TWI225551B

TWI225551B - Polarization plate having optical compensation function and liquid crystal display device using the same

Info

Publication number: TWI225551B
Application number: TW092108752A
Authority: TW
Inventors: Shinichi Sasaki; Nao Murakami; Hiroyuki Yoshimi
Original assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2002-04-18
Filing date: 2003-04-16
Publication date: 2004-12-21
Also published as: US20050206810A1; US7123328B2; KR100664434B1; WO2003093881A1; KR20040097233A; TW200401119A; CN1650196A; CN1293396C

Description

玖、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係有關具備光學補儅姓 ,^ 補仏機能之偏光板、及使用其之液晶顯示裝置。【先前技術】為了補償液晶單元之雙折身十卜里^ 雙折射性’來得到具有全方位優 /、口口貝之顯示之液晶顯示裝 ΓΘ ^ 展置，必須要有能控制面内2方別：：：方广之主折射率(nx、ny、nz)之光學補償層。特 c m (VertlCaUy AUgned)㉟或 aCB(〇ptlcally 〇PenSated 折射率成為nXgny>nZ2光學補償層。習知，就光學補償層而 r 4-^ ^ 你使用猎由拉幅機 (tenter)將聚合物膜橫拉伸例如，炎日S日太胜„丄Q ⑽拉伸之早層光學補償層（爹辦、日本特開平3 —245〇償層面内之2方。… 就）。但是，因單層光學補㈣之2方向和厚度方向之主得到所欲相位差值之問題。故有不能另一方面，就光學補償層而言，差值，而使用蔣$ & & 為了仔到所欲之相位 …Γ 伸之聚合物膜積…以上而成之光學補償層。例如，已知有準阳成之先物膜，使在相^ 片以一轴拉伸而成之聚合面内滯後相軸之方向正交的方式積居之光學補償層(例如，夫昭曰太牲又’方式積層而成 >，，、、日本特開平3-3371 9號2)。聚八：二所拉伸之聚合物膜厚度約為】-，將所拉伸之，故會有組裝有二:rr學補償層厚度變成相當厚亥先學補侦層之液晶顯示裝置全體厚度增加之問題。【發明内容】本發明之目的伤妲 ,, ^ H /、k 1、具備光學補償機能之偏光板，其係具有優異之光學倍料 α ,^ Β0 、，且積層薄之光學補償層。 ^ . ^ ^ Μ, M員機能之偏光板，係至少包含2 個光學補償層；前述光學補償層係包含： t合物膜製之光學雜产 rTn„_ 先予補彳員人層，其係滿足下述之式（υ及 Φ (II)所不之條件；以及非液晶性聚合物膜製 ^ ^ Π Τ Τ Λ Μ,λ 、先干補償β層，其係滿足下述之式（ΙΠ)〜（V)所示之所有條件； !· Rza/Rea^ 8 Knin)^ Reb^ l〇〇(nm) 5$ Rzb/Reb$ loo lUm) Sdbg2〇Um) 在前述式（I)及（Π)中， Re.= 20(nm)^Rea^3〇〇(niIl) ⑴ (Π) (III) (IV) Φ (V) (nxa- nya)xda RZa^ (nxa- nza)xda *nYx:、nya“Za係分別表示前述光學補償声… 學軸、γ軸及Z軸方向之折射補U A層補償A層之面内具有最大輪係指在前述光述面内與前述X軸垂直之轴方&轴方向，Υ轴係指" 轴垂直之厚度方向，轴係指與前述X〆 “迷光學補償A層之厚度；

I 1225551 在前述式（III)〜（V)中，

Reb= (nxb- nyb)xdb Rzb= (nxb- nzb) X db 在前述式中，叫、％及叫係分別表示前述光仏層β層之X軸、Y軸及z軸方向之折射、， .^ 斤射率，珂述X軸係才曰在前述光學補冑Β ^面内具有最大折射率之軸方向、 Υ:係指在前述面内與前述X軸垂直之轴方向，ζ軸係指與則述X軸及Υ軸垂直之厚度方向，d B層之厚度。方白&係指可述光學補償又，本發明之液晶顯示裝置，係包含液晶單元及本發之具，光學補償機能之偏光板，前述偏光板係配置在前述液晶單元之至少一表面。【實施方式】 s本發明之具備光學補償機能之偏光板，由於包含：伞學補償A層，豆係包含且有特士九 jn、有特疋面内方向之相位差值和厚 ^方向之相位差值之聚合物膜；以及光學補償B層，其匕含具有特定面内方向之相位差值和厚 ’、之北、广日予度方向之相位差值 _液阳性聚合物膜，故能得到整體所欲之相位差值。又，非液晶性聚合物膜之厚度一般係在 :::在15…下，更佳係在⑺…下。因二使心：種先學補償B層和前述光學補償A㉟，也能獲得整予X /專之具備光學補償機能之偏光板。若本發明之具備光學補償機能之偏光板包含前述光學貝人層、光學補償B層及偏光層的話，則該積層順序無 8 1225551

論哪種順序都可以。例如，也可按照偏光層、光學補償A 層及光學補償B層之順序來積層，也可按照偏光層、光學補償B層及光學補償A層之順序來積層。並且，也可包含光學補償A層及光學補償B層兩者，或兩者中任一層之2 層以上，這種情形，積層順序不受限制，例如，也可按照偏光層、光學補償B層、光學補償A層及光學補償β層之順序進行積層。例如，本發明之具備光學補償機能之偏光板，較佳係匕a · 4述光學補饧A層（其係滿足3〇(nm) ^ 8〇(nm) 及1. 〇$ Rza/ReaS 3之條件）；以及前述光學補償B層（其，滿足 l(nm)SRebS30(nm)及 8$RZb/RebS5〇之條二）了若包含滿足這種條件之前述光學補償A層及光學補償β層的話’則在廣視角巾’能抑制對比之降低，且色變化少二政果。 _又，本發明之具備光學補償機能之偏光板，較佳係包 =前述光學補償八層（其係滿足3G(n化^謂㈣及足 3(nm)g Rebg 3〇(n 在本發明中，光係藉由拉伸聚合物膜 30(nm)及 Rzb/Rebg 40 之條件）。光學補償A層所含之聚合物膜

J〜/Re43之條件）·：以及前述光學補償B層（其係滿 9 1225551 更具體而言，較佳係能形成光透過率為75%以上，特別係 85%以上之膜的聚合物。前述聚合物也可單獨使用，也可混合2種以上使用。就形成未拉伸聚合物膜之聚合物而言，雖沒有限定，但較佳係具有正配向雙折射性（其係指在將所形成之膜拉伸的情況，拉伸方向之折射率變大)之聚合物。就這種聚合物而言’例如’能使用聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯等）、聚降冰片稀m氯乙浠、聚苯乙晞、聚丙烯腈、聚楓、丙稀酸樹脂、聚芳基化合m浠醇、聚甲基丙稀酸酉旨、聚丙基酸酉旨、聚碳酸酉旨、聚喊楓、纖維素樹脂（纖維素酿、纖維㈣等）、降冰片烯樹脂、偏氯乙烯及這些之共聚物等。

又，就形成未拉伸聚合物膜之聚合物而言，也可使用表示後述之負配向雙雙折射性之非液晶性聚合物、和表示上述之正配向雙雙折射性之聚合物兩者之混合物。這種情形，表示負配向雙折射性之聚合物和表示正配向雙折射性之聚合：之混合比係従配向雙折射與光彈性係數之觀點來適當決^。例％，表示負配向雙折射性之聚合物⑴和表示正配向雙折射性之聚合物⑺之混合莫耳（讀）比（χ: γ) 係 20 · 80〜80 : 20，較佳係 30 : 70〜70 : 30。又，日本特開載之聚合物膜也提使用樹脂組成物， 200 1 -343529 號公報（w〇〇i/37007)所記出。就這種聚合物材料而言，例如，能其係含有熱可塑性樹脂（具有取代或非取代側鏈之酸亞胺基）和熱可塑性樹脂具有取代或非取代 10 側鏈之苯基及氰基），例如醢亞胺組成之交替共聚物、脂組合物。具有由異丁烯和N-甲基馬來和丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹用一 I t i h ·'〜、、、何別隈剌，舵使产動：二，流延成膜法、滾塗°·。11⑽t)法、延_之鑄模法，法等。因擠·、流成法能減少拉伸後聚合物臈之雙折射之不均配：:二形成前述未拉伸聚合物膜之際，能視需要 …劑、可塑劑、金屬類之各種添加劑。，較=Z聚合物Γ厚度，例如，係在一下早乂住係使用l〇//m〜500 ^之厚 m〜3〇〇0 m之厚度者。更么係使用20# 制，==:r:r…言’雖無特別限拉伸、滾筒法縱拉伸等。較佳j雙=機橫拉伸、雙轴藉由全拉幅機方式之同時又：雙轴拉伸也能使用之逐次雙軸拉伸之任一種方:二、猎^衰動.拉幅機法由使用加熱滚動之方法、將周圍縱拉伸之加熱也能藉行前者兩種方法之任 &兄虱说加熱之方法、進 ^ 丨種方法來進行。刚述未拉伸聚合物膜之拉但-般對前述未拉伸聚合：率係口拉伸方法而異，係1.05〜2倍。膜之長度係U5〜3倍，較佳將前述未拉伸聚合物膜加《拉伸之溫度’係依所使用之前述未拉伸聚合八物腔由物膜之破璃轉移點（Tg)或俞、·Ρ 土口物馭中之添加物種類 Ug)h迷未拉伸聚聚合物臈加以拉伸之 “ σ以選擇。將前述未拉伸 100〜20代，更佳俜=如，係、70〜250°c，較佳係加以拉伸之溫度二=180c。將前述未拉伸聚合物膜以上。物膜之τβ附近或Tg 拉伸聚合物膜之厚度能依晝面大小，來適當 t之“象顯示裝置之、田决疋。拉伸聚合物膜在30〇_以下，、又，例如，係住係使用1 〇 // m〜1 5 〇 // m夕辰&丄佳係使用2。㈣〜12〇“之厚度者。之“者，更又’本發明本體之特徵係組合式（I)及（ΙΠ之仪从、％于補1貝八層（其係滿足條件）和光學補償β層（盆 ⑺之條件），來作為έ且人s -糸滿足式(III)〜、木π馮組合在偏光層之光學補償層。層，來製造前述聚合物膜製之光學補償A m 使滿足下述之式（I)及（II)。 20(nm)^Reas 300(nm) (ι) • Ο $ Rza/Rea $ § (τ τ

