CN103399367B - 一种显示基板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，涉及显示技术领域，可以消除显示器件表面和内部的光反射，提升显示效果。在该显示基板的衬底基板上形成包含多个凸状结构的防反射结构，该凸状结构的宽度以及相邻的两个凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；且凸状结构的高度大于等于其宽度。

Description

一种显示基板及其制造方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

对于现有技术中的各种显示装置而言，外界光源极易在显示屏幕的表面发生反射从而严重影响显示效果，如何消除外界光源对显示效果的影响显得非常的重要。目前作为防反射的方法主要有LR（LowReflection，低反射）处理及AG（AntiGlare，防光）处理；其中LR处理是在显示器的表面上覆盖与构成显示屏幕表面材料的折射率不同的物质，通过在显示器表面入射光和反射光的干涉效应来减少反射，但是，通常空气与LR膜界面上发生的反射以及LR膜与显示器表面上发生的反射，各自的振幅反射率、相位与理想的条件不同，因此，这些反射光不会完全抵消，反射效果并不理想；而AG处理是在显示器的表面形成细微的凹凸图案，用光的散射效果来防止外光映入，但这样一来会使得外界光源的成像变得模糊，影响显示效果。

相比较AG处理而言，采用蛾眼（Moth-eye）结构可以通过不使用光干涉的方式达到防反射效果。蛾眼结构是在显示屏幕的表面，将比AG光散射结构更细微的、间隔为光的波长（例如，380nm）长度或以下的凹凸图案间隙地排列，从而使得外界空气和膜表面边界折射率的变化相对连续。这样一来，外界光源大致可以全部透射，因此可以几乎消除显示屏幕表面的光反射。蛾眼结构由于其尺寸过于微小（纳米量级），同时对精度要求高，凸起部分间距很小，又不能互相粘连，否则会引起光的散射，所以制作蛾眼结构的难度很大。目前普遍采用模具压制法进行制备，即制备出与蛾眼结构相反的模具结构，然后再通过将模具物理压制在成膜材料上，得到想要的蛾眼结构。这种制备工艺对材料和工艺参数要求严格，且工艺稳定性不好，很难控制蛾眼结构的尺寸与间距，还容易造成蛾眼结构凸起部分的相互粘连，严重影响防反射效果。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，可以消除显示器件表面和内部的光反射，提升显示效果。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供一种显示基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，所述显示基板还包括：形成于所述衬底基板上的防反射结构，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；

其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应。

本发明的另一方面提供，提供一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本发明的实施例的另一方面，提供一种显示基板的制造方法，所述显示基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，所述方法包括：

在所述衬底基板上形成防反射结构，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；

其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应。

本发明实施例提供的一种显示基板及其制造方法、显示装置，在该显示基板的衬底基板上形成包含多个凸状结构的防反射结构，该凸状结构的宽度以及相邻的两个凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；且凸状结构的高度大于等于其宽度。该防反射结构可以位于显示装置内部或者位于显示装置的显示侧，这样一来，通过该防反射结构，可以消除显示器件表面和内部的光反射，提升显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的一种防反射结构的制作过程示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种防反射结构的制作过程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种显示基板，如图1所示，包括衬底基板10以及形成在衬底基板10上的黑矩阵101，该显示基板还包括：形成于衬底基板10上的防反射结构20，该防反射结构可以包括多个第一凸状结构201。

其中，第一凸状结构201的位置与黑矩阵101的位置相对应。

需要说明的是，第一凸状结构201的位置与黑矩阵101的位置相对应具体是指第一凸状结构201的位置与黑矩阵101的上下位置相对应，即与黑矩阵101上下位置相对应的多个第一凸状结构201的位置均不超过黑矩阵101的宽度。采用这样一种位置结构，可以利用该防反射结构20消除光反射的同时使得黑矩阵之间显示区域的功能和显示效果不受影响。

本发明实施例提供的一种显示基板，在该显示基板的衬底基板上形成包含多个凸状结构的防反射结构，该凸状结构的宽度以及相邻的两个凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；且凸状结构的高度大于等于其宽度。该防反射结构可以位于显示装置内部或者位于显示装置的显示侧，这样一来，通过该防反射结构，可以消除显示器件表面和内部的光反射，提升显示效果。

