有一淺凹陷！ 48，此者終結於一 平坦環形凸緣表面150,而將該衰減輸入窗口 24放置於此 表面上。二個在該窗口隔板26内由螺栓154所固定的彈 簧夾152壓制於該衰減輸入窗口 24,藉以將其固定在該環 形夾持器142内。該環形夹持器142繞於其周邊上含有多 φ 個角度相隔的旋扭孔洞156。將該等螺栓154釋放，並將 工具放置在該等曝出之旋扭孔洞156的其中一者内，可 - =一使用者能夠達到以人工方式沿該環形置肩144旋轉該 %形夹持器142，藉以對該入射雷射光束提供不同的光學 表面。 6如此，可藉由一單一光學組件，一放置在該光學系統 =封。P份内的輸入窗〇，以及一設定於該光學系統内的 疋衰減程度，來完成此光學_機械設計。該架置系統提供 -種若*現燒灼問冑，則可藉由繞於該雷射&束旋轉該窗 15 1377105 口的决速解決方式，以縮短终端使用者的停機時間。 二"-雷射快門組件2”等角透視圖此者係安 2 =射光學系統10内’而鄰近於該雷射頭12的離出 自口處(圖”。該雷射快門組件2〇含有一由—益電鑛鎳之 鋁圓柱物所構成的快門# 16〇，此者架置於一正

=轉氣動式圓柱物162的自由端處。圖从及祀為該雷 、門組件20的等角透視圖’此組件係架置在—結構性 角板164内，並繪示快門片160分別位於延展(光線阻擋) 及縮回（光線傳透）位置。該結構性角板164係架置於該雷 射快門組件20，以供連接至密封於該雷射頭12 口（圖1)的光束管組18。 ^ 在一未受壓狀態下，該延展之氣動式圓柱物162可定 位該快門片160以令該者阻擋住該雷射光束。該受阻擋光 束反射離於該快門片160的斜角表面166，並向下導^ 一 鑽鑿於該角板164的孔洞168内，後者運作如一光束棄置 器。被反射的光束後續反射離於該光束棄置器168之内部 表面的曲形粗糙表面。這些結構性構件是作為適當的熱物 質以吸收所反射的能量，並且眾多的内部擴散反射可確保 党阻擋之光束不會準直回湖反射返回到該雷射頭12。在— 受壓狀態下’該氣動式圓柱物1 62收縮並藉此將該快門片 160移離於該雷射光束路徑。該等伸展及收縮位置是由_ 磁簧切換器17 0所感測’並饋送至該系統控制電腦（未圓 示）〇 使用一氣動式致動器可將廢熱的產生最小化，並且併 16 八一 -式光束棄置器可提供一種精簡設計。 機制並未併人正常使用過程中受曝於該雷㈣射時會出I1 放出對於該雷射光學系，统1Q内光學構件造成損害之 :的材料。在雷射軌線組件及校準過程中，該雷射快門:、 人工方式操作。可藉由本雷射快門設計以獲致組 件過程中的簡易人工操作之優點。

熟諸本項技藝之人士確可顯知可對上述具體實施例之 細節進行眾多變化，而不致捧離本發明之基礎原理。因此， 本發明範@應僅Φ後載之_請專職@所決定。 【圖式簡單說明】 圖1係一雷射光學系統的平面圖，而其機殼覆蓋係已 移除。 圖2 A及2B為圖1雷射光學系統之相對側的等角透視 圖，分別顯示其中設置有一雷射頭及一空間過濾器。 A 3B、3C及3D分別為一用於圖j雷射光學系 統内之反射鏡架置組件的側視圖、俯視圖、側視截面圖及 俯視截面圖。 一圖4係一簡略圖式，其中顯示穿越一併入於圖工雷射 光干系統内之光束衰減輸入窗口而傳播的光線路徑。 圖5 6及7分別為一光束衰減輸入窗口之較佳具體 實施例的截面圖、後視圖及爆炸圖，而此窗口係裝設於圖 1雷射光學系統之窗口隔板内。 圖8係一雷射快門組件之等角透視圖，此者係安裝在 17 1377105 一併入於圖1雷射光學系統内之雷射頭的離出窗口鄰近 圖9A及9B為一雷射快門組件的等角透視圖，此組件 係架置在一結構性角板内，並繪示有一快門片，此者分別 位於延展（光線阻擋）及縮回（光線傳透）位置處。

10 12 16 18 20 24 24a 26 元件符號說明】 雷射光學系統 雷射頭 離出窗口 光束管組（光束路徑導引組件） 雷射快門組件 光束衰減輸入窗口 第二光束衰減窗口 窗口隔板

30 34 38 44 預擴大組件 第一迴轉反射鏡組件 第二迴轉反射鏡組件 第一人工衰減器 46 50 54 58 聲光調變器（AOM) 第三迴轉反射鏡組件 第四迴轉反射鏡組件 空間過濾器 第二人工衰減器 18 60 1377105 64 可變光束擴大器組件 68 氣體清洩埠口 72 反射鏡架置組件 74 清洩氣體注入埠口 76 清洩連管 78 外部光束接收表面 80 氣體擴散器 82 襯墊 100 輸入光束 102 進入表面 104 ' 低強度反射光束 106 低強度反射光束 108 離出表面 110 輸出光束 122 光束棄置器 124 輸出光束 126 離出表面 128 低強度反射光束 130 低強度反射光束 132 光束棄置器 140 窗口架置組件 142 環形夹持器 144 環形置肩 146 步階開口 19 1377105 148 淺凹陷 150 平坦環形凸緣表面 152 彈簧夾 154 螺栓 156 旋扭孔洞 160 快門片 162 氣動式圓柱物 164 結構性角板 166 斜角表面 168 孔洞 170 磁簧切換器

