TWI238176B

TWI238176B - Highly reflective flake-based pigment and method for fabricating the same

Info

Publication number: TWI238176B
Application number: TW88115514A
Authority: TW
Inventors: Kent Coulter; Thomas Mayer; Roger Phillips; Cci John S Matteu
Original assignee: Flex Products Inc
Priority date: 1998-12-07
Filing date: 1999-09-08
Publication date: 2005-08-21
Also published as: US6150022A; WO2000034395A1; US6383638B1; US6387498B1; EP1141143A1; EP1141143B1; EP1141143B2

Description

1238176 A7 B7 五、發明説明（彳）蜜jg背景 1、發明範疇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明大體上係有關一種金屬薄片顏料。詳言之，本發明係有關一種具有改良之鏡面反射性之金屬薄片顏料。 2、相關技藝顏料通常係用於諸如塗層、墨液、擠塑物、塗料、整理劑、.玻璃、陶瓷及化粧品等應用中提供光學及其他性質。顏料有許多類型，其中有些係以金屬薄片爲基礎。此等金屬薄片係包含金屬層薄膜，以改善該應用之光澤、光彩、光輝、吸收性、遮蓋性及/或反射性。然而，該顏料之光學性能係因其中各金屬薄片之固有限制而受到實質之限制。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製已知當欲於可見光波長（3 0 0 - 8 0 0毫微米）中達到最大鏡面反射性時，金屬薄片應儘可能個別地平貼。當該薄片係整體平面取向，以使該金屬薄片之最大表面積曝露於入射光，而儘可能反射最多光線時，該大量薄片之聚集產生最大之反射性，因而有最大之明亮度。然而’影響該反射特性之主要因素係爲當該薄片使用於特定應用下之大小或尺寸。例如，若該薄片厚，則大量該厚片於一應用中結合，而無法同時平置於一大體上平坦或水平之單一平面中，因爲相鄰薄片因其厚度而無法輕易地彼此重疊。結果，許多薄片不利地定向於實質垂直取向 ’而大量薄片形成放射狀之非平面層。隨後照射於該非平 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇><297公釐） 1238176 A7 B7 五、發明説明（2 ) 面層之入射光受到極強之散射及非鏡面反射。因此，有利於該應用之反射性被厚層薄片所消除。其次，厚層薄片經 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 常導致其他困難，諸如自動塗佈噴槍於塗佈應用期間堵塞〇然而，亦已知當該薄片之厚度變薄時（非剛性，柔軟 )，其開始捲曲及/或皺縮。此因入射於該薄片上之光線被散射及非鏡面反射，故降低其有利之平面性及反射性。此外，若該薄片太薄時，當於應用期間施加於一表面上時，該薄片之表面輪廓上呈現許多微觀缺陷。例如，若該輪廓粗糙，則該薄片係對應地粗糙或非平面。而且，因爲照射該表面之入射光被散射及非鏡面反射，故產生不佳之平面性及反射性。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製有一些製造方法係由金屬之單一大型片材或薄膜形成薄片，其係藉已知方法“斷裂”成小型薄片狀粒子。可形成兩類斷裂，“延展性”及“脆性”。延展性斷裂係於發生斷裂之前，先使金屬於該斷面附近進行實質塑性變形。此種變形導致數個畸形區域，具有不利之平面特性。如前文所述，此等畸形區域，諸如具有捲曲或皺縮金屬之區域，不利地將照射彼者之光線散射及漫射。另一方面，脆性斷面易於產生斷面之前，幾乎或完全不使金屬產生塑性變形，而可製造儘可能保持該較大金屬片之原始平面性的金屬薄片。結果，期望於製造期間產生脆性斷面。 .然而，大部分具有高反射性之金屬皆不產生脆性斷面。實際上，脆性斷面僅易發生於相對於其對應之拉伸強度本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐.) ~ 1238176 A7 B7 五、發明説明（3 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 具有極大之壓縮強度的材料上。此因分佈於該材料整體中之內部鍵結強度係包括拉伸及壓縮成分。拉伸強度補償指向該材料平面外之力，而壓縮強度係與平面中之力有關。因此，相同之壓縮及拉伸強度可產生延展變形，因爲進出該平面之相對強度相等。相反地，當該壓縮強度大於該拉伸強度時，該材料強度係指向該平面內，而非指向該平面外。結果’相對於拉伸強度之高壓縮強度在施力下，產生斷鍵及材料裂開。因此，鋁一一例如具有約1 3 — 2 4磅 /英吋2之拉伸強度及約1 3 — 2 4磅/英吋2之壓縮強度 - -最常於單軸應力下進行延展斷裂，使該銘具有較不利之反射特性。而且，一旦該鋁彎曲或變形，如延展性斷裂所示，該鋁保持變形，而持續具有較不利之反射特性。結果，難以製造金屬薄片，諸如鋁，而不產生降低反射性之畸形。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製如眾所周知，斷裂機制不僅於製造過程中對於金屬薄片極爲重要，使用期間亦同樣重要。例如，施加方法諸如乾燥塗料或墨液溶劑，亦於該薄片上誘發應力。此等由表面張力所致之應力仍使該薄片產生斷裂或畸形。因爲該薄片於施加期間之脆性斷裂亦易產生較小之薄片，以保持較多較大薄片之原始平面性，而非產生捲曲或變形之薄片，故改善薄片平面性及反射性。因此，薄片脆性不僅係爲製造期間之較佳特徵，應用期間亦然。是故，先前技藝已嚐試藉著同時調整其製造及應用之反射性，而產製薄、具剛性而具脆性之薄片。本紙張尺度適用中.國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1238176 Α7 Β7 五、發明説明（4 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 但所有先則技藝之解決方法皆包括某些讓步。例如，於美國專利第5，1 9 8，0 4 2號“用於塗佈材料之鋁合金粉及含該鋁粉之材料”中，教示使該金屬薄片與其他材料成爲合金，以降低該薄片具有負面影響之捲曲、皺縮及延展性。然而，合金操作稀釋該薄片的反射性。於美國專利第4，2 1 3，8 8 6號“處理鋁薄片以改善塗佈組成物外觀”中，揭示一種表面黏合物質，將該塗佈樹脂中之薄片拉平。然而，此方祛需化學性地調整該薄片及該樹脂，以達到該物質之化學相容性。該相容性相當困難，而尙未證明可實用。美國專利第4 , 6 2 9 , 5 1 2號“具有改良之性質的鋁箔顏料”中，薄片係漂浮於一樹脂塗層上。相反地，此方法使該薄片接受延展性攻擊，因爲薄片未受保護。該攻擊包括腐蝕，不僅腐蝕該薄片，亦使該應用物具有斑駁或變色之外觀。此外，若此方法與其他樹脂應用諸如透明頂塗層塗料共同使用，則該頂塗層本身易因溶劑滲透而不利地損及該薄片之平面取向。再次降低反射性。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製美國專利第5 , 5 9 3，7 7 3號“金屬粉顏料”中，揭示一種預先裂解之薄片，其具有小至基本上不可能產生薄片畸形之寬高比。然而，該收縮寬高比亦對應地收縮該薄片固有之反射能力。此因當該寬高比變小時’任何非平面薄片於應用期間之取向皆使該薄片之小型表面積曝露於光反射性最小之入射光下。