Rea係滿足式⑴’藉此能充分進行偏光板之視角補償，ka/Rea係滿足式⑴），藉此能充分進行液晶單元射之補償。口式（I )所示之Rea能得到抑制因視角所造成之著色之效果故較佺係20(nm) S Reag 250(nm)，更佳係22(nm) $

Rea€ 200(nm)，進一步較佳係 25(㈣）15〇(龍）。又，式（Π)所示之RZa/Rea係在液晶各向同性配向時 12 ，能得到補償液晶單元之雙折射之效果，故較佳係丨0 s ha/Rea$7，更佳係 1〇$RZa/Reag6,進一步較佳 ― =Rza/Rea^ 5 〇 · ^又，液晶膜只要滿足前述之式U )及（11)之膜就可以，

I種膜旎用習知之方法來製造，但較佳係由向列（此贴以液晶來形成。 1C a滿足上述之式（I)及（11)之拉伸聚合物膜，例如，藉由適當設定聚合物之種類及拉伸條件等，若是該技術領^之本業者的話，則不必進行過度之實驗，能進行調整。例如，就未拉伸聚合物膜而言，係使用厚度為剡〜 ⑽/-之删〇A(商品名）（日本ZE0N製），使用拉幅機拉伸法，對未拉伸聚合物膜之長度，在120〜15(rc下拉伸 1·卜1.5倍’所得到20〜90//m厚度之拉伸聚合物膜係滿足上述之式（I)及（1丨）之拉伸聚合物。

又’例如’就未拉伸聚合物膜而言，係使用厚度為4〇〜崎m之A麵（商品名）（谓製），使用縱單軸拉伸法 ’對未拉伸聚合物膜之長度，在17Q〜⑽。C下拉伸H 1.5倍，所得到20〜90"厚度之拉伸聚合物膜係滿：上述之式（I)及（Π)之拉伸聚合物。其次，本發明之光學補償U，例如，係將非液晶性聚合物洛解在溶劑中’調製溶液，將該溶液塗布在償A層或基材上，使該塗布層硬化，藉此能加以製造。也能取代調製溶液’例如’將非液晶性聚合物加執，將該溶融液塗布在光學補償“或基材上，使該塗布： 13 冷卻硬化，藉此來加以製造。就則述非液晶性聚合物而言，因具有優異之耐熱性、耐藥ΠΠ H、透明性、及富剛性，故能使用聚醯胺、聚醯亞月女♦酕、聚醚酮、聚芳基醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺等聚口物。這些聚合物也可單獨使用任一種，例如，聚芳基醚酮和聚醯胺之混合物般，也能以具有不同官能基之2種以上之混合物來使肖。在該聚合物巾，因係高透明性二高配向性、高拉伸性，故較佳係聚醯亞胺。引述非液晶性聚合物之分子量雖無特別限制，但例如 ’較佳係重量平均分子量㈤在Uno。。，，之範圍，更佳係在2,000〜500,000之範圍。、、述聚醯亞胺而言’例如，較佳係面内配向性高， =有機溶劑之聚酿亞胺。具體而纟，例如，能使用含表2000-51 1296號公報所揭…，9-雙(胺基芳土）知和芳族四羧酸二酐之縮 0八士 W σ ♦合產物，且含有下述式 ⑴所不重複單上1個以上之聚合物 Ν

4個鹵原子或C1〜10烷基所取代之苯基、及c 、凡土所構成之群組中至少 1種取代基。較佳為 14 10 係分別獨立潠 U烷基所取代、苯基、以1〜嶋素原子或少1種取代基。…C1〜10烧基所構成之群組中之至之基佳係= =(；：)中，例如，2係、^〇之4價芳族基，較物，或用下述:(:::表環式芳族基、多環式芳族基之衍生 (Ζ，)、Λ

⑵ 、0原^^式⑵中，例如，ζ，係共價鍵、G(R7)2基、⑶基數之情形，^ ^基、⑽Μ基、或NR8基，在複數。RM系人77 或相異。又’ W係表示1〜10之整約20之烷…、 3係風、碳原子數1〜同或相異。；二。6〜2°之芳基’在複數之情形’係分別相 ^二、R係分別獨立之氫、氟或氯。就别述多環式芳族基而言、或愨所衍生夕4栌装有亦知、本开苟衍生物而、：：…又’就前述多環式芳族基之取代化衍生物:及：，以選自由C1〜…基、其氟或C1 #鹵素所構成之群組中所取代之前述多環式芳族基。巾之至y 1種基之重也有曰本特表平8-511812號公報所記載或重複單位用3下=式(3)或⑷所表示之均聚物、述式⑸…：般式⑸所表示之聚酿亞胺。又，下 “1亞胺係下述式⑺之均聚物之較佳形能。 15

1225551 在刚述一般式（3)〜（5)中，例如，6及G，係表示分別獨立選自由共價鍵、ch2基、c(Ch3)2基、C(CF3)2基、 C(CXS)2基（式中，X係鹵素）、c〇基、〇原子、s原子、s〇2 基、Si(CH2CH3)2基、及N(CH3)基所構成之群組中之基，也可分別相同或相異。月ίι述式（3)及式（5)中，L係取代基，d及e係表示該取代數。例如，L係鹵素、Ch烷基、Ci3鹵化烷基、苯基、或取代笨基，在複數之情形，係分別相同或相異。就前述取代苯基而言，例如，有取代苯基，其係具有選自由鹵素、C〗 — 3烷基、及Ci —3鹵化烷基所構成之群組中之至少一種取代基。又，就前述鹵素而言，有氟、氯、溴或碘。d係〇〜2之整數，e係〇〜3之整數。在前述式（3)〜（5)中，Q係取代基，f係表示該取代數。就Q而言，例如，係選自由氫基、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、及取代烷酯基所構成之群組 16 1225551 中：原子或基’在Q為複數之情形，係分別相同或相旦。就丽述*素而言’例如，有氟、氯、二而言’例如，嫩烧基…就前述;=述烧基丄七A , ^代方基而言，例如，有南化芳基。f係〇〜4之整數， ! u u 正数§及h係分別0〜3及 1〜3之正數。又，較佳係g及h較丨大。夸Ϊ前述式⑷中，Rl°及RU係分別獨立選自由氣基、i 素、本基、取代苯基、及取代㈣所構成之群組中之基。其中，R1G及R11較佳係分別獨立之_化烷基。土、前，式（5)中，M2係相同或相異，例如，係齒素卜^70基、c"函化烧基、苯基、或取代苯基。就前述I# ^ °例如，有氟、氯、溴及碘。又，就前述取代苯基 3 C 〕fq

=^，例如，有取代苯基，其係具有選自由_素、Cij烷土及Cl、3 _化烷基所構成之群組中之至少一種取代基。广鈉述式（3)所示之聚醯亞胺之具體例而言，例如，有下迷式（6)所表示者。〜 " ,cf3 /=\\

〇 CF，、另外，就前述聚醯亞胺而言，例如，有共聚物，其係 ^ ^ it 田“ ♦合前述骨架（重複單位）以外之酸二酐或二胺就則述酸二酐而言，例如，有芳族四羧酸二酐 ‘ 竣黾二酐而言，例如，有均笨四曱酸二酐次二酐、奈四羧酸二酐、雜環式芳族四羧酸二酐 (6) 針。就前、二苯、2 2，甘 ’〜取代聯苯四羧酸二酐等。 17 1225551 就前述均苯四曱酸二酐而言，例如，有均苯四甲酸二酐、3, 6-二苯均苯四甲酸二酐、3, 6-雙（三氟曱基）均苯四甲酸二酐、3, 6-二溴均苯四甲酸二酐、3, 6-二氯均苯四甲酸二酐。就前述二苯甲_四敌酸二酐而言，例如，有 3, 3，，4, 4，-二苯甲酮四羧酸二酐、2, 3, 3，，4，-二苯甲酮四羧酸二酐、2, 2’，3, 3’ -二苯甲酮四羧酸二酐。就前述萘四羧酸二酐而言，例如，有 2，3，6，7 -蔡-四魏酸二酐、 1，2,5,6-萘-四羧酸二酐、2,6-二氯-萘-1，4,5,8-四羧酸二酐等。就前述雜環式芳族四羧酸二酐而言，例如，有噻吩籲 -2, 3, 4, 5 -四羧酸二酐、D比D秦_2, 3, 5, 6 -四羧酸二酐等。就前述2，2 ’ -取代聯苯四魏酸二酐而言，例如，有2，2 ’ -二漠 -4,4，，5,5，-聯苯四羧酸二酐、2,2，-二氯-4,4'5,5，-聯苯四羧酸二酐、2, 2’-雙（三氟曱基）-4, 4，，5, 5’-聯苯四羧酸二酐等。又，就前述芳族四羧酸二酐之其他例而言，有 3, 3’，4, 4’ -聯苯四叛酸二酐、雙（2, 3 -二魏基苯）甲烧二酐、雙（2，5，6 -三氟-3, 4 -二叛基苯）曱烧二Sf、2,2 -雙（3，Ί- 春二緩基苯）-1，1，1，3，3，3-六氟丙烧二酐、4，4’-雙（3，4-二羧基苯）-2, 2-二苯丙烷二酐、雙（3, 4-二羧基苯）醚二酐、 4, 4’-氧二苯二曱酸二酐、雙（3, 4-二羧基苯）磺酸二酐、 3，3’，4，4’ -二苯楓四魏酸二 if、4，4’_[4，4’-異丙叉-二（對 _ 亞苯基氧）]雙（苯二酸酐）、N，N-(3,4-二羧基苯基）-N-曱胺二酐、雙（3, 4-二羧基苯基）二乙基矽烷二酐等。在這些之中，就前述芳族四叛酸二酐而言，較佳係 18 1225551 2, 2’-取代聯苯四羧酸二酐，更佳係2, 2，—雙（三鹵曱基）_ 4’4，5’ 5 -聯苯四魏酸二酐，最佳係2, 2雙（三氟甲基）_ 4’4，5, 5’ -聯苯四魏酸二酐。就鈉述二胺而言，例如，有芳族二胺，就具體例而言，有苯二胺、二胺基二苯甲酮、萘二胺、雜環式芳族二胺、及其他之芳族二胺。就剞述苯二胺而言，例如，其係選自由由鄰_、間一及對-苯二胺、2, 4-二胺基甲苯、1，4-二胺基-2-甲氧基苯、 1，4-二胺基-2-苯基苯及1,3-二胺基-4-氯苯等之苯二胺所籲構成之群組中之二胺等。就前述二胺基二苯甲酮之例而言 ’有2, 2’-二胺基二苯曱嗣及3, 3’-二胺基二苯曱g同等。就前述萘二胺而言，例如，有1，8-二胺基萘及1，5-二胺基萘等。就前述雜環式芳族二胺之例而言，有2, 6-二胺基卩比啶、2,4-二胺基p比咬及2,4-二胺基-S-三D秦等。又’就前述芳族二胺而言，除了這些之外，有4, 4,一二胺基聯苯、4, 4’ -二胺基二苯甲烷、4,4，-（9-亞芴基）-二苯胺、2, 2’-雙（三氟曱烷）—4, /[，-二胺基聯苯、3, 3，-二氯籲基-4, 4’-二胺基聯苯甲烷、2, 2，一二氯一4,4,一二胺基聯苯、 2,2，5,5 -四氯聯苯胺、2, 2-雙（4胺基苯氧基苯基）丙烷、 2, 2-雙（4-胺基苯基）丙烷、2, 2—雙（4_二胺基苯基卜 1，1，1，3, 3, 3-六氟丙烷、4, 4’-二胺基二苯醚、3, 4，-二胺基二苯醚、1，3-雙（3-胺基苯氧基）苯、U —雙（4—胺基苯氧基）笨1，4雙（4-胺基苯氧基）苯、4, 4，-雙（4-胺基苯氧基 )聯苯、4, 4雙胺基苯氧基）聯苯、2, 2-雙[4-(4-胺基 19 1225551 苯氧基）苯基]丙烷、2, 2-雙[4-(4-胺基苯氧基）苯基]一 3,3，3 -六氣丙烧、4，4’ -二胺基二苯硫醚、4，4’-二胺基二苯楓等。就前述聚醚酮而言，例如，有日本特開2 〇〇 1 — 4 9 11 0號公報所記载之下述一般式（7)所表示之聚芳基醚酮。