进一步地，如图2所示，防反射结构20位于衬底基板10和黑矩阵101之间。这样一来，该防反射结构20不仅可以消除透过该衬底基板的反射光，而且可以使得衬底基板远离黑矩阵一侧即为一般显示器件的显示侧的表面无遮挡物，提升显示屏外表面的光洁度和平整度。

或者，如图3所示，显示基板为彩膜基板01，所述防反射结构20位于彩膜基板01的远离所述黑矩阵101的一侧的表面。这样一来，该防反射结构20可以消除彩膜基板01的远离所述黑矩阵101的一侧的光反射，从而提升显示器件的显示效果。

进一步地，如图4所示，第一凸状结构201包括透明光刻胶层2011和/或透明树脂层2012。

进一步地，防反射结构20还包括第一凸状结构201底部的膜材层202，该膜材层202平铺在衬底基板10上，且位于第一凸状结构201和衬底基板10之间。

需要说明的是，根据加工方法的不同，第一凸状结构201包括的物质层也相应有所不同。具体的，例如，如图4中的a图所示，在平铺于衬底基板10上的膜材层表面涂覆透明树脂层2012，然后在该透明树脂层2012表面制作透明光刻胶层2011，通过掩膜板进行曝光显影形成透明光刻胶图案，然后通过刻蚀工艺刻蚀掉未覆盖透明光刻胶2011部分的透明树脂层2012，则如图4中的b图所示，第一凸状结构201包括透明光刻胶层2011和透明树脂层2012。

又例如，对上述结构中的透明光刻胶层2011进行剥离，则如图4中的c图所示，第一凸状结构201仅包括透明树脂层2012。

再例如，如图5所示，在平铺于衬底基板10上的膜材层202表面涂覆透明光刻胶层2011，再通过掩膜板对透明光刻胶层2011的表面进行曝光形成光刻胶固化区域11和光刻胶非固化区域12，然后通过刻蚀工艺刻蚀掉透明光刻胶层2011非固化区域12，则第一凸状结构201仅包括透明光刻胶层2011。

这样一来，本领域技术人员可以根据生产和加工需要对第一凸状结构201的层级结构进行调整，从而使得防反射结构20的加工方法更为多样化。

进一步地，第一凸状结构201的宽度以及相邻的两个所述第一凸状结构201的间距均小于等于可见光的波长；

第一凸状结构201的高度大于等于第一凸状结构201的宽度。

需要说明的是，制作上述防反射结构的掩膜板的曝光区域的开口尺寸以及相邻两个曝光区域的间距均小于等于可见光的波长。这样一来，有多个第一凸状结构构成的防反射结构可以使得外界空气和防反射结构表面边界的折射率的变化成为模拟得连续的变化，可以使得可见光大致全部投射，因此该防反射结构可以消除其表面的光反射。

进一步地，如图3所示，防反射结构20还可以包括多个第二凸状结构203，该第二凸状结构203位于黑矩阵101对应区域之外（如图3中所示的A区域）；且相邻的第二凸状结构203之间、相邻的第一凸状结构201和第二凸状结构203之间的距离小于等于可见光的波长。这样一来，可以消除黑矩阵对应区域之外的区域即显示区域的放射光，从而提升显示画面的显示效果。

进一步地，如图4所示，第二凸状结构203可以包括：

涂覆于膜材层202表面并通过掩膜板进行曝光显影和刻蚀工艺处理形成的透明光刻胶层2011和/或透明树脂层2012。

需要所说明的是，与第一凸状结构202相同，根据加工方法的不同，第二凸状结构203包括的物质层也相应有所不同。由于之前对第一凸状结构202的不物质层已经做了详细的举例说明，因此，这里不再对第二凸状结构203的不同层级结构一一赘述。

进一步地，膜材层202的材料为透明光刻胶2011或透明树脂2012。采用这样一种透明材料可以允许光线透过，从而避免影响显示器件的显示功能和效果。

本发明实施例提供一种显示装置，包括上述任意一种显示基板。具有与本发明前述实施例提供的显示基板相同的有益效果，由于显示基板在前述实施例中已经进行了详细说明，此处不再赘述。