其他先前技藝提議，諸如將一金屬薄片封包於一金屬塗層中，亦降低該薄片寬局比’負面地本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _Ί · 1238176 A7 B7 五、發明説明（5 ) 消去該薄片反射入射光之能力。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 美國專利第3，6 2 2，4 7 3號“於鋁表面提供塗層之方法”中，薄片之剛性藉著氧化該薄片之反射層，以形成剛性氧化物外層而增加。然而，當使用氧化物時，該薄片之固有反射性被降低了。此外，氧化物一般係於該薄片的缺陷部位形成，而妨礙該薄片表面上之均勻施加。此種不均勻性導致反射性降低，亦導致斑駁之施加外觀。已多方嚐試以藉著於其表面上施加單一或多層塗層’ 以改善薄片剛性。至今爲止，該單層塗層太厚，使得反射性因該塗層大幅散光而受損。該多層塗層誘導更多之散射，而負面地導致光於各層間之邊界上漫射。此外，所有塗層基本上皆爲有機性，而此等有機塗層結晶結構固有之天然限制爲如何形成薄的塗層，而仍於脆弱之金屬薄片上提供結構剛性。不幸的是，天然厚度限制極大，使得其他施加方法仍受限於此厚度。該方法包括經由自動塗佈噴槍噴灑該薄片。而且，當於溶劑中施加時，有機塗層最後因爲溶解之相關效應而喪失結構剛性。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製雖然存在某些剛性而有利於脆性斷面之反射性塗層，但該塗層因不使用金屬薄片而與大部分其他先前技藝相異。例如美國專利第4，3 0 9，0 7 5號“具有最大反射性之多層鏡面”中，教示一種多層塗層，僅模擬一金屬薄片及其反射性。此等塗層--因爲係交替高及低折射率層而被稱作“高-低”塗層- -係用以產生反射層，模擬金屬薄片的反射性。另一實例係描述於B ◦ 1 〇 m e y申請之美國專利第

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐.) T 1238176 A7 B7 五、發明説明（6 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 3,1 2 3,4 9〇號，其中Z n S層係塗佈於具有Mg F2 之頂層及底層。雖然具有剛性而易脆斷裂，但此結構一般極厚（約2 1 5毫微米），而無法使用於許多需要薄片之應用。而且，經常需要具有數層交替高-低塗層以模擬金屬薄片。但當厚度及層數增加時，製造複雜性及成本負荷因而增高。是故，需尋求一種備擇方法，以平價地產製一種具有改良之反射特性之薄、具剛性而脆之金屬薄片，以改善以金屬薄片爲基礎之顏料的反射性。發明之總結及目的本發明之目的係提出一種改良之以金屬薄片爲基礎的顏料，其含有實質剛性之薄金屬薄片，於約3 0‘ 0毫微米至約8 0 0鼋微米之可見光波長範圍內具有良好之鏡面反射特性。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明另一目的係提出一種改良之以金屬薄片爲基礎的顏料，其中含有薄金屬薄片，具有脆性斷裂性質，以於使用期間產生改良之反射特性。本發明另一目的係提出一種相當具有成本效益之方法 ’用以產製改良之以金屬溥片爲基礎的顏料，該顏料中含有薄、剛性且脆性之金屬薄片。本發明另一目的係提出一種改良之以金屬薄片爲基礎的顏料，其含有具有大寬高比的薄片。根據例示而廣義描述之本發明，前述及其他目的係藉本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格（210X297公釐.)~^ 1238176 A7 B7 五、發明説明（7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 著提供一種以薄片爲基礎的顏料而達成，該顏料具有多個芯片節段（各由一中心反射層形成）及至少一層位於該反射層側邊之介電質載體層。該芯片節段係爲極薄結構，具有遠大於對應之單軸拉伸強度的單軸壓縮強度。此結構係於製造及施加期間提供剛性及脆性斷裂之優點，結果使該 S1料於可見光波長範圍內具有較佳之平面及鏡面反射特性 °該剛性及脆性之較佳性質可使所形成之芯片輕易地斷裂成小薄片，而不使該薄片變成捲曲或皺縮。該芯片節段亦具有大的寬高比，有利於應用期間反射大量入射光。根據本發明各個具體實例，可於所製造之芯片節段周圍形成一或多層塗層。該塗層可包括各種介電質、吸收劑、及/或其他光學塗層，厚度係視該顏料所需之光學特性而定。該塗層係於該顏料上提供特定特性，諸如顏色漂移、增色、磁性、日光吸收性等。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製於本發明製造高反射性之以薄片爲基礎之顏料的方法中，第一介電質載體層係於一網狀材料之上表面上形成，而一反射層係於該第一介電質載體層上形成。第二介電質載體層可於該反射層上形成，以完成具有實質剛性之核心薄片薄膜’而賦予該顏料高反射性。然後自該網狀材料移出該芯片薄膜’以產生多個芯片節段。可視需要於該芯片節段周圍形成一或多層塗層。可由以下描述及申請專利範圍更充分地明瞭本發明之其他目的及特色，或可藉著依循下文進行本發明而習得。 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 1238176 A7 B7 五、發明説明（8 ) 祖^_簡單說明 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲了更充分地明瞭得到前述及其他本發明優點及目的之方法，參照其說明於附圖之特定具體實例而更特定地描述本發明。已知此等附圖僅說明本發明之典型具體實例，故不視爲本發明範圍之限制，描述目前已知用以進行及使用本發明之最佳模式，而經由附圖更加詳細地說明，其中圖1係爲本發明明亮金屬薄片薄膜之剖面圖；圖2 A及2 B係爲本發明備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子之剖面圖；圖3A - 3 D係爲本發明另一備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子之剖面圖；圖4 A及4 B係爲本發明另一備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料的剖面圖；圖5 A及5 B係爲本發明另一備擇具體實例以薄片爲基礎之顏料粒子的剖面圖；經濟部智慧財產局員工消費合作社印製圖6係爲本發明另一備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子的剖面圖；圖7係爲本發明另一備擇具體實例之以薄片爲基礎之顏料的剖面圖；且圖8係爲各種以薄片爲基礎之顏料相對於波長之總反射性的圖示。主要元件對照表本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) ~ 1238176 A7 B7 五、發明説明（9 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 10 芯片節段 11 網 12 載體層 14 反射層 16 介電載體層 18 薄膜光學層 2 0 a 以薄片爲基礎之顏料粒子 2 0b 以薄片爲基礎之顏料粒子 2 4 介電塗層 25 介電塗層 26 吸收劑塗層 30a 顏料粒子 30b 顏料粒子 3 0 c 顏料粒子 3 0 d 顏料粒子 3 4 介電塗層 35 介電塗層 36 吸收劑塗層 4 0a 顏料粒子 40b 顏料粒子 4 4 介電塗層 5 0 a 顏料粒子 5 0b 顏料粒子 5 2 介電塗層 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12- 1238176 A7 B7 五、發明説明（1〇 4 5 7 6 0 6 2 6 4 6 6 6 8 7〇 7 2 7 4 7 6 介電塗層介電塗層介電塗層介電塗層以薄片爲基礎之顏料粒子薄膜塗層色門（c e r m e t )材料磁性材料紅外光反射性材料以薄片爲基礎之顏料粒子塗層有機染料材料無機著色劑材料 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 發明昆复本發明係有關 3 0 〇至約8〇〇經濟部智慧財產局員工消費合作社印製上置有介電質載體層。