-r F 」η 在釗述式（7)中，X係表示取代基，q係表示其取代數籲。X，例如，係鹵原子、低級烷基、^化烷基、低級烷氧基、或ii化烷氧基，當X係複數時，係分別相同或相異。就前述iS原子而言，例如，有氟原子、溴原子、氯原子、碘原子。在這些原子中，較佳係氟原子。就前述低級烷氧基而言，例如，較佳係具有Ci〜6之直鏈或支鏈之低級蜿基’更佳係具有*之直鏈或支鏈之烷基。具體而言，較佳係曱基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、二級丁基、及三級丁基，特佳係甲基及乙基。就前述鹵化烷基籲而言’例如’有三氟曱基等之前述低級烷基之鹵化物。就月ίι述低級烷氧基而言，例如，較佳係q〜B之直鏈或支鏈之烷氧基，更佳係（^〜4之直鏈或支鏈之烷氧基。具體而言，較佳係曱氧基、乙氧基、丙氧基、$丙氧基、丁氧基：異丁氧基、二級丁氧基、及三級丁氧基，更佳或特佳係甲氧基及乙氧基。就前述鹵化烷氧基而言，例如，有三氟甲氧基等之前述低級烷氧基之鹵化物。 20 前述式（7)中牡後 y τ ，q係㈣，且’笨環之相互存在於對位。又，在前述式(7)中，R1在田係0或丨之整數。係用下述式⑻來表示之基，m 〜4之整數。在前述式(7)，，較兩端所鍵纟士之私其$ °之羧基和_之氧原子係

F

./1。— 在則述式（8)中，χ， ⑺之X⑽。在前’、、丁取代基，例如，係和前述式相同或相異。Q，係妾_ ν 為稷數之情形，係分別 .,η 不Χ之取代數，係0〜4之卷叙，从係㈣。又’Ρ係0或丨之整數。之1數’較佳在前述式⑻中’ R2係表之芳族基而言，例如，有柯―/ 基。就這種2價聯苯、@ % n ” ~或對 ' 笨擇基、或萘、 p本恩，郯-、間-或對—三聯苯苯_、或聯苯碾所衍生之2價美等…：本並肤喃、聯乙1貝丞寺。在廷些2價芳，與芳族基直接鍵結之氫也可忐、土 . . + π 々u g小子、低級烷基或低級基來取代。在這些之中，就前述R2而言，較佳係由下列式（9)〜（1 5)所構成之組所選擇之芳族美 ⑼ ⑽ … CK

⑻ (11)

(13)1225551

在前述式（7)中，就前述R1 (16)來表示之基，在下述式（i6)中同義。而言，較佳係用下述式 ’ R2及P係與前述式（8)

(16) 〜5〇〇〇之範圍，較佳係在：丁：：纟’例如，係在可係由相同構造之重複單：：㈣。又’該聚合單位之聚人來能a 成者。後者之情形，重又：也權段聚合，也可係無規聚合。引述式（7)所示之聚芳基醚四氟苯醯基側為氟，之末糕，較佳係到酌，例如…二=基側為氣原子，這種聚芳基: 心用下述一般式（17)來表示。v ，η係表示盥前又’在下述式則述式（7)同樣之聚合度。

(17) F V 丄彳M沈則述式⑺所示之聚芳基醚酮之且心、十、彳斤表不者寺，在下列各式中，有述式（7)同樣之聚合度。，η係表示 22 以5551

F D

(19) 〇+(2〇)

O-O-

F F

Of- (21) 又，除了這些之外，就前述聚醯胺或聚酯而言，例如有日本特表平1 〇〜5 〇 § 〇 4號公報所記載之聚酿胺或聚醋，這些重複單位，例如，係能用下述一般式（2 2)來表示。

(22) 前述式（22)中，γ係〇或NH。又，E係例如選自由共價鍵、C2烷撐基、鹵化c2烷撐基、CH2基、C(CX3)2基（在此’ X係鹵素或氫）、C0基、0原子、S原子、s〇2基、_ S i (R)2基、及N (R)基所構成之群組中之至少一種基，也可分別相同或相異。在前述E中，R係Cij烷基及鹵化烷基之至少一種，對羰基官能基或γ基，係在間位或對位又，在前述式（22)中，A及A，係取代基，t及z係表示各別之取代數。P係〇〜3之整數，q係1〜3之整數，r 係0〜3之整數。 23 1225551 前述A，例如，係選自由氫基、鹵素、Cl 〗烷基、鹵化烷基、用OR(在此，R係前述所定義者）來表示之烷氧基、芳基、藉由齒化等所形成之取代芳基、Ci_9烧氧基幾基、C"燒基Μ氧基、“芳基氧羰基、Ch2芳基幾基氧基、〇卜12 *㈣基及其取代衍生物、Gh2芳基胺基甲酿基、及芳基羰基胺基及其取代衍生物所構成之群組，在複數之情形，也可分別相同或相異。前述A，，例如，係選自由鹵素c" &基、U化炫基、苯基及取代苯基所構成之群組，在複數之情形，也可分別相同或相$。就前述取代苯基之苯環上之取代基而言，例如，有鹵素、C"烷基、Ci_3齒化烷基及這些之組合。前述t係〇〜4之整數，前述z係0〜3之整數。在前述式（22)所示之聚醯胺或聚酯之重複單位中，較佳係用下述一般式（23)所表示者。

在前述（23)中，A、八，及γ係前述式（22)所定義者，v 係〇〜3之整數較佳係〇〜2之整數。乂及y係分別為〇或i ，但不可同時為0。其次，說明光學補償B層之製造方法之一例。首先’在前述光學補償A層或基材之單面，塗布前述非液晶性聚合物之溶液或熔融液，来製作塗層。就前述溶液之溶劑而言，只要能溶解或懸浮前述非液 24 12255^1 晶性聚合物者，則無特別物之種類，適宜加以選擇，能根據前述非液晶性聚合氣化碳、二氯乙燒、四氣乙Γ:三嶋、…烧、四苯、鄰二氯苯等鹵化烴類；4 虱乙烯、四虱乙烯、氯申苯、-曱茉甲气I、’本酚、S氣苯酚等酚類；笨、甲甲本曱乳基笨、1，2-二曱氧基苯等芳族" 肉酮、甲乙酮、甲異丁驗、、玉員， Ν_ψ . ο 己烷、環戊酮、2-吡喀烷酮、* 各烷_等明類；乙酸乙醋、乙酸丁酿等乙二醇二甲醚、丙二醇 ;三級丁醇、甘油、乙二醇、乙三醇、乙二醇單甲I、: 内一醇、2-甲基-2，4-戊二醇身