本发明实施例提供的一种显示装置，该显示装置包括显示基板，在该显示基板的衬底基板上形成包含多个凸状结构的防反射结构，该凸状结构的宽度以及相邻的两个凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；且凸状结构的高度大于等于其宽度。该防反射结构可以位于显示装置内部或者位于显示装置的显示侧，这样一来，通过该防反射结构，可以消除显示器件表面和内部的光反射，提升显示效果。

本发明实施例提供一种显示基板的制造方法，如图1所示，显示基板包括衬底基板10以及形成在衬底基板10上的黑矩阵101，该方法包括：

S101、在衬底基板10上形成防反射结构20，该防反射结构20包括多个第一凸状结构201。

其中，第一凸状结构201的位置与黑矩阵101的位置相对应。

需要说明的是，第一凸状结构201的位置与黑矩阵101的位置相对应具体是指第一凸状结构201的位置与黑矩阵101的上下位置相对应，即与黑矩阵101上下位置相对应的多个第一凸状结构201的位置均不超过黑矩阵101的宽度。采用这样一种位置结构，可以利用该防反射结构20消除光反射的同时使得黑矩阵之间显示区域的功能和显示效果不受影响。

本发明实施例提供的一种显示基板的制造方法，在该显示基板的衬底基板上形成包含多个凸状结构的防反射结构，该凸状结构的宽度以及相邻的两个凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；且凸状结构的高度大于等于其宽度。该防反射结构可以位于显示装置内部或者位于显示装置的显示侧，这样一来，通过该防反射结构，可以消除显示器件表面和内部的光反射，提升显示效果。

进一步地，如图2所示，在衬底基板10与黑矩阵101之间制作该防反射结构20。这样一来，该防反射结构20不仅可以消除透过该衬底基板的反射光，而且可以使得衬底基板远离黑矩阵一侧即为一般显示器件的显示侧的表面无遮挡物，提升显示屏外表面的光洁度和平整度。

或者，如图3所示，当显示基板为彩膜基板01，在彩膜基板01的远离所述黑矩阵的一侧的表面制作防反射结构20。这样一来，该防反射结构20可以消除彩膜基板01的远离所述黑矩阵101的一侧的光反射，从而提升显示器件的显示效果。

进一步地，如图4所示，第一凸状结构201包括透明光刻胶层2011和/或透明树脂层2012。

进一步地，在第一凸状结构201和衬底基板10之间形成平铺于衬底基板10上的膜材层202。

其中，防反射结构20还包括膜材层202。

需要说明的是，根据加工方法的不同，第一凸状结构201包括的物质层也相应有所不同。具体的举例说明如下：

例一：

S301、如图4中的a图所示，在平铺于衬底基板10上的膜材层表面涂覆透明树脂层2012。

S302、在该透明树脂层2012表面制作透明光刻胶层2011，通过掩膜板进行曝光显影形成透明光刻胶图案。

S303、通过刻蚀工艺刻蚀掉未覆盖透明光刻胶2011部分的透明树脂层2012，则如图4中的b图所示，第一凸状结构201包括透明光刻胶层2011和透明树脂层2012。

例二：

S401、对上述结构中的透明光刻胶层2011进行剥离，则如图4中的c图所示，第一凸状结构201仅包括透明树脂层2012。

例三：

S501、如图5所示，在平铺于衬底基板10上的膜材层202表面涂覆透明光刻胶层2011，

S502、通过掩膜板对透明光刻胶层2011的表面进行曝光形成光刻胶固化区域11和光刻胶非固化区域12，

S503、通过刻蚀工艺刻蚀掉透明光刻胶层2011非固化区域12，则第一凸状结构201仅包括透明光刻胶层2011。

这样一来，本领域技术人员可以根据生产和加工需要对第一凸状结构201的层级结构进行调整，从而使得防反射结构20的加工方法更为多样化。

进一步地，第一凸状结构201的宽度以及相邻的两个第一凸状结构201的间距均小于等于可见光的波长。

第一凸状结构201的高度大于等于凸状结构201的宽度。

需要说明的是，制作上述防反射结构的掩膜板的曝光区域的开口尺寸以及相邻两个曝光区域的间距均小于等于可见光的波长。这样一来，有多个第一凸状结构构成的防反射结构可以使得外界空气和防反射结构表面边界的折射率的变化成为模拟得连续的变化，可以使得可见光大致全部投射，因此该防反射结构可以消除其表面的光反射。