該介電質層係於供剛性支撐及脆性斷裂特性。本發明之分上環繞一或多層介電質、吸收性、及薄片爲基礎之顏料- -其中含有薄、剛一種以金屬薄片爲基礎之顏料，其於約毫微米之可見光波長範圍內具有改良之鏡面反射性。本發明之特色係提出一種該顏料薄片之核心部分’其具有一薄反射層，一般係爲金屬，該反射層之一或兩相對平面表面該金屬反射層上提特色係於該核心部 /或其他光學層，以產生大量顏料粒子本發明以金屬本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 1238176 A7 B7 五、發明説明（11 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 性且脆性之金屬薄片- -可藉著相對具有成本效益方法製造。該以薄片爲基礎之顏料可使用於各種應用，諸如塗佈組成物、墨液、擠塑物、塗料、靜電塗層、玻璃、陶瓷及化粧品。該薄金屬薄片於該顏料中之脆性斷裂性質於使用該顏料期間提供改良之反射特性。參照附圖，其中相同結構係以相同編號表示，圖中僅顯示明瞭本發明所需之結構。圖1係表示一以薄片爲基礎之顏料薄膜，用以製造本發明高反射性以薄片爲基礎之顏料。該以薄片爲基礎之顏料薄膜包括一芯片節段1 0，其係於一撓性材料網1 1上藉著習用沉積方法形成，如下文所詳述。該芯片節段1〇係包括一中心反射層1 4，反射層1 4之一側邊形成至少一·層載體層1 2。如圖1所示，可於反射層1 4之相反側邊上形成第二層載體層1 6，以產製三層核心結構。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製圖1亦顯示一或多層薄膜光學層1 8 (透視顯示）可視情況位於芯片節段1 0上，先決條件爲該芯片節段之功能保持不變。例如在以薄片形式自網1 1取下之前，先於芯片節段1 〇之一或兩側面形成各種介電質、吸收劑、及 /或其他光學塗層，厚度係視該顏料所需之光學特性而定。此等薄片可用以製造光學塗料薄片，用以形成反覆之光學塗層，或可進行其他塗佈過程，以於該薄片周圍產製另外之光學層。就方便性及簡短性而言，本發明之芯片節段有時應稱爲“明亮金屬薄片”（B M F )。此稱謂並不排除由除純金屬本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210x297公釐） Γ14. 1238176 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α7 Β7 五、發明説明（12 ) 以外之材料所形成之反射層。本發明較佳芯片節段另外詳細描述於共待審申請案“明亮金屬薄片”（1 9 9 8年丄月曰申請之U· S . Ser ·Ν〇·〇9/〇〇5，〇64) ，其倂入本文參考。供反射層1 4使用之材料係經選擇，以具有適於顏料用途之反射特性。此時較佳反射層材料係爲鋁，其具有良好反射特性，同時價格不貴，且可輕易形成一薄層。然而 ’就本發明教示已知可使用其他反射性材料取代鋁。例如，銅、銀、金、鉑、鈀、鎳、鈷、鈮、鉻、錫、及其組成物或此等或其他金屬之合金可作爲反射性材料。其他可使用之反射性材料包括但不限於過渡金屬及鑭系金屬及其組成物；及金屬碳化物、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬硫化物、其組成物、或金屬與一或多種此等材料之混合物。反射層1 4之厚度可介於約4 0毫微米至約1 5 0毫微米範圍內，唯此範圍應不視爲限制。例如，鋁反射層以選擇約4 0毫微米之下限爲佳，使得該鋁呈不透明。其他反射層材料可調整較高或較低最小厚度，以得到一不透明厚度。此具體實例中，主要選擇約1 5 0毫微米之上限，以於最終顏料中得到直徑對厚度之高的寬高比。某些情況下仍可接受較大之厚度。於更佳範圍內，反射層之厚度係由約8 〇毫微米至約 1 5 0毫微米，而最佳厚度係約1 〇〇毫微米。就約8〇毫微米之下限而言，此極限係經選擇以針對鋁層得到實質不透明之厚度，以利於反射性。其他反射層材料可使用較本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇Χ29<7公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}

1238176 A7 _ B7 五、發明説明（13 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 高或較低之最小厚度’以得到不透明之厚度。該約1 5 〇毫微米之上限仍係選擇以保持最終顏料之高的寬高比。然而’所選擇之反射層厚度在未受到支撐下相當脆弱，該層具有負面性質諸如捲曲、皺縮及延展性。因此，於反射層 1 4之任一或兩側面上形成載體層1 2及1 6。該載體層以包含介電材料爲佳。該載體層之介電材料以無機爲佳，因爲已發現無機介電材料具有良好之脆性及剛性特性。例如，載體層1 2及1 6可由介電材料形成，包括金屬氟化物、金屬氧化物、金屬硫化物、金屬氮化物、.金屬碳化物及其組成物。適當之介電材料的實例包括氟化鎂、一氧化矽、二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、硫化鋅、其組成物等。此等材料可輕易獲得及應用。然而，由本發明技術得知，可提供本發明所描述之功能且可作爲具有玻璃狀品質之剛性層的任何載體材料，皆可作爲此等材料中之一的可令人接受之取代物。較佳情況係於應用期間，保護該介電材料以防止溶劑之負面影響。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製一載體層之厚度皆可由約1 0毫微米至約2 0 0毫微米，以由約5 0毫微米至約2 0 0毫微米爲佳，而約 1〇0毫微米之厚度最佳。該載體層之塗層厚度範圍係基於所使用之實際反射層及所選擇之載體塗層而改變。使用鋁反射層及二氧化矽或氟化鎂作爲載體層時，根據該塗層強度選擇約5 〇毫微米之厚度下限’小於該値時，則強度不足以在撓曲鋁反射層之應力及應變下保持結構完整性（因此保持薄片剛性）。約2 0 0毫微米之上限係根據於超本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格（210X297公楚1 7^6 - " 1238176 A7 B7 五、發明説明（14 ) 過2 0 0毫微米厚度之介電載體層間發現彩色干擾。當彩色干射爲有用時，可使用較厚之載體層。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由前文所述，已知目則較佳Z芯片節段1 〇僅約 3 ο 〇毫微米厚：兩載體層各約1 〇〇毫微米厚，而反射層係約1 0 0毫微米。儘管此超小薄片厚度’仍意外地發現具有此種三層結構之薄片具有足以作爲局反射性顏料之剛性，主要係因爲該載體介電質之固有單軸強度。例如’ 二氧化矽之介電載體塗層之單軸壓縮強度約1 6 0，0 0〇 (磅/英吋2 )，而單軸拉伸強度約7 0 0 0 (磅/英吋2 )，防止內部反射層撓曲、彎曲或其他變形。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製鋁具有約等於其壓縮強度之拉伸強度。當該鋁層係根. 據本發明以支撐之介電質形成層狀時，該芯片節段之單軸壓縮強度（磅/英吋2 )係意外地較該單軸拉伸強度（磅/ 英吋2 )大約8倍。此種意外之結果於實驗上係支撐於脆性斷裂之已知理論下，稱爲GnffUh‘s理論。