之齡類’一甲基曱醯月女、二甲基乙醯胺般之醯胺類；乙靡、丁腈般之腈類；n二頂、四氫呋喃般之㈣ ;或二硫化碳、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等。其中，㈣係一虱甲烷或環己烷、三氯乙烯或四氯乙烷、N一甲基毗， :»：元酮、四氫呋喃及二甲基醯胺基。這些之溶劑也可係一箱、也可係併用二種以上。非液晶性聚合物溶液係考慮容易塗布之黏度，對溶劑 100重量份，例如，非液晶性聚合物係混合2〜100重量份，車父佳係混合5〜5 0重量份，更佳係混合1 〇〜4 〇重量份。非液晶性聚合物之溶融液，能藉由加熱非液晶性聚合物來加以調製。在光學補償B層中，也可進一步含有有機矽化合物。藉由這種化合物，光學補償β層和光學補償A層或基材之始、著性變良好，易於形成提高密著性之光學補償層。因此在本發明之方法中，也可在前述非液晶性聚合物溶液或 25 溶融液中添加有機矽化合物。就前述有機砂化人你士口物而5 ’無特別限定，例如，能使四甲氧基石夕烧、曱基三曱氧笑 I土〒虱基矽烷、二甲基二曱氧基矽 ::四乙氧基石夕烧、甲基三乙氧基石夕烧、）甲基二乙氧基 ’、丁基一甲氧基石夕烧、苯三甲氧基石夕⑥、笨三乙氧土”：—笨-曱氧基矽烷、二笨二乙氧基矽烷、3-曱基丙稀乳基丙基三甲氧基钱、3_甲基丙烯氧基丙基二甲氧 :夕^ 3甲基丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、3_甲基丙烯氧基丙基二乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、正十六烷基二曱氧基钱、正十六烧基二甲氧基㈣、硬脂酿基三甲氧基石夕烧、乙稀基三甲氧基石夕烧、乙烯基三乙氧基石夕烧、乙基烯三（2-甲氧基乙氧基）矽烷、N_(2_氨乙基）3_氨丙基一曱氧基矽烷、N-(2-氨乙基）3-氨丙基曱基二甲氧基矽烷、3氨丙基二曱氧基矽烷、N—苯基_3_胺基丙基三曱氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3_氣丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基曱基二曱氧基矽烷、3_曱基丙烯氧基丙基三甲氧基石夕烧、3-甲基丙烯氧基丙基甲基二曱氧基矽烷、3一曱基丙稀氧基丙基三乙氧基矽烷、3-曱基丙烯氧基丙基曱基二乙氧基矽烧、環氧丙氧基丙基三曱氧基石夕烧、r 一環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、y —環氧丙氧基丙基三乙氧基石夕；)：完、環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基石夕烧、 (3,4-環氧二環己基）乙基三曱氧基矽烷等。這些也可單獨或併用2種以上來使用，添加量係對聚合物1 〇〇重量份，例如，為0· 001重量份〜5重量份之範圍。若是〇· 〇〇1重 26 量份以上的話，則能更進一步提高接著性，若是5重量份以下的話，則能更提高耐熱性。在前述非液晶性聚合物溶液或溶融液中，例如，也可视需要，進一步配合安定劑、可塑劑、金屬類等各種添加劑。又’ &述非液晶性聚合物溶液或溶融液，例如，也可在前述非液晶性聚合物之配向性不明顯低降低之範圍，含有相異之其他树脂。就其他之樹脂而言，例如，有工程塑膠、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等。 ❿ 就前述泛用樹脂而言，例如，有聚乙烯（PE)、聚丙稀 (PP)、聚笨乙稀（PS)、聚曱基丙稀酸酯（pmaa)、ABS樹脂及AS樹脂等。就前述工程塑膠而言，例如，有聚曱醛 (POM)、聚碳酸酯（pc)、聚醯胺（pa :尼龍）、聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)、及聚對苯二甲酸丁二醇酯（PBT)等。就前述熱可塑性樹脂而言，例如，有聚苯硫（pps)、聚醚碾 (PES)、聚酮（PK)、聚醯亞胺（pi)、聚對苯二甲酸環己二曱酯（pct)、聚芳基化合物（PAR)、及液晶聚合物（Lcp)等。就馨刖述熱可塑性樹脂而言，例如，有環氧樹脂、酚醛樹脂等〇這樣一來，當把前述其他之樹脂等配合在前述非液晶聚合物溶液或溶融液之情形，其配合量，例如，對前述非液晶聚合物，例如，係〇〜5〇重量百分比（％)，較佳係〇〜 30重量百分比（％)。就刖述非液晶聚合物溶液或溶融液之塗布方法而言， 27 1225551 能得到旋轉塗布法、流延法、法、印刷法、含浸塗布法、产二塗法、流動塗布桃I成膜法、條狀塗布法、日3 相凹版（gravure)印刷法等高厚度精度。 ’、、、其次’使前述塗布層齡、F〇十、、人"

^ a乾知或冷部，來製作光學補償B 層。§使用非液晶性聚合物之 ^ „ /次末進行塗布時，較佳係吏=布層乾燥。就乾燥之方法而[無特別限制，例二有=燥或加熱乾燥。該條件，，雖也能根據則述非液晶性聚合物之種類或前述溶劑之種類等，適宜加 =但例如，溫度通“ 25。。，，較 -〇oc：^ 7疋狐度來進行，也可一面使溫度階段性地上升或下降 y乾_時間雖無特別限制，但通常為i分鐘〜30分鐘’：佳係3分鐘〜20分鐘，更佳係5分鐘〜15分鐘。刀係使2=液晶性聚ί物之溶融液來進行塗布時，較佳处、^成層冷部。就冷卻之方法而言，只要該溶融液 ;二。’、、、更化，無特別限制，溫度或環境氣體也無特別之光==液晶性聚合物之塗布層乾燥或冷卻所製作 ”予：“層上，也可任意進行使光學補償B層内之非液曰曰性來合物之分子配向之處理。只要進行該配向處理，就能在光學補償B層’得到…一之特性，，能使光學補償B層之Rz/Re減少。前述配向處理係能使光學補償B層伸張及。就伸張處理而言，有通常之拉伸處理。在拉伸處理ί订 28 同時方式等）、一軸拉伸能使用雙軸拉伸方法（逐次方式方法（自由端方式、固定端方式等）等適當方法之i種以上之方法。因一軸拉伸方法能抑制捲邊（bowing)現象，故較佳。就收縮處理而言，當形成光學補償B層之際，係使用基材，將塗布非液晶性聚合物之基材加熱或冷卻，藉此能使基材㈣來進行。料種基材而言，能使用具有熱收縮性臈等之收縮能之基材。當使用具有收縮能之基材時，具體而言，較佳係用展幅拉伸機，將拉伸倍率設定在小於i ，：用縱一軸拉伸機’將拉伸倍率設定在等倍，來進行幅收縮，藉此來控制基材之收縮率。就前述基材而言，雖無特別限定，但例如，能使用由玻璃、未拉伸聚合物(其係光學補償A層之材料）、液晶聚士 =丙錦F酉夂树月旨、聚氨基T酸乙酉旨掏·月旨、環氧樹脂、石夕 _ 聚^聚芳基化合物、聚碳酸酯、聚碾、聚醚碾或聚降冰片烯之塑膠所形成者。、土材上，形成非液晶性聚合物之膜後，將非 ^性聚合物之膜轉印在偏光層或光學補]賞A層等，來作 :.子補饧B層。又，也可不進行轉印，使用非液晶性聚之膜和基材之積層物來作為光學補償B層。 ,述配向處理中，若將非液晶性聚合物之膜和基材之積層物當作—鱗 & u ^ 體，使其伸張及收縮的話，在基材上，有叶也會產生相仞至 β層所含之以。種相位差之基材，當光學補償不好日^•’較佳係只將非液晶性聚合物之臈 29 1225551 轉印在偏光層等，將該好人物夕m 土材除去。當使用非液晶性聚 5物之μ和基材之積層物來作為光學補償β層時而言，較佳係透明之聚合物基材。，土材 =製作之光學補償β層之厚度雖無特別限定，但例如’㈣〜2Mm之範圍，較佳係在1㈣〜…爪之範圍？佳係在1”〜12“之範圍，最佳係在2…〇 // m之乾圍。用以上之方法，來製造前述非液晶性聚合物製之光風補償B層，以使滿足以下之式（〗丨丨）〜（v)。予 1(nm)^ Reb^ 1 〇〇(nm) (III) 5^ Rzb/Reb^ΐοο (IV) l(//m)$db$20("m) (y)

Reb係滿足式(ΙΠ)，藉此能充分補償偏光板之視角， Rzb/Reb係滿足式⑽，藉此能充分補償液晶單元之雙折射 Ο 式（III)所示之Reb係在廣視角中，能得到抑制著色之效果’故較佳係1(nm)$RebS8()(nm)，更佳係 S60(mn)，最佳係 1(nm)SRebs5〇(nm)。又，式（P)—所示b ::zb/Reb係液晶在各向同性配向之時，得到能補償液晶早兀雙折射之效果，故較佳係、，更佳係7 ^RZb/Reb^ 60，最佳係 8SRZb/Reb$ 5〇。滿足上述式（111)〜（v)之非液晶性聚合物膜，例如，係適當設定非液晶性聚合物之種類，藉此，若是該技術領域之本業者的話，料必進行過度之實驗，能進行調整。 30 ㈢例如’使用聚gf亞胺來作為非液晶性聚合物，塗布所得到之0 · 5〜1 0 " m4 > 々rT⑴ 度之非液晶性聚合物膜係能滿足上述 ^ (V)之非液晶性聚合物膜。使用裝醚酮來作為非液晶性聚合物，塗布所得到二\〜2M m厚度之非液晶性聚合物膜係能滿足上述式 (V)之非液晶性聚合物膜。

，就偏：層而言，無特殊限制，例如，藉由習知之方法種膜上’吸著碘或二色性染料等二色性物質，進行木’丄月匕使用藉由交聯、拉伸、乾燥來進行調製者等。其中、車乂仏係只要射入自然光，透過直線偏光之膜良好，且光透j率或偏光度優異I。就吸附前述二色性物質之各種 ^ -例如，有聚乙烯醇（PVA)系膜、部分甲縮醛化PVA ' 、X乙馱乙浠共聚體系部分皂化膜、纖維素系膜等

、、t 口物膜等’除了這些之外，例如，也能使用PVA 、^處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物之多烯配向膜等在這坚中’較佳係PVA系膜。

偏光層之厚度雖無特別限定者，但例如，係1〜80 " m ’較佳係2〜4〇“。述偏光層（偏光膜）也可在其單面或雙面，透過適當接著劊層，接著成為保護層之透明保護膜。就則述保護層而言，無特別限制，能使用習知之透明膜例如，較佳係透明性、機械性強度、熱穩定性、隔水性、等向柯^ m m 寺仏異膜。就這種透明保護層之材質之具體例而-i- ，一 4 ° 二乙酸基纖維素等之纖維素系樹脂、聚酯系、聚 31 1225551 石反酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碾系、聚楓系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯系、丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，也有前述丙烯酸系、聚氨基甲酸乙酯系、丙烯酸聚氨基甲酸乙酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其中，從偏光特性Z耐久性之點來看，較佳係用鹼等將表面進行皂化處理之膜。又，就保護膜而言，有日本特開2〇〇1 —343529號公報 (W00 1 /37007)所記載之聚合物膜。就這種聚合物材料而言鲁，例如，能使用含有熱可塑性樹脂（其係具有取代或非取代為側鏈之醯亞胺基）和熱可塑性樹脂（其係具有取代或非取代為苯基及硝基）之樹脂組成物，例如，有具有交替共聚物（其係由異丁烯和N-曱基馬來醯亞胺所構成）和丙烯腈苯乙烯共聚合體之樹脂組成物。又，前述聚合物膜，例如’也可係前述樹脂組成物之擠壓出成形物。又，前述保護層，例如，較佳係無色。具體而言，用下述式所表示之膜厚度方向之相位差值（Rz)，較佳係在一鲁 9〇nm〜+ 75nm之範圍，更佳係在—8〇nm〜+ 6〇咖之範圍，最佳係在一 70nm〜+ 45nm之範圍。若前述相位差值在— 90nm〜+ 75nm之範圍的話，則能消除保護層所充分起因之偏光板之著色（化學性著色）。又，在下述式中，、 nz係分別表示X軸、Y軸及z軸方向之折射率，前述χ軸係指在前述保護層之面内具有最大折射率之軸方向，γ軸係在前述保護層之面内與前述Χ軸垂直之軸方向，ζ 32 表示與前述X軸及Y軸垂直之厚ώ方A Η技主- 予度万向。d係表不前述保護層之膜厚。