进一步地，如图3所示，在黑矩阵101对应区域之外（如图3中所示的A区域）制作多个第二凸状结构203，且相邻的第二凸状结构203之间、相邻的第一凸状结构201和第二凸状结构203之间的距离小于等于可见光的波长。

其中，防反射结构20还包括多个第二凸状结构203。这样一来，可以消除黑矩阵对应区域之外的区域即显示区域的放射光，从而提升显示画面的显示效果。

进一步地，如图4所示，第二凸状结构203包括：

涂覆于膜材层202表面并通过掩膜板进行曝光显影和刻蚀工艺处理形成的透明光刻胶层2011和/或透明树脂层2012。

需要所说明的是，与第一凸状结构202相同，根据加工方法的不同，第二凸状结构203包括的物质层也相应有所不同。由于之前对第一凸状结构202的制作方法已经做了详细的举例说明，因此，这里不再对第二凸状结构203的不同层级结构一一赘述。

进一步地，膜材层202的材料为透明光刻胶或透明树脂2012。采用这样一种透明材料可以允许光线透过，从而避免影响显示器件的显示功能和效果。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种显示基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，其特征在于，所述显示基板还包括：形成于所述衬底基板上的防反射结构，且所述防反射结构与所述黑矩阵分别位于所述衬底基板的两侧，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；

其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应；

所述第一凸状结构的宽度以及相邻的两个所述第一凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；

所述第一凸状结构的高度大于等于所述第一凸状结构的宽度。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述显示基板为彩膜基板，所述防反射结构位于所述彩膜基板的远离所述黑矩阵的一侧的表面。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一凸状结构包括透明光刻胶层和/或透明树脂层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防反射结构还包括所述第一凸状结构底部的膜材层，所述膜材层平铺在所述衬底基板上，且位于所述第一凸状结构和所述衬底基板之间。

5.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述防反射结构还包括多个第二凸状结构，所述第二凸状结构位于所述黑矩阵对应区域之外；且相邻的所述第二凸状结构之间、相邻的所述第一凸状结构和所述第二凸状结构之间的距离均小于等于可见光的波长。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，

所述防反射结构还包括多个第二凸状结构，所述第二凸状结构位于所述黑矩阵对应区域之外；且相邻的所述第二凸状结构之间、相邻的所述第一凸状结构和所述第二凸状结构之间的距离均小于等于可见光的波长；

所述第二凸状结构包括：

涂覆于所述膜材层表面并通过掩膜板进行曝光显影和刻蚀工艺处理形成的透明光刻胶层和/或透明树脂层。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述膜材层的材料为透明光刻胶或透明树脂。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一所述显示基板。

9.一种显示基板的制造方法，所述显示基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，其特征在于，所述方法包括：

在所述衬底基板上形成防反射结构，且所述防反射结构与所述黑矩阵分别位于所述衬底基板的两侧，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；

其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应；

所述第一凸状结构的宽度以及相邻的两个所述第一凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；

所述第一凸状结构的高度大于等于所述凸状结构的宽度。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，在所述彩膜基板的远离所述黑矩阵的一侧的表面制作所述防反射结构。

11.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述第一凸状结构包括透明光刻胶层和/或透明树脂层。

12.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，

在所述第一凸状结构和所述衬底基板之间形成平铺于所述衬底基板上的膜材层；

其中，所述防反射结构还包括所述膜材层。

13.根据权利要求9-12任一项所述的制造方法，其特征在于，

在所述黑矩阵对应区域之外制作多个第二凸状结构，且相邻的所述第二凸状结构之间、相邻的所述第一凸状结构和所述第二凸状结构之间的距离均小于等于可见光的波长；

其中，所述防反射结构还包括所述多个第二凸状结构。

14.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于，

在所述黑矩阵对应区域之外制作多个第二凸状结构，且相邻的所述第二凸状结构之间、相邻的所述第一凸状结构和所述第二凸状结构之间的距离均小于等于可见光的波长；

其中，所述防反射结构还包括所述多个第二凸状结构；

所述第二凸状结构包括：

涂覆于所述膜材层表面并通过掩膜板进行曝光显影和刻蚀工艺处理形成的透明光刻胶层和/或透明树脂层。

15.根据权利要求14所述的制造方法，其特征在于，所述膜材层的材料为透明光刻胶或透明树脂。