此種強度之實質差異將易因延展而斷裂之鋁層轉化成易因脆性而斷裂之層。脆性斷裂特性有利地於製造期間形成一較大金屬膜，而有利於在使用期間因應力而使個別金屬薄片斷裂。於較佳脆性範圍中，當該芯片節段之單軸壓縮強度係約該單軸拉伸強度之約6倍或更高時，該反射層係藉著載體層而令人滿意地強化。雖然該芯片節段可於較該拉伸強度低約6倍之量下強化，但該薄片易與延展性斷裂般地具有負面斷裂特性。應已知雖然可於雙側面載體塗層中達成前述剛性及脆性，但仍期望該反射層亦可塗佈於單一側面 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1238176 A7 B7 五、發明説明（15 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ，而仍可於製造及使用期間達到有利之性質。然而，該單層塗層一般需藉著熟習此技藝者已知之方式進行應力平衡，以防止該薄片捲曲。然而，該雙側面塗佈係爲該芯片節段之較佳具體實例，令人滿意地改善薄片剛性，而促進可使用於製造方法中之對稱性。本發明芯片節段並非均勻形狀。該薄片可簡稱爲具有一“直徑”。於較佳具體實例中，該芯片節段之直徑係介於約 1 — 5 0微米範圍內，以約5 - 1 5微米範圍內爲佳。本發明芯片節段之薄片直徑相對於薄片厚度之寬高比係介於約6 · 5 — 6 2 5範圍內，以約5 0 — 2 5〇範圍內爲佳。眾所周知地，寬高比愈高，該芯片節段貼平之機率愈高，因而增加反射性。因爲許多先前顏料及/或薄片皆具有僅約1 5之最佳寬高比，故已知本發明之寬高比將產生實質改良之反射性。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製製造本發明以薄片爲基礎之顏料的方法先包括製造芯片節段1 0之方法。第一層介電載體層1 2係位於網1 1 之頂面，如圖1所示，而反射層1 4係位於載體層1 2上，使用習用沉積方法諸如物理性蒸汽沉積（P V D )。該網1 1係由可撓性材料製造，可使用於習用滾塗裝.置。可藉著沉積方法於反射層1 4上形成第二層介電載體層1 6 ，以完成具有實質剛性以提供高反射性之核心薄片膜。該核心薄片膜自網1 1取下，以製造多個包括明亮金屬薄片 (B Μ F )之芯片節段1 〇。之後，於芯片節段1 0周圍形成一或多層薄膜塗層，以產製各種顏料產物，如下文所 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐·) 1238176 A7 ___B7 五、發明説明（16 ) 詳述。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 該載體層之沉積以使用習用蒸汽沉積方法進行爲佳，使得該..載體層因爲由該蒸汽相轉化成固相時所施加於該載體層上之應力而斷裂。所沉積之反射層具有底層斷裂載體層之特性’如同沉積於該反射層上之殘留載體層一般。如此一來，該兩載體層支撐一極脆弱而薄之反射層膜，使其成爲易沿該載體層之裂紋而以脆性而非延展性之方式斷裂之的剛性反射層膜。之後，取下該可撓性網時，或藉著溶解於預定液體或藉著脫模劑，兩方式皆係技藝界已知，多個芯片節段係根據該載體層之裂紋而斷裂。此種製造技術係與詳述於1 9 9 2年8月4日申請之美國專利第 5，1 3 5，8 1 2號“光學可變性薄膜薄片及其積取”者相同，其以提及方式倂入本發明。製造之後，個別芯片節段具有意外平面特性，使各片節段極爲平坦且光滑，即使於該斷面附近皆然。與先前具有粗糙或非平面片節段之顏料不同地，此種平坦而光滑之斷面使薄膜塗層進一步沉積，而不產生表面變形。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製之後，該芯片節段硏磨成適於所需應用之尺寸。硏磨之後，各種附加薄膜塗層沉積於該芯片節段上，視該顏料於應用時所需之光學性能而定，用以形成本發明以薄片爲基礎之顏料。應已知含有無機介電質之顏料薄片可於任何製造階段硏磨成最終應用尺寸，之後施加該有機介電質。下文將詳細討論具有明亮金屬薄片之核心部分的本發明以薄片爲基礎顏料的各種備擇具體實例。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 1Q _ " 038176 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（17 ) 圖2 A係顯示本發明之一具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子2 0 a的剖面圖，具有一芯片節段i 〇，包含具有實質剛性之B M F。該芯片節段1 〇包括一反射層及至少〜位於該反射層側面之載體層，如前文所述。第一層介 Μ塗層2 4係貫質ί哀繞或封包芯片節段1 〇。該介電塗層 2 4係包括具有“低”折射率之材料，於本發明定義爲約 1 · 6 5或更低之折射率。適用於介電塗層2 4之低折射率材料包括二氧化矽（s 1〇2 )、氧化鋁（A 1 2〇3 ) 、金屬氟化物諸如氟化鎂（M g F 2 )、氟化鋁（A 1 F 3 )、氟化鈽（C e F 3 )、氟化鑭（L a F 3 )、氟化鋁鈉 (例如 N a 3 A 1 F 6 或 N a 5 A 1 3 F i 4 )、氟化鈸（ N d F 3 )、氟化釤（S m F 3 )、氟化鋇（B a F 2 )、氟化鈣（C a F 2 )、氟化鋰（L i F )、其組成物，或具有約1 · 6 5或更低之折射率的任何其他低折射率材料。例如，可使用有機單體及聚合物作爲低折射率材料，包括二烯或烯類，諸如丙烯酸酯（例如甲基丙烯酸酯）、全氟烯類、聚四氟乙烯（鐵弗龍）、氟化乙烯丙烯（F E P ) 、其組成物等。介電塗層2 4之光學厚度以具有特定設計波長之半波長的倍數爲佳，物理厚度少介於約5 0毫微米至約8 0 0毫微米範圍內，以由約7 2毫微米至約7 6〇毫微米爲佳，而約2 0 0毫微米至約6 0 0毫微米範圍內更佳。第一層吸收劑塗層2 6係實質環繞或封包介電塗層 2 4。適用於吸收劑塗層2 6之材料包括在可見光譜中具 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇x297公釐) -20- 1238176 A7 B7 五、發明説明（18 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 有均勻吸光性或選擇性吸光性之所有金屬。該金屬之實例包括鉻、鎳、鐵、鈦、鋁、鎢、鉬、鈮、其組成物或合金，諸如Inconel ( N 1 — C r — F e )、混合於介電基質中之金屬、或其他可於可見光譜中作爲均勻或選擇性吸光劑之物質。該吸收劑塗層2 6以具有介於約2毫微米至約 8 〇毫微米範圍內之厚度爲佳，以由約3毫微米至約3〇毫微米更佳。然而，已知該介電質及吸收劑塗層可使用其他厚度，以改變該顏料之光學性能。已知較薄厚度之吸收劑塗層不需連續以作爲光學吸收劑。例如，多個島狀或點狀吸收劑材料即足以作爲吸收劑〇經濟部智慧財產局員工消費合作社印製該介電塗層2 4及吸收劑塗層2 6係藉著習用塗佈方法於顏料粒子2 0 a之芯片節段1 〇旁形成。例如，適於形成該介電塗層之較佳方法係包括但不限於真空蒸汽沉積 '溶膠-凝膠水解、流體化床中之化學蒸汽沉積（C V D )、電化學沉積、及於該薄片表面上聚合一有機單體。適於形成該吸收劑塗層之方法包括但不限於蒸汽沉積、於粒子之機械振動床上濺射、藉著金屬-有機化合物之熱解而 #解、及化學蒸汽沉積流體化床。若不進行其他硏磨，則此等方法產生一被封包之芯片節段，周圍環繞有介電及吸 1&劑材料。周圍具有多層塗層之顏料薄片的製造期間，可 ί采用前述塗佈方法的各種組合。圖2 Β係爲本發明備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子2 〇 b的剖面圖。