Rz = {[(nx+ny)/2] — nz}xd 又，前述透明保護層也可係進_步具有光學補償機能者。這樣-來，就具有光學補償機能之透明保護層而言，例如，能使用根據液晶單元之相位# L、a ° 仰仪差，以防止視認角變化原因之者色、或良視認之視角擴大笑 η謂八寺為目的公知之物。具體而言，例如，有將前述之透明谢日匕 — 心月鲥月曰進行一軸拉伸或雙軸拉伸而成之各種拉伸膜或液晶聚合物等配向膜、在透明基材上配置液晶聚合物等配向膜之積層體等。在這些之中：因能達成良視認性之廣視角，故較佳係前述液晶聚合物之配向膜，特別是，較佳係光學補償相予领彳貝相位差板，其係由用前述之三乙醯基纖維素膜等來支持圓又荷W盤糸或向列系之液晶聚合物之傾斜配向層所構成之光學補予補彳貝層。就這種光學補償相位差板而言，例如，有富士昭4念 ’田士相底片有限公司製「WV膜」等市售品。又，前述光學補償相乂 ^ 貝相位是板係將前述相位差膜或三乙醯基纖維素膜等膜支捭俨 t肤夂符體積層2層以上，藉此也月b控制相位差等光學特性。前述透明保護層之厚度益特別职心 , 及"、、特別限制，例如，能依相位差或保護強度％適當決定，伸诵堂通㊉係在200 /zm以下之範圍 ’ k佳係在5〜15 0 // m之範圍，更佔么祀国更乙係在10〜1〇〇//ιη之範固0 前述透明保護層塗布在偏光膜之方法例如’能藉由將前述各種透明樹脂將則述透明樹脂製膜或前述光學補 33 饧相位差板積層在前當形成，而且，也丄等習知之方法’能適也此使用市售品。又’前述透明保護層理、反射防…… 步例如’也可施加硬塗處 ⑺丨々It處理、點英之處理等。m一/ 或擴散、防眩光等為目的等為目的，例布係以防止偏光板表面刮傷圓滑性優里之硬化被：明保護層之表面’形成硬度或理。1乂 + 设膜（其係由硬化型樹脂所構成）之處述硬化型樹腊而言，例如，能使用㈣系、聚氨

义乙酿系、丙烯酸系、環氧系等紫外線硬化型 ’剛述處理能藉由習知之方法來進行。防止黏著之目的係防止與鄰接層密合。义旳係斤明則述防止反射處理之目的係防止在偏光板表面之外部光反射，能藉由習知之反射防止層等之形成來進行。 9寻 "如述抗眩光處理之目的係認防止在偏光板表面，外部光：射所造成之偏光板透過光之視認干擾等，例如，能藉由習知之方法’來進行在前述透明保護層之表面，形成禮: 細之凹凸構造。就這種凹凸構造之形成方法而t，例如，有藉由喷砂法或I紋加工等粗面化方式、或在前述之透明樹脂中配合透明微粒子’來形成前述透明保護層之方式等就鈾述透明微粒子而言，例如，有矽、鋁、二氧化鈦、氧化锆、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等，其他，月b使用具有導電性之無機系微粒子、或由交聯或未交聯之聚合物粒狀物等所構成之有機系微粒子等。前述透明微 34 粒子之平均粒徑雖無特別限制，但例如，係在〇. 5〜2〇^ 之範圍。X，前述透明微粒子之配合比例雖無特別限制㈣但一般而言，較佳係在前述透明樹脂1〇〇重量份2〜几重量份之範圍，更佳係在5〜50重量份之範圍。配合前述透明微粒子之抗灰層，例如，也能用來作透明保護層本身，又’也可在透明保護層進行塗布層等來形成。進-步，前述抗灰層係兼作用來擴散偏光板透過光，使視角擴大之擴散層（視覺補償機能等）者。又，前述反射防止層、黏著防止層、擴散層、抗灰声_ 4係與前述透明保護層個別積層在偏光板上，來作為光^ 層（其係由設置這些層之薄片等所構成）。予又，當在偏光層之雙面設置透明保護膜時，也能在各早面’使用含有相異之聚合物等透明保護膜。又，也能使用光學補償Α層或光學補償Β層之基材來作為偏光板之單面保護膜。若製成這種構成的話’則較佳係能減少層之厚偏光層與透明保護膜Γ i&^ m 勝1其係保護層）之積層方法無特別由T能藉由習知之方法來進行。-般而纟，其種類能藉削述構成要件之材質等來適當決定。就前述接著劑而令其例如’冑丙稀酸系、乙稀醇系、石夕晶系、聚醋系、聚氨 ;甲酸乙醋系、聚醚系等聚合物製接著劑、或橡膠系接著 2。前述之黏著劑、接著齊彳，例如，係即使受溫度或熱曰也不易剝離’其光透過率或偏光度也很優異。具體而言，當前述偏光層為PVA系膜時，例如，從接 35 1225551 :處理之1¾定性等點來看’較佳係PVA系接著劑。這些接者劑或黏著劑，例如，也可直接塗布在偏光層或透明保護 2之表面’也可將由前述接著劑或黏著劑所構成之膠帶或、:片，配置在前述表面。又’例如，當進行調製來作為水冷液4 ’也可視需要，配合其他添加劑或酸等觸媒。又， 2布前述接著劑之情形’例如，也可在前述接著劑水溶液進步配合其他添加劑或酸等觸媒。這種接著劑層之厚度雖無特別限制，但例如，係lnm 500nm，車父佳係1〇nm〜3〇〇nm，更佳係2〇⑽〜⑽⑽。接s將以上之偏光層、光學補償A層及光學補償β層加以積層’藉此能製造本發明之具備光學補償機能之偏光板。 =層、光學補償Α層及光學補償以之積層方法無能藉由習知之方法來進行。例如，有個別調製偏先層、光學補償A層及光學補償"，分別積層之方法著^亥積層方法中，無特別限制，能使用與前述同樣之黏域接者劑。又，當光學補償β層形成在另一基材上時 ’也可包含前述基材來進行制，也可在述基材（轉印）。交1示云刖、、例如’偏光層、光學補償Α層及光學補償β層之積層有Γ預先製造光學補償Α層及光學補償Μ之積層 .⑵預“亥積層物上，進一步積層光學補償Β層之方法 ’⑵預先製造光學補償Β層及偏光層（膜）之積層物，在該物上，進-步積層光學補償Α層之方法；（3)預先積層光學補償A層及光學補償B層，形成光學補償層.，在該^ 36 1225551 學補償層上’進—步積層偏光層(膜)之方法等。前述⑴所示之偏光層(膜)和光學補償a層之積層物之製造方法’無特別限定’能藉由習知之方法來進行。一般而：，能使用與前述同樣之黏著劑或接著劑，其種類能藉由則迷各構成要件之材質等來適宜決定。例如，分別準備偏光層和光學補償A層，使用黏著劑或接著劑，能將偏光層和光學補償A層加以積層。在具有偏光層和光學補# A層之積層物上，為了進一步積層光學補償μ，能制（a)在光學補償A層上，直接# 形成光學補償B層之方法’·⑻在另外準備之基材上，形成光學補償B層’透過黏著劑或接著劑’將該光學補償B層轉印在光學補償A層上之方法等。當使用⑻之方法時，二印光學補償B層後，也可除去或不除去前述配向基材。其次，如前述（2)所示，在光學補償B層和偏光層（膜）之積層物上，針對進一步積層光學補償A層之方法加以說 =。光學補償B層和偏光層之積層物之製造方法無特別限定，能藉由前述習知之方法來進行。例如，能使用（“在_ 偏光層上，直接形成光學補償B層之方法；（b)在另外準備之基材上，直接形成光學補償B層，透過黏著劑或接著劑，將該光學補償B層轉印在偏光層上之方法等。當使用之方法時，轉印光學補償B層後，也可除去或不除去前述基材。在具有偏光層和光學補償B層之積層物上，進一步積層光學補償A層之方法，無特別限定，能藉由前述習知之 37 方法來進行。先積層光學補償在該光學補償層 A層和，進一其次，針對如前述（3)所示，預光學補償B層，形成光學補償層，步積層偏光層（膜）之方法加以說明c ，4=層光學補償A層和光學補償B層之方法而言太 U)在光學補償A層上，直接形成光學補償B層之方法；（b)在另外阜借夕| ，卜旱備之基材上，直接形成光學補償B声，透過接著劑或黏著劑，將該光曰〜九干補& B層轉印在光學補償

