TW201306689A - 形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體 - Google Patents

Abstract

一種形成圖案之方法，其用於在曲面上形成圖案，其包括以下步驟：在曲面上形成光阻層；提供光罩，使所述光罩設置於所述曲面上方，且所述光罩上開設有透光孔；提供光源，並對形成於所述曲面之光阻層進行曝光；對經過曝光之光阻層進行顯影；對顯影後之光阻層進行清洗，以在所述曲面上形成所述圖案。還提供一種採用上述方法形成有圖案之殼體。

Description

形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體

本發明涉及一種形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體，特別涉及一種在曲面上形成圖案之方法及採用該方法在曲面上形成有圖案之殼體。

為在殼體、箱體、玩具等物件之曲面上形成圖案，目前一般採用絲網印刷或噴墨印刷。然，絲網印刷僅可在外凸曲面上印刷，如物件之結構較複雜則較難實現。噴墨印刷時，由於曲面上各待印刷點到噴墨頭之距離不同，從而噴墨量不同，導致解析度不高，圖案失真。為改善圖案品質，可藉由控制噴墨頭之運動軌跡來配合曲面之形狀變化，從而使各待印刷點到噴墨頭之距離大致相同，然採用該種方法時，噴墨設備結構較複雜。尤其當圖案需印刷在內凹曲面時，噴墨印刷則較難實現。

鑒於以上內容，有必要提供一種可在曲面上形成解析度較高之圖案、無需採用複雜噴墨設備之形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體。

一種形成圖案之方法，其用於在物件之曲面上形成圖案，其包括以下步驟：在曲面上形成光阻層，所述光阻層之材質為負光阻材質；提供光罩，使所述光罩設置於所述曲面上方，且所述光罩上開設有透光孔，所述透光孔之形狀與所述圖案之形狀相對應；提供光源，並對形成於所述曲面之光阻層進行曝光；對經過曝光之光阻層進行顯影；清洗，以在所述曲面上形成所述圖案。

另一種形成圖案之方法，其用於在物件之曲面上形成圖案，其包括以下步驟：在所述曲面上形成光阻層，所述光阻層之材質為正光阻材質；提供光罩，使所述光罩設置於所述曲面上方，且所述光罩上開設有透光孔，以使所述光罩之形狀與所述圖案之形狀相對應；提供光源，並對形成於所述曲面之光阻層進行曝光；對經過曝光之光阻層進行顯影；清洗，以在所述曲面上形成所述圖案。

一種殼體，其包括曲面，且該曲面上形成有圖案，其中該圖案由光阻層經過曝光顯影製成。

上述形成圖案之方法先在曲面上塗覆光阻層，並在光罩上開設透光孔，然後進行曝光、顯影處理，從而在曲面上形成圖案。該形成於曲面上之圖案之形狀可藉由透光孔之形狀來控制，避免採用複雜噴墨設備直接噴墨之方法在曲面上形成圖案，從而提高圖案之解析度，同時，步驟簡單，所需設備結構較簡單，成本較低。

請參閱圖1，本發明形成圖案之方法用來在物件之曲面上形成圖案。在本實施方式中，以在殼體10上形成圖案為例進行說明，殼體10大致呈弧形，其包括內凹曲面11及與內凹曲面11相對之外凸曲面13。內凹曲面11上塗覆有光阻層20。光阻層20可採用正光阻材質或負光阻材質。在本發明實施方式中，殼體10由金屬製成。可理解，殼體10亦可由玻璃、陶瓷或塑膠等材質製成。

本發明實施方式之形成圖案之方法所採用之光罩30大致呈弧形，其上開設有透光孔31。光罩30包括內凹曲面33及與內凹曲面33相對之外凸曲面35。外凸曲面35與殼體10之內凹曲面11相對應設置，且外凸曲面35與殼體10之內凹曲面11之形狀相同。本發明實施方式中，光阻層20之材質為負光阻材質，因此，透光孔31之形狀與需在內凹曲面11上形成之圖案形狀相同。本發明實施方式中，透光孔31為橢圓形。

可理解，當光阻層20之材質為正光阻材質時，光罩30之外凸曲面35則與需在內凹曲面11上形成之圖案之形狀相同。

可理解，所述光罩30亦可為平板結構，採用平板結構之光罩30需藉由計算機模擬得出透光孔31之形狀與圖案形狀之對應關係。

請一併參閱圖2至圖5，本發明實施方式之形成圖案之方法包括以下步驟：

步驟S101：在殼體10之內凹曲面11上形成光阻層20。形成光阻層20之方法可採用浸潤方法或噴塗方法。在本發明實施方式中，採用噴塗方法塗覆光阻層20，光阻層20之材質為負光阻材質。可理解，光阻層20之材質亦可為正光阻材質。

步驟S102：提供光罩30，使光罩30設置於殼體10之內凹曲面11之上方。光罩30上開設有透光孔31，光罩30包括內凹曲面33及與內凹曲面33相對之外凸曲面35，且外凸曲面35與殼體10之內凹曲面11相對應設置。本發明實施方式中，外凸曲面35與殼體10之內凹曲面11之形狀相同，光阻層20之材質為負光阻材質，因此，透光孔31之形狀與需在內凹曲面11上形成之圖案形狀相同。本發明實施方式中，透光孔31為橢圓形。可理解，當光阻層20之材質為正光阻材質時，光罩30之外凸曲面33之形狀則與需在內凹曲面11上形成之圖案形狀相同。