顏料粒子2 0 b包括類似前述顏 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1238176 A 7 s___ B7 五經濟部智慧財產局員工消費合作社印製、發明説明（19 ) 、、粒子2 0 a之成分’包括一芯片節段1 〇，包含b μ F t成第一層介電塗層2 5，以實質環繞或封包芯片節段 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本覓) 1 〇。該介電塗層2 5係包含具有“高，，折射率之材料，於本 π明中疋我爲大於約1 · 6 5之折射率。適於介電塗層 2 5之高折射率材料係包括硫化鋅（z n s )、氧化鋅（ Zn〇）、氧化鉻（Zr〇）、二氧化鈦（Ti〇2)、碳、氧化銦（I η 2〇3 )、氧化銦錫（][τ〇）、五氧化二鉅（T a 2〇3 )、氧化鈽（c e〇2 )、氧化釔（Y 2〇3 )、氧化銪（E u 2〇3 )、氧化鐵諸如氧化（π )二鐵（瓜）（F e 3〇4 )及氧化鐵（F e 2〇3 )、氮化給（ Η ί N )、碳化給（H f C )、氧化給（H f〇2 )、氧化鑭（L· a 2〇3 )、氧化鎂（M g〇）、氧化銨（N d 2〇3 )、氧化鐯（PreOH)、氧化衫（Sm2〇3)、氧化銻（S b 2 0 3 )、碳化矽（S i C )、氮化矽（S i 3 N 4 )、單氧化矽（S i〇）、三氧化硒（S e 2〇3 )、氧化錫（S η〇2 )、三氧化鎢（W〇3 )、其組成物等。該介電塗層2 5係具有介於由約5 0毫微米至約8 0 0毫微米範圍內之物理厚度爲佳，而由約7 2毫微米至約7 6 〇毫微米更佳。吸收劑塗層2 6係實質環繞或封包介電塗層2 5。該吸收劑塗層2 6可由與粒子2 0 a相同之材料形成’而具有相同之厚度範圍。該介電塗層2 5及吸收劑塗層2 6可藉由前述針對粒子2 0 a所描述之習用塗佈方法環繞於芯片節段1 0周圍。 -22- 尺度用中國國家標準(CNS ) A4規格（210><297公釐-) 1238176 A7 B7 五、發明説明（2〇 ) 圖3 A 一 3 D係爲本發明另一具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子之剖面圖。如圖3 A所示，顏料粒子3〇a 係具有與則述粒子2 〇 a相同之成分內部結構。此包括一芯片節段1 0 - 一包含B M F、環繞於芯片節段1 〇周圍之由低折射率材料形成之第一層介電塗層、及環繞於介電塗層2 4周圍之第一層吸收劑塗層2 6。該顏料粒子 3 〇 a另外包括環繞於吸收劑塗層2 6周圍之第二層低折射率材料介電塗層3 4，及環繞於介電塗層3 4周圍之第二層吸收劑塗層3 6。該第一層及第二層介電塗層係具有約1 ♦ 6 5或更低之折射率。該附加之介電及吸收劑塗層可使用則述習用塗佈方法而由相同材料形成，而具有與粒子2 0 a相同之厚度範圍。圖3 B係說明本發明備擇具體實例釔顏料粒子3 〇 b 。顏料粒子3 0 b具有與前述粒子2 0 b相同成分之內部結構。此包括一芯片節段1 〇--包含B M F、環繞於芯片節段1 0周圍之第一層高折射率材料介電塗層2 5、及環繞於介電塗層2 5周圍之第一種吸收劑塗層2 6。該顏料粒子3 〇 b另外包括一環繞於吸收劑塗層2 6周圍之第一層咼折射率材料介電塗層3 5、及環繞於該介電塗層 3 5周圍之第二層吸收劑塗層3 6。該第一層及第二層介電塗層係具有大於約1 . 6 5之折射率。本發明另一備擇具體實例之顏料粒子3 〇 c係說明於圖3 C中。顏料粒子3 0 c基本上具有與前述粒子3 〇 a 相问之結構，不同處係第二層尚折射率材料介電塗層3 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1238176 A7 B7 五、發明説明（21 ) 係環繞於吸收劑塗層2 6周圍。因此，介電塗層2 4具有約1 · 6 5或較低之折射率，而介電塗層3 5具有大於約 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 · 6 5之折射率。圖3 D係說明本發明另一備擇具體實例之顏料粒子 3 0 d。該顏料粒子3 〇 d具有基本上與前述粒子3〇b 相同之結構，不同處係第二層低折射率材料介電層係環繞於吸收劑塗層2 6周圍。因此，介電塗層2 5係具有大於約1 · 6 5之折射率，而介電塗層係具有約1 · 6 5或較低之折射率。圖4 A及4 B係爲本發明另一備擇具體實例以薄片爲基礎之顏料粒子的剖面圖。如圖4 A所示，顏料粒子. 4 〇 a具有與圖2 0A中粒子2 〇 a內部結構相同之成分。此包括一芯片節段1 0 - 一包含B M F及環繞於芯片節段1 0周圍之第一層低折射率材料介電塗層2 4。此外，該顏料粒子4 0 b另外包括一實質環繞於第一層介電塗層經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 4周圍之第二層介電塗層4 4該第二層介電塗層4 4係包含一吸收性介電材料諸如氧化鐵（例如F e 2〇3 )、單氧化砂（S !〇）、氧化鉻（C r 2〇3 )、碳、氮化鈦（ T i N )、鈦低ί貝氧化物（T i〇X，其中χ係小於 2 . 〇 )、其組成物等。圖4 Β係表示內部結構成分與圖2 Β中粒子2 〇 b之內部結構相同的顏料粒子4 0 b。包括一芯片節段i 〇 — -包含Β M F、及環繞於芯片節段1 〇周圍而由高折射率材料形成之第一層介電塗層2 5。此外’顏料粒子4 〇 b 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1238176 A7 -_ B7 五、發明説明（22 ) 包括貫質環繞於第一層介電塗層周圍而由吸收性材料形成之第二層介電塗層4 4。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖5 A及5 B少爲本發明另一備擇具體實例之以薄片爲基礎之顏料的粒子之剖面圖，其係由交替之高及低折射率塗層形成。如圖5 A所示，顏料粒子5 〇 a具有成分與圖4 A中之粒子4 〇 a的內部結構相同的內部結構。包括一心片節段1 〇一一包含B M F、及環繞於該芯片節段 1 ◦周圍之第二個低折射率材料介電塗層2 4。此外，顏料粒子5 〇 a包括實質環繞第一層介電塗層2 4之第二層尚折射率材料介電塗層5 2、實質環繞第二層介電塗層 5 2之第二層低折射率材料介電塗層5 4、及實質環繞第二層介電塗層5 4之第四層高折射率材料介電塗層5 6。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製如圖5 B所示，顏料粒子5 〇 ^具有成分與圖4A之粒子4 0 b的內部結構相同的內部結構。包括包含b μ f 之心片節段1 〇、及環繞於芯片節段1 〇周圍之第一層高折射率材料介電塗層2 5。此外，顏料粒子5 〇 b包括實質環繞於第一層介電塗層2 5周圍之第二層低折射率材料 7丨电塗層5 3、貫質環繞於第二層介電塗層5 3周圍之第二層局折射率材料介電塗層5 5、及實質環繞於第三層介電塗層5 5周圍之第四層低折射率材料介電塗層5 7。前述本發明顏料粒子具體實例（圖2 A 一 5 B )特別可使用於製備具有色彩漂移性質之顏料、非漂移彩色顏料、具有增色性之顏料、高反射性、磁性、及彩色之金屬。例如’於塗層中使用高折射率材料可產製具有純色之顏料本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25- 1238176 A7 ____B7 -------— _______ 五、發明説明（23 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ’使用低折射率介電材料可產生具有色彩漂移性質之顏料。