// 寻。當使用⑻之方法時，轉印光學補償μ 後，也可除去或不除去基材。在偏光層（臈）上，積岸且古槓層具有光學補償Α層和光學補償 ^ ' 之方法，無特別限定，能藉由前述習知之方法來：行。當在偏光層之上’積層具有光學…層和光學補償B層之積層物之際’光學補償A層和光學補償" 之任一層也可與偏光層彼此對向。曰其—人，第1圖〜第1 1圖之截面圖係例示本發明之具備光學補償機能之偏光板之具體形態。弟1圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係士下之構&纟偏光層3之兩面’透過接著劑層2來分別積層保護層1。在—方之保護層1之單面上，透過接著劑層2來積層光學補償4。進一步在該光學補償a層* 之上’透過接著劑層2來積層基材6上所形成之光學補償 B層5第2圖係表示從第丄圖所示之偏光板，進一步除去前述基材6之本發明之具備光學補償機能之偏光板之例。 38 如弟3圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係二下之構成。在偏光層3之單面，透過接著劑層2來積層保護層1 ’·在另一單面，透過接著劑層2來積層光學補^ :層4。進-步，在光學補償A層4之另一單面，透過接著劑層2來積層基材6之上所形成之光學補償b | 5。第& 回丁表不攸第3圖所不之偏光板進一步除去前述基材6之本t明之具備光學補償機能之偏光板之例。如第5圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係下之構成。在偏光層3之兩面，透過接著齊1㉟2來分別積:保…；在一方保護層i之單面上，透過接著劑層 Λ積層光學補償A層4。進-步在該光學補償A層4上，直接形成光學補償B層5。口弟6圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係如了之構成。在偏光層3之單面，透過接著劑^ 2來積層 =4層1 ;在另一方之面，透過接著劑層2來積層光學補 ♦㈢4進一步在光學補償A層4上，直接形成光學補核B層5。口第7圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係 &之構&在偏光層3之兩面，透過接著劑& 2來積層 ^ ^ 1在方保濩層1之單面上，透過接著劑層2來積層在積層基材(未圖示)上所形成之光學補償B層5。將 4基材加以除去。進-步在光學補償B層5上，透過接著劑層2來積層光學補償A層4。弟8圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係 39 1225551 汝下之構成。在偏光層3之兩面，、# 俘Ί — 巾面，透過接著劑層2來積層保4層1。在一方之保護層丨、儅R爲「 ^ 早面上，直接形成光學補貝β層5。進一步在光學補償β 積層光學補償Α層4。上透過接者劑層2來第9圖所示之本發明之具備光學補償機能如下之構成。在光學補償A芦 ’、 - w "，透過接著劑層2來積層暴材（未圖不）上所形成之光學補险土 ^ , a 層5，將該基材加以除去。在偏光層3 —方之面，^ °亥積層物之光學補償Β層5 彼此與偏光層3相向，透過接著劑 W曰Ζ來積層積層物。在偏光層3之另一面’透過接著劑層2來積層保護層卜第10圖所示之本發明之具備光學補償機能之偏光板係如下之構成。在光學補償A層4上，罝接形成光學補償B ^ 5來製造積層物°另外’在偏光層3之兩面’透過接著劑層2來積層保護層丨。在一方保護層丨之單面上，以使光學補償B層5與偏光層3彼此相向的方式，透過接著劑層j來積層前述積層物。第η圖係表示前述積層物透過接著劑層2，在偏光層3 一方之面及他側之面，分別積層保護層1。前述積層物係積層光學補償層Β層5，以使與偏光層3彼此相向。本發明之具備光學補償機能之偏光板係在實用之際，除了如述本發明之偏光板之外，也可進一步包含其他之光學層。就前述光學層而言，例如，有以下所示之偏光板、反射板、半透過反射板、亮度提高膜等，使用在形成液晶顯示裝置等之習知之各種光學層。這些光學層也可係一種 1225551 ，也可併用二種以上，又，也可一。推一層，也可積層二層以上仓口：。含這種光學層之具備光學補償機能之偏光板，例如，較佳係用來作為具有光學補償機能之一體型偏光板示裝=如’適合使用在液晶單元表面所配置等各種影像顯以下，針對這種一體型偏光板加以說明。首先，針對反射型偏光板或半透過反射型偏光板之一二：說明。前述反射型偏光板係在具備光學補償機能之係在一步積層反射板；前述半透過反射型偏光板係在具備光學補償機能之偏光板上，進—步積層半透過反射板。前述反射型偏光板能使用在顯示型之液晶顯示裝置（反射型液晶顯示裝置）等’該液晶顯示裝置係配置在液晶單元之内側，使來自視認側（顯示側）之入射光反射。這種反射型偏无板，例如’因能省略内裝背光等光源，故其優點係能將液晶顯示裝置薄型化。 "前，反射型偏光板’例如，在表示前述彈性係數之偏光板之單面，形成反射板（其係由金屬等所構成）之方法等，能藉由習知之方法來製作。具體而言，例如，視需要，將前述偏光板之透明保護層之單面（露出面）進行粗面處理’在前述面舉例有反射型偏光板等’該反射型偏光板係形成金屬猪（其係由紹等反射性金屬所構成)及蒸鑛膜來作為反射板。 41 又，如丽述，在各種透明樹脂中，含有微粒子，在將表面作成微細凹凸構造之透明保護層之上，也有反射型偏光板’其係形成反映該微細凹凸構造之反射板。其表面微細凹凸構造之反射板，例如，係藉由亂反射，使入射光擴散，防止指向性或耀眼之鮮艷，有能抑制明暗不均之優點。這種反射板，例如，係在前述透明保護層之凹凸表面，藉由真空瘵鍍方式、離子鍍敷（ion plating)方式' 濺鍍方式等蒸鍍方式或電鍍方式等習知之方法，直接形成前述金屬箔或金屬蒸鍍膜。 Φ 又’如前述，代替將前述反射板直接形成在偏光板之透明保護層之方式，也可在前述透明保護膜之適當膜上，使用設置反射層之反射板。通常，因前述反射板之前述反射層係由金屬所構成，例如，故從防止因氧化而降低之反射率、及長期持續初始反射率、或避免另外形成透明保護層之點來看，較佳係，其使用形態係前述反射層之反射面被前述膜或偏光板等被覆之狀態。另一方面，在前述反射型偏光板中，前述半透過型偏籲光板係代替反射板，具有半透過型之反射板者。就前述半透過型反射板而言，例如，有半反射鏡等，該半反射鏡係用反射層來反射光及透過光。通常，前述半透過型偏光板係設置在液晶單元之内側，當在較亮之周圍環境下使用液晶顯示裝置等之情形，將來自視認側（顯示側）之入射光反射，顯示影像，在較暗之環境氣氛下’使用半透過型偏光板之背側所内裝之背光等 42 L厶厶J J J i 内裝光源，能使用在用以顯示影像等。即’前述半透過型偏光板置省背井箸决儿之環ί兄氣氣下，月b卽 ^月尤寻先源所使用之能量，另一境氣氛下，對能使用前述卩使在較日曰之衣形成亦極為有用。先原坦之液晶顯示裝置等之進一本發明之具備光學補償機能之偏光板中，將進步積層提高亮度膜之偏光板就前述提高亮度膜而…特別二以§兒明。介電體之多層薄臈、或如折射如，係透過積層體，能採用使既定 =之…多層氺置線偏先透過，而使其他光反射之特性者。就這種提

公司製之商品名「D-膽等膜而吕’例如，有3M ^ # . 」4。又，能使用將膽留醇酯液晶 ί支=剩醇酯液晶聚合物之配向膜或該配向液晶者等。這些係表示使左右-方之圓偏光 =其他光係透過之特性者，例如，有曰東電工公司製 =品名「咖5g」、默克公司製之商品名「Tra細ax」射展本發明之各種偏光板’例如’也可係包含前述之雙折光^積層偏光板、及進—步積層光學層，包含2層以上先學層之光學構件。這樣-來，積層2層以上光學層之光學構件，例如，係在液晶顯示裝置等製造過程中，也能藉由依序個別積声之方式來形成，但若用來當作預先積層之光學構件的話，例如’其優點係具有優異之品質穩定性及組裝作業性等， 43 此如南液晶顯示裝置述同樣，能使用心又，在積層中，與前使用黏者層等各種接著機構。本發明之I供土的光板，例如，因容易：=機能之偏光板及前述之各種偏佳係進—步具有2 在液晶單元等其他構件上，故較偏光板之單面或雔/層或接者劑層’這些能配置在前述限制，能使用丙二。就前述黏著層之材料而t，無特別止因、糸聚合物等習知之材料，特別係從能防之光學特性之===防止因熱膨脹差等所造成性優異之液晶顯示= *而以品質、耐久吸濕率低、耐熱性點來看，例如’較佳係 ’顯示光擴散性之黎著又，也可係含有微粒子劑層㈣… 迷偏光板表面之前述黏著種黏著材料之二1'藉由流延或塗布等展開方式’將各面 +〜夜或洛融液直接添加在前述偏光板既定之為著❹ 方式；娜地，在後述之分離器上形成式來=層’將該黏著劑層移著在前述偏光板之既定面的方 …仃：又，這種層也可形成在偏光板之任-表面，例可形成在偏光板之前述光學補償層之露出面。，較二::广當偏光板所設置之黏著劑層等表面露出時土係在貫用供應前述黏著層前之期間，以防止污染等透明2藉由分離器來覆蓋前述表面。該分離器係在前述 7膜等適當膜上，視需要，能藉由設置石夕晶系、長成…氟系、硫化猛等剝離劑之剥離塗布之方法等來形 1225551 體。P f 例如也可係單層體，也可係積声同種類單声之…v 月“吏用組合不同組成或不早層之積層體…配置在前述偏光板之兩面之情训㈣也可係分別相同之黏著劑層，&可係不同組成或不冋種類之黏著劑層。取、二述黏著劑層之厚度’例如’能根據偏光板之構成等、以決定’一般而言，為1〜500 ^。

:形成前述黏著劑層之黏著劑而t，例如，較佳係表不先予透明性優異、適度之潤濕性、凝結性或接著性之為者特性之黏著劑。就具體例而言’有以適當基本聚合物來調製丙㈣聚合物切晶系聚合物、聚_、聚氨基甲酸乙酉曰♦醚、合成橡膠等聚合物之黏著劑等。前述黏著劑層之黏著特性之控制，例如，係能藉由形成前述黏著劑層之基本聚合物之組成或分子量、交聯方式、交聯性官能基之含有比例、交聯劑之配合比例等，使用调節該叉聯度或分子量之習知之方法來適當進行。

以上本發明之具備光學補償機能之偏光板、形成各種光學構件（進一步積層光學層之各種偏光板）之偏光膜、透明保護層、光學層、黏著劑層等各層，例如，係用水揚酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物等紫外線吸收劑來適當處理，也可係具有紫外線吸收能者。本發明之具備光學補償機能之偏光板較佳係如前述，使用在液晶顯不裝置專各種裝置之形成’例如，將偏光板 45 1225551 配置在液晶單元之單側或兩俱卜當作液晶面板，能使用在反射型或半透過型、或透過·反射兩用型等液晶顯示裝置形成液晶顯示裝置之前述液晶單元種類係能任意選擇例如，此使用薄膜電晶體型所代表之動態矩陣驅動型者、扭轉向列型或超扭轉向列型所代表之單純矩陣驅動型者等，各種型式之液晶單元。在這些單元中，本發明之具備光學補償機能之偏光板，特別係在VA(垂直配向： = rtical Aligned)單元之光學補償非常優異，故作為μ 松式之液晶顯示裝置用之視角補償膜非常有用。