20 c £ y

Claims (1)

1377105 十、申請專利範圍： 101年8月28日修正替換頁 1·一種光束路徑導引組件，其中包含—氣體擴散器， 此者經組態設定以防止污染物累積於一納入作為該組件一 部分之光學構件的光束接收表面上，該組件包含： 光學構件架置器’此者具有一内部範圍，於其中一 光束可沿一光束路徑而傳送；

-光學構件，此者具有一光束接收表面，而放置在該 内部範圍之内以與該光束路徑相&，因此在該内部範圍之 内傳播的光束會入射於該光束接收表面上；以及 一氣體擴散器和多個流體流遞送構件，其與該光學構 件架置器流體相通合作’在該内部範圍内遞送—擴散的經 粒子過濾氣體流，其位於且流動跨越該光束接收表面處， 其中該擴散器係經組態設；^以按L率散佈位於該光 束接收表面處之該經粒子過遽氣體流，以防止滞流區域的 形成以及污染物後續累積於該光束接收表面上，而同時不 會顯著地擾動在該内部範圍内傳播之光束的穩定性。 2.如申請專利範圍帛i項所述之組件，其中該氣體擴 散器係放置在該光學構件架置器之内，並且與該内部範圍 直接地流體相通。 3 .如申請專利範圍第i項所述之組件，進一步包含一 氣體注入埠口，此者與一構成於該光學構件架置器内之氣 流通道以及該内部範圍内的開口流體相通，該氣體注入埠 口係隔離於該光學構件，藉以防止出現因應於操控一向該 氣體注入埠口提供氣體供應之外部氣體遞送導管而致生的 21 1377105 ____ . 年8月28日修正替換頁 光束接收表面位移。 ~~ -- 4_如申請專利範圍第1項所述之組件，其中該光學構 件具有一種改變入射於該光束接收表面上之光束的傳播方 • 向之型態。 5. 如申請專利範圍第4項所述之組件，其中該光學構 件含有一反射鏡。 6. 如申請專利範圍第4項所述之組件，其中該光學構 件含有一光束衰減器。

、 種工件處理系統，其中一光束沿一光束路徑而傳 播並與一放置在該處理系統内之光學構件相交，該光學構 件擁有—具有效中心之光線接收表面，並且 截面區域’此區較義-與該光學構件之光線接收表面相 父的光學表面範圍，其改良包括： —支撐組件； 一夹持器，此者可釋放地耦接於該支撐組件，並經组 態設定以夾持該光學構件U持器係經置放成可相對於 該士撑組件做選擇性地旋轉，因此當夾固該光學構件的夾 持盗旋轉該光線接收表面時，該光線接收表面之有效中心 :對於環繞該有效中心的不同旋轉角度而位在該光學表面 範圍之外；以及 一固接機制 組件。 此者運作上將該光學構件固接於該支撐 8.如申請專利範圍第7項所述 件包含一 W主 項厅边之系統’其中該支撐組 匕* S 支稽表面，並且盆中主 一甲及夹持器具有環形形狀，而 22 ^//105 ^//105 年8月28日修正替換頁 其大小係經調整以放___ 有―&緣，而該光學構件在環形夾持器含 於凸緣上。 *由省夹持器所央持時即放置 9·如申4專利範圍第8 件具有—月请 所述之系統，其申該光學構 ^ 周邊，並且其中哕浐r +m 有多個角度相隔 "衣）夾持器在繞於其周邊上含 巧度相隔置的特點，而 點’藉以沿著該支樓表面旋 ：配置於此等特 -沿該光束路徑所傳播之入射光夹持益’同時藉此對 範圍。 ，先束呈現一不同的光學表面 1 0 ·如申凊專利範圍第9 特點各者係一孔仿 、斤述之系統，其中該等多個 考係孔洞’而可將該工具插入於此。 1 1 ·如申請專利範圍第7頊所、十.^ # 、斤述之糸統，其中該光學構 牛：有-周邊，並且其中該固接機制含有沿該光學構件之 二所間隔放置的多個夾片與相關的多個長形扣接器，該 等多個夾片各者接觸到該光學 、 ]巧忑尤子構件上靠近其周邊之一部 伤’並且该專多個县报4垃哭故廿 v才接盗將其相關夾片耦接至該支撐 組件。 12. 如申請專利範圍第n項所述之系統，其中該等多 個長形扣接器含有螺栓。 13. 如申請專利範圍第7項所述之系統其中該光學構 件具有-周邊’並且其中該固接機制含有多個沿該光學構 件之周邊而㈣置的固接裝置’該等固接裝置各者具有第 一及第二末端，其中該第一末端接觸到該光學構件上靠近 其周邊之〆部份’而該第二末端接觸到該支撐組件。 23 丄377105 14.如申專利範圍帛i3項所述之系統，其中該等多 個固接裝置各者含有一夾片及一扣接器。 1 5 ★申1專利範圍帛13項所述之系統，其中該夹持 器對於該支撐組件的可釋放輕接是藉由該固接機制所完 成。 16.如申料利範@第7項所述之系統，其中該光學構 件含有一衰減窗口。 * 17·如申請專利範圍帛16項所述之系統，其中該衰減 固之光線接收表面大致為平面，並且設定於一傾斜角 度，因此該光束路經按一斜角與該光線接收表面相交，且 :亥傾斜角度引入一衰減量，而此衰減量會被傳授至一沿該 光束路徑所傳播的入射光束。 十一、圖式： 如次頁 24