圖6係爲本發明備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子6 0的剖面圖。該顏料粒子6 〇係包括一包含B M F之芯片節段1 0、及位於芯片節段1 〇上之薄膜塗層6 2。 .5亥溥膜塗層6 2可由一或多層各種不同材料形成。該薄膜塗層6 2係具有由約3至約4 0 0 0毫微米（4微米）之厚度’以由約5 0毫微米至約8 0 0毫微米爲佳，而由約 2〇0毫微米至約6 0 〇毫微米更佳。於一具體實例中’該薄膜塗層6 2可爲色門（cermet ).(陶瓷一金屬）材料6 4，針對該顏料提供選擇性陽光吸收性。H.Gurev於1 9 7 9年於1 0月1 8日申請之申請案“選擇性陽光吸收劑及摻有彼者之結構”（編號 8 6，0 7 6 ’現已放棄）中，例示有用以形成色門材料之材料及硏究。前述已放棄之申請案以提及方式倂入本發明〇另一具體實例中，薄膜塗層可爲至少一層磁性材料。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製該磁性材料可用以產製色彩漂移顏料，以使用於諸如信用卡、支票、或條碼圖型。其中一種較佳之磁性塗層設計係爲對稱性地施加鈷-鎳合金，該鈷及鎳之重量比個別係爲 8 0百分比及2 0百分比，沉積於芯片節段1 0周圍。其他可使用於芯片節段1 0之磁性色彩漂移塗層係描述於美國專利第4，8 3 8，6 4 8號中，以提及方式倂入本發明。

另一具體實例中，顏料粒子6 0之薄膜塗層6 2可包括至少一層紅外光（I R )反射性材料6 8。適當之I R •26- 本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） !238176 Α7 Β7 五、發明説明（24 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 反射性材料包括氧化銦錫、氧化銪（E U 2〇3 )、五氧化二釩（V 2〇3 )、氧化銶（R e〇3 )、硼化鑭（L a B ( )、其組成物等。圖7係爲本發明另一備擇具體實例之以薄片爲基礎的顏料粒子7 0的剖面圖◦顏料粒子7 0係包括一包含有 B M F之芯片節段1 〇、及一位於芯片節段1 〇上之輻射吸收性材料（例如可見光或紅外光）塗層7 2。該塗層 7 2可由一或多層各種不同之吸收性材料形成。塗層7 2 以具有由約3毫微米至約4 0 0毫微米之厚度爲佳，而由約5 0毫微米至約2 0 0毫微米更佳。於一具體實例中，塗層7 2可由一有機染料材料7 4 形成。適當之有機染料實例包括銅酞花青、茈、蒽醌等；偶氮染料及偶氮基金屬染料，諸如鋁紅R L W、鋁銅、鋁棗紅R L、鋁火紅“1^、鋁紅01^'\¥、鋁紫（：1^贾等；及其組成物或混合物。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製另一具體實例中，塗層7 2可由氧化鋁或二氧化矽藉著溶膠-凝膠方法形成，有機染料吸收於該溶膠-凝膠塗層中或鍵結於該塗層表面上。適用於該溶膠-凝膠塗佈方法之有機染料係包括Sandoz Coampany所售商標 Aluminiumrot GLW(銘紅 GLW)及 Aluminiumviolett CLW (銘紫C L W )。鋁紅G L W係爲含有銅之偶氮基金屬錯合物，而鋁紫C L W係爲純有機偶氮基染料。可使用於本發明之溶膠一凝膠塗佈技術係揭示於BrocUlla ( 1 9 9 8 )美國專利第4，了 5 6，7 7 1號；Zink等人，由溶膠—凝膠 -27- 本紙張尺度適用中.國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） 1238176 Α7 _Β7 五、發明説明（25 ) 方法製備之鋁矽酸鹽玻璃的光學探針及性質，聚合物彳才_ 科學工程，6 1 ，第204 — 20 8頁（ 1 989)，及

MeKieman等人，摻雜於藉溶膠-凝膠技術製備之矽酸鹽及鋁矽酸鹽玻璃中之香豆素乾燥的發光及雷射作用，j In〇。 Organomet.Polym.l ( 1 )第 8 7 — 1 〇 3 頁（1 9 g 1 ) ;其揭示以提及方式倂入本發明。另一具體實例中，塗層7 2係由無機著色劑材料7 6 形成。適當之無機著色劑係包括氮化鈦、氮化鉻、氧化絡、氧化鐵、摻雜有鈷之氧化鋁、其組成物或混合物等。該有機染料及無機著色劑可用以得到具有明亮顏色之顏料。前述具體實例之各種修飾及組合亦視爲本發明之範圍。例如，可於薄片形成之前，於前述粒子實施例周圍或於 B M F薄膜上形成附加之介電、吸收劑、及/或其他光學塗層，以產生其他所需之光學特性。以下實施例係用以說明本發明，而不限制本發明範圍實施例Γ 製備數個明亮金屬薄片顏料之試樣，每個試樣皆含有多個本發明芯片節段。該反射層各具有約1 Q Q毫微米厚度之銘，直徑係由約1 - 5 0微米範圍。於該反射層之相對平面表面上形成厚度介於約1 0 0 - 2 〇〇毫微米範圍內之無機介電載體層。該介電載體層係由二氧化砂或氟化鎂形成。本紙張尺度適用中.國國家標準( CNS ) Α4規格（210X297公釐) ~Γ7 一 ί請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁} ▼裝 -訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1238176 A7 B7 五、發明説明（26 ) 童-施例2 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 觀察以各種波長之函數表示之實際反射結果，針對實施例以薄片爲基礎之顏料及各種其他以薄片爲基礎之顏料進行記錄。圖8係爲總反射性相對於波長之反射性一波長圖，顯示實施例1以薄片爲基礎之顏料的反射性曲線8 2 。該反射性曲線8 2實驗上亦受到得自各種其他測定裝置 (未顯示），諸如墨液繪製、塗料噴灑及顯微鏡之結果的支持。圖8上爲反射性曲線8 2，純鋁薄片8 4之理論反射性曲線及塗佈有氟化鎂8 6或二氧化矽8 8之鋁薄片的預測反射性曲線。該預測曲線係以鋁之反射性爲模型，以單一薄片之各種波長加上多個薄片爲函數。應已知雖然反射性曲線8 2於低於約6 8 0毫微米波長下所實際觀察之結果係低於預測反射性値，但於高於約6 8 0毫微米所實際觀察之反射性係高於二氧化矽8 8之預測反射性反應。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製雖然該理論或預測反應並未適當地模擬，但意外地發現較模擬反射性反應爲佳之本發明顏料芯片節段的兩倍優勢結果。不僅該芯片節段之剛性使其個別具有較佳之平面特性，該芯片節段--就多個薄片而言——極薄，而相信該薄片使曝照入射光之表面積變大，而具有較大反射性。即使附加層係置於該芯片節段附近，仍因該干擾效應爲最大値而具有該鏡面反射性反應。由圖8亦應可發現所有已知先前以鋁爲基礎之顏料的 -29- 本紙張尺度適用中.國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1238176 A7 B7 五、發明説明（27 ) 測量反射性結果係低於7 5百分比。因此，本發明以爲基礎之改良芯片節段最小可達到總反射性的約5百分比改良 ’而鏡面反射性較先前以鋁爲基礎之顏料改善1 0百分比。此等結果不僅遠遠地超越先前以鋁爲基礎之顏料，此等結果亦較目前所預測者優越。本發明可在不偏離其精神或必要特性下以其他特定形式具體化。所描述之具體實例皆僅視爲說明而非限制。因此，本發明範圍係由申請專利範圍表示，而非前文描述。所有介於申請專利範圍之定義及同等範圍內之改變皆涵蓋於其範圍內。 r------------IT----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

Claims