又，前述液晶單元之構造，通常液晶係注入在對向之液晶單元基板之間隙，就前述液晶單元基板而言，無特別限制，例如，能使用玻璃基板或塑膠基板。又，就韵;述塑膠基板之材質而言，無特別限制，例如係習知之材料又，當在液晶單兀之兩面設置偏光板或光學構件之情形’這些也可係相同之種類者，也可相異之種類者。並：，當形成液晶顯示裝置之際，例如’稜鏡陣列片或透鏡陣列片、光擴散板或背光等適當部品能在適當位置配 ^ -V·、〇 1 1 增

又’本發明之液晶顯示裝置係含有偏光板光板而言，除了使用本發明之具備光學補償機之外，無特別限制。又，當進一步具有光源時限制，但例如，從能有效使用光能來看，例如出偏光之平面光源。 ’就前述偏能之偏光板 ’雖無特別 ’較佳係射 46 1225551 本發明之液晶顯示裝置係在視認側之光學膜（偏光板）上例如進步配置擴散板、抗灰層、反射防止膜、保護層或保護板，或在液晶面板之液晶單元和偏光板之間，適當配置補償用相位差板等。又’本發明之具備光學補償機能之偏光板係不限定在刖述之液晶顯示裝置，例如，也能使用在有機電致發光 (EL)顯示器、電漿顯示器（PD)、FED(電場發射顯示器： Field Emission Display)等自發光型影像顯示裝置。

以下，針對具備本發明之具備光學補償機能之偏光板之電致發光（EL)顯示裝置，加以說明。本發明之乩顯示裝置係具有本發明之具備光學補償機能之偏光板之顯示裝置 ’该EL裝置也可係有機el及無機el之任一種。

近年來，在EL顯示裝置中，係作為來自黑狀態之電極之反射防止’例如’提案了同時使用】/4》皮長板之偏光層或偏光板等之光學膜。本發明之具備光學補償機能之偏光板’特別係當從EL層，直線偏光、圓偏光或橢圓偏光之任偏光發光之情形，或在正面方向，即使發出自然光，在斜方向之射出光為部分偏光之情形等，非常有用。义首先’此處’針對一般之有機EL顯示裝置，加以額。w述有機EL顯示裝置一般係具有發光體（有機EL發兴 )’該發光體係依透明電極、有機發光層及金屬電極之積層在透明基板上。前述有機發光層係各種有機薄磨播層體’例如’有正孔注入層(其係由三苯胺衍生物等成）矛么光層（其係由恩等榮光性有機固體所構成）之 47 1225551 層體、這種：光層和電子注入層(其係由紫蘇婦等所構成) 之積層體、前述正孔注入層和發光層和電子注入層之積體層等各種組合。 & 又’這種有機^顯示裝置係在前述陽極和陰極施加電麼’藉此在前述有機發光層注入正孔和電子，前述正孔和電子進行再麵合所產生之能量，激發螢光物質，當被激發恢復為基底狀態時’用放射光之原理來進行發光。=正孔與電子之再搞合之構成係和-般之二極體同樣’所明電流和發光強度係表示對施加電I，冑纟整流性之強非線性。；在前述有機EL顯示裝置中，為了取出前述有機發光層之發光，至少-方之電極必須是透明’通常，使用由氧化銦錫(ITO)等之透明導電體所形成之透明電極來作為陽極。 ^ 一方面，為了容易注入電子，來提高發光效率，重要的疋在陰極，使用功函數小之物質，通常係使用Mg_Ag、A卜 Li等金屬電極。在這種構成之有機EL顯示裝置中，前述有機發光層，籲例如，較佳係用厚度為10nm左右極薄之膜來形成。這是因為在前述有機發光層中，與透明電極同樣，使光大致完全通過之故。其結果，非發光時，從前述透明基板之表面射入，透過前述透明電極及有機發光層，被前述金屬電極反射之光係再從前述透明基板之表面側射出。因此，當從外部進行視認之際，有機EL顯示裝置之顯示面能看起來如鏡面般。 48 本毛明之有機EL顯示裝置 £L·發光體（其俜在前、+、+ 例如，在包含前述有機極，在前述有機發光声之真^曰之表面側，備有透明電讥顯示裝置中，較^在_： 1 ’備有金屬電極）之有機竿乂 1土係在刖述透明明之具備光學補償機能之偏光板，更面牛配置本發板盥EL元件Η , ^ 文仏係進一步，在偏光扳“件間，配置1/4波長板。這樣一來，之具備光學補償機能之偏— * X明，曰一為先板，精此成為能顯示抑制外界 “南視認性效果之有機EL顯示裝置。又，好係在:述透明電極與光學膜之間，進_步配置相位差板。土刖述相位差板及具備光學補償機能之偏光板，例如，因從外部射入，具有使被前述金屬電極反射來之光偏光之作用，故有藉由該偏光作用，不從外部視認前述金屬電極鏡面之效果。特別係使肖1/4波長板來作為相位差板，而且’若將前述偏光板和前述相位板之偏％方向所形成之角調整為;r/4的話，則能完全遮蔽前述金屬電極之鏡面。即，射入到該有機EL顯示裝置之外部光，係藉由前述偏光板，只直線偏光成份透過。該直線偏光係藉由前述相位差板，一般成為橢圓偏光，但特別係前述相位差板為丨/4波長板，且前述7Γ/4之情形’成為圓偏光。该圓偏光，例如，係透過透明基板、透明電極、有機薄膜，用金屬電極來反射，再透過有機薄膜、透明電極、透明基板’用前述相位差板再形成直線偏光。並且，因該直線偏光與前述偏光板之偏光方向正交，故不能透過前述偏光板，其結果，如前述，能完全遮蔽金屬電極之鏡面。 49 1225551 (實施例）以下’使用實施例及比較例，進一步具體說明本發明 ’但本發明係不被限定在以下之實施例者。以30°C將厚度80//m之聚乙烯醇（PVA)膜含浸在蛾濃度0. 0 5重量％之碘水溶液中β 〇秒鐘，進行染色，接下來，一面含浸在硼酸濃度4重量％之硼酸水溶液中秒鐘，一面拉伸到原本長度之5倍後，以5(rc乾燥4分鐘，能得到厚度20 // m之偏光層。在該偏光層之兩側，透過厚度為5 之PVA系接著劑，接著厚度為8〇//m之三乙醯基纖維_ 素（TAC)膜，來作為保護層，能得到偏光板。 (實施例1) 以175°C將厚度為loo# m之降冰片烯樹脂膜（JSR公司製，ARTON)拉幅機橫拉伸h25倍，能得到厚度為別“爪之拉伸膜（光學補償A層）。在前述偏光板之單面，透過厚度為25 /z m之丙烯酸系黏著層，將該拉伸膜貼在一起。將由2, 2 —（3, 4 - 一羧基苯基）六i丙烧、和2, 2，—二 (三氟甲基）-4, 4，-二氨雙苯所合成之聚醯亞胺溶解在環己鲁烷中，調製15重量％之溶劑。將該聚醯亞胺溶液塗佈在雙軸拉伸聚酯膜（基材）上，用12(rc乾燥1〇分鐘，形成厚度為5 // m之非液晶性聚合物層（光學補償β層）。為了使光學補償A層和光學補償B層彼此相向，透過-厚度為15 Am之丙稀酸系黏著劑，將偏光板與光學補償A 層之積層體、及基材與光學補償6層之積層體貼在一起。然後，除去基材，能得到總厚度為315//111之具備光學補償 50 1225551 機能之偏光板（No. 1)。 (實施例2) 以180°C將厚度為i〇〇#m之降冰片烯樹脂膜縱拉伸 1. 2倍，能得到厚度為90 # m之拉伸膜（光學補償A層）。將實施例1之聚醯亞胺溶液塗佈在厚度為8〇#m之 TAC膜（基材）上’用12(rc乾燥1〇分鐘，形成厚度為_ 之非液晶性聚合物層（光學補償B層）。在前述偏光層一側之面，為了使基材與前述偏光層彼此對向ϋ過厚度為5 μ m之PVA系接著劑，將該光學補償籲 B層貼在-起。又，前述基材兼作前述偏光層之保護層之作用。在前述偏光層之另一面，透過厚度為之m系接著劑，將厚度為8Mm之道膜（保護層）貼在一起，能得到光學補償B層和偏光層之積層體。光學補償A層和光學補償B層為了彼此相向，透過厚度為25//m之丙稀酸系黏著劑，將偏光層與光學補償b層之積層體、和光學補償A層貼在一起，能得到總厚度為 31〇 “ m之具備光學補償機能之偏光板（No. 2)。 _ (實施例3) 將貝施例1之聚醯亞胺溶液塗布在厚度為⑽#㈤之 TAC胰上’以12〇。。乾燥1〇分鐘，能得到厚度為^爪之非，晶性聚合物層和TAC膜之積層體。將該積層體拉幅機橫拉伸1,05倍，能得到厚度為73 P之積體層。該積體層 :拉伸TAC膜（光學補償A層）和拉伸之非液晶性聚合物層光學補償β層）之積體層。曰 51 1225551 透過厚度為5 /z m之PVA系接著劑，將 ^ ^ ^ ^ ^ 將5亥積層體貼在前过偏先層之早面，以使拉伸TAC膜(光學補償偏光層彼此相向。透過厚度為5"m之：月度為之TAC膜（保謹膜不接者劑，將厚联U乐叹艇）貼在前述偏光 ’能得到總厚度為183" m之具備 (Νο.3)。予预彳貝機旎之偏光板 (實施例4) 除了將光學補償Α層和光學補償Β層之積層體貼在— 起，以使光學補償Β層（拉伸之非偏光層彼此相向之外，㈣H q Λ“物層）和前述 …Alsq '糸與…"同樣地進行，能得到〜厚度為183…具備光學補償機能之偏光板 (實施例5) * 將厚度70 V m之聚醋膜（TORE公司製，f 口名. -Μ)在戰’拉幅機橫拉伸U倍，能得到；度為 59#m之拉伸臈（光學補償A層）。 ‘、、、。將實施例1之聚醯亞胺溶液塗布在該拉伸膜上，用 1 2 0 C乾燥1 〇分鐘，能得至丨戶存一此仔到厗度為3//πι之非液晶性聚合物層（光子補償Β層）和拉伸膜（并與、々租胛膜〔光學補償Α層）之積層體（厚度為 6 2 // m) 〇在前述偏光板之單面，透過厚度為15“之丙稀酸系黏著層，將該積層髀 a * 、，， 3體貼在剛述偏光板之單面，以使拉伸膜 (光學補償A層）和前述偏光板相向’能得到總厚度為267 以见之具備光學補償機能之偏光板（N〇5)。 (實施例6) 52 1225551 除了將光學補償A層和光學補償B層之積層體貼在一起’以使光學補償B層(非液晶聚合物層)和前述偏光層相向之外’係與實施例5同樣進行，能得到總厚度為如^ 之具備光學補償機能之偏光板（N〇.6)。 (比較例1 ) 將厚度80^之TAC膜（富士照片底片公司t，製品名 :FUjltack)以l7(rc進行拉幅機橫拉伸16倍，能得到厚度為5〇/^之拉伸膜（光學補償A層）。彡過厚度為5/^】之 PVA系'接著劑’將該拉伸膜貼在前述偏光層之單面。透過厚^度為5^之PVA系'接著劑，將厚度為8〇#m之道膜（保瘦層）貼在前述偏朵屏夕另^ ^ ^ 徇尤層之另一早面，能得到總厚度為16〇 # m之具備光學補償機能之偏光板（N〇.丨^。 (比較例2) 以180C將厚度為100"之降冰片_脂膜（則公司製’製品名：ARTON)拉幅機拉伸1>2倍，能得到厚度為9〇 //m之拉伸膜（光學補償4層）。透過厚度為之不飽合聚酯系接著劑，將該拉伸膜貼在前述偏光層之單面。透過厚度為5 # m之PVA系接著齊j，將厚度為8〇 # m之TAC膜（保護層）貼在前述偏光層之另一單面，能得到總厚度為18〇 V m之具備光學補償機能之偏光板（N〇. 12)。 (比較例3) ★將貫施例1之聚醯亞胺溶液塗布在厚度為7 # m之聚酉旨膜（基材）上，以12(TC乾燥10分鐘，形成厚度之非液晶性聚合物層（光學補償B層）。 53 1225551 透過厚度為1 5 # m之丙烯酸系黏著劑，趑兮1 …將该光學補償