步驟S103：提供光源40，並對光阻層20之進行曝光。光源40發出之光線照射到光罩30上，透過光罩30之透光孔31照射到塗覆於內凹曲面11之光阻層20上，受到光線照射之光阻劑發生光敏反應，生成難溶於顯影劑之成份。

步驟S104：對經過曝光之光阻層20進行顯影。將顯影劑50噴灑在內凹曲面11之光阻層20上，未曝光部份之光阻劑溶解於顯影劑50中。

步驟S105：對顯影後之光阻層20進行清洗，將顯影劑50及溶於顯影劑50之光阻劑去除，得到形成於殼體10之內凹曲面11上之圖案60。

可理解，本發明實施方式之形成圖案之方法亦可用來在外凸曲面13上形成圖案。

本發明實施方式之形成圖案之方法先在殼體10之內凹曲面11上塗覆光阻層20，並在光罩30上開設透光孔31，然後進行曝光、顯影處理，從而在內凹曲面11上形成圖案60。該形成於內凹曲面11上之圖案60之形狀可藉由透光孔31之形狀來控制，避免採用直接噴墨方法在內凹曲面11上形成圖案60，從而提高圖案60之解析度，所需設備結構較簡單，成本較低。同時，採用本發明實施方式之形成圖案之方法時，即使殼體10之結構較為複雜，亦可較輕易地實現。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

10．．．殼體

11．．．內凹曲面

13．．．外凸曲面

20．．．光阻層

30．．．光罩

31．．．透光孔

33．．．內凹曲面

35．．．外凸曲面

40．．．光源

50．．．顯影劑

60．．．圖案

圖1係本發明實施方式之形成圖案之方法曝光步驟示意圖。

圖2係本發明實施方式之形成圖案之方法顯影步驟示意圖。

圖3係具有本發明實施方式之形成圖案之方法形成之圖案之殼體之剖面示意圖。

圖4係本發明實施方式之形成有圖案之殼體之示意圖。

圖5係本發明實施方式之形成圖案之方法之流程示意圖。

10．．．殼體

11．．．內凹曲面

13．．．外凸曲面

20．．．光阻層

30．．．光罩

31．．．透光孔

33．．．內凹曲面

35．．．外凸曲面

40．．．光源

Claims (10)

1. 一種形成圖案之方法，其用於在物件之曲面上形成圖案，其包括以下步驟：
   在所述曲面上形成光阻層，所述光阻層之材質為負光阻材質；
   提供光罩，使所述光罩設置於所述曲面上方，且所述光罩上開設有透光孔，所述透光孔之形狀與所述圖案之形狀相對應；
   提供光源，並對形成於所述曲面之光阻層進行曝光；
   對經過曝光之光阻層進行顯影；及
   對顯影後之光阻層進行清洗，以在所述曲面上形成所述圖案。
2. 如申請專利範圍第1項所述之形成圖案之方法，其中所述光罩包括與所述物件之曲面形狀相同之曲面，使所述光罩之曲面與所述物件之曲面相對應設置，所述透光孔之形狀與所述圖案之形狀相同。
3. 如申請專利範圍第1項所述之形成圖案之方法，其中所述光罩為平板結構，並藉由電腦類比得到所述透光孔之形狀與所述圖案之形狀之對應關係，以在所述光罩上開設所述透光孔。
4. 如申請專利範圍第1項所述之形成圖案之方法，其中所述物件之材質為金屬、塑膠、玻璃或陶瓷。
5. 如申請專利範圍第1項所述之形成圖案之方法，其中所述曲面為內凹曲面或外凸曲面。
6. 一種形成圖案之方法，其用於在物件之曲面上形成圖案，其包括以下步驟：
   在所述曲面上形成光阻層，所述光阻層之材質為正光阻材質；
   提供光罩，使所述光罩設置於所述曲面上方，且所述光罩上開設有透光孔，以使所述光罩之形狀與所述圖案之形狀相對應；
   提供光源，並對形成於所述曲面之光阻層進行曝光；
   對經過曝光之光阻層進行顯影；及
   對顯影後之光阻層進行清洗，以在所述曲面上形成所述圖案。
7. 如申請專利範圍第6項所述之形成圖案之方法，其中所述光罩包括與所述物件之曲面形狀相同之曲面，使所述光罩之曲面與所述物件之曲面相對應設置，所述光罩之曲面形狀與所述圖案之形狀相同。
8. 如申請專利範圍第6項所述之形成圖案之方法，其中所述光罩為平板結構，並藉由計算機模擬得到所述光罩之形狀與所述圖案之形狀之對應關係，以在所述光罩上開設所述透光孔。
9. 一種殼體，其包括曲面，且該曲面上形成有圖案，其改良在於：該圖案由光阻層經過曝光顯影製成。
10. 如申請專利範圍第9項所述之殼體，其中所述殼體之曲面為內凹曲面或外凸曲面。