1238176 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍化鋅、及其組成物的材料。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 8、如申請專利範圍第1項之顏料，其中該載體層係具有介於1 0毫微米至2 0 0毫微米範圍內之厚度。 9、如申請專利範圍第1項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有1 · 6 5或較低之折射率。 1〇、如申請專利範圍第9項之顏料，其中該第一層介電塗層係包含一種選自二氧化矽、氧化鋁、氟化鎂、氟化鋁、氟化鈽、氟化鑭、氟化鋁鈉、氟化鈸、氟化釤、氟化鋇、氟化鈣、氟化鋰、及其組成物的材料。 1 1、如申請專利範圍第9項之顏料，其中該第一層介電塗層係包含一種選自丙烯酸酯、全氟烯、聚四氟乙烯、氟化乙烯丙烯、其組成物等之材料。 1 2、如申請專利範圍第1項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有大於1 · 6 5之折射率。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 3、如申請專利範圍第1 2項之顏料，其中該第一層介電塗層係包含一種選自硫化鋅、氧化鋅、氧化锆、二氧化鈦、碳、氧化銦、氧化銦錫、五氧化鉅、氧化鈽、氧化i乙、氧化銪、氧化鐵、氮化飴、碳化耠、氧化給、氧化鑭、氧化鎂、氧化鈸、氧化鐯、氧化釤、三氧化二銻、碳化砂、氮化砍、一氧化砂、三氧化硒、氧化錫、三氧化鎢、及其組成物。 1 4、如申請專利範圍第1項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有介於5 0毫微米至8 0 0毫微米範圍內之厚度。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32 - 1238176 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 5、如申_專利範S1第1項之顏料，其中該第一層吸收劑塗層係包含一種選自鉻、鎳、鈦、鋁、鎢、鉬、銀、N 1 — C r — F e、及其組成物或合金之材料。 1 6、如申請專利範圍第1項之顏料，其中該第一層吸收劑塗層係具有介於2毫微米至8 〇毫微米範圍內之厚度。 1 7、如申請專利範圍第1項之顏料，其中該芯片節段係具有至少較單軸拉伸強度大6倍之單軸壓縮強度。 1 8、如申請專利範圍第1項之顏料，其另外包括第二層實質環繞於該第一層吸收劑塗層周圍之介電塗層，及第二層實質環繞於該第二層介電塗層周圍之吸收劑塗層。 1 9、如申請專利範圍第1 8項之顏料，其中該第一層及第二層介電塗層係具有1 · 6 5或較低之折射率。 2〇、如申請專利範圍第1 8項之顏料，其中該第一層及第二層介電塗層係具有大於1 . 6 5之折射率。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 1、如申請專利範圍第1 8項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有1 . 6 5或較低之折射率，而第二層介電塗層具有大於1 · 6 5之折射率。 2 2、如申請專利範圍第1 8項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有大於1 · 6 5之折射率，而第二層介電塗層具有1 . 6 5或較低之折射率。 2 3、一種高度反射性而以薄片爲基礎之顏料，其包含：多個具有實質剛性之芯片節段，每個芯片節段皆包括 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1238176 ABCD 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 具有上表面、下表面與至少一側表面之一反射層及至少一預形成於該反射層上下表面至少一者之上而非側表面上之載體層；實質環繞於各芯片節段周圍之第一層介電塗層；及實質環繞於該第一層介電塗層周圍之第二層介電塗層〇 2 4、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該反射層係包3 —種^自過渡金屬、鑭系金屬、及其組成物之材料。 2 5、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該反射層係包含一種選自銘、銅、銀、金、纟自、纟g、錬、銘、錫、鈮、鉻、及其組成物或合金的材料。 2 6、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該反射層包含一種選自金屬碳化物、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬硫化物、及其組成物的材料。 2 7、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該反射層係具有介於4 0¾微米至1 5 〇毫微米範阖內之厚度。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 8 '如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該載體層係包含一種選自金屬氟化物、金屬氧化物、金屬硫化物 '金屬氮化物、金屬碳化物、及其組成物的材料。 2 9、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該載體層係包含一種選自氟化鎂、一氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、硫化鋅、及其組成物的材料。 3 〇、如申請專利範圍第2 3項卞_齟 #」貝z _科，其中該載體本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210χ29?公釐）- 734^---- 1238176 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍層係具有介於1 0毫微米至2 0 0毫微米範圍內之厚度。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 1、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有1 · 6 5或較低之折射率。 3 2、如申g靑專利S弟3 1項之顏料，其中該第一層介電塗層係包含一種選自二氧化矽、氧化鋁、氟化鎂、氟化鋁、氟化鈽、氟化鑭、氟化鋁鈉、氟化銨、氟化衫、氟化鋇、氟化鈣、氟化鋰、及其組成物的材料。 3 3、如申請專利範圍第3 1項之顏料，其中該第二層介電塗層係包含一種選自氧化鐵、一氧化砂、氧化路、碳、氮化鈦、氧化低價鈦、其組成物等之吸收性材料。 3 4、如申請專利範圍第2 3項之顏料，其中該第一層介電塗層係具有大於1 · 6 5之折射率。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 5、如申g靑專利軔圍弟3 4項之顏料，其中該第一^ 層介電塗層係包含一種選自硫化鋅、氧化鋅、氧化锆、二氧化鈦、碳、氧化銦、氧化銦錫、五氧化鉬、氧化鈽、氧化釔、氧化銪、氧化鐵、氮化飴、碳化飴、氧化給、氧化鑭、氧化鎂、氧化銨、氧化鐯、氧化釤、三氧化二銻、碳化矽、氮化矽、一氧化矽、三氧化硒、氧化錫、三氧化鎢、及其組成物。 3 6、如申請專利範圍第3 4項之顏料，其中該第二層介電塗層係包含一種選自氧化鐵、一氧化矽、氧化鉻、碳、氮化鈦、氧化低價鈦、其組成物等之吸收性材料。 3 7、如申請專利範圍第3 1項之顏料’其中該第二層介電塗層係具有大於1 · 6 5之折射率。