B層貼在前述偏光板之單面，以使光學補儅R 以貝15層和前述偏光層彼此相向。然後，將聚酯膜剝離，將光學于领1員β層轉印在偏光層。透過厚度為5 // m之PVA系接著劑，將厚产為 80 a m之TAC膜（保護層）貼在前述偏光層之又” 〜早面，能件到總厚度為1 25 // m之具備光學補償機能之偏光板 (No. 13)。關於在實施例1〜6所得到之具備光學補償機能之偏光板之光學補償A層及光學補償μ，及在比較例卜3所得 2之具備光學補償機能之偏光板之光學補償Α層及光學補 ^ Β層，使用以平行尼科爾（Nicol)旋轉法為原理之王子量列機器製造’商品名為κ刪_21ADH，求出法線方向之相位差值Re及厚度方向之相位差值Rz。表1係表示該結果

54 :為非常•。因此，較積層偏光板(其係包知之光學補償A層)為薄，能得 2片… 光板（其係包含光風^ Λ a f先予補償機能之偏 ”行、已3先學補償A層和光學補償β層）。 (評價試驗） 9 。將實加例1〜6所得到之具備光學 ⑽.1〜以吨们〜3㈣収㈣以==偏光板光板⑽·η〜13)分別切割成5cmx5c補:機能之偏補償層無積層之前述偏光板分別配置在VA型、夜曰此與先學公司製，商品名：DUAFFALG FTD_XT15FA)之^，板（鼠相軸彼此正交’能得到液晶顯示裝置。又，光：補二：遲配置在單元側。予補彳員層係其次，針對所得到之液晶顯示裝置之上下、角（45〜225 )、對角（135。〜315。）之各方向對比之比（Co) - 1 0之視角。對比之比係在 I 1]疋對 j 4收日日顯示裝罟中，使顯示白影像及黑影像，藉由裝置（商品名攻置 contrast 160D: ELDIM公司製），針對顯示晝面:* Ez 上下左右，分別測定視角0〜70。之χγζ顯示系之Y 值、y值。然後從白影像中之Υ值（Yw)、和從黑影像值（YB)，算出各視角之對比之比（γ“γΒ)。表2係表不該結果。 55 表2 膜之種類視角（° ) 前後上下左右對角 (45。 -225。）對角 (135。 -315。）評價例1 No. 11 (偏光板+ A層） No. 1 (偏光板+ A層+ B層） ±80 ±80 ±70 ±70 評價例2 偏光板 No. 2 (偏光板+ A層+B層） ±80 ±80 ±65 ±65 評價例3 偏光板 No. 3 (偏光板+A層+ B層） ±80 ±80 ±65 ±65 評價例4 偏光板 No. 4 (偏光板+A層+B層） ±80 ±80 ±65 ±65 評價例5 偏光板 No. 5 (偏光板+A層+ B層） ±80 ±80 ±70 ±70 評價例6 偏光板 No. 6 (偏光板+ A層+ B層） ±80 ±80 ±70 ±70 評價例7 偏光板 No. 1 (偏光板+ A層+ B層） ±80 ±80 ±65 ±65 比較評價例1 偏光板偏光板 ±80 土 80 土 30 ±30 比較評價例2 偏光板 No. 12 (偏光板+A層） ±80 ±80 ±40 ±40 比較評價例3 偏光板 No. 13 (偏光板+ B層） ±80 ±80 ±50 ±50 1225551 由表2之結果可知，液晶顯示裝置（其係包含實施例1 〜6中所得到之具備光學補償機能之偏光板）係廣視角之液晶顯示裝置。因此，本發明之具備光學補償機能之偏光板顯示出具有優異之光學特性。因此，依本發明，能提供具備光學補償機能之偏光板 φ ，其係將具有所欲相位差值之2個光學補償機能層積層且厚度變薄。若使用該偏光板的話，則能提供視認性優異之高品質顯示之液晶顯示裝置。【圖式簡單說明】 (一）圖式部分第1圖係本發明之具備光學補償機能之偏光板一例之截面示意圖。第2圖係本發明之具備光學補償機能之偏光板另一例 56 第第第之哉面第之截面第之載面第之戴面第之戴面第之戴面第之載面示意圖。 3圖係本發明之具備光學示冑g| ^機能之偏光板另一例 4圖係本發明之具備光學補示_ +補仏機能之偏光板另一例 5圖係本發明之具備光學補 7Γ； A _ ^機能之偏光板另一例思、圖。 6 is» 圖係本發明之具備井學雄示土 /、W尤予伸償機能之偏光板另一例、思、圖。 _7圖係本發明之具備光學補償機能之偏光板另一例不意圖。 8圖係本發明之具備光學# 一土胥尤予補償機能之偏光板另一例不意圖。圖係本發明之具備光學補償機能之偏光板另一例不意圖。 10圖係本發明之具備光學補償機能之偏光板另-例不意圖。 :1圖係本發明之具備光學補償機能之偏光板另一例不意圖。二）元件代表符號保護層接著劑層偏光層光學補償A層 57 1225551 5 光學補償B層 6 基材

58

Claims

1225551 拾、申請專利範圍： 1、一種具備光學補償機能之偏光板，係包含至少2個光學補償層；該光學補償層係包含：聚合物膜製之光學補償A層，其係滿足下述之式（丨）及 (11)所示之條件；以及

非液晶性聚合物膜製之光學補償B層，其係滿足下述之式（III)〜（V)所示之所有條件； 20(nm)SRea$300(nm) (!) (II) (III) (IV) (V) 1.0^ Rza/Rea^ 8 l(nm)^ Reb^ l〇〇(nm) 5S Rzb/RebS 100 1(// m) 20(// m) 在該式（I)及（II)中， Rea= (nxa-nya)xda

Rza= (nxa- nza) xda Μ〆W及％係分別表示該光學補償層A層之X MY轴及z轴方向之折射率’該χ轴係指在該光學補償層之面内具有最大折射，方向’ Y軸係指在該面内该X軸垂直之軸方向，7 u 軸係私與該X軸及γ軸垂直之度方向’九係指該光學補償A層之厚度；在該式（III)〜（V)中， X ’ Reb= (nxb^ nyb)xdb Rzb= (nxb〜 nzjxd 59 丄厶厶J J J丄在上迷式由 f μ B M nXb叩13及nZb係分別表示該光學補償層B層之x轴、γ軸及z軸方向之折射渴該光學補償R s 〈斫射羊’ §玄X軸係指在 B層之面内最大折射率之轴 v ^ 該面内與m w ㈣4'之軸方向，Y㈣指在垂直之戽许士 "万。z軸係指與該X軸及γ軸又向，db係指該光學補償β層之厚度。板Λ、中如申請專利範圍第1項之具備光學補《能之偏光液晶膜。开7成遠光學補償層Α層之聚合物膜係拉伸膜或板二、夕請專利範圍第1項之具備光學補償機能之偏光敬，、中’形成該光學補償厣R JS + # > 子補1貝層β層之非液晶性聚合物膜， '、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醋、聚醚酮、聚芳基醚酮、聚酿胺醯亞胺、及聚醋醯亞胺所構種膜。 β 4、如申請專利範圍第1項之呈』 / 備先學補償機能之偏光板，其係進一步包含黏著劑層，今表 Θ黏者劑層係配置在具備光學補償機能之偏光板之至少一表面。 5、 -種液晶顯示裝置，係包含液晶單元及偏光板，該偏光板係申請專利範圍第1項至第4 只1弟4項中任一項之偏光板 ’ 5玄偏光板係配置在該液晶單元之小一 ^ 一表面。 6、 -種電致發光⑽）顯㈣置，係包含透明電極及偏光板’該偏光板係申請專利範圍第丨工員至第4項巾任一項之偏光板，該偏光板係配置在該透明電極表面 60