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格(210X297公釐) -35 - ' 1238176 A8 B8 C8 _____ D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 8、如申請專利範圍第3 7項之顏料，其另外包括第三層實質環繞於該第二層介電塗層周圍之介電塗層，及第四層實質環繞於該第三層介電塗層周圍之介電塗層。 3 9、如申請專利範圍第3 8項之顏料，其中該第三層介電塗層係具有1 · 6 5或較低之折射率，而第四層介電塗層具有大於1 · 6 5之折射率。 4 0、如申請專利範圍第3 4項之顏料，其中該第二層介電塗層具有1 · 6 5或較低之折射率。 4 1、如申請專利範圍第4 〇項之顏料，其另外包括第三層實質環繞於該第二層介電塗層周圍之介電塗層，及第四層實質環繞於該第三層介電塗層周圍之介電塗層。 4 2、如申請專利範圍第4 1項之顏料，其中該第三層介電塗層係具有大於1 · 6 5之折射率，而第四層介電塗層具有1 · 6 5或較低之折射率。 4 3、一種高度反射性而以薄片爲基礎之顏料，其包含：經濟部智慧財產局員工消費合作社印製多個具有實質剛性之芯片節段，每個芯片節段皆包括具有上表面、下表面與至少一側表面之反射層及一對預形成於該反射層上下表面上而非至少一側表面上的相反介電載體層，其中該反射層係具有介於4 0毫微米至1 5 0毫微米範圍內之厚度，而各載體層皆具有介於5 0毫微米至 2 0 0毫微米範圍內之厚度；及一薄膜塗層，實質環繞於各芯片節段周圍。 4 4、如申請專利範圍第4 3項之顏料，其中該薄膜 -36- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐) 1238176 Α8 Β8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製六、申請專利範圍塗層係包含一種色門（cermet )材料。 4 5、如申請專利範圍第4 3項之顏料，其中該薄膜塗層係包括至少一種磁性材料層。 4 6、如申請專利範圍第4 5項之顏料，其中該磁性材料係包含一種鈷-鎳合金。 4 7、如申請專利範圍第4 6項之顏料，其中該銘一鎳合金係包含8 〇重量百分比之鈷及2 〇重量百分比之鎳〇 4 8、如申請專利範圍第4 3項之顏料，其中該薄膜塗層係包括至少一層紅外光反射性材料。 4 9、如申請專利範圍第4 8項之顏料，其中該紅外光反射性材料係選自氧化銦錫、氧化銪、五氧化二釩、氧化銶、硼化鑭、其組成物等。 5 0、如申請專利範圍第4 3項之顏料，其中該薄膜塗層係爲一吸收性材料。 5 1、如申請專利範圍第5 〇項之顏料，其中該吸收性材料係包含一種有機染料材料。 5 2、如申請專利範圍第5 1項之顏料，其中該有機染料材料係選自銅酞花青、茈、蒽醌、偶氮染料及偶氮基金屬染料、及其組成物或混合物。 5 3、如申請專利範圍第5 2項之顏料，其中該偶氮染料及偶氮基金屬染料係選自鋁紅r L W、鋁銅、鋁棗紅 R L、鋁火紅M L、鋁紅G L W、鋁紫C L W等、及其組成物或混合物。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公羞） -37- --------裝------訂----- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1238176 ABCD 六、申請專利範圍 5 4、如申請專利範圍第5 0項之顏料，其中該吸收性材料係包含一種無機著色劑材料。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 5 5、如申請專利範圍第5 4項之顏料，其中該無機著色劑材料係選自氮化鈦、氮化鉻、氧化鉻、氧化鐵、摻雑有銘之氧化銘、其組成物或混合物。 5 6、一種製造高度反射性而以薄片爲基礎之顏料的方法，其包括步驟有：於一網狀材料之上層表面上形成第一層介電載體層；於該第一層介電載體層上形成一反射層；於該反射層上形成第二層介電載體層，以完成一個具有實質剛性之核心薄片膜，而於該顏料上提供高反射性；自該網狀材料上取下該核心薄片膜，以產生多個芯片節段；及於該芯片節段周圍形成薄膜塗層。 5 7、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包括至少一種實質環繞各芯片節段之介電塗層，及至少一層實質環繞該介電塗層之吸收劑塗層。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 8、如申請專利範圍第5 7項之方法，其中該介電塗層係具有1 . 6 5或較低之折射率。 5 9、如申請專利範圍第5 7項之方法，其中該介電塗層係具有大於1 . 6 5之折射率。 6〇、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包括第一層實質環繞各芯片節段之介電塗層，及第二層實質環繞該第一層介電塗層之介電塗層。玉紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) -38 - 1238176 A8 B8 C8 _D8 六、申請專利範圍 6 1、如申請專利範圍第6 0項之方法，其中該第一層介電塗層係具有1 · 6 5或較低之折射率。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 6 2、如申請專利範圍第6 0項之方法，其中該第一層介電塗層係具有大於1 . 6 5之折射率。 6 3、如申請專利範圍第6 0項之方法，其中該第二層介電塗層係包含一種吸收性材料。 6 4、如申請專利範圍第6 1項之方法，其中該第二層介電塗層係具有大於1 · 6 5之折射率。 6 5、如申請專利範圍第6 2項之方法，其中該第二層介電塗層係具有1 · 6 5或較小之折射率。 6 6、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包含一種色門（cermet )材料。 6 7、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包含一種磁性材料。 6 8、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包含一種紅外光反射性材料。 6 9、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包含一種有機染料材料。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7 〇、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係包含一種無機著色劑材料。 7 1、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該薄膜塗層係由一種選自真空蒸汽沉積、化學蒸汽沉積、電化學沉積、溶膠-凝膠水解、濺射、熱解、及其組合之方法形成。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格Ui〇x297公釐） -39 - ABCD 1238176 六、申請專利範圍 7 2、如申請專利範圍第5 6項之方法，其中該反射層係具有介於4 0毫微米至1 5 0毫微米範圍內之厚度，而該載體層係具有介於1 0毫微米至2 0 0毫微米範圍內之厚度。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -40- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）